KR101865686B1 - Method and manufacturing apparatus for film touch sensor - Google Patents

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박용수
류한섭
윤억근
천재학
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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

본 발명은 필름 터치 센서 제조 방법 및 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 이송되는 기판 상에 형성된 적층체에 압력을 가하여 적층체의 단부에서 소정의 거리로 이격된 부분에 이송 방향에 수직인 방향으로 일정한 지지력이 유지되도록 하는 단계; 및 위 지지력이 유지된 상태에서 적층체의 단부에 힘을 가하여 기판에서 적층체를 박리하는 단계를 포함함으로써 박막형 터치 센서 제조 시 크랙의 발생을 현저히 감소시킬 수 있고 내구성을 개선시킬 수 있는 필름 터치 센서 제조 방법과 이 방법이 구현된 필름 터치 센서 제조 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a film touch sensor, and more particularly, to a method and apparatus for manufacturing a film touch sensor in which a pressure is applied to a laminate formed on a substrate to be transferred, Maintaining a constant bearing capacity; And applying a force to an end portion of the laminate in a state where the stomatometric holding force is maintained to peel off the laminate from the substrate, thereby making it possible to significantly reduce occurrence of cracks in the manufacture of the thin film touch sensor and to improve durability. And a film touch sensor manufacturing apparatus in which the method is implemented.

Description

필름 터치 센서 제조 방법 및 제조 장치{METHOD AND MANUFACTURING APPARATUS FOR FILM TOUCH SENSOR}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a film touch sensor manufacturing method,

본 발명은 크랙 발생을 억제할 수 있는 필름 터치 센서 제조 방법 및 제조 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a film touch sensor capable of suppressing the occurrence of cracks.

터치 스크린 패널은 영상표시장치 등의 화면에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치이다.The touch screen panel is an input device that allows a user to input a command by selecting an instruction displayed on a screen of a video display device or the like as a human hand or an object.

이를 위해, 터치 스크린 패널은 영상표시장치의 전면(front face)에 구비되어 사람의 손 또는 물체에 직접 접촉된 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다. 이에 따라, 접촉위치에서 선택된 지시 내용이 입력신호로 받아들여진다.To this end, the touch screen panel is provided on the front face of the image display device and converts the contact position, which is in direct contact with a human hand or an object, into an electrical signal. Thus, the instruction content selected at the contact position is accepted as the input signal.

이와 같은 터치 스크린 패널은 키보드 및 마우스와 같이 영상표시장치에 연결되어 동작하는 별도의 입력장치를 대체할 수 있기 때문에 그 이용 범위가 점차 확장되고 있는 추세이다.Such a touch screen panel can be replaced with a separate input device connected to the image display device such as a keyboard and a mouse, and thus the use range thereof is gradually expanding.

터치 스크린 패널을 구현하는 방식으로는 저항막 방식, 광감지 방식 및 정전용량 방식 등이 알려져 있으며, 이중 정전용량 방식의 터치스크린 패널은, 사람의 손 또는 물체가 접촉될 때 도전성 센싱패턴이 주변의 다른 센싱패턴 또는 접지전극 등과 형성하는 정전용량의 변화를 감지함으로써, 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다.The touch screen panel is known as a resistive film type, a light sensing type, and a capacitive type. Among the capacitive touch screen panels, a conductive sensing pattern is formed when a human hand or an object is contacted, The contact position is converted into an electrical signal by detecting a change in capacitance formed with another sensing pattern or a ground electrode or the like.

이와 같은 터치 스크린 패널은 일반적으로 액정표시장치, 유기전계 발광 표시장치와 같은 평판표시장치의 외면에 부착되어 제품화되는 경우가 많다. 따라서, 상기 터치스크린 패널은 높은 투명도 및 얇은 두께의 특성이 요구된다.Such a touch screen panel is generally attached to the outer surface of a flat panel display device such as a liquid crystal display device or an organic light emitting display device and is often commercialized. Therefore, the touch screen panel requires high transparency and thin thickness characteristics.

또한, 최근 들어 플렉서블 평판표시장치가 개발되고 있는 추세이며, 이 경우 상기 플렉서블 평판표시장치 상에 부착되는 터치스크린 패널 역시 플렉서블한 특성이 요구된다.In recent years, flexible flat panel display devices have been developed, and in this case, the touch screen panel attached to the flexible flat panel display device is also required to have a flexible characteristic.

한편, 상기 정전용량 방식의 터치스크린 패널은 터치 센서를 구현하는 센싱패턴 등을 형성하기 위해 박막 성막, 패턴 형성 공정 등이 필요하므로, 고내열성 및 내화학성 등의 특성이 요구된다. 이에 따라 내열성이 우수한 폴리이미드 등의 수지를 경화시켜 형성한 기판 상에 투명 전극을 형성하게 된다.On the other hand, the capacitive touch screen panel requires a thin film formation process, a pattern formation process, and the like in order to form a sensing pattern for realizing a touch sensor. Therefore, the touch screen panel requires high heat resistance and chemical resistance. Thus, a transparent electrode is formed on a substrate formed by curing a resin such as polyimide excellent in heat resistance.

한편, 플렉서블 터치스크린 패널은 얇고 유연한 기판을 사용해야 하는데, 그러한 플렉서블 기판에 투명 전극을 형성하기가 어려운 문제가 있다. 이에 대한 대안으로 지지체에 수지를 코팅하여 수지 코팅층 상에 투명 전극을 형성하고, 수지 코팅층을 지지체로부터 박리하는 방법이 제시되었으나, 경화된 수지의 박리가 용이하지 않은 문제가 있다.On the other hand, the flexible touch screen panel is required to use a thin and flexible substrate, and it is difficult to form a transparent electrode on such a flexible substrate. As an alternative thereto, there has been proposed a method of coating a resin on a support to form a transparent electrode on the resin coating layer, and peeling the resin coating layer from the support. However, there is a problem that peeling of the cured resin is not easy.

한국공개특허 제2012-133848호에는 플렉서블 터치스크린 패널이 개시되어 있으나, 상기 문제점에 대한 대안을 제시하지 못하였다.
Korean Patent Laid-Open Publication No. 2012-133848 discloses a flexible touch screen panel, but fails to provide an alternative to the above problem.

한국공개특허 제2012-133848호Korea Patent Publication No. 2012-133848

본 발명은 크랙 발생을 억제할 수 있는 필름 터치 센서 제조 방법 및 제조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a method and an apparatus for manufacturing a film touch sensor capable of suppressing the occurrence of cracks.

또한, 본 발명은 연속적인 필름 터치 센서 제조가 가능하여 공정 효율을 개선할 수 있는 필름 터치 센서 제조 방법 및 제조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
It is another object of the present invention to provide a method and an apparatus for manufacturing a film touch sensor capable of manufacturing continuous film touch sensors and improving process efficiency.

1. 이송되는 기판 상에 형성된 적층체에 압력을 가하여 상기 적층체의 단부에서 소정의 거리로 이격된 부분에 상기 이송 방향에 수직인 방향으로 일정한 지지력이 유지되도록 하는 단계; 및1. applying pressure to a laminate formed on a substrate to be conveyed to maintain a constant supporting force in a direction perpendicular to the conveying direction at a portion spaced apart from the end of the laminate by a predetermined distance; And

상기 지지력이 유지된 상태에서 상기 적층체의 단부에 힘을 가하여 상기 기판에서 상기 적층체를 박리하는 단계를 포함하는 필름 터치 센서 제조 방법.And applying a force to an end portion of the laminate in a state where the supporting force is maintained, thereby peeling the laminate from the substrate.

2. 위 1에 있어서, 상기 지지력은 소정의 곡률반경을 갖는 원통형 롤을 상기 적층체와 접촉시킴으로써 발생되는 것인, 필름 터치 센서 제조 방법.2. The method of claim 1, wherein the bearing force is generated by contacting a cylindrical roll having a predetermined radius of curvature with the laminate.

3. 위 1에 있어서, 상기 적층체에 유지되는 지지력은 0.1 내지 100N/25mm인, 필름 터치 센서 제조 방법.3. The method for manufacturing a film touch sensor according to 1 above, wherein the holding force held in the laminate is 0.1 to 100 N / 25 mm.

4. 위 1에 있어서, 적층체의 단부에 가해지는 힘은 이송 방향에 대하여 소정의 각도를 이루도록 적층체에 가해지는 것인, 필름 터치 센서 제조 방법.4. The method for manufacturing a film touch sensor according to claim 1, wherein the force applied to the end of the laminate is applied to the laminate so as to form a predetermined angle with respect to the conveying direction.

5. 위 1에 있어서, 상기 단부에 가해지는 힘은 0.1 내지 50N/25mm인, 필름 터치 센서 제조 방법.5. The method of manufacturing a film touch sensor according to claim 1, wherein a force applied to the end portion is 0.1 to 50 N / 25 mm.

6. 위 1에 있어서, 상기 단부에 가해지는 힘은 상기 기판과 상기 적층체의 접착력보다 큰, 필름 터치 센서 제조 방법.6. The method of manufacturing a film touch sensor according to claim 1, wherein a force applied to the end portion is greater than an adhesion force between the substrate and the laminate.

7. 위 1에 있어서, 상기 압력을 가하기 전에, 광학 필름을 상기 적층체 상에 접합시키는 단계를 더 포함하는, 필름 터치 센서 제조 방법.7. The method of claim 1, further comprising bonding the optical film onto the laminate prior to applying the pressure.

