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Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Härten von Oberflächen gemass dem Oberbegriff des Anspruches 1.
Solche Verfahren wurden z. B. durch die US 4, 179, 316 A und die WO 82/01016 A1 bekannt.
Bei diesen bekannten Verfahren werden die einzelnen in einer Matrix angeordneten Mikroflächen nacheinander mit einem Elektronenstrahl beaufschlagt. Dabei ergibt sich jedoch der Nachteil eines sehr hohen apparativen Aufwandes, der zur Durchführung dieses bekannten Verfahrens erforder- lich ist. Ausserdem ist die Eindringtiefe der Elektronenstrahlen nur gering.
Ein weiterer Nachteil des bekannten Verfahrens ist auch darin gelegen, dass sich, insbesondere bei einem rascheren Arbeitsfortschritt, die Zeit zwischen der Beaufschlagung der einander benachbarten Mikroflächen nicht ausreicht, um eine unerwünschte Behinderung der Wärmeabfuhr aus dem Bereich einer Mikrofläche nach deren Beaufschlagung mit einem Elektronenstrahl durch die Beaufschlagung der benachbarten Mikrofläche mit einem Elektronenstrahl zu vermeiden, wodurch die Qualität der Oberflächenhärtung leidet.
Ziel der Erfindung ist es, diese Nachteile zu vermeiden und ein Verfahren der eingangs erwähnten Art vorzuschlagen, mit dem eine sehr hohe Qualität der Oberflächenhärtung erreichbar ist, und bei dem eine rasche Wärmeabfuhr aus dem Bereich einer jeden beaufschlagten Mikrofläche sichergestellt ist.
Erfindungsgemäss wird dies bei einem Verfahren der Eingangs erwähnten Art durch die kennzeichnenden Merkmale des Anspruches 1 erreicht.
Durch die vorgeschlagenen Massnahmen ist ein zeitlicher Abstand zwischen dem Beaufschlagen benachbarter Mikroflächen sichergestellt, der für eine sichere Abfuhr der eingebrachten Wärme ausreicht und bei dem eine Beeinflussung der Wärmeabfuhr aus einander benachbarten Mikroflächen nach deren Beaufschlagung sicher vermieden ist. Dadurch wird eine gleichmässige Härtung der einzelnen Mikroflächen sichergestellt, die in dem meist zähen Material eingebettet sind. Da die Mikroflächen sehr dicht gedrängt angeordnet werden können, kann eine sehr hohe Härte der Oberfläche erreicht werden, wobei sich aber allfällige Härtungsrisse nur jeweils über eine Mikrofläche erstrecken können, nicht aber über die Zwischenräume, zwischen den einzelnen Mikroflächen.
Die Mikroflächen weisen zweckmässigerweise einen Durchmesser von 1mm bis 6mm auf, wobei im Hinblick auf eine gleichmässige Härte ein kleinerer Durchmesser günstiger ist. Allerdings erhöht sich dadurch der Zeitaufwand für die Härtung.
Durch die Verwendung von Impulsplasma zur Erhitzung der Mikroflächen kann mit einer relativ einfachen Apparatur das Auslangen gefunden werden.
Durch die Merkmale des Anspruches 2 kann das Impulsplasma auf besonders einfache Weise erzeugt werden.
Ein weiteres Ziel der Erfindung ist es, eine Einrichtung zur Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens vorzuschlagen, die sich durch einen einfachen Aufbau auszeichnet.
Ausgehend von einer Einrichtung gemäss dem Oberbegriff des Anspruches 4 werden daher die kennzeichnenden Merkmale des Anspruches 4 vorgeschlagen.
