KR20200035870A - Photosensitive resin composition, method for forming patterned cured film, and cured film - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a photosensitive resin composition excellent in patterning properties, a production method of a cured film, and a cured product. The photosensitive resin composition comprises an alkali-soluble resin (A), a cross-linking agent (B), and a photopolymerization initiator (C). In addition, the photosensitive resin composition comprises a mono-functional (meth)acrylic monomer (B1) having a biphenyl skeleton which may have a substituent or a terphenyl skeleton which may have the substituent as the cross-linking agent (B).

Description

감광성 수지 조성물, 패터닝된 경화막의 제조 방법 및 경화막{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERNED CURED FILM, AND CURED FILM}Photosensitive resin composition, manufacturing method of patterned cured film and cured film {PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERNED CURED FILM, AND CURED FILM}

본 발명은 감광성 수지 조성물, 패터닝된 경화막의 제조 방법 및 경화막에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive resin composition, a method for producing a patterned cured film, and a cured film.

소정의 형상으로 패터닝된 경화막을 포토리소그래픽법에 의해 용이하게 형성할 수 있기 때문에, 알칼리 가용성 수지를 함유하는 감광성 수지 조성물은 예를 들면, 액정 표시 디스플레이 등의 표시장치, 반도체 디바이스, 그 외의 분야에서 널리 이용되고 있다.Since a cured film patterned in a predetermined shape can be easily formed by a photolithographic method, a photosensitive resin composition containing an alkali-soluble resin is, for example, a display device such as a liquid crystal display, a semiconductor device, or other fields. Widely used in.

감광성 조성물에서는, 그 성분의 일부로서 포함되는 광중합 개시제가 노광에 의해서 라디칼을 발생시킨다. 이 라디칼이 감광성 조성물에 포함되는 중합성의 화합물을 중합시킴으로써, 감광성 조성물이 경화된다. 또, 감광성 수지 조성물에서는 이와 같은 광중합 개시제에 의해 발생한 라디칼로 중합성의 화합물을 중합시키는 한편, 감광성 수지 조성물의 기판에 대한 밀착성, 및 감광성 수지 조성물의 경화 후의 강도를 높일 목적에서 가교제 성분이 배합되고 있다. 이 가교제 성분으로는, 종래 상기한 것 같은 목적에서 에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머 중에서도 다관능, 특히 디펜타에리트리톨 펜타 및 헥사아크릴레이트라고 하는 5 관능 이상의 (메타)아크릴레이트 모노머가 이용되고 있었다.In the photosensitive composition, a photopolymerization initiator contained as part of the component generates radicals by exposure. The photosensitive composition is cured by polymerizing the polymerizable compound contained in this radical photosensitive composition. Further, in the photosensitive resin composition, a polymerizable compound is polymerized with radicals generated by such a photopolymerization initiator, while a crosslinking agent component is blended for the purpose of increasing the adhesion of the photosensitive resin composition to the substrate and the strength after curing of the photosensitive resin composition. . As the crosslinking agent component, among the monomers having an ethylenically unsaturated group for the purpose described above, polyfunctional, in particular, dipentaerythritol penta and pentaacrylates or more (meth) acrylate monomers, such as hexaacrylate, have been used.

최근 생산성 향상의 관점으로부터, 저노광량으로 패턴을 형성할 수 있는 고감도의 감광성 수지 조성물이 요망되고 있다. 한편, 복잡한 형상으로 패터닝된 경화막을 형성하는 경우, 노광의 대상인 감광성 수지 조성물로 이루어진 막에 있어서, 감광성 수지 조성물의 경화를 위한 트리거(trigger)되는 노광 광이 투과하지 않는 영역이 증가하는 경우가 있다. 이 경우, 상기한 것 같은 조성의 감광성 수지 조성물에서는, 노광 후에 충분히 경화되고 있지 않은 부분이 생기는 결함이 생기기 쉽다. 또, 수십 ㎛ 이상이라고 하는 비교적 두꺼운 막의 경화막을 얻으려고 하는 태양에 대한 감광성 수지 조성물의 응용도 널리 검토되고 있다. 그러나, 이러한 두꺼운 막의 경화막을 형성하는 경우에 있어서도, 감광성 수지 조성물로 이루어진 막에서의 광원보다도 원위(遠位)측, 즉 일반적으로는 기재와 감광성 수지층과의 접촉면 부근에 노광 광이 충분히 도달하지 않아, 경화막 중에 경화가 불충분한 부분이 생기는 결함이 생기기 쉽다. 또한, 감광성 수지 조성물이 착색제를 함유하는 태양에 있어서는, 착색제에 의한 노광 광의 흡수에 의해서, 경화막 중에 경화가 불충분한 부분이 형성되는 문제가 현저하다.Recently, from the viewpoint of improving productivity, a highly sensitive photosensitive resin composition capable of forming a pattern with a low exposure amount is desired. On the other hand, in the case of forming a cured film patterned in a complicated shape, in a film made of a photosensitive resin composition that is an object of exposure, there is a case where an area that does not transmit exposure light triggered for curing the photosensitive resin composition increases. . In this case, in the photosensitive resin composition having the composition as described above, it is easy to cause defects in which a portion that is not sufficiently cured after exposure occurs. In addition, the application of photosensitive resin compositions to the sun to obtain a cured film of a relatively thick film having a thickness of several tens of µm or more has been widely studied. However, even in the case of forming a cured film of such a thick film, the exposure light does not sufficiently reach the distal side, that is, generally near the contact surface of the substrate and the photosensitive resin layer, than the light source in the film made of the photosensitive resin composition. No, it is easy to cause defects in which a portion with insufficient curing occurs in the cured film. In addition, in the aspect in which the photosensitive resin composition contains a colorant, the problem of insufficient curing is formed in the cured film by absorption of exposure light by the colorant is remarkable.

특허문헌 1에 있어서는, 감광성 수지 조성물에서의 활성화 에너지가 직접 닿지 않는 영역을, 저노광량으로도 양호하게 경화시키는 것을 목적으로 하여, 특정 조성의 감광성 수지 조성물이 제안되고 있다. 특허문헌 1에서는, 구체적으로는 방향족기를 가지는 단관능성 (메타)아크릴계 모노머(A)와, (A) 성분 이외의 분자 내에 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 평균적으로 적어도 1개 가지는 화합물(B)과, (C) 광중합 개시제를 함유하는 경화성 조성물이 제안되고 있다. (A) 성분으로는, 구체적으로는 에톡시화 o-페닐페닐아크릴레이트 등이 사용되고, (B) 성분으로는, 구체적으로는 아크릴산에스테르계 폴리머 등이 사용되고 있다.In Patent Document 1, a photosensitive resin composition having a specific composition has been proposed for the purpose of satisfactorily curing a region in which the activation energy in the photosensitive resin composition does not directly contact with a low exposure amount. In Patent Document 1, specifically, a monofunctional (meth) acrylic monomer having an aromatic group (A) and a compound (B) having at least one polymerizable carbon-carbon double bond on a molecule other than the component (A) on average , (C) A curable composition containing a photopolymerization initiator has been proposed. As the component (A), specifically, ethoxylated o-phenylphenylacrylate or the like is used, and as the component (B), an acrylic acid ester polymer or the like is specifically used.

일본 특개 2014-51618Japan Special 2014-51618

그러나, 특허문헌 1에 기재된 바와 같은 경화성 조성물에서도, 경화막 중에 경화가 불충분한 부분이 형성되는 문제를 해소한다는 요구에 충분히 응할 수 없는 경우가 있다. 또, 경화가 불충분한 부분의 형성을 억제할 수 있었다고 해도, 이 경우에는, 형성되는 라인 패턴의 직사각형성(테이퍼성)은 어느 정도 개선되는 한편, 라인 패턴의 직진성(재현성)이나 해상도에 대해서는, 추가적인 개량이 요망된다. 이 때문에, 더욱 감도가 뛰어난 감광성 수지 조성물이 요구되고 있다.However, even in the curable composition as described in Patent Literature 1, there may be cases in which it is not possible to sufficiently satisfy the demand that the problem of insufficient curing is formed in the cured film. Moreover, even if it was possible to suppress the formation of an insufficient part of curing, in this case, the rectangularity (taperability) of the formed line pattern was improved to some extent, while the linearity (reproducibility) and resolution of the line pattern were: Further improvement is desired. For this reason, a photosensitive resin composition which is more excellent in sensitivity is required.

본 발명은 상기 종래 기술의 과제를 감안하여 이루어진 것으로서, 감도가 높고, 선폭 안정성, 해상성 및 직사각형성이 양호하다는 패터닝 특성이 뛰어난 감광성 수지 조성물, 이것을 이용한 패터닝된 경화막의 제조 방법 및 경화막의 제공을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the problems of the prior art, and provides a photosensitive resin composition having high sensitivity, excellent patterning characteristics such as good line width stability, resolution and rectangularity, a method for manufacturing a patterned cured film using the same, and provision of a cured film The purpose.

본 발명자들은 감광성 수지 조성물이 특정 구조의 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물을 혼합해 포함함으로써, 감광성 수지 조성물의 감도가 높고, 예를 들면, 경화막을 두꺼운 막으로 형성하려고 한다든가, 복잡한 형상의 경화막을 형성하는 활성 에너지선이 직접 닿기 어려운 개소에서도 양호한 경화가 진행되어, 패턴의 직사각형성(테이퍼성)이 양호하고, 또한 고해상도로 패턴의 직진성(재현성)도 양호하며, 패터닝 특성을 향상시킬 수 있다는 것을 알아내어 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명은 이하와 같다.The present inventors have a photosensitive resin composition containing a mixture of monofunctional (meth) acrylate compounds having a specific structure, so that the sensitivity of the photosensitive resin composition is high. Good curing proceeds even at a place where the active energy rays forming the film are difficult to directly contact, the pattern has good rectangularity (taperability), and the pattern has good linearity (reproducibility) at high resolution and can improve patterning properties. It has been found that the present invention has been completed. That is, the present invention is as follows.

본 발명의 제1의 태양은,The first aspect of the present invention,

알칼리 가용성 수지(A)와 가교제(B)와 광중합 개시제(C)를 포함하는 감광성 수지 조성물로서,A photosensitive resin composition comprising an alkali-soluble resin (A), a crosslinking agent (B), and a photopolymerization initiator (C),

상기 가교제(B)로서 치환기를 가지고 있어도 되는 비페닐 골격, 또는 치환기를 가져도 되는 터페닐 골격을 가지는 단관능 (메타)아크릴레이트 모노머(B1)를 포함하는 감광성 수지 조성물이다.It is a photosensitive resin composition containing the monofunctional (meth) acrylate monomer (B1) which has the biphenyl skeleton which may have a substituent as the crosslinking agent (B), or the terphenyl skeleton which may have a substituent.

본 발명의 제2의 태양은, 제1의 태양에 관한 감광성 수지 조성물을 기재 상에 도포해 감광성 수지층을 형성하는 것과, 상기 감광성 수지층을 위치 선택적으로 노광하는 것과, 노광된 상기 감광성 수지층을 현상액에 의해 현상하는 것을 포함하는 패터닝된 경화막의 제조 방법이다.In the second aspect of the present invention, the photosensitive resin composition according to the first aspect is coated on a substrate to form a photosensitive resin layer, the photosensitive resin layer is selectively exposed selectively, and the exposed photosensitive resin layer is exposed. It is a method of manufacturing a patterned cured film comprising developing with a developer.

본 발명의 제3의 태양은, 제1의 태양에 관한 감광성 수지 조성물을 경화하여 이루어지는 경화막이다.The third aspect of the present invention is a cured film obtained by curing the photosensitive resin composition according to the first aspect.

본 발명에 의하면, 감도가 높고, 선폭 안정성, 해상성 및 직사각형성이 양호하다는 패터닝 특성이 뛰어난 감광성 수지 조성물, 이것을 이용한 패터닝된 경화막의 제조 방법 및 경화막을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is possible to provide the photosensitive resin composition excellent in patterning characteristics with high sensitivity, good line width stability, resolution, and rectangular property, the manufacturing method of the patterned cured film using this, and the cured film.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태로 어떠한 형태로든 한정되지 않고, 본 발명의 목적의 범위 내에서 적절한 변경을 가해 실시할 수 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to any of the following embodiments, and can be carried out by appropriate changes within the scope of the object of the present invention.

≪감광성 수지 조성물≫≪Photosensitive resin composition≫

감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지(A)와 가교제(B)와 광중합 개시제(C)를 포함한다. 감광성 수지 조성물은 상기 가교제(B)로서, 치환기를 가지고 있어도 되는 비페닐 골격, 또는 치환기를 가져도 되는 터페닐 골격을 가지는 단관능 (메타)아크릴레이트 모노머(B1)를 포함한다.The photosensitive resin composition contains an alkali-soluble resin (A), a crosslinking agent (B), and a photopolymerization initiator (C). The photosensitive resin composition contains, as the crosslinking agent (B), a monofunctional (meth) acrylate monomer (B1) having a biphenyl skeleton which may have a substituent or a terphenyl skeleton which may have a substituent.

이하, 감광성 수지 조성물이 함유하는 성분에 대해 순서대로 설명한다.Hereinafter, the components contained in the photosensitive resin composition will be described in order.

<알칼리 가용성 수지(A)><Alkali-soluble resin (A)>

감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지(A)를 포함한다.The photosensitive resin composition contains an alkali-soluble resin (A).

여기서, 본 명세서에 있어서, (A) 알칼리 가용성 수지란, 분자 내에 알칼리 가용성을 갖게 하는 관능기(예를 들면, 페놀성 수산기, 카르복시기, 술폰산기 등)를 구비하는 수지를 가리킨다.Here, in this specification, (A) alkali-soluble resin means the resin provided with the functional group (for example, phenolic hydroxyl group, carboxyl group, sulfonic acid group, etc.) which has alkali solubility in a molecule | numerator.

알칼리 가용성 수지(A)의 종류는 특별히 한정되지 않고, 종래부터 감광성 수지 조성물에 배합되고 있는 여러 가지의 알칼리 가용성 수지를 이용할 수 있다.The type of the alkali-soluble resin (A) is not particularly limited, and various alkali-soluble resins conventionally blended with the photosensitive resin composition can be used.

이하, 알칼리 가용성 수지(A)의 적합한 구체예로서 카르도 구조를 가지는 수지(A1)와 아크릴계 수지(A2)와 노볼락 수지(A3)에 대해 설명한다.Hereinafter, resins (A1) having a cardo structure, acrylic resins (A2), and novolac resins (A3) will be described as suitable specific examples of the alkali-soluble resin (A).

[카르도 구조를 가지는 수지(A1)][Resin (A1) having a cardo structure]

감광성 수지 조성물에는, 알칼리 가용성 수지(A)로서 카르도 구조를 가지는 수지(A1)(이하, 「카르도 수지(A1)」라고도 적는다.)를 포함하고 있어도 된다.The photosensitive resin composition may contain, as the alkali-soluble resin (A), a resin (A1) having a cardo structure (hereinafter also referred to as “cardo resin (A1)”).

카르도 수지(A1)로는, 그 구조 중에 카르도 골격을 가져 원하는 알칼리 가용성을 가지는 수지를 이용할 수 있다. 카르도 골격이란, 제1의 환상 구조를 구성하고 있는 1개의 환탄소 원자에, 제2의 환상 구조와 제3의 환상 구조가 결합한 골격을 말한다. 또한, 제2의 환상 구조와 제3의 환상 구조는, 동일한 구조여도 상이한 구조여도 된다.As the cardo resin (A1), a resin having a desired alkali solubility having a cardo skeleton in its structure can be used. The cardo skeleton refers to a skeleton in which a second cyclic structure and a third cyclic structure are bonded to one ring carbon atom constituting the first cyclic structure. Moreover, the 2nd cyclic structure and the 3rd cyclic structure may be the same structure, or may be different structures.

카르도 골격의 대표적인 예로는, 플루오렌환의 9위의 탄소 원자에 2개의 방향환(예를 들면, 벤젠환)이 결합한 골격을 들 수 있다.A typical example of the cardo skeleton is a skeleton in which two aromatic rings (for example, a benzene ring) are bonded to a carbon atom at position 9 of the fluorene ring.

카르도 수지(A1)로는, 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 수지를 이용할 수 있다. 그 중에서도, 하기 식 (a-1)로 표시되는 수지가 바람직하다.The cardo resin (A1) is not particularly limited, and a conventionally known resin can be used. Especially, the resin represented by following formula (a-1) is preferable.

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 (a-1) 중, Xa는 하기 식 (a-2)로 표시되는 기를 나타낸다. m1는 0 이상 20 이하의 정수를 나타낸다.)(In formula (a-1), X a represents a group represented by the following formula (a-2). M1 represents an integer of 0 or more and 20 or less.)

Figure pat00002
Figure pat00002

(식 (a-2) 중, Ra1는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 탄화수소기, 또는 할로겐 원자를 나타내고, Ra2는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타내며, Ra3는 각각 독립적으로 직쇄 또는 분기쇄의 알킬렌기를 나타내고, m2는 0 또는 1을 나타내며, Wa는 하기 식 (a-3)로 표시되는 기를 나타낸다.)(In formula (a-2), R a1 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom, and R a2 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and R a3 Each independently represents a straight or branched alkylene group, m2 represents 0 or 1, and W a represents a group represented by the following formula (a-3).)

Figure pat00003
Figure pat00003

(식 (a-3) 중의 환 A는 방향족환과 축합하고 있어도 되고, 치환기를 가지고 있어도 되는 지방족환을 나타낸다. 지방족환은 지방족 탄화수소환이어도 지방족 복소환이어도 된다.)(The ring A in the formula (a-3) may be condensed with an aromatic ring or represents an aliphatic ring which may have a substituent. The aliphatic ring may be an aliphatic hydrocarbon ring or an aliphatic heterocyclic ring.)

식 (a-2) 중, Ra3로는 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 알킬렌기가 바람직하고, 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 알킬렌기가 보다 바람직하며, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬렌기가 특히 바람직하고, 에탄-1,2-디일기, 프로판-1,2-디일기 및 프로판 1,3-디일기가 가장 바람직하다.In formula (a-2), as R a3 , an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable, and an alkylene having 1 to 6 carbon atoms is preferable. Groups are particularly preferred, ethane-1,2-diyl group, propane-1,2-diyl group and propane 1,3-diyl group are most preferred.

식 (a-3) 중의 환 A에 대해서, 지방족환으로는, 모노시클로알칸, 비시클로알칸, 트리시클로알칸, 테트라시클로알칸 등을 들 수 있다.About ring A in Formula (a-3), monocycloalkane, bicycloalkane, tricycloalkane, tetracycloalkane etc. are mentioned as an aliphatic ring.

구체적으로는, 시클로펜탄, 시클로헥산, 시클로헵탄, 시클로옥탄 등의 모노시클로알칸이나, 아다만탄, 노르보르난, 이소보르난, 트리시클로데칸, 테트라시클로도데칸을 들 수 있다.Specifically, monocycloalkanes, such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, and cyclooctane, and adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, and tetracyclododecane are mentioned.

지방족환에 축합해도 되는 방향족환은, 방향족 탄화수소환이어도 방향족 복소환이어도 되고, 방향족 탄화수소환이 바람직하다. 구체적으로는 벤젠환 및 나프탈렌환이 바람직하다.The aromatic ring which may be condensed on the aliphatic ring may be an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle, and an aromatic hydrocarbon ring is preferable. Specifically, a benzene ring and a naphthalene ring are preferable.

식 (a-3)로 표시되는 2가 기의 적합한 예로는, 하기의 기를 들 수 있다.The following group is mentioned as a suitable example of a divalent group represented by Formula (a-3).

Figure pat00004
Figure pat00004

식 (a-1) 중의 2가 기 Xa는, 잔기 Za를 부여하는 테트라카르복시산 2 무수물로 아래 식 (a-2a)로 표시되는 디올 화합물을 반응시킴으로써, (A1) 카르도 수지 중에 도입된다.Formula (a-1) 2 a group of X a is, by reacting a diol compound represented by the following formula (a-2a) as the tetracarboxylic acid dianhydride to give a residue Z a, (A1) acid is also incorporated into the resin .

Figure pat00005
Figure pat00005

식 (a-2a) 중, Ra1, Ra2, Ra3 및 m2는, 식 (a-2)에 대해 설명한 바와 같다. 식 (a-2a) 중의 환 A에 대해서는, 식 (a-3)에 대해 설명한 바와 같다.In formula (a-2a), R a1 , R a2 , R a3 and m2 are as described for formula (a-2). About ring A in Formula (a-2a), it is as having demonstrated about Formula (a-3).

식 (a-2a)로 표시되는 디올 화합물은, 예를 들면, 이하의 방법에 의해 제조할 수 있다.The diol compound represented by formula (a-2a) can be produced, for example, by the following method.

우선, 하기 식 (a-2b)로 표시되는 디올 화합물이 가지는 페놀성 수산기 중의 수소 원자를, 필요에 따라, 통상의 방법에 따라서, -Ra3-OH로 표시되는 기로 치환한 후, 에피클로로히드린 등을 이용해 글리시딜화하여 하기 식 (a-2c)로 표시되는 에폭시 화합물을 얻는다.First, the hydrogen atom in the phenolic hydroxyl group of the diol compound represented by the following formula (a-2b) is replaced with a group represented by -R a3 -OH according to a conventional method, if necessary, and then epichlorohich. Glycidylation using chin and the like gives an epoxy compound represented by the following formula (a-2c).

그 다음에, 식 (a-2c)로 표시되는 에폭시 화합물을 아크릴산 또는 메타아크릴산과 반응시킴으로써, 식 (a-2a)로 표시되는 디올 화합물이 얻어진다.Then, the diol compound represented by formula (a-2a) is obtained by reacting the epoxy compound represented by formula (a-2c) with acrylic acid or methacrylic acid.

식 (a-2b) 및 식 (a-2c) 중, Ra1, Ra3 및 m2는, 식 (a-2)에 대해 설명한 바와 같다. 식 (a-2b) 및 식 (a-2c) 중의 환 A에 대해서는, 식 (a-3)에 대해 설명한 바와 같다.In formulas (a-2b) and (a-2c), R a1 , R a3 and m2 are as described for formula (a-2). About ring A in Formula (a-2b) and Formula (a-2c), it is as having demonstrated about Formula (a-3).

또한, 식 (a-2a)로 표시되는 디올 화합물의 제조 방법은 상기의 방법으로 한정되지 않는다.In addition, the manufacturing method of the diol compound represented by Formula (a-2a) is not limited to the above method.

Figure pat00006
Figure pat00006

식 (a-2b)로 표시되는 디올 화합물의 적합한 예로는, 이하의 디올 화합물을 들 수 있다.The following diol compound is mentioned as a suitable example of the diol compound represented by Formula (a-2b).

Figure pat00007
Figure pat00007

상기 식 (a-1) 중, Ra0는 수소 원자 또는 -CO-Ya-COOH로 표시되는 기이다. 여기서, Ya는 디카르복시산 무수물로부터 산 무수물기(-CO-O-CO-)를 제외한 잔기를 나타낸다. 디카르복시산 무수물의 예로는, 무수 말레산, 무수 숙신산, 무수 이타콘산, 무수 프탈산, 무수 테트라히드로프탈산, 무수 헥사히드로프탈산, 무수 메틸엔드메틸렌테트라히드로프탈산, 무수 클로렌드산, 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 무수 글루타르산 등을 들 수 있다.In the formula (a-1), R a0 is a hydrogen atom or a group represented by -CO-Y a -COOH. Here, Y a represents a residue excluding the acid anhydride group (-CO-O-CO-) from dicarboxylic acid anhydride. Examples of the dicarboxylic acid anhydride include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylendmethylene anhydride tetrahydrophthalic acid, chlorendic anhydride, methyltetrahydro phthalic anhydride, And glutaric anhydride.

또, 상기 식 (a-1) 중, Za는 테트라카르복시산 2 무수물에서 2개의 산 무수물기를 제외한 잔기를 나타낸다. 테트라카르복시산 2 무수물의 예로는, 하기 식 (a-4)로 표시되는 테트라카르복시산 2 무수물, 피로멜리트산 2 무수물, 벤조페논테트라카르복시산 2 무수물, 비페닐테트라카르복시산 2 무수물, 비페닐에테르테트라카르복시산 2 무수물 등을 들 수 있다.Moreover, in said Formula (a-1), Z a represents the residue which remove | excluding two acid anhydride groups from tetracarboxylic acid anhydride. Examples of the tetracarboxylic acid anhydride include tetracarboxylic acid anhydride represented by the following formula (a-4), pyromellitic acid anhydride, benzophenonetetracarboxylic acid anhydride, biphenyltetracarboxylic acid anhydride, and biphenyl ether tetracarboxylic acid anhydride. And the like.

또, 상기 식 (a-1) 중, m1는 0 이상 20 이하의 정수를 나타낸다.Moreover, in said Formula (a-1), m1 represents the integer of 0 or more and 20 or less.

Figure pat00008
Figure pat00008

(식 (a-4) 중, Ra4, Ra5 및 Ra6는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 알킬기 및 불소 원자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종을 나타내고, m3는 0 이상 12 이하의 정수를 나타낸다.)(In formula (a-4), R a4 , R a5 and R a6 each independently represent one kind selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom, and m3 is 0 or more. Represents an integer of 12 or less.)

식 (a-4) 중의 Ra4로서 선택될 수 있는 알킬기는 탄소 원자수가 1 이상 10 이하의 알킬기이다. 알킬기가 구비하는 탄소 원자수를 이 범위로 설정함으로써, 얻어지는 카르복시산 에스테르의 내열성을 한층 향상시킬 수 있다. Ra4가 알킬기인 경우, 그 탄소 원자수는 내열성이 뛰어난 카르도 수지를 얻기 쉽다는 점에서, 1 이상 6 이하가 바람직하고, 1 이상 5 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 4 이하가 더욱 바람직하고, 1 이상 3 이하가 특히 바람직하다.The alkyl group which can be selected as R a4 in formula (a-4) is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. By setting the number of carbon atoms of the alkyl group in this range, the heat resistance of the resulting carboxylic acid ester can be further improved. When R a4 is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1 or more and 6 or less, more preferably 1 or more and 5 or less, and even more preferably 1 or more and 4 or less, from the viewpoint of easily obtaining a cardo resin having excellent heat resistance. , 1 or more and 3 or less are particularly preferred.

Ra4가 알킬기인 경우, 상기 알킬기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 된다.When R a4 is an alkyl group, the alkyl group may be linear or branched.

식 (a-4) 중의 Ra4로는 내열성이 뛰어난 카르도 수지를 얻기 쉽다는 점에서, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 알킬기가 보다 바람직하다. 식 (a-4) 중의 Ra4는 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기 또는 이소프로필기가 보다 바람직하고, 수소 원자 또는 메틸기가 특히 바람직하다.As R a4 in the formula (a-4), from the viewpoint of easily obtaining a cardo resin having excellent heat resistance, each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable. R a4 in formula (a-4) is more preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group or an isopropyl group, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.

식 (a-4) 중의 복수의 Ra4는 고순도의 테트라카르복시산 2 무수물의 조제가 용이하다는 점에서, 동일한 기인 것이 바람직하다.It is preferable that the plurality of R a4 in the formula (a-4) is the same group in that it is easy to prepare a high-purity tetracarboxylic acid anhydride.

식 (a-4) 중의 m3는 0 이상 12 이하의 정수를 나타낸다. m3의 값을 12 이하로 함으로써, 테트라카르복시산 2 무수물의 정제를 용이하게 할 수 있다.M3 in Formula (a-4) represents the integer of 0 or more and 12 or less. Purification of tetracarboxylic acid anhydride can be facilitated by setting the value of m3 to 12 or less.

테트라카르복시산 2 무수물의 정제가 용이한 점에서, m3의 상한은 5가 바람직하고, 3이 보다 바람직하다.From the viewpoint of easy purification of tetracarboxylic acid anhydride, the upper limit of m3 is preferably 5, and more preferably 3.

테트라카르복시산 2 무수물의 화학적 안정성의 점에서, m3의 하한은 1이 바람직하고, 2가 보다 바람직하다.In view of the chemical stability of the tetracarboxylic acid 2 anhydride, the lower limit of m3 is preferably 1, and more preferably 2.

식 (a-4) 중의 m3는 2 또는 3이 특히 바람직하다.As for m3 in Formula (a-4), 2 or 3 is especially preferable.

식 (a-4) 중의 Ra5 및 Ra6로서 선택될 수 있는 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 알킬기는, Ra4로서 선택될 수 있는 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 알킬기와 동일하다.The alkyl group of 1 to 10 carbon atoms which can be selected as R a5 and R a6 in the formula (a-4) is the same as the alkyl group of 1 to 10 carbon atoms that can be selected as R a4 .

Ra5 및 Ra6는 테트라카르복시산 2 무수물의 정제가 용이한 점에서, 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1 이상 10 이하(바람직하게는 1 이상 6 이하, 보다 바람직하게는 1 이상 5 이하, 더욱 바람직하게는 1 이상 4 이하, 특히 바람직하게는 1 이상 3 이하)의 알킬기인 것이 바람직하고, 수소 원자 또는 메틸기인 것이 특히 바람직하다.Since R a5 and R a6 are easy to purify tetracarboxylic acid anhydrides, hydrogen atoms or carbon atoms 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, even more preferably) Is preferably 1 to 4 or less, particularly preferably 1 to 3 or less), and is preferably a hydrogen atom or a methyl group.

식 (a-4)로 표시되는 테트라카르복시산 2 무수물로는, 예를 들면, 노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물(별명 「노르보르난-2-스피로-2'-시클로펜타논-5'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물」), 메틸노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2"-(메틸노르보르난)-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로헥사논-α'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물(별명 「노르보르난-2-스피로-2'-시클로헥사논-6'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물」), 메틸노르보르난-2-스피로-α-시클로헥사논-α'-스피로-2"-(메틸노르보르난)-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로프로파논-α'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로부타논-α'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로헵타논-α'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로옥타논-α'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로노나논-α'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로데카논-α'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로운데카논-α'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로도데카논-α'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로트리데카논-α'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로테트라데카논-α'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물, 노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타데카논-α'-스피로-2"-노르보르난 5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물, 노르보르난-2-스피로-α-(메틸시클로펜타논)-α'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물, 노르보르난-2-스피로-α-(메틸시클로헥사논)-α'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복시산 2 무수물 등을 들 수 있다.As the tetracarboxylic acid 2 anhydride represented by the formula (a-4), for example, norbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2 "-norbornane-5,5" , 6,6 "-tetracarboxylic acid anhydride (alias" norbornane-2-spiro-2'-cyclopentanone-5'-spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "- Tetracarboxylic acid 2 anhydride ”), methylnorbornane-2-spiro-α-cyclopentanone-α'-spiro-2"-(methylnorbornane) -5,5 ", 6,6" -tetracarboxylic acid 2 Anhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclohexanone-α'-spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acid 2 anhydride (alias" norbornane-2 -Spiro-2'-cyclohexanone-6'-spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acid 2 anhydride"), methylnorbornane-2-spiro-α- Cyclohexanone-α'-spiro-2 "-(methylnorbornane) -5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acid 2 anhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclopropanone-α ' -Spiro-2 "-nor Renan-5,5 ", 6,6" -tetracarboxylic acid anhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclobutanone-α'-spiro-2 "-norbornane-5,5", 6, 6 "-tetracarboxylic acid 2 anhydride, norbornane-2-spiro-α-cycloheptanone-α'-spiro-2" -norbornane-5,5 ", 6,6" -tetracarboxylic acid 2 anhydride, nord Bornan-2-spiro-α-cyclooctanone-α'-spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acid 2 anhydride, norbornane-2-spiro-α- Cyclononanone-α'-spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acid 2 anhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclodecanone-α'-spiro- 2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acid 2 anhydride, norbornane-2-spiro-α-cycloundecanon-α'-spiro-2" -norbornane-5, 5 ", 6,6" -tetracarboxylic acid 2 anhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclododecanone-α'-spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetra Carboxylic acid 2 anhydride, norbornane-2- Fatigue-α-cyclotridecanone-α'-spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acid 2 anhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclotetradecanone -α'-spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acid anhydride, norbornane-2-spiro-α-cyclopentadecanone-α'-spiro-2" -Norbornane 5,5 ", 6,6" -tetracarboxylic acid 2 anhydride, norbornane-2-spiro-α- (methylcyclopentanone) -α'-spiro-2 "-norbornane-5, 5 ", 6,6" -tetracarboxylic acid 2 anhydride, norbornane-2-spiro-α- (methylcyclohexanone) -α'-spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-Tetracarboxylic dianhydride, etc. are mentioned.

카르도 수지(A1)의 중량 평균 분자량은 1000 이상 40000 이하인 것이 바람직하고, 2000 이상 30000 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 양호한 현상성을 얻으면서, 충분한 내열성, 막 강도를 얻을 수 있다.The weight average molecular weight of the cardo resin (A1) is preferably 1000 or more and 40000 or less, and more preferably 2000 or more and 30000 or less. By setting it as the said range, sufficient heat resistance and film strength can be obtained, obtaining favorable developability.

[아크릴계 수지(A2)][Acrylic resin (A2)]

알칼리 가용성 수지(A)로는, 아크릴계 수지(A2)도 바람직하게 이용할 수 있다. 아크릴계 수지(A2)를 이용하는 경우, 단량체의 종류나, 구성 단위의 비율 등을 적당히 조정함으로써, 감광성 수지 조성물의 여러 특성을 용이하게 조정할 수 있다.As the alkali-soluble resin (A), an acrylic resin (A2) can also be preferably used. In the case of using the acrylic resin (A2), various properties of the photosensitive resin composition can be easily adjusted by appropriately adjusting the type of the monomer, the proportion of the structural unit, and the like.

아크릴계 수지(A2)로는, (메타)아크릴산에 유래하는 구성 단위, 및/또는(메타)아크릴산에스테르 등의 다른 모노머에 유래하는 구성 단위를 포함하는 수지를 이용할 수 있다. (메타)아크릴산은 아크릴산 또는 메타아크릴산이다. (메타)아크릴산 에스테르는 하기 식 (a-5)로 표시되는 화합물로서, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 한 특별히 한정되지 않는다.As the acrylic resin (A2), a resin containing a structural unit derived from (meth) acrylic acid and / or other monomers such as (meth) acrylic acid ester can be used. (Meta) acrylic acid is acrylic acid or methacrylic acid. The (meth) acrylic acid ester is a compound represented by the following formula (a-5) and is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention.

