WO2016178317A1 - 光学装置 - Google Patents
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Abstract
本発明の目的は、照明領域が広い用途においても、画像取得レートを低下させず、しかも装置の大型化を伴わずに、干渉パターンの低減を実現する光学装置を提供する。そのために本発明の光学装置は、コヒーレント光源を照明として用いる光学装置において、コヒーレント光源とコリメートレンズの間に光線方向搖動手段を配置し、対象物に焦点が結ばないことを特徴とする。
Description
本発明は、光学装置に関し、特にコヒーレント光を照明として用いる画像取得装置に関する。
周波数0.1~10THzの電磁波であるテラヘルツ波は、プラスチック、紙、衣服などを透過しつつ、X線のような有害性が無いことや、テラヘルツ領域特有の指紋スペクトルが見出されてきたことにより、注目を集めている。近年、量子カスケードレーザの進展により、テラヘルツ領域の光源の強度が向上したことにより、非特許文献1のように量子カスケードレーザを用いたテラヘルツ顕微鏡が開発されている。
しかしながら、コヒーレント光源を用いたテラヘルツ顕微鏡には、背景画像に干渉パターンが生じるため、試料画像取得の障害となる問題がある。これは0.1~10THzのテラヘルツ波に特有の問題である。テラヘルツ領域は他の電磁波領域と異なり、十分な出力を有するインコヒーレントな光源が無い。必要な出力を得るためにはレーザを用いるか、ミリ波、サブミリ波の導波管デバイスを用いる必要があるため、位相のそろったコヒーレント光源を使用することになる。
このため、レンズ枠などで蹴られた光と、レンズ中心を通った光が干渉して干渉パターンを発生する。例えば、非特許文献1のTable4.に示されているように、同心円状の干渉縞が見られることがある。このような干渉の問題は、可視光のコヒーレント光においては顕在化せず、テラヘルツ領域で特有の問題である。問題になる理由はテラヘルツ波の波長が長いため可干渉性が高くなるためである。可視光は波長が1μm以下であるのに対し、レンズ枠には1μm以上の加工ばらつきがある。このため、レンズ枠で反射された可視光は波長以上の位相ばらつきがあり、インコヒーレントとなって干渉性を失う。よって、可視光ではレンズ枠などの「蹴られ」によって発生する干渉縞はほとんど問題とならない。
干渉パターンを解消するために、特許文献1の図1のように、レンズ系16と被写体12の間に、搖動機構を有するミラー18を配置する手法がある。揺動によって干渉パターンが動いて平均化されることにより、干渉パターンを軽減することができる。
小田、外8名、「Real-Time Transmission-type Terahertz Microscope,with Palm size Terahertz Camera and Compact Quantum Cascade Laser」、Proc. of SPIE、2012年8月、vol.8496、pp.84960Q-1~84960Q-11
特許文献1の図1で述べられている手法は、照明領域がφ10mm程度の顕微鏡システムに大いに効果的である。顕微鏡と称しても、必ずしも像を拡大しなくてもよい。等倍程度で10mm角程度の大きさのアレイセンサに、被写体イメージを結像させる用途に好適である。例えば、髪の毛のようなφ70μm程度の異物を検知する装置や、生体組織や細胞の観察などに有効である。
テラヘルツ波イメージングは、衣服の内側の武器、封書や箱の中の危険物の検知にも有効である。このようなセキュリティ用途では、被写体の大きさがφ30mm程度以上ある。このような用途でイメージング領域を拡大しようとすると、別の課題が生じる。照明領域を拡大するとき、搖動するミラーの面積も比例して拡大しなければならないが、ミラーの質量が増大する。そのためミラーの搖動スピードが低下する。このため、照明の平均化にも時間を要するようになり、イメージング画像取得スピードが低下する。またミラーの質量が増大するとミラーの搖動機構が大型化し、その結果イメージング装置が大型化する。
本発明の目的は、照明領域が広い用途においても、画像取得レートを低下させず、しかも装置の大型化を伴わずに、干渉パターンの低減を実現する光学装置を提供することにある。
本発明の光学装置は、コヒーレント光源を照明として用いる光学装置において、前記コヒーレント光源とコリメートレンズの間に光線方向搖動手段を配置し、対象物に焦点が結ばないことを特徴とする。
本発明によれば、照明領域が広い用途でも、イメージング画像取得レートが低下せず、しかも装置を小型化でき、干渉パターンを低減した光学装置を提供できる。
