TWI813831B - 製程開發顯像工具 - Google Patents

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TWI813831B TW108146408A TW108146408A TWI813831B TW I813831 B TWI813831 B TW I813831B TW 108146408 A TW108146408 A TW 108146408A TW 108146408 A TW108146408 A TW 108146408A TW I813831 B TWI813831 B TW I813831B
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Abstract

製程開發顯像工具生成與製造製程相關聯的參數的第一顯像,並提供與製造製程的製程變量相關聯的GUI控制元素,其中GUI控制元素具有製程變量第一值相關的第一設置。製程開發工具接收使用者輸入,以將GUI控制元素從第一設置調整為第二設置,基於第二設置確定製程變量的第二值,並確定與製程變量第二值相關聯的參數的第二組值。然後,製程開發工具生成參數的第二可視化,其中第二可視化表示與製程變量的第二值相關聯的參數的第二組值。

Description

製程開發顯像工具
本揭示內容的具體實施例總體上涉及製程開發,諸如用於半導體晶圓製造製程的開發,並且更特定而言涉及促進製程開發的顯像工具。
因為對電子裝置的持續需求,對半導體晶圓的需求越來越大。隨著新的半導體裝置設計以及半導體製造設備的發展,開發了在半導體晶圓上製造半導體裝置的新製程。單個製程配方的開發,通常涉及實驗設計(DOE),以測試許多不同的製程變量及其對半導體晶圓的性能以及最終製成半導體裝置的影響。這種DOE導致收集關於製程變量和晶圓結果的大量資料。分析如此大量的資料既費時又困難。
下文呈現揭示內容的簡化概要,以提供對於在揭示內容的一些態樣的基本瞭解。此概要不是本揭示內容的廣泛概述。此概要無意於描繪本揭示內容的特定實施方案的任何範圍或申請專利範圍的任何範圍。此概要的唯一目的是以簡化形式呈現本揭示內容的一些概念,作為稍後呈現的更詳細描述的序言。
在一個具體實施例中,方法包含:產生與在晶圓上執行的製造製程相關聯的第一參數的第一顯像,其中第一參數的值取決於製造製程的複數個製程變量,並且其中第一顯像表示第一參數的第一組值,第一組值與製造製程的第一製程變量的第一值相關聯。方法進一步包含:提供與製造製程的第一製程變量相關聯的第一圖形使用者介面控制元素,其中第一圖形使用者介面控制元素具有與第一製程變量的第一值相關聯的第一設置。方法進一步包含:接收使用者輸入以將第一圖形使用者介面控制元素從第一設置調整為第二設置。方法進一步包含:基於第一圖形使用者介面控制元素的第二設置,為第一製程變量確定第二值。方法進一步包含:確定與製造製程的第一製程變量的第二值相關聯的第一參數的第二組值。方法進一步包含:產生與製造製程相關聯的第一參數的第二顯像,其中第二顯像表示第一參數的第二組值,第二組值與第一製程變量的第二值相關聯。在一個具體實施例中,一種電腦可讀取媒體,包含指令,指令在由製程裝置執行時使製程裝置執行方法。
在一個具體實施例中,系統包含資料儲存器,用於儲存在晶圓上執行的製造製程的製程開發資料,且進一步包含計算裝置。計算裝置包含記憶體以及與記憶體可操作地連接的製程裝置,記憶體包括用於製程開發顯像工具的指令。製程開發顯像工具的指令的執行,使得製程裝置產生與製造製程相關聯的第一參數的第一顯像,其中第一參數的值取決於製造製程的複數個製程變量,並且其中第一顯像表示第一參數的第一組值,第一組值與製造製程的第一製程變量的第一值相關聯。製程裝置提供與製造製程的第一製程變量相關聯的第一圖形使用者介面控制元素,其中第一圖形使用者介面控制元素具有與第一製程變量的第一值相關聯的第一設置。製程裝置接收使用者輸入以將第一圖形使用者介面控制元素從第一設置調整為第二設置。製程裝置基於第一圖形使用者介面控制元素的第二設置,為第一製程變量確定第二值。製程裝置生成包括第一製程變量的第二值的查詢。發送查詢到資料儲存器。製程裝置接收對查詢的響應,響應包括與製造製程的第一製程變量的第二值相關聯的第一參數的第二組值。製程裝置產生與製造製程相關聯的第一參數的第二顯像,其中第二顯像表示第一參數的第二組值,第二組值與第一製程變量的第二值相關聯。
本揭示內容的具體實施例針對一種顯像工具,顯像工具以促進和加速晶圓上的製造製程(諸如半導體裝置的製造製程)的製程開發的方式來佈置和呈現DOE結果資料。顯像工具提供晶圓上結果的互動式顯像,可以藉由更改多個變量來進行修改。顯像工具可提供例如製程開發的虛擬駕駛艙體驗。在具體實施例中,顯像工具減少了用於查看晶圓圖和晶圓上資料的其他顯像的空間,提供了改進的顯像和互動式使用者控制,藉由在使用者周圍佈置多個晶圓圖和其他顯像為使用者提供了身臨其境的體驗,提供了一種以互動式方式計算和描繪晶圓上結果(例如晶圓圖)的能力,減少用於分析資料的時間和資源量,增加查看製程開發資料的尺寸,並提高資料分析的速度。
製程開發包括對所關注的製程變量的互動和優化的詳盡研究,以傳遞所關注性質(在本文中稱為參數)的晶圓上結果。為了開發晶圓製造製程,執行多個DOE以生成非常大量(亦即巨量)的資料。資料包括許多不同的參數,包括每次製程運行的量測特性的晶圓上結果、物理感測器量測、及/或虛擬感測器量測。晶圓上結果可包括晶圓上許多不同點的計量量測。另外,許多不同的感測器可為正在開發的製程的製程運行生成資料。為了運行成功的DOE,需要執行許多不同的製程運行,且每次製程運行包括多個晶圓,每個晶圓具有多個進行量測的點。此外,對於製造製程,可能要考慮數十個或數百個不同的變量,並且可以調整該等變量以導致使用不同過程變量組合的許多製程運行。對於變量值的每種組合,可能要調整的許多可能變量以及可能記錄的許多不同參數,會導致組合爆炸(combinatorial explosion)。組合爆炸描述了由於組合考量而迅速增長(例如呈指數增長)的功能的效果。組合爆炸可能會給計算帶來問題,因為可能沒有足夠的資源(例如記憶體、製程能力、時間等不足)來測試變量值的每種可能的唯一組合,並根據測試確定變量值的最佳組合。具體實施例提供了一種顯像工具,顯像工具以使使用者能夠容易地分析此類資料、調整變量並使用製程的DOE結果來設計最佳製程的方式,來佈置並以圖形方式呈現晶圓資料,同時避免了與組合爆炸有關的複雜性。
