JPS6124101A - 厚膜導電ペ−スト - Google Patents
厚膜導電ペ−ストInfo
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- JPS6124101A JPS6124101A JP59145382A JP14538284A JPS6124101A JP S6124101 A JPS6124101 A JP S6124101A JP 59145382 A JP59145382 A JP 59145382A JP 14538284 A JP14538284 A JP 14538284A JP S6124101 A JPS6124101 A JP S6124101A
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- JP
- Japan
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- weight
- glass
- powder
- resistance
- conductive
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/14—Conductive material dispersed in non-conductive inorganic material
- H01B1/16—Conductive material dispersed in non-conductive inorganic material the conductive material comprising metals or alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/102—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing lead
- C03C3/108—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing lead containing boron
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/06—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base
- H01C17/065—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by thick film techniques, e.g. serigraphy
- H01C17/06506—Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits
- H01C17/06513—Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits characterised by the resistive component
- H01C17/06553—Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits characterised by the resistive component composed of a combination of metals and oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
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- H01C17/06506—Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits
- H01C17/06573—Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits characterised by the permanent binder
- H01C17/0658—Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits characterised by the permanent binder composed of inorganic material
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は耐摩耗性、耐酸性に優れた厚膜導電ペーストに
関する。
関する。
家庭用電化製品の制御装置は、通常ツマミの回転、スラ
イド等により電源の大切、音量の大小、出力の強弱など
の動作状態の設定、制御を行なうようになっている。と
