BE1024652B1

BE1024652B1 - Coatings

Info

Publication number: BE1024652B1
Application number: BE2017/5446A
Authority: BE
Inventors: Stephen Coulson; Delwyn Evans; Angeliki Siokou; Clive Telford
Original assignee: P2I Ltd
Priority date: 2017-06-23
Filing date: 2017-06-23
Publication date: 2018-05-16

Abstract

De onderhavige uitvinding voorziet in een elektronisch of elektrisch apparaat of bestanddeel daarvan omvattende een verknoopte polymeercoating op een oppervlak van het elektronische of elektrische apparaat of bestanddeel daarvan; waarbij de verknoopte polymeercoating verkregen kan worden door het elektronische of elektrische apparaat of bestanddeel daarvan gedurende een tijdsbestek dat lang genoeg is om de vorming van de verknoopte polymeercoating op een oppervlak ervan mogelijk te maken, bloot te stellen aan een plasma omvattende een monomeerverbinding en een verknopend reagens, waarbij de monomeerverbinding de volgende formule heeft: R1R2C=CR3R4 waarbij R1, R2 en R4 allemaal onafhankelijk worden gekozen uit waterstof, eventueel gesubstitueerd C1-C6-alkyl of -halogeenalkyl met een vertakte of rechte keten, of aryl eventueel gesubstitueerd door halogeen, en R3 wordt gekozen uit: -COO[CX2]n1CX3 of -OCO[CX2]n1CX3 waarbij elke X onafhankelijk wordt gekozen uit waterstof, een halogeen, eventueel gesubstitueerd C1- C6-alkyl of -halogeenalkyl met een vertakte of rechte keten, of aryl eventueel gesubstitueerd door halogeen; en n1 een geheel getal is van 1 tot 27; en waarbij het verknopende reagens twee of meer onverzadigde bindingen omvat die zijn vastgemaakt, door middel van een of meer verbindende resten en een kookpunt bij standaard druk heeft van lager dan 500°C.The present invention provides an electronic or electrical device or component thereof comprising a cross-linked polymer coating on a surface of the electronic or electrical device or component thereof; wherein the cross-linked polymer coating can be obtained by exposing the electronic or electrical device or component thereof for a period of time long enough to permit the formation of the cross-linked polymer coating on a surface thereof to a plasma comprising a monomer compound and a cross-linking reagent, wherein the monomer compound has the following formula: R 1 R 2 C = CR 3 R 4 wherein R 1, R 2 and R 4 are all independently selected from hydrogen, optionally substituted C 1 -C 6 alkyl or haloalkyl with a branched or straight chain, or aryl optionally substituted by halogen, and R3 is selected from: -COO [CX2] n1CX3 or -OCO [CX2] n1CX3 where each X is independently selected from hydrogen, a branched or straight chain C 1-6 alkyl or haloalkyl, or aryl optionally substituted by halogen; and n1 is an integer from 1 to 27; and wherein the cross-linking reagent comprises two or more unsaturated bonds that are attached by means of one or more connecting moieties and has a boiling point at standard pressure of less than 500 ° C.

Description

CoatingsCoatings

Gebied van de uitvindingFIELD OF THE INVENTION

Deze uitvinding heeft betrekking op beschermende coatings. Met name heeft de onderhavige uitvinding betrekking op beschermende coatings voor elektronische of elektrische apparaten en bestanddelen daarvan, en op werkwijzen voor het vormen van dergelijke coatings. De coatings kunnen beschermen omdat zij hydrofoob zijn en derhalve het binnentreden van vloeistoffen op waterbasis in elektronische apparaten tegengaan, of zij kunnen beschermen omdat zij een barrièrecoating vormen en derhalve zorgen voor een elektrische weerstand tussen de elektrische delen van de telefoon en vloeistoffen op waterbasis.This invention relates to protective coatings. In particular, the present invention relates to protective coatings for electronic or electrical devices and components thereof, and to methods for forming such coatings. The coatings can protect because they are hydrophobic and therefore prevent the entry of water-based liquids into electronic devices, or they can protect because they form a barrier coating and therefore provide an electrical resistance between the electrical parts of the telephone and water-based liquids.

Achtergrond van de uitvindingBACKGROUND OF THE INVENTION

Enkelvoudig onverzadigde monomeren worden gebruikt om met behulp van plasmapolymerisatie-processen barrièrecoatings te vervaardigen (zie lopende octrooiaanvrage).Monounsaturated monomers are used to produce barrier coatings using plasma polymerization processes (see pending patent application).

De monomeren met een perfluoralkylketen worden ook gebruikt om hydrofobe oppervlakken te vormen door afzettingsprocessen met een gepulseerd plasma (zie WO 9858117 A1).The perfluoroalkyl chain monomers are also used to form hydrophobic surfaces by pulsed plasma deposition processes (see WO 9858117 A1).

Het vermogen van de door het plasma geïnitieerde polymerisatie beïnvloedt de aard van het bereide polymeer. De hogere gemiddelde energietoevoeren van plasma’s met een continue golf leiden tot meer fragmentatie van het monomeer, en derhalve verliest het polymeer structuureigenschappen van het monomeer. In het geval van 1H,1H,2H,2H- perfluordecylacrylaat (PFAC8) blijft er minder van de perfluoralkylketen behouden en komt de contacthoek van de oppervlaktecoating in het geding. Hogere plasmaenergieën leiden ook tot meer verknoping. Voor de lagere gemiddelde energietoevoeren van gepulseerde plasma’s is er een beter behoud van monomeerstructuur en minder verknoping. Het grotere behoud van de perfluorketen onder omstandigheden van lagere energie met gepulseerd plasma leidt tot de beste niveaus van contacthoeken voor de oppervlaktecoating.The ability of the polymerization initiated by the plasma influences the nature of the polymer prepared. The higher average energy supplies from plasmas with a continuous wave lead to more fragmentation of the monomer, and therefore the polymer loses structural properties of the monomer. In the case of 1 H, 1 H, 2 H, 2 H perfluorocyl acrylate (PFAC8), less of the perfluoroalkyl chain is retained and the contact angle of the surface coating is compromised. Higher plasma energies also lead to more cross-linking. For the lower average energy supplies from pulsed plasmas, there is better retention of monomer structure and less cross-linking. The greater retention of the perfluorinated chain under conditions of lower energy with pulsed plasma leads to the best levels of contact angles for the surface coating.

Als de perfluoralkylketens acht of meer gefluoreerde koolstof atomen bezitten (lange keten), heeft het uit het monomeer bereide polymeer een kristallijne structuur. Als de perfluoralkylketens minder dan acht gefluoreerde koolstof atomen bezitten, is het verkregen polymeer amorf en kan het derhalve onstabiel zijn in aanwezigheid van water (zie “Molecular Aggregation Structure and Surface Properties of Poly(fluoralkyl acrylate) Thin Films, Macromolecules, 2005, vol. 38, blz. 5699-5705).If the perfluoroalkyl chains have eight or more fluorinated carbon atoms (long chain), the polymer prepared from the monomer has a crystalline structure. If the perfluoroalkyl chains have fewer than eight fluorinated carbon atoms, the resulting polymer is amorphous and may therefore be unstable in the presence of water (see "Molecular Aggregation Structure and Surface Properties or Poly (fluoroalkyl acrylate) Thin Films, Macromolecules, 2005, vol. 38, pp. 5699-5705).

Als er perfluoralkylpolymeren met een lange keten worden geproduceerd door plasma’s met een hoog gemiddeld vermogen (continue golf of CW) of met een laag gemiddeld vermogen (gepulseerde golf of PW), voelen de polymeren vanwege de kristallijne structuur van de lange ketens niet kleverig aan en zijn zij stabiel in aanwezigheid van water. Het aanvoelen en de stabiliteit ten opzichte van water van coatings van polymeren met een korte keten wordt echter beïnvloed door de toegepaste plasmavermogens. Als er bijvoorbeeld PFAC6 (1H,1H,2H,2H-perfluoroctylacrylaat) wordt gepolymeriseerd onder omstandigheden van een plasma met een laag vermogen, kan de resulterende polymeercoating verschillende nadelen bezitten. De coating kan er bijvoorbeeld de oorzaak van zijn dat waterdruppels zich een beetje verspreiden (inzakken), hetgeen kan worden gekenmerkt door de aanwezigheid van een waterdruppel op het oppervlak ervan, kan kleverig aanvoelen of kan eenvoudig worden uitgesmeerd (bijvoorbeeld op substraten van plakken silicium en ABS-kunststof).If long chain perfluoroalkyl polymers are produced by high medium power (continuous wave or CW) or low average power (pulsed wave or PW) plasmas, due to the crystalline structure of the long chains, the polymers do not feel sticky and they are stable in the presence of water. However, the feel and water stability of coatings of short-chain polymers is influenced by the plasma powers used. For example, if PFAC6 (1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyl acrylate) is polymerized under low-power plasma conditions, the resulting polymer coating can have several drawbacks. The coating may, for example, cause water droplets to spread a little (settle), which may be characterized by the presence of a water droplet on its surface, may feel sticky or may be easily spread out (for example on substrates of silicon wafers and ABS plastic).

Door het vermogen van het plasma dat voor de polymerisatie wordt gebruikt, te verhogen, raakt het polymeer sterker verknoopt en wordt het beter bestand tegen uitsmeren. Het verhogen van het vermogen heeft echter het gelijktijdige effect van het verlagen van de contacthoek voor water door meer monomeerfragmentatie (zoals hierboven beschreven). Figuur 1 laat het effect zien van het verhogen van de verhouding tussen vermogen en vloeisnelheid van het monomeer voor CW-plasma’s in een kamer van 125 liter: bij een snelheid van 4 W/pl/min is de contacthoek voor water ~85-95 graden en is de coating niet-kleverig. Naarmate de snelheid afneemt, neemt de contacthoek echter toe en neemt ook het optreden van kleverige/vettige coatings toe. Figuur 2 laat hetzelfde effect zien voor omstandigheden met een gepulseerd plasma. Deze resultaten tonen aan dat de werkruimte voor de productie van niet-kleverige en niet-vettige coatings een beperkte variatie in plasmawerkwijze bezit en dat de uiteindelijke coating een niet-optimale contacthoek voor water bezit.By increasing the capacity of the plasma used for the polymerization, the polymer becomes more cross-linked and becomes more resistant to smearing. However, increasing the power has the simultaneous effect of lowering the contact angle for water through more monomer fragmentation (as described above). Figure 1 shows the effect of increasing the ratio between power and flow rate of the CW plasma monomer in a 125-liter chamber: at a speed of 4 W / pl / min, the contact angle for water is ~ 85-95 degrees and the coating is non-sticky. However, as the speed decreases, the contact angle increases and the appearance of sticky / greasy coatings also increases. Figure 2 shows the same effect for pulsed plasma conditions. These results demonstrate that the workspace for the production of non-sticky and non-greasy coatings has a limited variation in plasma process and that the final coating has a non-optimum contact angle for water.

Derhalve is het een doel van de uitvinding om een of meer van de hierboven vermelde problemen op te lossen die optreden bij coatings volgens de stand van de techniek.Therefore, it is an object of the invention to solve one or more of the aforementioned problems that occur with prior art coatings.

Beschrijving van de uitvindingDescription of the invention

Een aspect van de onderhavige uitvinding voorziet in een elektronisch of elektrisch apparaat of bestanddeel daarvan, omvattende een beschermende verknoopte polymere coating op een oppervlak van het elektronische of elektrische apparaat of bestanddeel daarvan; waarbij de beschermende verknoopte polymere coating verkregen kan worden door het elektronische of elektrische apparaat of bestanddeel daarvan gedurende een tijdsbestek dat lang genoeg is om vorming van de beschermende verknoopte polymere coating op een oppervlak ervan mogelijk te maken, bloot te stellen aan een plasma omvattende een monomeerverbinding en een verknopend reagens, waarbij de monomeerverbinding de volgende formule heeft: waarbij R1; R2 en R4 allemaal onafhankelijk worden gekozen uit waterstof, eventueel gesubstitueerd CVCe-alkyl of -halogeenalkyl met een vertakte of rechte keten, of aryl eventueel gesubstitueerd door halogeen, en R3 wordt gekozen uit:An aspect of the present invention provides an electronic or electrical device or component thereof, comprising a protective cross-linked polymer coating on a surface of the electronic or electrical device or component thereof; wherein the protective crosslinked polymeric coating can be obtained by exposing the electronic or electrical device or component thereof for a period of time long enough to allow formation of the protective crosslinked polymeric coating on a surface thereof to a plasma comprising a monomer compound and a crosslinking reagent, wherein the monomer compound has the following formula: wherein R1; R 2 and R 4 are each independently selected from hydrogen, optionally substituted branched or straight chained CVCe alkyl or haloalkyl, or aryl optionally substituted by halogen, and R 3 is selected from:

waarbij elke X onafhankelijk wordt gekozen uit waterstof, een halogeen, eventueel gesubstitueerd Cr C6-alkyl of -halogeenalkyl met een vertakte of rechte keten, of aryl eventueel gesubstitueerd door halogeen; en n! een geheel getal van 1 tot 27 is; en waarbij het verknopende reagens twee of meer onverzadigde bindingen omvat die zijn vastgemaakt door middel van een of meer verbindende groepen, en een kookpunt bij standaard druk heeft van lager dan 500 °C.wherein each X is independently selected from hydrogen, a halogen, optionally substituted C 1 -C 6 alkyl or haloalkyl with a branched or straight chain, or aryl optionally substituted by halogen; and n! is an integer from 1 to 27; and wherein the crosslinking reagent comprises two or more unsaturated bonds that are attached by means of one or more linking groups, and has a boiling point at standard pressure of less than 500 ° C.

