KR20080048666A - Process chamber and a method for formation the same - Google Patents

Process chamber and a method for formation the same Download PDF

Info

Publication number
KR20080048666A
KR20080048666A KR1020060118902A KR20060118902A KR20080048666A KR 20080048666 A KR20080048666 A KR 20080048666A KR 1020060118902 A KR1020060118902 A KR 1020060118902A KR 20060118902 A KR20060118902 A KR 20060118902A KR 20080048666 A KR20080048666 A KR 20080048666A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
opening
process chamber
chamber
ring
fixing
Prior art date
Application number
KR1020060118902A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
차상영
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020060118902A priority Critical patent/KR20080048666A/en
Publication of KR20080048666A publication Critical patent/KR20080048666A/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/6719—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the processing chambers, e.g. modular processing chambers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

A process chamber and a forming method thereof are provided to prevent damage and deformation of components of a window by shielding internal/external environment thereof. A process chamber(2) includes an opening part(18) formed at a wall of a process chamber and a window(20) inserted into the opening part in order to cover a periphery of the opening part. The process chamber further includes a groove formed at an outer surface of the process chamber in order to surround the opening part. The window includes a ring(28) corresponding to the groove, a view port(26) inserted into the opening part in order to cover the ring and a part of the outer surface of the process chamber, a fixing cover(30) for covering a part of an outside of the view port and contacting the outer surface of the process chamber, and a fixing member(32) for fixing the fixing cover to the outer surface of the process chamber.

Description

프로세스 챔버 및 이의 형성방법{Process chamber and a method for formation the same}Process chamber and a method for formation the same

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 프로세스 챔버를 나타낸 구성도.1 is a block diagram showing a process chamber according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에 도시된 윈도우의 구성을 나타낸 단면도. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the window shown in FIG.

도 3은 도 2에 도시된 윈도우를 나타낸 평면 투시도.3 is a plan perspective view of the window shown in FIG.

도 4는 도 1에 도시된 윈도우의 다른 구성을 나타낸 단면도.4 is a cross-sectional view showing another configuration of the window shown in FIG.

＊도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명＊＊ Explanation of symbols for main parts of drawing *

2 : 챔버 4 : 기판2: chamber 4: substrate

8 : 스테이지 10 : 가스 주입구8: stage 10: gas inlet

16 : 가스 배출구 18 : 개구부16 gas outlet 18 opening

20 : 윈도우 22 : 리프트 핀20: Windows 22: lift pin

24 : 돌출부 26 : 뷰 포트24: protrusion 26: view port

28 : 링 30 : 고정커버28: ring 30: fixed cover

32 : 고정수단 34 : 접착수단32: fixing means 34: bonding means

본 발명은 프로세스 챔버의 내부를 육안으로 확인하기 위한 윈도우(window)의 구조를 개선하여 제품의 불량 발생률을 감소시키고 각 부품들의 교체주기를 연장하여 공정 효율을 향상시킬 수 있는 프로세스 챔버 및 이의 형성방법에 관한 것이다. The present invention improves the structure of the window (visual) for visually checking the interior of the process chamber to reduce the rate of product defects and to extend the replacement cycle of each component and a process chamber that can improve the process efficiency and its formation method It is about.

영상을 표시하기 위한 평판 표시장치로는 액정을 이용한 액정 표시장치(Liquid Crystal Display), 전계방출 표시장치(Field Emission Display), 불활성 가스의 방전을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel) 및 유기 발광 다이오드를 이용한 유기 전계발광 표시장치(Organic Light Emitting Diode Display) 등이 있다. As a flat panel display device for displaying an image, a liquid crystal display using liquid crystal, a field emission display, a plasma display panel using a discharge of an inert gas, and an organic light emitting diode Organic light emitting diode display using the organic light emitting diode display.

이러한 평판 표시장치 중 플라즈마 디스플레이 패널은 대형 TV로만 응용되고 반면에 액정 표시장치 및 유기 전계발광 표시장치 등은 휴대폰, 휴대용 컴퓨터, 모니터, TV 등과 같이 소형부터 대형까지 다양한 크기로 많은 분야에 응용되고 있다.Among these flat panel displays, plasma display panels are applied only to large TVs, while liquid crystal displays and organic electroluminescent displays are applied to many fields, ranging from small to large, such as mobile phones, portable computers, monitors, and TVs. .

상기와 같은 평판 표시장치의 제조시에는 증착장치, 세정장치, 포토 리소그라피 장치, 에칭장치, 자외선 조사장치, 검사장치, 에슁장치 등을 반복적으로 이용하게 된다.In manufacturing the flat panel display as described above, a deposition apparatus, a cleaning apparatus, a photolithography apparatus, an etching apparatus, an ultraviolet irradiation apparatus, an inspection apparatus, an etching apparatus, and the like are repeatedly used.

이러한 공정장치 중 자외선 조사장치, 증착장치, 세정장치, 에칭장치 및 에슁장치 등에는 공정이 이루어지는 내부환경을 외부와 다르게 조성하기 위해 프로세스 챔버가 사용된다. 예를 들어, 고온의 상태를 만들거나 진공상태를 조성하기 위해서는 내부환경을 외부환경으로부터 차단시켜야 한다. 이를 위해, 프로세스 챔버(Process Chamber, 이하 '챔버'라 함)가 사용된다. Among such process apparatuses, a process chamber is used for an ultraviolet irradiation apparatus, a deposition apparatus, a cleaning apparatus, an etching apparatus, an etching apparatus, and the like to create an internal environment in which a process is different from the outside. For example, to create a high temperature state or to create a vacuum state, the internal environment must be isolated from the external environment. For this purpose, a process chamber (hereinafter referred to as a "chamber") is used.

하지만, 상기의 챔버에는 내부에서 수행되는 공정과정을 관찰하기 위한 윈도 우가 구비되는데, 윈도우를 구성하는 부품들이 내부 환경으로부터 영향을 받아서 파손되거나 이물질을 발생시키게 되는 문제점이 있다. However, the chamber is provided with a window for observing the process performed in the interior, there is a problem that the components constituting the window is damaged or generate foreign matters affected by the internal environment.

구체적으로, 챔버에는 위도우를 설치하기 위한 개구부가 형성되고, 개구부 주변의 챔버 외부면에는 개구부를 둘러싸도록 고무 또는 메탈재질의 링을 부착하게 된다. 그리고 개구부를 포함한 링을 모두 덮도록 뷰 포트(View Port)가 부착된 후, 스크류 등의 고정수단을 이용해서 윈도우를 고정하게 된다. 여기서, 링은 개구부 주변의 챔버 외부면과 뷰 포트 간의 충격을 완화할 수 있을뿐더러 챔버의 내부 환경과 외부 환경을 완전히 차단하기 위한 수단으로써 사용된다. 그리고 뷰 포트는 석영 등의 투명재질로 형성된 평판으로써 챔버의 내부를 관찰하기 위한 수단으로 사용된다. Specifically, the chamber is formed with an opening for installing the widow, and a rubber or metal ring is attached to the chamber outer surface around the opening to surround the opening. After the view port is attached to cover all of the rings including the openings, the window is fixed using a fixing means such as a screw. Here, the ring is used as a means to completely block the internal and external environment of the chamber as well as to mitigate the impact between the view port and the chamber outer surface around the opening. The viewport is a flat plate formed of a transparent material such as quartz and is used as a means for observing the inside of the chamber.

이와 같이, 챔버의 외부면과 뷰 포트 사이에 고무 등의 재질로 형성된 링이 구비되면, 챔버의 내부를 외부로부터 완전히 차단할 수 있지만, 챔버의 외부면과 뷰 포트 사이에는 링의 두께에 따라 이격이 형성된다. 이에 따라, 링은 챔버 내부의 공정환경에 직접적으로 노출되어 공정환경의 영향을 받게 된다. 즉, 챔버의 내부환경에 따라 열과 자외선에 노출되거나 플리즈마 공정시 데미지를 입게 되어 이물을 발생시키기도 하고 파손되기도 한다. As such, when a ring formed of a material such as rubber is provided between the outer surface of the chamber and the view port, the inside of the chamber may be completely blocked from the outside, but a space may be separated between the outer surface of the chamber and the view port according to the thickness of the ring. Is formed. Accordingly, the ring is directly exposed to the process environment inside the chamber and is affected by the process environment. That is, depending on the internal environment of the chamber may be exposed to heat and ultraviolet rays or damage during the plasma process to generate foreign substances and may also be damaged.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 프로세스 챔버의 내부를 육안으로 확인하기 위한 윈도우의 구조를 개선하여 제품의 불량 발생률을 감소시키고 각 부품들의 교체주기를 연장하여 공정 효율을 향상시킬 수 있는 프로세 스 챔버 및 이의 형성방법을 제공하는데 그 목적이 있다. The present invention is to solve the above problems, by improving the structure of the window for visually checking the interior of the process chamber to reduce the incidence of product defects and to extend the replacement cycle of each component to improve the process efficiency It is an object of the present invention to provide a process chamber and a method of forming the same.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 프로세스 챔버는 프로세스 챔버의 벽을 관통하도록 형성된 개구부 및 상기 개구부에 삽입됨과 아울러 상기 개구부의 주변을 덮도록 형성된 윈도우를 포함하는 것을 특징으로 한다. The process chamber according to the present invention for achieving the above object is characterized in that it comprises an opening formed to penetrate through the wall of the process chamber and a window formed to be inserted into the opening and to cover the periphery of the opening.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 프로세스 챔버는 상기 개구부를 둘러싸도록 상기 프로세스 챔버의 외부면에 형성된 홈을 더 포함한 것을 특징으로 한다. In addition, the process chamber according to the present invention for achieving the above object is characterized in that it further comprises a groove formed in the outer surface of the process chamber to surround the opening.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 상기 윈도우는 상기 홈 대응하도록 구비된 링, 상기 개구부에 삽입됨과 아울러 상기 링과 상기 프로세스 챔버의 외부면 일부를 덮도록 형성된 뷰 포트, 상기 뷰 포트의 외곽 일부면을 감싸고 상기 프로세스 챔버의 외부면에 접촉된 고정커버 및 상기 고정커버를 상기 프로세스 챔버의 외부면에 고정시키는 고정수단을 포함하는 것을 특징으로 한다. In addition, the window according to the present invention for achieving the above object is inserted into the ring, the opening corresponding to the groove, the view port formed to cover the ring and a portion of the outer surface of the process chamber, the view And a fixing cover surrounding the outer surface of the port and being in contact with the outer surface of the process chamber and fixing the fixing cover to the outer surface of the process chamber.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 프로세스 챔버의 형성방법은 프로세스 챔버의 벽을 관통하도록 개구부를 형성하는 단계, 상기 개구부를 둘러싸도록 상기 프로세스 챔버의 외부면에 홈을 형성하는 단계 및 상기 개구부에 삽입됨과 아울러 상기 홈을 포함한 상기 개구부의 주변을 덮도록 윈도우를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. Method of forming a process chamber according to the present invention for achieving the above object comprises the steps of forming an opening through the wall of the process chamber, forming a groove in the outer surface of the process chamber to surround the opening and And inserting into the opening and forming a window to cover the periphery of the opening including the groove.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 윈도우의 형성 방 법은 상기 홈 대응하도록 링을 형성하는 단계, 상기 개구부에 삽입됨과 아울러 상기 링과 상기 프로세스 챔버의 외부면 일부를 덮도록 뷰 포트를 형성하는 단계, 상기 뷰 포트의 외곽 일부면을 감싸고 상기 프로세스 챔버의 외부면에 접촉되도록 고정커버를 형성하는 단계 및 상기 고정커버를 상기 프로세스 챔버의 외부면에 고정시키기 위한 고정수단을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. In addition, the method of forming a window according to the present invention for achieving the above object is formed by forming a ring to correspond to the groove, inserted into the opening and the view to cover a portion of the outer surface of the ring and the process chamber Forming a port, surrounding the outer surface of the view port and forming a fixing cover to be in contact with an outer surface of the process chamber, and forming fixing means for fixing the fixing cover to an outer surface of the process chamber; Characterized in that it comprises a step.

이하, 도면으로 도시한 에슁(ashing) 장치에 사용되는 프로세스 챔버를 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 프로세스 챔버 및 이의 형성방법을 보다 구체적으로 설명하기로 한다. Hereinafter, a process chamber and a method of forming the same according to an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to a process chamber used in an ashing device illustrated in the drawings.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 프로세스 챔버를 나타낸 구성도이다. 1 is a block diagram showing a process chamber according to an embodiment of the present invention.

도 1에 도시된 챔버(2)는 외부로부터의 기판(4)이 입/출고되는 도어(Door, 6), 기판(4)이 로딩/언로딩 되는 스테이지(8), 가스가 주입되는 가스 주입구(10), 주입되는 가스를 균일하게 분산하는 분산기(12), 플라즈마 발생을 유도하는 고주파 발생기(14), 가스를 배출하는 가스 배출구(16)와, 챔버(2)의 벽을 관통하도록 형성된 개구부(18) 및 개구부(18)에 삽입됨과 아울러 개구부(18)의 주변부를 덮도록 형성된 윈도우(20)를 포함하는 것을 특징으로 한다. The chamber 2 shown in FIG. 1 includes a door 6 in which the substrate 4 from the outside enters / exits, a stage 8 in which the substrate 4 is loaded / unloaded, and a gas inlet through which gas is injected. 10, a disperser 12 for uniformly dispersing the injected gas, a high frequency generator 14 for inducing plasma generation, a gas outlet 16 for discharging gas, and an opening formed to penetrate the wall of the chamber 2 And a window 20 inserted into the opening 18 and covering the periphery of the opening 18.

외부로부터의 기판(4)이 도어(6)를 통해 입/출고되어 스테이지(8) 상에 로딩/언로딩되는 과정은 AGV(Automatic Guided vehicle), OHT(Over Head Transfer) 또는 OHC(Over Head Conveyor) 등의 반송장치에 의해 이루어질 수 있다. 다시 말하여, 반송장치는 이전 공정장치 또는 카세트로부터의 기판(4)을 로봇 암 등의 운반수단을 이용하여 스테이지(8) 상에 로딩시킨다. 몰론, 언로딩 시에는 반송장치가 스테 이지(8) 상의 기판(4)을 로봇 암 등의 운반수단을 이용하여 다음 공정장치 또는 카세트로 이동시킨다. The process of loading / unloading the substrate 4 from the outside through the door 6 and loading / unloading on the stage 8 may be performed using an automatic guided vehicle (AGV), an over head transfer (OHT), or an over head conveyor (OHC). It may be made by a conveying device such as). In other words, the conveying apparatus loads the substrate 4 from the previous processing apparatus or the cassette onto the stage 8 using a conveying means such as a robot arm. Of course, at the time of unloading, the conveying apparatus moves the substrate 4 on the stage 8 to the next process apparatus or cassette using a conveying means such as a robot arm.