次に、本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
(第1の実施形態)
図1を参照すると、本第1の実施形態の光学装置は、光が進む順に、テラヘルツ波のコヒーレント光源1、搖動ミラー2、コリメートレンズ5、試料6、対物レンズ7、テラヘルツ波カメラ8を配置したイメージング装置である。コヒーレント光源1以外は光軸上に一直線上に配置する。コヒーレント光源1は射出光が前述の光軸に対して直角になるように配置する。コヒーレント光源1側を前段側、テラヘルツ波カメラ8側を後段側と呼ぶことにする。
(第1の実施形態)
図1を参照すると、本第1の実施形態の光学装置は、光が進む順に、テラヘルツ波のコヒーレント光源1、搖動ミラー2、コリメートレンズ5、試料6、対物レンズ7、テラヘルツ波カメラ8を配置したイメージング装置である。コヒーレント光源1以外は光軸上に一直線上に配置する。コヒーレント光源1は射出光が前述の光軸に対して直角になるように配置する。コヒーレント光源1側を前段側、テラヘルツ波カメラ8側を後段側と呼ぶことにする。
イメージング対象物である試料6の光学的性質により、コリメート光源1の光(ここではテラヘルツ波)の周波数は、適宜選べばよい。光の周波数を0.1THz~1.5THzとするときは、コリメート光源1として、例えばショットキーダイオード逓倍器光源や進行波管などを用いればよい。1.5THz~10THzにおいては、量子カスケードレーザを用いればよい。
光線方向を振動させる搖動ミラー2は1枚ミラーでもよいが、より望ましくは、2枚のミラーを組み合わせた図8に示すような2軸ガルバノスキャナ13が良い。図8には、コヒーレント光源1が描かれていないが、紙面の手前にあり、手前からコヒーレント光が紙面の奥に向かって入射することを想定した図である。
コヒーレント光は、まず、x軸用ミラー11に入射し上向きに反射され、次に、y軸用ミラー12により紙面の右方向に反射され、コリメートレンズ5を通って、試料6を照明する。図8では試料6を透過する光は省略している。
x軸用ミラー11とy軸用ミラー12はいずれも金コートされ、反射率は100%に近い。x軸用ミラー11とy軸用ミラー12には、それぞれ、回転用のモータが接続されており、x軸用ミラー11を回転させると、ビーム14の方向が水平方向(図8の紙面手前から紙面奥またはその逆の方向)に変化する。y軸用ミラー12を回転させると、ビーム14は垂直方向(図8の紙面上下方向)に変化する。x軸用ミラー11とy軸用ミラー12の搖動の組み合わせにより、ビーム14が試料6上に当たる位置を2次元的に走査する。
搖動ミラー2が1枚ミラー(1軸ミラー)の場合は、上述のx軸用ミラー11またはy軸用ミラー12のうちの片方だけを使い、x軸またはy軸を回転軸として一次元的に走査する。1軸ミラーとその搖動機構の質量は当然だが2軸ミラーとそれらの搖動機構の質量の半分になる。
図1に示すように、コヒーレント光源1から出射されたコヒーレント光(以下ビームと称する)は、まず揺動ミラー2に入射し反射することで進行方向が変わり、コリメートレンズ5に入射する。コリメートレンズ5で平行光となり試料6を照明するが、試料6上に焦点は結ばない。試料6を照明したビームは対物レンズ7を経由してテラヘルツ波カメラ8に入射する。揺動ミラー2は図1の紙面に対して垂直方向(紙面手前から奥に向かう方向)に揺動軸を持っており、この揺動軸を中心に正負の方向に交互に回転(振動)する。また揺動軸は光軸と直交する。
コリメートレンズ5の位置を、コリメート光源1の発光点から、焦点距離の位置とした場合、搖動ミラー2が光軸に対して45°の角度で静止している場合、コリメートレンズ5を通って試料6に照射されるビームは平行光となる。イメージング画像の背景画像の干渉パターンを低減するために搖動ミラー2を数10~数100Hzで搖動させるが、ビームは図1中に実線で示したミラー上向き時ビーム3から、破線で示したミラー下向き時ビーム4まで振られ、照明はこれを平均化したものとなる。ミラー上向き時ビーム3とミラー下向き時ビーム4では、光線経路が異なるため、レンズ枠などの蹴られなどにより発生する干渉パターンは異なる。異なる干渉パターンが平均化するので、照明の干渉パターンは大幅に低減されることになる。
コヒーレント光源1の放射角が半値全幅で10~13°で、発光点から搖動ミラー2までの距離(光路長)が50mmのとき、搖動ミラー2として用いる2軸ガルバノスキャナ13は、φ30mmのビーム径に対応したものを用いればよい。φ30mmと広い口径であれば、蹴られによる損失や回折の発生を十分低く抑えることができる。コリメートレンズ5を発光点から光路長で150mmの位置に設置する。ミラー2からコリメートレンズ5までは100mmになる。このような位置関係で設置した場合、コリメートレンズ5の有効開口径をφ100mm程度とすれば、半値全幅φ30mm程度のガウシアンビームを、レンズ枠による蹴られを十分に抑えて通すことができる。半値全幅φ30mm程度のガウシアンビームは搖動ミラー2により振って、半値全幅φ50mm程度に拡大したビームで試料6を照明することができる。
