KR20150021358A - Evaporation source and apparatus for deposition having the same - Google Patents

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임건묵
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Abstract

An evaporation source comprises: a crucible being open on an upper side thereof and configured to store a evaporating material thereof; and a first heater unit disposed on the upper end of the evaporating material and moving downward along the exhaustion of the evaporating material. The evaporation source can prevent denaturalization of the evaporating material in the crucible and increase uniformity of deposition.

Description

증발원 및 이를 포함하는 증착장치{Evaporation source and apparatus for deposition having the same}TECHNICAL FIELD The present invention relates to an evaporation source and an evaporation source including the evaporation source,

본 발명은 증발원 및 이를 포함하는 증착장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 도가니 내부의 증발물질의 변성을 방지하고, 증착의 균일도를 높일 수 있는 증발원 및 이를 포함하는 증착장치에 관한 것이다.
The present invention relates to an evaporation source and a deposition apparatus including the evaporation source. More particularly, the present invention relates to an evaporation source and a deposition apparatus including the evaporation source, which can prevent deformation of the evaporation material in the crucible and increase the uniformity of deposition.

유기 전계 발광소자(Organic Light Emitting Diodes: OLED)는 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계 발광현상을 이용하는 스스로 빛을 내는 자발광소자로서, 비발광소자에 빛을 가하기 위한 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량이고 박형의 평판표시장치를 제조할 수 있다.BACKGROUND ART Organic light emitting diodes (OLEDs) are self-light emitting devices that emit light by using an electroluminescent phenomenon that emits light when a current flows through a fluorescent organic compound. A backlight for applying light to a non- Therefore, a lightweight thin flat panel display device can be manufactured.

이러한 유기 전계 발광소자를 이용한 평판표시장치는 응답속도가 빠르며, 시야각이 넓어 차세대 표시장치로서 대두 되고 있다. 특히, 제조공정이 단순하기 때문에 생산원가를 기존의 액정표시장치 보다 많이 절감할 수 있는 장점이다.A flat panel display device using such an organic electroluminescent device has a fast response speed and a wide viewing angle, and is emerging as a next generation display device. In particular, since the manufacturing process is simple, it is advantageous in that the production cost can be saved more than the conventional liquid crystal display device.

유기 전계 발광 소자는, 애노드 및 캐소드 전극을 제외한 나머지 구성층인 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층 및 전자주입층 등이 유기 박막으로 되어 있고, 이러한 유기 박막은 진공열증착방법으로 기판 상에 증착된다.The organic electroluminescent device comprises an organic thin film such as a hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, an electron transporting layer, and an electron injecting layer which are the remaining constituent layers except for the anode and the cathode. / RTI >

진공열증착방법은 진공 챔버 내에 기판을 배치하고, 일정 패턴이 형성된 쉐도우 마스크(shadow mask)를 기판에 정렬시킨 후, 증발물질이 담겨 있는 도가니에 열을 가하여 도가니에서 승화되는 증발물질을 기판 상에 증착하는 방식으로 이루어진다.In the vacuum thermal evaporation method, a substrate is placed in a vacuum chamber, a shadow mask having a predetermined pattern is aligned on a substrate, heat is applied to a crucible containing the evaporation material, and evaporation material, which is sublimated in the crucible, Evaporation.

종래에는 도가니의 외주면에 열선을 배치하여 도가니의 외주면에 대한 가열에 따라 도가니 내부의 증발물질에 열을 가하였다. 이때 도가니에 수용되어 있는 증발물질의 상단부에서 증발물질이 승화되어 기판 상에 증착된다. Conventionally, a hot wire is disposed on the outer circumferential surface of the crucible, and heat is applied to the evaporation material inside the crucible in accordance with the heating of the outer circumferential surface of the crucible. At this time, the evaporation material is sublimated at the upper end of the evaporation material accommodated in the crucible and deposited on the substrate.

그런데, 이 과정에서 증발물질의 내부에도 열이 전달되어 도가니 내부의 증발물질이 균일하게 가열되지 않게 되고 이에 따라 도가니에서 분출되는 증발입자의 분포가 균일하지 않아 증착의 두께 및 균일도를 맞추는데 어려움이 있다. In this process, heat is transferred to the inside of the evaporation material, so that the evaporation material inside the crucible is not uniformly heated, and thus the distribution of the evaporation particles ejected from the crucible is not uniform, which makes it difficult to adjust the thickness and uniformity of the deposition .