스테이지(8)에는 로봇 암을 통해 수행되는 기판(4)의 로딩/언로딩 동작을 용이하게 수행하기 위해 다수의 리프트 핀(22)이 더 구비되기도 한다. 이에 따라, 로봇 암으로부터의 기판(4)은 리프트 핀(22)을 통해 스테이지(8) 상에 로딩 또는 언로딩 되기도 한다. The stage 8 may be further provided with a plurality of lift pins 22 to facilitate the loading / unloading operation of the substrate 4 performed by the robot arm. Accordingly, the substrate 4 from the robotic arm may be loaded or unloaded onto the stage 8 via the lift pins 22.

상기와 같이 기판(4)이 로딩 된 후 챔버(2)를 통한 에슁 공정을 살펴보면 먼저, 도어(6)가 닫힘으로써 외부와는 차단된 내부환경을 조성한다. 그리고, 챔버(2)의 내부 환경을 진공상태로 만들고, 기판(4) 상에 형성되어있는 포토 레지스트 등을 에슁하기 위한 산소(O2)를 포함하는 에슁 가스 및 플리즈마 가스 등을 가스 주입구(10)를 통해 챔버(2) 내부로 주입시킨다. 이때, 주입된 에슁 가스 및 플리즈마 가스 등은 가스 분산기(12)에 의해 균일하게 분산되며 기판(4) 상의 포토 레지스트 등을 산화시킨다. Looking at the etching process through the chamber 2 after the substrate 4 is loaded as described above, first, the door 6 is closed to create an internal environment that is blocked from the outside. Then, the internal environment of the chamber 2 is made into a vacuum state, and an etchant gas and a plasma gas containing oxygen (O 2 ) for evaporating a photoresist or the like formed on the substrate 4 are injected into a gas inlet ( 10) is injected into the chamber (2). At this time, the injected etchant gas, the plasma gas, and the like are uniformly dispersed by the gas disperser 12 and oxidize a photoresist or the like on the substrate 4.

구체적으로, 포토 레지스트를 제거하는 과정은 플리즈마 가스와 산소를 포함한 에슁 가스 예를 들어, 산소 활성종 등의 가스들을 챔버(2) 내부로 주입하여 기판(4) 상에 균일하게 공급한다. 또한, 고주파 발생기(14)는 플리즈마 가스 등에 80㎐ 이상의 고주파를 공급하기도 한다. 이로 인해, 기판(4) 상의 포토 레지스트가 산소 활성종 등에 의해 미리 설정된 시간 동안 산화된다. Specifically, in the process of removing the photoresist, a gas such as a plasma gas and oxygen, for example, oxygen active species, is injected into the chamber 2 and uniformly supplied onto the substrate 4. The high frequency generator 14 also supplies a high frequency of 80 Hz or more to the plasma gas or the like. For this reason, the photoresist on the board | substrate 4 is oxidized for predetermined time by oxygen active species etc.

또한, 포토 레지스트의 산화 과정과 더불어 챔버(2) 내부에 발생된 이물질 들 은 가스 배출구(16)를 통해 제거된다. 다시 말하여, 챔버(2) 내부의 에슁 가스 및 플리즈마 가스 등은 산화된 포토 레지스트의 분진들과 함께 가스 배출구(16)를 통해 외부로 배기된다. 특히, 산화된 포토 레지스트의 분진들이 주로 가스 배출구(16)를 통해 배기된다. 이러한 가스 배출구(16)는 다수개 형성될 수도 있으며 이때, 각 가스 배출구(16)는 챔버(2) 바닥면의 네 모서리에 서로 대칭하도록 배치되기도 한다. In addition, foreign matters generated in the chamber 2 together with the oxidation process of the photoresist are removed through the gas outlet 16. In other words, the etchant gas, the plasma gas and the like inside the chamber 2 are exhausted to the outside through the gas outlet 16 together with the dusts of the oxidized photoresist. In particular, dust of the oxidized photoresist is mainly exhausted through the gas outlet 16. A plurality of such gas outlets 16 may be formed, and each gas outlet 16 may be arranged to be symmetric with each other at four corners of the bottom surface of the chamber 2.

이와 같이, 가스 배출구(16)가 챔버(2) 바닥에 대칭 구조로 배치되는 것은 에슁 가스 및 플라즈마 가스를 기판(4) 상에 균등하게 분산되도록 하고, 기판(4) 상의 박막의 균일한 증착 또는 제거를 위한 구조이다. 만일, 챔버(16) 바닥에 비대칭으로 각 가스 배출구(16)가 배열되면 그 위치에 따라 서로 다른 배기 압력이 작용하여 기판(4) 상의 박막에 서로 다른 비율의 식각 또는 에슁이 발생하게 된다. As such, the arrangement of the gas outlets 16 in the symmetrical structure at the bottom of the chamber 2 allows the uniform gas and plasma gas to be evenly distributed on the substrate 4, and even deposition of a thin film on the substrate 4, or It is a structure for removal. If the gas outlets 16 are asymmetrically arranged at the bottom of the chamber 16, different exhaust pressures may be applied depending on their positions, thereby causing different ratios of etching or etching to the thin film on the substrate 4.

윈도우(20)는 상기와 같은 공정과정들을 외부에서 육안으로 관찰하기 위해 구비되는 것으로, 챔버(2)의 벽을 관통하도록 형성된 개구부(18)에 구성된다. 구체적으로, 윈도우(20)는 개구부(18)에 삽입됨과 아울러 개구부(18)의 주변부를 덮도록 형성된다. The window 20 is provided to visually observe the above processes from the outside and is configured in the opening 18 formed to penetrate the wall of the chamber 2. In detail, the window 20 is inserted into the opening 18 and is formed to cover the periphery of the opening 18.

도 2는 도 1에 도시된 윈도우의 구성을 나타낸 단면도이다. 그리고 도 3은 도 2에 도시된 윈도우를 나타낸 평면 투시도이다. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the window shown in FIG. 3 is a plan perspective view showing the window shown in FIG. 2.

도 2 및 도 3에 도시된 윈도우(20)는 챔버(2)의 개구부(18)를 둘러싸도록 챔버(2)의 외부면에 형성된 홈(32)에 대응하여 형성된 링(28), 챔버(2)의 개구부(18)에 삽입되는 돌출부(24a)를 구비하여 개구부(18)와 링(28)을 포함하여 챔버(2)의 외부면을 일부 덮도록 형성된 뷰 포트(26), 뷰 포트(26)의 외곽 영역을 감싸고 챔버(2)의 외부면에 접촉된 고정커버(30) 및 고정시키는 고정수단(32)을 포함한다. The window 20 shown in FIGS. 2 and 3 has a ring 28, a chamber 2 formed corresponding to a groove 32 formed in the outer surface of the chamber 2 so as to surround the opening 18 of the chamber 2. View port 26 and view port 26 having projections 24a inserted into openings 18 in the cover to partially cover the outer surface of chamber 2, including openings 18 and rings 28. It includes a fixing cover 30 and a fixing means for wrapping and surrounding the outer region of the contact with the outer surface of the chamber (2).

챔버(2)에 형성된 홈(32)은 개구부(18)와 일정한 간격을 갖고 개구부(18)의 주변을 둘러싸도록 챔버(2)의 외부면에 형성 형성된다. 이러한 홈(32)은 링(28)의 위치를 고정하기 위한 수단이기도 하며, 링(28)과의 접촉면을 넓어지게 하기 때문에 챔버(2)의 내부와 외부 환경의 차단효율을 높일 수 있다. The grooves 32 formed in the chamber 2 are formed on the outer surface of the chamber 2 so as to surround the periphery of the opening 18 at regular intervals from the opening 18. The groove 32 is also a means for fixing the position of the ring 28, and because the contact surface with the ring 28 is widened, it is possible to increase the blocking efficiency of the internal and external environment of the chamber (2).

