KR102451298B1 - Photosensitive composition and method for forming cured film - Google Patents

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Abstract

[과제] 감광성 조성물 중에서의 이물의 발생이 억제되어 미세한 패턴을 양호하게 해상할 수 있는 감광성 조성물과 상기 감광성 조성물을 이용하는 경화막의 형성 방법을 제공하는 것이다.
[해결 수단] 알칼리 가용성 수지(A)와 광중합성 화합물(B)과 광중합 개시제(C)와 용제(S)를 포함하는 감광성 조성물에, 아민(E)을 배합하고, 광중합 개시제(C)로서 옥심에스테르 화합물(C1)과 옥심에스테르 화합물 이외의 화합물(C2)을 조합하여 이용해 감광성 조성물 중의 염화물 이온량을 1000 중량 ppm 이하로 한다.
[PROBLEMS] An object is to provide a photosensitive composition in which the generation of foreign substances in the photosensitive composition is suppressed and capable of resolving a fine pattern favorably, and a method for forming a cured film using the photosensitive composition.
[Solution Means] An amine (E) is blended in a photosensitive composition containing an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photoinitiator (C), and a solvent (S), and an oxime as a photoinitiator (C) An ester compound (C1) and compounds (C2) other than an oxime ester compound are used in combination, and the amount of chloride ions in the photosensitive composition shall be 1000 weight ppm or less.

Description

감광성 조성물 및 경화막의 형성 방법{PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING CURED FILM}The photosensitive composition and the formation method of a cured film TECHNICAL FIELD

본 발명은 감광성 조성물 및 경화막의 형성 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive composition and a method for forming a cured film.

액정 표시 장치와 같은 표시 장치에서는 절연막과 같은 재료가 백라이트와 같은 광원으로부터 발해지는 빛을 효율적으로 투과시킬 필요가 있다. 이 때문에, 절연막을 형성하기 위해서는 투명성이 뛰어난 막을 형성할 수 있는 재료가 요구된다.In a display device such as a liquid crystal display device, a material such as an insulating film needs to efficiently transmit light emitted from a light source such as a backlight. For this reason, in order to form an insulating film, the material which can form the film|membrane excellent in transparency is calculated|required.

이러한 투명 절연막은 통상 기판 위에서 패턴화되고 있다. 패턴화된 투명 절연막을 형성하는 방법으로는 예를 들면, 옥세탄환을 갖는 알칼리 가용성 수지와 중합성 다관능 화합물과 α-아미노알킬페논계의 광중합 개시제를 포함하는 네가티브형 감광성 조성물을 이용하는 방법(특허문헌 1을 참조)이 알려져 있다.Such a transparent insulating film is usually patterned on a substrate. As a method of forming a patterned transparent insulating film, for example, a method using a negative photosensitive composition comprising an alkali-soluble resin having an oxetane ring, a polymerizable polyfunctional compound, and an α-aminoalkylphenone-based photopolymerization initiator (patent) Reference 1) is known.

그런데, 근래 액정 표시 디스플레이의 생산 대수가 증대하는데 맞추어 컬러 필터의 생산량도 증대하고 있어, 보다 한층 더 생산성 향상의 관점에서 저노광량으로 패턴을 형성할 수 있는 고감도의 감광성 조성물이 요망되고 있다.By the way, in recent years, the production amount of a color filter is also increasing along with the increase in the number of production units of a liquid crystal display, and the highly sensitive photosensitive composition which can form a pattern with the low exposure amount from a viewpoint of further productivity improvement is desired.

그러나, 컬라 필터에 포함되는 여러 가지의 기능성 막에는 착색제가 포함된다. 감광성 조성물에 착색제가 포함되는 경우, 특허문헌 1에 기재된 α-아미노알킬페논계의 광중합 개시제를 이용하면 충분히 높은 감도를 얻기 어려운 문제가 있다.However, various functional films included in the color filter contain a colorant. When a coloring agent is contained in the photosensitive composition, when the alpha-amino alkylphenone type photoinitiator of patent document 1 is used, there exists a problem that it is difficult to obtain a sufficiently high sensitivity.

이러한 상황에 있어서, 본 출원인은 고감도의 감광성 조성물로서, 특정 구조의 옥심에스테르 화합물을 광중합 개시제로서 포함하는 감광성 조성물을 제안하고 있다(특허문헌 2 및 3을 참조).In such a situation, the present applicant is proposing a photosensitive composition containing an oxime ester compound of a specific structure as a photoinitiator as a photosensitive composition with high sensitivity (refer to Patent Documents 2 and 3).

일본 특개2012-173678호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2012-173678 일본 특개2012-189996호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2012-189996 일본 특개2012-189997호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2012-189997

그러나, 옥심에스테르 화합물을 광중합 개시제로서 포함하는 감광성 조성물에서는 감도가 양호한 반면에, 감광성 조성물 중에서 이물이 발생하기 쉽거나 현상시에 미세한 패턴을 해상하기 어렵거나 하는 문제가 있다.However, while the sensitivity is good in the photosensitive composition containing an oxime ester compound as a photoinitiator, there exists a problem that a foreign material is easy to generate|occur|produce in the photosensitive composition, or it is difficult to resolve a fine pattern at the time of development.

본 발명은 이상의 상황을 감안하여 이루어진 것으로, 감광성 조성물 중에서의 이물의 발생이 억제되어 미세한 패턴을 양호하게 해상할 수 있는 감광성 조성물과 상기 감광성 조성물을 이용하는 경화막의 형성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.This invention was made in view of the above situation, and it aims at providing the photosensitive composition which generation|occurrence|production of the foreign material in a photosensitive composition is suppressed and can resolve a fine pattern favorably, and the formation method of the cured film using the said photosensitive composition.

본 발명자들은 알칼리 가용성 수지(A)와 광중합성 화합물(B)과 광중합 개시제(C)와 용제(S)를 포함하는 감광성 조성물에, 아민(E)을 배합하고, 광중합 개시제(C)로서 옥심에스테르 화합물(C1)과 옥심에스테르 화합물 이외의 화합물(C2)을 조합하여 이용해 감광성 조성물 중의 염화물 이온량을 1000 중량 ppm 이하로 함으로써 상기의 과제를 해결할 수 있다는 것을 알아내어 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 구체적으로는, 본 발명은 이하의 것을 제공한다.The present inventors mix|blend an amine (E) with the photosensitive composition containing alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photoinitiator (C), and a solvent (S), and an oxime ester as a photoinitiator (C) By using a combination of a compound (C1) and a compound (C2) other than an oxime ester compound to make the amount of chloride ions in the photosensitive composition 1000 ppm by weight or less, it was found that the above problems could be solved, and the present invention was completed. Specifically, the present invention provides the following.

본 발명의 제1의 태양은, 알칼리 가용성 수지(A)와, 광중합성 화합물(B)과, 광중합 개시제(C)와, 용제(S)와, 아민(E)을 포함하는 감광성 조성물로서, A first aspect of the present invention is a photosensitive composition comprising an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photoinitiator (C), a solvent (S), and an amine (E),

광중합 개시제(C)가 옥심에스테르 화합물(C1)과 옥심에스테르 화합물 이외의 화합물(C2)을 포함하고, A photoinitiator (C) contains an oxime ester compound (C1) and a compound (C2) other than an oxime ester compound,

감광성 조성물 중의 염화물 이온량이 1000 중량 ppm 이하인 감광성 조성물이다.It is a photosensitive composition whose amount of chloride ions in the photosensitive composition is 1000 weight ppm or less.

본 발명의 제2의 태양은, 제1의 태양에 관한 감광성 조성물을 기판 위에 도포하여 도포막을 형성하는 것과,A 2nd aspect of this invention apply|coats the photosensitive composition which concerns on 1st aspect on a board|substrate to form a coating film,

도포막을 노광하는 것을 포함하는 경화막의 형성 방법이다.It is a formation method of a cured film including exposing a coating film.

본 발명에 의하면, 감광성 조성물 중에서의 이물의 발생이 억제되어 미세한 패턴을 양호하게 해상할 수 있는 감광성 조성물과 상기 감광성 조성물을 이용하는 경화막의 형성 방법을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, generation|occurrence|production of the foreign material in a photosensitive composition is suppressed and the formation method of the cured film using the photosensitive composition and the said photosensitive composition which can resolve a fine pattern favorably can be provided.

≪감광성 조성물≫«Photosensitive composition»

감광성 조성물은 알칼리 가용성 수지(A)와, 광중합성 화합물(B)과, 광중합 개시제(C)와, 용제(S)와, 아민(E)을 포함한다.A photosensitive composition contains alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photoinitiator (C), a solvent (S), and an amine (E).

광중합 개시제(C)는 옥심에스테르 화합물(C1)과 옥심에스테르 화합물 이외의 화합물(C2)을 포함한다.A photoinitiator (C) contains an oxime ester compound (C1) and compounds (C2) other than an oxime ester compound.

또, 감광성 조성물 중의 염화물 이온량은 1000 중량 ppm 이하이다.Moreover, the amount of chloride ions in the photosensitive composition is 1000 weight ppm or less.

염화물 이온량은, 이하의 방법에 따라서 이온 크로마토그래피에 의해 측정할 수 있다.The amount of chloride ions can be measured by ion chromatography according to the following method.

(이온 크로마토그래피 측정 조건) (Ion chromatography measurement conditions)

컬럼:IonPac AS17-C(Thermo Scientific Dionex사 제) Column: IonPac AS17-C (made by Thermo Scientific Dionex)

용리액:물과 아세토니트릴의 혼합 용액 Eluent: Mixed solution of water and acetonitrile

주입량:1μL Injection volume: 1 μL

종래 알려진 옥심에스테르 화합물(C1)을 포함하는 감광성 조성물은, 옥심에스테르 화합물(C1)에 주로 유래하는 염화물 이온을 포함하고 있었다. 이 때문에, 종래의 감광성 조성물에 있어서의 염화물 이온의 함유량은 1000 중량 ppm를 넘는 다량인 것이 많았다.The conventionally known photosensitive composition containing an oxime ester compound (C1) contained the chloride ion mainly derived from an oxime ester compound (C1). For this reason, content of the chloride ion in the conventional photosensitive composition had many things exceeding 1000 weight ppm.

여기서, 본 발명자가 검토를 실시했는데, 감광성 조성물의 높은 염화물 이온량이, 감광성 조성물 중에서의 이물의 발생에 관여하고 있다는 것이 밝혀졌다.Here, when this inventor investigated, it became clear that the high amount of chloride ions of the photosensitive composition is concerned with generation|occurrence|production of the foreign material in the photosensitive composition.

또, 옥심에스테르 화합물(C1)만을 광중합 개시제(C)로서 포함하는 감광성 조성물은, 감도가 양호한 반면, 노광 후의 현상시에 미세한 패턴을 해상하기 어려웠다.Moreover, while the sensitivity was favorable, the photosensitive composition containing only the oxime ester compound (C1) as a photoinitiator (C) was difficult to resolve a fine pattern at the time of image development after exposure.

이 점에 대해서도 본 발명자가 검토했는데, 광중합 개시제(C)에 대해서 옥심에스테르 화합물(C1)을 옥심에스테르 화합물(C1) 이외의 화합물과 병용함으로써, 감광성 조성물을 이용해 미세한 패턴을 해상할 수 있다는 것이 밝혀졌다.Although this inventor also examined this point, it became clear that a fine pattern can be resolved using the photosensitive composition by using together an oxime ester compound (C1) with compounds other than an oxime ester compound (C1) with respect to a photoinitiator (C) lost.

이상과 같이, 상기의 감광성 조성물은, 감광성 조성물 중에서의 이물의 발생이 억제되어 미세한 패턴을 양호하게 해상할 수 있다. As mentioned above, generation|occurrence|production of the foreign material in the photosensitive composition is suppressed, and said photosensitive composition can resolve a fine pattern favorably.

이하, 감광성 조성물에 포함되는 필수 또는 임의의 성분에 대해 설명한다.Hereinafter, the essential or arbitrary components contained in the photosensitive composition are demonstrated.

<알칼리 가용성 수지(A)><Alkali-soluble resin (A)>

알칼리 가용성 수지란, 수지 농도 20 중량%의 수지 용액(용매:프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트)에 의해 막 두께 1㎛의 수지막을 기판 위에 형성하고, 농도 0.05 중량%의 KOH 수용액에 1분간 침지했을 때에, 막 두께 0.01㎛ 이상 용해하는 수지를 말한다.The alkali-soluble resin refers to a resin film having a thickness of 1 µm formed on a substrate with a resin solution (solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate) having a resin concentration of 20 wt%, and immersed in a KOH aqueous solution having a concentration of 0.05 wt% for 1 minute. , refers to a resin that melts with a film thickness of 0.01 µm or more.

알칼리 가용성 수지(A)의 적합한 예로는, 카르도 구조를 갖는 수지(A1)를 들 수 있다. 카르도 구조를 갖는 수지(A1)를 알칼리 가용성 수지(A)로서 함유하는 감광성 조성물을 이용함으로써, 내열성, 기계적 특성, 내용제성, 내화학 약품성 등이 균형 있게 뛰어난 경화막을 형성하기 쉽다.As a suitable example of alkali-soluble resin (A), resin (A1) which has a cardo structure is mentioned. By using the photosensitive composition containing resin (A1) which has cardo structure as alkali-soluble resin (A), it is easy to form the cured film excellent in heat resistance, mechanical properties, solvent resistance, chemical resistance, etc. in a well-balanced way.

카르도 구조를 갖는 수지(A1)로는, 특별히 한정되지 않고 종래 공지의 수지를 이용할 수 있다.It does not specifically limit as resin (A1) which has a cardo structure, Conventionally well-known resin can be used.

그 중에서도, 하기 식 (a-1)로 표시되는 수지가 바람직하다.Especially, resin represented by a following formula (a-1) is preferable.

Figure 112017103719171-pat00001
Figure 112017103719171-pat00001

상기 식 (a-1) 중, Xa는 하기 식 (a-2)로 표시되는 기를 나타내다.In the formula (a-1), X a represents a group represented by the following formula (a-2).

Figure 112017103719171-pat00002
Figure 112017103719171-pat00002

상기 식 (a-2) 중, Ra1는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 탄화수소기 또는 할로겐 원자를 나타내고, Ra2는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타내며, Wa는 단결합 또는 하기 식 (a-3)로 표시되는 기를 나타내다.In the formula (a-2), R a1 each independently represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom, R a2 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and W a is A single bond or group represented by the following formula (a-3) is shown.

Figure 112017103719171-pat00003
Figure 112017103719171-pat00003

또, 상기 식 (a-1) 중, Ya는 디카르복시산 무수물로부터 산 무수물기(-CO-O-CO-)를 제외한 잔기를 나타내다. 디카르복시산 무수물의 예로는 무수 말레산, 무수 숙신산, 무수 이타콘산, 무수 프탈산, 무수 테트라히드로프탈산, 무수 헥사히드로프탈산, 무수 메틸엔드메틸렌테트라히드로프탈산, 무수 클로렌드산, 메틸 테트라히드로 무수 프탈산, 무수 글루타르산 등을 들 수 있다.Moreover, in said Formula ( a -1), Y<a> represents the residue which removed the acid anhydride group (-CO-O-CO-) from dicarboxylic acid anhydride. Examples of dicarboxylic anhydrides include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylendmethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, methyl tetrahydrophthalic anhydride, anhydride glutaric acid etc. are mentioned.

또, 상기 식 (a-1) 중, Za는 테트라카르복시산 2 무수물에서 2개의 산 무수물기를 제외한 잔기를 나타낸다. 테트라카르복시산 2 무수물의 예로는 피로멜리트산 2 무수물, 벤조페논테트라카르복시산 2 무수물, 비페닐테트라카르복시산 2 무수물, 비페닐에테르테트라카르복시산 2 무수물 등을 들 수 있다.Moreover, in said Formula (a-1), Z a represents the residue which removed two acid anhydride groups from tetracarboxylic dianhydride. Examples of tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, benzophenonetetracarboxylic dianhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride, and biphenylethertetracarboxylic dianhydride.

또, 상기 식 (a-1) 중, m는 0 이상 20 이하의 정수를 나타낸다.Moreover, in said formula (a-1), m represents the integer of 0 or more and 20 or less.

카르도 구조를 갖는 수지(A1)의 중량 평균 분자량(Mw:겔 투과 크로마토그래피(GPC)의 폴리스티렌 환산에 의한 측정값. 본 명세서에서 동일하다)은 1000 이상 40000 이하인 것이 바람직하고, 2000 이상 30000 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 양호한 현상성을 얻으면서 충분한 내열성, 막 강도를 얻을 수 있다.The weight average molecular weight of the resin (A1) having a cardo structure (Mw: a value measured in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC). The same is the same herein) is preferably 1000 or more and 40,000 or less, and 2000 or more and 30000 or less. more preferably. By setting it as said range, sufficient heat resistance and film strength can be obtained, obtaining favorable developability.

기계적 강도나 기판에 대한 밀착성이 뛰어난 막을 형성하기 쉽다는 점에서, 불포화 카르복시산(a1)을 적어도 중합시킨 공중합체(A2)도 알칼리 가용성 수지(A)로서 적합하게 사용할 수 있다.A copolymer (A2) obtained by polymerizing at least an unsaturated carboxylic acid (a1) can also be suitably used as the alkali-soluble resin (A) from the viewpoint of easy formation of a film excellent in mechanical strength or adhesion to a substrate.

불포화 카르복시산(a1)으로는 (메타)아크릴산, 크로톤산 등의 모노카르복시산;말레인산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산 등의 디카르복시산;이들 디카르복시산의 무수물;등을 들 수 있다. 이들 중에서도 공중합 반응성, 얻어지는 수지의 알칼리 용해성, 입수의 용이성 등의 점에서, (메타)아크릴산 및 무수 말레산이 바람직하다. 이들 불포화 카르복시산(a1)은 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the unsaturated carboxylic acid (a1) include monocarboxylic acids such as (meth)acrylic acid and crotonic acid; dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, and itaconic acid; anhydrides of these dicarboxylic acids; and the like. Among these, (meth)acrylic acid and maleic anhydride are preferable from points, such as copolymerization reactivity, alkali solubility of resin obtained, and availability. These unsaturated carboxylic acids (a1) can be used individually or in combination of 2 or more types.

공중합체(A2)는 불포화 카르복시산(a1)과 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2)의 공중합체여도 된다. 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2)로는 지환식 에폭시기를 갖는 불포화 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 지환식 에폭시기를 구성하는 지환식 기는 단환이어도 다환이어도 된다. 단환의 지환식 기로는 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다. 또, 다환의 지환식 기로는 노르보르닐기, 이소보르닐기, 트리시클로노닐기, 트리시클로데실기, 테트라시클로도데실기 등을 들 수 있다. 이들 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2)은 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.The copolymer (A2) may be a copolymer of an unsaturated carboxylic acid (a1) and an alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2). It will not specifically limit, if it is an unsaturated compound which has an alicyclic epoxy group as an alicyclic epoxy group containing unsaturated compound (a2). The alicyclic group constituting the alicyclic epoxy group may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Moreover, as a polycyclic alicyclic group, a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, tetracyclododecyl group, etc. are mentioned. These alicyclic epoxy group containing unsaturated compounds (a2) can be used individually or in combination of 2 or more types.

구체적으로, 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2)로는 예를 들면 하기 식 (a2-1) ~ (a2-15)로 표시되는 화합물을 들 수 있다. 이들 중에서도, 현상성을 적당한 것으로 하기 위해서는 하기 식 (a2-1) ~ (a2-5)로 표시되는 화합물이 바람직하고, 하기 식 (a2-1) ~ (a2-3)로 표시되는 화합물이 보다 바람직하다.Specifically, examples of the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) include compounds represented by the following formulas (a2-1) to (a2-15). Among these, in order to make developability suitable, the compound represented by following formula (a2-1) - (a2-5) is preferable, and the compound represented by following formula (a2-1) - (a2-3) is more desirable.

Figure 112017103719171-pat00004
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Figure 112017103719171-pat00005
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Figure 112017103719171-pat00006
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상기 식 중, Ra20는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, Ra21는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타내며, Ra22는 탄소 원자 수 1 이상 10 이하의 2가의 탄화수소기를 나타내고, t는 0 이상 10 이하의 정수를 나타내다. Ra21로는 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬렌기, 예를 들면 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 테트라메틸렌기, 에틸에틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기가 바람직하다. Ra22로는 예를 들면 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 테트라메틸렌기, 에틸에틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기, 페닐렌기, 시클로헥실렌기, -CH2-Ph-CH2-(Ph는 페닐렌기를 나타내다)가 바람직하다.In the formula, R a20 represents a hydrogen atom or a methyl group, R a21 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R a22 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, t represents an integer of 0 or more and 10 or less. R a21 is preferably a linear or branched alkylene group, for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, or a hexamethylene group. As R a22 , for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, a phenylene group, a cyclohexylene group, -CH 2 -Ph-CH 2 -(Ph represents a phenylene group) is preferable.

공중합체(A2)는 상기 불포화 카르복시산(a1) 및 상기 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2)과 함께, 에폭시기를 갖지 않는 지환식 기 함유 불포화 화합물(a3)을 공중합시킨 공중합체여도 된다.The copolymer (A2) may be a copolymer obtained by copolymerizing an alicyclic group-containing unsaturated compound (a3) having no epoxy group with the unsaturated carboxylic acid (a1) and the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2).

지환식 기 함유 불포화 화합물(a3)로는 지환식 기를 갖는 불포화 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 지환식 기는 단환이어도 다환이어도 된다. 단환의 지환식 기로는 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다. 또, 다환의 지환식 기로는 아다만틸기, 노르보르닐기, 이소보르닐기, 트리시클로노닐기, 트리시클로데실기, 테트라시클로도데실기 등을 들 수 있다. 이들 지환식 기 함유 불포화 화합물(a3)은 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.The alicyclic group-containing unsaturated compound (a3) is not particularly limited as long as it is an unsaturated compound having an alicyclic group. The alicyclic group may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic group include an adamantyl group, a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, and a tetracyclododecyl group. These alicyclic group containing unsaturated compounds (a3) can be used individually or in combination of 2 or more types.

구체적으로, 지환식 기 함유 불포화 화합물(a3)로는 예를 들면, 하기 식 (a3-1) ~ (a3-7)로 표시되는 화합물을 들 수 있다. 이들 중에서도, 현상성을 적당한 것으로 하기 위해서는 하기 식 (a3-3) ~ (a3-8)로 표시되는 화합물이 바람직하고, 하기 식 (a3-3), (a3-4)로 표시되는 화합물이 보다 바람직하다.Specifically, examples of the alicyclic group-containing unsaturated compound (a3) include compounds represented by the following formulas (a3-1) to (a3-7). Among these, in order to make developability suitable, the compound represented by the following formulas (a3-3) - (a3-8) is preferable, and the compound represented by the following formula (a3-3) and (a3-4) is more desirable.

Figure 112017103719171-pat00007
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상기 식 중, Ra23는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, Ra24는 단결합 또는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타내며, Ra25는 수소 원자 또는 탄소 원자 수 1 이상 5 이하의 알킬기를 나타내다. Ra24로는 단결합, 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬렌기, 예를 들면 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 테트라메틸렌기, 에틸에틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기가 바람직하다. Ra25로는 예를 들면 메틸기, 에틸기가 바람직하다.In the formula, R a23 represents a hydrogen atom or a methyl group, R a24 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R a25 is a hydrogen atom or 1 to 5 carbon atoms represents an alkyl group. R a24 is preferably a single bond, linear or branched alkylene group, for example, a methylene group, ethylene group, propylene group, tetramethylene group, ethylethylene group, pentamethylene group, or hexamethylene group. As R a25 , for example, a methyl group or an ethyl group is preferable.

또, 공중합체(A2)는 상기 불포화 카르복시산(a1) 및 상기 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2), 추가적으로는 상기 지환식 기 함유 불포화 화합물(a3)과 함께 지환식 기를 갖지 않는 에폭시기 함유 불포화 화합물(a4)을 중합시킨 공중합체여도 된다.In addition, the copolymer (A2) is an epoxy group-containing unsaturated compound having no alicyclic group together with the unsaturated carboxylic acid (a1) and the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2), and additionally the alicyclic group-containing unsaturated compound (a3) ( A copolymer obtained by polymerizing a4) may be used.

에폭시기 함유 불포화 화합물(a4)로는 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2-메틸글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시부틸(메타)아크릴레이트, 6,7-에폭시헵틸(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산 에폭시알킬에스테르류;α-에틸아크릴산 글리시딜, α-n-프로필아크릴산 글리시딜, α-n-부틸아크릴산 글리시딜, α-에틸 아크릴산 6,7-에폭시헵틸 등의 α-알킬아크릴산 에폭시알킬에스테르류;등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 공중합 반응성, 경화 후의 수지의 강도 등의 점에서, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2-메틸글리시딜(메타)아크릴레이트 및 6,7-에폭시헵틸(메타)아크릴레이트가 바람직하다. 이들 에폭시기 함유 불포화 화합물(a4)은 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the epoxy group-containing unsaturated compound (a4) include glycidyl (meth) acrylate, 2-methylglycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth) acrylate, and 6,7-epoxyheptyl (meth). (meth)acrylic acid epoxy alkyl esters such as acrylate; α-ethyl acrylate glycidyl, α-n-propyl acrylate glycidyl, α-n-butyl acrylate glycidyl, α-ethyl acrylic acid 6,7-epoxy α-alkyl acrylic acid epoxy alkyl esters such as heptyl; and the like. Among these, glycidyl (meth)acrylate, 2-methylglycidyl (meth)acrylate, and 6,7-epoxyheptyl (meth)acrylate are preferable from the viewpoint of copolymerization reactivity and strength of the resin after curing. do. These epoxy-group containing unsaturated compounds (a4) can be used individually or in combination of 2 or more types.

또, 공중합체(A2)는 상기 이외의 다른 화합물을 추가로 중합시킨 공중합체여도 된다. 이러한 다른 화합물로는 (메타)아크릴산 에스테르류, (메타)아크릴아미드류, 알릴 화합물, 비닐에테르류, 비닐에스테르류, 스티렌류 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Further, the copolymer (A2) may be a copolymer obtained by further polymerizing a compound other than the above. Examples of such other compounds include (meth)acrylic acid esters, (meth)acrylamides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, and styrenes. These compounds can be used individually or in combination of 2 or more types.

(메타)아크릴산 에스테르류로는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 아밀(메타)아크릴레이트, t-옥틸(메타)아크릴레이트 등의 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬(메타)아크릴레이트;클로로에틸(메타)아크릴레이트, 2,2-디메틸히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판모노(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 퍼프릴(메타)아크릴레이트;등을 들 수 있다.Examples of (meth)acrylic acid esters include linear or branched methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, and t-octyl (meth) acrylate. Chain alkyl (meth) acrylate; Chloroethyl (meth) acrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane mono (meth) acrylic a rate, benzyl (meth)acrylate, and puffril (meth)acrylate; etc. are mentioned.

(메타)아크릴아미드류로는 (메타)아크릴아미드, N-알킬(메타)아크릴아미드, N-아릴(메타)아크릴아미드, N,N-디알킬(메타)아크릴아미드, N,N-아릴(메타)아크릴아미드, N-메틸-N-페닐(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸-N-메틸(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있다.As (meth)acrylamides, (meth)acrylamide, N-alkyl (meth)acrylamide, N-aryl (meth)acrylamide, N,N-dialkyl (meth)acrylamide, N,N-aryl ( Meth)acrylamide, N-methyl-N-phenyl (meth)acrylamide, N-hydroxyethyl-N-methyl (meth)acrylamide, etc. are mentioned.

알릴 화합물로는 아세트산 알릴, 카프로산 알릴, 카프릴산 알릴, 라우르산 알릴, 팔미트산 알릴, 스테아르산 알릴, 벤조산 알릴, 아세토아세트산 알릴, 락트산 알릴 등의 알릴에스테르류;알릴옥시에탄올;등을 들 수 있다.Examples of the allyl compound include allyl esters such as allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, allyl acetoacetate, allyl lactate; allyloxyethanol; etc. can be heard

비닐에테르류로는 헥실비닐에테르, 옥틸비닐에테르, 데실비닐에테르, 에틸헥실비닐에테르, 메톡시에틸비닐에테르, 에톡시에틸비닐에테르, 클로로에틸비닐에테르, 1-메틸-2,2-디메틸프로필비닐에테르, 2-에틸부틸비닐에테르, 히드록시에틸비닐에테르, 디에틸렌글리콜비닐에테르, 디메틸아미노에틸비닐에테르, 디에틸아미노에틸비닐에테르, 부틸아미노에틸비닐에테르, 벤질비닐에테르, 테트라히드로퍼프릴비닐에테르 등의 알킬비닐에테르;비닐페닐에테르, 비닐톨릴에테르, 비닐클로로페닐에테르, 비닐-2,4-디클로로페닐에테르, 비닐나프틸에테르, 및 비닐안트라닐에테르 등의 비닐아릴에테르;등을 들 수 있다.Vinyl ethers include hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether, ethylhexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl vinyl Ether, 2-ethylbutyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, diethylene glycol vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurpril vinyl ether alkyl vinyl ethers such as; vinyl aryl ethers such as vinyl phenyl ether, vinyl tolyl ether, vinyl chlorophenyl ether, vinyl-2,4-dichlorophenyl ether, vinyl naphthyl ether, and vinyl anthranyl ether; .

비닐에스테르류로는 비닐부티레이트, 비닐이소부티레이트, 비닐트리메틸아세테이트, 비닐디에틸아세테이트, 비닐바레이트, 비닐카프로에이트, 비닐클로로아세테이트, 비닐디클로로아세테이트, 비닐메톡시아세테이트, 비닐부톡시아세테이트, 비닐페닐아세테이트, 비닐아세토아세테이트, 비닐락테이트, 비닐-β-페닐부티레이트, 벤조산 비닐, 살리실산 비닐, 클로로벤조산 비닐, 테트라클로로벤조산 비닐, 나프토산비닐 등을 들 수 있다.Vinyl esters include vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl acetate, vinyl barate, vinyl caproate, vinyl chloro acetate, vinyl dichloro acetate, vinyl methoxy acetate, vinyl butoxy acetate, and vinyl phenyl acetate. , vinylacetoacetate, vinyllactate, vinyl-β-phenylbutyrate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chlorobenzoate, vinyl tetrachlorobenzoate, vinyl naphthoate, and the like.

스티렌류로는 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 이소프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 시클로헥실스티렌, 데실스티렌, 벤질스티렌, 클로로메틸스티렌, 트리플루오로메틸스티렌, 에톡시메틸스티렌, 아세톡시메틸스티렌, 메톡시스티렌, 4-메톡시-3-메틸스티렌, 디메톡시스티렌 등의 알콕시스티렌;클로로스티렌, 디클로로스티렌, 트리클로로스티렌, 테트라클로로스티렌, 펜타클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 요오드스티렌, 플루오로스티렌, 트리플루오로스티렌, 2-브로모-4-트리플루오로메틸스티렌, 4-플루오로-3-트리플루오로메틸스티렌 등의 할로스티렌;등을 들 수 있다.Examples of styrene include styrene; Methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene Alkoxy styrene such as , acetoxymethyl styrene, methoxy styrene, 4-methoxy-3-methyl styrene, dimethoxy styrene; chloro styrene, dichloro styrene, trichloro styrene, tetrachloro styrene, pentachloro styrene, bromostyrene, halostyrenes such as dibromostyrene, iodine styrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethylstyrene, and 4-fluoro-3-trifluoromethylstyrene; can

공중합체(A2)에 차지하는 상기 불포화 카르복시산(a1) 유래의 구성 단위의 비율은 1 중량% 이상 50 중량% 이하인 것이 바람직하고, 5 중량% 이상 45 중량% 이하인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that they are 1 weight% or more and 50 weight% or less, and, as for the ratio of the structural unit derived from the said unsaturated carboxylic acid (a1) to a copolymer (A2), it is more preferable that they are 5 weight% or more and 45 weight% or less.

또, 공중합체(A2)가 상기 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2) 유래의 구성 단위와 상기 에폭시기 함유 불포화 화합물(a4) 유래의 구성 단위를 함유하는 경우, 공중합체(A2)에 차지하는 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2) 유래의 구성 단위의 비율과 상기 에폭시기 함유 불포화 화합물(a4) 유래의 구성 단위의 비율의 합계는 20 중량% 이상인 것이 바람직하고, 40 중량% 이상 95 중량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 50 중량% 이상 80 중량% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 특히, 공중합체(A2)에 차지하는 상기 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2) 유래의 구성 단위의 비율이 단독으로 10 중량% 이상인 것이 바람직하고, 20 중량% 이상 80 중량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2) 유래의 구성 단위의 비율을 상기의 범위로 함으로써, 감광성 조성물의 시간 경과 안정성을 보다 향상시킬 수 있다.Moreover, when a copolymer (A2) contains the structural unit derived from the said alicyclic epoxy group containing unsaturated compound (a2), and the structural unit derived from the said epoxy group-containing unsaturated compound (a4), the alicyclic epoxy group occupied in the copolymer (A2) The sum of the ratio of the structural unit derived from the containing unsaturated compound (a2) and the ratio of the structural unit derived from the epoxy group-containing unsaturated compound (a4) is preferably 20% by weight or more, more preferably 40% by weight or more and 95% by weight or less, , more preferably 50% by weight or more and 80% by weight or less. In particular, the proportion of the structural units derived from the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) in the copolymer (A2) alone is preferably 10% by weight or more, and more preferably 20% by weight or more and 80% by weight or less. By making the ratio of the structural unit derived from the said alicyclic epoxy group containing unsaturated compound (a2) into said range, the time-lapse stability of the photosensitive composition can be improved more.

또, 공중합체(A2)가 지환식 기 함유 불포화 화합물(a3) 유래의 구성 단위를 함유하는 경우, 공중합체(A2)에 차지하는 상기 지환식 기 함유 불포화 화합물(a3) 유래의 구성 단위의 비율은 1 중량% 이상 30 중량% 이하인 것이 바람직하고, 5 중량% 이상 20 중량% 이하인 것이 보다 바람직하다.In addition, when the copolymer (A2) contains a structural unit derived from the alicyclic group-containing unsaturated compound (a3), the proportion of the structural unit derived from the alicyclic group-containing unsaturated compound (a3) in the copolymer (A2) is It is preferable that it is 1 weight% or more and 30 weight% or less, and it is more preferable that it is 5 weight% or more and 20 weight% or less.

공중합체(A2)의 중량 평균 분자량은 2000 이상 200000 이하인 것이 바람직하고, 3000 이상 30000 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 감광성 조성물의 막 형성능, 노광 후의 현상성의 밸런스를 잡기 쉬운 경향이 있다.It is preferable that they are 2000 or more and 200000 or less, and, as for the weight average molecular weight of a copolymer (A2), it is more preferable that they are 3000 or more and 30000 or less. By setting it as said range, there exists a tendency for it easy to balance the film-forming ability of a photosensitive composition, and developability after exposure.

