KR102064277B1 - Preparing method for flexible touch screen panel - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 점착층을 통해 지지체 상에 기체 투과성 기재 필름을 접합하는 단계; 상기 점착층을 열처리하여 점착제 중 용매 성분 또는 휘발성 성분을 상기 기체 투과성 기재 필름을 통해 배출하는 단계; 및 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성하는 단계;를 포함함으로써, 투명 전극 적층체 형성 공정이 보다 정밀하고 안정적으로 진행될 수 있도록 하며, 점착제 중 휘발성 성분 및 기화된 용매 성분에 의한 기재 필름의 평활도 저하 문제를 억제할 수 있는 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a flexible touch screen panel, and more particularly, bonding a gas permeable base film on a support through an adhesive layer; Heat-treating the adhesive layer to discharge the solvent component or the volatile component in the adhesive through the gas permeable base film; And forming a transparent electrode laminate on the gas permeable substrate film, thereby allowing the transparent electrode laminate formation process to proceed more precisely and stably, and using a substrate based on a volatile component and a vaporized solvent component in the adhesive. The manufacturing method of the flexible touch screen panel which can suppress the problem of the smoothness fall of a film.

Description

플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법 {Preparing method for flexible touch screen panel}Manufacturing method of flexible touch screen panel {Preparing method for flexible touch screen panel}

본 발명은 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method of manufacturing a flexible touch screen panel.

터치 스크린 패널은 영상표시장치 등의 화면에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치이다.The touch screen panel is an input device for inputting a user's command by selecting instructions displayed on a screen such as an image display device with a human hand or an object.

이를 위해, 터치 스크린 패널은 영상표시장치의 전면(front face)에 구비되어 사람의 손 또는 물체에 직접 접촉된 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다. 이에 따라, 접촉위치에서 선택된 지시 내용이 입력신호로 받아들여진다.To this end, the touch screen panel is provided on the front face of the image display device to convert a contact position in direct contact with a human hand or an object into an electrical signal. Accordingly, the instruction content selected at the contact position is received as an input signal.

이와 같은 터치 스크린 패널은 키보드 및 마우스와 같이 영상표시장치에 연결되어 동작하는 별도의 입력장치를 대체할 수 있기 때문에 그 이용범위가 점차 확장되고 있는 추세이다.Such a touch screen panel may be replaced with a separate input device that is connected to an image display device such as a keyboard and a mouse, and thus its use range is gradually expanding.

터치 스크린 패널을 구현하는 방식으로는 저항막 방식, 광감지 방식 및 정전용량 방식 등이 알려져 있으며, 이중 정전용량 방식의 터치 스크린 패널은, 사람의 손 또는 물체가 접촉될 때 도전성 센싱패턴이 주변의 다른 센싱패턴 또는 접지전극 등과 형성하는 정전용량의 변화를 감지함으로써, 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다.As a method of implementing a touch screen panel, a resistive film method, a light sensing method, and a capacitive method are known. In the dual capacitive touch screen panel, a conductive sensing pattern is applied when a human hand or an object is touched. By detecting a change in capacitance formed in another sensing pattern or ground electrode, the contact position is converted into an electrical signal.

이와 같은 터치 스크린 패널은 일반적으로 액정표시장치, 유기전계 발광 표시장치와 같은 평판표시장치의 외면에 부착되어 제품화되는 경우가 많다. 따라서, 상기 터치 스크린 패널은 높은 투명도 및 얇은 두께의 특성이 요구된다.Such a touch screen panel is generally attached to the outer surface of a flat panel display such as a liquid crystal display and an organic light emitting display, and commercialized. Therefore, the touch screen panel requires high transparency and thin thickness.

또한, 최근 들어 플렉서블한 평판표시장치가 개발되고 있는 추세이며, 이 경우 상기 플렉서블 평판표시장치 상에 부착되는 터치 스크린 패널 역시 플렉서블한 특성이 요구된다.In addition, in recent years, a flexible flat panel display has been developed. In this case, a touch screen panel attached to the flexible flat panel display is also required to have a flexible characteristic.

단, 상기 정전용량 방식의 터치 스크린 패널은 터치 센서를 구현하는 센싱패턴 등을 형성하기 위해 박막 성막, 패턴 형성 공정 등이 필요하므로, 고 내열성 및 내화학성 등의 특성이 요구된다. 이에 따라 내열성이 우수한 폴리이미드 등의 수지를 경화시켜 형성한 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성하게 된다.However, the capacitive touch screen panel requires thin film formation, a pattern forming process, and the like to form a sensing pattern for implementing a touch sensor, and thus requires characteristics such as high heat resistance and chemical resistance. Thereby, a transparent electrode laminated body is formed on the base film formed by hardening resin, such as polyimide excellent in heat resistance.

한편, 그러한 얇고 유연한 기재 필름은 쉽게 휘거나 뒤틀릴 수 있어 제조 공정 중 취급이 어려워 투명 전극 적층체를 형성하기가 어려운 문제가 있고, 이러한 문제점에 대한 대안은 아직 확립되지 않았다.On the other hand, such a thin and flexible base film has a problem that it is difficult to form a transparent electrode laminate due to the difficulty in handling during the manufacturing process because it can be easily bent or twisted, an alternative to this problem has not yet been established.

한국공개특허 제2012-133848호에는 플렉서블 터치 스크린 패널이 개시되어 있으나, 상기 문제점에 대한 대안을 제시하지 못하였다.
Korean Patent Publication No. 2012-133848 discloses a flexible touch screen panel, but has not suggested an alternative to the problem.

한국공개특허 제2012-133848호Korean Patent Publication No. 2012-133848

본 발명은 투명 전극 적층체 형성 공정이 보다 정밀하고 안정적으로 진행될 수 있도록 하는 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a flexible touch screen panel that allows the transparent electrode laminate formation process to proceed more precisely and stably.

본 발명은 점착제 중 휘발성 성분 또는 기화된 용매 성분에 의한 기재 필름의 평활도 저하를 억제할 수 있는 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
An object of this invention is to provide the manufacturing method of the flexible touch screen panel which can suppress the fall of the smoothness of the base film by the volatile component or vaporized solvent component in an adhesive.