具體實施例中的顯像工具生成一或多個顯像或資料疊加,其中每個顯像示出針對特定參數(例如已量測的特定晶圓上參數及/或特定感測器讀數)的DOE結果。顯像工具還提供一組圖形使用者介面(GUI)控制元素,其中每個GUI控制元素與特定製程變量或製程變量的組合相關聯。可以基於使用者與GUI控制元素的互動來調整每個GUI控制元素(例如,諸如藉由使用者單擊和拖動滑塊、單擊製程控制元素的箭頭、旋轉製程控制元素等等)。製程控制元素的每個設置可以與特定製程變量的不同值(或多個製程變量的值的組合)相關聯。因此,藉由調整製程控制元素,使用者更新製程控制元素的設置以選擇此製程控制元素的相關製程變量的不同值。
然後,可以自動調整製程參數的部分或全部顯像,以顯示與GUI控制元素的更新設置相關聯的製程參數的晶圓上結果。因此,可以透過與GUI控制元素的簡單使用者互動,來更改晶圓上結果的多種顯像。該等顯像可以按照使用者喜好以虛擬座艙的方式佈置在使用者的單個螢幕上或跨使用者的多個螢幕上,以增強製程開發的體驗和速度。
在實例中,製程變量的變化可以被顯像為製程參數的影像序列(例如晶圓上的結果),此製程參數的影像是藉由經由與滑塊或其他GUI控制元素的使用者互動來調變關注變量來控制的。例如,可根據GUI控制元素的當前設置,生成彼此堆疊顯示的多個晶圓圖的覆蓋圖,其中一次顯示晶圓圖中的一個。可以按照與電影類似的方式來呈現資料上結果,不同之處在於,不是將電影的每個幀與不同的時間戳相關聯,而是將每個晶圓圖與關注變量的不同製程變量值相關聯。將對於相同配方的相同屬性,量測彼此重疊的晶圓圖。但是,每個晶元圖都會因關注變量的值變化而有所不同。可以將任意數量的關注變量與GUI控制元素相關聯,並將任意數量的關注參數與顯像相關聯。
圖1示出了根據本揭示內容的具體實施例的包括製程開發顯像器104的系統100的示例架構。在一個具體實施例中,系統100可包括計算裝置102、資料儲存器108、製造設備112和計量設備116。
製造設備112可以是包括一或多個製程腔室的半導體晶圓製造設備。例如,製造設備112可以是離子注入機、蝕刻反應器(例如製程腔室)、光刻裝置、沉積裝置(例如用於執行化學氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)、離子輔助沉積(IAD)等)或任何其他處理晶圓的製造裝置。
在一具體實施例中,製造設備112經由網路106連接到資料儲存器108。網路106可以是區域網路(LAN),並且可以是設備自動化層的一部分,設備自動化層可額外包括路由器、閘道、伺服器、資料儲存器等。製造設備112可經由SEMI設備通信標準/通用設備模型(SECS/GEM)介面、經由乙太網路介面、及/或經由其他介面連接至設備自動化層(例如至網路106)。在一個具體實施例中,設備自動化層使製程資料(例如在製程運行期間由製造設備112收集的資料)能夠儲存在資料儲存器108中。在其他具體實施例中,製造設備112可直接連接到資料儲存器108。
製造設備112可以包括許多感測器114,感測器114可以在製程運行期間監視不同的特性或參數(例如製程條件)。感測器114的實例包括溫度感測器、壓力感測器、電流感測器、電壓感測器、濕度感測器等。所有該等量測的參數值可以與關於特定製程運行的資訊一起發送到資料儲存器108,諸如何時執行製程運行、製程運行的配方(例如包括在製程運行的不同階段的不同製程變量值)等等。
正在開發的製程可以是蝕刻製程、沉積製程、植入製程、濕式清潔製程、乾式清潔製程、光刻製程、電填充製程、電漿處理製程、退火製程、化學機械平坦化(CMP)製程、或其他製程。在處理後,晶圓上通常會存在塗層。塗層可以是單層塗層或多層塗層。可以藉由單個工具或藉由執行各種操作的多個工具來處理晶圓。
一旦製程運行完成,就可以從製造設備112中取出經過處理的晶圓,並藉由計量設備116進行量測。計量設備116可以例如包括:可量測臨界尺寸(例如線寬)的掃描式電子顯微鏡(SEM)、可量測塗層厚度的橢圓儀、可量測產品上的覆蓋誤差的覆蓋計量系統、植入劑量計量工具、薄層電阻量測系統等等。可量測的晶圓上參數的實例,包括塗層厚度、折射率、薄層電阻、電阻率、電導率、顆粒尺寸、粗糙度、晶圓上的應力、塗層組成、反射率、吸收率、觀察角、入射角、反射角、衍射角、密度、蝕刻速率和階梯覆蓋等等。晶圓可以由多個不同的計量設備116處理,以生成不同的晶圓上參數量測。計量設備116可經由網路106連接到資料儲存器108。計量設備116可以經由SECS/GEM介面、經由乙太網路介面、及/或經由其他介面連接至設備自動化層(例如至網路106)。
資料儲存器108可以是包括一或多個儲存裝置(諸如磁碟機及/或固態儲存設備(SSD))的計算裝置。資料儲存器108可包括為製程開發資料的儲存而優化的資料庫110。資料庫110可儲存用於製程運行的資料,其中資料可包括用於製程運行的配方資訊以及識別執行此製程運行的製造設備112的資料、執行此製程運行的製造設備112的腔室、經處理晶圓的晶圓識別、關於晶圓在製造設備中的位置的資訊、時間戳、由感測器114收集的所有感測器資料、由計量設備116生成的量測結果、及/或其他資料。例如,資料庫中可存在個別的行,以用於每個晶圓位置、每個參數、晶圓位置和參數的每種組合、每個製程變量等等。
計算裝置102可經由網路106或直接地連接至資料儲存器108。在一個具體實施例中,資料儲存器108是計算裝置102的組件。計算裝置102可包括處理裝置、記憶體、儲存裝置等等。在具體實施例中,計算裝置102可以對應於圖6的電腦系統600。計算裝置102包括製程開發顯像器104。
