DE112009001537T5
(de )
2011-04-28
Vorrichtung mit geladenem Teilchenstrahl und Verfahren zum Steuern der Vorrichtung
FR2691834A1
(fr )
1993-12-03
Procédé pour produire et pour amorcer une décharge basse tension, installation de traitement sous vide et chambre à cathode pour celle-ci, et utilisations du procédé.
DE69431535T2
(de )
2003-06-26
Verfahren zur Herstellung von einer Chalcopyrit-Halbleiterdünnschichtstruktur mit einem spezifischen Dotiermaterial
DE667942C
(de )
1938-11-23
Verfahren zur Herstellung von Oxydkathoden, insbesondere Gluehkathoden fuer elektrische Entladungsgefaesse
BE506428A
(cs )
DE2216720C3
(de )
1974-12-19
Festkörperbildspeicher nd Verfahren zu seiner Herstellung
FR2490398A1
(fr )
1982-03-19
Cible perfectionnee pour anode tournante de tube de rayons x et son procede de fabrication
EP0018263B1
(fr )
1983-06-22
Procédé de chromisation de pièces d'acier et pièces d'acier chromisées
US2700626A
(en )
1955-01-25
Secondary electron emissive electrodes
US4260665A
(en )
1981-04-07
Electron tube cathode and method for producing the same
FR2761524A1
(fr )
1998-10-02
Dispositif comportant une cathode froide du type a emission de champ et procede d'aspiration de reservoir a vide et systeme pour celui-ci
US4103042A
(en )
1978-07-25
Hot filament, arc type ion source and method
Nevrovskiy et al.
1981
Gas desorption from electrodes and electrical breakdown in vacuum
Bruining et al.
1937
Secondary electron emission of soot in valves with oxidecathode
FR2961018A1
(fr )
2011-12-09
Procede de fabrication d'un dispositif microelectronique a memoire programmable
EP0206927B1
(fr )
1989-05-17
Procédé de chauffage des électrodes d'un canon à électrons au cours de sa fabrication
US4928034A
(en )
1990-05-22
Impregnated cathode
US1967513A
(en )
1934-07-24
Electronic discharge tube
EP3496168B1
(fr )
2020-06-10
Procédé de fabrication d'un point memoire de type oxram pour limiter les dispersions des caractéristiques et le memoire correspondant
DE2125080B2
(de )
1978-03-09
Verfahren zur Herstellung eines elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials
BE508958A
(cs )
WO2003049139A9
(fr )
2003-10-16
Source d'electrons
BE508874A
(cs )
BE416710A
(cs )
Komoda et al.
2009
Nanocrystalline silicon ballistic electron emitter