또, 알칼리 가용성 수지(A)로는 상기 불포화 카르복시산(a1)에 유래하는 구성 단위와 후술하는 광중합성 화합물(B)의 중합 가능 부위를 갖는 구성 단위를 적어도 갖는 공중합체(A3), 또는 상기 불포화 카르복시산(a1)에 유래하는 구성 단위와 상기 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2) 및/또는 에폭시기 함유 불포화 화합물(a4)에 유래하는 구성 단위와 후술하는 광중합성 화합물(B)의 중합 가능 부위를 갖는 구성 단위를 적어도 갖는 공중합체(A4)를 포함하는 수지도 적합하게 사용할 수 있다. 알칼리 가용성 수지(A)가 공중합체(A3) 또는 공중합체(A4)를 포함하는 경우, 감광성 조성물을 이용해 형성되는 막의 기판에 대한 밀착성이나, 감광성 조성물을 이용해 얻어지는 경화막의 기계적 강도를 높일 수 있다.Moreover, as alkali-soluble resin (A), the copolymer (A3) which has at least the structural unit which has the structural unit derived from the said unsaturated carboxylic acid (a1), and the structural unit which has the polymerizable site|part of the photopolymerizable compound (B) mentioned later, or the said unsaturated carboxylic acid A structural unit derived from (a1), a structural unit derived from the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) and/or an epoxy group-containing unsaturated compound (a4), and a photopolymerizable compound (B) described later. Resin containing the copolymer (A4) which has at least a unit can also be used suitably. When alkali-soluble resin (A) contains a copolymer (A3) or a copolymer (A4), the adhesiveness to the board|substrate of the film|membrane formed using the photosensitive composition, and the mechanical strength of the cured film obtained using the photosensitive composition can be raised.

공중합체(A3) 및 공중합체(A4)는 공중합체(A2)에 대해 다른 화합물로서 기재된 (메타)아크릴산 에스테르류, (메타)아크릴아미드류, 알릴 화합물, 비닐에테르류, 비닐에스테르류, 스티렌류 등을 추가로 공중합시킨 공중합체여도 된다.Copolymer (A3) and copolymer (A4) are (meth)acrylic acid esters, (meth)acrylamides, allyl compounds, vinyl ethers, vinyl esters, and styrenes described as other compounds for copolymer (A2). A copolymer obtained by further copolymerizing the same may be used.

광중합성 화합물(B)과의 중합 가능 부위를 갖는 구성 단위는 광중합성 화합물(B)과의 중합 가능 부위로서 에틸렌성 불포화기를 갖는 것이 바람직하다. 이러한 구성 단위를 갖는 공중합체화는 공중합체(A3)에 대해서는 상기 불포화 카르복시산(a1)에 유래하는 구성 단위를 포함하는 중합체에 포함되는 카르복실기의 적어도 일부와 상기 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2) 및/또는 에폭시기 함유 불포화 화합물(a4)을 반응시킴으로써 조제할 수 있다. 또, 공중합체(A4)는 상기 불포화 카르복시산(a1)에 유래하는 구성 단위와 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2) 및/또는 에폭시기 함유 불포화 화합물(a4)에 유래하는 구성 단위를 갖는 공중합체에 있어서의 에폭시기의 적어도 일부와 불포화 카르복시산(a1)을 반응시킴으로써 조제할 수 있다.It is preferable that the structural unit which has a polymerization site|part with a photopolymerizable compound (B) has an ethylenically unsaturated group as a site|part which can superpose|polymerize with a photopolymerizable compound (B). Copolymerization having such a structural unit, for the copolymer (A3), at least a part of the carboxyl groups contained in the polymer containing the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid (a1) and the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) and / Or it can prepare by making an epoxy-group containing unsaturated compound (a4) react. Further, the copolymer (A4) is a copolymer having a structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid (a1) and a structural unit derived from an alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) and/or an epoxy group-containing unsaturated compound (a4). It can prepare by making at least one part of epoxy groups of , and an unsaturated carboxylic acid (a1) react.

공중합체(A3)에 있어서의, 불포화 카르복시산(a1)에 유래하는 구성 단위가 차지하는 비율은 1 중량% 이상 50 중량% 이하가 바람직하고, 5 중량% 이상 45 중량% 이하가 보다 바람직하다. 공중합체(A3)에 있어서의, 광중합성 화합물(B)과의 중합 가능 부위를 갖는 구성 단위가 차지하는 비율은 1 중량% 이상 45 중량% 이하가 바람직하고, 5 중량% 이상 40 중량% 이하가 보다 바람직하다. 공중합체(A3)가 이러한 비율로 각 구성 단위를 포함하는 경우, 기판과의 밀착성이 뛰어난 막을 형성 가능한 감광성 조성물을 얻기 쉽다.1 weight% or more and 50 weight% or less are preferable, and, as for the ratio which the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid (a1) in a copolymer (A3) occupies, 5 weight% or more and 45 weight% or less are more preferable. In the copolymer (A3), the proportion of the structural unit having a polymerization site with the photopolymerizable compound (B) is preferably 1% by weight or more and 45% by weight or less, and more preferably 5% by weight or more and 40% by weight or less. desirable. When a copolymer (A3) contains each structural unit in such a ratio, it is easy to obtain the photosensitive composition which can form the film|membrane excellent in adhesiveness with a board|substrate.

공중합체(A4)에 있어서의, 불포화 카르복시산(a1)에 유래하는 구성 단위가 차지하는 비율은 1 중량% 이상 50 중량% 이하가 바람직하고, 5 중량% 이상 45 중량% 이하가 보다 바람직하다. 공중합체(A4)에 있어서의, 지환식 에폭시기 함유 불포화 화합물(a2) 및/또는 에폭시기 함유 불포화 화합물(a4)에 유래하는 구성 단위가 차지하는 비율은 20 중량% 이상인 것이 바람직하고, 50 중량% 이상 95 중량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 60 중량% 이상 80 중량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.1 weight% or more and 50 weight% or less are preferable, and, as for the ratio which the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid (a1) occupies in a copolymer (A4), 5 weight% or more and 45 weight% or less are more preferable. The proportion of structural units derived from the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound (a2) and/or the epoxy group-containing unsaturated compound (a4) in the copolymer (A4) is preferably 20 wt% or more, and 50 wt% or more 95 It is more preferable that it is weight % or less, and it is still more preferable that it is 60 weight% or more and 80 weight% or less.

공중합체(A4)에 있어서의, 광중합성 화합물(B)과의 중합 가능 부위를 갖는 구성 단위가 차지하는 비율은 1 중량% 이상 45 중량% 이하가 바람직하고, 5 중량% 이상 40 중량% 이하가 보다 바람직하다. 공중합체(A4)가 이러한 비율로 각 구성 단위를 포함하는 경우, 기판과의 밀착성이 뛰어난 막을 형성 가능한 감광성 조성물을 얻기 쉽다.In the copolymer (A4), the proportion of the structural unit having a polymerization site with the photopolymerizable compound (B) is preferably 1% by weight or more and 45% by weight or less, and more preferably 5% by weight or more and 40% by weight or less. desirable. When a copolymer (A4) contains each structural unit in such a ratio, it is easy to obtain the photosensitive composition which can form the film|membrane excellent in adhesiveness with a board|substrate.

공중합체(A3) 및 공중합체(A4)의 중량 평균 분자량은 2000 이상 50000 이하인 것이 바람직하고, 5000 이상 30000 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 감광성 조성물의 막 형성능, 노광 후의 현상성의 밸런스를 잡기 쉬운 경향이 있다.It is preferable that they are 2000 or more and 50000 or less, and, as for the weight average molecular weights of a copolymer (A3) and a copolymer (A4), it is more preferable that they are 5000 or more and 30000 or less. By setting it as said range, there exists a tendency for it easy to balance the film-forming ability of a photosensitive composition, and developability after exposure.

알칼리 가용성 수지(A)의 함유량은 후술하는 용제(S)의 중량을 제외한 감광성 조성물의 중량에 대해서 40 중량% 이상 85 중량% 이하인 것이 바람직하고, 45 중량% 이상 75 중량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 또, 알칼리 가용성 수지(A)는 알칼리 가용성 수지(A)의 함유량과 광중합성 화합물(B)의 함유량과 광중합 개시제(C)의 함유량의 합계량을 100 중량부로 하는 경우에, 감광성 조성물 중의 광중합성 화합물(B)의 함유량이 5 중량부 이상 50 중량부 이하가 되도록 감광성 조성물에 배합되는 것이 바람직하다.The content of the alkali-soluble resin (A) is preferably 40 wt% or more and 85 wt% or less, and more preferably 45 wt% or more and 75 wt% or less, based on the weight of the photosensitive composition excluding the weight of the solvent (S) to be described later. Moreover, when alkali-soluble resin (A) makes the total amount of content of alkali-soluble resin (A), content of photopolymerizable compound (B), and content of photoinitiator (C) 100 weight part, the photopolymerizable compound in a photosensitive composition It is preferable to mix|blend with the photosensitive composition so that content of (B) may become 5 weight part or more and 50 weight part or less.

상술한 대로, 감광성 조성물 중의 염화물 이온량은 1000 중량 ppm 이하이다. 이 때문에, 알칼리 가용성 수지(A) 중의 염화물 이온량도 어느 정도 저감되어 있을 필요가 있다. As described above, the amount of chloride ions in the photosensitive composition is 1000 ppm by weight or less. For this reason, the amount of chloride ions in alkali-soluble resin (A) also needs to be reduced to some extent.

알칼리 가용성 수지(A) 중의 염화물 이온량을 저감하는 방법으로는 물, 유기용제, 유기용제의 수용액 등에 의한 세정이나, 알칼리 가용성 수지(A)의 용액을 조제한 후, 얻어진 용액을 음이온 교환 수지와 접촉시키는 방법 등을 들 수 있다.As a method of reducing the amount of chloride ions in the alkali-soluble resin (A), washing with water, an organic solvent, an aqueous solution of an organic solvent, etc., or after preparing a solution of the alkali-soluble resin (A), the obtained solution is brought into contact with an anion exchange resin method and the like.

<광중합성 화합물(B)><Photopolymerizable compound (B)>

광중합성 화합물(B)로는 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노머를 바람직하게 이용할 수 있다. 이 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노머에는 단관능 모노머와 다관능 모노머가 있다.As the photopolymerizable compound (B), a monomer having an ethylenically unsaturated group can be preferably used. Monofunctional monomers and polyfunctional monomers exist in the monomer which has this ethylenically unsaturated group.

단관능 모노머로는 (메타)아크릴아미드, 메틸올(메타)아크릴아미드, 메톡시메틸(메타)아크릴아미드, 에톡시메틸(메타)아크릴아미드, 프로폭시메틸(메타)아크릴아미드, 부톡시메톡시메틸(메타)아크릴아미드, N-메틸올(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴산, 푸마르산, 말레인산, 무수 말레산, 이타콘산, 무수 이타콘산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 크로톤산, 2-아크릴아미드-2-메틸프로판 설폰산, tert-부틸아크릴아미드 설폰산, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-페녹시-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시-2-히드록시프로필 프탈레이트, 글리세린 모노(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 프탈산 유도체의 하프(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 단관능 모노머는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Monofunctional monomers include (meth)acrylamide, methylol (meth)acrylamide, methoxymethyl (meth)acrylamide, ethoxymethyl (meth)acrylamide, propoxymethyl (meth)acrylamide, butoxymethoxy Methyl (meth)acrylamide, N-methylol (meth)acrylamide, N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, (meth)acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, citracone Acid, citraconic anhydride, crotonic acid, 2-acrylamide-2-methylpropane sulfonic acid, tert-butylacrylamide sulfonic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate , 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylic Rate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropyl phthalate, glycerin mono (meth) acrylate, tetrahydropuffril (meth) Acrylate, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth)acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl ( and meth)acrylate and half (meth)acrylate of a phthalic acid derivative. These monofunctional monomers can be used individually or in combination of 2 or more types.

한편, 다관능 모노머로는 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 부틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메타)아크릴로옥시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시폴리에톡시페닐)프로판, 2-히드록시-3-(메타)아크릴로일옥시프로필(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 프탈산 디글리시딜에스테르디(메타)아크릴레이트, 글리세린트리아크릴레이트, 글리세린폴리글리시딜에테르폴리(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트(즉, 톨릴렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트 또는 헥사메틸렌디이소시아네이트 등과, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 반응물), 메틸렌비스(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴아미드메틸렌에테르, 다가 알코올과 N-메틸올(메타)아크릴아미드의 축합물 등의 다관능 모노머나, 트리아크릴포르말 등을 들 수 있다. 이들 다관능 모노머는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.On the other hand, as the polyfunctional monomer, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di ( meth) acrylate, butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di (meth)acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri (meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, 2,2-bis(4-(meth)acryl) Roxydiethoxyphenyl)propane, 2,2-bis(4-(meth)acryloxypolyethoxyphenyl)propane, 2-hydroxy-3-(meth)acryloyloxypropyl (meth)acrylate, ethylene Glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, phthalic acid diglycidyl ester di (meth) acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycy dilether poly (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate (ie, tolylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate or hexamethylene diisocyanate, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate), methylenebis Polyfunctional monomers, such as condensate of (meth)acrylamide, (meth)acrylamide methylene ether, polyhydric alcohol, and N-methylol (meth)acrylamide, triacryl formal, etc. are mentioned. These polyfunctional monomers can be used individually or in combination of 2 or more types.

이들 에틸렌성 불포화기를 갖는 모노머 중에서도, 감광성 조성물의 기판에 대한 밀착성, 감광성 조성물의 경화 후의 강도를 높이는 경향이 있는 점에서, 3 관능 이상의 다관능 모노머가 바람직하고, 4 관능 이상의 다관능 모노머가 보다 바람직하며, 5 관능 이상의 다관능 모노머가 더욱 바람직하다.Among the monomers having an ethylenically unsaturated group, a trifunctional or higher polyfunctional monomer is preferable, and a tetrafunctional or higher polyfunctional monomer is more preferable from the viewpoint of increasing the adhesiveness of the photosensitive composition to the substrate and the strength after curing of the photosensitive composition. and a polyfunctional monomer having 5 or more functions is more preferable.

광중합성 화합물(B)의 조성물 중의 함유량은 후술하는 용제(S)의 중량을 제외한 감광성 조성물의 중량에 대해서 1 중량% 이상 50 중량% 이하가 바람직하고, 5 중량% 이상 40 중량% 이하가 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 감도, 현상성, 해상성의 밸런스를 잡기 쉬운 경향이 있다.The content of the photopolymerizable compound (B) in the composition is preferably 1 wt% or more and 50 wt% or less, more preferably 5 wt% or more and 40 wt% or less, based on the weight of the photosensitive composition excluding the weight of the solvent (S) to be described later. do. By setting it as said range, there exists a tendency for a sensitivity, developability, and the balance of resolution to be easy to achieve.

상술한 대로, 감광성 조성물 중의 염화물 이온량은 1000 중량 ppm 이하이다. 이 때문에, 광중합성 화합물(B) 중의 염화물 이온량도 어느 정도 저감되어 있을 필요가 있다.As described above, the amount of chloride ions in the photosensitive composition is 1000 ppm by weight or less. For this reason, the amount of chloride ions in the photopolymerizable compound (B) also needs to be reduced to some extent.

광중합성 화합물(B) 중의 염화물 이온량을 저감하는 방법으로는 물, 유기용제, 유기용제의 수용액 등에 의한 세정이나, 증류, 재결정, 알칼리 가용성 수지(A)의 용액을 조제한 후, 얻어진 용액을 음이온 교환 수지와 접촉시키는 방법 등을 들 수 있다.As a method of reducing the amount of chloride ions in the photopolymerizable compound (B), washing with water, an organic solvent, an aqueous solution of an organic solvent, etc., distillation, recrystallization, preparing a solution of alkali-soluble resin (A), and then anion exchange the obtained solution The method of making it contact with resin, etc. are mentioned.

<광중합 개시제(C)><Photoinitiator (C)>

감광성 조성물은 광중합 개시제(C)를 포함한다. 광중합 개시제(C)는 옥심에스테르 화합물(C1)과 옥심에스테르 화합물 이외의 화합물(C2)을 조합하여 포함한다. 이하, 옥심에스테르 화합물(C1)과 화합물(C2)에 대하여 설명한다.The photosensitive composition contains a photoinitiator (C). A photoinitiator (C) contains an oxime ester compound (C1) combining compounds (C2) other than an oxime ester compound. Hereinafter, an oxime ester compound (C1) and a compound (C2) are demonstrated.

(옥심에스테르 화합물(C1))(Oxime ester compound (C1))

감광성 조성물은 광중합 개시제로서 옥심에스테르 화합물(C1)을 필수로 포함한다. 옥심에스테르 화합물(C1)로는 광중합 개시제로서 작용하는 화합물로서, 에스테르화된 옥심기를 포함하고, 또한 광중합 개시제로서 작용하는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다.The photosensitive composition essentially contains the oxime ester compound (C1) as a photoinitiator. As an oxime ester compound (C1), it is a compound which acts as a photoinitiator, If it is a compound which contains an esterified oxime group and acts as a photoinitiator, it will not specifically limit.

전형적으로는 옥심에스테르 화합물(C1)로는 하기 식 (1)로 표시되는 화합물이 적합하게 이용된다.Typically, as an oxime ester compound (C1), the compound represented by following formula (1) is used suitably.

Figure 112017103719171-pat00008
Figure 112017103719171-pat00008

(식 (1) 중, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소 원자에 결합하는 결합손을 갖는 1가의 유기기이다. n0는 0 또는 1이다)(In formula (1), R 1 , R 2 and R 3 are each independently a monovalent organic group having a bond to a carbon atom. n0 is 0 or 1.)

로 표시되는 화합물을 포함한다. 이 때문에, 감광성 조성물은 감도가 뛰어나다.and a compound represented by For this reason, the photosensitive composition is excellent in sensitivity.

그러나, 광중합 개시제(C)로서 옥심에스테르 화합물(C1)만을 이용하면, 미세한 패턴을 해상하기 어렵다. 이것과는 대조적으로, 광중합 개시제(C)로서 옥심에스테르 화합물(C1)과 옥심에스테르 화합물 이외의 화합물(C2)을 병용하면, 양호한 감도를 가지면서 현상에 의해 미세한 패턴을 개조하기 쉽다.However, when only the oxime ester compound (C1) is used as a photoinitiator (C), it is difficult to resolve a fine pattern. In contrast to this, when an oxime ester compound (C1) and a compound (C2) other than an oxime ester compound are used together as a photoinitiator (C), it is easy to remodel a fine pattern by image development, having favorable sensitivity.

광중합 개시제(C)는 옥심에스테르 화합물(C1)을 2종 이상 조합하여 포함하고 있어도 된다.The photoinitiator (C) may contain the oxime ester compound (C1) in combination of 2 or more types.

식 (1) 중, R1로서 적합한 유기기의 예로는 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 알콕시카르보닐기, 포화 지방족 아실옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기, 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 및 피페라진-1-일기 등을 들 수 있다.In the formula (1), examples of the organic group suitable as R 1 include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, a phenyl group which may have a substituent, and a substituent The phenoxy group which may have, the benzoyl group which may have a substituent, the phenoxycarbonyl group which may have a substituent, the benzoyloxy group which may have a substituent, the phenylalkyl group which may have a substituent, the naphthyl group which may have a substituent, a substituent The naphthoxy group which may have, the naphthoyl group which may have a substituent, the naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, the naphthoyloxy group which may have a substituent, the naphthylalkyl group which may have a substituent, the hetero which may have a substituent and a cyclyl group, an optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, and a piperazin-1-yl group.

또, R1로는 시클로알킬알킬기, 방향환 위에 치환기를 가지고 있어도 되는 페녹시알킬기, 방향환 위에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기도 바람직하다. 페녹시알킬기 및 페닐티오알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기는 R1에 포함되는 페닐기가 가지고 있어도 되는 치환기와 동일하다.Moreover, as R< 1 >, the phenylthioalkyl group which may have a substituent on the cycloalkylalkyl group, the phenoxyalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, and the aromatic ring is preferable. The substituent which the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have is the same as the substituent which the phenyl group contained in R< 1 > may have.

R1가 알킬기인 경우, 알킬기의 탄소 원자 수는 1 이상 20 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. 또, R1가 알킬기인 경우, 직쇄여도 분기쇄여도 된다. R1가 알킬기인 경우의 구체예로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 및 이소데실기 등을 들 수 있다. 또, R1가 알킬기인 경우, 알킬기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 갖는 알킬기의 예로는 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기, 및 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.When R< 1 > is an alkyl group, 1 or more and 20 or less are preferable and, as for the number of carbon atoms of an alkyl group, 1 or more and 6 or less are more preferable. Moreover, when R< 1 > is an alkyl group, linear or branched may be sufficient as it. Specific examples of the case in which R 1 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, and an isopene. tyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, n - A decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. Moreover, when R< 1 > is an alkyl group, the alkyl group may contain the ether bond (-O-) in a carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

R1가 알콕시기인 경우, 알콕시기의 탄소 원자 수는 1 이상 20 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. 또, R1가 알콕시기인 경우, 직쇄여도 분기쇄여도 된다. R1가 알콕시기인 경우의 구체예로는 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부틸옥시기, 이소부틸옥시기, sec-부틸옥시기, tert-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, sec-펜틸옥시기, tert-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 이소옥틸옥시기, sec-옥틸옥시기, tert-옥틸옥시기, n-노닐옥시기, 이소노닐옥시기, n-데실옥시기, 및 이소데실옥시기 등을 들 수 있다. 또, R1가 알콕시기인 경우, 알콕시기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 갖는 알콕시기의 예로는 메톡시에톡시기, 에톡시에톡시기, 메톡시에톡시에톡시기, 에톡시에톡시에톡시기, 프로필옥시에톡시에톡시기, 및 메톡시프로필옥시기 등을 들 수 있다.When R< 1 > is an alkoxy group, 1 or more and 20 or less are preferable and, as for the number of carbon atoms of an alkoxy group, 1 or more and 6 or less are more preferable. Moreover, when R< 1 > is an alkoxy group, linear or branched may be sufficient as it. Specific examples when R 1 is an alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group , n-pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group group, tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, isodecyloxy group, and the like. Moreover, when R< 1 > is an alkoxy group, the alkoxy group may contain the ether bond (-O-) in a carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a meth Toxypropyloxy group, etc. are mentioned.

R1가 시클로알킬기 또는 시클로알콕시기인 경우, 시클로알킬기 또는 시클로알콕시기의 탄소 원자 수는 3 이상 10 이하가 바람직하고, 3 이상 6 이하가 보다 바람직하다. R1가 시클로알킬기인 경우의 구체예로는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 및 시클로옥틸기 등을 들 수 있다. R1가 시클로알콕시기인 경우의 구체예로는 시클로프로필옥시기, 시클로부틸옥시기, 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기, 시클로헵틸옥시기, 및 시클로옥틸옥시기 등을 들 수 있다.When R< 1 > is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3 or more and 10 or less are preferable and, as for the number of carbon atoms of a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3 or more and 6 or less are more preferable. Specific examples when R 1 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples when R 1 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

R1가 포화 지방족 아실기 또는 포화 지방족 아실옥시기인 경우, 포화 지방족 아실기 또는 포화 지방족 아실옥시기의 탄소 원자 수는 2 이상 21 이하가 바람직하고, 2 이상 7 이하가 보다 바람직하다. R1가 포화 지방족 아실기인 경우의 구체예로는 아세틸기, 프로파노일기, n-부타노일기, 2-메틸프로파노일기, n-펜타노일기, 2,2-디메틸프로파노일기, n-헥사노일기, n-헵타노일기, n-옥타노일기, n-노나노일기, n-데카노일기, n-운데카노일기, n-도데카노일기, n-트리데카노일기, n-테트라데카노일기, n-펜타데카노일기, 및 n-헥사데카노일기 등을 들 수 있다. R1가 포화 지방족 아실옥시기인 경우의 구체예로는 아세틸옥시기, 프로파노일옥시기, n-부타노일옥시기, 2-메틸프로파노일옥시기, n-펜타노일옥시기, 2,2-디메틸프로파노일옥시기, n-헥사노일옥시기, n-헵타노일옥시기, n-옥타노일옥시기, n-노나노일옥시기, n-데카노일옥시기, n-운데카노일옥시기, n-도데카노일옥시기, n-트리데카노일옥시기, n-테트라데카노일옥시기, n-펜타데카노일옥시기, 및 n-헥사데카노일옥시기 등을 들 수 있다.When R 1 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms in the saturated aliphatic acyl group or the saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 or more and 21 or less, and more preferably 2 or more and 7 or less. Specific examples of the case in which R 1 is a saturated aliphatic acyl group include an acetyl group, a propanoyl group, an n-butanoyl group, a 2-methylpropanoyl group, an n-pentanoyl group, a 2,2-dimethylpropanoyl group, and an n-hexanoyl group. , n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n -pentadecanoyl group, n-hexadecanoyl group, etc. are mentioned. Specific examples in the case where R 1 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, and 2,2-dimethylpropano group. yloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n-dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group, etc. are mentioned.

R1가 알콕시카르보닐기인 경우, 알콕시카르보닐기의 탄소 원자 수는 2 이상 20 이하가 바람직하고, 2 이상 7 이하가 보다 바람직하다. R1가 알콕시카르보닐기인 경우의 구체예로는 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, n-프로필옥시카르보닐기, 이소프로필옥시카르보닐기, n-부틸옥시카르보닐기, 이소부틸옥시카르보닐기, sec-부틸옥시카르보닐기, tert-부틸옥시카르보닐기, n-펜틸옥시카르보닐기, 이소펜틸옥시카르보닐기, sec-펜틸옥시카르보닐기, tert-펜틸옥시카르보닐기, n-헥실옥시카르보닐기, n-헵틸옥시카르보닐기, n-옥틸옥시카르보닐기, 이소옥틸옥시카르보닐기, sec-옥틸옥시카르보닐기, tert-옥틸옥시카르보닐기, n-노닐옥시카르보닐기, 이소노닐옥시카르보닐기, n-데실옥시카르보닐기, 및 이소데실옥시카르보닐기 등을 들 수 있다.When R< 1 > is an alkoxycarbonyl group, 2 or more and 20 or less are preferable and, as for the number of carbon atoms of an alkoxycarbonyl group, 2 or more and 7 or less are more preferable. Specific examples when R 1 is an alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyloxycarbonyl group, tert- butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, and sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, and isodecyloxycarbonyl group.

R1가 페닐알킬기인 경우, 페닐알킬기의 탄소 원자 수는 7 이상 20 이하가 바람직하고, 7 이상 10 이하가 보다 바람직하다. 또, R1가 나프틸알킬기인 경우, 나프틸알킬기의 탄소 원자 수는 11 이상 20 이하가 바람직하고, 11 이상 14 이하가 보다 바람직하다. R1가 페닐알킬기인 경우의 구체예로는 벤질기, 2-페닐에틸기, 3-페닐프로필기, 및 4-페닐부틸기를 들 수 있다. R1가 나프틸알킬기인 경우의 구체예로는 α-나프틸메틸기, β-나프틸메틸기, 2-(α-나프틸)에틸기, 및 2-(β-나프틸)에틸기를 들 수 있다. R1가 페닐알킬기 또는 나프틸알킬기인 경우, R1는 페닐기 또는 나프틸기 상에 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R 1 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms in the phenylalkyl group is preferably 7 or more and 20 or less, and more preferably 7 or more and 10 or less. Moreover, when R< 1 > is a naphthylalkyl group, 11 or more and 20 or less are preferable and, as for the number of carbon atoms of a naphthylalkyl group, 11 or more and 14 or less are more preferable. Specific examples when R 1 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples when R 1 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2-(α-naphthyl)ethyl group, and a 2-(β-naphthyl)ethyl group. When R 1 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R 1 may further have a substituent on the phenyl group or the naphthyl group.

R1가 헤테로시클릴기인 경우, 헤테로시클릴기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이거나, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 헤테로시클릴기이다. 헤테로시클릴기가 축합환인 경우에는 축합하는 고리 수는 3까지로 한다. 헤테로시클릴기는 방향족 기(헤테로아릴기)여도 비방향족 기여도 된다. 이러한 헤테로시클릴기를 구성하는 복소환으로는 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 신놀린, 퀴녹살린, 피페리딘, 피페라진, 모르폴린, 피페리딘, 테트라히드로피란, 및 테트라히드로 푸란 등을 들 수 있다. R1가 헤테로시클릴기인 경우, 헤테로시클릴기는 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R 1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocyclic ring containing one or more N, S, and O, or a heterocyclyl group obtained by condensing such monocyclic rings or such a monocyclic ring and a benzene ring. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the number of condensed rings is limited to three. A heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group), or a non-aromatic contribution may be sufficient as it. Heterocycles constituting such a heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyridine. Midin, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzoimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, pr talazine, cinnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, tetrahydrofuran, and the like. When R 1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

R1가 헤테로시클릴카르보닐기인 경우, 헤테로시클릴카르보닐기에 포함되는 헤테로시클릴기는 R1가 헤테로시클릴기인 경우와 동일하다.When R 1 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group included in the heterocyclylcarbonyl group is the same as when R 1 is a heterocyclyl group.

R1가 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기인 경우, 유기기의 적합한 예는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기, 탄소 원자 수 3 이상 10 이하의 시클로알킬기, 탄소 원자 수 2 이상 21 이하의 포화 지방족 아실기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 7 이상 20 이하의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 11 이상 20 이하의 나프틸알킬기, 및 헤테로시클릴기 등을 들 수 있다. 이들 적합한 유기기의 구체예는 R1와 동일하다. 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기의 구체예로는 메틸아미노기, 에틸아미노기, 디에틸아미노기, n-프로필아미노기, 디-n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 디-n-부틸아미노기, n-펜틸아미노기, n-헥실아미노기, n-헵틸아미노기, n-옥틸아미노기, n-노닐아미노기, n-데실아미노기, 페닐아미노기, 나프틸아미노기, 아세틸아미노기, 프로파노일아미노기, n-부타노일아미노기, n-펜타노일아미노기, n-헥사노일아미노기, n-헵타노일아미노기, n-옥타노일아미노기, n-데카노일아미노기, 벤조일아미노기, α-나프토일아미노기, 및 β-나프토일아미노기 등을 들 수 있다.When R 1 is an amino group substituted with an organic group of 1 or 2, suitable examples of the organic group include an alkyl group having 1 or more and 20 or less carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 or more and 10 or less carbon atoms, and 2 or more and 21 or less carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 or more and 20 or less carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, naph which may have a substituent A toyl group, a C11 or more and 20 or less naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group, etc. are mentioned. Specific examples of these suitable organic groups are the same as for R 1 . Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n-butylamino group, di-n-butyl Amino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-buta noylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n-decanoylamino group, benzoylamino group, α-naphthoylamino group, and β-naphthoylamino group, etc. can be heard

R1에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 갖는 경우의 치환기로는 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 포화 지방족 아실옥시기, 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 페닐티오기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기, 아미노기, 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 할로겐 원자, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다.When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 1 have a further substituent, the substituent includes an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group. , phenyl group which may have a substituent, phenoxy group which may have a substituent, phenylthio group which may have a substituent, benzoyl group which may have a substituent, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, benzoyloxy group which may have a substituent , phenylalkyl group which may have a substituent, naphthyl group which may have a substituent, naphthoxy group which may have a substituent, naphthoyl group which may have a substituent, naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, naph which may have a substituent Toyloxy group, naphthylalkyl group which may have a substituent, heterocyclyl group which may have a substituent, heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, amino group, amino group substituted with 1 or 2 organic groups, morpholin-1-yl group , a piperazin-1-yl group, a halogen atom, a nitro group, and a cyano group.

R1에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 갖는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1 이상 4 이하가 바람직하다. R1에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기가 복수의 치환기를 갖는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R 1 further have a substituent, the number of the substituents is not limited within a range that does not impair the object of the present invention, but preferably 1 or more and 4 or less. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R 1 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

치환기가 알킬기인 경우, 탄소 원자 수 1 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. 치환기가 알킬기인 경우, 직쇄여도 분기쇄여도 된다. 치환기가 알킬기인 경우의 구체예로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 및 이소데실기 등을 들 수 있다. 또, 치환기가 알킬기인 경우, 알킬기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 갖는 알킬기의 예로는 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기, 및 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.When the substituent is an alkyl group, 1 or more and 20 or less carbon atoms are preferable, and 1 or more and 6 or less carbon atoms are more preferable. When a substituent is an alkyl group, linear or branched chain may be sufficient as it. Specific examples when the substituent is an alkyl group include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group , sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, n- A decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. Moreover, when a substituent is an alkyl group, the alkyl group may contain the ether bond (-O-) in a carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

치환기가 알콕시기인 경우, 탄소 원자 수 1 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. 또, 치환기가 알콕시기인 경우, 직쇄여도 분기쇄여도 된다. 치환기가 알콕시기인 경우의 구체예로는 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부틸옥시기, 이소부틸옥시기, sec-부틸옥시기, tert-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, sec-펜틸옥시기, tert-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 이소옥틸옥시기, sec-옥틸옥시기, tert-옥틸옥시기, n-노닐옥시기, 이소노닐옥시기, n-데실옥시기, 및 이소데실옥시기 등을 들 수 있다. 또, 치환기가 알콕시기인 경우, 알콕시기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 갖는 알콕시기의 예로는 메톡시에톡시기, 에톡시에톡시기, 메톡시에톡시에톡시기, 에톡시에톡시에톡시기, 프로필옥시에톡시에톡시기, 및 메톡시프로필옥시기 등을 들 수 있다.When the substituent is an alkoxy group, 1 or more and 20 or less carbon atoms are preferable, and 1 or more and 6 or less carbon atoms are more preferable. Moreover, when a substituent is an alkoxy group, linear or branched may be sufficient as it. Specific examples when the substituent is an alkoxy group include a methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n-pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group , tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, isodecyloxy group, and the like. Moreover, when a substituent is an alkoxy group, the alkoxy group may contain the ether bond (-O-) in a carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a meth Toxypropyloxy group, etc. are mentioned.