製程開發顯像器104以使用者易於查看和操縱的方式,並且以加速製程開發的方式,來佈置和呈現與製造製程的DOE相關聯的資料。製程開發顯像器104可檢索關於製程變量和製程參數的資料(例如晶圓上的結果),並且經由一或多個製程參數的顯像(例如覆蓋圖)來呈現此種資料。製程開發顯像器104可提供多個GUI控制元素,每個GUI控制元素與正在開發的製造製程的一或多個製程變量相關聯。使用者可以與GUI控制元素進行互動,以調整彼等GUI控制元素的設置。基於對GUI控制元素的設置的改變,製程開發顯像器104可生成資料庫查詢,資料庫查詢包括與GUI控制元素的新設置相關聯的製程變量值以及與其他GUI控制元素相關聯的製程變量值。然後,製程開發顯像器104可以將資料庫查詢發送到資料庫110,資料庫110可以處理此查詢、生成結果、並將結果發送回計算裝置102,以供製程開發顯像器104進行處理。製程開發顯像器104可響應於資料庫查詢而基於資料(例如參數值)生成製程參數的新顯像。
或者,製程開發顯像器可以在顯示任何顯像之前從資料庫110檢索正在開發的製程的一些或全部適用資料,並且可以基於該資料計算與關鍵製程變量的證明變量值的每種組合相關聯的顯像。關鍵製程變量可以是由使用者選擇作為關鍵變量的變量。例如,使用者可以選擇5、10或更多個製程變量進行優化。因此,可以在使用者開始調整GUI控制元素的設置之前計算製程變量值的各種組合的顯像,或者可以響應於使用者與GUI控制元素的互動而即時生成。
在具體實施例中,製程開發顯像器104生成並顯示視圖,視圖包括顯像和GUI控制元素,如圖2A至2B所示。在具體實施例中,製程開發顯像器104執行圖3至圖4的方法。
圖2A示出了根據本揭示內容的具體實施例的製程開發顯像器的第一視圖200A,第一視圖200A包括與晶圓上的製造製程相關聯的參數的第一示例顯像202A以及一組圖形使用者介面(GUI)控制元素214、218、220、224、228。第一示例顯像202A是晶片圖,晶片圖具有不同的陰影、填充及/或顏色,其分別與特定參數的不同值相關聯。特定參數可以是例如物理感測器的感測器讀數、虛擬感測器的感測器讀數或計量量測。
虛擬感測器可以基於真實感測器及/或真實計量量測。可以為虛擬感測器生成功能,其中虛擬感測器的值基於一或多個真實感測器及/或真實計量量測的值。例如,可以生成基於溫度和壓力的虛擬感測器。可以生成用於虛擬感測器的功能,諸如包括用於溫度和壓力的變量的參數功能。
可以在第一示例顯像202A中描繪的計量量測的實例,為塗層厚度、折射率、薄層電阻、電阻率、電導率、顆粒尺寸、粗糙度、晶圓上的應力、塗層組成、反射率、吸收率、觀察角、入射角、反射角、衍射角、密度、蝕刻速率和階梯覆蓋等等。如晶圓圖所示,特定參數的值在晶圓上的多個不同點處確定(例如在一些具體實施例中為49點至600點)。鍵204A可以顯示由不同顏色、陰影、填充等表示的參數量測值。
第一示例顯像202A係基於特定參數的值,該等值是從使用具有特定製程變量值的製程來處理的晶圓量測到的。該等製程變量值在GUI控制元素214、218、220、224、228中表示。該等GUI控制元素214-228中的每一個,與特定製程變量或製程變量的組合相關聯。可以與GUI控制元素相關聯的製程變量的實例,包括溫度、壓力、尺寸、流速、材料成分、時序、在用於處理晶圓的處理腔室中的各個位置處的設備部件等等。製程變量的其他實例,包括操作者、製程配方、演算法、相對於其他工具的順序(例如在先前製程中使用了什麼工具對晶圓進行處理)、供應商、晶圓基板、位置、工具、腔室、相對於其他變量的順序、相對於其他配方的順序(例如運行哪些其他配方來製造晶圓,及/或在用於執行晶圓上正在開發的製程的設備上運行哪些其他配方)等等。可以使任意數量的關注變量與GUI控制元素相關聯。
GUI控制元素214-228中的每一個,具有與在開發中的製造製程中使用的製程變量值相對應的設置,以在第一示例顯像202A中反映出晶圓上資料。可以調整GUI控制元素214-228中的任何一個,以改變GUI控制元素的設置,此設置對應於與此GUI控制元素相關聯的製程變量的值的改變。
GUI控制元素214-228可以是任何類型的GUI控制元素,包括輪、滑塊、刻度盤、條等等。例如,GUI控制元素214-228是滑塊。使用者可以使用觸控螢幕介面或滑鼠介面來點擊並拖動任何一個滑塊到目標位置。這可能導致確定並顯示不同的顯像。當經由與適當的GUI控制元素214-228的互動來改變關注變量時,可以改變示出不同晶圓圖的不同視窗或螢幕,每個晶圓圖都示出其自己的關注屬性。這將產生視覺影響,即經由關注變量的變化看到多個晶圓上特性或參數變化。
在示例視圖200A中,僅示出了單個顯像202A。然而,可以顯示多個不同的顯像,其中每個顯像顯示晶圓的不同參數或特性。例如,第一晶圓溫度圖可以顯示溫度,第二晶圓溫度圖可以顯示塗層厚度,第三晶圓溫度圖可以顯示塗層組成,第四晶圓溫度圖可以顯示塗層硬度。與製程變量關聯的GUI控制元素的調整,可能導致所有顯像發生變化。
在一些具體實施例中,視圖200A還包括關於感興趣的參數的一或多個計算的統計。例如,可以針對在顯像202A中所示的感興趣參數的量測值計算平均值(avg)、標準偏差(例如1-sigma或一個標準偏差值)、範圍(rng)、最小值、最大值等。
圖2B示出了根據本揭示內容的具體實施例的製程開發顯像器的第二視圖200B,第二視圖200B包括在調整一個GUI控制元素214之後圖2A的參數的第二示例顯像202B。如顯像202B中所示,GUI控制元素214的設置的調整已經導致關注參數的不同值。還可以調整其他GUI控制元素218-228,以引起對顯像202B中所示的參數的值的進一步改變。
第一示例性顯像202A和第二示例性顯像202B是不同的晶圓圖,其基於特定的一組製程變量值示出了晶圓上各個位置處的參數值。然而,應當理解,本文描述的具體實施例不限於晶圓圖顯像。除了晶圓圖之外或代替晶圓圖,還可以生成和示出其他一維、二維及/或三維顯像。例如,顯像可以包括線圖(例如示出跨晶圓的晶圓曲率)。
在一些具體實施例中,製程開發顯像器可提供GUI控制元素,可以選擇GUI控制元素以將參數的顯像分為用於此參數的兩個單獨的顯像。參數的每個顯像可以顯示不同的參數值,並且基於不同的製程變量值。這可以使使用者能夠並排比較基於不同製程變量值組合的參數的參數結果。
圖3是示出根據本揭示內容的具體實施例的用於顯像晶圓上的製造製程的實驗設計(DOE)結果的方法300的流程圖。方法300可以由處理邏輯來執行,處理邏輯包括硬體(例如電路系統、專用邏輯、可程式邏輯、微代碼等)、軟體(例如在處理裝置上運行以執行硬體模擬的指令)或其組合。在一個具體實施例中,處理邏輯包括圖1的製程開發顯像器104。
