JPH1127137A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

Info

Publication number
JPH1127137A
JPH1127137A JP9173389A JP17338997A JPH1127137A JP H1127137 A JPH1127137 A JP H1127137A JP 9173389 A JP9173389 A JP 9173389A JP 17338997 A JP17338997 A JP 17338997A JP H1127137 A JPH1127137 A JP H1127137A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
signal
power supply
output
level
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9173389A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akio Koyama
明夫 小山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP9173389A priority Critical patent/JPH1127137A/en
Publication of JPH1127137A publication Critical patent/JPH1127137A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Logic Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the stability and high speed property of a level conversion operation for a signal output to the outside when the amplitude of an internal signal is small to an external signal. SOLUTION: This circuit consists of a 1st circuit 11 which makes 1st power supply voltage VDL operating power supply and outputs a 1st signal S1, a level conversion circuit 13 which makes 2nd power supply voltage VDH that has a higher level than the voltage VDL operating power supply and converts the amplitude of the signal S1 into an amplitude corresponding to the voltage VDH and an output circuit 14 which makes the voltage VDH operating power supply and performs an external output operation in accordance with a logical value of a 2nd signal outputted by the circuit 13. In such cases, a booster circuit 12 which makes the voltage VDL operating power supply, boosts a high level of the 1st signal and supplies it to the circuit 13 is provided, and drain current of differential input MOS transistors M3 and M4 of the circuit 13 is increased.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、外部とのインタフ
ェース信号のレベルに対して内部回路の動作電源が低く
された半導体集積回路、換言すれば、外部信号振幅に対
して内部信号の振幅が小さくされた半導体集積回路に関
し、2電源利用のCMOS(相補型MOS)集積回路の
外部出力動作の安定性及び高速性の実現に適用して有効
な技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit in which the operating power of an internal circuit is made lower with respect to the level of an interface signal with the outside, in other words, the amplitude of an internal signal is smaller than that of an external signal. The present invention relates to a technology effective when applied to the realization of stability and high-speed operation of an external output operation of a CMOS (complementary MOS) integrated circuit using two power supplies.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路の集積度や動作速度を上
げるために素子を微細化した場合には電源電圧の低電圧
化が行われる。このとき、当該半導体集積回路を用いる
システムの電源仕様は必ずしも低電圧化されるとは限ら
ない。その場合には、外部インタフェース仕様に関して
は、低電圧化される前の5Vのような信号振幅を採用し
なければならない場合がある。
2. Description of the Related Art When elements are miniaturized in order to increase the degree of integration and operation speed of a semiconductor integrated circuit, the power supply voltage is reduced. At this time, the power supply specification of the system using the semiconductor integrated circuit is not always reduced. In that case, regarding the external interface specification, a signal amplitude such as 5 V before the voltage is reduced may be required.

【0003】この場合には、半導体集積回路の内部回路
における低電圧信号振幅を外部に出力するとき、5Vの
ような低電圧化前の信号振幅に変換しなければならな
い。
In this case, when outputting the low voltage signal amplitude in the internal circuit of the semiconductor integrated circuit to the outside, the signal amplitude must be converted to a signal amplitude before the low voltage such as 5V.

【0004】例えばそのような振幅変換を行う回路とし
てCMOSスタティックラッチを用いることができる。
すなわち、pチャンネル型MOSトランジスタとnチャ
ンネル型MOSトランジスタの直列回路を一対並列に有
し、相互に一方のpチャンネル型MOSトランジスタの
ゲートが他方のpチャンネル型MOSトランジスタのド
レインに交差結合され、前記nチャンネル型MOSトラ
ンジスタが一対の差動入力MOSトランジスタとして構
成される。
For example, a CMOS static latch can be used as a circuit for performing such amplitude conversion.
That is, a series circuit of a pair of p-channel MOS transistors and an n-channel MOS transistor is provided in parallel, and the gate of one p-channel MOS transistor is cross-coupled to the drain of the other p-channel MOS transistor. An n-channel MOS transistor is configured as a pair of differential input MOS transistors.

【0005】尚、スタティックラッチを用いたレベル変
換について記載された文献の例としては、「超LSIメ
モリ」(1994年4月株式会社培風館発行)、「A Hi
gh-Speed Low-Power 0.3μm CMOS Gate Array with VT
Scheme(CICC 1996)」がある。
Examples of documents describing level conversion using a static latch include "Ultra LSI Memory" (published by Baifukan Co., Ltd. in April 1994) and "A Hi
gh-Speed Low-Power 0.3μm CMOS Gate Array with VT
Scheme (CICC 1996) ".

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記ス
タティックラッチを用いたレベル変換では差動入力MO
Sトランジスタのゲート電圧が低いため、高速動作が期
待できず、しかもプロセスばらつきによって誤動作する
虞のあることが本発明者によって明らかにされた。例え
ば図6の回路を考える。スタティックラッチはpチャン
ネル型MOSトランジスタM1,M2とnチャンネル型
MOSトランジスタM3,M4から構成され、当該スタ
ティックラッチと、その出力を受けるpチャンネル型M
OSトランジスタM5及びnチャンネル型MOSトラン
ジスタM6からなるCMOSインバータとは,5Vのよ
うな比較的高い電源電圧VDHを動作電源とする。スタ
ティックラッチの差動入力MOSトランジスタM3,M
4に信号を供給するインバータ1,2は、3.3Vのよ
うな比較的低い電源電圧VDLを動作電源とする。前記
インバータ1の入力には半導体集積回路の内部から外部
に出力すべき論理信号が供給される。前記内部回路の動
作電源はVDLであり、前記論理信号の最大信号振幅は
大凡接地電位GNDから電源電圧VDLまでの電位差を
有する。
However, in the level conversion using the static latch, a differential input MO is used.
The present inventor has clarified that since the gate voltage of the S-transistor is low, high-speed operation cannot be expected and there is a risk of malfunction due to process variation. For example, consider the circuit of FIG. The static latch is composed of p-channel MOS transistors M1 and M2 and n-channel MOS transistors M3 and M4.
The CMOS inverter including the OS transistor M5 and the n-channel MOS transistor M6 uses a relatively high power supply voltage VDH such as 5V as an operation power supply. Differential input MOS transistors M3, M of static latch
The inverters 1 and 2 that supply signals to the inverter 4 use a relatively low power supply voltage VDL such as 3.3 V as an operation power supply. A logic signal to be output from the inside of the semiconductor integrated circuit to the outside is supplied to the input of the inverter 1. The operating power supply of the internal circuit is VDL, and the maximum signal amplitude of the logic signal has a potential difference from the ground potential GND to the power supply voltage VDL.

