JPH11316395A - Electrochromic element - Google Patents

Electrochromic element

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Publication number
JPH11316395A
JPH11316395A JP10195525A JP19552598A JPH11316395A JP H11316395 A JPH11316395 A JP H11316395A JP 10195525 A JP10195525 A JP 10195525A JP 19552598 A JP19552598 A JP 19552598A JP H11316395 A JPH11316395 A JP H11316395A
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JP
Japan
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electrochromic
layer
substrate
electrode layer
layers
Prior art date
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Pending
Application number
JP10195525A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akiko Sakamoto
晶子 坂本
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make the ratio of the light transmittance at the time of decoloring to that at the time of coloring, i.e., a switching ratio larger and a life longer by a first juncture which electrically connects both of a first lower electrode layer and a second lower electrode layer and a second juncture which electrically connects both of a first upper electrode layer and a second upper electrode layer. SOLUTION: The lower electrode layer 11 of an electrochromic layer 1 and the lower electrode layer 21 of an electrochromic layer 2 are common in the juncture which is an electrode take-out port. The upper electrode layer 12 of the electrochromic layer 1 and the upper electrode layer 22 of the electrochromic layer 2 are common in the juncture of electricity. Voltage is impressed on the common juncture of the lower electrode layers and the common juncture of the upper electrode layers, by which both of the electrochromic layer 1 and the electrochromic layer 2 are simultaneously colored and decolored. As a result, the electrochromic element having the larger transmitted light quantity at the time of coloring and decoloring, i.e., switching ratio, than the element having just one set of the electrochromic layer 1 is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光量制御や表示や
光スイッチに使用されるエレクトロクロミック素子に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrochromic device used for light quantity control, display and optical switches.

【0002】[0002]

【従来の技術】電圧を物質に印加すると可逆的に電解酸
化または電解還元反応が起こり、可逆的に着色または消
色する現象をエレクトロクロミズムという。この現象を
示すエレクトロクロミック物質を用いて、電圧操作によ
り着消色するエレクトロクロミック素子を作り、このエ
レクトロクロミック素子を光量制御素子(例えば、調光
ガラスや防眩ミラーなど)や7セグメントを利用した数
字表示素子に利用する試みは、20年以上前から行われ
ている。
2. Description of the Related Art When a voltage is applied to a substance, a phenomenon in which an electrolytic oxidation or electrolytic reduction reaction occurs reversibly and a color or a color disappears reversibly is called electrochromism. By using an electrochromic substance exhibiting this phenomenon, an electrochromic element that can be turned on and off by a voltage operation is manufactured, and the electrochromic element is formed by using a light amount control element (for example, a light control glass or an anti-glare mirror) or a 7-segment. Attempts to use it for numerical display elements have been made for more than 20 years.

【0003】エレクトロクロミック素子は、エレクトロ
クロミック素子を構成する各層の材料形態によって、溶
液型、ゲル型、全固体型等に大別する事ができ、その中
でも全固体型エレクトロクロミック素子は、各層が全て
薄膜状に積層して形成されている。そのため、全固体型
エレクトロクロミック素子は大型化が容易であるばかり
でなく、溶液型やゲル型のエレクトロクロミック素子を
作製するときのような、各層を別々の基板に形成して両
基板を貼り合わせる工程や液状あるいはゲル状の材料の
密封工程が不要であるため生産性に優れる。
[0003] Electrochromic devices can be roughly classified into a solution type, a gel type, an all solid type, and the like, depending on the material form of each layer constituting the electrochromic device. All are formed by laminating in a thin film shape. Therefore, not only is the all-solid-state electrochromic device easy to increase in size, but also, as in the case of producing a solution-type or gel-type electrochromic device, each layer is formed on a separate substrate and the two substrates are bonded to each other. Since there is no need for a step or a step of sealing a liquid or gel material, the productivity is excellent.

【0004】例えば、ガラス基板の上に、透明電極層
(陰極)、三酸化タングステン薄膜層(エレクトロクロ
ミック層)、二酸化ケイ素薄膜層( 絶縁層) 、及び電極
層(陽極)を順次積層してなる全固体型エレクトロクロ
ミック素子が特公昭52−46098に記載されてい
る。このエレクトロクロミック素子に電圧(着色電圧)
を印加すると、三酸化タングステン(WO3 )薄膜層が青
色に着色する。その後、このエレクトロクロミック素子
に極性が逆の電圧(消色電圧)を印加すると、三酸化タ
ングステン薄膜層の青色が消えて、無色に戻る。この着
消色する機構は詳しく解明されてはいないが、三酸化タ
ングステン薄膜層及び絶縁層(イオン導電層)中に含ま
れる少量の水分が三酸化タングステン薄膜層の着消色を
支配していると理解されている。
For example, a transparent electrode layer (cathode), a tungsten trioxide thin film layer (electrochromic layer), a silicon dioxide thin film layer (insulating layer), and an electrode layer (anode) are sequentially laminated on a glass substrate. An all-solid-state electrochromic device is described in JP-B-52-46098. Voltage (coloring voltage) applied to this electrochromic device
Is applied, the tungsten trioxide (WO 3 ) thin film layer is colored blue. Thereafter, when a voltage having a reverse polarity (decoloring voltage) is applied to the electrochromic element, the blue color of the tungsten trioxide thin film layer disappears, and the electrochromic element returns to colorless. Although the mechanism of the coloration and discoloration is not elucidated in detail, a small amount of water contained in the tungsten trioxide thin film layer and the insulating layer (ion conductive layer) controls the coloration and discoloration of the tungsten trioxide thin film layer. Is understood.

【0005】着色の反応式は、以下のように推定されて
いる。 H2O →H + +OH- (WO3層=陰極側)WO3 +nH+ +ne- → HnWO3 無色透明 青着色 ( 絶縁層=陽極側) OH- →(1/2)H2O+(1/4)O2 ↑+e - 従って、このような表示素子は、(1)着色反応の際、
酸素ガス発生という副反応を起こし、この酸素ガスが膜
の内部から離脱するので、この副反応により含有水分が
消費されるという性質、及び(2)逆の消色反応によっ
て、材料となる酸素が膜の内部に存在しないため、水が
生成されないという性質を有する。そのため、着色消色
のためには膜の内部の水を消費し、着色消色の繰り返し
には大気中からの水の補給が必要という欠点がある。特
に後者(2)の理由により、このタイプの素子には、着
色の再現性が大気中の水分の影響を受ける欠点がある。
[0005] The reaction formula for coloring is estimated as follows. H 2 O → H + + OH - (WO 3 layer = cathode) WO 3 + nH + + ne - → HnWO 3 colorless blue colored (insulating layer = anode) OH - → (1/2) H 2 O + (1 / 4) O 2 ↑ + e - Therefore, such a display element has (1) a coloring reaction.
A side reaction called oxygen gas generation occurs, and this oxygen gas is released from the inside of the film. Therefore, the property that the contained water is consumed by this side reaction, and (2) the oxygen that becomes the material is degraded by the reverse decolorization reaction Since it does not exist inside the film, it has a property that water is not generated. For this reason, there is a disadvantage that water inside the film is consumed for coloring and decoloring, and that replenishment of water from the atmosphere is required for repeated coloring and decoloring. In particular, for the latter reason (2), this type of device has the disadvantage that the reproducibility of the coloring is affected by atmospheric moisture.

【0006】以上の欠点を解決するため、着色反応によ
り消費される水の量と同じ量の水が消色反応により生成
され、従って外界からの水の補給を必要とせずに着色消
色を繰り返す事ができ、しかも繰り返される着色濃度が
外界の影響を受けない全固体型エレクトロクロミック素
子が特開昭52−73749に記載されている。この素
子は、基本的には電極としての透明電極層と、エレクト
ロクロミック層としての三酸化タングステン薄膜層のよ
うな電解還元発色性薄膜層及び酸化クロム(Cr 2O3 )膜
のような電解酸化発色性薄膜層と、対向電極とを順次積
層してなるものである。
[0006] In order to solve the above disadvantages, a coloring reaction is used.
The same amount of water is consumed by the decolorization reaction
Coloration without the need for external water supply
The color can be repeated, and the repeated coloring density
All-solid-state electrochromic element not affected by the outside world
This is described in JP-A-52-73749. This element
The element basically consists of a transparent electrode layer as an electrode,
Tungsten trioxide thin film layer as rochromic layer
Such as chromium oxide (Cr TwoOThree)film
And a counter electrode are successively stacked.
It consists of layers.

【0007】また、前記特開昭52−73749公報に
は、この素子の電極と対向電極とに直流電源を接続し直
流電圧を印加して素子を着色した後、直流電源との接続
を切った場合、着色が自然放電により徐々に消色する現
象が見られるが、透明電極ともう一方の電極との間の任
意の位置に絶縁層例えば二酸化ケイ素、フッ化マグネシ
ウムなどの薄膜を設ける事により、電圧解除後も着色が
保存される性質(これをメモリー性という)がこの素子
に付与される事が記載されている。特公昭62−528
45には、この絶縁層が、電子の良導体ではないが、プ
ロトン、及びヒドロキシイオンの移動は自由にできる物
質、つまりイオン導電物質の層であろうとの推察が記載
されている。さらに、特公昭62−52845には、絶
縁層即ちイオン導電層は電解還元発色性薄膜層と電解酸
化発色性薄膜層との間に配置する事が最も望ましい事、
並びに電解還元発色性薄膜層と電解酸化発色性薄膜層と
は、両者とも発色性である必要がなく、いずれか一方が
外部より変化が識別できるような変色をすれば足りる事
が記載されている。
[0007] Also, in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 52-73749, a DC power supply is connected to the electrode and the counter electrode of the element, and after applying a DC voltage to color the element, the connection with the DC power supply is cut. In the case, a phenomenon is seen in which the coloring gradually disappears due to spontaneous discharge, but by providing a thin film such as an insulating layer such as silicon dioxide or magnesium fluoride at an arbitrary position between the transparent electrode and the other electrode, It is described that a property of retaining coloring even after the voltage is released (this property is referred to as a memory property) is imparted to this element. Tokiko Sho 62-528
No. 45 speculates that this insulating layer is not a good conductor of electrons, but may be a layer of a substance that can freely move protons and hydroxy ions, that is, an ion conductive substance. Furthermore, Japanese Patent Publication No. 62-52845 discloses that it is most desirable that an insulating layer, that is, an ionic conductive layer, is disposed between an electrolytic reduction color-forming thin film layer and an electrolytic oxidation color-forming thin film layer.
In addition, it is described that both the electrolytic reduction color-forming thin film layer and the electrolytic oxidation color-forming thin film layer do not need to be color-forming, and it is sufficient if one of them is discolored so that a change can be recognized from the outside. .