Figure pat00009
Figure pat00009

상기 식 (a-5) 중, Ra7는 수소 원자 또는 메틸기이며, Ra8는 1가의 유기기이다. 이 유기기는, 이 유기기 중에 헤테로 원자 등의 탄화수소기 이외의 결합이나 치환기를 포함하고 있어도 된다. 또, 이 유기기는 직쇄상, 분기쇄상, 환상 중 어느 하나여도 된다.In the formula (a-5), R a7 is a hydrogen atom or a methyl group, and R a8 is a monovalent organic group. This organic group may contain a bond or a substituent other than a hydrocarbon group such as a hetero atom in the organic group. Moreover, this organic group may be either linear, branched, or cyclic.

Ra8의 유기기 중의 탄화수소기 이외의 치환기로는, 본 발명의 효과가 손상되지 않는 한 특별히 한정되지 않고, 할로겐 원자, 수산기, 머캅토기, 술피드기, 시아노기, 이소시아노기, 시아네이트기, 이소시아네이트기, 티오시아네이트기, 이소티오시아네이트기, 실릴기, 실라놀기, 알콕시기, 알콕시카르보닐기, 카르바모일기, 티오카르바모일기, 니트로기, 니트로소기, 카르복시기, 카르복실레이트기, 아실기, 아실옥시기, 술피노기, 술포기, 술포네이트기, 포스피노기, 포스피닐기, 포스포노기, 포스포네이트기, 히드록시이미노기, 알킬에테르기, 알킬티오에테르기, 아릴에테르기, 아릴티오에테르기, 아미노기(-NH2, -NHR, -NRR': R 및 R'는 각각 독립적으로 탄화수소기를 나타냄) 등을 들 수 있다. 상기 치환기에 포함되는 수소 원자는 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 된다. 또, 상기 치환기에 포함되는 탄화수소기는 직쇄상, 분기쇄상 및 환상 중 어느 하나여도 된다.Substituents other than the hydrocarbon group in the organic group of R a8 are not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired, and halogen atom, hydroxyl group, mercapto group, sulfide group, cyano group, isocyano group, cyanate group , Isocyanate group, thiocyanate group, isothiocyanate group, silyl group, silanol group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, thiocarbamoyl group, nitro group, nitroso group, carboxy group, carboxylate group, ah Real group, acyloxy group, sulfino group, sulfo group, sulfonate group, phosphino group, phosphinyl group, phosphono group, phosphonate group, hydroxyimino group, alkyl ether group, alkylthio ether group, aryl ether Group, arylthioether group, amino group (-NH 2 , -NHR, -NRR ': R and R' each independently represents a hydrocarbon group) and the like. The hydrogen atom contained in the substituent may be substituted with a hydrocarbon group. Moreover, the hydrocarbon group contained in the said substituent may be either linear, branched or cyclic.

Ra8로는, 알킬기, 아릴기, 아랄킬기 또는 복소환기가 바람직하고, 이들 기는 할로겐 원자, 수산기, 알킬기 또는 복소환기로 치환되어 있어도 된다. 또, 이들 기가 알킬렌 부분을 포함하는 경우, 알킬렌 부분은 에테르 결합, 티오에테르 결합, 에스테르 결합에 의해 중단되어 있어도 된다.As R a8 , an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group or a heterocyclic group is preferable, and these groups may be substituted with a halogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group or a heterocyclic group. Moreover, when these groups contain an alkylene part, the alkylene part may be interrupted by an ether bond, a thioether bond, or an ester bond.

알킬기가 직쇄상 또는 분기쇄상인 경우, 그 탄소 원자수는 1 이상 20 이하가 바람직하고, 1 이상 15 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 10 이하가 특히 바람직하다. 적합한 알킬기의 예로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 이소데실기 등을 들 수 있다.When the alkyl group is linear or branched, the number of carbon atoms is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 15 or less, and particularly preferably 1 or more and 10 or less. Examples of suitable alkyl groups are methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, sec-pen Tyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, n-decyl group, iso And a decyl group.

알킬기가 지환식기 또는 지환식기를 포함하는 기인 경우, 알킬기에 포함되는 적합한 지환식기로는, 시클로펜틸기 및 시클로헥실기 등 단환의 지환식기나, 아다만틸기, 노르보르닐기, 이소보르닐기, 트리시클로노닐기, 트리시클로데실기 및 테트라시클로도데실기 등의 다환의 지환식기를 들 수 있다.When the alkyl group is an alicyclic group or a group containing an alicyclic group, suitable alicyclic groups included in the alkyl group include monocyclic alicyclic groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group, adamantyl group, norbornyl group, isobornyl group, and tri And polycyclic alicyclic groups such as cyclononyl group, tricyclodecyl group and tetracyclododecyl group.

식 (a-5)로 표시되는 화합물은 Ra8 중에 에폭시기를 구비하는 에폭시기 함유 불포화 화합물인 것도 바람직하다.It is also preferable that the compound represented by Formula (a-5) is an epoxy group-containing unsaturated compound having an epoxy group in R a8 .

식 (a-5)로 표시되는 에폭시기 함유 불포화 화합물의 적합한 예로는, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2-메틸글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시부틸(메타)아크릴레이트, 6,7-에폭시헵틸(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산에폭시알킬에스테르류; α-에틸아크릴산글리시딜, α-n-프로필아크릴산글리시딜, α-n-부틸아크릴산글리시딜, α-에틸아크릴산6,7-에폭시헵틸 등의α-알킬아크릴산에폭시알킬에스테르류; 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 공중합 반응성, 경화 후의 수지의 강도 등의 점에서, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2-메틸글리시딜(메타)아크릴레이트 및 6,7-에폭시헵틸(메타)아크릴레이트가 바람직하다. 이들 에폭시기 함유 불포화 화합물은 단독 또는 2종 이상 조합해 이용할 수 있다.Suitable examples of the epoxy group-containing unsaturated compound represented by formula (a-5) include glycidyl (meth) acrylate, 2-methylglycidyl (meth) acrylate, and 3,4-epoxybutyl (meth) acrylate. , (Meth) acrylic acid epoxyalkyl esters such as 6,7-epoxyheptyl (meth) acrylate; α-alkyl acrylic acid epoxyalkyl esters such as α-ethyl acrylate glycidyl, α-n-propyl acrylate glycidyl, α-n-butyl acrylate glycidyl, and α-ethyl acrylate 6,7-epoxyheptyl; And the like. Among these, glycidyl (meth) acrylate, 2-methylglycidyl (meth) acrylate, and 6,7-epoxyheptyl (meth) acrylate are preferred from the viewpoint of copolymerization reactivity and strength of the resin after curing. Do. These epoxy group-containing unsaturated compounds can be used alone or in combination of two or more.

또, 아크릴계 수지(A2)는 (메타)아크릴산에스테르 이외의 모노머를 중합시킨 수지여도 된다. 이러한 모노머로는, (메타)아크릴아미드류, 불포화 카르복시산류, 알릴 화합물, 비닐에테르류, 비닐에스테르류, 스티렌류 등을 들 수 있다. 이들 모노머는 단독 또는 2종 이상 조합해 이용할 수 있다.Moreover, the acrylic resin (A2) may be a resin obtained by polymerizing monomers other than the (meth) acrylic acid ester. Examples of such monomers include (meth) acrylamides, unsaturated carboxylic acids, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, and styrenes. These monomers may be used alone or in combination of two or more.

(메타)아크릴아미드류로는, (메타)아크릴아미드, N-알킬(메타)아크릴아미드, N-아릴(메타)아크릴아미드, N,N-디알킬(메타)아크릴아미드, N,N-아릴(메타)아크릴아미드, N-메틸-N-페닐(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸-N-메틸(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있다.Examples of (meth) acrylamides include (meth) acrylamide, N-alkyl (meth) acrylamide, N-aryl (meth) acrylamide, N, N-dialkyl (meth) acrylamide, and N, N-aryl (Meth) acrylamide, N-methyl-N-phenyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl-N-methyl (meth) acrylamide, and the like.

불포화 카르복시산류로는, 크로톤산 등의 모노카르복시산; 말레인산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산 등의 디카르복시산; 이들 디카르복시산의 무수물; 등을 들 수 있다.Examples of the unsaturated carboxylic acids include monocarboxylic acids such as crotonic acid; Dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, and itaconic acid; Anhydrides of these dicarboxylic acids; And the like.

알릴 화합물로는, 아세트산알릴, 카프로산알릴, 카프릴산알릴, 라우린산알릴, 팔미틴산알릴, 스테아린산알릴, 벤조산알릴, 아세토아세트산알릴, 락트산알릴 등의 알릴에스테르류; 알릴옥시에탄올; 등을 들 수 있다.Examples of the allyl compound include allyl esters such as allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, allyl acetoacetate, and allyl lactate; Allyloxyethanol; And the like.

비닐에테르류로는, 헥실비닐에테르, 옥틸비닐에테르, 데실비닐에테르, 에틸헥실비닐에테르, 메톡시에틸비닐에테르, 에톡시에틸비닐에테르, 클로로에틸비닐에테르, 1-메틸-2,2-디메틸프로필비닐에테르, 2-에틸부틸비닐에테르, 히드록시에틸비닐에테르, 디에틸렌글리콜비닐에테르, 디메틸아미노에틸비닐에테르, 디에틸아미노에틸비닐에테르, 부틸아미노에틸비닐에테르, 벤질비닐에테르, 테트라히드로푸르푸릴비닐에테르 등의 알킬비닐에테르; 비닐페닐에테르, 비닐톨릴에테르, 비닐클로로페닐에테르, 비닐-2,4-디클로로페닐에테르, 비닐나프틸에테르, 비닐안트라닐에테르 등의 비닐아릴에테르; 등을 들 수 있다.As vinyl ethers, hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether, ethyl hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl Vinyl ether, 2-ethylbutyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, diethylene glycol vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl Alkyl vinyl ethers such as ether; Vinyl aryl ethers such as vinyl phenyl ether, vinyl tolyl ether, vinyl chlorophenyl ether, vinyl-2,4-dichlorophenyl ether, vinyl naphthyl ether, and vinyl anthranyl ether; And the like.

비닐에스테르류로는, 비닐부틸레이트, 비닐이소부틸레이트, 비닐트리메틸아세테이트, 비닐디에틸아세테이트, 비닐발레레이트, 비닐카프로에이트, 비닐클로로아세테이트, 비닐디클로로아세테이트, 비닐메톡시아세테이트, 비닐부톡시아세테이트, 비닐페닐아세테이트, 비닐아세토아세테이트, 비닐락테이트, 비닐-β-페닐부틸레이트, 벤조산비닐, 살리실산비닐, 클로로벤조산비닐, 테트라클로로벤조산비닐, 나프토산비닐 등을 들 수 있다.Vinyl esters include vinyl butylate, vinyl isobutylate, vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl acetate, vinyl valerate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl dichloro acetate, vinyl methoxy acetate, vinyl butoxy acetate, And vinyl phenyl acetate, vinyl acetoacetate, vinyl lactate, vinyl-β-phenylbutylate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chlorobenzoate, vinyl tetrachlorobenzoate, and vinyl naphthoate.

스티렌류로는, 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 이소프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 시클로헥실스티렌, 데실스티렌, 벤질스티렌, 클로로메틸스티렌, 트리플루오로메틸스티렌, 에톡시메틸스티렌, 아세톡시메틸스티렌 등의 알킬스티렌; 메톡시스티렌, 4-메톡시-3-메틸스티렌, 디메톡시스티렌 등의 알콕시스티렌; 클로로스티렌, 디클로로스티렌, 트리클로로스티렌, 테트라클로로스티렌, 펜타클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 요오드스티렌, 플루오로스티렌, 트리플루오로스티렌, 2-브로모-4-트리플루오로메틸스티렌, 4-플루오로-3-트리플루오로메틸스티렌 등의 할로스티렌; 등을 들 수 있다.Examples of styrenes include styrene; Methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, diethylstyrene, isopropylstyrene, butylstyrene, hexylstyrene, cyclohexylstyrene, decylstyrene, benzylstyrene, chloromethylstyrene, trifluoromethylstyrene, ethoxymethylstyrene , Alkyl styrene such as acetoxy methyl styrene; Alkoxystyrenes such as methoxystyrene, 4-methoxy-3-methylstyrene and dimethoxystyrene; Chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, iodinestyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethyl Halostyrenes such as styrene and 4-fluoro-3-trifluoromethylstyrene; And the like.

(A3) 아크릴계 수지에 있어서의, (메타)아크릴산에 유래하는 구성 단위의 양과 다른 모노머에 유래하는 구성 단위의 양이란, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. (A3) 아크릴계 수지에 있어서의, (메타)아크릴산에 유래하는 구성 단위의 양은 아크릴계 수지의 중량에 대해서, 5 중량% 이상 50 중량% 이하가 바람직하고, 10 중량% 이상 30 중량% 이하가 보다 바람직하다.The amount of the structural unit derived from (meth) acrylic acid and the amount of the structural unit derived from another monomer in the (A3) acrylic resin is not particularly limited within a range that does not impair the object of the present invention. (A3) In the acrylic resin, the amount of the structural unit derived from (meth) acrylic acid is preferably 5 wt% or more and 50 wt% or less, more preferably 10 wt% or more and 30 wt% or less, based on the weight of the acrylic resin. Do.

아크릴계 수지(A2)의 중량 평균 분자량은 2000 이상 50000 이하인 것이 바람직하고, 5000 이상 30000 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 감광성 수지 조성물의 막 형성능, 노광 후의 현상성의 밸런스가 잡히기 쉬운 경향이 있다.The weight average molecular weight of the acrylic resin (A2) is preferably 2000 or more and 50000 or less, and more preferably 5000 or more and 30000 or less. By setting it as the said range, there exists a tendency for the balance of the film forming ability of the photosensitive resin composition and developability after exposure to be easy to be balanced.

[노볼락 수지(A3)][Novolak Resin (A3)]

알칼리 가용성 수지(A)는 노볼락 수지(A3)를 포함하고 있어도 된다. 알칼리 가용성 수지(A)가 노볼락 수지(A3)를 포함하는 경우, 가열에 의해 변형하기 어려운 내열성이 양호한 경화막을 형성하기 쉽다.The alkali-soluble resin (A) may contain a novolac resin (A3). When the alkali-soluble resin (A) contains the novolac resin (A3), it is easy to form a cured film having good heat resistance that is difficult to deform by heating.

노볼락 수지(A3)로는, 종래부터 감광성 수지 조성물에 배합되고 있는 여러 가지의 노볼락 수지를 이용할 수 있다. 노볼락 수지(A3)로는, 페놀성 수산기를 가지는 방향족 화합물(이하, 간단하게 「페놀류」라고 한다.)과 알데히드류를 산 촉매 하에서 부가 축합시킴으로써 얻어지는 노볼락 수지가 바람직하다.As the novolac resin (A3), various novolac resins conventionally blended with the photosensitive resin composition can be used. The novolac resin (A3) is preferably a novolac resin obtained by addition condensation of an aromatic compound having a phenolic hydroxyl group (hereinafter simply referred to as "phenols") and an aldehyde under an acid catalyst.

(페놀류)(Phenols)

노볼락 수지(A3)를 제작할 때에 이용되는 페놀류로는, 예를 들면, 페놀; o-크레졸, m-크레졸, p-크레졸 등의 크레졸류; 2,3-크실레놀, 2,4-크실레놀, 2,5-크실레놀, 2,6-크실레놀, 3,4-크실레놀, 3,5-크실레놀 등의 크실레놀류; o-에틸페놀, m-에틸페놀, p-에틸페놀 등의 에틸페놀류; 2-이소프로필페놀, 3-이소프로필페놀, 4-이소프로필페놀, o-부틸페놀, m-부틸페놀, p-부틸페놀 및 p-tert-부틸페놀 등의 알킬페놀류; 2,3,5-트리메틸페놀 및 3,4,5-트리메틸페놀 등의 트리알킬페놀류; 레조르시놀, 카테콜, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 피로가롤 및 플로로글리시놀 등의 다가 페놀류; 알킬레졸신, 알킬카테콜 및 알킬하이드로퀴논 등의 알킬 다가 페놀류(모든 알킬기는 탄소 원자수 1 이상 4 이하이다.); α-나프톨; β-나프톨; 히드록시디페닐; 및 비스페놀 A 등을 들 수 있다. 이들 페놀류는 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합해 이용해도 된다.Examples of the phenols used when producing the novolac resin (A3) include, for example, phenol; cresols such as o-cresol, m-cresol, and p-cresol; Xenol such as 2,3-xyllenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xyllenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol Silenols; ethyl phenols such as o-ethyl phenol, m-ethyl phenol, and p-ethyl phenol; Alkylphenols such as 2-isopropylphenol, 3-isopropylphenol, 4-isopropylphenol, o-butylphenol, m-butylphenol, p-butylphenol and p-tert-butylphenol; Trialkylphenols such as 2,3,5-trimethylphenol and 3,4,5-trimethylphenol; Polyhydric phenols such as resorcinol, catechol, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, and phloroglysinol; Alkyl polyhydric phenols such as alkyl resorcin, alkyl catechol, and alkyl hydroquinone (all alkyl groups have 1 to 4 carbon atoms); α-naphthol; β-naphthol; Hydroxydiphenyl; And bisphenol A. These phenols may be used alone or in combination of two or more.

이들 페놀류 중에서도, m-크레졸 및 p-크레졸이 바람직하고, m-크레졸과 p-크레졸을 병용하는 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 양자의 배합 비율을 조정함으로써, 감광성 수지 조성물을 이용해 형성되는 경화막의 내열성 등의 여러 특성을 조절할 수 있다.Among these phenols, m-cresol and p-cresol are preferable, and m-cresol and p-cresol are more preferably used in combination. In this case, various properties such as heat resistance of the cured film formed using the photosensitive resin composition can be adjusted by adjusting the mixing ratio of both.

m-크레졸과 p-크레졸의 배합 비율은 특별히 한정되지 않지만, m-크레졸/p-크레졸의 몰비로, 3/7 이상 8/2 이하가 바람직하다. m-크레졸 및 p-크레졸을 이러한 범위의 비율로 이용함으로써, 내열성이 뛰어난 경화막을 형성 가능한 감광성 수지 조성물을 얻기 쉽다.Although the blending ratio of m-cresol and p-cresol is not particularly limited, the molar ratio of m-cresol / p-cresol is preferably 3/7 or more and 8/2 or less. By using m-cresol and p-cresol at a ratio in this range, it is easy to obtain a photosensitive resin composition capable of forming a cured film having excellent heat resistance.

또, m-크레졸과 2,3,5-트리메틸페놀을 병용해 제조되는 노볼락 수지도 바람직하다. 이러한 노볼락 수지를 이용하는 경우, 포스트베이크시의 가열에 의해 과도하게 플로우하기 어려운 경화막을 형성할 수 있는 감광성 수지 조성물을 특히 얻기 쉽다.Also, novolac resins prepared by using m-cresol and 2,3,5-trimethylphenol in combination are also preferred. When using such a novolac resin, it is particularly easy to obtain a photosensitive resin composition capable of forming a cured film that is difficult to excessively flow by heating during post-baking.

m-크레졸과 2,3,5-트리메틸페놀의 배합 비율은 특별히 한정되지 않지만, m-크레졸/2,3,5-트리메틸페놀의 몰비로, 70/30 이상 95/5 이하가 바람직하다.Although the mixing ratio of m-cresol and 2,3,5-trimethylphenol is not particularly limited, the molar ratio of m-cresol / 2,3,5-trimethylphenol is preferably 70/30 or more and 95/5 or less.

(알데히드류)(Aldehydes)

노볼락 수지(A3)를 제작할 때에 이용되는 알데히드류로는, 예를 들면, 포름알데히드, 파라포름알데히드, 푸르푸랄, 벤즈알데히드, 니트로벤즈알데히드 및 아세트알데히드 등을 들 수 있다. 이들 알데히드류는 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합해 이용해도 된다.Examples of the aldehydes used when producing the novolac resin (A3) include formaldehyde, paraformaldehyde, furfural, benzaldehyde, nitrobenzaldehyde, acetaldehyde, and the like. These aldehydes may be used alone or in combination of two or more.

(산 촉매)(Acid catalyst)

노볼락 수지(A3)를 제작할 때에 이용되는 산 촉매로는, 예를 들면, 염산, 황산, 질산, 인산 및 아인산 등의 무기산류; 포름산, 옥살산, 아세트산, 디에틸황산 및 파라톨루엔술폰산 등의 유기산류; 및 아세트산아연 등의 금속염류 등을 들 수 있다. 이들 산 촉매는, 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합해 이용해도 된다.Examples of the acid catalyst used when producing the novolac resin (A3) include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid and phosphorous acid; Organic acids such as formic acid, oxalic acid, acetic acid, diethyl sulfuric acid, and paratoluene sulfonic acid; And metal salts such as zinc acetate. These acid catalysts may be used alone or in combination of two or more.

(분자량)(Molecular Weight)

노볼락 수지(A3)의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw; 이하, 간단하게 「중량 평균 분자량」이라고도 함)은 감광성 수지 조성물을 이용해 형성되는 경화막의 가열에 의한 플로우에 대한 내성의 관점에서, 하한값으로서 2000이 바람직하고, 5000이 보다 바람직하며, 10000이 특히 바람직하고, 15000이 더욱 바람직하며, 20000이 가장 바람직하고, 상한값으로서 50000이 바람직하고, 45000이 보다 바람직하며, 40000이 더욱 바람직하고, 35000이 가장 바람직하다.The weight average molecular weight (Mw; hereinafter, also simply referred to as "weight average molecular weight") in terms of polystyrene of the novolac resin (A3) is a lower limit in terms of resistance to flow due to heating of the cured film formed using the photosensitive resin composition. As is preferred, 2000 is preferred, 5000 is more preferred, 10000 is particularly preferred, 15000 is more preferred, 20000 is most preferred, 50000 is preferred as the upper limit, 45000 is more preferred, 40000 is more preferred, and 35000 is preferred. This is most preferred.

노볼락 수지(A3)로는, 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이 상이한 수지를 적어도 2종 조합해 이용할 수 있다. 중량 평균 분자량이 상이한 수지를 대소 조합해 이용함으로써, 감광성 수지 조성물의 현상성과 감광성 수지 조성물을 이용해 형성되는 경화막의 내열성의 밸런스를 잡을 수 있다.As the novolac resin (A3), at least two resins having different weight average molecular weights in terms of polystyrene may be used in combination. By using resins having different weight average molecular weights in large and small combinations, the developability of the photosensitive resin composition and the heat resistance of the cured film formed using the photosensitive resin composition can be balanced.

알칼리 가용성 수지(A)의 함유량은, 감광성 수지 조성물의 고형분 전체의 중량에 대해서 30 중량% 이상 90 중량% 이하인 것이 바람직하고, 40 중량% 이상 80 중량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 현상성이 뛰어난 감광성 수지 조성물을 얻기 쉽다.The content of the alkali-soluble resin (A) is preferably 30% by weight or more and 90% by weight or less, more preferably 40% by weight or more and 80% by weight or less with respect to the total weight of the solid content of the photosensitive resin composition. By setting it as the said range, it is easy to obtain the photosensitive resin composition excellent in developability.

<(B) 가교제><(B) crosslinking agent>

(단관능 (메타)아크릴 모노머(B1))(Monofunctional (meth) acrylic monomer (B1))

감광성 수지 조성물은 가교제(B)를 포함하지만, 그 상기 가교제(B)로서 치환기를 가지고 있어도 되는 비페닐 골격, 또는 치환기를 가져도 되는 터페닐 골격을 가지는 단관능 (메타)아크릴 모노머(B1)를 포함한다. 또한, 「(메타)아크릴 모노머」란, (메타)아크릴산으로부터 유도될 수 있는, 아크릴로일기 및/또는 메타크릴로일기 모노머이다.The photosensitive resin composition contains a crosslinking agent (B), but as the crosslinking agent (B), a monofunctional (meth) acrylic monomer (B1) having a biphenyl skeleton which may have a substituent or a terphenyl skeleton which may have a substituent is used. Includes. Moreover, "(meth) acrylic monomer" is an acryloyl group and / or methacryloyl group monomer which can be derived from (meth) acrylic acid.

단관능 (메타)아크릴 모노머(B1)의 구체예로는, 하기 식의 화합물을 들 수 있다.The compound of the following formula is mentioned as a specific example of a monofunctional (meth) acrylic monomer (B1).

Figure pat00010
Figure pat00010

Figure pat00011
Figure pat00011

상기 식에 있어서, Rx는 수소 원자 또는 메틸기이다. BP는 치환기를 가지고 있어도 되는 비페닐기이며, 구체적인 골격은 1,1'-비페닐-4-일기, 1,1'-비페닐-3-일기 또는 1,1'-비페닐-2-일기이며, 바람직하게는 1,1'-비페닐-2-일기 또는 1,1'-비페닐-4-일기이다. TP는 치환기를 가져도 되는 터페닐기이며, 구체적인 골격은 하기 식:In the formula, R x is a hydrogen atom or a methyl group. BP is a biphenyl group which may have a substituent, and specific skeleton is 1,1'-biphenyl-4-yl group, 1,1'-biphenyl-3-yl group or 1,1'-biphenyl-2-yl group , Preferably 1,1'-biphenyl-2-yl group or 1,1'-biphenyl-4-yl group. TP is a terphenyl group which may have a substituent, and a specific skeleton is represented by the following formula:

Figure pat00012
Figure pat00012

로 표시되는 기 중 어느 하나이다.It is any one of the groups represented by.

단관능 (메타)아크릴 모노머(B1)로는, 치환기를 가지고 있어도 되는 비페닐 골격을 가지는 단관능 (메타)아크릴 모노머(B1a)가 특히 바람직하다.As the monofunctional (meth) acrylic monomer (B1), a monofunctional (meth) acrylic monomer (B1a) having a biphenyl skeleton which may have a substituent is particularly preferable.

단관능 (메타)아크릴 모노머(B1)에 있어서, 비페닐 골격 및 터페닐 골격이 가지고 있어도 되는 치환기로는, 탄소 원자수 1 이상 12 이하의 알킬기, 탄소 원자수 1 이상 12 이하의 알콕시기, 탄소 원자수 2 이상 12 이하의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자수 1 이상 12 이하의 아실기, 탄소 원자수 1 이상 12 이하의 아실옥시기, 수산기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 니트로기를 들 수 있다.In the monofunctional (meth) acrylic monomer (B1), as the substituent which the biphenyl skeleton and the terphenyl skeleton may have, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and carbon And an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 atoms, an acyl group having 1 to 12 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 12 carbon atoms, a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group, or a nitro group.

단관능 (메타)아크릴 모노머(B1a)로는, 하기 식 (B1-1)로 표시되는 화합물을 바람직하게 들 수 있다.As a monofunctional (meth) acrylic monomer (B1a), the compound represented by following formula (B1-1) is mentioned preferably.

CH2=CRb1-CO-(O-Rb2-)t1-Xb1-BP ··· (B1-1)CH 2 = CR b1 -CO- (OR b2- ) t1 -X b1 -BP ... (B1-1)

(식 (B1-1) 중, Rb1는 수소 원자 또는 메틸기이고, Rb2는 탄소 원자수 1 이상 4 이하의 알킬렌기이며, BP는 치환기를 가져도 되는 비페닐기이고, t1는 0 이상 10 이하의 정수이며, t1가 0인 경우, Xb1는 -O- 또는 -NH-이며, t1가 1 이상 10 이하의 정수인 경우, Xb1는 단결합, -O-, -NH-, -O-CO-*, -NH-CO-*, -O-CO-O- 및 -NH-CO-O-*로 이루어진 군으로부터 선택되는 연결기이며, 연결기 중 비대칭인 연결기에 대한 *가 붙은 결합손은 BP와 결합하는 결합손이다.)(In formula (B1-1), R b1 is a hydrogen atom or a methyl group, R b2 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, BP is a biphenyl group which may have a substituent, and t1 is 0 to 10 And when t1 is 0, X b1 is -O- or -NH-, and when t1 is an integer of 1 to 10, X b1 is a single bond, -O-, -NH-, -O-CO A linking group selected from the group consisting of-*, -NH-CO- *, -O-CO-O- and -NH-CO-O- *. It is a joining hand.)

비페닐기가 가지고 있어도 되는 치환기는 비페닐 골격 및 터페닐 골격이 가져도 되는 치환기에 대해 상기한 바와 같이 예시한 치환기와 동일하다.The substituent which the biphenyl group may have is the same as the substituent exemplified as described above for the substituent which the biphenyl skeleton and the terphenyl skeleton may have.

Rb2로서의 알킬렌기의 탄소 원자수는 1 이상 4 이하이며, 2 또는 3이 바람직하다. 상기 알킬렌기로는, 예를 들면, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 프로필렌기 및 부탄-1,2-디일기 등의 직쇄상 또는 분기상 알킬렌기를 들 수 있다. 이들 중에서는, 에틸렌기, 트리메틸렌기 및 프로필렌기가 바람직하다.The number of carbon atoms in the alkylene group as R b2 is 1 or more and 4 or less, and 2 or 3 is preferable. As said alkylene group, a linear or branched alkylene group, such as a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a propylene group, and butane-1,2-diyl group, is mentioned, for example. Among these, ethylene group, trimethylene group and propylene group are preferable.

t1는 바람직하게는 0, 1 또는 2이다.t1 is preferably 0, 1 or 2.

상기 식 (B1-1)로 표시되는 화합물로는, 특별히 한정되는 것은 아니다. 식 (B1-1)로 표시되는 화합물의 적합한 예로서 이하의 화합물을 예시할 수 있다.The compound represented by the formula (B1-1) is not particularly limited. The following compound can be illustrated as a suitable example of the compound represented by Formula (B1-1).

Figure pat00013
Figure pat00013

상기 식 (B1-1)로 표시되는 화합물로는, B1-1-a, B1-1-c, B1-1-e, B1-1-f, B1-1-i, B1-1-m가 바람직하고, B1-1-a, B1-1-c가 특히 바람직하다.As the compound represented by the formula (B1-1), B1-1-a, B1-1-c, B1-1-e, B1-1-f, B1-1-i, B1-1-m Preferred, B1-1-a and B1-1-c are particularly preferred.

(다관능 (메타)아크릴 모노머(B2))(Polyfunctional (meth) acrylic monomer (B2))

감광성 수지 조성물은 상기의 단관능 (메타)아크릴 모노머(B1) 이외의 가교제(B)를 포함할 수 있다. 단관능 (메타)아크릴 모노머(B1) 이외의 가교제(B)로는, 예를 들면, 다관능 (메타)아크릴 모노머(B2)를 들 수 있다.The photosensitive resin composition may contain a crosslinking agent (B) other than the monofunctional (meth) acrylic monomer (B1) described above. As crosslinking agent (B) other than monofunctional (meth) acrylic monomer (B1), polyfunctional (meth) acrylic monomer (B2) is mentioned, for example.

다관능 (메타)아크릴 모노머(B2)로는, 예를 들면, 하기 식 (B2-1)로 표시되는 다관능 (메타)아크릴레이트를 바람직하게 들 수 있다.As a polyfunctional (meth) acrylic monomer (B2), polyfunctional (meth) acrylate represented by following formula (B2-1) is mentioned preferably, for example.

Figure pat00014
Figure pat00014

(식 (B2-1) 중, Rb3는 수소 원자 또는 탄소 원자수 1 이상 4 이하의 알킬기이고, Rb4는 다가 알코올 Rb5(OH)m의 m개의 히드록시기 중 t2개의 히드록시기를 식 (B2-1) 중의 에스테르 결합에 제공한 t2가의 잔기이며, m 및 t2는 각각 독립적으로 2 이상 20 이하의 정수이고, m는 t2 이상이다.)(In the formula (B2-1), R b3 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R b4 is a t2 hydroxyl group among m hydroxy groups of the polyhydric alcohol R b5 (OH) m . T2 is a residue provided for the ester bond in 1), m and t2 are each independently an integer of 2 or more and 20 or less, and m is t2 or more.)

식 (B2-1)로 표시되는 다관능 (메타)아크릴 모노머의 구체예로는, 예를 들면, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라메틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥사글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨옥타(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨헵타(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시폴리에톡시페닐)프로판, 2-히드록시-3-(메타)아크릴로일옥시프로필(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 프탈산디글리시딜에스테르디(메타)아크릴레이트, 에피클로로히드린 변성 헥사히드로프탈산디(메타)아크릴레이트, 글리세린트리아크릴레이트, 글리세린폴리글리시딜에테르폴리(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트(즉, 톨릴렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 또는 헥사메틸렌디이소시아네이트 등과 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 반응물), 히드록시피바린산네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판벤조에이트(메타)아크릴레이트, 트리스((메타)아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 알콕시 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨폴리(메타)아크릴레이트, 알킬 변성 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트 및 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산에스테르메틸렌비스(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴아미드메틸렌에테르, 다가 알코올과 N-메틸올(메타)아크릴아미드의 축합물 등의 다관능 모노머나, 트리아크릴포르말 등을 들 수 있다. 이들 다관능 모노머는 단독 또는 2종 이상 조합해 이용할 수 있다.As a specific example of the polyfunctional (meth) acrylic monomer represented by Formula (B2-1), for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di ( Meta) acrylate, tetramethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butylene glycol di (meth) ) Acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexaglycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, Propylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol triac Rate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra ( Meta) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, tripentaerythritol hepta (meth) acrylate, capro Lactone-modified pentaerythritol tri (meth) acrylate, caprolactone-modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth)) Acryloxydiethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth B) Acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, phthalic acid diglycidyl ester di (meth) acrylate, epichlorohi The denatured hexahydrophthalate di (meth) acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl ether poly (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate (i.e., tolylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, or 2-hydroxyethyl (meth) acrylate reactant with hexamethylene diisocyanate), neopentyl glycol di (meth) acrylate, hydroxypibaric acid, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified neopentyl glycol Di (meth) acrylate, propylene oxide-modified neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane benzoate (meth) acrylate, tris ((meth) acryloxyethyl) isocyanurate, alkoxy (Meth) such as modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol poly (meth) acrylate, alkyl modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate and ditrimethylolpropanetetra (meth) acrylate And polyfunctional monomers such as acrylic ester methylene bis (meth) acrylamide, (meth) acrylamide methylene ether, and condensates of polyhydric alcohols and N-methylol (meth) acrylamide, triacrylic formal, and the like. These polyfunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.