Durch die vorgeschlagenen Massnahmen lassen sich auf sehr einfache Weise die für die Erzeugung des Impulsplasmas erforderlichen Spannungsimpulse erzeugen. Dabei ist auch eine an den vorgesehenen Orten der Mikroflächen auf der zu härtenden Oberfläche des zu bearbeitenden Gegenstandes erfolgende Zündung des Plasmas sichergestellt, wobei der Weg, bzw. die Relativbewegung zwischen Gegenstand und Plasmabrenner zwischen den unmittelbar nacheinander mit einem Plasmaimpuls zu beaufschlagenden Mikroflächen durch eine Rechner vorgegeben werden kann. Die Überwachungseinrichtung erfasst dann den nach jedem Plasmaimpuls zurückgelegten Weg, wobei deren Signale in einem Vergleicher mit dem jeweils vorgegebenen Weg verglichen werden.
Eine weitere sehr vorteilhafte Möglichkeit zur Ausbildung einer Einrichtung zur Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens ergibt sich auf der Basis einer Einrichtung gemäss dem Oberbegriff des Anspruches 5 durch die kennzeichnenden Merkmale des Anspruches 5.
Durch die vorgeschlagenen Massnahmen ergibt sich eine einfache Überwachung und Festlegung des Weges zwischen zwei unmittelbar nacheinander mit einem Plasmaimpuls zu beaufschlagenden Mikroflächen.
Durch die Merkmale des Anspruches 6 ist ein Kühlung des zu bearbeitenden Gegenstandes
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sichergestellt und damit, insbesondere auch bei dünneren Gegenständen eine rasche Abschreckung der einzelnen Mikroflächen gewährleistet.
Durch die Merkmale des Anspruches 7 ist es möglich, Plasmaimpulse durch Zünden des Lichtbogens über die Anoden-Kathodenstrecke des Plasmabrenners mittels der HF-Impulse auszulösen, noch bevor die Kondensatorbatterie eine Spannung erreicht hat, die über der überschlag- spannung der Anoden-Kathodenstrecke liegt. Dadurch lässt sich auch die Brennzeit des Lichtbogens und damit die Brennzeit des Plasmaimpulses sehr genau bestimmen und auch sehr kurz halten, ohne dass ein besonders hoher Aufwand in Bezug auf eine besonders niedrohmigen Ausbildung des Entladekreises der Kondensatorbatterie getrieben werden muss.
Durch die Merkmale des Anspruches 8 ergibt sich der Vorteil, dass der Plasmastrahl nur einen entsprechend kleinen Querschnitt aufweist und daher nur eine entsprechend kleine Leistung erfordert und auch der Gasverbrauch entsprechend gering gehalten wird. Ausserdem wird eine Aufweitung des aus dem Plasmabrenner austretenden Plasmastrahls aufgrund der Reibung an der umgebenden Luft vermieden und dadurch sichergestellt, dass eine Beaufschlagung der unmittelbaren Umgebung der vorgesehenen Mikrofläche vermieden wird, wodurch ein rascher Abfluss der Wärme aus dem Bereich der Mikrofläche gewährleistet ist.
In diesem Zusammenhang ergeben sich durch die Merkmale des Anspruches 9 besonders günstige Verhältnisse.
Die Erfindung wird nun anhand der Zeichnung näher erläutert. Dabei zeigen :
Fig. 1 schematisch eine Einrichtung zur Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens,
Fig. 2 ein beispielhaftes Schema zur Abfolge der Beaufschlagung der einzelnen Mikroflächen,
Fig. 3 schematisch einen Plasmabrenner,
Fig. 4 einen Querschnitt durch eine Kühlmittelkammer des Plasmabrenners nach der Fig. 3,
Fig. 5 einen Schnitt durch eine Zentrierhülse und
Fig. 6 eine Spannungsversorgung für einen Plasmabrenner zur Erzeugung eines Impuls- plasmas.
Die Einrichtung nach der Fig. 1 weist eine Aufnahme 200 auf, die mit einem Kühlmittel-Vorlauf- anschluss 201 und einem Kühlmittel-Rücklaufanschluss 202 versehen ist und zur Aufnahme eines zu bearbeitenden Gegenstandes 83, der aus ferritischem Material hergestellt ist, dient.