方法300可以藉由處理邏輯響應於使用者加載製程開發顯像器104來執行。製程開發顯像器可以包括GUI,使用者可以與GUI互動以執行與製程開發有關的一或多個操作。使用者可以基於製程ID選擇正在開發的製程以進行加載,製程ID可以識別製程及/或製程的版本。使用者可以另外選擇一或多個要顯示的製程參數,以及一或多個要與GUI控制元素相關聯的製程變量。對製程影響最大的製程變量可能隨著製程改變,而對裝置效能影響最大的製程參數(例如晶圓上結果)可能會隨著製程改變。製程開發顯像器104可以包括在顯像中顯示製程參數的預設推薦,及/或與正在開發的特定製程的GUI控制元素相關聯的製程變量的預設推薦。預設推薦可以基於正在開發的製程的分類或類別、基於其他已開發製程的先前使用者選擇、及/或基於其他資訊。
一旦選擇了製程變量並選擇了晶圓上參數,就可以從資料庫中檢索正在開發製程的資料。可以藉由生成資料庫查詢並將資料庫查詢發送到資料庫(例如發送到包括資料庫的計算裝置或資料儲存器)來檢索資料。在一個具體實施例中,資料庫查詢可包括一組特定的製程變量值。在另一具體實施例中,資料庫查詢可包括一或多個製程變量的製程變量值的範圍。在另一具體實施例中,資料庫查詢可指示一或多個製程變量的所有製程變量值。資料庫查詢可以額外包括一或多個為其請求值的參數的識別。資料庫然後可以生成響應,響應包括針對資料庫查詢中識別的每個參數的參數值(例如晶圓上參數)。響應可以包括針對一或多個參數中的每個參數的晶圓上的多個不同點或位置的參數值。例如,響應可以包括特定參數的49個不同的參數值,其中每個參數值都與晶圓上的特定位置相關聯。
在方塊305處,處理邏輯可以生成第一參數(例如查詢中識別的第一參數)的第一顯像。第一顯像可以顯示在螢幕及/或視窗上。替代地或額外地,可以在虛擬實境或擴增實境抬頭顯示器中顯示第一顯像。使用者可以根據需要定位視窗,其中每個視窗可以與不同的參數關聯。第一顯像可以包括基於製程變量值的特定集合的第一參數的參數值。因此,第一顯像表示與第一製程變量的第一值(以及一或多個其他製程變量的第一值)相關聯的第一參數的第一組值。
GUI控制元素可以與某些或所有製程變量關聯。每個GUI控制元素可以包括與在製程中使用的特定製程變量值相關聯的設置,來生成第一顯像中所示的參數值。
在一些具體實施例中,在不同視窗及/或不同螢幕上同時顯示多個不同參數的顯像。因此,在方塊310處,處理邏輯可以在方塊310處生成第二參數(例如在查詢中識別的第二參數)的第二顯像。第二顯像可以顯示在螢幕及/或視窗上。第二顯像可以包括基於與第一顯像中顯示的參數值相關聯的製程變量值的相同特定集合的第二參數的參數值。因此,第二顯像表示與第一製程變量的第一值(以及一或多個其他製程變量的第一值)相關聯的第二參數的第一組值。
如上所述,資料庫查詢可能是對與一組製程變量值相關聯的參數值的查詢。或者,查詢可以是針對與多個不同組製程變量值相關聯的參數值的查詢。若查詢包括對與多個不同組製程變量值相關聯的參數值的請求,則處理邏輯可以為與顯像相關聯的每個參數生成額外的顯像。每個針對參數生成的顯像可以與一組不同的製程變量值相關聯,並且可以包括不同組的參數值。然而,在一些具體實施例中,一次只能在視圖或視窗中示出參數的單個顯像。其他顯像可以是預先生成的,但是直到使用者選擇與彼等其他顯像相關聯的一組特定的製程變量值之後才可以顯示。可以經由與適當的製程變量關聯的GUI控制元素進行此種使用者選擇。
在方塊315處,處理邏輯提供與製造製程的製程變量相關聯的第一GUI控制元素。第一GUI控制元素具有與第一製程變量的第一值相關聯的第一設置。具有第一設置的第一GUI控制元素顯示在視圖或視窗中。處理邏輯可以另外提供並顯示一或多個其他GUI控制元素,其中每個GUI控制元素可以與一個不同的製程變量關聯。每個GUI控制元素都可以具有與特定製程變量值關聯的設置,此特定製程變量值用於引起第一顯像中所示的參數值。
在方塊320處,處理邏輯接收使用者輸入以將第一GUI控制元素從第一設置調整為第二設置。例如,使用者可以使用觸控螢幕或滑鼠來點擊及/或以其他方式選擇第一GUI控制元素並修改第一GUI控制元素。例如,使用者可以在滑塊上單擊並拖動以調整滑塊的位置。在另一個實例中,使用者可以點擊並旋轉刻度盤或輪以調整刻度盤或輪的旋轉角度。在另一個實例中,使用者可以單擊GUI控制元素的文字介面方塊,然後鍵入製程變量值。
在方塊325處,處理邏輯基於第二設置來確定第一製程變量的第二值。第一GUI控制元素的每個設置可以與不同的製程變量值相關聯。可以基於對於製程變量的多個不同製程變量值、製程變量值的比例或範圍、GUI控制元素的大小及/或GUI控制元素的許多不同設置,自動確定製程變量值與GUI控制元素的設置之間的關係。
在方塊330處,處理邏輯確定與製造製程的第一製程變量的第二值相關聯(以及與一或多個額外製程變量的第一值相關聯)的第一參數的第二組值。在方塊335處,處理邏輯亦可確定與製造製程的第一製程變量的第二值相關聯(以及與一或多個額外製程變量的第一值相關聯)的第二參數的第二組值 。可以藉由生成包括第一製程變量的第二值(和一或多個額外製程變量的第一值)的資料庫查詢,並將資料庫查詢發送到資料庫,來確定第一參數的第二組值及/或第二參數的第二組值。資料庫查詢可以額外識別第一參數和可選的第二參數。然後可以接收對查詢的響應,響應可以包括對於第一參數的第二組值以及可選地包括用於第二參數的第二組值。或者,對於第一參數的第二組值及/或對於第二參數的第二組值,可能已經由處理邏輯接收到(例如在方塊305的操作之前或期間)。
在某些情況下,可能沒有針對製程變量值的特定組合的測試資料。例如,DOE可能以3分鐘的處理時間、5分鐘的處理時間和8分鐘的處理時間生成了塗層厚度資料。但是,使用者可以將GUI控制元素調整為例如與4分鐘或10分鐘關聯的設置。在此類情況下,處理邏輯可以為沒有為其生成資料的新製程變量值內插或外推參數值。內插或外推可以例如藉由對現有資料執行線性回歸來執行。