Hoge maten van verknoping van het polymeer (voorheen alleen haalbaar met plasma’s met continue golf met een hoog vermogen) kunnen worden verkregen door het aan het monomeer toevoegen van een verknopend molecuul, zodat een verknoopt copolymeer wordt verkregen. Dit heeft het voordeel van het vergroten van de variatie in de plasmawerking zodat nu stabiele coatings kunnen worden geproduceerd onder omstandigheden met een gepulseerd plasma met een lage energie.High levels of polymer cross-linking (previously only feasible with high-power continuous wave plasmas) can be achieved by adding a cross-linking molecule to the monomer to obtain a cross-linked copolymer. This has the advantage of increasing the variation in plasma action so that stable coatings can now be produced under conditions with a pulsed low-energy plasma.

De hoge mate van behoud van de hydrofobe monomeerstructuren bij het gepulseerde plasma met een lage energie geeft coatings van het copolymeer een goede hydrofobe coating (zoals bewezen door contacthoeken voor water) en geeft een coating die niet kleverig of vettig aanvoelt. Zodoende maken deze eigenschappen het geschikt voor de coating van elektronische apparaten om het binnentreden van vloeistoffen op waterbasis als gevolg van toevallige beschadiging te voorkomen. Dergelijke coatings hebben in het algemeen een dikte van 1 tot 100 nm, bij voorkeur van 1 tot 50 nm.The high degree of retention of the hydrophobic monomer structures at the low energy pulsed plasma gives coatings of the copolymer a good hydrophobic coating (as proven by contact angles for water) and gives a coating that does not feel sticky or greasy. Thus, these properties make it suitable for the coating of electronic devices to prevent water-based liquids from entering due to accidental damage. Such coatings generally have a thickness of 1 to 100 nm, preferably of 1 to 50 nm.

De coating kan worden beschreven als een vloeistofafstotende laag, in het algemeen een waterafstotende laag. De coating kan water, een waterige vloeistof zoals regenwater, of olie afstoten.The coating can be described as a liquid-repellent layer, generally a water-repellent layer. The coating can repel water, an aqueous liquid such as rainwater, or oil.

Als andere mogelijkheid of daarnaast kan de coating om een vloeistofafstotende laag te vormen, een fysische barrièrelaag zijn.Alternatively or additionally, the coating to form a liquid-repellent layer may be a physical barrier layer.

De coating kan een fysische barrière vormen, d.w.z. de coating zorgt voor een fysische barrière voor massa- en elektronentransport.The coating can form a physical barrier, i.e. the coating provides a physical barrier for mass and electron transport.

De fysische barrièrelaag beperkt diffusie van water, zuurstof en ionen. Als de coating een fysische barrière is, heeft deze in het algemeen een dikte van meer dan 50 nm.The physical barrier layer limits diffusion of water, oxygen and ions. If the coating is a physical barrier, it generally has a thickness of more than 50 nm.

De coating is een beschermende laag, d.w.z. de coating voorkomt schade door contact met water of andere vloeistoffen. De coating kan voorzien in een beschermende functionaliteit door het vormen van een vloeistofafstotende laag en/of een fysische barrièrelaag.The coating is a protective layer, i.e. the coating prevents damage due to contact with water or other liquids. The coating can provide protective functionality by forming a liquid-repellent layer and / or a physical barrier layer.

De coating is bij voorkeur in essentie vrij van gaatjes, zodat deze een fysische barrière kan vormen. Bij voorkeur is ΔΖ/d <0,15, waarbij ΔΖ de gemiddelde hoogtevariatie bij een AFM-lijnaftasting in nm is (zoals weergegeven in Figuur 3) en d de dikte van de coating in nm is.The coating is preferably essentially free of holes so that it can form a physical barrier. Preferably, ΔΖ / d is <0.15, where ΔΖ is the average height variation with an AFM line scan in nm (as shown in Figure 3) and d is the thickness of the coating in nm.

De waarde van ΔΖ/d laat ons zien in welke mate defecten/open ruimtes op het oppervlak van de coating zich uitstrekken tot in de coating, d.w.z. de diepte van het defect als percentage van de totale coatingsdikte. Zo betekent ΔΖ/d = 0,15 bijvoorbeeld dat de open ruimtes op het oppervlak zich slechts naar beneden toe uitstrekken tot 15% van de coatingsdikte. Een coating met een ΔΖ/d <0,15 wordt in dit octrooischrift beschreven als in hoofdzaak vrij van gaatjes. Als de open ruimtes groter zijn dan dit, dan is het onwaarschijnlijk dat de gewenste functionaliteit wordt verkregen.The value of ΔΖ / d shows us to what extent defects / open spaces on the surface of the coating extend into the coating, i.e. the depth of the defect as a percentage of the total coating thickness. For example, ΔΖ / d = 0.15 means that the open spaces on the surface only extend downwards to 15% of the coating thickness. A coating with a ΔΖ / d <0.15 is described in this patent as substantially free of holes. If the open spaces are larger than this, it is unlikely that the desired functionality will be achieved.

De coating is bij voorkeur vormvolgend, hetgeen betekent dat deze de 3D-vorm van het elektronische of elektrische apparaat of bestanddeel daarvan aanneemt, en in hoofdzaak een volledig oppervlak van het apparaat bedekt. Dit heeft het voordeel dat ervoor gezorgd wordt dat de coating een voldoende grote dikte heeft om een optimale functionaliteit over een volledig oppervlak van het apparaat of bestanddeel te geven. De betekenis van de term “bedekt in hoofdzaak een volledig oppervlak” hangt in enige mate af van het soort oppervlak dat bedekt dient te worden. Voor enkele bestanddelen kan het bijvoorbeeld noodzakelijk zijn dat het oppervlak volledig bedekt wordt om het bestanddeel te laten functioneren na onderdompelen in water. Voor andere bestanddelen of behuizingen kunnen kleine onderbrekingen van de coating echter getolereerd worden.The coating is preferably form-following, which means that it takes on the 3D shape of the electronic or electrical device or component thereof, and substantially covers an entire surface of the device. This has the advantage that it is ensured that the coating has a sufficiently large thickness to provide optimum functionality over a full surface of the device or component. The meaning of the term "essentially covers an entire surface" depends to some extent on the type of surface to be covered. For some components, for example, it may be necessary to completely cover the surface to allow the component to function after immersion in water. However, for other components or housings, minor breaks in the coating can be tolerated.

De coating kan een dikte hebben van 50 tot 10000 nm, eventueel van 50 tot 8000 nm, 100 tot 5000 nm, bij voorkeur van 250 nm - 5000 nm, met de meeste voorkeur van 250 nm - 2000 nm.The coating can have a thickness of 50 to 10000 nm, optionally from 50 to 8000 nm, 100 to 5000 nm, preferably from 250 nm to 5000 nm, most preferably from 250 nm to 2000 nm.

De coating kan elektrisch isolerend zijn en voldoende buigzaam zijn om ervoor te zorgen dat elektrische connectoren aan een elektronisch of elektrisch apparaat of bestanddeel daarvan kunnen worden gekoppeld en er een elektrische verbinding wordt gelegd tussen de elektrische connectoren en het elektronische of elektrische apparaat of bestanddeel daarvan zonder dat het noodzakelijk is eerst de coating te verwijderen. In dat geval is de kracht die door de elektrische connector op de coating wordt uitgeoefend, voldoende om de structuur te veranderen of om zelfs door de coating ter plekke van de elektrische connector heen te breken, hetgeen het leggen van een verbinding mogelijk maakt. Elektrische connectoren kunnen in het algemeen op deze wijze met het elektronische of elektrische apparaat of bestanddeel worden verbonden voor coatingsdiktes onder de 5000 nm, en voor coatings met hoge prestaties van minder dan 2000 nm.The coating can be electrically insulating and sufficiently flexible to ensure that electrical connectors can be connected to an electronic or electrical device or component thereof and an electrical connection is made between the electrical connectors and the electronic or electrical device or component thereof without that it is necessary to first remove the coating. In that case, the force exerted on the coating by the electrical connector is sufficient to change the structure or even to break through the coating at the location of the electrical connector, which makes it possible to make a connection. Electrical connectors can generally be connected in this way to the electronic or electrical device or component for coating thicknesses below 5000 nm, and for coatings with high performance of less than 2000 nm.

Het elektronische of elektrische apparaat of bestanddeel daarvan is in het algemeen bestand tegen het gedurende langer dan 30 minuten onderdompelen in tot 1m water zonder dat er een fout of corrosie optreedt terwijl er stroom wordt toegevoerd aan het elektronische of elektrische apparaat of bestanddeel. De effectiviteit van de coating kan worden bepaald door het meten van de elektrische weerstand ervan bij een vast voltage als het gedurende een bepaald tijdsbestek wordt ondergedompeld in water; bijvoorbeeld door een elektrische spanning van 8V aan te leggen over de coating van een apparaat dat gedurende 13 minuten wordt ondergedompeld in water. Coatings met een weerstandswaarde van 1x107 Ohm of hoger zijn bij deze test effectieve barrièrecoatings, en het beklede elektronische of elektrische apparaat of bestanddeel daarvan zal een IPX7-test met succes doorstaan. De IPX7-test is de test van de bescherming tegen binnentreden, die de mate van bescherming tegen water die wordt verkregen, indeelt en rangschikt. Bij de IPX7-test voor telefoons wordt het apparaat onder nader omschreven omstandigheden van druk en tijd gedurende een tijdsduur van 30 minuten ondergedompeld in water (tot aan 1 m onderdompeling). Het apparaat dient gedurende de test aan te staan en dient na 24 uur nog te functioneren.The electronic or electrical device or component thereof is generally resistant to immersion in up to 1m of water for more than 30 minutes without any error or corrosion occurring while power is being supplied to the electronic or electrical device or component. The effectiveness of the coating can be determined by measuring its electrical resistance at a fixed voltage if it is immersed in water for a certain period of time; for example, by applying an electrical voltage of 8V over the coating of a device that is immersed in water for 13 minutes. Coatings with a resistance value of 1x107 Ohm or higher are effective barrier coatings in this test, and the coated electronic or electrical device or component thereof will pass an IPX7 test successfully. The IPX7 test is the entry protection test, which classifies and classifies the degree of protection against water that is obtained. In the IPX7 test for telephones, the device is immersed in water under specified conditions of pressure and time for a period of 30 minutes (up to 1 m immersion). The device must be switched on during the test and must continue to function after 24 hours.

Bij één uitvoeringsvorm is de coating elektrisch isolerend en is de dikte ervan minder dan 1 micron, waarbij een kracht van 5- 20 g die op de coating wordt uitgeoefend door gebruik te maken van een ronde sonde met een diameter van 1 mm, het mogelijk maakt een elektrische verbinding met een elektronisch of elektrisch apparaat of bestanddeel daarvan te leggen in het plaatselijke gebied waar de kracht is uitgeoefend.In one embodiment, the coating is electrically insulating and its thickness is less than 1 micron, a force of 5 to 20 g applied to the coating using a round probe with a diameter of 1 mm makes it possible make an electrical connection to an electronic or electrical device or component thereof in the local area where the force was applied.

