KR20170113150A - Method of Forming Colored Cured Product - Google Patents

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다이 시오타
데츠로 기노시타
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Abstract

저온에서 베이크를 실시하는 경우에도, 유기용제나 알칼리성 현상액과의 접촉에 의한 과도한 용해가 생기기 어려운, 착색 경화물의 형성 방법과, 상기 형성 방법에 의해 착색 경화물을 형성하는 것을 포함하는 컬러 필터의 제조 방법을 제공하는 것이다.
(A) 광중합성 화합물과, (B) 광중합 개시제와, (C) 착색제와, (D) 실란 커플링제를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하고, (D) 실란 커플링제에 소정의 구조의 실란 화합물을 함유시키고, 노광 후의 착색 감광성 수지 조성물의 베이크를 80~150℃에서 실시한다.
A method of forming a colored cured product in which excessive dissolution due to contact with an organic solvent or an alkaline developer does not easily occur even when baking is performed at a low temperature and the production of a color filter including forming a colored cured product by the above- Method.
A photosensitive resin composition comprising (A) a photopolymerizable compound, (B) a photopolymerization initiator, (C) a colorant, and (D) a silane coupling agent is used, (D) a silane coupling agent And baking of the colored photosensitive resin composition after exposure is carried out at 80 to 150 ° C.

Description

착색 경화물의 형성 방법{Method of Forming Colored Cured Product}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method of forming colored cured products,

본 발명은 착색 경화물의 형성 방법과, 상기 착색 경화물의 형성 방법에 의한 착색 경화물의 형성을 포함하는 컬러 필터의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of forming a colored cured product and a method of producing a color filter including the formation of a colored cured product by a method of forming the colored cured product.

액정 디스플레이 등의 표시체는 서로 대향해 쌍을 이루는 전극이 형성된 2매의 기판 사이에 액정층을 끼우는 구조로 되어 있다. 그리고 한쪽의 기판의 내측에는 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 등의 각 색으로 이루어지는 화소를 가지는 컬러 필터가 형성되어 있다. 그리고, 이 컬러 필터에는 각 화소에서의 상이한 색의 혼색을 방지하거나, 전극의 패턴을 숨기거나 하기 때문에, 통상 R, G, B 각 색의 화소를 구획하도록 매트릭스상으로 배치된 블랙 매트릭스가 형성되어 있다.A display body such as a liquid crystal display has a structure in which a liquid crystal layer is sandwiched between two substrates on which pairs of electrodes are formed facing each other. A color filter having pixels of respective colors of red (R), green (G), and blue (B) is formed on the inner side of one substrate. In order to prevent color mixture of different colors in each pixel or to hide the pattern of the electrodes in this color filter, a black matrix arranged in a matrix form is usually formed so as to partition the pixels of R, G, and B colors have.

일반적으로 컬러 필터는 포토리소그래피법에 의해 형성된다. 구체적으로는 우선 기판에 흑색의 감광성 조성물을 도포, 노광, 현상하여 블랙 매트릭스를 형성한다. 그 후, 이어서 적(R), 녹(G), 청(B) 각 색의 감광성 조성물마다, 도포, 노광, 현상을 반복함으로써 각 색의 패턴을 소정의 위치에 형성하여 컬러 필터를 형성한다.Generally, a color filter is formed by photolithography. Specifically, first, a black photosensitive composition is coated on a substrate, exposed and developed to form a black matrix. Subsequently, coating, exposure and development are repeated for each of the red (R), green (G) and blue (B) photosensitive compositions to form respective color patterns at predetermined positions to form a color filter.

이와 같은 방법에 의하면, 치수 정밀도나 위치 정밀도가 뛰어난 착색막의 패턴의 형성이 용이하다. 블랙 매트릭스 등의 착색막을 포토리소그래피법에 의해 형성하는 방법으로서는 차광제로서 카본 블랙을 포함하는 감광성 수지 조성물을 이용해 포토리소그래피법에 의해 착색 경화물(착색막)을 형성하는 방법이 제안되어 있다(특허문헌 1 및 2를 참조).According to such a method, it is easy to form a pattern of a colored film excellent in dimensional accuracy and positional accuracy. As a method of forming a colored film such as a black matrix by photolithography, a method of forming a colored cured product (colored film) by photolithography using a photosensitive resin composition containing carbon black as a light shielding agent has been proposed See literature 1 and 2).

일본 특개 2000-199967호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-199967 일본 특개 2011-170075호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-170075

그러나, 컬러 필터 등의 형성에서, 상술한 바와 같이, 감광성 조성물의 도포, 노광, 현상이 반복 실시되기 때문에, 착색막 등의 착색 경화물은 유기용제나, 알칼리성 현상액에 반복 노출되는 것이 많다. 그럼에도 불구하고, 종래 알려진 방법으로 형성되는 착색 경화물에서는 유기용제나, 알칼리성 현상액과의 반복 접촉에 의한 과도한 용해가 생기는 것이 많다.However, in the formation of a color filter or the like, the application of the photosensitive composition, exposure, and development are repeatedly performed as described above, so that colored cured products such as colored films are often repeatedly exposed to an organic solvent or an alkaline developer. Nevertheless, in a colored cured product formed by a conventionally known method, excessive dissolution occurs by repeated contact with an organic solvent or an alkaline developer.

이러한 점에서 착색 경화물을, 예를 들면 200℃ 전후의 온도에서 베이크하면, 착색 경화물이 긴밀화되어 유기용제나, 알칼리성 현상액과의 반복 접촉에 의한 과도한 용해를 억제할 수 있을지 모른다.In this respect, if the colored cured product is baked at a temperature of, for example, about 200 占 폚, the colored cured product may be tightened to suppress excessive dissolution by repeated contact with an organic solvent or an alkaline developer.

그렇지만, 에너지 코스트의 점이나, 착색제의 종류에 따라서는 가열에 의한 색상의 변화가 생기는 경우가 있는 점에서, 착색 경화물의 고온에서의 가열은 바람직하지 않다.However, heating at a high temperature of the colored cured product is not preferable because the color cost may change depending on the point of the energy cost or the kind of the colorant.

이상의 과제를 감안하여, 본 발명은 저온에서 베이크를 실시하는 경우에도, 유기용제나 알칼리성 현상액과의 접촉에 의한 과도한 용해가 생기기 어려운, 착색 경화물의 형성 방법과, 상기 형성 방법에 의해 착색 경화물을 형성하는 것을 포함하는 컬러 필터의 제조 방법에 관한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a method of forming a colored cured product which does not cause excessive dissolution due to contact with an organic solvent or an alkaline developer even when baking is performed at a low temperature, And a method of manufacturing a color filter.

본 발명자들은 (A) 광중합성 화합물과, (B) 광중합 개시제와, (C) 착색제와, (D) 실란 커플링제를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하고, (D) 실란 커플링제에 소정의 구조의 실란 화합물을 함유시키며, 노광 후의 착색 감광성 수지 조성물의 베이크를 80~150℃에서 실시함으로써, 상기의 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어 본 발명을 완성하기에 이르렀다.The present inventors have found that a colored photosensitive resin composition comprising (A) a photopolymerizable compound, (B) a photopolymerization initiator, (C) a colorant and (D) a silane coupling agent is used, (D) And the baking of the colored photosensitive resin composition after exposure is carried out at 80 to 150 캜 to solve the above problems, thereby completing the present invention.

본 발명의 제1 양태는In a first aspect of the present invention,

착색 감광성 수지 조성물을 기판 위에 도포하는 것에 의한 도포막의 형성과,Forming a coating film by applying the colored photosensitive resin composition on a substrate,

도포막의 노광과,Exposure of the coating film,

노광된 도포막의 80~160℃에서의 베이크를 포함하고, A bake at 80 to 160 DEG C of the exposed coated film,

착색 감광성 수지 조성물이 (A) 광중합성 화합물과, (B) 광중합 개시제와, (C) 착색제와, (D) 실란 커플링제를 포함하고,Wherein the colored photosensitive resin composition comprises (A) a photopolymerizable compound, (B) a photopolymerization initiator, (C) a colorant, and (D) a silane coupling agent,

(D) 실란 커플링제가 하기 식(D1):(D) a silane coupling agent represented by the following formula (D1):

RD1 dRD2 (3-d) Si-RD3-NH-C(O)-YD-RD4-XD···(D1) R D1 d R D2 (3- d) Si-R D3 -NH-C (O) -Y D -R D4 -X D ··· (D1)

(식(D1) 중, RD1은 알콕시기이며, RD2는 알킬기이며, d는 1~3의 정수이며, RD3은 알킬렌기이며, YD는 -NH-, -O-, 또는 -S-이며, RD4는 단결합, 또는 알킬렌기이며, XD는 치환기를 가지고 있어도 되고 단환이어도 다환이어도 되는 함질소 헤테로아릴기이며, XD 중의 -YD-RD4-와 결합하는 환은 함질소 6원 방향환이며, -YD-RD4-는 상기 함질소 6원 방향환 중의 탄소 원자와 결합한다.)(D D1), R D1 is an alkoxy group, R D2 is an alkyl group, d is an integer of 1 to 3, R D3 is an alkylene group, and Y D is -NH-, -O-, or -S -, R D4 is a single bond or an alkylene group, X D is a nitrogen heteroaryl group which may have a substituent, may be monocyclic or polycyclic, and the ring which bonds to -Y D -R D4- in X D is nitrogen 6-membered aromatic ring, and -Y D -R D4 - is bonded to the carbon atom in the nitrogen-containing six-membered aromatic ring.

로 나타내는 화합물을 포함하는 착색 경화물의 형성 방법이다.And a compound represented by the following formula (1).

본 발명의 제2 양태는 제1 양태와 관련된 방법에 의한 착색 경화물의 형성을 포함하는 컬러 필터의 제조 방법이다.A second aspect of the present invention is a method for producing a color filter comprising the formation of a colored cured product by the method according to the first aspect.

본 발명에 의하면, 저온에서 베이크를 실시하는 경우에도, 유기용제나 알칼리성 현상액과의 접촉에 의한 과도한 용해가 생기기 어려운, 착색 경화물의 형성 방법과, 상기 형성 방법에 의해 착색 경화물을 형성하는 것을 포함하는 컬러 필터의 제조 방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, even when baking is performed at a low temperature, a method of forming a colored cured product, in which excessive dissolution due to contact with an organic solvent or an alkaline developer does not easily occur, and a method of forming a colored cured product by the above- The color filter can be manufactured in a simple manner.

≪착색 경화물의 형성 방법≫≪ Method of forming colored cured product &

착색 경화물의 형성 방법은,The method of forming the colored cured product is not particularly limited,

착색 감광성 수지 조성물을 기판 위에 도포하는 것에 의한 도포막의 형성과,Forming a coating film by applying the colored photosensitive resin composition on a substrate,

도포막의 노광과,Exposure of the coating film,

노광된 도포막의 80~160℃에서의 베이크를 포함한다.And baking at 80 to 160 캜 of the exposed coating film.

또, 착색 감광성 수지 조성물로서, (A) 광중합성 화합물과, (B) 광중합 개시제와, (C) 착색제와, (D) 실란 커플링제를 포함하는 조성물이 이용된다.As the colored photosensitive resin composition, a composition comprising (A) a photopolymerizable compound, (B) a photopolymerization initiator, (C) a colorant, and (D) a silane coupling agent is used.

그리고, (D) 실란 커플링제는 하기 식(D1):The silane coupling agent (D) is represented by the following formula (D1):

RD1 dRD2 (3-d) Si-RD3-NH-C(O)-YD-RD4-XD···(D1) R D1 d R D2 (3- d) Si-R D3 -NH-C (O) -Y D -R D4 -X D ··· (D1)

(식(D1) 중, RD1은 알콕시기이며, RD2는 알킬기이며, d는 1~3의 정수이며, RD3은 알킬렌기이며, YD는 -NH-, -O-, 또는 -S-이며, RD4는 단결합, 또는 알킬렌기이며, XD는 치환기를 가지고 있어도 되고 단환이어도 다환이어도 되는 함질소 헤테로아릴기이며, XD 중의 -YD-RD4-와 결합하는 환은 함질소 6원 방향환이며, -YD-RD4-는 상기 함질소 6원 방향환 중의 탄소 원자와 결합한다.)(D D1), R D1 is an alkoxy group, R D2 is an alkyl group, d is an integer of 1 to 3, R D3 is an alkylene group, and Y D is -NH-, -O-, or -S -, R D4 is a single bond or an alkylene group, X D is a nitrogen heteroaryl group which may have a substituent, may be monocyclic or polycyclic, and the ring which bonds to -Y D -R D4- in X D is nitrogen 6-membered aromatic ring, and -Y D -R D4 - is bonded to the carbon atom in the nitrogen-containing six-membered aromatic ring.

로 나타내는 화합물을 포함한다.And the like.

착색 감광성 수지 조성물이, (D) 실란 커플링제로서 상기 식(D1)으로 나타내는 실란 커플링제를 함유함으로써, 착색 감광성 조성물로 이루어지는 도포막을 80~160℃에서 베이크해도, 유기용제나 알칼리성 현상액과의 접촉에 의한 과도한 용해를 일으키기 어려운 착색 경화물을 형성할 수 있다.The colored photosensitive resin composition contains the silane coupling agent represented by the formula (D1) as the silane coupling agent (D), so that the coating film made of the colored photosensitive composition can be baked at 80 to 160 캜 and contact with the organic solvent or the alkaline developer It is possible to form a colored cured product which is hardly caused by excessive dissolution by the above-mentioned method.

이하, 착색 감광성 수지 조성물과, 착색 경화막의 구체적인 형성 방법에 대해서 설명한다.Hereinafter, a specific method of forming the colored photosensitive resin composition and the colored cured film will be described.