【0007】図6のスタティックラッチによるレベル変
換動作は、MOSトランジスタM3又はM4に流れる電
流によってラッチ状態を反転できることが前提である。
例えば、ノードN1のレベルが電源電圧VDHのレベル
にされているとき、MOSトランジスタM4のゲート電
圧が電源電圧VDLレベルのハイレベルになると、MO
SトランジスタM2とM4に貫通電流が流れる。このと
き、ノードN1のレベルが充分下がらないと、MOSト
ランジスタM1はオン状態にされず、スタティックラッ
チに帰還がかからない。したがって、帰還をかけてMO
SトランジスタM1をオン状態にするには、トランジス
タM2とM4が同時にオン状態にされているとき、MO
SトランジスタM4のオン抵抗がMOSトランジスタM
2のオン抵抗よりも小さくなければならない。換言すれ
ば、MOSトランジスタM4の方がMOSトランジスタ
M2よりも大きな相互コンダクタンスを有しなければな
らない。
The level conversion operation by the static latch shown in FIG. 6 is based on the premise that the latch state can be inverted by the current flowing through the MOS transistor M3 or M4.
For example, when the level of the node N1 is at the level of the power supply voltage VDH and the gate voltage of the MOS transistor M4 is at the high level of the power supply voltage VDL, MO
A through current flows through the S transistors M2 and M4. At this time, if the level of the node N1 is not sufficiently lowered, the MOS transistor M1 is not turned on, and no feedback is applied to the static latch. Therefore, return to MO
To turn on the S transistor M1, when the transistors M2 and M4 are turned on at the same time,
The ON resistance of the S transistor M4 is the MOS transistor M
2 must be smaller than the on-resistance. In other words, the MOS transistor M4 must have a larger transconductance than the MOS transistor M2.

【0008】しかしながら、MOSトランジスタM4の
ゲート電圧は最大でも電源電圧VDLのレベルであるの
に対し、MOSトランジスタM2のゲート入力信号の振
幅はレベルの高い電源電圧VDHに応ずる振幅とされる
から、電流供給能力という点において、MOSトランジ
スタM4の方がMOSトランジスタM2に比べてゲート
入力電圧という点において不利である。
However, while the gate voltage of the MOS transistor M4 is at most the level of the power supply voltage VDL, the amplitude of the gate input signal of the MOS transistor M2 has an amplitude corresponding to the high level of the power supply voltage VDH. In terms of supply capability, the MOS transistor M4 is disadvantageous in terms of the gate input voltage as compared with the MOS transistor M2.

【0009】そこで、MOSトランジスタM2のトラン
ジスタサイズ(チャンネル幅)を小さくしてその電流供
給能力を小さくせざるを得ない。そうすると、スタティ
ックラッチの過渡応答時間が長くなり、出力動作の確定
が遅れてしまうとい問題点のあることが本発明者によっ
て明らかにされた。
Therefore, the transistor size (channel width) of the MOS transistor M2 must be reduced to reduce its current supply capability. Then, the present inventor has clarified that the transient response time of the static latch becomes longer and the determination of the output operation is delayed.

【0010】このようにMOSトランジスタM2とM4
との電流供給能力の関係が動作上重要であるから、スタ
ティックラッチの反転動作とスタティックラッチの過渡
応答期間の短縮という双方の要求を満足させるためにぎ
りぎりの点で双方のトランジスタM2,M4のサイズを
決定した場合、pチャンネル型MOSトランジスタとn
チャンネル型MOSトランジスタとの製造プロセスのば
らつきにより、双方のMOSトランジスタM2,M4の
ドレイン電流が既定値に対してばらつくと、スタティッ
クラッチそれ自体が動作しなくなる虞のあることが本発
明者によって明らかにされた。この関係はMOSトラン
ジスタM1とM3に関しても同じである。
Thus, the MOS transistors M2 and M4
Since the relationship between the current supply capability and the current supply capability is important in operation, the size of both transistors M2 and M4 is barely required to satisfy both requirements of the inversion operation of the static latch and the shortening of the transient response period of the static latch. Is determined, the p-channel MOS transistor and n
The present inventor has clarified that the static latch itself may not operate if the drain current of both MOS transistors M2 and M4 fluctuates from a predetermined value due to a variation in the manufacturing process with the channel type MOS transistor. Was done. This relationship is the same for the MOS transistors M1 and M3.

【0011】本発明の目的は、外部とのインタフェース
信号のレベルに対して内部回路の動作電源が低くされた
半導体集積回路、換言すれば、外部信号振幅に対して内
部信号の振幅が小さくされた半導体集積回路において、
外部への信号出力のためのレベル変換動作の安定性と高
速性をを実現できる半導体集積回路を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit in which the operating power of an internal circuit is reduced with respect to the level of an external interface signal, in other words, the amplitude of an internal signal is reduced with respect to the amplitude of an external signal. In semiconductor integrated circuits,
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit capable of realizing stability and high speed of a level conversion operation for outputting a signal to the outside.

【0012】本発明の別の目的は、信号振幅の小さな内
部信号を信号振幅の大きな外部出力信号の振幅に変換す
るためのレベル変換回路にスタティックラッチを採用す
る場合に、トランジスタ特性の製造ばらつきによって誤
動作を生じ難く、スタティックラッチの反転ラッチ動作
の過渡応答時間を短縮できる半導体集積回路を提供する
ことにある。
Another object of the present invention is to provide a level conversion circuit for converting an internal signal having a small signal amplitude into the amplitude of an external output signal having a large signal amplitude by employing a static latch due to manufacturing variations in transistor characteristics. It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit which does not easily cause a malfunction and can reduce a transient response time of an inversion latch operation of a static latch.

【0013】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The following is a brief description of an outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application.

