BE687736A - - Google Patents

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BE687736A
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B03SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
    • B03CMAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
    • B03C7/00Separating solids from solids by electrostatic effect
    • B03C7/02Separators
    • B03C7/06Separators with cylindrical material carriers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B03C7/00Separating solids from solids by electrostatic effect

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  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 
 EMI1.1 
 in procédé de séparation des frnctionf m{)Ho!l1;,d1'(ile   d'un mélange et dispositif pour le réali@er" "   

 <Desc/Clms Page number 2> 

 La présente invention concerne des procédés de 
 EMI2.1 
 14p.iration des fractions monomindrales de particules de r.wtière, à partir d'ùp mélange complexe-de minéraux métal- lifères ou non, et des dispositifs pour réaliser ces procedés. 



   On connaît un procédé d'obtention de fractions 
 EMI2.2 
 Ij,0::r'Jd né "ale de particules de matière en les sélection- mant à l'aiguille sous un microscope binoculaire. Toute- fois, ce procédé demandant de grandes dépenses de main- d'oeuvre, et étant irrationnel du point de vue économique,   @   saurait satisfaire les impératifs du,niveau de dévelop- pement actuel de la technique. 



   On connaît un procédé et un dispositif pour la   sépar@@ion   de particules de   matières   qui consistent à amener le mélange contenu dans une   trémie, .   l'aida d'un   alimenta-   tour vibrant ou directement, sur une électrode de dépôt se 
 EMI2.3 
 t,ouvant nome l'action conjugués ou "par'. d'un flux 1 (1ni -lU9 et d'un chatap électrostatique* Quoique ço procédé et ce diaposittt .t.tt.nt dit oêparer les mïiidraux de mélangea, il n'aaaurant pas l f <,bt,ont:1on de traction. Nonominéralwa (concentréa de grand, pureté) dans le cas de séparation de mélangea com- plexes. 



   Le but de la   pré@ente   invention est d'éliminer les inconvénients mentionnée. 

 <Desc/Clms Page number 3> 

 



   On   s'est   donc posé la tâche de créer un procédé et un dispositif qui assureraient d'une façon économique et rationnelle l'obtention de fractions monominérales (concentrés de haute qualité) à partir d'un mélange complexe. Le disposi- tif doit être pratique et compact; et doit pouvoir fonctionner suivant des normes de production élevées, en excluant les pertes de mélange à traiter. 



   La solution est constituée par un procédé dans lequel, avant que le mélange soit amené à l'électrode de dépôt soumise à l'action d'un flux ionique et/ou d'un champ électrostatique, on engendre dans les particules du mé- lange des charges électriques de signe appropria. En outre, on modifie sélectivement le type de conductibilité des particules et on stimule les charges électriques qui y apparaissent, après quoi on amplifie dans les particules de matières à séparer du mélange les charges qui y ont été engendrées, tandis que dans les autres particules on affaiblit ces charges ou on les inverse. 



   Le changement du type de   conductibilité   dans 
 EMI3.1 
 les pari.1.<.,1;.g du Matière peut être 1"éalinÓ en louI' !'t\1Mt. subir un réehnutfa.;;':z suivi d'un l"lJ±ro!lUtH3Cmont au cours do leur nch{m1ncmell. vers l'électrode de dép6t< Pour réalleer le procédé, on a or:

  6 un d1apo1 tif comprenant une chambre de séparation avec des organes de coupure, dans laquelle sont disposée une électrode de dépôt, un organe assurant l'amenée des particules de ma-   tière à   l'électrode de dépôt et leur imprimant un   mouve-   ment intermittent, et des sources engendrant un flux ionique et un champ   électrostatique.   La surface active 

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 du dispositif amenant les particules de matière à l'élec- trode de dépôt et la surface de l'électrode de dépôt sont   recouvertes   d'une couche de produit douée de   conductibi-     lité   unidirectionnelle au contact. 



   En ce qui concerne le dispositif amenant les particules à l'électrode de dépôt et leur imprimant un 
Mouvement intermittent, on peut utiliser un système se présentant sous la forma de couloirs vibrants, deux par exemple, de différentes longueurs, disposés l'un au-dessus de l'autre et recouverts d'une couche de produit douée de conductibilité unidirectionnelle au contact, l'extrémité . du couloir inférieur étant située par rapport à la limite du flux ionique à une distance assurant l'amortissement .des vibrations des particules et un contact stable des particules de matière avec la surface de l'électrode de dépôt. 