また試料6のサイズとしては、60mm×45mm程度のものを照明することができる。対物レンズ7は、試料6の像を1/4倍程度の倍率でテラヘルツ波カメラ8のアレイセンサ上に結像できるものとすると、サイズが15mm×11.3mmのアレイセンサにより、60mm×45mmの視野のイメージングができる。対物レンズの倍率を1/4にするためには、例えば、焦点距離50mmの対物レンズを用い、試料と対物レンズの間を250mm、レンズとアレイセンサの距離を62.5mmとすればよい。
特許文献1のように搖動ミラー2をコリメートレンズ5と試料6の間に設置した場合、半値全幅φ30mmのビームの搖動ミラー2による蹴られを十分低く抑えるためには、φ80mm~φ100mm程度の口径ビームを通すことができる搖動ミラー2としなければならない。
これに対し、本実施形態のように、搖動ミラー2をコヒーレント光源1とコリメートレンズ5の間に設置することにより、搖動ミラー2としては、ビーム口径φ30mmの2軸ガルバノスキャナ13を用いれば良く、大幅にミラー面積を低減できる。これは、特許文献1に比べて揺動ミラー2をビーム径が狭い位置に配置できることと、揺動ミラー2と試料6の間の光路が長くとれることが理由である。そのため揺動ミラーを同じ角度だけ振っても、ビームの移動距離を長くすることができる。
これにより、ミラーの質量のみならず、ミラーを駆動するモータや筐体の質量を大幅に低減できる。2軸ガルバノスキャナ全体としては、質量を1/20~1/30と大幅に低減できる。また、ミラーの回転速度は3倍程度に上げられるので、イメージング画像取得レートは3倍程度に向上することができる。またミラーを小型化できるのでコストと搖動の消費電力が低減できる。なお1軸ミラーの場合でも2軸ミラーと同様の効果が得られる。
特許文献2には、伝送系の初期の段階でビームを走査し長い伝送系を通してビームを対象物に当てるようにする長距離伝送用光学系が記載されている。これはレーザ光源と、レーザ光を二次元走査するために微小振幅角で揺動させるガルバノミラーと、ガルバノミラー以降のレンズ経路にリレーレンズ、コリメートレンズ、スキャンレンズを備え、ビームを包囲する複数のガイドパイプを備えた長距離伝送用光学系である。この光学系は最終段に空間的余裕がなくレーザ光伝送系の初期、緒段階にしか走査機構を設置できない場合を想定している。
しかしこの特許文献2はレーザ光の焦点を対象物面に結びそれを二次元走査し熱を発生させて、切断、研磨、溶接、熱処理、表面処理、マーキング、穴開け、検査を行うものである。一方本実施形態のテラヘルツ波イメージングは対象物には焦点を結ばず、広がった照明を揺動して均一照明とするものであり、異なるものである。
(第2の実施形態)
第1の実施形態において、搖動ミラー2により、ミラー上向き時ビーム3からミラー下向き時ビーム4までビームを振って、平均化されたビームは、全体的には平行光ではなく広がっていく。コヒーレント光源1のパワー出力が十分に高く、試料6により光が散乱、拡散される場合は、照明光が広がっていっても問題無い。しかし、テラヘルツ波領域においては、十分に高出力で小型の光源が無いため、照明光を無駄なく対物レンズ7、テラヘルツ波カメラ8に入射させることが望ましい。
(第2の実施形態)
第1の実施形態において、搖動ミラー2により、ミラー上向き時ビーム3からミラー下向き時ビーム4までビームを振って、平均化されたビームは、全体的には平行光ではなく広がっていく。コヒーレント光源1のパワー出力が十分に高く、試料6により光が散乱、拡散される場合は、照明光が広がっていっても問題無い。しかし、テラヘルツ波領域においては、十分に高出力で小型の光源が無いため、照明光を無駄なく対物レンズ7、テラヘルツ波カメラ8に入射させることが望ましい。
また、テラヘルツ波は波長が30μm~3mmと長く、試料の表面平滑度や粒径より、波長の方が長い場合がしばしばある。テラヘルツ波は波長が長いので試料の表面はそれより平滑だと散乱、拡散しにくい。その場合、テラヘルツ波は試料6に当たっても(減衰はするが)直進し、テラヘルツ波カメラ8に入射しない光もある。入射しないとイメージングには寄与しない。従って試料6が無いときの背景照明光が、そのまま対物レンズ7およびテラヘルツ波カメラ8に入射する割合が高いことが望まれる。
