JPH11259540A - Wiring design device - Google Patents

Wiring design device

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Publication number
JPH11259540A
JPH11259540A JP10056403A JP5640398A JPH11259540A JP H11259540 A JPH11259540 A JP H11259540A JP 10056403 A JP10056403 A JP 10056403A JP 5640398 A JP5640398 A JP 5640398A JP H11259540 A JPH11259540 A JP H11259540A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
via hole
data
stack
layer
via holes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10056403A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hironori Oikawa
洋典 及川
Takeshi Igarashi
毅 五十嵐
Kyoji Chiba
恭治 千葉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP10056403A priority Critical patent/JPH11259540A/en
Publication of JPH11259540A publication Critical patent/JPH11259540A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the wiring design manhour by stacking up the single via holes to define these-connected via holes as a new via hole and accordingly connecting together all inter layers of the wiring design by a single via hole placing job. SOLUTION: The names of layers to be connected to each other are inputted to select the via holes which are necessary to connect together plural specific interlayers. Then the lands which connect together the via holes are generated and stacked up in a designated form, and these stacked lands are stored as a new piece of via hole data. A computer 140 of this wiring design device consists primarily of a via hole library part 130, a stack via hole generation part 110 and a wiring part 120. The part 110 generates the stack via hole data based on the connecting layer data 114 given from a via hole arrangement part 122 and the data 112 in a single via hole data storing part 131. These stack via hole data are stored in a stack via hole data storing part 132.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】非貫通バイアホールを使用す
る多層プリント基板や、貫通バイアホールを持たないビ
ルドアップ基板の配線設計に好適な配線設計装置に関す
る。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a wiring design apparatus suitable for wiring design of a multilayer printed circuit board using non-penetrating via holes and a build-up substrate having no penetrating via holes.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年プリント基板は、製品の小型化、高
性能化に伴い、配線の高密度化が要求されている。これ
の対応策としてプリント基板の多層化がある。このとき
層間の配線を接続する際に必要なバイアホールは、貫通
バイアホールの場合、基板の多層化により厚みが増す
と、めっきを内部まで行えるよう穴径及びランド径を大
きくする必要があるため、層の増加分に対する配線収容
率が低下する。またプリント基板の両面に部品を搭載す
る際には、ランドが両外層に出てしまうため、高密度な
部品配置の障害となる。このため、例えば特開平6−2
07118号公報「印刷基板の製造方法」で知られてい
る様な、ブランドバイアホールやベリッドバイアホー
ル、ビルドアッププリント基板におけるビルドアップバ
イアホール等の非貫通バイアホールが考案された。
2. Description of the Related Art In recent years, printed wiring boards have been required to have a higher density of wiring in accordance with miniaturization and higher performance of products. As a countermeasure for this, there is a multilayer printed circuit board. At this time, the via hole necessary for connecting the wiring between layers is a through via hole.In the case of a through hole, when the thickness is increased due to the multilayering of the substrate, it is necessary to increase the hole diameter and land diameter so that plating can be performed to the inside. In addition, the wiring accommodation ratio with respect to the increase in the number of layers decreases. Further, when components are mounted on both sides of the printed circuit board, the lands are exposed on both outer layers, which hinders high-density component arrangement. For this reason, for example, JP-A-6-2
A non-penetrating via hole such as a brand via hole, a buried via hole, or a build-up via hole in a build-up printed circuit board has been devised as disclosed in Japanese Patent Application Publication No. 07118, “Method of Manufacturing Printed Circuit Board”.