치환기가 시클로알킬기 또는 시클로알콕시기인 경우, 탄소 원자 수 3 이상 10 이하가 바람직하고, 탄소 원자 수 3 이상 6 이하가 보다 바람직하다. 치환기가 시클로알킬기인 경우의 구체예로는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 및 시클로옥틸기 등을 들 수 있다. 치환기가 시클로알콕시기인 경우의 구체예로는 시클로프로필옥시기, 시클로부틸옥시기, 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기, 시클로헵틸옥시기, 및 시클로옥틸옥시기 등을 들 수 있다.When a substituent is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, C3 or more and 10 or less are preferable, and C3 or more and 6 or less are more preferable. Specific examples when the substituent is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples in the case where the substituent is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

치환기가 포화 지방족 아실기 또는 포화 지방족 아실옥시기인 경우, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하가 보다 바람직하다. 치환기가 포화 지방족 아실기인 경우의 구체예로는 아세틸기, 프로파노일기, n-부타노일기, 2-메틸프로파노일기, n-펜타노일기, 2,2-디메틸프로파노일기, n-헥사노일기, n-헵타노일기, n-옥타노일기, n-노나노일기, n-데카노일기, n-운데카노일기, n-도데카노일기, n-트리데카노일기, n-테트라데카노일기, n-펜타데카노일기, 및 n-헥사데카노일기 등을 들 수 있다. 치환기가 포화 지방족 아실옥시기인 경우의 구체예로는 아세틸옥시기, 프로파노일옥시기, n-부타노일옥시기, 2-메틸프로파노일옥시기, n-펜타노일옥시기, 2,2-디메틸프로파노일옥시기, n-헥사노일옥시기, n-헵타노일옥시기, n-옥타노일옥시기, n-노나노일옥시기, n-데카노일옥시기, n-운데카노일옥시기, n-도데카노일옥시기, n-트리데카노일옥시기, n-테트라데카노일옥시기, n-펜타데카노일옥시기, 및 n-헥사데카노일옥시기 등을 들 수 있다.When a substituent is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, C2 or more and 20 or less are preferable, and C2 or more and 7 or less are more preferable. Specific examples when the substituent is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n-hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n- A pentadecanoyl group, n-hexadecanoyl group, etc. are mentioned. Specific examples when the substituent is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2,2-dimethylpropanoyloxy group Period, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n-dodecanoyloxy group, n -tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group, etc. are mentioned.

치환기가 알콕시카르보닐기인 경우, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하가 보다 바람직하다. 치환기가 알콕시카르보닐기인 경우의 구체예로는 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, n-프로필옥시카르보닐기, 이소프로필옥시카르보닐기, n-부틸옥시카르보닐기, 이소부틸옥시카르보닐기, sec-부틸옥시카르보닐기, tert-부틸옥시카르보닐기, n-펜틸옥시카르보닐기, 이소펜틸옥시카르보닐기, sec-펜틸옥시카르보닐기, tert-펜틸옥시카르보닐기, n-헥실옥시카르보닐기, n-헵틸옥시카르보닐기, n-옥틸옥시카르보닐기, 이소옥틸옥시카르보닐기, sec-옥틸옥시르카르보닐기, tert-옥틸옥시카르보닐기, n-노닐옥시카르보닐기, 이소노닐옥시카르보닐기, n-데실옥시카르보닐기, 및 이소데실옥시카르보닐기 등을 들 수 있다.When a substituent is an alkoxycarbonyl group, C2 or more and 20 or less are preferable, and C2 or more and 7 or less are more preferable. Specific examples when the substituent is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyloxycarbonyl group, tert-butyl group Oxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec -octyloxyrcarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, isodecyloxycarbonyl group, etc. are mentioned.

치환기가 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기인 경우, 탄소 원자 수 7 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자 수 7 이상 10 이하가 보다 바람직하다. 또, 치환기가 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기인 경우, 탄소 원자 수 11 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자 수 11 이상 14 이하가 보다 바람직하다. 치환기가 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기인 경우의 구체예로는 벤질기, 2-페닐에틸기, 3-페닐프로필기, 및 4-페닐부틸기를 들 수 있다. 치환기가 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기인 경우의 구체예로는 α-나프틸메틸기, β-나프틸메틸기, 2-(α-나프틸)에틸기, 및 2-(β-나프틸)에틸기를 들 수 있다.When the substituent is a phenylalkyl group which may have a substituent, 7 or more and 20 or less carbon atoms are preferable, and 7 or more and 10 or less are more preferable. Moreover, when a substituent is a naphthylalkyl group which may have a substituent, C11 or more and 20 or less are preferable, and C11 or more and 14 or less are more preferable. Specific examples in the case where the substituent is a phenylalkyl group which may have a substituent include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in the case where the substituent is an optionally substituted naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2-(α-naphthyl)ethyl group, and a 2-(β-naphthyl)ethyl group. can be heard

치환기가 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기인 경우, 상기 헤테로시클릴기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이거나, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 헤테로시클릴기이다. 상기 헤테로시클릴기가 축합환인 경우는 축합하는 고리 수는 3까지로 한다. 이러한 헤테로시클릴기를 구성하는 복소환으로는 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 신놀린, 및 퀴녹살린 등을 들 수 있다.When the substituent is a heterocyclyl group which may have a substituent, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocyclic ring containing one or more N, S, and O, or a heterocyclic ring obtained by condensing such monocyclic rings or such a monocyclic ring and a benzene ring is a cyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the number of condensed rings is set to three. Heterocycles constituting such a heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyridine. Midin, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzoimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, pr talazine, cinnoline, and quinoxaline; and the like.

치환기가 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기인 경우, 유기기의 적합한 예로는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기, 탄소 원자 수 3 이상 10 이하의 시클로알킬기, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하의 포화 지방족 아실기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 7 이상 20 이하의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 11 이상 20 이하의 나프틸알킬기, 및 헤테로시클릴기 등을 들 수 있다. 이들 적합한 유기기의 구체예는 상기에서 치환기에 대하여 예시한 기와 동일하다. 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기의 구체예로는 메틸아미노기, 에틸아미노기, 디에틸아미노기, n-프로필아미노기, 디-n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 디-n-부틸아미노기, n-펜틸아미노기, n-헥실아미노기, n-헵틸아미노기, n-옥틸아미노기, n-노닐아미노기, n-데실아미노기, 페닐아미노기, 나프틸아미노기, 아세틸아미노기, 프로파노일아미노기, n-부타노일아미노기, n-펜타노일아미노기, n-헥사노일아미노기, n-헵타노일아미노기, n-옥타노일아미노기, n-데카노일아미노기, 벤조일아미노기, α-나프토일아미노기, 및 β-나프토일아미노기 등을 들 수 있다.When the substituent is an amino group substituted with an organic group of 1 or 2, suitable examples of the organic group include an alkyl group having 1 or more and 20 or less carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 or more and 10 or less carbon atoms, and a saturated group having 2 or more and 20 or less carbon atoms. An aliphatic acyl group, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphtho which may have a substituent A diyl, a C11 or more and 20 or less naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group, etc. are mentioned. Specific examples of these suitable organic groups are the same as those exemplified for the substituents above. Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n-butylamino group, di-n-butyl Amino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-buta noylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n-decanoylamino group, benzoylamino group, α-naphthoylamino group, and β-naphthoylamino group, etc. can be heard

상기 치환기에 있어서, 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기 등이 추가로 치환기를 갖는 경우의 치환기의 예로는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알콕시기;탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실기;탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 알콕시카르보닐기;탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실옥시기;페닐기;나프틸기;벤조일기;나프토일기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기에 의해 치환된 벤조일기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 모노알킬아미노기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 디알킬아미노기;모르폴린-1-일기;피페라진-1-일기;할로겐 원자;니트로기;시아노기를 들 수 있다. 상기 치환기에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기 등이 추가로 치환기를 갖는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1 이상 4 이하가 바람직하다. 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기 등이 복수의 치환기를 갖는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.In the above substituent, examples of the substituent when the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group further have a substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; Saturated aliphatic acyl group having 2 or more and 7 or less; Alkoxycarbonyl group having 2 or more and 7 or less carbon atoms; Saturated aliphatic acyloxy group having 2 or more and 7 or less carbon atoms; Phenyl group; Naphthyl group; Benzoyl group; Naphthoyl group; Carbon atom A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 or more and 6 or less, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; Monoalkyl having an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms Amino group; Dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; morpholin-1-yl group; piperazin-1-yl group; halogen atom; nitro group; cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, heterocyclyl group, etc. included in the above substituent have additional substituents, the number of the substituents is not limited within the scope not impairing the object of the present invention, but preferably 1 or more and 4 or less. When a phenyl group, a naphthyl group, a heterocyclyl group, etc. have several substituents, the some substituent may be same or different.

유기기 중에서도, R1로는 알킬기, 시클로알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기 또는 시클로알킬알킬기, 방향환 위에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기가 바람직하다. 알킬기로는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기가 바람직하고, 탄소 원자 수 1 이상 8 이하의 알킬기가 보다 바람직하며, 탄소 원자 수 1 이상 4 이하의 알킬기가 특히 바람직하고, 메틸기가 가장 바람직하다. 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기 중에서는 메틸페닐기가 바람직하고, 2-메틸페닐기가 보다 바람직하다. 시클로알킬알킬기에 포함되는 시클로알킬기의 탄소 원자 수는 5 이상 10 이하가 바람직하고, 5 이상 8 이하가 보다 바람직하며, 5 또는 6이 특히 바람직하다. 시클로알킬알킬기에 포함되는 알킬렌기의 탄소 원자 수는 1 이상 8 이하가 바람직하고, 1 이상 4 이하가 보다 바람직하며, 2가 특히 바람직하다. 시클로알킬알킬기 중에서는 시클로펜틸에틸기가 바람직하다. 방향환 위에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기에 포함되는 알킬렌기의 탄소 원자 수는 1 이상 8 이하가 바람직하고, 1 이상 4 이하가 보다 바람직하며, 2가 특히 바람직하다. 방향환 위에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기 중에서는 2-(4-클로로페닐티오)에틸기가 바람직하다.Among the organic groups, R 1 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group or cycloalkylalkyl group which may have a substituent, or a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable, and a methyl group is most preferable. Among the phenyl groups which may have a substituent, a methylphenyl group is preferable and the 2-methylphenyl group is more preferable. 5 or more and 10 or less are preferable, as for the number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in a cycloalkylalkyl group, 5 or more and 8 or less are more preferable, 5 or 6 are especially preferable. 1 or more and 8 or less are preferable, as for the number of carbon atoms of the alkylene group contained in a cycloalkylalkyl group, 1 or more and 4 or less are more preferable, 2 is especially preferable. Among the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferable. 1 or more and 8 or less are preferable, as for the number of carbon atoms of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, 1 or more and 4 or less are more preferable, 2 is especially preferable. Among the phenylthioalkyl groups which may have a substituent on the aromatic ring, 2-(4-chlorophenylthio)ethyl group is preferable.

또, R1로는 -Ac1-CO-O-Ac2로 표시되는 기도 바람직하다. Ac1은 2가의 유기기이며, 2가의 탄화수소기인 것이 바람직하고, 알킬렌기인 것이 바람직하다. Ac2는 1가의 유기기이며, 1가의 탄화수소기인 것이 바람직하다.Moreover, as R< 1 >, the group represented by -A c1 -CO-OA c2 is preferable. A c1 is a divalent organic group, preferably a divalent hydrocarbon group, and preferably an alkylene group. A c2 is a monovalent organic group, and it is preferable that it is a monovalent|monohydric hydrocarbon group.

Ac1이 알킬렌기인 경우, 알킬렌기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 되고, 직쇄상이 바람직하다. Ac1이 알킬렌기인 경우, 알킬렌기의 탄소 원자 수는 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 4 이하가 특히 바람직하다.When A c1 is an alkylene group, the alkylene group may be linear or branched, and linear is preferable. When A c1 is an alkylene group, 1 or more and 10 or less are preferable, as for the number of carbon atoms of an alkylene group, 1 or more and 6 or less are more preferable, and 1 or more and 4 or less are especially preferable.

Ac2의 적합한 예로는 탄소 원자 수 1 이상 10 이하의 알킬기, 탄소 원자 수 7 이상 20 이하의 아랄킬기, 및 탄소 원자 수 6 이상 20 이하의 방향족 탄화수소기를 들 수 있다. Ac2의 적합한 구체예로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 페닐기, 나프틸기, 벤질기, 페네틸기, α-나프틸메틸기, 및 β-나프틸메틸기 등을 들 수 있다.Suitable examples of A c2 include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. Suitable specific examples of A c2 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, and a phenyl group, a naphthyl group, a benzyl group, a phenethyl group, an α-naphthylmethyl group, and a β-naphthylmethyl group.

-Ac1-CO-O-Ac2로 표시되는 기의 적합한 구체예로는 2-메톡시카르보닐에틸기, 2-에톡시카르보닐에틸기, 2-n-프로필옥시카르보닐에틸기, 2-n-부틸옥시카르보닐에틸기, 2-n-펜틸옥시카르보닐에틸기, 2-n-헥실옥시카르보닐에틸기, 2-벤질옥시카르보닐에틸기, 2-페녹시카르보닐에틸기, 3-메톡시카르보닐-n-프로필기, 3-에톡시카르보닐-n-프로필기, 3-n-프로필옥시카르보닐-n-프로필기, 3-n-부틸옥시카르보닐-n-프로필기, 3-n-펜틸옥시카르보닐-n-프로필기, 3-n-헥실옥시카르보닐-n-프로필기, 3-벤질옥시카르보닐-n-프로필기, 및 3-페녹시카르보닐-n-프로필기 등을 들 수 있다.Suitable specific examples of the group represented by -A c1 -CO-OA c2 include 2-methoxycarbonylethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 2-n-propyloxycarbonylethyl group, 2-n-butyloxy group Carbonylethyl group, 2-n-pentyloxycarbonylethyl group, 2-n-hexyloxycarbonylethyl group, 2-benzyloxycarbonylethyl group, 2-phenoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n- Propyl group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-propyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-butyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-pentyloxycar A bornyl-n-propyl group, 3-n-hexyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-benzyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-phenoxycarbonyl-n-propyl group, etc. are mentioned. have.

이상, R1에 대해 설명했지만, R1로는 하기 식 (c1a) 또는 (c1b)로 표시되는 기가 바람직하다.As mentioned above, although R< 1 > was demonstrated, the group represented by a following formula (c1a) or (c1b) as R< 1 > is preferable.

Figure 112017103719171-pat00009
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(식 (c1a) 및 (c1b) 중, R7 및 R8는 각각 유기기이고, p는 0 이상 4 이하의 정수이며, R7 및 R8가 벤젠환 위의 인접하는 위치에 존재하는 경우, R7와 R8가 서로 결합해 고리를 형성해도 되고, q는 1 이상 8 이하의 정수이며, r는 1 이상 5 이하의 정수이고, s는 0 이상 (r+3) 이하의 정수이며, R9는 유기기이다)(In formulas (c1a) and (c1b), R 7 and R 8 are each an organic group, p is an integer of 0 or more and 4 or less, and when R 7 and R 8 are present at adjacent positions on the benzene ring, R 7 and R 8 may be bonded to each other to form a ring, q is an integer of 1 or more and 8 or less, r is an integer of 1 or more and 5 or less, s is an integer of 0 or more (r+3) or less, and R 9 is organic)

식 (c1a) 중의 R7 및 R8에 대한 유기기의 예는 R1와 동일하다. R7로는 알킬기 또는 페닐기가 바람직하다. R7가 알킬기인 경우, 그 탄소 원자 수는 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 5 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 3 이하가 특히 바람직하고, 1이 가장 바람직하다. 즉, R7는 메틸기인 것이 가장 바람직하다. Examples of the organic group for R 7 and R 8 in the formula (c1a) are the same as those for R 1 . R 7 is preferably an alkyl group or a phenyl group. When R< 7 > is an alkyl group, 1 or more and 10 or less are preferable, as for the number of carbon atoms, 1 or more and 5 or less are more preferable, 1 or more and 3 or less are especially preferable, and 1 is the most preferable. That is, R 7 is most preferably a methyl group.

R7와 R8가 결합해 고리를 형성하는 경우, 상기 고리는 방향족환이어도 되고, 지방족환이어도 된다. 식 (c1a)로 표시되는 기로서, R7와 R8가 고리를 형성하고 있는 기의 적합한 예로는 나프탈렌-1-일기나, 1, 2,3,4-테트라히드로나프탈렌-5-일기 등을 들 수 있다. 상기 식 (c1a) 중, p는 0 이상 4 이하의 정수이며, 0 또는 1인 것이 바람직하고, 0인 것이 보다 바람직하다.When R 7 and R 8 combine to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. As the group represented by the formula (c1a), suitable examples of the group in which R 7 and R 8 form a ring include a naphthalen-1-yl group, a 1,2,3,4-tetrahydronaphthalen-5-yl group, and the like. can be heard In said formula (c1a), p is an integer of 0 or more and 4 or less, It is preferable that it is 0 or 1, and it is more preferable that it is 0.

상기 식 (c1b) 중, R9는 유기기이다. 유기기로는 R1에 대해 설명한 유기기와 동일한 기를 들 수 있다.In the formula (c1b), R 9 is an organic group. Examples of the organic group include the same groups as the organic group described for R 1 .

R9로서의 유기기 중에서는 알킬기가 바람직하다. 알킬기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 된다. 알킬기의 탄소 원자 수는 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 5 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 3 이하가 특히 바람직하다. R9로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기 등이 바람직하게 예시되고, 이들 중에서도, 메틸기인 것이 보다 바람직하다.Among the organic groups as R 9 , an alkyl group is preferable. The alkyl group may be linear or branched. 1 or more and 10 or less are preferable, as for the number of carbon atoms of an alkyl group, 1 or more and 5 or less are more preferable, 1 or more and 3 or less are especially preferable. As R< 9 >, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, etc. are illustrated preferably, Among these, it is more preferable that it is a methyl group.

상기 식 (c1b) 중, r는 1 이상 5 이하의 정수이며, 1 이상 3 이하의 정수가 바람직하고, 1 또는 2가 보다 바람직하다. 상기 식 (c1b) 중, s는 0 이상 (r+3) 이하이며, 0 이상 3 이하의 정수가 바람직하고, 0 이상 2 이하의 정수가 보다 바람직하며, 0이 특히 바람직하다. 상기 식 (c1b) 중, q는 1 이상 8 이하의 정수이며, 1 이상 5 이하의 정수가 바람직하고, 1 이상 3 이하의 정수가 보다 바람직하며, 1 또는 2가 특히 바람직하다.In the formula (c1b), r is an integer of 1 or more and 5 or less, an integer of 1 or more and 3 or less is preferable, and 1 or 2 is more preferable. In the formula (c1b), s is 0 or more (r+3), preferably an integer of 0 or more and 3 or less, more preferably an integer of 0 or more and 2 or less, and particularly preferably 0. In the formula (c1b), q is an integer of 1 or more and 8 or less, preferably an integer of 1 or more and 5 or less, more preferably an integer of 1 or more and 3 or less, and particularly preferably 1 or 2.

식 (1) 중, R2는 유기기이다. 이러한 유기기로는 치환기를 가져도 되는 아릴기 또는 치환기를 가져도 되는 헤테로아릴기가 바람직하다. 치환기를 가져도 되는 아릴기로는 예를 들면, 치환기를 가져도 되는 페닐기를 들 수 있다. 치환기를 가져도 되는 헤테로아릴기로는 예를 들면, 치환기를 가져도 되는 카르바졸일기를 들 수 있다.In Formula (1), R< 2 > is an organic group. As such an organic group, the aryl group which may have a substituent, or the heteroaryl group which may have a substituent is preferable. As an aryl group which may have a substituent, the phenyl group which may have a substituent is mentioned, for example. As the heteroaryl group which may have a substituent, the carbazolyl group which may have a substituent is mentioned, for example.

R2에 있어서, 아릴기, 헤테로아릴기, 페닐기 또는 카르바졸일기가 가져도 되는 치환기는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 아릴기, 헤테로아릴기, 페닐기 또는 카르바졸일기가 탄소 원자 상에 가져도 되는 적합한 치환기의 예로는 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 포화 지방족 아실옥시기, 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 페닐티오기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기, 아미노기, 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 할로겐 원자, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다.In R2 , the substituent which an aryl group, a heteroaryl group, a phenyl group, or a carbazolyl group may have is not specifically limited in the range which does not impair the objective of this invention. Examples of suitable substituents which the aryl group, heteroaryl group, phenyl group or carbazolyl group may have on a carbon atom include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group. , phenyl group which may have a substituent, phenoxy group which may have a substituent, phenylthio group which may have a substituent, benzoyl group which may have a substituent, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, benzoyloxy group which may have a substituent , phenylalkyl group which may have a substituent, naphthyl group which may have a substituent, naphthoxy group which may have a substituent, naphthoyl group which may have a substituent, naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, naph which may have a substituent Toyloxy group, naphthylalkyl group which may have a substituent, heterocyclyl group which may have a substituent, heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, amino group, amino group substituted with 1 or 2 organic groups, morpholin-1-yl group , a piperazin-1-yl group, a halogen atom, a nitro group, and a cyano group.

R2가 헤테로아릴기 또는 카르바졸일기인 경우, 헤테로아릴기가 질소 원자 등의 헤테로원자 상에 가져도 되는 적합한 치환기, 및 카르바졸일기가 질소 원자 상에 가져도 되는 적합한 치환기의 예로는 알킬기, 시클로알킬기, 포화 지방족 아실기, 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기 등을 들 수 있다. 이들 치환기 중에서는 알킬기가 바람직하고, 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기가 보다 바람직하며, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기가 보다 더 바람직하고, 에틸기가 특히 바람직하다.When R 2 is a heteroaryl group or a carbazolyl group, examples of suitable substituents that the heteroaryl group may have on a heteroatom such as a nitrogen atom, and suitable substituents that the carbazolyl group may have on a nitrogen atom include an alkyl group, cyclo An alkyl group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent. have. Among these substituents, an alkyl group is preferable, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is still more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.

아릴기, 헤테로아릴기, 페닐기 또는 카르바졸일기가 가져도 되는 치환기의 구체예에 대해서, 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 포화 지방족 아실옥시기, 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 및 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기에 관해서는 R1에 대해 설명한 것과 동일하다.Specific examples of the substituent which the aryl group, heteroaryl group, phenyl group or carbazolyl group may have include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, and a substituent. The phenylalkyl group which may have, the naphthylalkyl group which may have a substituent, the heterocyclyl group which may have a substituent, and the amino group substituted with 1 or 2 organic groups are the same as those described for R 1 .

상기 치환기에 있어서, 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기 등이 추가로 치환기를 갖는 경우의 치환기에 관하여는 R1에 대해 설명한 것과 동일하다.In the above substituents, the substituents in the case where the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group further have a substituent are the same as those described for R 1 .

R2 중에서는 감광성 조성물이 감도가 뛰어나다는 점에서, 하기 식 (1-1) 또는 (1-2)으로 표시되는 기가 바람직하고, 하기 식 (1-1)로 표시되는 기가 보다 바람직하며, 하기 식 (1-1)로 표시되는 기로서, A가 S인 기가 특히 바람직하다.In R 2 , the group represented by the following formula (1-1) or (1-2) is preferable, and the group represented by the following formula (1-1) is more preferable from the viewpoint that the photosensitive composition has excellent sensitivity, and the following As the group represented by the formula (1-1), a group in which A is S is particularly preferable.

Figure 112017103719171-pat00010
Figure 112017103719171-pat00010

(R4는 1가의 유기기, 아미노기, 할로겐 원자, 니트로기, 및 시아노기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기이고, A는 S 또는 O이며, n는 0 이상 4 이하의 정수이다)(R 4 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, an amino group, a halogen atom, a nitro group, and a cyano group, A is S or O, and n is an integer of 0 or more and 4 or less)

Figure 112017103719171-pat00011
Figure 112017103719171-pat00011

(R5 및 R6는 각각 1가의 유기기이다)(R 5 and R 6 are each a monovalent organic group)

감광성 조성물을 이용해 패턴을 형성하는 경우, 패턴 형성시의 포스트베이크 공정에서의 가열에 의해서, 패턴에 착색이 생기기 쉽다. 그러나, 감광성 조성물에 있어서, 광중합 개시제로서 R2가 상기 식 (1-1)로 표시되는 기로서, A가 S인 기인 식 (1)로 표시되는 옥심에스테르 화합물을 이용하는 경우, 가열에 의한 패턴의 착색을 억제하기 쉽다.When a pattern is formed using a photosensitive composition, it is easy to produce coloring in a pattern by the heating in the post-baking process at the time of pattern formation. However, in the photosensitive composition, when using the oxime ester compound represented by the formula (1) as a photoinitiator, R 2 is a group represented by the formula (1-1), and A is a group of S, the pattern by heating It is easy to suppress coloration.

식 (1-1)에 있어서의 R4가 유기기인 경우, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 여러 가지의 유기기로부터 선택할 수 있다. 식 (1-1)에 있어서 R4가 유기기인 경우의 적합한 예로는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알콕시기;탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실기;탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 알콕시카르보닐기;탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실옥시기;페닐기;나프틸기;벤조일기;나프토일기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기에 의해 치환된 벤조일기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 모노알킬아미노기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 디알킬아미노기;모르폴린-1-일기;피페라진-1-일기;할로겐;니트로기;시아노기를 들 수 있다.When R< 4 > in Formula (1-1) is an organic group, it can select from various organic groups within the range which does not impair the objective of this invention. Suitable examples of when R 4 in the formula (1-1) is an organic group include an alkyl group having 1 or more and 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 or more and 6 carbon atoms; a saturated aliphatic group having 2 or more and 7 or less carbon atoms. Actual group; Alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; Saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; Phenyl group; Naphthyl group; Benzoyl group; Naphthoyl group; An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, Mor A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of a polyin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; a dialkylamino group having an alkyl group of; morpholin-1-yl group; piperazin-1-yl group; halogen; nitro group; and cyano group.

R4 중에서는 벤조일기;나프토일기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기에 의해 치환된 벤조일기;니트로기가 바람직하고, 벤조일기;나프토일기;2-메틸페닐카르보닐기;4-(피페라진-1-일)페닐카르보닐기;4-(페닐)페닐카르보닐기가 보다 바람직하다.In R 4 , a benzoyl group; a naphthoyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of a phenyl group; A nitro group is preferable, and a benzoyl group; naphthoyl group; 2-methylphenylcarbonyl group; 4-(piperazin-1-yl)phenylcarbonyl group; 4-(phenyl)phenylcarbonyl group is more preferable.

또, 식 (1-1)에 있어서, n는 0 이상 3 이하의 정수가 바람직하고, 0 이상 2 이하의 정수가 보다 바람직하며, 0 또는 1인 것이 특히 바람직하다. n가 1인 경우, R4의 결합하는 위치는 R4가 결합하는 페닐기가 원자 A와 결합하는 결합손에 대해서, 파라 위치인 것이 바람직하다.Moreover, in Formula (1-1), the integer of 0 or more and 3 or less is preferable, as for n, the integer of 0 or more and 2 or less is more preferable, It is especially preferable that it is 0 or 1. When n is 1, it is preferable that the bonding position of R 4 is para to the hand to which the phenyl group to which R 4 is bonded is bonded to the atom A.

식 (1-2)에 있어서의 R5는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 여러 가지의 유기기로부터 선택할 수 있다. R5의 적합한 예로는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기, 탄소 원자 수 3 이상 10 이하의 시클로알킬기, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하의 알콕시알킬기, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하의 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 7 이상 20 이하의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 11 이상 20 이하의 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기 등을 들 수 있다.R< 5 > in Formula (1-2) can be selected from various organic groups in the range which does not impair the objective of this invention. Suitable examples of R 5 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, and an alkoxyalkyl group having 2 to 20 carbon atoms. , an alkoxycarbonyl group having 2 or more and 20 or less carbon atoms, an optionally substituted phenyl group, an optionally substituted benzoyl group, optionally substituted phenoxycarbonyl group, optionally having 7 or more carbon atoms and 20 or less phenyl An alkyl group, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 or more and 20 or less carbon atoms which may have a substituent, which may have a substituent A heterocyclyl group, the heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, etc. are mentioned.

R5 중에서는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기 및 탄소 원자 수 2 이상 20 이하의 알콕시알킬기가 바람직하고, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기 및 탄소 원자 수 2 이상 6 이하의 알콕시알킬기가 보다 바람직하며, 에틸기 및 에톡시에틸기가 특히 바람직하다.In R 5 , an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an alkoxyalkyl group having 2 to 20 carbon atoms are preferable, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkoxyalkyl group having 2 to 6 carbon atoms are more ethyl group and ethoxyethyl group are particularly preferred.

식 (1-2)에 있어서의 R6는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지의 유기기로부터 선택할 수 있다. R6로서 적합한 기의 구체예로는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기를 들 수 있다. R6로서 이들 기 중에서는 치환기를 가져도 되는 페닐기 및 치환기를 가져도 되는 티에닐기가 보다 바람직하고, 2-메틸페닐기 및 티에닐기가 특히 바람직하다.R< 6 > in Formula (1-2) is not specifically limited in the range which does not impair the objective of this invention, It can select from various organic groups. Specific examples of the group suitable as R 6 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted phenyl group, an optionally substituted naphthyl group, and an optionally substituted heterocyclyl group. Among these groups as R 6 , a phenyl group which may have a substituent and a thienyl group which may have a substituent are more preferable, and a 2-methylphenyl group and a thienyl group are particularly preferable.

R4, R5 또는 R6에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 갖는 경우의 치환기로는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알콕시기, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실옥시기, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 모노알킬아미노기, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 디알킬아미노기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다. R4, R5 또는 R6에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 갖는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1 이상 4 이하가 바람직하다. R4, R5 또는 R6에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기가 복수의 치환기를 갖는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in R 4 , R 5 or R 6 further have a substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. group, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms a monoalkylamino group, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in R 4 , R 5 or R 6 further have a substituent, the number of the substituent is not limited within a range that does not impair the object of the present invention, but 1 or more 4 The following are preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 4 , R 5 or R 6 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

식 (1) 중, R3는 유기기이다. 유기기로는 특별히 한정되지 않지만, 알킬기, 아릴기가 바람직하다. 알킬기로는 탄소 원자 수 1 이상 11 이하의 알킬기가 바람직하다. 아릴기로는 치환기를 가져도 되는 페닐기이다. 치환기를 가져도 되는 페닐기에서의 치환기는 R1에 대해 설명한 치환기와 동일하다.In Formula (1), R 3 is an organic group. Although it does not specifically limit as an organic group, An alkyl group and an aryl group are preferable. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 or more and 11 or less carbon atoms. The aryl group is a phenyl group which may have a substituent. The substituent in the phenyl group which may have a substituent is the same as the substituent demonstrated for R< 1 >.

R3로는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기 및 페닐기가 보다 바람직하고, 메틸기, 에틸기 및 페닐기가 특히 바람직하며, 메틸기 및 에틸기가 가장 바람직하다.As R 3 , an alkyl group and phenyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms are more preferable, a methyl group, an ethyl group and a phenyl group are particularly preferable, and a methyl group and an ethyl group are most preferable.

이상 설명한, 식 (1)로 표시되는 옥심에스테르 화합물의 적합한 구체예로는 이하의 화합물을 들 수 있다. The following compounds are mentioned as a suitable specific example of the oxime ester compound represented by Formula (1) demonstrated above.

Figure 112017103719171-pat00012
Figure 112017103719171-pat00012

식 (1)로 표시되는 화합물로는, 하기 식 (c1)로 표시되는 옥심에스테르 화합물을 이용하는 것도 바람직하다.As a compound represented by Formula (1), it is also preferable to use the oxime ester compound represented by following formula (c1).

Figure 112017103719171-pat00013
Figure 112017103719171-pat00013

(Rc1는 1가의 유기기, 아미노기, 할로겐, 니트로기 및 시아노기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기이고, (R c1 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, an amino group, a halogen, a nitro group and a cyano group,

n1는 0 이상 4 이하의 정수이며,n1 is an integer of 0 or more and 4 or less,

n2는 0 또는 1이고,n2 is 0 or 1,

Rc2는 치환기를 가져도 되는 페닐기 또는 치환기를 가져도 되는 카르바졸일기이며,R c2 is a phenyl group which may have a substituent or a carbazolyl group which may have a substituent,

Rc3는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기이다)R c3 is an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms)

식 (c1) 중, Rc1는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지의 유기기로부터 적절히 선택된다. Rc1가 유기기인 경우의 적합한 예로는 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 포화 지방족 아실옥시기, 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 아미노기, 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 및 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다. n1가 2 이상 4 이하의 정수인 경우, Rc1는 동일해도 상이해도 된다. 또, 치환기의 탄소 원자 수에는 치환기가 추가로 갖는 치환기의 탄소 원자 수를 포함하지 않는다.In formula (c1), R c1 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and is appropriately selected from various organic groups. Suitable examples when R c1 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an optionally substituted phenyl group, and an optionally substituted phenoxy group. , benzoyl group which may have a substituent, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, benzoyloxy group which may have a substituent, phenylalkyl group which may have a substituent, naphthyl group which may have a substituent, naphthoxy which may have a substituent A group, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, an amino group, and an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, and a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When n1 is an integer of 2 or more and 4 or less, R c1 may be the same or different. In addition, the carbon atom number of the substituent which a substituent further has is not included in the carbon atom number of a substituent.

Rc1가 알킬기인 경우, 탄소 원자 수 1 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. 또, Rc1가 알킬기인 경우, 직쇄여도 분기쇄여도 된다. Rc1가 알킬기인 경우의 구체예로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 및 이소데실기 등을 들 수 있다. 또, Rc1가 알킬기인 경우, 알킬기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 갖는 알킬기의 예로는 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기, 및 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.When R c1 is an alkyl group, 1 or more and 20 or less carbon atoms are preferable, and 1 or more and 6 or less carbon atoms are more preferable. Moreover, when R c1 is an alkyl group, linear or branched may be sufficient as it. Specific examples when R c1 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, and an isopene tyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, n - A decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. Moreover, when R c1 is an alkyl group, the alkyl group may contain an ether bond (-O-) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

Rc1가 알콕시기인 경우, 탄소 원자 수 1 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. 또, Rc1가 알콕시기인 경우, 직쇄여도 분기쇄여도 된다. Rc1가 알콕시기인 경우의 구체예로는 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부틸옥시기, 이소부틸옥시기, sec-부틸옥시기, tert-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, sec-펜틸옥시기, tert-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 이소옥틸옥시기, sec-옥틸옥시기, tert-옥틸옥시기, n-노닐옥시기, 이소노닐옥시기, n-데실옥시기, 및 이소데실옥시기 등을 들 수 있다. 또, Rc1가 알콕시기인 경우, 알콕시기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 갖는 알콕시기의 예로는 메톡시에톡시기, 에톡시에톡시기, 메톡시에톡시에톡시기, 에톡시에톡시에톡시기, 프로필옥시에톡시에톡시기, 및 메톡시프로필옥시기 등을 들 수 있다.When R c1 is an alkoxy group, 1 or more and 20 or less carbon atoms are preferable, and 1 or more and 6 or less carbon atoms are more preferable. Moreover, when R c1 is an alkoxy group, linear or branched may be sufficient as it. Specific examples when R c1 is an alkoxy group include a methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group , n-pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group group, tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, isodecyloxy group, and the like. Moreover, when R c1 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain an ether bond (-O-) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a meth Toxypropyloxy group, etc. are mentioned.