8. 위 1에 있어서, 상기 지지력으로 상기 적층체를 지지함과 동시에, 유입되는 광학 필름을 상기 적층체 상에 접합시키는 단계를 더 포함하는, 필름 터치 센서 제조 방법.8. The method of manufacturing a film touch sensor according to Claim 1, further comprising the step of supporting the laminate with the supporting force and bonding the introduced optical film onto the laminate.

9. 위 7 또는 8에 있어서, 상기 광학 필름은 점착층이 도공된 보호 필름인, 필름 터치 센서 제조 방법.9. The method of manufacturing a film touch sensor according to 7 or 8 above, wherein the optical film is a protective film coated with an adhesive layer.

10. 위 1에 있어서, 박리된 상기 적층체를 롤 형태로 권취하는 단계를 더 포함하는, 필름 터치 센서 제조 방법.10. The method of manufacturing a film touch sensor according to claim 1, further comprising winding the laminated body in a roll form.

11. 위 1에 있어서, 상기 적층체는 분리층; 상기 분리층 상에 위치한 제1 보호층; 및 상기 제1 보호층 상에 위치한 전극 패턴층을 포함하는 것인, 필름 터치 센서 제조 방법.11. The laminate according to 1 above, wherein said laminate comprises a separating layer; A first protective layer located on the isolation layer; And an electrode pattern layer disposed on the first passivation layer.

12. 위 11에 있어서, 상기 적층체는 상기 전극 패턴층 상에 위치한 제2 보호층을 더 포함하는, 필름 터치 센서 제조 방법.12. The method of claim 11, wherein the laminate further comprises a second protective layer located on the electrode pattern layer.

13. 위 11 또는 12에 있어서, 상기 전극 패턴층은 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO), 카드뮴주석산화물(CTO), 폴리(3.4-에틸렌디옥시티오펜)(PEDOT), 탄소나노튜브(CNT), 금속 와이어 및 금속 메쉬로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나로 형성된 전도성 패턴을 포함하는, 필름 터치 센서 제조 방법.13. The method of claim 11 or 12, wherein the electrode pattern layer comprises at least one of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), cadmium tin oxide (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT), carbon nanotubes (CNT), metal wires, and metal meshes.

14. 기판 상에 형성된 적층체를 이송시키는 이송부;14. A transfer unit for transferring a laminate formed on a substrate;

상기 적층체에 압력을 가하여 상기 적층체의 단부에서 소정의 거리로 이격된 부분에 상기 이송 방향에 수직인 방향으로 일정한 지지력을 형성시키는 원통형 롤부; 및 A cylindrical roll portion which applies a pressure to the laminate to form a constant supporting force in a direction perpendicular to the conveying direction at a portion spaced apart from the end of the laminate by a predetermined distance; And

상기 지지력이 유지된 상태에서 상기 적층체의 단부에 힘을 가하여 상기 기판에서 상기 적층체를 분리시키는 박리부를 포함하는 필름 터치 센서 제조 장치.And a peeling unit for applying a force to an end of the laminate while the supporting force is maintained to separate the laminate from the substrate.

15. 위 14에 있어서, 상기 원통형 롤부의 곡률반경은 5 내지 200mm인, 필름 터치 센서 제조 장치.15. The apparatus for manufacturing a film touch sensor according to 14 above, wherein the radius of curvature of the cylindrical roll portion is 5 to 200 mm.

16. 위 14에 있어서, 적층체의 단부에 가해지는 힘은 이송 방향에 대하여 소정의 각도를 이루도록 적층체에 가해지는 것인, 필름 터치 센서 제조 장치.16. The apparatus for manufacturing a film touch sensor according to 14 above, wherein the force applied to the end portion of the laminate is applied to the laminate so as to form a predetermined angle with respect to the conveying direction.

17. 위 14에 있어서, 기판에서 박리된 적층체는 박리되는 지점부터 소정의 각도에 이르는 지점까지 상기 원통형 롤의 외주면을 따라 이송되는, 필름 터치 센서 제조 장치.17. The apparatus for manufacturing a film touch sensor according to 14 above, wherein the laminated body peeled off from the substrate is transported along the outer circumferential surface of the cylindrical roll from a point where it is peeled to a point reaching a predetermined angle.

18. 위 14에 있어서, 상기 원통형 롤부의 전방에 위치하고, 상기 적층체 상에 광학 필름을 접합시키기 위한 라미네이팅 롤부를 더 포함하는, 필름 터치 센서 제조 장치.18. The apparatus of claim 14, further comprising a laminating roll portion located in front of the cylindrical roll portion and for laminating an optical film on the laminate.

19. 위 14에 있어서, 상기 원통형 롤부는 상기 지지력으로 상기 적층체를 지지함과 동시에, 유입되는 광학 필름을 상기 적층체 상에 접합시키는, 필름 터치 센서 제조 장치.19. The apparatus for manufacturing a film touch sensor according to claim 14, wherein the cylindrical roll portion supports the laminate body by the supporting force and joins the introduced optical film onto the laminate body.

20. 위 14에 있어서, 상기 박리부는 상기 적층체에 소정 장력을 가하여 기판으로부터 상기 적층체를 박리하고 권취하는 권취롤부를 포함하는, 필름 터치 센서 제조 장치.20. The film touch sensor manufacturing apparatus as set forth in 14 above, wherein the peeling section includes a winding roll section for applying a predetermined tension to the laminate to peel and wind the laminate from the substrate.

21. 위 14에 있어서, 상기 적층체는 분리층; 상기 분리층 상에 위치한 제1 보호층; 및 상기 제 1 보호층 상에 위치한 전극 패턴층을 포함하는 것인, 필름 터치 센서 제조 장치. 21. The laminate according to claim 14, wherein the laminate comprises a separating layer; A first protective layer located on the isolation layer; And an electrode pattern layer disposed on the first passivation layer.

22. 위 21에 있어서, 상기 적층체는 상기 전극 패턴층 상에 위치한 제2 보호층을 더 포함하는, 필름 터치 센서 제조 장치.
22. The apparatus of claim 21, wherein the laminate further comprises a second protective layer disposed on the electrode pattern layer.

본 발명의 필름 터치 센서 제조 방법은 필름 터치 센서 크랙 발생을 방지하고 연속적인 필름 터치 센서 제조가 가능하여 공정 효율을 개선한다. The method of manufacturing a film touch sensor of the present invention prevents the occurrence of a film touch sensor crack and improves the process efficiency by making it possible to manufacture a continuous film touch sensor.

본 발명의 필름 터치 센서 제조 장치는 일정한 지지력을 형성시키는 원통형 롤부를 포함함으로써 필름 터치 센서를 캐리어 기판으로부터 박리하여 제조할 때에 크랙의 발생이 감소되어 내구성이 뛰어난 필름 터치 센서를 제조한다.The apparatus for manufacturing a film touch sensor of the present invention includes a cylindrical roll portion that forms a constant supporting force, thereby reducing the occurrence of cracks when the film touch sensor is peeled off from the carrier substrate to produce a film touch sensor having excellent durability.

또한, 본 발명의 필름 터치 센서 제조 장치는 롤투롤 공정을 포함하여 연속 공정이 가능하여 생산성을 향상시킨다.
Further, the apparatus for manufacturing a film touch sensor of the present invention can perform a continuous process including a roll-to-roll process, thereby improving productivity.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 필름 터치 센서 제조 장치의 단면을 개략적으로 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 다른 일 구현예에 따른 필름 터치 센서 제조 장치의 단면을 개략적으로 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 일 구현예에 따른 적층체의 단면을 개략적으로 도시한 것이다.
도 4는 본 발명의 다른 일 구현예에 따른 적층체의 단면을 개략적으로 도시한 것이다.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an apparatus for manufacturing a film touch sensor according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view of an apparatus for manufacturing a film touch sensor according to another embodiment of the present invention.
3 schematically shows a cross section of a laminate according to an embodiment of the present invention.
4 schematically shows a cross section of a laminate according to another embodiment of the present invention.

본 발명은 필름 터치 센서 제조 방법 및 제조 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 이송되는 기판 상에 형성된 적층체에 압력을 가하여 적층체의 단부에서 소정의 거리로 이격된 부분에 이송 방향에 수직인 방향으로 일정한 지지력이 유지되도록 하는 단계; 및 위 지지력이 유지된 상태에서 적층체의 단부에 힘을 가하여 기판에서 적층체를 박리하는 단계를 포함함으로써 박막형 터치 센서 제조시 크랙의 발생을 현저히 감소시킬 수 있고 내구성을 개선시킬 수 있는 필름 터치 센서 제조 방법과 이 방법이 구현된 필름 터치 센서 제조 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a film touch sensor, and more particularly, to a method and apparatus for manufacturing a film touch sensor, in which a pressure is applied to a laminate formed on a substrate to be transferred, Maintaining a constant bearing force in the direction of the arrow; And applying a force to an end portion of the laminate in a state where the stomatometric holding force is maintained to peel off the laminate from the substrate, thereby making it possible to significantly reduce occurrence of cracks in the manufacture of the thin film touch sensor and to improve durability. And a film touch sensor manufacturing apparatus in which the method is implemented.

이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 도면을 참고하여 상세하게 설명하기로 한다. 다만, 본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 구현예를 예시하는 것이며, 후술하는 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니 된다.
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description of the present invention are exemplary and explanatory and are intended to provide further explanation of the invention as claimed. And shall not be construed as limited to such matters.

플렉서블 디스플레이는 접거나 굽히거나 두루마리 형태로 변형되어 사용되게 되므로, 가볍고 얇고 내충격성이 강하며 굽힘이 자유로워야 한다. 그러나, 플렉서블 디스플레이에 사용되는 유연 기판이 과도하게 외부 굽힘 응력을 받는 경우, 구부러진 부분에서 크랙이 발생한다는 문제점이 있다.Flexible displays are used as folded, curved or rolled, so they are lightweight, thin, resistant to impact, and free from bending. However, when the flexible substrate used in the flexible display is subjected to an excessive external bending stress, there is a problem that a crack occurs in the bent portion.

특히 본 발명과 같은 적층 구조를 갖는 필름 터치 센서의 경우에 기판으로부터 박리하여 필름 터치 센서를 제조할 때에 일정한 박리력을 유지 및 전달하기 어렵고 이에 따라 필름 터치 센서에 크랙이 발생한다.Particularly, in the case of the film touch sensor having the laminated structure according to the present invention, it is difficult to maintain and transmit a certain peeling force when the film touch sensor is manufactured by peeling from the substrate, and cracks are generated in the film touch sensor.

이에, 본 발명의 필름 터치 센서 제조 방법은 이송되는 기판 상에 형성된 적층체에 압력을 가하여 적층체에 일정한 지지력이 유지되도록 함으로써, 기판으로부터 박리하여 필름 터치 센서를 제조할 때에 기판과 적층체의 박리면에 박리력이 고르게 전달되어 크랙 발생을 방지한다.
Accordingly, in the method of manufacturing a film touch sensor of the present invention, when a film touch sensor is manufactured by peeling off a substrate by maintaining a predetermined holding force on a laminate by applying pressure to the laminate formed on the substrate to be transferred, And the peeling force is uniformly transmitted to the reverse side to prevent the occurrence of cracks.

<필름 터치 센서의 제조 방법><Manufacturing Method of Film Touch Sensor>

이하, 본 발명의 필름 터치 센서의 제조 방법을 설명하나 이에 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, a method of manufacturing the film touch sensor of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto.

본 발명의 필름 터치 센서 제조 방법은 이송되는 기판 상에 형성된 적층체에 압력을 가하여 상기 적층체의 단부에서 소정의 거리로 이격된 부분에 상기 이송 방향에 수직인 방향으로 일정한 지지력이 유지되도록 하는 단계; 및 상기 지지력이 유지된 상태에서 상기 적층체의 단부에 힘을 가하여 상기 기판에서 상기 적층체를 박리하는 단계를 포함한다.
The method of manufacturing a film touch sensor according to the present invention includes the steps of applying pressure to a laminate formed on a substrate to be conveyed to maintain a constant supporting force in a direction perpendicular to the conveying direction at a portion spaced apart from the end of the laminate by a predetermined distance ; And separating the laminate from the substrate by applying a force to the end of the laminate in a state where the supporting force is maintained.

먼저, 본 발명의 필름 터치 센서 제조 방법은 이송되는 기판 상에 형성된 적층체에 압력을 가하여 상기 적층체의 단부에서 소정의 거리로 이격된 부분에 상기 이송 방향에 수직인 방향으로 일정한 지지력이 유지되도록 하는 단계를 포함한다.First, in the method of manufacturing a film touch sensor of the present invention, pressure is applied to a laminate formed on a substrate to be conveyed, so that a constant supporting force is maintained in a direction perpendicular to the conveying direction at a portion spaced apart from the end of the laminate by a predetermined distance .

본 발명에서 상기 이송 방향에 수직인 방향은 적층체의 이송 방향에 대하여 수학적으로 90°로 지지력이 가해지는 것뿐만 아니라, 공정상의 오차로 볼 수 있는 각도 범위를 포함하며, 일정한 지지력이 유지되도록 하는 각도를 포함하는 개념이다.In the present invention, the direction perpendicular to the conveying direction is not limited to a mathematically supporting force of 90 degrees with respect to the conveying direction of the stack, but also includes an angular range seen from a process error, It is a concept that includes angle.

이 단계에서, 기판 상에 형성된 적층체에 압력을 가하여, 기판 상에 형성된 적층체에 일정한 지지력이 유지됨으로써 기판에서 상기 적층체를 박리하여 필름 터치 센서를 제조할 때에 일정한 박리력을 유지 및 전달할 수 있다. 이에 따라 제조된 필름 터치 센서의 크랙 발생을 방지한다.In this step, when a film touch sensor is manufactured by applying pressure to a laminate formed on a substrate and maintaining a predetermined holding force on the laminate formed on the substrate, the laminate is peeled off from the substrate to maintain and transmit a constant peeling force have. Thereby preventing cracks in the manufactured film touch sensor.

적층체에 일정한 힘을 가할 수 있는 부재라면 특별한 제한없이 지지력을 발생시키는데 사용될 수 있으며, 구체적으로 예를 들면 바람직하게는 일정한 힘을 발생시킬 수 있는 소정의 곡률반경을 갖는 원통형 롤을 상기 적층체와 접촉시킴으로써 지지력을 발생시킬 수 있다.A member capable of applying a constant force to the laminate can be used to generate a supporting force without particular limitation. Specifically, for example, a cylindrical roll having a predetermined radius of curvature, which can generate a constant force, It is possible to generate a supporting force.

원통형 롤의 곡률반경은 적층체의 두께에 따라 조절할 수 있다.The radius of curvature of the cylindrical roll can be adjusted according to the thickness of the laminate.

적층체에 유지되는 지지력은 0.1 내지 100N/25mm일 수 있고, 바람직하게는 0.5 내지 50N/25mm일 수 있다. 적층체에 유지되는 지지력이 0.1N/25mm 미만인 경우에는 적층체의 단부에 가해지는 힘에 의해 원통형 롤이 들여올려질 수 있는 문제점이 있을 수 있고, 100N/25mm 초과인 경우에는 광학 필름 또는 적층체 중의 전극 패턴층이 손상될 수 있는 문제점이 있을 수 있다.
The holding force held in the laminate may be 0.1 to 100 N / 25 mm, and preferably 0.5 to 50 N / 25 mm. If the supporting force held in the laminate is less than 0.1 N / 25 mm, there may be a problem that the cylindrical roll may be lifted by the force applied to the end of the laminate, and in the case of more than 100 N / 25 mm, The electrode pattern layer may be damaged.

다음으로, 본 발명의 필름 터치 센서 제조 방법은 일정한 지지력이 유지된 상태에서 상기 적층체의 단부에 힘을 가하여 상기 기판에서 상기 적층체를 박리하는 단계를 포함한다. Next, a method of manufacturing a film touch sensor of the present invention includes a step of peeling the laminate from the substrate by applying a force to an end of the laminate while maintaining a constant holding force.

이 단계에서, 일정한 지지력이 유지된 상태에서 적층체의 박리가 이루어짐으로써 기판과 적층체의 박리면에 박리력이 고르게 전달되어 박리 시에 크랙 발생이 억제된다. In this step, the laminate is peeled in a state in which the constant supporting force is maintained, so that the peeling force is evenly distributed to the peeling surface of the substrate and the laminate, and cracking is suppressed at the time of peeling.

예를 들어, 전술한 바와 같이 원통형 롤을 사용하는 경우에는 원통형 롤에 의한 지지력(압력)이 해제되는 지점에서 박리가 발생하고, 박리력이 가해지는 방향으로 박리된 적층체가 롤의 외주면을 따라 소정 거리만큼 이송되므로, 박리되는 지점 및 박리된 후 이송 궤적이 동일하게 되어 박리력이 고르게 전달될 수 있다.For example, in the case of using a cylindrical roll as described above, peeling occurs at a point where the supporting force (pressure) by the cylindrical roll is released, and the laminate peeled in the direction in which the peeling force is applied, So that the peeling force can be evenly transmitted since the point of peeling and the trajectory after peeling are the same.

적층체의 단부에 가해지는 힘은 이송 방향에 대하여 소정의 각도를 이루도록 적층체에 가해질 수 있다. 소정의 각도는 예를 들면 1 내지 180°일 수 있고, 바람직하게는 5 내지 90°일 수 있다. 각도가 1 ° 미만인 경우에는 적층체의 단부에 가해지는 힘을 유지하기 위해 광학 필름에 가해지는 힘이 지나치게 커져서 광학 필름이 늘어나거나 손상되는 등의 문제점이 있을 수 있고, 180° 초과인 경우에는 장치의 구성이 복잡해져 경제성이 떨어지는 문제점이 있을 수 있다.The force applied to the end portion of the laminate may be applied to the laminate so as to form a predetermined angle with respect to the conveying direction. The predetermined angle may be, for example, 1 to 180 °, and preferably 5 to 90 °. When the angle is less than 1 DEG, the force applied to the optical film to maintain the force applied to the end portion of the laminate becomes excessively large, so that the optical film may be stretched or damaged. There is a problem in that the configuration of the apparatus is complicated and the economical efficiency is deteriorated.

적층체의 단부에 가해지는 힘은 기판과 적층체의 접착력, 광학 필름의 강도에 따라 달라질 수 있으며, 예를 들면, 0.1 내지 50N/25mm일 수 있고, 바람직하게는 0.2 내지 30N/25mm 일 수 있다. 단부에 가해지는 힘이 0.1N/25mm 미만인 경우에는 기판으로부터 적층체가 원활히 박리되지 않는 문제점이 있을 수 있고, 50N/25mm 초과인 경우에는 광학 필름이 연신되거나 손상되는 등의 문제점이 있을 수 있다.The force applied to the end portion of the laminate may vary depending on the adhesive force between the substrate and the laminate and the strength of the optical film, and may be, for example, 0.1 to 50 N / 25 mm, preferably 0.2 to 30 N / 25 mm . If the force applied to the end portion is less than 0.1 N / 25 mm, the laminate may not be smoothly peeled off from the substrate. If the force exceeds 50 N / 25 mm, the optical film may be stretched or damaged.

기판에서 적층체를 박리하기 위해 적층체의 단부에 가해지는 힘은 기판과 적층체의 접착력보다 클 수 있다.
The force applied to the end of the laminate for peeling the laminate from the substrate may be greater than the adhesion force between the substrate and the laminate.

본 발명의 필름 터치 센서 제조 방법은, 박리된 적층체를 롤 형태로 권취하는 단계를 더 포함할 수 있다. 박리된 적층체를 롤 형태로 권취하는 방법으로는 당분야의 공지된 방법을 제한없이 사용할 수 있으며, 예를 들면 권취롤을 이용하여 박리된 적층체를 권취할 수 있다. 최종 제품인 박리된 적층체를 롤 형태로 권취함으로써 연속적인 필름 터치 센서 제조가 가능하여 공정 효율을 개선할 수 있다.
The method of manufacturing a film touch sensor of the present invention may further include winding the peeled laminate into a roll form. As a method for winding the peeled laminate into a roll form, a known method in the art can be used without limitation. For example, the laminated laminate which has been peeled off can be wound by a winding roll. By winding the peeled laminate, which is the final product, in roll form, it is possible to manufacture a continuous film touch sensor, thereby improving the process efficiency.

또한, 본 발명의 다른 구현예로서, 본 발명의 필름 터치 센서 제조 방법은 박리를 위한 지지력(압력)을 가하기 전에, 상기 적층체 상에 추가적인 광학 필름을 접합시키는 단계를 더 포함할 수 있다. 적층체의 상에 광학 필름을 접합함으로써 필름 터치 센서의 표면을 보호하거나, 광학 특성 및 공정성을 개선할 수 있다. 광학 필름의 접합은 예를 들면, 라미네이팅 롤을 더 구비하여 수행될 수 있다.Further, as another embodiment of the present invention, the method of manufacturing a film touch sensor of the present invention may further include the step of bonding an additional optical film on the laminate before applying a supporting force (pressure) for peeling. By bonding the optical film on the laminate, the surface of the film touch sensor can be protected, and optical characteristics and processability can be improved. The bonding of the optical film can be performed, for example, by further including a laminating roll.

본 발명의 또 다른 구현예로서, 본 발명의 필름 터치 센서 제조 방법은 본 발명에 따른 일정한 지지력이 유지되도록 하는 단계에서 상기 지지력으로 적층체를 지지함과 동시에, 유입되는 광학 필름을 상기 적층체 상에 접합시키는 단계를 더 포함할 수 있다.As a further embodiment of the present invention, in the method for manufacturing a film touch sensor of the present invention, in the step of maintaining a constant supporting force according to the present invention, the laminated body is supported by the supporting force, To the substrate.

광학 필름으로는 당 분야에 널리 사용되는 소재로 제조된 투명 필름이 제한되지 않고 사용될 수 있으며, 예를 들면, 셀룰로오스 에스테르(예: 셀룰로오스 트리아세테이트, 셀룰로오스 프로피오네이트, 셀룰로오스 부티레이트, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트, 및 니트로셀룰로오스), 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르(예: 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리-1,4-시클로헥산디메틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌 1,2-디페녹시에탄-4,4´-디카르복실레이트 및 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리스티렌(예: 신디오택틱(syndiotactic) 폴리스티렌), 폴리올레핀(예: 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 및 폴리메틸펜텐), 폴리술폰, 폴리에테르 술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르-이미드, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에테르 케톤, 폴리비닐알코올 및 폴리염화비닐로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물로 제조된 필름일 수 있다.As the optical film, a transparent film made of materials widely used in the art can be used without limitation, and examples thereof include cellulose esters (e.g., cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate , And nitrocellulose), polyimides, polycarbonates, polyesters (e.g., polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene 1,2- 4'-dicarboxylate and polybutylene terephthalate, polystyrenes such as syndiotactic polystyrenes, polyolefins such as polypropylene, polyethylene and polymethylpentene, polysulfone, polyethersulfone, polyarylene Polyether-imide, polymethylmethacrylate, polyetherketone, poly It may be a polyvinyl alcohol and polyvinyl film made of a single or a mixture selected from the group consisting of chloride.

또한, 광학 필름은 등방성 필름 또는 위상차 필름일 수 있다.Further, the optical film may be an isotropic film or a retardation film.

등방성 필름일 경우 면내 위상차(Ro, Ro=[(nx-ny)ⅹd], nx, ny는 필름 평면 내의 주굴절률, nz는 필름 두께 방향의 굴절률, d는 필름 두께이다) 가 40nm 이하이고, 15nm 이하가 바람직하며, 두께방향 위상차(Rth, Rth=[(nx+ny)/2-nz]ⅹd) 가 -90nm 내지 +75nm이며, 바람직하게는 -80nm 내지 +60nm, 특히 -70nm 내지 +45nm가 바람직하다.Nx and ny are the main indices of refraction in the film plane, nz is the refractive index in the film thickness direction, d is the film thickness) is 40 nm or less, and 15 nm And the retardation in the thickness direction (Rth, Rth = [(nx + ny) / 2-nz] xd) is from -90 nm to +75 nm, preferably -80 nm to +60 nm, desirable.

위상차 필름은 고분자 필름의 일축 연신, 이축 연신, 고분자코팅, 액정코팅의 방법으로 제조된 필름이며, 일반적으로 디스플레이의 시야각보상, 색감개선, 빛샘개선, 색미조절 등의 광학특성 향상 및 조절을 위하여 사용된다.The retardation film is a film produced by the uniaxial stretching, biaxial stretching, polymer coating and liquid crystal coating method of a polymer film, and is generally used for improving the viewing angle of the display, improving the color feeling, improving the light leakage, do.

또한, 광학 필름으로 편광판을 사용할 수도 있다.In addition, a polarizing plate may be used as the optical film.

편광판은 폴리비닐알콜계 편광자의 일면 또는 양면에 편광자 보호필름이 부착된 것일 수 있다.The polarizing plate may be one having a polarizer protective film attached on one side or both sides of a polyvinyl alcohol polarizer.

또한, 광학 필름으로 보호 필름을 사용할 수도 있다. Further, a protective film may be used as the optical film.

보호 필름은 고분자 수지로 이루어진 필름의 적어도 일면에 점착층이 도공된 보호 필름이거나 폴리프로필렌 등의 자가점착성을 가진 필름일 수 있으며, 터치 센서 표면의 보호, 공정정 개선을 위하여 사용될 수 있다.The protective film may be a protective film coated with an adhesive layer on at least one side of a film made of a polymer resin, or a self-adhesive film such as polypropylene, and may be used for protecting the surface of the touch sensor and improving the process precision.

광학 필름의 광투과율은 바람직하게는 85% 이상이며, 보다 바람직하게는 90% 이상일 수 있다. 또한, 상기 광학 필름은 JIS K7136에 따라 측정되는 전체 헤이즈값이 10% 이하인 것이 바람직하고, 7% 이하인 것이 보다 바람직하다.The light transmittance of the optical film is preferably 85% or more, and more preferably 90% or more. Further, the total haze value of the optical film measured according to JIS K7136 is preferably 10% or less, more preferably 7% or less.

상기 광학 필름의 두께는 제한되지 않지만 바람직하게는 10 내지 200㎛이며, 보다 바람직하게는 20 내지 150㎛이다.
The thickness of the optical film is not limited, but is preferably 10 to 200 占 퐉, and more preferably 20 to 150 占 퐉.

본 발명의 필름 터치 센서 제조 방법에서 적층체(300)는 도 3에 도시된 바와 같이, 분리층(310); 상기 분리층 상에 위치한 제1 보호층(320); 및 상기 제1 보호층(320) 상에 위치한 전극 패턴층(330);을 포함하는 구조일 수 있다.In the film touch sensor manufacturing method of the present invention, as shown in FIG. 3, the laminate 300 includes a separation layer 310; A first passivation layer 320 disposed on the isolation layer; And an electrode pattern layer 330 located on the first passivation layer 320. [

본 발명에 따른 분리층(310)은 기판과의 분리를 위해 형성되는 층이다.The separation layer 310 according to the present invention is a layer formed for separation from a substrate.

분리층(310)은 고분자 유기막일 수 있으며, 예를 들면 폴리이미드(polyimide)계 고분자, 폴리비닐알코올(poly vinyl alcohol)계 고분자, 폴리아믹산(polyamic acid)계 고분자, 폴리아미드(polyamide)계 고분자, 폴리에틸렌(polyethylene)계 고분자, 폴리스타일렌(polystylene)계 고분자, 폴리노보넨(polynorbornene)계 고분자, 페닐말레이미드 공중합체(phenylmaleimide copolymer)계 고분자, 폴리아조벤젠(polyazobenzene)계 고분자, 폴리페닐렌프탈아미드(polyphenylenephthalamide)계 고분자, 폴리에스테르(polyester)계 고분자, 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate)계 고분자, 폴리아릴레이트(polyarylate)계 고분자, 신나메이트(cinnamate)계 고분자, 쿠마린(coumarin)계 고분자, 프탈리미딘(phthalimidine)계 고분자, 칼콘(chalcone)계 고분자, 방향족 아세틸렌계 고분자 등의 고분자로 제조된 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The separation layer 310 may be a polymer organic film, and may include, for example, a polyimide-based polymer, a poly vinyl alcohol-based polymer, a polyamic acid-based polymer, a polyamide- , A polymer based on polyethylene, a polymer based on polystyrene, a polymer based on polynorbornene, a polymer based on phenylmaleimide copolymer, a polymer based on polyazobenzene, a polymer based on polyphenylene phthalamide based polymer, a polyphenylenephthalamide-based polymer, a polyester-based polymer, a polymethyl methacrylate-based polymer, a polyarylate-based polymer, a cinnamate-based polymer, a coumarin- A phthalimidine-based polymer, a chalcone-based polymer, and an aromatic acetylene-based polymer may be used. However, One that does not. These may be used alone or in combination of two or more.

분리층(310)의 두께는 0.05 내지 1㎛인 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.The thickness of the separation layer 310 is preferably 0.05 to 1 占 퐉, but is not limited thereto.

분리층(310)은 기판으로부터 용이하게 박리되며, 박리시에 후술할 제1 보호층으로부터는 박리되지 않도록, 상기 소재 중 기판에 대한 박리력이 1N/25mm 이하인 소재, 보다 바람직하게는 기판에 대한 박리력이 0.1N/25mm 이하인 소재로 제조되는 것이 바람직하다.The separating layer 310 is easily peeled off from the substrate, and a material having a peeling force with respect to the substrate of 1 N / 25 mm or less is preferably formed on the substrate so as not to be separated from the first protective layer, It is preferable that it is made of a material having a peeling force of 0.1 N / 25 mm or less.

기판(600)으로는 공정 중에 쉽게 휘거나 뒤틀리지 않고 고정될 수 있도록 적정 강도를 제공하며 열이나 화학 처리에 영향이 거의 없는 재료라면 특별한 제한이 없이 사용될 수 있다. 예를 들면 글라스, 석영, 실리콘 웨이퍼, 서스 등이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 글라스가 사용될 수 있다.The substrate 600 may be used without any particular limitation if it is a material that provides adequate strength to be fixed without being bent or twisted during the process, and which has little effect on heat or chemical treatment. For example, glass, quartz, silicon wafer, cloth or the like can be used, and preferably, glass can be used.

본 발명에 따른 제1 보호층(320)은 전극 패턴층이 형성되는 기재 역할을 하는 동시에, 상기 분리층 상에 배치되어 전극 패턴층에 대한 패시베이션층의 역할을 하고 전극 패턴층의 오염을 방지할 뿐만 아니라, 전도성 패턴들을 절연하는 역할을 한다.The first passivation layer 320 according to the present invention serves as a base on which the electrode pattern layer is formed and is disposed on the separation layer to serve as a passivation layer for the electrode pattern layer and to prevent contamination of the electrode pattern layer In addition, it serves to insulate the conductive patterns.

제1 보호층(320)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 0.1 내지 10㎛일 수 있고, 바람직하게는 0.5 내지 5㎛일 수 있다.The thickness of the first protective layer 320 is not particularly limited, and may be, for example, 0.1 to 10 占 퐉, and preferably 0.5 to 5 占 퐉.

제1 보호층(320)으로는 당분야에 공지된 고분자가 제한없이 사용될 수 있으며, 예를 들면 유기 절연막으로 제조된 것일 수 있다.As the first protective layer 320, a polymer known in the art may be used without limitation, and may be made of, for example, an organic insulating film.

본 발명에 따른 전극 패턴층(330)은 상기 제1 보호층(320) 상에 형성된다.The electrode pattern layer 330 according to the present invention is formed on the first passivation layer 320.

상기 전극 패턴층(330)은 전자 기기에 적용 시, 전극 역할을 수행하기 위한 전도성 패턴을 포함하며, 상기 전도성 패턴은 적용되는 전자 기기의 요구에 따라 적절한 모양으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 터치 스크린 패널에 적용되는 경우, x좌표를 감지하는 전극 패턴과 y좌표를 감지하는 전극 패턴의 2종류 전극 패턴으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The electrode pattern layer 330 may include a conductive pattern to serve as an electrode when applied to an electronic device, and the conductive pattern may be formed in an appropriate shape according to requirements of an applied electronic device. For example, when applied to a touch screen panel, the electrode pattern may be formed of two kinds of electrode patterns, that is, an electrode pattern for sensing the x coordinate and an electrode pattern for sensing the y coordinate. However, the present invention is not limited thereto.

전극 패턴층(330)으로는 전도성 물질이라면 제한되지 않고 사용될 수 있으며, 예를 들면 인듐틴옥사이드(ITO), 인듐징크옥사이드(IZO), 인듐징크틴옥사이드(IZTO), 알루미늄징크옥사이드(AZO), 갈륨징크옥사이드(GZO), 플로린틴옥사이드(FTO), 인듐틴옥사이드-은-인듐틴옥사이드(ITO-Ag-ITO), 인듐징크옥사이드-은-인듐징크옥사이드(IZO-Ag-IZO), 인듐징크틴옥사이드-은-인듐징크틴옥사이드(IZTO-Ag-IZTO) 및 알루미늄징크옥사이드-은-알루미늄징크옥사이드(AZO-Ag-AZO)로 이루어진 군에서 선택된 금속산화물류; 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 몰리브덴(Mo) 및 APC로 이루어진 군에서 선택된 금속류; 금, 은, 구리 및 납으로 이루어진 군에서 선택된 금속의 나노와이어; 탄소나노튜브(CNT) 및 그래핀 (graphene)으로 이루어진 군에서 선택된 탄소계 물질류; 및 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)(PEDOT) 및 폴리아닐린(PANI)으로 이루어진 군에서 선택된 전도성 고분자 물질류에서 선택된 재료로 형성될 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.As the electrode pattern layer 330, any conductive material may be used without limitation, and examples thereof include indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium zinc tin oxide (IZTO), aluminum zinc oxide (AZO) Indium zinc oxide (IZO-Ag-IZO), indium zinc oxide (ITO-Ag-ITO), gallium zinc oxide (GZO), florine tin oxide (FTO), indium tin oxide- Metal oxide materials selected from the group consisting of tin oxide-silver-indium zinc tin oxide (IZTO-Ag-IZTO) and aluminum zinc oxide-silver-aluminum zinc oxide (AZO-Ag-AZO); Metals selected from the group consisting of gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), molybdenum (Mo) and APC; Nanowires of metals selected from the group consisting of gold, silver, copper and lead; Carbon-based materials selected from the group consisting of carbon nanotubes (CNT) and graphene; And a conductive polymer material selected from the group consisting of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT) and polyaniline (PANI). These may be used alone or in combination of two or more.

전극 패턴층(330)의 단위 패턴들은 서로 독립적으로 예컨대 3각형, 4각형, 5각형, 6각형 또는 7각형 이상의 다각형 패턴일 수 있다.The unit patterns of the electrode pattern layer 330 may be, for example, a polygonal pattern of triangular, tetragonal, pentagonal, hexagonal, or hexagonal or more.

또한, 전극 패턴층(330)은 규칙 패턴을 포함할 수 있다. 규칙 패턴이란, 패턴의 형태가 규칙성을 갖는 것을 의미한다. 예컨대, 단위 패턴들은 서로 독립적으로 직사각형 또는 정사각형과 같은 메쉬 형태나, 육각형과 같은 형태의 패턴을 포함할 수 있다.In addition, the electrode pattern layer 330 may include a regular pattern. A rule pattern means that the pattern form has regularity. For example, the unit patterns may include, independently of each other, a mesh shape such as a rectangle or a square, or a pattern such as a hexagon.

또한, 전극 패턴층(330)은 불규칙 패턴을 포함할 수 있다. 불규칙 패턴이란 패턴의 형태가 규칙성을 갖지 아니한 것을 의미한다.In addition, the electrode pattern layer 330 may include an irregular pattern. The irregular pattern means that the shape of the pattern does not have regularity.

전극 패턴층(330)이 금속 나노와이어, 탄소계 물질류, 고분자 물질류 등의 재료로 형성된 경우, 전극 패턴층은 망상 구조를 가질 수 있다.When the electrode pattern layer 330 is formed of a material such as a metal nanowire, a carbon-based material, or a polymer material, the electrode pattern layer may have a network structure.

망상 구조를 갖는 경우, 서로 접촉하여 인접하는 패턴들에 순차적으로 신호가 전달되므로, 높은 감도를 갖는 패턴을 실현할 수 있다.In the case of having a network structure, since signals are sequentially transmitted to adjacent patterns in contact with each other, a pattern having high sensitivity can be realized.

상기 전극 패턴층(330)은 당 분야에서 통상적으로 수행되는 방법에 의해 형성될 수 있으며, 예를 들어, 전술한 제1 보호층 상에 전도성 화합물을 도포하여 성막하는 단계를 수행할 수 있다. 상기 성막 단계는 물리적 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD), 화학적 증착법(Chemical VaporDeposition, CVD)등 다양한 박막 증착 기술에 의하여 형성될 수 있다. 예를 들면, 물리적 증착법의 한 예인 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에 의하여 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The electrode pattern layer 330 may be formed by a method commonly used in the art. For example, the electrode pattern layer 330 may be formed by coating a conductive compound on the first protective layer. The film formation step may be formed by various thin film deposition techniques such as physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD). For example, it may be formed by reactive sputtering, which is an example of physical vapor deposition, but is not limited thereto.

이후, 목적하는 패턴을 형성하기 위하여, 전도성 화합물막 상면에 포토레지스트층을 형성하는 단계를 수행할 수 있다.Thereafter, a step of forming a photoresist layer on the upper surface of the conductive compound film may be performed to form a desired pattern.

포토레지스트층을 형성하기 위한 감광성 수지 조성물은 특별히 한정되지 않으며, 당 분야에서 통상적으로 사용되는 감광성 수지 조성물이 사용될 수 있다.The photosensitive resin composition for forming the photoresist layer is not particularly limited, and a photosensitive resin composition commonly used in the art can be used.

상기 감광성 수지 조성물을 상기 전도성 화합물로 이루어진 막 상에 도포한 후 가열건조함으로써 용매 등의 휘발 성분을 제거하여 평활한 포토레지스트층을 얻는다.The photosensitive resin composition is coated on a film made of the conductive compound and then heated and dried to remove a volatile component such as a solvent to obtain a smooth photoresist layer.

이렇게 하여 얻어진 포토레지스트층에 목적으로 하는 패턴을 형성하기 위한 마스크를 통해 자외선을 조사한다(노광). 이 때, 노광부 전체에 균일하게 평행 광선이 조사되고, 또한 마스크와 기판의 정확한 위치 맞춤이 실시되도록, 마스크 얼라이너나 스테퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다. 자외선을 조사하면, 자외선이 조사된 부위의 경화가 이루어진다. The photoresist layer thus obtained is irradiated with ultraviolet rays through a mask for forming a desired pattern (exposure). At this time, it is preferable to use an apparatus such as a mask aligner or a stepper so as to uniformly irradiate a parallel light beam onto the entire exposed portion and accurately align the mask and the substrate. When ultraviolet light is irradiated, the site irradiated with ultraviolet light is cured.

상기 자외선으로는 g선(파장: 436㎚), h선, i선(파장: 365㎚) 등을 사용할 수 있다. 자외선의 조사량은 필요에 따라 적절히 선택될 수 있는 것이며, 본 발명은 이를 한정하지는 않는다. The ultraviolet rays may be g-line (wavelength: 436 nm), h-line, i-line (wavelength: 365 nm), or the like. The dose of ultraviolet rays can be appropriately selected according to need, and the present invention is not limited thereto.

경화가 종료된 포토레지스트층을 현상액에 접촉시켜 비노광부를 용해시켜 현상하면 목적으로 하는 패턴을 얻을 수 있다.When the photoresist layer which has been cured is brought into contact with a developing solution to dissolve and develop the non-visible portion, a desired pattern can be obtained.

상기 현상 방법은, 액첨가법, 디핑법, 스프레이법 등의 어느 것이어도 된다. 또한 현상시에 기판을 임의의 각도로 기울여도 된다.The developing method may be any of a liquid addition method, a dipping method, and a spraying method. Further, the substrate may be inclined at an arbitrary angle during development.

상기 현상액은 통상 알칼리성 화합물과 계면 활성제를 함유하는 수용액이며, 당 분야에서 통상적으로 사용되는 것이라면 특별한 제한 없이 사용될 수 있다.The developer is usually an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant, and can be used without any particular limitation as long as it is commonly used in the art.

이 후, 상기 포토레지스트 패턴에 따라 전도성 패턴을 형성하기 위하여 식각 공정을 수행할 수 있다.Thereafter, an etching process may be performed to form a conductive pattern according to the photoresist pattern.

상기 식각 공정에 사용되는 식각액 조성물은 특별히 한정되지 않으며, 당 분야에서 통상적으로 사용되는 식각액 조성물이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 과산화수소계 식각액 조성물이 사용될 수 있다.The etchant composition used in the etching process is not particularly limited, and an etchant composition commonly used in the art may be used, and a hydrogen peroxide etchant composition may be preferably used.

식각 공정을 통해, 목적하는 패턴의 전도성 패턴을 포함하는 전극 패턴층이 형성될 수 있다.Through the etching process, an electrode pattern layer including a conductive pattern of a desired pattern can be formed.

본 발명에 따른 전극 패턴층(330)의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 0.01 내지 5㎛, 바람직하게는 0.05 내지 0.5㎛인 것이 좋다.
The thickness of the electrode pattern layer 330 according to the present invention is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 5 占 퐉, and more preferably 0.05 to 0.5 占 퐉.

필요에 따라, 본 발명에 따른 적층체(400)는 상기 전극 패턴층 상에 위치한 제2 보호층(340)을 더 포함할 수 있다. 도 4는 그러한 경우의 단면을 개략적으로 나타낸 것이다.If necessary, the laminate 400 according to the present invention may further include a second protective layer 340 disposed on the electrode pattern layer. Fig. 4 schematically shows a cross section of such a case.

본 발명에 따른 제2 보호층(340)은 그 자체로서 기재의 역할, 그리고 패시베이션층의 역할을 할 수 있다. 뿐만 아니라, 전극 패턴층의 부식을 막고, 표면을 평탄화하여 기재 필름과의 접착시 미세기포의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 접착층의 역할을 할 수 있다.The second passivation layer 340 according to the present invention may serve as a substrate itself and as a passivation layer. In addition, corrosion of the electrode pattern layer can be prevented, and the surface can be planarized to suppress generation of minute bubbles when adhered to the base film. It can also serve as an adhesive layer.

제2 보호층(340)을 더 포함하는 경우, 기재 필름를 상하에서 동시에 보호하여, 크랙 억제 효과를 더욱 개선할 수 있다.When the second protective layer 340 is further included, the base film can be simultaneously protected at the top and bottom to further improve the crack suppressing effect.

제2 보호층(340)이 기재 또는 패시베이션층의 역할을 하는 경우, 폴리디메틸실록산(PDMS), 폴리오르가노실록산(POS) 등의 실리콘계 고분자; 폴리이미드계 고분자; 폴리우레탄계 고분자 등으로 제조된 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.When the second protective layer 340 serves as a substrate or a passivation layer, a silicone-based polymer such as polydimethylsiloxane (PDMS) or polyorganosiloxane (POS); Polyimide-based polymers; Polyurethane-based polymers, and the like, but the present invention is not limited thereto. These may be used alone or in combination of two or more.

제2 보호층(340)이 접착층의 역할을 하는 경우, 당 분야에 공지된 열경화 또는 광경화성 점착제 또는 접착제를 제한없이 사용할 수 있다. 예를 들어, 폴리에스테르계, 폴리에테르계, 우레탄계, 에폭시계, 실리콘계, 아크릴계 등의 열경화 또는 광경화성 점착제 또는 접착제를 사용할 수 있다.When the second protective layer 340 serves as an adhesive layer, a thermosetting or photocurable adhesive or adhesive known in the art can be used without limitation. For example, thermosetting or photo-curable pressure-sensitive adhesives or adhesives such as polyester-based, polyether-based, urethane-based, epoxy-based, silicone-based or acrylic-

또한, 제2 보호층(340)으로는 상기 제1 보호층과 동일한 재료를 사용 가능하다.The second protective layer 340 may be made of the same material as the first protective layer.

제2 보호층(340)의 두께는 전술한 제1 보호층의 두께와 동일할 수 있다.
The thickness of the second protective layer 340 may be equal to the thickness of the first protective layer.

<필름 터치 센서 제조 장치><Film touch sensor manufacturing device>

또한, 본 발명은 필름 터치 센서 제조 장치를 제공하는데, 도 1 내지 3은 본 발명의 일 구현예에 따른 필름 터치 센서 제조 장치(100,200)의 단면도를 개략적으로 나타낸 것이다.
In addition, the present invention provides an apparatus for manufacturing a film touch sensor, wherein FIGS. 1 to 3 schematically show cross-sectional views of an apparatus for manufacturing a film touch sensor 100, 200 according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 필름 터치 센서 제조 장치는 이송부(110); 원통형 롤부(120); 및 박리부(140);를 포함함으로써, 이송되는 기판 상에 형성된 적층체에 압력을 가하여 적층체에 일정한 지지력이 유지되도록 함으로써, 기판으로부터 적층체를 분리하여 필름 터치 센서를 제조할 때에 기판과 적층체의 박리면에 박리력이 고르게 전달되어 크랙 발생을 방지한다.
The apparatus for manufacturing a film touch sensor of the present invention comprises a transfer unit 110; A cylindrical roll portion 120; And a peeling unit 140. By applying pressure to the stacked body formed on the substrate to be conveyed to maintain a constant holding force on the stacked body, when the filmed touch sensor is manufactured by separating the stacked body from the substrate, The peeling force is uniformly transmitted to the peeling surface of the sieve to prevent the occurrence of cracks.

이송부Transfer portion (110)(110)

본 발명에 따른 이송부(110)는 도 1에 도시된 바와 같이, 기판(600) 상에 형성된 적층체(400)를 일정 방향으로 이송시키는 역할을 하는 부재이다. The transfer unit 110 according to the present invention is a member that serves to transfer the stacked body 400 formed on the substrate 600 in a predetermined direction, as shown in FIG.

본 발명에 따른 이송부(110)는 이송롤(110a) 및 컨베이어 벨트(110b)를 포함할 수 있고, 이송롤(110a)은 컨베이어 벨트(110b) 하부에 복수로 구비될 수 있다.The conveyance unit 110 according to the present invention may include a conveyance roll 110a and a conveyor belt 110b and a plurality of conveyance rolls 110a may be provided below the conveyor belt 110b.

적층체(400)는 전술한 구조를 포함할 수 있으며, 이송부(110)는 기판(600) 상에 형성된 적층체(400)를 일정한 속도로 예를 들면, 0.1 내지 50m/min의 속도로 이송할 수 있다.
The stacked body 400 may include the structure described above and the transferring unit 110 may transfer the stacked body 400 formed on the substrate 600 at a constant speed, for example, at a speed of 0.1 to 50 m / min .

원통형 Cylindrical 롤부Roll portion (120)(120)

본 발명에 따른 원통형 롤부(120)는 도 1에 도시된 바와 같이, 이송부(110)에서 이송된 적층체(400)에 압력을 가하여 상기 적층체(400)의 단부에서 소정의 거리로 이격된 부분에 상기 이송 방향에 수직인 방향으로 일정한 지지력을 형성시키는 역할을 하는 부재이다.1, a cylindrical roll 120 according to the present invention is formed by applying pressure to a laminated body 400 transferred from a transferring unit 110 and separating a portion spaced apart from the end of the laminated body 400 by a predetermined distance In a direction perpendicular to the transport direction.

원통형 롤부(120)는 일정한 곡률반경을 가짐으로써, 롤을 통과한 적층체가 롤의 외주면을 따라 박리될 때, 박리되는 위치가 동일하게 되므로 필름 터치 센서 제조 시에 크랙 발생 억제하는 역할을 한다.Since the cylindrical roll 120 has a constant radius of curvature, when the laminate passing through the rolls is peeled off along the outer circumferential surface of the roll, the peeled position becomes the same, thereby preventing cracks in manufacturing the film touch sensor.

원통형 롤부(120)의 곡률반경은 5 내지 200mm일 수 있고, 바람직하게는 10 내지 150mm일 수 있다. 곡률반경이 5mm 미만인 경우에는 곡률반경이 커짐에 따라 적층체가 받는 응력이 증가하거나 원통형 롤부의 축이 지지력에 의해 변형되어 지지력이 균일하게 전달되지 않아 박리 시에 크랙이 발생할 수 있는 문제점이 있을 수 있고, 곡률반경이 200mm 초과인 경우에는 원통형 롤부의 제조 비용이 증가하여 경제성이 떨어지는 문제점이 있을 수 있다.The radius of curvature of the cylindrical roll 120 may be between 5 and 200 mm, preferably between 10 and 150 mm. When the radius of curvature is less than 5 mm, the stress received by the laminate increases as the radius of curvature increases or the shaft of the cylindrical roll part is deformed due to the supporting force, so that the supporting force is not uniformly transmitted, If the radius of curvature is more than 200 mm, there is a problem that the manufacturing cost of the cylindrical roll part increases and the economical efficiency is lowered.

필요에 따라, 본 발명의 필름 터치 센서 제조 장치는 일정한 지지력을 유지하기 위해 원통형 롤부(120) 반대편에 지지롤부(130)를 더 구비할 수 있다.
If necessary, the apparatus for manufacturing a film touch sensor of the present invention may further include a supporting roll 130 on the opposite side of the cylindrical roll 120 to maintain a constant supporting force.

필요에 따라, 본 발명의 필름 터치 센서 제조 장치는 도 2에 도시된 바와 같이, 원통형 롤부(120)의 전방에 라이네이팅 롤부(150)를 더 포함할 수 있다. 라미네이팅 롤부(150)에 의해 이송되는 적층체(400) 상에 요구되는 추가적인 광학 필름(700)을 접합시킬 수 있다.If necessary, the apparatus for manufacturing a film touch sensor of the present invention may further include a lancing roll 150 in front of the cylindrical roll 120, as shown in FIG. The desired additional optical film 700 can be bonded onto the laminate 400 being transported by the laminating roll section 150.

광학 필름(700)은 도 2에 도시된 바와 같이, 전술한 것과 같은 점착층(800)이 도공된 보호 필름일 수 있고, 이 경우, 광학 필름(700)이 적층체(400) 상에 점착제를 매개로 접합될 수 있다.2, the optical film 700 may be a protective film coated with the adhesive layer 800 as described above. In this case, the optical film 700 may be provided with a pressure-sensitive adhesive on the laminate 400 Can be mediated.

적층체(400)의 상면에 광학 필름(700)을 접합함으로써 필름 터치 센서의 표면을 보호할 수 있고, 공정성을 개선할 수 있다. 광학 필름은 전술한 것과 동일한 것을 사용할 수 있다.
By bonding the optical film 700 to the upper surface of the laminate 400, the surface of the film touch sensor can be protected, and the processability can be improved. The same optical film as described above can be used.

본 발명의 다른 일 구현예로서, 도 1에 도시된 바와 같이 본 발명의 필름 터치 센서 제조 장치는, 별도의 라미네이팅 롤부를 구비하지 않고 원통형 롤부(120)가 지지력으로 적층체(400)를 지지함과 동시에 유입되는 광학 필름(700)을 적층체(400) 상에 접합시킬 수 있다.
In another embodiment of the present invention, as shown in FIG. 1, the apparatus for manufacturing a film touch sensor of the present invention does not have a separate laminating roll part, but the cylindrical roll part 120 supports the laminated body 400 with a supporting force The optical film 700 can be bonded onto the laminate 400 at the same time.

박리부Peeling portion (140)(140)

본 발명에 따른 박리부(140)는 도 1에 도시된 바와 같이, 적층체(400)의 단부에 힘을 가하여 상기 기판(600)에서 적층체(400)를 분리하여 필름 터치 센서를 최종적으로 제조한다.1, the peeling unit 140 according to the present invention separates the laminated body 400 from the substrate 600 by applying a force to an end of the laminated body 400 to finally produce a film touch sensor do.

박리부(140)는 기판과 적층체의 접착력보다 큰 힘을 적층체의 단부에 가하여 기판에서 적층체를 박리하는데, 이때 일정한 지지력이 적층체의 단부에서 소정의 거리로 이격된 부분에 유지된 상태에서 박리가 이루어지므로 박리력이 기판과 적층체의 박리면에 고르게 전달 및 유지되어 박리 시에 크랙 발생이 억제된다.  The peeling unit 140 peels off the laminate from the substrate by applying a force larger than the adhesive strength between the substrate and the laminate to the end of the laminate. At this time, a state in which the constant holding force is maintained at a portion spaced apart from the end of the laminate by a predetermined distance The peeling force is uniformly transmitted to and held on the peeling surface of the substrate and the laminate, and cracking is suppressed during peeling.

박리부에서 적층체의 단부에 가해지는 힘은 장력일 수 있고, 그 크기는 전술한 힘의 크기와 동일할 수 있다.The force applied to the end portion of the laminate at the peeling portion may be a tension, and the size may be equal to the magnitude of the above-mentioned force.

박리부에서 적층체의 단부에 가해지는 힘은 이송 방향에 대하여 소정의 각도를 이루도록 적층체에 가해질 수 있는데, 소정의 각도는 전술한 각도와 동일할 수 있다.The force applied to the end portion of the laminate at the peeling portion may be applied to the laminate so as to form a predetermined angle with respect to the transporting direction, and the predetermined angle may be the same as the above-mentioned angle.

또한, 기판(600)에서 박리된 적층체(400)는 박리되는 지점부터 상기 각도에 이르는 지점까지 상기 원통형 롤의 외주면을 따라 이송될 수 있다.Further, the laminated body 400 peeled off from the substrate 600 can be transported along the outer circumferential surface of the cylindrical roll from the point where it is peeled to the point reaching the angle.

또한, 본 발명에 따른 박리부(140)는 적층체에 소정 장력을 가하여 기판으로부터 상기 적층체를 박리하고 권취하는 권취롤부를 포함할 수 있다. 권취롤을 포함함으로써, 제조 공정이 연속적으로 수행될 수 있으므로 생산성을 향상시킬 수 있다.
The peeling section 140 according to the present invention may include a winding roll section for applying a predetermined tension to the laminate and peeling and winding the laminate from the substrate. By including the winding roll, the manufacturing process can be continuously performed, and productivity can be improved.

필요에 따라, 본 발명의 필름 터치 센서 제조 장치에서 기판 상에 형성된 적층체가 필름 상태로 이송될 수 있는데 원통형 롤부(120) 전방 또는 후방에 위치하여 제조된 필름 터치 센서를 절단하는 수단을 더 구비할 수 있다.
If necessary, the laminate formed on the substrate in the apparatus for manufacturing a film touch sensor of the present invention may be transported in a film state, and the apparatus may further include means for cutting the film touch sensor manufactured in front of or behind the cylindrical roll 120 .

100, 200: 필름 터치 센서 제조 장치
110: 이송부
110a: 이송롤
110b: 컨베이어 벨트
120: 원통형 롤부
130: 지지롤부
140: 박리부
150: 라미네이팅 롤부
300, 400: 적층체
310: 분리층
320: 제 1 보호층
330: 전극 패턴층
340: 제 2 보호층
600: 기판
700: 광학 필름
800: 점착층
100, 200: Film touch sensor manufacturing equipment
110:
110a: Feed roll
110b: Conveyor belt
120: Cylindrical roll part
130:
140:
150: laminating roll part
300, 400: laminate
310: separation layer
320: first protective layer
330: electrode pattern layer
340: second protective layer
600: substrate
700: Optical film
800: Adhesive layer

Claims (22)

기판 상에 전극 패턴층을 포함하는 적층체를 형성하는 단계;
이송되는 상기 기판 상에 형성된 상기 적층체에 압력을 가하여 상기 적층체의 단부에서 소정의 거리로 이격된 부분에 상기 이송 방향에 수직인 방향으로 일정한 지지력이 유지되도록 하는 단계; 및
상기 지지력이 유지된 상태에서 상기 적층체의 단부에 힘을 가하여 상기 기판에서 상기 적층체를 박리하는 단계를 포함하는 필름 터치 센서 제조 방법.
Forming a laminate including an electrode pattern layer on a substrate;
Applying pressure to the laminate formed on the substrate to be conveyed to maintain a constant supporting force in a direction perpendicular to the conveying direction at a portion spaced apart from the end of the laminate by a predetermined distance; And
And applying a force to an end portion of the laminate in a state where the supporting force is maintained, thereby peeling the laminate from the substrate.
청구항 1에 있어서, 상기 지지력은 소정의 곡률반경을 갖는 원통형 롤을 상기 적층체와 접촉시킴으로써 발생되는 것인, 필름 터치 센서 제조 방법.
The method according to claim 1, wherein the bearing force is generated by bringing a cylindrical roll having a predetermined radius of curvature into contact with the laminate.
청구항 1에 있어서, 상기 적층체에 유지되는 지지력은 0.1 내지 100N/25mm인, 필름 터치 센서 제조 방법.
The film touch sensor manufacturing method according to claim 1, wherein the holding force held in the laminate is 0.1 to 100 N / 25 mm.
청구항 1에 있어서, 적층체의 단부에 가해지는 힘은 이송 방향에 대하여 소정의 각도를 이루도록 적층체에 가해지는 것인, 필름 터치 센서 제조 방법.
The method of manufacturing a film touch sensor according to claim 1, wherein the force applied to the end of the laminate is applied to the laminate so as to form a predetermined angle with respect to the conveying direction.
청구항 1에 있어서, 상기 단부에 가해지는 힘은 0.1 내지 50N/25mm 인, 필름 터치 센서 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the force applied to the end is 0.1 to 50 N / 25 mm.
청구항 1에 있어서, 상기 단부에 가해지는 힘은 상기 기판과 상기 적층체의 접착력보다 큰, 필름 터치 센서 제조 방법.
The method according to claim 1, wherein a force applied to the end portion is greater than an adhesion force between the substrate and the laminate.
청구항 1에 있어서, 상기 압력을 가하기 전에, 광학 필름을 상기 적층체 상에 접합시키는 단계를 더 포함하는, 필름 터치 센서 제조 방법.
The method of claim 1, further comprising bonding the optical film onto the laminate before applying the pressure.
청구항 1에 있어서, 상기 지지력으로 상기 적층체를 지지함과 동시에, 유입되는 광학 필름을 상기 적층체 상에 접합시키는 단계를 더 포함하는, 필름 터치 센서 제조 방법.
The method of manufacturing a film touch sensor according to claim 1, further comprising the step of supporting the laminate by the supporting force and bonding the introduced optical film onto the laminate.
청구항 7 또는 8에 있어서, 상기 광학 필름은 점착층이 도공된 보호 필름인, 필름 터치 센서 제조 방법.
The method of manufacturing a film touch sensor according to claim 7 or 8, wherein the optical film is a protective film coated with an adhesive layer.
청구항 1에 있어서, 박리된 상기 적층체를 롤 형태로 권취하는 단계를 더 포함하는, 필름 터치 센서 제조 방법.
The method of manufacturing a film touch sensor according to claim 1, further comprising winding the peeled laminate in a roll form.
청구항 1에 있어서, 상기 적층체를 형성하는 단계는,
상기 기판 상에 분리층을 형성하는 단계;
상기 분리층 상에 제1 보호층을 형성하는 단계; 및
상기 제1 보호층 상에 상기 전극 패턴층을 형성하는 단계를 포함하는, 필름 터치 센서 제조 방법.
The method according to claim 1, wherein forming the laminate comprises:
Forming a separation layer on the substrate;
Forming a first passivation layer on the isolation layer; And
And forming the electrode pattern layer on the first passivation layer.
청구항 11에 있어서, 상기 적층체는 상기 전극 패턴층 상에 위치한 제2 보호층을 더 포함하는, 필름 터치 센서 제조 방법.
12. The method of claim 11, wherein the laminate further comprises a second protective layer located on the electrode pattern layer.
청구항 11 또는 12에 있어서, 상기 전극 패턴층은 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO), 카드뮴주석산화물(CTO), 폴리(3.4-에틸렌디옥시티오펜)(PEDOT), 탄소나노튜브(CNT), 금속 와이어 및 금속 메쉬로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나로 형성된 전도성 패턴을 포함하는, 필름 터치 센서 제조 방법.
The electrode pattern layer according to claim 11 or 12, wherein the electrode pattern layer is formed of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), cadmium tin oxide (CTO) (PEDOT), carbon nanotubes (CNT), metal wires, and metal meshes. The method of manufacturing a film touch sensor according to claim 1,
기판 상에 형성된 전극 패턴층을 포함하는 적층체를 이송시키는 이송부;
상기 적층체에 압력을 가하여 상기 적층체의 단부에서 소정의 거리로 이격된 부분에 상기 이송 방향에 수직인 방향으로 일정한 지지력을 형성시키는 원통형 롤부; 및
상기 지지력이 유지된 상태에서 상기 적층체의 단부에 힘을 가하여 상기 기판에서 상기 적층체를 분리시키는 박리부를 포함하는 필름 터치 센서 제조 장치.
A transferring unit for transferring a laminate including an electrode pattern layer formed on a substrate;
A cylindrical roll portion which applies a pressure to the laminate to form a constant supporting force in a direction perpendicular to the conveying direction at a portion spaced apart from the end of the laminate by a predetermined distance; And
And a peeling unit for applying a force to an end of the laminate while the supporting force is maintained to separate the laminate from the substrate.
청구항 14에 있어서, 상기 원통형 롤부의 곡률반경은 5 내지 200mm 인, 필름 터치 센서 제조 장치.
15. The apparatus of claim 14, wherein the radius of curvature of the cylindrical roll is 5 to 200 mm.
청구항 14에 있어서, 적층체의 단부에 가해지는 힘은 이송 방향에 대하여 소정의 각도를 이루도록 적층체에 가해지는 것인, 필름 터치 센서 제조 장치.
15. The film touch sensor manufacturing apparatus according to claim 14, wherein the force applied to the end portion of the laminate is applied to the laminate so as to form a predetermined angle with respect to the conveying direction.
청구항 14에 있어서, 기판에서 박리된 적층체는 박리되는 지점부터 소정의 각도에 이르는 지점까지 상기 원통형 롤의 외주면을 따라 이송되는, 필름 터치 센서 제조 장치.
15. The apparatus for manufacturing a film touch sensor according to claim 14, wherein the laminated body peeled off from the substrate is transported along the outer circumferential surface of the cylindrical roll from a point where it is peeled to a point reaching a predetermined angle.
청구항 14에 있어서, 상기 원통형 롤부의 전방에 위치하고, 상기 적층체 상에 광학 필름을 접합시키기 위한 라미네이팅 롤부를 더 포함하는, 필름 터치 센서 제조 장치.
15. The apparatus of claim 14, further comprising a laminating roll portion positioned in front of the cylindrical roll portion and for laminating an optical film on the laminate.
청구항 14에 있어서, 상기 원통형 롤부는 상기 지지력으로 상기 적층체를 지지함과 동시에, 유입되는 광학 필름을 상기 적층체 상에 접합시키는, 필름 터치 센서 제조 장치.
15. The apparatus for manufacturing a film touch sensor according to claim 14, wherein the cylindrical roll portion supports the laminate by the supporting force and joins the introduced optical film onto the laminate.
청구항 14에 있어서, 상기 박리부는 상기 적층체에 소정 장력을 가하여 기판으로부터 상기 적층체를 박리하고 권취하는 권취롤부를 포함하는, 필름 터치 센서 제조 장치.
15. The film touch sensor manufacturing apparatus according to claim 14, wherein the peeling section includes a winding roll section for applying a predetermined tension to the laminate to peel and wind the laminate from the substrate.
청구항 14에 있어서, 상기 적층체는 분리층 및 상기 분리층 상에 위치한 제1 보호층을 더 포함하며, 상기 전극 패턴층은 상기 제1 보호층 상에 위치한, 필름 터치 센서 제조 장치.
15. The apparatus of claim 14, wherein the laminate further comprises a separation layer and a first passivation layer disposed on the separation layer, wherein the electrode pattern layer is located on the first passivation layer.
청구항 21에 있어서, 상기 적층체는 상기 전극 패턴층 상에 위치한 제2 보호층을 더 포함하는, 필름 터치 센서 제조 장치.23. The apparatus of claim 21, wherein the laminate further comprises a second protective layer disposed on the electrode pattern layer.
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