在方塊340處,處理邏輯可以生成與製造製程相關聯的第一參數的第二顯像。第一參數的第二顯像表示與第一製程變量的第二值(以及與一或多個額外製程變量的第一值)相關聯的第一參數的第二組值。第一參數的第二顯像可以被顯示,並且可以代替第一參數的第一顯像的顯示。
在方塊340處,處理邏輯可以生成與製造製程相關聯的第二參數的第二顯像。第二參數的第二顯像表示與第一製程變量的第二值(以及與一或多個額外製程變量的第一值)相關聯的第二參數的第二組值。第二參數的第二顯像可以被顯示,並且可以代替第二參數的第一顯像的顯示。
在一個具體實施例中,處理邏輯確定第一參數的第二顯像及/或第二參數的第二顯像是否基於內插或外推資料。若確定顯像是基於內插或外推資料的,則可以輸出圖形指示符以向使用者指示所顯示的晶圓上資料不是量測資料,而是內插或外推資料。
在一些具體實施例中,第一及/或第二參數的第二顯像可能已經在方塊305的操作之前或期間預先生成。在此類具體實施例中,可以在方塊340和345處顯示第二顯像,而不必重新生成第二顯像。
在一些具體實施例中,處理邏輯可以呈現使使用者能夠導出與當前顯像或當前顯像的集合相關聯的資料的GUI控制元素。響應於使用者與此種GUI控制元素的互動,處理邏輯可以生成一或多個檔案。例如,處理邏輯可以為每個顯像生成單獨的檔案。生成的檔案可以是逗號分隔值(CSV)檔案、Excel(xml)檔案、文字檔案或其他類型的檔案。與一些具體實施例中的顯像的覆蓋相比,該等檔案的維度可能減小。然後,使用者可以出於自己的顯像目的在其他應用程式或軟體(例如Excel)中打開導出的檔案。
圖4是示出根據本揭示內容的具體實施例的用於顯像晶圓上的製造製程的實驗設計(DOE)結果的方法400的流程圖。方法400可以由處理邏輯來執行,處理邏輯包括硬體(例如電路系統、專用邏輯、可程式邏輯、微代碼等)、軟體(例如在處理裝置上運行以執行硬體模擬的指令)或其組合。在一個具體實施例中,處理邏輯包括圖1的製程開發顯像器104。
在方塊405處,處理邏輯生成與在晶圓上執行的製造製程相關的複數個參數的顯像。每個顯像顯示與此顯像關聯的特定參數的一組參數值。製造製程可以例如是蝕刻製程、沉積製程、光刻製程、清潔製程、植入製程等。
在方塊415處,處理邏輯生成並提供複數個GUI控制元素。每個GUI控制元素都與製造製程的不同處理變量相關聯。GUI控制元素和顯像可以藉由處理邏輯輸出到視窗及/或螢幕,並且可以在方塊418處在該等視窗及/或螢幕上顯示或示出。
在方塊420處,處理邏輯接收使用者輸入以調整一或多個GUI控制元素。在方塊425處,處理邏輯為每個GUI控制元素確定與此GUI控制元素相關聯的製程變量的值。
在方塊440處,處理邏輯生成查詢,查詢包括在方塊425確定的製造製程的每個製程變量的值。在方塊445處,處理邏輯將查詢發送到包括資料庫的計算裝置。在方塊450處,處理邏輯接收對查詢的響應。響應包括與顯像相關聯的複數個參數中的每個參數的值。在方塊455處,處理邏輯然後使用在方塊450處接收的參數值來生成複數個參數的新顯像。在方塊460處,處理邏輯顯示新的顯像,以替換參數的原始顯像。新的顯像可以作為原始顯像的覆蓋輸出。若使用者將GUI控制元素調整回先前的設置,則可以顯示原始顯像效果,替換新的顯像效果。相應地,使用者為一個顯像更改一個變量,並且這也可以為某些或所有其他顯像更改此變量,使他們進行調整以顯示與更改後的變量關聯的不同參數值。
圖5是示出根據本揭示內容的具體實施例的用於顯像晶圓上的製造製程的實驗設計(DOE)結果的方法500的流程圖。方法500可以由處理邏輯來執行,處理邏輯包括硬體(例如電路系統、專用邏輯、可程式邏輯、微代碼等)、軟體(例如在處理裝置上運行以執行硬體模擬的指令)或其組合。在一個具體實施例中,處理邏輯包括圖1的製程開發顯像器104。
在方塊505處,處理邏輯生成與在晶圓上執行的製造製程相關的複數個參數的顯像。每個顯像都基於製程變量值的特定組合顯示與此顯像相關聯的特定參數的一組參數值。可以為製程變量值的每種組合生成不同的參數顯像。因此,可以生成許多不同的顯像。製造製程可以例如是蝕刻製程、沉積製程、光刻製程、清潔製程、植入製程等。
在方塊515處,處理邏輯生成並提供複數個GUI控制元素。每個GUI控制元素都與製造製程的不同處理變量相關聯。
在方塊518處,確定用於GUI控制元素的當前設置,並且確定與彼等當前設置相關聯的值。然後,處理邏輯確定與確定的製程變量值關聯的參數的顯像。然後,可以藉由處理邏輯將所確定的顯像和具有所確定的設置的GUI控制元素輸出到視窗及/或螢幕,並且可以在該等視窗及/或螢幕上顯示或示出。
在方塊520處,處理邏輯接收使用者輸入以調整一或多個GUI控制元素。在方塊525處,處理邏輯為每個GUI控制元素確定與此GUI控制元素相關聯的製程變量的值。
在方塊530處,處理邏輯為每個參數確定第二顯像,其中第二顯像與製程變量的新值相關聯。第二顯像具有基於在方塊525處確定的新製程變量值的新參數值。在方塊535處,處理邏輯顯示第二顯像,將第二顯像覆蓋在第一顯像之上。
第6圖為機器(為電腦系統600範例形式)的示意呈現圖,其中可執行指令組以使機器執行本文所討論的方法之任一者或多者。在替代性具體實施例中,機器可連接(例如網路連接)到本地區域網路(LAN)、內部網路、外部網路、或網際網路中的其他機器。機器可操作在用戶端對伺服器網路環境中的伺服器或用戶端機器的容積中,或可作為同級間(或分散式)網路環境中的同級機器。機器可為個人電腦(PC)、平板電腦、機上盒(STB)、個人數位助理(PDA)、蜂巢式電話、網頁器件、伺服器、網路路由器、交換器或橋接器、或能夠執行指定此機器要(循序地或以其他方式)採取的動作的一組指令的任何機器。此外,雖然示出了單個機器,但是用詞「機器」還應當被視為包括單獨地或聯合地執行一組(或多組)指令以執行本文描述的任何一或多種方法的任何機器的集合。
示例電腦系統600包括經由匯流排630彼此通信的處理裝置(處理器)602、主記憶體604(例如唯讀記憶體(ROM)、快閃記憶體、動態隨機存取記憶體(DRAM),諸如同步DRAM(SDRAM)、雙倍資料速率(DDR SDRAM)、或DRAM(RDRAM)等)、靜態記憶體606(例如快閃記憶體、靜態隨機存取記憶體(SRAM)等)以及資料儲存裝置618。