【0015】すなわち、第1の電源電圧(VDL)を動
作電源として動作される第1の回路(11)と、前記第
1の電源電圧よりもレベルの高い第2の電源電圧(VD
H)を動作電源とし前記第1の回路から出力される第1
の信号(S1)の信号振幅を前記第2の電源電圧に応ず
る信号振幅に変換するレベル変換回路(13)と、前記
第2の電源電圧を動作電源とし前記レベル変換回路から
出力される第2の信号(S2)の論理値に応じて外部出
力動作を行う出力回路(14)とを含む半導体集積回路
(10)において、前記第1の電源電圧を動作電源とし
前記第1の信号のハイレベルを昇圧して前記レベル変換
回路に供給する昇圧回路(12)を設ける。第2の電源
電圧で動作されるレベル変換回路(13)に供給される
ハイレベルは第1の電源電圧に対して昇圧されたレベル
を有するから、そのレベルを制御端子に受けるトランジ
スタ(M3,M4)の電流供給能力若しくは相互コンダ
クタンスが大きくされ、このことが、レベル変換回路の
過渡応答動作の高速性及び安定性を増大させる。
That is, a first circuit (11) operated using a first power supply voltage (VDL) as an operation power supply, and a second power supply voltage (VD) having a higher level than the first power supply voltage.
H) as an operating power supply, and a first output from the first circuit.
A level conversion circuit (13) for converting the signal amplitude of the signal (S1) into a signal amplitude corresponding to the second power supply voltage, and a second output from the level conversion circuit using the second power supply voltage as an operation power supply. And an output circuit (14) that performs an external output operation in accordance with the logical value of the signal (S2), wherein the first power supply voltage is used as an operation power supply and the first signal is at a high level. And a booster circuit (12) for boosting and supplying the boosted level to the level conversion circuit. Since the high level supplied to the level conversion circuit (13) operated by the second power supply voltage has a level boosted from the first power supply voltage, the transistors (M3, M4) receiving that level at the control terminal ), The current supply capability or the transconductance is increased, which increases the speed and stability of the transient response operation of the level conversion circuit.

【0016】更に詳しくは、前記レベル変換回路は、相
補信号(out,−out)が供給される一対の差動入
力トランジスタ(M3,M4)を含むスタティックラッ
チ形態を有し、その記憶ノード(N1)から前記第2の
信号(S2)を出力する。前記昇圧回路は、第1の信号
の相補信号(in,−in)の夫々に対し、ローレベル
からハイレベルへの変化に応じ昇圧容量(C1,C2)
を介してハイレベルの電圧レベルを昇圧する昇圧部(1
20,121)を有し、各昇圧部の出力(out,−o
ut)が前記レベル変換回路への相補信号とされる。こ
れにより、一対の差動入力トランジスタ(M3,M4)
のゲートに供給される相補信号のハイレベルは第1の電
源電圧(VDL)に対して昇圧されたレベルを有するか
ら、差動入力トランジスタ(M3,M4)ノ電流供給能
力若しくは相互コンダクタンスが大きくされ、これによ
ってレベル変換回路の過渡応答動作の高速性及び安定性
を増すことができる。
More specifically, the level conversion circuit has a static latch configuration including a pair of differential input transistors (M3, M4) to which complementary signals (out, -out) are supplied, and has a storage node (N1). ) To output the second signal (S2). The booster circuit increases a booster capacitance (C1, C2) in response to a change from a low level to a high level for each of the complementary signals (in, -in) of the first signal.
Boosting section (1) boosting a high-level voltage level through
20, 121), and outputs (out, -o) of each booster.
ut) is a complementary signal to the level conversion circuit. Thereby, the pair of differential input transistors (M3, M4)
The high level of the complementary signal supplied to the gates of the differential input transistors (M3, M4) has a higher level than the first power supply voltage (VDL), so that the current supply capability or the mutual conductance of the differential input transistors (M3, M4) is increased. Thus, the speed and stability of the transient response operation of the level conversion circuit can be increased.

【0017】前記レベル変換回路はCMOSスタティッ
クラッチ回路で構成することができ、また、前記出力回
路は前記CMOSスタティックラッチ回路の一つの記憶
ノードから出力される信号を第2の信号として入力する
CMOSインバータ回路によって構成することができ
る。
The level conversion circuit can be constituted by a CMOS static latch circuit, and the output circuit is a CMOS inverter which inputs a signal output from one storage node of the CMOS static latch circuit as a second signal. It can be configured by a circuit.

【0018】出力回路を高出力インピーダンス状態に制
御できるようにするには、前記出力回路は直列接続され
た第1及び第2の出力トランジスタ(M5,M6)を有
し直列接続点を出力端子とし、前記第1及び第2の出力
トランジスタの制御端子毎に前記昇圧回路(12A,1
2B)と前記レベル変換回路(13A,13B))とを
有し、更に、前記双方の昇圧回路へ前記第1の信号を供
給する経路に、前記第1及び第2のトランジスタに個別
に供給される第2の信号を、前記出力回路を高出力イン
ピーダンス状態に制御するレベルに選択的に強制するゲ
ート手段(3A,3B)を設ければよい。
In order to enable the output circuit to be controlled to a high output impedance state, the output circuit has first and second output transistors (M5, M6) connected in series, and the series connection point is used as an output terminal. , The booster circuit (12A, 1A) for each control terminal of the first and second output transistors.
2B) and the level conversion circuits (13A, 13B)), and further supplied to the first and second transistors via a path for supplying the first signal to both of the booster circuits. Gate means (3A, 3B) for selectively forcing the second signal to a level for controlling the output circuit to a high output impedance state may be provided.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】図1には本発明に係る半導体集積
回路の一例が示される。同図に示される半導体集積回路
は、単結晶シリコンのような1個の半導体基板に公知の
CMOS集積回路技術によって形成されている。同図に
示される半導体集積回路10は、3.3Vのような相対
的にレベルの低い電源電圧(第1の電源電圧)VDL
と、5Vのような相対的にレベルの高い電源電圧(第2
の電源電圧)VDHとを動作電源とする。GNDは0V
のような接地電圧である。例えば電源電圧VDLは電源
電圧VDHを内部降圧回路で降圧して生成する。或い
は、夫々専用の外部電源端子から電源電圧VDLとVD
Hを受けるよいうにしてもよい。
FIG. 1 shows an example of a semiconductor integrated circuit according to the present invention. The semiconductor integrated circuit shown in FIG. 1 is formed on a single semiconductor substrate such as single crystal silicon by a known CMOS integrated circuit technology. The semiconductor integrated circuit 10 shown in FIG. 1 has a relatively low level power supply voltage (first power supply voltage) VDL such as 3.3V.
And a relatively high power supply voltage such as 5 V (second
Is the operating power supply. GND is 0V
The ground voltage is as follows. For example, the power supply voltage VDL is generated by stepping down the power supply voltage VDH by an internal step-down circuit. Alternatively, power supply voltages VDL and VD can be supplied from dedicated external power supply terminals, respectively.
You may receive H.

【0020】図1に示される半導体集積回路10におい
て、11,1,2で夫々示される回路は、電源電圧VD
Lを動作電源とする回路である。半導体集積回路10が
論理LSI(Large Scale Integrated Circuit)である
場合、内部回路11は適宜の論理動作を行う。図1には
代表的に一つの信号S1が内部回路11から出力されて
いる。信号S1は内部回路11が外部に出力しようとす
る論理信号である。この論理信号S1の振幅は接地電圧
GNDから電源電圧VDLの範囲の振幅である。例えば
ローレベルは接地電圧GNDのレベル、ハイレベルは電
源電圧VDLのレベルにされる。前記インバータ1,2
は前記信号S1を相補信号in,−inに変換する。相
補信号in,−inの振幅は前記信号S1と同じであ
る。
In the semiconductor integrated circuit 10 shown in FIG. 1, circuits denoted by reference numerals 11, 1, and 2 respectively include a power supply voltage VD
This circuit uses L as the operating power supply. When the semiconductor integrated circuit 10 is a logic LSI (Large Scale Integrated Circuit), the internal circuit 11 performs an appropriate logic operation. In FIG. 1, one signal S1 is typically output from the internal circuit 11. The signal S1 is a logic signal that the internal circuit 11 intends to output to the outside. The amplitude of the logic signal S1 is in the range from the ground voltage GND to the power supply voltage VDL. For example, the low level is the level of the ground voltage GND, and the high level is the level of the power supply voltage VDL. Inverters 1 and 2
Converts the signal S1 into complementary signals in and -in. The amplitudes of the complementary signals in and -in are the same as the signal S1.

【0021】昇圧回路12は前記相補信号in,−in
のハイレベルを容量素子を用いて昇圧する昇圧回路であ
る。この昇圧回路12は電源電圧VDLを動作電源と
し、ハイレベルが昇圧された相補信号out,−out
を出力する。
The booster circuit 12 supplies the complementary signals in, -in
Is a booster circuit that boosts the high level of the signal by using a capacitive element. The booster circuit 12 uses the power supply voltage VDL as an operation power supply, and outputs complementary signals out and -out whose high level has been boosted.
Is output.

【0022】レベル変換回路13はCMOSスタティッ
クラッチ形態を有し、一対のnチャンネル型差動入力M
OSDトランジスタM3,M4のゲートに前記信号ou
t,−outを受け、出力信号振幅を電源電圧VDHに
応ずる信号振幅の信号S2に変換する。差動入力MOS
トランジスタM3,M4に対して負荷を構成するpチャ
ンネル型MOSトランジスタM1,M2は、相互に一方
のpチャンネル型MOSトランジスタのゲートが他方の
pチャンネル型MOSトランジスタのドレインに交差結
合されれる。
The level conversion circuit 13 has a CMOS static latch form, and has a pair of n-channel type differential inputs M.
The signal ou is applied to the gates of the OSD transistors M3 and M4.
In response to t and -out, the output signal amplitude is converted into a signal S2 having a signal amplitude corresponding to the power supply voltage VDH. Differential input MOS
In the p-channel MOS transistors M1 and M2 forming a load with respect to the transistors M3 and M4, the gate of one p-channel MOS transistor is cross-coupled to the drain of the other p-channel MOS transistor.

【0023】出力回路14は電源電圧VDHを動作電源
とし、pチャンネル型MOSトランジスタM5とnチャ
ンネル型MOSトランジスタM6とによるCMOSイン
バータ回路として構成される。MOSトランジスタM
5,M6のゲートには前記信号S2が供給され、MOS
トランジスタM5,M6の共通ドレインは出力パッド1
5に結合される。出力パッド15は例えばボンディング
パッドである。
The output circuit 14 uses a power supply voltage VDH as an operation power supply, and is configured as a CMOS inverter circuit including a p-channel MOS transistor M5 and an n-channel MOS transistor M6. MOS transistor M
5, the gate of M6 is supplied with the signal S2,
The common drain of transistors M5 and M6 is output pad 1
5 The output pad 15 is, for example, a bonding pad.

【0024】図2には前記昇圧回路12の一例が示され
る。図2においてpチャンネル型MOSトランジスタM
7,M9,M11と、nチャンネル型MOSトランジス
タM8,M10,M12と、容量素子C1とによって構
成される昇圧部120は、信号inから信号outを生
成する。これとほぼ同様に構成された、pチャンネル型
MOSトランジスタM17,M19,M21と、nチャ
ンネル型MOSトランジスタM18,M20,M22
と、容量素子C2によって構成される昇圧部121は、
信号−inから信号−outを生成する。
FIG. 2 shows an example of the booster circuit 12. In FIG. 2, a p-channel MOS transistor M
The boosting unit 120, which includes the transistors M7, M9, and M11, the n-channel MOS transistors M8, M10, and M12, and the capacitor C1, generates a signal out from the signal in. P-channel type MOS transistors M17, M19, M21 and n-channel type MOS transistors M18, M20, M22, which are constructed in substantially the same manner.
And the booster 121 configured by the capacitive element C2,
A signal -out is generated from the signal -in.

【0025】前記昇圧部120において、MOSトラン
ジスタM8はノードN3に対してダイオード接続された
プルアップMOSトランジスタを構成し、トランジスタ
M7は信号inのローレベルによってノードN3を充電
し、トランジスタM10はその充電動作(信号−inは
ハイレベル)に応じてノードN2をディスチャージし、
容量素子C1を電源電圧VDLに充電する。この充電動
作中、MOSトランジスタM11はオフ状態にされ、M
OSトランジスタM12はオン状態にされ、出力信号o
utはローレベルにされている。
In the booster 120, the MOS transistor M8 forms a pull-up MOS transistor diode-connected to the node N3, the transistor M7 charges the node N3 according to the low level of the signal in, and the transistor M10 charges the node N3. Discharging the node N2 in response to the operation (the signal -in is at a high level);
The capacitor C1 is charged to the power supply voltage VDL. During this charging operation, the MOS transistor M11 is turned off, and M
The OS transistor M12 is turned on, and the output signal o
ut is at a low level.

【0026】入力信号in,−inの論理値が反転され
ると(in=ハイレベル,−in=ローレベル)、MO
SトランジスタM7による充電動作が停止され、今度は
MOSトランジスタM9がオン状態にされて(M10は
オフ状態)、ノードN2が充電される。これにより、容
量素子C1を介して結合されたノードN3のレベルが電
源電圧VDLのレベルから上昇される。このとき、MO
SトランジスタM12はオフ状態、MOSトランジスタ
M11はオン状態にされるから、出力信号outは電源
電圧VDLから昇圧されたレベルにされる。
When the logical values of the input signals in and -in are inverted (in = high level, -in = low level), the MO
The charging operation by S transistor M7 is stopped, MOS transistor M9 is turned on (M10 is turned off), and node N2 is charged. Thereby, the level of node N3 coupled via capacitive element C1 is raised from the level of power supply voltage VDL. At this time, MO
Since the S transistor M12 is turned off and the MOS transistor M11 is turned on, the output signal out is set to a level boosted from the power supply voltage VDL.

【0027】その後、再び入力信号in,−inの論理
値が反転されると(in=ローレベル,−in=ハイレ
ベル)、ノードN2はローレベルにされ、これに応じて
ノードN3のレベルも容量性結合によって低下される。
このとき、ノードN3のレベルが過剰に低下されないよ
うにするために、比較的コンダクタンスの小さな前記プ
ルアップMOSトランジスタM8によって、ノードN3
は、電源電圧VDLに対してMOSトランジスタM8の
閾値電圧分だけ降下されたレベルに予め充電され、次の
昇圧動作に必要なレベルを確保する。
Thereafter, when the logic values of the input signals in and -in are again inverted (in = low level, -in = high level), the node N2 is set to the low level, and the level of the node N3 is correspondingly changed. Reduced by capacitive coupling.
At this time, in order to prevent the level of the node N3 from being excessively lowered, the pull-up MOS transistor M8 having a relatively small conductance is used to control the node N3.
Is previously charged to a level lower than the power supply voltage VDL by the threshold voltage of the MOS transistor M8 to secure a level required for the next boosting operation.

【0028】前記昇圧部121は上記昇圧部120とは
相補的に動作され、その基本的な紀ぅ及び動作は上記と
同じであるので、ここでは詳細な説明を省略する。
The booster 121 operates in a complementary manner to the booster 120, and its basic operation and operation are the same as those described above.

【0029】図3には入力信号inに対して昇圧された
出力信号outの波形の一例が示される。同図に示され
るように、レベル変換回路13の差動入力MOSトラン
ジスタM3,M4に入力される信号out,−outの
ハイレベルはレベルの低い電源電圧VDL以上に昇圧さ
れるから、MOSトランジスタM3,M4のドレイン電
流を増すことができる。図1のノードN1のレベルが電
源電圧VDHのレベルにされている状態で、MOSトラ
ンジスタM4がオン状態にされる時、当該MOSトラン
ジスタM4は電源電圧VDLレベルよりも高いレベルに
昇圧された信号−outがそのゲート電極に供給され
る。MOSトランジスタM4のゲート電極に電源電圧レ
ベルVDLのハイレベルが供給される場合に比べて、当
該MOSトランジスタM4に流れるドレイン電流は大き
くされる。これにより、ノードN1のレベルが速やかに
低下し、MOSトランジスタM1がオン状態になってM
OSトランジスタM2がターンオフされるまでの過渡応
答動作時間が短くされる。したがって、信号S1の変化
に応じて信号S2が反転されるまでの動作が高速化さ
れ、出力動作の速化を達成することができる。
FIG. 3 shows an example of the waveform of the output signal out which is boosted with respect to the input signal in. As shown in the figure, the high levels of the signals out and -out input to the differential input MOS transistors M3 and M4 of the level conversion circuit 13 are boosted to the low level power supply voltage VDL or higher, so that the MOS transistor M3 , M4 can be increased. When the MOS transistor M4 is turned on in a state where the level of the node N1 in FIG. 1 is at the level of the power supply voltage VDH, the signal level of the MOS transistor M4 is raised to a level higher than the power supply voltage VDL level. out is supplied to the gate electrode. The drain current flowing through the MOS transistor M4 is made larger than when the high level of the power supply voltage level VDL is supplied to the gate electrode of the MOS transistor M4. As a result, the level of the node N1 rapidly decreases, and the MOS transistor M1 is turned on, so that M
The transient response operation time until the OS transistor M2 is turned off is shortened. Therefore, the operation until the signal S2 is inverted according to the change of the signal S1 is speeded up, and the speed of the output operation can be increased.

【0030】上記により、MOSトランジスタM4に流
れる電流を増すことができるから、本発明者が以前に検
討したようにMOSトランジスタM2のトランジスタサ
イズ(チャンネル幅)を小さくしてMOSトランジスタ
M4の少ないドレイン電流に対処することを要しない。
この理由からも、出力動作の確定を早めることができ
る。しかも、レベル変換回路の反転動作とレベル変換回
路の過渡応答期間の短縮という双方の要求を満足させる
ためにぎりぎりの点で双方のトランジスタM2,M4の
サイズ比を決定する事も要しないから、pチャンネル型
MOSトランジスタとnチャンネル型MOSトランジス
タとに製造プロセスのばらつきが多少生じて双方のMO
SトランジスタM2,M4のドレイン電流が既定値に対
してばらついても、レベル変換回路13がラッチ動作を
行えなくなる事態の発生を防止することができる。
As described above, since the current flowing through the MOS transistor M4 can be increased, the transistor size (channel width) of the MOS transistor M2 is reduced and the drain current of the MOS transistor M4 is reduced as discussed previously by the present inventors. Need not be dealt with.
For this reason, the output operation can be settled earlier. Moreover, it is not necessary to determine the size ratio of the two transistors M2 and M4 at the last minute in order to satisfy both requirements of the inversion operation of the level conversion circuit and the reduction of the transient response period of the level conversion circuit. There is some variation in the manufacturing process between the channel type MOS transistor and the n-channel type MOS transistor.
Even if the drain currents of the S transistors M2 and M4 vary from a predetermined value, it is possible to prevent the level conversion circuit 13 from being unable to perform a latch operation.

【0031】図4には前記出力回路14を高出力インピ
ーダンス制御可能にした場合の例が示される。12A,
12Bは図1の昇圧回路12と同じ昇圧回路である。1
3A,13Bは図1のレベル変換回路13と同じ回路で
ある。出力回路14を構成するMOSトランジスタM
5,M6毎に、昇圧回路12A,12Bとレベル変換回
路13A,13Bとを有する。レベル変換回路13Aの
出力信号S2AはMOSトランジスタM5のゲートに供
給され、レベル変換回路13Bの出力信号S2BはMO
SトランジスタM6のゲートに供給される。インバータ
2A,2Bは図1のインバータ2と同じである。インバ
ータ2Aの入力には2入力型のノアゲート3Aの出力端
子が結合され、インバータ2Bの入力には2入力型のナ
ンドゲート3Bの出力端子が結合される。前記ゲート3
A,3Bの一方の入力端子には前記信号S1が供給され
る。ノアゲート3Aの他方の入力端子には出力イネーブ
ル信号OEが供給され、ナンドゲート3Bの他方の入力
端子には出力イネーブル信号OEをインバータ4で反転
した信号が供給される。
FIG. 4 shows an example in which the output circuit 14 can be controlled to have a high output impedance. 12A,
Reference numeral 12B is the same booster circuit as the booster circuit 12 in FIG. 1
3A and 13B are the same circuits as the level conversion circuit 13 in FIG. MOS transistor M constituting output circuit 14
5 and M6, each has a booster circuit 12A, 12B and a level conversion circuit 13A, 13B. The output signal S2A of the level conversion circuit 13A is supplied to the gate of the MOS transistor M5, and the output signal S2B of the level conversion circuit 13B is
It is supplied to the gate of the S transistor M6. Inverters 2A and 2B are the same as inverter 2 in FIG. The input terminal of the inverter 2A is coupled to the output terminal of a two-input NOR gate 3A, and the input terminal of the inverter 2B is coupled to the output terminal of a two-input NAND gate 3B. The gate 3
The signal S1 is supplied to one input terminal of A and 3B. An output enable signal OE is supplied to the other input terminal of the NOR gate 3A, and a signal obtained by inverting the output enable signal OE by the inverter 4 is supplied to the other input terminal of the NAND gate 3B.

【0032】前記出力イネーブル信号OEはローレベル
によって出力動作を指示する。この状態においてナンド
ゲート3Aとノアゲート3Bはインバータと同じ反転動
作を行う。したがって、信号S1がローレベルであれば
信号S2A,S2Bは共にハイレベルにされ、出力回路
はローレベルを出力する。信号S1がハイレベルの場合
には上記とは逆になる。また、前記出力イネーブル信号
OEは、ハイレベルによって高出力インピーダンス状態
を指示する。この状態では、inA=ハイレベル、−i
nA=ローレベルに固定され、これによって信号S2A
がハイレベルに固定され、MOSトランジスタM5はオ
フ状態にされる。同様に前記出力イネーブル信号OEの
ハイレベルによって高出力インピーダンス状態が指示さ
れたとき、inB=ローレベル、−inB=ハイレベル
に固定され、これによって信号S2Bがローレベルに固
定され、MOSトランジスタM6はオフ状態にされる。
したがって、出力回路14は出力動作可能状態又は高出
力インピーダンス状態の選択が可能になる。このような
構成においても、図1と同様に、外部とのインタフェー
ス信号のレベルに対して内部回路の動作電源が低くされ
た半導体集積回路、換言すれば、外部信号振幅に対して
内部信号の振幅が小さくされた半導体集積回路におい
て、外部への信号出力のためのレベル変換動作の安定性
と高速性とを実現できる。
The output enable signal OE instructs an output operation according to a low level. In this state, the NAND gate 3A and the NOR gate 3B perform the same inversion operation as the inverter. Therefore, if the signal S1 is at a low level, the signals S2A and S2B are both at a high level, and the output circuit outputs a low level. When the signal S1 is at a high level, the operation is reversed. The output enable signal OE indicates a high output impedance state when it is at a high level. In this state, inA = high level, -i
nA is fixed to a low level, and thereby the signal S2A
Is fixed at a high level, and the MOS transistor M5 is turned off. Similarly, when a high output impedance state is indicated by the high level of the output enable signal OE, inB is fixed at a low level and -inB is fixed at a high level, whereby the signal S2B is fixed at a low level, and the MOS transistor M6 is turned on. It is turned off.
Therefore, the output circuit 14 can select an output operable state or a high output impedance state. Even in such a configuration, similarly to FIG. 1, the semiconductor integrated circuit in which the operation power of the internal circuit is lowered with respect to the level of the interface signal with the outside, in other words, the amplitude of the internal signal with respect to the amplitude of the external signal In a semiconductor integrated circuit having reduced size, the stability and high speed of the level conversion operation for outputting a signal to the outside can be realized.

【0033】図5にはレベル変換回路の別の例が示され
る。同図に示されるレベル変換回路13Aは、図1のレ
ベル変換回路13に対し、pチャンネル型の負荷MOS
トランジスタM31,M32を更に配置したものであ
る。MOSトランジスタM31のゲートには信号out
が供給され、MOSトランジスタM32のゲートには信
号−outが供給される。この回路においては、MOS
トランジスタM3とM31のペア、MOSトランジスタ
M4とM32のペアは、各々のpチャンネル型MOSト
ランジスタとnチャンネル型MOSDトランジスタとが
相補的にスイッチ動作するので、信号S2がハイレベル
からローレベルに変化されるとき、MOSトランジスタ
M1のオン状態を待つことなくMOSトランジスタM3
2がオフ状態にされようとするので、信号S2のハイレ
ベルからローレベルへの変化は更に高速化される。同様
に、信号S2がローレベルからハイレベルに変化される
とき、MOSトランジスタM1のオフ状態を待つことな
くMOSトランジスタM32がオン状態にされようとす
るので、信号S2のローレベルからハイレベルへの変化
は更に高速化される。
FIG. 5 shows another example of the level conversion circuit. The level conversion circuit 13A shown in the figure is different from the level conversion circuit 13 in FIG.
This is one in which transistors M31 and M32 are further arranged. The signal out is connected to the gate of the MOS transistor M31.
Is supplied to the gate of the MOS transistor M32, and the signal -out is supplied to the gate of the MOS transistor M32. In this circuit, MOS
In the pair of transistors M3 and M31 and the pair of MOS transistors M4 and M32, since the respective p-channel MOS transistors and n-channel MOSD transistors switch complementarily, the signal S2 is changed from high level to low level. The MOS transistor M3 without waiting for the ON state of the MOS transistor M1.
2 is turned off, the change of the signal S2 from the high level to the low level is further accelerated. Similarly, when the signal S2 changes from the low level to the high level, the MOS transistor M32 is about to be turned on without waiting for the off state of the MOS transistor M1, so that the signal S2 changes from the low level to the high level. The change is even faster.

【0034】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲にお
いて種々変更可能であることは言うまでもない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments, it is needless to say that the present invention is not limited to the embodiments and can be variously modified without departing from the gist of the invention. No.

【0035】例えば、昇圧回路やレベル変換回路にはそ
の他の回路構成を採用することが可能である。また、上
記の説明ではレベル変換回路の双方の差動入力トランジ
スタM3,M4のゲート入力信号を昇圧可能に構成した
が、レベル変換回路をシングルエンド出力で用いる場合
には、出力側の一方の差動入力MOSトランジスタM4
のゲート入力電圧だけを昇圧してもよい。出力側の片方
だけ昇圧してもスタティックラッチとしての正常動作を
保証しつつ、昇圧回路によるチップ占有面積を低減でき
る。
For example, other circuit configurations can be adopted for the booster circuit and the level conversion circuit. In the above description, the gate input signals of both differential input transistors M3 and M4 of the level conversion circuit are configured to be able to boost. However, when the level conversion circuit is used for single-ended output, one of the output side differentials is used. Dynamic input MOS transistor M4
May be boosted only. Even if only one side of the output side is boosted, the normal operation as a static latch is guaranteed and the area occupied by the chip by the booster circuit can be reduced.

【0036】本発明に係る半導体集積回路は、ASIC
(Application Specific Integrated Circuit)、カス
タムLSI、セミカスタムLSIなどの設計手法の点、
メモリLSIや論理LSI等の機能の点において、各種
半導体集積回路に適用することができる。
The semiconductor integrated circuit according to the present invention has an ASIC
(Application Specific Integrated Circuit), custom LSI, semi-custom LSI, etc.
In terms of functions such as a memory LSI and a logic LSI, the present invention can be applied to various semiconductor integrated circuits.

【0037】[0037]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0038】すなわち、外部とのインタフェース信号の
レベルに対して内部回路の動作電源が低くされた半導体
集積回路、換言すれば、外部信号振幅に対して内部信号
の振幅が小さくされた半導体集積回路において、外部へ
の信号出力のためのレベル変換動作の安定性と高速性と
を実現できる。
That is, in a semiconductor integrated circuit in which the operating power of the internal circuit is made lower than the level of the interface signal with the outside, in other words, in a semiconductor integrated circuit in which the amplitude of the internal signal is made smaller than the amplitude of the external signal. Thus, the stability and high speed of the level conversion operation for outputting the signal to the outside can be realized.

【0039】また、信号振幅の小さな内部信号を信号振
幅の大きな外部出力信号の振幅に変換するためのレベル
変換回路にスタティックラッチを採用する場合に、トラ
ンジスタ特性の製造ばらつきによって誤動作を生じ難
く、そのスタティックラッチにおける反転ラッチ動作の
過渡応答時間を短縮することができる。
Further, when a static latch is employed as a level conversion circuit for converting an internal signal having a small signal amplitude into the amplitude of an external output signal having a large signal amplitude, a malfunction is unlikely to occur due to manufacturing variations in transistor characteristics. The transient response time of the inverting latch operation in the static latch can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る半導体集積回路の一例を示す回路
である。
FIG. 1 is a circuit showing an example of a semiconductor integrated circuit according to the present invention.

【図2】昇圧回路の一例を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram illustrating an example of a booster circuit.

【図3】入力信号inに対して昇圧された出力信号ou
tの波形の一例を示す波形図である。
FIG. 3 is an output signal ou boosted with respect to an input signal in;
FIG. 9 is a waveform chart showing an example of a waveform at t.

【図4】出力回路を高出力インピーダンス制御可能にし
た構成の一例を示すブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram illustrating an example of a configuration in which an output circuit is capable of high output impedance control.

【図5】レベル変換回路の別の例を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing another example of the level conversion circuit.

【図6】本発明者が検討したレベル変換回路及び出力回
路の説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of a level conversion circuit and an output circuit studied by the present inventors.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2 インバータ 3A ノアゲート回路 3B ナンドゲート回路 10 半導体集積回路 11 内部回路 12,12A,12B 昇圧回路 120,121 昇圧部 1313A,13B レベル変換回路 14 出力回路 M1,M2 負荷MOSトランジスタ M3,M4 差動入力MOSトランジスタ S1 内部回路の出力信号 in,−in 昇圧回路の入力信号 out,−out 昇圧回路の出力信号 S2 レベル変換回路の出力信号 C1,C2 容量素子 VDL 第1の電源電圧 VDH 第2の電源電圧 1, 2 Inverter 3A NOR gate circuit 3B NAND gate circuit 10 Semiconductor integrated circuit 11 Internal circuit 12, 12A, 12B Boost circuit 120, 121 Boost unit 1313A, 13B Level conversion circuit 14 Output circuit M1, M2 Load MOS transistor M3, M4 Differential input MOS transistor S1 Output signal of internal circuit in, -in Input signal of boost circuit out, -out Output signal of boost circuit S2 Output signal of level conversion circuit C1, C2 Capacitance element VDL First power supply voltage VDH Second power supply voltage

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の電源電圧を動作電源として動作さ
れる第1の回路と、前記第1の電源電圧よりもレベルの
高い第2の電源電圧を動作電源とし前記第1の回路から
出力される第1の信号の信号振幅を前記第2の電源電圧
に応ずる信号振幅に変換するレベル変換回路と、前記第
2の電源電圧を動作電源とし前記レベル変換回路から出
力される第2の信号の論理値に応じて外部出力動作を行
う出力回路とを含む半導体集積回路において、 前記第1の電源電圧を動作電源とし前記第1の信号のハ
イレベルを昇圧して前記レベル変換回路に供給する昇圧
回路を設けて成るものであることを特徴とする半導体集
積回路。
1. A first circuit which operates using a first power supply voltage as an operation power supply, and an output from the first circuit which uses a second power supply voltage higher in level than the first power supply voltage as an operation power supply A level conversion circuit for converting the signal amplitude of the first signal to be converted into a signal amplitude corresponding to the second power supply voltage, and a second signal output from the level conversion circuit using the second power supply voltage as an operation power supply And an output circuit that performs an external output operation in accordance with the logical value of (i), wherein the first power supply voltage is used as an operation power supply, and a high level of the first signal is boosted and supplied to the level conversion circuit. A semiconductor integrated circuit comprising a booster circuit.
【請求項2】 前記レベル変換回路は、相補信号が供給
される一対の差動入力トランジスタを含むスタティック
ラッチ形態を有し、その記憶ノードから前記第2の信号
を出力し、 前記昇圧回路は、第1の信号の相補信号の夫々に対し、
ローレベルからハイレベルへの変化に応じ昇圧容量を介
してハイレベルの電圧レベルを昇圧する昇圧部を有し、
各昇圧部の出力が前記レベル変換回路への相補信号とさ
れる、ものであることを特徴とする請求項1記載の半導
体集積回路。
2. The level conversion circuit has a static latch configuration including a pair of differential input transistors to which a complementary signal is supplied, and outputs the second signal from a storage node thereof. For each of the complementary signals of the first signal,
A booster that boosts a high-level voltage level via a booster capacitor according to a change from a low level to a high level;
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein an output of each booster is a complementary signal to said level conversion circuit.
【請求項3】 前記レベル変換回路はCMOSスタティ
ックラッチ回路であり、前記出力回路は前記CMOSス
タティックラッチ回路の一つの記憶ノードから出力され
る信号を第2の信号として入力するCMOSインバータ
回路であることを特徴とする請求項2記載の半導体集積
回路。
3. The level conversion circuit is a CMOS static latch circuit, and the output circuit is a CMOS inverter circuit that inputs a signal output from one storage node of the CMOS static latch circuit as a second signal. 3. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein:
【請求項4】 前記出力回路は直列接続された第1及び
第2の出力トランジスタを有し直列接続点を出力端子と
し、 前記第1及び第2の出力トランジスタの制御端子毎に前
記昇圧回路とを前記レベル変換回路とを有し、 更に、前記双方の昇圧回路へ前記第1の信号を供給する
経路に、前記第1及び第2のトランジスタに個別に供給
される第2の信号を、前記出力回路を高出力インピーダ
ンス状態に制御するレベルに選択的に強制するゲート手
段を設けて成るものであることを特徴とする請求項2記
載の半導体集積回路。
4. The output circuit has first and second output transistors connected in series, and a series connection point is used as an output terminal. Each of the control terminals of the first and second output transistors is connected to the booster circuit. And a second signal individually supplied to the first and second transistors in a path for supplying the first signal to both of the booster circuits. 3. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, further comprising gate means for selectively forcing a level to control the output circuit to a high output impedance state.
JP9173389A 1997-06-30 1997-06-30 Semiconductor integrated circuit Withdrawn JPH1127137A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9173389A JPH1127137A (en) 1997-06-30 1997-06-30 Semiconductor integrated circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9173389A JPH1127137A (en) 1997-06-30 1997-06-30 Semiconductor integrated circuit

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1127137A true JPH1127137A (en) 1999-01-29

Family

ID=15959500

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9173389A Withdrawn JPH1127137A (en) 1997-06-30 1997-06-30 Semiconductor integrated circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1127137A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001056158A1 (en) * 2000-01-27 2001-08-02 Hitachi, Ltd. Semiconductor device
WO2003103144A1 (en) * 2002-05-30 2003-12-11 ソニー株式会社 Level shift circuit, display, and mobile terminal
KR100474755B1 (en) * 2000-05-18 2005-03-08 엔이씨 일렉트로닉스 가부시키가이샤 Output circuit
CN109412578A (en) * 2018-12-27 2019-03-01 深圳讯达微电子科技有限公司 A kind of level translator in the offline driver of high speed
CN113098483A (en) * 2021-03-26 2021-07-09 上海芯问科技有限公司 High-speed fully-differential boost conversion circuit

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001056158A1 (en) * 2000-01-27 2001-08-02 Hitachi, Ltd. Semiconductor device
US6933765B2 (en) 2000-01-27 2005-08-23 Renesas Technology Corporation Semiconductor device
US7106123B2 (en) 2000-01-27 2006-09-12 Renesas Technology Corporation Semiconductor device with level converter having signal-level shifting block and signal-level determination block
US7199639B2 (en) 2000-01-27 2007-04-03 Renesas Technology Corp. Semiconductor device with level converter having signal-level shifting block and signal-level determination block
KR100474755B1 (en) * 2000-05-18 2005-03-08 엔이씨 일렉트로닉스 가부시키가이샤 Output circuit
WO2003103144A1 (en) * 2002-05-30 2003-12-11 ソニー株式会社 Level shift circuit, display, and mobile terminal
CN1316742C (en) * 2002-05-30 2007-05-16 索尼株式会社 Level shift circuit, display, and mobile terminal
US7224200B2 (en) 2002-05-30 2007-05-29 Sony Corporation Level shift circuit, display apparatus, and portable terminal
CN109412578A (en) * 2018-12-27 2019-03-01 深圳讯达微电子科技有限公司 A kind of level translator in the offline driver of high speed
CN109412578B (en) * 2018-12-27 2023-10-03 深圳讯达微电子科技有限公司 Level shifter in high-speed offline driver
CN113098483A (en) * 2021-03-26 2021-07-09 上海芯问科技有限公司 High-speed fully-differential boost conversion circuit
CN113098483B (en) * 2021-03-26 2022-04-08 上海芯问科技有限公司 High-speed fully-differential boost conversion circuit

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0765035B1 (en) Output circuit
JP3481121B2 (en) Level shift circuit
JPS63112893A (en) Semiconductor integrated circuit
US5872476A (en) Level converter circuit generating a plurality of positive/negative voltages
US6683445B2 (en) Internal power voltage generator
JPH10322192A (en) Level-converting circuit
JPH10173511A (en) Voltage level shifting circuit
JPH01235412A (en) Pulse signal generation circuit
US20030117207A1 (en) Level shifter having plurality of outputs
JP3652793B2 (en) Voltage conversion circuit for semiconductor devices
JPH1127137A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH0567963A (en) Integrated logic circuit
JP3601901B2 (en) Boost circuit
JPS6070822A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH03206709A (en) Power-on reset circuit
JP2000278112A (en) Output buffer circuit
JPH0237823A (en) Level shift circuit
JP2001068978A (en) Level shifter circuit
US20030222701A1 (en) Level shifter having plurality of outputs
JPH06291638A (en) Semiconductor unit
JP3224712B2 (en) Logic & level conversion circuit and semiconductor device
JP2004007831A (en) Level shift circuit
JP3369771B2 (en) Semiconductor integrated circuit
JPH10190435A (en) Semiconductor output circuit, cmos output circuit, terminal potential detection circuit and semiconductor device
JP3091601B2 (en) Buffer circuit

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20040907