또한, 승화가 일어나지 않는 증발물질의 내부에 열이 가해져 증발물질이 변성되는 문제점이 있다.
Further, there is a problem that heat is applied to the inside of the evaporation material in which sublimation does not occur, and the evaporation material is denatured.

대한민국 공개특허공보 제10-2012-0077383호(2012.07.12 공개)Korean Patent Publication No. 10-2012-0077383 (published on July 12, 2012)

본 발명은 도가니 내부의 증발물질의 변성을 막고, 증착의 균일도를 높일 수 있는 증발원 및 이를 포함하는 증착장치를 제공하는 것이다.
Disclosure of Invention Technical Problem [8] The present invention provides an evaporation source and a deposition apparatus including the evaporation source, which can prevent denaturation of the evaporation material inside the crucible and increase the uniformity of deposition.

본 발명의 일 측면에 따르면, 증발물질이 수용되도록 내부에 상단이 개방되는 중공부가 구비되는 도가니와; 상기 증발물질의 상단에 배치되며 상기 증발물질의 소진에 따라 하향이동하는 제1 히터부를 포함하는, 증발원이 제공된다. According to an aspect of the present invention, there is provided a crucible comprising: a crucible having a hollow portion whose top is opened to receive an evaporation material; And a first heater portion disposed at an upper end of the evaporation material and moving downward according to exhaustion of the evaporation material.

상기 제1 히터부는, 직경이 증가하는 나선형으로 휘감긴 나선열선을 포함 할 수 있다.The first heater portion may include a spirally wound helix wire having an increased diameter.

상기 나선열선은, 상단에서 하단을 향하여 직경이 증가하도록 원뿔형태를 가질 수 있다. The helical hot wire may have a conical shape so that the diameter increases from the upper end toward the lower end.

상기 도가니의 외주면을 가열하는 제2 히터부를 더 포함할 수 있다. And a second heater unit for heating the outer circumferential surface of the crucible.

또한, 상기 도가니의 길이 방향을 따라 상기 중공부의 내면에 설치되는 전극를 더 포함할 수 있으며, 상기 나선열선의 단자는 상기 전극에 접촉될 수 있다. The electrode may further include an electrode provided on the inner surface of the hollow portion along the longitudinal direction of the crucible, and the terminal of the helical heat line may be in contact with the electrode.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 기판에 박막을 형성하기 위한 증착장치로서,According to another aspect of the present invention, there is provided a deposition apparatus for forming a thin film on a substrate,

상기 기판이 내부에 안착되는 진공 챔버와; 상기 도가니가 상기 기판에 대항하도록 상기 진공 챔버 내부에 배치되는 상기 증발원을 포함하는, 증착장치가 제공된다.
A vacuum chamber in which the substrate is seated; And the evaporation source in which the crucible is disposed inside the vacuum chamber so as to oppose the substrate.

본 발명의 실시예에 따르면, 도가니 내 증발물질의 변성을 방지하고, 증착의 균일도를 높일 수 있다.
According to the embodiment of the present invention, the denaturation of the evaporation material in the crucible can be prevented, and the uniformity of deposition can be increased.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원의 분해상태도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원의 결합상태도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원의 단면을 도시한 도면.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원을 포함하는 증착장치의 구성을 설명하기 위한 도면.1 is an exploded view of an evaporation source according to an embodiment of the present invention;
2 is an exploded view of an evaporation source according to an embodiment of the present invention;
3 is a cross-sectional view of an evaporation source according to an embodiment of the present invention.
4 is a view for explaining a configuration of a deposition apparatus including an evaporation source according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. It is to be understood, however, that the invention is not to be limited to the specific embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이하, 본 발명에 따른 증발원 및 이를 포함하는 증착장치의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT Hereinafter, embodiments of an evaporation source and a deposition apparatus including the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals designate like or corresponding components A duplicate description thereof will be omitted.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원의 분해상태도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원의 결합상태도이며, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원의 단면을 도시한 도면이다. 그리고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원을 포함하는 증착장치의 구성을 설명하기 위한 도면이다. FIG. 1 is an exploded state view of an evaporation source according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a state of coupling an evaporation source according to an embodiment of the present invention. Fig. 4 is a view illustrating a configuration of a deposition apparatus including an evaporation source according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 4에는 증발물질(10), 중공부(12), 도가니(14), 제1 히터부(16), 나선열선(17), 제2 히터부(18), 전극(20), 진공 챔버(22), 안착부(24), 기판(26), 이송관(28), 확산관(29), 증발원(30), 노즐부(32)가 도시되어 있다. 1 to 4 show the evaporation material 10, the hollow portion 12, the crucible 14, the first heater portion 16, the helical heat ray 17, the second heater portion 18, the electrode 20, A vacuum chamber 22, a mounting portion 24, a substrate 26, a transfer tube 28, a diffusion tube 29, an evaporation source 30, and a nozzle portion 32 are shown.