   L'extrémité du couloir inférieur peut être re- couverte de titanate de baryum auquel on a conféré des propriétés électrètes assurant la création d'un flux ioni- que (de signe positif'ou négatif) entre le bord du cou- loir et l'électrode de dépôt, pour électriser des   partis   cules de   matiez durant  leur chute sur l'électrode de dépôt 
Dans le dispositif, on peut   disposer     entr   les couloirs un élément semiconducteur, alimenté par un courant, qui réchauffe l'un des couloirs et refroidit l'autre, et confère des propriétés diffusives à la couche de produit   recouvrant   les couloirs, ainsi qu'aux particules,de ma-   tière@   ce qui permet d'ajuster le signe et la valeur de la charge. 

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   La propriété de conductibilité unidirectionnelle au contact peut être conférée à la surface de l'électro-   -.--de   de dépot en lui appliquant un revêtement semi- conducteur. 



   La surface cylindrique de l'électrode du dis- positif peut être réalisée sous la forme de segments ayant un revêtement semiconducteur et reliés électrique- ment à la masse du dispositif au moyen de diodes à cristal, par exemple, au germanium. 



   Dans la chambre du dispositif, se trouvent des organes de coupure réalisés de telle façon que leur hauteur puisse être modifiée; l'écartement de ces organes de coupure est égal au diamètre de l'électrode de dépôt, l'un des organes de coupure étant   disposé   dans ,le plan vertical passant par   l'axe   de l'électrode de dépôt'. 



   Dans ce qui suit l'invention est expliquée par un exemple de réalisation, en se référant aux dessins ci-annexés, dans   lequels;   la fig. 1 représente le schéma de principe du dispositif; la fig.   2, la   coupe en long du   dispositif;   la fig. 3, la vue d'ensemble du dispositif et   ',   la fig. 4, l'électrode de dépôt en coupe partielle. 



   Le dispositif pour l'obtention de fractions   monominérales   comprend une trémie 1 (fig. 1), des couloirs 2,3 recouverts de pellicules d'oxydes, un vibrateur   4,   un élément semiconducteur 5, une électrode de dépôt 6, des électrodes   7,8   créant un flux ionique et un champ électro- 

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 statique, une chambre de séparation 9 avec des organes de coupure 10,   11,   et des moyens de   redeption   12. 



   La trémie 1 (fig. 2) est destinée à alimenter le dispositif en particules de matière. Elle englobe un registre 13 assurant la distribution uniforme des particules de matière de différentes classes de grosseurs sur les couloirs 2,3 de longueurs différentes, aux sur- faces   actives,desquelles   on a conféré   une conductibilité'   unidirectionnelle au contact en leur appliquant un revête- ment semiconducteur. 



   Au moyen du vibrateur 4, on imprime aux couloirs 2,3 un mouvement rectiligne alternatif. Il s'ensuit que les particules de matière sont animées d'un mouvement intermittent sur la surface de ces couloirs, douée d'une conductibilité unidirectionnelle au contact. Dans de telles conditions, des charges de signe déterminé nais- sent dans les particules. 



   Entre les couloirs Vibrants 2,3, comme le montre la fig. 2, on a interposé un,élément semiconducteur 5 alimenté par un courant. Cet élément réchauffe l'un des couloirs et refroidit l'autre, assurant en conju- Saison avec le revêtement semiconducteur des couloirs le changement du type de conductibilité (ionique ou électronique) des particules de matière, ce qui permet de commander le signe et la valeur de la charge. 



   Au-dessus de l'électrodè de dépôt 6, on a monté des électrodes 7 qui créent un flux ionique dirigé, 
L'extrémité du couloir inférieur 3 est dis- posée, par rapport à la limite du flux ionique, à une 

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 distance assurant l'amortissement des vibrations des particules et leur contact stable avec la surface de l'électrode de dépôt. 



   L'électrode de dépôt 6, suivant la fig. 1, ce présent sous la forme d'un cylindre dont la surface ac-   tive   comporte un revêtement semiconducteur   14.   Pour détacher de la surface de l'électrode de dépôt 6 les particules qui y adhérent, il est prévu une brosse 15. 