<착색 감광성 조성물>≪ Coloring Photosensitive composition >

착색 감광성 조성물(이하, 「착색 조성물」이라고도 기재함)은 (A) 광중합성 화합물과, (B) 광중합 개시제와, (C) 착색제와, (D) 실란 커플링제를 포함한다. 이하, 착색 감광성 조성물이 포함하는 필수 또는 임의의 재료와, 흑색 감광성 조성물의 조제 방법에 대해서 설명한다.The colored photosensitive composition (hereinafter also referred to as "coloring composition") comprises (A) a photopolymerizable compound, (B) a photopolymerization initiator, (C) a colorant, and (D) a silane coupling agent. Hereinafter, a necessary or optional material included in the colored photosensitive composition and a method for preparing the black photosensitive composition will be described.

<(A) 광중합성 화합물>≪ (A) Photopolymerizable compound >

착색 조성물은 (A) 광중합성 화합물(이하, 「(A) 성분」이라고도 기재함)을 함유한다. (A) 성분으로서는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 광중합성 화합물을 이용할 수 있다. 그 중에서도, 에틸렌성 불포화기를 가지는 수지 또는 에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머가 바람직하다.The coloring composition contains (A) a photopolymerizable compound (hereinafter also referred to as " component (A) "). The component (A) is not particularly limited, and conventionally known photopolymerizable compounds can be used. Among them, a resin having an ethylenic unsaturated group or a monomer having an ethylenic unsaturated group is preferable.

에틸렌성 불포화기를 가지는 수지와, 에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머는 조합하여 이용할 수 있다. 에틸렌성 불포화기를 가지는 수지와, 에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머를 조합하는 경우에는 흑색 조성물의 경화성이 향상되어 패턴 형성이 용이하다.The resin having an ethylenic unsaturated group and the monomer having an ethylenic unsaturated group can be used in combination. When a resin having an ethylenic unsaturated group is combined with a monomer having an ethylenic unsaturated group, the curing property of the black composition is improved and pattern formation is easy.

[에틸렌성 불포화기를 가지는 수지][Resin Having Ethylenic Unsaturated Group]

에틸렌성 불포화기를 가지는 수지로서는 (메타)아크릴산, 푸마르산, 말레산, 푸마르산모노메틸, 푸마르산모노에틸, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴아미드, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 카르도에폭시디아크릴레이트 등이 중합한 올리고머류; 다가 알코올류와 일염기산 또는 다염기산을 축합하여 얻어지는 폴리에스테르프리폴리머에 (메타)아크릴산을 반응시켜 얻어지는 폴리에스테르(메타)아크릴레이트; 폴리올과 2개의 이소시아네이트기를 가지는 화합물을 반응시킨 후, (메타)아크릴산을 반응시켜 얻어지는 폴리우레탄(메타)아크릴레이트; 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 페놀 또는 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 레졸형 에폭시 수지, 트리페놀메탄형 에폭시 수지, 폴리카르복시산폴리글리시딜에스테르, 폴리올폴리글리시딜에스테르, 지방족 또는 지환식 에폭시 수지, 아민에폭시 수지, 디히드록시벤젠형 에폭시 수지 등의 에폭시 수지와 (메타)아크릴산을 반응시켜 얻어지는 에폭시(메타)아크릴레이트 수지 등을 들 수 있다. 추가로, 에폭시(메타)아크릴레이트 수지에 다염기산 무수물을 반응시킨 수지를 적합하게 이용할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 「(메타)아크릴」은 「아크릴 또는 메타크릴」을 의미한다.Examples of the resin having an ethylenic unsaturated group include (meth) acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, monomethyl fumarate, monoethyl fumarate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, ethylene glycol monomethyl ether (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, (meth) acrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile, (Meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di Propylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, Oligomers obtained by polymerizing 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, cardo epoxy diacrylate and the like; A polyester (meth) acrylate obtained by reacting a (meth) acrylic acid with a polyester prepolymer obtained by condensing a polyhydric alcohol with a monobasic acid or a polybasic acid; Polyurethane (meth) acrylate obtained by reacting a polyol with a compound having two isocyanate groups and then reacting with (meth) acrylic acid; Bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol or cresol novolak type epoxy resin, resol type epoxy resin, triphenol methane type epoxy resin, polycarboxylic acid polyglycidyl ester, (Meth) acrylate resins obtained by reacting an epoxy resin such as a cyydecyl ester, an aliphatic or alicyclic epoxy resin, an amine epoxy resin or a dihydroxybenzene type epoxy resin with (meth) acrylic acid. In addition, a resin obtained by reacting an epoxy (meth) acrylate resin with a polybasic acid anhydride can be suitably used. In the present specification, "(meth) acrylic" means "acrylic or methacrylic".

(A) 광중합성 화합물이 에틸렌성 불포화기를 가지는 중합체인 경우, 이러한 중합체로서는 에틸렌성 불포화기를 가지고, 카르도 구조를 포함하는 중합체(A')가 바람직하다. (A) When the photopolymerizable compound is a polymer having an ethylenic unsaturated group, such a polymer is preferably a polymer (A ') having an ethylenic unsaturated group and containing a cardo structure.

(A) 광중합성 화합물로서는 상기의 카르도 구조를 포함하는 중합체(A')를 이용하는 경우, (C) 착색제를 양호하게 분산시키기 쉽고, 보존 안정성이 뛰어난 착색 조성물을 얻기 쉽다. 또, (C) 착색제가 양호하게 분산된 착색 조성물을 이용함으로써, 균일한 색상을 나타내는 컬러 필터의 제조가 용이하다.As the photopolymerizable compound (A), when a polymer (A ') containing the above-mentioned cardo structure is used, (C) a coloring composition which is easily dispersed well and has excellent storage stability is easily obtained. Further, by using the coloring composition in which the coloring agent (C) is well dispersed, it is easy to produce a color filter exhibiting uniform color.

또, 에틸렌성 불포화기를 가지는 수지로서는 에폭시 화합물과 불포화기 함유 카르복시산 화합물의 반응물을, 추가로 다염기산 무수물과 반응시킴으로써 얻어지는 수지를 적합하게 이용할 수 있다.As the resin having an ethylenic unsaturated group, a resin obtained by reacting a reaction product of an epoxy compound and an unsaturated group-containing carboxylic acid compound with a polybasic acid anhydride can be suitably used.

그 중에서도, 하기 식(a-1)으로 나타내는 화합물이 바람직하다. 하기 식(a-1)으로 나타내는 화합물은 전술한 카르도 구조를 포함하는 중합체(A')로서 적합한 화합물이다. 이 식(a-1)으로 나타내는 화합물은 그 자체가 광경화성이 높은 점에서 바람직하다.Among them, a compound represented by the following formula (a-1) is preferable. The compound represented by the following formula (a-1) is a compound suitable as the polymer (A ') containing the above-mentioned cardo structure. The compound represented by the formula (a-1) is preferable because of its high photo-curability.

[화 1]However,

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 식(a-1) 중, Xa는 하기 식(a-2)으로 나타내는 기를 나타낸다.In the above formula (a-1), X a represents a group represented by the following formula (a-2).

[화 2][Figure 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 식(a-2) 중, Ra1는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~6의 탄화수소기, 또는 할로겐 원자를 나타내고, Ra2는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타내며, Wa는 단결합 또는 하기 식(a-3)으로 나타내는 기를 나타낸다.The formula (a2) of, R a1 each independently represents a hydrocarbon group, or a halogen atom, a hydrogen atom, a carbon number of 1 ~ 6, R a2 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, W is a single bond Or a group represented by the following formula (a-3).

[화 3][Figure 3]

Figure pat00003
Figure pat00003

또, 상기 식(a-1) 중, Ya는 디카르복시산 무수물로부터 산무수물기(-CO-O-CO-)를 제외한 잔기를 나타낸다. 디카르복시산 무수물의 예로서는 무수 말레산, 무수 숙신산, 무수 이타콘산, 무수 프탈산, 무수 테트라히드로프탈산, 무수 헥사히드로프탈산, 무수 메틸-endo-메틸렌테트라히드로프탈산, 무수 클로렌드산, 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 무수 글루타르산 등을 들 수 있다.In the formula (a-1), Y a represents a residue other than an acid anhydride group (-CO-O-CO-) from a dicarboxylic acid anhydride. Examples of the dicarboxylic acid anhydrides include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyl-undo-methylene tetrahydrophthalic acid, anhydrous chlorodic acid, methyltetrahydrophthalic anhydride, And anhydrous glutaric acid.

또, 상기 식(a-1) 중, Za는 테트라카르복시산 2 무수물에서 2개의 산무수물기를 제외한 잔기를 나타낸다. 테트라카르복시산 2 무수물의 예로서는 무수 피로멜리트산, 벤조페논테트라카르복시산 2 무수물, 비페닐테트라카르복시산 2 무수물, 비페닐에테르테트라카르복시산 2 무수물 등을 들 수 있다. In the above formula (a-1), Z a represents a residue other than the two acid anhydride groups in the tetracarboxylic acid dianhydride. Examples of the tetracarboxylic acid dianhydride include anhydrous pyromellitic acid, benzophenonetetracarboxylic dianhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride, and biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride.

또, 상기 식(a-1) 중, m은 0~20의 정수를 나타낸다.In the above formula (a-1), m represents an integer of 0 to 20.

에틸렌성 불포화기를 가지는 수지의 산가는 수지 고형분에서, 10~150 mgKOH/g인 것이 바람직하고, 70~110 mgKOH/g인 것이 보다 바람직하다. 산가를 10 mgKOH/g 이상으로 함으로써, 현상액에 대한 충분한 용해성이 얻어지므로 바람직하다. 또, 산가를 150 mgKOH/g 이하로 함으로써, 충분한 경화성을 얻을 수 있어 표면성을 양호하게 할 수 있으므로 바람직하다.The acid value of the resin having an ethylenically unsaturated group is preferably 10 to 150 mgKOH / g, more preferably 70 to 110 mgKOH / g, in the resin solid content. When the acid value is 10 mgKOH / g or more, sufficient solubility in a developer is obtained, which is preferable. When the acid value is 150 mgKOH / g or less, sufficient curability can be obtained and the surface property can be improved, which is preferable.

또, 에틸렌성 불포화기를 가지는 수지의 질량 평균 분자량은 1000~40000인 것이 바람직하고, 2000~30000인 것이 보다 바람직하다. 질량 평균 분자량을 1000 이상으로 함으로써, 양호한 내열성, 막 강도를 얻을 수 있으므로 바람직하다. 또, 질량 평균 분자량을 40000 이하로 함으로써, 양호한 현상성을 얻을 수 있으므로 바람직하다.The mass average molecular weight of the resin having an ethylenic unsaturated group is preferably from 1,000 to 40,000, more preferably from 2,000 to 30,000. By setting the mass average molecular weight to 1000 or more, good heat resistance and film strength can be obtained, which is preferable. The weight average molecular weight is preferably 40,000 or less, because good developability can be obtained.

[에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머][Monomer having an ethylenically unsaturated group]

에틸렌성 불포화기를 가지는 모노머에는 단관능 모노머와 다관능 모노머가 있다.Monomers having an ethylenic unsaturated group include monofunctional monomers and polyfunctional monomers.

단관능 모노머로서는 (메타)아크릴아미드, 메틸올(메타)아크릴아미드, 메톡시메틸(메타)아크릴아미드, 에톡시메틸(메타)아크릴아미드, 프로폭시메틸(메타)아크릴아미드, 부톡시메톡시메틸(메타)아크릴아미드, N-메틸올(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴산, 푸마르산, 말레산, 무수 말레산, 이타콘산, 무수 이타콘산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 크로톤산, 2-아크릴아미드-2-메틸프로판설폰산, tert-부틸아크릴아미드설폰산, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-페녹시-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시-2-히드록시프로필프탈레이트, 글리세린모노(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 프탈산 유도체의 하프(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 단관능 모노머는 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상 조합하여 이용해도 된다.Examples of the monofunctional monomer include (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, ethoxymethyl (meth) acrylamide, propoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymethoxymethyl (Meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, fumaric acid, maleic anhydride, itaconic acid, (Meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, Hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, glycerin mono (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, glycidyl Acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate and half (meth) acrylate of phthalic acid derivatives. . These monofunctional monomers may be used alone or in combination of two or more.

한편, 다관능 모노머로서는 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시디에톡시페닐)프로판, 2,2-비스(4-(메타)아크릴옥시폴리에톡시페닐)프로판, 2-히드록시-3-(메타)아크릴로일옥시프로필(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메타)아크릴레이트, 프탈산디글리시딜에스테르디(메타)아크릴레이트, 글리세린트리아크릴레이트, 글리세린폴리글리시딜에테르폴리(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트(즉, 톨릴렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 또는 헥사메틸렌디이소시아네이트와, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 반응물), 메틸렌비스(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴아미드메틸렌에테르, 다가 알코올과 N-메틸올(메타)아크릴아미드의 축합물 등의 다관능 모노머나, 트리아크릴포르말 등을 들 수 있다. 이들 다관능 모노머는 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상 조합하여 이용해도 된다.Examples of the polyfunctional monomer include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, (Meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol (Meth) acrylates such as hexa (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxy diethoxyphenyl) propane, (Meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, phthalic acid diglycidyl (Meth) acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl ether poly (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate (i.e., tolylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, or hexamethylene di Condensation products of polyhydric alcohols with N-methylol (meth) acrylamide, and the like can be used, for example, a reaction product of isocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate), methylene bis (meth) acrylamide, (meth) acrylamide methylene ether Multifunctional Monomers, and triacryl-formal. These multifunctional monomers may be used alone or in combination of two or more.