본 실시예에 따른 증발원(30)은, 증발물질(10)이 수용되도록 내부에 상단이 개방되는 중공부(12)가 구비되는 도가니(14)와; 상기 증발물질(10)의 상단에 배치되며 상기 증발물질(10)의 소진에 따라 하향이동하는 제1 히터부(16)를 포함하여, 도가니(14) 내부의 증발물질(10)의 변성을 방지하고, 증착의 균일도를 높일 수 있다.The evaporation source 30 according to the present embodiment includes a crucible 14 having a hollow portion 12 whose top is opened to receive the evaporation material 10; And a first heater unit 16 disposed at the upper end of the evaporation material 10 and moving downward according to exhaustion of the evaporation material 10 to prevent deformation of the evaporation material 10 in the crucible 14 And the uniformity of deposition can be increased.

도 4는, 본 실시예에 따른 증발원(30)을 구비한 증착장치를 도시한 도면으로서, 기판(26)이 내부에 안착되는 진공 챔버(22)와, 도가니(14)가 기판(26)에 대향하도록 진공 챔버(22) 내부에 배치되는 증발원(30)을 포함하는 증착장치가 도시되어 있다.4 is a view showing a deposition apparatus having an evaporation source 30 according to the present embodiment and includes a vacuum chamber 22 in which a substrate 26 is placed and a crucible 14 provided on the substrate 26 There is shown a deposition apparatus including an evaporation source 30 disposed inside the vacuum chamber 22 so as to face each other.

진공 챔버(22)의 내부는 증발물질(10)의 증착을 위하여 진공 분위기가 유지되며, 기판(26)이 진공 챔버(22)의 안착부(24)에 안착된다. 기판(26)의 대향하는 위치에는 도가니(14)가 배치되고 제1 히터부(16)에 의한 도가니(14)의 가열에 따라 증발물질(10)이 기화 또는 승화되어 형성되는 증발입자가 기판(26)에 증착된다. A vacuum atmosphere is maintained in the interior of the vacuum chamber 22 for deposition of the evaporation material 10 and the substrate 26 is seated in the seating portion 24 of the vacuum chamber 22. The crucible 14 is disposed at the opposing position of the substrate 26 and the evaporation particles formed by evaporation or sublimation of the evaporation material 10 as the crucible 14 is heated by the first heater unit 16, 26).

도가니(14)의 상단에는 노즐부(32)가 결합되어 선형의 증발원(30)을 구성할 수 있다. The nozzle unit 32 is coupled to the upper end of the crucible 14 to form a linear evaporation source 30. [

노즐부(32)는, 도가니(14)와 연통되도록 하단이 도가니(14) 상단에 결합되는 이송관(28)과, 이송관(28)과 연통되도록 이송관(28)의 상단에 횡방향으로 결합되며, 상측에 길이 방향으로 형성되는 확산관(29)을 구비할 수 있다. The nozzle unit 32 includes a conveyance pipe 28 whose lower end is connected to the upper end of the crucible 14 so as to be communicated with the crucible 14 and a conveyance pipe 28 connected to the upper end of the conveyance pipe 28 in a horizontal direction And a diffusion tube 29 formed in the longitudinal direction on the upper side.

이송관(28)은, 일단이 상기 도가니(14)의 상단에 연결되어 증발입자가 확산관(29)을 거쳐 노즐에서 기판(26)방향으로 분사될 수 있도록 증발입자를 가이드하는 역할을 한다. One end of the transfer pipe 28 is connected to the upper end of the crucible 14 to guide the evaporation particles so that the evaporation particles can be injected in the direction of the substrate 26 from the nozzle through the diffusion tube 29.

