JPS6410063B2 - - Google Patents

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JPS6410063B2
JPS6410063B2 JP8169081A JP8169081A JPS6410063B2 JP S6410063 B2 JPS6410063 B2 JP S6410063B2 JP 8169081 A JP8169081 A JP 8169081A JP 8169081 A JP8169081 A JP 8169081A JP S6410063 B2 JPS6410063 B2 JP S6410063B2
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JP
Japan
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time
liquid
corrosion
relationship
resist
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Application number
JP8169081A
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Japanese (ja)
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JPS57198262A (en
Inventor
Tetsuro Katsuta
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Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication of JPS6410063B2 publication Critical patent/JPS6410063B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means

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  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はグラビア製版における腐食方法に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a corrosion method in gravure plate making.

コンベンシヨナルグラビアでは版材が通常銅で
構成されており、画像の階調に応じて深度の異な
る凹状セルをこれに形成して印刷用の版としてい
る。しかして、版材に凹状セルを形成する方法と
しては、予め潜像を形成したカーボンチツシユを
版材表面に転写し、現像した後、塩化第2鉄を主
成分とする腐食液を塗布し、銅を腐食とすること
によつてなされる。
In conventional gravure, the printing plate is usually made of copper, and concave cells with different depths are formed therein depending on the gradation of the image to form a printing plate. However, a method for forming concave cells on a plate material is to transfer a carbon film on which a latent image has been formed in advance onto the surface of the plate material, develop it, and then apply a corrosive solution containing ferric chloride as the main component. , by corroding copper.

すなわち、カーボンチツシユは現像後、腐食に
対するレジストとして機能するもので、階調に応
じた膜厚を有することとなり、腐食液はレジスト
の膜厚に応じて版材表面に到達する時間が異なつ
てくる。
In other words, after development, the carbon film functions as a resist against corrosion, and has a film thickness that corresponds to the gradation, and the time it takes for the corrosive liquid to reach the surface of the plate material differs depending on the film thickness of the resist. come.

その結果、版材を腐食する総時間が制御される
こととなつて階調に応じた深度の凹状セルが銅層
に形成されるのである。
As a result, the total time for corroding the plate material is controlled, and concave cells with depths corresponding to the gradations are formed in the copper layer.

しかるに、レジストを腐食液が浸透する時間
は、レジストの膜厚だけでなく、腐食液の濃度、
含有水分量、温度その他の因子によつて左右され
る。このため、腐食条件が一律に決定されず良好
な刷版を得るためには腐食を行ないつつその時そ
の時のレジストの性状にあつた腐食条件に修正せ
ざるを得ない。
However, the time it takes for the corrosive solution to penetrate the resist depends not only on the resist film thickness, but also on the concentration of the corrosive solution,
Depends on moisture content, temperature and other factors. For this reason, the corrosion conditions are not uniformly determined, and in order to obtain a good printing plate, it is necessary to carry out corrosion and modify the corrosion conditions to match the properties of the resist at that time.

現在のところ、腐食方法として例えば次のよう
な多液腐食法が採られている。すなわち、濃度の
異なる腐食液を数種類用意し、高濃度の液から低
濃度の液へ、液交換しながら腐食を行なう方法で
ある。
At present, for example, the following multi-liquid corrosion method is used as a corrosion method. That is, this is a method in which several types of corrosive liquids with different concentrations are prepared and corrosion is performed while changing the liquid from a high concentration liquid to a low concentration liquid.

具体的には、作業者が実際に腐食を行ないつ
つ、腐食の進行を階調スケール又は絵柄上で、目
視によつてレジストの性状を把握し、その性状に
あつた腐食条件を腐食中に選定する。すなわち、
塩化第2鉄(FeCl3)を主成分とする腐食液がゼ
ラチンレジストに浸透して版材の銅表面に達する
と銅と反応し、銅(Cu)は塩化第2銅(CuCl2
となり、塩化第2鉄(FeCl3)は塩化第1鉄
(FeCl2)となる。
Specifically, while actually corroding, the operator visually observes the progress of the corrosion on a gradation scale or pattern, grasping the properties of the resist, and selects corrosion conditions that match the properties during corrosion. do. That is,
When a corrosive solution whose main component is ferric chloride (FeCl 3 ) penetrates the gelatin resist and reaches the copper surface of the printing plate, it reacts with the copper, and the copper (Cu) becomes cupric chloride (CuCl 2 ).
Therefore, ferric chloride (FeCl 3 ) becomes ferrous chloride (FeCl 2 ).

Cu+FeCl3→CuCl+FeCl2 CuCl+FeCl3→CuCl2+FeCl2 Cu+2FeCl3→CuCl2+2FeCl2 通常レジストにはゼラチンの他赤色の顔料が含
まれており銅表面の色と同系統の色であるが、上
記銅の腐食反応によりレジストの色は外部から見
て黒色に変化するので、これを目視観察すること
によつて腐食液が浸透したことを確認することが
できる。そして、腐食液がレジストに滴下されて
から腐食が開始されるまでの時間を標準時間と対
比させることにより、レジストの性状を把握し、
しかも各階調スケールでの腐食液の浸透時間で腐
食の進行具合を把握しながら、設定深度が得られ
るように、腐食条件(液交換等)を変化させつつ
腐食を行うのである。
Cu+FeCl 3 →CuCl+FeCl 2 CuCl+FeCl 3 →CuCl 2 +FeCl 2 Cu + 2FeCl 3 → CuCl 2 + 2FeCl 2Resist usually contains red pigments in addition to gelatin, and has the same color as the copper surface, but due to the corrosion reaction of copper, the color of the resist is black when viewed from the outside. By visually observing this change, it is possible to confirm that the corrosive liquid has penetrated. Then, by comparing the time from when the corrosive liquid is dropped onto the resist until corrosion starts, the properties of the resist can be ascertained.
In addition, corrosion is carried out while changing the corrosion conditions (such as liquid exchange) so as to obtain the set depth while grasping the progress of corrosion based on the permeation time of the corrosive liquid at each gradation scale.

しかしながら上記方法は腐食の進行状況を目視
によつて判断しながら腐食液の交換を行なうため
に作業者間で再現性が異なり、標準化が困難であ
る。そのため安定した品質の刷版が得られないと
いう欠点がある。
However, since the above method replaces the corrosive solution while visually determining the progress of corrosion, the reproducibility varies between operators, making standardization difficult. Therefore, there is a drawback that a printing plate of stable quality cannot be obtained.

本発明は上述の問題点に鑑みてなされたもの
で、多液腐食法において使用する腐食液の種類、
順序および使用時間等の腐食条件を腐食前に決定
し、欠点のない安定した品質の刷版を得ることが
できる腐食法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems.
The purpose of the present invention is to provide a corrosion method that allows the corrosion conditions such as sequence and usage time to be determined before corrosion, thereby obtaining a printing plate with no defects and stable quality.

以下、本発明を実施例に基づいて説明する。 Hereinafter, the present invention will be explained based on examples.

最初に、導電性溶液である検査液によりグラビ
ア版材のレジストの浸透特性を検査する方法につ
いて説明する。なお、検査液は非腐食性か又は少
しばかり腐食性を有している。
First, a method of testing the penetration characteristics of the resist of a gravure plate material using a test liquid that is a conductive solution will be described. Note that the test liquid is either non-corrosive or slightly corrosive.

第1図はグラビア版材のうちシリンダ状のもの
を表わし、図において10は版材の銅層表面に密
着せしめられたレジストである。レジスト10に
は印刷すべき画像が現像により形成されると共
に、検査用の階調スケール(例えば、()()
()()の4段階)も形成されている。
FIG. 1 shows a cylindrical gravure plate material, and in the figure, reference numeral 10 denotes a resist that is brought into close contact with the surface of the copper layer of the plate material. An image to be printed is formed on the resist 10 by development, and a gradation scale for inspection (for example, () ()
() (4 stages) are also formed.

第2図は上記レジストの特性を検査する装置を
示し、第3図は当該装置の使用状態を示してい
る。図で示されるように、レジスト用電極12は
抵抗R1を介して電源+Vccに接続されると共に、
レジスト用電極14は抵抗R2を介して接地され
ている。また、レジスト用電極14の電位VB
スレツシヨルド電位VTHに設定された比較器16
に入力され、比較器16の出力CM(2値信号)
はアンド回路18に入力さされる。アンド回路1
8にはパルス発振器20からの所定周波数のクロ
ツクパルスCPが入力されており、アンド回路1
8の出力はカウンタ22で計数され、その計数値
がデコーダ24を経て表示部26で浸透時間デー
タとして表示されるようになつている。しかし
て、カウンタ22の計数値はクリアボタン28で
クリアされるようになつており、抵抗R3は被測
定物としてのレジスト10の抵抗を表わしてい
る。レジスト10は電極30によつて接地され
る。
FIG. 2 shows an apparatus for inspecting the characteristics of the resist, and FIG. 3 shows how the apparatus is used. As shown in the figure, the resist electrode 12 is connected to the power supply + Vcc via a resistor R1 , and
The resist electrode 14 is grounded via a resistor R2 . Further, the potential V B of the resist electrode 14 is determined by the comparator 16 set to the threshold potential V TH .
and the output CM (binary signal) of the comparator 16
is input to the AND circuit 18. AND circuit 1
A clock pulse CP of a predetermined frequency from a pulse oscillator 20 is input to AND circuit 1.
The output of No. 8 is counted by a counter 22, and the counted value is passed through a decoder 24 and displayed as penetration time data on a display section 26. Thus, the count value of the counter 22 is cleared by the clear button 28, and the resistance R3 represents the resistance of the resist 10 as the object to be measured. The resist 10 is grounded by an electrode 30.

接地箇所は第3図の場合版材の銅層32であ
る。しかして、電源ONにより検査動作を開始す
るが、この場合、レジスト用電極14は抵抗R2
を介して接地されているので、その電位VBは第
4図Aの時点t0〜t1のように0〔V〕となつてお
り、スレツシヨルド電位(+VTH)よりも低くな
つている。したがつて、比較器16の出力は2値
信号の“0”となつており(第4図B参照)、ク
ロツクパルスCPはアンド回路18で阻止される
のでカウンタ22は計数を行なわない。
In the case of FIG. 3, the grounding point is the copper layer 32 of the plate material. Then, the inspection operation starts when the power is turned on, but in this case, the resist electrode 14 is connected to the resistor R 2
Since the potential V B is 0 [V] at time t 0 to t 1 in FIG. 4A, it is lower than the threshold potential (+V TH ). Therefore, the output of the comparator 16 is a binary signal of "0" (see FIG. 4B), and the clock pulse CP is blocked by the AND circuit 18, so the counter 22 does not count.

ここにおいて、導電性の検査液SLをスポイト
によつてレジスト10上のレジスト用電極12及
び14位置に滴下する。しかして、かかる検査液
SLは導電性であると共に、レジスト10及びレ
ジスト用電極12,14に接触するので、この滴
下時点t1から電源(+Vcc)からの電流が抵抗R1
を経て抵抗R2及びR3に流入する。したがつて、
電位VBは抵抗R1と、抵抗R2及びR3の合成抵抗値
との分圧値(VM)となり(第4図A参照)、これ
が比較器16に入力される。この分圧値VMはス
レツシヨルド電位(+VTH)よりも大きいので、
比較器16の出力CMは2値信号の“1”となる
(第4図B参照)。これによつてクロツクパルス
CPはアンド回路18を通つてカウンタ22に入
力され、計数動作が開始される。このカウンタ2
2の計数値はデコーダ24で時間データに換算さ
れ、計数開始時点t1からの経過時間が表示部26
で表示される。
Here, the conductive test liquid SL is dropped onto the resist electrodes 12 and 14 on the resist 10 using a dropper. However, such test liquid
Since SL is conductive and comes into contact with the resist 10 and the resist electrodes 12 and 14, the current from the power supply (+V cc ) flows through the resistor R 1 from the time of dropping t 1 .
and flows into resistors R2 and R3 . Therefore,
The potential V B becomes a divided voltage value (V M ) of the combined resistance value of the resistor R 1 and the resistors R 2 and R 3 (see FIG. 4A), and this is input to the comparator 16. Since this voltage division value V M is larger than the threshold potential (+V TH ),
The output CM of the comparator 16 becomes a binary signal "1" (see FIG. 4B). This causes the clock pulse to
CP is input to the counter 22 through the AND circuit 18, and a counting operation is started. This counter 2
The count value of 2 is converted into time data by the decoder 24, and the elapsed time from the counting start time t1 is displayed on the display section 26.
is displayed.

しかして、レジスト10上に検査液SLが滴下
されると、徐々に検査液SLがレジスト10を浸
透するので、その抵抗R3は次第に小さくなる。
したがつて、電位VB第4図Aに示すように時点t1
以後徐々に低下し、遂にはスレツシヨルド電位
VTHよりも小さくなる(時点t2)。これにより比較
器16の出力CMは再び“0”となり、パルス発
振器20からのクロツクパルスCPはアンド回路
18で遮断されカウンンタ22の計数動作が停止
する。かくして、カウンタ22は時点t1からt2
で、つまりレジスト10上に検査液SLを滴下し
てからその検査液SLが所定深さ(スレツシヨル
ド電位VTHの値に対応する)に浸透するまで、パ
ルス発振器20からのクロツクパルスCPを計数
し、これをデコーダ24で時間データに変換して
から浸透時間として表示部26に表示する。これ
により、レジスト10の検査液SLによる浸透時
間を測定することができる。なお、カウンタ22
の計数値はクリアボタン28を押すことによつて
クリアされる。
When the test liquid SL is dropped onto the resist 10, the test liquid SL gradually permeates the resist 10, so that its resistance R3 gradually decreases.
Therefore, the potential V B at time t 1 as shown in FIG.
After that, it gradually decreases and finally reaches the threshold potential.
V TH becomes smaller (at time t 2 ). As a result, the output CM of the comparator 16 becomes "0" again, the clock pulse CP from the pulse oscillator 20 is cut off by the AND circuit 18, and the counting operation of the counter 22 is stopped. In this way, the counter 22 counts from time t 1 to t 2 , that is, from the time when the test liquid SL is dropped onto the resist 10 until the test liquid SL penetrates to a predetermined depth (corresponding to the value of the threshold potential V TH ). The clock pulses CP from the pulse oscillator 20 are counted and converted into time data by the decoder 24, which is then displayed on the display section 26 as the penetration time. Thereby, the penetration time of the test liquid SL into the resist 10 can be measured. Note that the counter 22
The count value is cleared by pressing the clear button 28.

以上のような測定が上記階調スケールの4段階
(、、、)の各部分に対して行なわれ、
各浸透時間が検査される。
The above measurements are performed on each of the four stages (,,,) of the gradation scale,
Each penetration time is examined.

ここに、階調スケールの各段階に対応するセル
の設定体積は、原稿のポジ濃度と第5図の如き対
応関係にある。この関係曲線は経験上印刷物に応
じて適宜選択決定されるものである。
Here, the set volumes of cells corresponding to each stage of the gradation scale have a corresponding relationship with the positive density of the original as shown in FIG. This relationship curve is appropriately selected and determined based on experience depending on the printed matter.

また、セルの設定体積は上記検査液浸透時間と
第6図の如き相関関係にある。
Further, the set volume of the cell has a correlation with the test liquid penetration time as shown in FIG.

さらに、検査液の上記浸透時間と腐食液の浸透
時間とも、各種腐食液夫々につきある一定の関係
にある。
Further, the permeation time of the test liquid and the permeation time of the corrosive liquid have a certain relationship for each type of corrosive liquid.

しかして、前記検査装置による測定結果を基に
第6図の如きレジストの浸透特性を求め、この曲
線を利用して使用すべき各種腐食液の組合わせ、
その使用順序、使用時間配分を導き出しうる。
The penetration characteristics of the resist as shown in FIG. 6 are determined based on the measurement results by the inspection device, and this curve is used to determine the combinations of various corrosive liquids to be used.
The usage order and usage time allocation can be derived.

また、版材を腐食するには総腐食時間をも決定
しなければならないが、これは、腐食液が版材面
に到達してしまえば、その後の腐食量は腐食液の
濃度(腐食工程で使用される濃度範囲)にほとん
ど関係なく、総腐食時間に比例するという考え方
をもとに、最シヤドー部()におけるセルの設
定体積を得るためには最低どれ位の総腐食時間が
必要かに基づいて決定し得ると考えられる。
In addition, in order to corrode the plate material, the total corrosion time must also be determined, but this means that once the corrosive liquid reaches the plate surface, the amount of subsequent corrosion is determined by the concentration of the corrosive liquid (in the corrosion process). Based on the idea that the corrosion time is proportional to the total corrosion time, almost regardless of the concentration range (used), what is the minimum total corrosion time required to obtain the set volume of the cell at the highest shadow part ()? It is considered that the decision can be made based on the

次に、上記レジストの特性グラフ(第6図)と
対比して腐食液の組合せ等及び総腐食時間を明確
に導出するための基準データの求め方について述
べる。
Next, in comparison with the above-mentioned resist characteristic graph (FIG. 6), a method for obtaining reference data for clearly deriving combinations of corrosive liquids and the total corrosion time will be described.

まず、使用する腐食液の濃度の異なる複数種
(A,B,C,D,E)につき夫々第7図のよう
な試験を所定の試験用レジストに対して行なう。
すなわち、この試験用レジストは銅層の上に密着
されており、所望の階調スケールがハイライト部
からシヤドウ部に向けて形成され、例えば()
()()……の如く多数区分されると共に、各
階調について検査液用および腐食液用の区画が複
数個設けられている。
First, a test as shown in FIG. 7 is performed on a predetermined test resist for each of a plurality of types (A, B, C, D, and E) of corrosive liquids used with different concentrations.
That is, this test resist is closely adhered to the copper layer, and a desired gradation scale is formed from the highlight area to the shadow area, for example ().
It is divided into a large number of sections as shown in () ()..., and a plurality of sections for test liquid and corrosive liquid are provided for each gradation.

そして、例えばすべての階調()()()
………について験査液をレジストの所定の区画に
滴下してその浸透時間(t1)(t2)………
(t1)………(t6)……を測定し、次いで
他区画に腐食液を塗布して腐食を行なつた後、レ
ジストを除去してその下の銅層に形成されたセル
の体積を各区画について(V1)(V2)……
…V1………と計測する。かかる測定を各腐食
液A,B,C………について行なう。
And for example all tones ()()()
The test liquid is dropped into a predetermined section of the resist for ...... and its penetration time (t 1 ) (t 2 )...
(t 1 )......(t 6 )..., then apply corrosive solution to other sections to perform corrosion, then remove the resist and remove the cells formed in the copper layer below. Volume of each section (V 1 ) (V 2 )...
…V 1 ……… is measured. Such measurements are carried out for each corrosive liquid A, B, C, etc.

第8図はこの測定結果をグラフ化したもので、
腐食液A(例えば40゜Be)についてのものである。
このグラフは各種腐食時間(T)に関する検査液
浸透時間(t)対セル部体積(V)の関係を示し
ている。
Figure 8 is a graph of this measurement result.
This is for corrosive liquid A (for example, 40°Be).
This graph shows the relationship between test liquid penetration time (t) and cell volume (V) for various corrosion times (T).

後述の如く、このデータに基づいて前記版材の
総腐食時間を決定することとなる。
As will be described later, the total corrosion time of the plate material will be determined based on this data.

また、上記測定結果に基づいて、第9図の如き
グラフも作成する。このグラフは、例えば腐食時
間(T5)についての各種腐食液(A,B,C…
……)に関する検査液浸透時間(t)対セル体積
(V)の関係を示している。このようなグラフが
他の腐食時間(T1)、(T2)………についても描
かれる(図示せず)。
Furthermore, a graph as shown in FIG. 9 is also created based on the above measurement results. This graph shows, for example, the corrosion time (T 5 ) of various corrosive liquids (A, B, C...
. . .) shows the relationship between the test liquid penetration time (t) and the cell volume (V). Such graphs are also drawn for other corrosion times (T 1 ), (T 2 ), etc. (not shown).

さらに、上記検査液の浸透時間対腐食液の浸透
時間の関係を各腐食液(A,B,C……)につき
第10図の如くグラフ化する。このグラフの横軸
には上記レジストの各階調部分における検査液の
浸透時間(t)が目盛られ、縦軸には同じ各階調
部分における腐食液の浸透時間が目盛られてい
る。この場合、所定の検査液の浸透時間に対応す
る腐食液の浸透時間は腐食液の滴下直後から前述
の如く腐食液と銅とが反応して黒変するまでの間
の時間である。
Furthermore, the relationship between the permeation time of the test liquid and the permeation time of the corrosive liquid is graphed as shown in FIG. 10 for each corrosive liquid (A, B, C, . . . ). The horizontal axis of this graph is scaled with the penetration time (t) of the test liquid in each gradation part of the resist, and the vertical axis is scaled with the penetration time of the corrosive liquid in each of the same gradation parts. In this case, the permeation time of the corrosive liquid corresponding to the permeation time of the predetermined test liquid is the time from immediately after the corrosive liquid is dropped until the corrosive liquid reacts with the copper and turns black as described above.

なお、腐食液は通常導電性を有するから、腐食
液の浸透時間も前記測定器によつて測定し、これ
を縦軸にとるようにしてもよい。
Note that since the corrosive liquid usually has conductivity, the permeation time of the corrosive liquid may also be measured by the measuring device, and this may be plotted on the vertical axis.

以上のようにして検査液の浸透特性とセル部の
体積との相関関係が求められることにより、これ
を基準として前記版材のレジスト10の検査液に
よる浸透特性の測定結果を以上のように対応せし
め、腐食液による腐食条件を決定することができ
る。
By determining the correlation between the penetration characteristics of the test liquid and the volume of the cell portion as described above, the measurement results of the penetration characteristics of the resist 10 of the plate material using the test liquid are adjusted as described above based on this correlation. Therefore, it is possible to determine the corrosion conditions caused by the corrosive liquid.

前述の如くレジストは気温、湿度等の変動によ
りその時々によつて性質を異にするが、これから
腐食を開始しようとする時に前記浸透特性を検査
液を使用して測定装置で検査し、第6図の結果を
得たとする。このグラフは、第1図における各階
調部分()()()()が各々どれ位のセ
ル体積を有しなければないかが経験上予め求めら
れているので、それを基にして各階調部分の検査
液浸透時間とセル体積との関係を描いてなるもの
である。
As mentioned above, resist properties change depending on the time due to changes in temperature, humidity, etc., but when corrosion is about to start, the permeation properties are tested using a measuring device using a test liquid, and Suppose we get the result shown in the figure. This graph is based on the cell volume of each gradation part ()()()() in Figure 1, since it has been determined in advance from experience. It depicts the relationship between the test liquid penetration time and the cell volume.

次に、第6図と第8図とを重ね合わせて夫々最
シヤドー部に注目して対比し、第6図の曲線32
に最も近い曲線を第8図のものから選択し、これ
が例えば曲線(T5)であれば、当該レジストに
ついて最も適切な総腐食時間がT5であると決定
される。
Next, we overlapped Fig. 6 and Fig. 8 and compared them by focusing on the most shadow part of each.
If the curve closest to that of FIG. 8 is selected, for example the curve (T 5 ), it is determined that the most appropriate total corrosion time for the resist is T 5 .

なお、第8図のグラフは、例えば腐食工程にお
いて最初に使用する腐食液のものであるが、他の
腐食液についてのグラフを利用してもよい。
Although the graph in FIG. 8 is for the corrosive liquid used initially in the corrosion process, graphs for other corrosive liquids may be used.

このように、総腐食時間(例えばT5)が決定
されたならば、その時間に対応する第9図のグラ
フを選出し、第11図の如く重ね合わせて比較す
る。
Once the total corrosion time (for example, T 5 ) has been determined in this manner, the graph in FIG. 9 corresponding to that time is selected and compared by overlapping them as shown in FIG. 11.

当該レジスト10については第6図の曲線32
に沿つて腐食がなされるよう条件設定するのが最
も望ましい。そこで、第6図の曲線32の勾配に
最も近い勾配の曲線を第9図の中から選択する。
この場合、点34,36を境として、左部分が曲
線Bと、中央部分が曲線Cと、右部分が曲線Dと
最も近い。
For the resist 10, the curve 32 in FIG.
It is most desirable to set conditions so that corrosion occurs along the Therefore, a curve whose slope is closest to the slope of curve 32 in FIG. 6 is selected from FIG. 9.
In this case, with points 34 and 36 as boundaries, the left part is closest to curve B, the center part is closest to curve C, and the right part is closest to curve D.

そして、検査液浸透時間がtDないしtCまでの特
性を有するレジスト部分については腐食液D、浸
透時間tCないしtBのレジスト部分については腐食
液C、浸透時間tB以下については腐食液Bの影響
を受けさせることにより第6図の曲線32に沿つ
た腐食が可能となる。従つて、使用する腐食液と
してはB,C,Dを選択する。
Corrosive liquid D is applied to the resist portion having the characteristics of the test liquid penetration time from t D to t C , corrosive liquid C is applied to the resist portion whose penetration time is t C to t B , and corrosive liquid is applied to the resist portion whose penetration time is below t B. By applying the influence of B, corrosion along the curve 32 in FIG. 6 becomes possible. Therefore, B, C, and D are selected as the corrosive liquids to be used.

また、腐食液の使用順序としては第11図のよ
うにB,C,Dと設定する。使用順序をB,C,
Dと設定することによりシヤドウ部に濃度の大き
なBが早く到達して銅層の腐食を最も早く開始
し、次いで中間部に濃度の中位なCが到達し、さ
らにハイライト部に濃度の小さいDが到達する。
このため、シヤドウ部は主としてB,C,Dによ
り腐食され、中間部は主としてC,Dにより腐食
され、ハイライト部は主としてDにより腐食され
る。
Further, the order in which the corrosive liquids are used is set as B, C, and D as shown in FIG. Use order B, C,
By setting D, B with a high concentration reaches the shadow part quickly and starts corroding the copper layer first, then C with a medium concentration reaches the middle part, and then C with a low concentration reaches the highlight part. D arrives.
Therefore, the shadow part is mainly corroded by B, C, and D, the middle part is mainly corroded by C and D, and the highlight part is mainly corroded by D.

すなわち、検査液浸透時間が点34よりも小さ
いレジスト部分には腐食液Bが既に浸透を完了
し、版材面に達している。そして、点34と点3
6との間の浸透時間に対応するレジスト部分では
腐食液Bは完全に浸透しきれず、液交換後の次の
腐食液Cが浸透してはじめて版材面に達する。そ
して点36よりも大きい浸透時間のレジスト部分
では液交換後の次の腐食液Dの影響を受けるので
ある。
That is, the corrosive liquid B has already completely penetrated into the resist portion where the test liquid penetration time is shorter than the point 34 and has reached the plate surface. And point 34 and point 3
In the resist portion corresponding to the penetration time between 6 and 6, the corrosive liquid B does not completely penetrate, and reaches the plate surface only after the next corrosive liquid C permeates after the liquid exchange. The resist portions whose penetration time is longer than point 36 are affected by the next corrosive liquid D after the liquid exchange.

次に、選定した腐食液B,C,Dの使用時間配
分を上記点34,36を基準にもとめていく。
Next, the use time distribution of the selected corrosive liquids B, C, and D is determined based on the above points 34 and 36.

すなわち、最初の腐食液Bの使用時間は点34
における検査液の浸透時間tBに対応するレジスト
部分を当該腐食液が浸透しきるまでの時間とす
る。
That is, the initial usage time of corrosive liquid B is at point 34.
The resist portion corresponding to the penetration time tB of the test liquid in is defined as the time required for the corrosive liquid to completely penetrate.

そして、次の腐食液Cの使用時間は、点36に
おける検査液の浸透時間tCが示すレジスト部分を
当該腐食液が浸透しきるまでの時間とする。
The next usage time of the corrosive liquid C is the time required for the corrosive liquid to completely penetrate the resist portion indicated by the penetration time t C of the test liquid at point 36.

最後の腐食液Dの使用時間は点38に対応する
レジスト部分すなわち、最ライト部のレジスト部
分をこの腐食液が浸透しきるまでの時間に、この
最ライト部のセル体積を腐食するのに要する時間
を加えた時間とする。
The usage time of the final etchant D is the time required for the etchant to completely penetrate the resist portion corresponding to point 38, that is, the lightest resist portion, and the time required to erode the cell volume of this lightest portion. Add the time.

しかして、最初の腐食液Bの使用時間は、第1
0図のグラフより、検査液の浸透時間tBに相当す
る腐食液Bの浸透時間x1として求められる。次の
腐食液Cの使用時間は、検査液浸透時間tCに対応
するレジスト部分を完全に腐食液Cが浸透しきれ
るまでの時間としてあらわされる。しかし、第1
2図の如く検査液浸透時間tCに対応するレジスト
部分には、すでに腐食液Bがある程度浸透してい
ると考えられる。このため、検査液浸透時間tc
対応するレジスト部分を腐食液Cが完全に浸透し
きる時間は、腐食液Cのみが浸透時間tcのレジス
ト部分を浸透し終るまでの時間x2よりも多少短い
と考えられる。この差引く時間としては、検査液
浸透時間tcに相当するレジスト中、検査液浸透時
間tBに相当するレジスト部(第12図ア)はすで
に腐食液Bが浸透してしまつており、腐食液Cが
その部分を拡散・浸透するに要する時間は微小で
あると考えられるので、tBのレジスト部分を腐食
液Cが浸透する時間x′2に設定するのが妥当であ
る。
Therefore, the first usage time of corrosive liquid B is
From the graph in Figure 0, it is determined as the permeation time x 1 of the corrosive liquid B, which corresponds to the permeation time t B of the test liquid. The next usage time of the corrosive liquid C is expressed as the time required for the corrosive liquid C to completely penetrate the resist portion corresponding to the test liquid penetration time tC . However, the first
As shown in Figure 2, it is considered that the corrosive liquid B has already penetrated to some extent into the resist portion corresponding to the test liquid penetration time tC . Therefore, the time required for the corrosive liquid C to completely penetrate the resist portion corresponding to the test liquid penetration time t c is slightly longer than the time x 2 required for only the corrosive liquid C to completely penetrate the resist portion corresponding to the penetration time t c . considered to be short. As for this subtraction time, the corrosive liquid B has already penetrated into the resist part corresponding to the test liquid permeation time t B (Fig. 12 A) in the resist corresponding to the test liquid permeation time t c , and corrosion is caused. Since the time required for the liquid C to diffuse and permeate that part is considered to be minute, it is appropriate to set the resist part at t B to the time x' 2 for the corrosive liquid C to permeate.

すなわち、時間(x2−x′2)が腐食液Cの使用
時間となる。
That is, the time (x 2 -x' 2 ) is the usage time of the corrosive liquid C.

さらに、次の腐食液Dの使用時間は最ライト部
()におけるレジスト部分の腐食液浸透及び版
材の腐食に注目して求める。最ライト部()に
おけるセルの体積は、あらかじめ決つており、し
かもそのセル設定体積を得るためのその部分のレ
ジストにおける腐食液が浸透した後の腐食時間も
あらかじめ求められ決まつている。
Further, the next use time of the corrosive liquid D is determined by paying attention to the permeation of the corrosive liquid into the resist portion in the lightest part () and the corrosion of the plate material. The volume of the cell in the lightest part () is predetermined, and the corrosion time after the corrosive liquid penetrates into the resist in that part to obtain the set cell volume is also determined and determined in advance.

したがつて、腐食液Dの使用時間は最ライト部
のレジスト部分をD液が完全に浸透してしまうに
要する時間と、その後の最ライト部におけるセル
設定体積を得るための腐食時間との合計時間であ
る。しかし、前記最ライト部のレジスト部分が完
全に浸透されるに必要な腐食液Dの浸透時間は、
検査液浸透時間tDに対応するレジスト部分におい
て、腐食液Dが浸透する前にすでに腐食液B,C
がある程度浸透してしまつている(第12図アと
イの部分)と考えられるため、前述の腐食液Cの
使用時間を決定した方法と同様にして、検査液浸
透時間tDのレジスト部分への腐食液Dの浸透時間
x3から検査液浸透時間tcのレジスト部分への腐食
液Dの浸透時間x′3を差し引いたもの(x3−x′3
が最ライト部のレジストにおける腐食液Dの浸透
時間であるとする。又、あらかじめ決められてい
る最ライト部におけるセル体積を得るための腐食
時間をmとすると、結局腐食液Dの使用時間は
(x3−x′3+n)となる。
Therefore, the usage time of the etchant D is the sum of the time required for the etchant D to completely penetrate the lightest resist area, and the subsequent corrosion time required to obtain the cell set volume in the lightest area. It's time. However, the permeation time of the corrosive liquid D required to completely permeate the lightest resist portion is as follows:
In the resist part corresponding to the test liquid penetration time tD , corrosive liquids B and C have already penetrated before corrosive liquid D penetrates.
Since it is thought that the corrosive liquid has penetrated to some extent (parts A and B in Figure 12), use the same method to determine the usage time of the corrosive liquid C described above to the resist area at the test liquid permeation time tD . Penetration time of corrosive liquid D
The value obtained by subtracting the penetration time x ′ 3 of the corrosive liquid D into the resist portion during the test solution penetration time t c from x 3 (x 3 −x′ 3 )
It is assumed that is the penetration time of the corrosive liquid D in the lightest part of the resist. Furthermore, if the corrosion time required to obtain the predetermined cell volume at the lightest portion is m, then the usage time of the corrosive liquid D will be (x 3 −x' 3+n ).

ここに、腐食液B,C,Dの使用時間を合計し
たものと前述した総腐食時間Tとはほぼ一致し、
x1+(x2−x′2)+(x3−x′3+n)=Tなる関係があ
る。
Here, the total usage time of corrosive liquids B, C, and D almost matches the aforementioned total corrosion time T.
There is a relationship: x 1 +(x 2 −x′ 2 )+(x 3 −x′ 3+n )=T.

すなわち、腐食液をn種類使用するとすれば、
x1+(x2−x′2)+(x3−x′3)+……+(xo-1−x′o
-1

+(xo−x′o+n)=Tなる関係を利用して各腐食液
の時間配分を決定すれば良い。
In other words, if n types of corrosive liquid are used,
x 1 +(x 2 −x′ 2 )+(x 3 −x′ 3 )+……+(x o-1 −x′ o
-1
)
The time allocation for each corrosive liquid may be determined using the relationship +(x o −x′ o+n )=T.

なお、上記腐食条件を設定するに際し、予め求
めた第7図の如き基準データをコンピユータに記
憶させておき、これと第6図のデータを比較する
などの演算処理をコンピユータにさせることによ
り条件を設定することもできる。
When setting the above corrosion conditions, the conditions can be set by storing previously determined reference data as shown in Fig. 7 in the computer, and having the computer perform arithmetic processing such as comparing this data with the data shown in Fig. 6. It can also be set.

かくして、腐食液の使用種類及び各使用時間が
決定されると、当該グラビア版材を腐食装置(図
示せず)で定回転させつつ腐食液B,C,Dをレ
ジスト10の上から順次x1、x2−x′2、x3−x′3+n
の時間ずつ供給することにより、版材の銅層に設
定体積のセルを形成することができるものであ
る。
In this way, once the type of etchant to be used and the respective duration of use are determined, etchants B, C, and D are sequentially applied x 1 from above the resist 10 while rotating the gravure plate material at a constant speed using an etcher (not shown). , x 2 −x′ 2 , x 3 −x′ 3+n
By supplying it for a period of time, cells of a set volume can be formed in the copper layer of the plate material.

なお、検査液による検査によりレジスト特性が
望ましくないものであることがわかつたならば、
検査液が腐食性のないものである場合にはレジス
トのみを再度作り直せばよく、また検査液が少し
ばかり腐食性を有する場合には版材をサンドペー
パー等で軽く研摩するだけでその上にレジストを
再度形成すればよい。通常、腐食液は導電性を有
しており、腐食液を使用して前記検査を行なつた
場合は版材自体も作り直す必要がある。
In addition, if it is found that the resist characteristics are undesirable by the test using the test liquid,
If the test liquid is not corrosive, you only need to re-create the resist, or if the test liquid is slightly corrosive, simply sand the plate material lightly with sandpaper, etc. Just form it again. Usually, the corrosive liquid has conductivity, and when the above-mentioned inspection is performed using the corrosive liquid, it is necessary to recreate the plate material itself.

本発明は以上のような構成及び作用を有するか
ら、次のような効果を奏する。
Since the present invention has the above-described configuration and operation, it has the following effects.

腐食の前に腐食条件を設定し、その条件で腐
食するため、版材に希望する画像の階調に応じ
て再現性に優れたセル体積が得られ、熟練を要
さずして品質の安定した刷版を作製できる。
Since corrosion conditions are set before corrosion and corrosion occurs under those conditions, cell volumes with excellent reproducibility can be obtained according to the desired image gradation on the plate material, and quality can be stabilized without requiring any skill. It is possible to produce printed plates.

品質の安定した刷版の作製が可能なため、後
工程における版修正の負担が大幅に軽減され
る。
Since it is possible to produce printing plates with stable quality, the burden of plate correction in post-processing is greatly reduced.

腐食条件の設定をグラフより判断することも
可能であり、また第7図の如き試験結果を予め
コンピユータに記憶させることによりコンピユ
ーターの演算処理により判断することも可能で
ある。しかも演算処理でもとめた条件で腐食機
を制御しかつ版材を腐食することが可能であ
る。
It is also possible to determine the setting of the corrosion conditions from a graph, and it is also possible to determine the setting by computer processing by storing the test results as shown in FIG. 7 in advance in a computer. Moreover, it is possible to control the corrosive machine and corrode the plate material under conditions determined through arithmetic processing.

実施例 腐食しようとするグラビア版材のレジストに設
けてある階調スケール4段階(ポジ濃度で、1.7、
1.2、0.8、0.4)において、導電性を有する検査液
の浸透時間を測定したところ、2.6〔sec〕、9.4
〔sec〕、30.7〔sec〕、72.5〔sec〕であつた。また、
この階調スケールに応じたセル設定体積は決まつ
ていて、0.8×106〔μm3〕、0.4×106〔μm3〕、0.1×
106〔μm3〕、0.05×106〔μm3〕である。そこでこ
の測定した“検査液の浸透時間”対“セル設定体
積”のグラフを作成する。次に、最シヤドー部の
セル体積、0.8×106〔μm3〕に着目し、腐食時間
を変化させたときの“検査液の浸透時間”対“セ
ル体積”のグラフより求めて総腐食時間を15分と
決定する。そして各濃度の腐食液で、各々15分間
腐食した時の“検査液浸透時間”対“セル体積”
のグラフと作成済の測定した“検査液浸透時間”
対“セル設定体積”のグラフとを比較して、腐食
液を40゜Be、39゜Be、38゜Beの3液をこの順番で使
用することを決定する。次に、“検査液浸透時間”
対“セル体積”のグラフと作成済の“検査液浸透
時間”対“セル設定体積”のグラフを比較して液
交換を間接的に示す変更点を求め、それぞれの変
更点に相当する検査液の浸透時間、4〔sec〕、24
〔sec〕を求める。“検査液浸透時間”対“腐食液
浸透時間”のグラフより、40゜Be液の使用時間
は、検査液の浸透時間4〔sec〕に相当する40゜Be
液の浸透時間240〔sec〕であり4分と決定し、そ
して39゜Be液の使用時間は、検査液の浸透時間24
〔sec〕に相当する39゜Be液の浸透時間410〔sec〕か
ら検査液の浸透時間4〔sec〕に相当する39゜Be液
の浸透時間120〔sec〕を差し引いた290〔sec〕であ
り、4分50秒と決定する。また、38゜Be液の使用
時間は、最ライト部における検査液の浸透時間
72.5〔sec〕に相当する38゜Be液の浸透時間430
〔sec〕から検査液の浸透時間24〔sec〕に相当する
38゜Be液の浸透時間210〔sec〕を差し引いた220秒
に、あらかじめ決められているこの最ライト部の
セル体積0.05×106〔μm3〕を腐食するために必要
な時間2分30秒加えた時間6分10秒と決定する。
Example 4 gradation scales (positive density: 1.7, 1.7,
1.2, 0.8, 0.4), the penetration time of the conductive test liquid was measured, and the results were 2.6 [sec] and 9.4
[sec], 30.7 [sec], and 72.5 [sec]. Also,
The cell setting volume according to this gradation scale is fixed: 0.8×10 6 [μm 3 ], 0.4×10 6 [μm 3 ], 0.1×
10 6 [μm 3 ], 0.05×10 6 [μm 3 ]. Therefore, a graph of the measured "test liquid penetration time" versus "cell setting volume" is created. Next, we focused on the cell volume at the darkest part, 0.8×10 6 [μm 3 ], and calculated the total corrosion time by calculating the graph of "test liquid penetration time" versus "cell volume" when the corrosion time was changed. is determined to be 15 minutes. And "test solution penetration time" vs. "cell volume" when corroded for 15 minutes with each concentration of corrosive solution.
The graph and the measured “test liquid penetration time”
By comparing the graph with the graph of "cell setting volume", it is decided to use three corrosive liquids, 40°Be, 39°Be, and 38°Be, in this order. Next, “Test liquid penetration time”
Compare the graph of cell volume versus cell volume and the previously created graph of test liquid penetration time versus cell setting volume to find changes that indirectly indicate liquid exchange, and find the test liquid that corresponds to each change. Penetration time, 4 [sec], 24
Find [sec]. From the graph of “testing liquid penetration time” vs. “corrosion liquid penetration time”, the usage time of 40°Be liquid is 40°Be, which corresponds to the penetration time of testing liquid 4 [sec].
The penetration time of the liquid is 240 [sec], which is determined to be 4 minutes, and the usage time of the 39°Be solution is the penetration time of the test solution, which is 24 minutes.
It is 290 [sec], which is obtained by subtracting the penetration time of 39°Be liquid, 120 [sec], which corresponds to the penetration time of the test liquid, 4 [sec], from the penetration time of 410 [sec], which corresponds to the penetration time of 39°Be liquid, which corresponds to [sec]. , it is determined to be 4 minutes and 50 seconds. In addition, the usage time of the 38°Be solution is the penetration time of the test solution in the lightest part.
Penetration time of 38°Be liquid equivalent to 72.5 [sec]430
[sec] corresponds to the penetration time of the test liquid 24 [sec]
The time required to corrode the predetermined cell volume of 0.05×10 6 [μm 3 ] in the lightest part is 2 minutes and 30 seconds, which is 220 seconds after subtracting the penetration time of the 38°Be solution, which is 210 [sec]. The added time is determined to be 6 minutes and 10 seconds.

したがつて、このレジストの状態から標準セル
体積を得るための腐食条件は、40゜Be液4分間使
用し次に、39゜Be4分50秒使用し、最後に38゜Be液
6分10秒使用し当初求めた総腐食時間15分と等し
い合計15分間の腐食を行うということになり、こ
の条件通りに腐食した。その結果各スケールのセ
ル体積は、最初設定したセル体積にほぼ一致し
た。
Therefore, the corrosion conditions to obtain a standard cell volume from this resist state are: 40°Be solution for 4 minutes, then 39°Be solution for 4 minutes 50 seconds, and finally 38°Be solution for 6 minutes 10 seconds. It was decided that the corrosion would be carried out for a total of 15 minutes, which is equal to the total corrosion time of 15 minutes that was originally calculated, and the corrosion occurred according to these conditions. As a result, the cell volume of each scale almost matched the initially set cell volume.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はシリンダ状グラビア版材の斜視図であ
る。第2図はレジスト検査装置の測定回路の一例
を示す回路図、第3図はレジスト検査装置と版材
との関係を示す説明図、第4図は上記測定回路に
おける一部波形図である。第5図は、ポジ濃度対
セル設定体積のグラフ、第6図は、検査液の浸透
時間対セルの設定体積のグラフ、第7図は試験用
レジストの説明図、第8図は腐食時間を変化させ
た場合の検査液浸透時間対セル体積のグラフ、第
9図は、腐食液の種類を変えた場合の検査液浸透
時間対セル体積のグラフ、第10図は、腐食液の
種類を変えた場合の検査液浸透時間対腐食液浸透
時間のグラフ、第11図は、第6図と第9図のグ
ラフを比較した検査液浸透時間対セル体積のグラ
フである。第12図はレジストの垂直断面を表わ
す模式図である。
FIG. 1 is a perspective view of a cylindrical gravure plate material. FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a measurement circuit of the resist inspection device, FIG. 3 is an explanatory diagram showing the relationship between the resist inspection device and the plate material, and FIG. 4 is a partial waveform diagram in the measurement circuit. Figure 5 is a graph of positive concentration vs. cell set volume, Figure 6 is a graph of test liquid penetration time vs. cell set volume, Figure 7 is an illustration of the test resist, and Figure 8 is corrosion time. Figure 9 is a graph of test liquid penetration time versus cell volume when the type of corrosive liquid is changed. Figure 10 is a graph of test liquid permeation time versus cell volume when the type of corrosive liquid is changed. FIG. 11 is a graph of test liquid penetration time versus cell volume, which compares the graphs of FIGS. 6 and 9. FIG. 12 is a schematic diagram showing a vertical cross section of the resist.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 所定のグラビア版材のレジストに多数の階調
部分を形成してこの各階調部分における検査液浸
透時間を求め、上記各階調部分において腐食液に
より形成されるセル体積を、総腐食時間および腐
食液の種類を変化させた各々の場合について求
め、これにより、上記各腐食液について上記各種
総腐食時間をパラメータとした検査液浸透時間と
セル体積の関係を示す第一の関係、および上記各
種総腐食時間について上記各腐食液をパラメータ
とした検査液浸透時間とセル体積の関係を示す第
二の関係を求めておき、さらに検査液浸透時間と
上記各腐食液の浸透時間の関係を示す第三の関係
を予め求めておき、腐食に供するグラビア版材の
レジストに対して上記検査液による浸透時間を測
定して検査液浸透時間と原稿のポジ濃度から決定
されるセル設定体積の関係を示す第四の関係を求
め、上記第一の関係と上記第四の関係を対比させ
て上記第一の関係から最も相関性の高いパラメー
タを選択して総腐食時間を決定し、次にこの決定
された総腐食時間に関する上記第二の関係と上記
第四の関係を対比させて上記第二の関係から最も
相関性の高いパラメータを選択することにより使
用すべき腐食液の種類および使用順序を決定し、
さらにこの選択されたパラメータが変化するとき
の検査液浸透時間を決定し、この決定された検査
液浸透時間に基づいて上記第三の関係から選択さ
れた各腐食液の使用時間を決定し、しかる後上記
決定に基づいて上記グラビア版材の腐食を行うこ
とを特徴とするグラビア製版における多液型腐食
法。
1. Form a large number of gradation areas in the resist of a predetermined gravure plate material, determine the penetration time of the test liquid in each gradation area, calculate the cell volume formed by the corrosive liquid in each gradation area, and calculate the total corrosion time and corrosion. The results are calculated for each case in which the type of liquid is changed, and the first relationship showing the relationship between the test liquid penetration time and cell volume using the various total corrosion times as parameters for each of the above corrosive liquids, and the above various total corrosion times are determined. Regarding the corrosion time, a second relationship showing the relationship between the test liquid penetration time and the cell volume using each of the above corrosive liquids as a parameter is determined, and a third relationship showing the relationship between the test liquid penetration time and the penetration time of each of the above corrosive liquids is determined. The relationship is determined in advance, and the penetration time of the test solution is measured into the resist of the gravure plate material to be subjected to corrosion. Find the four relationships, compare the first relationship with the fourth relationship, select the parameter with the highest correlation from the first relationship, determine the total corrosion time, and then determine the total corrosion time. determining the type and order of use of the corrosive liquid to be used by comparing the second relationship and the fourth relationship regarding the total corrosion time and selecting the parameter with the highest correlation from the second relationship;
Further, determine the test liquid penetration time when this selected parameter changes, determine the usage time of each corrosive liquid selected from the third relationship above based on the determined test liquid penetration time, and A multi-liquid corrosion method in gravure plate making, characterized in that the gravure plate material is then corroded based on the above determination.
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