BE829239R

BE829239R - INSTALLATION FOR OBTAINING A HIGH TEMPERATURE PLASMA

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Publication number: BE829239R
Application number: BE156487A
Authority: BE
Priority date: 1975-05-20
Filing date: 1975-05-20
Publication date: 1975-09-15

Description

       

   <EMI ID=1.1> 

  
haute température". 

  
 <EMI ID=2.1> 

  
riantes particulières dans la combinaison, la disposition et les dimensions relatives des électrodes ainsi que dans leurs schémas d'alimentation en courants électriques alternatifs.

  
 <EMI ID=3.1> 

  
réalisée par la superposition de courants alternatifs au courant continu pilote trois effets nouveaux sont obtenus par l'intro-

  
 <EMI ID=4.1> 

  
électrodes,
- l'augmentation des puissances utilisables sans augmentation concomitante de la densité de courant,
- la possibilité d'introduire une variation "longitudinale" des paramètres de l'arc,
- la possibilité d'injection supplémentaire de gaz dans les <EMI ID=5.1> 

  
L'augmentation des puissances utilisables, jusqu'à 5 MW, sans augmentation sensible de la densité de courant, et donc de détérioration des électrodes, est possible grâce aux dimensions

  
 <EMI ID=6.1> 

  
creuses). 

  
La variation des paramètres d'arc dans le sens de son écoulement est réalisée par l'introduction de moyens de réglage
(quels qu'ils soient) dans les circuits deuxième - troisième électrodes d'une part, troisième - quatrième, d'autre part, ce

  
 <EMI ID=7.1> 

  
dans ces deux intervalles.

  
Enfin, la possibilité reste offerte d'injecter du gaz supplémentaire au niveau de la troisième électrode annulaire,

  
Les perfectionnements apportés aux installations du brevet de référence (ne 623.218) par la présente investies, sont donc caractérisés par s
- la mise sous tension alternative d'une quatrième électrode  <EMI ID=8.1>  et
- l'utilisation de moyen* de réglage sur les circuits alternatifs. Ils sont présentés de façon plus explicite dans les figures annexées au présent brevet sana que celles-ci ne soient limitatires de forme* d'exécution possibles.

  
 <EMI ID=9.1>  selon l'invention ne comportant qu'une seule torche. La figure 5 montré schématiquement une installation à trois torche* analogues alimentées suivant un schéma triphasé en étoile et convergeant au centre d'une chambre à réaction (four, creuset, etc...)

  
 <EMI ID=10.1>   <EMI ID=11.1> 

  
de plus, dans la figure 3

  

 <EMI ID=12.1> 


  
 <EMI ID=13.1>  

REVENDICATIONS.

  
 <EMI ID=14.1> 

  
 <EMI ID=15.1> 

  
une source de courant continu dont un pâle est connecté à une

  
 <EMI ID=16.1> 

  
des moyens capables d'envoyer au contact d'urne troisième électrode (III), à travers l'électrode creuse susdite, le plasma formé par un arc réunissant les deux première électrodes, cette troi-

  
 <EMI ID=17.1> 

  
courant alternatif susdit caractérisée on c e que ladite source de courant alternatif est en outre connec-

  
 <EMI ID=18.1> 



   <EMI ID = 1.1>

  
high temperature".

  
 <EMI ID = 2.1>

  
special considerations in the combination, arrangement and relative dimensions of the electrodes as well as in their alternating electric current supply schemes.

  
 <EMI ID = 3.1>

  
carried out by the superposition of alternating currents to the pilot direct current three new effects are obtained by the introduction

  
 <EMI ID = 4.1>

  
electrodes,
- the increase in usable powers without a concomitant increase in the current density,
- the possibility of introducing a "longitudinal" variation of the arc parameters,
- the possibility of additional gas injection in <EMI ID = 5.1>

  
The increase in usable powers, up to 5 MW, without a significant increase in current density, and therefore damage to the electrodes, is possible thanks to the dimensions

  
 <EMI ID = 6.1>

  
hollow).

  
The variation of the arc parameters in the direction of its flow is achieved by the introduction of adjustment means
(whatever they are) in the circuits second - third electrodes on the one hand, third - fourth, on the other hand, this

  
 <EMI ID = 7.1>

  
in these two intervals.

  
Finally, the possibility remains available of injecting additional gas at the level of the third annular electrode,

  
The improvements made to the installations of the reference patent (no 623,218) hereby invested, are therefore characterized by s
- the alternating voltage supply of a fourth electrode <EMI ID = 8.1> and
- the use of adjustment means * on the alternative circuits. They are presented more explicitly in the figures appended to the present patent without these being limitatires of possible form of execution.

  
 <EMI ID = 9.1> according to the invention comprising only one torch. Figure 5 schematically shows an installation with three similar torches * supplied according to a three-phase star diagram and converging in the center of a reaction chamber (furnace, crucible, etc.)

  
 <EMI ID = 10.1> <EMI ID = 11.1>

  
moreover, in figure 3

  

 <EMI ID = 12.1>


  
 <EMI ID = 13.1>

CLAIMS.

  
 <EMI ID = 14.1>

  
 <EMI ID = 15.1>

  
a direct current source of which one blade is connected to a

  
 <EMI ID = 16.1>

  
means capable of sending to the urn contact third electrode (III), through the aforementioned hollow electrode, the plasma formed by an arc joining the two first electrodes, this three-

  
 <EMI ID = 17.1>

  
aforesaid alternating current characterized in that said alternating current source is further connected

  
 <EMI ID = 18.1>

Claims

2. Installation according to claim 1 further comprising the ease of rotation, by magnetic field, the arc plasma between

the second and the third electrode.

3. Installation according to claims 1 and 2 in which <EMI ID = 19.1>

alternating between the second and the third electrode on the one hand and, on the other hand, between the third and the fourth electrode,

the fourth terminal electrode is formed by the body

erasures Constituted by the convergence of three installations according to the preceding claims on a fourth common electrode, characterized in that their alternating circuits are connected in a star on a single three-phase current source.

8. Device according to claim 7 wherein the common electrode is formed by the enclosure of a three-phase plasma furnace. <EMI ID = 22.1>

9. Device according to claim 8 wherein the electrode

hot.