【0008】 エレクトロクロミック素子のエレクトロク
ロミック層を直接または間接的に挟む一対の電極は、着
消色したエレクトロクロミック層に光を入射し、さらに
は出射した光を素子の外部に取り出すため、少なくとも
一方の電極は透明でなければならない。特に、透過型エ
レクトロクロミック素子の場合は両電極とも透明でなけ
ればならない。
[0008] Electrochromic element
A pair of electrodes directly or indirectly sandwiching the
Light is incident on the decolorized electrochromic layer,
Is to extract the emitted light to the outside of the device, so at least
One electrode must be transparent. In particular, transmission-type
In the case of a lectrochromic element, both electrodes must be transparent.
I have to.

【0009】 透明な電極層材料としては、現在のところ
SnO2、In2O3 、ITO (In2O3 とSnO2の混合物)、ZnO 等
が知られているが、これらの材料は光吸収率が比較的高
いため、必要な透過率を得るために膜厚を薄くせねばな
らず、エレクトロクロミック素子は基板(例えば、ガラ
ス板やプラスチック板)の上に薄膜として形成されるの
が普通である。
[0009] Currently, as a transparent electrode layer material,
SnOTwo, InTwoOThree, ITO (InTwoOThreeAnd SnOTwoMixture), ZnO etc
However, these materials have relatively high light absorption.
Therefore, the film thickness must be reduced to obtain the required transmittance.
However, the electrochromic element is not
Film or plastic board)
Is common.

【0010】 一対の電極には、外部電源から電圧を印加
するために、外部配線との接続部である取り出し電極を
設ける。電極として透明電極層を使用した場合は、透明
電極層が外部配線に対して高抵抗であるので、透明電極
層に重ねて(即ち、接触させて)低抵抗のとりだし電極
を設ける事が多い。通常は、基板表面端部に位置する透
明電極層の周辺に帯状に低抵抗電極部を設けて(例え
ば、金属性クリップを装着したり、低抵抗金属材料をメ
ッキしたり、真空薄膜形成技術により成膜したりす
る)、低抵抗の取り出し電極としている。
[0010] A voltage is applied to the pair of electrodes from an external power supply
The extraction electrode, which is the connection part with the external wiring,
Provide. If a transparent electrode layer is used as the electrode,
Since the electrode layer has high resistance to external wiring, the transparent electrode
Low resistance take-out electrodes overlaid (ie, in contact)
Is often provided. Normally, the transparency is located at the edge of the substrate surface.
A low-resistance electrode section is provided in a strip around the bright electrode layer (for example,
For example, attach a metal clip or use a low-resistance metal material.
Or by vacuum thin film forming technology
And a low-resistance extraction electrode.

【0011】また、エレクトロクロミック素子は用途に
よって、素子を保護するための封止基板を素子基板と対
向するように配置し、例えばエポキシ樹脂、アクリル樹
脂、ウレタン樹脂、等を用いて密封封止して用いられ
る。
In addition, depending on the application, an electrochromic element is provided with a sealing substrate for protecting the element facing the element substrate, and hermetically sealed using, for example, an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, or the like. Used.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとしている課題】前述の様に、全固
体型エレクトロクロミック素子は着消色特性に優れ、大
型化も可能であるなどの特徴を持つ。しかしながら、着
色時に対する消色時の光透過率の比、即ちスイッチング
比は、通常の利用に対しては満足できるレベルにある
が、利用範囲をさらに拡大するためには従来のスイッチ
ング比は充分でないという問題があった。
As described above, the all-solid-state electrochromic device has characteristics such as excellent color erasing and erasing characteristics and the possibility of increasing the size. However, the ratio of the light transmittance at the time of erasing to the time of coloring, that is, the switching ratio is at a satisfactory level for normal use, but the conventional switching ratio is not sufficient to further expand the use range. There was a problem.

【0013】従来よりスイッチング比を向上させるため
に、駆動電圧を上げて着色濃度を濃くする方法が知られ
ているが、限界電圧を超えて駆動電圧を上げると、素子
が膜剥離を起こして破壊するのみならず、膜剥離・破壊
に到らなくも駆動電圧を過度に上げることは素子寿命の
短縮に繋がる。また、スイッチング比を向上させるため
に、エレクトロクロミック層の膜厚を厚くして着色濃度
を濃くする方法も知られているが、ある一定膜厚までは
確かに着色濃度が濃くなるが、それ以上の膜厚では着色
濃度が飽和してしまう。
Conventionally, there is known a method of increasing the driving voltage to increase the coloring density in order to improve the switching ratio. However, when the driving voltage is increased beyond the limit voltage, the element is peeled off and the element is destroyed. In addition, excessively increasing the drive voltage without causing film peeling or destruction leads to shortening of the device life. Further, in order to improve the switching ratio, a method of increasing the thickness of the electrochromic layer to increase the coloring concentration is also known. However, the coloring concentration surely increases up to a certain film thickness. At a film thickness of, the coloring concentration is saturated.

【0014】本発明はこのような従来の問題点に鑑みて
なされたものであり、着色時に対する消色時の光透過率
の比、即ちスイッチング比が大きく、長寿命のエレクト
ロクロミック素子の提供を目的とする。
The present invention has been made in view of such conventional problems, and provides a long-life electrochromic device having a large ratio of light transmittance at the time of erasing to coloring, that is, a switching ratio. Aim.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は第一に、「エレクトロクロミック素子におい
て、第一基板と第一基板上に順番に積層状に配置された
第一下部電極層と第一エレクトロクロミック層と第一上
部電極層とを有する第一エレクトロクロミック部材と、
第二基板と第二基板上に順番に積層状に配置された第二
下部電極層と第二エレクトロクロミック層と第二上部電
極層とを有する第二エレクトロクロミック部材と、前記
エレクトロクロミック素子の端部に第一接続部と第二接
続部とを具え、第一エレクトロクロミック部材と第二エ
レクトロクロミック部材とが前記第一上部電極層面と前
記第二上部電極層面とを対向して封止樹脂を介して接合
され、前記第一接続部は前記第一下部電極層と前記第二
下部電極層との双方と、そして前記第二接続部は前記第
一上部電極層と前記第二上部電極層との双方と電気的接
続がなされていることを特徴とするエレクトロクロミッ
ク素子(請求項1)」を提供する。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention firstly provides an "electrochromic element, wherein a first substrate and a first lower electrode which are sequentially arranged on the first substrate in a laminated manner. A first electrochromic member having a layer, a first electrochromic layer, and a first upper electrode layer,
A second substrate and a second electrochromic member having a second lower electrode layer, a second electrochromic layer, and a second upper electrode layer, which are sequentially arranged in a stacked form on the second substrate, and an end of the electrochromic element The portion comprises a first connection portion and a second connection portion, the first electrochromic member and the second electrochromic member facing the first upper electrode layer surface and the second upper electrode layer surface sealing resin And the first connection portion is connected to both the first lower electrode layer and the second lower electrode layer, and the second connection portion is connected to the first upper electrode layer and the second upper electrode layer. An electrochromic device (Claim 1) characterized by being electrically connected to both.

【0016】第二に、「エレクトロクロミック素子にお
いて、基板と前記基板上に積層状に配置されたエレクト
ロクロミック層とこれを狭持する一対の電極層と封止樹
脂を介して接合された封止基板とを有するエレクトロク
ロミック部材の複数個と、前記エレクトロクロミック素
子の端部に前記電極層との電気的接続がなされた複数の
接続部とを具え、前記複数個のエレクトロクロミック部
材が前記基板面または前記封止基板面を、前記基板面ま
たは前記封止基板面と対向して接着剤を介して全て接合
一体化され、前記接続部が二つ以上の前記電極層と電気
的に接続されていることを特徴とするエレクトロクロミ
ック素子(請求項2)」を提供する。
Secondly, in an electrochromic device, a substrate, an electrochromic layer laminated on the substrate, a pair of electrode layers sandwiching the substrate, and a sealing member joined via a sealing resin. A plurality of electrochromic members having a substrate and a plurality of connection portions at the ends of the electrochromic element, the plurality of connection portions being electrically connected to the electrode layer, wherein the plurality of electrochromic members are provided on the surface of the substrate. Or the sealing substrate surface, the substrate surface or the sealing substrate surface facing and all bonded and integrated via an adhesive, the connection portion is electrically connected to two or more electrode layers An electrochromic device (claim 2). "

【0017】第三に、「エレクトロクロミック素子にお
いて、基板と前記基板上に積層状に配置されたエレクト
ロクロミック層とこれを狭持する一対の電極層とを有す
るエレクトロクロミック部材の複数個と、一枚の封止基
板と、前記エレクトロクロミック素子の端部に前記電極
層との電気的接続がなされた複数の接続部とを具え、前
記複数個のエレクトロクロミック部材と前記封止基板と
が前記基板の各層形成面と各層非形成面とを並びに前記
基板の各層形成面と前記封止基板面とを対向して封止樹
脂を介して全て接合一体化され、少なくとも一つの前記
接続部が二つ以上の前記電極層と電気的に接続されてい
ることを特徴とするエレクトロクロミック素子(請求項
3)」を提供する。
Third, in the electrochromic device, a plurality of electrochromic members each having a substrate, an electrochromic layer laminated on the substrate, and a pair of electrode layers sandwiching the substrate are provided. Comprising a plurality of sealing substrates, and a plurality of connection portions at the ends of the electrochromic element where electrical connection with the electrode layer is made, wherein the plurality of electrochromic members and the sealing substrate are the substrate Each layer forming surface and each layer non-forming surface, as well as the respective layer forming surface of the substrate and the sealing substrate surface, are all joined and integrated via a sealing resin, and at least one connection portion is formed by two. An electrochromic device (claim 3), which is electrically connected to the above-mentioned electrode layer, is provided.

【0018】第四に、「エレクトロクロミック素子にお
いて、基板と、前記基板上に積層状に配置された2種類
以上且つ合計2層以上のエレクトロクロミック層と前記
エレクトロクロミック層よりも1層多い層数の電極層と
を有する薄膜部と、前記エレクトロクロミック素子の端
部に前記電極層との電気的接続がなされた複数の接続部
とを具え、各々の前記エレクトロクロミック層は前記電
極層の二つに狭持され、前記薄膜部の基板面に最も近い
層と最も遠い層とが各々電極層からなり、少なくとも一
つの前記接続部が二つ以上の前記電極層と電気的に接続
されていることを特徴とするエレクトロクロミック素子
(請求項4)」を提供する。
Fourth, in the electrochromic element, the number of substrates, two or more and two or more electrochromic layers arranged in a stacked manner on the substrate, and one more layer than the electrochromic layer A thin-film portion having an electrode layer, and a plurality of connection portions at the end of the electrochromic element, which are electrically connected to the electrode layer. Each of the electrochromic layers has two electrode layers. A layer closest to the substrate surface of the thin film portion and a layer farthest from the substrate surface each include an electrode layer, and at least one connection portion is electrically connected to two or more electrode layers. An electrochromic device (Claim 4) is provided.