확산관(29)은 종방향의 이송관(28)에 횡방향으로 결합되며, 도가니(14)에서 이송관(28)을 거쳐 분출되는 증발입자를 좌우로 확산시킨다. 확산관(29)의 상단에는 확산관(29)의 길이 방향을 따라 다수의 노즐이 형성되어 있으며 확산관(29)에서 확산된 증발입자는 선형으로 배치된 노즐을 통하여 분출되어 기판(26)에 증착된다. The diffusion pipe 29 is laterally coupled to the vertical transfer pipe 28 and diffuses the evaporated particles ejected from the crucible 14 through the transfer pipe 28 to the left and right. A plurality of nozzles are formed on the upper end of the diffusion tube 29 along the longitudinal direction of the diffusion tube 29. The evaporated particles diffused in the diffusion tube 29 are ejected through the nozzles arranged in a linear manner, Lt; / RTI >

이하에서는 본 실시예에 따른 증발원(30)에 대해 자세히 살펴 보기로 한다.Hereinafter, the evaporation source 30 according to the present embodiment will be described in detail.

도가니(14)는, 상단이 개방된 용기 형상으로서, 내부에 상단이 개방되는 중공부(12)가 마련된다. 중공부(12)에는 증발물질(10)이 수용되는데, 중공부(12)에 수용된 증발물질(10)은 제1 히터부(16)의 가열에 따라 증발물질(10)이 증발되어 증발입자가 분출된다.The crucible 14 has a container shape in which an upper end is opened, and a hollow portion 12 in which an upper end is opened is provided inside. The evaporation material 10 accommodated in the hollow part 12 is evaporated by the heating of the first heater part 16 to evaporate the evaporation material 10 .

제1 히터부(16)는, 도가니(14)에 수용된 증발물질(10)의 상단에 배치되며, 증발물질(10)의 소진에 따라 하향이동한다. 제1 히터부(16)가 중공부(12)에 수용된 증발물질(10)의 상단에 배치되어 증발물질(10)의 상단의 표면을 가열하게 되고 이에 따라 증발물질(10)이 상단에서부터 서서히 증발된다.The first heater unit 16 is disposed at the upper end of the evaporation material 10 accommodated in the crucible 14 and moves downward according to exhaustion of the evaporation material 10. [ The first heater portion 16 is disposed at the upper end of the evaporation material 10 accommodated in the hollow portion 12 to heat the upper surface of the evaporation material 10 so that the evaporation material 10 gradually evaporates from the upper portion do.

제1 히터부(16)가 도가니(14) 내부의 증발물질(10)의 상단 표면에 배치되어 가열하기 때문에 하단의 증발물질(10) 내부에는 열의 전달이 최소화되며 이에 따라 증발물질(10) 내부의 변성을 최소화할 수 있다.Since the first heater portion 16 is disposed and heated on the upper surface of the evaporation material 10 in the crucible 14, the heat transfer is minimized inside the bottom portion of the evaporation material 10, Can be minimized.

종래에는, 도가니의 외주면에서 가열이 이루어지기 때문에 열의 전달이 불균일하여 증발물질이 표면위치에 따라 증발입자의 발생이 불균일하게 되는 바, 기판에 대한 증착의 균일도가 떨어질 우려가 있다.Conventionally, since heat is generated on the outer circumferential surface of the crucible, the heat transfer is not uniform, and the generation of evaporated particles becomes uneven depending on the surface position of the evaporated material, which may lower the uniformity of deposition on the substrate.

따라서 본 실시예에서는 제1 히터부(16)가 도가니(14) 내부의 증발물질(10)의 상단에 위치한 상태에서 증발물질(10)의 상단 표면을 가열하기 때문에 기판(26)에 대한 증착의 균일도를 높일 수 있다. 또한 증발이 일어나는 증발물질(10)의 상단 표면에서만 증발물질(10)을 가열함으로써, 도가니(14) 내부에서의 증발물질(10)의 변성을 방지할 수 있다. Therefore, in this embodiment, since the first heater portion 16 heats the upper surface of the evaporation material 10 in a state where the first heater portion 16 is positioned at the upper end of the evaporation material 10 in the crucible 14, The uniformity can be increased. Further, the evaporation material 10 can be prevented from being denatured in the crucible 14 by heating the evaporation material 10 only on the upper surface of the evaporation material 10 where evaporation takes place.