【0003】しかしこれら非貫通バイアホールを使用し
て配線設計する場合、その多くは特定の配線層の間のみ
を接続するため、多層に渡り配線を接続する際には、複
数の非貫通バイアホールを配置する必要がある。
However, when wiring is designed using these non-penetrating via holes, most of them connect only between specific wiring layers. Therefore, when connecting wirings over multiple layers, a plurality of non-penetrating via holes are required. Need to be placed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】バイアホールを配置す
る際には、バイアホールとバイアホールとを他の配線の
障害にならない様に各々のバイアホールを最小許容間隔
で配置し、バイアホールとバイアホールとを接続するラ
インを配置する。配線設計中は、この作業を層を渡る毎
に行う必要があるため工数が掛かっていた。
When arranging via holes, each via hole is arranged at a minimum allowable interval so that the via hole and the via hole do not obstruct other wiring. A line connecting the hall is arranged. During wiring design, this work has to be performed every time a layer is crossed, so that it takes a lot of man-hours.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】層間の接続をする際の層
名を入力することにより、これに必要な複数の、特定の
層間を接続するバイアホールを選択し、バイアホール同
士を接続する形のランドを生成し、指定した形式で積上
げ、これを新たな一つのバイアホールデータとして格納
する。このバイアホールをスタックバイアホールと命名
するが、これにより、配線設計上は全て層間の接続を、
一回のバイアホールの配置作業で行うことが可能にな
り、バイアホールの配置の工数が低減する。
Means for Solving the Problems By inputting a layer name for connection between layers, a plurality of via holes for connecting specific layers required for the connection are selected, and the via holes are connected to each other. Is generated, stacked in a specified format, and stored as a new piece of via hole data. This via hole is named as a stack via hole.
This can be performed by a single via-hole arrangement operation, and the number of via-hole arrangement steps can be reduced.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明の実施例を図面に基づいて
説明する。
Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0007】図1に本発明の一実施例としてCADシス
テムの構成図を示す。
FIG. 1 shows a configuration diagram of a CAD system as one embodiment of the present invention.

【0008】図示CADシステムは、入力装置100、
コンピュータ140、出力装置150から成る。
The illustrated CAD system includes an input device 100,
It comprises a computer 140 and an output device 150.

【0009】入力装置100はコンピュータ140に設
計者の指示を伝達する。
[0009] The input device 100 transmits a designer's instruction to the computer 140.

【0010】入力装置150はコンピュータ140の出
力情報の表示をする。
The input device 150 displays output information of the computer 140.

【0011】コンピュータ140は、大きく分けて、バ
イアホールライブラリ部130とスタックバイアホール
生成部110と配線部120から成る。
The computer 140 is roughly divided into a via hole library unit 130, a stack via hole generation unit 110, and a wiring unit 120.

【0012】ところでここで述べるスタックバイアホー
ルとは、図6に示す様に、特定の層間を接続するバイア
ホールを積上げ、一つのバイアホールとして定義したデ
ータのことである。
By the way, the stacked via hole described here is data defined as one via hole by stacking via holes connecting specific layers as shown in FIG.

【0013】スタックバイアホール生成部110とスタ
ックバイアホールデータ格納部132が本発明による新
機能である。
The stack via hole generation unit 110 and the stack via hole data storage unit 132 are new functions according to the present invention.

【0014】以下にバイアホールライブラリ部130
と、スタックバイアホール生成部110と、配線部12
0の働きを説明する。
The via hole library section 130 will be described below.
, Stack via hole generation unit 110, wiring unit 12
The function of 0 will be described.

【0015】まずバイアホールライブラリ130には単
独バイアホールデータ格納部131とスタックバイアホ
ールデータ格納部132がある。
First, the via hole library 130 has a single via hole data storage unit 131 and a stacked via hole data storage unit 132.

【0016】そして単独バイアホールデータ格納部13
1には、単独バイアホールのデータ、即ち接続する層名
やランド径、穴径等のデータが格納されている。
The single via hole data storage 13
1 stores data of a single via hole, that is, data such as a layer name to be connected, a land diameter, and a hole diameter.

【0017】ところでここで述べる単独バイアホールと
はプリント基板上で、特定の層間の配線を接続させる基
本的なバイアホールのことで、例えば図4の400のビ
ルドアップバイアホールや401の非貫通バイアホール
のことである。
By the way, the single via hole described here is a basic via hole for connecting a wiring between specific layers on a printed circuit board. For example, a build-up via hole 400 shown in FIG. It is a hall.

【0018】一方スタックバイアホールデータ格納部1
32にはスタックバイアホールのデータが格納されてい
る。
On the other hand, the stack via hole data storage 1
Reference numeral 32 stores data of a stack via hole.