링(28)은 홈(32)에 대응되는 두께 및 길이로 형성되어 홈(32)을 따라 홈(32)의 내부공간을 채우도록 부착된다. 이러한 링(28)은 탄성력을 갖는 고무 재질로 형성될 수 있으며, 필요에 따라 금속물질로 형성될 수도 있다. 이로 인해, 링(28)은 홈(32)의 내부면과 뷰 포트(26) 사이에 형성되어 윈도우(20)의 조립시 고정수단에 의한 압력을 받고 챔버(2)의 내부와 외부를 차단하게 된다. 여기서, 링(32)은 홈(32) 및 뷰 포트(26)와의 접촉면이 넓을수록 챔버(2)의 내부와 외부의 차단 효율을 증가시킬 수 있다. The ring 28 is formed to have a thickness and a length corresponding to the groove 32, and is attached to fill the inner space of the groove 32 along the groove 32. The ring 28 may be formed of a rubber material having an elastic force, and may be formed of a metal material as necessary. As a result, the ring 28 is formed between the inner surface of the groove 32 and the view port 26 so as to be under pressure by the fixing means when assembling the window 20 and to block the inside and outside of the chamber 2. do. Here, the ring 32 may increase the blocking efficiency of the inside and outside of the chamber 2 as the contact surface between the groove 32 and the view port 26 is wider.

뷰 포트(26)는 챔버(2)의 개구부(32)를 포함하여 홈(32)에 부착된 링(28)을 모두 덮도록 석영 또는 사이이어 등의 투명재질로 형성된다. 이러한 뷰 포트(26)에는 개구부(18)의 크기에 대응하도록 돌출부(24)가 형성되어, 윈도우(26)의 조립시 돌출부(24)가 개구부(18)에 삽입된다. 다시 말하여, 돌출부(24)는 개구부(18)의 면적에 대응되는 면적으로 형성되어 뷰 포트(26)의 부착시 돌출부(24)의 일 측면(24a)과 타 측면(24b)이 개구부(18)의 일 측면(18a)과 타 측면(18b)에 각각 접촉된다. 이때, 서로 접촉된 일 측면(24a,18a)과 타 측면(24b,18b) 각각은 최대한 이 격이 없이 접촉되는 것이 바람직하다. 여기서, 개구부(18)와 돌출부(24)의 일 측(18a,24a) 및 타 측면(18b,24b)만을 설명하였지만, 본 발명에서는 윈도우(20)가 사각으로 형성된 경우를 나타냈으므로 사각의 측면이 모두 접촉됨을 도 3에 도시하였다. The view port 26 is formed of a transparent material such as quartz or cier to cover all of the rings 28 attached to the grooves 32 including the openings 32 of the chamber 2. The view port 26 has a protrusion 24 formed to correspond to the size of the opening 18 so that the protrusion 24 is inserted into the opening 18 when the window 26 is assembled. In other words, the protrusion 24 is formed with an area corresponding to the area of the opening 18 so that one side 24a and the other side 24b of the protrusion 24 are attached to the opening 18 when the view port 26 is attached. Are in contact with one side 18a and the other side 18b. At this time, it is preferable that each of the one side (24a, 18a) and the other side (24b, 18b) in contact with each other as possible without contact. Here, although only one side 18a, 24a and the other side 18b, 24b of the opening part 18 and the protrusion part 24 were demonstrated, since the window 20 was formed in the rectangle in this invention, the rectangular side surface is shown. All of these contacts are shown in FIG. 3.

또한, 돌출부(24)의 두께는 챔버(2)에서 수행되는 제조공정에 따라 다르게 형성할 수 있다. 다시 말하여, 도 2에 도시된 바와 같이 돌출부(24)의 두께에 따라 돌출부(24)의 전면(24c)이 개구부(18)의 측면(18a,18b) 중심에 수직으로 위치할 수도 있고, 챔버(2)의 내부면과 일치하도록 형성(도시되지 않음)되기도 한다. In addition, the thickness of the protrusion 24 may be formed differently according to the manufacturing process performed in the chamber (2). In other words, as shown in FIG. 2, the front face 24c of the protrusion 24 may be located perpendicular to the center of the side surfaces 18a and 18b of the opening 18, depending on the thickness of the protrusion 24, and the chamber It may be formed (not shown) to coincide with the inner surface of (2).

이와 같이, 윈도우(20)의 뷰 포트(26)는 조립시 돌출부(26)가 개구부(18)에 삽입됨과 아울러 개구부(18)를 둘러싼 링(28)의 일 측면에 접촉되도록 부착된다. 이에 따라, 챔버(2)의 내부는 개구부(18)의 네 측면과 돌출부(24)의 네 측면 간의 접촉면에 의해 외부와 1차로 차단된다. 그리고 챔버(2)의 홈(32)과 뷰 포트(26) 사이에 위치하는 링(28)에 의해 2차 차단된다. In this way, the view port 26 of the window 20 is attached such that the protrusion 26 is inserted into the opening 18 during assembly and in contact with one side of the ring 28 surrounding the opening 18. Accordingly, the interior of the chamber 2 is primarily blocked from the outside by the contact surface between the four sides of the opening 18 and the four sides of the protrusion 24. And secondary blocked by a ring 28 located between the groove 32 of the chamber 2 and the view port 26.

다음으로, 뷰 포트(26)의 외곽면 일부을 덮고 챔버(2)에 고정되도록 고정커버(30)가 더 구비된다. 고정커버(30)는 도 3에 도시된 바와 같이, 챔버(2)의 개구부(18)에 대응하는 면적 다시 말하여, 뷰 포트(26)의 돌출부(24) 면적을 제외한 뷰 포트(26)의 외곽면을 모두 덮도록 형성된다. 이러한, 고정커버(30)는 뷰 포트(26)의 외곽 면적보다 더 넓은 폭으로 형성되어, 뷰 포트(26)의 외곽면을 모두 덮으면서도 챔버(2)의 외부면에 부착된다. 이에 따라, 챔버(2)의 내부와 외부 환경은 챔버(2)의 외부면과 고정커버(30)의 접촉면에 의해 3차 차단된다. Next, the fixing cover 30 is further provided to cover a part of the outer surface of the view port 26 and to be fixed to the chamber 2. As shown in FIG. 3, the fixing cover 30 has an area corresponding to the opening 18 of the chamber 2, that is, the area of the view port 26 excluding the area of the protrusion 24 of the view port 26. It is formed to cover all the outer surfaces. The fixed cover 30 is wider than the outer area of the view port 26 and is attached to the outer surface of the chamber 2 while covering all the outer surfaces of the view port 26. Accordingly, the interior and exterior environment of the chamber 2 is tertiary blocked by the outer surface of the chamber 2 and the contact surface of the fixed cover 30.

이 후, 고정커버(30)의 네 모서리 부근에는 고정커버(30)를 챔버(2)의 외부면에 고정시키기 위한 고정수단(32)이 체결된다. 예를 들어, 고정커버(30)의 네 모서리 부근에 스크류 등의 고정수단(32)을 체결할 수 있는 홀이 형성된 경우, 스크류는 고정커버(30)의 홀을 관통하고 챔버(2)의 외부면을 일부 삽입됨으로써 고정된다. 이때, 고정수단(32)에 압력이 가해지면 탄성력을 갖는 링(28)이 압력을 받아서 홈(32)을 더 채울 수 있게 된다. Thereafter, fixing means 32 for fastening the fixing cover 30 to the outer surface of the chamber 2 are fastened to four corners of the fixing cover 30. For example, when a hole for fastening the fixing means 32 such as a screw is formed near the four corners of the fixing cover 30, the screw passes through the hole of the fixing cover 30 and the outside of the chamber 2. It is fixed by inserting a part of the surface. At this time, when pressure is applied to the fixing means 32, the ring 28 having an elastic force may receive pressure to fill the groove 32 further.