상기의 식 (B2-1)로 표시되는 다관능 (메타)아크릴레이트 모노머의 구체예 중에서도, 감광성 수지 조성물의 기판에 대한 밀착성, 감광성 수지 조성물의 경화 후의 강도를 높이는 경향이 있다는 점에서, 3 관능 이상의 다관능 모노머가 바람직하고, 4 관능 이상의 다관능 모노머가 보다 바람직하며, 5 관능 이상의 다관능 모노머가 더욱 바람직하다. 특히 디펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 및 이들 혼합물 등이 바람직하다.Among the specific examples of the polyfunctional (meth) acrylate monomer represented by the formula (B2-1) above, the three-functionality in that the photosensitive resin composition tends to increase adhesion to the substrate and strength after curing of the photosensitive resin composition. The above polyfunctional monomer is preferable, the polyfunctional monomer having 4 or more functionalities is more preferable, and the polyfunctional monomer having 5 or more functionalities is more preferable. In particular, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and mixtures thereof are preferable.

(B) 가교제의 감광성 수지 조성물 중의 함유량은, 감광성 수지 조성물의 고형분 전체의 중량에 대해서 10 중량% 이상 60 중량% 이하가 바람직하고, 15 중량% 이상 50 중량% 이하가 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 감도, 현상성, 해상성의 밸런스가 잡히기 쉬운 경향이 있다.(B) The content of the crosslinking agent in the photosensitive resin composition is preferably 10 wt% or more and 60 wt% or less, more preferably 15 wt% or more and 50 wt% or less, based on the total weight of the solid content of the photosensitive resin composition. By setting it as the said range, there exists a tendency for balance of sensitivity, developability, and resolution to be easy to be balanced.

또, (B) 가교제의 전체 중량에 대한 단관능 (메타)아크릴 모노머(B1)의 함유량은, (B) 가교제 성분 전체의 1 중량% 이상 100 중량% 이하이며, 3 중량% 이상 70 중량% 이하가 바람직하고, 5 중량% 이상 50 중량% 이하가 보다 바람직하다. (메타)아크릴 모노머(B1)의 함유량이 상기의 범위임으로 인해, 감광성 수지 조성물의 위치 선택적인 노광시에 활성 에너지가 직접 닿지 않는 것 같은 부분의 경화가 촉진되어 두꺼운 막, 구체적으로는 예를 들면, 5 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하의 경화막을 형성하는 바와 같은 태양에 있어서도, 노광측으로부터 원위에 있는 기재측 부근에서도 충분히 경화를 진행시킬 수 있다.In addition, the content of the monofunctional (meth) acrylic monomer (B1) relative to the total weight of the crosslinking agent (B) is 1% by weight or more and 100% by weight or less, and 3% by weight or more and 70% by weight or less of the entirety of the component (B) Is preferable, and 5% or more and 50% or less is more preferable. Because the content of the (meth) acrylic monomer (B1) is within the above range, curing of the portion where active energy does not directly contact is promoted during position-selective exposure of the photosensitive resin composition, and thus a thick film, specifically, for example Also, in an aspect in which a cured film having a thickness of 5 µm or more and 50 µm or less is formed, curing can proceed sufficiently even in the vicinity of the substrate side distal from the exposure side.

더욱 바람직한 태양으로는, (B) 가교제가 (B) 가교제의 전체 중량에 대해서, 단관능 (메타)아크릴 모노머(B1)를 1 중량% 이상 99 중량% 이하, 및 다관능 (메타)아크릴 모노머(B2)를 1 중량% 이상 99 중량% 이하 포함하는 것이 바람직하고, 단관능 (메타)아크릴 모노머(B1)를 3 중량% 이상 50 중량% 이하, 및 다관능 (메타)아크릴 모노머(B2)를 50 중량% 이상 97 중량% 이하 포함하는 것이 바람직하며, 이 경우, 감광성 수지 조성물에 의해서, 상기한 것 같은 두꺼운 막의 도포막을 형성하는 바와 같은 태양에 있어서도, 전술한 것처럼 도포막이 전체에 걸쳐서 충분히 경화된다. 이 때문에, 위치 선택적 노광과 현상을 거쳐 형성된 패턴화된 경화막의 테이퍼 각도를 수직에 가까운 양호한 각도로 하기 쉽다.In a more preferred embodiment, the (B) crosslinking agent is based on the total weight of the (B) crosslinking agent, wherein the monofunctional (meth) acrylic monomer (B1) is 1 wt% or more and 99 wt% or less, and the polyfunctional (meth) acrylic monomer ( B2) preferably contains 1% by weight or more and 99% by weight or less, and 3% by weight or more and 50% by weight or less of the monofunctional (meth) acrylic monomer (B1), and 50 of the polyfunctional (meth) acrylic monomer (B2). It is preferable to contain more than 97% by weight, and in this case, even in the aspect of forming the coated film of the thick film as described above by the photosensitive resin composition, the coated film is fully cured as described above. For this reason, it is easy to make the taper angle of the patterned cured film formed through position-selective exposure and development into a good angle close to a vertical.

<광중합 개시제(C)><Photopolymerization initiator (C)>

감광성 수지 조성물은 광중합 개시제(C)를 추가로 포함하고 있다.The photosensitive resin composition further contains a photopolymerization initiator (C).

광중합 개시제(C)로는, 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 광중합 개시제를 이용할 수 있다.It does not specifically limit as a photoinitiator (C), A conventionally well-known photoinitiator can be used.

광중합 개시제(C)로서 구체적으로는, 예를 들면, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 비스(4-디메틸아미노페닐)케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, O-아세틸-1-6-(2-메틸벤조일)-9-에틸-9H-카르바졸-3-일]에타논옥심, (9-에틸-6-니트로-9H-카르바졸-3-일)[4-(2-메톡시-1-메틸에톡시)-2-메틸페닐]메타논O-아세틸옥심, 2-(벤조일옥시이미노)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1-옥타논, 에타논,1-[9-에틸-6-(피롤-2-일카르보닐)-9H-카르바졸-3-일],2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 4-벤조일-4'-메틸디메틸술피드, 4-디메틸아미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산부틸, 4-디메틸아미노-2-에틸헥실벤조산, 4-디메틸아미노-2-이소아밀벤조산, 벤질-β-메톡시에틸아세탈, 벤질디메틸케탈, 1-페닐-1,2-프로판디온-2-(O-에톡시카르보닐)옥심, o-벤조일벤조산메틸, 2-에틸안트라퀴논, 옥타메틸안트라퀴논, 1,2-벤즈안트라퀴논, 2,3-디페닐안트라퀴논, 아조비스이소부티로니트릴, 벤조일퍼옥시드, 쿠멘히드로퍼옥시드, 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토벤조티아졸, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디(m-메톡시페닐)-이미다졸릴 2량체, 벤조페논, 2-클로로벤조페논, p,p'-비스디메틸아미노벤조페논, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 벤질, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인부틸에테르, 아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, p-디메틸아미노프로피오페논, 디클로로아세토페논, 트리클로로아세토페논, p-tert-부틸아세토페논, p-디메틸아미노아세토페논, p-tert-부틸트리클로로아세토페논, p-tert-부틸디클로로아세토페논, α,α-디클로로-4-페녹시아세토페논, 디벤조스베론, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 9-페닐아크리딘, 1,7-비스-(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스-(9-아크리디닐)펜탄, 1,3-비스-(9-아크리디닐)프로판, p-메톡시트리아진, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진 등을 들 수 있다. 이들 광중합 개시제는 단독 또는 2종 이상 조합해 이용할 수 있다.Specifically as the photopolymerization initiator (C), for example, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxy Hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, bis (4-dimethylaminophenyl) ketone , 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butane- 1-one, O-acetyl-1-6- (2-methylbenzoyl) -9-ethyl-9H-carbazol-3-yl] ethanone oxime, (9-ethyl-6-nitro-9H-carbazole- 3-yl) [4- (2-methoxy-1-methylethoxy) -2-methylphenyl] methanone O-acetyloxime, 2- (benzoyloxyimino) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1-octanone, ethanone, 1- [9-ethyl-6- (pyrrole-2-ylcarbonyl) -9H-carbazol-3-yl], 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine Seed, 4-benzoyl-4'-methyldimethyl sulfide, 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, butyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylamino-2-ethylhexylbenzoic acid, 4-dimethylamino-2-isoamylbenzoic acid, benzyl-β-methoxyethylacetal, benzyldimethylketal, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (O-ethoxycarbonyl) oxime, o-benzoyl Methyl benzoate, 2-ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, 2-mer Captobenzoimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (m-methoxyphenyl) -imidazolyl dimer, benzo Phenone, 2-chlorobenzophenone, p, p'-bisdimethylaminobenzophenone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxy Benzophenone, benzyl, benzoin , Benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin butyl ether, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p- Dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, p-tert- Butyldichloroacetophenone, α, α-dichloro-4-phenoxyacetophenone, dibenzosveron, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9-phenylacridine, 1,7-bis- (9-acrididi Neil) heptane, 1,5-bis- (9-acridinyl) pentane, 1,3-bis- (9-acridinyl) propane, p-methoxytriazine, 2,4,6-tris (triclo Romethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -4, 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2) -Yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (triclo Romethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxy Phenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4 -n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) phenyl-s -Triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (3-bro Mo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine, etc. You can. These photoinitiators can be used individually or in combination of 2 or more types.

광중합 개시제(C)로는, 또 하기 식 (c1)로 표시되는 옥심계 화합물을 이용하는 것도 바람직하다.As the photopolymerization initiator (C), it is also preferable to use an oxime-based compound represented by the following formula (c1).

Figure pat00015
Figure pat00015

(Rc1는 1가의 유기기, 아미노기, 할로겐, 니트로기 및 시아노기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기이고,(R c1 is a group selected from the group consisting of monovalent organic groups, amino groups, halogens, nitro groups and cyano groups,

n1는 0 이상 4 이하의 정수이며,n1 is an integer of 0 or more and 4 or less,

n2는 0 또는 1이고,n2 is 0 or 1,

Rc2는 치환기를 가져도 되는 페닐기, 또는 치환기를 가져도 되는 카르바졸릴기이며,R c2 is a phenyl group which may have a substituent, or a carbazolyl group which may have a substituent,

Rc3는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기이다.)R c3 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.)

식 (c1) 중, Rc1는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지의 유기기로부터 적당히 선택된다. Rc1가 유기기인 경우의 적합한 예로는, 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 포화 지방족 아실옥시기, 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 아미노기, 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 및 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기 및 시아노기 등을 들 수 있다. n1가 2 이상 4 이하의 정수인 경우, Rc1는 동일해도 상이해도 된다. 또, 치환기의 탄소 원자수에는 치환기가 추가로 가지는 치환기의 탄소 원자수를 포함하지 않는다.In the formula (c1), R c1 is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention, and is suitably selected from various organic groups. Suitable examples when R c1 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, a phenyl group which may have a substituent, and a phenoxy group which may have a substituent. Timing, benzoyl group which may have a substituent, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, benzoyloxy group which may have a substituent, phenylalkyl group which may have a substituent, naphthyl group which may have a substituent, naph which may have a substituent Thoxy group, naphthoyl group which may have a substituent, naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, naphthyloxy group which may have a substituent, naphthylalkyl group which may have a substituent, heterocyclyl group which may have a substituent, amino group , An amino group substituted with an organic group of 1 or 2, morpholine-1-yl group, and piperazin-1-yl group, halogen, nitro group and cyano group And the like. When n1 is an integer of 2 or more and 4 or less, R c1 may be the same or different. Moreover, the number of carbon atoms of the substituent which the substituent further has is not included in the number of carbon atoms of the substituent.

Rc1가 알킬기인 경우, 탄소 원자수 1 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자수 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. 또, Rc1가 알킬기인 경우, 직쇄여도, 분기쇄여도 된다. Rc1가 알킬기인 경우의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기 및 이소데실기 등을 들 수 있다. 또, Rc1가 알킬기인 경우, 알킬기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 알킬기의 예로는, 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기 및 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.When R c1 is an alkyl group, 1 to 20 carbon atoms is preferable, and 1 to 6 carbon atoms are more preferable. Moreover, when R c1 is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples when R c1 is an alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, and iso Pentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, and n-decyl groups and isodecyl groups. Moreover, when R c1 is an alkyl group, the alkyl group may contain the ether bond (-O-) in a carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethyl group, ethoxyethyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propyloxyethoxyethyl group and methoxypropyl group.

Rc1가 알콕시기인 경우, 탄소 원자수 1 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자수 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. 또, Rc1가 알콕시기인 경우, 직쇄여도, 분기쇄여도 된다. Rc1가 알콕시기인 경우의 구체예로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부틸옥시기, 이소부틸옥시기, sec-부틸옥시기, tert-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, sec-펜틸옥시기, tert-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 이소옥틸옥시기, sec-옥틸옥시기, tert-옥틸옥시기, n-노닐옥시기, 이소노닐옥시기, n-데실옥시기 및 이소데실옥시기 등을 들 수 있다. 또, Rc1가 알콕시기인 경우, 알콕시기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 알콕시기의 예로는, 메톡시에톡시기, 에톡시에톡시기, 메톡시에톡시에톡시기, 에톡시에톡시에톡시기, 프로필옥시에톡시에톡시기 및 메톡시프로필옥시기 등을 들 수 있다.When R c1 is an alkoxy group, 1 to 20 carbon atoms are preferable, and 1 to 6 carbon atoms are more preferable. Moreover, when R c1 is an alkoxy group, it may be linear or branched. As a specific example when R c1 is an alkoxy group, methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy Period, n-pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-oc And tiloxy groups, tert-octyloxy groups, n-nonyloxy groups, isononyloxy groups, n-decyloxy groups, and isodecyloxy groups. Moreover, when R c1 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain the ether bond (-O-) in a carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, propyloxyethoxyethoxy group and meth And oxypropyloxy groups.

Rc1가 시클로알킬기 또는 시클로알콕시기인 경우, 탄소 원자수 3 이상 10 이하가 바람직하고, 탄소 원자수 3 이상 6 이하가 보다 바람직하다. Rc1가 시클로알킬기인 경우의 구체예로는, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기 및 시클로옥틸기 등을 들 수 있다. Rc1가 시클로알콕시기인 경우의 구체예로는, 시클로프로필옥시기, 시클로부틸옥시기, 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기, 시클로헵틸옥시기 및 시클로옥틸옥시기 등을 들 수 있다.When R c1 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3 to 10 carbon atoms are preferable, and 3 to 6 carbon atoms are more preferable. Specific examples when R c1 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples when R c1 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

Rc1가 포화 지방족 아실기 또는 포화 지방족 아실옥시기인 경우, 탄소 원자수 2 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자수 2 이상 7 이하가 보다 바람직하다. Rc1가 포화 지방족 아실기인 경우의 구체예로는, 아세틸기, 프로파노일기, n-부타노일기, 2-메틸프로파노일기, n-펜타노일기, 2,2-디메틸프로파노일기, n-헥사노일기, n-헵타노일기, n-옥타노일기, n-노나노일기, n-데카노일기, n-운데카노일기, n-도데카노일기, n-트리데카노일기, n-테트라데카노일기, n-펜타데카노일기 및 n-헥사데카노일기 등을 들 수 있다. Rc1가 포화 지방족 아실옥시기인 경우의 구체예로는, 아세틸옥시기, 프로파노일옥시기, n-부타노일옥시기, 2-메틸프로파노일옥시기, n-펜타노일옥시기, 2,2-디메틸프로파노일옥시기, n-헥사노일옥시기, n-헵타노일옥시기, n-옥타노일옥시기, n-노나노일옥시기, n-데카노일옥시기, n-운데카노일옥시기, n-도데카노일옥시기, n-트리데카노일옥시기, n-테트라데카노일옥시기, n-펜타데카노일옥시기 및 n-헥사데카노일옥시기 등을 들 수 있다.When R c1 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, 2 to 20 carbon atoms is preferable, and 2 to 7 carbon atoms are more preferable. Specific examples when R c1 is a saturated aliphatic acyl group include an acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, and n-hexa Noyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, and n-pentadecanoyl groups and n-hexadecanoyl groups. Specific examples when R c1 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, and 2,2-dimethylpro Panoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n-dodecanoyloxy group , n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group and n-hexadecanoyloxy group.

Rc1가 알콕시카르보닐기인 경우, 탄소 원자수 2 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자수 2 이상 7 이하가 보다 바람직하다. Rc1가 알콕시카르보닐기인 경우의 구체예로는, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, n-프로필옥시카르보닐기, 이소프로필옥시카르보닐기, n-부틸옥시카르보닐기, 이소부틸옥시카르보닐기, sec-부틸옥시카르보닐기, tert-부틸옥시카르보닐기, n-펜틸옥시카르보닐기, 이소펜틸옥시카르보닐기, sec-펜틸옥시카르보닐기, tert-펜틸옥시카르보닐기, n-헥실옥시카르보닐기, n-헵틸옥시카르보닐기, n-옥틸옥시카르보닐기, 이소옥틸옥시카르보닐기, sec-옥틸옥시르카르보닐기, tert-옥틸옥시카르보닐기, n-노닐옥시카르보닐기, 이소노닐옥시카르보닐기, n-데실옥시카르보닐기 및 이소데실옥시카르보닐기 등을 들 수 있다.When R c1 is an alkoxycarbonyl group, 2 to 20 carbon atoms are preferable, and 2 to 7 carbon atoms are more preferable. As a specific example when R c1 is an alkoxycarbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyloxycarbonyl group, tert -Butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group , sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group and isodecyloxycarbonyl group.

Rc1가 페닐알킬기인 경우, 탄소 원자수 7 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자수 7 이상 10 이하가 보다 바람직하다. 또 Rc1가 나프틸알킬기인 경우, 탄소 원자수 11 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자수 11 이상 14 이하가 보다 바람직하다. Rc1가 페닐알킬기인 경우의 구체예로는, 벤질기, 2-페닐에틸기, 3-페닐프로필기 및 4-페닐부틸기를 들 수 있다. Rc1가 나프틸알킬기인 경우의 구체예로는, α-나프틸메틸기, β-나프틸메틸기, 2-(α-나프틸)에틸기 및 2-(β-나프틸)에틸기를 들 수 있다. Rc1가 페닐알킬기 또는 나프틸알킬기인 경우, Rc1는 페닐기 또는 나프틸기 상에 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R c1 is a phenylalkyl group, 7 to 20 carbon atoms is preferable, and 7 to 10 carbon atoms are more preferable. Moreover, when R c1 is a naphthylalkyl group, 11 or more and 20 or less carbon atoms are preferable, and 11 or 14 or less carbon atoms are more preferable. As a specific example when R c1 is a phenylalkyl group, a benzyl group, 2-phenylethyl group, 3-phenylpropyl group, and 4-phenylbutyl group are mentioned. Specific examples when R c1 is a naphthylalkyl group include α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group, 2- (α-naphthyl) ethyl group, and 2- (β-naphthyl) ethyl group. When R c1 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R c1 may further have a substituent on the phenyl group or the naphthyl group.

Rc1가 헤테로시클릴기인 경우, 헤테로시클릴기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이든가, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 헤테로시클릴기이다. 헤테로시클릴기가 축합환인 경우는, 환수 3까지의 것으로 한다. 이러한 헤테로시클릴기를 구성하는 복소환으로는, 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 신놀린 및 퀴녹살린 등을 들 수 있다. Rc1가 헤테로시클릴기인 경우, 헤테로시클릴기는 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R c1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocyclic ring containing one or more N, S, and O, or is a heterocyclyl group condensed between these monocyclic groups or such a monocyclic ring and a benzene ring. When the heterocyclyl group is a condensed ring, it is assumed to be up to 3 in number. Examples of the heterocycle constituting such a heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, Pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzoimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, And phthalazine, synnoline, and quinoxaline. When R c1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

Rc1가 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기인 경우, 유기기의 적합한 예는, 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 알킬기, 탄소 원자수 3 이상 10 이하의 시클로알킬기, 탄소 원자수 2 이상 20 이하의 포화 지방족 아실기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 7 이상 20 이하의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 11 이상 20 이하의 나프틸알킬기 및 헤테로시클릴기 등을 들 수 있다. 이들 적합한 유기기의 구체예는, Rc1와 동일하다. 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기의 구체예로는, 메틸아미노기, 에틸아미노기, 디에틸아미노기, n-프로필아미노기, 디-n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 디-n-부틸아미노기, n-펜틸아미노기, n-헥실아미노기, n-헵틸아미노기, n-옥틸아미노기, n-노닐아미노기, n-데실아미노기, 페닐아미노기, 나프틸아미노기, 아세틸아미노기, 프로파노일아미노기, n-부타노일아미노기, n-펜타노일아미노기, n-헥사노일아미노기, n-헵타노일아미노기, n-옥타노일아미노기, n-데카노일아미노기, 벤조일아미노기, α-나프토일아미노기 및 β-나프토일아미노기 등을 들 수 있다.When R c1 is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, suitable examples of the organic group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 2 to 20 carbon atoms, Saturated aliphatic acyl group, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms or less which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, or a substituent Naphthyl group, a naphthyl alkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a heterocyclyl group, and the like. Specific examples of these suitable organic groups are the same as R c1 . As a specific example of the amino group substituted by the organic group of 1 or 2, methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n-butylamino group, di-n- Butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n- Butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n-decanoylamino group, benzoylamino group, α-naphthoylamino group and β-naphthoylamino group, etc. Can be lifted.

Rc1에 포함되는, 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우의 치환기로는, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알콕시기, 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실옥시기, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기를 가지는 모노알킬아미노기, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기 및 시아노기 등을 들 수 있다. Rc1에 포함되는, 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우, 그 치환기의 수는, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1 이상 4 이하가 바람직하다. Rc1에 포함되는, 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 복수의 치환기를 가지는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.As a substituent in the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c1 further has a substituent, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a number of carbon atoms A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, And dialkylamino groups having an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms, morpholine-1-yl group, piperazin-1-yl group, halogen, nitro group and cyano group. When a phenyl group, a naphthyl group, and a heterocyclyl group included in R c1 further has a substituent, the number of the substituents is not limited within a range not impairing the object of the present invention, but 1 to 4 is preferred. When a phenyl group, a naphthyl group, and a heterocyclyl group included in R c1 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

Rc1 중에서는, 화학적으로 안정된 것이나, 입체적인 장해가 적고, 옥심에스테르 화합물의 합성이 용이하다는 점 등으로부터, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알콕시기, 및 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기가 바람직하고, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬이 보다 바람직하며, 메틸기가 특히 바람직하다.Among R c1 , chemically stable, low steric hindrance, easy synthesis of oxime ester compounds, and the like, alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms, and carbon A group selected from the group consisting of saturated aliphatic acyl groups having 2 to 7 atoms is preferable, alkyl having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and methyl group is particularly preferable.

Rc1가 페닐기에 결합하는 위치는 Rc1가 결합하는 페닐기에 대해서, 페닐기와 옥심에스테르 화합물의 주골격의 결합손의 위치를 1위로 하고, 메틸기의 위치를 2위로 하는 경우에, 4위 또는 5위가 바람직하고, 5위가 보다 바람직하다. 또, n1는 0 이상 3 이하의 정수가 바람직하고, 0 이상 2 이하의 정수가 보다 바람직하며, 0 또는 1이 특히 바람직하다.R c1 is a position bonded to the phenyl group for the phenyl group to the R c1 bond, the position of the coupling hand of the main skeleton of the phenyl group and the oxime ester compound in the case of 2 up on the location of, and a methyl group No. 1, 4th or 5 The stomach is preferred, and the fifth is more preferred. Moreover, n1 is preferably an integer of 0 or more and 3 or less, an integer of 0 or more and 2 or less is more preferable, and 0 or 1 is particularly preferable.

Rc2는 치환기를 가져도 되는 페닐기 또는 치환기를 가져도 되는 카르바졸릴기이다. 또, Rc2가 치환기를 가져도 되는 카르바졸릴기인 경우, 카르바졸릴기 상의 질소 원자는 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기로 치환되어 있어도 된다.R c2 is a phenyl group which may have a substituent or a carbazolyl group which may have a substituent. Moreover, when R c2 is a carbazolyl group which may have a substituent, the nitrogen atom on the carbazolyl group may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

Rc2에 있어서, 페닐기 또는 카르바졸릴기가 가지는 치환기는, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 페닐기 또는 카르바졸릴기가 탄소 원자 상에 가져도 되는 적합한 치환기의 예로는, 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 알킬기, 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 알콕시기, 탄소 원자수 3 이상 10 이하의 시클로알킬기, 탄소 원자수 3 이상 10 이하의 시클로알콕시기, 탄소 원자수 2 이상 20 이하의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자수 2 이상 20 이하의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자수 2 이상 20 이하의 포화 지방족 아실옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 페닐티오기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 7 이상 20 이하의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 11 이상 20 이하의 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기, 아미노기, 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 및 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기 및 시아노기 등을 들 수 있다.In R c2 , the substituent group of the phenyl group or carbazolyl group is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. Examples of suitable substituents which the phenyl group or carbazolyl group may have on the carbon atom include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms , A cycloalkoxy group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 20 carbon atoms , A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a phenylthio group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a benzoyloxy group which may have a substituent , A phenyl alkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, A naphthoyl group which may have ventilation, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms or less, which may have a substituent, or a substituent Heterocyclyl groups, heterocyclylcarbonyl groups which may have a substituent, amino groups, amino groups substituted with 1 or 2 organic groups, morpholine-1-yl groups, and piperazin-1-yl groups, halogens, nitro groups, cyano groups, etc. Can be lifted.

Rc2가 카르바졸릴기인 경우, 카르바졸릴기가 질소 원자 상에 가져도 되는 적합한 치환기의 예로는, 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 알킬기, 탄소 원자수 3 이상 10 이하의 시클로알킬기, 탄소 원자수 2 이상 20 이하의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자수 2 이상 20 이하의 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 7 이상 20 이하의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 11 이상 20 이하의 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기 등을 들 수 있다. 이들 치환기 중에서는, 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 알킬기가 바람직하고, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기가 보다 바람직하며, 에틸기가 특히 바람직하다.When R c2 is a carbazolyl group, examples of suitable substituents that the carbazolyl group may have on the nitrogen atom include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and a number of carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group having 2 or more and 20 or less, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, or a substituent A phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms or less, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, or 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent A naphthyl alkyl group, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent. Among these substituents, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.

페닐기 또는 카르바졸릴기가 가져도 되는 치환기의 구체예에 대해서, 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 알콕시카르보닐기, 포화 지방족 아실옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 및 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기에 관해서는, Rc1와 동일하다.Regarding specific examples of the substituent which the phenyl group or carbazolyl group may have, an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, a phenylalkyl group which may have a substituent, The naphthylalkyl group which may have a substituent, the heterocyclyl group which may have a substituent, and the amino group substituted by the organic group of 1 or 2 are the same as Rc1.

Rc2에 있어서, 페닐기 또는 카르바졸릴기가 가지는 치환기에 포함되는, 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우의 치환기의 예로는, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기; 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알콕시기; 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실기; 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 알콕시카르보닐기; 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실옥시기; 페닐기; 나프틸기; 벤조일기; 나프토일기; 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기에 의해 치환된 벤조일기; 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기를 가지는 모노알킬아미노기; 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기; 모르폴린-1-일기; 피페라진-1-일기; 할로겐; 니트로기; 시아노기를 들 수 있다. 페닐기 또는 카르바졸릴기가 가지는 치환기에 포함되는, 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우, 그 치환기의 수는, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1 이상 4 이하가 바람직하다. 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가, 복수의 치환기를 가지는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.In R c2 , examples of the substituent when a phenyl group, a naphthyl group, and a heterocyclyl group further include a substituent included in a substituent having a phenyl group or a carbazolyl group include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; A saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; An alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; A saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; Phenyl group; Naphthyl group; Benzoyl group; Naphthoyl group; A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholine-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; A monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; Morpholine-1-yl group; Piperazin-1-yl; halogen; Nitro group; And cyano groups. When a phenyl group, a naphthyl group, and a heterocyclyl group included in a substituent having a phenyl group or a carbazolyl group further has a substituent, the number of the substituents is not limited within a range that does not impair the object of the present invention, but is 1 or more 4 or less is preferred. When a phenyl group, a naphthyl group, and a heterocyclyl group have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

Rc2 중에서는, 감도가 뛰어난 광중합 개시제를 얻기 쉽다는 점에서, 하기 식 (c2) 또는 (c3)으로 표시되는 기가 바람직하고, 하기 식 (c2)로 표시되는 기가 보다 바람직하며, 하기 식 (c2)로 표시되는 기로서, A가 S인 기가 특히 바람직하다.In R c2 , the group represented by the following formula (c2) or (c3) is preferable, and the group represented by the following formula (c2) is more preferable from the viewpoint of easy to obtain a photopolymerization initiator having excellent sensitivity, and the following formula (c2) As the group represented by), a group in which A is S is particularly preferable.

Figure pat00016
Figure pat00016

(Rc4는 1가의 유기기, 아미노기, 할로겐, 니트로기 및 시아노기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기이고, A는 S 또는 O이며, n3는 0 이상 4 이하의 정수이다.)(R c4 is a group selected from the group consisting of monovalent organic groups, amino groups, halogens, nitro groups and cyano groups, A is S or O, and n3 is an integer of 0 or more and 4 or less.)

Figure pat00017
Figure pat00017

(Rc5 및 Rc6는 각각 1가의 유기기이다.)(R c5 and R c6 are each a monovalent organic group.)

식 (c2)에서의 Rc4가 유기기인 경우, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 여러 가지의 유기기로부터 선택할 수 있다. 식 (c2)에 있어서 Rc4가 유기기인 경우의 적합한 예로는, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기; 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알콕시기; 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실기; 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 알콕시카르보닐기; 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실옥시기; 페닐기; 나프틸기; 벤조일기; 나프토일기; 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기에 의해 치환된 벤조일기; 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기를 가지는 모노알킬아미노기; 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기; 모르폴린-1-일기; 피페라진-1-일기; 할로겐; 니트로기; 시아노기를 들 수 있다.When R c4 in the formula (c2) is an organic group, it can be selected from various organic groups within a range that does not impair the object of the present invention. A suitable example in the case where R c4 in formula (c2) is an organic group includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; A saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; An alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; A saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; Phenyl group; Naphthyl group; Benzoyl group; Naphthoyl group; A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholine-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; A monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; A dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; Morpholine-1-yl group; Piperazin-1-yl; halogen; Nitro group; And cyano groups.

Rc4 중에서는 벤조일기; 나프토일기; 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기에 의해 치환된 벤조일기; 니트로기가 바람직하고, 벤조일기; 나프토일기; 2-메틸페닐카르보닐기; 4-(피페라진-1-일)페닐카르보닐기; 4-(페닐)페닐카르보닐기가 보다 바람직하다.Among R c4 , a benzoyl group; Naphthoyl group; A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholine-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; Nitro groups are preferred, and benzoyl groups; Naphthoyl group; 2-methylphenylcarbonyl group; 4- (piperazin-1-yl) phenylcarbonyl group; 4- (phenyl) phenylcarbonyl group is more preferable.

또, 식 (c2)에 있어서, n3는 0 이상 3 이하의 정수가 바람직하고, 0 이상 2 이하의 정수가 보다 바람직하며, 0 또는 1인 것이 특히 바람직하다. n3가 1인 경우, Rc4의 결합하는 위치는 Rc4가 결합하는 페닐기가 산소 원자 또는 황 원자와 결합하는 결합손에 대해서, 파라위인 것이 바람직하다.Moreover, in Formula (c2), n3 is preferably an integer of 0 or more and 3 or less, more preferably an integer of 0 or more and 2 or less, and particularly preferably 0 or 1. if n3 is 1, the binding position of R c4 are for the combined hand a phenyl group that is R c4 bond with oxygen atom or a sulfur atom, it is preferred that the para great.

식 (c3)에서의 Rc5는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 여러 가지의 유기기로부터 선택할 수 있다. Rc5의 적합한 예로는, 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 알킬기, 탄소 원자수 3 이상 10 이하의 시클로알킬기, 탄소 원자수 2 이상 20 이하의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자수 2 이상 20 이하의 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 7 이상 20 이하의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 11 이상 20 이하의 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기 등을 들 수 있다.R c5 in the formula (c3) can be selected from various organic groups within a range that does not impair the object of the present invention. Suitable examples of R c5 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, and an alkoxy group having 2 to 20 carbon atoms. A carbonyl group, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms or less which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, A naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a substituent And heterocyclylcarbonyl groups.

Rc5 중에서는, 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 알킬기가 바람직하고, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기가 보다 바람직하며, 에틸기가 특히 바람직하다.Among R c5 , an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.

식 (c3)에서의 Rc6는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지의 유기기로부터 선택할 수 있다. Rc6로서 적합한 기의 구체예로는, 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기를 들 수 있다. Rc6로서 이들 기 중에서는 치환기를 가져도 되는 페닐기가 보다 바람직하고, 2-메틸페닐기가 특히 바람직하다.R c6 in the formula (c3) is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention, and can be selected from various organic groups. Specific examples of the group suitable as R c6 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a heterocyclyl group which may have a substituent. As R c6 , among these groups, a phenyl group which may have a substituent is more preferable, and a 2-methylphenyl group is particularly preferable.

Rc4, Rc5 또는 Rc6에 포함되는, 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우의 치환기로는, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알콕시기, 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실옥시기, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기를 가지는 모노알킬아미노기, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기 및 시아노기 등을 들 수 있다. Rc4, Rc5 또는 Rc6에 포함되는, 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1 이상 4 이하가 바람직하다. Rc4, Rc5 또는 Rc6에 포함되는, 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 복수의 치환기를 가지는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.As a substituent in the case where a phenyl group, a naphthyl group, and a heterocyclyl group included in R c4 , R c5 or R c6 further has a substituent, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, Alkoxy group, saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, alkyl group having 1 to 6 carbon atoms And monoalkylamino groups having, dialkylamino groups having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, morpholine-1-yl group, piperazin-1-yl group, halogen, nitro group and cyano group. When a phenyl group, a naphthyl group, and a heterocyclyl group included in R c4 , R c5 or R c6 further has a substituent, the number of the substituents is not limited to the extent that does not impair the object of the present invention, but is 1 or more 4 The following are preferred. When a phenyl group, a naphthyl group, and a heterocyclyl group included in R c4 , R c5 or R c6 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

식 (c1)에서의 Rc3는 수소 원자, 또는 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기이다. Rc3로는 메틸기 또는 에틸기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.R c3 in the formula (c1) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. As R c3 , a methyl group or an ethyl group is preferable, and a methyl group is more preferable.

식 (c1)로 표시되는 옥심에스테르 화합물 중에서도 특히 적합한 화합물로는, 하기의 PI-1 ∼ PI-42를 들 수 있다.Among the oxime ester compounds represented by formula (c1), the following PI-1 to PI-42 are particularly preferable compounds.