착색 조성물에서의 (A) 성분의 함유량은 착색 조성물의 고형분의 질량에 대해서 10~70 질량%가 바람직하고, 20~65 질량%가 보다 바람직하며, 30~60 질량%가 특히 바람직하다.The content of the component (A) in the coloring composition is preferably from 10 to 70 mass%, more preferably from 20 to 65 mass%, and particularly preferably from 30 to 60 mass%, based on the mass of the solid content of the coloring composition.

<(B) 광중합 개시제><(B) Photopolymerization initiator>

착색 조성물은 (B) 광중합 개시제(이하, 「(B) 성분」이라고도 기재함)를 포함한다. (B) 광중합 개시제로서는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 종래부터 착색 조성물에 배합되고 있는 여러 가지의 광중합 개시제를 이용할 수 있다.The coloring composition includes (B) a photopolymerization initiator (hereinafter also referred to as &quot; component (B) &quot;). As the photopolymerization initiator (B), various photopolymerization initiators conventionally compounded in the coloring composition can be used as long as the object of the present invention is not impaired.

(B) 광중합 개시제의 구체예로서는 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 비스(4-디메틸아미노페닐)케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판 1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, O-아세틸-1-[6-(2-메틸벤조일)-9-에틸-9H-카르바졸-3-일]에탄온옥심, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 4-벤조일-4'-메틸디메틸설피드, 4-디메틸아미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산부틸, 4-디메틸아미노-2-에틸헥실벤조산, 4-디메틸아미노-2-이소아밀벤조산, 벤질-β-메톡시에틸아세탈, 벤질디메틸케탈, 1-페닐-1,2-프로판디온-2-(o-에톡시카르보닐)옥심, o-벤조일벤조산메틸, 2,4-디에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤, 티옥산텐, 2-클로로티옥산텐, 2,4-디에틸티옥산텐, 2-메틸티옥산텐, 2-이소프로필티옥산텐, 2-에틸안트라퀴논, 옥타메틸안트라퀴논, 1,2-벤즈안트라퀴논, 2,3-디페닐안트라퀴논, 아조비스이소부티로니트릴, 벤조일퍼옥시드, 쿠멘히드로퍼옥시드, 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토벤조티아졸, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디(m-메톡시페닐)-이미다졸릴 2량체, 벤조페논, 2-클로로벤조페논, p,p'-비스디메틸아미노벤조페논, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 벤질, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인부틸에테르, 아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, p-디메틸아미노프로피오페논, 디클로로아세토페논, 트리클로로아세토페논, p-tert-부틸아세토페논, p-디메틸아미노아세토페논, p-tert-부틸트리클로로아세토페논, p-tert-부틸디클로로아세토페논, α,α-디클로로-4-페녹시아세토페논, 티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 디벤조스베론, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 9-페닐아크리딘, 1,7-비스-(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스-(9-아크리디닐)펜탄, 1,3-비스-(9-아크리디닐)프로판, p-메톡시트리아진, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진, 2,4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진 등을 들 수 있다. 이들 (B) 광중합 개시제는 단독 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Specific examples of the photopolymerization initiator (B) include 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- 2-methylpropane-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, bis (4-dimethylaminophenyl) 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, O-acetyl -9- ethyl-9H-carbazol-3-yl] ethanone oxime, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4-benzoyl- Dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, butyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylamino-2-ethylhexylbenzoic acid, 4-dimethylamino- - isoamylbenzoic acid, benzyl- benzyl dimethyl ketal, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, methyl o-benzoylbenzoate, 2,4- 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, -Methylthioxanthene, 2-isopropylthioxanthene, 2-ethylthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, azobisisobutyronitrile, benzoyl 2-mercaptobenzooxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (m-methoxybenzoimidazole, Methoxyphenyl) -imidazolyl dimer, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, p, p'-bisdimethylaminobenzophenone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone , 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl Benzoin isopropyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin butyl ether, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, P-tert-butyltrichloroacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, alpha, alpha -methylpyrrolidone, Dichloro-4-phenoxyacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, dibenzosuberone, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9-phenylacridine, 1 (9-acridinyl) pentane, 1,3-bis- (9-acridinyl) propane, p-methoxytriazine , 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) 2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s- (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis -Triazine, 2- (4-ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -triazine, 2- (4-methoxyphenyl) ) -s-triazine, 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) Bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2- - trichloromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine, 2,4- Styrylphenyl-s-triazine, and the like. These photopolymerization initiators (B) may be used alone or in combination of two or more.

이와 같은 (B) 광중합 개시제 중에서도, 옥심에스테르계 광중합 개시제가 바람직하다.Among such photopolymerization initiators (B), oxime ester-based photopolymerization initiators are preferred.

옥심계 광중합 개시제 중에서는 하기 식(B1)으로 나타내는 옥심에스테르 화합물이 바람직하다.Among the oxime-based photopolymerization initiators, oxime ester compounds represented by the following formula (B1) are preferable.

[화 4][Figure 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 식(B1) 중, RB1는 -NO2 또는 -CORB5를 나타낸다. 또, RB5는 치환기를 가지고 있어도 되는 복소환기, 축합환식 방향족기, 또는 방향족기를 나타낸다. RB2~RB4는 각각 독립해 1가의 유기기를 나타낸다.In the above formula (B1), R B1 represents -NO 2 or -COR B5 . R B5 represents a heterocyclic group which may have a substituent, a condensed cyclic aromatic group or an aromatic group. R B2 to R B4 each independently represent a monovalent organic group.

미세한 패턴을 형성하는 경우의 해상성이 뛰어나고, 기판에 대한 밀착성이 양호한 착색막을 형성하기 쉬운 착색 조성물이 얻어지는 점에서는 식(B1)으로 나타내는 화합물 중에서도, RB1이 -NO2, 또는 RB5가 복소환기 및 축합환식 방향족기로부터 선택되는 기인 -CORB5인 화합물이 바람직하고, -NO2, 또는 RB5가 복소환기인 -CORB5인 화합물이 보다 바람직하다.Among the compounds represented by the formula (B1), R B1 is -NO 2 or R B5 is a complex having a complex ventilation and condensed cyclic group selected from the aromatic group -COR B5 the compound preferably, -NO 2, or R B5 is more preferably -COR B5 a compound of a heterocyclic group.

RB5로 나타내는 복소환기로서는 질소 원자, 황 원자, 및 산소 원자의 적어도 1개의 원자를 포함하는 5원환 이상, 바람직하게는 5원환 또는 6원환의 복소환기를 들 수 있다. 복소환기의 예로서는 피롤릴기, 이미다졸릴기, 피라졸릴기 등의 함질소 5원환기; 피리딜기, 피라디닐기, 피리미딜기, 피리다디닐기 등의 함질소 6원환기; 티아졸릴기, 이소티아졸릴기 등의 함질소 함황기; 옥사졸릴기, 이소옥사졸릴기 등의 함질소 함산소기; 티에닐기, 티오피라닐기 등의 함황기; 푸릴기, 피라닐기 등의 함산소기; 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 질소 원자 또는 황 원자를 1개 포함하는 것이 바람직하다. 이 복소환에는 축합환이 포함되어 있어도 된다. 축합환이 포함되는 복소환기의 예로서는 벤조티에닐기 등을 들 수 있다.As the heterocyclic group represented by R B5 , there can be mentioned a heterocyclic group having 5 or more members including at least one atom of a nitrogen atom, a sulfur atom and an oxygen atom, preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring. Examples of the heterocyclic group include a nitrogen-containing five-membered ring group such as a pyrrolyl group, an imidazolyl group, and a pyrazolyl group; A nitrogen-containing 6-membered ring group such as a pyridyl group, a pyranyl group, a pyrimidyl group, or a pyridadinyl group; A nitrogen-containing heterocyclic group such as a thiazolyl group or an isothiazolyl group; A nitrogen-containing oxygen group such as an oxazolyl group and an isoxazolyl group; Thienyl group, and thiopyranyl group; An impurity group such as a furyl group and a pyranyl group; And the like. Among them, it is preferable to include one nitrogen atom or sulfur atom. The heterocyclic ring may contain a condensed ring. Examples of the heterocyclic group containing a condensed ring include a benzothienyl group and the like.

RB5로 나타내는 축합환식 방향족기로서는 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기 등을 들 수 있다. 또, RB5로 나타내는 방향족기로서는 페닐기를 들 수 있다. Examples of the condensed cyclic aromatic group represented by R B5 include a naphthyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group. The aromatic group represented by R B5 includes a phenyl group.

복소환기, 축합환식 방향족기, 또는 방향족기는 치환기를 가지고 있어도 된다. 특히 RB5가 방향족기인 경우에는 치환기를 가지고 있는 것이 바람직하다. 이와 같은 치환기로서는 -NO2, -CN, -SO2RB6, -CORB6, -NRB7RB8, -RB9, -ORB9, -O-RB10-O-RB11 등을 들 수 있다.The heterocyclic group, the condensed cyclic aromatic group, or the aromatic group may have a substituent. Particularly, when R B5 is an aromatic group, it is preferable to have a substituent. Examples of such a substituent include -NO 2 , -CN, -SO 2 R B6 , -COR B6 , -NR B7 R B8 , -R B9 , -OR B9 , -O-RB 10 -OR B11 and the like.

RB6은 각각 독립적으로 알킬기를 나타내고, 이들은 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며, 에테르 결합, 티오에테르 결합, 에스테르 결합에 의해 중단되어 있어도 된다. RB6에서의 알킬기는 탄소 원자수 1~5인 것이 바람직하고, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기 등을 들 수 있다.R B6 each independently represents an alkyl group, which may be substituted with a halogen atom, or may be interrupted by an ether bond, a thioether bond, or an ester bond. The alkyl group in R B6 preferably has 1 to 5 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group and an isobutyl group.

RB7, RB8은 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 또는 알콕시기를 나타내고, 이들은 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 이들 중 알킬기 및 알콕시기의 알킬렌 부분은 에테르 결합, 티오에테르 결합, 또는 에스테르 결합에 의해 중단되어 있어도 된다. 또, RB7과 RB8이 결합해 환 구조를 형성하고 있어도 된다. RB7, RB8에서의 알킬기 또는 알콕시기는 탄소 원자수 1~5인 것이 바람직하고, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기 등을 들 수 있다.R B7 and R B8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, which may be substituted with a halogen atom, and the alkylene moiety of the alkyl group and the alkoxy group may be substituted by an ether bond, a thioether bond, It may be interrupted. R B7 and R B8 may combine to form a ring structure. The alkyl group or the alkoxy group in R B7 and R B8 is preferably 1 to 5 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, And a width period.

RB7과 RB8이 결합해 형성할 수 있는 환 구조로서는 복소환을 들 수 있다. 이 복소환으로서는 적어도 질소 원자를 포함하는 5원환 이상, 바람직하게는 5~7원환의 복소환을 들 수 있다. 이 복소환에는 축합환이 포함되어 있어도 된다. 복소환의 예로서는 피페리딘환, 모르폴린환, 티오모르폴린환 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 모르폴린환이 바람직하다.The ring structure that R B7 and R B8 can combine to form is a heterocycle. As the heterocyclic ring, there can be mentioned a heterocyclic ring having at least a nitrogen-containing 5-membered ring, preferably a 5- to 7-membered ring. The heterocyclic ring may contain a condensed ring. Examples of the heterocyclic ring include a piperidine ring, a morpholine ring, and a thiomorpholine ring. Among them, a morpholine ring is preferable.

RB9는 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 알킬기를 나타낸다. RB9에서의 알킬기는 탄소수 1~5인 것이 바람직하고, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기 등을 들 수 있다.R B9 represents an alkyl group in which some or all of the hydrogen atoms may be substituted with a halogen atom. The alkyl group in R B9 preferably has 1 to 5 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and an isobutyl group.

RB10은 알킬렌기를 나타낸다. RB11은 알킬기를 나타내며, 이들은 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 에테르 결합, 티오에테르 결합, 에스테르 결합에 의해 중단되어 있어도 된다. 바람직한 탄소 원자수나 그 구체예는 상기 RB6의 설명과 같다.R B10 represents an alkylene group. R B11 represents an alkyl group, which may be substituted with a halogen atom, or may be interrupted by an ether bond, a thioether bond or an ester bond. Preferable number of carbon atoms and specific examples thereof are the same as those of R B6 .

이들 중에서도, RB5로서는 피롤릴기, 피리딜기, 티에닐기, 티오피라릴기, 벤조티에닐기, 나프틸기, 치환기를 가지는 페닐기를 바람직한 예로서 들 수 있다.Among them, preferable examples of R B5 include a pyrrolyl group, a pyridyl group, a thienyl group, a thiopyraryl group, a benzothienyl group, a naphthyl group, and a phenyl group having a substituent.

상기 식(B1) 중, RB2는 1가의 유기기를 나타낸다. 이 유기기로서는 -RB12, -ORB12, -CORB12, -SRB12, -NRB12RB13로 나타내는 기가 바람직하다. RB12, RB13은 각각 독립적으로 알킬기, 알케닐기, 아릴기, 아랄킬기, 또는 복소환기를 나타내고, 이들은 할로겐 원자, 알킬기, 또는 복소환기로 치환되어 있어도 되며, 이들 중 알킬기 및 아랄킬기의 알킬렌 부분은 불포화 결합, 에테르 결합, 티오에테르 결합, 에스테르 결합에 의해 중단되어 있어도 된다. 또, RB12와 RB13이 결합해 질소 원자와 함께 환 구조를 형성하고 있어도 된다.In the above formula (B1), R B2 represents a monovalent organic group. The organic group is preferably a group represented by -R B12 , -OR B12 , -COR B12 , -SR B12 or -NR B12 R B13 . R B12 and R B13 each independently represent an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group or a heterocyclic group, which may be substituted with a halogen atom, an alkyl group or a heterocyclic group, The moiety may be interrupted by an unsaturated bond, an ether bond, a thioether bond, or an ester bond. R B12 and R B13 may combine with each other to form a ring structure together with the nitrogen atom.