기판(26)에 대한 증착이 수행되는 동안 증발물질(10)은 상단에서부터 서서히 소진되고 이에 따라 제1 히터부(16)가 증발물질(10)의 소진되면서 서서히 아래로 하강하면서 지속적으로 증발물질(10)의 상단을 가열하게 된다. The evaporation material 10 is gradually exhausted from the top while the evaporation material 10 is being deposited on the substrate 26 so that the first heater portion 16 is gradually evaporated downward while the evaporation material 10 is exhausted, 10 is heated.

제1 히터부(16)의 하향 이동은 제1 히터부(16)의 자중에 의하거나 기타 이동수단에 의해 증발물질(10)의 소진에 따라 이동되도록 구성할 수 있다.The downward movement of the first heater unit 16 can be configured to be moved according to the self weight of the first heater unit 16 or the exhaustion of the evaporation material 10 by other moving means.

본 실시예에서는 제1 히터부(16)의 자중에 의해 증발물질(10)의 소진에 따라 하향 이동되도록 구성한 형태를 제시한다.In this embodiment, a configuration is shown in which the first heater unit 16 is moved downward due to the exhaustion of the evaporation material 10 due to its own weight.

제1 히터부(16)는, 직경이 증가하는 나선형으로 휘감긴 나선열선을 포함할 수 있다. 나선 형태로 열선을 휘감아 원판 형태로 구성하여 이를 증발물질(10)의 상단에 배치할 수 있다.The first heater portion 16 may include a spirally wound helical line increasing in diameter. The hot wire may be wound in a spiral shape to form a disk shape and disposed on the top of the evaporation material 10. [

도가니(14)에 수용된 증발물질(10)의 상단 표면에 상기 원판 형태의 나선열선이 놓여지면, 증발물질(10)의 표면을 전체적으로 균일하게 가열하여 기판(26)에 증착되는 증착의 균일도를 높일 수 있다. When the spiral hot wire of the disk shape is placed on the upper surface of the evaporation material 10 accommodated in the crucible 14, the uniformity of deposition deposited on the substrate 26 is increased by uniformly heating the surface of the evaporation material 10 as a whole .

나선열선은 중공부(12)의 단면 형상에 따라, 증발물질(10)의 표면에 균일하게 열전달이 이루어질 수 있도록 적절하게 휘감길 수 있다. 나선열선(17)의 휘감김 폭은 도가니(14)를 효율적으로 가열하기 위한 온도구배에 따라 폭을 다양하게 변경할 수 있다.The helical heating wire may be appropriately wound so as to uniformly transfer heat to the surface of the evaporation material 10 according to the cross-sectional shape of the hollow portion 12. [ The winding width of the helical heat line 17 can be varied variously according to the temperature gradient for efficiently heating the crucible 14. [

본 실시예에 따른 제1 히터부(16)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 직경이 증가하는 나선형으로 휘감긴 나선열선(17)을 포함하되, 나선열선(17)이 상단에서 하단을 향하여 직경이 증가하도록 원뿔형태를 이루도록 구성하였다. As shown in FIG. 1, the first heater unit 16 according to the present embodiment includes a helical heating line 17 wound in a helical shape with an increased diameter, wherein the helical heating line 17 is directed from the upper end to the lower end So that the cone shape is increased to increase the diameter.

증발물질(10)을 가열하는 동안 도가니(14) 내부에는 증발되지 않은 유기물이 심하게 튀는 이른바 스피팅(spitting) 현상이 발생될 수 있다. 스피팅 현상은 도가니(14)의 중심을 향할수록 더 많이 발생하게 된다. 스피팅 현상이 발생되면 증발되지 못한 유기물이 기판을 향해 분사되어 기판에 손상을 일으킬 수 있고, 증발되지 못한 유기물에 의해 도가니 입구가 막히게 되어 증발된 유기물이 기판을 향해 고르게 분사되지 못해 증착의 균일도를 떨어뜨리는 문제점을 야기한다. During the heating of the evaporation material 10, a spitting phenomenon may occur in which the organic material that has not evaporated from the crucible 14 is heavily blown into the crucible 14. The spitting phenomenon occurs more toward the center of the crucible 14. When the spitting phenomenon occurs, organic matter that has not evaporated can be sprayed toward the substrate, causing damage to the substrate. Because the organic material that has not evaporated clogs the crucible inlet, the evaporated organic material can not be uniformly sprayed toward the substrate, Causing the problem of dropping.