상술한 바와 같이 구성된 본 발명에 따른 윈도우(20)는 뷰 포트(26)에 구비된 돌출부(24)의 각 측면과 개구부(18)의 각 측면 간의 접촉면에 의해 1차로 챔버(2)의 내/외부 환경이 차단된다. 이에 따라, 본 발명에 따른 링(28)은 에슁 공정시 내부 공정환경으로부터 받는 데미지를 줄일 수 있다. 다시 말하여, 뷰 포트(26)의 돌출부(24)에 의해 에슁 공정시 발생되는 영향 예를 들어, 고주파, 열, 가스, 및 플리즈마 데미지 등으로부터 직접적인 영향을 받지않게 된다. The window 20 according to the present invention configured as described above is primarily used in the interior of the chamber 2 by the contact surface between each side of the protrusion 24 provided in the view port 26 and each side of the opening 18. The external environment is cut off. Accordingly, the ring 28 according to the present invention can reduce the damage received from the internal process environment during the etching process. In other words, the protrusions 24 of the view port 26 are not directly affected by the effects generated during the etching process, for example, high frequency, heat, gas, and plasma damage.

이에 따라, 본 발명에 따른 프로세스 챔버(2)는 윈도우(20)를 구성하는 링(28)의 파손 및 변형을 방지할 수 있기 때문에 링(28)의 사용기간이 늘어나게 되어 짧은 주기로 링(28)을 교체하던 불편함을 해소할 수 있다. 또한, 챔버(2)의 내부 및 외부 환경을 보다 효율적으로 차단할 수 있으며 링(28)이 파손되거나 변형되더라도 공정환경에 영향을 주지 않기 때문에 제품의 불량을 줄이고 공정효율을 향상시킬 수 있다. Accordingly, since the process chamber 2 according to the present invention can prevent breakage and deformation of the ring 28 constituting the window 20, the service life of the ring 28 is increased, so that the ring 28 is shortly cycled. You can eliminate the inconvenience of replacing. In addition, the internal and external environment of the chamber 2 can be blocked more efficiently, and even if the ring 28 is broken or deformed, it does not affect the process environment, thereby reducing product defects and improving process efficiency.

도 4는 도 1에 도시된 윈도우의 다른 구성을 나타낸 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating another configuration of the window illustrated in FIG. 1.

도 4에 도시된 윈도우(20)는 챔버(2)의 개구부(18)를 둘러싸도록 챔버(2)의 외부면에 구비된 홈(32)에 대응하여 형성된 링(28), 개구부(18)에 삽입되는 돌출부(24a)를 구비하고 링(28)과 챔버(2)의 외부면 일부를 덮도록 형성된 뷰 포트(26), 개구부(18)와 링(34)의 사이 영역에 위치하고 챔버(2)의 외부면에 개구부(18)를 둘러싸도록 형성된 접착수단(34), 뷰 포트(26)의 외곽 일부면을 감싸고 챔버(2)의 외부면에 접촉된 고정커버(30) 및 고정커버(30)를 챔버(2)의 외부면에 고정시키는 고정수단(32)을 포함한다. The window 20 shown in FIG. 4 has a ring 28 and an opening 18 formed corresponding to the groove 32 provided in the outer surface of the chamber 2 so as to surround the opening 18 of the chamber 2. The chamber 2 having a projection 24a inserted therein and formed in an area between the opening 28 and the ring 34, the viewport 26 formed to cover the ring 28 and a portion of the outer surface of the chamber 2. Bonding means 34 formed to surround the opening 18 on the outer surface of the outer surface of the view port 26, the fixing cover 30 and the fixing cover 30 in contact with the outer surface of the chamber (2) To the outer surface of the chamber (2) comprises a fixing means (32).

챔버(2)에 형성된 홈(32)은 개구부(18)와 일정한 간격을 갖고 개구부(18)의 주변을 둘러싸도록 챔버(2)의 외부면에 형성 형성된다. 이러한 홈(32)은 링(28)의 위치를 고정하기 위한 수단이기도 하며, 링(28)과의 접촉면을 넓어지게 하기 때문에 챔버(2)의 내부와 외부 환경의 차단효율을 높일 수 있다. The grooves 32 formed in the chamber 2 are formed on the outer surface of the chamber 2 so as to surround the periphery of the opening 18 at regular intervals from the opening 18. The groove 32 is also a means for fixing the position of the ring 28, and because the contact surface with the ring 28 is widened, it is possible to increase the blocking efficiency of the internal and external environment of the chamber (2).

링(28)은 홈(32)에 대응되는 두께 및 길이로 형성되어 홈(32)을 따라 홈(32)의 내부공간을 채우도록 부착된다. 이러한 링(28)은 탄성력을 갖는 고무 재질로 형성될 수 있으며, 필요에 따라 금속물질로 형성될 수도 있다. 이로 인해, 링(28)은 홈(32)의 내부면과 뷰 포트(26) 사이에 형성되어 윈도우(20)의 조립시 고정수단에 의한 압력을 받고 챔버(2)의 내부와 외부를 차단하게 된다. 여기서, 링(32)은 홈(32) 및 뷰 포트(26)와의 접촉면이 넓을수록 챔버(2)의 내부와 외부 환경의 차단 효율을 증가시킬 수 있다. The ring 28 is formed to have a thickness and a length corresponding to the groove 32, and is attached to fill the inner space of the groove 32 along the groove 32. The ring 28 may be formed of a rubber material having an elastic force, and may be formed of a metal material as necessary. As a result, the ring 28 is formed between the inner surface of the groove 32 and the view port 26 so as to be under pressure by the fixing means when assembling the window 20 and to block the inside and outside of the chamber 2. do. Here, the ring 32 may increase the blocking efficiency of the interior and exterior environment of the chamber 2 as the contact surface between the groove 32 and the view port 26 is wider.

접착수단(34)으로는 테플론 패드(Teflon Pad)나 접착성을 갖는 양면 테이프 등이 사용될 수 있다. 이러한 접착 수단(34)은 개구부(18)와 링(34)의 사이 영역에 위치하고 챔버(2)의 외부면에 개구부(18)를 둘러싸도록 형성된다. 이에 따라, 접착 수단(34)은 챔버(2)의 외부면과 뷰 포트(26)의 돌출부(18) 등에 부착될 수 있다. 여기서, 접착수단(34)으로 사용될 수 있는 테플론 패드는 불소수지로 이루어진 고분자 화합물의 재질을 나타내는 것으로 테플론 재질의 주성분은 불소(F, fluoride), 탄소 및 수소 성분이 포함된다. 이러한 테플론의 종류로는 PTFE (Poly Tetra Fluoro Ethylene), PFA (Perfluoroalkoxy), FEP (Fluoro Ethylene Propylene), PVDF(Poly Vinyli Dene fluoride) 등이 있다. 이러한 테플론은 화학성분에 대한 내성이 강하고, 난연성과 비전도성을 갖는다. As the adhesive means 34, a Teflon pad or an adhesive double-sided tape may be used. This bonding means 34 is formed in the region between the opening 18 and the ring 34 and is formed to surround the opening 18 on the outer surface of the chamber 2. Accordingly, the gluing means 34 may be attached to the outer surface of the chamber 2 and the protrusion 18 of the view port 26 or the like. Here, the Teflon pad that can be used as the adhesive means 34 represents the material of the polymer compound made of fluorine resin, and the main components of the Teflon material include fluoride (F, fluoride), carbon and hydrogen components. Examples of such Teflon include PTFE (Poly Tetra Fluoro Ethylene), PFA (Perfluoroalkoxy), FEP (Fluoro Ethylene Propylene), and PVDF (Poly Vinyli Dene fluoride). These teflons are resistant to chemicals, are flame retardant and non-conductive.