Rc1가 시클로알킬기 또는 시클로알콕시기인 경우, 탄소 원자 수 3 이상 10 이하가 바람직하고, 탄소 원자 수 3 이상 6 이하가 보다 바람직하다. Rc1가 시클로알킬기인 경우의 구체예로는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 및 시클로옥틸기 등을 들 수 있다. Rc1가 시클로알콕시기인 경우의 구체예로는 시클로프로필옥시기, 시클로부틸옥시기, 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기, 시클로헵틸옥시기, 및 시클로옥틸옥시기 등을 들 수 있다.When R c1 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3 or more and 10 or less carbon atoms are preferable, and 3 or more and 6 or less are more preferable. Specific examples when R c1 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples when R c1 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

Rc1가 포화 지방족 아실기 또는 포화 지방족 아실옥시기인 경우, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하가 보다 바람직하다. Rc1가 포화 지방족 아실기인 경우의 구체예로는 아세틸기, 프로파노일기, n-부타노일기, 2-메틸프로파노일기, n-펜타노일기, 2,2-디메틸프로파노일기, n-헥사노일기, n-헵타노일기, n-옥타노일기, n-노나노일기, n-데카노일기, n-운데카노일기, n-도데카노일기, n-트리데카노일기, n-테트라데카노일기, n-펜타데카노일기, 및 n-헥사데카노일기 등을 들 수 있다. Rc1가 포화 지방족 아실옥시기인 경우의 구체예로는 아세틸옥시기, 프로파노일옥시기, n-부타노일옥시기, 2-메틸프로파노일옥시기, n-펜타노일옥시기, 2,2-디메틸프로파노일옥시기, n-헥사노일옥시기, n-헵타노일옥시기, n-옥타노일옥시기, n-노나노일옥시기, n-데카노일옥시기, n-운데카노일옥시기, n-도데카노일옥시기, n-트리데카노일옥시기, n-테트라데카노일옥시기, n-펜타데카노일옥시기, 및 n-헥사데카노일옥시기 등을 들 수 있다.When R c1 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, 2 or more and 20 or less carbon atoms are preferable, and 2 or more and 7 or less carbon atoms are more preferable. Specific examples when R c1 is a saturated aliphatic acyl group include an acetyl group, a propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n-hexanoyl group , n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n -pentadecanoyl group, n-hexadecanoyl group, etc. are mentioned. Specific examples when R c1 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2,2-dimethylpropano group yloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n-dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group, etc. are mentioned.

Rc1가 알콕시카르보닐기인 경우, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하가 보다 바람직하다. Rc1가 알콕시카르보닐기인 경우의 구체예로는 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, n-프로필옥시카르보닐기, 이소프로필옥시카르보닐기, n-부틸옥시카르보닐기, 이소부틸옥시카르보닐기, sec-부틸옥시카르보닐기, tert-부틸옥시카르보닐기, n-펜틸옥시카르보닐기, 이소펜틸옥시카르보닐기, sec-펜틸옥시카르보닐기, tert-펜틸옥시카르보닐기, n-헥실옥시카르보닐기, n-헵틸옥시카르보닐기, n-옥틸옥시카르보닐기, 이소옥틸옥시카르보닐기, sec-옥틸옥시르카르보닐기, tert-옥틸옥시카르보닐기, n-노닐옥시카르보닐기, 이소노닐옥시카르보닐기, n-데실옥시카르보닐기, 및 이소데실옥시카르보닐기 등을 들 수 있다.When R c1 is an alkoxycarbonyl group, 2 or more and 20 or less carbon atoms are preferable, and 2 or more and 7 or less carbon atoms are more preferable. Specific examples when R c1 is an alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyloxycarbonyl group, tert- butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, and sec-octyloxyrcarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, and isodecyloxycarbonyl group.

Rc1가 페닐알킬기인 경우, 탄소 원자 수 7 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자 수 7 이상 10 이하가 보다 바람직하다. 또 Rc1가 나프틸알킬기인 경우, 탄소 원자 수 11 이상 20 이하가 바람직하고, 탄소 원자 수 11 이상 14 이하가 보다 바람직하다. Rc1가 페닐알킬기인 경우의 구체예로는 벤질기, 2-페닐에틸기, 3-페닐프로필기, 및 4-페닐부틸기를 들 수 있다. Rc1가 나프틸알킬기인 경우의 구체예로는 α-나프틸메틸기, β-나프틸메틸기, 2-(α-나프틸)에틸기, 및 2-(β-나프틸)에틸기를 들 수 있다. Rc1가 페닐알킬기 또는 나프틸알킬기인 경우, Rc1는 페닐기 또는 나프틸기 상에 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R c1 is a phenylalkyl group, 7 or more and 20 or less carbon atoms are preferable, and 7 or more and 10 or less carbon atoms are more preferable. Moreover, when R c1 is a naphthylalkyl group, 11 or more and 20 or less carbon atoms are preferable, and 11 or more and 14 or less carbon atoms are more preferable. Specific examples when R c1 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples when R c1 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2-(α-naphthyl)ethyl group, and a 2-(β-naphthyl)ethyl group. When R c1 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R c1 may further have a substituent on the phenyl group or the naphthyl group.

Rc1가 헤테로시클릴기인 경우, 헤테로시클릴기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이거나, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 헤테로시클릴기이다. 헤테로시클릴기가 축합환인 경우는 축합하는 고리 수는 3까지로 한다. 이러한 헤테로시클릴기를 구성하는 복소환으로는 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 신놀린, 및 퀴녹살린 등을 들 수 있다. Rc1가 헤테로시클릴기인 경우, 헤테로시클릴기는 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R c1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocyclic ring containing one or more N, S, and O, or a heterocyclyl group obtained by condensing such monocyclic rings or such a monocyclic ring and a benzene ring. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the number of rings to be condensed is set to up to three. Heterocycles constituting such a heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyridine. Midin, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzoimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, pr talazine, cinnoline, and quinoxaline; and the like. When R c1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

Rc1가 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기인 경우, 유기기의 적합한 예는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기, 탄소 원자 수 3 이상 10 이하의 시클로알킬기, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하의 포화 지방족 아실기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 7 이상 20 이하의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 11 이상 20 이하의 나프틸알킬기, 및 헤테로시클릴기 등을 들 수 있다. 이들 적합한 유기기의 구체예는 Rc1와 동일하다. 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기의 구체예로는 메틸아미노기, 에틸아미노기, 디에틸아미노기, n-프로필아미노기, 디-n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 디-n-부틸아미노기, n-펜틸아미노기, n-헥실아미노기, n-헵틸아미노기, n-옥틸아미노기, n-노닐아미노기, n-데실아미노기, 페닐아미노기, 나프틸아미노기, 아세틸아미노기, 프로파노일아미노기, n-부타노일아미노기, n-펜타노일아미노기, n-헥사노일아미노기, n-헵타노일아미노기, n-옥타노일아미노기, n-데카노일아미노기, 벤조일아미노기, α-나프토일아미노기, 및 β-나프토일아미노기 등을 들 수 있다.When R c1 is an amino group substituted with an organic group of 1 or 2, suitable examples of the organic group include an alkyl group having 1 or more and 20 or less carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 or more and 10 or less carbon atoms, and 2 or more and 20 or less carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 or more and 20 or less carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, naph which may have a substituent A toyl group, a C11 or more and 20 or less naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group, etc. are mentioned. Specific examples of these suitable organic groups are the same as R c1 . Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n-butylamino group, di-n-butyl Amino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-buta noylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n-decanoylamino group, benzoylamino group, α-naphthoylamino group, and β-naphthoylamino group, etc. can be heard

Rc1에 포함되는 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 갖는 경우의 치환기로는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알콕시기, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실옥시기, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 모노알킬아미노기, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 디알킬아미노기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다. Rc1에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 갖는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1 이상 4 이하가 바람직하다. Rc1에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기가 복수의 치환기를 갖는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.When the phenyl group, naphthyl group and heterocyclyl group included in R c1 further have a substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and 2 or more carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group of 7 or less, an alkoxycarbonyl group of 2 or more and 7 or less, a saturated aliphatic acyloxy group of 2 or more and 7 or less of carbon atoms, a monoalkylamino group having an alkyl group of 1 or more and 6 or less of carbon atoms, a carbon atom and a dialkylamino group, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group having 1 or more and 6 or less alkyl groups. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c1 further have a substituent, the number of the substituents is not limited within a range that does not impair the object of the present invention, but preferably 1 or more and 4 or less. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c1 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

Rc1 중에서는 화학적으로 안정하다는 점이나, 입체적인 장해가 적고, 옥심에스테르 화합물의 합성이 용이하다는 점 등에서, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알콕시기, 및 탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기가 바람직하고, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬이 보다 바람직하며, 메틸기가 특히 바람직하다.In R c1 , in terms of chemical stability, little steric hindrance, and easy synthesis of the oxime ester compound, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and carbon A group selected from the group consisting of saturated aliphatic acyl groups having 2 to 7 atoms is preferable, alkyl having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and a methyl group is particularly preferable.

Rc1가 페닐기에 결합하는 위치는, Rc1가 결합하는 페닐기에 대해서, 페닐기와 옥심에스테르 화합물의 주골격과의 결합손의 위치를 1위로 하고, 메틸기의 위치를 2위로 하는 경우에, 4위 또는 5위가 바람직하고, 5위가 보다 바람직하다. 또, n1는 0 이상 3 이하의 정수가 바람직하고, 0 이상 2 이하의 정수가 보다 바람직하며, 0 또는 1이 특히 바람직하다.The position at which R c1 is bonded to the phenyl group is 4th when the position of the bond between the phenyl group and the main backbone of the oxime ester compound is the 1st position and the methyl group is 2nd position with respect to the phenyl group to which R c1 is bonded. Or 5th place is preferable and 5th place is more preferable. Moreover, the integer of 0 or more and 3 or less is preferable, as for n1, the integer of 0 or more and 2 or less is more preferable, 0 or 1 is especially preferable.

Rc2는 치환기를 가져도 되는 페닐기 또는 치환기를 가져도 되는 카르바졸일기이다. 또, Rc2가 치환기를 가져도 되는 카르바졸일기인 경우, 카르바졸일기 상의 질소 원자는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기로 치환되어 있어도 된다.R c2 is a phenyl group which may have a substituent or a carbazolyl group which may have a substituent. Moreover, when R<c2> is the carbazolyl group which may have a substituent, the nitrogen atom on the carbazolyl group may be substituted by the C1-C6 alkyl group.

Rc2에 있어서, 페닐기 또는 카르바졸일기가 갖는 치환기는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 페닐기 또는 카르바졸일기가 탄소 원자 상에 가져도 되는 적합한 치환기의 예로는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기, 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알콕시기, 탄소 원자 수 3 이상 10 이하의 시클로알킬기, 탄소 원자 수 3 이상 10 이하의 시클로알콕시기, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하의 포화 지방족 아실옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 페닐티오기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 7 이상 20 이하의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 11 이상 20 이하의 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기, 아미노기, 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 및 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다.In R c2 , the substituent included in the phenyl group or the carbazolyl group is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of suitable substituents that the phenyl group or carbazolyl group may have on a carbon atom include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, A cycloalkoxy group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, The phenyl group which may have a substituent, the phenoxy group which may have a substituent, the phenylthio group which may have a substituent, the benzoyl group which may have a substituent, the phenoxycarbonyl group which may have a substituent, the benzoyloxy group which may have a substituent, A phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent , naphthoyloxy group which may have a substituent, naphthylalkyl group having 11 or more and 20 or less carbon atoms which may have a substituent, heterocyclyl group which may have a substituent, heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, amino group, 1 or an amino group substituted with an organic group of 2, a morpholin-1-yl group, and a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group.

Rc2가 카르바졸일기인 경우, 카르바졸일기가 질소 원자 상에 가져도 되는 적합한 치환기의 예로는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기, 탄소 원자 수 3 이상 10 이하의 시클로알킬기, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하의 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 7 이상 20 이하의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 11 이상 20 이하의 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기 등을 들 수 있다. 이들 치환기 중에서는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기가 바람직하고, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기가 보다 바람직하며, 에틸기가 특히 바람직하다.When R c2 is a carbazolyl group, examples of suitable substituents that the carbazolyl group may have on the nitrogen atom include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and 2 carbon atoms. Saturated aliphatic acyl group with 20 or more, alkoxycarbonyl group with 2 or more and 20 or less carbon atoms, phenyl group which may have a substituent, benzoyl group which may have a substituent, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, carbon which may have a substituent A phenylalkyl group having 7 to 20 atoms, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphtha having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent A tylalkyl group, the heterocyclyl group which may have a substituent, the heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, etc. are mentioned. Among these substituents, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.

페닐기 또는 카르바졸일기가 가져도 되는 치환기의 구체예에 대해서, 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 알콕시카르보닐기, 포화 지방족 아실옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 및 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기에 관해서는 Rc1와 동일하다.For specific examples of the substituent which the phenyl group or carbazolyl group may have, an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, a phenylalkyl group which may have a substituent; The naphthylalkyl group which may have a substituent, the heterocyclyl group which may have a substituent, and the amino group substituted with 1 or 2 organic groups are the same as that of R c1 .

Rc2에 있어서, 페닐기 또는 카르바졸일기가 갖는 치환기에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 갖는 경우의 치환기의 예로는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알콕시기;탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실기;탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 알콕시카르보닐기;탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실옥시기;페닐기;나프틸기;벤조일기;나프토일기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기에 의해 치환된 벤조일기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 모노알킬아미노기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 디알킬아미노기;모르폴린-1-일기;피페라진-1-일기;할로겐;니트로기;시아노기를 들 수 있다. 페닐기 또는 카르바졸일기가 갖는 치환기에 포함되는 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 갖는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1 이상 4 이하가 바람직하다. 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 복수의 치환기를 갖는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.In R c2 , examples of the substituent when the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in the substituent of the phenyl group or the carbazolyl group have a further substituent include an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms; 1 to 6 alkoxy group; Saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; Alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; Saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; phenyl group; naphthyl group ; Benzoyl group; Naphthoyl group; A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; A monoalkylamino group having an alkyl group of 1 or more and 6 or less; a dialkylamino group having an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms; a morpholin-1-yl group; a piperazin-1-yl group; a halogen; a nitro group; a cyano group. can When the phenyl group, naphthyl group and heterocyclyl group contained in the substituent of the phenyl group or the carbazolyl group have additional substituents, the number of the substituents is not limited in the range that does not impair the object of the present invention, but 1 or more and 4 or less is preferable When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

Rc2 중에서는 감도가 뛰어난 광중합 개시제를 얻기 쉽다는 점에서, 하기 식 (c2) 또는 (c3)으로 표시되는 기가 바람직하고, 하기 식 (c2)로 표시되는 기가 보다 바람직하며, 하기 식 (c2)로 표시되는 기로서, A가 S인 기가 특히 바람직하다.Among R c2 , the group represented by the following formula (c2) or (c3) is preferable, and the group represented by the following formula (c2) is more preferable from the viewpoint of easy to obtain a photopolymerization initiator having excellent sensitivity, and the group represented by the following formula (c2) is more preferable, the following formula (c2) As the group represented by , a group in which A is S is particularly preferred.

Figure 112017103719171-pat00014
Figure 112017103719171-pat00014

(Rc4는 1가의 유기기, 아미노기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기이고, A는 S 또는 O이며, n3는 0 이상 4 이하의 정수이다)(R c4 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, an amino group, a halogen, a nitro group, and a cyano group, A is S or O, and n3 is an integer of 0 or more and 4 or less)

Figure 112017103719171-pat00015
Figure 112017103719171-pat00015

(Rc5 및 Rc6는 각각 1가의 유기기이다)(R c5 and R c6 are each a monovalent organic group)

식 (c2)에 있어서의 Rc4가 유기기인 경우, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 여러 가지의 유기기로부터 선택할 수 있다. 식 (c2)에 있어서 Rc4가 유기기인 경우의 적합한 예로는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알콕시기;탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실기;탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 알콕시카르보닐기;탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실옥시기;페닐기;나프틸기;벤조일기;나프토일기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기에 의해 치환된 벤조일기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 모노알킬아미노기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 디알킬아미노기;모르폴린-1-일기;피페라진-1-일기;할로겐;니트로기;시아노기를 들 수 있다.When R c4 in Formula (c2) is an organic group, it can select from various organic groups within the range which does not impair the objective of this invention. Suitable examples when R c4 is an organic group in formula (c2) include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; Alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; Saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; phenyl group; naphthyl group; benzoyl group; naphthoyl group; alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, morpholine- A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of a 1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms a dialkylamino group having; morpholin-1-yl group; piperazin-1-yl group; halogen; nitro group; and cyano group.

Rc4 중에서는 벤조일기;나프토일기;탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 기에 의해 치환된 벤조일기;니트로기가 바람직하고, 벤조일기;나프토일기;2-메틸페닐카르보닐기;4-(피페라진-1-일)페닐카르보닐기;4-(페닐)페닐카르보닐기가 보다 바람직하다.Among R c4 , a benzoyl group; a naphthoyl group; a benzoyl group substituted with a group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group; A nitro group is preferable, and a benzoyl group; naphthoyl group; 2-methylphenylcarbonyl group; 4-(piperazin-1-yl)phenylcarbonyl group; 4-(phenyl)phenylcarbonyl group is more preferable.

또, 식 (c2)에 있어서, n3는 0 이상 3 이하의 정수가 바람직하고, 0 이상 2 이하의 정수가 보다 바람직하며, 0 또는 1인 것이 특히 바람직하다. n3가 1인 경우, Rc4의 결합하는 위치는 Rc4가 결합하는 페닐기가 산소 원자 또는 유황 원자와 결합하는 결합손에 대해서, 파라 위치인 것이 바람직하다.Moreover, in Formula (c2), the integer of 0 or more and 3 or less is preferable, as for n3, the integer of 0 or more and 2 or less is more preferable, It is especially preferable that it is 0 or 1. When n3 is 1, it is preferable that the bonding position of R c4 is para to the hand at which the phenyl group to which R c4 is bonded is bonded to an oxygen atom or a sulfur atom.

식 (c3)에 있어서의 Rc5는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 여러 가지의 유기기로부터 선택할 수 있다. Rc5의 적합한 예로는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기, 탄소 원자 수 3 이상 10 이하의 시클로알킬기, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하의 알콕시알킬기, 탄소 원자 수 2 이상 20 이하의 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 7 이상 20 이하의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 11 이상 20 이하의 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기 등을 들 수 있다.R c5 in formula (c3) can be selected from various organic groups in the range which does not impair the objective of this invention. Suitable examples of R c5 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, and an alkoxyalkyl group having 2 to 20 carbon atoms. , an alkoxycarbonyl group having 2 or more and 20 or less carbon atoms, an optionally substituted phenyl group, an optionally substituted benzoyl group, optionally substituted phenoxycarbonyl group, optionally having 7 or more carbon atoms and 20 or less phenyl An alkyl group, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 or more and 20 or less carbon atoms which may have a substituent, which may have a substituent A heterocyclyl group, the heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, etc. are mentioned.

Rc5 중에서는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기 또는 탄소 원자 수 2 이상 20 이하의 알콕시알킬기가 바람직하고, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기 또는 탄소 원자 수 2 이상 6 이하의 알콕시알킬기가 보다 바람직하고, 에틸기 또는 에톡시에틸기가 특히 바람직하다.In R c5 , an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an alkoxyalkyl group having 2 to 20 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxyalkyl group having 2 to 6 carbon atoms is more preferred, and particularly preferred is an ethyl group or an ethoxyethyl group.

식 (c3)에 있어서의 Rc6는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지의 유기기로부터 선택할 수 있다. Rc6로서 적합한 기의 구체예로는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기를 들 수 있다. Rc6로서 이들 기 중에서는 치환기를 가져도 되는 페닐기 또는 치환기를 가져도 되는 티에닐기가 보다 바람직하고, 2-메틸페닐기 또는 티에닐기가 특히 바람직하다.R c6 in formula (c3) is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and can be selected from various organic groups. Specific examples of the group suitable as R c6 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted phenyl group, an optionally substituted naphthyl group, and an optionally substituted heterocyclyl group. Among these groups as R c6 , an optionally substituted phenyl group or optionally substituted thienyl group is more preferable, and a 2-methylphenyl group or a thienyl group is particularly preferable.

Rc4, Rc5 또는 Rc6에 포함되는 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 갖는 경우의 치환기로는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알콕시기, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실옥시기, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 모노알킬아미노기, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 디알킬아미노기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다. Rc4, Rc5 또는 Rc6에 포함되는 페닐기, 나프틸기, 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 갖는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1 이상 4 이하가 바람직하다. Rc4, Rc5 또는 Rc6에 포함되는 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 복수의 치환기를 갖는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c4 , R c5 or R c6 have a further substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, and an alkoxy group having 1 or more and 6 or less carbon atoms. , a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms monoalkylamino group, dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, morpholin-1-yl group, piperazin-1-yl group, halogen, nitro group, and cyano group. When the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in R c4 , R c5 or R c6 further have a substituent, the number of the substituent is not limited within a range that does not impair the object of the present invention, but 1 or more 4 The following are preferable. When the phenyl group, naphthyl group and heterocyclyl group contained in R c4 , R c5 or R c6 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

식 (c1)에 있어서의 Rc3는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기이다. Rc3로는 메틸기 또는 에틸기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.R c3 in the formula (c1) is an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms. As R c3 , a methyl group or an ethyl group is preferable, and a methyl group is more preferable.

식 (c1)로 표시되는 옥심에스테르 화합물은 p가 0인 경우, 예를 들면, 하기 도식 1에 따라서 합성할 수 있다. 구체적으로는 하기 식 (c1-1)로 표시되는 방향족 화합물을, 하기 식 (c1-2)로 표시되는 할로카르보닐 화합물을 이용해 프리델 크래프츠 반응에 의해 아실화하여 하기 식 (c1-3)로 표시되는 케톤 화합물을 얻고, 얻어진 케톤 화합물(c1-3)을 히드록실 아민에 의해 옥심화해 하기 식 (c1-4)로 표시되는 옥심 화합물을 얻고, 그 다음에 식 (c1-4)의 옥심 화합물 중의 히드록시기를 아실화하여 하기 식 (c1-7)로 표시되는 옥심에스테르 화합물을 얻을 수 있다. 아실화제로는 하기 식 (c1-5)로 표시되는 산 무수물((Rc3CO)2O) 또는 하기 식 (c1-6)로 표시되는 산 할라이드(Rc3COHal, Hal는 할로겐)를 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 하기 식 (c1-2)에 있어서, Hal는 할로겐이며, 하기 식 (c1-1), (c1-2), (c1-3), (c1-4) 및 (c1-7)에 있어서, Rc1, Rc2, Rc3 및 n1는 식 (c1)과 동일하다.When p is 0, the oxime ester compound represented by Formula (c1) can be synthesize|combined according to the following Scheme 1, for example. Specifically, an aromatic compound represented by the following formula (c1-1) is acylated by a Friedel-Crafts reaction using a halocarbonyl compound represented by the following formula (c1-2) to obtain the following formula (c1-3) The ketone compound represented is obtained, and the obtained ketone compound (c1-3) is oximeated with hydroxyl amine to obtain an oxime compound represented by the following formula (c1-4), and then the oxime compound of the formula (c1-4) By acylating the hydroxyl group in it, the oxime ester compound represented by following formula (c1-7) can be obtained. As the acylating agent, an acid anhydride ((R c3 CO) 2 O) represented by the following formula (c1-5) or an acid halide (R c3 COHal, Hal is a halogen) represented by the following formula (c1-6) is used. desirable. In addition, in the following formula (c1-2), Hal is halogen, and in the following formulas (c1-1), (c1-2), (c1-3), (c1-4) and (c1-7) , R c1 , R c2 , R c3 and n1 are the same as in formula (c1).

<도식 1><Scheme 1>

Figure 112017103719171-pat00016
Figure 112017103719171-pat00016

식 (c1)로 표시되는 옥심에스테르 화합물은 n2가 1인 경우, 예를 들면, 하기 도식 2에 따라서 합성할 수 있다. 구체적으로는 하기 식 (c2-1)로 표시되는 케톤 화합물에 염산의 존재하에 하기 식 (c2-2)로 표시되는 아초산 에스테르(RONO, R는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기)를 반응시켜 하기 식 (c2-3)로 표시되는 케토 옥심 화합물을 얻고, 그 다음에 하기 식 (c2-3)로 표시되는 케토옥심 화합물 중의 히드록시기를 아실화하여 하기 식 (c2-6)로 표시되는 옥심에스테르 화합물을 얻을 수 있다. 아실화제로는 하기 식 (c2-4)로 표시되는 산 무수물((Rc3CO)2O) 또는 하기 식 (c2-5)로 표시되는 산 할라이드(Rc3COHal, Hal는 할로겐)를 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 하기 식 (c2-1), (c2-3), (c2-4), (c2-5) 및 (c2-6)에 있어서, Rc1, Rc2, Rc3 및 n1는 식 (c1)과 동일하다.When n2 is 1, the oxime ester compound represented by Formula (c1) can be synthesize|combined according to the following Scheme 2, for example. Specifically, a nitrite ester represented by the following formula (c2-2) (RONO, R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) is reacted with a ketone compound represented by the following formula (c2-1) in the presence of hydrochloric acid to obtain a keto oxime compound represented by the following formula (c2-3), followed by acylation of a hydroxyl group in the keto oxime compound represented by the following formula (c2-3) to an oxime represented by the following formula (c2-6) An ester compound can be obtained. As the acylating agent, an acid anhydride ((R c3 CO) 2 O) represented by the following formula (c2-4) or an acid halide (R c3 COHal, Hal is a halogen) represented by the following formula (c2-5) is used. desirable. In addition, in the following formulas (c2-1), (c2-3), (c2-4), (c2-5) and (c2-6), R c1 , R c2 , R c3 and n1 represent the formula (c1 ) is the same as

<도식 2><Scheme 2>

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또, 식 (c1)로 표시되는 옥심에스테르 화합물은 n2가 1이며, Rc1가 메틸기로서, Rc1가 결합하는 벤젠환에 결합하는 메틸기에 대하여, Rc1가 파라 위치에 결합하는 경우, 예를 들면, 하기 식 (c2-7)로 표시되는 화합물을 도식 1과 동일한 방법으로 옥심화 및 아실화함으로써 합성할 수도 있다. 또한, 하기 식 (c2-7)에 있어서, Rc2는 식 (c1)과 동일하다.Further, in the oxime ester compound represented by formula (c1), when n2 is 1, R c1 is a methyl group, and R c1 is para to the methyl group bonded to the benzene ring to which R c1 is bonded, for example, For example, the compound represented by the following formula (c2-7) can also be synthesized by oximation and acylation in the same manner as in Scheme 1. In addition, in the following formula (c2-7), R c2 is the same as that of the formula (c1).

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식 (c1)로 표시되는 옥심에스테르 화합물 중에서도 특히 적합한 화합물로는 하기의 PI-1 ~ PI-42를 들 수 있다.The following PI-1 to PI-42 are mentioned as a compound especially suitable among the oxime ester compounds represented by Formula (c1).

Figure 112017103719171-pat00019
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Figure 112017103719171-pat00024
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또, 하기 식 (c4)로 표시되는 옥심에스테르 화합물도 광중합 개시제로서 바람직하다.Moreover, the oxime ester compound represented by following formula (c4) is also preferable as a photoinitiator.

Figure 112017103719171-pat00025
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(Rc7는 수소 원자, 니트로기 또는 1가의 유기기이고, Rc8 및 Rc9는 각각 치환기를 가져도 되는 쇄상 알킬기, 치환기를 가져도 되는 환상 유기기 또는 수소 원자이며, Rc8와 Rc9는 서로 결합해 고리를 형성해도 되고, Rc10는 1가의 유기기이며, Rc11는 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 1 이상 11 이하의 알킬기 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기이고, n4는 0 이상 4 이하의 정수이며, n5는 0또는 1이다)(R c7 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group, R c8 and R c9 are each a chain alkyl group optionally having a substituent, a cyclic organic group optionally having a substituent, or a hydrogen atom, R c8 and R c9 are may combine with each other to form a ring, R c10 is a monovalent organic group, R c11 is an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent, and n4 is 0 to 4 Integer below, n5 is 0 or 1)

여기서, 식 (c4)의 옥심에스테르 화합물을 제조하기 위한 옥심 화합물로는 하식 (c5)로 표시되는 화합물이 적합하다.Here, as an oxime compound for manufacturing the oxime ester compound of Formula (c4), the compound represented by following formula (c5) is suitable.

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(Rc7, Rc8, Rc9, Rc10, n4 및 n5는 식 (c4)과 동일하다)(R c7 , R c8 , R c9 , R c10 , n4 and n5 are the same as in formula (c4))

식 (c4) 및(c5) 중, Rc7은 수소 원자, 니트로기 또는 1가의 유기기이다. Rc7은 식 (c4) 중의 플루오렌환 상에서 -(CO)n5-로 표시되는 기에 결합하는 6원 방향환과는 상이한 6원 방향환에 결합한다. 식 (c4) 중, Rc7의 플루오렌환에 대한 결합 위치는 특별히 한정되지 않는다. 식 (c4)로 표시되는 화합물이 1 이상의 Rc7을 갖는 경우, 식 (c4)로 표시되는 화합물의 합성이 용이하다는 점 등에서, 1 이상의 Rc7 중 하나가 플루오렌환 중의 2위에 결합하는 것이 바람직하다. Rc7이 복수인 경우, 복수의 Rc7은 동일해도 상이해도 된다.In formulas (c4) and (c5), R c7 is a hydrogen atom, a nitro group, or a monovalent organic group. R c7 is bonded to a 6-membered aromatic ring different from the 6-membered aromatic ring bonded to the group represented by -(CO) n5 - on the fluorene ring in the formula (c4). In formula (c4), the bonding position of R c7 to the fluorene ring is not particularly limited. When the compound represented by the formula (c4) has one or more R c7 , it is preferable that one of the one or more R c7 is bonded to the second position in the fluorene ring from the viewpoint of easy synthesis of the compound represented by the formula (c4). do. When plural R c7 is plural, plural R c7 may be the same or different.

Rc7이 유기기인 경우, Rc7은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지의 유기기로부터 적절히 선택된다. Rc7이 유기기인 경우의 적합한 예로는 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 포화 지방족 아실옥시기, 알콕시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기, 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 및 피페라진-1-일기 등을 들 수 있다.When R c7 is an organic group, R c7 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and is appropriately selected from various organic groups. Suitable examples when R c7 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an optionally substituted phenyl group, and an optionally substituted phenoxy group. , benzoyl group which may have a substituent, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, benzoyloxy group which may have a substituent, phenylalkyl group which may have a substituent, naphthyl group which may have a substituent, naphthoxy which may have a substituent Group, the naphthoyl group which may have a substituent, the naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, the naphthoyloxy group which may have a substituent, the naphthylalkyl group which may have a substituent, the heterocyclyl group which may have a substituent, a substituent The heterocyclylcarbonyl group which you may have, the amino group substituted by 1 or 2 organic groups, the morpholin-1-yl group, the piperazin-1-yl group, etc. are mentioned.

Rc7이 알킬기인 경우, 알킬기의 탄소 원자 수는 1 이상 20 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. 또, Rc7이 알킬기인 경우, 직쇄여도 분기쇄여도 된다. Rc7이 알킬기인 경우의 구체예로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 및 이소데실기 등을 들 수 있다. 또, Rc7이 알킬기인 경우, 알킬기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 갖는 알킬기의 예로는 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기, 및 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.When R c7 is an alkyl group, 1 or more and 20 or less are preferable and, as for the number of carbon atoms of an alkyl group, 1 or more and 6 or less are more preferable. Moreover, when R c7 is an alkyl group, linear or branched may be sufficient as it. Specific examples when R c7 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, and an isophene tyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, n - A decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. In addition, when R c7 is an alkyl group, the alkyl group may contain an ether bond (-O-) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

Rc7이 알콕시기인 경우, 알콕시기의 탄소 원자 수는 1 이상 20 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. 또, Rc7이 알콕시기인 경우, 직쇄여도 분기쇄여도 된다. Rc7이 알콕시기인 경우의 구체예로는 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부틸옥시기, 이소부틸옥시기, sec-부틸옥시기, tert-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, sec-펜틸옥시기, tert-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 이소옥틸옥시기, sec-옥틸옥시기, tert-옥틸옥시기, n-노닐옥시기, 이소노닐옥시기, n-데실옥시기, 및 이소데실옥시기 등을 들 수 있다. 또, Rc7이 알콕시기인 경우, 알콕시기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 갖는 알콕시기의 예로는 메톡시에톡시기, 에톡시에톡시기, 메톡시에톡시에톡시기, 에톡시에톡시에톡시기, 프로필옥시에톡시에톡시기, 및 메톡시프로필옥시기 등을 들 수 있다.When R c7 is an alkoxy group, 1 or more and 20 or less are preferable and, as for the number of carbon atoms of an alkoxy group, 1 or more and 6 or less are more preferable. Moreover, when R c7 is an alkoxy group, linear or branched may be sufficient as it. Specific examples when R c7 is an alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group , n-pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group group, tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, isodecyloxy group, and the like. Moreover, when R c7 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain the ether bond (-O-) in a carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a meth Toxypropyloxy group, etc. are mentioned.

Rc7이 시클로알킬기 또는 시클로알콕시기인 경우, 시클로알킬기 또는 시클로알콕시기의 탄소 원자 수는 3 이상 10 이하가 바람직하고, 3 이상 6 이하가 보다 바람직하다. Rc7이 시클로알킬기인 경우의 구체예로는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 및 시클로옥틸기 등을 들 수 있다. Rc7이 시클로알콕시기인 경우의 구체예로는 시클로프로필옥시기, 시클로부틸옥시기, 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기, 시클로헵틸옥시기, 및 시클로옥틸옥시기 등을 들 수 있다.When R c7 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3 or more and 10 or less are preferable and, as for the number of carbon atoms of a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, 3 or more and 6 or less are more preferable. Specific examples when R c7 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples when R c7 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

Rc7이 포화 지방족 아실기 또는 포화 지방족 아실옥시기인 경우, 포화 지방족 아실기 또는 포화 지방족 아실옥시기의 탄소 원자 수는 2 이상 21 이하가 바람직하고, 2 이상 7 이하가 보다 바람직하다. Rc7이 포화 지방족 아실기인 경우의 구체예로는 아세틸기, 프로파노일기, n-부타노일기, 2-메틸프로파노일기, n-펜타노일기, 2,2-디메틸프로파노일기, n-헥사노일기, n-헵타노일기, n-옥타노일기, n-노나노일기, n-데카노일기, n-운데카노일기, n-도데카노일기, n-트리데카노일기, n-테트라데카노일기, n-펜타데카노일기, 및 n-헥사데카노일기 등을 들 수 있다. Rc7이 포화 지방족 아실옥시기인 경우의 구체예로는 아세틸옥시기, 프로파노일옥시기, n-부타노일옥시기, 2-메틸프로파노일옥시기, n-펜타노일옥시기, 2,2-디메틸프로파노일옥시기, n-헥사노일옥시기, n-헵타노일옥시기, n-옥타노일옥시기, n-노나노일옥시기, n-데카노일옥시기, n-운데카노일옥시기, n-도데카노일옥시기, n-트리데카노일옥시기, n-테트라데카노일옥시기, n-펜타데카노일옥시기, 및 n-헥사데카노일옥시기 등을 들 수 있다.When R c7 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms in the saturated aliphatic acyl group or saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 or more and 21 or less, and more preferably 2 or more and 7 or less. Specific examples when R c7 is a saturated aliphatic acyl group include an acetyl group, a propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n-hexanoyl group , n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n -pentadecanoyl group, n-hexadecanoyl group, etc. are mentioned. Specific examples when R c7 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2,2-dimethylpropano group yloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n-dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group, etc. are mentioned.

Rc7이 알콕시카르보닐기인 경우, 알콕시카르보닐기의 탄소 원자 수는 2 이상 20 이하가 바람직하고, 2 이상 7 이하가 보다 바람직하다. Rc7이 알콕시카르보닐기인 경우의 구체예로는 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, n-프로필옥시카르보닐기, 이소프로필옥시카르보닐기, n-부틸옥시카르보닐기, 이소부틸옥시카르보닐기, sec-부틸옥시카르보닐기, tert-부틸옥시카르보닐기, n-펜틸옥시카르보닐기, 이소펜틸옥시카르보닐기, sec-펜틸옥시카르보닐기, tert-펜틸옥시카르보닐기, n-헥실옥시카르보닐기, n-헵틸옥시카르보닐기, n-옥틸옥시카르보닐기, 이소옥틸옥시카르보닐기, sec-옥틸옥시카르보닐기, tert-옥틸옥시카르보닐기, n-노닐옥시카르보닐기, 이소노닐옥시카르보닐기, n-데실옥시카르보닐기, 및 이소데실옥시카르보닐기 등을 들 수 있다.When R c7 is an alkoxycarbonyl group, 2 or more and 20 or less are preferable and, as for the number of carbon atoms of an alkoxycarbonyl group, 2 or more and 7 or less are more preferable. Specific examples when R c7 is an alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyloxycarbonyl group, tert- butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, and sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, isononyloxycarbonyl group, n-decyloxycarbonyl group, and isodecyloxycarbonyl group.

Rc7이 페닐알킬기인 경우, 페닐알킬기의 탄소 원자 수는 7 이상 20 이하가 바람직하고, 7 이상 10 이하가 보다 바람직하다. 또, Rc7이 나프틸알킬기인 경우, 나프틸알킬기의 탄소 원자 수는 11 이상 20 이하가 바람직하고, 11 이상 14 이하가 보다 바람직하다. Rc7이 페닐알킬기인 경우의 구체예로는 벤질기, 2-페닐에틸기, 3-페닐프로필기, 및 4-페닐부틸기를 들 수 있다. Rc7이 나프틸알킬기인 경우의 구체예로는 α-나프틸메틸기, β-나프틸메틸기, 2-(α-나프틸)에틸기, 및 2-(β-나프틸)에틸기를 들 수 있다. Rc7이 페닐알킬기 또는 나프틸알킬기인 경우, Rc7은 페닐기 또는 나프틸기 상에 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R c7 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms in the phenylalkyl group is preferably 7 or more and 20 or less, and more preferably 7 or more and 10 or less. Moreover, when R <c7> is a naphthylalkyl group, 11 or more and 20 or less are preferable and, as for the number of carbon atoms of a naphthylalkyl group, 11 or more and 14 or less are more preferable. Specific examples when R c7 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples when R c7 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2-(α-naphthyl)ethyl group, and a 2-(β-naphthyl)ethyl group. When R c7 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R c7 may further have a substituent on the phenyl group or the naphthyl group.

Rc7이 헤테로시클릴기인 경우, 헤테로시클릴기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이거나, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 헤테로시클릴기이다. 헤테로시클릴기가 축합환인 경우는 축합하는 고리 수는 3까지로 한다. 헤테로시클릴기는 방향족 기(헤테로아릴기)여도, 비방향족 기여도 된다. 이러한 헤테로시클릴기를 구성하는 복소환으로는 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 신놀린, 퀴녹살린, 피페리딘, 피페라진, 모르폴린, 피페리딘, 테트라히드로피란, 및 테트라히드로 푸란 등을 들 수 있다. Rc7이 헤테로시클릴기인 경우, 헤테로시클릴기는 추가로 치환기를 가지고 있어도 된다.When R c7 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocyclic ring containing one or more N, S, and O, or a heterocyclyl group obtained by condensing such monocyclic rings or such a monocyclic ring and a benzene ring. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the number of rings to be condensed is set to up to three. A heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group), or a non-aromatic contribution may be sufficient as it. Heterocycles constituting such a heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyridine. Midin, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzoimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, pr talazine, cinnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, tetrahydrofuran, and the like. When R c7 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.

Rc7이 헤테로시클릴카르보닐기인 경우, 헤테로시클릴카르보닐기에 포함되는 헤테로시클릴기는 Rc7이 헤테로시클릴기인 경우와 동일하다.When R c7 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group included in the heterocyclylcarbonyl group is the same as when R c7 is a heterocyclyl group.

Rc7이 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기인 경우, 유기기의 적합한 예는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기, 탄소 원자 수 3 이상 10 이하의 시클로알킬기, 탄소 원자 수 2 이상 21 이하의 포화 지방족 아실기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 7 이상 20 이하의 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 11 이상 20 이하의 나프틸알킬기, 및 헤테로시클릴기 등을 들 수 있다. 이들 적합한 유기기의 구체예는 Rc7과 동일하다. 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기의 구체예로는 메틸아미노기, 에틸아미노기, 디에틸아미노기, n-프로필아미노기, 디-n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 디-n-부틸아미노기, n-펜틸아미노기, n-헥실아미노기, n-헵틸아미노기, n-옥틸아미노기, n-노닐아미노기, n-데실아미노기, 페닐아미노기, 나프틸아미노기, 아세틸아미노기, 프로파노일아미노기, n-부타노일아미노기, n-펜타노일아미노기, n-헥사노일아미노기, n-헵타노일아미노기, n-옥타노일아미노기, n-데카노일아미노기, 벤조일아미노기, α-나프토일아미노기, 및 β-나프토일아미노기 등을 들 수 있다.When R c7 is an amino group substituted with an organic group of 1 or 2, suitable examples of the organic group include an alkyl group having 1 or more and 20 or less carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 or more and 10 or less carbon atoms, and 2 or more and 21 or less carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 or more and 20 or less carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, naph which may have a substituent A toyl group, a C11 or more and 20 or less naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group, etc. are mentioned. Specific examples of these suitable organic groups are the same as for R c7 . Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n-butylamino group, di-n-butyl Amino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-buta noylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n-decanoylamino group, benzoylamino group, α-naphthoylamino group, and β-naphthoylamino group, etc. can be heard

Rc7에 포함되는 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 갖는 경우의 치환기로는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알콕시기, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실기, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 알콕시카르보닐기, 탄소 원자 수 2 이상 7 이하의 포화 지방족 아실옥시기, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 모노알킬아미노기, 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기를 갖는 디알킬아미노기, 모르폴린-1-일기, 피페라진-1-일기, 할로겐, 니트로기, 및 시아노기 등을 들 수 있다. Rc7에 포함되는 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 추가로 치환기를 갖는 경우, 그 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 한정되지 않지만, 1 이상 4 이하가 바람직하다. Rc7에 포함되는 페닐기, 나프틸기 및 헤테로시클릴기가 복수의 치환기를 갖는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.When the phenyl group, naphthyl group and heterocyclyl group included in R c7 further have a substituent, examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and 2 or more carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group of 7 or less, an alkoxycarbonyl group of 2 or more and 7 or less, a saturated aliphatic acyloxy group of 2 or more and 7 or less of carbon atoms, a monoalkylamino group having an alkyl group of 1 or more and 6 or less of carbon atoms, a carbon atom and a dialkylamino group, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group having 1 or more and 6 or less alkyl groups. When the phenyl group, naphthyl group and heterocyclyl group contained in R c7 further have a substituent, the number of the substituents is not limited within a range that does not impair the object of the present invention, but preferably 1 or more and 4 or less. When the phenyl group, naphthyl group and heterocyclyl group contained in R c7 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

이상 설명한 기 중에서도, Rc7로는 니트로기 또는 Rc12-CO-로 표시되는 기이면, 감도가 향상되는 경향이 있어 바람직하다. Rc12는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않고, 여러 가지의 유기기로부터 선택할 수 있다. Rc12로서 적합한 기의 예로는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 및 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기를 들 수 있다. Rc12로서 이들 기 중에서는 2-메틸페닐기, 티오펜-2-일기 및 α-나프틸기가 특히 바람직하다.Among the groups described above, R c7 is preferably a nitro group or a group represented by R c12 -CO- because the sensitivity tends to improve. R c12 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and can be selected from various organic groups. Examples of the group suitable as R c12 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted phenyl group, an optionally substituted naphthyl group, and an optionally substituted heterocyclyl group. Among these groups as R c12 , a 2-methylphenyl group, a thiophen-2-yl group and an α-naphthyl group are particularly preferable.

또, Rc7이 수소 원자이면, 투명성이 양호해지는 경향이 있어 바람직하다. 또한, Rc7이 수소 원자이면서 Rc10이 식 (c4a) 또는 (c4b)으로 표시되는 기이면, 투명성은 보다 양호해지는 경향이 있다.Moreover, transparency tends to become favorable that R c7 is a hydrogen atom, and it is preferable. In addition, when R c7 is a hydrogen atom and R c10 is a group represented by the formula (c4a) or (c4b), the transparency tends to be more favorable.

식 (c4) 중, Rc8 및 Rc9는 각각 치환기를 가져도 되는 쇄상 알킬기, 치환기를 가져도 되는 환상 유기기 또는 수소 원자이다. Rc8과 Rc9는 서로 결합해 고리를 형성해도 된다. 이들 기 중에서는 Rc8 및 Rc9로서 치환기를 가져도 되는 쇄상 알킬기가 바람직하다. Rc8 및 Rc9가 치환기를 가져도 되는 쇄상 알킬기인 경우, 쇄상 알킬기는 직쇄 알킬기여도 분기쇄 알킬기여도 된다.In formula (c4), R c8 and R c9 each represent a chain alkyl group which may have a substituent, a cyclic organic group which may have a substituent, or a hydrogen atom. R c8 and R c9 may be bonded to each other to form a ring. Among these groups, a chain alkyl group which may have a substituent as R c8 and R c9 is preferable. When R c8 and R c9 are a chain alkyl group which may have a substituent, the chain alkyl group may be a straight chain alkyl group or a branched chain alkyl group.

Rc8 및 Rc9가 치환기를 가지지 않는 쇄상 알킬기인 경우, 쇄상 알킬기의 탄소 원자 수는 1 이상 20 이하가 바람직하고, 1 이상 10 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 6 이하가 특히 바람직하다. Rc8 및 Rc9가 쇄상 알킬기인 경우의 구체예로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 및 이소데실기 등을 들 수 있다. 또, Rc8 및 Rc9가 알킬기인 경우, 알킬기는 탄소쇄 중에 에테르 결합(-O-)을 포함하고 있어도 된다. 탄소쇄 중에 에테르 결합을 갖는 알킬기의 예로는 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기, 및 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.R c8 and when R c9 is a chain alkyl group having no substituent, the number of carbon atoms in the chain alkyl group is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and particularly preferably 1 or more and 6 or less. Specific examples when R c8 and R c9 are a chain alkyl group include a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pene Tyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, iso A nonyl group, an n-decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. In addition, when R c8 and R c9 are an alkyl group, the alkyl group may contain an ether bond (-O-) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

Rc8 및 Rc9가 치환기를 갖는 쇄상 알킬기인 경우, 쇄상 알킬기의 탄소 원자 수는 1 이상 20 이하가 바람직하고, 1 이상 10 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 6 이하가 특히 바람직하다. 이 경우, 치환기의 탄소 원자 수는 쇄상 알킬기의 탄소 원자 수에 포함되지 않는다. 치환기를 갖는 쇄상 알킬기는 직쇄상인 것이 바람직하다. When R c8 and R c9 are a chain alkyl group having a substituent, the number of carbon atoms in the chain alkyl group is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and particularly preferably 1 or more and 6 or less. In this case, the number of carbon atoms in the substituent is not included in the number of carbon atoms in the chain alkyl group. It is preferable that the chain|strand-chain alkyl group which has a substituent is linear.

알킬기가 가져도 되는 치환기는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 치환기의 적합한 예로는 시아노기, 할로겐 원자, 환상 유기기, 및 알콕시카르보닐기를 들 수 있다. 할로겐 원자로는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. 이들 중에서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자가 바람직하다. 환상 유기기로는 시클로알킬기, 방향족 탄화수소기, 헤테로시클릴기를 들 수 있다. 시클로알킬기의 구체예로는 Rc7이 시클로알킬기인 경우의 적합한 예와 동일하다. 방향족 탄화수소기의 구체예로는 페닐기, 나프틸기, 비페닐일기, 안트릴기, 및 페난트릴기 등을 들 수 있다. 헤테로시클릴기의 구체예로는 Rc7이 헤테로시클릴기인 경우의 적합한 예와 동일하다. Rc7이 알콕시카르보닐기인 경우, 알콕시카르보닐기에 포함되는 알콕시기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 되고, 직쇄상이 바람직하다. 알콕시카르보닐기에 포함되는 알콕시기의 탄소 원자 수는 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다.The substituent which an alkyl group may have is not specifically limited in the range which does not impair the objective of this invention. Suitable examples of the substituent include a cyano group, a halogen atom, a cyclic organic group, and an alkoxycarbonyl group. A fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned as a halogen atom. Among these, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom are preferable. Examples of the cyclic organic group include a cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. Specific examples of the cycloalkyl group are the same as suitable examples in the case where R c7 is a cycloalkyl group. Specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group. Specific examples of the heterocyclyl group are the same as suitable examples when R c7 is a heterocyclyl group. When R c7 is an alkoxycarbonyl group, the alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group may be linear or branched, and linear is preferable. 1 or more and 10 or less are preferable and, as for the number of carbon atoms of the alkoxy group contained in an alkoxycarbonyl group, 1 or more and 6 or less are more preferable.

쇄상 알킬기가 치환기를 갖는 경우, 치환기의 수는 특별히 한정되지 않는다. 바람직한 치환기의 수는 쇄상 알킬기의 탄소 원자 수에 따라 바뀐다. 치환기의 수는 전형적으로는 1 이상 20 이하이며, 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다.When the chain alkyl group has a substituent, the number of the substituents is not particularly limited. The preferred number of substituents varies depending on the number of carbon atoms in the chain alkyl group. The number of substituents is typically 1 or more and 20 or less, 1 or more and 10 or less are preferable, and 1 or more and 6 or less are more preferable.

Rc8 및 Rc9가 환상 유기기인 경우, 환상 유기기는 지환식 기여도, 방향족 기여도 된다. 환상 유기기로는 지방족 환상 탄화수소기, 방향족 탄화수소기, 헤테로시클릴기를 들 수 있다. Rc8 및 Rc9가 환상 유기기인 경우에, 환상 유기기가 가져도 되는 치환기는 Rc8 및 Rc9가 쇄상 알킬기인 경우와 동일하다.R c8 and when R c9 is a cyclic organic group, the cyclic organic group may have either an alicyclic contribution or an aromatic contribution. Examples of the cyclic organic group include an aliphatic cyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. When R c8 and R c9 are a cyclic organic group, the substituent which the cyclic organic group may have is the same as when R c8 and R c9 are a chain alkyl group.

Rc8 및 Rc9가 방향족 탄화수소기인 경우, 방향족 탄화수소기는 페닐기이거나, 복수의 벤젠환이 탄소-탄소 결합을 통해서 결합해 형성되는 기이거나, 복수의 벤젠환이 축합해 형성되는 기인 것이 바람직하다. 방향족 탄화수소기가 페닐기이던지, 복수의 벤젠환이 결합 또는 축합해 형성되는 기인 경우, 방향족 탄화수소기에 포함되는 벤젠환의 고리 수는 특별히 한정되지 않고, 3 이하가 바람직하고, 2 이하가 보다 바람직하며, 1이 특히 바람직하다. 방향족 탄화수소기의 바람직한 구체예로는 페닐기, 나프틸기, 비페닐일기, 안트릴기, 및 페난트릴기 등을 들 수 있다.When R c8 and R c9 are aromatic hydrocarbon groups, the aromatic hydrocarbon group is preferably a phenyl group, a group formed by bonding a plurality of benzene rings through a carbon-carbon bond, or a group formed by condensation of a plurality of benzene rings. When the aromatic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by bonding or condensing a plurality of benzene rings, the number of rings of the benzene ring included in the aromatic hydrocarbon group is not particularly limited, and preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and 1 is particularly desirable. Specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group.

Rc8 및 Rc9가 지방족 환상 탄화수소기인 경우, 지방족 환상 탄화수소기는 단환식이어도 다환식이어도 된다. 지방족 환상 탄화수소기의 탄소 원자 수는 특별히 한정되지 않지만, 3 이상 20 이하가 바람직하고, 3 이상 10 이하가 보다 바람직하다. 단환식의 환상 탄화수소기의 예로는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 노르보르닐기, 이소보르닐기, 트리시클로노닐기, 트리시클로데실기, 테트라시클로도데실기, 및 아다만틸기 등을 들 수 있다.When R c8 and R c9 are an aliphatic cyclic hydrocarbon group, the alicyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. Although the number of carbon atoms of an aliphatic cyclic hydrocarbon group is not specifically limited, 3 or more and 20 or less are preferable, and 3 or more and 10 or less are more preferable. Examples of the monocyclic cyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group , a tetracyclododecyl group, and an adamantyl group.

Rc8 및 Rc9가 헤테로시클릴기인 경우, 헤테로시클릴기는 1 이상의 N, S, O를 포함하는 5원 또는 6원의 단환이거나, 이러한 단환끼리, 또는 이러한 단환과 벤젠환이 축합한 헤테로시클릴기이다. 헤테로시클릴기가 축합환인 경우는 축합하는 고리 수는 3까지로 한다. 헤테로시클릴기는 방향족 기(헤테로아릴기)여도, 비방향족 기여도 된다. 이러한 헤테로시클릴기를 구성하는 복소환으로는 푸란, 티오펜, 피롤, 옥사졸, 이소옥사졸, 티아졸, 티아디아졸, 이소티아졸, 이미다졸, 피라졸, 트리아졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 벤조푸란, 벤조티오펜, 인돌, 이소인돌, 인돌리진, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 벤조옥사졸, 벤조티아졸, 카르바졸, 푸린, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴나졸린, 프탈라진, 신놀린, 퀴녹살린, 피페리딘, 피페라진, 모르폴린, 피페리딘, 테트라히드로피란, 및 테트라히드로 푸란 등을 들 수 있다.When R c8 and R c9 are a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocyclic ring containing one or more N, S, and O, or a heterocyclyl group obtained by condensing such monocyclic rings or such a monocyclic ring and a benzene ring to be. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the number of rings to be condensed is set to up to three. A heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group), or a non-aromatic contribution may be sufficient as it. Heterocycles constituting such a heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyridine. Midin, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzoimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, pr talazine, cinnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, tetrahydrofuran, and the like.

Rc8과 Rc9는 서로 결합해 고리를 형성해도 된다. Rc8과 Rc9가 형성하는 고리로 이루어진 기는 시클로알킬리덴기인 것이 바람직하다. Rc8과 Rc9가 결합해 시클로알킬리덴기를 형성하는 경우, 시클로알킬리덴기를 구성하는 고리는 5원환~6원환인 것이 바람직하고, 5원환인 것이 보다 바람직하다.R c8 and R c9 may be bonded to each other to form a ring. The group consisting of a ring formed by R c8 and R c9 is preferably a cycloalkylidene group. When R c8 and R c9 combine to form a cycloalkylidene group, the ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a 5- to 6-membered ring, more preferably a 5-membered ring.

Rc8과 Rc9가 결합해 형성하는 기가 시클로알킬리덴기인 경우, 시클로알킬리덴기는 1 이상의 다른 고리와 축합하고 있어도 된다. 시클로알킬리덴기와 축합하고 있어도 되는 고리의 예로는 벤젠환, 나프탈렌환, 시클로부탄환, 시클로펜탄환, 시클로헥산환, 시클로헵탄환, 시클로옥탄환, 푸란환, 티오펜환, 피롤환, 피리딘환, 피라진환, 및 피리미딘환 등을 들 수 있다.When the group formed by bonding R c8 and R c9 is a cycloalkylidene group, the cycloalkylidene group may be condensed with one or more other rings. Examples of the ring which may be condensed with the cycloalkylidene group include a benzene ring, a naphthalene ring, a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclooctane ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, a pyridine ring , a pyrazine ring, and a pyrimidine ring.

이상 설명한 Rc8 및 Rc9 중에서도 적합한 기의 예로는 식 -A1-A2로 표시되는 기를 들 수 있다. 식 중, A1는 직쇄 알킬렌기이며, A2는 알콕시기, 시아노기, 할로겐 원자, 할로겐화 알킬기, 환상 유기기 또는 알콕시카르보닐기인 것을 들 수 있다.Among R c8 and R c9 described above, examples of suitable groups include groups represented by the formula -A 1 -A 2 . In the formula, A 1 is a straight-chain alkylene group, and A 2 is an alkoxy group, a cyano group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a cyclic organic group, or an alkoxycarbonyl group.

A1의 직쇄 알킬렌기의 탄소 원자 수는 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. A2가 알콕시기인 경우, 알콕시기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 되고, 직쇄상이 바람직하다. 알콕시기의 탄소 원자 수는 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하다. A2가 할로겐 원자인 경우, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자가 바람직하고, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자가 보다 바람직하다. A2가 할로겐화 알킬기인 경우, 할로겐화 알킬기에 포함되는 할로겐 원자는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자가 바람직하고, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자가 보다 바람직하다. 할로겐화 알킬기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 되고, 직쇄상이 바람직하다. A2가 환상 유기기인 경우, 환상 유기기의 예는 Rc8 및 Rc9가 치환기로서 갖는 환상 유기기와 동일하다. A2가 알콕시카르보닐기인 경우, 알콕시카르보닐기의 예는 Rc8 및 Rc9가 치환기로서 갖는 알콕시카르보닐기와 동일하다.1 or more and 10 or less are preferable and, as for the number of carbon atoms of the linear alkylene group of A 1 , 1 or more and 6 or less are more preferable. When A2 is an alkoxy group, linear or branched form may be sufficient as an alkoxy group, and linear form is preferable. 1 or more and 10 or less are preferable and, as for the number of carbon atoms of an alkoxy group, 1 or more and 6 or less are more preferable. When A2 is a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are preferable, and a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom are more preferable. When A2 is a halogenated alkyl group, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are preferable and, as for the halogen atom contained in a halogenated alkyl group, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom are more preferable. The halogenated alkyl group may be linear or branched, and linear is preferable. When A 2 is a cyclic organic group, examples of the cyclic organic group are the same as the cyclic organic groups which R c8 and R c9 have as a substituent. When A 2 is an alkoxycarbonyl group, examples of the alkoxycarbonyl group are the same as the alkoxycarbonyl groups which R c8 and R c9 have as a substituent.

Rc8 및 Rc9의 적합한 구체예로는 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-헥실기, n-헵틸기, 및 n-옥틸기 등의 알킬기;2-메톡시에틸기, 3-메톡시-n-프로필기, 4-메톡시-n-부틸기, 5-메톡시-n-펜틸기, 6-메톡시-n-헥실기, 7-메톡시-n-헵틸기, 8-메톡시-n-옥틸기, 2-에톡시에틸기, 3-에톡시-n-프로필기, 4-에톡시-n-부틸기, 5-에톡시-n-펜틸기, 6-에톡시-n-헥실기, 7-에톡시-n-헵틸기, 및 8-에톡시-n-옥틸기 등의 알콕시알킬기;2-시아노에틸기, 3-시아노-n-프로필기, 4-시아노-n-부틸기, 5-시아노-n-펜틸기, 6-시아노-n-헥실기, 7-시아노-n-헵틸기, 및 8-시아노-n-옥틸기 등의 시아노알킬기;2-페닐에틸기, 3-페닐-n-프로필기, 4-페닐-n-부틸기, 5-페닐-n-펜틸기, 6-페닐-n-헥실기, 7-페닐-n-헵틸기, 및 8-페닐-n-옥틸기 등의 페닐알킬기;2-시클로헥실에틸기, 3-시클로헥실-n-프로필기, 4-시클로헥실-n-부틸기, 5-시클로헥실-n-펜틸기, 6-시클로헥실-n-헥실기, 7-시클로헥실-n-헵틸기, 8-시클로헥실-n-옥틸기, 2-시클로펜틸에틸기, 3-시클로펜틸-n-프로필기, 4-시클로펜틸-n-부틸기, 5-시클로펜틸-n-펜틸기, 6-시클로펜틸-n-헥실기, 7-시클로펜틸-n-헵틸기, 및 8-시클로펜틸-n-옥틸기 등의 시클로알킬알킬기;2-메톡시카르보닐에틸기, 3-메톡시카르보닐-n-프로필기, 4-메톡시카르보닐-n-부틸기, 5-메톡시카르보닐-n-펜틸기, 6-메톡시카르보닐-n-헥실기, 7-메톡시카르보닐-n-헵틸기, 8-메톡시카르보닐-n-옥틸기, 2-에톡시카르보닐에틸기, 3-에톡시카르보닐-n-프로필기, 4-에톡시카르보닐-n-부틸기, 5-에톡시카르보닐-n-펜틸기, 6-에톡시카르보닐-n-헥실기, 7-에톡시카르보닐-n-헵틸기, 및 8-에톡시카르보닐-n-옥틸기 등의 알콕시카르보닐알킬기;2-클로로에틸기, 3-클로로-n-프로필기, 4-클로로-n-부틸기, 5-클로로-n-펜틸기, 6-클로로-n-헥실기, 7-클로로-n-헵틸기, 8-클로로-n-옥틸기, 2-브로모에틸기, 3-브로모-n-프로필기, 4-브로모-n-부틸기, 5-브로모-n-펜틸기, 6-브로모-n-헥실기, 7-브로모-n-헵틸기, 8-브로모-n-옥틸기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 및 3,3,4,4,5,5,5-헵타플루오로-n-펜틸기 등의 할로겐화 알킬기를 들 수 있다.Suitable specific examples of R c8 and R c9 include an alkyl group such as an ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, and n-octyl group; 2-methoxyethyl group, 3- Methoxy-n-propyl group, 4-methoxy-n-butyl group, 5-methoxy-n-pentyl group, 6-methoxy-n-hexyl group, 7-methoxy-n-heptyl group, 8- Methoxy-n-octyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-ethoxy-n-propyl group, 4-ethoxy-n-butyl group, 5-ethoxy-n-pentyl group, 6-ethoxy-n Alkoxyalkyl groups such as hexyl group, 7-ethoxy-n-heptyl group, and 8-ethoxy-n-octyl group; 2-cyanoethyl group, 3-cyano-n-propyl group, 4-cyano- Cyanoalkyl groups such as n-butyl group, 5-cyano-n-pentyl group, 6-cyano-n-hexyl group, 7-cyano-n-heptyl group, and 8-cyano-n-octyl group ; 2-phenylethyl group, 3-phenyl-n-propyl group, 4-phenyl-n-butyl group, 5-phenyl-n-pentyl group, 6-phenyl-n-hexyl group, 7-phenyl-n-heptyl group and phenylalkyl groups such as 8-phenyl-n-octyl group; 2-cyclohexylethyl group, 3-cyclohexyl-n-propyl group, 4-cyclohexyl-n-butyl group, 5-cyclohexyl-n-pentyl group , 6-cyclohexyl-n-hexyl group, 7-cyclohexyl-n-heptyl group, 8-cyclohexyl-n-octyl group, 2-cyclopentylethyl group, 3-cyclopentyl-n-propyl group, 4-cyclo Cyclos such as pentyl-n-butyl group, 5-cyclopentyl-n-pentyl group, 6-cyclopentyl-n-hexyl group, 7-cyclopentyl-n-heptyl group, and 8-cyclopentyl-n-octyl group Alkylalkyl group; 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl group, 4-methoxycarbonyl-n-butyl group, 5-methoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-me Toxycarbonyl-n-hexyl group, 7-methoxycarbonyl-n-heptyl group, 8-methoxycarbonyl-n-octyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 3-ethoxycarbonyl-n- Propyl group, 4-ethoxycarbonyl-n-butyl group, 5-ethoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-ethoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-ethoxycarbonyl-n-heptyl group and alkoxycarbonylalkyl groups such as 8-ethoxycarbonyl-n-octyl group; 2-chloroethyl group, 3-chloro-n-propyl group, 4-chloro-n-butyl group, 5-chloro-n-phene Tyl group, 6-chloro-n-hexyl group, 7-chloro-n-heptyl group, 8- Chloro-n-octyl group, 2-bromoethyl group, 3-bromo-n-propyl group, 4-bromo-n-butyl group, 5-bromo-n-pentyl group, 6-bromo-n- Hexyl group, 7-bromo-n-heptyl group, 8-bromo-n-octyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and 3,3,4,4,5,5,5- Halogenated alkyl groups, such as a heptafluoro-n-pentyl group, are mentioned.

Rc8 및 Rc9로서 상기 중에서도 적합한 기는 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, 2-메톡시에틸기, 2-시아노에틸기, 2-페닐에틸기, 2-시클로헥실에틸기, 2-메톡시카르보닐에틸기, 2-클로로에틸기, 2-브로모에틸기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 및 3,3,4,4,5,5,5-헵타플루오로-n-펜틸기이다.Among the above suitable groups as R c8 and R c9 are ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-phenylethyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoro- n-pentyl group.

Rc10의 적합한 유기기의 예로는 Rc7과 마찬가지로 알킬기, 알콕시기, 시클로알킬기, 시클로알콕시기, 포화 지방족 아실기, 알콕시카르보닐기, 포화 지방족 아실옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐기, 치환기를 가져도 되는 페녹시기, 치환기를 가져도 되는 벤조일기, 치환기를 가져도 되는 페녹시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 벤조일옥시기, 치환기를 가져도 되는 페닐알킬기, 치환기를 가져도 되는 나프틸기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시기, 치환기를 가져도 되는 나프토일기, 치환기를 가져도 되는 나프톡시카르보닐기, 치환기를 가져도 되는 나프토일옥시기, 치환기를 가져도 되는 나프틸알킬기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴기, 치환기를 가져도 되는 헤테로시클릴카르보닐기, 1 또는 2의 유기기로 치환된 아미노기, 모르폴린-1-일기, 및 피페라진-1-일기 등을 들 수 있다. 이들 기의 구체예는 Rc7에 대해 설명한 기와 동일하다. 또, Rc10로는 시클로알킬알킬기, 방향환 위에 치환기를 가지고 있어도 되는 페녹시알킬기, 방향환 위에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기도 바람직하다. 페녹시알킬기 및 페닐티오알킬기가 가지고 있어도 되는 치환기는 Rc7에 포함되는 페닐기가 가지고 있어도 되는 치환기와 동일하다.Examples of a suitable organic group for R c10 include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, a phenyl group which may have a substituent, a phenyl group which may have a substituent, A phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a benzoyloxy group which may have a substituent, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, or a substituent A naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent , an optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, and a piperazin-1-yl group. Specific examples of these groups are the same as those described for R c7 . Moreover, as R<c10> , a cycloalkylalkyl group, the phenoxyalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, and the phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring are preferable. The substituent which the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have is the same as the substituent which the phenyl group contained in R <c7> may have.

유기기 중에서도, Rc10로는 알킬기, 시클로알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기 또는 시클로알킬알킬기, 방향환 위에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기가 바람직하다. 알킬기로는 탄소 원자 수 1 이상 20 이하의 알킬기가 바람직하고, 탄소 원자 수 1 이상 8 이하의 알킬기가 보다 바람직하며, 탄소 원자 수 1 이상 4 이하의 알킬기가 특히 바람직하고, 메틸기가 가장 바람직하다. 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐기 중에서는 메틸페닐기가 바람직하고, 2-메틸페닐기가 보다 바람직하다. 시클로알킬알킬기에 포함되는 시클로알킬기의 탄소 원자 수는 5 이상 10 이하가 바람직하고, 5 이상 8 이하가 보다 바람직하며, 5 또는 6이 특히 바람직하다. 시클로알킬알킬기에 포함되는 알킬렌기의 탄소 원자 수는 1 이상 8 이하가 바람직하고, 1 이상 4 이하가 보다 바람직하며, 2가 특히 바람직하다. 시클로알킬알킬기 중에서는 시클로펜틸에틸기가 바람직하다. 방향환 위에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기에 포함되는 알킬렌기의 탄소 원자 수는 1 이상 8 이하가 바람직하고, 1 이상 4 이하가 보다 바람직하며, 2가 특히 바람직하다. 방향환 위에 치환기를 가지고 있어도 되는 페닐티오알킬기 중에서는 2-(4-클로로페닐티오)에틸기가 바람직하다.Among the organic groups, R c10 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, an optionally substituted phenyl or cycloalkylalkyl group, or a phenylthioalkyl group optionally having a substituent on the aromatic ring. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable, and a methyl group is most preferable. Among the phenyl groups which may have a substituent, a methylphenyl group is preferable and the 2-methylphenyl group is more preferable. 5 or more and 10 or less are preferable, as for the number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in a cycloalkylalkyl group, 5 or more and 8 or less are more preferable, 5 or 6 are especially preferable. 1 or more and 8 or less are preferable, as for the number of carbon atoms of the alkylene group contained in a cycloalkylalkyl group, 1 or more and 4 or less are more preferable, 2 is especially preferable. Among the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferable. 1 or more and 8 or less are preferable, as for the number of carbon atoms of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, 1 or more and 4 or less are more preferable, 2 is especially preferable. Among the phenylthioalkyl groups which may have a substituent on the aromatic ring, 2-(4-chlorophenylthio)ethyl group is preferable.

또, Rc10로는 -A3-CO-O-A4로 표시되는 기도 바람직하다. A3는 2가의 유기기이며, 2가의 탄화수소기인 것이 바람직하고, 알킬렌기인 것이 바람직하다. A4는 1가의 유기기이며, 1가의 탄화수소기인 것이 바람직하다.Moreover, as R c10 , the group represented by -A 3 -CO-OA 4 is preferable. A 3 is a divalent organic group, preferably a divalent hydrocarbon group, and preferably an alkylene group. A4 is a monovalent organic group, and it is preferable that it is a monovalent|monohydric hydrocarbon group.

A3가 알킬렌기인 경우, 알킬렌기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 되고, 직쇄상이 바람직하다. A3가 알킬렌기인 경우, 알킬렌기의 탄소 원자 수는 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 6 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 4 이하가 특히 바람직하다.When A 3 is an alkylene group, the alkylene group may be linear or branched, and linear is preferable. When A 3 is an alkylene group, 1 or more and 10 or less are preferable, as for the number of carbon atoms of an alkylene group, 1 or more and 6 or less are more preferable, and their 1 or more and 4 or less are especially preferable.

