KR102331643B1 - Scanning micromirror - Google Patents

Scanning micromirror Download PDF

Info

Publication number
KR102331643B1
KR102331643B1 KR1020150024433A KR20150024433A KR102331643B1 KR 102331643 B1 KR102331643 B1 KR 102331643B1 KR 1020150024433 A KR1020150024433 A KR 1020150024433A KR 20150024433 A KR20150024433 A KR 20150024433A KR 102331643 B1 KR102331643 B1 KR 102331643B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
winding
gimble
dummy
scanning micromirror
windings
Prior art date
Application number
KR1020150024433A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20160101575A (en
Inventor
이병구
최동준
정치환
안재용
Original Assignee
엘지전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지전자 주식회사 filed Critical 엘지전자 주식회사
Priority to KR1020150024433A priority Critical patent/KR102331643B1/en
Publication of KR20160101575A publication Critical patent/KR20160101575A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102331643B1 publication Critical patent/KR102331643B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10Scanning systems

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Micromachines (AREA)

Abstract

본 발명은 전면, 후면 및 측면을 포함하는 본체, 상기 전면에 장착되고, 화면정보를 출력하는 디스플레이부, 상기 디스플레이부와 겹쳐진 중첩영역을 형성하면서, 상기 디스플레이부 상에서 일 방향을 따라 왕복 이동가능 하도록 상기 본체에 장착되는 스피커 모듈 및 상기 화면정보의 출력상태정보에 근거하여 상기 스피커 모듈을 이동시키는 제어부를 구비한다. The present invention provides a main body including a front side, a rear side and a side surface, a display unit mounted on the front side and outputting screen information, and an overlapping area overlapped with the display unit to be reciprocally movable along one direction on the display unit. and a speaker module mounted on the main body and a controller for moving the speaker module based on output state information of the screen information.

Description

스캐닝 마이크로미러{SCANNING MICROMIRROR}Scanning Micromirror

본 발명은 더미코일을 포함하는 스캐닝 마이크로미러에 관한 것이다. The present invention relates to a scanning micromirror including a dummy coil.

광 소자 기술의 발전과 더불어 각종 정보의 입출력단 및 정보 전달의 매개체로 광을 사용하는 다양한 기술들이 대두되고 있다. 이러한 기술들로는 바코드 스캐너 또는 기초적인 수준의 스캐닝 레이저 디스플레이 등과 같이 광원에서 나오는 빔을 주사하여 사용하는 기술이 있다.With the development of optical device technology, various technologies using light as input/output terminals of various information and as a medium for information transmission are emerging. As such technologies, there is a technology that scans and uses a beam emitted from a light source, such as a barcode scanner or a basic level scanning laser display.

특히, 최근에는 높은 공간 분해능(High Spatial Resolution)의 빔 스캐닝을 이용한 시스템이 개발되고 있으며, 이러한 시스템으로는 레이저 스캐닝을 이용한 고해상도의 원색 재현력이 뛰어난 투사 방식 디스플레이 시스템이나 HMD(Head Mounted Display), 레이저 프린터 등이 있다.In particular, recently, a system using high spatial resolution beam scanning has been developed, and such a system includes a high-resolution, high-resolution primary color reproduction using laser scanning, a projection-type display system, a head mounted display (HMD), and a laser printers, etc.

이러한 빔 스캐닝 기술은 적용 사례에 따라 다양한 주사 속도(scanning speed)와 주사 범위(scanning range), 즉 다양한 각변위(angular displacement, tilting angle)를 가지는 스캐닝 마이크로미러가 요구된다. 기존의 빔 스캐닝은 갈바닉 미러(galvanic mirror)나 회전형 폴리곤 미러(rotating polygon mirror)를 이용하여 구동되며, 미러의 반사면과 입사광이 이루는 입사 각도를 조절하는 것에 의하여 구현된다. This beam scanning technology requires a scanning micromirror having various scanning speeds and scanning ranges, that is, various angular displacements and tilting angles depending on application cases. Existing beam scanning is driven using a galvanic mirror or a rotating polygon mirror, and is implemented by adjusting the angle of incidence between the reflective surface of the mirror and the incident light.

이와 같은 스캐닝 마이크로 미러는 디스플레이 및 거리 센서(range finder/Lidar)에 주로 이용되는 MEMS 소자이다. 상기 스캐닝 마이크로 미러는 광 경로를 공간적으로 모듈레이션 할 수 있는 구동 소자로, 다양한 방식을 통하여 구동력을 얻을 수 있다.Such a scanning micromirror is a MEMS device mainly used for a display and a range finder/Lidar. The scanning micromirror is a driving element capable of spatially modulating an optical path, and a driving force can be obtained through various methods.

구동력을 얻을 수 있는 방식으로 정전기력(electrostatic force), 전자기력(electromagnetic force)과 압전(piezoelectric)을 사용하는 방식이 있다. 일반적으로 전자기력을 사용하는 스캐닝 마이크로 미러는 영구자석이 만들어내는 자기장 내에 위치한 소자 위에 형성된 코일에 전류를 흘려 줄 때 발생하는 로렌츠 힘을 이용하여 구동력을 얻는다.As a method for obtaining the driving force, there is a method using an electrostatic force, an electromagnetic force, and a piezoelectric force. In general, a scanning micromirror using electromagnetic force obtains a driving force by using the Lorentz force generated when a current flows through a coil formed on an element located in a magnetic field created by a permanent magnet.

이와 같은 스캐닝 마이크로 미러의 구동축은 X축과 Y축으로 구성되어 있으며, X축의 회전은 수직방향으로 저속 스캔에 해당되며 일반적으로 디스플레이의 프레임 수를 결정한다. Y축 회전은 수평 방향으로 고속 스캔에 해당하며 일반적으로 디스플레이 해상도를 결정한다. X축 회전은 약 60Hz의 속도로 강제 구동하게 되며, Y축 회전은 해상도에 따라 약 19kHz 내지 44kHz 범위에서 공진구동을 하게 된다. 스캐닝 마이크로 미러 소자의 물리적인 구조에 의해 다양한 움직임 공진 모드가 형성된다. 약 18kHz 이전에는 대략 6개, 약 28k 이전에는 대략 9개의 공진모드가 형성될 수 있다.The driving shaft of such a scanning micromirror consists of an X-axis and a Y-axis, and the rotation of the X-axis corresponds to a low-speed scan in the vertical direction and generally determines the number of frames of the display. Y-axis rotation corresponds to a high-speed scan in the horizontal direction and usually determines the display resolution. The X-axis rotation is forcibly driven at a speed of about 60 Hz, and the Y-axis rotation is resonantly driven in the range of about 19 kHz to 44 kHz depending on the resolution. Various motion resonance modes are formed by the physical structure of the scanning micromirror element. About 6 resonance modes before about 18 kHz and about 9 resonance modes before about 28k may be formed.

이러한 모드들이 미러 구동 중에 발생하면 다양한 형태의 화질 저하가 발생하게 된다. 구동 주파수가 높아질수록 중간에 더 많은 모드들이 존재하고 동작할 가능성이 높아지게 된다. 이러한 비정상적인 동작은 소자 제조공정 공차를 더 높은 정밀도로 유지함으로써 줄일 수 있으나, 높은 정밀도는 낮은 수율을 의미하고 높은 제조 단가를 수반한다. When these modes occur during mirror driving, various types of image quality degradation occur. As the driving frequency increases, more modes exist and are more likely to operate. Such abnormal behavior can be reduced by maintaining higher precision in device manufacturing process tolerances, but higher precision means lower yield and is accompanied by higher manufacturing cost.

이러한, 스캐닝 마이크로 미러의 수평 공진 주파수를 높이기 위해서 관성 모멘트의 감소가 필요하다. 해상도가 높아지려면 미러의 크기가 커져야 하기 때문에 관성 모멘트를 줄이기 위해서는 소자의 두께를 줄이는 것이 바람직하다. 이에 스캐닝 마이크로 미러는 동작축에 대하여 대칭적으로 형성되는 실리콘 구조와, 실리콘 구조 상에 비대칭적으로 형성되며 도금 금속으로 이루어지는 권선부를 포함한다. 실리콘 구조가 점차적으로 얇아짐에 따라, 스캐닝 마이크로 미러의 회전시 비대칭성으로 형성되는 권선부의 영향력이 커진다. In order to increase the horizontal resonant frequency of the scanning micromirror, it is necessary to reduce the moment of inertia. Since the size of the mirror must be increased to increase the resolution, it is desirable to reduce the thickness of the device in order to reduce the moment of inertia. Accordingly, the scanning micromirror includes a silicon structure formed symmetrically with respect to an operating axis, and a winding portion formed asymmetrically on the silicon structure and made of a plated metal. As the silicon structure gradually becomes thinner, the influence of the windings formed asymmetrically during the rotation of the scanning micromirror increases.

상기 권선부의 비대칭적 구조에 의하여 기 설정된 구동축에서 벗어난 방향으로 구동력이 발생되어, 더 많은 모드들을 동작시키게 되는 문제가 있다. Due to the asymmetric structure of the winding part, a driving force is generated in a direction deviating from a preset driving shaft, so that more modes are operated.

이에 본 발명은 비대칭적 회전을 방지하여 수율이 향상된 스캐닝 마이크로 미러를 제공하는 것에 있다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a scanning micromirror with improved yield by preventing asymmetric rotation.

이와 같은 본 발명의 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 스캐닝 마이크로 미러는 외측 김블과 내측 김블의 일 면 상에 형성되며 전자계를 형성하여 구동력을 발생시키는 권선 및 자석을 포함하고 상기 권선이 배치되지 아니하는 영역에 형성되는 더미권선부를 포함한다. 더미권선부와 상기 권선은 상기 스캐닝 마이크미러의 회전축을 기준으로 대칭이 되도록 형성된다. In order to achieve the above object of the present invention, a scanning micromirror according to an embodiment of the present invention includes a winding and a magnet formed on one surface of an outer gimble and an inner gimble to form an electromagnetic field to generate a driving force, and the and a dummy winding portion formed in an area where windings are not arranged. The dummy winding part and the winding are formed to be symmetrical with respect to the rotation axis of the scanning microphone mirror.

대칭적 회전을 구현하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 내지 제4 영역 중 일부 영역에 형성되는 제2 권선부와 상기 제1 내지 제4 영역 중 나머지 영역에 형성되는 더미권선부를 포함하고, 더미권선부의 질량은 상기 일부 영역에 형성되는 제2 권선부의 질량과 실질적으로 동일하게 형성되고 그 형상이 동일하게 형성될 수 있다. According to an embodiment of the present invention, in order to implement symmetrical rotation, a second winding part formed in some of the first to fourth regions and a dummy winding part formed in the other of the first to fourth regions are included. In addition, the mass of the dummy winding portion may be formed to be substantially the same as the mass of the second winding portion formed in the partial region, and the shape thereof may be the same.

더미권선부로의 전류 이동에 따른 구동오류를 방지하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 권선은 외측 김블의 일면에 형성되고 상기 더미권선부의 적어도 일부가 상기 외측 김블의 타면에 형성될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the winding is formed on one surface of the outer gimble and at least a portion of the dummy winding portion is formed on the other surface of the outer gimble in order to prevent a driving error due to the movement of current to the dummy winding portion. .

본 발명에 따르면, 권선부가 형성되지 아니하는 상기 외측 김블의 일 영역에 적어도 하나의 더미권선부를 형성하여, 상기 스캐닝 마이크로미러의 균형을 도모할 수 있다. According to the present invention, by forming at least one dummy winding part in a region of the outer gimble where the winding part is not formed, it is possible to balance the scanning micromirror.

일 영역에 형성되는 더미권선부의 질량이 상기 일 영역과 대응되는 나머지 영역에 형성되는 권선부의 질량과 실질적으로 동일하게 형성되고, 더미권선부와 권선부 일 영역은 실질적으로 동일한 형상으로 이루어질 수 있다. 따라서, 상기 스캐닝 마이크로미러가 X축 및 Y축으로 회전하는 경우 회전축이 변경되는 비대칭성의 문제점을 해결할 수 있다. The mass of the dummy winding portion formed in one region may be substantially the same as the mass of the winding portion formed in the remaining region corresponding to the one region, and the dummy winding portion and one region of the winding portion may have substantially the same shape. Accordingly, when the scanning micromirror rotates in the X and Y axes, it is possible to solve the problem of asymmetry in which the rotation axis is changed.

또한, 권선부는 김블의 일면에 형성되고 더미권선부의 적어도 일부가 김블의 타면에 형성되고, 타면에 형성되는 더미권선부의 일부가 제2 탄성체와 일면에 형성되는 더미권선부의 일부보다 더 인접하게 배치된다. 따라서 권선부와 더미권선부의 접촉이 차단되므로, 더미권선부에 전류가 흐르는 문제를 방지할 수 있다.In addition, the winding part is formed on one surface of the gimble, at least a part of the dummy winding part is formed on the other surface of the gimble, and a part of the dummy winding part formed on the other surface is disposed closer to the second elastic body and a part of the dummy winding part formed on the one surface. . Accordingly, since the contact between the winding portion and the dummy winding portion is cut off, a problem in which current flows through the dummy winding portion can be prevented.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 스캐닝 마이크로미러를 일 방향에서 바라본 도면.
도 2a 및 도 2b는 일 실시예에 따른 권선부의 배치구조를 설명하기 위한 개념도.
도 3a 및 도 3b는 도 2b를 제1 축방향으로 절단한 단면을 일 방향에서 바라본 사시도.
도 3c는 또 다른 실시예에 따른 더미권선부의 배치구조를 설명하기 위한 개념도.
도 4는 또 다른 실시예에 따른 권선부의 배치를 도시하는 평면도.
도 5a 및 도 5b는 다른 실시예에 따른 권선부의 배치를 도시하는 평면도.
1 is a view of a scanning micromirror viewed from one direction according to an embodiment of the present invention.
2A and 2B are conceptual views for explaining an arrangement structure of a winding unit according to an embodiment;
3A and 3B are perspective views of FIG. 2B taken in a first axial direction as viewed from one direction;
3C is a conceptual diagram for explaining an arrangement structure of a dummy winding unit according to another embodiment;
4 is a plan view illustrating an arrangement of a winding unit according to another embodiment;
5A and 5B are plan views illustrating an arrangement of a winding unit according to another embodiment;

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시 예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시 예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 됨을 유의해야 한다. Hereinafter, the embodiments disclosed in the present specification will be described in detail with reference to the accompanying drawings, but the same or similar components are assigned the same reference numerals regardless of reference numerals, and overlapping descriptions thereof will be omitted. In addition, it should be noted that the accompanying drawings are only for easy understanding of the embodiments disclosed in the present specification, and should not be construed as limiting the technical spirit disclosed herein by the accompanying drawings.

본 명세서에 개시된 기술은 소정의 전류를 인가하여 입력광을 반사시키는 마이크로미러를 가동시킴으로써 반사광의 경로를 변조하는 광 스캐닝 소자(optical scanning device)에 관한 것이다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시예들에 따른 스캐닝 마이크로미러는 광원으로부터 출사된 빔을 1차원(선) 또는 2차원(면)의 소정의 영역에 주사(scan)하여 화상 등의 정보를 결상하도록 구성된다. 이에 따라 본 발명의 스캐닝 마이크로미러는 위치, 화상 등의 데이터를 읽어 들이는 레이저 프린터, 공초점 현미경(confocal microscope), 바코드 스캐너, 스캐닝 디스플레이 및 각종 센서 등에 적용 가능하다. 또한 스캐닝 외에도 반사광의 경로를 임의로 조절하는 광 스위치(optical switch) 소자 등에도 적용이 가능하다.The technology disclosed herein relates to an optical scanning device that modulates a path of reflected light by applying a predetermined current to actuate a micromirror that reflects input light. In addition, the scanning micromirror according to the embodiments disclosed herein is configured to form information such as an image by scanning a beam emitted from a light source in a one-dimensional (line) or two-dimensional (plane) predetermined area. do. Accordingly, the scanning micromirror of the present invention can be applied to a laser printer that reads data such as position and image, a confocal microscope, a barcode scanner, a scanning display, and various sensors. In addition to scanning, it can also be applied to an optical switch device that arbitrarily adjusts the path of reflected light.

그러나 본 명세서에 개시된 기술은 이에 한정되지 않고, 상기 기술의 기술적 사상이 적용될 수 있는 모든 광 스캐닝 소자, 장치 및 광 스캐닝 방법등 모든 응용분야에 적용될 수 있다.However, the technology disclosed in the present specification is not limited thereto, and may be applied to all application fields such as all optical scanning devices, devices, and optical scanning methods to which the technical idea of the above technology can be applied.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 스캐닝 마이크로미러의 사시도이다. 1 is a perspective view of a scanning micromirror according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 스캐닝 마이크로미러는 빛을 반사시키는 미러판(51), 제3 탄성체(52), 제4 탄성체(54), 제5 탄성체(56), 내측 김블(53), 외측 김블(55), 권선부(미도시), 자성체(미도시), 제어부(미도시)를 포함한다.Referring to FIG. 1 , the scanning micromirror according to this embodiment includes a mirror plate 51 that reflects light, a third elastic body 52 , a fourth elastic body 54 , a fifth elastic body 56 , and an inner gimble 53 . ), an outer gimble 55, a winding unit (not shown), a magnetic body (not shown), and a control unit (not shown).

상기 미러판(51)은 빛을 반사시키도록 형성되고, 상기 제3 탄성체(52)는 상기 미러판(51) 주위에 구비되고, 상기 내측 김블(53)과 연결된다. 상기 외측 김블(55)은 상기 내측 김블(53)을 감싸도록 형성되며, 상기 제4 탄성체(54)는 상기 외측 김블(55)과 상기 내측 김블(53)를 탄성적으로 연결한다. 상기 외측 김블(55)은 상기 지지부(57)와 연결된다. 상기 제5 탄성체(56)는 상기 외측 김블(55)과 상기 지지부(57)를 연결한다. 상기 지지부(57)는 상기 제5 탄성체(56)을 축으로 상기 외측 김블(55)이 비틀리는 경우 상기 외측 김블(55)을 지지한다. 즉 상기 지지부(57)는 상기 외측 김블(55)이 회전하는 동안 상기 외측 김블(55)을 지지한다.
The mirror plate 51 is formed to reflect light, and the third elastic body 52 is provided around the mirror plate 51 and is connected to the inner gimble 53 . The outer gimble 55 is formed to surround the inner gimble 53 , and the fourth elastic body 54 elastically connects the outer gimble 55 and the inner gimble 53 . The outer gimble 55 is connected to the support part 57 . The fifth elastic body 56 connects the outer gimble 55 and the support part 57 . The support part 57 supports the outer gimble 55 when the outer gimble 55 is twisted about the fifth elastic body 56 as an axis. That is, the support part 57 supports the outer gimble 55 while the outer gimble 55 rotates.

상기 스캐닝 마이크로미러(50)는 상기 내측 김블(53)과 상기 외측 김블(55)에 구비되어 전류가 흐르는 권선부(미도시)와 상기 권선부(미도시) 주변에 자기장을 형성하는 자성체(미도시)를 더 포함한다. 상기 권선부는 Ti, Cr, Cu, Au, Ag, Ni, Al 등의 금속 또는 ITO(Indume Tin Oxide), 도전성 폴리머 및 이들의 조합으로 구성될 수 있다.The scanning micromirror 50 is provided in the inner gimble 53 and the outer gimble 55, and a winding part (not shown) through which current flows and a magnetic material (not shown) forming a magnetic field around the winding part (not shown). city) is further included. The winding part may be formed of a metal such as Ti, Cr, Cu, Au, Ag, Ni, Al, or indume tin oxide (ITO), a conductive polymer, or a combination thereof.

상기 권선부(미도시)는 상기 미러판(51)에도 형성될 수 있다.The winding part (not shown) may also be formed on the mirror plate 51 .

상기 스캐닝 마이크로미러(50)는 상기 미러판(51)과 상기 내측 김블(53)이 상기 제3 탄성체(52)를 축으로 서로 역위상으로 회전하도록, 상기 권선부(미도시)에 흐르는 전류를 제어한다. 또한, 상기 스캐닝 마이크로미러(50)는 상기 외측 김블(55)이 상기 제5 탄성체(56)를 축으로 회전하도록 제어한다. 상기 제어부는 상기 권선부에 흐르는 전류의 주파수, 방향, 크기 등을 제어하여, 상기 자기장의 상호작용을 외력으로 작용 받아 상기 미러판(51) 및 상기 내측 및 외측 김블(53, 55)이 제3, 제 4 및 제 5 탄성체(52, 54, 56)를 기준으로 회전하도록 구동시킨다. The scanning micromirror 50 transmits a current flowing through the winding unit (not shown) so that the mirror plate 51 and the inner gimble 53 rotate out of phase with each other about the third elastic body 52 as an axis. Control. In addition, the scanning micromirror 50 controls the outer gimble 55 to rotate the fifth elastic body 56 about its axis. The control unit controls the frequency, direction, magnitude, etc. of the current flowing in the winding part, and receives the interaction of the magnetic field as an external force so that the mirror plate 51 and the inner and outer gimbals 53 and 55 are third , driven to rotate based on the fourth and fifth elastic bodies (52, 54, 56).

본 실시예에 따른 스캐닝 마이크로미러(50)의 일 영역은 서로 수직하는 X축 및 Y축 중 적어도 일부를 기준으로 회전한다. One area of the scanning micromirror 50 according to the present embodiment rotates based on at least some of the X-axis and the Y-axis that are perpendicular to each other.

도 2a 및 도 2b는 일 실시예에 따른 권선부의 배치구조를 설명하기 위한 개념도이다. 상기 스캐닝 마이크로미러(50)는 방사상으로 자기장을 형성하는 제1 및 제2 자석(611, 613), 제1 권선부(64), 제1 및 제2 더미권선부(71, 72)를 포함한다. 2A and 2B are conceptual views for explaining an arrangement structure of a winding unit according to an exemplary embodiment. The scanning micromirror 50 includes first and second magnets 611 and 613 that radially form a magnetic field, a first winding portion 64 , and first and second dummy winding portions 71 and 72 . .

도 2a에는 내측 김블(53) 및 외측 김블(55)이 도시되지 아니하였으나, 상기 제1 권선부(64)는 상기 외측 김블(55) 및 상기 내측 김블(53) 중 적어도 일 영역에 형성될 수 있다. Although the inner gimble 53 and the outer gimble 55 are not shown in FIG. 2A , the first winding part 64 may be formed in at least one area of the outer gimble 55 and the inner gimble 53 . have.

도 1, 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 상기 제1 권선부(64)는 상기 지지부(57)의 일 측으로부터 시작되어 상기 제5 탄성체(56)를 거쳐, 상기 외측 김블(55) 상에서 사분원을 형성한다. 이어서, 상기 제1 권선부(64)는 상기 제4 탄성체(54)를 거쳐, 상기 내측 김블(53)과 연결되는 지점에서 두 개의 권선부로 분기된다. 분기된 두 개의 권선부는 상기 내측 김블(53) 상에서 두 개의 반원을 형성하고 다시 제4 탄성체(54)를 지나 상기 외측 김블(55) 상에서 다른 사분원을 형성하며, 상기 제5 탄성체(56)를 거쳐 지지부(57)의 타측까지 연장된다. 1, 2A and 2B, the first winding portion 64 starts from one side of the support portion 57, passes through the fifth elastic body 56, and is a quadrant on the outer gimble 55. to form Next, the first winding portion 64 is branched into two winding portions at a point where it is connected to the inner gimble 53 through the fourth elastic body 54 . The two branched windings form two semicircles on the inner gimble 53 and again pass through the fourth elastic body 54 to form another quadrant on the outer gimble 55, and pass through the fifth elastic body 56 It extends to the other side of the support portion (57).

즉, 상기 제1 권선부(64) 는 상기 내측 김블(53)의 4개의 사분면에 형성되어 원형을 이루는 제1 권선과, 상기 제1 내지 제4 사분면 중 일 영역에 형성되는 제2 권선으로 이루어질 수 있다. That is, the first winding unit 64 includes a first winding formed in four quadrants of the inner gimble 53 to form a circle, and a second winding formed in one region of the first to fourth quadrants. can

도면 상에서 상기 제1 내지 제4 사분면 중, 상기 제2 권선은 상기 제2 및 제4 사분면 상에 형성되는 것으로 도시하였으나, 상기 제2 권선이 형성되는 영역은 이에 한정되지 않으며, 설계상 변경될 수 있다. Although the drawing shows that the second winding is formed on the second and fourth quadrants among the first to fourth quadrants, the region where the second winding is formed is not limited thereto, and may be changed in design. have.

도 2b는 도 2a의 제1 권선부(64)가 형성된 스캐닝 마이크로미러의 평면도이다. FIG. 2B is a plan view of the scanning micromirror in which the first winding portion 64 of FIG. 2A is formed.

도 2a 및 도 2b를 참조하면, 상기 지지부(57)의 일측에 전류 2I를 인가하는 경우, 상기 외측 김블(55) 상에 형성된 사분원에는 전류 2I가 흐른다. 상기 제4 탄성체(54)를 거쳐 두 개의 권선부로 분기되므로 상기 내측 김블(53)에 형성된 각 권선부에는 전류 I가 흐르게 된다. Referring to FIGS. 2A and 2B , when a current 2I is applied to one side of the support part 57 , a current 2I flows in a quadrant formed on the outer gimble 55 . Since it is branched into two windings via the fourth elastic body 54 , a current I flows through each winding formed in the inner gimble 53 .

상기 외측 김블(55)의 제2 사분면에는 2I의 전류가 시계방향으로 흐르고, 상기 내측 김블(53)의 제2 사분면에는 I전류가 반시계방향으로 흐르므로, 상기 제2 사분면은 I전류가 시계방향으로 흐르는 것과 동일한 전자기력을 받는다. 본 실시예와 같이, 하나의 권선부를 구비하는 스캐닝 마이크로미러는 구동 전류의 주파수를 다르게 하여 2축 구동을 구현할 수 있다.A current of 2I flows in a clockwise direction in the second quadrant of the outer gimble 55, and an I current flows in a counterclockwise direction in the second quadrant of the inner gimble 53, so that the I current flows clockwise in the second quadrant. It receives the same electromagnetic force that flows in the same direction. As in the present embodiment, the scanning micromirror having one winding unit may implement two-axis driving by varying the frequency of the driving current.

본 발명에 따른 스캐닝 마이크로미러(50)의 내측 김블(53)과 외측 김블(55)은 절연성의 실리콘 재질로 이루어질 수 있다. 상기 절연성의 실리콘 재질의 일면에 상기 권선부가 형성될 수 있다. 또한, 상기 권선부의 하부에는 절연층(미도시)이 형성되어 상기 권선부의 형상이 다른 구성요소와 전기적으로 절연될 수 있다. The inner gimble 53 and the outer gimble 55 of the scanning micromirror 50 according to the present invention may be made of an insulating silicon material. The winding part may be formed on one surface of the insulating silicon material. In addition, an insulating layer (not shown) may be formed under the winding portion to be electrically insulated from other components having a shape of the winding portion.

상기 스캐닝 마이클미러(50)의 관성 모멘트를 축소하기 위하여 스캐닝 마이크로미러(50)의 구동각과 미러의 직경에 의하여 형성되는 해상도의 향상을 위하여, 미러의 크기를 키우는 것이 바람직하고, 미러의 직경 증가에 의하여 커진 관성 모멘트를 감소시키기 위해 상기 실리콘 재질의 내측 김블(53) 및 외측 김블(55)의 두께를 축소시키는 것이 바람직하다. In order to reduce the moment of inertia of the scanning micromirror 50, in order to improve the resolution formed by the driving angle of the scanning micromirror 50 and the diameter of the mirror, it is preferable to increase the size of the mirror, and to increase the diameter of the mirror. It is preferable to reduce the thickness of the inner gimble 53 and the outer gimble 55 of the silicon material in order to reduce the increased moment of inertia.

본 발명에 따른 스캐닝 마이크로 미러(50)는 상기 실리콘 재질의 외측 김블(55) 상에 상기 제1 및 제2 더미권선부(71, 72)가 형성된다. 상기 제1 및 제2 더미권선부(71, 72)는 상기 제1 내지 제4 사분면에 대응되는 상기 외측 김블(55)의 제1 내지 제4 영역 중 상기 제1 권선부(64)가 형성되지 아니하는 영역에 형성된다. In the scanning micromirror 50 according to the present invention, the first and second dummy winding portions 71 and 72 are formed on the outer gimble 55 made of silicon. In the first and second dummy winding portions 71 and 72 , the first winding portion 64 is not formed in the first to fourth regions of the outer gimble 55 corresponding to the first to fourth quadrants. It is formed in an area that does not

상기 제1 더미권선부(71)는 상기 제1 권선부(64)가 형성되지 아니하는 상기 외측 김블(55)의 상기 제1 사분면 영역에 형성된다. 또한, 상기 제2 더미권선부(72)는 상기 외측 김블(55)의 제3 사분면 영역에 형성된다. 즉, 상기 제1 및 제2 더미권선부(71, 72)는 상기 제1 권선부(64)가 형성되지 아니하는 상기 외부 김블(55) 상에 형성된다. 상기 제1 및 제2 더미권선부(71, 72)는 상기 제1 권선부(64)와 실질적으로 동일한 재질로 이루어지고, 상기 제1 권선부(64)와 함께 형성될 수 있다. The first dummy winding portion 71 is formed in the first quadrant region of the outer gimble 55 where the first winding portion 64 is not formed. In addition, the second dummy winding portion 72 is formed in a third quadrant region of the outer gimble 55 . That is, the first and second dummy winding parts 71 and 72 are formed on the external gimble 55 where the first winding part 64 is not formed. The first and second dummy winding parts 71 and 72 may be made of substantially the same material as the first winding part 64 , and may be formed together with the first winding part 64 .

또한, 상기 제1 및 제2 더미권선부(71, 72) 각각은 상기 제2 및 제4 사분면 상에 배치되는 상기 제1 권선부(64)의 일 영역의 형태와 실질적으로 동일하게 형성된다. 즉, 상기 제1 및 제2 더미권선부(71, 72)의 질량의 합은 상기 제2 및 제4 사분면 상의 제1 권선부(64)의 일부 질량의 합과 실질적으로 동일하다. In addition, each of the first and second dummy winding portions 71 and 72 is formed to have substantially the same shape as one region of the first winding portion 64 disposed on the second and fourth quadrants. That is, the sum of the masses of the first and second dummy winding portions 71 and 72 is substantially equal to the sum of the masses of some of the first winding portions 64 on the second and fourth quadrants.

도 2b를 참조하면, 상기 제1 및 제2 더미권선부(71, 72)는 상기 제1 권선부(64)가 접하지 않도록 이격거리(d)를 형성한다. 특히, 상기 제1 더미권선부(71)는 상기 제5 탄성체(56) 상에 형성되는 상기 제1 권선부(64)와 이격되도록 형성된다. 이에 따라 전류는 상기 제1 및 제2 더미권선부(71, 72)로의 이동이 차단된다. Referring to FIG. 2B , the first and second dummy winding parts 71 and 72 form a separation distance d so that the first winding part 64 does not come into contact with each other. In particular, the first dummy winding part 71 is formed to be spaced apart from the first winding part 64 formed on the fifth elastic body 56 . Accordingly, the movement of the current to the first and second dummy winding units 71 and 72 is blocked.

예를 들어, 상기 스캐닝 마이크로 미러(50)의 실리콘 재질로 형성되는 구조 상에 마스킹(masking)을 하고, 상기 금속재질의 상기 제1 권선부(64)와 상기 제1 및 제2 더미권선부(71, 72)를 함께 형성할 수 있다. 이 경우, 상기 마스킹(masking) 공정에서 상기 이격거리에 금속재질이 형성되지 않도록, 상기 실리콘 재질의 구조의 일 영역을 커버한다. For example, masking is performed on the structure made of a silicon material of the scanning micromirror 50, and the first winding part 64 and the first and second dummy winding parts made of the metal material ( 71, 72) can be formed together. In this case, one region of the structure made of the silicon material is covered so that the metal material is not formed at the separation distance in the masking process.

본 발명에 따르면, 상기 내측 김블과 외측 김블 중 일 영역에 형성되는 하나의 권선부가 형성되지 아니하는 영역에 적어도 하나의 더미권선부를 형성하여, 상기 스캐닝 마이크로미러의 균형을 도모할 수 있다.
According to the present invention, the scanning micromirror can be balanced by forming at least one dummy winding part in an area where one winding part formed in one of the inner gimble and the outer gimble is not formed.

도 3a 및 도 3b는 도 2b를 제1 축방향으로 절단한 단면을 일 방향에서 바라본 사시도이다. 도 3a를 참조하면, 상기 제1 더미권선부(71)와 상기 제1 권선부(64)는 상기 실리콘 재질의 구조의 실질적으로 동일한 면 상에 형성된다. 3A and 3B are perspective views viewed from one direction of a cross-section taken in the first axial direction of FIG. 2B. Referring to FIG. 3A , the first dummy winding part 71 and the first winding part 64 are formed on substantially the same surface of the silicon material structure.

한편, 도 3b를 참조하면, 상기 제1 권선부(64)가 상기 실리콘 재질의 구조의 제1 면에 형성되는 경우, 상기 제1 더미권선부(71)는 상기 실리콘 재질의 구조의 제1 면과 마주보는 제2 면 상에 형성된다. 즉, 상기 제1 권선부(64)와 상기 제 1 및 제2 더미권선부(71, 72)는 상기 구조의 서로 다른 면에 형성된다. Meanwhile, referring to FIG. 3B , when the first winding portion 64 is formed on the first surface of the silicon material structure, the first dummy winding portion 71 is formed on the first surface of the silicon material structure. is formed on the second surface facing the That is, the first winding portion 64 and the first and second dummy winding portions 71 and 72 are formed on different surfaces of the structure.

본 실시예에 따르면, 상기 제1 및 제2 더미권선부(71, 72)는 상기 제1 권선부(64)와의 접촉이 차단되므로, 더미권선부에 전류가 흐르는 불량을 방지할 수 있다. According to the present embodiment, since the first and second dummy winding units 71 and 72 are cut off from contact with the first winding unit 64, it is possible to prevent a defect in which current flows through the dummy winding unit.

도 3c는 또 다른 실시예에 따른 더미권선부의 배치구조를 설명하기 위한 개념도이다. 본 실시예에 따른 스캐닝 마이크로미러의 상기 제1 더미권선부(71)는 제1 및 제2 금속 부재(71a, 71b)로 이루어지고, 상기 제2 더미권선부(72)는 제3 및 제4 금속부재(72a, 72b)로 이루어진다. 상기 제1 및 제2 금속부재(71a, 71b)는 도 3a의 상기 제1 더미권선부(71)를 절단한 형상에 해당될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 3C is a conceptual diagram illustrating an arrangement structure of a dummy winding unit according to another exemplary embodiment. The first dummy winding portion 71 of the scanning micromirror according to the present embodiment includes first and second metal members 71a and 71b, and the second dummy winding portion 72 includes third and fourth metal members 71a and 71b. made of metal members 72a and 72b. The first and second metal members 71a and 71b may correspond to shapes obtained by cutting the first dummy winding part 71 of FIG. 3A , but are not limited thereto.

상기 스캐닝 마이크로 미러의 전면에는 상기 제1 권선부(64)가 형성되고, 상기 제1 금속부재(71a)와 상기 제3 금속부재(72a)가 형성된다. 상기 제1 및 제3 금속부재(71a. 72a)는 상기 제4 탄성체(54)와 인접한 외측 김블(55) 상에 형성된다. The first winding part 64 is formed on the front surface of the scanning micromirror, and the first metal member 71a and the third metal member 72a are formed. The first and third metal members 71a and 72a are formed on the outer gimble 55 adjacent to the fourth elastic body 54 .

상기 제2 및 제4 금속부재(71b, 72b)는 상기 후면에 형성된다. 상기 제2 및 제4 금속부재(71b, 72b)는 상기 제5 탄성체(56)와 인접한 영역에 형성된다. 상기 제1 및 제2 금속부재(71a, 71b)는 서로 중첩되지 않도록 서로 구별되는 영역에 형성되고, 상기 제3 및 제4 금속부재(72a, 72b)는 서로 중첩되지 않도록 형성된다. 상기 스캐닝 마이크로미러 상에 상기 제1 내지 제4 금속부재(71a, 71b, 72a, 72b)는 상기 외측 김블(55) 상에서 균일하게 배치된다. The second and fourth metal members 71b and 72b are formed on the rear surface. The second and fourth metal members 71b and 72b are formed in a region adjacent to the fifth elastic body 56 . The first and second metal members 71a and 71b are formed in separate regions so as not to overlap each other, and the third and fourth metal members 72a and 72b are formed so as not to overlap each other. The first to fourth metal members 71a, 71b, 72a, and 72b are uniformly disposed on the outer gimble 55 on the scanning micromirror.

본 실시예에 따르면, 상기 제5 탄성체(56) 상의 권선부와 상기 더미권선부와의 접촉을 차단할 수 있어, 불량률을 최소화할 수 있다.
According to this embodiment, it is possible to block the contact between the winding portion on the fifth elastic body 56 and the dummy winding portion, thereby minimizing the defect rate.

도 4는 또 다른 실시예에 따른 권선부의 배치를 도시하는 평면도이다. 하나의 권선부가 두 개의 권선부로 분기되어 다시 하나로 합쳐진 도 2b의 권선부와 달리 도4의 권선부는 제2 및 제3 권선부(65, 66)로 구성된다.4 is a plan view illustrating an arrangement of a winding unit according to another embodiment. Unlike the winding portion of FIG. 2B in which one winding portion is branched into two winding portions and combined again, the winding portion of FIG. 4 includes second and third winding portions 65 and 66 .

도 4에 도시된 바와 같이, 상기 제2 및 제3 권선부(65, 66)는 상기 지지부(57)의 일 측에서 시작되어, 상기 5 탄성체(56)를 거쳐, 상기 외부 김블(55) 상에서 사분원을 형성한다. 이와 연장되어 상기 제4 탄성체(54)를 거쳐, 상기 제2 권선부(65)은 내측 김블(53) 상의 하나의 반원을 형성하고 상기 제3 권선부(66)는 상기 내측 김블(53) 상의 다른 하나의 반원을 형성한다.As shown in FIG. 4 , the second and third winding parts 65 and 66 start from one side of the support part 57 , pass through the 5 elastic body 56 , and are on the external gimble 55 . form a quadrant It extends through the fourth elastic body 54 , and the second winding portion 65 forms a semicircle on the inner gimble 53 , and the third winding portion 66 is formed on the inner gimble 53 . form another semicircle.

상기 제2 및 제3 권선부(65, 66)는 다시 제4 탄성체(54)를 거쳐 외측 김블(55) 상에서 다른 사분원을 형성하고, 상기 제5 탄성체(56)를 거쳐 상기 지지부(57)의 타측에서 종료된다. The second and third winding parts 65 and 66 again pass through the fourth elastic body 54 to form another quadrant on the outer gimble 55 , and pass through the fifth elastic body 56 to form a second quadrant of the support part 57 . ends on the other side.

즉, 상기 제2 및 제3 권선부(65, 66)는 상기 외측 김블(55)의 상기 제2 및 제4 사분면 상에 형성된다. 본 실시예에 따른 스캐닝 마이크로미러(50)는 상기 외측 김블(55)의 상기 제1 및 제3 사분면에 배치되는 제3 내지 제6 더미권선부(73, 74, 75, 76)를 포함한다. 상기 제3 및 제4 더미권선부(73, 74)는 상기 제 1 사분면에 배치되고, 상기 제5 및 제6 더미권선부(75, 76)는 상기 제3 사분면에 형성된다. That is, the second and third winding portions 65 and 66 are formed on the second and fourth quadrants of the outer gimble 55 . The scanning micromirror 50 according to the present embodiment includes third to sixth dummy winding portions 73 , 74 , 75 and 76 disposed in the first and third quadrants of the outer gimble 55 . The third and fourth dummy winding parts 73 and 74 are disposed in the first quadrant, and the fifth and sixth dummy winding parts 75 and 76 are formed in the third quadrant.

상기 제 3 내지 제6 더미권선부(73, 74, 75, 76)는 상기 제2 및 제3 권선부(65. 66)와 접하지 않도록 이격공간이 형성된다. 상기 제 3 내지 제6 더미권선부(73, 74, 75, 76)는 상기 제2 및 제3 권선부(65, 66)와 실질적으로 동일한 재질로 이루어질 수 있다. 또한, 상기 제3 및 제5 더미권선부(73, 75)는 상기 제3 권선부(66)의 상기 제2 및 제4 사분면 영역과 실질적으로 동일하고, 상기 제4 및 제6 더미권선부(74, 76)는 상기 제3 권선부(66)의 상기 제2 및 제4 사분면 영역과 실질적으로 동일하다. A space is formed between the third to sixth dummy winding parts 73 , 74 , 75 and 76 so as not to contact the second and third winding parts 65 and 66 . The third to sixth dummy winding parts 73 , 74 , 75 and 76 may be made of substantially the same material as the second and third winding parts 65 and 66 . In addition, the third and fifth dummy winding portions 73 and 75 are substantially the same as the second and fourth quadrant regions of the third winding portion 66, and the fourth and sixth dummy winding portions ( 74 , 76 are substantially identical to the second and fourth quadrant regions of the third winding 66 .

또한, 상기 제 3 내지 제6 더미권선부(73, 74, 75, 76) 중 적어도 일부는 상기 제2 및 제3 권선부(65, 66)와 동일한 공정에 의하여 함께 형성될 수 있으며, 상기 제3 내지 제6 더미권선부(73, 74, 75, 76)와 상기 제2 및 제3 권선부(65, 66)는 실질적으로 동일한 재질로 이루어진다. 이에 따라, 상기 스캐닝 마이크로미러의 균형을 도모할 수 있다.
In addition, at least some of the third to sixth dummy winding parts 73, 74, 75, and 76 may be formed together by the same process as the second and third winding parts 65 and 66, and The third to sixth dummy winding portions 73, 74, 75, and 76 and the second and third winding portions 65 and 66 are made of substantially the same material. Accordingly, the scanning micromirror can be balanced.

도 5a 및 도 5b는 다른 실시예에 따른 권선부의 배치를 도시하는 평면도이다. 도 5a 및 도 5b의 구성요소는 더미권선부의 배치구조를 제외하고, 도 4의 구성요소와 실질적으로 동일하다. 따라서, 동일 및 유사한 구성요소에 대하여 동일한 도면부호를 부여하고 중복되는 설명은 생략한다. 5A and 5B are plan views illustrating an arrangement of a winding unit according to another exemplary embodiment. The components of FIGS. 5A and 5B are substantially the same as those of FIG. 4 except for the arrangement structure of the dummy winding part. Accordingly, the same reference numerals are assigned to the same and similar components, and overlapping descriptions are omitted.

도 5a의 실시예에 따른 스캐닝 마이크로미러의 제3 및 제 5 더미권선부(73, 75)는 상기 전면에 형성되고, 상기 제4 및 제 6 더미권선부(74, 76)는 상기 후면에 형성된다. 상기 제3 내지 제6 더미권선부(73, 74, 75, 76)의 형상은 도 4의 더미권선부들과 실질적으로 동일하다.The third and fifth dummy winding portions 73 and 75 of the scanning micromirror according to the embodiment of FIG. 5A are formed on the front surface, and the fourth and sixth dummy winding portions 74 and 76 are formed on the rear surface. do. The shapes of the third to sixth dummy winding parts 73 , 74 , 75 and 76 are substantially the same as those of the dummy winding parts of FIG. 4 .

본 실시예에 따르면 더미권선부가 상기 제2 및 제3 권선부에 접촉이 감소할 수 있으므로 불량률을 최소화할 수 있다. According to the present embodiment, since the dummy winding portion can be reduced in contact with the second and third winding portions, the defect rate can be minimized.

도 5b에 따른 스캐닝 마이크로미러는 외측 김블(55)의 상기 제1 및 제3 사분면에 형성되는 제7 및 제8 더미권선부(77, 78)를 포함한다. 상기 제7 및 제8 더미권선부(77, 78)는 상기 제2 및 제3 권선부(55, 56)와 다른 형태로 이루어지며 상기 제2 및 제3 권선부(65, 66)보다 넓게 형성될 수 있다. The scanning micromirror according to FIG. 5B includes seventh and eighth dummy winding portions 77 and 78 formed in the first and third quadrants of the outer gimble 55 . The seventh and eighth dummy winding portions 77 and 78 have a different shape from the second and third winding portions 55 and 56 and are formed wider than the second and third winding portions 65 and 66 . can be

다만, 상기 제2 및 제3 권선부(65, 66)의 상기 제2 및 제4 사분면 영역의 질량과 실질적으로 동일하게 형성될 수 있다. However, the second and third winding portions 65 and 66 may be formed to have substantially the same mass as the second and fourth quadrant regions.

상기와 같이 설명된 스캐닝 마이크로 미러는 상기 설명된 실시예들의 구성과 방법이 한정되게 적용될 수 있는 것이 아니라, 상기 실시예들은 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 구성될 수도 있다.In the scanning micromirror described above, the configuration and method of the above-described embodiments are not limitedly applicable, but all or part of each embodiment is selectively combined so that various modifications can be made. could be

Claims (10)

제1 탄성체를 제1 회전축으로 하여 구동되는 미러판;
상기 미러판 주위를 감싸는 원형으로 형성되고, 제2 탄성체를 제2 회전축으로 하여 구동되는 내측 김블;
상기 내측 김블을 감싸도록 형성되고, 상기 제1 및 제2 회전축에 의하여 제1, 제2, 제3 및 제4 영역으로 구획되는 외측 김블;
원형을 이루며 상기 내측 김블의 일 면 상에 형성되는 제1 권선부 및 상기 제1 영역으로부터 연장되어 상기 제1 내지 제4 영역 중 서로 대향하는 두 영역에 형성되는 제2 권선부로 이루어지며, 전자계를 형성하여 구동력을 발생시키는 권선;
상기 권선부와 함께 상기 전자계를 형성하는 자석; 및
상기 제1 내지 제4 영역 중 상기 제2 권선부가 배치되지 않고, 서로 대향하는 나머지 두 영역에 형성되는 더미권선부를 포함하고,
상기 더미권선부는,
상기 제1 권선부 및 상기 제2 권선부와 물리적, 전기적으로 이격되는 스캐닝 마이크로 미러.
a mirror plate driven with a first elastic body as a first rotational shaft;
an inner gimble formed in a circular shape surrounding the mirror plate and driven with a second elastic body as a second rotation axis;
an outer gimble formed to surround the inner gimble and divided into first, second, third and fourth regions by the first and second rotation shafts;
It consists of a first winding part formed on one surface of the inner gimble in a circular shape and a second winding part extending from the first region and formed in two regions facing each other among the first to fourth regions, a winding to form a driving force;
a magnet forming the electromagnetic field together with the winding unit; and
and a dummy winding portion formed in the remaining two regions opposite to each other in which the second winding portion is not disposed among the first to fourth regions;
The dummy winding part,
A scanning micromirror that is physically and electrically spaced apart from the first winding part and the second winding part.
제1항에 있어서,
상기 더미권선부와 상기 권선은 동일한 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러.
According to claim 1,
The scanning micromirror, characterized in that the dummy winding portion and the winding are made of the same material.
제2항에 있어서,
일부 영역에 형성되는 상기 제2 권선부의 질량과 나머지 영역에 형성되는 더미권선부의 질량이 동일한 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러.
3. The method of claim 2,
The scanning micromirror, characterized in that the mass of the second winding formed in the partial region and the mass of the dummy winding formed in the remaining region are the same.
제3항에 있어서,
상기 제2 권선이 상기 외측 김블의 일 면 상에 형성되는 경우,
상기 더미권선부는 상기 외측 김블의 일 면 상에 형성되는 제1 분할권선 및 상기 외측 김블의 타면 상에 형성되는 제2 분할 권선을 포함하는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러.
4. The method of claim 3,
When the second winding is formed on one surface of the outer gimble,
and the dummy winding part includes a first divided winding formed on one surface of the outer gimble and a second divided winding formed on the other surface of the outer gimble.
제4항에 있어서,
상기 제2 분할권선은 상기 제1 분할권선보다 상기 제2 탄성체와 인접하게 배치되는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러.
5. The method of claim 4,
and the second dividing winding is disposed closer to the second elastic body than the first dividing winding.
제4항에 있어서,
상기 제1 및 제2 분할권선은 중첩되지 않도록 상기 나머지 영역의 구분되는 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러.
5. The method of claim 4,
The scanning micromirror of claim 1, wherein the first and second dividing windings are formed in separate regions of the remaining regions so as not to overlap.
제1항에 있어서,
상기 권선부는 상기 내측 김블 및 상기 외측 김블 상에 나란히 배치되는 한 쌍의 권선으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러.
According to claim 1,
The winding portion is a scanning micromirror comprising a pair of windings arranged side by side on the inner gimble and the outer gimble.
제7항에 있어서,
상기 더미권선부는, 상기 외측 김블에 형성되는 한 쌍의 권선에 대응되는 한 쌍의 더미 권선으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러.
8. The method of claim 7,
and the dummy winding unit includes a pair of dummy windings corresponding to the pair of windings formed in the outer gimble.
제7항에 있어서,
상기 더미권선부는 상기 외측 김블에 형성되는 한 쌍의 권선에 대응되는 제1 및 제2 더미 권선으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러.
8. The method of claim 7,
and the dummy winding portion includes first and second dummy windings corresponding to a pair of windings formed in the outer gimble.
제7항에 있어서,
상기 더미권선부는 상기 외측 김블의 일 영역에 형성되는 상기 한 쌍의 권선의 질량과 동일하게 형성되는 권선으로 형성되는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러.
8. The method of claim 7,
The scanning micromirror, characterized in that the dummy winding portion is formed of windings formed to have the same mass as the pair of windings formed in one region of the outer gimble.
KR1020150024433A 2015-02-17 2015-02-17 Scanning micromirror KR102331643B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150024433A KR102331643B1 (en) 2015-02-17 2015-02-17 Scanning micromirror

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150024433A KR102331643B1 (en) 2015-02-17 2015-02-17 Scanning micromirror

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160101575A KR20160101575A (en) 2016-08-25
KR102331643B1 true KR102331643B1 (en) 2021-11-30

Family

ID=56884722

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150024433A KR102331643B1 (en) 2015-02-17 2015-02-17 Scanning micromirror

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102331643B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102614491B1 (en) * 2018-03-26 2023-12-15 엘지전자 주식회사 Tripod MEMS scanner using electromagnetic Force Drive

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030202234A1 (en) 2002-04-26 2003-10-30 Corning Intellisense Corporation Magnetically actuated microelectromechanical devices and method of manufacture
KR100837399B1 (en) * 2006-06-22 2008-06-12 삼성전자주식회사 MEMS device for two-axial drive
JP4526676B2 (en) 2000-10-05 2010-08-18 シチズンファインテックミヨタ株式会社 Optical deflection element and manufacturing method thereof
KR101191535B1 (en) * 2009-05-25 2012-10-15 엘지전자 주식회사 Scanning micromirror

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4526676B2 (en) 2000-10-05 2010-08-18 シチズンファインテックミヨタ株式会社 Optical deflection element and manufacturing method thereof
US20030202234A1 (en) 2002-04-26 2003-10-30 Corning Intellisense Corporation Magnetically actuated microelectromechanical devices and method of manufacture
KR100837399B1 (en) * 2006-06-22 2008-06-12 삼성전자주식회사 MEMS device for two-axial drive
KR101191535B1 (en) * 2009-05-25 2012-10-15 엘지전자 주식회사 Scanning micromirror

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160101575A (en) 2016-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6056179B2 (en) Optical scanner and image forming apparatus
KR20140145074A (en) Optical device, optical scanner, and image display apparatus
JP6811021B2 (en) Drive device and mirror device
JP6015564B2 (en) Optical scanning device
JP2015087444A (en) Optical scanner, image display device, head-mounted display, and head-up display
JP2008139886A (en) Two-dimensional micro optical scanner
JP6388262B2 (en) Scanner device
WO2012168980A1 (en) Image display device
JP2016153921A (en) Optical scanning mechanism
KR20060124079A (en) Mems scanning micromirror and dual-axis electromagnetic mems scanning micromirror device
JP2007192902A (en) Method for driving micro-electro mechanical element, method for driving micro-electro mechanical element array, micro-electro mechanical element, micro-electro mechanical element array, and image forming apparatus
US8094356B2 (en) Light scanning device and image forming device
KR102331643B1 (en) Scanning micromirror
JP4720723B2 (en) Optical device, optical scanner, and image forming apparatus
JP2005169553A (en) Micro-actuator
JP2010230730A (en) Image forming apparatus
JP2008228436A (en) Actuator, optical scanner, and image forming apparatus
JP2005250077A (en) Optical deflector
JP2006072251A (en) Planar type actuator
JP2008058434A (en) Rocking apparatus, light deflector using rocking apparatus, and image forming apparatus using light deflector
JP5387222B2 (en) Optical deflector
KR101582703B1 (en) Electrode comb, micromechanical component and method for producing an electrode comb or a micromechanical component
JP5294033B2 (en) Optical scanning apparatus and image forming apparatus
JP2010048898A (en) Optical scanner and image forming apparatus
WO2014013761A1 (en) Optical scanning element and optical scanning device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant