ATE37618T1 - Verfahren zum herstellen von masshaltigen strukturen mit hohem aspektverhaeltnis im 1 millimikron-bereich und darunter fuer die mikroelektronik und anwendung dieses verfahrens zur herstellung einer roentgenabsorbermaske.
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Verfahren zum herstellen von masshaltigen strukturen mit hohem aspektverhaeltnis im 1 millimikron-bereich und darunter fuer die mikroelektronik und anwendung dieses verfahrens zur herstellung einer roentgenabsorbermaske.
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AT84108688T1983-07-271984-07-23Verfahren zum herstellen von masshaltigen strukturen mit hohem aspektverhaeltnis im 1 millimikron-bereich und darunter fuer die mikroelektronik und anwendung dieses verfahrens zur herstellung einer roentgenabsorbermaske.
ATE37618T1
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Verfahren zum herstellen von masshaltigen strukturen mit hohem aspektverhaeltnis im 1 (pfeil abwaerts)/(pfeil abwaerts)um-bereich und darunter fuer die mikroelektronik und anwendung dieses verfahrens zur herstellung einer roentgenabsorbermaske
Verfahren zum Herstellen von masshaltigen Strukturen mit hohem Aspektverhältnis im 1 Millimikron-Bereich und darunter für die Mikroelektronik und Anwendung dieses Verfahrens zur Herstellung einer Röntgenabsorbermaske
Verfahren zum herstellen von masshaltigen strukturen mit hohem aspektverhaeltnis im 1 millimikron-bereich und darunter fuer die mikroelektronik und anwendung dieses verfahrens zur herstellung einer roentgenabsorbermaske.
Verfahren zum herstellen von masshaltigen strukturen mit hohem aspektverhaeltnis im 1 millimikron-bereich und darunter fuer die mikroelektronik und anwendung dieses verfahrens zur herstellung einer roentgenabsorbermaske.
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