   Le revêtement semiconducteur ce la surface de l'électrode de dépôt 6 amplifie la charge des parti- cules de matière ou inverse leur charge, ce qui favo- rise l'attraction d'une partie   désarticules   et la ,   ,   répulsion des   autreµãrticules,de   matière par la sur- face de l'électrode de dépôt 6. 



   L'électrode de dépôt 6 est montée dans la chambre sous pression 9, sur des roulements   16   (fig. 3), et elle est entraînée par un moteur   à   courant continu   17   (fig. 2). 



   Les électrodes   7   créant le'flux   ioniqu   dirigé peuvelt être au nombre de trois ou de plus de trois, l'une d'elles engendrant un flux ionique intense et les autres assurant la concentration de ce flux our la portion de auface/requise de l'électrode de dépôt 6. 



   Les électrodes 7 sont fixées dans le boîtier du dispositif au moyen d'un système de réglage 18   (fig.   3),   à   l'aide duquel'on peut, pendant la marche, déplacer les électrodes aussi bien dans la direction verticale que dans la direction horizontale, ainsi que les bloquer dans la position requise. 



   Pour créer un clamp électrostatique dirigé, on 

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 a utilisé des électrodes 8 ayant un revêtement semi- conducteur qui contribue à la séparation efficace des particules de matière. Ces électrodes sont fixées sur un système de réglage 19, permettant de déplacer les électrodes dans une zone étendue de la chambre sous pression 9 (fig. 2), et de les bloquer exactement dans la position voulue par rapport à l'électrode de dépôt 6. 



   Lorsque lesparticules de matière arrivent à l'électrode de dépôt 6, dont la surface active est recouverte d'une couche de produit doué de conducti- bilité unidirectionnelle de sens déterminé au contacta elles subissent l'action séparée-.ou conjuguée du champ électrostatique dirigé et du flux ionique, de même polarité ou de polarités différentes, ou en combinaison avec   un   champ électrique alternatif. Par suite de l'in- teraction du champ électrique avec les particules de matière chargées se trouvant en contact avec la surface de l'électrode de dépôt 6, douée de   conductibi-'   lité unidirectionnelle au contact, on arrive à amplifier la charge dans une partie de particules et à l'atténuer dans les autres, ou bien à inverser la charge dans une partie des particules. 



   La chambre de séparation 9 est réalisée de telle façon que son encombrement permette non seulement la mise en place de toutes les parties du dispositif, mais que de plus l'altération du champ électrique y soit minimale. 'En outre, elle est réalisée étanche, à parois transparentes, ce qui exclue l'éventualité de pertes de fines par le mélange à étudier, et permet d'observer les particules de matière à séparer directement pendant 

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 l'opération. 



   Dans la chambre 9 sont disposés des organes de coupure 10,11, réalisés sous la forme d'éléments amovibles à bords effilés. La hauteur des organes de coupure peut être modifiée en augmentant ou diminuant le nombre d'éléments amovibles, assurant la coupure de l'éventail de particules au point voulu de la chambre de séparation. L'écartement entre les organes de coupure est égal au diamètre dé l'électrode de dépôt 6 ; l'un des organes de coupure 10 est monté dans le plan vertical passant par ltaxe de l'électrode de dépôt 6, ce qui augmente l'efficacité de séparation des particules de matière. 



   Les moyens de réception 12 sont fixés dans des rainures d'encastrement 20. Les compartiments étanches ainsi réalisés excluent les pertes de particules de matière séparées. 



   L'alimentation des électrodes créant le champ électrostatique dirigé et le flux ionique est assurée à partir d'un bloc à haute tension   21   (fige 3). Ce bloc alimente les électrodes en haute tension tant alternative que continue (sous polarité positive et   négative),'ou   bien avec combinaison du courant alternaif et du courant continu, dans un intervalle allant de 0 à   40     kV.   



   Il est possible de réaliser les ensembles constitutifs du dispositif suivant d'autres variantes. 



   Le revêtement semiconducteur de la surface cylindrique de l'électrode de dépôt, montrée dans la fig. 4, est réalisé sous la forme de segments 22 distincts, 

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 isolés les uns des autres et relies électriquement à la masse du dispositif au moyen de diodes à cristal 23. 