A4의 적합한 예로는 탄소 원자 수 1 이상 10 이하의 알킬기, 탄소 원자 수 7 이상 20 이하의 아랄킬기, 및 탄소 원자 수 6 이상 20 이하의 방향족 탄화수소기를 들 수 있다. A4의 적합한 구체예로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 페닐기, 나프틸기, 벤질기, 페네틸기, α-나프틸메틸기, 및 β-나프틸메틸기 등을 들 수 있다.Suitable examples of A 4 include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. Suitable specific examples of A 4 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, and a phenyl group, a naphthyl group, a benzyl group, a phenethyl group, an α-naphthylmethyl group, and a β-naphthylmethyl group.

-A3-CO-O-A4로 표시되는 기의 적합한 구체예로는 2-메톡시카르보닐에틸기, 2-에톡시카르보닐에틸기, 2-n-프로필옥시카르보닐에틸기, 2-n-부틸옥시카르보닐에틸기, 2-n-펜틸옥시카르보닐에틸기, 2-n-헥실옥시카르보닐에틸기, 2-벤질옥시카르보닐에틸기, 2-페녹시카르보닐에틸기, 3-메톡시카르보닐-n-프로필기, 3-에톡시카르보닐-n-프로필기, 3-n-프로필옥시카르보닐-n-프로필기, 3-n-부틸옥시카르보닐-n-프로필기, 3-n-펜틸옥시카르보닐-n-프로필기, 3-n-헥실옥시카르보닐-n-프로필기, 3-벤질옥시카르보닐-n-프로필기, 및 3-페녹시카르보닐-n-프로필기 등을 들 수 있다.Suitable specific examples of the group represented by -A 3 -CO-OA 4 include 2-methoxycarbonylethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 2-n-propyloxycarbonylethyl group, 2-n-butyloxy group Carbonylethyl group, 2-n-pentyloxycarbonylethyl group, 2-n-hexyloxycarbonylethyl group, 2-benzyloxycarbonylethyl group, 2-phenoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n- Propyl group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-propyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-butyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-pentyloxycar A bornyl-n-propyl group, 3-n-hexyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-benzyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-phenoxycarbonyl-n-propyl group, etc. are mentioned. have.

이상, Rc10에 대해 설명했지만, Rc10로는 하기 식 (c4a) 또는 (c4b)으로 표시되는 기가 바람직하다.Although R c10 has been described above, as R c10 , a group represented by the following formula (c4a) or (c4b) is preferable.

Figure 112017103719171-pat00027
Figure 112017103719171-pat00027

(식 (c4a) 및 (c4b) 중, Rc13 및 Rc14는 각각 유기기이고, n6는 0 이상 4 이하의 정수이며, Rc13 및 R8가 벤젠환 위의 인접하는 위치에 존재하는 경우, Rc13와 Rc14가 서로 결합해 고리를 형성해도 되고, n7는 1 이상 8 이하의 정수이며, n8는 1 이상 5 이하의 정수이고, n9는 0 이상 (n6+3) 이하의 정수이며, Rc15는 유기기이다)(In formulas (c4a) and (c4b), R c13 and R c14 are each an organic group, n6 is an integer of 0 or more and 4 or less, and when R c13 and R 8 are present at adjacent positions on the benzene ring, R c13 and R c14 may be bonded to each other to form a ring, n7 is an integer of 1 or more and 8 or less, n8 is an integer of 1 or more and 5 or less, n9 is an integer of 0 or more (n6+3) or less, and R c15 is organic)

식 (c4a) 중의 Rc13 및 Rc14에 대한 유기기의 예는 Rc7와 동일하다. Rc13로는 알킬기 또는 페닐기가 바람직하다. Rc13가 알킬기인 경우, 그 탄소 원자 수는 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 5 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 3 이하가 특히 바람직하고, 1이 가장 바람직하다. 즉, Rc13는 메틸기인 것이 가장 바람직하다. Rc13와 Rc14가 결합해 고리를 형성하는 경우, 상기 고리는 방향족환이어도 되고, 지방족환이어도 된다. 식 (c4a)로 표시되는 기로서, Rc13와 Rc14가 고리를 형성하고 있는 기의 적합한 예로는 나프탈렌-1-일기나, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-5-일기 등을 들 수 있다. 상기 식 (c4a) 중, n6는 0 이상 4 이하의 정수이며, 0 또는 1인 것이 바람직하고, 0인 것이 보다 바람직하다.Examples of the organic group for R c13 and R c14 in the formula ( c4a ) are the same as for R c7 . R c13 is preferably an alkyl group or a phenyl group. When R c13 is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1 or more and 10 or less, more preferably 1 or more and 5 or less, particularly preferably 1 or more and 3 or less, and 1 is most preferable. That is, R c13 is most preferably a methyl group. When R c13 and R c14 combine to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. As the group represented by the formula (c4a), suitable examples of the group in which R c13 and R c14 form a ring include a naphthalen-1-yl group, a 1,2,3,4-tetrahydronaphthalen-5-yl group, and the like. can be heard In said formula (c4a), n6 is an integer of 0 or more and 4 or less, It is preferable that it is 0 or 1, and it is more preferable that it is 0.

상기 식 (c4b) 중, Rc15는 유기기이다. 유기기로는 Rc7에 대해 설명한 유기기와 동일한 기를 들 수 있다. 유기기 중에서는 알킬기가 바람직하다. 알킬기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 된다. 알킬기의 탄소 원자 수는 1 이상 10 이하가 바람직하고, 1 이상 5 이하가 보다 바람직하며, 1 이상 3 이하가 특히 바람직하다. Rc15로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기 등이 바람직하게 예시되고, 이들 중에서도, 메틸기인 것이 보다 바람직하다.In the formula (c4b), R c15 is an organic group. Examples of the organic group include the same groups as the organic groups described for R c7 . Among the organic groups, an alkyl group is preferable. The alkyl group may be linear or branched. 1 or more and 10 or less are preferable, as for the number of carbon atoms of an alkyl group, 1 or more and 5 or less are more preferable, 1 or more and 3 or less are especially preferable. R c15 is preferably exemplified by a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group and a butyl group, and among these, a methyl group is more preferable.

상기 식 (c4b) 중, n8는 1 이상 5 이하의 정수이며, 1 이상 3 이하의 정수가 바람직하고, 1 또는 2가 보다 바람직하다. 상기 식 (c4b) 중, n7는 0 이상 (n8+3) 이하이며, 0 이상 3 이하의 정수가 바람직하고, 0 이상 2 이하의 정수가 보다 바람직하며, 0이 특히 바람직하다. 상기 식 (c4b) 중, n7는 1 이상 8 이하의 정수이며, 1 이상 5 이하의 정수가 바람직하고, 1 이상 3 이하의 정수가 보다 바람직하며, 1 또는 2가 특히 바람직하다.In the formula (c4b), n8 is an integer of 1 or more and 5 or less, an integer of 1 or more and 3 or less is preferable, and 1 or 2 is more preferable. In the formula (c4b), n7 is 0 or more (n8+3), preferably an integer of 0 or more and 3 or less, more preferably an integer of 0 or more and 2 or less, and particularly preferably 0. In the formula (c4b), n7 is an integer of 1 or more and 8 or less, preferably an integer of 1 or more and 5 or less, more preferably an integer of 1 or more and 3 or less, and particularly preferably 1 or 2.

식 (c4) 중, Rc11는 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자 수 1 이상 11 이하의 알킬기 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기이다. Rc11가 알킬기인 경우에 가져도 되는 치환기로는 페닐기, 나프틸기 등이 바람직하게 예시된다. 또, Rc7가 아릴기인 경우에 가져도 되는 치환기로는 탄소 원자 수 1 이상 5 이하의 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자 등이 바람직하게 예시된다.In formula (c4), R c11 is a hydrogen atom, an optionally substituted C1-C11 alkyl group, or an optionally substituted aryl group. When R c11 is an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, etc. are preferably exemplified as the substituent which may be included. Moreover, as a substituent which you may have when R <c7> is an aryl group, a C1-C5 alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, etc. are illustrated preferably.

식 (c4) 중, Rc11로는 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 페닐기, 벤질기, 메틸페닐기, 나프틸기 등이 바람직하게 예시되고, 이들 중에서도, 메틸기 또는 페닐기가 보다 바람직하다.In formula (c4), R c11 is preferably a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, phenyl group, benzyl group, methylphenyl group, naphthyl group, etc., among these, A methyl group or a phenyl group is more preferable.

식 (c4)로 표시되는 화합물은, 전술한 식 (c5)로 표시되는 화합물에 포함되는 옥심기(>C=N-OH)를, >C=N-O-CORc11로 표시되는 옥심에스테르기로 변환하는 공정을 포함하는 방법에 의해 제조된다. Rc11는 식 (c4) 중의 Rc11와 동일하다.The compound represented by the formula (c4) converts an oxime group (>C=N-OH) contained in the compound represented by the aforementioned formula (c5) to an oxime ester group represented by >C=NO-COR c11 Manufactured by a method comprising a process. R c11 is the same as R c11 in formula (c4).

옥심기(>C=N-OH)의, >C=N-O-CORc11로 표시되는 옥심에스테르기로의 변환은, 전술한 식 (c5)로 표시되는 화합물과 아실화제를 반응시킴으로써 행해진다.Conversion of an oxime group (>C=N-OH) to the oxime ester group represented by >C=NO-COR c11 is performed by making the compound represented by Formula (c5) mentioned above and an acylating agent react.

-CORc11로 표시되는 아실기를 부여하는 아실화제로는 (Rc11CO)2O로 표시되는 산 무수물이나, Rc11COHal(Hal는 할로겐 원자)로 표시되는 산 할라이드를 들 수 있다.Examples of the acylating agent that imparts the acyl group represented by -COR c11 include an acid anhydride represented by (R c11 CO) 2 O and an acid halide represented by R c11 COHal (Hal is a halogen atom).

일반식 (c4)로 표시되는 화합물은, n5가 0인 경우, 예를 들면, 하기 도식 3에 따라서 합성할 수 있다. 도식 3에서는 하기 식 (c3-1)로 표시되는 플루오렌 유도체를 원료로서 이용한다. Rc7가 니트로기 또는 1가의 유기기인 경우, 식 (c3-1)로 표시되는 플루오렌 유도체는, 9위가 Rc8 및 Rc9로 치환된 플루오렌 유도체에, 주지의 방법에 의해서 치환기 Rc7를 도입해 얻을 수 있다. 9위가 Rc8 및 Rc9로 치환된 플루오렌 유도체는 예를 들면, Rc8 및 Rc9가 알킬기인 경우, 일본 특개 평06-234668호 공보에 기재되어 있는 바와 같이, 알칼리 금속 수산화물의 존재하에 비 프로톤성 극성 유기용매 중에서 플루오렌과 알킬화제를 반응시켜서 얻을 수 있다. 또, 플루오렌의 유기용매 용액 중에, 할로겐화 알킬과 같은 알킬화제와, 알칼리 금속 수산화물의 수용액과, 요오드화 테트라 부틸암모늄이나 칼륨 tert-부톡시드와 같은 상간(相間) 이동 촉매를 첨가해 알킬화 반응을 실시함으로써, 9,9-알킬 치환 플루오렌을 얻을 수 있다.The compound represented by the general formula (c4) can be synthesized according to, for example, Scheme 3 below when n5 is 0. In Scheme 3, a fluorene derivative represented by the following formula (c3-1) is used as a raw material. When R c7 is a nitro group or a monovalent organic group, the fluorene derivative represented by the formula (c3-1) is a fluorene derivative in which the 9th position is substituted with R c8 and R c9 by a known method with a substituent R c7 can be obtained by introducing A fluorene derivative substituted with R c8 and R c9 at position 9 is, for example, when R c8 and R c9 are an alkyl group, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 06-234668, in the presence of an alkali metal hydroxide It can be obtained by reacting fluorene with an alkylating agent in an aprotic polar organic solvent. In addition, an alkylating agent such as an alkyl halide, an aqueous solution of an alkali metal hydroxide, and a phase transfer catalyst such as tetrabutylammonium iodide or potassium tert-butoxide are added to an organic solvent solution of fluorene to perform an alkylation reaction. , 9,9-alkyl substituted fluorene can be obtained.

식 (c3-1)로 표시되는 플루오렌 유도체에, 프리델 크래프츠 반응에 의해서 -CO-CH2-Rc10로 표시되는 아실기를 도입해 식 (c3-3)로 표시되는 플루오렌 유도체를 얻을 수 있다. -CO-Rc10로 표시되는 아실기를 도입하기 위한 아실화제는 할로카르보닐 화합물이어도 되고, 산 무수물이어도 된다. 아실화제로는 식 (c3-2)로 표시되는 할로카르보닐 화합물이 바람직하다. 식 (c3-2) 중, Hal는 할로겐 원자이다. 플루오렌환 상에 아실기가 도입되는 위치는 프리델 크래프츠 반응의 조건을 적절히 변경하거나 아실화되는 위치의 다른 위치에 보호 및 탈보호를 실시하거나 하는 방법으로 선택할 수 있다.The fluorene derivative represented by the formula (c3-3) can be obtained by introducing an acyl group represented by -CO-CH 2 -R c10 to the fluorene derivative represented by the formula (c3-1) by Friedel-Crafts reaction. have. The acylating agent for introducing the acyl group represented by -CO-R c10 may be a halocarbonyl compound or an acid anhydride. As an acylating agent, the halocarbonyl compound represented by Formula (c3-2) is preferable. In formula (c3-2), Hal is a halogen atom. The position at which the acyl group is introduced onto the fluorene ring can be selected by appropriately changing the conditions of the Friedel-Crafts reaction or protecting and deprotecting at another position at the acylated position.

그 다음에, 얻어지는 식 (c3-3)로 표시되는 플루오렌 유도체 중의 -CO-Rc10로 표시되는 기를 -C(=N-OH)-Rc10로 표시되는 기로 변환해 식 (c3-4)로 표시되는 옥심 화합물을 얻는다. -CO-Rc10로 표시되는 기를 -C(=N-OH)-Rc10로 표시되는 기로 변환하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 히드록실아민에 의한 옥심화가 바람직하다. 식 (c3-4)의 옥심 화합물과 다음 식 (c3-5)로 표시되는 산 무수물((Rc11CO)2O) 또는 하기 식 (c3-6)로 표시되는 산 할라이드(Rc11COHal, Hal는 할로겐 원자)를 반응시켜 하기 식 (c3-7)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.Next, the group represented by -CO-R c10 in the fluorene derivative represented by formula (c3-3) obtained is converted into a group represented by -C(=N-OH)-R c10 to obtain formula (c3-4) to obtain an oxime compound represented by The method for converting the group represented by -CO-R c10 to the group represented by -C(=N-OH)-R c10 is not particularly limited, but oximation with hydroxylamine is preferable. The oxime compound of formula (c3-4) and the acid anhydride ((R c11 CO) 2 O) represented by the following formula (c3-5) or the acid halide (R c11 COHal, Hal) represented by the following formula (c3-6) is a halogen atom) to obtain a compound represented by the following formula (c3-7).

또한, 식 (c3-1), (c3-2), (c3-3), (c3-4), (c3-5), (c3-6) 및 (c3-7)에 있어서, Rc7, Rc8, Rc9, Rc10 및 Rc11는 식 (c4)과 동일하다.In addition, in formulas (c3-1), (c3-2), (c3-3), (c3-4), (c3-5), (c3-6) and (c3-7), R c7 , R c8 , R c9 , R c10 and R c11 are the same as in formula (c4).

또, 도식 3에 있어서, 식 (c3-2), 식 (c3-3) 및 식 (c3-4) 각각에 포함되는 Rc10는 동일해도 상이해도 된다. 즉, 식 (c3-2), 식 (c3-3) 및 식 (c3-4) 중의 Rc10는 도식 3으로서 나타내는 합성 과정에서 화학 수식을 받아도 된다. 화학 수식의 예로는 에스테르화, 에테르화, 아실화, 아미드화, 할로겐화, 아미노기 중의 수소 원자의 유기기에 의한 치환 등을 들 수 있다. Rc10가 받아도 되는 화학 수식은 이것들로 한정되지 않는다.Moreover, in Scheme 3, R c10 contained in each of Formula (c3-2), Formula (c3-3), and Formula (c3-4) may be same or different. That is, R c10 in the formulas (c3-2), (c3-3) and (c3-4) may undergo chemical modification in the synthesis process shown as Scheme 3. Examples of the chemical modification include esterification, etherification, acylation, amidation, halogenation, and substitution of a hydrogen atom in an amino group with an organic group. Chemical formulas that R c10 may accept are not limited to these.

<도식 3><Scheme 3>

Figure 112017103719171-pat00028
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식 (c4)로 표시되는 화합물은 n5가 1인 경우, 예를 들면, 하기 도식 4에 따라서 합성할 수 있다. 도식 4에서는 하기 식 (c4-1)로 표시되는 플루오렌 유도체를 원료로서 이용한다. 식 (c4-1)로 표시되는 플루오렌 유도체는 도식 3과 동일한 방법에 의해서, 식 (c3-1)로 표시되는 화합물에 프리델 크래프츠 반응에 의해서-CO-CH2-Rc10로 표시되는 아실기를 도입해 얻을 수 있다. 아실화제로는 식 (c3-8):Hal-CO-CH2-Rc10로 표시되는 카르복시산 할라이드가 바람직하다. 그 다음에, 식 (c4-1)로 표시되는 화합물 중의 Rc10와 카르보닐기의 사이에 존재하는 메틸렌기를 옥심화하여 다음 식 (c4-3)로 표시되는 케토옥심 화합물을 얻는다. 메틸렌기를 옥심화하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 염산의 존재하에 하기 일반식 (c4-2)로 표시되는 아초산 에스테르(RONO, R는 탄소 원자 수 1 이상 6 이하의 알킬기)를 반응시키는 방법이 바람직하다. 그 다음에, 하기 식 (c4-3)로 표시되는 케토옥심 화합물과 하기 식 (c4-4)로 표시되는 산 무수물(Rc11CO)2O) 또는 하기 식 (c4-5)로 표시되는 산 할라이드(Rc11COHal, Hal는 할로겐 원자)를 반응시켜 하기 식 (c4-6)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다. 또한, 하기 식 (c4-1), (c4-3), (c4-4), (c4-5) 및 (c4-6)에 있어서, Rc7, Rc8, Rc9, Rc10 및 Rc11는 식 (c4)과 동일하다.When n5 is 1, the compound represented by formula (c4) can be synthesized according to, for example, Scheme 4 below. In Scheme 4, a fluorene derivative represented by the following formula (c4-1) is used as a raw material. The fluorene derivative represented by formula (c4-1) is acyl represented by -CO-CH 2 -R c10 by Friedel-Crafts reaction with the compound represented by formula (c3-1) by the same method as in Scheme 3 It can be obtained by introducing The acylating agent is preferably a carboxylic acid halide represented by the formula (c3-8): Hal-CO-CH 2 -R c10 . Then, the methylene group present between R c10 and the carbonyl group in the compound represented by the formula (c4-1) is oximelated to obtain a ketoxime compound represented by the following formula (c4-3). The method for oximating the methylene group is not particularly limited, but a method of reacting a nitrite ester represented by the following general formula (c4-2) (RONO, R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) in the presence of hydrochloric acid is desirable. Then, the ketooxime compound represented by the following formula (c4-3) and the acid anhydride (R c11 CO) 2 O) represented by the following formula (c4-4) or an acid represented by the following formula (c4-5) A compound represented by the following formula (c4-6) can be obtained by reacting a halide (R c11 COHal, Hal is a halogen atom). In addition, in the following formulas (c4-1), (c4-3), (c4-4), (c4-5) and (c4-6), R c7 , R c8 , R c9 , R c10 and R c11 is the same as in formula (c4).

n5가 1인 경우, 식 (c4)로 표시되는 화합물을 함유하는 감광성 조성물을 이용해 형성되는 패턴 중에서의 이물의 발생을 보다 저감할 수 있는 경향이 있다.When n5 is 1, there exists a tendency which generation|occurrence|production of the foreign material in the pattern formed using the photosensitive composition containing the compound represented by Formula (c4) can be reduced more.

또, 도식 4에 있어서, 식 (c3-8), 식 (c4-1) 및 식 (c4-3) 각각에 포함되는 Rc10는 동일해도 상이해도 된다. 즉, 식 (c3-8), 식 (c4-1) 및 식 (c4-3) 중의 Rc10는 도식 4로서 나타내는 합성 과정에서 화학 수식을 받아도 된다. 화학 수식의 예로는 에스테르화, 에테르화, 아실화, 아미드화, 할로겐화, 아미노기 중의 수소 원자의 유기기에 의한 치환 등을 들 수 있다. Rc10가 받아도 되는 화학 수식은 이것들로 한정되지 않는다.Moreover, in Scheme 4, R c10 contained in each of Formula (c3-8), Formula (c4-1), and Formula (c4-3) may be same or different. That is, R c10 in formulas (c3-8), (c4-1), and (c4-3) may undergo chemical modification in the synthesis process shown in Scheme 4. Examples of the chemical modification include esterification, etherification, acylation, amidation, halogenation, and substitution of a hydrogen atom in an amino group with an organic group. Chemical formulas that R c10 may accept are not limited to these.

<도식 4><Scheme 4>

Figure 112017103719171-pat00029
Figure 112017103719171-pat00029

식 (c4)로 표시되는 화합물의 적합한 구체예로는 이하의 PI-43 ~ PI-83을 들 수 있다.Specific examples of the compound represented by the formula (c4) include the following PI-43 to PI-83.

Figure 112017103719171-pat00030
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Figure 112017103719171-pat00031
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상술한 대로, 감광성 조성물 중의 염화물 이온량은 1000 중량 ppm 이하이다. 이 때문에, 광중합 개시제(C) 중의 염화물 이온량도 어느 정도 저감되어 있을 필요가 있다.As described above, the amount of chloride ions in the photosensitive composition is 1000 ppm by weight or less. For this reason, the amount of chloride ions in a photoinitiator (C) also needs to be reduced to some extent.

이 점, 옥심에스테르 화합물(C1)은 그 제조 방법에 기인해 특히 염화물 이온을 포함하기 쉽다. 이 때문에 옥심에스테르 화합물(C1)의 정제는 중요하다.In this point, an oxime ester compound (C1) originates in the manufacturing method, and especially tends to contain a chloride ion. For this reason, purification of an oxime ester compound (C1) is important.

옥심에스테르 화합물(C1) 중의 염화물 이온량을 저감하는 방법으로는As a method of reducing the amount of chloride ions in the oxime ester compound (C1),

1) 염화 알루미늄을 이용해 프리델 크래프츠 반응을 실시하는 공정을 포함하는 방법에 의해 옥심에스테르 화합물(C1)을 합성하고, 또한 옥심에스테르 화합물의 염화물 이온의 함유량이 최대한 저감되도록 염화 알루미늄의 사용량을 조정하는 방법, 1) synthesizing the oxime ester compound (C1) by a method including a step of conducting a Friedel Crafts reaction using aluminum chloride, and adjusting the amount of aluminum chloride used so that the chloride ion content of the oxime ester compound is reduced Way,

2) 옥심에스테르 화합물(C1)로 표시되는 화합물의 합성에 있어서, 염소 원자를 포함하지 않는 산을 이용하는 방법,2) a method of using an acid containing no chlorine atom in the synthesis of the compound represented by the oxime ester compound (C1);

3) 옥심에스테르 화합물(C1)로 표시되는 화합물의 합성에 있어서, 프리델 크래프츠 아실화 반응 또는 옥심기의 아실화에서 아실화제로서 산 무수물을 이용하는 방법, 3) In the synthesis of the compound represented by the oxime ester compound (C1), a method of using an acid anhydride as an acylating agent in a Friedel-Crafts acylation reaction or acylation of an oxime group;

4) 옥심에스테르 화합물(C1)로 표시되는 화합물의 조(粗) 정제품을 증류, 재결정, 세정 및 컬럼 크로마토그래피로 이루어진 군으로부터 선택되는 1 이상의 방법에 의해 정제하는 방법, 4) a method of purifying the crude purified product of the compound represented by the oxime ester compound (C1) by at least one method selected from the group consisting of distillation, recrystallization, washing and column chromatography;

5) 옥심에스테르 화합물(C1)로 표시되는 화합물의 조 정제품을 소수성 유기용제에 녹인 용액을 세정한 후에, 세정된 용액으로부터 옥심에스테르 화합물(C1)로 표시되는 화합물을 회수하는 방법, 및 5) a method of recovering the compound represented by the oxime ester compound (C1) from the washed solution after washing a solution in which a prepared product of the compound represented by the oxime ester compound (C1) is dissolved in a hydrophobic organic solvent; and

6) 옥심에스테르 화합물(C1)로 표시되는 화합물의 조 정제품을 소수성 유기용제에 녹인 용액을 음이온 교환 수지에 의해 처리한 후, 옥심에스테르 화합물(C1)을 회수하는 방법을 들 수 있다.6) A method of recovering the oxime ester compound (C1) after treating a solution obtained by dissolving a prepared product of the compound represented by the oxime ester compound (C1) in a hydrophobic organic solvent with an anion exchange resin.

(화합물(C2))(Compound (C2))

감광성 조성물은 광중합 개시제(C)로서 전술한 옥심에스테르 화합물(C1)과 함께, 옥심에스테르 화합물 이외의 화합물(C2)을 포함한다. 화합물(C2)의 종류는 옥심에스테르 화합물이 아니라, 광중합 개시제로서 작용할 수 있는 한 특별히 한정되지 않는다.A photosensitive composition contains compounds (C2) other than an oxime ester compound with the oxime ester compound (C1) mentioned above as a photoinitiator (C). The kind of compound (C2) is not specifically limited as long as it is not an oxime ester compound but can act as a photoinitiator.

화합물(C2)로서 구체적으로는 구체적으로는 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 비스(4-디메틸아미노페닐)케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 2-(벤조일옥시이미노)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1-옥타논, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 4-벤조일-4'-메틸디메틸설피드, 4-디메틸아미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산 에틸, 4-디메틸아미노벤조산 부틸, 4-디메틸아미노-2-에틸헥실벤조산, 4-디메틸아미노-2-이소아밀벤조산, 벤질-β-메톡시에틸아세탈, 벤질디메틸케탈, o-벤조일벤조산메틸, 2,4-디에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤, 티옥산텐, 2-클로로티옥산텐, 2,4-디에틸티옥산텐, 2-메틸티옥산텐, 2-이소프로필티옥산텐, 2-에틸안트라퀴논, 옥타메틸안트라퀴논, 1,2-벤즈안트라퀴논, 2,3-디페닐안트라퀴논, 아조비스이소부티로니트릴, 벤조일퍼옥시드, 쿠멘히드로퍼옥시드, 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토벤조티아졸, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디(m-메톡시페닐)-이미다졸일 2량체, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸일 2량체, 벤조페논, 2-클로로벤조페논, p,p'-비스디메틸아미노벤조페논, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 벤질, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인부틸에테르, 아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, p-디메틸아미노프로피오페논, 디클로로아세토페논, 트리클로로아세토페논, p-tert-부틸아세토페논, p-디메틸아미노아세토페논, p-tert-부틸트리클로로아세토페논, p-tert-부틸디클로로아세토페논, α,α-디클로로-4-페녹시아세토페논, 티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 디벤조스베론, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 9-페닐아크리딘, 1,7-비스-(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스-(9-아크리디닐)펜탄, 1,3-비스-(9-아크리디닐) 프로판, p-메톡시트리아진, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)스티릴페닐s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진 등을 들 수 있다. 이들 광중합 개시제는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Specifically, as the compound (C2), 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-[4-(2-hydroxyethoxy) )phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-(4- dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, bis(4-dimethylaminophenyl)ketone, 2- Methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one , 2-(benzoyloxyimino)-1-[4-(phenylthio)phenyl]-1-octanone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4-benzoyl-4'-methyldimethylsulf Feed, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzoic acid methyl, 4-dimethylaminobenzoic acid ethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid butyl, 4-dimethylamino-2-ethylhexylbenzoic acid, 4-dimethylamino-2-isoamylbenzoic acid , benzyl-β-methoxyethyl acetal, benzyldimethyl ketal, methyl o-benzoylbenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 1-chloro- 4-propoxythioxanthone, thioxanthene, 2-chlorothioxanthene, 2,4-diethylthioxanthene, 2-methylthioxanthene, 2-isopropylthioxanthene, 2-ethylanthraquinone, Octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercapto Benzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-(o-chlorophenyl)-4,5-di(m-methoxyphenyl)-imidazolyl dimer, 2-(o-chlorophenyl)-4 , 5-diphenylimidazolyl dimer, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, p,p'-bisdimethylaminobenzophenone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzo Phenone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, Benzoinbutyl ether, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p -Dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, α,α-dichloro-4-phenoxyacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, dibenzosverone, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9-phenyla Creidine, 1,7-bis-(9-acridinyl)heptane, 1,5-bis-(9-acridinyl)pentane, 1,3-bis-(9-acridinyl)propane, p- Methoxytriazine, 2,4,6-tris(trichloromethyl)-s-triazine, 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2-(5) -Methylfuran-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-4,6-bis( Trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2-(4-diethylamino-2-methylphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2 -(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl) -s-triazine, 2-(4-ethoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-n-butoxyphenyl)-4,6-bis (trichloromethyl)-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6-(3-bromo-4-methoxy)phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl -6- (2-bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) styrylphenyl s-tri and azine and 2,4-bis-trichloromethyl-6-(2-bromo-4-methoxy)styrylphenyl-s-triazine. These photoinitiators can be used individually or in combination of 2 or more types.

이들 중에서는 양호한 감도를 유지하면서, 해상성을 향상시키기 쉽다는 점에서, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디(m-메톡시페닐)-이미다졸일 2량체, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸일 2량체 등의 이미다졸 화합물이나, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온 등의 알킬페논 화합물이 바람직하다. 알킬페논 화합물 중에서는 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온 등의 α-아미노알킬페논 화합물이 바람직하다.Among them, 2-(o-chlorophenyl)-4,5-di(m-methoxyphenyl)-imidazolyl dimer, 2-( imidazole compounds such as o-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 2-methyl-1-[4-(methyl Alkylphenone compounds such as thio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one and 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one are preferred. Among the alkylphenone compounds, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl) ?-aminoalkylphenone compounds such as )-butan-1-one are preferred.

화합물(C2)에 대해서, 옥심에스테르 화합물(C1)과 동일하게 정제되어 염화물 이온이 저감되는 것이 바람직하다.It is preferable to refine|purify similarly to an oxime ester compound (C1) with respect to a compound (C2), and to reduce a chloride ion.

광중합 개시제(C)의 함유량은 후술하는 용제(S)의 중량을 제외한 감광성 조성물의 중량에 대해서 0.5 중량% 이상 30 중량% 이하인 것이 바람직하고, 1 중량% 이상 20 중량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 광중합 개시제(C)의 함유량을 상기의 범위로 함으로써, 패턴 형상의 불량이 생기기 어려운 감광성 조성물을 얻을 수 있다.The content of the photoinitiator (C) is preferably 0.5 wt% or more and 30 wt% or less, more preferably 1 wt% or more and 20 wt% or less, based on the weight of the photosensitive composition excluding the weight of the solvent (S) to be described later. By making content of a photoinitiator (C) into said range, the photosensitive composition which the defect of a pattern shape does not produce easily can be obtained.

광중합 개시제(C) 중의 옥심에스테르 화합물(C1)의 함유량은 양호한 감도와 양호한 해상성을 양립시키기 쉽다는 점에서, 광중합 개시제(C)의 중량에 대해서 10 중량% 이상 99.5 중량% 이하가 바람직하고, 30 중량% 이상 97 중량% 이하가 보다 바람직하며, 50 중량% 이상 95 중량% 이하가 특히 바람직하다. 광중합 개시제(C) 중의 화합물(C2)의 함유량은 0.5 중량% 이상 90 중량% 이하가 바람직하고, 1 중량% 이상 60 중량% 이하가 보다 바람직하며, 10 이상 중량% 이상 40 중량% 이하가 특히 바람직하다.The content of the oxime ester compound (C1) in the photoinitiator (C) is preferably 10% by weight or more and 99.5% by weight or less with respect to the weight of the photoinitiator (C) from the viewpoint of making it easy to achieve both good sensitivity and good resolution, 30 wt% or more and 97 wt% or less are more preferable, and 50 wt% or more and 95 wt% or less are particularly preferable. The content of the compound (C2) in the photoinitiator (C) is preferably 0.5 wt% or more and 90 wt% or less, more preferably 1 wt% or more and 60 wt% or less, and particularly preferably 10 wt% or more and 40 wt% or less do.

또, 광중합 개시제(C)에 광 개시조제를 조합해도 된다. 광 개시조제로는 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노벤조산 메틸, 4-디메틸아미노벤조산 에틸, 4-디메틸아미노벤조산 이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, 벤조산 2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토-5-메톡시벤조티아졸, 3-머캅토프로피온산, 3-머캅토프로피온산 메틸, 펜타에리트리톨 테트라머캅토아세테이트, 3-머캅토프로피오네이트 등의 티올 화합물 등을 들 수 있다. 이들 광 개시조제는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Moreover, you may combine a photoinitiation adjuvant with a photoinitiator (C). Examples of the photoinitiator include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, benzoic acid 2-dimethylaminoethyl, N,N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10 -diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercapto-5-methoxy Thiol compounds, such as benzothiazole, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid methyl, pentaerythritol tetramercaptoacetate, 3-mercaptopropionate, etc. are mentioned. These photoinitiation adjuvants can be used individually or in combination of 2 or more types.

<착색제(D)><Colorant (D)>

감광성 조성물은 착색제(D)를 포함하고 있어도 된다. 착색제(D)로는 특별히 한정되지 않는다. 착색제(D)로는, 예를 들면, 컬러 인덱스(C.I.;The Society of Dyers and Colourists사 발행)에 있어서, 안료(Pigment)로 분류되고 있는 화합물, 구체적으로는 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.) 번호가 붙여져 있는 화합물을 이용하는 것이 바람직하다.The photosensitive composition may contain the coloring agent (D). It does not specifically limit as a coloring agent (D). As the colorant (D), for example, a compound classified as a pigment in the color index (C.I.; published by The Society of Dyers and Colorists), specifically, the color index (C.I.) number as follows It is preferable to use the attached compound.

적합하게 사용할 수 있는 황색 안료의 예로는 C.I. 피그먼트 옐로우 1(이하, 「C.I. 피그먼트 옐로우」는 동일하고, 번호만을 기재한다), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180, 및 185를 들 수 있다.Examples of yellow pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Yellow 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Yellow" is the same and only numbers are described), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 60 , 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119 , 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180, and 185 can be heard

적합하게 사용할 수 있는 오렌지색 안료의 예로는 C.I. 피그먼트 오렌지 1(이하, 「C.I. 피그먼트 오렌지」는 동일하고, 번호만을 기재한다), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 55, 59, 61, 63, 64, 71, 및 73을 들 수 있다.Examples of orange pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Orange 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Orange" is the same, and only numbers are described), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51 , 55, 59, 61, 63, 64, 71, and 73.