Die zu härtende Oberfläche 83'des Gegenstandes 83 ist in Mikrofiächen 300 unterteilt, die mit einem von einem Plasmabrenner 1 l'erzeugten lmpulsplasma, bzw. einzelnen Plasmaimpulsen beaufschlagt und dadurch erhitzt werden. Die Abschreckung der so erhitzten Mikroflächen 300 erfolgt durch den Wärmeabfluss in die nicht vom Impulsplasma erhitzten Breiche des Gegenstandes 83.
Nach dem erfindungsgemässen Verfahren ist vorgesehen, dass die unmittelbar nacheinander beaufschlagten Mikrofiächen 300 mindestens einen Abstand von zwei Mikroflächen 300 aufweisen.
Ein Schema einer Beaufschlagung einer Fläche 83'in einer zeitlichen Abfolge, bei der dies berücksichtigt ist, ist in der Fig. 2 dargestellt. Dabei erfolgt die Beaufschlagung der einzelnen Mikroflächen 301 bis 396 im Sinne der aufsteigenden Nummern der Mikroflächen 301 bis 396.
Dadurch ist sichergestellt, dass bei jeder Mikrofläche 301 bis 396 eine ausreichend hohe Abschreckgeschwindigkeit erreicht wird, um eine glelchmassige Hartung der einzelnen Mikroflächen sicherzustellen.
Da die einzelnen Mikroflächen 300 in einer Matrix aus einem weicheren und zäheren Werkstoff eingebettet sind, können sich allfällige Härterisse stets nur im Bereich einzelner Mikroflächen 300 ausbilden und können sich nicht über die gesamte Fläche 83'erstrecken.
Beim Plasmabrenner 11'nach den Fig. 3 bis 5 ist ein Halteteil 18'einer Elektrode 19'durch eine Spannzange gebildet, die aus einem elektrisch gut leitenden Material hergestellt ist. Diese Spannzange ist in üblicher Weise in einem Aufnehmer 44 gehalten, der in einen Kontaktteil 45 eingeschraubt ist.
Dieser Kontaktteil 45 ist mit einer Kühlmittelkammer 46 versehen, die über einen radialen Kanal 47 mit einer Anschlussöffnung 48 verbunden ist. Dabei fluchtet diese Anschlussöffnung 48 bei in einem nicht dargestellten Halter montiertem Plasmabrenner 11'mit Kontaktstiften.
Zum Spannen und Lösen der Spannzange 18'ist eine Spannmutter 49 vorgesehen, die über zwei Dichtungen 50 an der oberen Stirnfläche der Aufnahme 44 abgestützt ist, wodurch ein Austritt von Kühlflüssigkeit vermieden wird, wobei die Aufnahme 44 zur Abdichtung der Kühlmittelkammer
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46 ebenfalls über eine Dichtung 51 an dem Kontaktteil 45 abgestützt ist.
Zur weiteren Abdichtung der Kühlmittelkammer des Kontaktteiles 45 ist ein O-Ring 52 vorgesehen, der in einer Nut einer Bohrung 53 eingesetzt ist, die von der Aufnahme 44 durchsetzt ist.
Zur Sicherung der axialen Einstellung der Elektrode 19'beim Spannen der Spannzange 18'ist die Spannmutter 49 mit einer durchgehenden Gewindebohrung 90 versehen, in die ein Anschlag 91 eingeschraubt ist, der in die Spannzange 18'eingreift. Dieser Anschlag 91 weist einen glatten Kopf 94 auf, in dem eine umlaufende Nut zur Aufnahme eines O-Ringes 95 eingearbeitet ist, der zur Abdichtung des Inneren der Spannzange 18'dient.