RB12, RB13로 나타내는 알킬기로서는 탄소 원자수 1~20인 것이 바람직하고, 탄소 원자수 1~5인 것이 보다 바람직하다. 알킬기의 예로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 이소데실기 등의 직쇄상 또는 분지쇄상의 기를 들 수 있다. 또, 이 알킬기는 치환기를 가지고 있어도 된다. 치환기를 가지는 것의 예로서는 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 프로필옥시에톡시에틸기, 메톡시프로필기 등을 들 수 있다.The alkyl group represented by R B12 and R B13 preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec- N-hexyl, n-heptyl, n-octyl, isooctyl, sec-octyl, tert-octyl, n-nonyl, isononyl, n-decyl, isodecyl and the like A straight chain or branched chain group of The alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent group include a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

RB12, RB13로 나타내는 알케닐기의 탄소 원자수는 1~20이 바람직하고, 1~5가 보다 바람직하다. 알케닐기는 직쇄상이어도 분기쇄상이어도 된다. 알케닐기의 예로서는 비닐기, 알릴기, 부테닐기, 에테닐기, 프로피닐기 등을 들 수 있다. 알케닐기는 치환기를 가지고 있어도 된다. 치환기를 가지는 알케닐기의 예로서는 2-(벤조옥사졸-2-일)에테닐기 등을 들 수 있다.The number of carbon atoms of the alkenyl group represented by R B12 and R B13 is preferably from 1 to 20, more preferably from 1 to 5. The alkenyl group may be linear or branched. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, an ethenyl group, and a propynyl group. The alkenyl group may have a substituent. Examples of the alkenyl group having a substituent include a 2- (benzoxazol-2-yl) ethenyl group and the like.

RB12, RB13로 나타내는 아릴기의 탄소 원자수는 6~20이 바람직하고, 6~10이 보다 바람직하다. 아릴기의 예로서는 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 에틸페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기 등을 들 수 있다.The number of carbon atoms of the aryl group represented by R B12 and R B13 is preferably from 6 to 20, more preferably from 6 to 10. Examples of the aryl group include phenyl, tolyl, xylyl, ethylphenyl, naphthyl, anthryl and phenanthryl groups.

RB12, RB13로 나타내는 아랄킬기의 탄소 원자수는 7~20이 바람직하고, 7~12가 보다 바람직하다. 아랄킬기의 예로서는 벤질기, α-메틸벤질기, α,α-디메틸벤질기, 페닐에틸기, 페닐에테닐기 등을 들 수 있다.The number of carbon atoms of the aralkyl group represented by R B12 and R B13 is preferably 7 to 20, more preferably 7 to 12. Examples of the aralkyl group include benzyl group,? -Methylbenzyl group,?,? - dimethylbenzyl group, phenylethyl group, phenylethenyl group and the like.

RB12, RB13로 나타내는 복소환기로서는 질소 원자, 황 원자, 및 산소 원자의 적어도 1개의 원자를 포함하는 5원환 이상, 바람직하게는 5~7원환의 복소환기를 들 수 있다. 이 복소환기에는 축합환이 포함되어 있어도 된다. 복소환기의 예로서는 피롤릴기, 피리딜기, 피리미딜기, 푸릴기, 티에닐기 등을 들 수 있다. Examples of the heterocyclic group represented by R B12 and R B13 include a heterocyclic group having 5 or more members, preferably 5 to 7 member rings, including at least one atom of a nitrogen atom, a sulfur atom and an oxygen atom. This heterocyclic group may contain a condensed ring. Examples of the heterocyclic group include a pyrrolyl group, a pyridyl group, a pyrimidyl group, a furyl group, and a thienyl group.

이들 RB12, RB13 중, 알킬기 및 아랄킬기의 알킬렌 부분은 불포화 결합, 에테르 결합, 티오에테르 결합, 에스테르 결합에 의해 중단되어 있어도 된다.In these R B12 and R B13 , the alkylene moiety of the alkyl group and the aralkyl group may be interrupted by an unsaturated bond, an ether bond, a thioether bond, or an ester bond.

또, RB12와 RB13이 결합해 형성할 수 있는 환 구조로서는 복소환을 들 수 있다. 이 복소환으로서는 적어도 질소 원자를 포함하는 5원환 이상, 바람직하게는 5~7원환의 복소환을 들 수 있다. 이 복소환에는 축합환이 포함되어 있어도 된다. 복소환의 예로서는 피페리딘환, 모르폴린환, 티오모르폴린환 등을 들 수 있다.As the ring structure that R B12 and R B13 can combine to form, heterocyclic ring may be mentioned. As the heterocyclic ring, there can be mentioned a heterocyclic ring having at least a nitrogen-containing 5-membered ring, preferably a 5- to 7-membered ring. The heterocyclic ring may contain a condensed ring. Examples of the heterocyclic ring include a piperidine ring, a morpholine ring, and a thiomorpholine ring.

이들 중에서도, RB2로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 페닐기인 것이 가장 바람직하다.Among them, R B2 is most preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a phenyl group.

상기 식(B1) 중, RB3은 1가의 유기기를 나타낸다. 이 유기기로서는 탄소수 1~5의 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소 원자수 6~12의 아릴기, 하기 식(B2)으로 나타내는 기, 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 복소환기가 바람직하다. 치환기로서는 상기 RB5의 경우와 동일한 기를 들 수 있다. 탄소 원자수 6~12의 아릴기로서는 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기 등을 들 수 있다.In the above formula (B1), R B3 represents a monovalent organic group. The organic group is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms which may have a substituent, a group represented by the following formula (B2), or a heterocyclic group optionally having a substituent. Examples of the substituent include the same groups as in the case of R B5 . Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group.

[화 5][Figure 5]

Figure pat00005
Figure pat00005

상기 식(B2) 중, RB14는 산소 원자로 중단되어 있어도 되는 탄소 원자수 1~5의 알킬렌기를 나타낸다. 이와 같은 알킬렌기로서는 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, 이소프로필렌기, n-부틸렌기, 이소부틸렌기, sec-부틸렌기, n-펜틸렌기, 이소펜틸렌기, sec-펜틸렌기 등의 직쇄상 또는 분지쇄상의 기를 들 수 있다. 이들 중에서도, RB14는 이소프로필렌기인 것이 가장 바람직하다.In the formula (B2), R B14 represents an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms which may be interrupted by an oxygen atom. Examples of such alkylene groups include methylene, ethylene, n-propylene, isopropylene, n-butylene, isobutylene, sec-butylene, n-pentylene, isopentylene and sec- Chain or branched chain. Among them, R B14 is most preferably an isopropylene group.

상기 식(B2) 중, RB15는 -NRB16RB17로 나타내는 1가의 유기기를 나타낸다(RB16, RB17은 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타낸다). 그와 같은 유기기 중에서도, RB15의 구조가 하기 식(B3)으로 나타내는 것이면, 옥심계 광중합 개시제의 용해성을 향상할 수 있는 점에서 바람직하다.In the formula (B2), R B15 represents a monovalent organic group represented by -NR B16 R B17 (wherein R B16 and R B17 each independently represent a monovalent organic group). Among such organic groups, it is preferable that the structure of R B15 is represented by the following formula (B3) in that the solubility of the oxime-based photopolymerization initiator can be improved.

[화 6][6]

Figure pat00006
Figure pat00006

상기 식(B3) 중, RB18, RB19는 각각 독립해 탄소 원자수 1~5의 알킬기이다. 이와 같은 알킬기로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, RB18, RB19는 메틸기인 것이 가장 바람직하다.In the formula (B3), R B18 and R B19 each independently represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. Examples of such alkyl groups include alkyl groups such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-pentyl group and the like. Among them, R B18 and R B19 are most preferably a methyl group.

RB3로 나타내는 복소환기로서는 질소 원자, 황 원자, 및 산소 원자의 적어도 1개의 원자를 포함하는 5원환 이상, 바람직하게는 5원환 또는 6원환의 복소환기를 들 수 있다. 복소환기의 예로서는 피롤릴기, 이미다졸릴기, 피라졸릴기 등의 함질소 5원환기; 피리딜기, 피라디닐기, 피리미딜기, 피리다디닐기 등의 함질소 6원환기; 티아졸릴기, 이소티아졸릴기 등의 함질소 함황기; 옥사졸릴기, 이소옥사졸릴기 등의 함질소 함산소기; 티에닐기, 티오피라닐기 등의 함황기; 푸릴기, 피라닐기 등의 함산소기; 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 질소 원자 또는 황 원자를 1개 포함하는 것이 바람직하다. 이 복소환에는 축합환이 포함되어 있어도 된다. 축합환이 포함되는 복소환기의 예로서는 벤조티에닐기 등을 들 수 있다.As the heterocyclic group represented by R B3 , a heterocyclic group having 5 or more members, preferably a 5-membered or 6-membered ring containing at least one atom of a nitrogen atom, a sulfur atom and an oxygen atom can be mentioned. Examples of the heterocyclic group include a nitrogen-containing five-membered ring group such as a pyrrolyl group, an imidazolyl group, and a pyrazolyl group; A nitrogen-containing 6-membered ring group such as a pyridyl group, a pyranyl group, a pyrimidyl group, or a pyridadinyl group; A nitrogen-containing heterocyclic group such as a thiazolyl group or an isothiazolyl group; A nitrogen-containing oxygen group such as an oxazolyl group and an isoxazolyl group; Thienyl group, and thiopyranyl group; An impurity group such as a furyl group and a pyranyl group; And the like. Among them, it is preferable to include one nitrogen atom or sulfur atom. The heterocyclic ring may contain a condensed ring. Examples of the heterocyclic group containing a condensed ring include a benzothienyl group and the like.

또, 복소환기는 치환기를 가지고 있어도 된다. 치환기로서는 상기 RB5의 경우와 동일한 기를 들 수 있다.The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include the same groups as in the case of R B5 .

상기 식(B1) 중, RB4는 1가의 유기기를 나타낸다. 이 중에서도, 탄소 원자수 1~5의 알킬기인 것이 바람직하다. 이와 같은 알킬기로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, RB4는 메틸기인 것이 가장 바람직하다.In the above formula (B1), R B4 represents a monovalent organic group. Among these, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is preferable. Examples of such alkyl groups include alkyl groups such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-pentyl group and the like. Among them, R B4 is most preferably a methyl group.

(B) 성분의 질량에서의, 식(B1)으로 나타내는 화합물의 양의 비율은 10 질량% 이상이 바람직하고, 30 질량% 이상이 보다 바람직하며, 50 질량% 이상이 특히 바람직하다. 상한은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 90 질량% 이하, 바람직하게는 80 질량% 이하이다.The proportion of the amount of the compound represented by the formula (B1) in the mass of the component (B) is preferably 10 mass% or more, more preferably 30 mass% or more, and particularly preferably 50 mass% or more. The upper limit is not particularly limited, but is, for example, 90 mass% or less, preferably 80 mass% or less.

특히, (B) 성분의 질량에서의, 식(B1)으로 나타내고, 또한 RB1이 -NO2, 또는 RB5가 복소환기 및 축합환식 방향족기로부터 선택되는 기인 -CORB5인 화합물의 함유량의 상한은 90 질량% 이하가 바람직하고, 80 질량% 이하가 보다 바람직하다.In particular, (B) indicates the weight, formula (B1) in the component, and R B1 is -NO 2, or R B5 is a heterocyclic group and condensed cyclic group selected from the aromatic group content of the compound B5 upper -COR Is preferably 90 mass% or less, and more preferably 80 mass% or less.

(B) 성분이, 이러한 범위의 양의 식(B1)으로 나타내는 화합물을 포함함으로써, 해상성이 뛰어나고, 기판에 대한 밀착성이 뛰어난 패턴을 형성 가능한 착색 조성물을 얻기 쉽다.By containing the compound represented by the formula (B1) in such a range in the range of the component (B), it is easy to obtain a colored composition capable of forming a pattern excellent in resolution and excellent in adhesion to a substrate.

착색 조성물에서의 (B) 성분의 함유량은 착색 조성물의 고형분의 질량에 대해서 1~30 질량%가 바람직하고, 2~25 질량%가 보다 바람직하며, 5~20 질량%가 특히 바람직하다.The content of the component (B) in the coloring composition is preferably from 1 to 30% by mass, more preferably from 2 to 25% by mass, and particularly preferably from 5 to 20% by mass with respect to the mass of the solid content of the coloring composition.

<(C) 착색제>&Lt; (C) Colorant &gt;

착색 조성물은 (C) 착색제를 포함한다. 착색 조성물에 함유되는 (C) 착색제로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에서, 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물, 구체적으로는 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.) 번호가 붙어 있는 것을 이용하는 것이 바람직하다.The coloring composition comprises (C) a colorant. The colorant (C) contained in the coloring composition is not particularly limited. For example, a color index (CI) (published by The Society of Dyers and Colourists) is a compound classified as a pigment, It is preferable to use those having the same color index (CI) number.

적합하게 사용할 수 있는 황색 안료의 예로서는 C.I. 피그먼트 옐로우 1(이하, 「C.I. 피그먼트 옐로우」는 동일하며, 번호만을 기재함), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180, 및 185를 들 수 있다.Examples of suitable yellow pigments include C.I. Pigment Yellow 1 (hereinafter, "CI Pigment Yellow" is the same and only the numbers are described below), 3,11,12,13,14,15,16,17,20,24,31,35,55,60 , 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, , 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, .

적합하게 사용할 수 있는 오렌지색 안료의 예로서는 C.I. 피그먼트 오렌지 1(이하, 「C.I. 피그먼트 오렌지」는 동일하며, 번호만을 기재함), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 55, 59, 61, 63, 64, 71, 및 73을 들 수 있다.Examples of suitable orange pigments include C.I. Pigment Orange 1 (hereinafter, "CI Pigment Orange" is the same and only the numbers are described), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51 , 55, 59, 61, 63, 64, 71, and 73, respectively.