Bij een andere uitvoeringsvorm is de coating elektrisch isolerend en is de dikte ervan 1-2,5 micron, waarbij een kracht van 20-100 g die op de coating wordt uitgeoefend door gebruik te maken van een ronde sonde met een diameter van 1 mm, het mogelijk maakt een elektrische verbinding met een elektronisch of elektrisch apparaat of bestanddeel daarvan te leggen in het plaatselijke gebied waar de kracht is uitgeoefend.In another embodiment, the coating is electrically insulating and its thickness is 1-2.5 microns, with a force of 20-100 g applied to the coating by using a round probe with a diameter of 1 mm, makes it possible to make an electrical connection to an electronic or electrical device or component thereof in the local area where the force has been applied.

De coating kan een hogere dichtheid hebben dan die van het overeenkomstige monomeer waaruit de coating is gevormd. De toename van de dichtheid kan bijvoorbeeld ten minste 0,1 g/cm3 bedragen. De toename van de dichtheid wordt verklaard door de sterk verknoopte coating. De hoge dichtheid van de coating verbetert de barrière-eigenschappen van de coating.The coating may have a higher density than that of the corresponding monomer from which the coating is formed. The increase in density may, for example, be at least 0.1 g / cm 3. The increase in density is explained by the highly cross-linked coating. The high density of the coating improves the barrier properties of the coating.

De coating kan een oppervlak vormen dat wordt vastgelegd door een statische watercontacthoek (WCA) van ten minste 70°. Een coating met een WCA van ten minste 90° is een vloeistofafstotende, in het algemeen een waterafstotende, laag. Voor gefluoreerde polymeren kan de coating eën statische contacthoek voor water hebben van ten minste 100°. De contacthoek voor een vloeistof op een vast substraat geeft een indicatie van de oppervlakte-energie die op zijn beurt een illustratie vormt van de vloeistofafstotendheid van het substraat. Er werden contacthoeken gemeten op een VCA Optima-contacthoekanalysator, door bij kamertemperatuur gebruik te maken van druppeltjes gedeïoniseerd water van 3 pi.The coating can form a surface that is fixed by a static water contact angle (WCA) of at least 70 °. A coating with a WCA of at least 90 ° is a liquid-repellent, generally a water-repellent, layer. For fluorinated polymers, the coating can have a static contact angle for water of at least 100 °. The contact angle for a liquid on a solid substrate gives an indication of the surface energy which in turn illustrates the liquid repellency of the substrate. Contact angles were measured on a VCA Optima contact angle analyzer by using droplets of deionized water of 3 µl at room temperature.

VerknopingsmiddelCross-linking agent

Een basiseis voor het verknopende reagens is de aanwezigheid van twee of meer onverzadigde bindingen, bijvoorbeeld -C=C- of alkyngroepen. De onverzadigde bindingen zijn vastgemaakt door middel van een of meer verbindende groepen. Zolang deze de twee of meer onverzadigde bindingen verbindt, worden er geen bijzondere beperkingen aan de verbindende groep gesteld. Het verknopende reagens dient een kookpunt bij standaard druk te hebben van lager dan 500 °C, bij voorkeur van -10 tot 300 °C, eventueel van 180 tot 270 °C, met de meeste voorkeur van 205 tot 260 °C. Het heeft de voorkeur, maar het is geen vereiste, dat het verknopende reagens niet bovenmatig gevaarlijk is bij gebruik bij het werken met plasma, dat wil zeggen dat het gebruikt kan worden in een productie-omgeving waarin lage gehaltes aan damp geen significante problemen op het gebied van gezondheid en veiligheid veroorzaken (b.v. sterk oxiderend, explosief, giftig, of in het bezit van een onaangename geur (b.v. stinkend reagens)). Het verknopende reagens heeft bij voorkeur een van de volgende structuren:A basic requirement for the crosslinking reagent is the presence of two or more unsaturated bonds, for example -C = C or alkyl groups. The unsaturated bonds are attached by means of one or more connecting groups. As long as it connects the two or more unsaturated bonds, no special restrictions are imposed on the connecting group. The crosslinking reagent should have a boiling point at standard pressure of less than 500 ° C, preferably from -10 to 300 ° C, optionally from 180 to 270 ° C, most preferably from 205 to 260 ° C. It is preferred, but not required, that the crosslinking reagent is not excessively hazardous when used with plasma processing, that is, it can be used in a production environment in which low levels of vapor do not present significant problems with the cause health and safety (eg, strong oxidizing, explosive, toxic, or possessing an unpleasant odor (eg, smelly reagent)). The cross-linking reagent preferably has one of the following structures:

waarbij Y2, Y3, Y4, Y5, Y6, Y7 en Y8 allemaal onafhankelijk worden gekozen uit waterstof, eventueel gesubstitueerd cyclisch Ci-C6-alkyl met een vertakte of rechte keten, of aryl; en waarbij L een verbindende groep is.wherein Y 2, Y 3, Y 4, Y 5, Y 6, Y 7 and Y 8 are all independently selected from hydrogen, optionally substituted cyclic C 1 -C 6 branched or straight chain, or aryl; and wherein L is a linking group.

Met de meeste voorkeur heeft L de volgende formule:Most preferably, L has the following formula:

waarbij elke Y9 onafhankelijk wordt gekozen uit een binding, -O-, -O-C(O)-, -C(0)-0-, -Yn-O-C(O)-, -C(0)-0-Yn-, -OYn- en -YnO-, waarbij Yn een eventueel gesubstitueerd cyclisch CrCs-alkyleen met een vertakte of rechte keten is; en Y10 wordt gekozen uit eventueel gesubstitueerd cyclisch CrCe-alkyleen met een vertakte of rechte keten, en een siloxaanbevattende groep.wherein each Y9 is independently selected from a bond, -O-, -OC (O) -, -C (O) -0-, -Yn-OC (O) -, -C (O) -0-Yn-, -OYn- and -YnO-, wherein Yn is an optionally substituted cyclic or straight chained C 1 -C 8 alkylene; and Y 10 is selected from optionally substituted cyclic C 1 -C 6 alkylene with a branched or straight chain, and a siloxane-containing group.

Bij een uitvoeringsvorm die een zeer grote voorkeur heeft, heeft Y10 de volgende formule:In a very highly preferred embodiment, Y10 has the following formula:

waarbij elke Y12 en Y13 onafhankelijk wordt gekozen uit H, halogeen, eventueel gesubstitueerd cyclisch CrCs-alkyl met een vertakte of rechte keten, of -0Y14, waarbij Y14 wordt gekozen uit eventueel gesubstitueerd CrCs-alkyl of -alkenyl met een vertakte of rechte keten, en n een geheel getal van 1 tot 10 is.wherein each Y 12 and Y 13 is independently selected from H, halogen, optionally substituted cyclic or straight chained C 1 -C 8 alkyl, or -0 Y 14, wherein Y 14 is selected from optionally substituted branched or straight chain C 1 -C 6 alkyl, or alkenyl, and n is an integer from 1 to 10.

Eventueel is elke Y12 H en is elke Y13 H, d.w.z. Y10 is een lineaire alkyleenketen. Bij deze uitvoeringsvorm is Y9 bij voorkeur een vinylester- of vinylethergroep.Optionally, each Y12 is H and each Y13 is H, i.e., Y10 is a linear alkylene chain. In this embodiment, Y9 is preferably a vinyl ester or vinyl ether group.

Eventueel is elke Y12 fluor en is elke Y13 fluor, d.w.z. Y10 is een lineaire perfluoralkyleenketen.Optionally, each Y12 is fluorine and every Y13 is fluorine, i.e., Y10 is a linear perfluoroalkylene chain.

In het algemeen is n 4 tot 6.In general, n is 4 to 6.

Bij een ander uitvoeringsvorm heeft Y10 de volgende formule:In another embodiment, Y10 has the following formula:

waarbij elke Y15 onafhankelijk wordt gekozen uit eventueel gesubstitueerd C^Ce-alkyl met een vertakte of rechte keten.wherein each Y15 is independently selected from optionally substituted branched or straight chain C 1 -C 6 alkyl.

Bij één uitvoeringsvorm is elke Y15 methyl en is elke Y9 een binding.In one embodiment, each Y15 is methyl and each Y9 is a bond.

Bij een andere uitvoeringsvorm heeft Y10 de volgende formule:In another embodiment, Y10 has the following formula:

(vi) waarbij Y16 tot Y19 beide onafhankelijk worden gekozen uit H en eventueel gesubstitueerd CVCs-alkyl of -alkenyl met een vertakte of rechte keten. Een alkenylgroep die de voorkeur heeft, is vinyl. Eventueel is Y18 H of vinyl, en zijn Y16, Y17 en Y-|9 allemaal H. Bij één uitvoeringsvorm is elk van de groepen Y16 tot Y19 H. Bij een andere uitvoeringsvorm is Yi8 vinyl, en zijn Y16, Y17 en Y19 allemaal H.(vi) wherein Y16 to Y19 are both independently selected from H and optionally substituted branched or straight chain CVC3 alkyl or alkenyl. A preferred alkenyl group is vinyl. Optionally, Y18 is H or vinyl, and Y16, Y17, and Y- 9 are all H. In one embodiment, each of the groups is Y16 to Y19 H. In another embodiment, Y18 is vinyl, and Y16, Y17, and Y19 are all H .

Bij uitvoeringsvormen die de voorkeur hebben voor verbinding (i), heeft L een van de volgende structuren:In preferred embodiments for compound (i), L has one of the following structures:

Bij een andere uitvoeringsvorm van verbinding (i) heeft L een van de volgende structuren:In another embodiment of compound (i), L has one of the following structures:

Voor L volgens structuur (vii) is Y10 bij voorkeur een alkyleenketen of een cycloalkyleen, zoals die weergegeven door de structuren iv) en vi) hierboven. De alkyleenketen kan een rechte alkyleenketen zijn. Als Y10 een cycloalkyleen is, heeft cyclohexyleen de voorkeur, waarbij 1,4-cyclohexyleen de grootste voorkeur heeft.For L according to structure (vii), Y10 is preferably an alkylene chain or a cycloalkylene, such as those represented by structures iv) and vi) above. The alkylene chain can be a straight alkylene chain. If Y10 is a cycloalkylene, cyclohexylene is preferred, with 1,4-cyclohexylene being most preferred.

Voor L volgens structuur (viii) is Y10 bij voorkeur structuur (iv), d.w.z. een alkyleen- of fluoralkyleenketen.For L according to structure (viii), Y10 is preferably structure (iv), i.e. an alkylene or fluoroalkylene chain.

Voor L volgens structuur (ix) is Y10 bij voorkeur cycloalkyleen, zoals het cyclohexyleen volgens structuur (vi).For L according to structure (ix), Y10 is preferably cycloalkylene, such as the cyclohexylene according to structure (vi).

Voor L volgens structuur (x) is Y10 bij voorkeur structuur (iv), waarbij elke Y12 en Y13 F is, d.w.z. een perfluoralkyleenketen.For L according to structure (x), Y10 is preferably structure (iv), wherein each Y12 and Y13 is F, i.e., a perfluoroalkylene chain.

Voor L volgens structuur (xi) of structuur (xii) is Y10 bij voorkeur alkyleen of cycloalkyleen. Eventueel kan het alkyleen of cycloalkyleen gesubstitueerd zijn met een of meer vinylgroepen of alkenylethergroepen, bij voorkeur een of meer vinylethergroepen.For L according to structure (xi) or structure (xii), Y10 is preferably alkylene or cycloalkylene. Optionally, the alkylene or cycloalkylene may be substituted with one or more vinyl groups or alkenyl ether groups, preferably one or more vinyl ether groups.

Als elke Y9een binding is, kan elke Y10 een van de structuren (iv), (v) en (vi) zijn. Bij voorkeur is Y10 een zodanig alkyleen met een rechte keten dat het verknopende reagens een dieen is, zoals een heptadieen, octadieen of nonadieen, met de meeste voorkeur 1,7-octadieen.If each Y9 is a bond, each Y10 can be one of the structures (iv), (v) and (vi). Preferably, Y10 is a straight chain alkylene such that the cross-linking reagent is a diene such as a heptadiene, octadiene or nonadiene, most preferably 1,7-octadiene.

Als elke Y9 O is, is elke Y10 is bij voorkeur een Cr C6-alkyleen met een vertakte of rechte keten, bij voorkeur alkyleen met een rechte keten, met de meeste voorkeur een C4-alkyleen met een rechte keten, d.w.z. het verknopende reagens is 1,4-butaandioldivinylether.If each Y 9 is O, each Y 10 is preferably a branched or straight chain C 6 -C 6 alkylene, preferably straight chain alkylene, most preferably a straight chain C 4 alkylene, ie the crosslinking reagent 1,4-butanediol divinyl ether.

Het zal duidelijk zijn dat elke groep Y9 met elke andere groep Y9 en met groep Y10 kan worden gecombineerd om het verknopende reagens te vormen.It will be appreciated that any group Y9 can be combined with any other group Y9 and with group Y10 to form the cross-linking reagent.