Figure pat00018
Figure pat00018

Figure pat00019
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Figure pat00020
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Figure pat00021
Figure pat00021

Figure pat00022
Figure pat00022

Figure pat00023
Figure pat00023

또, 하기 식 (c4)로 표시되는 옥심에스테르 화합물도, 광중합 개시제(C)로서 바람직하다.Moreover, the oxime ester compound represented by following formula (c4) is also preferable as a photoinitiator (C).

Figure pat00024
Figure pat00024

(Rc7는 수소 원자, 니트로기 또는 1가의 유기기이며, Rc8 및 Rc9는 각각 치환기를 가져도 되는 쇄상 알킬기, 치환기를 가져도 되는 환상 유기기, 또는 수소 원자이며, Rc8와 Rc9는 서로 결합해 환을 형성해도 되고, Rc10는 1가의 유기기이며, Rc11는 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 1 이상 11 이하의 알킬기, 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기이고, n4는 0 이상 4 이하의 정수이며, n5는 0 또는 1이다.)(R c7 is a hydrogen atom, a nitro group, or a monovalent organic group, R c8 and R c9 are each a linear alkyl group which may have a substituent, a cyclic organic group which may have a substituent, or a hydrogen atom, and R c8 and R c9 May combine with each other to form a ring, R c10 is a monovalent organic group, R c11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, n4 is an integer of 0 or more and 4 or less, and n5 is 0 or 1.)

여기서, 식 (c4)의 옥심에스테르 화합물을 제조하기 위한 옥심 화합물로는, 아래 식 (c5)로 표시되는 화합물이 적합하다.Here, as the oxime compound for preparing the oxime ester compound of formula (c4), a compound represented by the formula (c5) below is suitable.

Figure pat00025
Figure pat00025

(Rc7, Rc8, Rc9, Rc10, n4 및 n5는, 식 (c4)과 동일하다.)(R c7 , R c8 , R c9 , R c10 , n4 and n5 are the same as formula (c4).)

식 (c4) 및 (c5) 중, Rc7는 수소 원자, 니트로기 또는 1가의 유기기이다. Rc7는 식 (c4) 중의 플루오렌환 상에서, -(CO)n5-로 표시되는 기에 결합하는 6원 방향환과는 상이한 6원 방향환에 결합한다. 식 (c4) 중, Rc7의 플루오렌환에 대한 결합 위치는 특별히 한정되지 않는다. 식 (c4)로 표시되는 화합물이 1 이상의 Rc7를 가지는 경우, 식 (c4)로 표시되는 화합물의 합성이 용이하다는 점에서, 1 이상의 Rc7 중 하나가 플루오렌환 중의 2위에 결합하는 것이 바람직하다. Rc7가 복수인 경우, 복수의 Rc7는 동일해도 상이해도 된다.In formulas (c4) and (c5), R c7 is a hydrogen atom, a nitro group, or a monovalent organic group. R c7 is bonded to a 6-membered aromatic ring different from a 6-membered aromatic ring bonded to a group represented by- (CO) n5 -on the fluorene ring in formula (c4). In the formula (c4), the binding position of R c7 to the fluorene ring is not particularly limited. In, that it is the synthesis is easy of the compound of formula (c4), when a compound represented by formula (c4) having one or more of R c7, preferably one or more 1, R c7 is to combine over two of the fluorene ring Do. When R c7 is plural, plural R c7 may be the same or different.

Rc7가 유기기인 경우, Rc7는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지의 유기기로부터 적당히 선택된다. Rc7가 유기기인 경우의 적합한 예로는, 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 포화 지방족 아실옥시기, 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기, 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기 및 피페라진-1-일기 등을 들 수 있다.When R c7 is an organic group, R c7 is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention, and is suitably selected from various organic groups. Suitable examples when R c7 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, a phenyl group which may have a substituent, and phenoxy which may have a substituent. Timing, benzoyl group which may have a substituent, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, benzoyloxy group which may have a substituent, phenylalkyl group which may have a substituent, naphthyl group which may have a substituent, naph which may have a substituent Thoxy group, naphthoyl group which may have a substituent, naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, naphthyloxy group which may have a substituent, naphthylalkyl group which may have a substituent, heterocyclyl group which may have a substituent, substituent Heterocyclylcarbonyl group optionally having, an amino group substituted with an organic group of 1 or 2, morpholine-1-yl group and piperazine-1 -Diary and the like.

Rc7가 알킬기인 경우, 알킬기의 탄소 원자수는 1 이상 20 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. 또, Rc7가 알킬기인 경우, 직쇄여도, 분기쇄여도 된다. Rc7가 알킬기인 경우의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기 및 이소데실기 등을 들 수 있다. 또, Rc7가 알킬기인 경우, 알킬기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 알킬기의 예로는, 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기 및 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.When R c7 is an alkyl group, the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 or more and 20 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less. Moreover, when R c7 is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples when R c7 is an alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, and iso Pentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, and n-decyl groups and isodecyl groups. Moreover, when R c7 is an alkyl group, the alkyl group may contain the ether bond (-O-) in a carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethyl group, ethoxyethyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propyloxyethoxyethyl group and methoxypropyl group.

Rc7가 알콕시기인 경우, 알콕시기의 탄소 원자수는 1 이상 20 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. 또, Rc7가 알콕시기인 경우, 직쇄여도, 분기쇄여도 된다. Rc7가 알콕시기인 경우의 구체예로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부틸옥시기, 이소부틸옥시기, sec-부틸옥시기, tert-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, sec-펜틸옥시기, tert-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 이소옥틸옥시기, sec-옥틸옥시기, tert-옥틸옥시기, n-노닐옥시기, 이소노닐옥시기, n-데실옥시기 및 이소데실옥시기 등을 들 수 있다. 또, Rc7가 알콕시기인 경우, 알콕시기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 알콕시기의 예로는, 메톡시에톡시기, 에톡시에톡시기, 메톡시에톡시에톡시기, 에톡시에톡시에톡시기, 프로필옥시에톡시에톡시기 및 메톡시프로필옥시기 등을 들 수 있다.When R c7 is an alkoxy group, the number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably 1 or more and 20 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less. Moreover, when R c7 is an alkoxy group, it may be linear or branched. As a specific example when R c7 is an alkoxy group, methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy Period, n-pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-oc And tiloxy groups, tert-octyloxy groups, n-nonyloxy groups, isononyloxy groups, n-decyloxy groups, and isodecyloxy groups. Moreover, when R c7 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain the ether bond (-O-) in a carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, propyloxyethoxyethoxy group and meth And oxypropyloxy groups.

Rc7가 시클로알킬기 또는 시클로알콕시기인 경우, 시클로알킬기 또는 시클로알콕시기의 탄소 원자수는 3 이상 10 이하가 바람직하고, 3 이상 6 이하가 보다 바람직하다. Rc7가 시클로알킬기인 경우의 구체예로는, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기 및 시클로옥틸기 등을 들 수 있다. Rc7가 시클로알콕시기인 경우의 구체예로는, 시클로프로필옥시기, 시클로부틸옥시기, 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기, 시클로헵틸옥시기 및 시클로옥틸옥시기 등을 들 수 있다.When R c7 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, the number of carbon atoms in the cycloalkyl group or cycloalkoxy group is preferably 3 or more and 10 or less, and more preferably 3 or more and 6 or less. Specific examples when R c7 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples when R c7 is a cycloalkoxy group include cyclopropyloxy group, cyclobutyloxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, cycloheptyloxy group, and cyclooctyloxy group.

Rc7가 포화 지방족 아실기 또는 포화 지방족 아실옥시기인 경우, 포화 지방족 아실기 또는 포화 지방족 아실옥시기의 탄소 원자수는 2 이상 21 이하가 바람직하고, 2 이상 7 이하가 보다 바람직하다. Rc7가 포화 지방족 아실기인 경우의 구체예로는, 아세틸기, 프로파노일기, n-부타노일기, 2-메틸프로파노일기, n-펜타노일기, 2,2-디메틸프로파노일기, n-헥사노일기, n-헵타노일기, n-옥타노일기, n-노나노일기, n-데카노일기, n-운데카노일기, n-도데카노일기, n-트리데카노일기, n-테트라데카노일기, n-펜타데카노일기 및 n-헥사데카노일기 등을 들 수 있다. Rc7가 포화 지방족 아실옥시기인 경우의 구체예로는, 아세틸옥시기, 프로파노일옥시기, n-부타노일옥시기, 2-메틸프로파노일옥시기, n-펜타노일옥시기, 2,2-디메틸프로파노일옥시기, n-헥사노일옥시기, n-헵타노일옥시기, n-옥타노일옥시기, n-노나노일옥시기, n-데카노일옥시기, n-운데카노일옥시기, n-도데카노일옥시기, n-트리데카노일옥시기, n-테트라데카노일옥시기, n-펜타데카노일옥시기 및 n-헥사데카노일옥시기 등을 들 수 있다.When R c7 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms of the saturated aliphatic acyl group or saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 or more and 21 or less, and more preferably 2 or more and 7 or less. Specific examples when R c7 is a saturated aliphatic acyl group include an acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, and n-hexa Noyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, and n-pentadecanoyl groups and n-hexadecanoyl groups. Specific examples when R c7 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, and 2,2-dimethylpro Panoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n-dodecanoyloxy group , n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group and n-hexadecanoyloxy group.

Rc7가 알콕시카르보닐기인 경우, 알콕시카르보닐기의 탄소 원자수는 2 이상 20 이하가 바람직하고, 2 이상 7 이하가 보다 바람직하다. Rc7가 알콕시카르보닐기인 경우의 구체예로는, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, n-프로필옥시카르보닐기, 이소프로필옥시카르보닐기, n-부틸옥시카르보닐기, 이소부틸옥시카르보닐기, sec-부틸옥시카르보닐기, tert-부틸옥시카르보닐기, n-펜틸옥시카르보닐기, 이소펜틸옥시카르보닐기, sec-펜틸옥시카르보닐기, tert-펜틸옥시카르보닐기, n-헥실옥시카르보닐기, n-헵틸옥시카르보닐기, n-옥틸옥시카르보닐기, 이소옥틸옥시카르보닐기, sec-옥틸옥시카르보닐기, tert-옥틸옥시카르보닐기, n-노닐옥시카르보닐기, 이소노닐옥시카르보닐기, n-데실옥시카르보닐기 및 이소데실옥시카르보닐기 등을 들 수 있다.When R c7 is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms in the alkoxycarbonyl group is preferably 2 or more and 20 or less, and more preferably 2 or more and 7 or less. Specific examples when R c7 is an alkoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyloxycarbonyl group, tert -Butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group , sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group and isodecyloxycarbonyl group.

Rc7가 페닐알킬기인 경우, 페닐알킬기의 탄소 원자수는 7 이상 20 이하가 바람직하고, 7 이상 10 이하가 보다 바람직하다. 또, Rc7가 나프틸알킬기인 경우, 나프틸알킬기의 탄소 원자수는 11 이상 20 이하가 바람직하고, 11 이상 14 이하가 보다 바람직하다. Rc7가 페닐알킬기인 경우의 구체예로는, 벤질기, 2-페닐에틸기, 3-페닐프로필기 및 4-페닐부틸기를 들 수 있다. Rc7가 나프틸알킬기인 경우의 구체예로는, α-나프틸메틸기, β-나프틸메틸기, 2-(α-나프틸)에틸기 및 2-(β-나프틸)에틸기를 들 수 있다. Rc7가 페닐알킬기 또는 나프틸알킬기인 경우, Rc7는 페닐기 또는 나프틸기 상에 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R c7 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms in the phenylalkyl group is preferably 7 or more and 20 or less, and more preferably 7 or more and 10 or less. Moreover, when R c7 is a naphthyl alkyl group, the number of carbon atoms of the naphthyl alkyl group is preferably 11 or more and 20 or less, and more preferably 11 or more and 14 or less. As a specific example when R c7 is a phenylalkyl group, a benzyl group, 2-phenylethyl group, 3-phenylpropyl group, and 4-phenylbutyl group are mentioned. Specific examples when R c7 is a naphthylalkyl group include α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group, 2- (α-naphthyl) ethyl group, and 2- (β-naphthyl) ethyl group. When R c7 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R c7 may further have a substituent on the phenyl group or the naphthyl group.

Rc7가 헤테로시클릴기인 경우, 헤테로시클릴기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이든가, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 헤테로시클릴기이다. 헤테로시클릴기가 축합환인 경우는, 환수 3까지의 것으로 한다. 헤테로시클릴기는 방향족기(헤테로아릴기)여도, 비방향족기여도 된다. 이러한 헤테로시클릴기를 구성하는 복소환으로는, 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 신놀린, 퀴녹살린, 피페리딘, 피페라진, 모르폴린, 피페리딘, 테트라히드로피란 및 테트라히드로푸란 등을 들 수 있다. Rc7가 헤테로시클릴기인 경우, 헤테로시클릴기는 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R c7 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocyclic ring containing one or more N, S, O, or a heterocyclyl group condensed between these monocyclic groups or such a monocyclic ring and a benzene ring. When the heterocyclyl group is a condensed ring, it is assumed to be up to 3 in number. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocycle constituting such a heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, Pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzoimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, Phthalazine, synnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran and tetrahydrofuran. When R c7 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

Rc7가 헤테로시클릴카르보닐기인 경우, 헤테로시클릴카르보닐기에 포함되는 헤테로시클릴기는 Rc7가 헤테로시클릴기인 경우와 동일하다.When R c7 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group included in the heterocyclylcarbonyl group is the same as when R c7 is a heterocyclyl group.

Rc7가 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기인 경우, 유기기의 적합한 예는 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 알킬기, 탄소 원자수 3 이상 10 이하의 시클로알킬기, 탄소 원자수 2 이상 21 이하의 포화 지방족 아실기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 7 이상 20 이하의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 11 이상 20 이하의 나프틸알킬기, 및 헤테로시클릴기 등을 들 수 있다. 이들 적합한 유기기의 구체예는, Rc7와 동일하다. 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기의 구체예로는, 메틸아미노기, 에틸아미노기, 디에틸아미노기, n-프로필아미노기, 디-n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 디-n-부틸아미노기, n-펜틸아미노기, n-헥실아미노기, n-헵틸아미노기, n-옥틸아미노기, n-노닐아미노기, n-데실아미노기, 페닐아미노기, 나프틸아미노기, 아세틸아미노기, 프로파노일아미노기, n-부타노일아미노기, n-펜타노일아미노기, n-헥사노일아미노기, n-헵타노일아미노기, n-옥타노일아미노기, n-데카노일아미노기, 벤조일아미노기, α-나프토일아미노기 및 β-나프토일아미노기 등을 들 수 있다.When R c7 is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, suitable examples of the organic group include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, cycloalkyl groups having 2 to 21 carbon atoms, and 21 or less carbon atoms. Saturated aliphatic acyl group, phenyl group which may have a substituent, benzoyl group which may have a substituent, phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms or less which may have a substituent, naphthyl group which may have a substituent, naph which may have a substituent And a naphthyl alkyl group having 11 to 20 carbon atoms and a heterocyclyl group which may have a soil group, a substituent, and the like. Specific examples of these suitable organic groups are the same as R c7 . As a specific example of the amino group substituted by the organic group of 1 or 2, methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n-butylamino group, di-n- Butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n- Butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n-decanoylamino group, benzoylamino group, α-naphthoylamino group and β-naphthoylamino group, etc. Can be lifted.

Rc7에 포함되는, 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우의 치환기로는, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알콕시기, 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실옥시기, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기를 가지는 모노알킬아미노기, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알킬기를 가지는 디알킬아미노기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기 및 시아노기 등을 들 수 있다. Rc7에 포함되는, 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 가지는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1 이상 4 이하가 바람직하다. Rc7에 포함되는, 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 복수의 치환기를 가지는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.As a substituent in the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c7 further has a substituent, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a number of carbon atoms A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, And dialkylamino groups having an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms, morpholine-1-yl group, piperazin-1-yl group, halogen, nitro group and cyano group. When a phenyl group, a naphthyl group, and a heterocyclyl group included in R c7 further has a substituent, the number of the substituents is not limited within a range not impairing the object of the present invention, but 1 to 4 is preferred. When a phenyl group, a naphthyl group, and a heterocyclyl group contained in R c7 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

이상 설명한 기 중에서도, Rc7로는 니트로기 또는 Rc12-CO-로 표시되는 기이면, 감도가 향상되는 경향이 있어 바람직하다. Rc12는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지의 유기기로부터 선택할 수 있다. Rc12로서 적합한 기의 예로는, 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기를 들 수 있다. Rc12로서 이들 기 중에서는, 2-메틸페닐기, 티오펜-2-일기 및 α-나프틸기가 특히 바람직하다.Among the groups described above, R c7 is preferably a nitro group or a group represented by R c12 -CO-, which tends to improve sensitivity and is preferable. R c12 is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention, and can be selected from various organic groups. Examples of the group suitable as R c12 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a heterocyclyl group which may have a substituent. Among these groups as R c12 , 2-methylphenyl group, thiophen-2-yl group and α-naphthyl group are particularly preferable.

또, Rc7가 수소 원자이면, 투명성이 양호해지는 경향이 있어 바람직하다. 또한, Rc7가 수소 원자이고, 또한 Rc10가 후술하는 식 (c4a) 또는 (c4b)으로 표시되는 기이면 투명성은 보다 양호해지는 경향이 있다.Moreover, when R c7 is a hydrogen atom, transparency tends to be good and is preferable. Moreover, if R c7 is a hydrogen atom, and R c10 is a group represented by the following formula (c4a) or (c4b), transparency tends to be better.

식 (c4) 중, Rc8 및 Rc9는 각각 치환기를 가져도 되는 쇄상 알킬기, 치환기를 가져도 되는 환상 유기기 또는 수소 원자이다. Rc8와 Rc9는 서로 결합해 환을 형성해도 된다. 이들 기 중에서는, Rc8 및 Rc9로서 치환기를 가져도 되는 쇄상 알킬기가 바람직하다. Rc8 및 Rc9가 치환기를 가져도 되는 쇄상 알킬기인 경우, 쇄상 알킬기는 직쇄 알킬기여도 분기쇄 알킬기여도 된다.In formula (c4), R c8 and R c9 are each a chain alkyl group which may have a substituent, a cyclic organic group which may have a substituent, or a hydrogen atom. R c8 and R c9 may combine with each other to form a ring. Among these groups, chain alkyl groups which may have a substituent as R c8 and R c9 are preferable. When R c8 and R c9 are a chain alkyl group which may have a substituent, the chain alkyl group may be a straight chain alkyl group or a branched chain alkyl group.

Rc8 및 Rc9가 치환기를 가지지 않는 쇄상 알킬기인 경우, 쇄상 알킬기의 탄소 원자수는 1 이상 20 이하가 바람직하고, 1 이상 10 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 6 이하가 특히 바람직하다. Rc8 및 Rc9가 쇄상 알킬기인 경우의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기 및 이소데실기 등을 들 수 있다. 또, Rc8 및 Rc9가 알킬기인 경우, 알킬기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 가지는 알킬기의 예로는, 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기 및 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.When R c8 and R c9 are a chain alkyl group having no substituent, the number of carbon atoms in the chain alkyl group is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and particularly preferably 1 or more and 6 or less. Specific examples when R c8 and R c9 are a chain alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and n- Pentyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, And isononyl groups, n-decyl groups, and isodecyl groups. Moreover, when R c8 and R c9 are an alkyl group, the alkyl group may contain the ether bond (-O-) in a carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include methoxyethyl group, ethoxyethyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propyloxyethoxyethyl group and methoxypropyl group.

Rc8 및 Rc9가 치환기를 가지는 쇄상 알킬기인 경우, 쇄상 알킬기의 탄소 원자수는 1 이상 20 이하가 바람직하고, 1 이상 10 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 6 이하가 특히 바람직하다. 이 경우, 치환기의 탄소 원자수는 쇄상 알킬기의 탄소 원자수에 포함되지 않는다. 치환기를 가지는 쇄상 알킬기는 직쇄상인 것이 바람직하다.When R c8 and R c9 are a chain alkyl group having a substituent, the number of carbon atoms in the chain alkyl group is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and particularly preferably 1 or more and 6 or less. In this case, the number of carbon atoms in the substituent is not included in the number of carbon atoms in the chain alkyl group. It is preferable that the chain alkyl group which has a substituent is linear.

알킬기가 가져도 되는 치환기는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 치환기의 적합한 예로는, 시아노기, 할로겐 원자, 환상 유기기 및 알콕시카르보닐기를 들 수 있다. 할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. 이들 중에서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자가 바람직하다. 환상 유기기로는, 시클로알킬기, 방향족 탄화수소기, 헤테로시클릴기를 들 수 있다. 시클로알킬기의 구체예로는, Rc7가 시클로알킬기인 경우의 적합한 예와 동일하다. 방향족 탄화수소기의 구체예로는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐일기, 안트릴기 및 페난트릴기 등을 들 수 있다. 헤테로시클릴기의 구체예로는, Rc7가 헤테로시클릴기인 경우의 적합한 예와 동일하다. Rc7가 알콕시카르보닐기인 경우, 알콕시카르보닐기에 포함되는 알콕시기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 되고, 직쇄상이 바람직하다. 알콕시카르보닐기에 포함되는 알콕시기의 탄소 원자수는 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다.The substituent which an alkyl group may have is not specifically limited in the range which does not inhibit the objective of this invention. Suitable examples of the substituent include cyano group, halogen atom, cyclic organic group and alkoxycarbonyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Among these, fluorine atom, chlorine atom and bromine atom are preferable. Cycloalkyl group, aromatic hydrocarbon group, heterocyclyl group is mentioned as a cyclic organic group. As a specific example of a cycloalkyl group, it is the same as a suitable example when R c7 is a cycloalkyl group. As a specific example of an aromatic hydrocarbon group, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, etc. are mentioned. As a specific example of a heterocyclyl group, it is the same as a suitable example when R c7 is a heterocyclyl group. When R c7 is an alkoxycarbonyl group, the alkoxy group included in the alkoxycarbonyl group may be linear or branched, and linear is preferable. The number of carbon atoms in the alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group is preferably 1 or more and 10 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less.

쇄상 알킬기가 치환기를 가지는 경우, 치환기의 수는 특별히 한정되지 않는다. 바람직한 치환기의 수는 쇄상 알킬기의 탄소 원자수에 따라 달라진다. 치환기의 수는 전형적으로는 1 이상 20 이하이며, 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다.When a chain alkyl group has a substituent, the number of substituents is not specifically limited. The number of preferred substituents depends on the number of carbon atoms in the chain alkyl group. The number of substituents is typically 1 or more and 20 or less, preferably 1 or more and 10 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less.

Rc8 및 Rc9가 환상 유기기인 경우, 환상 유기기는 지환식기여도, 방향족기여도 된다. 환상 유기기로는, 지방족 환상 탄화수소기, 방향족 탄화수소기, 헤테로시클릴기를 들 수 있다. Rc8 및 Rc9가 환상 유기기인 경우에, 환상 유기기가 가져도 되는 치환기는 Rc8 및 Rc9가 쇄상 알킬기인 경우와 동일하다.When R c8 and R c9 are cyclic organic groups, the cyclic organic group may be an alicyclic group or an aromatic group. Examples of the cyclic organic group include aliphatic cyclic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and heterocyclyl groups. When R c8 and R c9 are cyclic organic groups, the substituents that the cyclic organic group may have are the same as those in which R c8 and R c9 are chain alkyl groups.

Rc8 및 Rc9가 방향족 탄화수소기인 경우, 방향족 탄화수소기는 페닐기이든가, 복수의 벤젠환이 탄소-탄소 결합을 통해서 결합해 형성되는 기이든가, 복수의 벤젠환이 축합해 형성되는 기인 것이 바람직하다. 방향족 탄화수소기가 페닐기이든가, 복수의 벤젠환이 결합 또는 축합해 형성되는 기인 경우, 방향족 탄화수소기에 포함되는 벤젠환의 환수는 특별히 한정되지 않고, 3 이하가 바람직하고, 2 이하가 보다 바람직하며, 1이 특히 바람직하다. 방향족 탄화수소기의 바람직한 구체예로는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐일기, 안트릴기 및 페난트릴기 등을 들 수 있다.When R c8 and R c9 are aromatic hydrocarbon groups, the aromatic hydrocarbon group is preferably a phenyl group, a group formed by bonding a plurality of benzene rings through a carbon-carbon bond, or a group formed by condensation of a plurality of benzene rings. When the aromatic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by bonding or condensation of a plurality of benzene rings, the number of benzene rings contained in the aromatic hydrocarbon group is not particularly limited, 3 or less is preferable, 2 or less is more preferable, and 1 is particularly preferable. Do. Preferable specific examples of the aromatic hydrocarbon group include phenyl group, naphthyl group, biphenylyl group, anthryl group and phenanthryl group.

Rc8 및 Rc9가 지방족 환상 탄화수소기인 경우, 지방족 환상 탄화수소기는 단환식이어도 다환식이어도 된다. 지방족 환상 탄화수소기의 탄소 원자수는 특별히 한정되지 않지만, 3 이상 20 이하가 바람직하고, 3 이상 10 이하가 보다 바람직하다. 단환식의 환상 탄화수소기의 예로는, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 노르보르닐기, 이소보르닐기, 트리시클로노닐기, 트리시클로데실기, 테트라시클로도데실기 및 아다만틸기 등을 들 수 있다.When R c8 and R c9 are aliphatic cyclic hydrocarbon groups, the aliphatic cyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. Although the number of carbon atoms of an aliphatic cyclic hydrocarbon group is not specifically limited, 3 or more and 20 or less are preferable, and 3 or more and 10 or less are more preferable. Examples of the monocyclic cyclic hydrocarbon group include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, norbornyl group, isobornyl group, tricyclononyl group, and tricyclode. And a silyl group, a tetracyclododecyl group, and an adamantyl group.

Rc8 및 Rc9가 헤테로시클릴기인 경우, 헤테로시클릴기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이든가, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 헤테로시클릴기이다. 헤테로시클릴기가 축합환인 경우는, 환수 3까지의 것으로 한다. 헤테로시클릴기는 방향족기(헤테로아릴기)여도, 비방향족기여도 된다. 이러한 헤테로시클릴기를 구성하는 복소환으로는, 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 신놀린, 퀴녹살린, 피페리딘, 피페라진, 모르폴린, 피페리딘, 테트라히드로피란 및 테트라히드로푸란 등을 들 수 있다.When R c8 and R c9 are heterocyclyl groups, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocyclic ring containing one or more N, S, O, or heterocycles condensed between these monocyclic rings or benzene ring. It's Lil. When the heterocyclyl group is a condensed ring, it is assumed to be up to 3 in number. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocycle constituting such a heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, Pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzoimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, Phthalazine, synnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran and tetrahydrofuran.

Rc8와 Rc9는 서로 결합해 환을 형성해도 된다. Rc8와 Rc9가 형성하는 환으로 이루어진 기는 시클로알킬리덴기인 것이 바람직하다. Rc8와 Rc9가 결합해 시클로알킬리덴기를 형성하는 경우, 시클로알킬리덴기를 구성하는 환은 5원환∼6원환인 것이 바람직하고, 5원환인 것이 보다 바람직하다.R c8 and R c9 may combine with each other to form a ring. The group consisting of rings formed by R c8 and R c9 is preferably a cycloalkylidene group. When R c8 and R c9 are combined to form a cycloalkylidene group, the ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a 5- to 6-membered ring, and more preferably a 5-membered ring.

Rc8와 Rc9가 결합해 형성하는 기가 시클로알킬리덴기인 경우, 시클로알킬리덴기는 1 이상의 다른 환과 축합하고 있어도 된다. 시클로알킬리덴기와 축합하고 있어도 되는 환의 예로는, 벤젠환, 나프탈렌환, 시클로부탄환, 시클로펜탄환, 시클로헥산환, 시클로헵탄환, 시클로옥탄환, 푸란환, 티오펜환, 피롤환, 피리딘환, 피라진환 및 피리미딘환 등을 들 수 있다.When the group formed by bonding of R c8 and R c9 is a cycloalkylidene group, the cycloalkylidene group may be condensed with one or more other rings. Examples of the ring which may be condensed with a cycloalkylidene group include benzene ring, naphthalene ring, cyclobutane ring, cyclopentane ring, cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclooctane ring, furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, pyridine ring , Pyrazine ring and pyrimidine ring.

이상 설명한 Rc8 및 Rc9 중에서도 적합한 기의 예로는, 식 -A1-A2로 표시되는 기를 들 수 있다. 식 중, A1는 직쇄 알킬렌기이며, A2는 알콕시기, 시아노기, 할로겐 원자, 할로겐화 알킬기, 환상 유기기, 또는 알콕시카르보닐기이다.Examples of suitable groups among R c8 and R c9 described above include groups represented by formulas -A 1 -A 2 . In the formula, A 1 is a straight chain alkylene group, and A 2 is an alkoxy group, a cyano group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a cyclic organic group, or an alkoxycarbonyl group.

A1의 직쇄 알킬렌기의 탄소 원자수는 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. A2가 알콕시기인 경우, 알콕시기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 되고, 직쇄상이 바람직하다. 알콕시기의 탄소 원자수는 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. A2가 할로겐 원자인 경우, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자가 바람직하고, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자가 보다 바람직하다. A2가 할로겐화 알킬기인 경우, 할로겐화 알킬기에 포함되는 할로겐 원자는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자가 바람직하고, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자가 보다 바람직하다. 할로겐화 알킬기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 되고, 직쇄상이 바람직하다. A2가 환상 유기기인 경우, 환상 유기기의 예는 Rc8 및 Rc9가 치환기로서 가지는 환상 유기기와 동일하다. A2가 알콕시카르보닐기인 경우, 알콕시카르보닐기의 예는 Rc8 및 Rc9가 치환기로서 가지는 알콕시카르보닐기와 동일하다.The number of carbon atoms in the straight chain alkylene group of A 1 is preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 6. When A 2 is an alkoxy group, the alkoxy group may be linear or branched, and linear is preferable. The number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably 1 or more and 10 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less. When A 2 is a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are preferable, and a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom are more preferable. When A 2 is a halogenated alkyl group, the halogen atom contained in the halogenated alkyl group is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and more preferably a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom. The halogenated alkyl group may be linear or branched, and preferably linear. When A 2 is a cyclic organic group, examples of the cyclic organic group are the same as the cyclic organic group that R c8 and R c9 have as a substituent. When A 2 is an alkoxycarbonyl group, examples of the alkoxycarbonyl group are the same as the alkoxycarbonyl groups R c8 and R c9 have as substituents.

Rc8 및 Rc9의 적합한 구체예로는, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-헥실기, n-헵틸기 및 n-옥틸기 등의 알킬기; 2-메톡시에틸기, 3-메톡시-n-프로필기, 4-메톡시-n-부틸기, 5-메톡시-n-펜틸기, 6-메톡시-n-헥실기, 7-메톡시-n-헵틸기, 8-메톡시-n-옥틸기, 2-에톡시에틸기, 3-에톡시-n-프로필기, 4-에톡시-n-부틸기, 5-에톡시-n-펜틸기, 6-에톡시-n-헥실기, 7-에톡시-n-헵틸기 및 8-에톡시-n-옥틸기 등의 알콕시알킬기; 2-시아노에틸기, 3-시아노-n-프로필기, 4-시아노-n-부틸기, 5-시아노-n-펜틸기, 6-시아노-n-헥실기, 7-시아노-n-헵틸기 및 8-시아노-n-옥틸기 등의 시아노알킬기; 2-페닐에틸기, 3-페닐-n-프로필기, 4-페닐-n-부틸기, 5-페닐-n-펜틸기, 6-페닐-n-헥실기, 7-페닐-n-헵틸기 및 8-페닐-n-옥틸기 등의 페닐알킬기; 2-시클로헥실에틸기, 3-시클로헥실-n-프로필기, 4-시클로헥실-n-부틸기, 5-시클로헥실-n-펜틸기, 6-시클로헥실-n-헥실기, 7-시클로헥실-n-헵틸기, 8-시클로헥실-n-옥틸기, 2-시클로펜틸에틸기, 3-시클로펜틸-n-프로필기, 4-시클로펜틸-n-부틸기, 5-시클로펜틸-n-펜틸기, 6-시클로펜틸-n-헥실기, 7-시클로펜틸-n-헵틸기 및 8-시클로펜틸-n-옥틸기 등의 시클로알킬알킬기; 2-메톡시카르보닐에틸기, 3-메톡시카르보닐-n-프로필기, 4-메톡시카르보닐-n-부틸기, 5-메톡시카르보닐-n-펜틸기, 6-메톡시카르보닐-n-헥실기, 7-메톡시카르보닐-n-헵틸기, 8-메톡시카르보닐-n-옥틸기, 2-에톡시카르보닐에틸기, 3-에톡시카르보닐-n-프로필기, 4-에톡시카르보닐-n-부틸기, 5-에톡시카르보닐-n-펜틸기, 6-에톡시카르보닐-n-헥실기, 7-에톡시카르보닐-n-헵틸기 및 8-에톡시카르보닐-n-옥틸기 등의 알콕시카르보닐알킬기; 2-클로로에틸기, 3-클로로-n-프로필기, 4-클로로-n-부틸기, 5-클로로-n-펜틸기, 6-클로로-n-헥실기, 7-클로로-n-헵틸기, 8-클로로-n-옥틸기, 2-브로모에틸기, 3-브로모-n-프로필기, 4-브로모-n-부틸기, 5-브로모-n-펜틸기, 6-브로모-n-헥실기, 7-브로모-n-헵틸기, 8-브로모-n-옥틸기, 3,3,3-트리플루오로프로필기 및 3,3,4,4,5,5,5-헵타플루오로-n-펜틸기 등의 할로겐화 알킬기를 들 수 있다.Suitable examples of R c8 and R c9 include alkyl groups such as ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-hexyl group, n-heptyl group and n-octyl group; 2-methoxyethyl group, 3-methoxy-n-propyl group, 4-methoxy-n-butyl group, 5-methoxy-n-pentyl group, 6-methoxy-n-hexyl group, 7-methoxy -n-heptyl group, 8-methoxy-n-octyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-ethoxy-n-propyl group, 4-ethoxy-n-butyl group, 5-ethoxy-n-phen Alkoxyalkyl groups such as a til group, 6-ethoxy-n-hexyl group, 7-ethoxy-n-heptyl group and 8-ethoxy-n-octyl group; 2-cyanoethyl group, 3-cyano-n-propyl group, 4-cyano-n-butyl group, 5-cyano-n-pentyl group, 6-cyano-n-hexyl group, 7-cyano group cyanoalkyl groups such as -n-heptyl group and 8-cyano-n-octyl group; 2-phenylethyl group, 3-phenyl-n-propyl group, 4-phenyl-n-butyl group, 5-phenyl-n-pentyl group, 6-phenyl-n-hexyl group, 7-phenyl-n-heptyl group and Phenyl alkyl groups such as 8-phenyl-n-octyl group; 2-cyclohexylethyl group, 3-cyclohexyl-n-propyl group, 4-cyclohexyl-n-butyl group, 5-cyclohexyl-n-pentyl group, 6-cyclohexyl-n-hexyl group, 7-cyclohexyl -n-heptyl group, 8-cyclohexyl-n-octyl group, 2-cyclopentylethyl group, 3-cyclopentyl-n-propyl group, 4-cyclopentyl-n-butyl group, 5-cyclopentyl-n-phen Cycloalkyl alkyl groups such as a til group, 6-cyclopentyl-n-hexyl group, 7-cyclopentyl-n-heptyl group and 8-cyclopentyl-n-octyl group; 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl group, 4-methoxycarbonyl-n-butyl group, 5-methoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-methoxycarbonyl -n-hexyl group, 7-methoxycarbonyl-n-heptyl group, 8-methoxycarbonyl-n-octyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 4-ethoxycarbonyl-n-butyl group, 5-ethoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-ethoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-ethoxycarbonyl-n-heptyl group and 8- Alkoxycarbonylalkyl groups such as ethoxycarbonyl-n-octyl group; 2-chloroethyl group, 3-chloro-n-propyl group, 4-chloro-n-butyl group, 5-chloro-n-pentyl group, 6-chloro-n-hexyl group, 7-chloro-n-heptyl group, 8-chloro-n-octyl group, 2-bromoethyl group, 3-bromo-n-propyl group, 4-bromo-n-butyl group, 5-bromo-n-pentyl group, 6-bromo- n-hexyl group, 7-bromo-n-heptyl group, 8-bromo-n-octyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group and 3,3,4,4,5,5,5 And halogenated alkyl groups such as -heptafluoro-n-pentyl group.