적합하게 사용할 수 있는 보라색 안료의 예로서는 C.I. 피그먼트 바이올렛 1(이하, 「C.I. 피그먼트 바이올렛」은 동일하며, 번호만을 기재함), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, 및 50을 들 수 있다.Examples of suitable purple pigments include C.I. Pigment Violet 1 (hereinafter, the same is true of C. I. Pigment Violet), and only numbers are given), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40,

적합하게 사용할 수 있는 적색 안료의 예로서는 C.I. 피그먼트 레드 1(이하, 「C.I. 피그먼트 레드」는 동일하며, 번호만을 기재함)2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 53:1, 57, 57:1, 57:2, 58:2, 58:4, 60:1, 63:1, 63:2, 64:1, 81:1, 83, 88, 90:1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, 및 265를 들 수 있다.Examples of suitable red pigments include C.I. 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 49: 1, 49: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49: 58: 2, 58: 4, 60: 1, 63: 1, 63: 2, 64: 1, 81: 1, 83, 88, 90: 1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264 and 265.

적합하게 사용할 수 있는 청색 안료의 예로서는 C.I. 피그먼트 블루 1(이하, 「C.I. 피그먼트 블루」는 동일하며, 번호만을 기재함), 2, 15, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 64, 및 66을 들 수 있다.Examples of suitable blue pigments include C.I. Pigment Blue 1 (hereinafter, "CI Pigment Blue" is the same and only numbers are listed), 2, 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64, .

적합하게 사용할 수 있는, 상기의 다른 색상의 안료의 예로서는 C.I 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 37 등의 녹색 안료, C.I. 피그먼트 브라운 23, C.I. 피그먼트 브라운 25, C.I. 피그먼트 브라운 26, C.I. 피그먼트 브라운 28 등의 갈색 안료, C.I. 피그먼트 블랙 1, C.I. 피그먼트 블랙 7 등의 흑색 안료를 들 수 있다.Examples of pigments of other colors that can be suitably used include C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Green pigments such as Pigment Green 37, C.I. Pigment Brown 23, C.I. Pigment Brown 25, C.I. Pigment Brown 26, C.I. Brown pigments such as Pigment Brown 28, C.I. Pigment Black 1, C.I. Pigment Black 7 and the like.

또, (C) 착색제를 차광제로 하는 경우, 차광제로서는 흑색 안료를 이용하는 것이 바람직하다. 흑색 안료로서는 카본 블랙, 티탄 블랙, 구리, 철, 망간, 코발트, 크롬, 니켈, 아연, 칼슘, 은 등의 금속 산화물, 복합 산화물, 금속 황화물, 금속 황산염 또는 금속 탄산염 등, 유기물, 무기물을 불문하고 각종 안료를 들 수 있다. 이들 중에서도, 높은 차광성을 가지는 카본 블랙을 이용하는 것이 바람직하다.When the colorant (C) is used as a light shielding agent, a black pigment is preferably used as the light shielding agent. Examples of the black pigment include carbon black, titanium black, metal oxides such as copper, iron, manganese, cobalt, chromium, nickel, zinc, calcium and silver, complex oxides, metal sulfides, metal sulfates or metal carbonates, And various pigments. Among these, it is preferable to use carbon black having high light shielding properties.

카본 블랙으로서는 채널 블랙, 퍼니스 블랙, 서멀 블랙, 램프 블랙 등의 공지의 카본 블랙을 이용할 수 있지만, 차광성이 뛰어난 채널 블랙을 이용하는 것이 바람직하다. 또, 수지 피복 카본 블랙을 사용해도 된다.As the carbon black, known carbon black such as channel black, furnace black, thermal black and lamp black can be used, but it is preferable to use channel black having excellent light shielding properties. Resin-coated carbon black may also be used.

수지 피복 카본 블랙은 수지 피복이 없는 카본 블랙에 비해 도전성이 낮은 점에서, 액정 표시 디스플레이와 같은 액정 표시 소자의 블랙 매트릭스로서 사용한 경우에 전류의 누출이 적고, 신뢰성이 높은 저소비 전력의 디스플레이를 제조할 수 있다.Resin-coated carbon black is low in conductivity compared to carbon black without resin coating, and therefore, when used as a black matrix of a liquid crystal display element such as a liquid crystal display, a low-power-consumption display with low leakage of current and high reliability .

또, 카본 블랙의 색조를 조정하기 위해서, 보조 안료로서 상기의 유기 안료를 적절히 첨가해도 된다.In order to adjust the color tone of the carbon black, the above organic pigment may be suitably added as an auxiliary pigment.

상기의 착색제를 착색 조성물에서 균일하게 분산시키기 위해서, 추가로 분산제를 사용해도 된다. 이와 같은 분산제로서는 폴리에틸렌이민계, 우레탄 수지계, 아크릴 수지계의 고분자 분산제를 이용하는 것이 바람직하다. 특히, 착색제로서 카본 블랙을 이용하는 경우에는 분산제로서 아크릴 수지계의 분산제를 이용하는 것이 바람직하다.In order to uniformly disperse the above coloring agent in the coloring composition, a dispersing agent may be further used. As such a dispersing agent, it is preferable to use a polymeric dispersant of a polyethylene imine type, a urethane resin type or an acrylic resin type. Particularly, when carbon black is used as the colorant, it is preferable to use an acrylic resin-based dispersant as the dispersant.

또, 무기 안료와 유기 안료는 각각 단독 또는 2종 이상 병용해도 되지만, 병용하는 경우에는 무기 안료와 유기 안료의 총량 100 질량부에 대해서, 유기 안료를 10~80 질량부의 범위에서 이용하는 것이 바람직하고, 20~40 질량부의 범위에서 이용하는 것이 보다 바람직하다.The inorganic pigments and the organic pigments may be used alone or in combination of two or more. When used in combination, the organic pigments are preferably used in an amount of from 10 to 80 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the inorganic pigments and the organic pigments, And more preferably in the range of 20 to 40 parts by mass.

착색 조성물에서의 (C) 착색제의 사용량은 착색 조성물의 용도에 따라 적절히 결정하면 되지만, 일례로서 착색 조성물 중의 용제 이외의 성분의 질량의 합계 100 질량부에 대해서, 5~70 질량부가 바람직하고, 25~60 질량부가 보다 바람직하다. 상기의 범위로 함으로써, 목적으로 하는 패턴 형상을 구비하는 블랙 매트릭스나 각 착색층을 형성하는 것이 용이하다.The amount of the coloring agent (C) to be used in the coloring composition may be appropriately determined depending on the use of the coloring composition, but is preferably from 5 to 70 parts by mass, more preferably from 25 to 70 parts by mass based on 100 parts by mass of the total mass of components other than the solvent in the coloring composition. To 60 parts by mass is more preferable. By setting the thickness within the above range, it is easy to form a black matrix or each coloring layer having a desired pattern shape.

특히, 착색 조성물을 사용해 블랙 매트릭스를 형성하는 경우에는 블랙 매트릭스의 피막 1μm당 OD값이 4 이상이 되도록 착색 조성물에서의 차광제의 양을 조정하는 것이 바람직하다. 블랙 매트릭스에서의 피막 1μm당 OD값이 4 이상이면, 액정 표시 디스플레이의 블랙 매트릭스에 이용한 경우에 충분한 표시 콘트라스트를 얻을 수 있다.Particularly, in the case of forming a black matrix using a coloring composition, it is preferable to adjust the amount of the light-shielding agent in the coloring composition so that the OD value per 1 μm of the black matrix coating is 4 or more. When the OD value per 1 μm of the coating film in the black matrix is 4 or more, sufficient display contrast can be obtained when the black matrix is used for a black matrix of a liquid crystal display.

착색제는 분산제를 이용해 적당한 농도로 분산시킨 분산액으로 한 후, 착색 조성물에 첨가하는 것이 바람직하다.It is preferable to add the coloring agent to the coloring composition after preparing a dispersion in which the coloring agent is dispersed at a suitable concentration using a dispersing agent.

<(D) 실란 커플링제>&Lt; (D) Silane coupling agent &gt;

(D) 실란 커플링제는 하기 식(D1)으로 나타내는 화합물을 필수로 포함한다.(D) The silane coupling agent essentially contains a compound represented by the following formula (D1).

RD1 dRD2 (3-d) Si-RD3-NH-C(O)-YD-RD4-XD···(D1) R D1 d R D2 (3- d) Si-R D3 -NH-C (O) -Y D -R D4 -X D ··· (D1)

(식(D1) 중, RD1은 알콕시기이며, RD2는 알킬기이며, d는 1~3의 정수이며, RD3은 알킬렌기이며, YD는 -NH-, -O-, 또는 -S-이며, RD4는 단결합, 또는 알킬렌기이며, XD는 치환기를 가지고 있어도 되고 단환이어도 다환이어도 되는 함질소 헤테로아릴기이며, XD 중의 -YD-RD4-와 결합하는 환은 함질소 6원 방향환이며, -YD-RD4-는 상기 함질소 6원 방향환 중의 탄소 원자와 결합한다.)(D D1), R D1 is an alkoxy group, R D2 is an alkyl group, d is an integer of 1 to 3, R D3 is an alkylene group, and Y D is -NH-, -O-, or -S -, R D4 is a single bond or an alkylene group, X D is a nitrogen heteroaryl group which may have a substituent, may be monocyclic or polycyclic, and the ring which bonds to -Y D -R D4- in X D is nitrogen 6-membered aromatic ring, and -Y D -R D4 - is bonded to the carbon atom in the nitrogen-containing six-membered aromatic ring.

(D) 실란 커플링제는 규소 원자에 결합하는 알콕시기 및/또는 반응성기를 통해서, 착색 조성물에 포함되는 여러 가지 성분과 결합 또는 상호작용하거나 기판 등의 지지체의 표면과 결합하거나 한다. 이 때문에, 착색 조성물에 (D) 실란 커플링제를 배합하면, 노광부가 양호하게 경화하기 쉽다. 식(D1)으로 나타내는 실란 화합물을 포함하는 실란 커플링제를 이용하는 경우, 이러한 효과가 현저하다.(D) The silane coupling agent binds or interacts with various components contained in the coloring composition or binds to the surface of a support such as a substrate through an alkoxy group and / or a reactive group bonded to the silicon atom. Therefore, when the silane coupling agent (D) is added to the coloring composition, the exposed portions are easily cured well. When a silane coupling agent containing a silane compound represented by the formula (D1) is used, this effect is remarkable.

이 때문에, 식(D1)으로 나타내는 실란 화합물을 실란 커플링제로서 포함하는 착색 조성물을 이용하면, 유기용제나 알칼리성 현상액에 과도하게 용해하기 어렵고, 기판에 대한 밀착성이 양호한 착색 경화물을 형성하기 쉽다.Therefore, when a colored composition containing a silane compound represented by the formula (D1) is used as a silane coupling agent, it is easy to form a colored cured product which is hardly dissolved excessively in an organic solvent or an alkaline developer and has good adhesion to a substrate.

식(D1) 중, RD1은 알콕시기이다. RD1에 대해서, 알콕시기의 탄소 원자수는 1~6이 바람직하고, 1~4가 보다 바람직하며, 실란 커플링제의 반응성의 관점에서부터 1 또는 2가 특히 바람직하다. RD1의 바람직한 구체예로서는 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸옥시기, 및 n-헥실옥시기를 들 수 있다. 이들 알콕시기 중에서는 메톡시기, 및 에톡시기가 바람직하다.In the formula (D1), R D1 is an alkoxy group. As to R D1 , the number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 1 or 2 from the viewpoint of reactivity of the silane coupling agent. Specific preferred examples of R D1 include a methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec- - hexyloxy group. Among these alkoxy groups, a methoxy group and an ethoxy group are preferable.

알콕시기인 RD1이 가수분해되어 생성하는 실라놀기가 기판의 표면 등과 반응함으로써, 착색 조성물을 이용해 형성되는 도막의 기판 등의 지지체의 표면에 대한 밀착성이 향상되기 쉽다. 이 때문에, 도막의 기판 등의 지지체의 표면에 대한 밀착성을 향상시키기 쉬운 점에서, d는 3인 것이 바람직하다.The silanol group formed by the hydrolysis of the alkoxy group R D1 reacts with the surface or the like of the substrate and thus the adhesion of the coating film formed on the substrate to the surface of the substrate such as a substrate tends to be improved. Therefore, it is preferable that d is 3 in view of improving the adhesion of the coating film to the surface of the support such as the substrate.

식(D1) 중, RD2는 알킬기이다. RD2에 대해서, 알킬기의 탄소 원자수는 1~12가 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 실란 커플링제의 반응성의 관점에서 1 또는 2가 특히 바람직하다. RD2의 바람직한 구체예로서는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, 및 n-도데실기를 들 수 있다.In the formula (D1), R D2 is an alkyl group. With respect to R D2 , the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably from 1 to 12, more preferably from 1 to 6, and particularly preferably from 1 or 2 from the viewpoint of reactivity of the silane coupling agent. Specific preferred examples of R D2 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec- Heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group and n-dodecyl group.

식(D1) 중, RD3은 알킬렌기이다. RD3에 대해서, 알킬렌기의 탄소 원자수는 1~12가 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 2~4가 특히 바람직하다. RD3의 바람직한 구체예로서는 메틸렌기, 1,2-에틸렌기, 1,1-에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 프로판-1,1-디일기, 프로판-2,2-디일기, 부탄-1,4-디일기, 부탄-1,3-디일기, 부탄-1,2-디일기, 부탄-1,1-디일기, 부탄-2,2-디일기, 부탄-2,3-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 펜탄-1,4-디일기, 및 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 데칸-1,10-디일기, 운데칸-1,11-디일기, 및 도데칸-1,12-디일기를 들 수 있다. 이들 알킬렌기 중에서는 1,2-에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 및 부탄-1,4-디일기가 바람직하다.In the formula (D1), R D3 is an alkylene group. With respect to R D3 , the number of carbon atoms of the alkylene group is preferably from 1 to 12, more preferably from 1 to 6, and particularly preferably from 2 to 4. Specific preferred examples of R D3 include a methylene group, a 1,2-ethylene group, a 1,1-ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane- Butane-1,4-diyl group, butane-1,3-diyl group, butane-1,2-diyl group, butane-1,1-diyl group, butane- Diyl group, pentane-1, 5-diyl group, pentane-1, 5-diyl group, An octane-1,8-diyl group, a nonane-1,9-diyl group, a decane-1,10-diyl group, an undecane-1,11-diyl group, and a dodecane- have. Of these alkylene groups, a 1,2-ethylene group, a propane-1,3-diyl group, and a butane-1,4-diyl group are preferable.

YD는 -NH-, -O-, 또는 -S-이며, -NH-인 것이 바람직하다. -CO-O-, 또는 -CO-S-로 나타내는 결합보다도, -CO-NH-로 나타내는 결합 쪽이 가수분해를 받기 어렵기 때문에, YD가 -NH-인 화합물을 실란 커플링제로서 포함하는 착색 조성물을 이용하면, 기판 등의 지지체에 대한 밀착성이 뛰어난 도막을 형성할 수 있다.Y D is -NH-, -O-, or -S-, and is preferably -NH-. Since bonding side shown in, -CO-NH- than the bond represented by -CO-O-, -CO-S- or is hard to receive the hydrolysis, Y D is the -NH- containing compound as a silane coupling agent By using the coloring composition, a coating film excellent in adhesion to a support such as a substrate can be formed.

RD4는 단결합, 또는 알킬렌기이며, 단결합인 것이 바람직하다. RD4가 알킬렌기인 경우의 바람직한 예는 RD3과 같다.R D4 is a single bond or an alkylene group, preferably a single bond. A preferred example of when R D4 is an alkylene group is the same as R D3 .

XD는 치환기를 가지고 있어도 되고 단환이어도 다환이어도 되는 함질소 헤테로아릴기이며, XD 중의 -YD-RD4-와 결합하는 환은 함질소 6원 방향환이며, -YD-RD4-는 상기 함질소 6원 방향환 중의 탄소 원자와 결합한다. 이유는 불명하지만, 이와 같은 XD를 가지는 화합물을 실란 커플링제로서 포함하는 착색 조성물을 이용하면, 기판 등의 지지체에 대한 밀착성이 뛰어난 도막을 형성할 수 있다.X D is a nitrogen heteroaryl group which may have a substituent, may be monocyclic or polycyclic, and a ring which is bonded to -Y D -R D4 - in X D is a nitrogen-containing six-membered ring, and -Y D -R D4 - And is bonded to the carbon atom in the nitrogen-containing six-membered aromatic ring. The reason is unknown. However, when a coloring composition containing such a compound having X D as a silane coupling agent is used, a coating film having excellent adhesion to a support such as a substrate can be formed.

XD가 다환 헤테로아릴기인 경우, 헤테로아릴기는 복수의 단환이 축합 한 기여도 되고, 복수의 단환이 단결합을 통해서 결합한 기여도 된다. XD가 다환 헤테로아릴기인 경우, 다환 헤테로아릴기에 포함되는 환 수는 1~3이 바람직하다. XD가 다환 헤테로아릴기인 경우, XD 중의 함질소 6원 방향환에 축합 또는 결합하는 환은 헤테로 원자를 포함하고 있어도 포함하지 않아도 되고, 방향환이어도 방향환이 아니어도 된다.When X D is a polycyclic heteroaryl group, the heteroaryl group may be a condensed ring of a plurality of monocyclic rings, and a plurality of monocyclic rings may be bonded through a single bond. When X D is a polycyclic heteroaryl group, the number of rings contained in the polycyclic heteroaryl group is preferably 1 to 3. When X D is a polycyclic heteroaryl group, the ring condensed or bonded to the nitrogen-containing six-member aromatic ring in X D may or may not contain a hetero atom, and may not be an aromatic ring or an aromatic ring.

함질소 헤테로아릴기인 XD가 가지고 있어도 되는 치환기로서는 탄소 원자수 1~6의 알킬기, 탄소 원자수 1~6의 알콕시기, 탄소 원자수 2~6의 알케닐기, 탄소 원자수 2~6의 알케닐옥시기, 탄소 원자수 2~6의 지방족 아실기, 벤조일기, 니트로기, 니트로소기, 아미노기, 히드록시기, 머캅토기, 시아노기, 설폰산기, 카르복실기, 및 할로겐 원자 등을 들 수 있다. XD가 가지는 치환기의 수는 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. XD가 가지는 치환기의 수는 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. XD가 복수의 치환기를 가지는 경우, 복수의 치환기는 동일해도 상이해도 된다.Examples of the substituent which X D which is a nitrogen-containing heteroaryl group may have include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms A nitro group, a nitro group, an amino group, a hydroxyl group, a mercapto group, a cyano group, a sulfonic acid group, a carboxyl group, and a halogen atom. The number of substituents of X D is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. The number of substituents of X D is preferably 5 or less, more preferably 3 or less. When X D has a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

XD의 바람직한 예로서는 하기 식의 기를 들 수 있다.Preferable examples of X D include groups represented by the following formulas.

[화 7][Figure 7]

Figure pat00007
Figure pat00007

상기의 기 중에서도, 하기 식의 기가 XD로서 보다 바람직하다.Of the above groups, groups represented by the following formulas are more preferable as X D.

[화 8][Figure 8]

Figure pat00008
Figure pat00008

이상 설명한, 식(D1)으로 나타내는 화합물의 적합한 구체예로서는 이하의 화합물 1~8을 들 수 있다.As specific examples of the compound represented by the formula (D1) described above, the following compounds 1 to 8 can be mentioned.

[화 9][Figure 9]

Figure pat00009
Figure pat00009

(D) 실란 커플링제는 식(D1)으로 나타내는 실란 화합물 이외의 실란 커플링제를 포함하고 있어도 된다. 이러한 실란 커플링제로서는 특별히 한정되지 않는다.(D) The silane coupling agent may contain a silane coupling agent other than the silane compound represented by the formula (D1). Such a silane coupling agent is not particularly limited.

실란 커플링제의 적합한 예로서는 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, n-프로필트리에톡시실란, n-부틸트리메톡시실란, n-부틸트리에톡시실란 등의 모노알킬트리알콕시실란; 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란 등의 디알킬디알콕시실란; 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란 등의 모노페닐트리알콕시실란; 디페닐디메톡시실란, 디페닐디에톡시실란 등의 디페닐디알콕시실란; 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란 등의 모노비닐트리알콕시실란; 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란 등의 (메타)아크릴옥시알킬모노알킬디알콕시실란; 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 (메타)아크릴옥시알킬트리알콕시실란; 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸-부틸리덴)프로필아민, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란 등의 아미노기 함유 트리알콕시실란; 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란 등의 비지환식 에폭시기 함유 알킬트리알콕시실란; 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란 등의 비지환식 에폭시기 함유 알킬모노알킬디알콕시실란; 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리에톡시실란 등의 지환식 에폭시기 함유 알킬트리알콕시실란; 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸메틸디에톡시실란 등의 지환식 에폭시기 함유 알킬모노알킬디알콕시실란; [(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시]프로필트리메톡시실란, [(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시]프로필트리에톡시실란 등의 옥세타닐기 함유 알킬트리알콕시실란; 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등의 머캅토알킬트리알콕시실란; 3-머캅토프로필메틸디메톡시실란 등의 머캅토알킬모노알킬디알콕시실란; 3-우레이도프로필트리에톡시실란 등의 우레이도알킬트리알콕시실란; 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트알킬트리알콕시실란; 3-트리메톡시실릴프로필숙신산 무수물 등의 산무수물기 함유 알킬트리알콕시실란; N-t-부틸-3-(3-트리메톡시실릴프로필)숙신산이미드 등의 이미드기 함유 알킬트리알콕시실란; 등을 들 수 있다. 이들 실란 커플링제는 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다.Suitable examples of the silane coupling agent include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-butyltri Monoalkyltrialkoxysilanes such as methoxysilane and n-butyltriethoxysilane; Dialkyldialkoxysilanes such as dimethyldimethoxysilane and dimethyldiethoxysilane; Monophenyl trialkoxysilane such as phenyltrimethoxysilane and phenyltriethoxysilane; Diphenyldialkoxysilane such as diphenyldimethoxysilane and diphenyldiethoxysilane; Monovinyl trialkoxysilane such as vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane; (Meth) acryloxy compounds such as 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane and 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane. Alkyl monoalkyl dialkoxysilanes; (Meth) acryloxyalkyltrialkoxysilane such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane; Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) Amino group-containing trialkoxysilanes such as methoxysilane; Non-cyclic epoxy group-containing alkyltrialkoxysilanes such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane; Non-cyclic epoxy group-containing alkylmonoalkyldialkoxysilanes such as 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane; Alkyltrialkoxysilanes containing alicyclic epoxy groups such as 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane; Alkylmonoalkyl dialkoxysilanes containing an alicyclic epoxy group such as 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldiethoxysilane; Containing alkyltrialkoxysilanes such as [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] propyltrimethoxysilane and [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxy] propyltriethoxysilane Silane; Mercaptoalkyltrialkoxysilanes such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane; Mercaptoalkylmonoalkyldialkoxysilanes such as 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane; Ureido alkyltrialkoxysilanes such as 3-ureidopropyltriethoxysilane; Isocyanate alkyltrialkoxysilanes such as 3-isocyanatopropyltriethoxysilane; Alkyltrialkoxysilane containing an acid anhydride group such as 3-trimethoxysilylpropylsuccinic anhydride; Imide group-containing alkyltrialkoxysilanes such as Nt-butyl-3- (3-trimethoxysilylpropyl) succinic acid imide; And the like. These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.

(D) 실란 커플링제의 질량에 대한, 식(D1)으로 나타내는 실란 화합물의 질량의 비율은 50 질량% 이상이 바람직하고, 70 질량% 이상이 보다 바람직하며, 90 질량% 이상이 특히 바람직하고, 100 질량%가 가장 바람직하다.The ratio of the mass of the silane compound represented by the formula (D1) to the mass of the silane coupling agent (D) is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, particularly preferably 90% Most preferably 100% by mass.

착색 조성물 중의 (D) 실란 커플링제의 함유량은 특별히 한정되지 않는다. (D) 실란 커플링제의 함유량은 착색 조성물 전체의 질량에 대해서, 1000~10000 질량 ppm이 바람직하고, 1500~9000 질량 ppm이 보다 바람직하고, 2000~8000 질량 ppm이 특히 바람직하다.The content of the silane coupling agent (D) in the coloring composition is not particularly limited. The content of the silane coupling agent (D) is preferably 1000 to 10,000 ppm by mass, more preferably 1,500 to 9,000 ppm by mass, and particularly preferably 2,000 to 8,000 ppm by mass, with respect to the total mass of the coloring composition.

<(S) 용제><(S) Solvent>

착색 조성물은 희석을 위한 (S) 용제를 함유하는 것이 바람직하다. (S) 용제로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라히드로푸란 등의 다른 에테르류; 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등의 케톤류; 2-히드록시프로피온산메틸, 2-히드록시프로피온산에틸 등의 락트산알킬에스테르류; 2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 히드록시아세트산에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산에틸, 아세트산n-프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산이소부틸, 포름산n-펜틸, 아세트산이소펜틸, 프로피온산n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산n-프로필, 부티르산이소프로필, 부티르산n-부틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산n-프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-옥소부탄산에틸 등의 다른 에스테르류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있다.The coloring composition preferably contains (S) solvent for dilution. Examples of the solvent (S) include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl Diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol Mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono- (Poly) alkylene glycol moiety such as tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, Ether; (Poly) alkylene ethers such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate. Glycol monoalkyl ether acetates; Other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether and tetrahydrofuran; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone and 3-heptanone; Lactic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; Methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, Butyl acetate, n-propyl butyrate, isopropyl butyrate, n-butyl butyric acid, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, isobutyrate, isobutyrate, isobutyrate, isobutyrate, Other esters such as n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate and ethyl 2-oxobutanoate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; And amides such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide.

이들 중에서도, 알킬렌글리콜모노알킬에테르류, 알킬렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류, 케톤류, 상술한 다른 에테르류, 락트산알킬에스테르류, 상술한 다른 에스테르류가 바람직하고, 알킬렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류, 케톤류, 상술한 다른 에테르류, 상술한 다른 에스테르류가 보다 바람직하다. (S) 용제는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 이용할 수 있다.Of these, alkylene glycol monoalkyl ethers, alkylene glycol monoalkyl ether acetates, ketones, the above-mentioned other ethers, lactic acid alkyl esters and the above-mentioned other esters are preferable, and alkylene glycol monoalkyl ether acetates , Ketones, the above-mentioned other ethers, and the above-mentioned other esters are more preferable. (S) solvents may be used alone or in combination of two or more.

(S) 용제의 함유량은 착색 조성물의 고형분 농도가 1~50 질량%가 되는 양이 바람직하고, 5~30 질량%가 되는 양이 보다 바람직하다.The content of the (S) solvent is preferably such that the solid content of the coloring composition is 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass.

<그 밖의 성분>&Lt; Other components &gt;

착색 조성물은 이상 설명한 성분 이외에, 열 중합 금지제, 소포제, 계면활성제 등을 포함하고 있어도 된다. The coloring composition may contain, in addition to the components described above, a thermal polymerization inhibitor, a defoaming agent, a surfactant, and the like.

열 중합 금지제로서는 히드로퀴논, 히드로퀴논모노에틸에테르 등을 이용할 수 있다. 소포제로서는 실리콘계, 불소계 화합물을 이용할 수 있다. 계면활성제로서는 음이온계, 양이온계, 비이온계 등의 공지된 각종 열 중합 금지제를 이용할 수 있다.As the thermal polymerization inhibitor, hydroquinone, hydroquinone monoethyl ether and the like can be used. As the antifoaming agent, a silicone-based or fluorine-based compound can be used. As the surfactant, various known heat polymerization inhibitors such as anionic, cationic, and nonionic ones can be used.

<착색 조성물의 조제 방법>&Lt; Preparation method of colored composition &gt;

착색 조성물은, 예를 들면 각각 소정의 양의 (A) 광중합성 화합물, (B) 광중합 개시제, (C) 착색제, 및 (D) 실란 커플링제와 필요에 따라서 그 밖의 성분을 소망하는 고형분 농도가 되도록 (S) 용제 중에 균일하게 분산, 용해시켜 조제된다. The coloring composition can be prepared, for example, by mixing a predetermined amount of (A) a photopolymerizable compound, (B) a photopolymerization initiator, (C) a colorant, and (D) a silane coupling agent and, And is uniformly dispersed and dissolved in the (S) solvent as much as possible.

(C) 착색제가 (S) 용제 중에 미리 농후하게 분산된 마스터 배치를 이용하여 착색 조성물을 조제해도 된다. The coloring composition may be prepared using a master batch in which (C) the coloring agent is dispersed in the (S) solvent in advance in a rich manner.

얻어진 착색 조성물은 원하는 개구 지름을 가지는 필터를 이용하여 여과되어도 된다.The obtained coloring composition may be filtered using a filter having a desired opening diameter.

<착색 경화물의 형성 방법>&Lt; Method of forming colored cured product &gt;

이상 설명한 착색 조성물을 이용하여, 착색 경화물이 형성된다.Using the coloring composition described above, a colored cured product is formed.

착색 경화물의 형성 방법은 상술한 바와 같이,The method of forming the colored cured product is, as described above,

착색 감광성 수지 조성물을 기판 위에 도포하는 것에 의한 도포막의 형성과,Forming a coating film by applying the colored photosensitive resin composition on a substrate,

도포막의 노광과,Exposure of the coating film,

노광된 도포막의 80~160℃에서의 베이크를 포함한다.And baking at 80 to 160 캜 of the exposed coating film.

우선 착색 조성물을 기판 위에 롤 코터, 리버스 코터, 바 코터 등의 접촉 전사형 도포 장치나 스피너(회전식 도포 장치), 커튼 플로우 코터, 다이 코터, 슬릿 코터 등의 비접촉형 도포 장치를 이용해 도포하여 도포막을 형성한다.First, the coloring composition is coated on a substrate using a non-contact type coating device such as a roll coater, a reverse coater, a bar coater, or the like, or a non-contact type coating device such as a spinner (rotary coating device), a curtain flow coater, a die coater or a slit coater to form a coating film do.

착색 조성물의 도포 후, 통상 도포막을 건조시켜 용제를 제거한다. 건조 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 (1) 핫 플레이트에서 80℃에서 120℃, 바람직하게는 90℃에서 100℃의 온도에서 60초간에서 120초간 건조하는 방법, (2) 실온에서 수시간부터 며칠 방치하는 방법, (3) 온풍 히터나 적외선 히터 중에 수십분부터 수시간 넣어 용제를 제거하는 방법 중 어느 방법을 이용해도 된다.After application of the coloring composition, the coating film is usually dried to remove the solvent. The drying method is not particularly limited and includes, for example, (1) a method of drying on a hot plate at 80 DEG C to 120 DEG C, preferably at a temperature of 90 DEG C to 100 DEG C for 60 seconds to 120 seconds, (2) (3) a method of removing the solvent by putting it in a hot air heater or an infrared heater for several tens of minutes to several hours may be used.

그 다음에, 자외선, 엑시머 레이저 광 등의 활성 에너지선을 조사해 도포막을 노광한다. 조사하는 에너지 선량은 착색 조성물의 조성에 따라서 상이하지만, 예를 들면 30 mJ/cm2에서 2000 mJ/cm2 정도가 바람직하다.Then, an active energy ray such as an ultraviolet ray or an excimer laser beam is irradiated to expose the coating film. The energy dose to be irradiated varies depending on the composition of the coloring composition, but is preferably, for example, about 30 mJ / cm 2 to about 2000 mJ / cm 2 .

블랙 매트릭스나, 블랙 매트릭스 중에 형성되는 착색막은 통상 패턴화되어 있다. 착색 경화물이 패턴화된 착색막인 경우, 도포막의 노광은 패턴 형상에 따라 위치 선택적으로 실시된다. 위치 선택적인 노광의 방법은 한정되지 않지만, 통상 네거티브형의 마스크를 통해서, 위치 선택적인 노광이 실시된다.The colored film formed in the black matrix or the black matrix is usually patterned. In the case where the colored cured product is a patterned colored film, the exposure of the coated film is performed in a position-selective manner in accordance with the pattern shape. Although the method of position selective exposure is not limited, position selective exposure is usually performed through a negative type mask.

도포막이 위치 선택적으로 노광된 경우에는 노광 후의 도포막을, 알칼리 현상액에 의해 현상함으로써 원하는 형상으로 패터닝한다. 현상 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 침지법, 스프레이법 등을 이용할 수 있다. 알칼리 현상액으로서는 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 유기계인 것이나, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 암모니아, 4급 암모늄 수산화물 등의 수용액을 들 수 있다.When the coating film is selectively exposed, the coated film after exposure is patterned in a desired shape by development with an alkaline developer. The developing method is not particularly limited, and for example, a dipping method, a spraying method, or the like can be used. Examples of the alkali developing solution include organic ones such as monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine, and aqueous solutions such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia and quaternary ammonium hydroxide.

그 다음에, 전면 노광된 도포막이나, 노광 및 현상이 실시된 도포막이 포스트베이크에 제공된다. 노광된 도포막의 포스트베이크는 80~160℃, 바람직하게는 80~150℃, 더욱 바람직하게는 80~100℃에서 실시된다. Then, a front exposed film or a coated film on which exposure and development are performed is provided in the post-baking. Post baking of the exposed coating film is carried out at 80 to 160 캜, preferably at 80 to 150 캜, more preferably at 80 to 100 캜.

포스트베이크의 시간은 전형적으로는 20~120분이며, 바람직하게는 20~60분, 더욱 바람직하게는 20~30분이다.The post-baking time is typically 20 to 120 minutes, preferably 20 to 60 minutes, and more preferably 20 to 30 minutes.

이와 같이 낮은 온도에서 포스트베이크가 실시되기 때문에, 상기 방법에 따라서 형성되는 착색 경화물에서는 가열에 의한 변색 등이 억제된다.Since the post-baking is carried out at such a low temperature, discoloration due to heating is suppressed in the colored cured product formed according to the above method.

또, 상기 온도에서 포스트베이크를 실시하는 경우에는 플렉서블 디스플레이의 기판으로서 사용되고 있는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)나 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 등의 플라스틱 기판을 사용하는 것이 가능하다.When post-baking is performed at the above temperature, it is possible to use a plastic substrate such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN) which is used as a substrate of a flexible display.

이들 수지의 내열 온도보다도 포스트베이크 온도가 낮기 때문에, 플라스틱 기판에서의 열에 의한 휨, 수축, 주름 등의 발생과 같은 변형을 막을 수 있기 때문이다.Since the post bake temperature is lower than the heat resistance temperature of these resins, deformation such as warpage, shrinkage, wrinkles and the like caused by heat in the plastic substrate can be prevented.

폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)의 내열 온도는 120~140℃이며, 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN)의 내열 온도는 150~160℃이다.The heat-resistant temperature of polyethylene terephthalate (PET) is 120 to 140 ° C, and the heat-resistant temperature of polyethylene naphthalate (PEN) is 150 to 160 ° C.

추가로, 디스플레이의 종류에 따라서는 유기 EL 소자가 기판 위에 탑재되고, 상기 소자 위에 컬러 필터가 형성되는 경우가 있다. 여기서, 일반적인 유기 EL 소자의 내열 온도는 100℃ 정도이기 때문에, 상기 방법에 의하면, 100℃ 이하에서 포스트베이크를 실시하여 유기 EL 소자에 데미지를 부여하는 경우 없이, 컬러 필터를 형성할 수 있다.Further, depending on the type of display, an organic EL element may be mounted on a substrate, and a color filter may be formed on the element. Here, since the heat-resistant temperature of a general organic EL element is about 100 占 폚, the above method can form a color filter without post-baking at 100 占 폚 or less and without damaging the organic EL element.

이상과 같이 하여 형성되는 착색 경화물은 컬러 필터에 포함되는 블랙 매트릭스나, 블랙 매트릭스 내에 형성되는 착색막 등으로서 적합하게 사용된다.The colored cured product thus formed is suitably used as a black matrix contained in a color filter, a colored film formed in a black matrix, or the like.

또, 이상과 같이 하여 형성되는 착색 경화물은 유기용제나 알칼리성 현상액에 반복 접촉해도 과도하게 용해되기 어렵다. 이 때문에, 이상 설명한 착색 경화물의 형성 방법은 유기용제나 알칼리성 현상액을 이용하는 포토리소그래피법에 의한 막 형성이 반복 실시되는 컬러 필터의 제조시에서의 착색 경화물의 형성 방법으로서 적합하다.Further, the colored cured product formed in the above-described manner is hardly dissolved excessively even when repeatedly contacted with an organic solvent or an alkaline developer. For this reason, the above-described method of forming a colored cured product is suitable as a method of forming a colored cured product in the production of a color filter in which film formation by a photolithography method using an organic solvent or an alkaline developer is repeatedly performed.

[[ 실시예Example ]]

이하, 실시예를 나타내어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 범위는 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples.

[조제예 1][Preparation Example 1]

우선, 500 ml 4구 플라스크 중에, 비스페놀플루오렌형 에폭시 수지(에폭시 당량 235) 235 g, 테트라메틸암모늄클로라이드 110 mg, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸 페놀 100 mg, 및 아크릴산 72.0 g를 투입하고, 이것에 25 ml/분의 속도로 공기를 불어넣으면서 90~100℃에서 가열 용해했다. 다음에, 용액이 백탁한 상태인 채로 서서히 승온하여, 120℃에서 가열해 완전 용해시켰다. 이 때, 용액은 점차 투명 점조가 되었지만, 그대로 교반을 계속했다. 그 동안, 산가를 측정하여 1.0mgKOH/g 미만이 될 때까지 가열 교반을 계속했다. 산가가 목표값에 이르기까지 12시간을 필요로 했다. 그리고 실온까지 냉각해, 무색 투명하고 고체상의 하기 식(a-4)으로 나타내는 비스페놀플루오렌형 에폭시아크릴레이트를 얻었다.First, 235 g of bisphenol fluorene type epoxy resin (epoxy equivalent 235), 110 mg of tetramethylammonium chloride, 100 mg of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, and 72.0 g of acrylic acid 72.0 g, and the mixture was heated and dissolved at 90 to 100 占 폚 while blowing air at a rate of 25 ml / min. Then, the temperature of the solution was gradually elevated while the solution was cloudy, and the solution was completely dissolved by heating at 120 ° C. At this time, the solution gradually became a transparent point group, but stirring was continued. In the meantime, the acid value was measured and the heating and stirring were continued until it was less than 1.0 mg KOH / g. The acid value required 12 hours to reach the target value. The mixture was then cooled to room temperature to obtain a bisphenol fluorene-type epoxy acrylate represented by the following formula (a-4) which was colorless and transparent and solid.

[화 10][10]

Figure pat00010
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그 다음에, 이와 같이 하여 얻어진 상기의 비스페놀플루오렌형 에폭시아크릴레이트 307.0 g에 3-메톡시부틸아세테이트 600 g를 가하여 용해한 후, 벤조페논테트라카르복시산 2 무수물 80.5 g 및 브롬화 테트라에틸암모늄 1 g를 혼합하고, 서서히 승온해 110~115℃에서 4시간 반응시켰다. 산무수물기의 소실을 확인한 후, 1,2,3,6-테트라히드로무수프탈산 38.0 g를 혼합하고, 90℃에서 6시간 반응시켜 수지 A-1을 얻었다. 산무수물기의 소실은 IR 스펙트럼에 의해 확인했다. 또한, 이 수지 A-1은 상기 식(a-1)으로 나타내는 수지에 해당한다.Then, 600 g of 3-methoxybutyl acetate was added to 307.0 g of the bisphenol fluorene-type epoxy acrylate thus obtained, and then 80.5 g of benzophenonetetracarboxylic dianhydride and 1 g of tetraethylammonium bromide were mixed , The temperature was gradually raised, and the reaction was carried out at 110 to 115 ° C for 4 hours. After disappearance of the acid anhydride group was confirmed, 38.0 g of 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride was mixed and reacted at 90 DEG C for 6 hours to obtain Resin A-1. The disappearance of the acid anhydride group was confirmed by IR spectrum. This resin A-1 corresponds to the resin represented by the above formula (a-1).