뷰 포트(26)는 챔버(2)의 개구부(32)를 포함하여 홈(32)에 부착된 링(28)을 모두 덮도록 석영 또는 사이이어 등의 투명재질로 형성된다. 이러한 뷰 포트(26)에는 개구부(18)의 크기에 대응하도록 돌출부(24)가 형성되어, 윈도우(26)의 조립시 돌출부(24)가 개구부(18)에 삽입된다. 다시 말하여, 돌출부(24)는 개구부(18)의 면적에 대응되는 면적으로 형성되어 뷰 포트(26)의 부착시 돌출부(24)의 일 측면(24a)과 타 측면(24b)이 개구부(18)의 일 측면(18a)과 타 측면(18b)에 각각 접촉된다. 이때, 서로 접촉된 일 측면(24a,18a)과 타 측면(24b,18b) 각각은 최대한 이격이 없도록 접촉되는 것이 바람직하다. 여기서, 개구부(18)와 돌출부(24)의 일 측(18a,24a) 및 타 측면(18b,24b)만을 설명하였지만, 본 발명에서는 윈도우(20)가 사각으로 형성된 경우를 나타냈으므로 사각의 측면이 모두 접촉된다. The view port 26 is formed of a transparent material such as quartz or cier to cover all of the rings 28 attached to the grooves 32 including the openings 32 of the chamber 2. The view port 26 has a protrusion 24 formed to correspond to the size of the opening 18 so that the protrusion 24 is inserted into the opening 18 when the window 26 is assembled. In other words, the protrusion 24 is formed with an area corresponding to the area of the opening 18 so that one side 24a and the other side 24b of the protrusion 24 are attached to the opening 18 when the view port 26 is attached. Are in contact with one side 18a and the other side 18b. At this time, it is preferable that each of the one side (24a, 18a) and the other side (24b, 18b) in contact with each other so as not to be spaced apart as possible. Here, although only one side 18a, 24a and the other side 18b, 24b of the opening part 18 and the protrusion part 24 were demonstrated, since the window 20 was formed in the rectangle in this invention, the rectangular side surface is shown. This is all in contact.

또한, 돌출부(24)의 두께는 사용되는 챔버(2)가 사용되는 제조공정에 따라 다르게 형성할 수 있다. 다시 말하여, 도 4에 도시된 바와 같이 돌출부(24)의 두께에 따라 돌출부(24)의 전면(24c)이 개구부(18)의 측면(18a,18b) 중심에 위치할 수 도 있고, 도 4에 도시된 바와 같이 챔버(2)의 내부면과 일치하도록 형성되기도 한다. In addition, the thickness of the protrusion 24 may be formed differently depending on the manufacturing process in which the chamber 2 used is used. In other words, as shown in FIG. 4, the front surface 24c of the protrusion 24 may be located at the center of the side surfaces 18a and 18b of the opening 18, depending on the thickness of the protrusion 24. It may be formed to coincide with the inner surface of the chamber (2) as shown.

이와 같이, 윈도우(20)의 뷰 포트(26)는 조립시 돌출부(26)가 개구부(18)에 삽입됨과 아울러 개구부(18)를 둘러싼 링(28)의 일 측면에 부착된다. 이에 따라, 챔버(2)의 내부는 개구부(18)의 네 측면과 돌출부(24)의 네 측면 간의 접촉면에 의해 외부와 1차로 차단된다. 그리고 챔버(2)의 외부면과 뷰 포트(26)의 돌출부(18) 등에 부착된 접착수단(34)에 2차 차단되고, 챔버(2)의 홈(32)과 뷰 포트(26) 사이에 위치하는 링(28)에 의해 3차 차단된다. As such, the view port 26 of the window 20 is attached to one side of the ring 28 surrounding the opening 18 as well as the protrusion 26 is inserted into the opening 18 during assembly. Accordingly, the interior of the chamber 2 is primarily blocked from the outside by the contact surface between the four sides of the opening 18 and the four sides of the protrusion 24. And secondly blocked by the adhesive means 34 attached to the outer surface of the chamber 2 and the protrusion 18 of the view port 26, and between the groove 32 and the view port 26 of the chamber 2. Tertiary interruption is by means of the ring 28 located.

다음으로, 뷰 포트(26)의 외곽면 일부을 덮고 챔버(2)에 고정되도록 고정커버(30)가 더 구비된다. 고정커버(30)는 도 4에 도시된 바와 같이, 챔버(2)의 개구부(18)에 대응하는 면적 다시 말하여, 뷰 포트(26)의 돌출부(24) 면적을 제외한 뷰 포트(26)의 외곽면을 모두 덮도록 형성된다. 이러한, 고정커버(30)는 뷰 포트(26)의 외곽 면적보다 더 넓은 폭으로 형성되어, 뷰 포트(26)의 외곽면을 모두 덮으면서도 챔버(2)의 외부면에 부착된다. 이에 따라, 챔버(2)의 내부와 외부 환경은 챔버(2)의 외부면과 고정커버(30)의 접촉면에 의해 4차로 차단된다. Next, the fixing cover 30 is further provided to cover a part of the outer surface of the view port 26 and to be fixed to the chamber 2. As shown in FIG. 4, the fixing cover 30 has an area corresponding to the opening 18 of the chamber 2, that is, the area of the view port 26 excluding the area of the protrusion 24 of the view port 26. It is formed to cover all the outer surfaces. The fixed cover 30 is wider than the outer area of the view port 26 and is attached to the outer surface of the chamber 2 while covering all the outer surfaces of the view port 26. Accordingly, the interior and exterior environment of the chamber 2 is quaternarily blocked by the contact surface of the outer cover of the chamber 2 and the fixed cover 30.

이 후, 고정커버(30)의 네 모서리 부근에는 고정커버(30)를 챔버(2)의 외부면에 고정시키기 위한 고정수단(32)이 체결된다. 예를 들어, 고정커버(30)의 네 모서리 부근에 스크류 등의 고정수단(32)을 체결할 수 있는 홀이 형성된 경우, 스크류는 고정커버(30)의 홀을 관통하고 챔버(2)의 외부면을 일부 관통하여 고정된다. 이때, 고정수단(32)에 압력이 가해지면 탄성력을 갖는 링(28)이 압력을 받아서 홈(32)을 더 채울 수 있게 된다. Thereafter, fixing means 32 for fastening the fixing cover 30 to the outer surface of the chamber 2 are fastened to four corners of the fixing cover 30. For example, when a hole for fastening the fixing means 32 such as a screw is formed near the four corners of the fixing cover 30, the screw passes through the hole of the fixing cover 30 and the outside of the chamber 2. It is fixed through part of the surface. At this time, when pressure is applied to the fixing means 32, the ring 28 having an elastic force may receive pressure to fill the groove 32 further.