この割合を高めるためには、背景照明光が広がっていく場合、対物レンズ7の口径を広げることで可能になる。しかし、装置の大型化や質量の増大を招く。想定する試料6の大きさに対して、極力装置全体を大きくしない設計としては、平均化されたビームの径が、コリメートレンズ5から対物レンズ7まで、略一定となるようにするのが好ましい。言い方を変えれば、平均化されたビームの外縁を用途により半値全幅や1/e2などで定義し、この外縁が光軸と略平行となるのが好ましい。略平行であれば、コリメートレンズ5と対物レンズ7の径を、同程度とすることができる。平均化されたビームの外縁が平行でなくなると、試料6のサイズを基準として、対物レンズ7またはコリメートレンズ5のどちらかが大型化する。このような大型化を避けるためには、平行度は±5°以内が望ましい。レンズ材料として高比抵抗シリコンを用いる場合などにおいては、インゴットの径に制限されて、最大レンズ径がφ125mm程度に制限される場合がある。このような場合などに、コリメートレンズ5と対物レンズ7を極力同じ口径とすることが望ましいので、平均化されたビーム外縁の平行度は、±2°以内にすることが望ましい。なおインゴットとは、シリコン基板を切り出すシリコン単結晶インゴットのことである。
コリメートレンズ5と対物レンズ7の大きさの課題の重要性について更に補足する。テラヘルツ波のような長い波長のコヒーレント光においては、イメージング画像に干渉パターンが発生しやすい。レンズ枠などの表面の凹凸は、波長に比べ小さいため、位相がランダムに乱れて反射されることがないため、干渉しやすい。このような干渉パターンは、テラヘルツ波画像認識の障害となるため、極力無くすことが望ましい。
このためには、レンズ枠を十分大きくし、レンズ枠位置でのビームのパワーが、ビーム中心に比べ例えば1%以下、できれば0.1%以下に抑えることが望ましい。このようにするためには、コリメートレンズ5や対物レンズ7の口径を大きくする。コリメートレンズ5と対物レンズ7で口径に差があると大きい方で装置全体の大きさが決まってしまう。そのため、試料6のサイズを基準として、コリメートレンズ5と対物レンズ7の大きさを同程度にそろえる設計をした方が、装置全体を小型化できる。このような理由により、遥動ミラー2により遥動された光線の平均化ビームは、ビームの外縁が略平行となることが好ましい。
具体的には、例えば、コリメートレンズ5から、試料6を経由して対物レンズ7の入射口に至るまで、一貫してビームの1/e2径を、おおよそφ60mmと略一定にすることが望ましい。この場合、レンズ枠の蹴られによる干渉パターン発生を抑えるため、コリメートレンズ5と対物レンズ7の有効径はφ100mm程度と、1/e2径より大きくすればよい。
このような目的で、遥動ミラー2による平均化されたビームの外縁を光軸方向に略平行とするためには、搖動ミラー2が静止した状態において、ビームが集光気味になるように設計すればよい。つまり、静止状態でのビームを集光気味にしておき、揺動ミラーの揺動の最大振り角においてビームの外縁が略平行になるように設計する。言い換えると静止状態でのビーム径に揺動ミラーの揺動で拡張する分のビーム径を加えたビームの外縁が略平行になるようにする。
静止状態でのビームを集光気味にするには、具体的には、コヒーレント光源1とコリメートレンズ5間の距離(光路長)をコリメートレンズ5の焦点距離よりも離すように配置する。例えば、コリメートレンズ5の焦点距離を150mmとし、コヒーレント光源1とコリメートレンズ5の光路長を200mmとすれば、コリメートレンズ5から600mm先において集光することになる。この集光点は、試料6より十分先の位置とするのが良い。試料6の位置においてビーム径が小さ過ぎると、試料6全体を照明するために、遥動ミラー2を細かく長時間走査する必要が生じ、走査一巡の時間が長くなるため、イメージング画像取得レートが低下する。このことを避けるため試料6に集光しないようにする。試料6をコリメートレンズ5から250mmの位置に設置すれば、試料6は集光点より十分コリメートレンズ5に近くなる。そのため試料6の位置におけるビーム径は小さくなく、画像取得レート低下の問題が生じない。
遥動ミラー2静止時において、このような配置にした上で、遥動ミラー2を適当な振り幅で遥動することにより、図2のように、遥動ビームの平均化されたビームの外縁を光学装置の光軸に対して略平行とすることができる。
以上述べた、径、距離などの数値は、一例であって上記の値に限るものではない。例えば、径、距離の全数値を2倍にすれば、試料6を観察する視野範囲を2倍×2倍=4倍にすることができる。すなわち、観察対象とする試料6の想定最大サイズに応じて、光学系をスケーリングして装置設計をすればよい。
(第3の実施形態)