Rc8 및 Rc9로서, 상기 중에서도 적합한 기는 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, 2-메톡시에틸기, 2-시아노에틸기, 2-페닐에틸기, 2-시클로헥실에틸기, 2-메톡시카르보닐에틸기, 2-클로로에틸기, 2-브로모에틸기, 3,3,3-트리플루오로프로필기 및 3,3,4,4,5,5 5-헵타플루오로-n-펜틸기이다.Among R c8 and R c9 , suitable groups among the above are ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-phenylethyl group, and 2-cyclohexylethyl group. , 2-methoxycarbonylethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group and 3,3,4,4,5,5 5-heptafluoro-n -It is a pentyl group.

Rc10의 적합한 유기기의 예로는, Rc7와 동일하게 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 알콕시카르보닐기, 포화 지방족 아실옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기, 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기 및 피페라진-1-일기 등을 들 수 있다. 이들 기의 구체예는, Rc7에 대해 설명한 기와 동일하다. 또, Rc10로는 시클로알킬알킬기, 방향환 상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페녹시알킬기, 방향환 상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기도 바람직하다. 페녹시알킬기 및 페닐티오알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기는 Rc7에 포함되는 페닐기가 가지고 있어도 되는 치환기와 동일하다.Examples of suitable organic groups for R c10 include alkyl groups, alkoxy groups, cycloalkyl groups, cycloalkoxy groups, saturated aliphatic acyl groups, alkoxycarbonyl groups, saturated aliphatic acyloxy groups, phenyl groups which may have substituents, and substituents similar to R c7 . A phenoxy group which may have, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a benzoyloxy group which may have a substituent, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent A naphthoxy group which may have, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a hetero which may have a substituent A cyclyl group, a heterocyclylcarbonyl group optionally having a substituent, an amino group substituted with an organic group of 1 or 2, a morpholine-1-yl group, and Blow binary there may be mentioned 1-yl group and the like. The specific examples of these groups are the same as those described for R c7 . Moreover, as Rc10 , a cycloalkyl alkyl group, a phenoxyalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, and a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring are also preferable. The substituent which the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have is the same as the substituent which the phenyl group contained in R c7 may have.

유기기 중에서도 Rc10로는, 알킬기, 시클로알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기 또는 시클로알킬알킬기, 방향환 상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기가 바람직하다. 알킬기로는, 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 알킬기가 바람직하고, 탄소 원자수 1 이상 8 이하의 알킬기가 보다 바람직하며, 탄소 원자수 1 이상 4 이하의 알킬기가 특히 바람직하고, 메틸기가 가장 바람직하다. 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기 중에서는, 메틸페닐기가 바람직하고, 2-메틸페닐기가 보다 바람직하다. 시클로알킬알킬기에 포함되는 시클로알킬기의 탄소 원자수는 5 이상 10 이하가 바람직하고, 5 이상 8 이하가 보다 바람직하며, 5 또는 6이 특히 바람직하다. 시클로알킬알킬기에 포함되는 알킬렌기의 탄소 원자수는 1 이상 8 이하가 바람직하고, 1 이상 4 이하가 보다 바람직하며, 2가 특히 바람직하다. 시클로알킬알킬기 중에서는, 시클로펜틸에틸기가 바람직하다. 방향환 상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기에 포함되는 알킬렌기의 탄소 원자수는 1 이상 8 이하가 바람직하고, 1 이상 4 이하가 보다 바람직하며, 2가 특히 바람직하다. 방향환 상에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기 중에서는, 2-(4-클로로페닐티오)에틸기가 바람직하다.Among organic groups, R c10 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, or a cycloalkylalkyl group, or a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferred, and a methyl group is most preferred. . Among the phenyl groups which may have a substituent, a methylphenyl group is preferable, and a 2-methylphenyl group is more preferable. The number of carbon atoms in the cycloalkyl group included in the cycloalkylalkyl group is preferably 5 or more and 10 or less, more preferably 5 or more and 8 or less, and particularly preferably 5 or 6. The number of carbon atoms in the alkylene group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 1 or more and 8 or less, more preferably 1 or more and 4 or less, and 2 is particularly preferable. Among the cycloalkyl alkyl groups, a cyclopentyl ethyl group is preferable. The number of carbon atoms in the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring is preferably 1 or more and 8 or less, more preferably 1 or more and 4 or less, and 2 is particularly preferable. Among the phenylthioalkyl groups which may have a substituent on the aromatic ring, a 2- (4-chlorophenylthio) ethyl group is preferable.

또, Rc10로는 -A3-CO-O-A4로 표시되는 기도 바람직하다. A3는 2가의 유기기이며, 2가의 탄화수소기인 것이 바람직하고, 알킬렌기인 것이 바람직하다. A4는 1가의 유기기이며, 1가의 탄화수소기인 것이 바람직하다.Moreover, the group represented by -A 3 -CO-OA 4 is also preferable as R c10 . A 3 is a divalent organic group, preferably a divalent hydrocarbon group, and preferably an alkylene group. A 4 is a monovalent organic group, and is preferably a monovalent hydrocarbon group.

A3가 알킬렌기인 경우, 알킬렌기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 되고, 직쇄상이 바람직하다. A3가 알킬렌기인 경우, 알킬렌기의 탄소 원자수는 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 4 이하가 특히 바람직하다.When A 3 is an alkylene group, the alkylene group may be linear or branched, and preferably linear. When A 3 is an alkylene group, the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1 or more and 10 or less, more preferably 1 or more and 6 or less, and particularly preferably 1 or more and 4 or less.

A4의 적합한 예로는, 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 알킬기, 탄소 원자수 7 이상 20 이하의 아랄킬기, 및 탄소 원자수 6 이상 20 이하의 방향족 탄화수소기를 들 수 있다. A4의 적합한 구체예로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 페닐기, 나프틸기, 벤질기, 페네틸기, α-나프틸메틸기 및 β-나프틸메틸기 등을 들 수 있다.Suitable examples of A 4 include alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms, and aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms. Suitable examples of A 4 are methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group , Phenyl group, naphthyl group, benzyl group, phenethyl group, α-naphthylmethyl group and β-naphthylmethyl group.

-A3-CO-O-A4로 표시되는 기의 적합한 구체예로는, 2-메톡시카르보닐에틸기, 2-에톡시카르보닐에틸기, 2-n-프로필옥시카르보닐에틸기, 2-n-부틸옥시카르보닐에틸기, 2-n-펜틸옥시카르보닐에틸기, 2-n-헥실옥시카르보닐에틸기, 2-벤질옥시카르보닐에틸기, 2-페녹시카르보닐에틸기, 3-메톡시카르보닐-n-프로필기, 3-에톡시카르보닐-n-프로필기, 3-n-프로필옥시카르보닐-n-프로필기, 3-n-부틸옥시카르보닐-n-프로필기, 3-n-펜틸옥시카르보닐-n-프로필기, 3-n-헥실옥시카르보닐-n-프로필기, 3-벤질옥시카르보닐-n-프로필기 및 3-페녹시카르보닐-n-프로필기 등을 들 수 있다.Suitable examples of the group represented by -A 3 -CO-OA 4 include 2-methoxycarbonylethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 2-n-propyloxycarbonylethyl group, 2-n-butyl Oxycarbonylethyl group, 2-n-pentyloxycarbonylethyl group, 2-n-hexyloxycarbonylethyl group, 2-benzyloxycarbonylethyl group, 2-phenoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n -Propyl group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-propyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-butyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-pentyloxy And carbonyl-n-propyl groups, 3-n-hexyloxycarbonyl-n-propyl groups, 3-benzyloxycarbonyl-n-propyl groups, and 3-phenoxycarbonyl-n-propyl groups. have.

이상, Rc10에 대해 설명했지만, Rc10로는 하기 식 (c4a) 또는 (c4b)로 표시되는 기가 바람직하다.Above it has been described for the R c10, R c10 is preferably a group represented by the following formula (c4a) or (c4b) roneun.

Figure pat00026
Figure pat00026

(식 (c4a) 및 (c4b) 중, Rc13 및 Rc14는 각각 유기기이고, n6는 0 이상 4 이하의 정수이며, Rc13 및 Rc14가 벤젠환 상의 인접하는 위치에 존재하는 경우, Rc13와 Rc14가 서로 결합해 환을 형성해도 되고, n7는 1 이하 8 이하의 정수이며, n8는 1 이상 5 이하의 정수이고, n9는 0 이상 (n8+3) 이하의 정수이며, Rc15는 유기기이다.)(In the formulas (c4a) and (c4b), R c13 and R c14 are each an organic group, n6 is an integer of 0 or more and 4 or less, and when R c13 and R c14 are in adjacent positions on the benzene ring, R c13 and R c14 may combine with each other to form a ring, n7 is an integer of 1 or less and 8 or less, n8 is an integer of 1 or more and 5 or less, n9 is an integer of 0 or more (n8 + 3) or less, and R c15 is significant. Device.)

식 (c4a) 중의 Rc13 및 Rc14에 대한 유기기의 예는, Rc7와 동일하다. Rc13로는, 알킬기 또는 페닐기가 바람직하다. Rc13가 알킬기인 경우, 그 탄소 원자수는 1 이하 10 이상이 바람직하고, 1 이상 5 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 3 이하가 특히 바람직하고, 1이 가장 바람직하다. 즉, Rc13는 메틸기인 것이 가장 바람직하다. Rc13와 Rc14가 결합해 환을 형성하는 경우, 상기 환은 방향족환이어도, 지방족환이어도 된다. 식 (c4a)로 표시되는 기로서, Rc13와 Rc14가 환을 형성하고 있는 기의 적합한 예로는, 나프탈렌-1-일기나, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-5-일기 등을 들 수 있다. 상기 식 (c4a) 중, n6는 0 이상 4 이하의 정수이며, 0 또는 1인 것이 바람직하고, 0인 것이 보다 바람직하다. Examples of the organic groups for R c13 and R c14 in the formula (c4a) are the same as R c7 . As R c13 , an alkyl group or a phenyl group is preferable. When R c13 is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1 or less and 10 or more, more preferably 1 or more and 5 or less, particularly preferably 1 or more and 3 or less, and 1 is most preferred. That is, R c13 is most preferably a methyl group. When R c13 and R c14 combine to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. As a group represented by formula (c4a), suitable examples of the group in which R c13 and R c14 form a ring include a naphthalene-1-yl group, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalen-5-yl group, and the like. Can be mentioned. In the formula (c4a), n6 is an integer of 0 or more and 4 or less, preferably 0 or 1, and more preferably 0.

상기 식 (c4b) 중, Rc15는 유기기이다. 유기기로는, Rc7에 대해 설명한 유기기와 동일한 기를 들 수 있다. 유기기 중에서는, 알킬기가 바람직하다. 알킬기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 된다. 알킬기의 탄소 원자수는 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 5 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 3 이하가 특히 바람직하다. Rc15로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기 등이 바람직하게 예시되고, 이들 중에서도, 메틸기인 것이 보다 바람직하다.In the formula (c4b), R c15 is an organic group. Examples of the organic group include the same groups as the organic group described for R c7 . Among organic groups, an alkyl group is preferred. The alkyl group may be linear or branched. The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 or more and 10 or less, more preferably 1 or more and 5 or less, particularly preferably 1 or more and 3 or less. As R c15 , a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group and the like are preferably exemplified, and among these, a methyl group is more preferable.

상기 식 (c4b) 중, n8는 1 이상 5 이하의 정수이고, 1 이상 3 이하의 정수가 바람직하며, 1 또는 2가 보다 바람직하다. 상기 식 (c4b) 중, n9는 0 이상 (n8+3) 이하이며, 0 이상 3 이하의 정수가 바람직하고, 0 이상 2 이하의 정수가 보다 바람직하며, 0이 특히 바람직하다. 상기 식 (c4b) 중, n7는 1 이상 8 이하의 정수이며, 1 이상 5 이하의 정수가 바람직하고, 1 이상 3 이하의 정수가 보다 바람직하며, 1 또는 2가 특히 바람직하다.In the formula (c4b), n8 is an integer of 1 or more and 5 or less, an integer of 1 or more and 3 or less is preferable, and 1 or 2 is more preferable. In the formula (c4b), n9 is 0 or more (n8 + 3) or less, an integer of 0 or more and 3 or less is preferable, an integer of 0 or more and 2 or less is more preferable, and 0 is particularly preferable. In the formula (c4b), n7 is an integer of 1 or more and 8 or less, an integer of 1 or more and 5 or less is preferable, an integer of 1 or more and 3 or less is more preferable, and 1 or 2 is particularly preferable.

식 (c4) 중, Rc11는 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 1 이상 11 이하의 알킬기, 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기이다. Rc11가 알킬기인 경우에 가져도 되는 치환기로는, 페닐기, 나프틸기 등이 바람직하게 예시된다. 또, Rc7가 아릴기인 경우에 가져도 되는 치환기로는, 탄소 원자수 1 이상 5 이하의 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자 등이 바람직하게 예시된다.In formula (c4), R c11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms, which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. As a substituent which R c11 may have when it is an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, etc. are illustrated preferably. Moreover, as a substituent which may be taken when R c7 is an aryl group, a C1-C5 alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, etc. are illustrated preferably.

식 (c4) 중, Rc11로는 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 페닐기, 벤질기, 메틸페닐기, 나프틸기 등이 바람직하게 예시되고, 이들 중에서도, 메틸기 또는 페닐기가 보다 바람직하다.In formula (c4), R c11 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a phenyl group, a benzyl group, a methylphenyl group, or a naphthyl group, among them, The methyl group or phenyl group is more preferable.

식 (c4)로 표시되는 화합물은 전술한 식 (c5)로 표시되는 화합물에 포함되는 옥심기(>C=N-OH)를, >C=N-O-CORc11로 표시되는 옥심에스테르기로 변환하는 공정을 포함하는 방법에 의해 제조된다. Rc11는 식 (c4) 중의 Rc11와 동일하다.The compound represented by Formula (c4) is a step of converting the oxime group (> C = N-OH) contained in the compound represented by Formula (c5) described above to an oxime ester group represented by> C = NO-COR c11 . It is prepared by a method comprising a. R c11 and R c11 are the same as in the formula (c4).

옥심기(>C=N-OH)의, >C=N-O-CORc11로 표시되는 옥심에스테르기로의 변환은, 전술한 식 (c5)로 표시되는 화합물과 아실화제를 반응시킴으로써 행해진다.The conversion of the oxime group (> C = N-OH) to the oxime ester group represented by> C = NO-COR c11 is performed by reacting the compound represented by the formula (c5) with an acylating agent.

-CORc11로 표시되는 아실기를 부여하는 아실화제로는, (Rc11CO)2O로 표시되는 산 무수물이나, Rc11COHal(Hal는 할로겐 원자)로 표시되는 산 할라이드를 들 수 있다.Examples of the acylating agent that provides the acyl group represented by -COR c11 include an acid anhydride represented by (R c11 CO) 2 O and an acid halide represented by R c11 COHal (Hal is a halogen atom).

식 (c4)로 표시되는 화합물의 적합한 구체예로는, 이하의 PI-43 ∼ PI-83을 들 수 있다.The following PI-43-PI-83 are mentioned as a suitable specific example of the compound represented by Formula (c4).

Figure pat00027
Figure pat00027

Figure pat00028
Figure pat00028

이들 중에서도, 옥심계의 광중합 개시제를 이용하는 것이 감도의 면에서 바람직하고, 식 (c1)로 표시되는 옥심계 화합물, 식 (c4)로 표시되는 옥심에스테르 화합물, 또는 플루오렌 골격 혹은 카르바졸릴 골격이고, 또한 니트로기를 가지는 옥심에스테르 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 더욱 바람직하다.Among these, the use of an oxime-based photopolymerization initiator is preferable from the viewpoint of sensitivity, and is an oxime-based compound represented by formula (c1), an oxime ester compound represented by formula (c4), or a fluorene skeleton or carbazolyl skeleton Further, it is more preferable that it is at least one member selected from the group consisting of oxime ester compounds having a nitro group.

감광성 수지 조성물에 있어서, 광중합 개시제(C)의 함유량은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 광중합 개시제(C)의 함유량은 감광성 수지 조성물의 고형분의 중량에 대해서 0.1 중량% 이상 20 중량% 이하가 바람직하고, 0.3 중량% 이상 10 중량% 이하가 보다 바람직하다.In the photosensitive resin composition, the content of the photopolymerization initiator (C) is not particularly limited within a range that does not impair the object of the present invention, the content of the photopolymerization initiator (C) is 0.1% by weight or more with respect to the weight of the solid content of the photosensitive resin composition 20 weight% or less is preferable, and 0.3 weight% or more and 10 weight% or less is more preferable.

<(D) 증감제><(D) sensitizer>

감광성 수지 조성물은 상기의 (C) 광중합 개시제와 함께 (D) 증감제를 함유할 수 있다. 감광성 수지 조성물이 (C) 광중합 개시제와 함께, (D) 증감제를 함유함으로써, LED 노광 등의 조사 에너지가 낮은 광원을 이용해도 양호하게 경화된다.The photosensitive resin composition may contain the sensitizer (D) together with the photopolymerization initiator (C) above. When the photosensitive resin composition contains (C) a photopolymerization initiator and (D) a sensitizer, it is cured satisfactorily even when a light source having a low irradiation energy such as LED exposure is used.

(D) 증감제로는, 종래부터 감광성 수지 조성물에서 광중합 개시제의 증감 목적으로 사용되고 있는 화합물을 특별한 제한 없이 사용할 수 있다.(D) As a sensitizer, the compound conventionally used for the sensitization purpose of a photopolymerization initiator in the photosensitive resin composition can be used without particular limitation.

(D) 증감제로는, 치환기로서 알콕시기, 치환 카르보닐옥시기 및 옥소기(=O)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 가지는 화합물이 바람직하다. 상기 치환기를 가지는 화합물로는, 축합 다환식 방향족 탄화수소 화합물 또는 축합 다환식 방향족 복소환 화합물이 바람직하다.(D) As the sensitizer, a compound having at least one member selected from the group consisting of an alkoxy group, a substituted carbonyloxy group and an oxo group (= O) is preferable as the substituent. As the compound having the substituent, a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon compound or a condensed polycyclic aromatic heterocyclic compound is preferable.

축합 다환식 방향족 탄화수소 화합물 또는 축합 다환식 방향족 복소환 화합물은 알콕시기, 치환 카르보닐옥시기 및 옥소기(=O) 이외의 치환기를 가지고 있어도 되고, 이러한 치환기의 예로는, 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 알킬기, 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 할로겐화 알킬기, 탄소 원자수 2 이상 20 이하의 알콕시 알킬기, 탄소 원자수 2 이상 20 이하의 지방족 아실기, 탄소 원자수 7 이상 11 이하의 방향족 아실기(아로일기), 시아노기, 니트로기, 니트로소기, 할로겐 원자, 수산기 및 머캅토기 등을 들 수 있다.The condensed polycyclic aromatic hydrocarbon compound or the condensed polycyclic aromatic heterocyclic compound may have a substituent other than an alkoxy group, a substituted carbonyloxy group and an oxo group (= O), and examples of such a substituent include 1 to 20 carbon atoms. The following alkyl groups, halogenated alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, alkoxy alkyl groups having 2 to 20 carbon atoms, aliphatic acyl groups having 2 to 20 carbon atoms, aromatic acyl groups having 7 to 11 carbon atoms ( Aroyl group), cyano group, nitro group, nitroso group, halogen atom, hydroxyl group and mercapto group.

알콕시기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 된다. 알콕시기의 탄소 원자수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상 20 이하가 바람직하고, 1 이상 12 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 6 이하가 특히 바람직하다.The alkoxy group may be linear or branched. The number of carbon atoms in the alkoxy group is not particularly limited, but is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 12 or less, and particularly preferably 1 or more and 6 or less.

알콕시기의 적합한 예로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부틸옥시기, 이소부틸옥시기, tert-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 2-에틸헥실기, n-노닐옥시기 및 n-데실옥시기 등을 들 수 있다.Suitable examples of the alkoxy group are methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, tert-butyloxy group, n-pentyloxy group, n-hex Siloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyl group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group, etc. are mentioned.

치환 카르보닐옥시기는 -O-CO-Ad로 표시되는 기이다. Ad는 (D) 증감제가 원하는 증감 작용을 가지는 한 특별히 한정되지 않고, 여러 가지의 유기기여도 된다. A로는, 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 알킬기, 탄소 원자수 6 이상 10 이하의 아릴기, 탄소 원자수 1 이상 20 이하의 알콕시기, 탄소 원자수 6 이상 10 이하의 아릴옥시기가 바람직하다.The substituted carbonyloxy group is a group represented by -O-CO-A d . A d is not particularly limited as long as the sensitizer (D) has a desired sensitizing action, and various organic groups may be used. As A, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms are preferable.

아릴기 또는 아릴옥시기는, 1 또는 복수의 치환기를 가지고 있어도 된다. 치환기의 종류는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 한 특별히 한정되지 않는다. 아릴기 또는 아릴옥시기가 복수의 치환기를 가지는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.The aryl group or aryloxy group may have 1 or more substituents. The type of the substituent is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. When an aryl group or an aryloxy group has a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

치환기의 적합한 예로는, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알콕시기, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알콕시기, 탄소 원자수 6 이상 10 이하의 아릴옥시기, 탄소 원자수 6 이상 10 이하의 아릴옥시기, 탄소 원자수 2 이상 7 이하의 지방족 아실기, 탄소 원자수 7 이상 11 이하의 방향족 아실기(아로일기), 시아노기, 니트로기, 니트로소기, 할로겐 원자, 수산기 및 머캅토기 등을 들 수 있다.Suitable examples of the substituent include: an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, And aliphatic acyl groups having 2 to 7 carbon atoms, aromatic acyl groups having 7 to 11 carbon atoms (aroyl groups), cyano groups, nitro groups, nitroso groups, halogen atoms, hydroxyl groups, and mercapto groups. have.

Ad가 알킬기 또는 알콕시기인 경우, 이들 기는 직쇄상이어도, 분기쇄상이어도 된다.When A d is an alkyl group or an alkoxy group, these groups may be linear or branched.

알킬기의 적합한 예로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기 및 2-에틸헥실기 등을 들 수 있다.Suitable examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n- And octyl groups and 2-ethylhexyl groups.

아릴기의 적합한 예로는, 페닐기, o-톨릴기, m-톨릴기, p-톨릴기, α-나프틸기, β-나프틸기 등을 들 수 있다.Suitable examples of the aryl group include a phenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, α-naphthyl group, β-naphthyl group, and the like.

알콕시기의 적합한 예로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부틸옥시기, 이소부틸옥시기, tert-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기 및 2-에틸헥실옥시기 등을 들 수 있다.Suitable examples of the alkoxy group are methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, tert-butyloxy group, n-pentyloxy group, n-hex Siloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, etc. are mentioned.

알콕시기, 치환 카르보닐옥시기 및 옥소기(=O)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상에 의해 치환되는 축합 다환식 방향족 탄화수소 화합물, 또는 축합 다환식 방향족 복소환 화합물에 있어서, 축합환을 구성하는 환수는 원하는 증감 작용이 얻어지는 한 특별히 한정되지 않는다. 환수는 2 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하며, 3 이상 6 이하가 특히 바람직하고, 3 또는 4가 가장 바람직하다.A condensed polycyclic aromatic hydrocarbon compound or a condensed polycyclic aromatic heterocyclic compound substituted by one or more selected from the group consisting of an alkoxy group, a substituted carbonyloxy group and an oxo group (= O), constituting a condensed ring The number of exchanges to be performed is not particularly limited as long as the desired sensitization action is obtained. 2 or more are preferable, 3 or more are more preferable, 3 or more and 6 or less are especially preferable, and 3 or 4 is the most preferable.

또한, 축합 다환식 방향족 탄화수소 화합물, 또는 축합 다환식 방향족 복소환 화합물이 방향족성을 가지는 한, 축합 다환을 형성하는 단환은 반드시 방향환이 아니어도 된다.Moreover, as long as the condensed polycyclic aromatic hydrocarbon compound or the condensed polycyclic aromatic heterocyclic compound has aromaticity, the monocyclic ring forming the condensed polycyclic ring may not necessarily be an aromatic ring.

축합 다환식 방향족 탄화수소 화합물 또는 축합 다환식 방향족 복소환 화합물에 포함되는 축합 다환의 적합한 예로는, 아세나프틸렌환, 페난트렌환, 안트라센환, 나프타센환, 크산텐환 및 티옥산텐환을 들 수 있다. 이들 환 중에서는, 안트라센환, 나프타센환 및 티옥산텐환이 바람직하다.Suitable examples of the condensed polycyclic included in the condensed polycyclic aromatic hydrocarbon compound or condensed polycyclic aromatic heterocyclic compound include acenaphthylene ring, phenanthrene ring, anthracene ring, naphthacene ring, xanthene ring and thioxanthene ring. Among these rings, anthracene ring, naphthacene ring and thioxanthene ring are preferable.

안트라센환을 포함하는 화합물로서 (D) 증감제로서 적합하게 사용되는 화합물의 구체예로는, 9,10-비스(아세틸옥시)안트라센, 9,10-비스(프로피오닐옥시)안트라센, 9,10-비스(n-프로필카르보닐옥시)안트라센, 9,10-비스(이소프로필카르보닐옥시)안트라센, 9,10-비스(n-부틸카르보닐옥시)안트라센, 9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 9,10-비스(n-펜틸카르보닐옥시)안트라센, 9,10-비스(n-헥실카르보닐옥시)안트라센, 9,10-비스(n-헵틸카르보닐옥시)안트라센, 9,10-비스(2-에틸헥사노일옥시)안트라센, 9,10-비스(n-옥틸카르보닐옥시)안트라센, 9,10-비스(n-노닐카르보닐옥시)안트라센, 9,10-비스(n-데실카르보닐옥시)안트라센, 9,10-비스(벤조일옥시)안트라센, 9,10-비스(4-메틸벤조일옥시)안트라센, 9,10-비스(2-나프토일옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(아세틸옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(프로피오닐옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(n-프로필카르보닐옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(이소프로필카르보닐옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(n-부틸카르보닐옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(n-펜틸카르보닐옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(n-헥실카르보닐옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(벤조일옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(4-메틸벤조일옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(2-나프토일옥시)안트라센, 1-메틸-9,10-비스(아세틸옥시)안트라센, 1-메틸-9,10-비스(프로피오닐옥시)안트라센, 1-메틸-9,10-비스(n-프로필카르보닐옥시)안트라센, 1-메틸-9,10-비스(이소프로필카르보닐옥시)안트라센, 1-메틸-9,10-비스(n-부틸카르보닐옥시)안트라센, 1-메틸-9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 1-메틸-9,10-비스(n-펜틸카르보닐옥시)안트라센, 1-메틸-9,10-비스(n-헥실카르보닐옥시)안트라센, 1-메틸-9,10-비스(벤조일옥시)안트라센, 1-메틸-9,10-비스(4-메틸벤조일옥시)안트라센, 1-메틸-9,10-비스(2-나프토일옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(아세틸옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(프로피오닐옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(n-프로필카르보닐옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(n-부틸카르보닐옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(n-펜틸카르보닐옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(n-헥실카르보닐옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(벤조일옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(4-에틸-벤조일옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(2-나프토일옥시)안트라센, 1-에틸-9,10-비스(아세틸옥시)안트라센, 1-에틸-9,10-비스(프로피오닐옥시)안트라센, 1-에틸-9,10-비스(n-프로필카르보닐옥시)안트라센, 1-에틸-9,10-비스(이소프로필카르보닐옥시)안트라센, 1-에틸-9,10-비스(n-부틸카르보닐옥시)안트라센, 1-에틸-9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 1-에틸-9,10-비스(n-펜틸카르보닐옥시)안트라센, 1-에틸-9,10-비스(n-헥실카르보닐옥시)안트라센, 1-에틸-9,10-비스(벤조일옥시)안트라센, 1-에틸-9,10-비스(4-에틸-벤조일옥시)안트라센, 1-에틸-9,10-비스(2-나프토일옥시)안트라센, 1-(t-부틸)-9,10-비스(n-프로필카르보닐옥시)안트라센, 1-(t-부틸)-9,10-비스(이소프로필카르보닐옥시)안트라센, 1-(t-부틸)-9,10-비스(n-부틸카르보닐옥시)안트라센, 1-(t-부틸)-9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 1-(t-부틸)-9,10-비스(n-펜틸카르보닐옥시)안트라센, 1-(t-부틸)-9,10-비스(n-헥실카르보닐옥시)안트라센, 1-(t-부틸)-9,10-비스(벤조일옥시)안트라센, 1-(t-부틸)-9,10-비스(4-(t-부틸)-벤조일옥시)안트라센, 1-(t-부틸)-9,10-비스(2-나프토일옥시)안트라센, 2-(t-부틸)-9,10-비스(n-프로필카르보닐옥시)안트라센, 2-(t-부틸)-9,10-비스(이소프로필카르보닐옥시)안트라센, 2-(t-부틸)-9,10-비스(n-부틸카르보닐옥시)안트라센, 2-(t-부틸)-9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 2-(t-부틸)-9,10-비스(n-펜틸카르보닐옥시)안트라센, 2-(t-부틸)-9,10-비스(n-헥실카르보닐옥시)안트라센, 2-(t-부틸)-9,10-비스(벤조일옥시)안트라센, 2-(t-부틸)-9,10-비스(4-(t-부틸)-벤조일옥시)안트라센, 2-(t-부틸)-9,10-비스(2-나프토일옥시)안트라센, 2-펜틸-9,10-비스(n-프로필카르보닐옥시)안트라센, 2-펜틸-9,10-비스(이소프로필카르보닐옥시)안트라센, 2-펜틸-9,10-비스(n-부틸카르보닐옥시)안트라센, 2-펜틸-9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 2-펜틸-9,10-비스(n-펜틸카르보닐옥시)안트라센, 2-펜틸-9,10-비스(n-헥실카르보닐옥시)안트라센, 2-펜틸-9,10-비스(벤조일옥시)안트라센, 2-펜틸-9,10-비스(4-(t-부틸)-벤조일옥시)안트라센 및 2-펜틸-9,10-비스(2-나프토일옥시)안트라센 등을 들 수 있다.As a compound containing an anthracene ring (D) As a specific example of a compound suitably used as a sensitizer, 9,10-bis (acetyloxy) anthracene, 9,10-bis (propionyloxy) anthracene, 9,10 -Bis (n-propylcarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (isopropylcarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-butylcarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (isobutylcar Bonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-pentylcarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-hexylcarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-heptylcarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (2-ethylhexanoyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-octylcarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-nonylcarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-decylcarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (benzoyloxy) anthracene, 9,10-bis (4-methylbenzoyloxy) anthracene, 9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene, 2 -Methyl-9,10-bis (acetyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (propionyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-propylcarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (isopropylcarbonyloxy ) Anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-butylcarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (isobutylcarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis ( n-pentylcarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-hexylcarbonyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (benzoyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10 -Bis (4-methylbenzoyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene, 1-methyl-9,10-bis (acetyloxy) anthracene, 1-methyl-9, 10-bis (propionyloxy) anthracene, 1-methyl-9,10-bis (n-propylcarbonyloxy) anthracene, 1-methyl-9,10-bis (isopropylcarbonyloxy) anthracene, 1-methyl -9,10-bis (n-butylcarbonyloxy) anthracene, 1-methyl-9,10-bis (isobutylcarbonyloxy) anthracene, 1-methyl-9,10-bis (n-pentylcarbonyloxy) anthracene, 1-methyl-9,10-bis (n-hexylcarbonyloxy) anthracene, 1-methyl-9,10-bis (benzoyloxy) anthracene, 1-methyl-9, 10-bis (4-methylbenzoyloxy) anthracene, 1-methyl-9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (acetyloxy) anthracene, 2-ethyl-9 , 10-bis (propionyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-propylcarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (isobutylcarbonyloxy) anthracene, 2- Ethyl-9,10-bis (n-butylcarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (isobutylcarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-pentylcarbonyl Oxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-hexylcarbonyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (benzoyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (4- Ethyl-benzoyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene, 1-ethyl-9,10-bis (acetyloxy) anthracene, 1-ethyl-9,10-bis ( Propionyloxy) anthracene, 1-ethyl-9,10-bis (n-propylcarbonyloxy) anthracene, 1-ethyl-9,10-bis (isopropylcarbonyloxy) anthracene, 1-ethyl-9,10 -Bis (n-butylcarbonyloxy) anthracene, 1-ethyl-9,10-bis (isobutylcarbonyloxy) anthracene, 1-ethyl-9,10-bis (n-pentylcarbonyloxy) anthracene, 1 -Ethyl-9,10-bis (n-hexylcarbonyloxy) anthracene, 1-ethyl-9,10-bis (benzoyloxy) anthracene, 1-ethyl-9,10-bis (4-ethyl-benzoyloxy) Anthracene, 1-ethyl-9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene, 1- (t-butyl) -9,10-bis (n-propylcarbonyloxy) anthracene, 1- (t-butyl) -9,10-bis (isopropylcarbonyloxy) anthracene, 1- (t-butyl) -9,10-bis (n-butylcarbonyloxy) anthracene, 1- (t-butyl) -9,10- Bis (isobutylcarbonyloxy) anthracene, 1- (t-butyl) -9,10-bis (n-pentylcarbonyloxy) anthracene, 1- (t-butyl) -9,10-bis (n-hexyl Carbonyloxy) anthracene, 1 -(t-butyl) -9,10-bis (benzoyloxy) anthracene, 1- (t-butyl) -9,10-bis (4- (t-butyl) -benzoyloxy) anthracene, 1- (t- Butyl) -9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene, 2- (t-butyl) -9,10-bis (n-propylcarbonyloxy) anthracene, 2- (t-butyl) -9, 10-bis (isopropylcarbonyloxy) anthracene, 2- (t-butyl) -9,10-bis (n-butylcarbonyloxy) anthracene, 2- (t-butyl) -9,10-bis (iso Butylcarbonyloxy) anthracene, 2- (t-butyl) -9,10-bis (n-pentylcarbonyloxy) anthracene, 2- (t-butyl) -9,10-bis (n-hexylcarbonyloxy Anthracene, 2- (t-butyl) -9,10-bis (benzoyloxy) anthracene, 2- (t-butyl) -9,10-bis (4- (t-butyl) -benzoyloxy) anthracene, 2 -(t-butyl) -9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene, 2-pentyl-9,10-bis (n-propylcarbonyloxy) anthracene, 2-pentyl-9,10-bis ( Isopropylcarbonyloxy) anthracene, 2-pentyl-9,10-bis (n-butylcarbonyloxy) anthracene, 2-pentyl-9,10-bis (iso Tilcarbonyloxy) anthracene, 2-pentyl-9,10-bis (n-pentylcarbonyloxy) anthracene, 2-pentyl-9,10-bis (n-hexylcarbonyloxy) anthracene, 2-pentyl-9 , 10-bis (benzoyloxy) anthracene, 2-pentyl-9,10-bis (4- (t-butyl) -benzoyloxy) anthracene and 2-pentyl-9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene And the like.