處理器602表示一或多個通用處理裝置,諸如微處理器、中央處理單元等。更特定而言,處理器602可以是複雜指令集計算(CISC)微處理器、精簡指令集計算(RISC)微處理器、超長指令字(VLIW)微處理器、實施其他指令集的處理器、或實施指令集的組合的處理器。處理器602還可以是一或多個特別目的處理裝置,諸如特定應用積體電路(ASIC)、現場可程式閘陣列(FPGA)、數位信號系統處理器(DSP)、網路系統處理器等。處理器602被配置為執行指令622以執行本文描述的操作與方法。
電腦系統600還可以包括網路介面裝置608。電腦系統600還可以包括視訊顯示單元610(例如液晶顯示器(LCD)或陰極射線管(CRT))、字母數字輸入設備612(例如鍵盤)、游標控制裝置614(例如滑鼠)和信號產生裝置616(例如揚聲器)。
資料儲存裝置618可以包括電腦可讀取儲存媒體628,其上儲存有體現本文所述任何一或多種方法或功能(包含製程開發顯像104)的一或多組指令622(例如軟體)。指令622還可以在由電腦系統600執行期間完全或至少部分地駐留在主記憶體604內及/或處理器602內,主記憶體604和處理器602也構成電腦可讀取儲存媒體。
雖然電腦可讀取媒體628(機器可讀取儲存媒體)被在示例性具體實施例中示為單一媒體,但用詞「機器可讀取儲存媒體」應被視為包含儲存一或更多指令組的單一媒體或多個媒體(例如集中式或分散式資料庫,及/或相關聯的快取與伺服器)。用詞「電腦可讀取儲存媒體」亦應被視為包含能夠儲存、編碼或承載指令組的任何媒體,此指令組要由機器執行並使機器執行本揭示內容的方法之任一者或更多者。因此,用詞「電腦可讀取儲存媒體」應被視為包括但不限於固態記憶體、以及光學和磁性媒體。
在上文描述中闡述了許多細節。然而,對於受益於本揭示內容的本領域的普通技術人員顯而易見的是,可以在沒有該等具體細節的情況下實踐本揭示內容。在一些實例中,以方塊圖的形式(而不是詳細地)示出了習知的結構和裝置,以避免使本揭示內容不清楚。
實施方式的一些部分已根據對電腦記憶體內的資料位元的作業的演算法和符號表示來呈現。該等演算法描述和表示是資料處理領域的技術人員用來最有效地將其工作的實質傳達給本領域其他技術人員的手段。演算法在此(且一般而言)被認為是產生期望結果的的自我一致(self-consistent)的步驟序列。步驟需要實體操縱實體量值。通常而言(但非必然),該等量值的形式為電性或磁性訊號,該等訊號可被儲存、傳輸、結合、比較、及以其他方式操縱。有時,出於普遍使用的原因,將該等訊號稱為位元、值、要素、符號、字符、術語、數字等等。
但是應該記住,所有該等和類似的術語都應該與適當的物理量相關聯,並且僅僅是適用於該等量的便利標籤。除非另有明確說明,否則從以下討論中將可顯然理解到,在說明書全文中,利用諸如「接收」、「確定」、「計算」、「提供」、「傳送」、「儲存」、「產生」、「修改」等等的術語,係指向電腦系統或類似的電子計算裝置的作業和程序,其將在電腦系統的暫存器和儲存器內的表示為物理(電子)量的資料,操縱和變換成類似地表示為電腦系統儲存器內的物理量的其他資料或暫存器或其他此類資訊儲存、傳輸或顯示設備。
本揭示內容還涉及用於執行本文中的操作的設備。此設備可以被建構用於預期目的,或者可以包括由儲存在電腦中的電腦程式選擇性地啟動或重新配置的通用電腦。此種電腦程式可以儲存在電腦可讀取儲存媒體中,諸如但不限於任何類型的碟片,包括軟碟、光碟、CD-ROM和磁光碟、唯讀記憶體(ROM)、隨機存取記憶體(RAM)、EPROM、EEPROM、磁卡或光卡、或適合儲存電子指令的任何類型的媒體。
應瞭解到,前述說明意為說明性的而並非限制性的。在閱讀與瞭解前述說明之後,在本發明技術領域中具有通常知識者將顯然明瞭許多其他的具體實施例。因此,揭示內容的範圍應參照附加申請專利範圍來判定,並涵蓋該等申請專利範圍的完整均等範圍。
100:系統 102:計算裝置 104:製程開發顯像器 106:網路 108:資料儲存器 110:資料庫 112:製造設備 114:感測器 116:計量設備 200A:第一視圖 202A:第一示例顯像 204A:鍵 214:圖形使用者介面(GUI)控制元素 218:GUI控制元素 220:GUI控制元素 224:GUI控制元素 228:GUI控制元素 200B:第二視圖 202B:顯像 210A:統計 300:方法 305-345:步驟 400:方法 405-460:步驟 500:方法 505-535:步驟 600:電腦系統 602:系統處理器 604:主記憶體 606:靜態記憶體 608:網路介面裝置 610:視訊顯示單元 612:字母數字輸入設備 614:游標控制裝置 616:信號產生裝置 618:資料儲存裝置 622:軟體 628:電腦可讀取儲存媒體 630:匯流排
根據下文給出的詳細描述和從本揭示內容的各種具體實施例的附圖,將更充分地理解本揭示內容的各種具體實施例。
圖1示出了根據本揭示內容的具體實施例的包括製程開發顯像器的系統的示例架構。
圖2A示出了根據本揭示內容的具體實施例的製程開發顯像器的第一視圖,第一視圖包括與晶圓上的製造製程相關聯的參數的第一示例顯像以及一組圖形使用者介面(GUI)控制元素。
圖2B示出了根據本揭示內容的具體實施例的製程開發顯像器的第二視圖,第二視圖包括在調整一個GUI控制元素之後圖2A的參數的第二示例顯像。
圖3是示出根據本揭示內容的具體實施例的用於顯像晶圓上的製造製程的實驗設計(DOE)結果的方法的流程圖。
圖4是示出根據本揭示內容的具體實施例的用於顯像晶圓上的製造製程的實驗設計(DOE)結果的另一方法的流程圖。
圖5是示出根據本揭示內容的具體實施例的用於顯像晶圓上的製造製程的實驗設計(DOE)結果的另一方法的流程圖。
圖6是可以執行本文所述的一或多個操作的示例電腦系統的方塊圖。
國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記) 無 國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無
200A:第一視圖
202A:第一示例顯像
204A:鍵
210A:統計
214:圖形使用者介面(GUI)控制元素
218:GUI控制元素
220:GUI控制元素