De vakman zal op de hoogte zijn van de mogelijke substituenten van elk van de hierboven vermelde cyclische CrC8-alkyleengroepen met een vertakte of rechte keten. De alkyleengroepen kunnen op een of meer plaatsen door een geschikte chemische groep gesubstitueerd zijn. Halogeensubstituenten hebben de voorkeur, waarbij fluorsubstituenten de grootste voorkeur hebben. Elke CrC8-alkyleengroep kan een C^Cs-, C2-Cs-, of Cs-C8-alkyleengroep zijn.The person skilled in the art will be aware of the possible substituents of each of the above-mentioned cyclic CrC8 alkylene groups with a branched or straight chain. The alkylene groups may be substituted at one or more locations by a suitable chemical group. Halogen substituents are preferred, with fluorine substituents being most preferred. Each C 8 -C 8 alkylene group can be a C 1 -C 8, C 2 -C 8, or C 5 -C 8 alkylene group.

Uitvoeringsvormen van het verknopingsmiddel die in het bijzonder de voorkeur hebben, bezitten alkylketens voor Y10 en vinylester- of vinylethergroepen aan een van beide zijden.Particularly preferred embodiments of the crosslinking agent have alkyl chains for Y10 and vinyl ester or vinyl ether groups on either side.

Een verknopend reagens dat in het bijzonder de voorkeur heeft, is divinyladipaat (een divinylester).A particularly preferred cross-linking reagent is divinyl adipate (a divinyl ester).

Een ander verknopend reagens dat de voorkeur heeft, is 1,4-butaandioldivinylether (een divinylether).Another preferred cross-linking reagent is 1,4-butanediol divinyl ether (a divinyl ether).

Voor de uitvoeringsvormen die de grootste voorkeur hebben, wordt het verknopende reagens gekozen uit divinyladipaat (DVA), 1,4-butaaandioldivinylether (BDVE), 1,4-cyclohexaandimethanoldivinylether (CDDE), 1,7-octadieen (170D), 1,2,4-trivinylcyclohexaan (TVCH), 1,3-divinyltetramethyldisiloxaan (DVTMDS), diallyl-1,4-cyclohexaaandicarboxylaat (DCHD), 1,6-divinylperfluorhexaan (DVPFH), 1H,1H,6H,6H-perfluorhexaandioldiacrylaat (PFHDA) en glyoxaalbis(diallylacetaal) (GBDA).For the most preferred embodiments, the cross-linking reagent is selected from divinyl adipate (DVA), 1,4-butane diol divinyl ether (BDVE), 1,4-cyclohexane dimethanol divinyl ether (CDDE), 1,7-octadiene (170D), 1,2 , 4-trivinylcyclohexane (TVCH), 1,3-divinyltetramethyldisiloxane (DVTMDS), diallyl-1,4-cyclohexanedicarboxylate (DCHD), 1,6-divinyl perfluorhexane (DVPFH), 1H, 1H, 6H, 6H-perfluorhexanedioldiodioldDADADA (FD) glyoxal bis (diallyl acetal) (GBDA).

Voor de alkyn verknopende reagentia volgens verbinding (ii) wordt L bij voorkeur gekozen uit een Cr C8-alkyleen met een vertakte of rechte keten, of een ethergroep. L kan een C3-, C4-, C5- of C6-alkyleen, bij voorkeur een alkyleen met een rechte keten, zijn. Chemische structuren die in het bijzonder de voorkeur hebben voor de verknopende reagentia, worden hieronder in tabel 1 weergegeven:For the alkyn crosslinking reagents of compound (ii), L is preferably selected from a branched or straight chain C 1 -C 8 alkylene or an ether group. L can be a C3, C4, C5 or C6 alkylene, preferably a straight chain alkylene. Particularly preferred chemical structures for the cross-linking reagents are shown in Table 1 below:

Tabel 1Table 1

MonomeerverbindingMonomer compound

De monomeerverbinding heeft de volgende formule:The monomer compound has the following formula:

waarbij Ri, R2 en R4 allemaal onafhankelijk worden gekozen uit waterstof, eventueel gesubstitueerd Ch-Ce-alkyl of -halogeenalkyl met een vertakte of rechte keten, of aryl eventueel gesubstitueerd door halogeen, en R3 wordt gekozen uit:wherein R 1, R 2 and R 4 are all independently selected from hydrogen, optionally substituted branched or straight chain C 1 -C 6 alkyl or haloalkyl, or aryl optionally substituted by halogen, and R 3 is selected from:

waarbij elke X onafhankelijk wordt gekozen uit waterstof, een halogeen, eventueel gesubstitueerd Cr C6-alkyl of -halogeenalkyl met een vertakte of rechte keten, of aryl eventueel gesubstitueerd door halogeen; en n, een geheel getal van 1 tot 27 is. Bij voorkeur is n! 1 tot 12. Eventueel is ^ 4 tot 12, eventueel 6 tot 8.wherein each X is independently selected from hydrogen, a halogen, optionally substituted C 1 -C 6 alkyl or haloalkyl with a branched or straight chain, or aryl optionally substituted by halogen; and n, an integer from 1 to 27. Preferably n! 1 to 12. Optionally, ^ 4 to 12, possibly 6 to 8.

Bij een uitvoeringsvorm die de voorkeur heeft, wordt R3 gekozen uit:In a preferred embodiment, R 3 is selected from:

waarbij m, een geheel getal van 0 tot 13 is en elke X onafhankelijk wordt gekozen uit waterstof, een halogeen, eventueel gesubstitueerd CVCValkyl of -halogeenalkyl met een vertakte of rechte keten, of aryl eventueel gesubstitueerde door halogeen; en m2 een geheel getal van 2 tot 14 is;wherein m is an integer from 0 to 13 and each X is independently selected from hydrogen, a halogen, optionally substituted CVCV alkyl or branched or straight chain haloalkyl, or aryl optionally substituted by halogen; and m2 is an integer from 2 to 14;

Bij een uitvoeringsvorm die in het bijzonder de voorkeur heeft, is het monomeer een verbinding met formule l(a): l(a)In a particularly preferred embodiment, the monomer is a compound of formula 1 (a): 1 (a)

waarbij elke Fh, R2, R4, en R5 tot R10 onafhankelijk wordt gekozen uit waterstof of een eventueel gesubstitueerde CVCe-alkylgroep met een vertakte of rechte keten; elke X onafhankelijk wordt gekozen uit waterstof of halogeen; a 0-10 is; b 2 tot 14 is; en c 0 of 1 is; of is het monomeer een verbinding met formule l(b): l(b)wherein each Fh, R2, R4, and R5 to R10 is independently selected from hydrogen or a branched or straight chain optionally substituted CVCe alkyl group; each X is independently selected from hydrogen or halogen; a is 0-10; b is 2 to 14; and c is 0 or 1; or the monomer is a compound of formula 1 (b): 1 (b)

waarbij elke R2, R4, en R5 tot R10 onafhankelijk wordt gekozen uit waterstof of een eventueel gesubstitueerde Ch-Ce-alkylgroep met een vertakte of rechte keten; elke X onafhankelijk wordt gekozen uit waterstof of halogeen; a 0-10 is; b 2 tot 14 is; en c 0 of 1 is.wherein each R 2, R 4, and R 5 to R 10 is independently selected from hydrogen or an optionally substituted branched or straight chain C 1 -C 6 alkyl group; each X is independently selected from hydrogen or halogen; a is 0-10; b is 2 to 14; and c is 0 or 1.

Het halogeen kan chloor of broom zijn, maar is, om te kunnen voldoen aan de RoHS-regelgeving (Restriction of Hazardous Substances), bij voorkeur fluor. a is 0 tot 10, bij voorkeur 0 tot 6, eventueel 2 tot 4, met de meeste voorkeur 0 of 1. b is 2 tot 14, eventueel 2 tot 10, bij voorkeur 3 tot 7.The halogen can be chlorine or bromine, but in order to comply with the RoHS (Restriction of Hazardous Substances) regulations, it is preferably fluorine. a is 0 to 10, preferably 0 to 6, optionally 2 to 4, most preferably 0 or 1. b is 2 to 14, optionally 2 to 10, preferably 3 to 7.

Elke R^ R2, R4, en R5 tot R10 wordt onafhankelijk gekozen uit waterstof of een Ch-Ce.alkylgroep met een vertakte of rechte keten. De alkylgroep kan gesubstitueerd of niet-gesubstitueerd, verzadigd of onverzadigd, zijn. Als de alkylgroep gesubstitueerd is, worden er op voorwaarde dat het verkregen polymeer zorgt voor een geschikte vloeistofafstotende laag en/of barrièrelaag, geen bijzondere beperkingen gesteld aan de plaats van de substituent of de soort substituent. De vakman is ervan op de hoogte welke substituenten geschikt zijn. Als de alkylgroep gesubstitueerd is, is een substituent die de voorkeur heeft, halogeen, d.w.z. een van de groepen R1; R2, R4, en R5 tot R10 kan halogeenalkyl zijn, bij voorkeur fluoralkyl. Andere mogelijke substituenten kunnen hydroxyl- of aminegroepen zijn. Als de alkylgroep onverzadigd is, kan deze een of meer alkeen- of alkyngroepen omvatten.Each R 1, R 2, R 4, and R 5 to R 10 is independently selected from hydrogen or a branched or straight chain C 1 -C 6 alkyl group. The alkyl group can be substituted or unsubstituted, saturated or unsaturated. If the alkyl group is substituted, provided that the polymer obtained provides a suitable liquid-repellent layer and / or barrier layer, no particular restrictions are placed on the location of the substituent or the type of substituent. The person skilled in the art is aware of which substituents are suitable. When the alkyl group is substituted, a preferred substituent is halogen, i.e., one of the R 1 groups; R 2, R 4, and R 5 to R 10 may be haloalkyl, preferably fluoroalkyl. Other possible substituents can be hydroxyl or amine groups. If the alkyl group is unsaturated, it may comprise one or more olefin or alkyl group.

Elke Rt, R2, R4 en R5 tot R10 kan onafhankelijk worden gekozen uit waterstof, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, sec-butyl, n-pentyl, neopentyl, n-hexyl, isohexyl en 3-methylpentyl.Each Rt, R2, R4 and R5 to R10 can be independently selected from hydrogen, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, sec-butyl, n-pentyl, neopentyl, n-hexyl , isohexyl and 3-methyl pentyl.

Bij een uitvoeringsvorm die de voorkeur heeft, wordt elke R^ R2, R4 en R5 tot R10 onafhankelijk gekozen uit waterstof of methyl.In a preferred embodiment, each R 1, R 2, R 4 and R 5 to R 10 is independently selected from hydrogen or methyl.

Bij een uitvoeringsvorm die de voorkeur heeft, zijn a en c elk onafhankelijk 0 of 1; en is b 3 tot 7.In a preferred embodiment, a and c are each independently 0 or 1; and b is 3 to 7.

Bij één uitvoeringsvorm die de voorkeur heeft, is elke X H. Bij een andere uitvoeringsvorm die de voorkeur heeft, is elke X F.In one preferred embodiment, each X is H. In another preferred embodiment, each X is F.

Eventueel zijn Rï en R2 beide waterstof.Optionally, R 1 and R 2 are both hydrogen.

Eventueel is R4 waterstof of methyl. Bij voorkeur zijn Fm en R2 beide waterstof en is R4 waterstof oT methyl.Optionally, R 4 is hydrogen or methyl. Preferably, Fm and R2 are both hydrogen and R4 is hydrogen or methyl.

Eventueel is R9 waterstof en is R10 een CrC6-alkylgroep met een vertakte of rechte keten. Bij een uitvoeringsvorm die de voorkeur heeft, is R10 methyl.Optionally, R9 is hydrogen and R10 is a branched or straight chain C 1 -C 6 alkyl group. In a preferred embodiment, R10 is methyl.

Bij één uitvoeringsvorm is elke R5 tot R8 waterstof.In one embodiment, each R5 to R8 is hydrogen.

Bij één uitvoeringsvorm is elke Ri, R2, R4, en R5 tot R10 waterstof, is elke X H, a=0 en c=0.In one embodiment, each R 1, R 2, R 4, and R 5 to R 10 is hydrogen, each X is H, a = 0 and c = 0.

Bij een uitvoeringsvorm die in het bijzonder de voorkeur heeft, heeft de monomeerverbinding de volgende formule:In a particularly preferred embodiment, the monomer compound has the following formula:

waarbij n 2 tot 10 is.wherein n is 2 to 10.