또는 할로겐 원자로 치환된 안트라센 화합물도, (D) 증감제로서 바람직하다. 할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 또는 요오드 원자를 들 수 있다.Or an anthracene compound substituted with a halogen atom is also preferable as the (D) sensitizer. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom is mentioned.

할로겐 원자로 치환된 안트라센 화합물로서, (D) 증감제로서 바람직한 화합물의 구체예로는, 2-클로로-9,10-비스(아세틸옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(프로피오닐옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(n-프로필카르보닐옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(이소프로필카르보닐옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(n-부틸카르보닐옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(n-펜틸카르보닐옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(n-헥실카르보닐옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(벤조일옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(4-메틸벤조일옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(2-나프토일옥시)안트라센, 1-클로로-9,10-비스(아세틸옥시)안트라센, 1-클로로-9,10-비스(프로피오닐옥시)안트라센, 1-클로로-9,10-비스(n-프로필카르보닐옥시)안트라센, 1-클로로-9,10-비스(이소프로필카르보닐옥시)안트라센, 1-클로로-9,10-비스(n-부틸카르보닐옥시)안트라센, 1-클로로-9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 1-클로로-9,10-비스(n-펜틸카르보닐옥시)안트라센, 1-클로로-9,10-비스(n-헥실카르보닐옥시)안트라센, 1-클로로-9,10-비스(벤조일옥시)안트라센, 1-클로로-9,10-비스(4-메틸벤조일옥시)안트라센, 1-클로로-9,10-비스(2-나프토일옥시)안트라센, 2-플루오로-9,10-비스(아세틸옥시)안트라센, 2-플루오로-9,10-비스(프로피오닐옥시)안트라센, 2-플루오로-9,10-비스(n-프로필카르보닐옥시)안트라센, 2-플루오로-9,10-비스(이소프로필카르보닐옥시)안트라센, 2-플루오로-9,10-비스(n-부틸카르보닐옥시)안트라센, 2-플루오로-9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 2-플루오로-9,10-비스(n-펜틸카르보닐옥시)안트라센, 2-플루오로-9,10-비스(n-헥실카르보닐옥시)안트라센, 2-플루오로-9,10-비스(벤조일옥시)안트라센, 2-플루오로-9,10-비스(4-메틸벤조일옥시)안트라센, 2-플루오로-9,10-비스(2-나프토일옥시)안트라센, 1-플루오로-9,10-비스(아세틸옥시)안트라센, 1-플루오로-9,10-비스(프로피오닐옥시)안트라센, 1-플루오로-9,10-비스(n-프로필카르보닐옥시)안트라센, 1-플루오로-9,10-비스(이소프로필카르보닐옥시)안트라센, 1-플루오로-9,10-비스(n-부틸카르보닐옥시)안트라센, 1-플루오로-9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 1-플루오로-9,10-비스(n-펜틸카르보닐옥시)안트라센, 1-플루오로-9,10-비스(n-헥실카르보닐옥시)안트라센, 1-플루오로-9,10-비스(벤조일옥시)안트라센, 1-플루오로-9,10-비스(4-메틸벤조일옥시)안트라센, 1-플루오로-9,10-비스(2-나프토일옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(아세틸옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(프로피오닐옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(n-프로필카르보닐옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(이소프로필카르보닐옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(n-부틸카르보닐옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(n-펜틸카르보닐옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(n-헥실카르보닐옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(벤조일옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(4-메틸벤조일옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(2-나프토일옥시)안트라센, 1-브로모-9,10-비스(아세틸옥시)안트라센, 1-브로모-9,10-비스(프로피오닐옥시)안트라센, 1-브로모-9,10-비스(n-프로필카르보닐옥시)안트라센, 1-브로모-9,10-비스(이소프로필카르보닐옥시)안트라센, 1-브로모-9,10-비스(n-부틸카르보닐옥시)안트라센, 1-브로모-9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 1-브로모-9,10-비스(n-펜틸카르보닐옥시)안트라센, 1-브로모-9,10-비스(n-헥실카르보닐옥시)안트라센, 1-브로모-9,10-비스(벤조일옥시)안트라센, 1-브로모-9,10-비스(4-메틸벤조일옥시)안트라센 및 1-브로모-9,10-비스(2-나프토일옥시)안트라센 등을 들 수 있다.As anthracene compound substituted with halogen atom, (D) As a specific example of a compound preferable as a sensitizer, 2-chloro-9,10-bis (acetyloxy) anthracene, 2-chloro-9,10-bis (propionyloxy Anthracene, 2-chloro-9,10-bis (n-propylcarbonyloxy) anthracene, 2-chloro-9,10-bis (isopropylcarbonyloxy) anthracene, 2-chloro-9,10-bis ( n-butylcarbonyloxy) anthracene, 2-chloro-9,10-bis (isobutylcarbonyloxy) anthracene, 2-chloro-9,10-bis (n-pentylcarbonyloxy) anthracene, 2-chloro- 9,10-bis (n-hexylcarbonyloxy) anthracene, 2-chloro-9,10-bis (benzoyloxy) anthracene, 2-chloro-9,10-bis (4-methylbenzoyloxy) anthracene, 2- Chloro-9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene, 1-chloro-9,10-bis (acetyloxy) anthracene, 1-chloro-9,10-bis (propionyloxy) anthracene, 1-chloro -9,10-bis (n-propylcarbonyloxy) anthracene, 1- Chloro-9,10-bis (isopropylcarbonyloxy) anthracene, 1-chloro-9,10-bis (n-butylcarbonyloxy) anthracene, 1-chloro-9,10-bis (isobutylcarbonyloxy ) Anthracene, 1-chloro-9,10-bis (n-pentylcarbonyloxy) anthracene, 1-chloro-9,10-bis (n-hexylcarbonyloxy) anthracene, 1-chloro-9,10-bis (Benzoyloxy) anthracene, 1-chloro-9,10-bis (4-methylbenzoyloxy) anthracene, 1-chloro-9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene, 2-fluoro-9,10 -Bis (acetyloxy) anthracene, 2-fluoro-9,10-bis (propionyloxy) anthracene, 2-fluoro-9,10-bis (n-propylcarbonyloxy) anthracene, 2-fluoro- 9,10-bis (isopropylcarbonyloxy) anthracene, 2-fluoro-9,10-bis (n-butylcarbonyloxy) anthracene, 2-fluoro-9,10-bis (isobutylcarbonyloxy ) Anthracene, 2-fluoro-9,10-bis (n-pentylcarbonyloxy) anthracene, 2-fluoro-9, 10-bis (n-hexylcarbonyloxy) anthracene, 2-fluoro-9,10-bis (benzoyloxy) anthracene, 2-fluoro-9,10-bis (4-methylbenzoyloxy) anthracene, 2- Fluoro-9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene, 1-fluoro-9,10-bis (acetyloxy) anthracene, 1-fluoro-9,10-bis (propionyloxy) anthracene, 1-fluoro-9,10-bis (n-propylcarbonyloxy) anthracene, 1-fluoro-9,10-bis (isopropylcarbonyloxy) anthracene, 1-fluoro-9,10-bis ( n-butylcarbonyloxy) anthracene, 1-fluoro-9,10-bis (isobutylcarbonyloxy) anthracene, 1-fluoro-9,10-bis (n-pentylcarbonyloxy) anthracene, 1- Fluoro-9,10-bis (n-hexylcarbonyloxy) anthracene, 1-fluoro-9,10-bis (benzoyloxy) anthracene, 1-fluoro-9,10-bis (4-methylbenzoyloxy ) Anthracene, 1-fluoro-9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene, 2-bromo-9,10-bis (acetyloxy) ) Anthracene, 2-bromo-9,10-bis (propionyloxy) anthracene, 2-bromo-9,10-bis (n-propylcarbonyloxy) anthracene, 2-bromo-9,10-bis (Isopropylcarbonyloxy) anthracene, 2-bromo-9,10-bis (n-butylcarbonyloxy) anthracene, 2-bromo-9,10-bis (isobutylcarbonyloxy) anthracene, 2- Bromo-9,10-bis (n-pentylcarbonyloxy) anthracene, 2-bromo-9,10-bis (n-hexylcarbonyloxy) anthracene, 2-bromo-9,10-bis (benzoyl Oxy) anthracene, 2-bromo-9,10-bis (4-methylbenzoyloxy) anthracene, 2-bromo-9,10-bis (2-naphthoyloxy) anthracene, 1-bromo-9,10 -Bis (acetyloxy) anthracene, 1-bromo-9,10-bis (propionyloxy) anthracene, 1-bromo-9,10-bis (n-propylcarbonyloxy) anthracene, 1-bromo- 9,10-bis (isopropylcarbonyloxy) anthracene, 1-bromo-9,10-bis (n-butylcarbonyloxy) anthracene, 1-bromo-9,10-bis (this Sobutylcarbonyloxy) anthracene, 1-bromo-9,10-bis (n-pentylcarbonyloxy) anthracene, 1-bromo-9,10-bis (n-hexylcarbonyloxy) anthracene, 1- Bromo-9,10-bis (benzoyloxy) anthracene, 1-bromo-9,10-bis (4-methylbenzoyloxy) anthracene and 1-bromo-9,10-bis (2-naphthoyloxy) And anthracene.

또한, 알콕시기로 치환된 안트라센 화합물도 (D) 증감제로서 바람직하다.Moreover, the anthracene compound substituted with the alkoxy group is also preferable as a (D) sensitizer.

알콕시기로 치환된 안트라센 화합물로서, (D) 증감제로서 바람직한 화합물의 구체예로는, 9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 9,10-비스(n-프로필옥시)안트라센, 9,10-비스(n-부틸옥시)안트라센, 9,10-비스(n-펜틸옥시)안트라센, 9,10-비스(이소펜틸옥시옥시)안트라센, 9,10-비스(n-헥실옥시)안트라센, 9,10-비스(n-헵틸옥시)안트라센, 9,10-비스(n-옥틸옥시)안트라센, 9,10-비스(2-에틸헥실옥시)안트라센, 9-메톡시안트라센, 9-에톡시안트라센, 9-(n-프로필옥시)안트라센, 9-(n-부틸옥시)안트라센, 9-(n-펜틸옥시)안트라센, 9-(이소펜틸옥시옥시)안트라센, 9-(n-헥실옥시)안트라센, 9-(n-헵틸옥시)안트라센, 9-(n-옥틸옥시)안트라센, 9-(2-에틸헥실옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-디메톡시안트라센, 2-메틸-9,10-디에톡시안트라센, 2-메틸-9,10-비스(n-프로필옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(n-부틸옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(n-펜틸옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(이소펜틸옥시옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(n-헥실옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(n-헵틸옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(n-옥틸옥시)안트라센, 2-메틸-9,10-비스(2-에틸헥실옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-비스(n-프로필옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(n-부틸옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(n-펜틸옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(이소펜틸옥시옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(n-헥실옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(n-헵틸옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(n-옥틸옥시)안트라센, 2-에틸-9,10-비스(2-에틸헥실옥시)안트라센, 2-메틸-9-메톡시안트라센, 2-메틸-9-에톡시안트라센, 2-메틸-9-(n-프로필옥시)안트라센, 2-메틸-9-(n-부틸옥시)안트라센, 2-메틸-9-(n-펜틸옥시)안트라센, 2-메틸-9-(이소펜틸옥시옥시)안트라센, 2-메틸-9-(n-헥실옥시)안트라센, 2-메틸-9-(n-헵틸옥시)안트라센, 2-메틸-9-(n-옥틸옥시)안트라센, 2-메틸-9-(2-에틸헥실옥시)안트라센, 2-에틸-9-메톡시안트라센, 2-에틸-9-에톡시안트라센, 2-에틸-9-(n-프로필옥시)안트라센, 2-에틸-9-(n-부틸옥시)안트라센, 2-에틸-9-(n-펜틸옥시)안트라센, 2-에틸-9-(이소펜틸옥시옥시)안트라센, 2-에틸-9-(n-헥실옥시)안트라센, 2-에틸-9-(n-헵틸옥시)안트라센, 2-에틸-9-(n-옥틸옥시)안트라센, 2-에틸-9-(2-에틸헥실옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-디메톡시안트라센, 2-클로로-9,10-디에톡시안트라센, 2-클로로-9,10-비스(n-프로필옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(n-부틸옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(n-펜틸옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(이소펜틸옥시옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(n-헥실옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(n-헵틸옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(n-옥틸옥시)안트라센, 2-클로로-9,10-비스(2-에틸헥실옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-디메톡시안트라센, 2-브로모-9,10-디에톡시안트라센, 2-브로모-9,10-비스(n-프로필옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(n-부틸옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(n-펜틸옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(이소펜틸옥시옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(n-헥실옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(n-헵틸옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(n-옥틸옥시)안트라센, 2-브로모-9,10-비스(2-에틸헥실옥시)안트라센, 2-클로로-9-메톡시안트라센, 2-클로로-9-에톡시안트라센, 2-클로로-9-(n-프로필옥시)안트라센, 2-클로로-9-(n-부틸옥시)안트라센, 2-클로로-9-(n-펜틸옥시)안트라센, 2-클로로-9-(이소펜틸옥시옥시)안트라센, 2-클로로-9-(n-헥실옥시)안트라센, 2-클로로-9-(n-헵틸옥시)안트라센, 2-클로로-9-(n-옥틸옥시)안트라센, 2-클로로-9-(2-에틸헥실옥시)안트라센, 2-브로모-9-메톡시안트라센, 2-브로모-9-에톡시안트라센, 2-브로모-9-(n-프로필옥시)안트라센, 2-브로모-9-(n-부틸옥시)안트라센, 2-브로모-9-(n-펜틸옥시)안트라센, 2-에틸-9-(이소펜틸옥시옥시)안트라센, 2-브로모-9-(n-헥실옥시)안트라센, 2-브로모-9-(n-헵틸옥시)안트라센, 2-브로모-9-(n-옥틸옥시)안트라센 및 2-브로모-9-(2-에틸헥실옥시)안트라센 등을 들 수 있다.As an anthracene compound substituted with an alkoxy group, (D) As a specific example of a compound preferable as a sensitizer, 9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 9,10-bis (n-propyloxy) anthracene , 9,10-bis (n-butyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-pentyloxy) anthracene, 9,10-bis (isopentyloxyoxy) anthracene, 9,10-bis (n-hexyloxy City) anthracene, 9,10-bis (n-heptyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-octyloxy) anthracene, 9,10-bis (2-ethylhexyloxy) anthracene, 9-methoxyanthracene , 9-ethoxyanthracene, 9- (n-propyloxy) anthracene, 9- (n-butyloxy) anthracene, 9- (n-pentyloxy) anthracene, 9- (isopentyloxyoxy) anthracene, 9- ( n-hexyloxy) anthracene, 9- (n-heptyloxy) anthracene, 9- (n-octyloxy) anthracene, 9- (2-ethylhexyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-dimethoxy Anthracene, 2-methyl-9,10-diethoxyanthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-propyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10- Bis (n-butyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-pentyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (isopentyloxyoxy) anthracene, 2-methyl-9,10 -Bis (n-hexyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-heptyloxy) anthracene, 2-methyl-9,10-bis (n-octyloxy) anthracene, 2-methyl-9 , 10-bis (2-ethylhexyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n- Propyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-butyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-pentyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (iso Pentyloxyoxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-hexyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-heptyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (n-octyloxy) anthracene, 2-ethyl-9,10-bis (2-ethylhexyloxy) anthracene, 2-methyl-9-methoxyanthracene, 2-methyl-9-ethoxyanthracene, 2-methyl -9- (n-propyloxy) anthracene, 2-methyl-9- (n-butyloxy) anthra , 2-methyl-9- (n-pentyloxy) anthracene, 2-methyl-9- (isopentyloxyoxy) anthracene, 2-methyl-9- (n-hexyloxy) anthracene, 2-methyl-9- (n-heptyloxy) anthracene, 2-methyl-9- (n-octyloxy) anthracene, 2-methyl-9- (2-ethylhexyloxy) anthracene, 2-ethyl-9-methoxyanthracene, 2- Ethyl-9-ethoxyanthracene, 2-ethyl-9- (n-propyloxy) anthracene, 2-ethyl-9- (n-butyloxy) anthracene, 2-ethyl-9- (n-pentyloxy) anthracene, 2-ethyl-9- (isopentyloxyoxy) anthracene, 2-ethyl-9- (n-hexyloxy) anthracene, 2-ethyl-9- (n-heptyloxy) anthracene, 2-ethyl-9- ( n-octyloxy) anthracene, 2-ethyl-9- (2-ethylhexyloxy) anthracene, 2-chloro-9,10-dimethoxyanthracene, 2-chloro-9,10-diethoxyanthracene, 2-chloro -9,10-bis (n-propyloxy) anthracene, 2-chloro-9,10-bis (n-butyloxy) anthracene, 2-chloro-9,10-bis (n-pentyloxy) anthracene, 2- Chloro-9,10-bis (isopentyloxyoxy) anthracene, 2-chloro Ro-9,10-bis (n-hexyloxy) anthracene, 2-chloro-9,10-bis (n-heptyloxy) anthracene, 2-chloro-9,10-bis (n-octyloxy) anthracene, 2-chloro-9,10-bis (2-ethylhexyloxy) anthracene, 2-bromo-9,10-dimethoxyanthracene, 2-bromo-9,10-diethoxyanthracene, 2-bromo- 9,10-bis (n-propyloxy) anthracene, 2-bromo-9,10-bis (n-butyloxy) anthracene, 2-bromo-9,10-bis (n-pentyloxy) anthracene, 2 -Bromo-9,10-bis (isopentyloxyoxy) anthracene, 2-bromo-9,10-bis (n-hexyloxy) anthracene, 2-bromo-9,10-bis (n-heptyl Oxy) anthracene, 2-bromo-9,10-bis (n-octyloxy) anthracene, 2-bromo-9,10-bis (2-ethylhexyloxy) anthracene, 2-chloro-9-methoxy Anthracene, 2-chloro-9-ethoxyanthracene, 2-chloro-9- (n-propyloxy) anthracene, 2-chloro-9- (n-butyloxy) anthracene, 2-chloro-9- (n-pentyl Oxy) anthracene, 2-chloro-9- (isopentyloxyoxy) anthracene , 2-chloro-9- (n-hexyloxy) anthracene, 2-chloro-9- (n-heptyloxy) anthracene, 2-chloro-9- (n-octyloxy) anthracene, 2-chloro-9- (2-ethylhexyloxy) anthracene, 2-bromo-9-methoxyanthracene, 2-bromo-9-ethoxyanthracene, 2-bromo-9- (n-propyloxy) anthracene, 2-bro Mo-9- (n-butyloxy) anthracene, 2-bromo-9- (n-pentyloxy) anthracene, 2-ethyl-9- (isopentyloxyoxy) anthracene, 2-bromo-9- (n -Hexyloxy) anthracene, 2-bromo-9- (n-heptyloxy) anthracene, 2-bromo-9- (n-octyloxy) anthracene and 2-bromo-9- (2-ethylhexyloxy City) Anthracene etc. are mentioned.

이상 설명한 안트라센 화합물 중에서는, 제조의 용이함과 (D) 증감제로서의 성능의 점에서, 9,10-비스(아세틸옥시)안트라센, 9,10-비스(프로피오닐옥시)안트라센, 9,10-비스(n-프로필카르보닐옥시)안트라센, 9,10-비스(이소프로필카르보닐옥시)안트라센, 9,10-비스(n-부틸카르보닐옥시)안트라센, 9,10-비스(이소부틸카르보닐옥시)안트라센, 9,10-비스(n-헥사노일옥시)안트라센, 9,10-비스(n-헵타노일옥시)안트라센, 9,10-비스(n-옥타노일옥시)안트라센, 9,10-비스(2-에틸헥사노일옥시)안트라센, 9,10-비스(n-노나노일옥시)안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 9,10-디프로폭시안트라센 및 9,10-디부톡시안트라센이 바람직하다.Among the anthracene compounds described above, 9,10-bis (acetyloxy) anthracene, 9,10-bis (propionyloxy) anthracene, and 9,10-bis from the viewpoint of ease of manufacture and performance as a sensitizer (D) (n-propylcarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (isopropylcarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-butylcarbonyloxy) anthracene, 9,10-bis (isobutylcarbonyloxy ) Anthracene, 9,10-bis (n-hexanoyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-heptanoyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-octanoyloxy) anthracene, 9,10-bis (2-ethylhexanoyloxy) anthracene, 9,10-bis (n-nonanoyloxy) anthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 9,10-dipropoxyanthracene and 9,10-dibutoxyanthracene desirable.

나프타센환을 포함하는 화합물로서 (D) 증감제로서 적합하게 사용되는 화합물의 구체예로는,As a compound containing a naphthacene ring (D) As a specific example of a compound suitably used as a sensitizer,

2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(아세틸옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(프로피오닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-프로필카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(이소프로필카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-부틸카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(이소부틸카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-펜틸카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-헥실카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-헵틸카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(아세틸옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(프로피오닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-프로필카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(이소프로필카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-부틸카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(이소부틸카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-펜틸카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-헥실카르보닐옥시)나프타센 및 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-헵틸카르보닐옥시)나프타센 등의 알킬카르보닐옥시기 치환 나프타센 화합물;2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (acetyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (propionyloxy) naphthacene, 2-methyl -5,11-dioxo-6,12-bis (n-propylcarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (isopropylcarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (n-butylcarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (isobutylcarbonyloxy) Naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (n-pentylcarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (n-hexyl Carbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (n-heptylcarbonyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (Acetyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (propionyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (n- Propylcarbonyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (isopropylcarbonyloxy) naphthacene, 2-e -5,11-dioxo-6,12-bis (n-butylcarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (isobutylcarbonyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (n-pentylcarbonyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (n-hexylcarbonyloxy Alkyl naphthacene compounds substituted with alkylcarbonyloxy groups such as naphthacene and 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (n-heptylcarbonyloxy) naphthacene;

2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(벤조일옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(o-톨루오일옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(m-톨루오일옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(p-톨루오일옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(α-나프토일옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(β-나프토일옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(벤조일옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(o-톨루오일옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(m-톨루오일옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(p-톨루오일옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(α-나프토일옥시)나프타센 및 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(β-나프토일옥시)나프타센 등의 아로일옥시기 치환 나프타센 화합물;2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (benzoyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (o-toluoyloxy) naphthacene, 2 -Methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (m-toluoyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (p-toluoyloxy) naphthacene , 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (α-naphthoyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (β-naphthoyloxy) Naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (benzoyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (o-toluoyloxy) naphtha Sen, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (m-toluoyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (p-toluoyloxy) ) Naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (α-naphthoyloxy) naphthacene and 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (β-naph Aroyloxy group-substituted naphthacene compounds such as toyloxy) naphthacene;

2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(메톡시카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(에톡시카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-프로필옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(이소프로필옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-부틸옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(이소부틸옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-펜틸옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-헥실옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-헵틸옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-옥틸옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(메톡시카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(에톡시카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-프로필옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(이소프로필옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-부틸옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(이소부틸옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-펜틸옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-헥실옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-헵틸옥시카르보닐옥시)나프타센 및 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(n-옥틸옥시카르보닐옥시)나프타센 등의 알콕시카르보닐옥시기 치환 나프타센 화합물; 및2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (methoxycarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (ethoxycarbonyloxy) naphtha Sen, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (n-propyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (isopropyloxy Carbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (n-butyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12- Bis (isobutyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (n-pentyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo -6,12-bis (n-hexyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (n-heptyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl -5,11-dioxo-6,12-bis (n-octyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (methoxycarbonyloxy) naphthacene , 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (ethoxycarbonyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5 , 11-dioxo-6,12-bis (n-propyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (isopropyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (n-butyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (isobutyloxycarbonyl Oxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (n-pentyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis ( n-hexyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (n-heptyloxycarbonyloxy) naphthacene and 2-ethyl-5,11-dioxo Alkoxycarbonyloxy group-substituted naphthacene compounds such as -6,12-bis (n-octyloxycarbonyloxy) naphthacene; And

2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(페녹시카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(o-톨일옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(m-톨일옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(p-톨일옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(α-나프틸옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-메틸-5,11-디옥소-6,12-비스(β-나프틸옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(페녹시카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(o-톨일옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(m-톨일옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(p-톨일옥시카르보닐옥시)나프타센, 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(α-나프틸옥시카르보닐옥시)나프타센 및 2-에틸-5,11-디옥소-6,12-비스(β-나프틸옥시카르보닐옥시)나프타센 등의 아로일옥시카르보닐옥시기 치환 나프타센 화합물을 들 수 있다.2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (phenoxycarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (o-tolyloxycarbonyl Oxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (m-tolyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (p-tolyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11-dioxo-6,12-bis (α-naphthyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-methyl-5,11- Dioxo-6,12-bis (β-naphthyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (phenoxycarbonyloxy) naphthacene, 2-ethyl -5,11-dioxo-6,12-bis (o-tolyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (m-tolyloxycarbonyl Oxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (p-tolyloxycarbonyloxy) naphthacene, 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (α-naphthyloxycarbonyloxy) naphthacene and 2-ethyl-5,11-dioxo-6,12-bis (β-naphthyloxycarbonyloxy) naphtha And aroyloxycarbonyloxy group-substituted naphthacene compounds such as sen.

상기의 나프타센환을 포함하는 화합물 중에서도, 5,11-디옥소-6,12-비스(메톡시카르보닐옥시)나프타센, 5,11-디옥소-6,12-비스(에톡시카르보닐옥시)나프타센, 5,11-디옥소-6,12-비스(이소프로필옥시카르보닐옥시)나프타센, 5,11-디옥소-6,12-비스(이소부틸옥시카르보닐옥시)나프타센, 5,11-디옥소-6,12-비스(n-부틸카르보닐옥시)나프타센, 5,11-디옥소-6,12-비스(n-펜틸카르보닐옥시)나프타센, 5,11-디옥소-6,12-비스(n-헵타노일옥시)나프타센이 바람직하다.Among the compounds containing the above naphthacene ring, 5,11-dioxo-6,12-bis (methoxycarbonyloxy) naphthacene, 5,11-dioxo-6,12-bis (ethoxycarbonyloxy ) Naphthacene, 5,11-dioxo-6,12-bis (isopropyloxycarbonyloxy) naphthacene, 5,11-dioxo-6,12-bis (isobutyloxycarbonyloxy) naphthacene, 5,11-dioxo-6,12-bis (n-butylcarbonyloxy) naphthacene, 5,11-dioxo-6,12-bis (n-pentylcarbonyloxy) naphthacene, 5,11- Dioxo-6,12-bis (n-heptanoyloxy) naphthacene is preferred.

(A) 광중합성 화합물과의 상용성의 점에서는, 5,11-디옥소-6,12-비스(이소프로필옥시카르보닐옥시)나프타센, 5,11-디옥소-6,12-비스(이소부틸옥시카르보닐옥시)나프타센, 5,11-디옥소-6,12-비스(n-부티릴옥시)나프타센, 5,11-디옥소-6,12-비스(n-발레릴옥시)나프타센, 5,11-디옥소-6,12-비스(헵타노일옥시)나프타센이 바람직하다.(A) In terms of compatibility with the photopolymerizable compound, 5,11-dioxo-6,12-bis (isopropyloxycarbonyloxy) naphthacene, 5,11-dioxo-6,12-bis (iso Butyloxycarbonyloxy) naphthacene, 5,11-dioxo-6,12-bis (n-butyryloxy) naphthacene, 5,11-dioxo-6,12-bis (n-valeryloxy) Naphthacene, 5,11-dioxo-6,12-bis (heptanoyloxy) naphthacene is preferred.

(D) 증감제로서 적합하게 사용되는 티옥산텐환을 포함하는 화합물의 구체예로는, 티옥산텐-9-온, 2-메틸-9H-티옥산텐-9-온, 2-이소프로필-9H-티옥산텐-9-온, 1,4-디메틸티옥산텐-9-온 및 3-메틸-9-옥소-9H-티옥산텐-2-일아세테이트 등을 들 수 있다.(D) As a specific example of the compound containing a thioxanthene ring suitably used as a sensitizer, thioxanthene-9-one, 2-methyl-9H-thioxanthene-9-one, 2-isopropyl- And 9H-thioxanthene-9-one, 1,4-dimethylthioxanthene-9-one, and 3-methyl-9-oxo-9H-thioxanthen-2-yl acetate.

(D) 성분인 증감제의 함유량은 감광성 수지 조성물 중의 (C) 광중합 개시제 성분의 합계 100 중량부에 대해서 5 중량부 이상 60 중량부 이하가 바람직하고, 15 중량부 이상 50 중량부 이하가 보다 바람직하다. 감광성 수지 조성물이 상기 범위 내에서 증감제를 함유하면, 특히, 노광에 의한 경화 반응이 균일하게 진행되어 엣지의 각도가 특히 양호한 패터닝된 경화막을 형성하기 쉽다.(D) The content of the sensitizer which is a component is preferably 5 parts by weight or more and 60 parts by weight or less, more preferably 15 parts by weight or more and 50 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the total component of the photopolymerization initiator (C) in the photosensitive resin composition. Do. When the photosensitive resin composition contains a sensitizer within the above range, in particular, the curing reaction by exposure proceeds uniformly, and it is easy to form a patterned cured film having a particularly good edge angle.

<(E) 착색제><(E) colorant>

감광성 수지 조성물은 그 용도에 따라서는 착색제를 포함하지 않고 실질적으로 무색 투명한 조성물이어도 된다. 한편, 다른 용도에 있어서는, 감광성 수지 조성물이 추가로 (D) 착색제를 포함해도 된다. 감광성 수지 조성물은 (D) 성분인 착색제로서 예를 들면, 흑색 안료를 포함함으로써, 예를 들면, 표시 장치의 컬러 필터에서의 블랙 매트릭스(또는 블랙 뱅크) 형성 용도로서 바람직하게 사용된다. 또, 유채색의 착색제는 예를 들면, 표시 장치의 컬러 필터 형성 용도에 있어서, 바람직하게 사용될 수 있다.The photosensitive resin composition may be a substantially colorless and transparent composition without a colorant depending on its use. On the other hand, in other uses, the photosensitive resin composition may further contain (D) a colorant. The photosensitive resin composition is preferably used as a colorant that is the component (D), for example, by including a black pigment, for example, for forming a black matrix (or black bank) in a color filter of a display device. Moreover, a chromatic colorant can be preferably used, for example, in the use of a display device for forming a color filter.

감광성 수지 조성물에 함유되는 (D) 착색제로는, 특별히 한정되지 않지만, 착색제를 차광제로 하는 경우, 차광제로는 흑색 안료를 이용하는 것이 바람직하다. 흑색 안료로는, 카본 블랙, 티탄 블랙, 구리, 철, 망간, 코발트, 크롬, 니켈, 아연, 칼슘, 은 등의 금속 산화물, 복합 산화물, 금속 황화물, 금속 황산염 또는 금속 탄산염 등, 유기물, 무기물을 불문하고 각종의 안료를 들 수 있다. 이들 중에서도, 높은 차광성을 가지는 카본 블랙을 이용하는 것이 바람직하다.Although it does not specifically limit as a coloring agent (D) contained in a photosensitive resin composition, When using a coloring agent as a light-shielding agent, it is preferable to use a black pigment as a light-shielding agent. Examples of the black pigment include organic oxides, inorganic substances such as metal oxides, complex oxides, metal sulfides, metal sulfates, or metal carbonates such as carbon black, titanium black, copper, iron, manganese, cobalt, chromium, nickel, zinc, calcium, and silver. Various pigments can be mentioned. Among these, it is preferable to use carbon black having high light-shielding properties.

카본 블랙으로는, 채널 블랙, 퍼니스 블랙, 서멀 블랙, 램프 블랙 등의 공지의 카본 블랙을 이용할 수 있지만, 차광성이 뛰어난 채널 블랙을 이용하는 것이 바람직하다. 또, 수지 피복 카본 블랙을 사용해도 된다.As the carbon black, known carbon blacks such as channel black, furnace black, thermal black, and lamp black can be used, but it is preferable to use channel black having excellent light shielding properties. Moreover, you may use resin-coated carbon black.