적합하게 사용할 수 있는 보라색 안료의 예로는 C.I. 피그먼트 바이올렛 1(이하, 「C.I. 피그먼트 바이올렛」은 동일하고, 번호만을 기재한다), 19, 23, 29, 30, 32,36, 37, 38, 39, 40, 및 50을 들 수 있다.Examples of purple pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Violet 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Violet" is the same and only the numbers are described), 19, 23, 29, 30, 32,36, 37, 38, 39, 40, and 50 are mentioned.

적합하게 사용할 수 있는 적색 안료의 예로는 C.I. 피그먼트 레드 1(이하, 「C.I. 피그먼트 레드」는 동일하고, 번호만을 기재한다), 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32,37, 38, 40, 41, 42, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 53:1, 57, 57:1, 57:2, 58:2, 58:4, 60:1, 63:1, 63:2, 64:1, 81:1, 83, 88, 90:1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, 및 265를 들 수 있다.Examples of red pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Red 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Red" is the same and only numbers are described), 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16 , 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32,37, 38, 40, 41, 42, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49 :2, 50:1, 52:1, 53:1, 57, 57:1, 57:2, 58:2, 58:4, 60:1, 63:1, 63:2, 64:1, 81 :1, 83, 88, 90:1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168 , 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217 , 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, and 265.

적합하게 사용할 수 있는 청색 안료의 예로는 C.I. 피그먼트 블루 1(이하, 「C.I. 피그먼트 블루」는 동일하고, 번호만을 기재한다), 2, 15, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 64, 및 66을 들 수 있다.Examples of blue pigments that can be suitably used include C.I. Pigment Blue 1 (hereinafter, "C.I. Pigment Blue" is the same and only the numbers are described), 2, 15, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 64, and 66 can be heard

적합하게 사용할 수 있는, 상기 외의 색상의 안료의 예로는 C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 37 등의 녹색 안료, C.I. 피그먼트 브라운 23, C.I. 피그먼트 브라운 25, C.I. 피그먼트 브라운 26, C.I. 피그먼트 브라운 28 등의 갈색 안료, C.I. 피그먼트 블랙 1, C.I. 피그먼트 블랙 7 등의 흑색 안료를 들 수 있다.Examples of pigments other than the above that can be suitably used include C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Green pigments such as Pigment Green 37, C.I. Pigment Brown 23, C.I. Pigment Brown 25, C.I. Pigment Brown 26, C.I. Brown pigments such as Pigment Brown 28, C.I. Pigment Black 1, C.I. Black pigments, such as Pigment Black 7, are mentioned.

또, 감광성 조성물은 착색제(D)로서 차광제를 포함하고 있어도 된다. 차광제를 포함하는 감광성 조성물은 액정 표시 패널에 있어서의 블랙 매트릭스 또는 블랙 컬럼 스페이서의 형성이나, 유기 EL 소자에 있어서의 발광층 구획용의 뱅크 형성에 적합하게 이용된다.Moreover, the photosensitive composition may contain the light-shielding agent as a coloring agent (D). The photosensitive composition containing a light shielding agent is used suitably for formation of the black matrix or black column spacer in a liquid crystal display panel, and bank formation for the light emitting layer division in organic electroluminescent element.

착색제(D)를 차광제로 하는 경우, 차광제로는 흑색 안료나 보라색 안료를 이용하는 것이 바람직하다. 흑색 안료나 보라색 안료의 예로는 카본 블랙, 페릴렌계 안료, 락탐계 안료, 티탄 블랙, 구리, 철, 망간, 코발트, 크롬, 니켈, 아연, 칼슘, 은 등의 금속 산화물, 복합 산화물, 금속 황화물, 금속 락트산염 또는 금속 탄산염 등, 유기물, 무기물을 불문하고 각종의 안료를 들 수 있다. When using a colorant (D) as a light-shielding agent, it is preferable to use a black pigment or a purple pigment as a light-shielding agent. Examples of black pigments and purple pigments include carbon black, perylene pigments, lactam pigments, titanium black, copper, iron, manganese, cobalt, chromium, nickel, zinc, calcium, metal oxides such as silver, complex oxides, metal sulfides, Various pigments are mentioned regardless of organic substances, such as a metal lactate and a metal carbonate, and an inorganic substance.

카본 블랙으로는 채널 블랙, 퍼니스 블랙, 서멀 블랙, 램프 블랙 등의 공지의 카본 블랙을 이용할 수 있다. 또, 수지 피복 카본 블랙을 사용해도 된다.As carbon black, well-known carbon black, such as channel black, furnace black, thermal black, and lamp black, can be used. Moreover, you may use resin-coated carbon black.

카본 블랙으로는 산성 기를 도입하는 처리가 실시된 카본 블랙도 바람직하다. 카본 블랙에 도입되는 산성 기는 브뢴스테드의 정의에 의한 산성을 나타내는 관능기이다. 산성 기의 구체예로는 카르복시기, 설폰산 기, 인산 기 등을 들 수 있다. 카본 블랙에 도입된 산성 기는 염을 형성하고 있어도 된다. 산성 기와 염을 형성하는 양이온은, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 양이온의 예로는 여러 가지의 금속 이온, 함질소 화합물의 양이온, 암모늄 이온 등을 들 수 있고, 나트륨 이온, 칼륨 이온, 리튬 이온 등의 알칼리 금속 이온이나, 암모늄 이온이 바람직하다.As carbon black, carbon black which has been subjected to a treatment for introducing an acidic group is also preferable. The acidic group introduced into carbon black is a functional group exhibiting acidity according to Bronsted's definition. Specific examples of the acidic group include a carboxyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group. The acidic group introduced into the carbon black may form a salt. The cation which forms a salt with an acidic group is not specifically limited in the range which does not impair the objective of this invention. Examples of the cation include various metal ions, cations of nitrogen-containing compounds, ammonium ions, and the like, and alkali metal ions such as sodium ions, potassium ions and lithium ions and ammonium ions are preferable.

이상 설명한 산성 기를 도입하는 처리가 실시된 카본 블랙 중에서는 감광성 조성물을 이용해 형성되는 차광성 경화막의 고저항을 달성하는 관점에서, 카르복시산 기, 카르복시산 염기, 설폰산 기, 및 설폰산 염기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 관능기를 갖는 카본 블랙이 바람직하다.Among the carbon blacks subjected to the treatment for introducing an acidic group described above, from the viewpoint of achieving high resistance of a light-shielding cured film formed using the photosensitive composition, from the group consisting of a carboxylic acid group, a carboxylic acid base, a sulfonic acid group, and a sulfonic acid base Carbon black having one or more selected functional groups is preferred.

카본 블랙에 산성 기를 도입하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 산성 기를 도입하는 방법으로는 예를 들면 이하의 방법을 들 수 있다.The method for introducing an acidic group into the carbon black is not particularly limited. As a method of introducing an acidic group, for example, the following method is mentioned.

1) 진한 황산, 발연 황산, 클로로설폰산 등을 이용하는 직접 치환법이나, 아황산염, 아황산 수소염 등을 이용하는 간접 치환법에 의해 카본 블랙에 설폰산기를 도입하는 방법.1) A method of introducing a sulfonic acid group into carbon black by a direct substitution method using concentrated sulfuric acid, fuming sulfuric acid, chlorosulfonic acid, or the like, or an indirect substitution method using a sulfite, hydrogen sulfite, or the like.

2) 아미노기와 산성 기를 갖는 유기 화합물과 카본 블랙을 디아조 커플링 시키는 방법.2) A method of diazo coupling an organic compound having an amino group and an acid group and carbon black.

3) 할로겐 원자와 산성 기를 갖는 유기 화합물과 수산기를 갖는 카본 블랙을 윌리엄슨(Williamson)의 에테르화법에 의해 반응시키는 방법.3) A method in which an organic compound having a halogen atom and an acid group and carbon black having a hydroxyl group are reacted by the etherification method of Williamson.

4) 할로카르보닐기와 보호기에 의해 보호된 산성 기를 갖는 유기 화합물과 수산기를 갖는 카본 블랙을 반응시키는 방법.4) A method of reacting an organic compound having an acidic group protected by a halocarbonyl group and a protecting group with carbon black having a hydroxyl group.

5) 할로카르보닐기와 보호기에 의해 보호된 산성 기를 갖는 유기 화합물을 이용하여 카본 블랙에 대해서 프리델 크래프츠 반응을 실시한 후, 탈보호 하는 방법.5) A method in which a Friedel-Crafts reaction is performed on carbon black using an organic compound having an acidic group protected by a halocarbonyl group and a protecting group, followed by deprotection.

이들 방법 중에서는 산성 기의 도입 처리가 용이하면서도 안전하기 때문에, 방법 2)가 바람직하다. 방법 2)에서 사용되는 아미노기와 산성 기를 갖는 유기 화합물로는 방향족 기에 아미노기와 산성 기가 결합한 화합물이 바람직하다. 이러한 화합물의 예로는 설포닐산과 같은 아미노벤젠설폰산이나, 4-아미노벤조산과 같은 아미노벤조산을 들 수 있다.Among these methods, method 2) is preferable because the acidic group introduction treatment is easy and safe. As the organic compound having an amino group and an acid group used in method 2), a compound in which an amino group and an acid group are bonded to an aromatic group is preferable. Examples of such compounds include aminobenzenesulfonic acid, such as sulfonyl acid, or aminobenzoic acid, such as 4-aminobenzoic acid.

카본 블랙에 도입되는 산성 기의 몰수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 카본 블랙에 도입되는 산성 기의 몰수는 카본 블랙 100g에 대해서, 1 mmol 이상 200 mmol 이하가 바람직하고, 5 mmol 이상 100 mmol 이하가 보다 바람직하다.The number of moles of acidic groups introduced into carbon black is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. 1 mmol or more and 200 mmol or less are preferable with respect to 100 g of carbon black, and, as for the mole number of the acidic group introduce|transduced into carbon black, 5 mmol or more and 100 mmol or less are more preferable.

산성 기가 도입된 카본 블랙은 수지에 의한 피복 처리가 실시되어 있어도 된다.The carbon black into which an acidic group has been introduced may be coated with a resin.

수지에 의해 피복된 카본 블랙을 포함하는 감광성 조성물을 이용하는 경우, 차광성 및 절연성이 뛰어나고, 표면 반사율이 낮은 차광성의 경화막을 형성하기 쉽다. 또한, 수지에 의한 피복 처리에 의해서, 감광성 조성물을 이용해 형성되는 차광성 경화막의 유전율에 대한 악영향은 특별히 생기지 않는다. 카본 블랙의 피복에 사용할 수 있는 수지의 예로는 페놀 수지, 멜라민 수지, 크실렌 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 글립탈 수지, 에폭시 수지, 알킬벤젠 수지 등의 열경화성 수지나, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 변성 폴리페닐렌 옥사이드, 폴리설폰, 폴리파라페닐렌 테레프탈아미드, 폴리 아미드이미드, 폴리이미드, 폴리아미노비스말레이미드, 폴리에테르설포폴리페닐렌설폰, 폴리알릴레이트, 폴리에테르에테르케톤 등의 열가소성 수지를 들 수 있다. 카본 블랙에 대한 수지의 피복량은, 카본 블랙의 중량과 수지의 중량의 합계에 대해서 1 중량% 이상 30 중량% 이하가 바람직하다.When using the photosensitive composition containing carbon black coat|covered with resin, it is excellent in light-shielding property and insulation, and it is easy to form the light-shielding cured film with low surface reflectance. Moreover, the adverse effect with respect to the dielectric constant of the light-shielding cured film formed using the photosensitive composition by the coating process with resin in particular does not arise. Examples of the resin that can be used for coating carbon black include thermosetting resins such as phenol resin, melamine resin, xylene resin, diallyl phthalate resin, glyphtal resin, epoxy resin, and alkylbenzene resin, polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate , polybutylene terephthalate, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyparaphenylene terephthalamide, polyamideimide, polyimide, polyaminobismaleimide, polyethersulfopolyphenylenesulfone, polyallylate, polyether and thermoplastic resins such as ether ketone. As for the coating amount of resin with respect to carbon black, 1 weight% or more and 30 weight% or less are preferable with respect to the sum total of the weight of carbon black and weight of resin.

또, 차광제로는 페릴렌계 안료도 바람직하다. 페릴렌계 안료의 구체예로는 하기 식 (d-1)로 표시되는 페릴렌계 안료, 하기 식 (d-2)로 표시되는 페릴렌계 안료, 및 하기 식 (d-3)로 표시되는 페릴렌계 안료를 들 수 있다. 시판품에서는 BASF사 제의 제품명 K0084 및 K0086나, 피그먼트 블랙 21, 30, 31, 32,33 및 34 등을 페릴렌계 안료로서 바람직하게 이용할 수 있다.Moreover, as a light-shielding agent, a perylene type pigment is also preferable. Specific examples of the perylene-based pigment include a perylene-based pigment represented by the following formula (d-1), a perylene-based pigment represented by the following formula (d-2), and a perylene-based pigment represented by the following formula (d-3) can be heard In a commercial item, product names K0084 and K0086 by BASF Corporation, Pigment Black 21, 30, 31, 32, 33, 34, etc. can be used preferably as a perylene type pigment.

Figure 112017103719171-pat00032
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식 (d-1) 중, Rd1 및 Rd2는 각각 독립적으로 탄소 원자 수 1 이상 3 이하의 알킬렌기를 나타내고, Rd3 및 Rd4는 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 메톡시기 또는 아세틸기를 나타낸다.In the formula (d-1), R d1 and R d2 each independently represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and R d3 and R d4 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methoxy group or an acetyl group. .

Figure 112017103719171-pat00033
Figure 112017103719171-pat00033

식 (d-2) 중, Rd5 및 Rd6는 각각 독립적으로 탄소 원자 수 1 이상 7 이하의 알킬렌기를 나타낸다.In formula (d-2), R d5 and R d6 each independently represent an alkylene group having 1 or more and 7 or less carbon atoms.

Figure 112017103719171-pat00034
Figure 112017103719171-pat00034

식 (d-3) 중, Rd7 및 Rd8는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자 수 1 이상 22 이하의 알킬기이며, N, O, S 또는 P의 헤테로 원자를 포함하고 있어도 된다. Rd7 및 Rd8가 알킬기인 경우, 상기 알킬기는 직쇄상이어도, 분기쇄상이어도 된다.In formula (d-3), R d7 and R d8 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, and may contain a heteroatom of N, O, S or P. When R d7 and R d8 are an alkyl group, the alkyl group may be linear or branched.

상기의 식 (d-1)로 표시되는 화합물, 식 (d-2)로 표시되는 화합물, 및 식 (d-3)로 표시되는 화합물은, 예를 들면, 일본 특개 소62-1753호 공보, 일본 특공 소63-26784호 공보에 기재된 방법을 이용해 합성할 수 있다. 즉, 페릴렌-3,5,9,10-테트라카르복시산 또는 그 2 무수물과 아민류를 원료로 하여, 물 또는 유기용매 중에서 가열 반응을 실시한다. 그리고, 얻어진 조제물을 황산 중에서 재침전시키던지, 또는 물, 유기용매 혹은 이들 혼합 용매 중에서 재결정시킴으로써 목적물을 얻을 수 있다.The compound represented by the above formula (d-1), the compound represented by the formula (d-2), and the compound represented by the formula (d-3) include, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-1753; It can be synthesized using the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-26784. That is, using perylene-3,5,9,10-tetracarboxylic acid or its dianhydride and amines as raw materials, heating reaction is performed in water or an organic solvent. Then, the target product can be obtained by recrystallizing the obtained preparation in sulfuric acid or recrystallizing it in water, an organic solvent, or a mixed solvent thereof.

감광성 조성물 중에 있어서 페릴렌계 안료를 양호하게 분산시키기 위해서는 페릴렌계 안료의 평균 입자 지름은 10㎚ 이상 1000㎚ 이하인 것이 바람직하다.In order to disperse the perylene-type pigment favorably in the photosensitive composition, it is preferable that the average particle diameters of a perylene-type pigment are 10 nm or more and 1000 nm or less.

또, 차광제로는 락탐계 안료를 포함시킬 수도 있다. 락탐계 안료로는 예를 들면, 하기 식 (d-4)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.Moreover, a lactam type pigment can also be included as a light-shielding agent. As a lactam pigment, the compound represented by following formula (d-4) is mentioned, for example.

Figure 112017103719171-pat00035
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식 (d-4) 중, Xd는 이중 결합을 나타내고, 기하 이성체로서 각각 독립적으로 E체 또는 Z체이며, Rd9는 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기, 니트로기, 메톡시기, 브롬 원자, 염소 원자, 불소 원자, 카르복시기 또는 술포기를 나타내며, Rd10는 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기 또는 페닐기를 나타내고, Rd11는 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기 또는 염소 원자를 나타내다.In the formula (d-4), X d represents a double bond and each independently represents an E or Z form as a geometric isomer, and R d9 each independently represents a hydrogen atom, a methyl group, a nitro group, a methoxy group, a bromine atom, or chlorine An atom, a fluorine atom, a carboxy group or a sulfo group is represented, R d10 each independently represents a hydrogen atom, a methyl group or a phenyl group, and R d11 each independently represents a hydrogen atom, a methyl group or a chlorine atom.

식 (d-4)로 표시되는 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해 이용할 수 있다.The compound represented by Formula (d-4) can be used individually or in combination of 2 or more type.

Rd9는 식 (d-4)로 표시되는 화합물의 제조가 용이하다는 점에서, 디히드로인드론환의 6위에 결합하는 것이 바람직하고, Rd11는 디히드로인드론환의 4위에 결합하는 것이 바람직하다. 동일한 관점에서, Rd9, Rd10, 및 Rd11는 바람직하게는 수소 원자이다.R d9 is preferably bonded to the 6th position of the dihydroindrone ring from the viewpoint of easy preparation of the compound represented by the formula (d-4), and R d11 is preferably bonded to the 4th position of the dihydroindrone ring. From the same viewpoint, R d9 , R d10 , and R d11 are preferably hydrogen atoms.

식 (d-4)로 표시되는 화합물은, 기하 이성체로서 EE체, ZZ체, EZ체를 가지지만, 이들 중 어느 하나의 단일 화합물이어도 되고, 이들 기하 이성체의 혼합물이어도 된다.The compound represented by the formula (d-4) has an EE form, a ZZ form, and an EZ form as geometric isomers, but any single compound of these may be used, or a mixture of these geometric isomers may be sufficient.

식 (d-4)로 표시되는 화합물은, 예를 들면, 국제 공개 제2000/24736호, 국제 공개 제2010/081624호에 기재된 방법에 의해 제조할 수 있다.The compound represented by a formula (d-4) can be manufactured by the method of international publication 2000/24736 and international publication 2010/081624, for example.

조성물 중에서 락탐계 안료를 양호하게 분산시키기 위해서는 락탐계 안료의 평균 입자 지름은 10㎚ 이상 1000㎚ 이하인 것이 바람직하다.In order to disperse|distribute the lactam type pigment favorably in a composition, it is preferable that the average particle diameter of a lactam type pigment is 10 nm or more and 1000 nm or less.

또한, 은주석(AgSn) 합금을 주성분으로 하는 미립자(이하, 「AgSn 합금 미립자」라고 한다)도 차광제로서 바람직하게 이용된다. 이 AgSn 합금 미립자는 AgSn 합금이 주성분이면 바람직하고, 다른 금속 성분으로서 예를 들면, Ni, Pd, Au 등이 포함되어 있어도 된다.Further, fine particles containing a silver tin (AgSn) alloy as a main component (hereinafter referred to as "AgSn alloy fine particles") are also preferably used as a light-shielding agent. This AgSn alloy fine particle is preferably an AgSn alloy as a main component, and Ni, Pd, Au, etc. may be contained as another metal component, for example.

이 AgSn 합금 미립자의 평균 입자 지름은 1㎚ 이상 300㎚ 이하가 바람직하다.As for the average particle diameter of this AgSn alloy fine particle, 1 nm or more and 300 nm or less are preferable.

AgSn 합금은 화학식 AgxSn으로 나타냈을 경우, 화학적으로 안정된 AgSn 합금이 얻어지는 x의 범위는 1≤x≤10이며, 화학적 안정성과 흑색도가 동시에 얻어지는 x의 범위는 3≤x≤4이다.When the AgSn alloy is represented by the formula AgxSn, the range of x in which a chemically stable AgSn alloy is obtained is 1≤x≤10, and the range of x in which chemical stability and blackness are obtained simultaneously is 3≤x≤4.

여기서, 상기 x의 범위에서 AgSn 합금 중의 Ag의 중량비를 구하면,Here, if the weight ratio of Ag in the AgSn alloy is obtained in the range of x,

x=1의 경우, Ag/AgSn = 0.4762For x=1, Ag/AgSn = 0.4762

x=3의 경우, 3·Ag/Ag3Sn = 0.7317For x=3, 3 Ag/Ag3Sn = 0.7317

x=4의 경우, 4·Ag/Ag4Sn = 0.7843For x=4, 4 Ag/Ag4Sn = 0.7843

x=10의 경우, 10·Ag/Ag10Sn = 0.9008For x=10, 10 Ag/Ag10Sn = 0.9008

이 된다.becomes this

따라서, 이 AgSn 합금은 Ag를 47.6 중량% 이상 90 중량% 이하 함유했을 경우에 화학적으로 안정하고, Ag를 73.17 중량% 이상 78.43 중량% 이하 함유했을 경우에 Ag량에 대해 효과적으로 화학적 안정성과 흑색도를 얻을 수 있다.Therefore, this AgSn alloy is chemically stable when it contains 47.6 wt% or more and 90 wt% or less of Ag, and when it contains 73.17 wt% or more and 78.43 wt% or less of Ag, chemical stability and blackness are effectively improved with respect to the amount of Ag. can be obtained

이 AgSn 합금 미립자는 통상의 미립자 합성법을 이용해 제작할 수 있다. 미립자 합성법으로는 기상 반응법, 분무 열분해법, 아토마이즈법, 액상 반응법, 동결건조법, 수열 합성법 등을 들 수 있다.These AgSn alloy fine particles can be produced using a normal fine particle synthesis method. Examples of the method for synthesizing the fine particles include a gas phase reaction method, a spray pyrolysis method, an atomization method, a liquid phase reaction method, a freeze-drying method, and a hydrothermal synthesis method.

AgSn 합금 미립자의 절연성이 높지만, 감광성 조성물의 용도에 따라서는 추가로 절연성을 높이기 위해 표면을 절연막으로 덮도록 해도 상관없다. 이러한 절연막의 재료로는 금속 산화물 또는 유기 고분자 화합물이 적합하다.Although the insulation of AgSn alloy fine particles is high, depending on the use of the photosensitive composition, in order to further improve insulation, you may make it cover the surface with an insulation film. A metal oxide or an organic polymer compound is suitable as a material for such an insulating film.

금속 산화물로는 절연성을 갖는 금속 산화물, 예를 들면, 산화 규소(실리카), 산화 알루미늄(알루미나), 산화 지르코늄(지르코니아), 산화 이트륨(이트리아), 산화 티탄(티타니아) 등이 적합하게 이용된다.As the metal oxide, a metal oxide having insulating properties, for example, silicon oxide (silica), aluminum oxide (alumina), zirconium oxide (zirconia), yttrium oxide (yttria), titanium oxide (titania), etc. are preferably used. .

또, 유기 고분자 화합물로는 절연성을 갖는 수지, 예를 들면, 폴리이미드, 폴리에테르, 폴리아크릴레이트, 폴리아민 화합물 등이 적합하게 이용된다.Moreover, as an organic high molecular compound, resin which has insulation, for example, polyimide, polyether, polyacrylate, a polyamine compound, etc. are used suitably.

절연막의 막 두께는 AgSn 합금 미립자의 표면의 절연성을 충분히 높이기 위해서는 1㎚ 이상 100㎚ 이하의 두께가 바람직하고, 보다 바람직하게는 5㎚ 이상 50㎚ 이하이다.The thickness of the insulating film is preferably 1 nm or more and 100 nm or less, more preferably 5 nm or more and 50 nm or less, in order to sufficiently improve the insulating properties of the surface of the AgSn alloy fine particles.

절연막은 표면 개질 기술 혹은 표면의 코팅 기술에 의해 용이하게 형성할 수 있다. 특히, 테트라에톡시실란, 알루미늄트리에톡시드 등의 알콕시드를 이용하면, 비교적 저온에서 막 두께의 균일한 절연막을 형성할 수 있으므로 바람직하다.The insulating film can be easily formed by a surface modification technique or a surface coating technique. In particular, the use of an alkoxide such as tetraethoxysilane or aluminum triethoxide is preferable because an insulating film having a uniform thickness can be formed at a relatively low temperature.

차광제로는 상술한 페릴렌계 안료, 락탐계 안료, AgSn 합금 미립자 단독으로도 이용해도 되고, 이것들을 조합하여 이용해도 된다.As a light-shielding agent, the above-mentioned perylene-type pigment, a lactam-type pigment, and AgSn alloy microparticles|fine-particles may be used individually, and you may use these in combination.

그 외, 차광제는 색조 조정의 목적 등으로, 상기의 흑색 안료나 보라색 안료와 함께, 적색, 청색, 녹색, 황색 등의 색상의 색소를 포함하고 있어도 된다. 흑색 안료나 보라색 안료 외의 색상의 색소는 공지의 색소로부터 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면, 흑색 안료나 보라색 안료 외의 색상의 색소로는 상기의 여러 가지의 안료를 이용할 수 있다. 흑색 안료나 보라색 안료 이외의 다른 색상의 색소의 사용량은, 차광제의 전체 중량에 대해서 15 중량% 이하가 바람직하고, 10 중량% 이하가 보다 바람직하다.In addition, the light-shielding agent may contain the pigment|dye of hues, such as red, blue, green, and yellow, with said black pigment and a purple pigment for the objective of color tone adjustment etc. The pigment|dye of a color other than a black pigment and a purple pigment can be suitably selected from well-known pigment|dye. For example, as a pigment|dye of color other than a black pigment or a purple pigment, the said various pigment can be used. 15 weight% or less is preferable with respect to the total weight of a light-shielding agent, and, as for the usage-amount of the pigment|dye of other colors other than a black pigment and a purple pigment, 10 weight% or less is more preferable.

상기의 착색제(D)를 조성물에서 균일하게 분산시키기 위해서, 추가로 분산제를 사용해도 된다. 이러한 분산제로는 폴리에틸렌이민계, 우레탄 수지계, 아크릴 수지계의 고분자 분산제를 이용하는 것이 바람직하다. 특히, 착색제로서 카본 블랙을 이용하는 경우에는 분산제로서 아크릴 수지계의 분산제를 이용하는 것이 바람직하다.In order to disperse|distribute said coloring agent (D) uniformly in a composition, you may use a dispersing agent further. As such a dispersing agent, it is preferable to use a polyethyleneimine-based, urethane resin-based, or acrylic resin-based polymer dispersant. In particular, when carbon black is used as the colorant, it is preferable to use an acrylic resin-based dispersant as the dispersant.

또한, 분산제의 분해에 기인하여 감광성 조성물의 경화막으로부터 부식성의 가스가 발생하는 경우가 있다. 이 때문에, 착색제가 분산제를 이용하는 일 없이 분산 처리되는 것이 바람직하다.Moreover, it originates in decomposition|disassembly of a dispersing agent, and a corrosive gas may generate|occur|produce from the cured film of a photosensitive composition. For this reason, it is preferable that a coloring agent be disperse|distributed without using a dispersing agent.

또, 무기 안료와 유기 안료는 각각 단독 또는 2종 이상 병용해도 되지만, 병용하는 경우에는 무기 안료와 유기 안료의 총량 100 중량부에 대해서, 유기 안료를 10 중량부 이상 80 중량부 이하의 범위에서 이용하는 것이 바람직하고, 20 중량부 이상 40 중량부 이하의 범위에서 이용하는 것이 보다 바람직하다.In addition, the inorganic pigment and the organic pigment may be used alone or in combination of two or more, respectively, but when used in combination, the organic pigment is used in the range of 10 parts by weight or more and 80 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the total amount of the inorganic pigment and the organic pigment. It is preferable, and it is more preferable to use in the range of 20 weight part or more and 40 weight part or less.

또한, 감광성 조성물은 착색제(D)로서 안료 이외에도 염료를 이용할 수 있다. 이 염료는 공지의 재료 중에서 적절히 선택하면 된다.In addition, the photosensitive composition can use dye other than a pigment as a coloring agent (D). What is necessary is just to select this dye suitably from well-known materials.

본 실시 형태의 감광성 조성물에 적용 가능한 염료로는 예를 들면, 아조 염료, 금속 착염 아조 염료, 안트라퀴논 염료, 트리페닐메탄 염료, 크산텐 염료, 시아닌 염료, 나프토퀴논 염료, 퀴논이민 염료, 메틴 염료, 프탈로시아닌 염료 등을 들 수 있다.As the dye applicable to the photosensitive composition of the present embodiment, for example, azo dye, metal complex salt azo dye, anthraquinone dye, triphenylmethane dye, xanthene dye, cyanine dye, naphthoquinone dye, quinoneimine dye, methine A dye, a phthalocyanine dye, etc. are mentioned.

또, 이들 염료에 대해서는 레이크화(조염화) 함으로써 유기용제 등에 분산시켜, 이것을 착색제(D)로서 이용할 수 있다.Moreover, about these dyes, it can be disperse|distributed to an organic solvent etc. by laking (salt formation), and this can be used as a coloring agent (D).

이들 염료 이외에도, 예를 들면, 일본 특개 2013-225132호 공보, 일본 특개 2014-178477호 공보, 일본 특개 2013-137543호 공보, 일본 특개 2011-38085호 공보, 일본 특개 2014-197206호 공보 등에 기재된 염료 등도 바람직하게 이용할 수 있다.In addition to these dyes, for example, the dyes described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-225132, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-178477, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-137543, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-38085, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-197206 etc. can also be used preferably.

이들 염료도 또, 전술한 안료(예를 들면, 페릴렌계 안료, 락탐계 안료, AgSn 합금 미립자 등)와 조합하여 사용할 수도 있다.These dyes can also be used in combination with the above-mentioned pigments (for example, perylene pigments, lactam pigments, AgSn alloy fine particles, etc.).

감광성 조성물에 있어서의 착색제(D)의 사용량은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 적절히 선택할 수 있고, 전형적으로는 감광성 조성물의 고형분 전체의 중량에 대해서 5 중량% 이상 70 중량% 이하가 바람직하고, 25 중량% 이상 60 중량% 이하가 보다 바람직하다.The amount of the colorant (D) used in the photosensitive composition can be appropriately selected within a range that does not impair the object of the present invention, and typically 5% by weight or more and 70% by weight or less with respect to the total weight of the solid content of the photosensitive composition, and , more preferably 25% by weight or more and 60% by weight or less.

착색제(D)는 분산제의 존재하 또는 부존재하에 적당한 농도로 분산시킨 분산액으로 한 후, 감광성 조성물에 첨가하는 것이 바람직하다.It is preferable to add a colorant (D) to the photosensitive composition after setting it as a dispersion liquid disperse|distributed to the appropriate density|concentration in the presence or absence of a dispersing agent.

또한, 본 명세서에서는 상술한 착색제(D)의 사용량에 대해서, 이 존재하는 분산제도 포함하는 값으로 하여 정의할 수 있다.In addition, in this specification, about the usage-amount of the above-mentioned coloring agent (D), it can be defined as a value including this existing dispersing agent.

상술한 대로, 감광성 조성물 중의 염화물 이온량은 1000 중량 ppm 이하이다. 이 때문에, 착색제(D) 중의 염화물 이온량도 어느 정도 저감되어 있을 필요가 있다.As described above, the amount of chloride ions in the photosensitive composition is 1000 ppm by weight or less. For this reason, the amount of chloride ions in a coloring agent (D) also needs to be reduced to some extent.

착색제(D) 중의 염화물 이온량을 저감하는 방법으로는 물, 유기용제, 유기용제의 수용액 등에 의한 세정을 들 수 있다. 착색제가 염료인 경우, 염료의 용액을 조제한 후, 얻어진 용액을 음이온 교환 수지와 접촉시킨 후, 용액으로부터 염료를 회수함으로써도 염화물 이온량을 저감할 수 있다.As a method of reducing the amount of chloride ions in the colorant (D), washing with water, an organic solvent, an aqueous solution of an organic solvent, or the like is exemplified. When the colorant is a dye, the amount of chloride ions can be reduced also by recovering the dye from the solution after preparing a solution of the dye and contacting the obtained solution with an anion exchange resin.

<아민(E)><Amine (E)>

감광성 조성물은 아민(E)을 포함한다. 감광성 조성물이 아민(E)을 포함함으로써, 미세한 패턴을 해상할 수 있는 양호한 해상성을 갖는 감광성 조성물을 조제하기 쉽다.The photosensitive composition comprises an amine (E). When the photosensitive composition contains an amine (E), it is easy to prepare the photosensitive composition which has favorable resolution which can resolve a fine pattern.

아민(E)은 감광성 조성물에 단독으로 배합되어도 되고, 아민(E) 이외의 다른 성분에 포함되는 불순물로서 감광성 조성물에 배합되어도 된다.An amine (E) may be mix|blended with the photosensitive composition independently, and may be mix|blended with the photosensitive composition as an impurity contained in components other than an amine (E).

아민(E)을 포함하는 불순물로는 예를 들면, 아미드 결합과 같은 형태로 질소 원자를 포함하는 알칼리 가용성 수지(A), 함질소 화합물을 포함하는 광중합성 화합물(B), 함질소 화합물을 포함하는 광중합 개시제(C), 질소를 함유하는 화합물을 포함하는 착색제(D), 아미드 결합(-CO-NH-), 우레탄 결합(-O-CO-NH-), 우레이도 결합(-NH-CO-NH-) 등을 포함하는 수지 등의 착색제(D)용의 분산제 또는 분산조제 등의 첨가제, 및 함질소 극성 유기용제를 포함하는 용제(S) 등을 들 수 있다.The impurity containing the amine (E) includes, for example, an alkali-soluble resin (A) containing a nitrogen atom in the form of an amide bond, a photopolymerizable compound (B) containing a nitrogen compound, and a nitrogen compound a photopolymerization initiator (C), a colorant containing a nitrogen-containing compound (D), an amide bond (-CO-NH-), a urethane bond (-O-CO-NH-), a ureido bond (-NH-CO -NH-) etc., additives for coloring agents (D), such as resin containing an additive, dispersing aids, etc., and a solvent (S) containing a nitrogen-containing polar organic solvent, etc. are mentioned.

아민(E)을 광중합 개시제(C)에 포함되는 불순물로서 감광성 조성물에 배합하는 경우, 화합물(C2)로서 이미다졸 화합물이나 알킬페논 화합물인 α-아미노알킬페논 화합물을 이용하는 것이 바람직하다.When the amine (E) is incorporated into the photosensitive composition as an impurity contained in the photopolymerization initiator (C), it is preferable to use an imidazole compound or an α-aminoalkylphenone compound which is an alkylphenone compound as the compound (C2).

아민(E)의 적합한 구체예로는 암모니아, 메틸아민, 에틸아민, 에탄올아민, 프로필아민, 이소프로필아민, n-부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, 디메틸아민, 디에틸아민, 디에탄올아민, 디-n-프로필아민, 디이소프로필아민, 디-n-부틸아민, 디-n-펜틸아민, 디-n-헥실아민, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리에탄올아민, 트리-n-프로필아민, 트리이소프로필아민, 트리-n-부틸아민, 트리-n-펜틸아민, 트리-n-헥실아민, 헥실아민, 에틸렌디아민, 1,3-프로판디아민, 1,4-부탄디아민, 1,5-펜 탄디아민 및 1,6-헥산디아민 등의 쇄상 지방족 아민;피롤리딘, 피페리진, 피페라진, 모르폴린, 피롤 및 이미다졸 등의 건식 아민;아닐린, 톨루이딘 및 페닐렌디아민 등의 방향족 아민 등을 들 수 있다.Suitable embodiments of the amine (E) include ammonia, methylamine, ethylamine, ethanolamine, propylamine, isopropylamine, n-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, dimethylamine, diethylamine, Diethanolamine, di-n-propylamine, diisopropylamine, di-n-butylamine, di-n-pentylamine, di-n-hexylamine, trimethylamine, triethylamine, triethanolamine, tri-n -Propylamine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, tri-n-pentylamine, tri-n-hexylamine, hexylamine, ethylenediamine, 1,3-propanediamine, 1,4-butanediamine, Chain aliphatic amines such as 1,5-pentanediamine and 1,6-hexanediamine; Dry amines such as pyrrolidine, piperizine, piperazine, morpholine, pyrrole and imidazole; aniline, toluidine and phenylenediamine, etc. and aromatic amines.

감광성 조성물 중의 아민(E)의 함유량은 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다.Content of the amine (E) in the photosensitive composition is not specifically limited in the range which does not impair the objective of this invention.

감광성 조성물 중의 아민(E)의 함유량은 5000 중량 ppm 이하가 바람직하고, 3000 중량 ppm 이하가 보다 바람직하다. 감광성 조성물 중의 아민(E)의 함유량은 2000 중량 ppm 이하여도 되고, 1000 중량 ppm 이하여도 되며, 500 중량 ppm 이하여도 된다.5000 weight ppm or less is preferable and, as for content of the amine (E) in the photosensitive composition, 3000 weight ppm or less is more preferable. 2000 weight ppm or less may be sufficient as content of the amine (E) in the photosensitive composition, and 1000 weight ppm or less may be sufficient as it, and 500 weight ppm or less may be sufficient as it.

감광성 조성물 중의 아민(E)의 함유량은 원하는 효과를 얻기 쉽다는 점에서, 50 중량 ppm 이상이 바람직하고, 100 중량 ppm 이상이 보다 바람직하며, 200 중량 ppm 이상이 특히 바람직하다.The content of the amine (E) in the photosensitive composition is preferably 50 weight ppm or more, more preferably 100 weight ppm or more, and particularly preferably 200 weight ppm or more from the viewpoint of easily obtaining the desired effect.

감광성 조성물 중의 아민(E)의 함유량이 5000 중량 ppm 이하이면, 감광성 조성물을 이용해 도포막을 형성할 때의 도포막의 막 두께의 편차를 작게 하기 쉽다.When content of the amine (E) in the photosensitive composition is 5000 weight ppm or less, it will be easy to make small the dispersion|variation in the film thickness of a coating film at the time of forming a coating film using the photosensitive composition.

감광성 조성물 중의 아민(E)의 함유량은 이온 크로마토그래피에 의해 측정할 수 있다.The content of the amine (E) in the photosensitive composition can be measured by ion chromatography.

<용제(S)><Solvent (S)>

감광성 조성물은 도포성의 개선이나 점도 조정의 목적으로 용제(S)를 포함한다. 또한, 용제(S)에는 액상의 아민 화합물은 포함되지 않는다.The photosensitive composition contains a solvent (S) for the purpose of improvement of applicability|paintability, or viscosity adjustment. In addition, a liquid amine compound is not contained in the solvent (S).

용제(S)로서 구체적으로는 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노에틸에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬에테르류;에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 (PGMEA), 프로필렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬에테르 아세테이트류;디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 테트라히드로 푸란 등의 다른 에테르류;메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등의 케톤류;2-히드록시프로피온산메틸, 2-히드록시프로피온산 에틸 등의 락트산 알킬 에스테르류;2-히드록시-2-메틸프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에톡시 아세트산 에틸, 히드록시아세트산 에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산 메틸, 3-메톡시부틸 아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸 아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산 에틸, 아세트산 n-프로필, 아세트산 i-프로필, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 포름산 n-펜틸, 아세트산 i-펜틸, 프로피온산 n-부틸, 부티르산 에틸, 부티르산 n-프로필, 부티르산 i-프로필, 부티르산 n-부틸, 피르브산 메틸, 피르브산 에틸, 피르브산 n-프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소부탄산 에틸 등의 다른 에스테르류;톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류;N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸이소부틸아미드, N,N-디에틸아세트아미드, N,N-디에틸포름아미드, N-메틸카프로락탐, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 피리딘, 및 N,N,N',N'-테트라메틸우레아 등 함질소 극성 유기용제; 등을 들 수 있다. Specifically as the solvent (S), ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl Ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, (poly)alkylene glycol monoalkyl ethers such as tripropylene glycol monomethyl ether and tripropylene glycol monoethyl ether; ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene (poly)alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), and propylene glycol monoethyl ether acetate; diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol Other ethers such as ethylene glycol diethyl ether and tetrahydrofuran; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, and 3-heptanone; methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, etc. of lactic acid alkyl esters; 2-hydroxy-2-methylpropionate ethyl, 3-methoxypropionate methyl, 3-methoxypropionate ethyl, 3-ethoxypropionate methyl, 3-ethoxypropionate ethyl, ethoxyethyl acetate; Ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl acetate , n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-pentyl formate, i-pentyl acetate, n propionic acid -Butyl, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyrvate, ethyl pyrvate, n-propyl pyrvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl 2-oxobutanoate, etc. other esters of; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N-methyl-2-pyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylisobutylamide, N ,N-diethylacetamide, N,N-diethylformamide, N-methylcaprolactam, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, pyridine, and N,N,N',N'-tetra nitrogen-containing polar organic solvents such as methylurea; and the like.

이들 중에서도, 알킬렌글리콜 모노알킬에테르류, 알킬렌글리콜 모노알킬에테르 아세테이트류, 상술한 다른 에테르류, 락트산 알킬 에스테르류, 상술한 다른 에스테르류가 바람직하고, 알킬렌글리콜 모노알킬에테르 아세테이트류, 상술한 다른 에테르류, 상술한 다른 에스테르류가 보다 바람직하다.Among these, alkylene glycol monoalkyl ethers, alkylene glycol monoalkyl ether acetates, other ethers, lactic acid alkyl esters, and other esters described above are preferable. One other ether, the above-mentioned other esters are more preferable.

또, 각 성분의 용해성이나, 착색제(D)의 분산성 등의 점에서, 용제(S)가 함질소 극성 유기용제를 포함하는 것도 바람직하다. 함질소 극성 유기용제로는 N,N,N',N'-테트라메틸우레아가 바람직하다.Moreover, it is also preferable that the solvent (S) contains the nitrogen-containing polar organic solvent from points, such as solubility of each component and dispersibility of a coloring agent (D). The nitrogen-containing polar organic solvent is preferably N,N,N',N'-tetramethylurea.

이들 용제는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.These solvents can be used individually or in combination of 2 or more types.

상기 용제 중에서도, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 시클로헥사논, 3-메톡시부틸 아세테이트가 바람직하고, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트를 이용하는 것이 특히 바람직하다.Among the above solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 3- Methoxybutyl acetate is preferred, and propylene glycol monomethyl ether acetate and 3-methoxybutyl acetate are particularly preferred.

용제(S)의 함유량은 감광성 조성물의 고형분 농도가 5 중량% 이상 99 중량% 이하인 양이 바람직하고, 15 중량% 이상 50 중량% 이하인 양이 보다 바람직하다.The content of the solvent (S) preferably has a solid content concentration of 5% by weight or more and 99% by weight or less, more preferably 15% by weight or more and 50% by weight or less.

상술한 대로, 감광성 조성물 중의 염화물 이온량은 1000 중량 ppm 이하이다. 이 때문에, 용제(S) 중의 염화물 이온량도 어느 정도 저감되어 있을 필요가 있다.As described above, the amount of chloride ions in the photosensitive composition is 1000 ppm by weight or less. For this reason, the amount of chloride ions in the solvent (S) also needs to be reduced to some extent.

용제(S) 중의 염화물 이온량을 저감하는 방법으로는 증류, 음이온 교환 수지에 의한 처리 등을 들 수 있다.Distillation, treatment with an anion exchange resin, etc. are mentioned as a method of reducing the amount of chloride ions in the solvent (S).

<그 외의 성분><Other ingredients>

감광성 조성물에는 필요에 따라서, 계면활성제, 밀착성 향상제, 열중합 금지제, 소포제, 실란 커플링제 등의 첨가제를 함유시킬 수 있다. 어떠한 첨가제도 종래 공지의 것을 이용할 수 있다.The photosensitive composition can contain additives, such as surfactant, an adhesive improving agent, a thermal-polymerization inhibitor, an antifoamer, and a silane coupling agent, as needed. As any additive, a conventionally well-known thing can be used.

감광성 조성물은 형상이 양호하고, 기판에 대한 밀착성이 뛰어난 경화막을 형성하기 쉽다는 점에서, 실란 커플링제를 포함하는 것이 바람직하다. 실란 커플링제로는 종래 알려진 특별히 제한 없이 사용할 수 있다.It is preferable that the photosensitive composition contains a silane coupling agent at the point which a shape is favorable and it is easy to form the cured film excellent in adhesiveness with respect to a board|substrate. The silane coupling agent may be used without any particular limitation known in the prior art.

계면활성제로는 음이온계, 양이온계, 비이온계 등의 화합물을 들 수 있고, 중합 금지제로는 히드로퀴논, 히드로퀴논 모노에틸에테르 등을 들 수 있으며, 소포제로는 실리콘계, 불소계 화합물 등을 들 수 있다.The surfactant includes compounds such as anionic, cationic, and nonionic, the polymerization inhibitor includes hydroquinone and hydroquinone monoethyl ether, and the defoaming agent includes silicone and fluorine compounds.

<감광성 조성물의 조제 방법><The preparation method of the photosensitive composition>

이상 설명한 감광성 조성물은 상기 각 성분을 각각 소정량 혼합한 후, 교반기로 균일하게 혼합함으로써 얻을 수 있다. 또한, 얻어진 혼합물이 보다 균일하게 되도록 필터를 이용해 여과해도 된다. The photosensitive composition demonstrated above can be obtained by mixing each said component by predetermined amount, respectively, and mixing uniformly with a stirrer. Moreover, you may filter using a filter so that the obtained mixture may become more uniform.

또, 감광성 조성물의 염화물 이온 함유량을 원하는 값까지 저감할 목적으로, 감광성 조성물을 음이온 교환 수지에 의해 처리해도 된다.Moreover, in order to reduce the chloride ion content of the photosensitive composition to a desired value, you may process the photosensitive composition with an anion exchange resin.

≪감광성 조성물을 이용해 형성되는 막에서의 이물을 억제하는 방법≫«Method of Suppressing Foreign Matter in Film Formed Using Photosensitive Composition»

감광성 조성물을 이용해 형성되는 막에서의 이물을 억제하는 방법에서 이용되는 감광성 조성물은 각각 전술한 알칼리 가용성 수지(A)와, 광중합성 화합물(B)과, 광중합 개시제(C)와, 용제(S)와, 아민(E)을 포함한다. 감광성 조성물은 착색제(D) 등의 임의 성분을 추가로 포함하고 있어도 된다.The photosensitive composition used in the method of suppressing foreign matter in the film|membrane formed using the photosensitive composition, respectively mentioned above alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photoinitiator (C), and a solvent (S) and an amine (E). The photosensitive composition may further contain arbitrary components, such as a coloring agent (D).

이러한 감광성 조성물 중의 염화물 이온을 양을 1000 중량% 이하로 함으로써, 감광성 조성물을 이용해 형성되는 막에서의 이물의 발생이 억제된다.When the amount of the chloride ion in the photosensitive composition is 1000% by weight or less, the generation of foreign substances in the film formed using the photosensitive composition is suppressed.

이물의 수는 감광성 조성물을 10㎝×10㎝의 기판 위에 스핀 도포한 후에 건조한 막 두께 1㎛의 막에 있어서, 이물 검지기에 의해 검지되는 이물의 수이다.The number of foreign substances is the number of foreign substances detected by a foreign substance detector in a film having a thickness of 1 µm which is dried after spin-coating the photosensitive composition on a 10 cm x 10 cm substrate.

상기 방법에 의하면, 이상 설명한 이물의 수가 1000 미만으로 억제된다.According to the said method, the number of the foreign material demonstrated above is suppressed to less than 1000.

≪경화막의 형성 방법≫≪Method of forming a cured film≫

이상 설명한 감광성 조성물을 이용해 형성된 박막을, 노광에 의해 경화시킴으로써 경화막이 형성된다. A cured film is formed by hardening the thin film formed using the photosensitive composition demonstrated above by exposure.

경화막의 용도로는 절연막을 들 수 있다. 감광성 조성물이 착색제(D)를 포함하지 않는 경우에는 투명 절연막이 형성된다. 감광성 수지 조성물이 착색제(D)를 포함하는 경우에는 착색된 절연막이 형성된다. 특히, 착색제(D)가 차광제인 경우, 차광성의 절연막이 형성된다.An insulating film is mentioned as a use of a cured film. When the photosensitive composition does not contain a colorant (D), a transparent insulating film is formed. When the photosensitive resin composition contains a colorant (D), a colored insulating film is formed. In particular, when the colorant (D) is a light-shielding agent, a light-shielding insulating film is formed.

차광성의 흑색 절연막의 적합한 예로는 여러 가지의 화상 표시 장치용의 패널이 구비된 블랙 매트릭스 중의 흑색의 격벽이나 블랙 컬럼 스페이서를 들 수 있다.Suitable examples of the light-shielding black insulating film include black barrier ribs and black column spacers in a black matrix provided with various types of panels for image display devices.

또, 감광성 수지 조성물이 RGB 등의 유채색의 착색제(D)를 포함하는 경우, 블랙 매트릭스에 의해 구획된 영역에 착색된 경화막을 형성하여 컬러 필터를 제조할 수 있다.Moreover, when the photosensitive resin composition contains chromatic coloring agents (D), such as RGB, a colored cured film can be formed in the area|region partitioned by the black matrix, and a color filter can be manufactured.

예를 들면, 상기의 블랙 매트릭스나 유채색의 경화막을 포함하는 컬러 필터는 여러 가지의 표시 장치에 대해 적합하게 사용된다.For example, the color filter containing said black matrix or a chromatic cured film is used suitably with respect to various display apparatuses.

경화막의 적합한 제조 방법으로는As a suitable manufacturing method of a cured film,

전술한 감광성 조성물을 기판 위에 도포하여 도포막을 형성하는 것과,Forming a coating film by applying the above-described photosensitive composition on a substrate;

도포막을 노광하는 것을 포함하는 방법을 들 수 있다.The method including exposing a coating film is mentioned.

감광성 조성물을 이용해 경화막을 형성하려면 감광성 조성물을 경화막의 용도에 따라 선택된 기판 위에 도포해 도포막을 형성한다. 도포막의 형성 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 롤 코터, 리버스 코터, 바 코터 등의 접촉 전사형 도포 장치나 스피너(회전식 도포 장치), 커튼플로우 코터 등의 비접촉형 도포 장치를 이용해 행해진다.To form a cured film using the photosensitive composition, the photosensitive composition is applied on a substrate selected according to the purpose of the cured film to form a coating film. Although the method of forming the coating film is not particularly limited, for example, a contact transfer type coating device such as a roll coater, a reverse coater, or a bar coater, or a non-contact type coating device such as a spinner (rotary coating device) or a curtain flow coater is used.

도포된 감광성 조성물은 필요에 따라서 건조되어 도포막을 구성한다. 건조 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, (1) 핫 플레이트에서 80℃ 이상 120℃ 이하, 바람직하게는 90℃ 이상 100℃ 이하의 온도에서 60초 이상 120초 이하 동안 건조시키는 방법, (2) 실온에서 몇시간 이상 몇일 이하 동안 방치하는 방법, (3) 온풍 히터나 적외선 히터중에 몇십분간 이상 몇시간 이하 넣어 용제를 제거하는 방법 등을 들 수 있다.The applied photosensitive composition is dried as needed to constitute a coating film. The drying method is not particularly limited, and for example, (1) a method of drying at a temperature of 80° C. or more and 120° C. or less, preferably 90° C. or more and 100° C. or less, on a hot plate for 60 seconds or more and 120 seconds or less, (2 ) left at room temperature for more than a few hours and not more than a few days, (3) a method of removing the solvent by putting it in a warm air heater or an infrared heater for more than a few tens of minutes and less than a few hours.

그 다음에 도포막에 대한 노광을 한다. 노광은 자외선, 엑시머 레이저광 등의 활성 에너지선을 조사해 행해진다. 노광은 예를 들면, 네가티브형의 마스크를 통해서 노광을 실시하는 방법 등에 의해 위치 선택적으로 행해져도 된다. 조사하는 에너지선량은 감광성 수지 조성물의 조성에 따라 상이하지만, 예를 들면 40 mJ/㎠ 이상 200 mJ/㎠ 이하 정도가 바람직하다.Then, the coating film is exposed. Exposure is performed by irradiating active energy rays, such as an ultraviolet-ray and an excimer laser beam. The exposure may be positionally selective, for example, by a method of exposing through a negative mask. Although the energy dose to irradiate changes with the composition of the photosensitive resin composition, for example, about 40 mJ/cm<2> or more and 200 mJ/cm<2> or less is preferable.

도포막이 위치 선택적으로 노광되었을 경우, 노광 후의 막을 현상액에 의해 현상함으로써 원하는 형상으로 패터닝한다. 현상 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 침지법, 스프레이법 등을 이용할 수 있다. 현상액은 감광성 조성물의 조성에 따라 적절히 선택된다. 현상액으로는 예를 들면, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산나트륨, 암모니아, 4급 암모늄염 등의 염기성의 수용액을 이용할 수 있다.When the coating film is exposed positionally, the film after exposure is developed with a developer to pattern it into a desired shape. The developing method is not specifically limited, For example, an immersion method, a spray method, etc. can be used. The developer is appropriately selected depending on the composition of the photosensitive composition. As a developing solution, basic aqueous solutions, such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia, and a quaternary ammonium salt, can be used, for example.

전면 노광에 의해 형성된 경화막 또는 현상된 패턴화된 경화막은 필요에 따라서 120℃ 이상 250℃ 이하의 온도에서 포스트베이크 된다.The cured film formed by full surface exposure or the developed patterned cured film is post-baked at a temperature of 120°C or higher and 250°C or lower as necessary.

이상과 같이 하여 형성되는 경화막은 이물의 함유량이 적고, 또 미세하게 패턴화 될 수 있기 때문에, 여러 가지의 용도에 적합하게 사용된다. Since the cured film formed as mentioned above has little content of a foreign material and can be patterned finely, it is used suitably for various uses.

[실시예] [Example]

이하, 실시예를 나타내어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 범위는 이들 실시예로 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited to these Examples.

[실시예][Example]

실시예 및 비교예에 있어서, 표 1에 기재된 종류의 옥심에스테르 화합물(C1)을 100 중량부, 표 1에 기재의 종류의 화합물(C2)을 25 중량부, 알칼리 가용성 수지(고형분 55 중량%, 용제 3-메톡시부틸아세테이트) 310 중량부, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(DPHA, 일본화약(주) 제) 175 중량부 및 카본 블랙 분산액(CF블랙, 미쿠니색소(주) 제) 450 중량부의 혼합물에, 고형분이 15 중량%가 되도록 3-메톡시부틸아세테이트를 가하고 균일하게 될 때까지 교반하여 감광성 조성물을 얻었다.In Examples and Comparative Examples, 100 parts by weight of the oxime ester compound (C1) of the kind shown in Table 1, 25 parts by weight of the compound (C2) of the kind described in Table 1, alkali-soluble resin (solid content 55 wt%, Solvent 3-methoxybutyl acetate) 310 parts by weight, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 175 parts by weight and carbon black dispersion (CF black, Mikuni Pigment Co., Ltd.) 450 parts by weight To the mixture, 3-methoxybutyl acetate was added so that the solid content was 15% by weight, and the mixture was stirred until uniform, to obtain a photosensitive composition.

알칼리 가용성 수지는 일본 특개 2010-32940호 공보의 단락[0063]~[0064]에 기재된 수지 A-1과 동일한 수지를 이용했다.As alkali-soluble resin, the same resin as resin A-1 of Paragraph [0063] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-32940 - [0064] was used.

얻어진 감광성 조성물에 대해서, 이온 크로마토그래피에 의해 아민의 함유량을 측정하고, 이온 크로마토그래피에 의해 염화물 이온의 함유량을 측정했다. 각 감광성 조성물의 아민의 함유량과 염화물 이온의 함유량을 표 1에 적는다.About the obtained photosensitive composition, content of an amine was measured by ion chromatography, and content of chloride ion was measured by ion chromatography. Table 1 lists the amine content and the chloride ion content of each photosensitive composition.

표 1 중의 아민의 종류 E1, E2, 및 E3는 이하와 같다.Types E1, E2, and E3 of the amines in Table 1 are as follows.

E1:모르폴린 E1: morpholine

E2:트리에틸아민 E2: triethylamine

E3:이미다졸 E3: imidazole

또한, 실시예 1~3, 실시예 6~11, 비교예 1~6, 및 비교예 8~12의 감광성 조성물 중의 아민 함유량은 화합물(C2)의 정제의 정도에 의해 조정했다.In addition, the amine content in the photosensitive composition of Examples 1-3, Examples 6-11, Comparative Examples 1-6, and Comparative Examples 8-12 was adjusted with the grade of refinement|purification of compound (C2).

실시예 4, 실시예 5, 비교예 7의 감광성 조성물 중의 아민 함유량은 실질적으로 아민을 포함하지 않는 화합물(C2)을 이용한 데다, 트리에틸아민을 소정량 감광성 조성물에 가함으로써 조정했다.The amine content in the photosensitive composition of Example 4, Example 5, and Comparative Example 7 was adjusted by adding a predetermined amount of triethylamine to the photosensitive composition using the compound (C2) which does not contain an amine substantially.

또, 각 감광성 조성물 중의 염화물 이온 함유량은 옥심에스테르 화합물(C1)의 정제의 정도에 의해 조정했다.Moreover, chloride ion content in each photosensitive composition was adjusted with the grade of refinement|purification of an oxime ester compound (C1).

실시예 및 비교예에 있어서, 옥심에스테르 화합물(C1)로는 하기 C1a 및 하기 C1b를 이용했다.In Examples and Comparative Examples, the following C1a and the following C1b were used as the oxime ester compound (C1).

Figure 112017103719171-pat00036
Figure 112017103719171-pat00036

실시예 및 비교예에 있어서, 화합물(C2)로서 이하의 C2a, C2b, 및 C2c를 이용했다.In Examples and Comparative Examples, the following C2a, C2b, and C2c were used as compound (C2).

C2a:2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온 C2a: 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one

C2b:2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 C2b: 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one

C2c:2-(o-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸일 2량체 C2c: 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer

얻어진 감광성 조성물에 대해서, 이하의 방법에 따라서 이물과 해상성과 감도와 도포성에 대하여 평가를 실시했다. 이들 평가 결과를 표 1에 적는다.About the obtained photosensitive composition, the following method evaluated a foreign material, resolution, a sensitivity, and applicability|paintability. Table 1 lists these evaluation results.

(이물 평가)(Foreign matter evaluation)

스핀 코터를 이용하여 10㎝×10㎝의 유리에 감광성 수지 조성물을 도포해 도포막을 형성했다. 그 다음에, 100℃에서 120초간 핫 플레이트에 의해 도포막을 가열해 도포막으로부터 용제를 제거하여 막 두께 1㎛의 도포막을 얻었다.The photosensitive resin composition was apply|coated to 10 cm x 10 cm glass using the spin coater, and the coating film was formed. Then, the coating film was heated with a hot plate at 100 degreeC for 120 second, the solvent was removed from the coating film, and the coating film with a film thickness of 1 micrometer was obtained.

얻어진 도포막 중의 이물 수를 이물 검지기에 의해 계측하고, 이물 수 1000 이상을 ×로 판정하고, 이물 수 100 미만을 ○로 판정했다.The number of foreign substances in the obtained coating film was measured with a foreign substance detector, the number of foreign substances 1000 or more was judged as x, and the number of foreign substances less than 100 was judged as (circle).

(해상성 평가)(Resolution evaluation)

스핀 코터를 이용하여 10㎝×10㎝의 유리에 감광성 수지 조성물을 도포해 도포막을 형성했다. 그 다음에, 100℃에서 120초간 핫 플레이트에 의해 도포막을 가열해 도포막으로부터 용제를 제거하여 막 두께 1㎛의 도포막을 얻었다.The photosensitive resin composition was apply|coated to 10 cm x 10 cm glass using the spin coater, and the coating film was formed. Then, the coating film was heated with a hot plate at 100 degreeC for 120 second, the solvent was removed from the coating film, and the coating film with a film thickness of 1 micrometer was obtained.

얻어진 도포막에 선폭 2, 4, 6, 8, 10, 12, 14, 16, 18 및 20㎛의 선이 그려진 포토마스크를 통해, 노광량 50 mJ/㎠로 노광을 실시했다.The obtained coating film was exposed with an exposure amount of 50 mJ/cm 2 through a photomask in which lines having line widths of 2, 4, 6, 8, 10, 12, 14, 16, 18 and 20 µm were drawn.

노광 후, 도포막을 농도 0.05 중량%의 KOH 수용액을 이용해 60초간 현상하여 그려진 패턴 중의 최소의 선폭을 확인했다.After exposure, the coating film was developed for 60 seconds using an aqueous KOH solution having a concentration of 0.05% by weight to confirm the minimum line width in the drawn pattern.

최소의 선폭이 10㎛ 이상인 경우를 ×로 판정하고, 최소의 선폭이 10㎛ 미만인 경우를 ○로 판정했다.The case where the minimum line|wire width was 10 micrometers or more was judged as x, and the case where the minimum line|wire width was less than 10 micrometers was determined as (circle).

(감도 평가)(sensitivity evaluation)

스핀 코터를 이용하여 10㎝×10㎝의 유리에 감광성 수지 조성물을 도포해 도포막을 형성했다. 그 다음에, 100℃에서 120초간 핫 플레이트에 의해 도포막을 가열해 도포막으로부터 용제를 제거하여 막 두께 1㎛의 도포막을 얻었다.The photosensitive resin composition was apply|coated to 10 cm x 10 cm glass using the spin coater, and the coating film was formed. Then, the coating film was heated with a hot plate at 100 degreeC for 120 second, the solvent was removed from the coating film, and the coating film with a film thickness of 1 micrometer was obtained.

얻어진 도포막에 선폭 20㎛의 선이 그려진 포토마스크를 통해서 노광량 50 mJ/㎠로 노광을 실시했다.The obtained coating film was exposed with an exposure amount of 50 mJ/cm 2 through a photomask in which a line having a line width of 20 µm was drawn.

노광 후, 도포막을 농도 0.05 중량%의 KOH 수용액을 이용해 60초간 현상하여 그려진 패턴을 확인했다.After exposure, the coating film was developed for 60 seconds using an aqueous KOH solution having a concentration of 0.05% by weight to confirm the drawn pattern.

동일한 조작을 노광량 25 mJ/㎠, 75 mJ/㎠, 100 mJ/㎠에서 실시했다.The same operation was performed at exposure doses of 25 mJ/cm 2 , 75 mJ/cm 2 , and 100 mJ/cm 2 .

75 mJ/㎠ 이상의 노광량으로 원하는 치수의 패턴이 얻어진 경우를 ×로 판정하고, 50 mJ/㎠ 이하의 노광량으로 원하는 치수의 패턴이 얻어진 경우를 ○로 판정했다.The case where the pattern of the desired dimension was obtained with the exposure amount of 75 mJ/cm<2> or more was judged as x, and the case where the pattern of the desired dimension was obtained with the exposure amount of 50 mJ/cm<2> or less was judged as (circle).

(도포성 평가)(Evaluation of applicability)

이물 측정에 이용한 도포막의 막 두께를 10점 측정해 최대 막 두께와 최소 막 두께의 차이를 산출했다. 또한, 어느 감광성 조성물에 대해서도 도포성은 문제가 없는 수준이다. 이 평가는 문제가 없는 범위 내에서의 도포성의 우열의 비교이다.The film thickness of the coating film used for the foreign material measurement was measured 10 points|pieces, and the difference between the maximum film thickness and the minimum film thickness was computed. Moreover, applicability|paintability is the level which does not have a problem also about any photosensitive composition. This evaluation is a comparison of the superiority and inferiority of applicability|paintability within the range where there is no problem.

막 두께 차이가 0.1㎛ 이상인 경우를 ○로 판정하고, 막 두께 차이가 0.1㎛ 미만인 경우를 ◎로 판정했다.The case where the film thickness difference was 0.1 micrometer or more was judged as (circle), and the case where the film thickness difference was less than 0.1 micrometer was determined as (double-circle).

옥심
에스테르
화합물
(C1)
oxime
ester
compound
(C1)
화합물
(C2)
compound
(C2)
아민
함유량
(중량 ppm)
amine
content
(weight ppm)
Cl-
함유량
Cl -
content
평가evaluation
종류type 중량
ppm
weight
ppm
중량
ppm
weight
ppm
이물alien substance 해상성resolution 감도Sensitivity 도포성applicability
실시예 1Example 1 C1aC1a C2aC2a E1E1 61106110 170170 실시예 2Example 2 C1aC1a C2aC2a E1E1 44704470 890890 실시예 3Example 3 C1aC1a C2aC2a E1E1 260260 180180 비교예 1Comparative Example 1 C1aC1a C2aC2a E1E1 58705870 16101610 ×× 비교예 2Comparative Example 2 C1aC1a C2aC2a E1E1 40104010 15801580 ×× 비교예 3Comparative Example 3 C1aC1a C2aC2a E1E1 200200 21502150 ×× 비교예 4Comparative Example 4 C1aC1a - - 불검출non-detection 17001700 ×× 비교예 5Comparative Example 5 C1aC1a - - 불검출non-detection 170170 ×× 비교예 6Comparative Example 6 - C2aC2a E1E1 210210 6060 ×× ×× 실시예 4Example 4 C1aC1a C2aC2a E2E2 70207020 190190 실시예 5Example 5 C1aC1a C2aC2a E2E2 250250 750750 비교예 7Comparative Example 7 C1aC1a C2aC2a E2E2 36403640 14901490 ×× 실시예 6Example 6 C1bC1b C2aC2a E1E1 65006500 310310 실시예 7Example 7 C1bC1b C2aC2a E1E1 220220 930930 비교예 8Comparative Example 8 C1bC1b C2aC2a E1E1 34403440 17701770 ×× 실시예 8Example 8 C1aC1a C2bC2b E1E1 54305430 440440 실시예 9Example 9 C1aC1a C2bC2b E1E1 200200 960960 비교예 9Comparative Example 9 C1aC1a C2bC2b E1E1 37103710 22502250 ×× 비교예 10Comparative Example 10 - C2bC2b E1E1 320320 4040 ×× ×× 실시예 10Example 10 C1aC1a C2cC2c E3E3 64306430 710710 실시예 11Example 11 C1aC1a C2cC2c E3E3 250250 890890 비교예 11Comparative Example 11 C1aC1a C2cC2c E3E3 46504650 21302130 ×× 비교예 12Comparative Example 12 - C2cC2c E3E3 230230 720720 ×× ××

표 1에 의하면, 알칼리 가용성 수지(A)와, 광중합성 화합물(B)과, 광중합 개시제(C)와, 용제(S)와, 아민(E)을 포함하는 감광성 조성물로서, 광중합 개시제(C)가 옥심에스테르 화합물(C1)과 옥심에스테르 화합물 이외의 화합물(C2)을 포함하고, 감광성 조성물 중의 염화물 이온량이 1000 중량 ppm 이하인, 실시예의 감광성 조성물에서는 이물의 억제와 양호한 해상성이 양립되고 있는 것을 알 수 있다.According to Table 1, as a photosensitive composition containing alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photoinitiator (C), a solvent (S), and an amine (E), a photoinitiator (C) In the photosensitive composition of Examples containing the oxime ester compound (C1) and a compound (C2) other than the oxime ester compound, and the amount of chloride ions in the photosensitive composition is 1000 ppm by weight or less, it was found that suppression of foreign substances and good resolution are compatible. can

Claims (6)

알칼리 가용성 수지(A)와, 광중합성 화합물(B)과, 광중합 개시제(C)와, 용제(S)와, 아민(E)을 포함하는 감광성 조성물로서,
상기 광중합 개시제(C)가 옥심에스테르 화합물(C1)과 상기 옥심에스테르 화합물 이외의 화합물(C2)을 포함하고,
상기 화합물(C2)이 알킬페논 화합물 및 이미다졸 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이며,
상기 감광성 조성물 중의 염화물 이온량이 1000 중량 ppm 이하인 감광성 조성물.
A photosensitive composition comprising an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photoinitiator (C), a solvent (S), and an amine (E),
The said photoinitiator (C) contains an oxime ester compound (C1) and a compound (C2) other than the said oxime ester compound,
The compound (C2) is at least one selected from the group consisting of an alkylphenone compound and an imidazole compound,
The photosensitive composition wherein the amount of chloride ions in the photosensitive composition is 1000 ppm by weight or less.
청구항 1에 있어서,
추가로, 착색제(D)를 포함하는 감광성 조성물.
The method according to claim 1,
Further, a photosensitive composition comprising a colorant (D).
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 감광성 조성물 중의 상기 아민(E)의 함유량이 5000 중량 ppm 이하인 감광성 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
The photosensitive composition whose content of the said amine (E) in the said photosensitive composition is 5000 weight ppm or less.
청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 감광성 조성물을 기판 위에 도포하여 도포막을 형성하는 것과,
상기 도포막을 노광하는 것을 포함하는 경화막의 형성 방법.
Forming a coating film by applying the photosensitive composition according to claim 1 or 2 on a substrate,
The formation method of the cured film including exposing the said coating film.
청구항 4에 있어서,
상기 도포막이 위치 선택적으로 노광되고,
추가로, 노광된 상기 도포막을 현상하는 것을 포함하는 경화막의 형성 방법.
5. The method according to claim 4,
The coating film is positionally exposed,
Further, the method of forming a cured film comprising developing the exposed coating film.
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