上記第1、第2実施形態において、コヒーレント光源の放射角が広く、搖動ミラー2で捕捉しきれない場合、搖動ミラー2による光線の蹴られにより、回折パターンの発生や、パワー損失を招く場合がある。このような場合は、コヒーレント光源1と搖動ミラー2の間に、レンズを挿入し、ビームの広がりを抑えればよい。
(第3の実施形態)
上記第1、第2実施形態において、コヒーレント光源の放射角が広く、搖動ミラー2で捕捉しきれない場合、搖動ミラー2による光線の蹴られにより、回折パターンの発生や、パワー損失を招く場合がある。このような場合は、コヒーレント光源1と搖動ミラー2の間に、レンズを挿入し、ビームの広がりを抑えればよい。
そのための構成を、第3の実施形態として図3に示す。コヒーレント光源1の後段に、初段コリメートレンズ9を設置し、コヒーレント光源1のビームを平行光とする。この平行光を搖動ミラー2に入射させれば、搖動ミラー2の位置におけるビーム径を狭くすることができるので、搖動ミラー2を小型化できる。搖動ミラー2を小型化できれば、高速に搖動することができるので、照明の平均化を高速に行うことができるので、イメージング画像取得レートを高速化できる。
なおコヒーレント光源の放射角が広い場合以外にも、何らかの理由によって光源1と搖動ミラー2の距離を短くできない場合も、初段コリメートレンズ9を設置すればビームの広がりを抑えることができる。
(第4の実施形態)
第3の実施形態に比べて搖動ミラー2を更に小型化して、画像取得レートを高めるための構成を、第4の実施形態として図4に示す。図3の初段コリメートレンズ9の代わりに、初段集光レンズ10を設置する。このようにすると、搖動ミラー2の位置において、更にビーム径を絞ることができるので、搖動ミラー2を更に小型化することができ、画像取得レートを更に高めることができる。集光の中心点は揺動ミラー2における揺動軸上に来るようにする。
(第4の実施形態)
第3の実施形態に比べて搖動ミラー2を更に小型化して、画像取得レートを高めるための構成を、第4の実施形態として図4に示す。図3の初段コリメートレンズ9の代わりに、初段集光レンズ10を設置する。このようにすると、搖動ミラー2の位置において、更にビーム径を絞ることができるので、搖動ミラー2を更に小型化することができ、画像取得レートを更に高めることができる。集光の中心点は揺動ミラー2における揺動軸上に来るようにする。
ただし、初段集光レンズ10によって搖動ミラー2表面上の回転軸上に完全に集光すると、実質的発光点位置が変位しなくなるため、干渉パターンが動きにくくなる。このため、干渉パターンの低減効果が低下する。照明の均一性を重視するか、画像取得レートの高速化を重視するか、用途により、搖動ミラー2上への集光度は調整すればよい。均一性を重視するのであれば集光度を緩くし、高速レートを重視するのであれば集光度を上げる。
(第5の実施形態)
上記実施形態においては、光線方向搖動手段として、ミラーの搖動を用いた。これは光の反射を利用し、ミラーの角度により、反射角が変わることを利用した方法である。この他に、光の屈折を用いた方法も利用することができる。
(第5の実施形態)
上記実施形態においては、光線方向搖動手段として、ミラーの搖動を用いた。これは光の反射を利用し、ミラーの角度により、反射角が変わることを利用した方法である。この他に、光の屈折を用いた方法も利用することができる。
そのための構成を第5の実施形態として図5に示す。搖動ミラー2の代わりに、搖動初段コリメートレンズ102を設置し、コヒーレント光源1は、コリメートレンズ5から対物レンズ7に至る光軸線の延長線上に配置する。搖動初段コリメートレンズ102を光軸に対し垂直な面の上で振動させれば、光線方向は、搖動初段コリメートレンズ102の移動方向に向きが変わる。例えば、図5では、搖動初段コリメートレンズ102を上下に平行移動させれば、ビーム方向は、レンズ上移動時ビーム103からレンズ下移動時ビーム104まで変化する。このとき変化する干渉パターンを平均化した状態で照明光として用いれば、ほぼ均一な照明を得ることができる。
なお本実施形態に第3実施形態の初段コリメートレンズまたは第4実施形態の初段集光レンズを用いることもできる。
(第6の実施形態)
屈折を利用して光線方向を変える手段として、ウェッジプリズムを用いる方法もある。そのための構成を第6の実施形態として図6に示す。図5の搖動初段コリメートレンズ102の代わりに、回転ウェッジプリズム202を配置する。回転ウェッジプリズム202の回転軸を光軸と一致させておき、回転軸を中心に回転(自転)させる。回転ウェッジプリズム202の厚い方が図6の上側にあるとき(図6の実線の回転ウェッジプリズム202)、ビームは上向き屈折時ビーム203に振れる。一方回転ウェッジプリズム202の厚い方が図6の下側にあるとき(図6の破線の回転ウェッジプリズム202)、ビームは下向き屈折時ビーム204に振れる。回転ウェッジプリズム202が一回転する間のビームを平均化すれば、平均化ビームの外縁を略平行とすることができる。