수지 피복 카본 블랙은 수지 피복이 없는 카본 블랙에 비해 도전성이 낮다는 점에서, 액정 표시 디스플레이와 같은 액정 표시 소자의 블랙 매트릭스로서 사용했을 경우에 전류의 리크가 적고, 신뢰성이 높은 저소비 전력의 디스플레이를 제조할 수 있다.Resin-coated carbon black has a lower conductivity than carbon black without resin coating, and thus, when used as a black matrix for liquid crystal display elements such as liquid crystal display displays, displays with low current leakage and high reliability and low power consumption. Can be produced.

카본 블랙 이외의 흑색 안료로는, 예를 들면 (D2a) 페릴렌계 안료 및 (D2b) 락탐계 안료를 들 수 있다. 이들 안료는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of black pigments other than carbon black include (D2a) perylene-based pigments and (D2b) lactam-based pigments. These pigments can be used in combination of two or more.

(D2a) 페릴렌계 안료로는, 페릴렌 골격을 가지는 화합물로 이루어지고, 흑색을 나타내는 안료이면 특별히 한정되지 않는다.(D2a) The perylene-based pigment is not particularly limited as long as it is made of a compound having a perylene skeleton and exhibits black color.

(D2a) 페릴렌계 안료의 구체예로는, 하기 식 (d-1)로 표시되는 페릴렌계 안료, 하기 식 (d-2)로 표시되는 페릴렌계 안료 및 하기 식 (d-3)로 표시되는 페릴렌계 안료를 들 수 있다. 시판품에서는, BASF사 제의 제품명 K0084 및 K0086나, 피그먼트 블랙 21, 30, 31, 32, 33 및 34 등을 (D2a) 페릴렌계 안료로서 바람직하게 이용할 수 있다.(D2a) As a specific example of the perylene-based pigment, the perylene-based pigment represented by the following formula (d-1), the perylene-based pigment represented by the following formula (d-2) and the following formula (d-3) And perylene-based pigments. In commercial products, product names K0084 and K0086 manufactured by BASF, Pigment Black 21, 30, 31, 32, 33, 34, and the like can be preferably used as the (D2a) perylene-based pigment.

Figure pat00029
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식 (d-1) 중, Rd1 및 Rd2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1 이상 3 이하의 알킬렌기를 나타내고, Rd3 및 Rd4는 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 메톡시기 또는 아세틸기를 나타낸다.In formula (d-1), R d1 and R d2 each independently represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and R d3 and R d4 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group, or an acetyl group. .

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Figure pat00030

식 (d-2) 중, Rd5 및 Rd6는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1 이상 7 이하의 알킬렌기를 나타낸다.In formula (d-2), R d5 and R d6 each independently represent an alkylene group having 1 to 7 carbon atoms.

Figure pat00031
Figure pat00031

식 (d-3) 중, Rd7 및 Rd8는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1 이상 22 이하의 알킬기이며, N, O, S 또는 P의 헤테로 원자를 포함하고 있어도 된다. Rd7 및 Rd8가 알킬기인 경우, 상기 알킬기는 직쇄상이어도, 분기쇄상이어도 된다.In formula (d-3), R d7 and R d8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, and may contain N, O, S or P heteroatoms. When R d7 and R d8 are alkyl groups, the alkyl group may be linear or branched.

상기의 식 (d-1)로 표시되는 화합물, 식 (d-2)로 표시되는 화합물 및 식 (d-3)로 표시되는 화합물은, 예를 들면, 일본 특개 소62-1753호 공보, 일본 특공 소63-26784호 공보에 기재된 방법을 이용해 합성할 수 있다. 즉, 페릴렌-3,5,9,10-테트라카르복시산 또는 그 2 무수물과 아민류를 원료로 하여, 물 또는 유기용매 중에서 가열 반응을 실시한다. 그리고, 얻어진 조제물을 황산 중에서 재침전시키든지, 또는 물, 유기용매 혹은 이들 혼합 용매 중에서 재결정시킴으로써 목적물을 얻을 수 있다.The compound represented by the formula (d-1), the compound represented by the formula (d-2) and the compound represented by the formula (d-3) are, for example, Japanese Patent Application Laid-open No. 62-1753, Japan It can be synthesized using the method described in Japanese Patent Publication No. 63-26784. That is, perylene-3,5,9,10-tetracarboxylic acid or its anhydride and amines are used as raw materials, and a heating reaction is carried out in water or an organic solvent. Then, the target product can be obtained by reprecipitating the obtained preparation in sulfuric acid or recrystallizing in water, an organic solvent, or a mixed solvent of these.

감광성 수지 조성물 중에서 (D2a) 페릴렌계 안료를 양호하게 분산시켜 폭 넓은 파장역의 빛에 대해 투과율이 낮은 경화막을 형성하기 위해서는, 페릴렌계 안료의 체적 평균 입자 지름은 10 nm 이상 1000 nm 이하인 것이 바람직하고, 10 nm 이상 500 nm 이하가 보다 바람직하며, 10 nm 이상 200 nm 이하가 특히 바람직하다.In order to form a cured film having low transmittance for light in a wide wavelength range by dispersing the (D2a) perylene-based pigment well in the photosensitive resin composition, the volume average particle diameter of the perylene-based pigment is preferably 10 nm or more and 1000 nm or less. , 10 nm or more and 500 nm or less are more preferable, and 10 nm or more and 200 nm or less are particularly preferable.

또, 페릴렌계 안료의 체적 입자 지름이 상기의 범위 내인 경우, 산술 평균 거칠기 Ra가 낮은, 평활한 표면을 가지는 경화막을 안정적으로 형성하기 쉽다.In addition, when the volume particle diameter of the perylene-based pigment is within the above range, it is easy to stably form a cured film having a smooth surface having a low arithmetic average roughness Ra.

(D2b) 락탐계 안료로는, 예를 들면, 하기 식 (d-4)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.(D2b) As a lactam pigment, the compound represented by following formula (d-4) is mentioned, for example.

Figure pat00032
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식 (d-4) 중, Xd는 이중 결합을 나타내고, 기하 이성체로서 각각 독립적으로 E체 또는 Z체이며, Rd9는 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기, 니트로기, 메톡시기, 브롬 원자, 염소 원자, 불소 원자, 카르복시기 또는 술포기를 나타내고, Rd10는 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기 또는 페닐기를 나타내며, Rd11는 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기 또는 염소 원자를 나타낸다.In formula (d-4), X d represents a double bond, and each is an E or Z body independently as a geometric isomer, and R d9 is each independently a hydrogen atom, a methyl group, a nitro group, a methoxy group, a bromine atom, and chlorine. Represents an atom, a fluorine atom, a carboxy group or a sulfo group, R d10 each independently represents a hydrogen atom, a methyl group or a phenyl group, and R d11 each independently represents a hydrogen atom, a methyl group or a chlorine atom.

식 (d-4)로 표시되는 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.The compound represented by formula (d-4) can be used alone or in combination of two or more.

Rd9는 식 (d-4)로 표시되는 화합물의 제조가 용이한 점에서, 디히드로인드론환의 6위에 결합하는 것이 바람직하고, Rd11는 디히드로인드론환의 4위에 결합하는 것이 바람직하다. 동일한 관점에서, Rd9, Rd10 및 Rd11는 바람직하게는 수소 원자이다.Since R d9 is easy to prepare the compound represented by the formula (d-4), it is preferable to bind to the 6th position of the dihydroindron ring, and R d11 is preferably bound to the 4th position of the dihydroindron ring. From the same viewpoint, R d9 , R d10 and R d11 are preferably hydrogen atoms.

식 (d-4)로 표시되는 화합물은 기하 이성체로서 EE체, ZZ체, EZ체를 가지지만, 이들 중 어느 하나 단일의 화합물이어도 되고, 이들의 기하 이성체의 혼합물이어도 된다.The compound represented by formula (d-4) has an EE form, a ZZ form, or an EZ form as a geometric isomer, but any one of them may be a single compound, or a mixture of these geometric isomers.

식 (d-4)로 표시되는 화합물은, 예를 들면, 국제 공개 제2000/24736호 및 국제 공개 제2010/081624호에 기재된 방법에 의해 제조할 수 있다.The compound represented by Formula (d-4) can be produced, for example, by the methods described in International Publication No. 2000/24736 and International Publication No. 2010/081624.

감광성 수지 조성물 중에서 락탐계 안료를 양호하게 분산시키기 위해서는, 락탐계 안료의 체적 평균 입자 지름은 10 nm 이상 1000 nm 이하인 것이 바람직하다.In order to satisfactorily disperse the lactam-based pigment in the photosensitive resin composition, the volume average particle diameter of the lactam-based pigment is preferably 10 nm or more and 1000 nm or less.

또, 카본 블랙 등의 흑색 안료의 색조를 조정하기 위해서, 보조 안료로서 하기에 나타내는 바와 같은 유기 안료를 적당히 첨가해도 된다. 또, 카본 블랙 등의 흑색 안료를 사용하지 않고, 하기에 나타내는 바와 같은 유기 안료를 복수 조합하는, 예를 들면, 삼원색의 색재를 혼합함으로써 흑색으로 하는 것 같은 일도 가능하다.Moreover, in order to adjust the color tone of black pigments, such as carbon black, you may add suitably the organic pigment shown below as an auxiliary pigment. Moreover, it is also possible to use a black pigment, such as carbon black, to combine a plurality of organic pigments as shown below, for example, to mix the color materials of the three primary colors to make it black.

유기 안료로는, 예를 들면, 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에 있어서, 피그먼트(Pigment)로 분류되고 있는 화합물, 구체적으로는, 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.) 번호가 첨부되어 있는 안료를 이용하는 것이 바람직하다.As the organic pigment, for example, in the color index (CI; issued by The Society of Dyers and Colourists), a compound classified as a pigment, specifically, the following color index (CI) number It is preferable to use a pigment to which is attached.

적합하게 사용할 수 있는 황색 안료의 예로는, C.I. 피그먼트 옐로우 1(이하, 「C.I. 피그먼트 옐로우」는 동일하여, 번호만을 기재한다.), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180 및 185를 들 수 있다.Examples of the yellow pigment that can be suitably used are C.I. Pigment Yellow 1 (hereinafter, "CI Pigment Yellow" is the same and only the number is described), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180 and 185 Can be lifted.

적합하게 사용할 수 있는 오렌지색 안료의 예로는, C.I. 피그먼트 오렌지 1(이하, 「C.I. 피그먼트 오렌지」는 동일하여, 번호만을 기재한다.), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 55, 59, 61, 63, 64, 71 및 73을 들 수 있다.Examples of orange pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Orange 1 (hereinafter, "CI Pigment Orange" is the same and only the number is described), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 55, 59, 61, 63, 64, 71 and 73.

적합하게 사용할 수 있는 보라색 안료의 예로는, C.I. 피그먼트 바이올렛 1(이하, 「C.I. 피그먼트 바이올렛」은 동일하여, 번호만을 기재한다.), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40 및 50을 들 수 있다.Examples of suitable purple pigments are C.I. Pigment Violet 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Violet is the same and only the number is described."), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40 and 50.

적합하게 사용할 수 있는 적색 안료의 예로는, C.I. 피그먼트 레드 1(이하, 「C.I. 피그먼트 레드」는 동일하여, 번호만을 기재한다.) 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 53:1, 57, 57:1, 57:2, 58:2, 58:4, 60:1, 63:1, 63:2, 64:1, 81:1, 83, 88, 90:1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264 및 265를 들 수 있다.Examples of red pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Red 1 (Hereinafter, "CI Pigment Red" is the same and only the number is described.) 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16 , 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49: 1, 49 : 2, 50: 1, 52: 1, 53: 1, 57, 57: 1, 57: 2, 58: 2, 58: 4, 60: 1, 63: 1, 63: 2, 64: 1, 81 : 1, 83, 88, 90: 1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168 , 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217 , 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264 and 265.

적합하게 사용할 수 있는 청색 안료의 예로는, C.I. 피그먼트 블루 1(이하, 「C.I. 피그먼트 블루」는 동일하여, 번호만을 기재한다.), 2, 15, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 64 및 66을 들 수 있다.Examples of blue pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Blue 1 (hereinafter, "CI Pigment Blue" is the same, and only the numbers are described), 2, 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64, and 66 Can be lifted.

적합하게 사용할 수 있는 상기 외의 색상의 안료의 예로는, C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 37 등의 녹색 안료, C.I. 피그먼트 브라운 23, C.I. 피그먼트 브라운 25, C.I. 피그먼트 브라운 26, C.I. 피그먼트 브라운 28 등의 갈색 안료, C.I. 피그먼트 블랙 1, C.I. 피그먼트 블랙 7 등의 흑색 안료를 들 수 있다.Examples of pigments of other colors that can be suitably used include C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Green pigments, such as Pigment Green 37, C.I. Pigment Brown 23, C.I. Pigment Brown 25, C.I. Pigment Brown 26, C.I. Pigment Brown 28 and other brown pigments, C.I. Pigment Black 1, C.I. And black pigments such as Pigment Black 7.

상기의 착색제를 감광성 수지 조성물에서 균일하게 분산시키기 위해서, 추가로 분산제를 사용해도 된다. 이와 같은 분산제로는, 폴리에틸렌이민계, 우레탄 수지계, 아크릴 수지계의 고분자 분산제를 이용하는 것이 바람직하다. 특히, 착색제로서 카본 블랙을 이용하는 경우에는, 분산제로서 아크릴 수지계의 분산제를 이용하는 것이 바람직하다.In order to uniformly disperse the coloring agent in the photosensitive resin composition, a dispersing agent may be further used. As such a dispersant, it is preferable to use a polyethyleneimine-based, urethane resin-based, or acrylic resin-based polymer dispersant. In particular, when using carbon black as the colorant, it is preferable to use an acrylic resin-based dispersant as the dispersant.

또, 무기 안료와 유기 안료는 각각 단독 또는 2종 이상 병용해도 되지만, 병용하는 경우에는 무기 안료와 유기 안료의 총량 100 중량부에 대해서, 유기 안료를 10 중량부 이상 80 중량부 이하의 범위에서 이용하는 것이 바람직하고, 20 중량부 이상 40 중량부 이하의 범위에서 이용하는 것이 보다 바람직하다.Further, the inorganic pigments and the organic pigments may be used alone or in combination of two or more, but when used in combination, the organic pigment is used in a range of 10 parts by weight or more and 80 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the total amount of the inorganic pigments and organic pigments. It is preferable, and it is more preferable to use it in a range of 20 parts by weight or more and 40 parts by weight or less.

감광성 수지 조성물에서의 착색제의 사용량은 감광성 수지 조성물의 용도에 따라 적당히 결정하면 되지만, 일례로서 감광성 수지 조성물 중의 용제 이외의 성분의 중량의 합계 100 중량부에 대해서, 1 중량부 이상 50 중량부 이하가 바람직하고, 5 중량부 이상 30 중량부 이하가 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 목적으로 하는 패턴으로 블랙 매트릭스나 각 착색층을 형성할 수 있어 바람직하다.The amount of the colorant used in the photosensitive resin composition may be appropriately determined depending on the use of the photosensitive resin composition, but as an example, 1 part by weight or more and 50 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the total weight of the components other than the solvent in the photosensitive resin composition Preferably, 5 parts by weight or more and 30 parts by weight or less are more preferable. By setting it as the said range, it is preferable because a black matrix and each colored layer can be formed in a target pattern.

특히, 감광성 수지 조성물을 사용해 블랙 매트릭스(또는 블랙 뱅크)를 형성하는 경우에는, 블랙 매트릭스의 피막 1 ㎛ 당의 OD 값이 0.1 이상이 되도록 감광성 수지 조성물에서의 차광제의 양을 조정하는 것이 바람직하다. 블랙 매트릭스에서의 피막 1 ㎛ 당의 OD 값이 0.1 이상이면, 표시체의 블랙 매트릭스에 이용했을 경우에 충분한 표시 콘트라스트를 얻을 수 있다.In particular, when forming a black matrix (or black bank) using a photosensitive resin composition, it is preferable to adjust the amount of the light blocking agent in the photosensitive resin composition so that the OD value per 1 µm of the black matrix film is 0.1 or more. When the OD value per 1 µm of the film in the black matrix is 0.1 or more, sufficient display contrast can be obtained when used in the black matrix of the display body.

착색제는 분산제를 이용해 적당한 농도로 분산시킨 분산액으로 한 후, 감광성 수지 조성물에 첨가하는 것이 바람직하다.It is preferable to add a coloring agent to a photosensitive resin composition, after making it into the dispersion liquid disperse | distributed to an appropriate concentration using a dispersing agent.

<용제(S)><Solvent (S)>

감광성 수지 조성물은 용제(S)를 포함하고 있어도 포함하지 않아도 된다. 용제(S)를 포함하는 경우, 용제(S)로는 예를 들면, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라히드로푸란 등의 다른 에테르류; 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등의 케톤류; 2-히드록시프로피온산메틸, 2-히드록시프로피온산에틸 등의 락트산알킬에스테르류; 2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 히드록시아세트산에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산에틸, 아세트산n-프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산이소부틸, 포름산n-펜틸, 아세트산이소펜틸, 프로피온산n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산n-프로필, 부티르산이소프로필, 부티르산n-부틸, 피루빈산메틸, 피루빈산에틸, 피루빈산n-프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-옥소부탄산에틸 등의 다른 에스테르류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있다. 이들 용제는 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합해 이용해도 된다.The photosensitive resin composition may or may not contain a solvent (S). When the solvent (S) is included, as the solvent (S), for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol Monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether , Propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, di Propylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether, etc. Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers; (Poly) alkylene such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, etc. Glycol monoalkyl ether acetates; Other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and tetrahydrofuran; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone and 3-heptanone; Alkyl lactates such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; 2-hydroxy-2-methylpropionate ethyl, 3-methoxypropionate methyl, 3-methoxypropionate ethyl, 3-ethoxypropionate methyl, 3-ethoxypropionate ethyl, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, 2 -Hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-acetic acid Butyl, isobutyl acetate, n-pentyl acetate, isopentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, isopropyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, ethyl pyruvate other esters such as n-propyl, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, and ethyl 2-oxobutanoate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; And amides such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, and N, N-dimethylacetamide. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

감광성 수지 조성물은 용제 중에 각 성분을 분산·용해시켜 조제되어도 된다. 전술한 (A) 성분이 액상이면, 용제를 이용하지 않아도 된다. 용제를 포함하는 경우, 감광성 수지 조성물에 사용되는 용제로는, 예를 들면, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라히드로푸란 등의 다른 에테르류; 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등의 케톤류; 2-히드록시프로피온산메틸, 2-히드록시프로피온산에틸 등의 락트산알킬에스테르류; 2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 히드록시아세트산에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산에틸, 아세트산n-프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산이소부틸, 포름산n-펜틸, 아세트산이소펜틸, 프로피온산n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산n-프로필, 부티르산이소프로필, 부티르산n-부틸, 피루빈산메틸, 피루빈산에틸, 피루빈산n-프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-옥소부탄산에틸 등의 다른 에스테르류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있다. 이들 용제는 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합해 이용해도 된다.The photosensitive resin composition may be prepared by dispersing and dissolving each component in a solvent. If the component (A) described above is liquid, it is not necessary to use a solvent. When a solvent is included, as the solvent used in the photosensitive resin composition, for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, di Ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono Methyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether , Dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene Recall monoethyl ether and (poly) alkylene glycol monoalkyl ether; (Poly) alkylene such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, etc. Glycol monoalkyl ether acetates; Other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and tetrahydrofuran; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone and 3-heptanone; Alkyl lactates such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; 2-hydroxy-2-methylpropionate ethyl, 3-methoxypropionate methyl, 3-methoxypropionate ethyl, 3-ethoxypropionate methyl, 3-ethoxypropionate ethyl, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, 2 -Hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-acetic acid Butyl, isobutyl acetate, n-pentyl acetate, isopentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, isopropyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, ethyl pyruvate other esters such as n-propyl, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, and ethyl 2-oxobutanoate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; And amides such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, and N, N-dimethylacetamide. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

용제(S)는 감광성 수지 조성물의 용도에 따라 적당히 결정하면 되지만, 일례로서 감광성 수지 조성물 중의 고형분 농도를 1 중량% 이상 50 중량% 이하의 범위에서 적당히 조정하면 된다.The solvent (S) may be appropriately determined depending on the use of the photosensitive resin composition, but as an example, the solid content concentration in the photosensitive resin composition may be appropriately adjusted within a range of 1% by weight to 50% by weight.

<(E) 발수제><(E) water repellent>

감광성 수지 조성물은 추가로 발수제를 포함하고 있어도 된다. 감광성 수지 조성물에 의해 패턴 형상을 가지는 발수막을 형성하는 것은, 예를 들면, 평판 인쇄판, 잉크젯 헤드의 노즐면 등의 분야에서, 발수성 내지 발액성에 의해서 인자품위(印字品位)가 크게 개선되기 때문에 소망되는 것이다.The photosensitive resin composition may further contain a water repellent agent. Forming a water-repellent film having a pattern shape with a photosensitive resin composition is desirable because, in fields such as flat plate printing plates and inkjet head nozzle surfaces, water-repellent or liquid-repellent properties greatly improve the printing quality. Will be.

(E) 발수제로는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 불소를 가지는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 발수제로는, 양이온 중합성을 가지는 퍼플루오로알킬 조성물, 양이온 중합성을 가지는 퍼플루오로폴리에테르 조성물을 들 수 있다. 구체적으로는, 아래 식 (E-1)로 표시되는 기 또는 아래 식 (E-2)로 표시되는 기를 포함하는 측쇄를 가지는 발(撥)잉크제를 포함한 조성물인 것이 바람직하다.(E) The water-repellent agent is not particularly limited, but preferably contains a compound having fluorine. For example, examples of the water repellent include a perfluoroalkyl composition having cationic polymerization and a perfluoropolyether composition having cationic polymerization. Specifically, it is preferably a composition containing a foot ink agent having a side chain comprising a group represented by the following formula (E-1) or a group represented by the following formula (E-2).

-CFXRf (E-1)-CFXR f (E-1)

-(SiRe1Re2-O)n-SiRe3Re4Re5 (E-2)-(SiR e1 R e2 -O) n -SiR e3 R e4 R e5 (E-2)

식 (1) 중, X는 수소 원자, 불소 원자 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, Rf는 에테르성 산소 원자를 가지고 있어도 되는 수소 원자 중 적어도 1개가 불소 원자로 치환된 탄소 원자수 20 이하의 플루오로알킬기, 또는 불소 원자를 나타낸다.In formula (1), X represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a trifluoromethyl group, and R f is fluoro of 20 or less carbon atoms in which at least one of the hydrogen atoms which may have an etheric oxygen atom is substituted with a fluorine atom. Alkyl group or fluorine atom.

식 (2) 중, Re1, Re2, Re3 및 Re4는 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 시클로알킬기 또는 아릴기를 나타내고, Re5는 수소 원자 또는 탄소 원자수 1∼10의 유기기를 나타내며, n는 1∼200의 정수를 나타낸다.In formula (2), R e1 , R e2 , R e3 and R e4 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, R e5 represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 10 carbon atoms, n Represents an integer from 1 to 200.

또, 불소 함유기를 가지는 가수분해성 실란 화합물과 양이온 중합성기를 가지는 가수분해성 실란 화합물을 포함하는 축합물을 예시할 수 있다. 일례로는, 예를 들면, 하기 식Moreover, the condensation product containing the hydrolysable silane compound which has a fluorine-containing group and the hydrolysable silane compound which has a cationically polymerizable group can be illustrated. As an example, for example, the following formula

CF3(CF2)nCH2CH2Si(OCH3)3 CF 3 (CF 2 ) n CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3

(식 중, n는 0 이상 7 이하의 정수이다.)(In the formula, n is an integer of 0 or more and 7 or less.)

로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다. n가 상기 범위를 넘으면 감광성 수지 조성물에서의 상용성이 저하해, 피복막 전체에 균질한 발수성을 부여하는 것이 곤란해진다.The compound etc. which are represented by are mentioned. When n exceeds the above range, compatibility in the photosensitive resin composition decreases, and it becomes difficult to impart uniform water repellency to the entire coating film.

감광성 수지 조성물에 있어서, 발수제의 배합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 수지 조성물 중의 용제 이외의 성분의 중량의 합계 100 중량부에 대해서, 20 중량부 이하인 것이 바람직하고, 0.05 중량부 이상 10 중량부 이하가 보다 바람직하다. 상기의 범위 내의 양의 발수제를 이용하면, 알칼리 가용성 수지(A)와 발수제를 양호하게 상용시키면서, 경화막의 양호한 경도와 경화막의 양호한 발수성과 경화막의 양호한 엣지의 각도 특성을 균형있게 달성하기 쉽다.In the photosensitive resin composition, the blending ratio of the water repellent is not particularly limited, but is preferably 20 parts by weight or less, and preferably 0.05 parts by weight or more and 10 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the total weight of components other than the solvent in the photosensitive resin composition. Is more preferred. When an amount of water repellent in the above range is used, it is easy to achieve a good compatibility between the alkali-soluble resin (A) and the water repellent, while achieving good hardness of the cured film, good water repellency of the cured film, and angular characteristics of a good edge of the cured film.

<그 밖의 성분><Other ingredients>

감광성 수지 조성물에는, 필요에 따라서, 이것 이외의 그 밖의 각종 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 구체적으로는, 분산조제, 충전제, 필러, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제, 열중합 금지제, 소포제, 계면활성제 등이 예시된다.The photosensitive resin composition may contain various other additives other than this as needed. Specifically, dispersing aids, fillers, fillers, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, aggregation inhibitors, thermal polymerization inhibitors, antifoaming agents, surfactants, and the like are exemplified.

감광성 수지 조성물에 사용되는 열중합 금지제로는, 예를 들면, 히드로퀴논, 히드로퀴논모노에틸에테르 등을 들 수 있다. 또, 소포제로는 실리콘계, 불소계 등의 화합물을, 계면활성제로는 음이온계, 양이온계, 비이온 등의 화합물을 각각 예시할 수 있다.As a thermal polymerization inhibitor used for a photosensitive resin composition, hydroquinone, hydroquinone monoethyl ether, etc. are mentioned, for example. Moreover, as an antifoaming agent, compounds, such as a silicone type and a fluorine type, can be illustrated, respectively, as compounds, such as anionic type, cationic type, and nonionic.

[감광성 수지 조성물의 조제 방법][Preparation method of photosensitive resin composition]

감광성 수지 조성물은 상기의 각 성분을 모두 교반기로 혼합함으로써 조제된다. 또한, 조제된 감광성 수지 조성물이 안료 등의 불용성의 성분을 포함하지 않는 경우, 감광성 수지 조성물이 균일해지도록 필터를 이용해 여과해도 된다.The photosensitive resin composition is prepared by mixing all the above components with a stirrer. Moreover, when the prepared photosensitive resin composition does not contain insoluble components, such as a pigment, you may filter using a filter so that a photosensitive resin composition becomes uniform.

≪경화막 형성 방법≫≪How to form a cured film≫

경화막의 제조 방법은, 감광성 수지 조성물을 기재 상에 적용해 감광성 수지층을 형성하는 공정(이하 간단하게 「수지층 형성 공정」이라고도 함), 및 상기 수지층을 위치 선택적으로 노광하는 공정(이하 간단하게 「노광 공정」이라고도 함), 및 노광된 감광성 수지층을 현상액에 의해 현상을 실시해 패턴 형성하는 공정(이하 간단하게 「현상 공정」이라고도 함)을 포함한다.The manufacturing method of a cured film is a process of forming a photosensitive resin layer by applying a photosensitive resin composition on a substrate (hereinafter simply referred to as a "resin layer forming process"), and a step of selectively exposing the resin layer (hereinafter simply). It includes a process of forming a pattern by developing the exposed photosensitive resin layer with a developer (hereinafter simply referred to as a "development process").

기재(기판 또는 지지체)는 여러 가지의 용도에 따라서 선택 가능하고, 예를 들면, 석영, 유리, 광학 필름, 세라믹 재료, 증착막, 자성막, 반사막, Ni, Cu, Cr, Fe 등의 금속 기판, 종이, SOG(Spin On Glass), 폴리에스테르 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리이미드 필름 등의 폴리머 기판, TFT 어레이 기판, PDP의 전극판, 유리나 투명 플라스틱 기판, ITO나 금속 등의 도전성 기재, 절연성 기재, 실리콘, 질화실리콘, 폴리실리콘, 산화실리콘, 아모퍼스 실리콘 등의 반도체 제작 기판 등 특별히 제약되지 않는다. 또한, 예를 들면 기판 상에 적층 구조를 형성하는 경우에 있어서, 기판 상에 이미 형성된 하부 구조가 되는 어떠한 층도 감광성 수지층이 적용되는 기재로서의 개념에 포함된다. 또, 기재의 형상도 특별히 한정되지 않고, 판 모양이어도 되고, 롤 모양이어도 된다. 기재는, 또한 예를 들면, 각종 패턴에 의해서 표면에 요철을 가져도 된다. 또, 상기 기재로는 광투과성 또는 비광투과성의 기재를 선택할 수 있다.The substrate (substrate or support) can be selected according to various uses, for example, quartz, glass, optical films, ceramic materials, vapor-deposited films, magnetic films, reflective films, metal substrates such as Ni, Cu, Cr, Fe, etc. Paper, SOG (Spin On Glass), polyester films, polycarbonate films, polymer substrates such as polyimide films, TFT array substrates, PDP electrode plates, glass or transparent plastic substrates, conductive substrates such as ITO and metal, insulating substrates, There are no particular restrictions on semiconductor fabrication substrates such as silicon, silicon nitride, polysilicon, silicon oxide, amorphous silicon, and the like. In addition, in the case of forming a laminated structure on a substrate, for example, any layer serving as a substructure already formed on the substrate is included in the concept as a substrate to which a photosensitive resin layer is applied. Moreover, the shape of the base material is not particularly limited, and may be a plate shape or a roll shape. The base material may also have irregularities on the surface by various patterns, for example. In addition, as the substrate, a substrate that is light transmissive or non-transmissive can be selected.

우선, 수지층 형성 공정에서는, 예를 들면, 경화물이 형성되어야 할 기판 상에 롤 코터, 리버스 코터, 바 코터 등의 접촉 전사형 도포 장치나 스피너(회전식 도포 장치), 디스펜서, 잉크젯, 스프레이, 스크린 인쇄, 커텐 플로우 코터 등의 비접촉형 도포 장치를 이용해 감광성 수지 조성물을 적용하고, 필요에 따라서, 건조(프리베이크)에 의해 용매를 제거해 감광성 수지층을 형성할 수 있다.First, in the resin layer forming process, for example, a contact transfer type coating device such as a roll coater, a reverse coater, a bar coater, or a spinner (rotary coating device), a dispenser, inkjet, spray, screen on a substrate on which a cured product is to be formed. The photosensitive resin composition may be applied using a non-contact type coating device such as printing or curtain flow coater, and, if necessary, the solvent may be removed by drying (prebaking) to form a photosensitive resin layer.

감광성 수지층의 두께로는, 특별히 제한은 없지만, 0.05 ㎛ 이상이 바람직하고, 1 ㎛ 이상이 보다 바람직하며, 7 ㎛ 이상이 더욱 바람직하고, 10 ㎛ 이상이 특히 바람직하다. 상한은 특별히 없지만, 예를 들면 50 ㎛ 이하이며, 20 ㎛ 이하가 바람직하다. 상술한 것처럼, 감광성 수지 조성물은 노광시에 활성 에너지가 직접 닿지 않는 것 같은 부분에도 경화가 촉진되기 때문에, 예를 들면, 1 ㎛ 이상 15 ㎛ 이하라고 하는 두꺼운 막의 감광성 수지층을 형성하는 태양에 있어서도, 노광측으로부터 원위에 있는 기재측 부근에서도 충분히 경화를 진행시킬 수 있다.The thickness of the photosensitive resin layer is not particularly limited, but is preferably 0.05 μm or more, more preferably 1 μm or more, even more preferably 7 μm or more, and particularly preferably 10 μm or more. Although there is no upper limit in particular, it is 50 micrometers or less, for example, and 20 micrometers or less are preferable. As described above, since the photosensitive resin composition promotes hardening even in a portion where active energy does not directly contact during exposure, for example, in the aspect of forming a photosensitive resin layer of a thick film having a thickness of 1 µm or more and 15 µm or less, for example , Curing can be sufficiently advanced even in the vicinity of the substrate side distal from the exposure side.

또한, 기판 상에 담아진 액적이나, 요철(凹凸)을 가지는 기판의 오목(凹)부에 매립된 감광성 수지 조성물이나, 몰드의 오목부에 충전된 감광성 수지 조성물 등에 대해서도, 편의상 「감광성 수지층」이라고 칭한다.In addition, for the sake of convenience, the photosensitive resin layer filled in the concave portion of the mold, the photosensitive resin composition filled in the concave portion of the substrate having droplets, concavo-convex, etc. It is called.

그 다음에, 형성된 감광성 수지층을 노광에 의해 경화할 수 있다. 노광 방법은 감광성 수지 조성물을 경화시킬 수 있는 방법이면 특별히 한정되지 않고, 또 필요에 따라서 가열 처리를 함께 실시할 수도 있다.Then, the formed photosensitive resin layer can be cured by exposure. The exposure method is not particularly limited as long as it is a method capable of curing the photosensitive resin composition, and a heat treatment can also be carried out if necessary.

노광에서는 광원은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 카본 아크등, LED 등을 들 수 있다. 이와 같은 광원을 이용해 도막에 ArF 엑시머 레이져, KrF 엑시머 레이져, F2 엑시머 레이져, 극자외선(EUV), 진공 자외선(VUV), 전자선, X선, 연(軟)X선, g선, i선, h선, j선, k선 등의 방사선 내지 전자파를 조사해 도포막을 노광할 수 있다. 도포막에 대한 노광은 네가티브형의 마스크를 통해서 위치 선택적으로 행해져도 된다. 노광량은 경화성 조성물의 조성에 따라서도 상이하지만, 예를 들면 10 mJ/㎠ 이상 2000 mJ/㎠ 이하가 바람직하고, 100 mJ/㎠ 이상 1500 mJ/㎠ 이하가 보다 바람직하며, 200 mJ/㎠ 이상 1200 mJ/㎠ 이하가 더욱 바람직하다. 노광 조도는 감광성 수지 조성물의 조성에 따라서도 상이하지만, 1 mW/㎠ 이상 50 mW/㎠ 이하의 범위로 하는 것이 바람직하다.In exposure, the light source is not particularly limited, and examples thereof include high pressure mercury lamps, ultra high pressure mercury lamps, xenon lamps, carbon arc lamps, and LEDs. ArF excimer laser, KrF excimer laser, F 2 excimer laser, extreme ultraviolet (EUV), vacuum ultraviolet (VUV), electron beam, X-ray, soft X-ray, g-ray, i-ray, The coating film may be exposed by irradiation with radiation or electromagnetic waves such as h-ray, j-ray, and k-ray. The exposure to the coated film may be selectively performed through a negative type mask. Although the exposure amount varies depending on the composition of the curable composition, for example, 10 mJ / cm 2 or more and 2000 mJ / cm 2 or less is preferable, 100 mJ / cm 2 or more and 1500 mJ / cm 2 or less is more preferable, and 200 mJ / cm 2 or more and 1200 mJ / cm 2 or less is more preferable. Although exposure roughness differs also depending on the composition of a photosensitive resin composition, it is preferable to set it as 1 mW / cm <2> or more and 50 mW / cm <2> or less.