Zur Sicherung der Lage des Anschlages 91, der mittels eines in den stirnseitigen Schlitz 93 eingesetzten Schraubendrehers einstellbar ist, ist eine Kontramutter 92 vorgesehen, die gleichzeitig für eine drehfeste Verbindung zwischen dem Anschlag 91, an dem die Elektrode 19'anliegt, und der Spannmutter 49 sorgt.
Durch den Anschlag 91 ist sichergestellt, dass beim Spannen der Spannzange die Elektrode 19'von der Spannzange 18'nicht mehr gegenüber einem für verschiedene Anwendungen als Anode verwendbaren Mündungsteil 15 axial bewegt werden kann, da die Spannmutter 49 an der Stirnfläche des Kontaktteiles 45 anliegt und der Mündungsteil 15'gegenüber dieser festgelegt ist.
Der Kontaktteil 45, der zur Kontaktierung der Elektrode 19'dient, liegt unter Zwischenlage einer Dichtung 54 auf einem Zwischenteil 55, der aus einem elektrisch isolierenden Material, wie z. B.
Keramik, hergestellt ist. Dieser Zwischenteil 55 bestimmt die Kammer 27'die über einen radialen Kanal 56 mit einer Anschlussöffnung 57 verbunden ist.
Dabei sind die radialen Kanäle 47 und 56 mit umlaufenden Nuten 58 versehen, in denen O-Ringe 59 angeordnet sind. Diese dienen zur Abdichtung eines in diese Kanäle eingreifenden nicht dargestellten Kontaktstiftes bzw. einer üblicherweise durch eine axiale Bohrung des Kontaktstiftes gebildete Gaszuführleitung, die zur Zufuhr eines Plasmagases, z. B. Argon, Helium, Wasserstoff usw. vorgesehen ist.
In der Kammer 27'ist ein Verteilring 59'angeordnet, der mit über den Umfang verteilt angeordneten Bohrungen 60 versehen ist, deren Durchmesser sich in beiden Drehrichtungen mit grösser werdendem Winkel zu dem radialen Kanal 56 vergrössert. Dabei bildet eine axiale Bohrung des Verteilringes 159 eine Kammer 96, die von der Elektrode 19'durchsetzt ist. Dabei verbleibt zwischen der Innenwand des Zwischenteile 55 und dem Verteilring 59 ein Ringraum 61, in den über einen Einlasskanal 48 Gas einbringbar ist.
Der Zwischenteil 55 ist über eine Dichtung 62 auf einem weiteren Kontaktteil 63 abgestützt, der zur Kontaktierung des Mündungsteiles 15'dient, wenn dieser als Anode verwendet wird, wenn der Plasmabrenner zum Oberflachenhärten verwendet wird. In diesen weiteren Kontaktteil 63 ist eine Spannhülse 64 in ein Innengewinde 65 eingeschraubt, wobei eine Dichtung 66 zwischen dem Kontaktteil 63 und der Stirnfläche der Spannhülse 64 zwischengelegt ist.
Die Spannhülse 64 weist im Bereich ihres einen Endes eine konische Anlagefläche 67 auf, an der eine gegengleiche kegelige Mantelfläche 68 eines Kopfes 69 des Mündungsteiles 15'anliegt, die ebenso wie die Spannhülse 64 und der weitere Kontaktteil 63 aus einem elektrisch gut leitenden Material hergestellt ist.
Der Mündungsteil 15'liegt mit seinem vom Kopf 69 abgekehrten Ende mit einem weiteren Kopf 70 auf, der unter Zwischeniage einer Dichtung 71 an einer Schulter des weiteren Kontaktteiles 63 anliegt. Dabei durchsetzt der Mündungsteil15'eine Kühlmittelkammer 46 des weiteren Kontaktteiles 63.
Der Mündungsteil 15 ist in axialer Richtung durchbohrt, wobei in diese Bohrung 72 eine Hülse 73 aus einem elektrisch isolierenden Material, z. B. Keramik, eingesetzt ist und von der Elektrode
19'durchsetzt ist. Dabei verbleibt zwischen der Innenwand der Hülse 73 und der Elektrode 19 ein
Ringraum der als Austrittskanal 97 für das in die Kammer 96 eingeleitete Plasmagas, z. B. Argon,
Helium, Wasserstoff usw. dient.
Weiters ist in der Bohrung 72 im der Mündung des Mündungsteiies 15'nahen Bereich eine
Zentrierhülse 74 eingesetzt, die in der Fig. 5 näher dargestellt ist und deren an Führungsrippen 89 vorgesehenen Führungsflächen 75 an der Mantelfläche der Elektrode 19'anliegen.
Der Mündungsteil 15'weist, wie aus der Fig. 4 zu ersehen ist radial abstehende Leitrippen 76 auf, die sich, wie aus der Fig. 4 zu ersehen ist, von dem einen sechseckigen Querschnitt aufweisenden Mündungsteil 15'bis zur Innenwand der Spannhülse 64 erstrecken und senkrecht zur
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Achse des radialen Kanals 47 stehen. Dabei erstrecken sich die Leitrippen 76 vom Kopf 70 weg gegen den Kopf 69 des Mündungsteiles 15', wobei jedoch zwischen dem Kopf 69 und den Leitrippen 76 ein Strömungsweg 77 verbleibt.
Dadurch wird die Kühlmittelkammer 46, die einerseits vom weiteren Kontaktteil 63 und der Spannhülse 64 begrenzt wird, durch die Leitrippen 76 unterteilt.
Die beiden Kühlmittelkammern 46 des Kontaktteiles 45 und des weiteren Kontaktteiles 63 sind über einen Überströmkanal 70 miteinander verbunden.
Dieser Ü berström kanal 78 setzt sich im wesentlichen aus axialen Bohrungen 79 in dem Kontaktteil 45, bzw. dem weiteren Kontaktteil 63 und radialen, zu den radialen Kanälen 47 koaxialen Bohrungen 80 zusammen, die in die axialen Bohrungen 79 münden. Dabei ist der Zwischenteil 55 mit einer mit den axialen Bohrungen 79 fluchtenden Bohrung 81 versehen.
Weiters sind im Bereich der Bohrung 81 des Zwischenteile 55 Dichtungen 82 vorgesehen.
Die beiden Kontaktteile 45 und 63 sind von Ringen 84 aus einem elektrisch isolierten Material umgeben, bzw. diese sitzen auf Krägen 85 auf.
Wie aus der Fig. 3 ersichtlich verläuft im Mündungsbereich 98 des Mündungsteiles 15'die Innenwand 99 im wesentlichen parallel zum kegeligen Endbereich der Elektrode 19'. Durch ergibt sich in diesem Bereich eine kegelige Gestalt des Austrittskanals 97.
Die Spitze der Elektrode 19'ist an ihrem freien Ende abgeflacht und ragt aus der freien Stirnseite des Mündungsteiles 15', die ebenfalls als Elektrode dient und meist als Anode geschaltet ist, vor.
Die Elektrode 19'ist an ihren beiden Enden kegelig ausgebildet.
Die beiden Kontaktteile 45 und 63 und der Zwischenteil 55 sind mit nicht dargestellten Schrauben miteinander verbunden und stellen die Verbindungsteile dar, durch die ein modularer Aufbau des Plasmabrenners 11'sichergestellt ist.
Sobald die Elektrode 19'abgenutzt ist, kann der als Modul ausgebildete Plasmabrenner 11' aus einem entsprechenden Halter, der in üblicher Weise auch die entsprechenden Versorgungsanschlüsse für das Plasmagas, das Kühlmittel und die Stromversorgung aufweist, ausgebaut und die Spannmutter 49 gelöst werden, wonach die Elektrode 19'aus der Spannzange entnommen werden kann. Anschliessend kann die Elektrode gewendet, oder deren kegelige Enden nachgeschliffen werden. Danach wird der Anschlag 91 mit einer Lehre in Bezug auf den Mündungsteil 15' bei geöffneter Spannzange 18'eingestellt und danach die Elektrode 19'mittels der Spannmutter 49 in der Spannzange 18'wieder fixiert, wonach der Modul 11'wieder montiert werden kann.