【0019】第五に、「前記接続部の個数が二つであ
り、二つの前記接続部間に一定の直流電圧を印加すると
全てのエレクトロクロミック層が着色し、一定の逆極性
の直流電圧を印加すると全てのエレクトロクロミック層
が消色することを特徴とする請求項2、3、4何れか1
項記載のエレクトロクロミック素子(請求項5)」を提
供する。
Fifth, "the number of the connection portions is two, and when a certain DC voltage is applied between the two connection portions, all the electrochromic layers are colored, and a certain reverse polarity DC voltage is applied. 5. An electrochromic layer according to claim 2, wherein all the electrochromic layers are decolored when the voltage is applied.
The present invention provides an electrochromic device (claim 5).

【0020】第六に、「エレクトロクロミック素子にお
いて、第一基板と第一基板上に順番に積層状に配置され
た第一下部電極層と第一エレクトロクロミック層と第一
上部電極層とを有する第一エレクトロクロミック部材
と、第二基板と第二基板上に順番に積層状に配置された
第二下部電極層と第二エレクトロクロミック層と第二上
部電極層と封止樹脂を介して接合された封止基板とを有
する第二エレクトロクロミック部材と、前記エレクトロ
クロミック素子の端部に第一接続部と第二接続部とを具
え、第一エレクトロクロミック部材と第二エレクトロク
ロミック部材とが前記第一基板の各層形成面と前記第二
基板の各層非形成面とを対向し封止樹脂を介して接合さ
れ、前記第一接続部が計四層の前記電極層のうち二層の
電極層と電気的に接続され、前記第二接続部が残りの二
層の電極層と電気的に接続され、前記第一接続部と前記
第二接続部との間に一定の直流電圧を印加すると第一エ
レクトロクロミック層と第二エレクトロクロミック層と
の両方が着色し、一定の逆極性の直流電圧を印加すると
第一エレクトロクロミック層と第二エレクトロクロミッ
ク層との両方が消色することを特徴とするエレクトロク
ロミック素子(請求項6)を提供する。
Sixth, in the electrochromic device, a first substrate, a first lower electrode layer, a first electrochromic layer, and a first upper electrode layer, which are sequentially stacked on the first substrate, are formed. Having a first electrochromic member, a second substrate, a second lower electrode layer, a second electrochromic layer, a second upper electrode layer, which are sequentially arranged in a stacked state on the second substrate, and joined via a sealing resin. A second electrochromic member having a sealed substrate, comprising a first connection portion and a second connection portion at an end of the electrochromic element, wherein the first electrochromic member and the second electrochromic member are Each layer forming surface of the first substrate and the non-layer forming surface of the second substrate are opposed to each other and joined via a sealing resin, and the first connection portion is a two-layer electrode layer of the total of four electrode layers. Electrically connected to The second connection portion is electrically connected to the remaining two electrode layers, and when a constant DC voltage is applied between the first connection portion and the second connection portion, the first electrochromic layer and An electrochromic device characterized in that both the second electrochromic layer and the second electrochromic layer are colored, and when a DC voltage having a certain reverse polarity is applied, both the first electrochromic layer and the second electrochromic layer are decolorized. Item 6) is provided.

【0021】第七に、「前記接続部と前記第一接続部と
前記第二接続部とが導電性薄膜または導電性ペースト
と、導電性クリップとを有することを特徴とする請求項
1、2、3、4、5、6何れか1項記載のエレクトロク
ロミック素子(請求項7)」を提供する。
Seventh, "the connection portion, the first connection portion, and the second connection portion have a conductive thin film or conductive paste and a conductive clip. An electrochromic device according to any one of claims 3, 4, 5, and 6 (claim 7) ".

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】本発明においては、1つのエレク
トロクロミック素子内にエレクトロクロミック層を2組
以上有し、にもかかわらず、電極の接続部の数が、エレ
クトロクロミック層を1組有している素子の時と変わら
ないことが特徴である。以下の説明で共通して用いるエ
レクトロクロミック層は多層薄膜層から構成され、積層
順から見て二つのタイプがある。第一は電解酸化発色性
薄膜層、イオン導電層、電解還元発色性薄膜層が順番に
積層されるタイプ、第二は電解還元発色性層、イオン導
電層、電解酸化発色性薄膜層が順番に積層されるタイプ
である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the present invention, one electrochromic element has two or more sets of electrochromic layers, and the number of connection portions of electrodes is one set of one electrochromic layer. The feature is that it is not different from the time of the element in which it is. The electrochromic layer commonly used in the following description is composed of a multilayer thin film layer, and there are two types as viewed from the lamination order. The first is a type in which an electrolytic oxidation color-forming thin film layer, an ion conductive layer, and an electrolytic reduction color-forming thin film layer are sequentially stacked. The second is an electrolytic reduction color-forming layer, an ion conductive layer, and an electrolytic oxidation color-forming thin film layer in that order. It is a type that is laminated.

【0023】以下、図を用いて本発明のエレクトロクロ
ミック素子の実施の形態を説明するが、本発明はこれら
の図に限定されるものではない。本発明の第一の実施の
形態の例として、2組のエレクトロクロミック層を有し
ているエレクトロクロミック素子について説明する。2
組のエレクトロクロミック層はそれぞれ、一対の電極層
に狭持されている。ガラス基板に近い方の電極層を、下
部電極とし、もう一方の電極を上部電極とする。図1に
おいて、各エレクトロクロミック層を各々1、2とす
る。それぞれの下部電極層を11、21、上部電極層を
12、22とする。エレクトロクロミック層を構成する
層のうち、下部電極層と接している層を電解酸化発色性
薄膜層、上部電極に近い方を電解還元発色性薄膜層にな
るよう形成しておく。もちろん、逆に、下部電極層と接
している層を電解還元発色性薄膜層、上部電極に近い方
を電解酸化発色性薄膜層になるよう形成しておいてもよ
い。エレクトロクロミック層1の下部電極層11と、エ
レクトロクロミック層2の下部電極層21は、電極の取
り出し口である接続部が共通であり、また、エレクトロ
クロミック層1の上部電極層12と、エレクトロクロミ
ック層2の上部電極層22は、電極の接続部が共通であ
る。共通の下部電極層の接続部と共通の上部電極層の接
続部に電圧を印加することにより、エレクトロクロミッ
ク層1も、エレクトロクロミック層2も同時に着消色す
る。よって、エレクトロクロミック層を1組しか有して
いないエレクトロクロミック素子よりも着消色時に於け
る透過光量比即ちスイッチング比が大きいエレクトロク
ロミック素子が得られる。さらに本エレクトロクロミッ
ク素子は二つのエレクトロクロミック層の電極層の接続
部が共通のため、エレクトロクロミック層が1組しかな
い素子の場合と接続部の数は変わらない。
Hereinafter, embodiments of the electrochromic device of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to these drawings. As an example of the first embodiment of the present invention, an electrochromic device having two sets of electrochromic layers will be described. 2
Each set of electrochromic layers is sandwiched between a pair of electrode layers. The electrode layer closer to the glass substrate is a lower electrode, and the other electrode is an upper electrode. In FIG. 1, each of the electrochromic layers is denoted by 1 and 2, respectively. The lower electrode layers are denoted as 11, 21 and the upper electrode layers are denoted as 12, 22. Of the layers constituting the electrochromic layer, a layer in contact with the lower electrode layer is formed so as to be an electrolytic oxidation coloring thin film layer, and a layer closer to the upper electrode is formed as an electrolytic reduction coloring thin film layer. Of course, on the contrary, a layer in contact with the lower electrode layer may be formed so as to be an electrolytic reduction color-forming thin film layer, and a layer closer to the upper electrode may be formed as an electrolytic oxidation color-forming thin film layer. The lower electrode layer 11 of the electrochromic layer 1 and the lower electrode layer 21 of the electrochromic layer 2 have a common connection portion as an electrode outlet, and the upper electrode layer 12 of the electrochromic layer 1 The upper electrode layer 22 of the layer 2 has a common electrode connection. By applying a voltage to the connection portion of the common lower electrode layer and the connection portion of the common upper electrode layer, the electrochromic layer 1 and the electrochromic layer 2 are simultaneously colored. Therefore, an electrochromic element having a larger transmission light amount ratio, ie, a switching ratio at the time of color erasing and erasing, than an electrochromic element having only one set of electrochromic layers can be obtained. Furthermore, since the present electrochromic device has a common connection portion between the electrode layers of the two electrochromic layers, the number of connection portions is the same as that of a device having only one set of electrochromic layers.

【0024】本発明のエレクトロクロミック素子の製造
方法には、例えば、以下の方法を取ることができる。ガ
ラス基板3の片面に下部電極層11を形成する。その上
にエレクトロクロミック層1を形成し、さらに上部電極
層12を形成する。さらに別のガラス基板4上の片面に
も上記と同様に、下部電極層21、エレクトロクロミッ
ク層2、上部電極層22を形成する。ここで、2枚の基
板を貼り合わせる際に、2枚の基板の下部電極層11及
び21の引き出し部が近接するように、また、2枚の基
板の上部電極層12および22の引き出し部が近接する
ように、2枚の素子基板の下部電極層と上部電極層とを
形成しておく。この様に形成しておき、2組のエレクト
ロクロミック層の二つの上部電極引き出し部を電気的に
一方の接続部に接続し、二つの下部電極の引き出し部を
電気的に他の接続部に接続する。(請求項1対応) さらに、エレクトロクロミック素子を2組作製し、その
後二つのエレクトロクロミック素子を貼り合わせて一体
化してもよい。この場合も、各エレクトロクロミック素
子に対する上部電極層と下部電極層は、貼り合わせたと
きに電極の引き出し部が共通の接続部に電気的に接続さ
れるようにする。(請求項2対応) また、前段の二組のエレクトロクロミック素子の一つが
封止基板で封止されていず、封止されていないエレクト
ロクロミック素子の各層形成面と、封止されたエレクト
ロクロミック素子の基板とを貼り合わせて一体化しても
良い。この場合も、各エレクトロクロミック素子に対す
る上部電極層と下部電極層は、貼り合わせたときに電極
の引き出し部が共通の接続部に電気的に接続されるよう
にする。(請求項3対応) また、図5に示すように、エレクトロクロミック層1を
構成する層のうち下部電極層に接する層を電解酸化発色
性薄膜層、エレクトロクロミック層2を構成する層のう
ち上部電極に接する層を電解酸化発色性薄膜層としても
よい。この場合は、下部電極層11の引き出し部と上部
電極層22の引き出し部とを電気的に接続する第一接続
部、上部電極層12の引き出し部と下部電極層21の引
き出し部とを電気的に接続する第二接続部を形成してお
く。この場合も第一接続部と第二接続部との間に電圧を
印加することにより、エレクトロクロミック層1と、エ
レクトロクロミック層2は同時に着消色する。(請求項
1対応) また、エレクトロクロミック素子を2組作製し、その後
両素子を貼り合わせて一体化する形態をとることができ
る。この場合も、各エレクトロクロミック素子に対する
上部電極層と下部電極層は、貼り合わせたときに電極の
引き出し部が共通の接続部に電気的に接続されるように
する。(請求項2対応) また、前段の二組のエレクトロクロミック素子の一つが
封止基板で封止されず、封止されていないエレクトロク
ロミック素子の各層形成面と、封止されたエレクトロク
ロミック素子の基板とを貼り合わせて一体化しても良
い。この場合も、各エレクトロクロミック素子に対する
上部電極層と下部電極層は、貼り合わせたときに電極の
引き出し部が共通の接続部に電気的に接続されるように
する。(請求項3対応) 本発明の第二の実施形態のエレクトロクロミック素子に
ついて、上記と同様2組のエレクトロクロミック層を有
しているエレクトロクロミック素子を例にとって説明す
る。図3に於いて2組のエレクトロクロミック層1及び
2はそれぞれ一対の電極層に狭持されているが、電極層
12は電極層全体が2組のエレクトロクロミック層に共
有され接続部に電気的に接続されている。また、電極層
全体が共有されていない電極層11及び21は電気的接
続がされた接続部が共有されている。この場合、共有さ
れている電極層に隣接するそれぞれのエレクトロクロミ
ック層の構成層を、両方共電解還元発色性薄膜層か両方
共電解酸化発色性薄膜層かに統一する。このような構成
にすれば、電極層全体が共有されている電極層12の接
続部と、電極11及び21の接続部に直流電圧を印加す
ることによりエレクトロクロミック層1と、エレクトロ
クロミック層2は同時に着色し、且つ同時に消色する。
よって、エレクトロクロミック層が1組しか有しないエ
レクトロクロミック素子よりも着消色の変化幅が大きい
エレクトロクロミック素子が得られる。さらに、エレク
トロクロミック層1及び2の電極層あるいは電極層の接
続部が共通のため、エレクトロクロミック層が1組しか
ない素子の場合と接続部の数は変わらない。(請求項4
対応) 上記のエレクトロクロミック素子の製造方法には、たと
えば、以下の方法が挙げられる。素子基板3の片面に下
部電極層11を形成する。そのうえにエレクトロクロミ
ック層1を形成し、さらに上部電極層12を形成する。
このとき、このエレクトロクロミック層1を、電解還元
発色性薄膜層が上部電極層に接するタイプとする。上部
電極層12の上に、さらにエレクトロクロミック層2を
形成する。このとき、このエレクトロクロミック層2
を、電解還元発色性薄膜層が上部電極層に接するタイプ
とする。更に、その上に、下部電極層21を形成する。
このとき、下部電極層11と下部電極層21に対して共
通な接続部を設け、さらに上部電極層12に対する接続
部を設ける。この様に形成しておくことにより、これら
の接続部に一定の直流電圧を印加することによって2組
のエレクトロクロミック層を同時に着消色させることが
できる。
The method for producing an electrochromic device of the present invention can be, for example, the following method. The lower electrode layer 11 is formed on one surface of the glass substrate 3. An electrochromic layer 1 is formed thereon, and an upper electrode layer 12 is further formed. A lower electrode layer 21, an electrochromic layer 2, and an upper electrode layer 22 are formed on one surface of another glass substrate 4 in the same manner as described above. Here, when the two substrates are bonded to each other, the extraction portions of the lower electrode layers 11 and 21 of the two substrates are close to each other, and the extraction portions of the upper electrode layers 12 and 22 of the two substrates are A lower electrode layer and an upper electrode layer of two element substrates are formed so as to be close to each other. Formed in this way, the two upper electrode lead portions of the two electrochromic layers are electrically connected to one connection portion, and the two lower electrode lead portions are electrically connected to the other connection portion. I do. (Corresponding to claim 1) Further, two sets of electrochromic elements may be manufactured, and then two electrochromic elements may be bonded and integrated. Also in this case, the upper electrode layer and the lower electrode layer for each electrochromic element are configured such that when they are bonded, the lead-out portion of the electrode is electrically connected to the common connection portion. Further, one of the two sets of electrochromic elements in the former stage is not sealed with the sealing substrate, and each layer forming surface of the unsealed electrochromic element and the sealed electrochromic element. May be bonded together to be integrated. Also in this case, the upper electrode layer and the lower electrode layer for each electrochromic element are configured such that when they are bonded, the lead-out portion of the electrode is electrically connected to the common connection portion. (Corresponding to claim 3) As shown in FIG. 5, of the layers constituting the electrochromic layer 1, the layer in contact with the lower electrode layer is formed by the electrolytic oxidation coloring thin film layer and the layer constituting the electrochromic layer 2 is formed by the upper part. The layer in contact with the electrode may be an electrolytic oxidation color-forming thin film layer. In this case, the first connection portion for electrically connecting the lead portion of the lower electrode layer 11 and the lead portion of the upper electrode layer 22 is electrically connected to the lead portion of the upper electrode layer 12 and the lead portion of the lower electrode layer 21. Is formed in advance. Also in this case, by applying a voltage between the first connection portion and the second connection portion, the electrochromic layer 1 and the electrochromic layer 2 are simultaneously colored. (Corresponding to claim 1) Further, it is possible to adopt a form in which two sets of electrochromic elements are manufactured and then both elements are bonded together to be integrated. Also in this case, the upper electrode layer and the lower electrode layer for each electrochromic element are configured such that when they are bonded, the lead-out portion of the electrode is electrically connected to the common connection portion. (Corresponding to claim 2) Further, one of the two sets of electrochromic elements in the former stage is not sealed with the sealing substrate, and each layer forming surface of the unsealed electrochromic element and the electrochromic element of the sealed electrochromic element are not sealed. It may be integrated with a substrate by bonding. Also in this case, the upper electrode layer and the lower electrode layer for each electrochromic element are configured such that when they are bonded, the lead-out portion of the electrode is electrically connected to the common connection portion. (Corresponding to Claim 3) An electrochromic device according to a second embodiment of the present invention will be described by taking an electrochromic device having two sets of electrochromic layers as an example as described above. In FIG. 3, two sets of electrochromic layers 1 and 2 are sandwiched by a pair of electrode layers, respectively. However, the entire electrode layer is shared by the two sets of electrochromic layers, and the connection part is electrically connected. It is connected to the. In addition, the electrode layers 11 and 21 that do not share the entire electrode layer share a connection portion that is electrically connected. In this case, the constituent layers of the respective electrochromic layers adjacent to the shared electrode layer are unified as both the electrolytic reduction color-forming thin film layer and both the electrolytic oxidation color-forming thin film layers. With such a configuration, the electrochromic layer 1 and the electrochromic layer 2 are formed by applying a DC voltage to the connection portion of the electrode layer 12 where the entire electrode layer is shared and the connection portion of the electrodes 11 and 21. Colors at the same time and decolors at the same time.
Therefore, an electrochromic device having a larger change width of color erasing and discoloring than an electrochromic device having only one set of electrochromic layers can be obtained. Furthermore, since the electrode layers of the electrochromic layers 1 and 2 or the connection portions of the electrode layers are common, the number of connection portions is the same as in the case of an element having only one electrochromic layer. (Claim 4
Correspondence) The above-described method for manufacturing an electrochromic element includes, for example, the following method. The lower electrode layer 11 is formed on one surface of the element substrate 3. An electrochromic layer 1 is formed thereon, and an upper electrode layer 12 is further formed.
At this time, the electrochromic layer 1 is of a type in which the electrolytic reduction coloring layer is in contact with the upper electrode layer. The electrochromic layer 2 is further formed on the upper electrode layer 12. At this time, the electrochromic layer 2
Is a type in which the electrolytic reduction coloring layer is in contact with the upper electrode layer. Further, a lower electrode layer 21 is formed thereon.
At this time, a common connection portion is provided for the lower electrode layer 11 and the lower electrode layer 21, and a connection portion for the upper electrode layer 12 is further provided. By forming in this way, two sets of electrochromic layers can be simultaneously colored by applying a constant DC voltage to these connection portions.

【0025】以下、エレクトロクロミック素子で用いら
れる材料について説明する。電極及び対極電極の材料と
しては、例えば、SnO2、In2O3 、ITO (In2O3 とSnO2
の混合物)、ZnO などの透明電極材料が好ましく使用さ
れる。使用条件によっては金属材料または炭素が使用さ
れる。金属材料としては、金、銀、アルミニウム、クロ
ム、スズ、亜鉛、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、ス
テンレス等が好ましく使用されるが、これらに限定され
るものではない。金属電極層は、上記のごとき透明電極
材料から形成した電極層よりも遙に低抵抗であるという
長所がある。この様な電極層は、一般には、真空蒸着、
イオンプレーテイング、スパッタリング、等の真空薄膜
形成技術で形成される。
Hereinafter, the materials used in the electrochromic device will be described. As a material of the electrode and the counter electrode, for example, a transparent electrode material such as SnO 2 , In 2 O 3 , ITO (a mixture of In 2 O 3 and SnO 2 ), and ZnO is preferably used. Depending on the use conditions, a metal material or carbon is used. As the metal material, gold, silver, aluminum, chromium, tin, zinc, nickel, ruthenium, rhodium, stainless steel and the like are preferably used, but are not limited thereto. The metal electrode layer has the advantage that it has much lower resistance than the electrode layer formed from the transparent electrode material as described above. Such electrode layers are generally vacuum deposited,
It is formed by a vacuum thin film forming technique such as ion plating and sputtering.

【0026】 電解還元発色性薄膜層には、WO3 、MoO3
たはこれらの混合物、等が好ましく使用されるが、これ
らに限定されるものでない。 イオン導電層には、酸化ケ
イ素、酸化タンタル、酸化チタン、酸化アルミニウム、
酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化
ランタン、フッ化マグネシウム、等が好ましく使用され
るが、これらに限定されるものでない。
[0026] WO is used for the electrolytic reduction coloring layer.Three, MoOThreeMa
Or a mixture thereof is preferably used.
It is not limited to them. Oxide oxide
Iodine, tantalum oxide, titanium oxide, aluminum oxide,
Niobium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, oxidation
Lanthanum, magnesium fluoride, etc. are preferably used
However, the present invention is not limited to these.

【0027】 イオン導電層は、電子に対して絶縁体であ
るが、プロトン(H + )及びヒドロキシイオン(OH-
に対しては良導体となる。エレクトロクロミック層の着
消色反応にはカチオンが必要とされ、H + やLi+ をエレ
クトロクロミック層その他に含有させる必要がある。H
+ は初めからイオンである必要はなく、電圧が印加され
たときにH + が生じればよく、したがってH + の代わり
に水を含有させてもよい。この水は非常に少なくて十分
であり、しばしば大気中から自然に侵入する水分でも着
消色する。
[0027] The ionic conductive layer is an insulator for electrons.
But the proton (H+) And hydroxy ions (OH-)
Is a good conductor. Electrochromic layer attachment
A cation is required for the decolorization reaction, and H+And Li+The
It must be contained in the trochromic layer and the like. H
+Does not have to be ions from the beginning;
H when+And therefore H+instead of
May contain water. This water is very little and enough
Water, which often enters naturally from the atmosphere
Decolorize.

【0028】 電解酸化発色性薄膜層としては、酸化イリ
ジウム、水酸化イリジウム、酸化ニッケル、水酸化ニッ
ケル、酸化クロム、水酸化クロム、酸化バナジウム、水
酸化バナジウム、酸化ルテニウム、水酸化ルテニウム、
酸化ロジウム、水酸化ロジウム、等が好ましく使用され
るが、これらに限定されるものではない。 その他のエレ
クトロクロミック物質として、例えば、酸化チタン、酸
化コバルト、酸化鉄、酸化ケイ素、酸化鉛、酸化銅、硫
化鉄、酸化ビスマス、硫化ニオブ、等の金属酸化物や金
属硫化物のほか、ハイドロキノン誘導体、ベルリン酸鉄
誘導体、金属フタロシアニン誘導体(Co、Fe、Zn、Ni、
Cuの各フタロシアニン誘導体)、プルシアンブルー、プ
ルシアンブルー類似化合物、窒化インジウム、窒化ス
ズ、窒化塩化ジルコニウム、ビオロゲン系有機エレクト
ロクロミック材料、スチリル系有機エレクトロクロミッ
ク材料、ポリアニリン、等がエレクトロクロミック層に
使用できる。
[0028] Electrolytic oxidation coloring thin film layer
Indium, iridium hydroxide, nickel oxide, nickel hydroxide
Kel, chromium oxide, chromium hydroxide, vanadium oxide, water
Vanadium oxide, ruthenium oxide, ruthenium hydroxide,
Rhodium oxide, rhodium hydroxide, etc. are preferably used.
However, the present invention is not limited to these. Other elements
As a trochromic substance, for example, titanium oxide, acid
Cobalt oxide, iron oxide, silicon oxide, lead oxide, copper oxide, sulfuric acid
Metal oxides such as iron fossil, bismuth oxide, niobium sulfide, and gold
Genus sulfide, hydroquinone derivative, iron berlinate
Derivatives, metal phthalocyanine derivatives (Co, Fe, Zn, Ni,
Each phthalocyanine derivative of Cu), Prussian blue, P
Lucian blue-like compound, indium nitride, silicon nitride
Size, zirconium nitride chloride, viologen-based organic elect
Rochromic material, styryl organic electrochromic
Material, polyaniline, etc. in the electrochromic layer
Can be used.

【0029】 イオン導電層のその他の例としては、イオ
ン導電性及び接着性を有する層が使用可能であり、例え
ば、( A)ポリ(2−アクリルアミド−2−メチルプロ
パンスルホン酸)、ポリ(スチレン−スルホン酸)、ポ
リ(エチレン−スルホン酸)、ポリビニルスルホン酸、
フッ素化共重合体等からなる重合体、(B )第一の単量
体(例えば、ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸ナト
リウム、ふっ化ビニルスルホニル)と第二の単量体(例
えば、ビニルピロリジノン、ブチルビニルエーテル、エ
チルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、シ
クロヘキシルビニルエーテル、イソブチレン)との共重
合体、(C )前記第一の単量体及び第二の単量体とスチ
レンスルホン酸ナトリウムとの共重合体、(D )親水性
アクリレート単量体(例えば、ポリ(エチレンオキシ
ド)ジメタクリレート、エトキシトリエチレン、グリコ
ールメタクリレート、エチレンオキシド−ジメチルシク
ロヘキサンアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、エチルアクリレート)とスルホン酸単量体(例え
ば、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン
酸、スチレン−スルホン酸、エチレン−スルホン酸、ビ
ニルスルホン酸)との共重合体、等からなる層がある。
[0029] Other examples of ion conductive layers include ion
Conductive and adhesive layers can be used.
(A) Poly (2-acrylamido-2-methylpro
Pansulfonic acid), poly (styrene-sulfonic acid),
Li (ethylene-sulfonic acid), polyvinyl sulfonic acid,
A polymer consisting of a fluorinated copolymer, etc., (B) a first monomer
Body (eg, vinyl sulfonic acid, vinyl sulfonic acid nato)
Lium, vinylsulfonyl fluoride) and a second monomer (eg
For example, vinyl pyrrolidinone, butyl vinyl ether,
Tyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether,
(Co-hexyl vinyl ether, isobutylene)
Coalescence, (C) the first monomer and the second monomer
Copolymer with sodium lensulfonate, (D) hydrophilic
Acrylate monomers (eg, poly (ethyleneoxy)
C) dimethacrylate, ethoxytriethylene, glyco
Methacrylate, ethylene oxide-dimethyl cycle
Rohexane acrylate, hydroxypropyl acryle
Acid, ethyl acrylate) and sulfonic acid monomer (for example,
For example, 2-acrylamide-2-methylpropane sulfone
Acid, styrene-sulfonic acid, ethylene-sulfonic acid,
And a layer composed of a copolymer with sulfonic acid.

【0030】エレクトロクロミック素子は剥き出しのま
までは劣化しやすいので、2枚の基板間に封止して使用
される。例えば、1枚の基板上にエレクトロクロミック
素子を形成した場合、露出したエレクトロクロミック素
子を封止樹脂及び封止基板により封止する。前記封止剤
には、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、アクリ
ル系樹脂、酢酸ビニール系樹脂、変性ポリマー系等の透
明材料が好ましく使用されるが、これらに限定されるも
のではない.以下、実施例により更に詳細に説明する
が、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
Since the electrochromic element is liable to be deteriorated as it is bare, it is used by being sealed between two substrates. For example, when an electrochromic element is formed on one substrate, the exposed electrochromic element is sealed with a sealing resin and a sealing substrate. As the sealant, for example, a transparent material such as an epoxy resin, a urethane-based resin, an acrylic resin, a vinyl acetate-based resin, and a modified polymer is preferably used, but is not limited thereto. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0031】[0031]

【実施例】[実施例1] (1)ガラス基板3に電極11としてITO 膜を形成し
た。その上にエレクトロクロミック層1として酸化イリ
ジウムと酸化スズの混合膜(電解酸化発色性薄膜層)、
酸化タンタル膜(イオン導電層)、酸化タングステン膜
(電解還元発色性薄膜層)を順番に形成し、その上にさ
らに上部電極層12としてITO 膜を形成し、第一エレク
トロクロミック部材を作製した。(図1(b−1)) (2)ガラス基板4に(1)と同様に下部電極層21と
してITO 膜、エレクトロクロミック層2として酸化イリ
ジウムと酸化スズの混合膜、酸化タンタル膜、酸化タン
グステン膜を形成し、さらに上部電極層22としてITO
膜を形成し、第二エレクトロクロミック部材を作製し
た。(図1(b−2)) (3)エポキシ樹脂5にて上記(1)及び(2)の基板
を図1(a)のように、第一エレクトロクロミック部材
の上部電極層12の引き出し部と第二エレクトロクロミ
ック部材の上部電極層22の引き出し部が近接すると共
に、第一エレクトロクロミック部材の下部電極層11の
引き出し部と第二エレクトロクロミック部材の下部電極
層21の引き出し部が近接するように、貼り合わせて封
止した。 (4)近接した電極の引き出し部が存在する各端部に金
ペースト6を塗布し、両引き出し部を導通させると共
に、金ペースト層に接触させつつガラス基板3とガラス
基板4を挟むようにクリップ7を装着し、接続部を一対
作製した。(図1(a )) (5)一対の接続部のうち、酸化タングステン膜(電解
還元発色性薄膜層)に接している電極層に接続された接
続部を外部直流電源の陰極に接続し、酸化イリジウムと
酸化スズの混合膜(電解酸化発色性薄膜層)に接してる
電極層に接続された接続部を外部直流電源の陽極に接続
し、1.3Vの電圧を印加すると、エレクトロクロミッ
ク素子は青色に着色した。この素子に−1.3Vの電圧
を印加すると青色は消え、素子は透明に戻った。着色時
の透過率は6 %、消色時の透過率は60%であった。 [実施例2] (1)ガラス基板3に下部電極層11としてITO 膜を形
成した。その上にエレクトロクロミック層1として酸化
イリジウムと酸化スズの混合膜(電解酸化発色性薄膜
層)、酸化タンタル膜(イオン導電層)、酸化タングス
テン膜(電解還元発色性薄膜層)を順番に形成し、その
上にさらに上部電極層12としてITO 膜を形成し、第一
エレクトロクロミック部材を作製した。(図5(b−
1)) (2)ガラス基板4に下部電極層21としてITO 膜、エ
レクトロクロミック層2として、酸化タングステン膜
(電解還元発色性薄膜層)、酸化タンタル膜(イオン導
電層)、酸化イリジウムと酸化スズの混合膜(電解酸化
発色性薄膜層)を順番に形成し、さらに上部電極層22
としてITO 膜を形成し、第二エレクトロクロミック部材
を作製した。(図5(b−2)) (3)エポキシ樹脂5にて上記(1)及び(2)の基板
を図5(a)のように、第一エレクトロクロミック部材
の上部電極層12の引き出し部と第二エレクトロクロミ
ック部材の下部電極層21の引き出し部が近接すると共
に、第一エレクトロクロミック部材の下部電極層11の
引き出し部と第二エレクトロクロミック部材の上部電極
層22の引き出し部が近接するように、貼り合わせて封
止した。 (4)近接した電極の引き出し部が存在する各端部に金
ペースト6を塗布し、両引き出し部を導通させると共
に、金ペースト層に接触させつつガラス基板3とガラス
基板4を挟むようにクリップ7を装着し、接続部を一対
作製した。(図5(a )) (5)一対の接続部のうち、酸化タングステン膜(電解
還元発色性薄膜層)に接している電極層に接続された接
続部を外部直流電源の陰極に接続し、酸化イリジウムと
酸化スズの混合膜(電解酸化発色性薄膜層)に接してる
電極層に接続された接続部を外部直流電源の陽極に接続
し、1.3Vの電圧を印加すると、エレクトロクロミッ
ク素子は青色に着色した。この素子に−1.3Vの電圧
を印加すると青色は消え、素子は透明に戻った。着色時
の透過率は6 %、消色時の透過率は60%であった。 [実施例3] (1)図2に示すように、ガラス基板3に下部電極層1
1としてITO 膜を形成した。その上にエレクトロクロミ
ック層1として酸化イリジウムと酸化スズの混合膜、酸
化タンタル膜、酸化タングステン膜を順番に形成し、そ
の上にさらに上部電極層12としてITO 膜を形成した。
次に、封止ガラス基板8とエポキシ樹脂5にて素子を封
止し、第一エレクトロクロミック部材を作製した。 (2)ガラス基板4に下部電極層21を形成した。その
上にエレクトロクロミック層2として酸化イリジウムと
酸化スズの混合膜、酸化タンタル膜、酸化タングステン
膜を順番に形成し、その上にさらに上部電極層22とし
てITO 膜を形成した。次に、封止ガラス基板9とエポキ
シ樹脂5にて素子を封止し、第二エレクトロクロミック
部材を作製した。 (3)第一エレクトロクロミック部材と第二エレクトロ
クロミック部材とを図2で示すように、第一エレクトロ
クロミック部材の上部電極12の引き出し部と第二エレ
クトロクロミック部材の上部電極22の引き出し部と
が、そして下部電極11の引き出し部と下部電極21の
引き出し部とが近接するようエポキシ樹脂5で貼り合わ
せた。 (4)近接した電極の引き出し部が存在する各端部に金
ペースト6を塗布し、両引き出し部を導通させると共
に、金ペースト層に接触させつつガラス基板3と封止基
板9を挟むようにクリップ7を装着し、接続部を一対作
製した。(図2) (5)一対の接続部のうち、酸化タングステン膜に接し
ている電極層に接続された接続部を外部直流電源の陰極
に接続し、酸化イリジウムと酸化スズの混合膜に接して
る電極層に接続されているもう一方の接続部を外部直流
電源の陽極に接続し、1.3Vの電圧を印加すると、エ
レクトロクロミック素子は青色に着色した。この素子に
−1.3Vの電圧を印加すると青色は消え、素子は透明
に戻った。着色時の透過率は6 %、消色時の透過率は60
%であった。 [実施例4] (1)図3に示すように、ガラス基板3に下部電極層1
1を形成した。その上にエレクトロクロミック層1とし
て酸化イリジウムと酸化スズの混合膜、酸化タンタル
膜、酸化タングステン膜を順番に形成し、酸化タングス
テン膜上にさらに上部電極層12としてITO 膜を形成し
た。ITO 膜上に、更にエレクトロクロミック層2として
酸化タングステン膜、酸化タンタル膜、酸化イリジウム
と酸化スズの混合膜を順番に形成し、酸化イリジウムと
酸化スズの混合膜上に下部電極層21としてITO 膜を形
成した。このとき下部電極層21の引き出し部が下部電
極層11の引き出し部に近接するよう下部電極層21の
パターンを決めた。 (2)封止ガラス基板8とエポキシ樹脂5にて素子を封
止した。 (3)近接した電極の引き出し部が存在する各端部に金
ペースト6を塗布し、両引き出し部を導通させると共
に、金ペースト層に接触させつつガラス基板3と封止基
板8を挟むようにクリップ7を装着し、接続部を一対作
製した。(図3) (4)一対の接続部のうち、酸化タングステン膜に接し
ている電極層に接続された接続部を外部直流電源の陰極
に接続し、酸化イリジウムと酸化スズの混合膜に接して
る電極層に接続されているもう一方の接続部を外部直電
源の陽極に接続し、1.3Vの電圧を印加すると、エレ
クトロクロミック層1、2は両方とも青色に着色した。
この素子に−1.3Vの直流電圧を印加すると青色は消
え、エレクトロクロミック素子は透明に戻った。着色時
の透過率は6 %、消色時の透過率は60%であった。 [実施例5] (1)図6に示すように、ガラス基板3に下部電極層1
1を形成した。その上にエレクトロクロミック層1とし
て酸化イリジウムと酸化スズの混合膜、酸化タンタル
膜、酸化タングステン膜を順番に形成し、その上にさら
に上部電極層12としてITO 膜を形成し、第一エレクト
ロクロミック部材を作製した。 (2)ガラス基板4に下部電極層21を形成し、その上
にエレクトロクロミック層2として酸化イリジウムと酸
化スズの混合膜、酸化タンタル膜、酸化タングステン膜
を順番に形成し、その上にさらに上部電極層22として
ITO 膜を形成した。ガラス基板4の各層形成面と封止ガ
ラス基板9を対向してエポキシ樹脂5で貼り合わせ、第
二エレクトロクロミック部材を作製した。 (3)第一エレクトロクロミック部材と第二エレクトロ
クロミック部材とを図6で示すように、第一エレクトロ
クロミック部材の上部電極12の引き出し部と第二エレ
クトロクロミック部材の上部電極22の引き出し部と
が、そして下部電極11の引き出し部と下部電極21の
引き出し部とが近接するよう第一エレクトロクロミック
部材の各層形成面とガラス基板4の各層非形成面とを対
向してエポキシ樹脂5で貼り合わせた。 (4)近接した電極の引き出し部が存在する各端部に金
ペースト6を塗布し、両引き出し部を導通させると共
に、金ペースト層に接触させつつガラス基板3と封止基
板9を挟むようにクリップ7を装着し、接続部を一対作
製した。(図6) (5)一対の接続部のうち、酸化タングステン膜に接し
ている電極層に接続された接続部を外部直流電源の陰極
に接続し、酸化イリジウムと酸化スズの混合膜に接して
る電極層に接続されているもう一方の接続部を外部直流
電源の陽極に接続し、1.3Vの電圧を印加すると、エ
レクトロクロミック層1、2は両方とも青色に着色し
た。この素子に−1.3Vの直流電圧を印加すると青色
は消え、エレクトロクロミック素子は透明に戻った。着
色時の透過率は6 %、消色時の透過率は60%であっ
た。
EXAMPLES Example 1 (1) An ITO film was formed as an electrode 11 on a glass substrate 3. On top of that, a mixed film of iridium oxide and tin oxide (electrolytic oxidation coloring thin film layer) as an electrochromic layer 1,
A first electrochromic member was manufactured by forming a tantalum oxide film (ion conductive layer) and a tungsten oxide film (electrolytic reduction coloring thin film layer) in this order, and further forming an ITO film as an upper electrode layer 12 thereon. (FIG. 1 (b-1)) (2) An ITO film as the lower electrode layer 21 and a mixed film of iridium oxide and tin oxide, a tantalum oxide film, a tungsten oxide as the electrochromic layer 2 on the glass substrate 4 as in (1). A film is formed and ITO is used as the upper electrode layer 22.
A film was formed to produce a second electrochromic member. (FIG. 1 (b-2)) (3) The substrate of the above (1) and (2) is pulled out of the upper electrode layer 12 of the first electrochromic member with the epoxy resin 5, as shown in FIG. 1 (a). And the leading portion of the lower electrode layer 11 of the first electrochromic member and the leading portion of the lower electrode layer 21 of the second electrochromic member are close to each other. Then, it was bonded by sealing. (4) A gold paste 6 is applied to each end where the lead-out portions of the adjacent electrodes are present, and both lead-out portions are made conductive, and a clip is held between the glass substrate 3 and the glass substrate 4 while being in contact with the gold paste layer. 7 was attached, and a pair of connection parts was produced. (FIG. 1 (a)) (5) Of the pair of connecting portions, the connecting portion connected to the electrode layer in contact with the tungsten oxide film (electrolytic reduction coloring thin film layer) is connected to the cathode of an external DC power supply; When the connection part connected to the electrode layer in contact with the mixed film of iridium oxide and tin oxide (electrolytic oxidation color-forming thin film layer) is connected to the anode of an external DC power supply and a voltage of 1.3 V is applied, the electrochromic device becomes Colored blue. When a voltage of -1.3 V was applied to this device, the blue color disappeared and the device returned to transparent. The transmittance at the time of coloring was 6%, and the transmittance at the time of decoloring was 60%. Example 2 (1) An ITO film was formed as a lower electrode layer 11 on a glass substrate 3. A mixed film of iridium oxide and tin oxide (electrolytic chromogenic thin film layer), a tantalum oxide film (ionic conductive layer), and a tungsten oxide film (electrolytic reduction chromogenic thin film layer) are sequentially formed thereon as the electrochromic layer 1. Then, an ITO film was further formed thereon as the upper electrode layer 12 to produce a first electrochromic member. (FIG. 5 (b-
1)) (2) An ITO film as the lower electrode layer 21 on the glass substrate 4, a tungsten oxide film (electrolytic reduction coloring thin film layer), a tantalum oxide film (ion conductive layer), iridium oxide and tin oxide as the electrochromic layer 2 Are sequentially formed, and the upper electrode layer 22 is formed.
As a result, an ITO film was formed to produce a second electrochromic member. (FIG. 5 (b-2)) (3) Using the epoxy resin 5, the above-mentioned substrates (1) and (2) are pulled out from the upper electrode layer 12 of the first electrochromic member as shown in FIG. 5 (a). And the leading portion of the lower electrode layer 21 of the first electrochromic member is close to the leading portion of the lower electrode layer 21 of the second electrochromic member. Then, it was bonded by sealing. (4) A gold paste 6 is applied to each end where the lead-out portions of the adjacent electrodes are present, and both lead-out portions are made conductive, and a clip is held between the glass substrate 3 and the glass substrate 4 while being in contact with the gold paste layer. 7 was attached, and a pair of connection parts was produced. (FIG. 5 (a)) (5) Of the pair of connecting portions, the connecting portion connected to the electrode layer in contact with the tungsten oxide film (electrolytic reduction coloring thin film layer) is connected to the cathode of an external DC power supply; When the connection part connected to the electrode layer in contact with the mixed film of iridium oxide and tin oxide (electrolytic oxidation color-forming thin film layer) is connected to the anode of an external DC power supply and a voltage of 1.3 V is applied, the electrochromic device becomes Colored blue. When a voltage of -1.3 V was applied to this device, the blue color disappeared and the device returned to transparent. The transmittance at the time of coloring was 6%, and the transmittance at the time of decoloring was 60%. Example 3 (1) As shown in FIG. 2, a lower electrode layer 1 was formed on a glass substrate 3.
As No. 1, an ITO film was formed. A mixed film of iridium oxide and tin oxide, a tantalum oxide film, and a tungsten oxide film were sequentially formed thereon as the electrochromic layer 1, and an ITO film was further formed thereon as the upper electrode layer 12.
Next, the element was sealed with the sealing glass substrate 8 and the epoxy resin 5 to produce a first electrochromic member. (2) The lower electrode layer 21 was formed on the glass substrate 4. A mixed film of iridium oxide and tin oxide, a tantalum oxide film, and a tungsten oxide film were sequentially formed thereon as the electrochromic layer 2, and an ITO film was further formed thereon as the upper electrode layer 22. Next, the element was sealed with the sealing glass substrate 9 and the epoxy resin 5 to produce a second electrochromic member. (3) As shown in FIG. 2, the first electrochromic member and the second electrochromic member have a lead portion of the upper electrode 12 of the first electrochromic member and a lead portion of the upper electrode 22 of the second electrochromic member. Then, the lead portion of the lower electrode 11 and the lead portion of the lower electrode 21 were adhered with the epoxy resin 5 so as to be close to each other. (4) A gold paste 6 is applied to each end where a lead-out portion of an adjacent electrode is present, so that both lead-out portions are conducted, and the glass substrate 3 and the sealing substrate 9 are sandwiched while being in contact with the gold paste layer. The clip 7 was attached, and a pair of connection portions was produced. (FIG. 2) (5) Of the pair of connection portions, the connection portion connected to the electrode layer in contact with the tungsten oxide film is connected to the cathode of the external DC power supply, and is in contact with the mixed film of iridium oxide and tin oxide. When the other connection part connected to the electrode layer was connected to the anode of the external DC power supply and a voltage of 1.3 V was applied, the electrochromic element was colored blue. When a voltage of -1.3 V was applied to this device, the blue color disappeared and the device returned to transparent. 6% transmittance when colored, 60 when decolored
%Met. Example 4 (1) As shown in FIG. 3, a lower electrode layer 1 was formed on a glass substrate 3.
1 was formed. A mixed film of iridium oxide and tin oxide, a tantalum oxide film, and a tungsten oxide film were sequentially formed thereon as the electrochromic layer 1, and an ITO film was further formed as the upper electrode layer 12 on the tungsten oxide film. On the ITO film, a tungsten oxide film, a tantalum oxide film, and a mixed film of iridium oxide and tin oxide are sequentially formed as the electrochromic layer 2, and an ITO film as the lower electrode layer 21 is formed on the mixed film of iridium oxide and tin oxide. Was formed. At this time, the pattern of the lower electrode layer 21 was determined such that the lead portion of the lower electrode layer 21 was close to the lead portion of the lower electrode layer 11. (2) The element was sealed with the sealing glass substrate 8 and the epoxy resin 5. (3) A gold paste 6 is applied to each end where a lead-out portion of an adjacent electrode is present, so that both lead-out portions are conducted, and the glass substrate 3 and the sealing substrate 8 are sandwiched while being in contact with the gold paste layer. The clip 7 was attached, and a pair of connection portions was produced. (FIG. 3) (4) Of the pair of connecting portions, the connecting portion connected to the electrode layer in contact with the tungsten oxide film is connected to the cathode of the external DC power supply, and is in contact with the mixed film of iridium oxide and tin oxide. When the other connection part connected to the electrode layer was connected to the anode of an external direct power supply and a voltage of 1.3 V was applied, both of the electrochromic layers 1 and 2 were colored blue.
When a DC voltage of -1.3 V was applied to this device, the blue color disappeared, and the electrochromic device returned to transparent. The transmittance at the time of coloring was 6%, and the transmittance at the time of decoloring was 60%. Example 5 (1) As shown in FIG. 6, a lower electrode layer 1 was formed on a glass substrate 3.
1 was formed. A mixed film of iridium oxide and tin oxide, a tantalum oxide film, and a tungsten oxide film are sequentially formed thereon as an electrochromic layer 1, and an ITO film is further formed thereon as an upper electrode layer 12, thereby forming a first electrochromic member. Was prepared. (2) A lower electrode layer 21 is formed on a glass substrate 4, and a mixed film of iridium oxide and tin oxide, a tantalum oxide film, and a tungsten oxide film are sequentially formed thereon as an electrochromic layer 2, and a further upper portion is formed thereon. As the electrode layer 22
An ITO film was formed. The surface on which each layer of the glass substrate 4 was formed and the sealing glass substrate 9 were bonded to each other with an epoxy resin 5 to produce a second electrochromic member. (3) As shown in FIG. 6, the first electrochromic member and the second electrochromic member are formed such that the lead-out portion of the upper electrode 12 of the first electrochromic member and the lead-out portion of the upper electrode 22 of the second electrochromic member. Then, the respective layers forming surface of the first electrochromic member and the respective non-layer forming surfaces of the glass substrate 4 are bonded to each other with the epoxy resin 5 so that the leading portion of the lower electrode 11 and the leading portion of the lower electrode 21 are close to each other. . (4) A gold paste 6 is applied to each end where the lead-out portions of the adjacent electrodes exist, so that both lead-out portions are conducted, and the glass substrate 3 and the sealing substrate 9 are sandwiched while being in contact with the gold paste layer. The clip 7 was attached, and a pair of connection portions was produced. (FIG. 6) (5) Of the pair of connection portions, the connection portion connected to the electrode layer in contact with the tungsten oxide film is connected to the cathode of the external DC power supply, and is in contact with the mixed film of iridium oxide and tin oxide. When the other connection part connected to the electrode layer was connected to the anode of an external DC power supply and a voltage of 1.3 V was applied, both of the electrochromic layers 1 and 2 were colored blue. When a DC voltage of -1.3 V was applied to this device, the blue color disappeared and the electrochromic device returned to transparent. The transmittance at the time of coloring was 6%, and the transmittance at the time of decoloring was 60%.

【0032】以上、実施例1〜5では各電極の引き出し
部とクリップとの電気的接続の中継用電極として金ペー
ストを用いたが、金ペーストの替わりに真空薄膜形成技
術で作成された導電性薄膜を用いても良い結果が得られ
ることは言うまでもない。 [比較例] (1)図4に示すように、ガラス基板3に下部電極膜1
1としてITO 膜を形成した。ITO 膜上にエレクトロクロ
ミック層として酸化イリジウムと酸化スズの混合膜、酸
化タンタル膜、酸化タングステン膜を順番に形成し、酸
化タングステン膜上にさらに上部電極層12としてITO
膜を形成した。 (2)エポキシ樹脂5と、封止ガラス基板8で上記
(1)の基板を封止した。 (3)封止した素子の電極引き出し部が存在する端部に
金ペーストを塗布し、両引き出し部を導通させると共
に、金ペースト層に接触させつつガラス基板3と封止基
板8を挟むようにクリップを装着し、接続部を一対作製
した。(図4) (4)一対の接続部のうち、酸化タングステン膜に接し
ている電極層に接続された接続部を外部直流電源の陰極
に接続し、酸化イリジウムと酸化スズの混合膜に接して
る電極層に接続されているもう一方の接続部を外部直流
電源の陽極に接続し、1.3Vの電圧を印加すると、エ
レクトロクロミック素子は青色に着色した。この素子に
−1.3Vの直流電圧を印加すると青色は消え、エレク
トロクロミック素子は透明に戻った。着色時の透過率は
25%、消色時の透過率は80%であった。
As described above, in the first to fifth embodiments, the gold paste is used as the relay electrode for electrical connection between the lead portion of each electrode and the clip, but instead of the gold paste, a conductive film formed by a vacuum thin film forming technique is used. Needless to say, good results can be obtained by using a thin film. Comparative Example (1) As shown in FIG.
As No. 1, an ITO film was formed. A mixed film of iridium oxide and tin oxide, a tantalum oxide film, and a tungsten oxide film are sequentially formed as an electrochromic layer on the ITO film, and an ITO is further formed as an upper electrode layer 12 on the tungsten oxide film.
A film was formed. (2) The substrate (1) was sealed with the epoxy resin 5 and the sealing glass substrate 8. (3) A gold paste is applied to the end of the sealed element where the electrode lead-out portion exists, so that both lead-out portions are conducted, and the glass substrate 3 and the sealing substrate 8 are sandwiched while being in contact with the gold paste layer. A clip was attached, and a pair of connection portions was produced. (FIG. 4) (4) Of the pair of connecting portions, the connecting portion connected to the electrode layer in contact with the tungsten oxide film is connected to the cathode of the external DC power supply, and is in contact with the mixed film of iridium oxide and tin oxide. When the other connection part connected to the electrode layer was connected to the anode of the external DC power supply and a voltage of 1.3 V was applied, the electrochromic element was colored blue. When a DC voltage of -1.3 V was applied to this device, the blue color disappeared, and the electrochromic device returned to transparent. The transmittance at the time of coloring was 25%, and the transmittance at the time of decoloring was 80%.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のエレクト
ロクロミック素子は透過率変化比即ちスイッチング比が
極めて大きいので、従来のエレクトロクロミック素子で
は応用できなかった光量制御、ディスプレイ、光スイッ
チ、等の分野に応用することが出来、応用範囲が拡大す
る。
As described above, the electrochromic device of the present invention has a very large transmittance change ratio, that is, a switching ratio. Therefore, light amount control, displays, optical switches, etc., which cannot be applied with conventional electrochromic devices. It can be applied to the field and the range of application is expanded.

【0034】更に本発明になるエレクトロクロミック素
子は接続部の数を従来のエレクトロクロミック素子と全
く同じ数だけ設けるだけで着色消色の駆動をすることが
出来るので、素子構造がシンプルで、長寿命で、且つコ
ストパーフォーマンスが高い。
Further, the electrochromic device according to the present invention can be driven for coloring and decoloring only by providing the same number of connection parts as the conventional electrochromic device, so that the device structure is simple and the life is long. And cost performance is high.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例1のエレクトロクロミック素子
の構造を示す図である。(請求項1、7対応)
FIG. 1 is a diagram showing a structure of an electrochromic device of Example 1 of the present invention. (Corresponding to claims 1 and 7)

【図2】本発明の実施例3のエレクトロクロミック素子
の構造を示す図である。(請求項2、5、7対応)
FIG. 2 is a diagram illustrating a structure of an electrochromic device according to a third embodiment of the present invention. (Claims 2, 5, and 7)

【図3】本発明の実施例4のエレクトロクロミック素子
の構造を示す図である。(請求項4、5、7対応)
FIG. 3 is a diagram showing a structure of an electrochromic device of Example 4 of the present invention. (Corresponding to claims 4, 5, and 7)

【図4】従来のエレクトロクロミック素子(比較例)の
構造を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a structure of a conventional electrochromic device (comparative example).

【図5】本発明の実施例2のエレクトロクロミック素子
の構造を示す図である。(請求項1対応)
FIG. 5 is a diagram showing a structure of an electrochromic device of Example 2 of the present invention. (Corresponding to claim 1)

【図6】本発明の実施例5のエレクトロクロミック素子
の構造を示す図である。(請求項3、5、6、7対応)
FIG. 6 is a diagram showing a structure of an electrochromic device of Example 5 of the present invention. (Corresponding to claims 3, 5, 6, 7)

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 エレクトロクロミック層 2 エレクトロクロミック層 11 エレクトロクロミック層1の下部電極層 12 エレクトロクロミック層1の上部電極層 21 エレクトロクロミック層2の下部電極層 22 エレクトロクロミック層2の上部電極層 3 ガラス基板 4 ガラス基板 5 エポキシ樹脂 6 金ペースト 7 クリップ 8 封止ガラス基板
9封止ガラス基板
Reference Signs List 1 electrochromic layer 2 electrochromic layer 11 lower electrode layer of electrochromic layer 1 12 upper electrode layer of electrochromic layer 1 21 lower electrode layer of electrochromic layer 2 22 upper electrode layer of electrochromic layer 2 3 glass substrate 4 glass substrate 5 Epoxy resin 6 Gold paste 7 Clip 8 Sealing glass substrate
9 sealing glass substrate

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】エレクトロクロミック素子において、第一
基板と第一基板上に順番に積層状に配置された第一下部
電極層と第一エレクトロクロミック層と第一上部電極層
とを有する第一エレクトロクロミック部材と、第二基板
と第二基板上に順番に積層状に配置された第二下部電極
層と第二エレクトロクロミック層と第二上部電極層とを
有する第二エレクトロクロミック部材と、前記エレクト
ロクロミック素子の端部に第一接続部と第二接続部とを
具え、第一エレクトロクロミック部材と第二エレクトロ
クロミック部材とが前記第一上部電極層面と前記第二上
部電極層面とを対向して封止樹脂を介して接合され、前
記第一接続部は前記第一下部電極層と前記第二下部電極
層との双方と、そして前記第二接続部は前記第一上部電
極層と前記第二上部電極層との双方と電気的接続がなさ
れていることを特徴とするエレクトロクロミック素子。
1. An electrochromic device comprising: a first substrate; a first lower electrode layer, a first electrochromic layer, and a first upper electrode layer sequentially arranged on the first substrate in a stacked state. An electrochromic member, a second substrate and a second electrochromic member having a second lower electrode layer, a second electrochromic layer, and a second upper electrode layer, which are sequentially arranged in a stacked state on the second substrate, A first connection portion and a second connection portion are provided at an end of the electrochromic element, and the first electrochromic member and the second electrochromic member face the first upper electrode layer surface and the second upper electrode layer surface. The first connection portion is both the first lower electrode layer and the second lower electrode layer, and the second connection portion is the first upper electrode layer and the Second Electrochromic device, characterized in that electrical connection with both of the electrode layers have been made.
【請求項2】エレクトロクロミック素子において、基板
と前記基板上に積層状に配置されたエレクトロクロミッ
ク層とこれを狭持する一対の電極層と封止樹脂を介して
接合された封止基板とを有するエレクトロクロミック部
材の複数個と、前記エレクトロクロミック素子の端部に
前記電極層との電気的接続がなされた複数の接続部とを
具え、前記複数個のエレクトロクロミック部材が前記基
板面または前記封止基板面を、前記基板面または前記封
止基板面と対向して接着剤を介して全て接合一体化さ
れ、前記接続部が二つ以上の前記電極層と電気的に接続
されていることを特徴とするエレクトロクロミック素
子。
2. An electrochromic device, comprising: a substrate; an electrochromic layer laminated on the substrate; and a pair of electrode layers sandwiching the electrochromic layer and a sealing substrate joined via a sealing resin. A plurality of electrochromic members, and a plurality of connection portions at an end of the electrochromic element, the plurality of connection portions being electrically connected to the electrode layer. The stop substrate surface, the substrate surface or the sealing substrate surface is opposed to the bonding surface and all are bonded and integrated via an adhesive, and the connection portion is electrically connected to two or more of the electrode layers. Characteristic electrochromic element.
【請求項3】エレクトロクロミック素子において、基板
と前記基板上に積層状に配置されたエレクトロクロミッ
ク層とこれを狭持する一対の電極層とを有するエレクト
ロクロミック部材の複数個と、一枚の封止基板と、前記
エレクトロクロミック素子の端部に前記電極層との電気
的接続がなされた複数の接続部とを具え、前記複数個の
エレクトロクロミック部材と前記封止基板とが前記基板
の各層形成面と各層非形成面とを並びに前記基板の各層
形成面と前記封止基板面とを対向して封止樹脂を介して
全て接合一体化され、少なくとも一つの前記接続部が二
つ以上の前記電極層と電気的に接続されていることを特
徴とするエレクトロクロミック素子。
3. An electrochromic device, comprising: a plurality of electrochromic members each having a substrate, an electrochromic layer laminated on the substrate, and a pair of electrode layers sandwiching the substrate; A plurality of connection portions electrically connected to the electrode layer at the ends of the electrochromic element, wherein the plurality of electrochromic members and the sealing substrate form each layer of the substrate. The surface and each layer non-formed surface as well as the respective layer formed surface of the substrate and the sealing substrate surface are all joined and integrated via a sealing resin, and at least one connection portion is two or more of the connecting portions. An electrochromic device electrically connected to an electrode layer.
【請求項4】エレクトロクロミック素子において、基板
と、前記基板上に積層状に配置された2種類以上且つ合
計2層以上のエレクトロクロミック層と前記エレクトロ
クロミック層よりも1層多い層数の電極層とを有する薄
膜部と、前記エレクトロクロミック素子の端部に前記電
極層との電気的接続がなされた複数の接続部とを具え、
各々の前記エレクトロクロミック層は前記電極層の二つ
に狭持され、前記薄膜部の基板面に最も近い層と最も遠
い層とが各々電極層からなり、少なくとも一つの前記接
続部が二つ以上の前記電極層と電気的に接続されている
ことを特徴とするエレクトロクロミック素子。
4. An electrochromic device, comprising: a substrate; two or more types of electrochromic layers arranged in a stacked manner on the substrate; a total of two or more electrochromic layers; and one more electrode layer than the electrochromic layer. And a plurality of connecting portions electrically connected to the electrode layer at the end of the electrochromic element,
Each of the electrochromic layers is sandwiched between two of the electrode layers, a layer closest to the substrate surface of the thin film portion and a layer farthest from the substrate surface are each composed of an electrode layer, and at least one of the connection portions is two or more. An electrochromic device electrically connected to said electrode layer.
【請求項5】前記接続部の個数が二つであり、二つの前
記接続部間に一定の直流電圧を印加すると全てのエレク
トロクロミック層が着色し、一定の逆極性の直流電圧を
印加すると全てのエレクトロクロミック層が消色するこ
とを特徴とする請求項2、3、4何れか1項記載のエレ
クトロクロミック素子。
5. The method according to claim 1, wherein the number of the connection portions is two. When a certain DC voltage is applied between the two connection portions, all the electrochromic layers are colored, and when a certain reverse DC voltage is applied, all the electrochromic layers are colored. The electrochromic element according to any one of claims 2, 3, and 4, wherein the electrochromic layer of (1) is decolorized.
【請求項6】エレクトロクロミック素子において、第一
基板と第一基板上に順番に積層状に配置された第一下部
電極層と第一エレクトロクロミック層と第一上部電極層
とを有する第一エレクトロクロミック部材と、第二基板
と第二基板上に順番に積層状に配置された第二下部電極
層と第二エレクトロクロミック層と第二上部電極層と封
止樹脂を介して接合された封止基板とを有する第二エレ
クトロクロミック部材と、前記エレクトロクロミック素
子の端部に第一接続部と第二接続部とを具え、第一エレ
クトロクロミック部材と第二エレクトロクロミック部材
とが前記第一基板の各層形成面と前記第二基板の各層非
形成面とを対向し封止樹脂を介して接合され、前記第一
接続部が計四層の前記電極層のうち二層の電極層と電気
的に接続され、前記第二接続部が残りの二層の電極層と
電気的に接続され、前記第一接続部と前記第二接続部と
の間に一定の直流電圧を印加すると第一エレクトロクロ
ミック層と第二エレクトロクロミック層との両方が着色
し、一定の逆極性の直流電圧を印加すると第一エレクト
ロクロミック層と第二エレクトロクロミック層との両方
が消色することを特徴とするエレクトロクロミック素
子。
6. An electrochromic device, comprising: a first substrate; a first lower electrode layer, a first electrochromic layer, and a first upper electrode layer, which are sequentially stacked on the first substrate. An electrochromic member, a second substrate, and a second lower electrode layer, a second electrochromic layer, and a second upper electrode layer, which are sequentially stacked on the second substrate, and a seal bonded to the second upper electrode layer via a sealing resin. A second electrochromic member having a stop substrate, and a first connection portion and a second connection portion at an end of the electrochromic element, wherein the first electrochromic member and the second electrochromic member are the first substrate. Each layer forming surface and each layer non-forming surface of the second substrate are opposed to each other and joined via a sealing resin, and the first connection portion is electrically connected to two of the four electrode layers. Connected to the front The second connection part is electrically connected to the remaining two electrode layers, and when a constant DC voltage is applied between the first connection part and the second connection part, the first electrochromic layer and the second electrochromic layer are connected. An electrochromic device characterized in that both the chromic layer and the chromic layer are colored, and when a DC voltage having a certain reverse polarity is applied, both the first electrochromic layer and the second electrochromic layer are decolorized.
【請求項7】前記接続部と前記第一接続部と前記第二接
続部とが導電性薄膜または導電性ペーストと、導電性ク
リップとを有することを特徴とする請求項1、2、3、
4、5、6何れか1項記載のエレクトロクロミック素
子。
7. The method according to claim 1, wherein said connecting portion, said first connecting portion, and said second connecting portion have a conductive thin film or conductive paste and a conductive clip.
The electrochromic device according to any one of 4, 5, and 6.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009544997A (en) * 2006-07-28 2009-12-17 サン−ゴバン グラス フランス Active device with variable energy / light transmission characteristics
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