   Le couloir 3 du système amenant le mélange à l'électrode de   dépota   montré dans la fig. 1 2, peut être constitué   d'un   produit doué de   propriétés     électrètes,   ou avec seulement son extrémité recouverte d'un tel pro- duit, par exemple, de titanate de baryum. Un tel revête- tuent assure la création d'un flux ionique entre le bord du couloir et l'électrode de dépôt. 



   Les fractions monominérales de   particules   de matière'sont séparées à partir du mélange de là façon sui- vante. 



   Les particules de matière venant 'de la trémie 1 tombent sur les couloirs vibrants 2, 3; qui leur impriment un mouvement intermittent. Du fait de l'interaction de contact des particules de matière, animées d'un mouvement intermittent, avec la surface du couloir 2 qui est douée de conductibilité unidirectionnelle, des charges électriques de signe approprié apparaissent dans les particules, Plus loin ces chargea sont amplifiées sur le couloir 3.

   S'il est   nécessaire   de   stipuler   les charges électriques dans les particules, on peut les amplifier ou les atténuer en soumettant les particules à un réchauffage suivi d'un refroidissement au cours de leur cheminement suivant les surfaces vibrantes des couloirs:

  ' 
Ensuite, en se déplaçant, les particules arrivent à l'électrode de   dépôt   6, c'est-à-dire, dans la zone située entre le bord   du.couloir 3   et la limite du flux ionique, où est assuré l'amortissement de leurs 

 <Desc/Clms Page number 11> 

 vibrations et lour contact stable avec la   surface   de   1 électrode   de dépôt, 
Dans le cas de l'utilisation d'un couloir 3 
 EMI11.1 
 doué de ru5'.H .ectror.ctic, les particules de ma- tières arrivent dans le champ ionique qui règne entra la bord du couloir et l'électrode de dépôt; dans ce champ, elle prenne une charge électrique de signe approprié. 



   Les particules de matière, amenées à l'électrode de   dép8t   comportant un revêtement semiconducteur, sont soumises à l'action séparée ou conjuguée du flux ionique dirigé et du champ électrostatique de même polarité ou de polarités différentes, ou bien en combinaison avec un champ alternatif. Il s'ensuit que, dans une partie des particules, la charge est amplifiée, alors que, dans les autres particules, elle est atténuée, ou bien la charge d'une partie des particules est inversée. De ce fait, une partie des particules est   attirée,   les autres sont repoussas par l'électrode de dépôt et, selon la 
 EMI11.2 
 position ds3s <JI'C'1i1m) de coupure 10. il, ollos tombent dans lap M,"YCiV3 :EG réception tcrpaxant3 M. 



  '>1!" ; ,nct'. 1", :'){'oc6dû t' fj le erêé peur la .rÜ,U..;or gcott.ot R:xb=4n.r das f estions !!!ono!Binéï'alec de pttrtl(\ila de mt\t;\.èrn pcU'U1" d'un mélange oomplsxc granulé et de divers mincraio, ce qui rend beaucoup plus rapide,   moins   cher et plus facile le processus des travaux de prospection géologique et d'enrichissement. 



   L'obtention d'une traction monominérale d'un poids de 5 g à l'aide du   dispositif   prend à peine 5 à 10 mn, alors que l'obtention de fractions   monomin6ralea   

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 de ce même poids, à l'aide d'une aiguille sous un microscope binoculaire, demande 3 à   4   semaines. 



   En outre, on peut aussi séparer à l'aide du dispositif des minéraux et des particules de matière qui ne peuvent être séparées en utilisant la différence de densités, la susceptibilité magnétique relative et . d'autres propriétés. 



   Le procédé et le dispositif créé pour le réa- liser permettent de séparer les minéraux contenant des métaux rares à un taux infime, ce qui augmente notablement l'efficacité des recherches et de la prospection des . gisements. 



   Le dispositif est destiné à l'utilisation tant dans les laboratoires des organismes de recherches s'occupant de l'étude de la composition minéralogique des minerais et d'autres matières, que directement dans les fabriques d'enrichissement, les expéditions et les équipes de prospection géologique. En outre, le procédé et le dispositif trouvent aussi des applications dans l'agriculture pour'le triage de diverses graines d'après leur   qualité,   leur faculté germinative, etc.

Claims (1)

  1. REVENDICATIONS. EMI13.1 1.- ce<6d< de eeparatdco de m#nux se trouvant dans un ¯lange, en amenant le mélange à une électrode de dépôt soumise à l'action ci'un flux ionique et/ou EMI13.2 d'un chasp êlectroatat1q¯, earact'r1a' en ce que, pour séparer les fractions monominérales 'de parti- culte de matière- à partir ou mélange, *-tant ramener EMI13.3 celui-ci à l'électrode de dîpbtg co entendre dam *0 particules des eha-rgeit Àlacùriqwa de ligne approprie, *t, durant le chea1nenent d p8rt1C1&1.. vers 1'±lPo%rn>, on change 86le.:tiYe.88Gt If t.JP8 de coc4tact1b11it6 et on 1fti8u1. les ch..... U.etf'ist1ae8, eprèe quai les chargea 8D&t!IId.r&8 dus les pl.rt1}Q.e..de matitre .
    ±par A partir du mélange mat ¯'plU1ée., tan!11e que tant les autres partleults les corsée sont att6m .. on sont inversées dans le flux ionique et/pu le ,champ électrostatique. EMI13.4
    2.- Procédé wuivaat la rnén.d1t:at:1t>Jl.1, naractériDé en ce que le çbanzemnt du type de Dmh1t:t1bili"t' dans lea particules de matière s'effectue :en les soumettant à un réchauffage .suivi d'un refroidissement au coure de leur amenée à l'électrode de dépôt 3.- Dispositif pour réaliser le procédé euivant la revendication 10 comprenant une chambre de séparation avec des organes de coupure, cette chambre renferment une électrode de dépôt, un système amenant les particules de matière à l'électrode de dépôt et leur imprimant un mouvement intermittent, et des sources créant le flux EMI13.5 ionique et le champ dlectrostazïque,
    caractérise en 2e ue <Desc/Clms Page number 14> la surface active du système (2) amenant les particules de matière à l'électrode de dépôt (6)et la surface de l'électrode de dépôt sont recouvertes d'une couche de produit doué de conductibilité unidirectionne@@@ au contact 4.- Dispositif suivant la revendication 3, carac. térisé en ce que le système (2), amenant les particules à l'électrode de dépôt et leur imprimant un mouvement intermittent, se présente sous la fonce d'au moi@@ deux couloirs (2,3), de différentes longueurs disposés l'un au-dessus de l'autre, leurs surfaces actives étant re- couvertes d'une couche de produit doué de conductibilité . unidirectionnelle au contact.
    5.- Dispositif suivant la revendication 4, carac- térisé en ce que l'extrémité du deuxième couloir (3) est recouverte de titanate de baryum auquel on a conféré des propriétés électrètes.
    6. - 'Dispositif suivant l'une ou l'autre des reven- dications 3 à 5, caractérisé en ce qu'entre les couloirs (2,3) on a placé un élément semiconducteur (5), alimenté par un courant, qui réchauffe l'un des couloirs et re- froidit l'autre, et confère des propriétés diffusives à la couche de produit recouvrant les surfaces.actives des couloirs et aux particules de matière du mélange.
    7.- Dispositif suivant l'une ou l'autre des reven- dications 3 à 6, caractérisé en ce qu'en tant que pro- duit doué de conductibilité unidirectionnelle au contact, employé pour recouvrir l'électrode de dépôt (6), on a utilisé une substance semiconductrice.
    8.- Dispositif suivant la revendication 7, carac- <Desc/Clms Page number 15> térisé en ce que le revêtement semiconducteur de la surface cylindrique de l'électrode de dépôt est divi- sée en segments (14) reliés électriquement à la masse du dispositif au moyen de diodes à cristal (15), par exemple, au germanium.
    9.- Dispositif suivant l'une ou l'autre des re- vendications 3 à 7, caractérisé en ce que l'écartement entre les organes de coupure (10, 11) est égal au dia- mètre de l'électrode de dépôt (6), l'un des organes de coupure (10) étant monté dans le plan vertical passant par l'axe de l'électrode de dépôt (6).
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