상술한 바와 같이 구성된 본 발명에 따른 윈도우(20)는 뷰 포트(26)에 구비된 돌출부(24)의 각 측면과 개구부(18)의 각 측면 간의 접촉면에 의해 1차로 챔버(2)의 내/외부 환경이 차단된다. 그리고 챔버(2)의 외부면과 뷰 포트(26)의 돌출부(18) 등에 부착된 접착수단(34)에 2차 차단된다. 이에 따라, 본 발명에 따른 링(28)은 에슁 공정시 내부 공정환경으로부터 받는 데미지를 줄일 수 있다. 다시 말하여, 뷰 포트(26)의 돌출부(24)와 접착수단(34)에 의해 에슁 공정시 발생되는 영향 예를 들어, 고주파, 열, 가스, 및 플리즈마 데미지 등으로부터 직접적인 영향을 받지않게 된다. The window 20 according to the present invention configured as described above is primarily used in the interior of the chamber 2 by the contact surface between each side of the protrusion 24 provided in the view port 26 and each side of the opening 18. The external environment is cut off. And it is secondarily blocked by the adhesive means 34 attached to the outer surface of the chamber 2 and the projection 18 of the view port 26 and the like. Accordingly, the ring 28 according to the present invention can reduce the damage received from the internal process environment during the etching process. In other words, the protrusions 24 and the bonding means 34 of the view port 26 are not directly affected by the effects generated during the etching process, for example, high frequency, heat, gas, and plasma damage. .

이에 따라, 본 발명에 따른 프레스 챔버(2)는 윈도우(20)를 구성하는 링(28)의 파손 및 변형을 방지할 수 있기 때문에 링(28)의 사용기간이 늘어나게 되어 짧은 주기로 링(28)을 교체하던 불편함을 해소할 수 있다. 또한, 챔버(2)의 내부 및 외부 환경을 보다 효율적으로 차단할 수 있으며 링(28)이 파손되거나 변형되더라도 공정환경에 영향을 주지 않기 때문에 제품의 불량을 줄이고 공정효율을 보다 향상시킬 수 있다. Accordingly, since the press chamber 2 according to the present invention can prevent breakage and deformation of the ring 28 constituting the window 20, the service life of the ring 28 is increased, so that the ring 28 is shortly cycled. You can eliminate the inconvenience of replacing. In addition, the internal and external environment of the chamber 2 can be blocked more efficiently, and even if the ring 28 is broken or deformed, it does not affect the process environment, thereby reducing product defects and improving process efficiency.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다. The present invention described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, and it is common in the art that various substitutions, modifications, and changes can be made without departing from the technical spirit of the present invention. It will be evident to those who have knowledge of.

상기와 같은 본 발명의 실시예에 따른 프로세스 챔버 및 이의 형성방법은 다음과 같은 효과가 있다. The process chamber and the method of forming the same according to the embodiment of the present invention as described above have the following effects.

본 발명의 프로세스 챔버 윈도우는 뷰 포트에 구비된 돌출부 및 챔버의 외부면과 돌출부 등에 부착된 접착수단에 의해 챔버의 내/외부 환경이 차단된다. 이에 따라, 윈도우의 구성요소들이 챔버의 내부 공정환경으로부터 직접적인 영향을 받지않게 되어 윈도우를 구성하는 구성 요소들의 파손 및 변형을 방지할 수 있다. 또한, 챔버의 내부 및 외부 환경을 효율적으로 차단할 수 있으며, 윈도우의 구성 요소들이 파손되거나 변형되더라도 내부 공정환경에 영향을 주지 않기 때문에 제품의 불량을 줄이고 공정효율을 보다 향상시킬 수 있다. In the process chamber window of the present invention, the internal / external environment of the chamber is blocked by the protrusion provided in the viewport and the adhesive means attached to the outer surface and the protrusion of the chamber. Accordingly, the components of the window are not directly affected by the internal process environment of the chamber, thereby preventing breakage and deformation of the components constituting the window. In addition, the internal and external environment of the chamber can be effectively blocked, and even if the components of the window are broken or deformed, the internal process environment is not affected, thereby reducing product defects and improving process efficiency.

Claims (22)