Bij een andere uitvoeringsvorm die de voorkeur heeft, heeft de monomeerverbinding de volgende formule:In another preferred embodiment, the monomer compound has the following formula:

waarbij n 2 tot 10 is.wherein n is 2 to 10.

De monomeerverbinding kan worden gekozen uit 1H,1H,2H,2H-perfluorhexylacrylaat (PFAC4), 1H,1H,2H,2H-perfluoroctylacrylaat (PFAC6), 1H,1H,2H,2H-perfluordecylacrylaat (PFAC8) en 1H, 1H,2H,2H-perfluordodecylacrylaat (PFAC10).The monomer compound can be selected from 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorohexyl acrylate (PFAC4), 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyl acrylate (PFAC6), 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorocyl acrylate (PFAC8) and 1H, 1H, 2H 1 H perfluorododecyl acrylate (PFAC10).

De monomeerverbinding kan worden gekozen uit 1H,1H,2H,2H-pefluorhexylmethacrylaat (PFMAC4), 1H,1H,2H,2H-perfluoroctylmethacrylaat (PFMAC6) en 1H,1FI,2H,2H-perfluordecylmethacrylaat (PFMAC8).The monomer compound can be selected from 1H, 1H, 2H, 2H-pefluorohexyl methacrylate (PFMAC4), 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyl methacrylate (PFMAC6) and 1H, 1FI, 2H, 2H-perfluorodecyl methacrylate (PFMAC8).

De monomeerverbinding met formule l(a) kan de volgende formule hebben: waarbij a en c beide onafhankelijk 0 of 1 zijn, b=3-7 en n 4 tot 10 is, waarbij n=a+b+c+1.The monomer compound of formula I (a) can have the following formula: wherein a and c are both independently 0 or 1, b = 3-7 and n is 4 to 10, where n = a + b + c + 1.

De monomeerverbinding met formule I(a) kan de volgende formule hebben:The monomer compound of formula I (a) can have the following formula:

waarbij n 2 tot 12 is.wherein n is 2 to 12.

De monomeerverbinding kan worden gekozen uit ethylhexylacrylaat, hexylacrylaat, decylacrylaat, lauryldodecylacrylaat en isodecylacrylaat.The monomer compound can be selected from ethyl hexyl acrylate, hexyl acrylate, decyl acrylate, lauryl dodecyl acrylate and isodecyl acrylate.

Het monomeer kan de volgende formule hebben:The monomer can have the following formula:

waarbij n 4 tot 14 is.wherein n is 4 to 14.

waarbij n 4 tot 14 is. DCZlwherein n is 4 to 14. DCZ1

Volgens een bijkomend aspect voorziet de onderhavige uitvinding in een werkwijze voor het behandelen van een elektronisch apparaat of bestanddeel daarvan omvattende: het gedurende een tijdsbestek dat lang genoeg is om vorming van een beschermende verknoopte polymere coating op een oppervlak van het elektronische of elektrische apparaat of bestanddeel daarvan mogelijk te maken, blootstellen van het elektronische of elektrische apparaat of bestanddeel daarvan aan een plasma omvattende een monomeerverbinding en een verknopend reagens; waarbij de monomeerverbinding de volgende formule heeft:In an additional aspect, the present invention provides a method for treating an electronic device or component thereof comprising: for a period of time sufficient to form a protective cross-linked polymer coating on a surface of the electronic or electrical device or component make it possible to expose the electronic or electrical device or component thereof to a plasma comprising a monomer compound and a cross-linking reagent; wherein the monomer compound has the following formula:

waarbij R1; R2 en R4 elk onafhankelijk worden gekozen uit waterstof, eventueel gesubstitueerd (VCV alkyl of -halogeenalkyl met een vertakte of rechte keten, of aryl eventueel gesubstitueerd door halogeen, en R3 wordt gekozen uit:wherein R1; R 2 and R 4 are each independently selected from hydrogen, optionally substituted (branched or straight chain VCV alkyl or haloalkyl, or aryl optionally substituted by halogen, and R 3 is selected from:

waarbij elke X onafhankelijk wordt gekozen uit waterstof, eventueel gesubstitueerd CVCe-alkyl of -halogeenalkyl met een vertakte of rechte keten, of aryl eventueel gesubstitueerd door halogeen; en n-i een geheel getal van 1 tot 27 is; en waarbij het verknopende reagens twee of meer onverzadigde bindingen omvat, en een kookpunt bij standaard druk heeft van lager dan 500 °C.wherein each X is independently selected from hydrogen, optionally substituted branched or straight chained CVCe alkyl or haloalkyl, or aryl optionally substituted by halogen; and n-i is an integer from 1 to 27; and wherein the cross-linking reagent comprises two or more unsaturated bonds, and has a boiling point at standard pressure of less than 500 ° C.

De monomeerverbinding en het verknopende reagens die bij de werkwijze worden toegepast, worden hierboven meer gedetailleerd beschreven.The monomer compound and the crosslinking reagent used in the process are described in more detail above.

In het algemeen wordt het elektronische of elektrische apparaat of bestanddeel daarvan in een plasma-afzettingskamer geplaatst, wordt er in deze kamer een gloeiontlading ontstoken en wordt er een elektrische spanning aangelegd in de vorm van een gepulseerd veld.In general, the electronic or electrical device or component thereof is placed in a plasma deposition chamber, a glow discharge is ignited in this chamber and an electrical voltage is applied in the form of a pulsed field.

Bij voorkeur is de aangelegde elektrische spanning, een spanning bij een vermogen van 30 tot 800 W. Eventueel wordt de spanning gepulseerd in een volgorde waarbij de verhouding van de aan-periode/uit-periode zich bevindt in het gebied van 0,001 tot 1, eventueel in het gebied van 0,002 tot 0,5. De aan-periode kan bijvoorbeeld 10-500 ps bedragen, bij voorkeur 35-45 ps of 30-40 ps, zoals ongeveer 36 ps, en de uit-periode kan 0,1 tot 30 ms bedragen, bij voorkeur 0,1 tot 20 ms, eventueel 5 tot 15 ms, bijvoorbeeld 6 ms. De aan-periode kan 35 ps, 40 ps, 45 ps bedragen. De uit-periode kan 0,1, 1,2, 3, 6, 8, 10, 15, 20, 25 of 30 ms bedragen.Preferably, the applied electrical voltage is a voltage at a power of 30 to 800 W. Optionally, the voltage is pulsed in a sequence in which the ratio of the on period / off period is in the range of 0.001 to 1, optionally in the range of 0.002 to 0.5. The on period can be, for example, 10-500 ps, preferably 35-45 ps or 30-40 ps, such as about 36 ps, and the off period can be 0.1 to 30 ms, preferably 0.1 to 20 ms ms, optionally 5 to 15 ms, for example 6 ms. The on period can be 35 ps, 40 ps, 45 ps. The off period can be 0.1, 1.2, 3, 6, 8, 10, 15, 20, 25 or 30 ms.

De term gepulseerd kan betekenen dat het plasma heen en weer beweegt tussen een staat van geen (of in essentie geen) plasma-emissie (uit-toestand) en een staat waarbij een bepaalde hoeveelheid plasma wordt geëmitteerd (aan-toestand). Als alternatief kan gepulseerd betekenen dat er een continue emissie van plasma is, maar dat de hoeveelheid plasma heen en weer beweegt tussen een bovengrens (aan-toestand) en een benedengrens (uit-toestand).The term pulsed may mean that the plasma moves back and forth between a state of no (or essentially no) plasma emission (off state) and a state where a certain amount of plasma is emitted (on state). Alternatively, pulsed means that there is a continuous plasma emission, but that the amount of plasma moves back and forth between an upper limit (on-state) and a lower limit (off-state).

Bij een andere uitvoeringsvorm berust de uitvinding op een werkwijze voor het vormen van een coating op een elektronisch of elektrisch apparaat of bestanddeel daarvan zoals hierboven nader omschreven, welke werkwijze omvat: het gedurende een tijdsbestek dat lang genoeg is om de vorming van een beschermende polymeercoating op het substraat mogelijk te maken, in een kamer blootstellen van het substraat aan een plasma, bij voorkeur een continu plasma, omvattende een monomeerverbinding, waarbij tijdens de blootstelling van het substraat het continue plasma een vermogensdichtheid bezit van ten minste 2W/liter, bij voorkeur 20W/liter.In another embodiment, the invention relies on a method of forming a coating on an electronic or electrical device or component thereof as further described above, which method comprises: for a period of time long enough to prevent the formation of a protective polymer coating. enabling the substrate, in a chamber, to expose the substrate to a plasma, preferably a continuous plasma, comprising a monomer compound, wherein during the exposure of the substrate the continuous plasma has a power density of at least 2W / liter, preferably 20W / liter.

Eventueel wordt de elektrische spanning gedurende een tijdsbestek van 30 seconden tot 90 minuten aangelegd in de vorm van een gepulseerd veld. Eventueel wordt de elektrische spanning gedurende 5 tot 60 minuten aangelegd in de vorm van een gepulseerd veld. Eventueel wordt er in een inleidende stap een plasma met continu vermogen aangelegd over het elektronische of elektrische apparaat of bestanddeel daarvan. De inleidende stap kan worden uitgevoerd in aanwezigheid van een inert gas.Optionally, the electrical voltage is applied for a period of time from 30 seconds to 90 minutes in the form of a pulsed field. Optionally the electrical voltage is applied for 5 to 60 minutes in the form of a pulsed field. Optionally, in a preliminary step, a plasma with continuous power is applied over the electronic or electrical device or component thereof. The preliminary step can be carried out in the presence of an inert gas.

Voor het verknopingsmiddel en/of de monomeerverbinding de afzettingskamer binnenkomen, kunnen zij bij kamertemperatuur beide de vorm van een gas, een vloeistof of een vaste stof (bijvoorbeeld een poeder) hebben. Het heeft echter de voorkeur dat het verknopende reagens en de monomeerverbinding bij kamertemperatuur beide vloeibaar zijn, en het heeft de meeste voorkeur dat de vloeistoffen van het monomeer en het verknopingsmiddel mengbaar zijn.Before the cross-linking agent and / or the monomer compound enter the deposition chamber, they can both be in the form of a gas, a liquid or a solid (e.g. a powder) at room temperature. However, it is preferred that the crosslinking reagent and the monomer compound are both liquid at room temperature, and it is most preferred that the monomer and crosslinking agent liquids are miscible.

De monomeerverbinding en/of het verknopingsmiddel bevinden zich geschikt in een gastoestand in het plasma. Het plasma kan eenvoudig een damp van de monomeerverbinding en het verknopingsmiddel omvatten. Een dergelijke damp kan in-situ worden gevormd, waarbij de verbindingen in vloeibare vorm in de kamer worden gebracht. Het monomeer kan ook worden gecombineerd met een draaggas, in het bijzonder met een inert gas zoals helium of argon.The monomer compound and / or the crosslinking agent are suitably in a gas state in the plasma. The plasma can simply comprise a vapor of the monomer compound and the cross-linking agent. Such a vapor can be formed in situ, the compounds being introduced into the chamber in liquid form. The monomer can also be combined with a carrier gas, in particular with an inert gas such as helium or argon.

Bij uitvoeringsvormen die de voorkeur hebben, kan het monomeer en/of het verknopingsmiddel in de kamer worden toegevoerd door middel van een aerosolapparaat zoals een vernevelaar of iets dergelijks, zoals bijvoorbeeld nader omschreven in WO2003/097245 en WO03/101621, waarvan de inhoud door referentie in dit octrooischrift is opgenomen. Bij een dergelijke opstelling kan het voorkomen dat een draaggas niet nodig is, hetgeen met voordeel behulpzaam is bij het bereiken van hoge gassnelheden.In preferred embodiments, the monomer and / or cross-linking agent may be introduced into the chamber by means of an aerosol device such as a nebulizer or the like, such as, for example, described in detail in WO2003 / 097245 and WO03 / 101621, the contents of which are by reference. is included in this patent. With such an arrangement, it may happen that a carrier gas is not required, which is advantageously helpful in achieving high gas speeds.

Bij een uitvoeringsvorm bevinden de monomeerverbinding en/of het verknopende reagens zich in de gasvorm en worden zij, afhankelijk van het kamervolume, terwijl de gepulseerd elektrische spanning wordt aangelegd, met een snelheid van 10-5000 mg/minuut in het plasma geleid.In one embodiment, the monomer compound and / or the crosslinking reagent are in the gas form and, depending on the chamber volume, while the pulsed electrical voltage is applied, are introduced into the plasma at a rate of 10-5000 mg / minute.

Eventueel wordt het plasma gecreëerd met een gemiddeld vermogen van 0,001 tot 40 W/liter.Optionally, the plasma is created with an average power of 0.001 to 40 W / liter.

Het verknopingsmiddel kan mengbaar zijn met het monomeer en derhalve gezamenlijk of afzonderlijk in de plasmakamer worden geleid. Of het verknopingsmiddel kan niet-mengbaar zijn met het monomeer en afzonderlijk in de plasmakamer worden geleid. In dit verband betekent de term “mengbaar” dat het verknopingsmiddel oplosbaar is in het monomeer, en dat er bij mengen een oplossing met een uniforme samenstelling wordt gevormd. De term “niet-mengbaar” wordt gebruikt om aan te geven dat het verknopingsmiddel slechts gedeeltelijk oplosbaar of niet-oplosbaar is in het monomeer, en derhalve een emulsie vormt of in twee lagen uiteenvalt.The cross-linking agent can be miscible with the monomer and therefore be introduced into the plasma chamber together or separately. Or, the cross-linking agent may be immiscible with the monomer and passed into the plasma chamber separately. In this context, the term "miscible" means that the cross-linking agent is soluble in the monomer, and that a solution with a uniform composition is formed upon mixing. The term "immiscible" is used to indicate that the cross-linking agent is only partially soluble or insoluble in the monomer, and therefore forms an emulsion or disintegrates into two layers.

Het verknopende reagens is, afhankelijk van het specifieke verknopingsmiddel, bij voorkeur aanwezig in een hoeveelheid van 10 tot 60 (vol./vol.)%, eventueel 20 tot 40 (vol./vol.)%, eventueel 25 tot 30 (vol./vol.)%, eventueel 30 tot 50 (vol./vol.)%, van het totale volume van monomeerverbinding en verknopend reagens. Het zal de vakman duidelijk zijn dat de hoeveelheid in enige mate varieert, afhankelijk van het feit of vereist wordt dat de coating vloeistofafstotend is of dat de coating een barrière vormt voor het transport van massa en elektronen,. Het zal de vakman duidelijk zijn dat de (vol./vol.)-percentages die percentages zijn die een stabiele verknoopte polymeercoating en de hoogste contacthoek voor water geven.Depending on the specific crosslinking agent, the crosslinking reagent is preferably present in an amount of 10 to 60 (vol./vol.)%, optionally 20 to 40 (vol./vol.)%, optionally 25 to 30 (vol. /vol.)%, possibly 30 to 50 (vol./vol.)%, of the total volume of monomer compound and crosslinking reagent. It will be apparent to those skilled in the art that the amount varies to some extent depending on whether the coating is required to be fluid-repellent or that the coating forms a barrier to the transport of mass and electrons. It will be apparent to those skilled in the art that the (vol./vol.) percentages are those that give a stable cross-linked polymer coating and the highest contact angle for water.

Elektronisch of elektrische apparaat of bestanddeel daarvanElectronic or electrical device or component thereof

Hoewel de uitvinding van nut is in samenhang met een grote verscheidenheid aan substraten, kan het substraat bij alle aspecten van de uitvinding met voordeel een elektronisch substraat zijn.Although the invention is useful in conjunction with a wide variety of substrates, the substrate can be advantageously an electronic substrate in all aspects of the invention.

Bij een aantal uitvoeringsvormen van de uitvinding kan het elektronische substraat een elektronisch of elektrisch apparaat omvatten, d.w.z. elk deel van elektrische of elektronische uitrusting. Tot de niet-beperkende voorbeelden van elektrische en elektronische apparaten behoren communicatiemiddelen zoals mobiele telefoons, smartphones en biepers, radio's, en geluids- en audiosystemen zoals luidsprekers, microfoons, beltonen of zoemers, hoortoestellen, persoonlijke audio-uitrusting zoals persoonlijke CD-, cassette- of MP3-spelers, televisietoestellen, DVD-spelers inclusief draagbare DVD-spelers, videorecorders, digitale en andere afstemeenheden zoals een Sky-box, computers en verwante bestanddelen zoals laptop-, notebook-, tablet-, telefoontablet- of handcomputers, persoonlijke digitale assistanten (PDA's), keyboards of instrumenten, spelcomputers, in het bijzonder draagbare playstations en dergelijke, apparaten voor gegevensopslag, systemen voor buitenverlichting of buitenantennes, en andere vormen van communicatie-uitrusting.In a number of embodiments of the invention, the electronic substrate may comprise an electronic or electrical device, i.e., any part of electrical or electronic equipment. Non-limiting examples of electrical and electronic devices include means of communication such as mobile phones, smartphones and beeps, radios, and sound and audio systems such as speakers, microphones, ringtones or buzzers, hearing aids, personal audio equipment such as personal CD, cassette or MP3 players, televisions, DVD players including portable DVD players, video recorders, digital and other tuning units such as a Sky box, computers and related components such as laptop, notebook, tablet, telephone or handheld computers, personal digital assistants (PDAs), keyboards or instruments, game computers, in particular portable play stations and the like, data storage devices, outdoor lighting or outdoor antenna systems, and other forms of communication equipment.

Bij uitvoeringsvormen van de uitvinding die de voorkeur hebben, kan het substraat een elektronisch bestanddeel omvatten of daaruit bestaan, b.v. een geprinte printplaat (PCB), een reeks geprinte printplaten (PCBA), een transistor-, weerstands- of halfgeleiderchip. Het elektronische bestanddeel kan aldus een intern bestanddeel van een elektronisch apparaat, b.v. een mobiele telefoon, zijn. De coatings van de uitvinding zijn in het bijzonder waardevol bij het voorkomen van elektrochemische migratie in dergelijke bestanddelen.In preferred embodiments of the invention, the substrate may comprise or consist of an electronic component, e.g. a printed circuit board (PCB), a series of printed circuit boards (PCBA), a transistor, resistor or semiconductor chip. The electronic component can thus be an internal component of an electronic device, e.g. be a cell phone. The coatings of the invention are particularly valuable in preventing electrochemical migration into such components.

Bij alle aspecten van de uitvinding hangen de precieze omstandigheden waaronder de beschermende polymere coating op een effectieve wijze gevormd wordt, af van factoren zoals, zonder dat dit een beperkende lijst is, de aard van de monomeerverbinding, het verknopende reagens, het substraat, en ook de gewenste eigenschappen van de coating. Deze omstandigheden kunnen met behulp van routinewerkwijzen worden bepaald of, bij voorkeur, door gebruik te maken van de technieken en voorkeurskenmerken van de in dit octrooischrift beschreven uitvinding die in bijzondere synergie met de uitvinding werken.In all aspects of the invention, the precise conditions under which the protective polymeric coating is effectively formed depend on factors such as, but not limited to, the nature of the monomer compound, the crosslinking reagent, the substrate, and also the desired properties of the coating. These conditions can be determined by routine methods or, preferably, by using the techniques and preferred features of the invention described in this patent which operate in particular synergy with the invention.

De onderhavige uitvinding zal nu verder worden beschreven onder verwijzing naar de volgende niet-beperkende voorbeelden en de begeleidende illustratieve tekeningen, waarbij:The present invention will now be further described with reference to the following non-limiting examples and the accompanying illustrative drawings, wherein:

Figuur 1 het effect illustreert van het verhogen van de verhouding tussen vermogen en vloeisnelheid van het monomeer voor CW-plasma’s in een kamer van 3 liter bij een werkwijze volgens de stand van de techniek.Figure 1 illustrates the effect of increasing the ratio between power and flow rate of the CW plasma monomer in a 3-liter chamber in a prior art method.

Figuur 2 hetzelfde effect laat zien voor omstandigheden van een gepulseerd plasma.Figure 2 shows the same effect for conditions of a pulsed plasma.

Figuur 3 een beeld laat zien van een wijze van aanraken over een gezichtsveld van 10x10 pm2 van een voorbeeld specimen (dikte d=1230 nm) dat is vervaardigd volgens voorbeeld 1 (linkerkant), en een grafiek laat zien met contourlijnen die de gegevens laten zien die zijn gebruikt voor het berekenen van RMS-ruwheid (rechterkant). De op de grafiek aangegeven ΔΖ-waarde is genomen over een gebied van de grafiek dat het grootste gedeelte van de coating weergeeft. Pieken die boven het ΔΖ-gebied liggen, wijzen op grote deeltjes en troggen die beneden het ΔΖ-gebied vallen, laten open ruimtes of gaatjes in de coating zien. De breedte van de pieken geeft ook een indicatie van de deeltjesgrootte.Figure 3 shows an image of a manner of touching over a 10x10 pm2 field of view of an example specimen (thickness d = 1230 nm) made according to example 1 (left side), and shows a graph with contour lines showing the data used for calculating RMS roughness (right side). The ΔΖ value indicated on the graph is taken over an area of the graph that represents most of the coating. Peaks above the ΔΖ area indicate large particles and troughs that fall below the ΔΖ area show open spaces or holes in the coating. The width of the peaks also gives an indication of the particle size.

Figuur 4 het effect van het toevoegen van het verknopingsmiddel divinyladipaat aan perfluoroctylacrylaat op de contacthoek voor water bij een proces op een kamer van 125 liter illustreert.Figure 4 illustrates the effect of adding the cross-linking agent divinyl adipate to perfluorooctyl acrylate on the contact angle for water in a process in a 125-liter chamber.

Figuur 5 het effect van het toevoegen van verknopingsmiddelen volgens de uitvinding op de elektrische weerstand per nm van de coatings laat zien.Figure 5 shows the effect of adding cross-linking agents according to the invention on the electrical resistance per nm of the coatings.

Figuur 6 een beeld laat zien van een wijze van aanraken van een 90 nm dikke coating die is vervaardigd zoals beschreven in voorbeeld 3, over een gezichtsveld van 2x2 pm2 (links bovenaan), een representatieve contourlijn laat zien die de variatie in hoogte (z-as) van de coating aangeeft (rechts bovenaan), en een fasebeeld laat zien dat wijst op een volledige substraatcoating (links onderaan); RMS-ruwheid van de coating is 1,65 nm en Δz/d =0,05.Figure 6 shows an image of a manner of touching a 90 nm thick coating made as described in Example 3, over a field of view of 2x2 pm2 (top left), a representative contour line showing the variation in height (z- axis) of the coating (top right), and shows a phase image that indicates a complete substrate coating (bottom left); RMS roughness of the coating is 1.65 nm and Δz / d = 0.05.

Figuur 7 een FTIR/ATR-spectrum laat zien van een volgens voorbeeld 5 gevormde coating.Figure 7 shows an FTIR / ATR spectrum of a coating formed according to Example 5.

Voorbeeld 1Example 1

Voorbeeld van de plasmapolymerisatie van PFAC6 zonder verknopingsmiddel in een kamer van 3 literExample of plasma polymerization of PFAC6 without cross-linking agent in a 3 liter chamber

Er werd met behulp van een werkwijze met een continu plasma in een glazen kamer van 3 liter PFAC6 gepolymeriseerd. In de experimentele modelvorm werd het continue plasma geproduceerd door gebruik te maken van RF-vermogensniveaus van 50, 100 en 200 Watt. De procesdruk werd ingesteld op 30, 60 en 90 mTorr en de vloeisnelheid van het monomeer werd ingesteld op 50, 100 en 200 microliter vloeistof per minuut. De tijdsduur van het proces bedroeg 10 of 40 minuten. Het beklede substraat was een plak silicium, en of de coating kleverig was of niet, werd bepaald door het substraat met een vinger af te vegen en op het oog te bepalen of de coating vettigheid had afgegeven. De resultaten in figuur 1 geven aan dat voor lagere CW-vermogens de coating gemakkelijk vettig (d.w.z. kleverig) kon worden, maar dat door de verhouding tussen vermogen en vloeisnelheid te verhogen, de coating bestand werd tegen het afgeven van vettigheid (d.w.z. niet-kleverig), hetgeen te verwachten was vanwege de door meer monomeerfragmentatie veroorzaakte extra verknoping. Ook werd waargenomen dat de contacthoek voor water afnam met het verhogen van de verhouding tussen vermogen en vloeisnelheid, en ook dit wijst erop dat meer vermogen het niveau van monomeerfragmentatie doet toenemen.Polymerization was carried out in a 3 liter glass chamber of PFAC6 using a continuous plasma process. In the experimental model form, the continuous plasma was produced by using RF power levels of 50, 100 and 200 watts. The process pressure was set at 30, 60 and 90 mTorr and the flow rate of the monomer was set at 50, 100 and 200 microliters of liquid per minute. The duration of the process was 10 or 40 minutes. The coated substrate was a silicon wafer, and whether the coating was sticky or not was determined by wiping the substrate with a finger and visually determining whether the coating had released greasiness. The results in Figure 1 indicate that for lower CW powers the coating could easily become greasy (ie sticky), but that by increasing the ratio between power and flow rate, the coating became resistant to the release of greasy (ie non-sticky) ), which was to be expected due to the additional cross-linking caused by more monomer fragmentation. It was also observed that the contact angle for water decreased with increasing the ratio between power and flow rate, and this also indicates that more power increases the level of monomer fragmentation.

Dezelfde kamer van 3 liter werd gebruikt om ook te kijken naar het effect van de verhoudingen tussen vermogen en vloeisnelheid met gepulseerde plasmapolymerisatie. Bij deze experimenten bedroeg het piekvermogen 250 of 500 W. De RF-vermogenstoevoer werd gepulseerd met een aan-periode van 35 microseconden en uit-perioden van 5,5 en 1 milliseconde. De procesdruk bedroeg 20, 35, 60 of 80 mTorr. De vloeisnelheid van het monomeer bedroeg 50 of 200 microliter vloeistof per minuut. Figuur 2 laat zien dat omstandigheden van een laag vermogen ten opzichte van de vloeisnelheid coatings kunnen genereren die vettig kunnen worden (kleverig), en dat slechts door het verhogen van het vermogen de vettigheid kon worden verminderd. Dit betekende ook een gelijktijdige afname van de contacthoek voor water.The same 3 liter chamber was used to also look at the effect of the power-to-flow ratios with pulsed plasma polymerization. In these experiments, the peak power was 250 or 500 W. The RF power supply was pulsed with an on period of 35 microseconds and off periods of 5.5 and 1 millisecond. The process pressure was 20, 35, 60 or 80 mTorr. The flow rate of the monomer was 50 or 200 microliters of liquid per minute. Figure 2 shows that low power conditions relative to flow rate can generate coatings that can become greasy (sticky), and that greasiness could be reduced only by increasing the power. This also meant a simultaneous decrease in the contact angle for water.

De resultaten van de figuren 1 en 2 laten zien dat het met plasma verwerken van PFAC6 op zichzelf slechts leidt tot niet-vettige coatings als de vermogens hoog genoeg zijn om de andere wenselijke eigenschap van de contacthoek voor water te verminderen. Dit illustreert de behoefte aan het toevoegen van een verknopingsmiddel om te voorkomen dat de coating vettig wordt, en om de contacthoek voor water te behouden.The results of Figures 1 and 2 show that plasma processing of PFAC6 alone leads to non-greasy coatings if the powers are high enough to reduce the other desirable property of the water contact angle. This illustrates the need to add a cross-linking agent to prevent the coating from becoming greasy, and to maintain the contact angle for water.

Voorbeeld 2Example 2

Voorbeelden van de copolymerisatie van perfluoralkylacrylaat met verknopingsmiddel om verbeteringen van de elektrische weerstand te laten zienExamples of the copolymerization of perfluoroalkyl acrylate with crosslinking agent to show improvements in electrical resistance

Perfluoroctylacrylaatmonomeer werd gemengd met een enkel verknopingsmiddel uit de volgende lijst: VINYLESTERS: divinyladipaat (DVA) VINYLETHERS: 1,4-butaandioldivinylether (BDVE); 1,4-cyclohexaandimethanoldivinylether (CDDE) Dl-of TRIVINYLEN: 1,7-octadieen (1,7-OD); 1,2,4-trivinylcyclohexaan (TVCH); DIVINYL met alkylfluorgroep: 1,6-divinylperfluorhexaan (DVPFH) DIVINYL met siliciumgroep: 1,3-divinyltetramethyldisiloxaan (DVTMDS) DIVINYL met cyclische ring en carboxylaatgroepen: diallyl-1,4-cyclohexaandicarboxylaat (DCHC) DIACRYLAAT: 1 H,1 H,6H,6H-perfluorhexaandioldiacrylaat (PFHDA)Perfluorooctyl acrylate monomer was mixed with a single cross-linking agent from the following list: VINYLESTERS: divinyl adipate (DVA) VINYLETHERS: 1,4-butanediol diol vinyl ether (BDVE); 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether (CDDE) D1 or TRIVINYLEN: 1,7-octadiene (1,7-OD); 1,2,4-trivinylcyclohexane (TVCH); DIVINYL with alkyl fluorine group: 1,6-divinyl perfluorohexane (DVPFH) DIVINYL with silicon group: 1,3-divinyltetramethyldisiloxane (DVTMDS) DIVINYL with cyclic ring and carboxylate groups: diallyl-1,4-cyclohexanedicarboxylate (DCHC, 1 HAT, HAT, 1 HAT, HAT, 1 HAT, HAT, 1 HAT, HAT, 1HAT, 1 HAT, HAT, 1 H , 6H-perfluorohexanediol diacrylate (PFHDA)

Het verknopingsmiddel werd gemengd met het PFAC6 als een volumepercentage, in de volgende percentages: 20, 40,60,80 en 100%.The cross-linking agent was mixed with the PFAC6 as a volume percentage, in the following percentages: 20, 40.60, 80 and 100%.

Er werden door plasma geïnitieerde polymerisatiereacties uitgevoerd in een glazen plasmakamer van 3 liter. De substraten waren printplaten die getest dienden te worden. Het PFAC6/verknopingsmiddel-mengsel werd ingeleid met een snelheid van 0,04 - 0,06 μΙ/min en de procesdruk bedroeg 40 mTorr. Het procesplasma bestond uit een 1 minuut durende stap met continu plasma (CW) van 50W, gevolgd door een 10-20 minuten durende stap met gepulseerd plasma (PW) van 50 W en een RF-vermogen dat werd geleverd door een volgorde van pulsen met een arbeidscyclus van 6,9%. De beklede printplaten werden ondergedompeld in kraanwater en er werd gedurende 13 minuten een elektrische spanning van 8V aangelegd. De uiteindelijke stroomsterkteaflezingen werden samen met de metingen van de coatingsdikte gebruikt om de elektrische weerstand per nm coating te berekenen. Figuur 5 hieronder laat het effect zien van het toevoegen van een variëteit aan verknopingsmiddelen op de elektrische weerstand per nm van de barrièrecoatings. Figuur 5 toont duidelijk de verbetering van de weerstand die door het toevoegen van het verknopingsmiddel aan het PFAC6-monomeer kan worden verkregen. Bovendien gaven alle geteste verknopingsmiddelen met concentratieniveaus van 20% en daarboven niet-vettige/niet-kleverige coatings, uitgezonderd DVTMDS, DCHD, PFHDA en DVPFH die niet-vettig waren bij niveaus van 40% en daarboven,.Plasma-initiated polymerization reactions were conducted in a 3-liter glass plasma chamber. The substrates were printed circuit boards to be tested. The PFAC6 / cross-linking agent mixture was introduced at a rate of 0.04 - 0.06 μΙ / min and the process pressure was 40 mTorr. The process plasma consisted of a 1-minute continuous plasma (CW) step of 50W, followed by a 10-20-minute step of pulsed plasma (PW) of 50W and an RF power supplied by a sequence of pulses with a duty cycle of 6.9%. The coated printed circuit boards were immersed in tap water and an electrical voltage of 8V was applied for 13 minutes. The final amperage readings were used together with the coating thickness measurements to calculate the electrical resistance per nm coating. Figure 5 below shows the effect of adding a variety of cross-linking agents on the electrical resistance per nm of the barrier coatings. Figure 5 clearly shows the improvement of the resistance that can be obtained by adding the cross-linking agent to the PFAC6 monomer. In addition, all tested cross-linking agents with concentration levels of 20% and above gave non-greasy / non-sticky coatings, except DVTMDS, DCHD, PFHDA and DVPFH that were non-greasy at levels of 40% and above.

Voorbeeld 3Example 3

Voorbeeld van de concentratie van het verknopingsmiddel op een waterafstotende coatingExample of the concentration of the crosslinking agent on a water-repellent coating

Er werden in een kamer met een volume van 125 liter waterafstotende coatings bereid door gebruik te maken van PFAC6 met verschillende niveaus aan divinyladipaat (DVA), en met behulp van helium als draaggas. Het afzettingsproces bestond uit een 3 minuten durende CW-stap met een vermogen van 300 W en een gepulseerde stap met een vermogen van 150 W en een arbeidscyclus van de RF-puls van 0,018%. Als testsubstraten werden siliciumplakken gebruikt en de contacthoek van de beklede plak werd bepaald door een druppeltje van 3μΙ gedeïoniseerd water op de beklede plak aan te brengen en de contacthoek te meten door gebruik te maken van een VCA Optima (AST Products) met software voor beeldanalyse. De variatie van contacthoek met (vol./vol.)% DVA-verknopingsmiddel wordt getoond in figuur 4. Er werd ook opgemerkt dat voor de DVA-concentratie van 10 (vol./vol.) % het waterdruppeltje waar de omtrek ervan zich had bevonden, een merkteken op de beklede plak achterliet. Dit wees erop dat er een hoger niveau van verknopingsmiddel nodig was om een stabielere coating te geven. Deze waarnemingen, in combinatie met de resultaten van figuur 4, suggereren een optimum gebied van 20 - 40 (vol./vol.) % DVA-verknopingsmiddel, hoewel dit waarschijnlijk kan variëren, in het algemeen binnen het gebied van 10-60 (vol./vol.) %, voor verschillende monomeren en verknopingsmiddelen en verschillende kamergroottes.Water-repellent coatings were prepared in a room with a volume of 125 liters by using PFAC6 with different levels of divinyl adipate (DVA), and using helium as carrier gas. The deposition process consisted of a 3-minute CW step with a power of 300 W and a pulsed step with a power of 150 W and a duty cycle of the RF pulse of 0.018%. Silicon wafers were used as test substrates and the contact angle of the coated wafer was determined by applying a drop of 3µΙ deionized water to the coated wafer and measuring the contact angle using a VCA Optima (AST Products) with image analysis software. The variation of contact angle with (vol./vol.)% DVA crosslinking agent is shown in Figure 4. It was also noted that for the DVA concentration of 10 (vol./vol.)% The water droplet where its perimeter was located left a mark on the coated slab. This indicated that a higher level of cross-linking agent was needed to give a more stable coating. These observations, in combination with the results of Figure 4, suggest an optimum range of 20-40 (vol./vol.)% DVA cross-linking agent, although this can probably vary, generally within the range of 10-60 (vol.) ./vol.)%, for different monomers and cross-linking agents and different room sizes.

Er werd in een kamer van 125 liter gepulseerde plasmapolymerisatie van perfluoralkylacrylaat in aanwezigheid van divinyladipaat (DVA) uitgevoerd. Figuur 4 laat de effecten van het toevoegen van verschillende percentages vloeistofvolume DVA-verknopingsmiddel aan perfluoroctylacrylaat op de contacthoek voor water op substraat van siliciumplak zien.Pulsed plasma polymerization of perfluoroalkyl acrylate was carried out in a 125 liter chamber in the presence of divinyl adipate (DVA). Figure 4 shows the effects of adding different percentages of liquid volume DVA cross-linking agent to perfluorooctyl acrylate on the contact angle for water on silicon wafer substrate.

Voorbeeld 4Example 4

Voorbeeld van een AFM-meting van een coating van monomeer/verknopingsmiddel en copolymeerExample of an AFM measurement of a monomer / crosslinker and copolymer coating

In een kamer met een volume van 22 liter werd een barrièreachtige coating bereid door gebruik te maken van PFAC6 met 10% DVA. Het afzettingsproces bestond uit een 1 minuut durende CW-stap met een verhouding van CW-vermogen tot vloeisnelheid van 3,9 (W/microliter/min), en een gepulseerde stap met een verhouding PW-vermogen/vloeisnelheid van het monomeer van 0,28 (W/microliter/min). Figuur 6 laat de representatieve topografische en fasecontrastbeelden zien die van alle monsters werden verkregen. Beelden met een hoge ruimtelijke resolutie laten voornamelijk de structuren zien van gebieden tussen de verhoogde kenmerken. De RMS-ruwheid van de coating bedraagt 1,65 nm en de Δζ/d = 0,05. Als de Δζ/d -waarde < 0,15 is, wijst dit erop dat de fysische laag in essentie vrij is van gaatjes.In a room with a volume of 22 liters, a barrier-like coating was prepared using PFAC6 with 10% DVA. The deposition process consisted of a 1 minute CW step with a ratio of CW power to flow rate of 3.9 (W / microliter / min), and a pulsed step with a PW power / flow rate ratio of the monomer of 0, 28 (W / microliter / min). Figure 6 shows the representative topographic and phase contrast images that were obtained from all samples. Images with a high spatial resolution mainly show the structures of areas between the raised features. The RMS roughness of the coating is 1.65 nm and the Δζ / d = 0.05. If the Δζ / d value is <0.15, this indicates that the physical layer is essentially free of holes.

Voorbeeld 5Example 5

Voorbeeld van een FTIR/ATR-bepaling van een coating van monomeer/verknopingsmiddel en copolymeerExample of an FTIR / ATR determination of a monomer / cross-linking agent and copolymer coating

In een kamer met een volume van 22 liter werden twee barriereachtige coatings bereid door gebruik te maken van alleen PFAC6 en PFAC6 met 10% DVA zoals beschreven in voorbeeld 4. Het afzettingsproces bestond uit een 1 minuut durende CW-stap met een verhouding van CW-vermogen tot vloeisnelheid van 3,9 (W/microliter/min), en een gepulseerde stap met een verhouding PW-vermogen/vloeisnelheid van het monomeer van 0,28 (W/microliter/min). Figuur 7 laat het representatieve FTIR/ATR-spectrum zien dat van beide monsters werd verkregen.In a chamber with a volume of 22 liters, two barrier-like coatings were prepared using only PFAC6 and PFAC6 with 10% DVA as described in Example 4. The deposition process consisted of a 1-minute CW step with a CW ratio. flow rate of 3.9 (W / microliter / min), and a pulsed step with a PW power / flow rate ratio of the monomer of 0.28 (W / microliter / min). Figure 7 shows the representative FTIR / ATR spectrum obtained from both samples.

De FTIR/ATR-intensiteitsverhoudingen van pieken die worden toegeschreven aan de uitrekkingsmodus van CF3- en C=0-groepen, CF3/C=0, van de coating wijst op een voldoende verknoping in de coating om een fysische barrière te vormen. CF3 heeft betrekking op de eindgroepen in de zijketen van PFAC6.The FTIR / ATR intensity ratios of peaks attributed to the stretch mode of CF3 and C = 0 groups, CF3 / C = 0, of the coating indicate sufficient crosslinking in the coating to form a physical barrier. CF3 refers to the end groups in the side chain of PFAC6.

Er wordt aangenomen dat de vorming van de barrièrecoatings wordt veroorzaakt door een mengsel van verknoping en gecontroleerde fragmentatie van de monomeren tijdens de polymerisatie. Er wordt aangenomen dat de verknoping overwegend plaatsvindt via de CF2-CF3-keten, terwijl er wordt aangenomen dat fragmentatie overwegend plaatsvindt door het verliezen van de C=0-groep tijdens de polymerisatie, en in een geringere mate door het verkorten van de CF2-keten. Verknoping heeft invloed op de mate van voorkomen van -CF3-groepen in de coating, en de gecontroleerde fragmentatie beheerst de hoeveelheid C=0-groepen in de coating. De verhouding van deze twee functionele groepen vormt een aanwijzing dat er voldoende verknoping en fragmentatie heeft plaatsgevonden, en de verhouding kan worden bepaald aan de hand van de verhouding van de intensiteiten van de overeenkomstige FTIR/ATR-pieken.It is believed that the formation of the barrier coatings is caused by a mixture of cross-linking and controlled fragmentation of the monomers during the polymerization. It is believed that cross-linking occurs predominantly via the CF2-CF3 chain, while fragmentation is believed to occur predominantly by losing the C = O group during the polymerization, and to a lesser extent by shortening the CF2- chain. Cross-linking affects the rate of occurrence of -CF3 groups in the coating, and the controlled fragmentation controls the amount of C = 0 groups in the coating. The ratio of these two functional groups is an indication that sufficient cross-linking and fragmentation has taken place, and the ratio can be determined from the ratio of the intensities of the corresponding FTIR / ATR peaks.

Er is aangetoond dat coatings met verminderde verhoudingen CF3/C=0 hogere weerstandswaarden geven bij de elektrische test, zoals beschreven in voorbeeld 2, waarbij er een verbeterde coatingsprestatie bij een toegenomen verknoping (voor CF3) en fragmentatie (voor C=0) wordt waargenomen. Als de FTIR/ATR-intensiteitsverhouding van de aan het rekken van -CF3 en het rekken van C=0 toegeschreven pieken, CF3/C=0, minder is dan 0,6e"°’1n (waarbij n=6 voor PFAC6), wordt verwacht dat de weerstand van de coating bij de elektrische test hoger is dan 8 MOhm.Coatings with reduced ratios CF3 / C = 0 have been shown to give higher resistance values in the electrical test, as described in Example 2, where improved coating performance with increased crosslinking (for CF3) and fragmentation (for C = 0) is observed . If the FTIR / ATR intensity ratio of the peaks attributed to the stretching of -CF3 and the stretching of C = 0, CF3 / C = 0, is less than 0.6 "" n '(where n = 6 for PFAC6), the resistance of the coating in the electrical test is expected to be higher than 8 MOhm.

De intensiteitsverhouding van de piekan van CF3/C=0, de coatingsdikte en de uiteindelijke stroomsterkteaflezingen tijdens de elektrische test worden weergegeven in tabel 2:The intensity ratio of the peak CF3 / C = 0, the coating thickness and the final current readings during the electrical test are shown in Table 2:

Tabel 2Table 2

Claims

Conclusions

An electronic or electrical device or electronic or electrical component thereof comprising a protective cross-linked polymeric coating on a surface of said device or component; wherein the protective cross-linked polymeric coating can be obtained by exposing this device or component to a plasma comprising a monomer compound and a cross-linking reagent for a period of time long enough to allow formation of the protective cross-linked polymeric coating on a surface thereof wherein the monomer is a compound of formula 1 (a): Ka)

wherein each R1; R2, and R5 to R8 is hydrogen; wherein each R 4, R 9 and R 10 is independently selected from hydrogen or a methyl; each X is independently selected from hydrogen or halogen; a is 0-10; b is 3 to 7; and c is 0 or 1; wherein the cross-linking reagent comprises two or more unsaturated bonds that are attached by means of one or more connecting groups, and has a boiling point at standard pressure of less than 500 ° C, and wherein the cross-linking reagent has one of the following structures:

wherein Y2, Y3, Y4, Y5, Y6, Y7 and Y8 are each hydrogen; and wherein L is a linking group.

The device or component of claim 1, wherein the protective cross-linked polymeric coating forms a physical barrier to mass and electron transport.

The device or component of claim 1 or claim 2, wherein the protective crosslinked polymeric coating forms a liquid-repellent surface with a static water contact angle (WCA) of at least 90 °.

The device or component of any one of the preceding claims, wherein the cross-linking reagent is selected from divinyl adipate (DVA), 1,4-butanediol divinyl ether (BDVE), 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether (CDDE), 1,7-octadiene (170D) ), 1,2,4-trivinylcyclohexane (TVCH), 1,3-divinyltetramethyldisiloxane (DVTMDS), diallyl-1,4-cyclohexanedicarboxylate (DCHD), 1,6-divinyl perfluorhexane (DVPFH), 1H, 1H, 6H, 6H- perfluorohexanediol diacrylate (PFHDA) and glyoxal bis (diallyl acetal) (GBDA)

The device or component of any one of the preceding claims, wherein for compound (i) L has the following formula:

wherein each Y 9 is independently selected from, a bond, -O-, -OC (O) -, -C (0) -0-, -YirO-C (0) -, -C (0) -0-Yn- , -OYir, and -YnO-, wherein Yn is an optionally substituted cyclic (branched or straight chain VCs alkylene; and Y10 is selected from optionally substituted cyclic (branched or straight chain VCs alkylene, and a siloxane-containing group .

The device or component of claim 5, wherein for compound (i) L has one of the following structures:

The device or component of any one of claims 5 to 7, wherein Y10 has the following formula: wherein each Y12 and Y13 is independently selected from H, halogen, optionally substituted cyclic branched or straight chain C 1 -C 8 alkyl, or -OY14, wherein Y14 is selected from optionally substituted branched or straight chain C 1 -C 8 alkyl or alkenyl, and n is an integer from 1 to 10.

The device or component of claim 8, wherein each Y12 is H and each Y13 is H.

The device or component of claim 8, wherein each Y12 is fluorine and each Y13 is fluorine.

The device or component of any one of claims 8 to 10, wherein n is 4 to 6.

The device or component of any one of claims 5 to 7, wherein Y10 has the following formula:

wherein each Y15 is independently selected from optionally substituted branched or straight chain C 1 -C 6 alkyl.

The device or component of claim 12, wherein each Y15 is methyl and each Y9 is a bond.

wherein Y16 to Y19 are each independently selected from H and optionally substituted C 1-8 alkyl or alkenyl with a branched or straight chain.

The device or component of claim 14, wherein Y18 is H or vinylene, and Y16, Y17 and Y19 are all H.

The device or component of any one of claims 1 to 4, wherein for compound (ii) L is selected from a branched or straight chain C 1 -C 8 alkylene, or an ether group.

The device or component of any one of the preceding claims, wherein the compound of formula I (a) has the following formula:

wherein n is 2 to 10.

The device or component of any one of claims 1 to 16, wherein the compound of formula I (a) has the following formula:

wherein n is 2 to 10.

The device or component of claim 17, wherein the compound of formula 1 (a) is selected from 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorohexyl acrylate (PFAC4), 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyl acrylate (PFAC6), 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorocyl acrylate (PFAC8) and 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorododecyl acrylate (PFAC10).

The device or component of claim 18, wherein the compound of formula 1 (a) is selected from 1H, 1H, 2H, 2H-pefluorohexyl methacrylate (PFMAC4), 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyl methacrylate (PFMAC6) and 1H, 1 H, 2 H, 2 H-perfluorodecyl methacrylate (PFMAC8).

The device or component of any one of claims 1 to 16, wherein the compound of formula I (a) has the following formula: wherein η is 2 to 12.

The device or component of claim 21, wherein the compound of formula I (a) is selected from ethylhexyl acrylate, heyl acrylate, decyl acrylate, lauryl dodecyl acrylate and isodecyl acrylate.

The device or component of any one of the preceding claims, wherein the electronic or electrical device or component thereof is selected from mobile phones, smartphones and beeps, radios, and sound and audio systems such as speakers, microphones, ringtones and / or buzzers, hearing aids, personal audio equipment such as personal CD, cassette or MP3 players, television sets, DVD players including portable DVD players, video recorders, digital and other tuning units, computers and related components such as laptop, notebook, tablet, telephone tablet or handheld computers, personal digital assistants (PDAs), keyboards or instruments, game computers, data storage devices, outdoor lighting systems, radio antennas and other forms of communication equipment and printed circuit boards.

A method of treating an apparatus or component according to any of the preceding claims, the method comprising: for a period of time long enough to allow formation of the protective cross-linked polymer coating on a surface of said apparatus or component, exposing this device or component to a plasma comprising this monomer compound and a cross-linking reagent;

The method of claim 24, wherein the device or component is introduced into a plasma deposition chamber, a glow discharge is ignited in this chamber, and an electrical voltage is applied in the form of a pulsed field.

The method of claim 25, wherein the applied electrical voltage has a power of from 40 to 500 W.

The method of claim 25 or 26, wherein the electrical voltage is pulsed in an order wherein the ratio of the on-period: off-period is in the range of 1: 500 to 1: 1500.

The method of any one of claims 25 to 27, wherein the electrical voltage is pulsed in a sequence wherein the power is on for 20-50 ps, and off for 1000 ps to 30,000 ps.

The method of any one of claims 25 to 28, wherein the electrical voltage is applied in the form of a pulsed field for a period of time from 30 seconds to 90 minutes.

The method of claim 29, wherein the electrical voltage is applied in the form of a pulsed field for 5 to 60 minutes.

The method of any one of claims 25 to 30, wherein in a preliminary step a plasma with continuous power is applied to the device or component.

The method of claim 31, wherein the preliminary step is conducted in the presence of an inert gas.

The method of any one of claims 25 to 32, wherein the monomer compound and / or the crosslinking reagent, while the pulsed electrical voltage is applied, is introduced into the plasma in gas form at a rate of 80-300 mg / minute.

The method of any one of claims 25 to 33, wherein the plasma is created with an electrical voltage with an average power of 0.001 to 500 W / m3.

The method of any one of claims 24 to 34 wherein the crosslinking reagent is present in an amount of 10 to 60 (vol./vol.)% of the total volume of the monomer compound and the crosslinking reagent.