1. 점착층을 통해 지지체 상에 기체 투과성 기재 필름을 접합하는 단계; 상기 점착층을 열처리하여 점착제 중 용매 성분 또는 휘발성 성분을 상기 기체 투과성 기재 필름을 통해 배출하는 단계; 및 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성하는 단계;를 포함하는 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.1. bonding a gas permeable base film on a support through an adhesive layer; Heat-treating the adhesive layer to discharge the solvent component or the volatile component in the adhesive through the gas permeable base film; And forming a transparent electrode laminate on the gas-permeable base film.

2. 위 1에 있어서, 상기 지지체는 유리, 석영, 실리콘 웨이퍼 또는 서스로 제조된 것인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.2. In the above 1, wherein the support is made of glass, quartz, silicon wafer or sus, manufacturing method of a flexible touch screen panel.

3. 위 1에 있어서, 상기 기체 투과성 기재필름은 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethyleneetherphthalate), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylenenaphthalate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리에테르이미드(polyetherimide), 폴리에테르술폰산(polyethersulfonate), 폴리이미드(polyimide), 폴리에테르에테르케톤(Polyethertherketone), 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate), 트리아세틸 셀룰로오스(Triacetyl Cellulose), 사이클로 올레핀 폴리머(Cyclo-olefin Polymer), 아라미드(Aramide), 에프알피(FRP), 폴리우레탄(polyurethane) 및 폴리아크릴레이트(polyacrylate)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 소재로 형성된 것인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.3. In the above 1, the gas-permeable base film is polyethylene ether phthalate, polyethylenenaphthalate, polycarbonate, polyarylate, polyetherimide, polyethersulfonic acid (polyethersulfonate), polyimide, polyetheretherketone, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, cyclo-olefin polymer, aramid, f Method of manufacturing a flexible touch screen panel, which is formed of at least one material selected from the group consisting of AlRP (FRP), polyurethane (polyurethane) and polyacrylate (polyacrylate).

4. 위 1에 있어서, 상기 기체 투과성 기재 필름은 투습계수가 1 내지 500g/m2/24hr인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.4. The method of 1 above, wherein the gas permeable base film has a water vapor transmission coefficient of 1 to 500 g / m 2 / 24hr, the method of manufacturing a flexible touch screen panel.

5. 위 1에 있어서, 상기 점착층은 지지체 또는 기체 투과성 기재 필름의 일면에 점착제 조성물을 도공하여 형성되는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.5. The method of 1 above, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is formed by coating the pressure-sensitive adhesive composition on one surface of the support or the gas-permeable base film, the method of manufacturing a flexible touch screen panel.

6. 위 5에 있어서, 상기 점착제 조성물은 용융 온도가 150 내지 400℃인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.6. In the above 5, wherein the pressure-sensitive adhesive composition has a melting temperature of 150 to 400 ℃, the method of manufacturing a flexible touch screen panel.

7. 위 1에 있어서, 상기 열처리는 점착제 조성물의 용융 온도 이하의 온도에서 수행되는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.7. In the above 1, wherein the heat treatment is carried out at a temperature below the melting temperature of the pressure-sensitive adhesive composition, a method of manufacturing a flexible touch screen panel.

8. 위 1에 있어서, 상기 열처리 이후 투명 전극 적층체를 형성하기 전에 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 내화학성 코팅층을 형성하는 단계를 더 포함하는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.8. The method of 1 above, further comprising forming a chemical resistant coating layer on the gas-permeable base film after the heat treatment before forming the transparent electrode laminate, the method of manufacturing a flexible touch screen panel.

9. 위 8에 있어서, 상기 내화학성 코팅층은 탄소수 1 내지 20의 알콕시기를 갖는 반응성 알콕시실란 화합물, 아크릴계 화합물, 불소계 화합물, 이산화규소 및 질화규소(SiNx)를 포함하는 내화학성 코팅층 형성용 조성물을 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 코팅하여 형성되는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.9. In the above 8, wherein the chemical-resistant coating layer is a composition for forming a chemical-resistant coating layer comprising a reactive alkoxysilane compound having an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, acrylic compound, fluorine compound, silicon dioxide and silicon nitride (SiN x ) A method of manufacturing a flexible touch screen panel formed by coating on a gas permeable base film.

10. 위 1에 있어서, 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성한 후에, 투명 전극 적층체가 형성된 기체 투과성 기재 필름을 점착층으로부터 박리하는 단계를 더 포함하는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.10. In the above 1, after forming the transparent electrode laminate on the gas-permeable base film, further comprising the step of peeling the gas-permeable base film on which the transparent electrode laminate is formed from the adhesive layer, the manufacture of a flexible touch screen panel Way.

11. 위 1 내지 10 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 플렉서블 터치 스크린 패널.11. Flexible touch screen panel manufactured by the method of any one of 1 to 10 above.

12. 위 11의 플렉서블 터치 스크린 패널을 포함하는 플렉서블 화상표시장치.
12. Flexible image display device including the flexible touch screen panel of 11 above.

본 발명은 기재 필름을 지지체에 접합하여 후속 공정을 수행함으로써 투명 전극 적층체 형성 공정이 보다 정밀하고 안정적으로 진행될 수 있도록 한다.The present invention allows the transparent electrode laminate formation process to proceed more precisely and stably by bonding the substrate film to the support to perform a subsequent process.

본 발명은 점착제 중 휘발성 성분 및 기화된 용매 성분에 의한 기재 필름의 평활도 저하를 억제할 수 있다.
This invention can suppress the fall of the smoothness of the base film by the volatile component and the vaporized solvent component in an adhesive.

도 1은 본 발명의 플렉서블 터치스크린 패널의 제조 방법의 일 구현예에 따른 공정 순서도를 개략적으로 나타낸 것이다.1 schematically illustrates a process flow diagram according to an embodiment of a method of manufacturing a flexible touch screen panel of the present invention.

본 발명은 점착층을 통해 지지체 상에 기체 투과성 기재 필름을 접합하는 단계; 상기 점착층을 열처리하여 점착제 중 용매 성분 또는 휘발성 성분을 상기 기체 투과성 기재 필름을 통해 배출하는 단계; 및 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성하는 단계;를 포함함으로써, 투명 전극 적층체 형성 공정이 보다 정밀하고 안정적으로 진행될 수 있도록 하며, 점착제 중 휘발성 성분 및 기화된 용매 성분에 의한 기재 필름의 평활도 저하 문제를 억제할 수 있는 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention comprises the steps of bonding the gas permeable substrate film on the support via an adhesive layer; Heat-treating the adhesive layer to discharge the solvent component or the volatile component in the adhesive through the gas permeable base film; And forming a transparent electrode laminate on the gas-permeable substrate film, thereby allowing the transparent electrode laminate formation process to proceed more precisely and stably, and using a substrate based on a volatile component and a vaporized solvent component in the adhesive. The manufacturing method of the flexible touch screen panel which can suppress the problem of the smoothness fall of a film.

터치 스크린 패널은 무게를 줄이고 휴대성을 개선하기 위해 점차 박형화되고 있는데, 이러한 터치 스크린 패널에 사용되는 기재 필름은 쉽게 휘거나 뒤틀릴 수 있어 제조 공정 중 취급이 어려울 수 있다.Touch screen panels are becoming increasingly thin in order to reduce weight and improve portability. Substrate films used in such touch screen panels can be easily bent or distorted, which can be difficult to handle during the manufacturing process.

이에 따라 본 발명의 제조 방법은 기재 필름을 지지체에 점착하여 고정시킴으로써 취급성을 향상시켜, 후속 공정인 투명 전극 적층체 형성 공정이 보다 정밀하고 안정적으로 진행될 수 있도록 한다.Accordingly, the production method of the present invention improves handling by adhering and fixing the base film to the support, so that the subsequent process of forming the transparent electrode laminate can be performed more precisely and stably.

한편, 점착층을 이루는 점착제 중 용매 성분은 투명 전극 적층체 형성을 위한 증착 공정, 열처리 공정 등의 고온 공정에 의해 기화될 수 있는데, 그러한 경우에 기포가 발생하여 기재 필름의 평활도가 저하될 수 있다. 이러한 문제는 점착제 중 휘발성 성분에 의해서도 발생할 수 있다.On the other hand, the solvent component of the pressure-sensitive adhesive layer constituting the adhesive layer may be vaporized by a high temperature process such as a deposition process, a heat treatment process for forming a transparent electrode laminate, in which case bubbles may occur to reduce the smoothness of the base film. . This problem may also be caused by volatile components in the adhesive.

그러나, 본 발명은 고온의 후속 공정 이전에 미리 점착제 중 용매 성분 또는 휘발성 성분을 배출함으로써 상기 문제점을 해결할 수 있다.
However, the present invention can solve the above problem by discharging the solvent component or the volatile component in the pressure-sensitive adhesive before the subsequent high temperature process.

도 1에는 본 발명의 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법의 일 구현예의 공정 순서도가 개략적으로 도시되어 있는데, 이하 도면을 참조하여 본 발명의 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법의 일 구현예를 그 단계별로 상세히 설명하기로 한다.1 is a process flowchart of an embodiment of a method of manufacturing a flexible touch screen panel of the present invention is schematically shown, in detail step by step an embodiment of a method of manufacturing a flexible touch screen panel of the present invention with reference to the drawings Let's explain.

먼저, 점착층(20)을 통해 지지체(10) 상에 기체 투과성 기재 필름(30)을 접합한다.First, the gas permeable base film 30 is bonded onto the support 10 through the adhesive layer 20.

지지체(10)로는 기재 필름이 공정 중에 쉽게 휘거나 뒤틀리지 않고 고정될 수 있도록 적정 강도를 제공하며 열이나 화학 처리에 영향이 거의 없는 재료라면 특별한 제한이 없이 사용될 수 있다. 예를 들면 유리, 석영, Si 웨이퍼, 서스 등이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 유리가 사용될 수 있다.The support 10 may be used without particular limitation as long as it provides a suitable strength so that the base film can be fixed without being easily bent or twisted during the process and has little influence on heat or chemical treatment. For example, glass, quartz, Si wafers, sus etc. may be used, preferably glass may be used.

기체 투과성 기재 필름(30)은 후술할 투명 전극이 형성되는 기재로서, 본 발명은 적정 강도를 갖는 지지체(10)의 일면에 기재 필름(30)을 고정하여, 기재 필름 상에 투명 전극을 형성하는 공정이 원활히 진행될 수 있도록 한다.The gas-permeable base film 30 is a substrate on which a transparent electrode to be described later is formed, and the present invention fixes the base film 30 to one surface of the support 10 having appropriate strength to form a transparent electrode on the base film. Make sure the process goes smoothly.

기체 투과성 기재 필름(30)은 필름 시트 또는 롤 투 롤(Roll to Roll)의 형태로 공정에 제공될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 기체 투과성 기재 필름(30)은 적어도 일면에 보호필름(미도시)이 부착된 상태로 공정에 제공될 수 있다. 그러한 경우 지지체(10)와의 접합시에는 보호필름(미도시)은 제거하고 접합하게 된다.The gas permeable base film 30 may be provided to the process in the form of a film sheet or roll to roll, but is not limited thereto. In addition, the gas-permeable base film 30 may be provided to the process with a protective film (not shown) attached to at least one surface. In such a case, when bonding to the support 10, the protective film (not shown) is removed and bonded.

기체 투과성 기재 필름(30)은 후술할 열처리 공정, 투명 전극 적층체 형성 공정 등의 고온 공정에 견딜 수 있도록 내열성이 뛰어나고, 점착제 중 휘발성 성분 및 기화된 용매 성분이 투과할 수 있도록 기체 투과성을 가진 것이라면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethylene ether phthalate),폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylenenaphthalate), 폴리카보네이트(polycarbonate),폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리에테르이미드(polyetherimide),폴리에테르술폰산(polyethersulfonate), 폴리이미드(polyimide), 폴리에테르에테르케톤(Polyethertherketone), 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate), 트리아세틸 셀룰로오스(Triacetyl Cellulose), 사이클로 올레핀 폴리머(Cyclo-olefin Polymer), 아라미드(Aramide), 에프알피(FRP), 폴리우레탄(polyurethane), 폴리아크릴레이트(polyacrylate) 등으로 제조된 필름일 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The gas permeable base film 30 is excellent in heat resistance to withstand high temperature processes such as a heat treatment process and a transparent electrode laminate forming process to be described later, and has gas permeability so that the volatile component and the vaporized solvent component of the adhesive can permeate. Not particularly limited, for example, polyethylene ether phthalate, polyethylenenaphthalate, polycarbonate, polyarylate, polyetherimide, polyethersulfonate ), Polyimide, polyetheretherketone, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, cyclo-olefin polymer, aramid, and arp FRP), polyurethane, polyacrylate acrylate) or the like. These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

기체 투과성 기재 필름(30)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 1 내지 150㎛일 수 있다.The thickness of the gas permeable base film 30 is not particularly limited, and may be, for example, 1 to 150 μm.

기체 투과성 기재 필름(30)의 투습 계수(Water Vapor Transmission Rate)는 점착제 중 휘발성 성분 또는 후술할 공정에 따라 기화된 용매 성분이 이를 투과할 수 있으면서, 충분한 내구성을 가질 수 있는 범위 내라면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 1 내지 500g/m2/24hr일 수 있다. 투습계수가 상기 범위 내인 경우, 휘발성 성분 또는 기화된 점착제 중 용매 성분이 이를 투과할 수 있으면서, 기재 필름이 충분한 내열성 및 내구성을 가질 수 있다.The water vapor transmission rate of the gas permeable base film 30 is not particularly limited as long as the volatile component in the pressure sensitive adhesive or the solvent component vaporized according to the process described later can pass therethrough and have sufficient durability. not, for example, from 1 to 500g / m 2 / 24hr. When the water vapor transmission coefficient is within the above range, the solvent component in the volatile component or the vaporized pressure sensitive adhesive can penetrate it, and the base film may have sufficient heat resistance and durability.

점착층(20)은 상기 지지체(10) 또는 기체 투과성 기재 필름(30)의 일면에 점착제 조성물을 도공하여 형성될 수 있다.The adhesive layer 20 may be formed by coating the adhesive composition on one surface of the support 10 or the gas-permeable base film 30.

점착제 조성물을 도공하는 방법으로는 당 분야에서 통상적으로 사용되는 방법이 제한 없이 적용될 수 있다. 예를 들면, 푸어링, 스핀 코팅, 스프레이 코팅, 딥 코팅, 드롭핑, 롤 코팅, 그라비아 코팅 등의 방법이 적용될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.As a method of coating the pressure-sensitive adhesive composition, a method commonly used in the art may be applied without limitation. For example, a method of pouring, spin coating, spray coating, dip coating, dropping, roll coating, gravure coating, and the like may be applied, but is not limited thereto.

또는, 점착층(20)은 양면에 이형필름(40)이 부착된 점착시트 또는 롤 투 롤(Roll to Roll) 방식으로 공정에 제공될 수도 있다.Alternatively, the adhesive layer 20 may be provided to the process by a pressure-sensitive adhesive sheet or a roll to roll method in which the release film 40 is attached to both surfaces.

점착제 중 용매 성분의 기화를 최소화하기 위해 점착제 조성물은 용융 온도(Tm)가 높은 것이 바람직하고, 예를 들면 150 내지 400℃일 수 있고, 바람직하게는 200 내지 350℃일 수 있다. 점착제 조성물의 용융 온도가 150 내지 400℃인 경우 용매 성분의 기화를 최소화 할 수 있다. 점착제 조성물의 용융 온도가 150℃ 미만인 경우에는, 형성된 점착층이 후술할 고온 공정에서 용융되어 투명 전극 적층체의 형성이 어려울 수 있다.In order to minimize vaporization of the solvent component in the pressure-sensitive adhesive, the pressure-sensitive adhesive composition preferably has a high melting temperature (Tm), for example, may be 150 to 400 ° C, and preferably 200 to 350 ° C. When the melting temperature of the pressure-sensitive adhesive composition is 150 to 400 ℃ can be minimized vaporization of the solvent component. In the case where the melting temperature of the pressure-sensitive adhesive composition is less than 150 ° C, the formed pressure-sensitive adhesive layer may be melted in a high temperature process to be described later to form a transparent electrode laminate.

본 발명에 따른 점착제 조성물은 상기 조건을 만족하는 것이라면 특별히 한정되지 않고 당 분야에서 통상적으로 사용되는 폴리아크릴산 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스터 수지, 에폭시 수지, 실록산 수지 등을 포함하는 점착제 조성물을 사용할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions, and may be a pressure-sensitive adhesive composition containing a polyacrylic acid resin, a polyurethane resin, a polyester resin, an epoxy resin, a siloxane resin, and the like commonly used in the art. have.

이후에, 상기 점착층(20)을 열처리하여 점착제 중 용매 성분 또는 휘발성 성분을 상기 기체 투과성 기재 필름을 통해 배출시킨다.Thereafter, the pressure-sensitive adhesive layer 20 is heat-treated to discharge the solvent component or the volatile component in the pressure sensitive adhesive through the gas permeable base film.

점착층(20)을 이루는 점착제 중 용매 성분은 후술할 투명 전극 적층체 형성을 위한 증착 공정, 열처리 공정 등의 고온 공정에 의해 기화될 수 있는데, 그러한 경우에 기포가 발생하여 기재 필름의 평활도가 저하될 수 있다. 또한, 점착제 중 휘발성 성분에 의해서도 상기 문제가 발생할 수 있다.The solvent component of the pressure-sensitive adhesive constituting the adhesive layer 20 may be vaporized by a high temperature process such as a deposition process and a heat treatment process for forming a transparent electrode laminate, which will be described later. In such a case, bubbles are generated to reduce the smoothness of the base film. Can be. In addition, the above problems may also occur due to volatile components in the pressure-sensitive adhesive.

그러나 본 발명의 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법은 투명 전극 적층체의 형성 전에 미리 용매 성분 또는 휘발성 성분을 배출함으로써 상기 문제점을 해결할 수 있다. 휘발성 성분 또는 기화된 용매 성분은 기체 투과성 기재 필름(30)을 투과하여 공기 중으로 배출된다.However, the manufacturing method of the flexible touch screen panel of the present invention can solve the above problems by discharging the solvent component or the volatile component in advance before forming the transparent electrode laminate. The volatile component or vaporized solvent component penetrates the gas permeable base film 30 and is discharged into the air.

열처리 온도 및 시간은 특별히 한정되지 않고 점착제 중 용매 성분이 충분히 기화될 수 있으면서 지지체(10) 및 기재 필름(30)에 손상을 주지 않는 범위 내에서 적절히 선택될 수 있으며, 예를 들면 상기 점착제 조성물의 용융 온도 이하의 온도에서 수행될 수 있고, 구체적으로 용융 온도보다 20℃ 낮은 온도에서 1 내지 400분간 수행될 수 있다.The heat treatment temperature and time is not particularly limited and may be appropriately selected within a range that does not damage the support 10 and the base film 30 while the solvent component in the pressure sensitive adhesive can be sufficiently vaporized, for example, It may be carried out at a temperature below the melting temperature, specifically 1 to 400 minutes at a temperature lower than the melting temperature 20 ℃.

열처리 단계는 점착제 중 용매 성분이 충분히 기화하기 위해 필요한 열에너지를 공급할 수 있도록, 바로 고온에서 수행되거나, 단계별로 수행되거나, 온도를 변화시키며 수행될 수도 있다. 승온 온도, 각 단계별 수행 시간 등은 적절히 선택될 수 있다.The heat treatment step may be performed directly at a high temperature, may be performed step by step, or varying the temperature so that the solvent component in the pressure-sensitive adhesive can supply the heat energy necessary to sufficiently vaporize. The elevated temperature, the execution time of each step, and the like may be appropriately selected.

본 발명은 상기 열처리를 수행하고 투명 전극 적층체를 형성하기 전에 기체 투과성 기재 필름(30) 상에 내화학성 코팅층(미도시)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.The present invention may further include forming a chemical resistant coating layer (not shown) on the gas permeable base film 30 before performing the heat treatment and forming the transparent electrode laminate.

기체 투과성 기재 필름(30)은 후속 공정 중에 다수의 약액에 노출되는데, 내화학성 코팅층을 형성함으로써 약액에 의한 손상을 억제할 수 있다.The gas permeable base film 30 is exposed to a plurality of chemical liquids during the subsequent process, and damage to the chemical liquid can be suppressed by forming a chemical resistant coating layer.

내화학성 코팅층은 당 분야에 통상적으로 사용되는 내화학성 코팅층 형성용 조성물을 푸어링, 스핀 코팅, 스프레이 코팅, 딥 코팅, 드롭핑, 롤 코팅, 그라비아 코팅 등의 방법으로 상기 기체 투과성 기재 필름(30) 상에 도포하여 형성하거나 화학기상증착법, 물리기상증착법, 스퍼터링법 등으로 직접 내화학 층을 성막할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Chemical resistant coating layer is the gas-permeable substrate film 30 by a method such as pouring, spin coating, spray coating, dip coating, dropping, roll coating, gravure coating, etc. The chemical resistant layer may be formed by coating on or directly deposited on the chemical layer by chemical vapor deposition, physical vapor deposition, sputtering, etc., but is not limited thereto.

내화학성 코팅층 형성용 조성물은 탄소수 1 내지 20의 알콕시기를 갖는 반응성 알콕시실란 화합물, 아크릴계 화합물, 불소계 화합물 등으로 이루어진 유기물; 이산화규소(SiO2), 질화 규소(SiNx) 등으로 이루어진 무기물; 유무기하이브리드물 등을 포함하는 것일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.The composition for forming a chemical-resistant coating layer is an organic material composed of a reactive alkoxysilane compound having an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an acrylic compound, a fluorine compound, or the like; Inorganic material consisting of silicon dioxide (SiO 2 ), silicon nitride (SiNx), or the like; It may include an organic-inorganic hybrid, but is not limited thereto.

이후에 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 투명 전극 적층체(50)를 형성한다.Thereafter, the transparent electrode laminate 50 is formed on the gas permeable base film.

투명 전극 적층체(50)를 형성하는 방법은 당 분야에 공지된 다양한 방법을 제한 없이 사용할 수 있다.The method of forming the transparent electrode stack 50 may use any method known in the art without limitation.

투명 전극 적층체(50)는 구체적인 용도에 따라서 다양한 구조로 형성될 수 있으며, 예를 들면 터치되는 지점의 위치 정보를 제공하는 제1 투명전극층과 제2 투명전극층, 상기 제1 투명전극층과 제2 투명전극층 사이에 개재되어 두 층을 전기적으로 분리시키는 절연층, 절연층에 형성되어 제1 투명전극층과 제2 투명전극층이 전기적으로 연결될 수 있도록 하는 콘택홀 등을 포함할 수 있다.The transparent electrode stack 50 may be formed in various structures according to a specific use, and may include, for example, a first transparent electrode layer and a second transparent electrode layer, and the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer providing position information of a touched point. An insulating layer interposed between the transparent electrode layers to electrically separate the two layers, and a contact hole formed in the insulating layer to electrically connect the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer may be included.

본 발명의 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법은 상기 단계 이후에 투명 전극 적층체(50)가 형성된 기체 투과성 기재 필름(30)을 점착층(20)으로부터 박리하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method of manufacturing the flexible touch screen panel of the present invention may further include peeling the gas-permeable base film 30 on which the transparent electrode laminate 50 is formed from the adhesive layer 20 after the above step.

상기 박리 공정은 점착층(20)에 레이저를 조사하여 수행되거나, 비-레이저 공정, 예를 들면 기체 투과성 기재 필름(30)과 지지체(10)를 각각 지그에 물려 물리적 힘으로 분리하는 공정 또는 Air 투입에 의한 공정 또는 온도 변화에 의한 UV조사에 의한 공정으로 수행될 수 있다. 바람직하게는 비-레이저 공정을 사용할 수 있다.The peeling process is performed by irradiating a laser to the adhesive layer 20, or a non-laser process, for example, a process of separating the gas-permeable base film 30 and the support 10 from the jig by physical force, or by air. It may be carried out by a process by the input or a process by UV irradiation by the temperature change. Preferably a non-laser process can be used.

투명 전극 적층체(50)가 형성된 기체 투과성 기재 필름(30)은 디스플레이 패널부와 결합되어 터치 스크린 패널로서 사용될 수 있다.The gas-permeable base film 30 on which the transparent electrode laminate 50 is formed may be combined with the display panel unit to be used as a touch screen panel.

또한, 본 발명은 상기 플렉서블 터치 스크린 패널을 포함하는 화상표시장치를 제공한다.In addition, the present invention provides an image display device including the flexible touch screen panel.

본 발명의 화상표시장치는 플렉서블 화상표시장치에 통상적으로 사용되는 구성을 더 포함할 수 있다.The image display apparatus of the present invention may further include a configuration conventionally used for the flexible image display apparatus.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.
Hereinafter, preferred examples are provided to help understanding of the present invention, but these examples are only for exemplifying the present invention, and do not limit the appended claims, but are within the scope and spirit of the present invention. It is apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made to the present invention, and such modifications and changes belong to the appended claims.

제조예Production Example

(1) 점착시트의 제조(1) Preparation of adhesive sheet

도데실 아크릴레이트 45중량부, 메틸아크릴레이트 45중량부, 아크릴산 5중량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 5중량부 및 Perbutyl ND(일본유지사) 0.2중량부를 혼합하였다. 이후에 에틸아세테이트 230중량부를 첨가하고 55℃에서 4시간 동안 교반하여 점착제 조성물을 제조하였다. 중합된 수지의 중량평균분자량은 700,000이고, 점착제 조성물의 용융 온도는 350℃였다.45 parts by weight of dodecyl acrylate, 45 parts by weight of methyl acrylate, 5 parts by weight of acrylic acid, 5 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, and 0.2 parts by weight of Perbutyl ND (Japan oil company) were mixed. Thereafter, 230 parts by weight of ethyl acetate was added, and stirred at 55 ° C. for 4 hours to prepare an adhesive composition. The weight average molecular weight of polymerized resin was 700,000, and the melting temperature of the adhesive composition was 350 degreeC.

상기 점착제 조성물을 PET 이형필름 상에 도포하고 120℃에서 20분간 건조하여 점착시트를 제조하였다.
The pressure-sensitive adhesive composition was applied on a PET release film and dried at 120 ° C. for 20 minutes to prepare a pressure-sensitive adhesive sheet.

(2) 점착시트의 제조(2) Preparation of adhesive sheet

실리콘 점착제로 7657(다우코닝사) 60중량부, 실리콘 이형제로 7226(다우코닝사) 40중량부, 가교제로 7367(다우코닝사) 2중량부, 백금촉매 1중량부 및 앵커리지 에이전트로 9250(다우코닝사) 2중량부를 첨가하여 실리콘계 점착제 조성물을 제조하였다. 제조된 점착제 조성물의 용융 온도는 180℃였다.60 parts by weight of 7657 (Dow Corning) with silicone adhesive, 40 parts by weight of 7226 (Dow Corning) with silicone release agent, 2 parts by weight of 7367 (Dow Corning) with crosslinking agent, 1 part by weight of platinum catalyst and 9250 (Dow Corning) with anchorage agent 2 By weight part was added to prepare a silicone pressure-sensitive adhesive composition. Melting temperature of the prepared pressure-sensitive adhesive composition was 180 ℃.

상기 점착제 조성물을 PET 이형필름 상에 도포하고 100℃에서 20분간 건조하여 점착 시트를 제조하였다.
The pressure-sensitive adhesive composition was applied on a PET release film and dried at 100 ° C. for 20 minutes to prepare a pressure-sensitive adhesive sheet.

실시예Example 1 One

두께 500㎛의 액정 디스플레이용 글라스(EAGLE XG, 삼성코닝정밀소재사) 상에 상기 제조예 (1)의 점착 시트를 부착하여 점착층을 형성하고, 점착층 상에 두께 25㎛의 기체 투과성 기재 필름 시트(Kapton Type HN Film, 듀폰사)를 부착함으로써 기체 투과성 기재 필름을 접합하였다.A pressure-sensitive adhesive layer was formed by attaching the pressure-sensitive adhesive sheet of Preparation Example (1) on a liquid crystal display glass (EAGLE XG, Samsung Corning Precision Materials Co., Ltd.) having a thickness of 500 μm, and a gas-permeable base film sheet having a thickness of 25 μm on the pressure-sensitive adhesive layer. (Kapton Type HN Film, DuPont) was attached to the gas permeable base film.

상기 접합체를 150℃ 열풍건조 오븐에서 60분간 열처리하여, 점착제 중 휘발성 성분과 기화된 용매 성분을 배출시켰다.The conjugate was heat-treated in a 150 ° C. hot air drying oven for 60 minutes to discharge volatile components and vaporized solvent components from the pressure-sensitive adhesive.

이후에 반응성 에톡시실란 화합물을 포함하는 내화학성 코팅층 형성용 조성물을 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 코팅하여 내화학성 코팅층을 형성하였다.Thereafter, a composition for forming a chemical resistant coating layer including a reactive ethoxysilane compound was coated on the gas permeable base film to form a chemical resistant coating layer.

다음으로, 내화학성 코팅층이 형성된 기재 필름 상에 ITO를 스퍼터링법에 의해 두께 500Å으로 성막하여 투명 전극 적층체를 형성하였다.Next, ITO was formed into a film by 500 micrometers on the base film with a chemical-resistant coating layer by sputtering method, and the transparent electrode laminated body was formed.

이후에, 투명 전극 적층체가 형성된 기체 투과성 기재 필름을 180도 방향에서 30m/분의 속도로 잡아당겨서 점착층으로부터 박리하였다.
Thereafter, the gas-permeable base film on which the transparent electrode laminate was formed was pulled at a speed of 30 m / min in the 180 degree direction and peeled from the adhesion layer.

실시예Example 2 2

제조예 (2)의 점착 시트를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
It carried out by the same method as Example 1 except having used the adhesive sheet of manufacture example (2).

실시예Example 3 3

두께 100㎛의 기체 투과성 기재 필름 시트(SUMILITE FS-1300, 스미토모베이크라이트사)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
A gas permeable base film sheet (SUMILITE FS-1300, Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm was used in the same manner as in Example 1.

실시예Example 4 4

두께 250㎛의 기체 투과성 기재 필름 시트(ZEONOR 1020R, 제온사)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
The same method as in Example 1 was carried out except that a gas-permeable base film sheet (ZEONOR 1020R, Xeon Co., Ltd.) having a thickness of 250 μm was used.

실시예Example 5 5

두께 500㎛의 기체 투과성 기재 필름 시트(Estane 58237 TPU, 루브리졸사)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
A gas permeable base film sheet (Estane 58237 TPU, Lubrizol) having a thickness of 500 μm was used in the same manner as in Example 1.

실시예Example 6 6

내화학성 코팅층을 형성하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
The same process as in Example 1 was conducted except that no chemical resistant coating layer was formed.

비교예Comparative example

기체 투과성 기재 필름 대신에 기체 비투과성 기재 필름(moisture Barrier Films FG100, 마테리온사)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
It carried out in the same manner as in Example 1 except that a gas-impermeable base film (moisture Barrier Films FG100, Matterion) was used instead of the gas-permeable base film.

실험예Experimental Example

(1) (One) 투습계수Moisture permeability coefficient (( WVTRWVTR , , WaterWater VaporVapor TransmissionTransmission RateRate ) 측정) Measure

실시예 및 비교예에서 사용된 기재필름의 투습계수를 ASTM E96-95-Procedure BW에 의거하여 측정하였다.
The water vapor transmission coefficient of the base film used in the Example and the comparative example was measured based on ASTM E96-95-Procedure BW.

(2) 평활도 평가(2) smoothness evaluation

실시예 및 비교예의 투명 전극 적층체에 대하여 균일 성막 여부를 육안으로 관찰하고, 면저항의 면내 균일성을 측정하여, 하기 기준에 따라 평활도를 평가하였다. The transparent electrode laminates of Examples and Comparative Examples were visually observed for uniform film formation, the in-plane uniformity of sheet resistance was measured, and smoothness was evaluated according to the following criteria.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

◎: 균일하게 성막되어 있고, 면저항의 변화율이 10% 이내(Double-circle): It is formed into a film uniformly, and the change rate of sheet resistance is less than 10%.

○: 균일하게 성막되어 있고, 면저항의 변화율이 20% 이내(Circle): It is formed uniformly and the change rate of sheet resistance is less than 20%.

△: 균일하게 성막되어 있으나, 면저항의 변화율이 20%를 초과(Triangle | delta): Although it forms uniformly, the change rate of sheet resistance exceeds 20%.

X: 기재필름의 들뜸이 발생하여, 투명 전극 적층체가 균일하게 성막되어 있지 않음
X: Lifting of the base film occurs, and the transparent electrode laminated body is not formed uniformly.

(3) 내화학성 평가(3) chemical resistance evaluation

실시예 및 비교예의 적층체를 20℃의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 및 5% 수산화칼륨(KOH) 수용액에 각각 10분간 침지하였다. 10분 후에 건져 내어 탈이온수로 세정하고 실온에서 5분간 건조시켰다.The laminated body of the Example and the comparative example was immersed in 20 degreeC propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) and 5% potassium hydroxide (KOH) aqueous solution, respectively for 10 minutes. After 10 minutes, it was taken out, washed with deionized water and dried at room temperature for 5 minutes.

이후에 기재 필름의 표면을 육안으로 관찰하여 하기 기준에 따라 내화학성을 평가하였다.Thereafter, the surface of the base film was visually observed to evaluate chemical resistance according to the following criteria.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

◎: 기재 필름 표면이 깨끗하고 손상된 부분이 전혀 관찰되지 않음◎: The base film surface is clean and no damage is observed at all

○: 기재 필름 표면이 깨끗하나 미약하게 손상된 부분이 관찰됨(Circle): The surface of a base film is clean, but a weakly damaged part is observed.

△: 기재 필름이 노랗게 변색되거나 수축됨(Triangle | delta): Yellowish discoloration or contraction of a base film

X: 기재 필름이 약액에 의해 하얗게 변색되거나 손상됨
X: base film discolored or damaged by chemical

구분division 투습계수
(g/m2/24hr)Moisture permeability
(g / m 2 / 24hr) 평활도Smoothness 내화학성 평가Chemical resistance evaluation PGMEAPGMEA KOHKOH 실시예 1Example 1 5050 ◎◎ ◎◎ ◎◎ 실시예 2Example 2 5050 ◎◎ ◎◎ ◎◎ 실시예 3Example 3 120120 ◎◎ ◎◎ ◎◎ 실시예 4Example 4 0.50.5 ○○ ◎◎ ◎◎ 실시예 5Example 5 600600 ○○ ◎◎ ◎◎ 실시예 6Example 6 5050 ◎◎ ○○ ○○ 비교예Comparative example 0.050.05 XX ◎◎ ◎◎

상기 표 1을 참고하면, 실시예 1 내지 3의 적층체의 경우는 평활도와 기재 필름의 내화학성이 매우 우수하였다.Referring to Table 1, in the case of the laminate of Examples 1 to 3, the smoothness and the chemical resistance of the base film were very excellent.

기재 필름의 투습계수가 낮은 실시예 4 및 투습계수가 높은 실시예 5의 경우는 평활도가 다소 저하되었으나, 여전히 우수한 성능을 나타내었다.In the case of Example 4 having a low water vapor transmission coefficient and Example 5 having a high water vapor transmission coefficient of the base film, the smoothness was slightly reduced, but still showed excellent performance.

내화학성 코팅층을 형성하지 않은 실시예 6의 적층체는 내화학성이 다소 저하되었으나 여전히 우수하였고, 매우 우수한 평활도를 나타냈다.The laminate of Example 6, which did not form a chemical resistant coating layer, was slightly degraded in chemical resistance but was still excellent and exhibited very good smoothness.

그러나 비교예의 적층체는 점착제 중 휘발성 성분 및 ITO 성막 공정 중에 기화된 용매 성분에 의해 기포가 발생하여, 기재 필름의 평활도가 불량하였다.
However, in the laminated body of a comparative example, air bubbles generate | occur | produced by the volatile component in an adhesive and the solvent component vaporized during the ITO film-forming process, and the smoothness of the base film was bad.

10: 지지체, 20: 점착층,
30: 기체 투과성 기재 필름, 40: 이형필름
50: 투명 전극 적층체10: support, 20: adhesive layer,
30: gas permeable base film, 40: release film
50: transparent electrode laminate

Claims (12)

점착층을 통해 지지체 상에 기체 투과성 기재 필름을 접합하는 단계;
상기 점착층을 열처리하여 점착제 중 용매 성분 또는 휘발성 성분을 상기 기체 투과성 기재 필름을 통해 배출하는 단계; 및
상기 열처리 후, 상기 기체 투과성 기재 필름의 상기 점착층이 형성된 면의 반대 면 상에 투명 전극 적층체를 형성하는 단계;
를 포함하는 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
Bonding the gas permeable substrate film onto the support via an adhesive layer;
Heat-treating the adhesive layer to discharge the solvent component or the volatile component in the adhesive through the gas permeable base film; And
After the heat treatment, forming a transparent electrode laminate on a surface opposite to a surface on which the pressure-sensitive adhesive layer of the gas permeable substrate film is formed;
Method of manufacturing a flexible touch screen panel comprising a.
청구항 1에 있어서, 상기 지지체는 유리, 석영, 실리콘 웨이퍼 또는 서스로 제조된 것인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the support is made of glass, quartz, silicon wafer, or sus.
청구항 1에 있어서, 상기 기체 투과성 기재필름은 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethyleneetherphthalate), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylenenaphthalate), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리에테르이미드(polyetherimide), 폴리에테르술폰산(polyethersulfonate), 폴리이미드(polyimide), 폴리에테르에테르케톤(Polyethertherketone), 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate), 트리아세틸 셀룰로오스(Triacetyl Cellulose), 사이클로 올레핀 폴리머(Cyclo-olefin Polymer), 아라미드(Aramide), 에프알피(FRP), 폴리우레탄(polyurethane) 및 폴리아크릴레이트(polyacrylate)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 소재로 형성된 것인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the gas-permeable base film is polyethylene ether phthalate, polyethylenenaphthalate, polycarbonate, polyarylate, polyetherimide, polyethersulfonate ), Polyimide, polyetheretherketone, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, cyclo-olefin polymer, aramid, and arp FRP), polyurethane (polyurethane) and polyacrylate (polyacrylate) is formed of at least one material selected from the group consisting of, a method for manufacturing a flexible touch screen panel.
청구항 1에 있어서, 상기 기체 투과성 기재 필름은 투습계수가 1 내지 500g/m2/24hr인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The method according to claim 1, wherein the gas-permeable base film has moisture permeability coefficient of 1 to 500g / m 2 / 24hr a method of producing a flexible touch screen panel.
청구항 1에 있어서, 상기 점착층은 지지체 또는 기체 투과성 기재 필름의 일면에 점착제 조성물을 도공하여 형성되는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the adhesive layer is formed by coating an adhesive composition on one surface of a support or a gas permeable base film.
청구항 5에 있어서, 상기 점착제 조성물은 용융 온도가 150 내지 400℃인, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The method of claim 5, wherein the pressure-sensitive adhesive composition has a melting temperature of 150 to 400 ° C. 7.
청구항 1에 있어서, 상기 열처리는 점착제 조성물의 용융 온도 이하의 온도에서 수행되는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the heat treatment is performed at a temperature below a melting temperature of the pressure-sensitive adhesive composition.
청구항 1에 있어서, 상기 열처리 이후 투명 전극 적층체를 형성하기 전에 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 내화학성 코팅층을 형성하는 단계를 더 포함하는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The method of claim 1, further comprising forming a chemical-resistant coating layer on the gas permeable base film after the heat treatment and before forming the transparent electrode laminate.
청구항 8에 있어서, 상기 내화학성 코팅층은 탄소수 1 내지 20의 알콕시기를 갖는 반응성 알콕시실란 화합물, 아크릴계 화합물, 불소계 화합물, 이산화규소 및 질화규소(SiNx)를 포함하는 내화학성 코팅층 형성용 조성물을 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 코팅하여 형성되는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The method of claim 8, wherein the chemical resistance coating layer has a composition for forming a chemical-resistant coating layer comprising a reactive alkoxysilane compound, an acrylic compound, a fluorine compound, silicon dioxide and silicon nitride (SiN x ) having an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms A method of manufacturing a flexible touch screen panel, formed by coating on a base film.
청구항 1에 있어서, 상기 기체 투과성 기재 필름 상에 투명 전극 적층체를 형성한 후에, 투명 전극 적층체가 형성된 기체 투과성 기재 필름을 점착층으로부터 박리하는 단계를 더 포함하는, 플렉서블 터치 스크린 패널의 제조 방법.
The method of manufacturing a flexible touch screen panel according to claim 1, further comprising, after forming the transparent electrode laminate on the gas permeable substrate film, peeling off the gas permeable substrate film on which the transparent electrode laminate is formed.
청구항 1 내지 10 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 플렉서블 터치 스크린 패널.
Flexible touch screen panel manufactured by the method of any one of claims 1 to 10.
청구항 11의 플렉서블 터치 스크린 패널을 포함하는 플렉서블 화상표시장치.A flexible image display device comprising the flexible touch screen panel of claim 11.
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