(第6の実施形態)
屈折を利用して光線方向を変える手段として、ウェッジプリズムを用いる方法もある。そのための構成を第6の実施形態として図6に示す。図5の搖動初段コリメートレンズ102の代わりに、回転ウェッジプリズム202を配置する。回転ウェッジプリズム202の回転軸を光軸と一致させておき、回転軸を中心に回転(自転)させる。回転ウェッジプリズム202の厚い方が図6の上側にあるとき(図6の実線の回転ウェッジプリズム202)、ビームは上向き屈折時ビーム203に振れる。一方回転ウェッジプリズム202の厚い方が図6の下側にあるとき(図6の破線の回転ウェッジプリズム202)、ビームは下向き屈折時ビーム204に振れる。回転ウェッジプリズム202が一回転する間のビームを平均化すれば、平均化ビームの外縁を略平行とすることができる。
この方法では、一定角速度で回転させればよいので、回転用のモータに対する負荷を低減することができる。搖動ミラー2の駆動においては、角速度が正と負の間で切り換わるとき、大きな加速度を生じるので、モータに大きな負荷がかかる。図5の搖動初段コリメートレンズ102の往復運動をさせる場合も、運動方向が変わるタイミングに加速度が大きくなり、モータに負荷がかかる。第6の実施形態では、このような大きな加速度によりモータの負荷が大きくなるという問題がないので、高速にビーム方向を動かすことができる。このため、イメージングの画像取得レートを高速化できる。
なお本実施形態に第3実施形態の初段コリメートレンズまたは第4実施形態の初段集光レンズを用いることもできる。
(第7の実施形態)
以上のように、平均化された照明光のビーム径を、光軸方向に略一定とすることにより、光軸方向のどの位置においても、略一定の分布の照明を試料6に照射することができる。また、対物レンズ7とテラヘルツ波カメラ8を光軸方向に移動させれば、テラヘルツ波画像のピントが合う位置を光軸方向に移動させることができる。このようにすれば、イメージング対象物である試料6が段ボール箱に入れられて隠された物体の場合でも、テラヘルツ波イメージング画像を、段ボール箱の中をスキャンして、立体画像を取得することができる。
(第7の実施形態)
以上のように、平均化された照明光のビーム径を、光軸方向に略一定とすることにより、光軸方向のどの位置においても、略一定の分布の照明を試料6に照射することができる。また、対物レンズ7とテラヘルツ波カメラ8を光軸方向に移動させれば、テラヘルツ波画像のピントが合う位置を光軸方向に移動させることができる。このようにすれば、イメージング対象物である試料6が段ボール箱に入れられて隠された物体の場合でも、テラヘルツ波イメージング画像を、段ボール箱の中をスキャンして、立体画像を取得することができる。
そのための構成を第7の実施形態として図7に示す。試料6は平面的な物体ではなく、立体的な物体である。対物レンズ7とその後段に設けるイメージング対象物撮像装置であるテラヘルツ波カメラ8は、駆動機構30により移動可能である。図7の光学装置は、対物レンズ7とテラヘルツ波カメラ8を駆動機構30で光軸方向に移動させながら、立体的な物体に対するテラヘルツ波イメージング画像を多数枚取得できるシステムとなっている。
おおよそ1THz以下のテラヘルツ波は段ボールを透過するので、開封することなく危険物を検知するセキュリティ用途システムに有効である。
以上述べた実施形態においては、試料6を透過したテラヘルツ波を取得する透過イメージング画像取得装置について述べた。これは、試料6で反射したテラヘルツ波を取得する反射イメージング画像取得装置にも適用することができる。反射イメージング画像取得装置の場合は対物レンズとテラヘルツ波カメラを、反射したテラヘルツ波が取得できる位置に設置すればよい。
上記の実施形態の一部または全部は、以下の付記のようにも記載されうるが、以下には限られない。
(付記1)
コヒーレント光源を照明として用いる光学装置であって、前記コヒーレント光源とコリメートレンズの間に光線方向搖動手段を配置し、対象物に焦点が結ばないことを特徴とする光学装置。
(付記2)
前記コヒーレント光源と前記コリメートレンズ間の距離を前記コリメートレンズの焦点距離よりも離すことにより、前記光線方向搖動手段の静止状態でのビーム径に、前記光線方向搖動手段によるビームの揺動で拡張する分のビーム径を加えた前記ビームの外縁が略平行になるようにことを特徴とする付記1に記載の光学装置。
(付記3)
前記コヒーレント光源と前記光線方向搖動手段との間に、初段コリメート手段を配置し、略平行光を前記光線方向搖動手段に入射させることを特徴とする付記1または2に記載の光学装置。
(付記4)
前記コヒーレント光源と前記光線方向搖動手段との間に、集光手段を配置し、前記光線方向搖動手段に集光させることを特徴とする付記1または2に記載の光学装置。
(付記5)
前記光線方向搖動手段が、搖動反射鏡であることを特徴とする付記1から4のいずれか一項に記載の光学装置。
(付記6)
前記光線方向搖動手段が、光線を屈折する物体の振動または回転であることを特徴とする付記1から4のいずれか一項に記載の光学装置。
(付記7)
前記光線方向搖動手段が光軸方向と垂直方向に搖動するコリメートレンズであることを特徴とする付記1または2に記載の光学装置。
(付記8)
前記対象物の後段に対象物撮像装置を配置し、前記撮像装置の対象物ピント位置を光軸方向に走査することにより、前記対象物の光軸方向走査画像を取得することを特徴とする付記1から7のいずれか一項に記載の光学装置。
(付記9)
前記コヒーレント光源はテラヘルツ波の光源である付記1から8のいずれか一項に記載の光学装置。
(付記10)
前記コリメートレンズの後段側に対物レンズを設け、更にその後段側に対象物撮像装置を設け、前記コリメートレンズと前記対物レンズの間に対象物を配置する付記1から9のいずれか一項に記載の光学装置。
(付記11)
前記対物レンズと前記対象物撮像装置の前記光軸方向への移動機構を備えた付記10に記載の光学装置。
(付記1)
コヒーレント光源を照明として用いる光学装置であって、前記コヒーレント光源とコリメートレンズの間に光線方向搖動手段を配置し、対象物に焦点が結ばないことを特徴とする光学装置。
(付記2)
前記コヒーレント光源と前記コリメートレンズ間の距離を前記コリメートレンズの焦点距離よりも離すことにより、前記光線方向搖動手段の静止状態でのビーム径に、前記光線方向搖動手段によるビームの揺動で拡張する分のビーム径を加えた前記ビームの外縁が略平行になるようにことを特徴とする付記1に記載の光学装置。
(付記3)
前記コヒーレント光源と前記光線方向搖動手段との間に、初段コリメート手段を配置し、略平行光を前記光線方向搖動手段に入射させることを特徴とする付記1または2に記載の光学装置。
(付記4)
前記コヒーレント光源と前記光線方向搖動手段との間に、集光手段を配置し、前記光線方向搖動手段に集光させることを特徴とする付記1または2に記載の光学装置。
(付記5)
前記光線方向搖動手段が、搖動反射鏡であることを特徴とする付記1から4のいずれか一項に記載の光学装置。
(付記6)
前記光線方向搖動手段が、光線を屈折する物体の振動または回転であることを特徴とする付記1から4のいずれか一項に記載の光学装置。
(付記7)
前記光線方向搖動手段が光軸方向と垂直方向に搖動するコリメートレンズであることを特徴とする付記1または2に記載の光学装置。
(付記8)
前記対象物の後段に対象物撮像装置を配置し、前記撮像装置の対象物ピント位置を光軸方向に走査することにより、前記対象物の光軸方向走査画像を取得することを特徴とする付記1から7のいずれか一項に記載の光学装置。
(付記9)
前記コヒーレント光源はテラヘルツ波の光源である付記1から8のいずれか一項に記載の光学装置。
(付記10)
前記コリメートレンズの後段側に対物レンズを設け、更にその後段側に対象物撮像装置を設け、前記コリメートレンズと前記対物レンズの間に対象物を配置する付記1から9のいずれか一項に記載の光学装置。
(付記11)
前記対物レンズと前記対象物撮像装置の前記光軸方向への移動機構を備えた付記10に記載の光学装置。
以上、上述した実施形態を模範的な例として本発明を説明した。しかしながら、本発明は、上述した実施形態には限定されない。即ち、本発明は、本発明のスコープ内において、当業者が理解し得る様々な態様を適用することができる。
この出願は、2015年5月7日に出願された日本出願特願2015-094673を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。
1 コヒーレント光源
2 搖動ミラー
3 ミラー上向き時ビーム
4 ミラー下向き時ビーム
5 コリメートレンズ
6 試料
7 対物レンズ
8 テラヘルツ波カメラ
9 初段コリメートレンズ
10 初段集光レンズ
11 x軸用ミラー
12 y軸用ミラー
13 2軸ガルバノスキャナ
14 ビーム
30 駆動機構
102 搖動初段コリメートレンズ
103 レンズ上移動時ビーム
104 レンズ下移動時ビーム
202 回転ウェッジプリズム
203 上向き屈折時ビーム
204 下向き屈折時ビーム
2 搖動ミラー
3 ミラー上向き時ビーム
4 ミラー下向き時ビーム
5 コリメートレンズ
6 試料
7 対物レンズ
8 テラヘルツ波カメラ
9 初段コリメートレンズ
10 初段集光レンズ
11 x軸用ミラー
12 y軸用ミラー
13 2軸ガルバノスキャナ
14 ビーム
30 駆動機構
102 搖動初段コリメートレンズ
103 レンズ上移動時ビーム
104 レンズ下移動時ビーム
202 回転ウェッジプリズム
203 上向き屈折時ビーム
204 下向き屈折時ビーム
Claims (10)
- コヒーレント光源を照明として用いる光学装置であって、前記コヒーレント光源とコリメートレンズの間に光線方向搖動手段を配置し、対象物に焦点が結ばないことを特徴とする光学装置。
- 前記コヒーレント光源と前記コリメートレンズ間の距離を前記コリメートレンズの焦点距離よりも離すことにより、前記光線方向搖動手段の静止状態でのビーム径に、前記光線方向搖動手段によるビームの揺動で拡張する分のビーム径を加えた前記ビームの外縁が略平行になるようにことを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
- 前記コヒーレント光源と前記光線方向搖動手段との間に、初段コリメート手段を配置し、略平行光を前記光線方向搖動手段に入射させることを特徴とする請求項1または2に記載の光学装置。
- 前記コヒーレント光源と前記光線方向搖動手段との間に、集光手段を配置し、前記光線方向搖動手段に集光させることを特徴とする請求項1または2に記載の光学装置。
- 前記光線方向搖動手段が、搖動反射鏡であることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の光学装置。
- 前記光線方向搖動手段が、光線を屈折する物体の振動または回転であることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の光学装置。
- 前記光線方向搖動手段が光軸方向と垂直方向に搖動するコリメートレンズであることを特徴とする請求項1または2に記載の光学装置。
- 前記対象物の後段に対象物撮像装置を配置し、前記撮像装置の対象物ピント位置を光軸方向に走査することにより、前記対象物の光軸方向走査画像を取得することを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の光学装置。
- 前記コヒーレント光源はテラヘルツ波の光源である請求項1から8のいずれか一項に記載の光学装置。
- 前記コリメートレンズの後段側に対物レンズを設け、更にその後段側に対象物撮像装置を設け、前記コリメートレンズと前記対物レンズの間に対象物を配置する請求項1から9のいずれか一項に記載の光学装置。
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JP2008267903A (ja) * | 2007-04-18 | 2008-11-06 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | レチクル欠陥検査装置およびこれを用いた検査方法 |
JP2011039490A (ja) * | 2009-07-17 | 2011-02-24 | Sony Corp | 画像表示装置、頭部装着型ディスプレイ及び光ビーム伸長装置 |
WO2014157431A1 (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | 日本電気株式会社 | イメージングシステム |
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US9235885B2 (en) * | 2013-01-31 | 2016-01-12 | Applied Materials Israel Ltd | System, a method and a computer program product for patch-based defect detection |
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2016
- 2016-04-27 JP JP2017516555A patent/JPWO2016178317A1/ja active Pending
- 2016-04-27 WO PCT/JP2016/002211 patent/WO2016178317A1/ja active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH1172905A (ja) * | 1997-06-27 | 1999-03-16 | Toshiba Corp | フォトマスク修復方法、検査方法、検査装置及びフォトマスク製造方法 |
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