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NL129161C
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1959-01-14 |
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NL247405A
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1959-01-15 |
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NL247406A
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1959-01-17 |
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BE586713A
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1959-01-21 |
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DE1114705C2
(de)
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1959-04-16 |
1962-04-12 |
Kalle Ag |
Lichtempfindliche Schichten fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
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NL130471C
(GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html)
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1959-08-05 |
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BE594235A
(GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html)
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1959-08-29 |
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NL255517A
(GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html)
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1959-09-04 |
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DE3043967A1
(de)
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1980-11-21 |
1982-06-24 |
Hoechst Ag, 6000 Frankfurt |
Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
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DE3100856A1
(de)
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1981-01-14 |
1982-08-12 |
Hoechst Ag, 6000 Frankfurt |
Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-napthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
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EP0164083B1
(de)
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1984-06-07 |
1991-05-02 |
Hoechst Aktiengesellschaft |
Positiv arbeitende strahlungsempfindliche Beschichtungslösung
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DE3445276A1
(de)
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1984-12-12 |
1986-06-19 |
Hoechst Ag, 6230 Frankfurt |
Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung einer flachdruckform
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DE3718416A1
(de)
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1987-06-02 |
1988-12-15 |
Hoechst Ag |
Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und dessen verwendung
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DE3729034A1
(de)
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1987-08-31 |
1989-03-09 |
Hoechst Ag |
Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden und hiermit hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
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DE3820699A1
(de)
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1988-06-18 |
1989-12-21 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
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DE3940911A1
(de)
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1989-12-12 |
1991-06-13 |
Hoechst Ag |
Verfahren zur herstellung negativer kopien
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DE4002397A1
(de)
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1990-01-27 |
1991-08-01 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
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DE4003025A1
(de)
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1990-02-02 |
1991-08-08 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen
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DE4004719A1
(de)
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1990-02-15 |
1991-08-22 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen
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DE4137325A1
(de)
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1991-11-13 |
1993-05-19 |
Hoechst Ag |
Lichtempfindliches gemisch auf der basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches material
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DE4335425A1
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1993-10-18 |
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Mattiertes, strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial
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ES2430562T3
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Método para la fabricación de un soporte de una plancha de impresión litográfica
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ATE514561T1
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Verfahren zur behandlung einer lithografischen druckplatte
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EP3032334B1
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Agfa Graphics Nv |
A system for reducing ablation debris
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CN108778746A
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爱克发有限公司 |
加工平版印刷版的方法
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EP3637188A1
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2018-10-08 |
2020-04-15 |
Agfa Nv |
An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor
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