224:GUI控制元素
228:GUI控制元素

Claims (20)

  1. 一種用於製程開發的方法,包含以下步驟:產生與在一晶圓上執行的一製造製程相關聯的一第一參數的一第一顯像,其中該第一參數的值取決於該製造製程的複數個製程變量,並且其中該第一顯像表示該第一參數的一第一組值,該第一組值與該製造製程的一第一製程變量的一第一值相關聯;產生與一製造製程相關聯的一第二參數的一第一顯像,其中該第二參數的值取決於該製造製程的該複數個製程變量,並且其中該第二參數的該第一顯像表示該第二參數的一第一組值,該第二參數的該第一組值與該製造製程的該第一製程變量的該第一值相關聯;在一第一視窗中輸出該第一參數的該第一顯像;同時在一第二視窗中輸出該第二參數的該第一顯像;提供與該製造製程的該第一製程變量相關聯的一第一圖形使用者介面控制元素,其中該第一圖形使用者介面控制元素具有與該第一製程變量的該第一值相關聯的一第一設置;接收一使用者輸入以將該第一圖形使用者介面控制元素從該第一設置調整為一第二設置;基於該第一圖形使用者介面控制元素的該第二設置,為該第一製程變量確定一第二值;確定與該製造製程的該第一製程變量的該第二值相關聯的該第一參數的一第二組值; 確定與該製造製程的該第一製程變量的該第二值相關聯的該第二參數的一第二組值;產生與該製造製程相關聯的該第一參數的一第二顯像,其中該第二顯像表示該第一參數的該第二組值,該第一參數的該第二組值與該第一製程變量的該第二值相關聯;產生與該製造製程相關聯的該第二參數的一第二顯像,其中該第二顯像表示該第二參數的該第二組值,該第二組值與該第一製程變量的該第二值相關聯;在該第一視窗中輸出該第一參數的該第二顯像;和同時在該第二視窗中輸出該第二參數的該第二顯像。
  2. 如請求項1所述之方法,該方法進一步包含以下步驟:經由與一第二圖形使用者介面控制元素的使用者互動來接收一導出命令;生成一第一檔案,該第一檔案包括:(a)該第一參數的該第二組值;與(b)與該第一參數的該第二組值相關聯的該複數個製程變量的製程變量值,該等製程變量值包括該第一製程變量的該第二值;和生成一第二檔案,該第二檔案包括:(a)該第二參數的該第二組值;與(b)與該第二參數的該第二組值相關聯的該複數個製程變量的該等製程變量值。
  3. 如請求項1所述之方法,其中該第一圖形使用者介面控制元素包含一滑塊,並且其中該滑塊的每個 位置與該第一製程變量的一不同值相關聯。
  4. 如請求項1所述之方法,其中確定與該製造製程的該第一製程變量的該第二值相關聯的該第一參數的該第二組值之步驟包含以下步驟:生成包括該第一製程變量的該第二值的一查詢;發送該查詢到一遠端計算裝置;和接收對該查詢的一響應,該響應包括該第一參數的該第二組值。
  5. 如請求項1所述之方法,其中在該第一參數的該第一顯像中表示的該第一參數的該第一組值進一步與該製造製程的一第二製程變量的一第一值相關聯,該方法進一步包含以下步驟:提供與該製造製程的該第二製程變量相關聯的一第二圖形使用者介面控制元素,其中該第二圖形使用者介面控制元素具有與該第二製程變量的該第一值相關聯的一第一設置;接收一使用者輸入以將該第二圖形使用者介面控制元素從該第二圖形使用者介面控制元素的該第一設置調整為該第二圖形使用者介面控制元素的一第二設置;基於該第二圖形使用者介面控制元素的該第二設置,為該第二製程變量確定一第二值;確定與該製造製程的該第一製程變量的該第二值以及該製造製程的該第二製程變量的該第二值相關聯的該第一參數的一第三組值;和 產生與該製造製程相關聯的該第一參數的一第三顯像,其中該第一參數的該第三顯像表示該第一參數的該第三組值,該第三組值與該第一製程變量的該第二值以及該第二製程變量的該第二值相關聯。
  6. 如請求項1所述之方法,其中該第一參數包括選自由以下各計量量測項目組成之群組:塗層厚度、折射率、薄層電阻、電阻率、電導率、顆粒尺寸、粗糙度、晶圓上的應力、塗層組成、反射率、吸收率、觀察角、入射角、反射角、衍射角、密度、蝕刻速率和階梯覆蓋。
  7. 如請求項1所述之方法,其中該第一製程變量選自由以下各項組成之群組:溫度、腔室壓力、一或多種氣體的氣體流速、一或多個裝置尺寸、製程時序、以及腔室內的位置。
  8. 如請求項1所述之方法,其中該第一參數的該第一顯像包括該晶圓的一第一晶圓圖,並且該第一參數的該第二顯像包括該晶圓的一第二晶圓圖。
  9. 如請求項1所述之方法,其中確定與該製造製程的該第一製程變量的該第二值相關聯的該第一參數的該第二組值之步驟包含以下步驟:確定沒有對該製造製程的該第一製程變量的該第二值產生實際資料;和基於與該第一製程變量的附加值相關聯的該第一參數的附加值來內插該第二組值,其中該第一參數的該第二 顯像包括一指示符以指示該第一參數的該第二顯像不是使用實際資料生成的。
  10. 如請求項1所述之方法,其中該第一參數包括一虛擬感測器的一感測器讀數。
  11. 如請求項1所述之方法,該方法進一步包含:在一擴增實境(AR)顯示器中顯示該第一視窗與該第二視窗。
  12. 如請求項1所述之方法,該方法進一步包含:產生對於一虛擬感測器的一函數,其中該虛擬感測器的值係基於一或多個實體感測器的值,且其中該第一製程變量相關聯於該虛擬感測器的該等值。
  13. 一種用於製程開發的系統,包含:一資料儲存器,用於儲存在一晶圓上執行的一製造製程的製程開發資料;和一計算裝置,包含:一記憶體,該記憶體包括用於一製程開發顯像工具的指令;和一可操作地連接到該記憶體的一製程裝置,其中該製程開發顯像工具的該等指令的執行使該製程裝置:產生與該製造製程相關聯的一第一參數的一第一顯像,其中該第一參數的值取決於該製造製程的複數個製程變量,並且其中該第一參數的該第一顯像表示該第一參數 的一第一組值,該第一組值與該製造製程的一第一製程變量的一第一值相關聯;產生與該製造製程相關聯的一第二參數的一第一顯像,其中該第二參數的值取決於該製造製程的該複數個製程變量,並且其中該第二參數的該第一顯像表示該第二參數的一第一組值,該第二參數的該第一組值與該製造製程的該第一製程變量的該第一值相關聯;在一第一視窗中輸出該第一參數的該第一顯像;同時在一第二視窗中輸出該第二參數的該第一顯像;提供與該製造製程的該第一製程變量相關聯的一第一圖形使用者介面控制元素,其中該第一圖形使用者介面控制元素具有與該第一製程變量的該第一值相關聯的一第一設置;接收一使用者輸入以將該第一圖形使用者介面控制元素從該第一設置調整為一第二設置;基於該第一圖形使用者介面控制元素的該第二設置,為該第一製程變量確定一第二值;確定與該製造製程的該第一製程變量的該第二值相關聯的該第一參數的一第二組值;確定與該製造製程的該第一製程變量的該第二值相關聯的該第二參數的一第二組值;產生與該製造製程相關聯的該第一參數的一第二顯像,其中該第一參數的該第二顯像表示該第一參數的該第二組值,該第二組值與該第一製程變量的該第二值相關 聯;產生與該製造製程相關聯的該第二參數的一第二顯像,其中該第二顯像表示該第二參數的該第二組值,該第二組值與該第一製程變量的該第二值相關聯;在該第一視窗中輸出該第一參數的該第二顯像;和同時在該第二視窗中輸出該第二參數的該第二顯像。