프로세스 챔버의 벽을 관통하도록 형성된 개구부, 및 An opening formed through the wall of the process chamber, and 상기 개구부에 삽입됨과 아울러 상기 개구부의 주변을 덮도록 형성된 윈도우를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버. And a window inserted into the opening and formed to cover the periphery of the opening. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 프로세스 챔버는 The process chamber 상기 개구부를 둘러싸도록 상기 프로세스 챔버의 외부면에 형성된 홈을 더 포함한 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버. And a groove formed in an outer surface of the process chamber to surround the opening. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 윈도우는 The window is 상기 홈 대응하도록 구비된 링, A ring provided to correspond to the groove, 상기 개구부에 삽입됨과 아울러 상기 링과 상기 프로세스 챔버의 외부면 일부를 덮도록 형성된 뷰 포트, A viewport inserted into the opening and formed to cover a portion of the outer surface of the ring and the process chamber, 상기 뷰 포트의 외곽 일부면을 감싸고 상기 프로세스 챔버의 외부면에 접촉된 고정커버, 및  A fixed cover surrounding an outer surface of the viewport and in contact with an outer surface of the process chamber; 상기 고정커버를 상기 프로세스 챔버의 외부면에 고정시키는 고정수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버. And fixing means for fixing the fixing cover to an outer surface of the process chamber. 제 3 항에 있어서 The method of claim 3 상기 링은 The ring is 상기 홈에 대응되는 두께와 길이를 갖고 상기 홈의 내부면과 상기 뷰 포트 사이에 형성된 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버. And a thickness and a length corresponding to the groove, formed between the inner surface of the groove and the view port. 제 4 항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 뷰 포트는The view port is 상기 개구부의 크기 또는 면적에 대응하는 크기를 갖고 형성된 돌출부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버. And a protrusion formed with a size corresponding to the size or area of the opening. 제 5 항에 있어서, The method of claim 5, wherein 상기 돌출부는 The protrusion 상기 개구부에 삽입되어 상기 돌출부의 각 측면이 상기 개구부의 각 측면과 서로 접촉된 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버. A process chamber inserted into the opening, wherein each side of the protrusion is in contact with each side of the opening; 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 돌출부는The protrusion 전면이 상기 개구부의 측면과 수직으로 위치하거나 또는 상기 전면이 상기 프로세스 챔버의 내부면과 일치하도록 형성된 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버. And wherein the front surface is positioned perpendicular to the side of the opening or the front surface is coincident with the inner surface of the process chamber. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 고정커버는The fixing cover 상기 개구부에 대응하는 면적 또는 상기 돌출부가 갖는 면적을 제외한 뷰 포트의 외곽면을 덮고 상기 프로세스 챔버의 외부면과 접촉된 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버. A process chamber covering an outer surface of the viewport except for an area corresponding to the opening or an area having the protrusion, and in contact with an outer surface of the process chamber. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 고정수단은The fixing means 상기 고정커버의 네 모서리 부근에 구비된 홀을 관통하여 챔버의 외부면에 일부 삽입됨으로써 상기 고정커버를 고정시키는 스크류가 포함된 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버. And a screw for fixing the fixing cover by being inserted into an outer surface of the chamber through a hole provided near four corners of the fixing cover. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 개구부와 상기 링의 사이에 위치하고, 상기 프로세스 챔버의 외부면에 상기 개구부를 둘러싸도록 형성된 접착수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버. And an adhesive means positioned between the opening and the ring and formed to surround the opening on an outer surface of the process chamber. 제 10 항에 있어서, The method of claim 10, 상기 접착수단은 The adhesive means 테플론 패드(Teflon pad) 또는 양면 테이프인 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버. Process chamber, characterized in that it is a Teflon pad or double-sided tape. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 프로세스 챔버는 The process chamber 외부로부터의 기판이 입/출고되는 도어, A door into which the substrate from the outside is input / exported, 상기 기판이 로딩/언로딩 되는 스테이지, A stage in which the substrate is loaded / unloaded, 에슁 또는 플리즈마 가스가 주입되는 가스 주입구, A gas inlet through which an etchant or plasma gas is injected, 상기 주입되는 가스를 균일하게 분산하는 분산기, Disperser for uniformly dispersing the injected gas, 플라즈마 발생을 유도하는 고주파 발생기, 및A high frequency generator for inducing plasma generation, and 가스를 배출하는 가스 배출구를 더 포함하는 에슁 공정용 챔버인 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버. Process chamber, characterized in that the chamber for exhaust process further comprising a gas outlet for discharging the gas. 프로세스 챔버의 벽을 관통하도록 개구부를 형성하는 단계; Forming openings through the walls of the process chamber; 상기 개구부를 둘러싸도록 상기 프로세스 챔버의 외부면에 홈을 형성하는 단계; 및 Forming a groove in an outer surface of the process chamber to surround the opening; And 상기 개구부에 삽입됨과 아울러 상기 홈을 포함한 상기 개구부의 주변을 덮도록 윈도우를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버의 형성방법. And forming a window inserted into the opening and covering the periphery of the opening including the groove. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 윈도우를 형성하는 단계는 Forming the window 상기 홈 대응하도록 링을 형성하는 단계, Forming a ring to correspond to the groove; 상기 개구부에 삽입됨과 아울러 상기 링과 상기 프로세스 챔버의 외부면 일부를 덮도록 뷰 포트를 형성하는 단계, Forming a viewport inserted into the opening and covering a portion of the outer surface of the ring and the process chamber, 상기 뷰 포트의 외곽 일부면을 감싸고 상기 프로세스 챔버의 외부면에 접촉되도록 고정커버를 형성하는 단계, 및  Surrounding the outer portion of the viewport and forming a fixed cover to be in contact with an outer surface of the process chamber; and 상기 고정커버를 상기 프로세스 챔버의 외부면에 고정시키기 위한 고정수단을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버의 형성방법. Forming a fixing means for fixing the fixing cover to an outer surface of the process chamber. 제 14 항에 있어서 The method of claim 14, 상기 링을 형성하는 단계는 Forming the ring 상기 홈에 대응되는 두께와 길이의 상기 링을 상기 홈의 내부면과 상기 뷰 포트 사이에 부착시키는 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버의 형성방법. And attaching the ring having a thickness and a length corresponding to the groove between the inner surface of the groove and the view port. 제 15 항에 있어서, The method of claim 15, 상기 뷰 포트는The view port is 상기 개구부의 크기 또는 면적에 대응하는 크기를 갖고 형성된 돌출부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버의 형성방법. And a protrusion formed to have a size corresponding to the size or area of the opening. 제 16 항에 있어서, The method of claim 16, 상기 돌출부는 The protrusion 상기 개구부에 삽입되어 상기 돌출부의 각 측면이 상기 개구부의 각 측면과 서로 접촉된 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버의 형성방법. And a side surface of the protruding portion inserted into the opening and in contact with each side surface of the opening. 제 17 항에 있어서, The method of claim 17, 상기 돌출부는The protrusion 전면이 상기 개구부의 측면과 수직으로 위치하거나 또는 상기 전면이 상기 프로세스 챔버의 내부면과 일치하도록 형성된 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버의 형성방법. And wherein the front surface is positioned perpendicular to the side surface of the opening or the front surface is coincident with the inner surface of the process chamber. 제 17 항에 있어서, The method of claim 17, 상기 고정커버는The fixing cover 상기 개구부에 대응하는 면적 또는 상기 돌출부가 갖는 면적을 제외한 뷰 포트의 외곽면을 덮고 상기 프로세스 챔버의 외부면과 접촉된 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버의 형성방법. And forming an outer surface of the view port except for an area corresponding to the opening or an area having the protrusion and being in contact with an outer surface of the process chamber. 제 14 항에 있어서, The method of claim 14, 상기 고정수단은The fixing means 상기 고정커버의 네 모서리 부근에 구비된 홀을 관통하여 챔버의 외부면에 일부 삽입됨으로써 상기 고정커버를 고정시키는 스크류가 포함된 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버의 형성방법. And a screw for fixing the fixing cover by being inserted into an outer surface of the chamber through a hole provided near four corners of the fixing cover. 제 14 항에 있어서, The method of claim 14, 상기 개구부와 상기 링의 사이에 위치하고, 상기 프로세스 챔버의 외부면에 상기 개구부를 둘러싸도록 접착수단을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버의 형성방법. And forming an adhesive means located between the opening and the ring and surrounding the opening on an outer surface of the process chamber. 제 21 항에 있어서, The method of claim 21, 상기 접착수단은 The adhesive means 테플론 패드(Teflon Pad) 또는 양면 테이프인 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버의 형성방법. Method of forming a process chamber, characterized in that the Teflon Pad (Teflon Pad) or double-sided tape.
KR1020060118902A 2006-11-29 2006-11-29 Process chamber and a method for formation the same KR20080048666A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060118902A KR20080048666A (en) 2006-11-29 2006-11-29 Process chamber and a method for formation the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060118902A KR20080048666A (en) 2006-11-29 2006-11-29 Process chamber and a method for formation the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20080048666A true KR20080048666A (en) 2008-06-03

Family

ID=39804730

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060118902A KR20080048666A (en) 2006-11-29 2006-11-29 Process chamber and a method for formation the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20080048666A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105632974A (en) * 2014-11-21 2016-06-01 系统科技公司 Substrate treating apparatus having vortex prevention gate and manufacturing method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105632974A (en) * 2014-11-21 2016-06-01 系统科技公司 Substrate treating apparatus having vortex prevention gate and manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11965262B2 (en) Substrate supporting plate, thin film deposition apparatus including the same, and thin film deposition method
KR100290048B1 (en) Plasma treatment apparatus and method
JP6374188B2 (en) Method for forming sealing structure, manufacturing apparatus for sealing structure, manufacturing method for organic EL element structure, and manufacturing apparatus therefor
TWI490910B (en) Cover plate fixture and induction coupling plasma processing device
US20090229759A1 (en) Annular assembly for plasma processing, plasma processing apparatus, and outer annular member
KR20210018079A (en) Placement stage and substrate processing apparatus
KR20180006473A (en) Gate valve apparatus and plasma processing apparatus
KR20080048666A (en) Process chamber and a method for formation the same
US20100252198A1 (en) Plasma processing apparatus and method
KR20070090641A (en) Apparatus for processing substrate with plasma
US20150007857A1 (en) Cleaning method and substrate processing apparatus
KR20070000847A (en) Movable coolant charging device and cooling method of substrate manufacturing apparatus using the same
KR20190098143A (en) Consumption determination method and plasma processing apparatus
KR100943430B1 (en) Apparatus for processing substrate with plasma
KR20180124730A (en) Gate valve apparatus and substrate treatment system
KR100501618B1 (en) Plasma processing apparatus and shield ring
US7616297B2 (en) Detachable detection window and detecting system
KR102586678B1 (en) An apparatus for treating substrate
US20240055234A1 (en) Substrate processing apparatus
KR100734781B1 (en) Plasma etching apparatus for substrate of liquid crystal display
KR100837630B1 (en) Semiconductor manufacturing apparatus
KR100724613B1 (en) Apparatus for treating substrate
KR101087624B1 (en) Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition apparatus for flat panel display device
KR20060073363A (en) Cassette apparatus for cleaning
CN114520167A (en) Substrate processing apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination