KR101541800B1

KR101541800B1 - Apparatus for processing substrate

Info

Publication number: KR101541800B1
Application number: KR1020130110484A
Authority: KR
Inventors: 여환욱; 홍성호
Original assignee: 주식회사 코아백
Priority date: 2013-09-13
Filing date: 2013-09-13
Publication date: 2015-08-03
Also published as: KR20150031024A

Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 내부공간이 형성되는 챔버와; 상기 챔버의 내부공간을 가로지르며 신축 가능하게 배치되며, 내부에 상기 내부공간과 분리되고 외부와 연통되는 중공부가 형성되는 가이드 관; 및 상기 챔버 내부에 구비되고 상기 가이드 관의 적어도 일부에 연결되는 지지프레임;을 포함하여, 이물질에 의한 챔버 내부 오염을 억제하고, 유지 보수를 용이하게 할 수 있다. The present invention relates to a substrate processing apparatus, comprising: a chamber in which an internal space is formed; A guide tube which is arranged to extend and retract across the inner space of the chamber and has a hollow portion separated from the inner space and communicating with the outside; And a support frame provided inside the chamber and connected to at least a part of the guide pipe, thereby preventing internal contamination of the chamber by foreign substances and facilitating maintenance.

Description

[0001] Apparatus for processing substrate [0002]

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 이물질에 의한 챔버 내부 오염을 억제하고, 유지 보수가 용이한 기판 처리 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate processing apparatus capable of suppressing contamination of a chamber by a foreign substance and facilitating maintenance.

일반적으로 반도체 소자는 기판 상에 여러 가지 물질을 박막 형태로 증착하고 이를 패터닝하여 제조된다. 이를 위하여 증착 공정, 식각 공정, 세정 공정 및 건조 공정 등 여러 단계의 서로 다른 공정이 요구된다. 각각의 공정에서 기판은 해당 공정의 진행에 최적의 조건을 제공하는 공정 챔버에 장착되어 처리된다. In general, a semiconductor device is manufactured by depositing various materials on a substrate in a thin film form and patterning the same. For this purpose, different processes such as a deposition process, an etching process, a cleaning process, and a drying process are required. In each process, the substrate is mounted and processed in a process chamber that provides optimal conditions for the progress of the process.

근래에는 반도체 소자의 고집적화에 따라 공정의 고정밀도와, 복잡화, 웨이퍼의 대구경화 등이 요구되고 있다. 또한 복합 공정의 증가나 매엽식화에 수반되는 쓰루풋(thoroughput)의 향상이라는 관점에서 반도체 소자 제조 공정을 일괄 처리할 수 있는 클러스터 타입(cluster type)의 반도체 제조 장치가 사용되고 있다. 2. Description of the Related Art In recent years, there has been a demand for high precision and complexity of a process, large-scale wafer hardening, and the like in accordance with high integration of semiconductor devices. In addition, a cluster type semiconductor manufacturing apparatus capable of collectively processing a semiconductor device manufacturing process is used from the viewpoint of an increase in complex processes and an improvement in thoroughput accompanying sintering.

클러스터 타입의 반도체 제조 장치는 실질적인 공정이 이루어지는 복수의 공정 챔버(process chamber)들과, 공정 챔버들 내부로 기판을 이송하거나 공정 챔버들 간에 기판을 이송하기 위한 이송 공간이 형성되어 있는 트랜스퍼 챔버(transfer chamber) 등을 구비한다. 또한, 반도체 제조 장치에는 기판 등의 자재가 적재되는 카세트가 장착되는 로드 락 챔버가 구비된다. 로드 락 챔버는 내부에 카세트를 반입 또는 반출 시키는 경우에는 대기압 상태로 되었다가, 카세트가 반입된 이후에는 내부 공기를 내부 공기를 배출시켜 고압의 진공 상태를 형성한다. 이와 같이 로드 락 챔버는 대기압과 진공을 반복하여 형성함으로써 대기압 상태와 진공 상태를 번갈아가며 형성하여 기판이 이동되는 장소, 즉 공정 챔버의 환경과 일치시킨다. The cluster type semiconductor manufacturing apparatus includes a plurality of process chambers in which a substantial process is performed, a transfer chamber (transfer) chamber in which a transfer space for transferring the substrate into the process chambers or transferring the substrates between the process chambers is formed chamber and the like. Further, the semiconductor manufacturing apparatus is provided with a load lock chamber on which a cassette on which a material such as a substrate is loaded is mounted. When the cassette is loaded or unloaded, the load lock chamber is at atmospheric pressure, and after the cassette is loaded, the inner air is discharged to form a high-pressure vacuum state. Thus, the load lock chamber is formed by alternately repeating the atmospheric pressure and the vacuum so as to alternate between the atmospheric pressure state and the vacuum state, thereby matching the environment where the substrate is moved, that is, the environment of the process chamber.

통상적으로 카세트에는 복수의 기판이 적재된 상태로 로드 락 챔버에 장착되고, 기판를 처리하는 공정이 진행되는 동안 카세트를 일방향, 예컨대 상하방향으로 이동시키면서 기판 이송 로봇을 이용하여 공정 챔버와 연통되는 게이트를 통해 기판을 반입 또는 반출시킨다. Typically, a cassette is mounted on a load lock chamber with a plurality of substrates stacked thereon. While the cassette is moving in one direction, for example, up and down, while the substrate processing process is proceeding, a gate communicating with the process chamber using a substrate transfer robot Thereby bringing the substrate in or out.

그런데 공정 효율 및 생산성을 증대시키기 위하여 카세트에 적재되는 기판의 수량을 증가시킴에 따라 챔버 내에서 카세트가 이동하는 거리가 증가하게 되었다. 이에 카세트를 안정적으로 이동시키기 위하여 챔버 내부에 카세트의 이동을 안내하는 가이드 수단이 구비되어 있다. 예컨대 가이드 수단은 카세트의 길이 방향을 따라 회전 가능하도록 배치되는 회전축과, 회전축과 카세트를 연결하고 회전축의 회전 방향에 따라 회전축의 길이 방향으로 이동하는 구동부재를 포함할 수 있다. However, as the number of substrates loaded on the cassette increases to increase process efficiency and productivity, the distance traveled by the cassette in the chamber increases. In order to stably move the cassette, guiding means for guiding the movement of the cassette inside the chamber is provided. For example, the guiding means may include a rotating shaft arranged to be rotatable along the longitudinal direction of the cassette, and a driving member connecting the rotating shaft and the cassette and moving in the longitudinal direction of the rotating shaft according to the rotating direction of the rotating shaft.

그러나 이러한 가이드 수단은 챔버 내부에 구비되기 때문에 카세트를 이동시키는 과정에서 회전축과 구동부재 간에 발생하는 마찰에 의해 이물질이 발생하여 챔버 내부 공간을 오염시키는 문제점이 있다. However, since the guiding means is provided inside the chamber, there is a problem that foreign substances are generated due to the friction generated between the rotary shaft and the driving member during the movement of the cassette, thereby contaminating the chamber interior.

또한, 구동부재가 회전축을 따라 원활하게 이동하도록 진공 상태에서 사용 가능한 고가의 윤활제가 사용되고, 챔버 내부를 밀폐시키면서 회전축에 동력을 제공하기 위해 액체자석(Ferrofluid seal) 등과 같은 고가의 기밀부재가 사용되는 등 장치를 유지하는데 소요되는 비용이 증가하는 문제점이 있다. Further, an expensive lubricant that can be used in a vacuum state is used so that the driving member smoothly moves along the rotation axis, and an expensive hermetic member such as a ferrofluid seal is used to provide power to the rotary shaft while sealing the inside of the chamber There is a problem that the cost for maintaining the backlight device is increased.

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본 발명은 이물질에 의한 챔버의 오염을 억제할 수 있는 기판 처리 장치를 제공한다. The present invention provides a substrate processing apparatus capable of suppressing contamination of a chamber by a foreign substance.

본 발명은 유지 보수 비용을 절감할 수 있는 기판 처리 장치를 제공한다. The present invention provides a substrate processing apparatus capable of reducing the maintenance cost.

본 발명의 실시 형태에 따른 기판 처리 장치는, 내부공간이 형성되는 챔버와; 상기 챔버의 내부공간을 가로지르며 신축 가능하게 배치되며, 내부에 상기 내부공간과 분리되고 외부와 연통되는 중공부가 형성되는 가이드 관; 및 상기 챔버 내부에 구비되고 상기 가이드 관의 적어도 일부에 연결되는 지지프레임;을 포함하고, 상기 가이드 관은, 상기 지지프레임과 연결되는 지지관과, 상기 지지관의 상부 및 하부에 각각 연결되고, 적어도 일부가 상기 지지관의 길이방향을 따라 신축 가능하도록 형성되는 유동관을 포함하는 것을 특징으로 한다.A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes: a chamber in which an internal space is formed; A guide tube which is arranged to extend and retract across the inner space of the chamber and has a hollow portion separated from the inner space and communicating with the outside; And a support frame disposed inside the chamber and connected to at least a portion of the guide tube, wherein the guide tube includes: a support tube connected to the support frame; And at least a part of which is formed so as to be able to expand and contract along the longitudinal direction of the support tube.

상기 가이드 관은 상기 챔버에서 서로 대향하는 면을 가로지르도록 배치될 수 있다. The guide tube may be arranged to cross the mutually facing surfaces in the chamber.

상기 지지프레임에는 복수의 기판을 적층하는 카세트가 장착되고, 상기 가이드 관은 복수 개가 이격되어 구비되며, 상기 복수 개의 가이드 관은 상기 지지프레임에 연결될 수 있다. The support frame is equipped with a cassette for stacking a plurality of substrates, a plurality of the guide pipes are spaced apart from each other, and the plurality of guide pipes may be connected to the support frame.

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상기 유동관의 적어도 일부에는 상기 가이드 관의 길이 방향을 따라 신축되는 주름관이 구비될 수 있다. At least a part of the flow tube may be provided with a corrugated tube extending and contracted along the longitudinal direction of the guide tube.

상기 복수의 가이드 관 중 적어도 일부에는 양단부가 회전 가능하도록 상기 챔버에 연결되는 회전축이 구비되고, 상기 회전축의 외주면에는 상기 회전축의 회전 방향에 따라 상기 회전축의 길이 방향을 따라 이동하는 이동부재가 연결되며, 상기 가이드 관에는 상기 지지프레임과 상기 이동부재를 연결하는 연결부재가 구비될 수 있다. At least a part of the plurality of guide pipes is provided with a rotating shaft connected to the chamber so that both ends thereof are rotatable. A moving member moving along the longitudinal direction of the rotating shaft is connected to the outer circumferential surface of the rotating shaft along the rotating direction of the rotating shaft And the guide pipe may be provided with a connecting member for connecting the supporting frame and the moving member.

상기 회전축과 상기 챔버의 연결부위에는 상기 가이드 관 내부와 연통되는 통공이 형성될 수 있다. And a through hole communicating with the inside of the guide tube may be formed at a connection portion between the rotation shaft and the chamber.

상기 회전축은 외주면에 나사산이 형성된 스크류이고, 상기 이동부재는 볼 너트일 수 있다. The rotating shaft may be a screw having a thread formed on the outer peripheral surface thereof, and the moving member may be a ball nut.

상기 회전축의 양단부 중 어느 하나에는 상기 회전축에 회전력을 제공하는 구동기가 연결될 수 있다. A driver for providing a rotational force to the rotary shaft may be connected to one of both ends of the rotary shaft.

상기 복수의 가이드 관 중 적어도 일부에는 양 단부가 상기 챔버와 연결되는 가이드 로드가 구비되고, 상기 가이드 관에는 상기 지지프레임과 연결되어 상기 가이드 로드의 길이 방향을 따라 이동하는 연결부재가 구비될 수 있다. At least a part of the plurality of guide pipes may be provided with a guide rod having both ends connected to the chamber, and the guide pipe may be provided with a connecting member connected to the support frame and moving along the longitudinal direction of the guide rod .

상기 가이드 로드와 상기 챔버의 연결부위에는 상기 가이드 관 내부와 연통되는 통공이 형성될 수 있다. A through hole communicating with the inside of the guide tube may be formed at a connecting portion between the guide rod and the chamber.

상기 연결부재는 볼 부쉬일 수 있다. The connecting member may be a ball bush.

본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치에 의하면, 챔버 내부에 외부와 연통되고 길이 조절이 가능한 가이드 관을 설치하고, 가이드 관에 기판이 적재되는 카세트가 장착되는 지지프레임을 연결하여 가이드 관의 길이에 따라 카세트의 위치를 조절할 수 있다. 이에 카세트의 위치를 조절하기 위한 구동수단 및 가이드 수단을 챔버 내부와 분리하여 설치할 수 있어, 카세트의 위치를 조절하는 과정에서 발생하는 이물질에 의해 챔버 내부가 오염되는 현상을 억제 혹은 방지할 수 있다. In the substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention, a guide pipe communicating with the outside and adjustable in length is provided inside the chamber, and a support frame on which a cassette on which a substrate is mounted is connected to a guide pipe, The position of the cassette can be adjusted. The driving means and the guiding means for adjusting the position of the cassette can be installed separately from the inside of the chamber so that contamination of the inside of the chamber can be suppressed or prevented by the foreign substances generated in the course of adjusting the position of the cassette.

또한, 지지프레임을 이동시키기 위한 구동수단 및 가이드 수단을 가이드 관을 통해 챔버 내부와 분리되도록 연결하여 챔버의 내부공간을 밀폐하기 위한 고가의 밀폐수단이나 지지프레임의 원활한 이동을 위해 고가의 윤활제를 사용할 필요가 없어 장치를 유지하는데 소요되는 비용을 절감할 수 있다. The driving means and the guiding means for moving the supporting frame are connected to the inside of the chamber through a guide tube so as to separate the inner space of the chamber and use an expensive sealing means or an expensive lubricant for smooth movement of the supporting frame. There is no need to reduce the cost of maintaining the device.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 평면도.
도 2는 도 1에 도시된 선A-A에 따른 단면도.
도 3은 도 1에 도시된 선B-B에 따른 단면도.
도 4는 도 1에 도시된 선C-C에 따른 단면도.
도 5 및 도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 사용 상태도. 1 is a plan view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention;
2 is a sectional view taken along the line AA shown in Fig.
3 is a sectional view taken along the line BB shown in Fig.
4 is a cross-sectional view taken along the line CC shown in Fig.
FIG. 5 and FIG. 6 are usage states of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공 되는 것이다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, It is provided to let you know. Wherein like reference numerals refer to like elements throughout.

먼저, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 복수의 기판을 적재할 수 있는 카세트를 이동시키는 구동수단을 진공 상태인 챔버 내부와 분리되도록 형성하여, 카세트를 이동시키는 과정에서 발생하는 이물질이 챔버 내부를 오염시키는 것을 억제 혹은 방지할 수 있다. 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 반도체공정, LCD(Liquid Crystal Display), OLED(Organic Light Emitting Diodes) 제조에 사용되는 다양한 크기의 기판 등과 같은 처리 대상을 상하방향이나 수평방향으로 이동시키면서 진공 공정을 수행하는 공정 챔버나, 공정 챔버에 기판을 공급하는 기판 적재 챔버 및 로드 록 챔버 등에 적용될 수 있다.
First, the substrate processing apparatus according to the present invention is characterized in that driving means for moving a cassette capable of loading a plurality of substrates is formed so as to be separated from the inside of the chamber in a vacuum state, so that foreign substances generated in the process of moving the cassette are contaminated Can be suppressed or prevented. The substrate processing apparatus according to the present invention performs a vacuum process while moving an object to be processed such as a semiconductor process, a liquid crystal display (LCD), a substrate of various sizes used for manufacturing OLED (Organic Light Emitting Diodes) A substrate loading chamber and a load lock chamber for supplying a substrate to the process chamber, and the like.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 평면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 선A-A에 따른 단면도이고, 도 3은 도 1에 도시된 선B-B에 따른 단면도이고, 도 4는 도 1에 도시된 선C-C에 따른 단면도이고, 도 5 및 도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 사용 상태도이다. 1 is a cross-sectional view taken along the line AA shown in FIG. 1, FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line BB shown in FIG. 1, and FIG. 4 is a cross- FIG. 5 is a sectional view taken along the line CC of FIG. 1, and FIG. 6 is a state of use of the substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치는, 내부공간을 제공하는 챔버(100)와, 챔버(100)의 내부공간을 가로지르며 신축 가능하게 배치되고, 내부에 상기 내부공간과 분리되며 외부와 연통되는 중공부가 형성되는 가이드 관(150a, 150b) 및 챔버(100) 내부에 구비되고 가이드 관(150a, 150b)의 적어도 일부에 연결되는 지지프레임(200)을 포함한다. Referring to FIGS. 1 to 4, a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a chamber 100 for providing an internal space, a chamber 100 arranged to extend and retract across the internal space of the chamber 100, A guide pipe 150a and 150b separated from the inner space and having a hollow portion communicating with the outside and a support frame 200 provided in the chamber 100 and connected to at least a part of the guide pipes 150a and 150b do.

챔버(100)는 내부에 카세트(220)를 수용하는 내부공간이 형성되는 구성으로서, 대략적인 형상은 도시된 바와 같이 중공의 박스 형상으로 형성될 수 있다. 챔버(100)는 하나의 몸체로 형성될 수도 있으나, 여러 부품이 연결 또는 결합된 조립 몸체로 형성될 수도 있는데, 이 경우 각 부품 간의 연결 부위에는 밀폐(sealing) 수단(미도시)이 부가적으로 구비될 수 있다. 이에 따라 챔버(100) 내부에 진공을 용이하게 형성할 수 있다. The chamber 100 has a structure in which an internal space for accommodating the cassette 220 is formed, and the rough shape may be formed in a hollow box shape as shown in the figure. The chamber 100 may be formed as a single body, but may be formed as an assembly body in which various components are connected or combined. In this case, a sealing means (not shown) . Thus, a vacuum can be easily formed inside the chamber 100.

챔버(100) 하부에는 챔버(100)를 지지하는 지지대(400)가 구비될 수 있다. 이때, 챔버(100)와 지지대(400) 사이에 공간을 형성하여 챔버(100)에 연결되는 후술하는 배기관, 구동기 등을 설치할 수 있다. The chamber 100 may have a support 400 supporting the chamber 100 under the chamber 100. At this time, an exhaust pipe, a driver, etc., which will be described later, connected to the chamber 100 by forming a space between the chamber 100 and the support table 400, may be installed.

챔버(100)는 내부 공간이 형성되고, 적어도 일측에 개구(120)가 형성되는 챔버 몸체(102)와, 개구(120)를 개폐하는 도어(104)를 포함한다. 개구(120)를 통해서는 기판이 적재된 카세트(220)를 챔버 몸체(102) 내부로 반입하거나 카세트(220)를 챔버 몸체(102) 내에서 외부로 반출할 수 있다. The chamber 100 includes a chamber body 102 having an internal space formed therein and having an opening 120 formed at least at one side thereof and a door 104 for opening and closing the opening 120. The cassette 220 on which the substrate is loaded can be carried into the chamber body 102 through the opening 120 or the cassette 220 can be taken out from the chamber body 102 to the outside.

챔버 몸체(102)는 상부에 복수의 상부 관통구(106)가 형성되고, 하부에는 상부 관통구(106)와 대응하는 위치에 하부 관통구(108)가 형성될 수 있다. 그리고 챔버 몸체(102)에서 개구(120)에 대향하는 타측 측벽에는 카세트(220)에 적재된 기판을 공정 챔버로 반입시키거나 공정 챔버에서 처리된 기판을 카세트(220)에 적재하기 위한 게이트(110)가 형성될 수 있다. 여기에서는 개구(120)와 게이트(110)가 서로 대향하는 방향에 배치된 것으로 설명하고 있으나, 챔버(100)의 형상이나 챔버(100)와 연결되는 다른 공정 챔버와의 연결 구조에 따라 다양하게 변경 가능하다.The chamber body 102 may have a plurality of upper through-holes 106 formed therein and a lower through-hole 108 formed at a lower portion thereof corresponding to the upper through-hole 106. And the other side wall of the chamber body 102 facing the opening 120 is provided with a gate 110 for loading the substrate loaded into the cassette 220 into the process chamber or loading the substrate processed in the process chamber onto the cassette 220 May be formed. Although it is described herein that the opening 120 and the gate 110 are disposed in the directions opposite to each other, various changes may be made according to the shape of the chamber 100 and the connection structure between the chamber 100 and another process chamber connected to the chamber 100 It is possible.

그리고 도면에는 도시되지 않았지만, 챔버(100)에는 챔버(100) 내부에 진공을 형성하기 위해 챔버(100) 내부의 가스나 공기 등을 배출시키는 배기구(미도시)가 형성될 수 있다. 그리고 배기구를 통해 챔버(100) 내부의 가스나 공기를 보다 효과적으로 배출시키기 위해서는 배기구와 연결되는 배기라인(미도시) 상에 펌프(미도시)를 장착할 수도 있다. Although not shown in the drawing, the chamber 100 may have an exhaust port (not shown) for exhausting gas, air, or the like in the chamber 100 to form a vacuum inside the chamber 100. A pump (not shown) may be mounted on an exhaust line (not shown) connected to the exhaust port to more effectively discharge the gas or air in the chamber 100 through the exhaust port.

또한, 챔버(100) 내부에는 상부 관통구(106)와 하부 관통구(108)를 상호 연결하는 가이드 관(150a, 150b)이 구비될 수 있다. 가이드 관(150a, 150b)은 내부에 중공부를 구비하고, 가이드 관(150a, 150b)의 상부는 상부 관통구(106)에 하부는 하부 관통구(108)에 각각 연결되어 챔버(100)의 내부 공간을 가로지르도록 배치된다. 가이드 관(150a, 150b)은 양 단부가 제1고정부재(160)에 의해 챔버 몸체(102)에 연결되어 챔버(100)의 내부공간과 가이드 관(150a, 150b)의 내부를 상호 분리시킨다. The chamber 100 may include guide pipes 150a and 150b for connecting the upper and lower through holes 106 and 108 to each other. The guide pipes 150a and 150b have hollow portions therein and the upper portions of the guide pipes 150a and 150b are connected to the upper through hole 106 and the lower portion of the guide pipes 150a and 150b are connected to the lower through hole 108, And is arranged to cross the space. Both end portions of the guide pipes 150a and 150b are connected to the chamber body 102 by the first fixing member 160 to separate the interior space of the chamber 100 from the inside of the guide pipes 150a and 150b.

제1고정부재(160)는 챔버 몸체(102)에 가이드 관(150a, 150b)을 긴밀하게 연결하여 챔버(100)의 내부공간이 외부와 완전하게 차단되도록 한다. 이에 챔버(100) 내부에 진공을 형성하는 경우 챔버(100)의 내부공간은 진공상태를 유지하고, 가이드 관(150a, 150b)의 중공부는 외부와 연통되어 대기압 분위기를 형성한다. The first fixing member 160 tightly connects the guide pipes 150a and 150b to the chamber body 102 so that the inner space of the chamber 100 is completely blocked from the outside. Accordingly, when the vacuum is formed inside the chamber 100, the inner space of the chamber 100 maintains a vacuum state, and the hollow portions of the guide pipes 150a and 150b communicate with the outside to form an atmospheric pressure atmosphere.

가이드 관(150a, 150b)은 양 단부가 챔버 몸체(102)에 고정된 상태로 신장 및 수축이 가능하도록 설치될 수 있다. 가이드 관(150a, 150b)은 챔버 몸체(102)의 상부 관통구(106)에 연결되는 상부 유동관(154)과, 하부 관통구(108)에 연결되는 하부 유동관(156)과, 상부 유동관(154)과 하부 유동관(156)을 연결하는 지지관(152)을 포함할 수 있다. 이때, 상부 유동관(154)과 하부 유동관(156)의 적어도 어느 한 쪽 끝단에는 길이 조절이 가능한 주름관(154b, 156b)이 구비되어, 상부 유동관(154), 지지관(152) 및 하부 유동관(156)으로 형성되는 가이드 관(150a, 150b)을 부분적으로 신장 및 수축시킬 수 있다. The guide pipes 150a and 150b may be installed such that both end portions thereof can be stretched and contracted while being fixed to the chamber body 102. The guide tubes 150a and 150b include an upper flow tube 154 connected to the upper through hole 106 of the chamber body 102, a lower flow tube 156 connected to the lower through hole 108, And a support pipe 152 connecting the lower flow pipe 156 and the lower flow pipe 156. [ At least one end of the upper flow tube 154 and the lower flow tube 156 is provided with corrugated tubes 154b and 156b which can be adjusted in length so that the upper flow tube 154, The guide tubes 150a and 150b may be partially stretched and contracted.

상부 유동관(154)과 하부 유동관(156) 각각은 유동관 몸체(154a, 156a)와 유동관 몸체(154a, 156a)의 적어도 일측 단부에 주름관(154b, 156b)이 구비될 수 있다. 유동관 몸체(154a, 156a)는 일자형으로 형성되고 내부에 중공부가 형성되고, 주름관(154b, 156b)은 유동관 몸체(154a, 156a)의 양단중 적어도 어느 한 쪽에 용접 등을 통해 일체로 연결될 수 있다. 주름관(154b, 156b)은 유동관 몸체(154a, 156a)과 동일하거나 유사한 재질로 형성될 수 있고, 유동관 몸체(154a, 156a)의 길이 방향으로 신장 또는 수축 가능하도록 연결될 수 있다. 도면에서는 주름관(154b, 156b)이 상부 유동관(154)과 하부 유동관(156)의 양단부에 각각 형성된 것으로 도시하고 있으나, 주름관(154b, 156b)은 상부 유동관(154)과 하부 유동관(156)의 적어도 어느 한 쪽 단부에만 형성될 수도 있다. The upper flow tube 154 and the lower flow tube 156 may be provided with corrugated tubes 154b and 156b at at least one end of the flow tube bodies 154a and 156a and the flow tube bodies 154a and 156a. The flow tube bodies 154a and 156a are formed in a straight shape and have a hollow portion formed therein and the corrugated tubes 154b and 156b may be integrally connected to at least one of both ends of the flow tube bodies 154a and 156a through welding or the like. The corrugated tubes 154b and 156b may be formed of the same or similar material as the flow tube bodies 154a and 156a and may be connected to extend or contract in the longitudinal direction of the flow tube bodies 154a and 156a. Although the corrugated pipes 154b and 156b are formed at both ends of the upper flow pipe 154 and the lower flow pipe 156 in the drawing, the corrugated pipes 154b and 156b are formed at least in the upper flow pipe 154 and the lower flow pipe 156, But may be formed only at one end.

지지관(152)은 일자형으로 형성되고 내부에 중공부가 형성될 수 있다. 지지관(152)은 상부 유동관(154)의 일측과 하부 유동관(156)의 일측에 체결부재(158)를 통해 긴밀하게 연결될 수 있다. 지지관(152)은 상부 유동관(154)과 하부 유동관(156)의 신축에 의해 챔버(100) 내에서 상하방향으로 이동할 수 있다. 그리고 지지관(152)에는 복수의 기판이 적재되는 카세트(220)를 안착시키는 지지프레임(200)이 연결될 수 있다. The support pipe 152 may be formed in a straight shape and a hollow portion may be formed therein. The support pipe 152 may be tightly connected to one side of the upper flow pipe 154 and one side of the lower flow pipe 156 through a fastening member 158. The support pipe 152 can move up and down in the chamber 100 by expansion and contraction of the upper flow pipe 154 and the lower flow pipe 156. A support frame 200 may be connected to the support tube 152 to seat the cassette 220 on which a plurality of substrates are mounted.

이와 같이 구성된 가이드 관(150a, 150b)은 챔버(100) 내부에 하나만 형성될 수 있으나, 지지프레임(200)을 안정적으로 이동시키기 위해서는 적어도 2개 이상이 이격되어 구비되는 것이 좋다. Only one guide tube 150a or 150b may be formed in the chamber 100, but at least two guide pipes 150a and 150b may be provided in order to stably move the support frame 200.

지지프레임(200)은 챔버(100) 내부에 구비되어 복수의 기판이 적재된 카세트(220)를 지지하고, 가이드 관(150a, 150b), 보다 바람직하게는 지지관(152)에 연결되어 상부 유동관(154) 또는 하부 유동관(156)의 신축에 의해 상하 방향으로 이동한다. 이때, 가이드 관(150a, 150b)은 지지프레임(200)의 가장자리를 따라 배치되어 지지프레임(200)과 연결될 수 있다. 가이드 관(150a, 150b)과 지지프레임(200) 간의 연결 구조는 후술하기로 한다. The support frame 200 is installed inside the chamber 100 to support the cassette 220 on which the plurality of substrates are mounted and is connected to the guide pipes 150a and 150b, (154) or the lower flow tube (156). At this time, the guide pipes 150a and 150b may be disposed along the edge of the support frame 200 and connected to the support frame 200. The connection structure between the guide pipes 150a and 150b and the support frame 200 will be described later.

구동수단(300)은 복수의 가이드 관(150a, 150b) 중 적어도 일부(150a)에 구비되는 회전축(320)과, 회전축(320)의 외주면에 구비되어 회전축(320)의 길이 방향을 따라 이동하는 이동부재(324)와, 회전축(320)의 적어도 어느 한 쪽 단부에 연결되어 회전축(320)에 회전력을 제공하는 구동기(310)를 포함한다.The driving means 300 includes a rotating shaft 320 provided at at least a portion 150a of the plurality of guide pipes 150a and 150b and a plurality of guide pipes 150a and 150b disposed on the outer peripheral surface of the rotating shaft 320, A moving member 324 and a driver 310 connected to at least one of the ends of the rotating shaft 320 to provide rotational force to the rotating shaft 320.

회전축(320)은 가이드 관(150a) 내부에 가이드 관(150a)의 길이 방향을 따라 배치되고, 양쪽 단부는 챔버 몸체(102)에 회전 가능하도록 제2고정부재(314)에 의해 연결된다. 회전축(320)은 외주면에 나사산이 형성되어 있는 스크류일 수 있다. 이때, 회전축(320)은 가이드 관(150a)의 내주면과 이격되도록 배치되어, 가이드 관(150a)의 내부면과 회전축(320) 외주면 사이에 유통로(311)를 형성함으로써 회전축(320)의 회전을 용이하게 하고, 주름관(154b, 156b)의 신축을 원활하게 할 수 있다. The rotary shaft 320 is disposed inside the guide tube 150a along the longitudinal direction of the guide tube 150a and both ends thereof are connected to the chamber body 102 by a second fixing member 314 so as to be rotatable. The rotating shaft 320 may be a screw having a thread formed on the outer peripheral surface. The rotation shaft 320 is spaced apart from the inner circumferential surface of the guide tube 150a so that the flow path 311 is formed between the inner surface of the guide tube 150a and the outer circumferential surface of the rotation shaft 320, And the expansion and contraction of the corrugated pipes 154b and 156b can be smoothly performed.

회전축(320)은 제2고정부재(314)에 의해 챔버 몸체(102)에 고정되는데, 이때 제2고정부재(314)에는 유통로(311), 즉 가이드 관(150a)의 내부와 연통되는 통공(316)이 형성될 수 있다. 통공(316)은 가이드 관(150a)의 내부와 외부를 연통시켜 가이드 관(150a)의 내부를 대기압 상태로 만들어주는 역할을 한다. 이는 가이드 관(150a, 150b)이 회전축(320)의 길이 방향을 따라 이동할 때 주름관(154b, 156b)에 의해 신장 또는 수축하게 되는데, 주름관(154b, 156b)이 신장 또는 수축하는 과정에서 가이드 관(150a) 내부에 공기의 흐름이 발생하여 가이드 관(150a) 내부에서 압력 변화가 발생하기 때문인데, 통공(316)을 통해 가이드 관(150a) 내부의 압력변화를 조절해주기 위함이다. 예컨대 가이드 관(150a)의 주름관(154b, 156b)이 신장하는 경우 외부 공기가 통공(316)을 통해 가이드관(150a) 내부로 유입되고, 주름관(154b, 156b)이 수축하는 경우에는 통공(316)으로 가이드 관(150a, 150b) 내부의 공기가 배출되어 가이드 관(150a) 내부 압력을 일정하게 유지시킬 수 있다. 만약 가이드 관(150a)의 상부 및 하부가 회전축(320)과 챔버 몸체(102)의 연결에 의해 밀폐된다면, 가이드 관(150a)의 내부 압력에 의해 주름관(154b, 156b)을 신장 또는 수축시키기 위해 구동수단(300)에 부하가 발생할 수 있고, 지지관(152)과 상부 유동관(154) 및 하부 유동관(156)의 연결부위가 파손될 수 있는 문제점이 발생하기 때문이다. The rotation shaft 320 is fixed to the chamber body 102 by a second fixing member 314. The second fixing member 314 is provided with a passage 311, (316) may be formed. The through hole 316 serves to communicate the inside and the outside of the guide pipe 150a to make the inside of the guide pipe 150a at atmospheric pressure. This is because the guide tubes 150a and 150b are extended or contracted by the corrugated tubes 154b and 156b when the guide tubes 150a and 150b move along the longitudinal direction of the rotating shaft 320. When the corrugated tubes 154b and 156b are stretched or contracted, The flow of air is generated in the guide pipe 150a to change the pressure inside the guide pipe 150a so as to control the pressure change inside the guide pipe 150a through the through hole 316. [ For example, when the corrugated pipes 154b and 156b of the guide pipe 150a extend, the outside air flows into the guide pipe 150a through the through holes 316. When the corrugated pipes 154b and 156b contract, The air inside the guide pipes 150a and 150b is discharged, and the pressure inside the guide pipe 150a can be maintained constant. If the upper and lower portions of the guide pipe 150a are sealed by the connection between the rotation shaft 320 and the chamber body 102, the inner pressure of the guide pipe 150a may be used to extend or contract the corrugated pipes 154b and 156b A load may be generated in the driving means 300 and a connecting portion between the support pipe 152 and the upper flow pipe 154 and the lower flow pipe 156 may be damaged.

이동부재(324)는 회전축(320)의 회전에 따라 회전축(320)의 길이 방향을 따라 이동한다. 즉, 이동부재(324)는 회전축(320)의 회전운동을 직선운동으로 변환하는 운동변환 수단이다. 이동부재(324)는 스크류의 나사산을 따라 이동하는 볼 너트일 수 있다.The movable member 324 moves along the longitudinal direction of the rotation shaft 320 in accordance with the rotation of the rotation shaft 320. [ That is, the moving member 324 is a motion converting means for converting the rotational motion of the rotating shaft 320 into a linear motion. The shifting member 324 may be a ball nut that moves along the threads of the screw.

한편, 이동부재(324)는 지지프레임(200)과 가이드 관(150a)을 연결하는 제1연결부재(326)를 통해 지지프레임(200)과 연결될 수 있다. 이동부재(324)는 제1연결부재(326)를 통해 지지프레임(200)과 연결된 상태로 회전축(320)의 길이 방향을 따라 이동하게 된다. 이때, 제1연결부재(326)는 이동부재(324)의 상부 및 하부에서 회전축(320)을 지지하도록 연결되어 회전축(320)의 길이 방향을 따라 이동하도록 연결될 수 있다. 제1연결부재(326)는 가이드 관(150a), 예컨대 상부 유동관(154)과 지지관(152) 사이에 구비될 수 있는데, 이 경우 상부 유동관(154)과 제1연결부재(326) 사이 및 지지관(152)과 제1연결부재(326) 사이에 체결부재(158) 구비하여 각각의 연결부위를 긴밀하게 연결할 수 있다. The moving member 324 may be connected to the support frame 200 through a first connection member 326 connecting the support frame 200 and the guide pipe 150a. The moving member 324 moves along the longitudinal direction of the rotating shaft 320 while being connected to the supporting frame 200 through the first connecting member 326. [ The first connection member 326 may be connected to support the rotary shaft 320 at the upper and lower portions of the moving member 324 and may be connected to move along the longitudinal direction of the rotary shaft 320. The first connecting member 326 may be provided between the guide tube 150a, for example, the upper flow tube 154 and the support tube 152, in this case, between the upper flow tube 154 and the first connecting member 326, A fastening member 158 is provided between the support pipe 152 and the first connection member 326 so that the respective connection parts can be tightly connected.

구동기(310)는 챔버(100)의 외부에서 회전축(320)의 일측에 연결되어 회전축(320)에 회전력을 제공한다. 구동기(310)는 구동축(312)을 구비하고, 구동축(312)에 회전력을 제공하는 회전력을 발생시키는 모터가 사용될 수 있다. 이때, 모터로는 서보 모터, DC 모터 등이 사용될 수 있으며, 지지프레임(200)의 위치를 정밀하게 제어하기 위해서는 모터로서 서보 모터를 사용하는 것이 좋다. The driver 310 is connected to one side of the rotation shaft 320 from the outside of the chamber 100 to provide rotational force to the rotation shaft 320. The driver 310 may include a drive shaft 312 and may be a motor that generates a rotational force to provide a rotational force to the drive shaft 312. At this time, a servo motor, a DC motor, or the like may be used as the motor. In order to precisely control the position of the support frame 200, it is preferable to use a servo motor as a motor.

구동기(310)는 구동축(312)을 통해 챔버(100)의 외부에서 회전축(320)에 직접 연결될 수도 있지만, 구동기(310)의 설치 위치에 따라 구동축(312)과 회전축(320) 사이에 기어박스를 배치시켜 연결할 수도 있다. The driving unit 310 may be directly connected to the rotating shaft 320 from the outside of the chamber 100 through the driving shaft 312. The driving unit 310 may be installed between the driving shaft 312 and the rotating shaft 320, It is also possible to dispose them.

이러한 구성을 통해 구동기(310)에서 발생한 회전력은 회전축(320)으로 제공되고, 이에 따라 회전축(320)이 회전하면 회전축(320)의 외주면에 구비되는 이동부재(324)가 회전축(320)의 회전 방향을 따라 회전축(320)의 길이 방향으로 상승 또는 하강하게 된다. 그리고 제1연결부재(326)를 통해 이동부재(324)에 연결된 지지관(152)은 이동부재(324)의 이동방향을 따라 회전축(320)의 길이 방향으로 상승 또는 하강하게 된다. 이에 지지관(152)의 상부 및 하부에 각각 연결된 상부 유동관(154)과 하부 유동관(156)은 신장 또는 수축하게 되고, 지지관(152)에 연결된 지지프레임(200)은 챔버(100) 내에서 지지관(152)과 함께 상승 또는 하강하게 된다. When the rotation shaft 320 rotates, the moving member 324 provided on the outer circumferential surface of the rotation shaft 320 rotates by the rotation of the rotation axis 320, And is raised or lowered in the longitudinal direction of the rotary shaft 320 along the direction of the rotation shaft 320. [ The supporting pipe 152 connected to the moving member 324 through the first connecting member 326 is moved upward or downward along the moving direction of the moving member 324 in the longitudinal direction of the rotating shaft 320. The upper flow tube 154 and the lower flow tube 156 connected to the upper and lower portions of the support tube 152 are extended or contracted and the support frame 200 connected to the support tube 152 is expanded in the chamber 100 And is raised or lowered together with the support pipe 152.

상기 구동수단(300)은 적어도 하나가 구비될 수 있으며, 바람직하게는 한 쌍이 구비되어 지지프레임(200)을 안정적으로 이동시키는 것이 좋다. 이 경우 한 쌍의 구동기(310)가 동시에 작동 또는 정지해야 하므로 한 쌍의 구동기(310)는 동기 제어를 하는 것이 바람직하다.At least one of the driving means 300 may be provided, and preferably a pair of the driving means 300 may be provided to stably move the supporting frame 200. In this case, since the pair of drivers 310 must be operated or stopped at the same time, it is preferable that the pair of drivers 310 perform synchronous control.

한편, 챔버(100) 내에 구비되는 복수의 가이드 관(150a, 150b) 중 일부에는 전술한 바와 같이 지지프레임(200)을 상승 또는 하강시키기 위한 구동수단(300)이 연결될 수 있고, 나머지 가이드 관(150b)에는 지지프레임(200)을 안정적으로 이동시키기 위한 가이드 수단(350)이 구비될 수 있다. 가이드 수단(350)은 가이드 관(150b) 내부에 삽입되어 상부 및 하부 단부가 챔버 몸체(102)에 고정설치되는 가이드 로드(352)와, 가이드 관(150b)을 통해 가이드 로드(352)와 지지프레임(200)을 연결하는 제2연결부재(360)를 포함한다. The driving means 300 for raising or lowering the support frame 200 may be connected to a part of the plurality of guide pipes 150a and 150b provided in the chamber 100, 150b may be provided with guide means 350 for stably moving the support frame 200. The guide means 350 includes a guide rod 352 inserted into the guide tube 150b and having upper and lower ends fixed to the chamber body 102 and a guide rod 352 supported by the guide tube And a second connecting member 360 connecting the frame 200.

가이드 로드(352)는 가이드 관(150b) 내부를 따라 배치되어 그 상부 및 하부 끝단이 제3고정부재(354)에 의해 챔버 몸체(102)에 고정된다. 가이드 로드(352)는 구동기(310)에서 발생한 회전력을 제공받아 회전함에 따라 이동부재(324)를 상승 또는 하강시키는 회전축(320)과는 매끄러운 표면을 가질 수 있다. 왜냐하면 회전축(320)은 지지프레임(200)을 실질적으로 상하방향으로 이동시키기 위한 구성이나, 가이드 로드(352)는 상하방향으로 이동하는 지지프레임(200)을 안정적으로 이동시키기 위해 안내하는 구성이기 때문이다. 그리고 가이드 로드(352)는 가이드 관(150b)외 내주면과 이격되도록 형성되어, 가이드 로드(352)의 외주면과 가이드 관(150b)의 내주면 사이에 유통로(351)를 형성하고, 제3고정부재(354)에는 제2고정부재(354)와 같이 유통로(351) 즉, 가이드 관(150b) 내부와 연통되는 통공(356)이 형성될 수 있다.The guide rod 352 is disposed along the inside of the guide tube 150b and its upper and lower ends are fixed to the chamber body 102 by the third fixing member 354. [ The guide rod 352 may have a smooth surface with respect to the rotation axis 320 that moves the moving member 324 upward or downward according to the rotation of the driving unit 310. This is because the rotation shaft 320 is configured to move the support frame 200 substantially in the vertical direction but the guide rod 352 guides the support frame 200 moving in the vertical direction to stably move to be. The guide rod 352 is spaced apart from the inner circumferential surface of the guide tube 150b so that a flow path 351 is formed between the outer circumferential surface of the guide rod 352 and the inner circumferential surface of the guide tube 150b, The second fixing member 354 may be provided with a passage 351 which communicates with the inside of the guide pipe 150b.

그리고 제2연결부재(360)는 가이드 관(150b)을 관통하여 가이드 로드(352)와 지지프레임(200)을 연결하며, 구동수단(300)에 의해 가이드 관(150a)의 길이 방향을 따라 상하방향으로 이동하는 지지프레임(200)과 함께 가이드 로드(352)의 길이 방향을 따라 이동하도록 형성된다. 제2연결부재(360)는 지지프레임(200)을 안정적으로 이동시키기 위하여 하나의 가이드 관(150a, 150b)에 적어도 2개 이상 구비하는 것이 좋다. The second linking member 360 passes through the guide pipe 150b and connects the guide rod 352 and the support frame 200 and moves up and down along the longitudinal direction of the guide pipe 150a by the driving means 300 Along with the support frame 200 moving in the direction of the guide rod 352. [ At least two guide members 150a and 150b may be provided for the second linking member 360 to move the support frame 200 stably.

전술한 제1연결부재(326)와 제2연결부재(360)는 회전축(320) 및 가이드 로드(352)의 길이 방향을 따라 이동할 수 있는 볼 부쉬가 사용될 수 있다. The first connecting member 326 and the second connecting member 360 may be ball bushes that can move along the longitudinal direction of the rotating shaft 320 and the guide rod 352.

이상에서는 가이드 관(150a, 150b)이 챔버(100)의 상하방향으로 가로지르며 형성되고, 지지프레임(200)이 가이드 관(150a, 150b)의 길이 방향, 즉 상하방향으로 이동하는 것으로 설명하고 있으나, 가이드 관(150a, 150b)은 챔버(100)에서 서로 대향하는 면, 예컨대 챔버(100)의 전후 또는 좌우방향으로 가로지르며 형성되고, 지지프레임(200)이 가이드 관(150a, 150b)의 길이 방향, 즉 전후 또는 좌우방향으로 이동할 수도 있다.
It has been described that the guide pipes 150a and 150b are formed so as to traverse the vertical direction of the chamber 100 and that the support frame 200 moves in the longitudinal direction of the guide pipes 150a and 150b, The guide pipes 150a and 150b are formed so as to traverse the surfaces facing each other in the chamber 100 such as the front and back or the left and right direction of the chamber 100 and the support frame 200 is formed in a length of the guide pipes 150a and 150b Direction, that is, in the front or rear direction or in the lateral direction.

이와 같이 구성된 기판 처리 장치의 사용 상태를 살펴보면 다음과 같다. The state of use of the substrate processing apparatus constructed as described above will be described below.

도 5는 챔버 내부에 설치된 지지프레임(200)에 복수의 기판이 적재되어 있는 카세트(220)가 장착된 상태로서, 지지프레임(200)이 챔버의 상부측에서 하부측으로 이동하는 상태를 보여준다. 5 shows a state in which the support frame 200 is moved from the upper side to the lower side of the chamber in a state in which the cassette 220 on which the plurality of substrates are mounted is mounted on the support frame 200 installed inside the chamber.

이 경우, 구동기(310)에서 제공되는 회전력에 의해 회전축(320)이 회전하게 되고, 회전축(320)의 외주면에 연결된 이동수단(324)이 회전축(320)의 외주면을 따라 하강하게 된다. 이에 제1연결부재(326)에 의해 이동부재(324)와 연결되는 지지프레임(200)은 이동수단(324)의 이동 방향을 따라 하강하게 된다. 그리고 지지프레임(200)에 연결된 제2연결부재(360)도 이동부재(324)의 하강하는 힘에 의해 가이드 로드(352)를 따라 하강하게 된다. In this case, the rotating shaft 320 is rotated by the rotational force provided by the driver 310, and the moving means 324 connected to the outer circumferential surface of the rotating shaft 320 descends along the outer peripheral surface of the rotating shaft 320. The supporting frame 200 connected to the moving member 324 by the first connecting member 326 is lowered along the moving direction of the moving means 324. The second linking member 360 connected to the support frame 200 is also lowered along the guide rod 352 by the downward force of the moving member 324.

이와 같은 동작 시 하부 유동관(156)은 수축하게 되고, 하부 유동관(156)이 수축하는 과정에서 하부 유동관(156) 내부의 공기는 하부측 제2고정부재(314, 354)에 각각 형성된 통공(316, 356)을 통해 외부로 배출된다. The lower flow tube 156 contracts and the air in the lower flow tube 156 flows through the through holes 316 formed in the lower second fixing members 314 and 354 while the lower flow tube 156 contracts. , 356, respectively.

그리고 상부 유동관(154)은 신장하게 되고, 상부 유동관(154)이 신장하는 과정에서 외부의 공기가 상부측 제2고정부재(314, 354)에 각각 형성된 통공(316, 356)을 통해 상부 유동관(154) 내부로 유입된다. The upper flow tube 154 is expanded and the outer air flows through the upper flow tube (not shown) through the through holes 316 and 356 formed in the upper second fixing members 314 and 354, 154, respectively.

도 6은 지지프레임(200)이 챔버(100)의 하부측에서 상부측으로 이동한 상태를 보여준다. 6 shows a state in which the support frame 200 is moved from the lower side to the upper side of the chamber 100. FIG.

이 경우, 구동기(310)에서 제공되는 회전력에 의해 회전축(320)이 회전하게 되고, 회전축(320)의 외주면에 연결된 이동수단(324)이 회전축(320)의 외주면을 따라 상승하게 된다. 이에 제1연결부재(326)에 의해 이동부재(324)와 연결되는 지지프레임(200)은 이동수단(324)의 이동 방향을 따라 상승하게 된다. 그리고 지지프레임(200)에 연결된 제2연결부재(360)도 이동부재(324)의 상승하는 힘에 의해 가이드 로드(352)를 따라 상승하게 된다. In this case, the rotating shaft 320 is rotated by the rotational force provided by the driver 310, and the moving means 324 connected to the outer circumferential surface of the rotating shaft 320 is moved along the outer peripheral surface of the rotating shaft 320. The supporting frame 200 connected to the moving member 324 by the first connecting member 326 is moved along the moving direction of the moving means 324. [ The second linking member 360 connected to the support frame 200 is also moved along the guide rod 352 by the upward force of the moving member 324.

이와 같은 동작 시 상부 유동관(154)은 수축하게 되고, 상부 유동관(154)이 수축하는 과정에서 상부 유동관(154) 내부의 공기는 상부측 제2고정부재(314, 354)에 각각 형성된 통공(316, 356)을 통해 외부로 배출된다. In this operation, the upper flow tube 154 contracts and the air in the upper flow tube 154 in the process of contracting the upper flow tube 154 passes through the through holes 316 formed in the upper second fixing members 314 and 354 , 356, respectively.

그리고 하부 유동관(156)은 신장하게 되고, 상부 유동관(156)이 신장하는 과정에서 외부의 공기가 하부측 제2고정부재(314, 354)에 각각 형성된 통공(316, 356)을 통해 하부 유동관(156) 내부로 유입된다.
The lower flow tube 156 is extended and the outer air flows through the lower flow tube (not shown) through the through holes 316 and 356 formed in the lower second fixing members 314 and 354 in the process of extending the upper flow tube 156, 156, respectively.

도 5 및 도 6에서 살펴본 바와 같이, 지지프레임(200)을 챔버(100) 내에서 상승 또는 하강시키는 경우, 상부 유동관(154)과 하부 유동관(156)을 각각 구성하는 주름관(154b, 156b)은 교대로 신장 또는 수축하게 된다. 이와 같이 주름관(154b, 156b)이 신장 또는 수축하게 되면 가이드 관(150a, 150b) 내부에 공기가 유입되거나 또는 배출되게 된다. 따라서 회전축(320)과 가이드 로드(352)를 챔버 몸체(102)에 연결할 때 가이드 관(150a, 150b) 내부로 공기가 흐를 수 있는 통공(316, 356)을 형성해줌으로써 주름관(154b, 156b)의 신장 또는 수축을 용이하게 할 수 있다. 5 and 6, when the support frame 200 is raised or lowered in the chamber 100, the corrugated tubes 154b and 156b constituting the upper flow tube 154 and the lower flow tube 156, respectively, Alternately stretching or contracting. When the corrugated pipes 154b and 156b are stretched or contracted, air is introduced into or discharged from the guide pipes 150a and 150b. Accordingly, when the rotary shaft 320 and the guide rod 352 are connected to the chamber body 102, the through holes 316 and 356 through which air can flow into the guide pipes 150a and 150b are formed, It can facilitate elongation or contraction.

또한, 지지프레임(200)을 상승 또는 하강시키기 위한 구동수단(300)을 챔버(100) 내부 환경과 다른 환경에 구비함으로써 챔버(100)의 내부 공간을 밀폐시키기 위한 액체 자석 등과 같은 고가의 밀폐수단을 사용할 필요가 없다. 또한, 가이드 수단(350)도 챔버(100)의 내부 공간과 분리된 공간 내에 구비되므로 지지프레임(200)을 상승 또는 하강시키면서 발생하는 이물질이 챔버(100) 내부를 오염시키는 현상도 억제 혹은 방지할 수 있다.
The driving means 300 for raising or lowering the support frame 200 may be provided in an environment different from the internal environment of the chamber 100 to provide an expensive sealing means such as a liquid magnet for sealing the internal space of the chamber 100. [ . Since the guide means 350 is also provided in the space separated from the internal space of the chamber 100, it is possible to prevent or prevent the contamination of the inside of the chamber 100 by foreign substances generated by raising or lowering the support frame 200 .

본 발명을 첨부 도면과 전술된 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였으나, 본 발명은 그에 한정되지 않으며, 후술 되는 특허청구범위에 의해 한정된다. 따라서, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 후술 되는 특허청구범위의 기술적 사상에서 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 변형 및 수정할 수 있다.Although the present invention has been described with reference to the accompanying drawings and the preferred embodiments described above, the present invention is not limited thereto but is limited by the following claims. Accordingly, those skilled in the art will appreciate that various modifications and changes may be made thereto without departing from the spirit of the following claims.

100 : 챔버 150a, 150b: 가이드 관
152: 지지관 154: 상부 유동관
156: 하부 유동관 200: 지지프레임
220: 카세트 316, 356: 통공
320: 회전축 352: 가이드 로드 100: chamber 150a, 150b: guide tube
152: support tube 154: upper flow tube
156: lower flow tube 200: support frame
220: cassette 316, 356: through hole
320: rotating shaft 352: guide rod

Claims

A chamber in which an internal space is formed;
A guide tube which is arranged to extend and retract across the inner space of the chamber and has a hollow portion separated from the inner space and communicating with the outside; And
A support frame disposed within the chamber and connected to at least a portion of the guide tube;
/ RTI >
The guide pipe
A support tube connected to the support frame,
And a flow pipe connected to the upper and lower portions of the support tube, respectively, and at least a part of which is formed so as to be able to expand and contract along the longitudinal direction of the support tube.

The method according to claim 1,
Wherein the guide tube is disposed across the surfaces facing each other in the chamber.

The method of claim 2,
A cassette for stacking a plurality of substrates is mounted on the support frame,
The guide tubes are spaced apart from each other,
Wherein the plurality of guide tubes are connected to the support frame.

delete

The method of claim 3,
Wherein at least a portion of the flow tube is provided with a corrugated tube extending and contracted along the longitudinal direction of the guide tube.

The method of claim 3,
At least a part of the plurality of guide pipes is provided with a rotating shaft connected to the chamber so that both ends thereof are rotatable. A moving member moving along the longitudinal direction of the rotating shaft is connected to the outer circumferential surface of the rotating shaft along the rotating direction of the rotating shaft And the guide pipe is provided with a connecting member for connecting the supporting frame and the moving member.

The method of claim 6,
And a through hole communicating with the inside of the guide tube is formed at a connecting portion between the rotation shaft and the chamber.

The method of claim 6,
And a driver for providing a rotational force to the rotary shaft is connected to one of both ends of the rotary shaft.

The method of claim 3,
Wherein at least a part of the plurality of guide pipes is provided with a guide rod having both ends connected to the chamber,
Wherein the guide tube is provided with a connection member connected to the support frame and moving along the longitudinal direction of the guide rod.

The method of claim 9,
And a through hole communicating with the inside of the guide tube is formed at a connection portion between the guide rod and the chamber.