[실시예 1~4, 비교예 1~5 및 참고예][Examples 1 to 4, Comparative Examples 1 to 5 and Reference Example]

실시예 1~4, 비교예 1~5 및 참고예에서, 각각 표 1에 기재된 양의 (A) 광중합성 화합물과, (B) 광중합 개시제와, 표 1에 기재된 종류의 (C) 착색제와, 표 1에 기재된 실란 커플링제를, 고형분 농도가 20 질량%가 되도록 용제에 분산·용해시켜 착색 감광성 수지 조성물을 얻었다. 용제로서는 3-메톡시부틸아세테이트 20 질량%와, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 80 질량%의 혼합물을 이용했다.(A) the photopolymerizable compound in the amounts shown in Table 1, the photopolymerization initiator (B), the colorant (C) of the kind described in Table 1, and the coloring agent of the kind described in Table 1 were used in Examples 1 to 4, Comparative Examples 1 to 5, The silane coupling agent shown in Table 1 was dispersed and dissolved in a solvent so that the solid concentration became 20% by mass to obtain a colored photosensitive resin composition. As the solvent, a mixture of 20 mass% of 3-methoxybutyl acetate and 80 mass% of propylene glycol monomethyl ether acetate was used.

(A) 광중합성 화합물로서는 이하의 A1 및 A2를 이용했다.As the photopolymerizable compound (A), the following A1 and A2 were used.

A1: 상기 조제예 1에서 얻은 수지 A-1 A1: Resin A-1 obtained in Preparation Example 1

A2: 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 A2: dipentaerythritol hexaacrylate

(B) 광중합 개시제로서 하기 구조의 화합물을 이용했다.(B) a compound having the following structure was used as a photopolymerization initiator.

[화 11][Figure 11]

Figure pat00011
Figure pat00011

(C) 착색제로서 이하의 C1, 및 C2를 이용했다.(C) The following C1 and C2 were used as colorants.

C1: 카본 블랙 분산액 「CF 블랙」(상품명: 미쿠니 색소사 제, 고형분 함유량: 25 질량%) C1: Carbon black dispersion "CF Black" (trade name: manufactured by Mikuni Color Company, solids content: 25% by mass)

C2: C.I. 피그먼트 블루 15:6의 분산액 「CF 블루」(상품명: 미쿠니 색소사 제, 고형분 함유량: 20 질량%) C2: C.I. &Quot; CF Blue &quot; (trade name: manufactured by Mikuni Color Co., Ltd., solid content: 20 mass%) of Pigment Blue 15:

(D) 실란 커플링제로서 이하의 D1, 및 D2를 이용했다.(D) The following D1 and D2 were used as silane coupling agents.

<D1><D1>

[화 12][Figure 12]

Figure pat00012
Figure pat00012

<D2><D2>

[화 13][Figure 13]

Figure pat00013
Figure pat00013

각 실시예, 비교예 및 참고예의 착색 감광성 수지 조성물을 이용하고, 이하의 방법에 따라서 현상 내성과, 용제 내성을 평가했다. 평가 결과를 표 1에 기재한다.Using the colored photosensitive resin compositions of each of the Examples, Comparative Examples and Reference Examples, the development resistance and the solvent resistance were evaluated according to the following methods. The evaluation results are shown in Table 1.

<현상 내성><Phenomenon resistance>

착색 감광성 수지 조성물을 유리 기판(100 mm×100 mm) 위에 스핀 코터를 이용해 도포하고, 60℃에서 120초간 프리베이크를 실시하여 막 두께 1.0μm의 도포막을 형성했다.The colored photosensitive resin composition was coated on a glass substrate (100 mm x 100 mm) using a spin coater and prebaked at 60 캜 for 120 seconds to form a coating film having a thickness of 1.0 탆.

그 다음에, 미러 프로젝션 얼라이너(제품명: TME-150RTO, 주식회사 탑콘 제)를 사용하여 노광 갭을 50μm로 하여 도포막 전면에 자외선을 조사했다. 노광량은 200 mJ/cm2로 했다.Then, the entire surface of the coating film was irradiated with ultraviolet rays at an exposure gap of 50 mu m by using a mirror projection aligner (trade name: TME-150RTO, manufactured by TOPCON CO., LTD.). The exposure dose was 200 mJ / cm 2 .

노광 후의 도막을 26℃의 0.04 질량% KOH 수용액으로 50초간 침지 후, 표 1에 기재된 포스트베이크 온도에서 30분간 포스트베이크를 실시함으로써, 착색 경화막을 구비하는 현상 내성 확인용 기판을 얻었다.After the exposure, the coated film was dipped in a 0.04 mass% KOH aqueous solution at 26 占 폚 for 50 seconds, and then subjected to post-baking at the post-baking temperature shown in Table 1 for 30 minutes to obtain a substrate for confirmation of the development resistance comprising the colored cured film.

형성된 착색 경화막의 막 두께를 촉침식 표면 형상 측정기(제품명: Dektak-3ST, Veeco사 제)를 사용해 측정한 후, 동일한 기판을 26℃의 0.04 질량% KOH 수용액에 대한 120초간 침지를 3회 실시한 후, 재차 기판 위의 착색 경화막의 막 두께를 측정했다.The film thickness of the formed colored cured film was measured using a contact type surface shape measuring instrument (product name: Dektak-3ST, Veeco), and then the same substrate was immersed in 0.04 mass% KOH aqueous solution at 26 캜 for 120 seconds three times , And the film thickness of the colored cured film on the substrate was measured again.

첫회에 계측한 막 두께에 대한, 2회째에 계측한 막 두께(합계 4회 알칼리 현상액에 침지한 후의 막 두께)의 비율을 잔막율로서 산출했다.The ratio of the film thickness measured the first time to the film thickness measured the second time (the film thickness after the film was dipped in the alkaline developing solution four times in total) was calculated as the film residual ratio.

잔막율이 95% 이상인 경우를 「○」으로 판정하고, 잔막율이 95% 미만 60% 이상인 경우를 「△」으로 판정하며, 잔막율이 60% 미만인 경우를 「×」로 판정했다.A case where the residual film ratio was 95% or more was judged as &quot;? &Quot;, a case where the residual film ratio was less than 95% and 60% or more was judged as &quot; DELTA &quot;, and a case where the residual film rate was less than 60%

<용제 내성><Solvent resistance>

현상 내성의 평가 방법과 동일하게, 도포막의 형성, 노광, 알칼리 현상액에 대한 침지, 포스트베이크를 실시하여 착색 경화막을 구비하는 용제 내성 확인용 기판을 얻었다.In the same manner as in the evaluation method of the development resistance, a substrate for confirmation of solvent resistance was obtained by forming a coating film, exposing it, immersing it in an alkaline developing solution, and carrying out post-baking to obtain a coloring cured film.

형성된 착색 경화막의 막 두께를, 촉침식 표면 형상 측정기(제품명: Dektak-3ST, Veeco사 제)를 사용해 측정한 후, 착색 경화막 위에, 스핀 코터를 이용해 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)를 도포하고, 그 다음에 100℃ 120초간 베이크를 실시했다. PGMEA를 프리베이크에 의해 제거한 후, 재차 기판 위의 착색 경화막의 막 두께를 측정했다.The film thickness of the formed colored cured film was measured using a contact type surface shape measuring instrument (product name: Dektak-3ST, manufactured by Veeco), and then propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) was coated on the colored cured film using a spin coater , And then baked at 100 DEG C for 120 seconds. After the PGMEA was removed by pre-baking, the film thickness of the colored cured film on the substrate was measured again.

첫회에 계측한 막 두께에 대한, 2회째에 계측한 막 두께(착색 경화막 위로의 PGMEA 도포 및 베이크 후의 막 두께)의 비율을 잔막율로서 산출했다.The ratio of the film thickness measured the second time (the thickness of the film after the application of the PGMEA onto the colored hardened film and the baking) with respect to the film thickness measured at the first time was calculated as the film residual ratio.

잔막율이 95% 이상인 경우를 「○」으로 판정하고, 잔막율이 95% 미만 60% 이상인 경우를 「△」으로 판정하며, 잔막율이 60% 미만인 경우를 「×」로 판정했다.A case where the residual film ratio was 95% or more was judged as &quot;? &Quot;, a case where the residual film ratio was less than 95% and 60% or more was judged as &quot; DELTA &quot;, and a case where the residual film rate was less than 60%

Figure pat00014
Figure pat00014

실시예로부터, 식(D1)으로 나타내는 실란 화합물을 (D) 실란 커플링제로서 포함하는 착색 감광성 수지 조성물로 이루어지는 도포막에 대해서, 노광과, 알칼리 현상액에 대한 침지와, 80~150℃에서의 포스트베이크를 실시하는 경우, 형성된 착색 경화막이, 알칼리 현상액이나 유기용제에 용해하기 어려운 것을 알 수 있다.From Examples, a coating film comprising a colored photosensitive resin composition containing a silane compound represented by the formula (D1) as a silane coupling agent (D) was subjected to exposure, immersion in an alkaline developer, When baking is performed, it can be seen that the formed colored cured film is difficult to dissolve in an alkaline developer or an organic solvent.

비교예 1 및 2에 의하면, 착색 감광성 수지 조성물이 식(D1)으로 나타내는 실란 화합물을 (D) 실란 커플링제로서 포함하고 있어도, 포스트베이크 온도가 너무 낮은 경우, 알칼리 현상액과 유기용제 양쪽에 용해되기 어려운 착색 경화막을 형성하기 어려운 것을 알 수 있다.According to Comparative Examples 1 and 2, even when the colored photosensitive resin composition contains the silane compound represented by the formula (D1) as the silane coupling agent (D), when the post-baking temperature is too low, It is difficult to form a hardly colored cured film.

비교예 3에 의하면, 착색 감광성 수지 조성물이 (D) 실란 커플링제를 포함하지 않는 경우, 100℃에서의 베이크에서는 알칼리 현상액에도 유기용제에도 용해되기 쉬운 착색 경화막밖에 형성할 수 없는 것을 알 수 있다.According to the comparative example 3, when the colored photosensitive resin composition does not contain the silane coupling agent (D), it can be seen that only baking at 100 캜 can form only the colored developer hardly soluble in the alkaline developing solution and also in the organic solvent .

비교예 4 및 5에 의하면, 착색 감광성 수지 조성물이, 식(D1)에 포함되지 않는 구조의 실란 화합물을 (D1) 실란 커플링제로서 포함하는 경우, 100℃나 150℃에서 포스트베이크를 실시해도, 알칼리 현상액과 유기용제 양쪽에 용해되기 어려운 착색 경화막을 형성하기 어려운 것을 알 수 있다.According to Comparative Examples 4 and 5, when the colored photosensitive resin composition contains the silane compound having a structure not included in the formula (D1) as the silane coupling agent (D1), even if postbaking is performed at 100 ° C or 150 ° C, It is difficult to form a colored cured film which is difficult to dissolve in both the alkali developing solution and the organic solvent.

Claims (5)

착색 감광성 수지 조성물을 기판 위에 도포하는 것에 의한 도포막의 형성과,
상기 도포막의 노광과,
노광된 상기 도포막의 80~160℃에서의 베이크를 포함하고,
상기 착색 감광성 수지 조성물이 (A) 광중합성 화합물과, (B) 광중합 개시제와, (C) 착색제와, (D) 실란 커플링제를 포함하고,
상기 (D) 실란 커플링제가 하기 식(D1):
RD1 dRD2 (3-d) Si-RD3-NH-C(O)-YD-RD4-XD···(D1)
(식(D1) 중, RD1은 알콕시기이며, RD2는 알킬기이며, d는 1~3의 정수이며, RD3은 알킬렌기이며, YD는 -NH-, -O-, 또는 -S-이며, RD4는 단결합, 또는 알킬렌기이며, XD는 치환기를 가지고 있어도 되고 단환이어도 다환이어도 되는 함질소 헤테로아릴기이며, XD 중의 -YD-RD4-와 결합하는 환은 함질소 6원 방향환이며, -YD-RD4-는 상기 함질소 6원 방향환 중의 탄소 원자와 결합한다.)
로 나타내는 화합물을 포함하는 착색 경화물의 형성 방법.
Forming a coating film by applying the colored photosensitive resin composition on a substrate,
The exposure of the coating film,
And baking the exposed coating film at 80 to 160 DEG C,
Wherein the colored photosensitive resin composition comprises (A) a photopolymerizable compound, (B) a photopolymerization initiator, (C) a colorant, and (D) a silane coupling agent,
(D) a silane coupling agent represented by the following formula (D1):
R D1 d R D2 (3- d) Si-R D3 -NH-C (O) -Y D -R D4 -X D ··· (D1)
(D D1), R D1 is an alkoxy group, R D2 is an alkyl group, d is an integer of 1 to 3, R D3 is an alkylene group, and Y D is -NH-, -O-, or -S -, R D4 is a single bond or an alkylene group, X D is a nitrogen heteroaryl group which may have a substituent, may be monocyclic or polycyclic, and the ring which bonds to -Y D -R D4- in X D is nitrogen 6-membered aromatic ring, and -Y D -R D4 - is bonded to the carbon atom in the nitrogen-containing six-membered aromatic ring.
&Lt; / RTI &gt;
청구항 1에 있어서,
노광된 상기 도포막의 현상을 추가로 포함하고,
상기 도포막의 노광이 위치 선택적으로 실시되며,
상기 베이크가 노광 후에 현상된 상기 도포막에 대해서 실시되는 착색 경화물의 형성 방법.
The method according to claim 1,
Further comprising developing the exposed coating film,
Wherein the exposure of the coating film is performed in a position-
Wherein the baking is performed on the coated film developed after exposure.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 (A) 광중합성 화합물이 에틸렌성 불포화기를 가지고, 카르도 구조를 포함하는 중합체(A')를 함유하는 착색 경화물의 형성 방법.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein the photopolymerizable compound (A) has an ethylenic unsaturated group and contains a polymer (A ') containing a cardo structure.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (C) 착색제가 차광제인 착색 경화물의 형성 방법.
The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the coloring agent (C) is a light-shielding agent.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항의 방법에 의한 착색 경화물의 형성을 포함하는 컬러 필터의 제조 방법.A method of manufacturing a color filter comprising forming a colored cured product by the method of any one of claims 1 to 4.
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