ころが該製品が調理器具の場合、ツマミの軸が挿通して
いる器体部分の開口部に水、油等が侵入するのを有効に
防止することができず、機器の故障や誤動作を生じるこ
とがあった。
イド等により電源の大切、音量の大小、出力の強弱など
の動作状態の設定、制御を行なうようになっている。と
ころが該製品が調理器具の場合、ツマミの軸が挿通して
いる器体部分の開口部に水、油等が侵入するのを有効に
防止することができず、機器の故障や誤動作を生じるこ
とがあった。
、このような制御装置は構造的にも洗浄に適していない
。このため特に調理器具においては、制御装置を平板化
し、器体に開口部を作らない構造とする試みが為されて
いる。このような平板状制御装置は一般にタッチパネル
と呼ばれ、近年調理用電気器具に採用されるようになっ
てきた。
。このため特に調理器具においては、制御装置を平板化
し、器体に開口部を作らない構造とする試みが為されて
いる。このような平板状制御装置は一般にタッチパネル
と呼ばれ、近年調理用電気器具に採用されるようになっ
てきた。
タッチパネルには種々の形式があるが、ガラスを基板に
用い、該ガラス表面に酸化錫や酸化インジウム等の透明
導電膜の電極及び回路を形成したものが一般的である。
用い、該ガラス表面に酸化錫や酸化インジウム等の透明
導電膜の電極及び回路を形成したものが一般的である。
ところが、このタッチパネルの表面をみがき砂を含んだ
酸性洗剤でこすると次第に導電膜が磨滅する。調理台に
近接してタッチパネルが取付けられている器具において
は該パネル上に油、煮汁等の飛散付滑が避けられず、こ
のため上記のような洗浄に耐える導電膜材料の開発が強
く要請されていた。
酸性洗剤でこすると次第に導電膜が磨滅する。調理台に
近接してタッチパネルが取付けられている器具において
は該パネル上に油、煮汁等の飛散付滑が避けられず、こ
のため上記のような洗浄に耐える導電膜材料の開発が強
く要請されていた。
本発明者等は酸化ルテニウム(Rub)系厚膜抵抗体が
耐摩耗性に優れている点に着目し・この抵抗体を耐摩耗
性、耐酸性の導電膜材料に改造できないか種々検討を重
ねた結果、従来のガラス粉末の代りにTiOを含有する
ガラスを用いると共に、導電成分としてRuOの外に銀
及び又はパラジウム粉末を含有せしめ、導電成分とガラ
ス粉末の比率をある範囲とし、且つ酸化ビスマス(Bi
b)及びアルミナ(At○ )を少量添加することによ
り所期の目的を達成できることを見出して本発明に到達
した。即ち、本発明の導電ペーストは、酸化ルテニウム
(RUO)粉末と、銀及び又はパラジウム粉末とを合計
で15〜35重量%と、Tlo を1〜5重量%含有す
る硼硅酸鉛系ガラス粉末55〜40重量%と、酸化ビス
マス粉末1〜5重量%及びアルミナ粉末1〜5重量%と
を含有する点に特徴がある。
耐摩耗性に優れている点に着目し・この抵抗体を耐摩耗
性、耐酸性の導電膜材料に改造できないか種々検討を重
ねた結果、従来のガラス粉末の代りにTiOを含有する
ガラスを用いると共に、導電成分としてRuOの外に銀
及び又はパラジウム粉末を含有せしめ、導電成分とガラ
ス粉末の比率をある範囲とし、且つ酸化ビスマス(Bi
b)及びアルミナ(At○ )を少量添加することによ
り所期の目的を達成できることを見出して本発明に到達
した。即ち、本発明の導電ペーストは、酸化ルテニウム
(RUO)粉末と、銀及び又はパラジウム粉末とを合計
で15〜35重量%と、Tlo を1〜5重量%含有す
る硼硅酸鉛系ガラス粉末55〜40重量%と、酸化ビス
マス粉末1〜5重量%及びアルミナ粉末1〜5重量%と
を含有する点に特徴がある。
通常のRuO系厚膜厚膜抵抗体ペーストRuO粉末を導
電成分とし、該導電成分を基板に固着するだめのバイン
ダーとしてガラス粉末を用い、これらを有機質ビヒクル
中に分散混練したもので、セラミック基板に該ペースト
をスクリーン印刷で塗布し、750〜900 Gで焼成
すれば該基板上に抵抗体皮膜が形成されるようになって
いる。ところがこのペーストをガラス基板に適用する場
合は焼成を700C以下にしなければならず、焼成温度
を低くすると通常の抵抗体ペーストでは耐°摩耗性が著
るしく低下する。そこで先ず低温焼成しても耐摩耗性が
良好となるガラス粉末組成を求めるべく種種実験した結
果、硼硅酸鉛系ガラスにTiOを含有せしめたものが適
当であることを見出した。硼砂酸鉛(pbo−B203
−sio2) 系ガラスは通常の厚膜ペーストに良く用
いられているが、TiOをこのガラスの一成分として1
〜5重量%含有せしめる必要がある。TiO含有率は高
い程耐摩耗性が良好となるが、5重量%を超えるとガラ
ス化しなくなるので1〜5重量%とする。
電成分とし、該導電成分を基板に固着するだめのバイン
ダーとしてガラス粉末を用い、これらを有機質ビヒクル
中に分散混練したもので、セラミック基板に該ペースト
をスクリーン印刷で塗布し、750〜900 Gで焼成
すれば該基板上に抵抗体皮膜が形成されるようになって
いる。ところがこのペーストをガラス基板に適用する場
合は焼成を700C以下にしなければならず、焼成温度
を低くすると通常の抵抗体ペーストでは耐°摩耗性が著
るしく低下する。そこで先ず低温焼成しても耐摩耗性が
良好となるガラス粉末組成を求めるべく種種実験した結
果、硼硅酸鉛系ガラスにTiOを含有せしめたものが適
当であることを見出した。硼砂酸鉛(pbo−B203
−sio2) 系ガラスは通常の厚膜ペーストに良く用
いられているが、TiOをこのガラスの一成分として1
〜5重量%含有せしめる必要がある。TiO含有率は高
い程耐摩耗性が良好となるが、5重量%を超えるとガラ
ス化しなくなるので1〜5重量%とする。
導電膜材料の抵抗値はある程度低いことが必要である。
ところが従来のRuo2系抵抗体ペースト組成では導電
成分に対するガラスの比率が高過ぎ、抵抗値が大きくな
って導電膜材料として使用できない。この抵抗値を下げ
るにはRuO粉末の外に銀及び又はパラジウム粉末を添
加すると共に、これら導電成分に対するガラスの比率を
低下するのが有効である。ところがガラスの比率を低下
すると耐摩耗性、耐酸性、表面平滑性が低下してくる。
成分に対するガラスの比率が高過ぎ、抵抗値が大きくな
って導電膜材料として使用できない。この抵抗値を下げ
るにはRuO粉末の外に銀及び又はパラジウム粉末を添
加すると共に、これら導電成分に対するガラスの比率を
低下するのが有効である。ところがガラスの比率を低下
すると耐摩耗性、耐酸性、表面平滑性が低下してくる。
この欠点はBi O及びAt Oの添加である程度解消
される。Bi Oは表面平滑性の改善に効果かあす、1
〜5重量%添加する。Bi Oはあまり多過ぎると却っ
て平滑性が損なわれる。A12o3は耐酸性の改善に効
果があり、1〜5重量%添加する。
される。Bi Oは表面平滑性の改善に効果かあす、1
〜5重量%添加する。Bi Oはあまり多過ぎると却っ
て平滑性が損なわれる。A12o3は耐酸性の改善に効
果があり、1〜5重量%添加する。
八1203をあまり多くすると焼成膜の表面平滑性を損
ない、基板との密着性を低下させることにもなる。
ない、基板との密着性を低下させることにもなる。
このようにBi2O3及びAl2O3の添加により耐酸
性、表面平滑性は改善されるが、耐摩耗性に最も影響す
るのは導電成分に対するガラスの比率であり、ガラスの
含有率をあまり低くすることができない。このようなこ
とがらペースト中の導電成分を15〜35重量%とじ・
ガラス粉末を55〜40重量%とし、導電成分とガラス
粉末の合計が70〜75重量%となる゛ようにする必要
がある。ガラス粉末の比率がこれより多くなると抵抗値
が高くなり過ぎて導電膜材料として使用できなくなり、
又、少ないとB12O3及びA12o3を添加しても耐
摩耗性、耐酸性、表面平滑性が満足されないからである
。
性、表面平滑性は改善されるが、耐摩耗性に最も影響す
るのは導電成分に対するガラスの比率であり、ガラスの
含有率をあまり低くすることができない。このようなこ
とがらペースト中の導電成分を15〜35重量%とじ・
ガラス粉末を55〜40重量%とし、導電成分とガラス
粉末の合計が70〜75重量%となる゛ようにする必要
がある。ガラス粉末の比率がこれより多くなると抵抗値
が高くなり過ぎて導電膜材料として使用できなくなり、
又、少ないとB12O3及びA12o3を添加しても耐
摩耗性、耐酸性、表面平滑性が満足されないからである
。
又、導電成分とガラス粉末の合計が70〜75重量%と
なるようにするのは、有機質ビヒクルの含有率が多過ぎ
ても又少な過ぎても良好なスクリーン印刷性が得られな
いからである。
なるようにするのは、有機質ビヒクルの含有率が多過ぎ
ても又少な過ぎても良好なスクリーン印刷性が得られな
いからである。
導電成分中、Rub2粉末と銀及び又はパラジウム粉末
との比率はおよそ1:1とするのが適当である。
との比率はおよそ1:1とするのが適当である。
上記導電成分、TiO含有硼硅酸鉛系ガラス、B12O
3及びA12o3の粉末を有機質ビヒクルと混線すれば
本発明の導電ペーストが得られる。有機質ビヒクルは通
常の厚膜ペーストに用いられるものテ良く、例えばエチ
ルセルロースt−10〜20i量%含有するブチルカル
ピトールアセテート溶液、テルピネオール溶液等が挙げ
られる。
3及びA12o3の粉末を有機質ビヒクルと混線すれば
本発明の導電ペーストが得られる。有機質ビヒクルは通
常の厚膜ペーストに用いられるものテ良く、例えばエチ
ルセルロースt−10〜20i量%含有するブチルカル
ピトールアセテート溶液、テルピネオール溶液等が挙げ
られる。
本発明の導電ペーストによれば、550〜700C程度
の温度での焼成により充分耐摩耗性、耐酸性を有する導
電被膜が得られ、本ペーストにより信頼性のあるタッチ
パネルの製造が可能となった。
の温度での焼成により充分耐摩耗性、耐酸性を有する導
電被膜が得られ、本ペーストにより信頼性のあるタッチ
パネルの製造が可能となった。
実施例1
第1表に示すようなTiO含有率0〜5重量%の硼硅酸
鉛系ガラス4種を試作し、これを325メツシユ以下に
粉砕して第2表に示すような導電ペーストを作成した。
鉛系ガラス4種を試作し、これを325メツシユ以下に
粉砕して第2表に示すような導電ペーストを作成した。
このペーストを2關幅、24朋長さのパターンで並板ガ
ラス基板にスクリーン印刷し、乾燥後600Cで焼成し
、焼成膜について両端の抵抗値を測定し、表面状態を観
察し、次いで耐摩耗性と耐酸性の試験に供した。耐摩耗
性、耐酸性の試験方法と結果の表示は次の通りである。
ラス基板にスクリーン印刷し、乾燥後600Cで焼成し
、焼成膜について両端の抵抗値を測定し、表面状態を観
察し、次いで耐摩耗性と耐酸性の試験に供した。耐摩耗
性、耐酸性の試験方法と結果の表示は次の通りである。
(1)耐摩耗性
摺動子として6.61.4に9の錘りを布で被覆したも
のを用い、この摺動子を上記焼成膜上を、10g/10
0m1濃度の酸性クレンザ−液を5 ml1分の速度で
滴下しつつ、10W分の速度で2000回往復させ、摺
動後の抵抗値を初期の抵抗値と比較して4倍未満ならば
◎、4〜8倍ならば0,8倍以上となるものをX印とし
た。
のを用い、この摺動子を上記焼成膜上を、10g/10
0m1濃度の酸性クレンザ−液を5 ml1分の速度で
滴下しつつ、10W分の速度で2000回往復させ、摺
動後の抵抗値を初期の抵抗値と比較して4倍未満ならば
◎、4〜8倍ならば0,8倍以上となるものをX印とし
た。
(11)耐酸性
焼成膜が形成されたガラス基板を25cの3.5%塩酸
水溶液に5分間浸漬した後水洗乾燥し、表面状態を実体
顕微鏡で観察した。表面に全く変化が認められないもの
を◎、表面が変色して化学的変化は認められるが、膜自
体の浸食は認められないものを○、膜が酸により明らか
に浸食されているものをX印とした。
水溶液に5分間浸漬した後水洗乾燥し、表面状態を実体
顕微鏡で観察した。表面に全く変化が認められないもの
を◎、表面が変色して化学的変化は認められるが、膜自
体の浸食は認められないものを○、膜が酸により明らか
に浸食されているものをX印とした。
なお、耐摩耗性、耐酸性の試験前の表面状態観察は膜表
面が平滑でむらが無ければ○、表面が粗いもの、クラッ
ク等の欠陥があるものをX印とした。測定結果を第2表
にまとめて示す。
面が平滑でむらが無ければ○、表面が粗いもの、クラッ
ク等の欠陥があるものをX印とした。測定結果を第2表
にまとめて示す。
第 1 表
第 2 表
(注※)ビヒクル組成はエチルセルロースを12重量%
含有するターピネオール溶液である。
含有するターピネオール溶液である。
第2表の結果からガラス組成中のTiOが耐摩耗性向上
に寄与し、TiO含有率が高い程良好となることが判る
。
に寄与し、TiO含有率が高い程良好となることが判る
。
実施例2
第1表に示すガラス組成Cを用い、ガラスと導電成分の
割合を種々変え、且つBi O、AIOの添加量も種々
変えてペーストを作成し、該ペーストについて実施例1
と同様の試験を行なった。該ペースト組成及び測定結果
を第3表にまとめて示す。第3表は導電成分に対するガ
ラスの比率が低過ぎると耐摩耗性、耐酸性が悪化しくA
5)、高くなると耐摩耗性、耐酸性は良好となるが抵抗
値が高くなり過ぎる( A ] 6 )ことを示してい
る。
割合を種々変え、且つBi O、AIOの添加量も種々
変えてペーストを作成し、該ペーストについて実施例1
と同様の試験を行なった。該ペースト組成及び測定結果
を第3表にまとめて示す。第3表は導電成分に対するガ
ラスの比率が低過ぎると耐摩耗性、耐酸性が悪化しくA
5)、高くなると耐摩耗性、耐酸性は良好となるが抵抗
値が高くなり過ぎる( A ] 6 )ことを示してい
る。
又、Ei Oの添加により表面平滑性が改善される(A
7.8)が、多過ぎると却って平滑性が損なわれる (
黒9)こと、AlOの添加により耐酸性が改善される(
AIOlll)が、多過ぎると表面平滑性が損なわれる
(Al1)ことも示している。
7.8)が、多過ぎると却って平滑性が損なわれる (
黒9)こと、AlOの添加により耐酸性が改善される(
AIOlll)が、多過ぎると表面平滑性が損なわれる
(Al1)ことも示している。
Claims (1)
- (1)酸化ルテニウム粉末と、銀及び又はパラジウム粉
末とを合計で15〜35重量%と、TiO_2を1〜5
重量%含有する硼硅酸鉛系ガラス粉末55〜40重量%
と、酸化ビスマス粉末1〜5重量%及びアルミナ粉末1
〜5重量%とを含有することを特徴とする厚膜導電ペー
スト。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59145382A JPS6124101A (ja) | 1984-07-13 | 1984-07-13 | 厚膜導電ペ−スト |
US06/754,215 US4603007A (en) | 1984-07-13 | 1985-07-12 | Paste for forming a thick conductive film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59145382A JPS6124101A (ja) | 1984-07-13 | 1984-07-13 | 厚膜導電ペ−スト |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6124101A true JPS6124101A (ja) | 1986-02-01 |
JPH0311483B2 JPH0311483B2 (ja) | 1991-02-18 |
Family
ID=15383948
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59145382A Granted JPS6124101A (ja) | 1984-07-13 | 1984-07-13 | 厚膜導電ペ−スト |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4603007A (ja) |
JP (1) | JPS6124101A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018014413A (ja) * | 2016-07-21 | 2018-01-25 | 三菱マテリアル株式会社 | サーミスタ素子及びその製造方法 |
JP2018043895A (ja) * | 2016-09-12 | 2018-03-22 | 住友金属鉱山株式会社 | 二酸化ルテニウム粉末とその製造方法、厚膜抵抗体ペースト、及び、厚膜抵抗体 |
WO2019142367A1 (ja) * | 2018-01-17 | 2019-07-25 | 三菱マテリアル株式会社 | サーミスタ素子及びその製造方法 |
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DE69007778T2 (de) * | 1990-04-12 | 1994-08-18 | Du Pont | Zusammensetzungen für niederohmige Dickschichtwiderstände und Herstellungsverfahren solcher Widerstände. |
JP3253121B2 (ja) * | 1992-03-30 | 2002-02-04 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 厚膜抵抗体組成物 |
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US5534194A (en) * | 1993-03-30 | 1996-07-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Thick film resistor composition containing pyrochlore and silver-containing binder |
JPH07161223A (ja) * | 1993-12-10 | 1995-06-23 | Murata Mfg Co Ltd | 導電性ペーストおよび積層セラミックコンデンサ |
US6618117B2 (en) | 1997-07-12 | 2003-09-09 | Silverbrook Research Pty Ltd | Image sensing apparatus including a microcontroller |
KR100369565B1 (ko) * | 1999-12-17 | 2003-01-29 | 대주정밀화학 주식회사 | 전기발열체용 저항 페이스트 조성물 |
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- 1984-07-13 JP JP59145382A patent/JPS6124101A/ja active Granted
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1985
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