따라서, 본 실시예에서는 나선열선(17)을 층을 이루도록 원추 형태로 구성함으로써 스피팅 현상에 의해 튀는 유기물이 도가니(14) 외부로 유출되기 전에 나선열선(17)에 의해 차단되도록 구성하였다. 이에 따라 스피팅 현상에 의한 기판(26)의 손상을 방지하고, 증착의 균일도를 높일 수 있다Therefore, in the present embodiment, the spiral hot wire 17 is formed in a conical shape so as to form a layer, so that the organic matter splashed by the spitting phenomenon is blocked by the helical heat line 17 before flowing out of the crucible 14. Thus, damage to the substrate 26 due to the spitting phenomenon can be prevented, and the uniformity of deposition can be increased

나선열선(17)은 저항률이 높고 산화되지 않으며, 부식에 강한 재료가 고려될 수 있다. The helical heat ray 17 is high in resistivity and is not oxidized, and a material resistant to corrosion can be considered.

한편, 본 실시예에 따른 증발원(30)은 도가니(14)의 외주면을 가열하는 제2 히터부(18)를 더 포함할 수 있다. 도가니(14)의 부피가 크거나, 가열하여야 할 증발물질(10)의 양이 많을 경우, 제1 히터부(16)와 함께 보조적으로 제2 히터부(18)가 증발물질(10)을 가열하여 많은 양의 증발물질(10)을 가열시킬 수 있다. 이 경우, 제2 히터부(18)의 가열온도는 증발물질(10)을 증발시키기 위한 증발온도보다 낮을 수 있다.Meanwhile, the evaporation source 30 according to the present embodiment may further include a second heater unit 18 for heating the outer circumferential surface of the crucible 14. When the volume of the crucible 14 is large or the amount of the evaporation material 10 to be heated is large, the second heater portion 18 is heated together with the first heater portion 16 to heat the evaporation material 10 So that a large amount of the evaporation material 10 can be heated. In this case, the heating temperature of the second heater portion 18 may be lower than the evaporation temperature for evaporating the evaporation material 10. [

그리고, 제1 히터부(16)에 전원을 공급하기 위하여 도가니(14)의 길이 방향을 따라 중공부(12)의 내면에 전극(20)이 설치될 수 있다. 중공부(12)의 내면에 길이 방향을 따라 전극(20)을 설치하고 증발물질(10)의 소진에 따라 나선열선(17)이 하강하면서 나선열선(17)의 단자가 전극(20)에 지속적으로 접촉됨으로써 전원을 지속적으로 공급할 수 있다. The electrode 20 may be installed on the inner surface of the hollow portion 12 along the longitudinal direction of the crucible 14 in order to supply power to the first heater portion 16. The electrode 20 is provided along the longitudinal direction on the inner surface of the hollow portion 12 and the terminal of the helical heating wire 17 is continuously applied to the electrode 20 while the helical heating wire 17 is lowered as the evaporation material 10 is exhausted So that the power supply can be continuously supplied.

나선열선(17)의 양 끝단에 나선열선(17)의 단자가 구비되며, 나선열선(17)의 단자가 전극(20)에 지속적으로 접촉되면서 나선열선(17)에 전원으로 공급할 수 있다. 제1 히터부(16)에 전원을 공급하기 위해 전극(20)이 도가니(14)의 내면에 설치되는데, 제1 히터부(16)가 도가니(14) 내의 증발물질(10)이 소진되면서 하향 이동하더라도 전극(20)이 도가니(14)의 하단까지 길게 연장되어 있기 때문에, 제1 히터부(16)와의 계속적인 접촉으로 제1 히터부(16)를 작동시킬 수 있게 된다. Terminals of the helical heating line 17 are provided at both ends of the helical heating line 17 and the terminals of the helical heating line 17 can be supplied to the helical heating line 17 while being in contact with the electrode 20 continuously. An electrode 20 is provided on the inner surface of the crucible 14 to supply power to the first heater unit 16. The first heater unit 16 is disposed on the inner surface of the crucible 14 in such a manner that the evaporation material 10 in the crucible 14 is exhausted, The electrode 20 is extended to the lower end of the crucible 14 so that the first heater unit 16 can be operated by continuous contact with the first heater unit 16. [