Beim Betrieb wird Gas, z. B. Helium, Argon, Wasserstoff od. dgl. in die Kammer 27'eingeblasen und ein Lichtbogen zwischen der Elektrode 19'und dem Mündungsteil 15', das ebenso wie die Elektrode 19'an eine in Fig. 3 nicht dargestellte Gleichstromquelle angeschossen ist, gezündet.
Dieser Lichtbogen erzeugt In Verbindung mit dem zwischen der Elektrode 19'und dem ebenfalls als Elektrode wirkenden Mündungsteil15'strömenden Plasmagas ein Plasma, das aus einer am Ende des Austrittskanals 97 vorgesehenen Düsenöffnung 16'austritt und auf die Oberfläche 83' des Gegenstandes 83 auftrifft und eine Mikrofläche 300 beaufschlagt und diese erhitzt.
Da das Plasmagas aus dem Austrittskanal 97 in Form eines Kegelmantels austritt wirkt der kegelmantelförmige Strahl aus Plasmagas einschnürend auf das Plasma und führt dieses, wodurch auf dem Gegenstand 83 nur ein kleiner Brennfleck entsteht und daher die thermische Belastung der unmittelbaren Umgebung der zu erhitzenden Mikrofläche 300 gering bleibt.
Da der Lichtbogen, bzw. das Plasma, nur sehr kurz zwischen den Elektroden 15'und 19', z. B.
10-bis 10-1 sec. brennt, kommt es nur zu einer geringen Belastung des Mündungsteiles 15'durch das Plasma. Ist für die Härtung der einzelnen Mikrof ! ächen 300 nur eine geringere Leistung des Plasmas erforderlich, oder wird ein entsprechend langsamer Vorschub zwischen der Beaufschlagung der einzelnen Mikroflächen gewählt, so kann auch ein Plasmabrenner ohne Kühlmittel- durchströmung verwendet werden, der entsprechend einfacher aufgebaut ist. In diesem Fall erfolgt die Kühlung ausschliesslich durch das zwischen der Elektrode 19'und dem Mündungsteil 15' strömende Plasmagas.
Eine Spannungsversorgung für einen Plasmabrenner 11'ist in der Fig. 6 dargestellt, wobei die Spannungsversorgung zur Erzeugung eines Impulsplasmas vorgesehen ist.
Dabei ist eine Kondensatorbatterie 130 über einen Ladewiderstand 131 mit den Anschlüssen X1 einer regelbaren Gleichspannungsquelle 132 verbunden. Die Kondensatorbatterie 130 weist
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einen fest angeschlossenen Kondensator 1C1 und einen über einen Schalter 1S1 zu diesem parallel zuschaltbaren Kondensator 1C2 auf, wobei es sich in beiden Fällen auch um Gruppen von Kondensatoren handeln kann.
Diese Kondensatorbatterie 130 ist über Anschlussleitungen 133,134 mit dem Plasmabrenner 11', bzw. dessen in der Fig. 6 nicht dargestellten Kathode 19'und Anode 15'verbunden.
Parallel zur Kondensatorbatterie 130 ist ein R/C-Glied geschaltet, das durch einen Kondensator 1C3 und einen Widerstand 1R1 gebildet ist. Dieses RIC-Glied bildet in Verbindung mit der in der Anschlussleitung 134 geschalteten Drossel 1L1 einen HF-Sperrkreis, der zum Schutz der Kondensatorbatterie 130 vor HF-Signalen vorgesehen ist.
Weiters sind noch die Ausgänge eines Zündgerätes 135 an die Anschlussleitungen 133,134 angeschlossen. Dieses Zündgerät 135 ist eingangsseitig mit einer Wechselspannungsquelle X2 verbunden und mit einem Triggerschalter 1 S2 versehen, der über einen von einem Vergleicher 140 gesteuerten Aktuator 144 betätigbar ist und einen Zündimpuls auslöst.
Beim Betrieb kommt es zur Aufladung der Kondensatorbatterie 130 entsprechend der eingestellten Spannung der Gleichspannungsquelle 132, die z. B. zwischen 50V und 300V einstellbar ist, und der durch die Kapazität der Kondensatorbatterie 130 und die Leitungswiderstände und den Ladewiderstand mitbestimmten Zeitkonstante.
Die Kondensatorbatterie 130 lädt sich entsprechend der eingestellten Spannung der Gleichspannungsversorgung 132 und der gegebenen Zeitkonstante auf. Dabei ist die Spannung der Gleichspannungsversorgung 132 so eingestellt, dass die Oberschlagsspannung zwischen den Elektroden 15', 19'des Plasmabrenners 11'nicht überschritten wird.
Ein Vergleicher 140 vergleicht einen von einem Sollwertgeber 141, der von einem Rechner gesteuert sein kann und den Weg zur nächsten zu beaufschlagenden Mikrofläche 300 vorgibt, gegebene Signale mit den von einer Überwachungseinrichtung 145 kommenden Signalen, die den seit der Beaufschlagung der letzten Mikrofläche 300 zurückgelegten Weg des Gegenstandes 83, bzw. der Aufnahme 200 überwacht und für die X-und Y-Richtung getrennte Fühler 142,143 aufweist.
Ist der vorgegebene Weg zurückgelegt, so gibt der Vergleicher 140 ein Signal an den Aktuator 145 ab und der Triggerschalter 1S2 wird betätigt. Dadurch wird ein HF-Signal auf die Leitungen 133,134 gelegt, das in Verbindung mit der Spannung der Kondensatorbatterie 130 ausreicht, um die Zündung eines Lichtbogens zwischen den Elektroden 15', 19'des Plasmabrenners 11'zu zünden.
Gleichzeitig entlädt sich die Kondensatorbatterie 130 entsprechend der durch deren Kapazität und den Leitungswiderständen und dem Widerstand des Lichtbogens gegebenen Zeitkonstante.
Sinkt durch diese Entladung die Spannung der Kondensatorbatterie 130 unter die Brennspannung des Lichtbogens ab, so erlischt dieser und die Kondensatorbatterie 130 lädt sich wieder auf, wodurch sich der beschrieben Vorgang wiederholt. Dabei ist sichergestellt, dass der so erzeugte Plasmaimpuls die entsprechende Mikrofläche 300 erhitzt und diese gehärtet wird.
PATENTANSPRÜCHE :
1. Verfahren zum Härten von Oberflächen von Gegenständen aus ferritischen Materialien hergestellten Gegenständen, bei dem die Oberfläche örtlich mittels eines energiereichen
Strahles erhitzt und durch Wärmeabfuhr in nicht erhitzte Bereiche des Gegenstandes die erhitzten Bereiche abgeschreckt werden, wobei die Oberfläche des zu härtenden Gegen- standes (83) in eine Vielzahl von im wesentlichen punktförmigen, bzw. kreisrunden Mikro- flächen (300) unterteilt wird und jede dieser Mikroflächen (300) mit Plasmaimpulsen beauf- schlagt wird, dadurch gekennzeichnet, dass die MikroflÅachen (301 bis 396) in Zeilen und
Reihen angeordnet werden und zwischen zwei unmittelbar nacheinander mit einem
Impulsplasma beaufschlagten Mikroflächen (301 bis 396) ein Abstand von mindestens zwei Mikroflächen eingehalten wird.