  14. 如請求項13所述之系統,其中在該第一參數的該第一顯像中表示的該第一參數的該第一組值還與該製造製程的一第二製程變量的一第一值相關聯,且其中該製程裝置進一步以:提供與該製造製程的該第二製程變量相關聯的一第二圖形使用者介面控制元素,其中該第二圖形使用者介面控制元素具有與該第二製程變量的該第一值相關聯的一第一設置;接收一使用者輸入以將該第二圖形使用者介面控制元素從該第二圖形使用者介面控制元素的該第一設置調整為該第二圖形使用者介面控制元素的一第二設置;基於該第二圖形使用者介面控制元素的該第二設置,為該第二製程變量確定一第二值;確定與該製造製程的該第一製程變量的該第二值以及該製造製程的該第二製程變量的該第二值相關聯的該第一參數的一第三組值;和產生與該製造製程相關聯的該第一參數的一第三顯像,其中該第一參數的該第三顯像表示該第一參數的該第三 組值,該第三組值與該第一製程變量的該第二值以及該第二製程變量的該第二值相關聯。
  15. 如請求項13所述之系統,其中該第一參數的該第一顯像包括該晶圓的一第一晶圓圖,其中該第一參數的該第二顯像包括該晶圓的一第二晶圓圖,其中該第一圖形使用者介面控制元素包含一滑塊,並且其中該滑塊的每個位置與該第一製程變量的一不同值相關聯。
  16. 如請求項13所述之系統,其中確定與該製造製程的該第一製程變量的該第二值相關聯的該第一參數的該第二組值之步驟包含以下步驟:確定沒有對該製造製程的該第一製程變量的該第二值產生實際資料;和基於與該第一製程變量的附加值相關聯的該第一參數的附加值來內插該第二組值,其中該第一參數的該第二顯像包括一指示符以指示該第二顯像不是使用實際資料生成的。
  17. 如請求項13所述之系統,其中為確定與該製造製程的該第一製程變量的該第二值相關聯的該第一參數的該第二組值,該計算裝置進一步:生成包括該第一製程變量的該第二值的一查詢;發送該查詢到該資料儲存器;和接收對該查詢的一響應,該響應包含該第一參數的該第二組值。
  18. 一種非暫態性機器可讀取媒體,其上包含指 令,該等指令在由一製程裝置執行時使該製程裝置執行作業,包含:產生與在一晶圓上執行的一製造製程相關聯的一第一參數的一第一顯像,其中該第一參數的值取決於該製造製程的複數個製程變量,並且其中該第一顯像表示該第一參數的一第一組值,該第一組值與該製造製程的一第一製程變量的一第一值相關聯;產生與在一晶圓上執行的該製造製程相關聯的一第二參數的一第一顯像,其中該第二參數的值取決於該製造製程的該複數個製程變量,並且其中該第二參數的該第一顯像表示該第二參數的一第一組值,該第二參數的該第一組值與該製造製程的該第一製程變量的該第一值相關聯;在一第一視窗中輸出該第一參數的該第一顯像;同時在一第二視窗中輸出該第二參數的該第一顯像;提供與該製造製程的該第一製程變量相關聯的一第一圖形使用者介面控制元素,其中該第一圖形使用者介面控制元素具有與該第一製程變量的該第一值相關聯的一第一設置;接收一使用者輸入以將該第一圖形使用者介面控制元素從該第一設置調整為一第二設置;基於該第一圖形使用者介面控制元素的該第二設置,為該第一製程變量確定一第二值;確定與該製造製程的該第一製程變量的該第二值相關 聯的該第一參數的一第二組值;確定與該製造製程的該第一製程變量的該第二值相關聯的該第二參數的一第二組值;和產生與該製造製程相關聯的該第一參數的一第二顯像,其中該第二顯像表示該第一參數的該第二組值,該第一參數的該第二組值與該第一製程變量的該第二值相關聯;產生與該製造製程相關聯的該第二參數的一第二顯像,其中該第二顯像表示該第二參數的該第二組值,該第二組值與該第一製程變量的該第二值相關聯;在該第一視窗中輸出該第一參數的該第二顯像;和同時在該第二視窗中輸出該第二參數的該第二顯像。
  19. 如請求項18所述之非暫態性機器可讀取儲存媒體,其中在該第一參數的該第一顯像中表示的該第一參數的該第一組值進一步與該製造製程的一第二製程變量的一第一值相關聯,該等操作進一步包含以下步驟:提供與該製造製程的該第二製程變量相關聯的一第二圖形使用者介面控制元素,其中該第二圖形使用者介面控制元素具有與該第二製程變量的該第一值相關聯的一第一設置;接收一使用者輸入以將該第二圖形使用者介面控制元素從該第二圖形使用者介面控制元素的該第一設置調整為該第二圖形使用者介面控制元素的一第二設置; 基於該第二圖形使用者介面控制元素的該第二設置,為該第二製程變量確定一第二值;確定與該製造製程的該第一製程變量的該第二值以及該製造製程的該第二製程變量的該第二值相關聯的該第一參數的一第三組值;和產生與該製造製程相關聯的該第一參數的一第三顯像,其中該第一參數的該第三顯像表示該第一參數的該第三組值,該第三組值與該第一製程變量的該第二值以及該第二製程變量的該第二值相關聯。
  20. 如請求項18所述之非暫態性機器可讀取儲存媒體,其中確定與該製造製程的該第一製程變量的該第二值相關聯的該第一參數的該第二組值之步驟包含以下步驟:確定沒有對該製造製程的該第一製程變量的該第二值產生實際資料;和基於與該第一製程變量的附加值相關聯的該第一參數的附加值來內插該第二組值,其中該第一參數的該第二顯像包括一指示符以指示該第一參數的該第二顯像不是使用實際資料生成的。
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