가열을 실시할 때의 온도는 특별히 한정되지 않고, 180℃ 이상 280℃ 이하가 바람직하고, 200℃ 이상 260℃ 이하가 보다 바람직하며, 220℃ 이상 250℃ 이하가 특히 바람직하다. 가열 시간은 전형적으로는 1분 이상 60분 이하가 바람직하고, 10분 이상 50분 이하가 보다 바람직하며, 20분 이상 40분 이하가 특히 바람직하다.The temperature at the time of heating is not particularly limited, 180 ° C or more and 280 ° C or less is preferable, 200 ° C or more and 260 ° C or less is more preferable, and 220 ° C or more and 250 ° C or less is particularly preferable. The heating time is preferably 1 minute or more and 60 minutes or less, more preferably 10 minutes or more and 50 minutes or less, and particularly preferably 20 minutes or more and 40 minutes or less.

상기 감광성 수지층을 경화시키는 공정이 위치 선택적인 노광에 의해 행해지고, 위치 선택적으로 노광된 상기 감광성 수지층을 현상하여, 패턴화된 경화막을 얻을 수 있다.The step of curing the photosensitive resin layer is performed by position-selective exposure, and the photosensitive resin layer exposed by position-selection can be developed to obtain a patterned cured film.

전술한 경화성 조성물은, 노광 후에 현상액에 대해서 과도하게 용해하기 어렵다. 이 때문에, 전술한 경화성 조성물을 이용함으로써 노광부를 볼록(凸)부로 하고, 미노광부를 오목부로 하는 양호한 형상의 패턴화된 경화물을 형성할 수 있다.The above-mentioned curable composition is difficult to dissolve excessively in a developing solution after exposure. For this reason, by using the above-mentioned curable composition, it is possible to form a patterned cured product having a good shape with an exposed portion as a convex portion and an unexposed portion as a concave portion.

현상 공정에서는, 노광된 도막을 현상액으로 현상함으로써, 원하는 형상으로 패턴화된 경화물이 형성된다. 현상 방법은 특별히 한정되지 않고, 침지법, 스프레이법, 패들법, 다이나믹디스펜서 등을 이용할 수 있다.In the developing process, a cured product patterned in a desired shape is formed by developing the exposed coating film with a developer. The developing method is not particularly limited, and an immersion method, a spray method, a paddle method, a dynamic dispenser, or the like can be used.

유기용제를 포함하는 현상액의 구체예로는, PE(프로필렌글리콜모노메틸에테르) 등의 알코올계 용제 내지 글리콜에테르계 용제, 테트라히드로푸란 등의 에테르계 용제, 아세트산부틸 등의 에스테르계 용제, 아세톤, 메틸아밀케톤 등의 케톤계 용제 등을 들 수 있다.Specific examples of the developing solution containing the organic solvent include alcohol-based solvents such as PE (propylene glycol monomethyl ether) to glycol ether-based solvents, ether-based solvents such as tetrahydrofuran, ester-based solvents such as butyl acetate, acetone, and the like. And ketone-based solvents such as methyl amyl ketone.

알칼리 현상액의 구체예로는, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 유기계의 현상액이나, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 암모니아, 4급 암모늄염 등의 수용액을 들 수 있다.Specific examples of the alkali developer include organic developer such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine, and aqueous solutions such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia, and quaternary ammonium salts.

그리고, 필요에 따라 노광 후의 경화물, 또는 현상 후의 패턴화된 경화물에 포스트베이크를 실시하여 추가로 가열 경화를 진행시켜도 된다. 포스트베이크의 온도는 150℃ 이상 270℃ 이하가 바람직하다.Further, if necessary, post-baking may be performed on the cured product after exposure or the patterned cured product after development to further advance heat curing. The post-baking temperature is preferably 150 ° C or higher and 270 ° C or lower.

≪경화물≫≪Light cargo≫

경화물은 전술한 경화성 조성물을 경화하여 이루어진다. 이 때문에, 경화물은 양호한 미세 패턴도 가질 수 있고, 또, 내열성 및 투명성도 양호하다.The cured product is formed by curing the aforementioned curable composition. For this reason, the cured product can also have a good fine pattern, and also has good heat resistance and transparency.

경화물이 경화막인 경우, 경화막의 두께로는 특별히 제한은 없지만, 0.05 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하가 바람직하다.When the cured product is a cured film, the thickness of the cured film is not particularly limited, but is preferably 0.05 μm or more and 50 μm or less.

또, 패턴화되어 있는 경화막은 상기 경화물로 이루어지므로 상기 양호한 미세 패턴을 가질 수 있다.In addition, the patterned cured film is made of the cured product, and thus can have the above fine pattern.

상기 경화물은 기판 표면을 닷 형성용의 복수의 구획으로 칸막이한 형태로 형성된 뱅크 용도로서 이용해도 된다. The cured product may be used as a bank for forming the substrate surface in a partitioned form with a plurality of compartments for dot formation.

또한, 닷은 광학 소자에서의 광 변조 가능한 최소 영역을 나타낸다. 유기 EL 소자, 양자 닷 디스플레이, TFT 어레이 및 박막 태양전지에 있어서는, 흑백 표시의 경우에 1닷 = 1화소이고, 컬러 표시의 경우에 예를 들면 3닷(R(빨강), G(초록), B(파랑) 등) = 1화소이다.In addition, the dot represents the smallest area capable of light modulation in the optical element. For organic EL devices, quantum dot displays, TFT arrays, and thin film solar cells, 1 dot = 1 pixel for black and white display, for example 3 dots (R (red), G (green), for color display), B (blue), etc.) = 1 pixel.

상기 경화물은 패터닝 특성이 뛰어난 감광성 수지 조성물에 의해 형성되므로, 광학 소자(특히, 잉크젯법에 의해 제작되는 유기 EL 소자나 양자 닷 디스플레이, TFT 어레이 또는 박막 태양전지)에 이용되는 경우에, 개구부에 잉크가 균일 도포되어 정도(精度)가 좋은 닷을 형성할 수 있다.Since the cured product is formed of a photosensitive resin composition having excellent patterning properties, when used in an optical element (especially an organic EL element produced by an inkjet method or a quantum dot display, TFT array or thin film solar cell), the opening The ink can be applied uniformly to form a good dot.

상기 경화물을 뱅크 용도로서 이용하는 경우, 뱅크의 폭은, 예를 들면, 100 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 20 ㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다. 또, 인접하는 뱅크간의 거리(패턴의 폭)는 300 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 100 ㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다. 뱅크의 높이는 0.05∼50 ㎛인 것이 바람직하고, 0.2∼20 ㎛인 것이 특히 바람직하다.When using the said cured product as a bank use, it is preferable that the width of a bank is 100 micrometers or less, for example, and it is especially preferable that it is 20 micrometers or less. The distance between adjacent banks (pattern width) is preferably 300 µm or less, and particularly preferably 100 µm or less. The height of the bank is preferably 0.05 to 50 μm, and particularly preferably 0.2 to 20 μm.

상기 경화물을 뱅크 용도로서 이용하여, 광학 소자를 얻기 위한 뱅크의 개구부에 잉크젯법에 의해 닷을 형성하는 예를 이하에 설명하지만, 이것으로 한정되지 않는다.An example in which a dot is formed by an inkjet method in an opening of a bank for obtaining an optical element using the cured product as a bank application will be described below, but is not limited to this.

기판 상에 형성된 뱅크(예를 들면, 평면시(平面視) 격자 모양으로 형성되어 있는 뱅크)를 이용해 광학 소자의 일례인 양자 닷 디스플레이를 제조하는 방법을 설명한다.A method of manufacturing a quantum dot display, which is an example of an optical element, using a bank formed on a substrate (for example, a bank formed in a planar grid shape) will be described.

여기서, 기판 상의 뱅크는, 개구부가 제조하려고 하는 양자 닷 디스플레이의 닷의 패턴에 일치하도록 형성된 것이다.Here, the bank on the substrate is formed so that the openings match the dot pattern of the quantum dot display to be manufactured.

또, 기판은 유리 등의 투광성 기판에 ITO 등의 투광성 전극을 스패터법 등에 의해서 성막된 것이다. 이 투광성 전극은 필요에 따라서 패터닝되어 있어도 된다.Further, the substrate is formed by depositing a light-transmitting electrode such as ITO on a light-transmitting substrate such as glass by sputtering or the like. The light-transmitting electrode may be patterned as necessary.

뱅크로 둘러싸인 개구부에 잉크젯 헤드로부터 잉크를 적하하여 개구부에 소정량의 잉크를 주입한다. 잉크로는, 닷의 기능에 맞춰 양자 닷 디스플레이용으로서 공지된 잉크(예를 들면, 정공 주입층용, 정공 수송층용, 양자 닷층용, 정공 저지층용 및 전자 주입층용의 재료를 이용한 잉크 등)가 적당히 선택되어 이용된다.Ink is dropped from the inkjet head into the opening surrounded by the bank to inject a predetermined amount of ink into the opening. As the ink, an ink known for quantum dot display according to the function of the dot (for example, an ink using a material for a hole injection layer, a hole transport layer, a quantum dot layer, a hole blocking layer, and an electron injection layer) It is selected and used.

그 다음에, 이용한 잉크의 종류에 의해, 예를 들면, 용매의 제거나 경화를 위해서, 건조 및/또는 가열 등의 처리를 실시하여 뱅크에 인접하는 형태로 원하는 닷층을 형성한다. 그 후, 알루미늄 등의 반사 전극, 또는 ITO 등의 투광성 전극을 증착법 등에 의해서 형성해 양자 닷 디스플레이를 얻는다.Then, depending on the type of ink used, for example, for removal or curing of the solvent, drying and / or heating or the like is performed to form a desired dot layer in a form adjacent to the bank. Thereafter, a reflective electrode such as aluminum or a transparent electrode such as ITO is formed by a vapor deposition method or the like to obtain a quantum dot display.

또한, 양자 닷 디스플레이는 청색광 변환형의 양자 닷 디스플레이여도 된다. 이 경우, 유리 등의 투광성 기판에 각 닷의 윤곽에 따라서 평면시 격자 모양으로 뱅크를 형성한다. 다음에, 닷 형성용 개구부 내에, 잉크젯법에 의해 청색광을 녹색광으로 변환하는 나노 입자 용액, 청색광을 적색광으로 변환하는 나노 입자 용액, 필요에 따라서 청색의 컬러 잉크를 도포, 건조하여 모듈을 제작한다. 청색을 발색하는 광원을 백라이트로서 사용하고 상기 모듈을 컬러 필터 대체로서 사용함으로써, 색 재현성이 뛰어난 디스플레이를 얻을 수 있다.Further, the quantum dot display may be a blue light conversion type quantum dot display. In this case, a bank is formed in a lattice shape in a plan view according to the outline of each dot on a transparent substrate such as glass. Next, in the opening for dot formation, a nanoparticle solution that converts blue light into green light by an inkjet method, a nanoparticle solution that converts blue light into red light, and, if necessary, a blue color ink is applied and dried to produce a module. By using a blue color light source as a backlight and using the module as a color filter replacement, a display having excellent color reproducibility can be obtained.

본 발명에 관한 경화물에 의한 뱅크를 이용함으로써, 제조 과정에서 패턴 정도가 높은 경화물(뱅크)로 칸막이된 개구부에 잉크가 균일하게 도포되는 것이 가능하고, 이것에 의해 정도 좋게 형성된 닷을 가지는 광학 소자(유기 EL 소자, 양자 닷 디스플레이, TFT 어레이 또는 박막 태양전지)를 얻을 수 있다.By using the bank of the cured product according to the present invention, it is possible to uniformly apply ink to an opening partitioned with a cured product (bank) having a high degree of patterning during the manufacturing process, thereby making the optical having a dot formed with good precision. Devices (organic EL devices, quantum dot displays, TFT arrays or thin film solar cells) can be obtained.

[실시예][Example]

이하, 실시예를 나타내어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 범위는 이들 실시예로 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited to these Examples.

이하에 나타내는 실시예 1∼23 및 비교예 1∼5에 있어서, 알칼리 가용성 수지(A)로는, 각각 표 1에 나타내는 바와 같은 배합량으로 수지 (a-1-1), (a-1-2) 및 (a-2-1) 중 어느 하나를 이용했다.In Examples 1 to 23 and Comparative Examples 1 to 5 shown below, as the alkali-soluble resin (A), the resins (a-1-1) and (a-1-2) were added in amounts shown in Table 1, respectively. And (a-2-1).

우선, 500 ㎖의 4구 플라스크 중에 비스페놀플루오렌형 에폭시 수지 235 g(에폭시 당량 235)와 테트라메틸암모늄클로라이드 110 ㎎, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀 100 ㎎ 및 아크릴산 72.0 g를 넣고, 이것에 25 ㎖/분의 속도로 공기를 불어 넣으면서 90℃∼100℃에서 가열 용해했다. 다음에, 용액이 백탁한 상태인 채 서서히 승온해 120℃로 가열하여 완전히 용해시켰다. 여기서 용액은 점차 투명 점조가 되었지만, 그대로 교반을 계속했다. 그 동안, 산가를 측정해 1.0 ㎎ KOH/g 미만이 될 때까지 가열 교반을 계속했다. 산가가 목표에 이를 때까지 12시간을 필요로 했다. 그리고 실온까지 냉각해 비스페놀플루오렌형 에폭시아크릴레이트를 얻었다.First, 235 g of bisphenol fluorene-type epoxy resin (epoxy equivalent 235) and 110 mg of tetramethylammonium chloride, 100 mg of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol and 72.0 g of acrylic acid in a 500 ml four-necked flask Was added, and heated and dissolved at 90 ° C to 100 ° C while blowing air at a rate of 25 mL / minute. Subsequently, the solution was gradually heated while being cloudy, and heated to 120 ° C to dissolve completely. Here, the solution gradually became a transparent consistency, but stirring was continued as it was. In the meantime, heating and stirring was continued until the acid value was measured and became less than 1.0 mg KOH / g. It took 12 hours to reach the target. Then, it was cooled to room temperature to obtain a bisphenol fluorene-type epoxy acrylate.

그 다음에, 이와 같이 하여 얻어진 상기의 비스페놀플루오렌형 에폭시아크릴레이트 307.0 g에 3-메톡시부틸아세테이트 600 g를 가해 용해한 후, 비페닐테트라카르복시산 2 무수물 80.5 g 및 브롬화 테트라에틸암모늄 1 g를 혼합하고, 서서히 승온해 110℃∼115℃로 4시간 반응시켰다. 산 무수물의 소실을 확인한 후, 1,2,3,6-테트라히드로 무수 프탈산 38.0 g를 혼합하고, 90℃에서 6시간 반응시켜 수지(a-1-1)(중량 평균 분자량: 3400)를 얻었다. 산 무수물의 소실은 IR 스펙트럼에 의해 확인했다.Next, 600 g of 3-methoxybutyl acetate was added and dissolved in 307.0 g of the bisphenol fluorene-type epoxy acrylate thus obtained, followed by dissolution, followed by mixing 80.5 g of biphenyltetracarboxylic acid anhydride and 1 g of tetraethylammonium bromide. Then, the temperature was gradually increased and reacted at 110 ° C to 115 ° C for 4 hours. After confirming the disappearance of the acid anhydride, 38.0 g of 1,2,3,6-tetrahydro phthalic anhydride were mixed and reacted at 90 ° C for 6 hours to obtain a resin (a-1-1) (weight average molecular weight: 3400). . The disappearance of the acid anhydride was confirmed by IR spectrum.

상기 수지(a-1-1)의 제조에 있어서의, 비페닐테트라카르복시산 2 무수물 80.5 g를, 피로멜리트산 2 무수물 59.7 g로 바꾼 것 이외에는 수지(a-1-1)의 제조와 동일하게 하여 수지(a-1-2)를 얻었다. 중량 평균 분자량은 2500이었다.In the production of the resin (a-1-1), in the same manner as in the production of the resin (a-1-1), except that 80.5 g of biphenyltetracarboxylic acid anhydride was replaced with 59.7 g of pyromellitic acid anhydride. Resin (a-1-2) was obtained. The weight average molecular weight was 2500.

Figure pat00033
Figure pat00033

(아크릴계 수지 a-2-1의 상기 식 중, 각 단위의 오른쪽 아래의 숫자는 알칼리 가용성 수지 중의 각 단위의 함유량(중량%)을 의미한다.)(In the above formula of acrylic resin a-2-1, the number at the bottom right of each unit means the content (% by weight) of each unit in the alkali-soluble resin.)

상기 알칼리 가용성 수지의 중량 평균 분자량은 7000이었다.The weight average molecular weight of the alkali-soluble resin was 7000.

또, 각 실시예 및 비교예에 있어서, 가교제(B)로는 다관능 (메타)아크릴 모노머(B2)로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(b-2-1)를 이용했다.Moreover, in each Example and the comparative example, dipentaerythritol hexaacrylate (b-2-1) was used as a polyfunctional (meth) acrylic monomer (B2) as a crosslinking agent (B).

또한, 가교제(B)로서의 단관능 (메타)아크릴 모노머로서 하기 식 (b-1-1)∼ (b-1-4)에 나타내는 화합물을 각각 표 1에 나타내는 배합량으로 이용했다.In addition, the compounds represented by the following formulas (b-1-1) to (b-1-4) as monofunctional (meth) acrylic monomers as the crosslinking agent (B) were used in the amounts shown in Table 1, respectively.

Figure pat00034
Figure pat00034

각 실시예 및 비교예에 있어서, 광중합 개시제(C)로서 하기 식으로 표시되는 화합물 c1∼c2를 이용했다.In each of Examples and Comparative Examples, compounds c1 to c2 represented by the following formula were used as the photopolymerization initiator (C).

Figure pat00035
Figure pat00035

Figure pat00036
Figure pat00036

또, 각 실시예 및 비교예에 있어서, 증감제(D)로서 2-이소프로필티옥산톤(화합물 d1: 2-이소프로필-9H-티옥산텐-9-온)을 이용했다.Moreover, in each Example and a comparative example, 2-isopropyl thioxanthone (compound d1: 2-isopropyl-9H-thioxanthene-9-one) was used as a sensitizer (D).

또한, 각 실시예 1∼18, 22∼26 및 비교예 1∼4에 있어서는, 표 1에 나타내는 바와 같은 배합량(각 분산액 중의 착색제 성분만의 숫자로 환산한 배합량)으로, 착색제(E)로서 카본 블랙 분산액(PGMEA 용매 중, 서멀 블랙 27 중량%)(e1), 또는 유기 안료 혼합 블랙(PGMEA 용매 중, 유기 안료가 20 중량%(Red-256/Violet-23/Blue-156 = 40/20/40(중량 비)))(e2)를 이용했다.In each of Examples 1 to 18, 22 to 26, and Comparative Examples 1 to 4, carbon was used as the colorant (E) in the compounding amount as shown in Table 1 (the compounding amount converted to the number of only the colorant component in each dispersion). Black dispersion (in PGMEA solvent, 27% by weight of thermal black) (e1), or organic pigment mixed black (in PGMEA solvent, 20% by weight of organic pigment (Red-256 / Violet-23 / Blue-156 = 40/20 / 40 (weight ratio))) (e2) was used.

각 실시예 및 비교예에 있어서, 첨가제(F)로서 활성제(f1: BYK310) 및 (f3) 불소계 계면활성제(퍼플루오로부틸에틸메타크릴레이트와 폴리에틸렌글리콜메타크릴레이트와 n-부틸메타크릴레이트로부터 유도되는 구성 단위를 포함하는 공중합체, 중량 평균 분자량: 20000)를, 또 첨가제로서 N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란(f2)을 첨가했다.In each of the Examples and Comparative Examples, as the additive (F), from the active agents (f1: BYK310) and (f3) fluorine-based surfactants (perfluorobutyl ethyl methacrylate and polyethylene glycol methacrylate and n-butyl methacrylate) A copolymer containing a derived structural unit, weight average molecular weight: 20000), and N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (f2) were added as an additive.

실시예에서는 이들 활성제 (f1), (f3) 및 첨가제 (f2)를 모두 첨가했다. 그러나, 감광성 수지 조성물에 있어서, 이들 활성제 및 첨가제는 필수의 성분이 아니라, 이것들을 배합하지 않는 것 이외에는 동일한 조성에 있어서도, 여기에 개시한 실시예와 동일한 평가 결과가 얻어지고 있다.In the examples, all of these active agents (f1), (f3) and additives (f2) were added. However, in the photosensitive resin composition, these active agents and additives are not essential components, and the same evaluation results as those in the examples disclosed herein are obtained even in the same composition except that these are not blended.

각 실시예 및 비교예에 있어서, 용제로는 3-메톡시부틸아세테이트(g1)와 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(g2)를 15/85(중량 비)의 비율로 사용했다.In each example and comparative example, 3-methoxybutyl acetate (g1) and propylene glycol monomethyl ether acetate (g2) were used as a solvent in a ratio of 15/85 (weight ratio).

[실시예 1∼26 및 비교예 1∼5][Examples 1 to 26 and Comparative Examples 1 to 5]

하기 표 1에 기재된 종류 및 양의 알칼리 가용성 수지(A), 가교제(B), 광중합 개시제(C), 증감제(D), 착색제(E), 첨가제(E) 및 용제(G)를, 실온(25℃±2℃)에서 교반기에서 각각 균일하게 혼합하여, 각 실시예 및 비교예의 감광성 수지 조성물을 얻었다. 또한, 실시예 19∼21 및 비교예 5에서는 착색제(E)를 배합하지 않고, 투명한 수지 조성물로 했다.Alkali-soluble resins (A), crosslinking agents (B), photopolymerization initiators (C), sensitizers (D), colorants (E), additives (E) and solvents (G) in the types and amounts listed in Table 1 below are at room temperature. The mixture was uniformly mixed in a stirrer at (25 ° C ± 2 ° C) to obtain photosensitive resin compositions of Examples and Comparative Examples. Moreover, in Examples 19-21 and Comparative Example 5, the coloring agent (E) was not mix | blended, and it was set as the transparent resin composition.

[라인 패턴 평가][Line pattern evaluation]

실시예 1∼26, 및 비교예 1∼5의 감광성 수지 조성물을, 유리 기판(100 ㎜×100 ㎜) 상에 스핀 코터를 이용해 도포하고, 100℃에서 120초간 프리베이크를 실시해 도포막을 형성했다. 그 다음에, 프록시미티 노광기(제품명: TME-150RTO, 주식회사 탑콘 제)를 사용해, 노광 갭을 50 ㎛로 하여 폭 20 ㎛의 라인 패턴이 형성된 네가티브형 마스크를 통해서, 도포막에 자외선을 조사했다. 노광량은 200 mJ/㎠로 했다. 노광 후의 도포막을 26℃의 0.04 중량% KOH 수용액으로 50초간 현상 후, 230℃에서 30분간 포스트베이크를 실시함으로써, 막 두께 10 ㎛의 라인 패턴을 경화막으로서 형성했다.The photosensitive resin compositions of Examples 1 to 26 and Comparative Examples 1 to 5 were coated on a glass substrate (100 mm × 100 mm) using a spin coater, and prebaked at 100 ° C. for 120 seconds to form a coating film. Subsequently, the coating film was irradiated with ultraviolet light through a negative type mask having a line pattern of 20 µm in width with an exposure gap of 50 µm using a Proximity exposure machine (product name: TME-150RTO, manufactured by Topcon Co., Ltd.). The exposure amount was 200 mJ / cm 2. A line pattern having a film thickness of 10 µm was formed as a cured film by developing the coated film after exposure with a 0.04 wt% KOH aqueous solution at 26 ° C for 50 seconds, and then post-baking at 230 ° C for 30 minutes.

(패턴 직진성 평가)(Pattern straightness evaluation)

형성된 라인 패턴을 광학 현미경에 의해 관찰해 패턴 직진성을 평가했다. 패턴 직진성은 라인의 엣지에 흔들림이 없는 경우를 「양호」, 흔들림이 있는 경우를 「불량」으로서 평가했다.The formed line pattern was observed with an optical microscope to evaluate the pattern straightness. The straightness of the pattern was evaluated as "good" when there was no shaking at the edge of the line and "bad" when there was shaking.

(테이퍼 각)(Taper angle)

노광량 200 mJ/㎠로 형성된 라인 패턴에 대해서, 테이퍼 각을 평가했다. 테이퍼 각에 대해서는, 주사 전자 현미경으로 패턴과 기판의 사이의 접합 각도로 하여 측정했다. 측정된 테이퍼 각을 표 1에 나타낸다. 테이퍼 각이 90°에 가까울수록 패턴 단면의 형상이 원하는 직사각형 형상에 가까운 것을 의미한다. 테이퍼 각이 90°보다도 상당량 작은 각인 경우, 패턴 단면의 형상이 원하는 직사각형 형상이 아니다. 또한, 테이퍼 각의 측정 결과에 의해, 라인 패턴의 단면 형상을 다음의 판정 기준에 근거해 판정했다. 그 결과를 모두 표 1에 나타낸다.The taper angle was evaluated about the line pattern formed with the exposure amount of 200 mJ / cm <2>. About the taper angle, it measured using the scanning electron microscope as the bonding angle between a pattern and a board | substrate. Table 1 shows the measured taper angle. The taper angle closer to 90 ° means that the shape of the cross section of the pattern is closer to the desired rectangular shape. When the taper angle is an angle significantly smaller than 90 °, the shape of the pattern cross section is not a desired rectangular shape. Moreover, the cross-sectional shape of the line pattern was judged based on the following judgment criteria based on the measurement result of the taper angle. Table 1 shows all the results.

◎: 테이퍼 각이 80°이상 90°이하이다.◎: The taper angle is 80 ° or more and 90 ° or less.

○: 테이퍼 각이 70°이상 80°미만이다.○: The taper angle is 70 ° or more but less than 80 °.

△: 테이퍼 각이 50°이상 70°미만이다.(Triangle | delta): The taper angle is 50 degrees or more and less than 70 degrees.

×: 테이퍼 각이 50°미만이다.×: The taper angle is less than 50 °.

[OD 값의 평가][Evaluation of OD value]

실시예 1∼26 및 비교예 1∼5의 감광성 수지 조성물을, 유리 기판(100 ㎜×100 ㎜) 상에 스핀 코터를 이용해 도포하고, 100℃에서 120초간 프리베이크를 실시해 도포막을 형성했다. 그 다음에, 프록시미티 노광기(제품명: TME-150RTO, 주식회사 탑콘 제)를 사용해, 노광량 200 mJ/㎠, 노광 갭을 50 ㎛로 하여 감광성 수지층을 노광했다. 노광된 감광성 수지층을 230℃에서 30분간 포스트베이크를 실시함으로써 경화막을 형성했다. 형성된 차광막의 두께는 10 ㎛였다. 형성된 차광막의 10 ㎛당 OD 값을, 투과율 측정기(D-200II, 그레타그마크베스사 제)를 이용해 측정해, 근사 곡선으로 1 ㎛당 OD 값을 산출했다. OD 값의 측정 결과를 표 1에 나타낸다.The photosensitive resin compositions of Examples 1 to 26 and Comparative Examples 1 to 5 were applied onto a glass substrate (100 mm × 100 mm) using a spin coater, and prebaked at 100 ° C. for 120 seconds to form a coating film. Next, a photosensitive resin layer was exposed using a proximity exposure machine (product name: TME-150RTO, manufactured by Topcon Co., Ltd.) with an exposure amount of 200 mJ / cm 2 and an exposure gap of 50 μm. A cured film was formed by post-baking the exposed photosensitive resin layer at 230 ° C for 30 minutes. The formed light-shielding film had a thickness of 10 μm. The OD value per 10 µm of the formed light-shielding film was measured using a transmittance meter (D-200II, manufactured by Gretagmark Beth), and an OD value per 1 µm was calculated using an approximate curve. Table 1 shows the measurement results of the OD values.

흑색의 착색제를 포함하는 실시예 1∼18, 22∼26 및 비교예 1∼4의 감광성 수지 조성물을 이용해 형성된 경화막의 OD 값은 모두 0.45/m이며, 차광성이 뛰어난 경화막이 형성되었다는 것을 알 수 있다. 한편, 착색제를 포함하지 않는 실시예 19∼21 및 비교예 5의 감광성 수지 조성물을 이용해 형성된 경화막의 OD 값은 모두 0.01/m이며, 높은 투과율을 가지는 경화막이 형성되었다는 것을 알 수 있다.It can be seen that the OD values of the cured films formed using the photosensitive resin compositions of Examples 1 to 18, 22 to 26, and Comparative Examples 1 to 4 containing a black colorant were all 0.45 / m, and cured films having excellent light shielding properties were formed. have. On the other hand, it can be seen that the OD values of the cured films formed using the photosensitive resin compositions of Examples 19 to 21 and Comparative Example 5, which do not contain a colorant, were all 0.01 / m, and cured films having high transmittance were formed.

Figure pat00037
Figure pat00037

Claims (13)

알칼리 가용성 수지(A);
가교제(B);
광중합 개시제(C);를 포함하는 감광성 수지 조성물로서,
상기 가교제(B)로서 치환기를 가지고 있어도 되는 비페닐 골격, 또는 치환기를 가져도 되는 터페닐 골격을 가지는 단관능 (메타)아크릴 모노머(B1)를 포함하는 감광성 수지 조성물.
Alkali-soluble resin (A);
Crosslinking agent (B);
As a photosensitive resin composition comprising a photopolymerization initiator (C);
A photosensitive resin composition comprising a monofunctional (meth) acrylic monomer (B1) having a biphenyl skeleton which may have a substituent or a terphenyl skeleton which may have a substituent as the crosslinking agent (B).
청구항 1에 있어서,
상기 단관능 (메타)아크릴 모노머(B1)가 비페닐 골격을 가지는 단관능 (메타)아크릴 모노머(B1a)를 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
A photosensitive resin composition in which the monofunctional (meth) acrylic monomer (B1) comprises a monofunctional (meth) acrylic monomer (B1a) having a biphenyl skeleton.
청구항 2에 있어서,
상기 단관능 (메타)아크릴 모노머(B1a)가 하기 식 (B1-1)로 표시되는 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물:
CH2=CRb1-CO-(O-Rb2-)n1-Xb1-BP ··· (B1-1)
식 (B1-1) 중, Rb1는 수소 원자 또는 메틸기이고, Rb2는 탄소 원자수 1 이상 4 이하의 알킬렌기이며, BP는 치환기를 가져도 되는 비페닐기이고, n1는 0 이상 10 이하의 정수이며, n1가 0인 경우, Xb1는 -O- 또는 -NH-이고, n1가 1 이상 10 이하의 정수인 경우, Xb1는 -O-, -NH-, -O-CO-*, -NH-CO-*, -O-CO-O- 및 -NH-CO-O-*로 이루어진 군으로부터 선택되는 연결기이며, 상기 연결기 중 비대칭인 연결기에 대한 *가 붙은 결합손은 BP와 결합하는 결합손이다.
The method according to claim 2,
The monofunctional (meth) acrylic monomer (B1a) photosensitive resin composition comprising a compound represented by the following formula (B1-1):
CH 2 = CR b1 -CO- (OR b2- ) n1 -X b1 -BP ... (B1-1)
In formula (B1-1), R b1 is a hydrogen atom or a methyl group, R b2 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, BP is a biphenyl group which may have a substituent, and n1 is 0 to 10 When n1 is 0, X b1 is -O- or -NH-, and when n1 is an integer of 1 to 10, X b1 is -O-, -NH-, -O-CO- *,- NH-CO- *, -O-CO-O- and -NH-CO-O- * is a linking group selected from the group consisting of a linking group with an * for an asymmetric linking group among the linking groups, which bonds with BP Hands.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가교제(B)로서 다관능 (메타)아크릴 모노머(B2)를 추가로 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 3,
A photosensitive resin composition further comprising a polyfunctional (meth) acrylic monomer (B2) as the crosslinking agent (B).
청구항 4에 있어서,
상기 다관능 (메타)아크릴 모노머(B2)가 2 관능 이상인 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 4,
A photosensitive resin composition in which the polyfunctional (meth) acrylic monomer (B2) is bifunctional or higher.
청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
상기 알칼리 가용성 수지(A)로서 카르도 구조를 가지는 수지를 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 5,
A photosensitive resin composition comprising a resin having a cardo structure as the alkali-soluble resin (A).
청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
상기 단관능 (메타)아크릴 모노머(B1)의 함유량이 상기 가교제(B)의 전체 중량에 대해 5 중량% 이상 50 중량% 이하인 감광성 수지 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 6,
The photosensitive resin composition wherein the content of the monofunctional (meth) acrylic monomer (B1) is 5% by weight or more and 50% by weight or less with respect to the total weight of the crosslinking agent (B).
청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
증감제(D)를 추가로 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 7,
A photosensitive resin composition further comprising a sensitizer (D).
청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서,
착색제(E)를 추가로 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 8,
A photosensitive resin composition further comprising a colorant (E).
청구항 9에 있어서,
상기 착색제(E)가 흑색 안료인 감광성 수지 조성물.
The method according to claim 9,
The coloring agent (E) is a black pigment photosensitive resin composition.
청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
발수제(F)를 추가로 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 10,
A photosensitive resin composition further comprising a water repellent (F).
기판 상에 청구항 1 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 기재된 감광성 수지 조성물을 도포하여 감광성 수지층을 형성하는 것;
상기 감광성 수지층을 위치 선택적으로 노광하는 것;
노광된 상기 감광성 수지층을 현상액에 의해 현상하는 것;을 포함하는 패터닝된 경화막의 제조 방법.
Forming a photosensitive resin layer by applying the photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 11 on a substrate;
Positionally exposing the photosensitive resin layer;
Developing the patterned cured film comprising; developing the exposed photosensitive resin layer with a developer.
청구항 1 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 기재된 감광성 수지 조성물을 경화하여 이루어지는 경화막.A cured film obtained by curing the photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 11.
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