도 3을 참조하여 증발원(30)의 작동 과정을 살펴 보면, 제2 히터부(18)가 증발물질(10)의 증발온도 보다 낮은 온도로 도가니(14)를 가열한 상태에서 제1 히터부(16)에 전원을 공급하여 도가니(14) 내부의 증발물질(10)의 표면을 가열한다. 제2 히터부(18) 및 제2 히터부(18)에 의한 가열온도가 증발물질(10)의 증발온도보다 높아 지면서 증발물질(10)의 표면에서 증발이 일어나게 되고, 이에 따라 기판(26)에 대한 증착이 이루어진다.The operation of the evaporation source 30 will be described with reference to Figure 3. When the second heater unit 18 heats the crucible 14 at a temperature lower than the evaporation temperature of the evaporation material 10, 16 to heat the surface of the evaporation material 10 in the crucible 14. The heating temperature by the second heater portion 18 and the second heater portion 18 becomes higher than the evaporation temperature of the evaporation material 10 and evaporation occurs on the surface of the evaporation material 10, Lt; / RTI >

기판(26)에 대한 증착이 수행되는 동안, 도가니(14) 내부의 증발물질(10)의 상단에서 지속적으로 증발물질(10)을 소진이 일어나고, 증발물질(10)의 소진에 따라 제1 히터부(16)가 하향 이동하면서 증발물질(10)의 표면을 지속적으로 가열하게 된다. The evaporation material 10 is continuously exhausted from the top of the evaporation material 10 inside the crucible 14 while the evaporation material 10 is being exhausted from the substrate 26, The portion 16 is moved downward to continuously heat the surface of the evaporation material 10.

상기에서는 본 발명의 특정의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention as set forth in the following claims It will be understood that the invention may be modified and varied without departing from the scope of the invention.

전술한 실시예 외의 많은 실시예들이 본 발명의 특허청구범위 내에 존재한다.
Many embodiments other than the above-described embodiments are within the scope of the claims of the present invention.

10 : 증발물질 12 : 중공부
14 : 도가니 16 : 제1 히터부
17 : 나선열선 18 : 제2 히터부
20 : 전극 22 : 진공 챔버
24 : 안착부 26 : 기판
28 : 이송관 29 : 확산관
30 : 증발원 32 : 노즐부10: evaporation material 12: hollow part
14: Crucible 16: First heater part
17: helical heating wire 18: second heater portion
20: Electrode 22: Vacuum chamber
24: seat part 26: substrate
28: Feed pipe 29: Diffuser pipe
30: evaporation source 32: nozzle part

Claims (6)

증발물질이 수용되도록 내부에 상단이 개방되는 중공부가 구비되는 도가니와;
상기 증발물질의 상단에 배치되며 상기 증발물질의 소진에 따라 하향이동하는 제1 히터부를 포함하는, 증발원.
A crucible having a hollow portion whose top is opened to accommodate the evaporation material;
And a first heater portion disposed at an upper end of the evaporation material and moving downward according to exhaustion of the evaporation material.
제1항에 있어서,
상기 제1 히터부는,
직경이 증가하는 나선형으로 휘감긴 나선열선을 포함하는 것을 특징으로 하는, 증발원.
The method according to claim 1,
The first heater unit may include:
Characterized in that it comprises a spirally wound helix which increases in diameter.
제2항에 있어서,
상기 나선열선은,
상단에서 하단을 향하여 직경이 증가하도록 원뿔형태를 갖는 것을 특징으로 하는, 증발원.
3. The method of claim 2,
The helical heating wire,
And a conical shape such that the diameter increases from the upper end toward the lower end.
제1항에 있어서,
상기 도가니의 외주면을 가열하는 제2 히터부를 더 포함하는, 증발원.
The method according to claim 1,
And a second heater unit for heating the outer circumferential surface of the crucible.
제2항에 있어서,
상기 도가니의 길이 방향을 따라 상기 중공부의 내면에 설치되는 전극를 더 포함하며,
상기 나선열선의 단자는 상기 전극에 접촉되는 것을 특징으로 하는, 증발원.
3. The method of claim 2,
And an electrode provided on the inner surface of the hollow portion along the longitudinal direction of the crucible,
And the terminal of the helical heating line is in contact with the electrode.
기판에 박막을 형성하기 위한 증착장치로서,
상기 기판이 내부에 안착되는 진공 챔버와;
상기 도가니가 상기 기판에 대항하도록 상기 진공 챔버 내부에 배치되는 상기 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 증발원을 포함하는, 증착장치.A deposition apparatus for forming a thin film on a substrate,
A vacuum chamber in which the substrate is seated;
And the evaporation source according to any one of claims 1 to 5, wherein the crucible is disposed inside the vacuum chamber so as to oppose the substrate.
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