【0019】スタックバイアホール生成部110で、バ
イアホール配置部122からの接続層のデータ114
と、単独バイアホールデータ格納部131のデータ11
2を元にスタックバイアホールのデータ113を生成
し、スタックバイアホールデータ格納部132に格納す
る。
The stack via hole generation unit 110 connects the connection layer data 114 from the via hole arrangement unit 122.
And the data 11 in the single via hole data storage unit 131
The stack via hole data 113 is generated based on the data 2 and stored in the stack via hole data storage unit 132.

【0020】ところでここで述べる接続層とは、配線中
に、配線層を切り替えるためのバイアホールを配置す際
に入力する、切り替え前の配線層と切り替え後の配線層
のことである。例えば図4のバイアホールの400を配
置する際の接続層はA層からB層になる。一方配線部1
20では、内部にあるライン配置部121と、バイアホ
ール配置部122とでライン配置とバイアホール配置を
行う。
By the way, the connection layer described here means a wiring layer before switching and a wiring layer after switching, which are input when arranging via holes for switching wiring layers in wiring. For example, the connection layer when arranging the via hole 400 in FIG. 4 changes from the A layer to the B layer. Wiring section 1
At 20, a line arrangement and a via hole arrangement are performed by a line arrangement unit 121 and a via hole arrangement unit 122 provided inside.

【0021】そしてバイアホール配置の際の接続層入力
の時に、単独バイアホールで接続が可能であれば単独バ
イアホールデータ格納部131からデータ111を取り
出し、不可能な場合は、既に格納されているスタックバ
イアホールで接続可能であればスタックバイアホールデ
ータ格納部132からデータ115を取り出し、それら
では不可のため新たにスタックバイアホールを生成する
必要がある場合には、スタックバイアホール生成部11
0に接続層のデータ114を送り、これを受けたスタッ
クバイアホール生成部110がデータ113を作成し、
スタックバイアホールデータ格納部132に格納し、次
に格納されたスタックバイアホールのデータ115を取
り出し、バイアホールの配置を行う。
At the time of connection layer input at the time of via hole arrangement, if connection is possible with a single via hole, the data 111 is taken out from the single via hole data storage unit 131. If connection is impossible, data is already stored. If the stack via hole can be connected, the data 115 is extracted from the stack via hole data storage unit 132. If the stack 115 cannot be used and a new stack via hole needs to be generated, the stack via hole generation unit 11
0, the connection layer data 114 is sent, and the stack via hole generation unit 110 receiving the data 114 creates data 113,
The data is stored in the stack via hole data storage unit 132, and then the stored data 115 of the stacked via hole is taken out and the via holes are arranged.

【0022】次に図2から図7までを用いて、スタック
バイアホール生成部110におけるスタックバイアホー
ルの生成プロセスについて詳細に説明する。
Next, the process of generating a stack via hole in the stack via hole generation unit 110 will be described in detail with reference to FIGS.

【0023】なお説明のため図4に示すビルドアッププ
リント基板を題材として用いる。
For the sake of explanation, the build-up printed circuit board shown in FIG. 4 is used as a subject.

【0024】またこの時の前提条件として、バイアホー
ルの400と401のデータは、単独バイアホールデー
タ格納部131に入っているものとする。
As a precondition at this time, it is assumed that the data of via holes 400 and 401 are stored in the single via hole data storage unit 131.

【0025】なおこれらのデータの中身を図7の7aと
7bに示す。
The contents of these data are shown in FIGS. 7a and 7b.

【0026】ここで700はバイアホールの名前、70
1はランドの存在する層、702はランドの用途コー
ド、703はランドの形状、704はランドの大きさ、
705はドリルの形状、706はドリルの大きさ、70
7はデータの終了を表す。なおランドの用途コードと
は、1が信号層用のパッドのランド、2が電源及びグラ
ンド層用のクリアランスのランドである。
Where 700 is the name of the via hole, 70
1 is a layer in which a land exists, 702 is a land use code, 703 is a land shape, 704 is a land size,
705 is the shape of the drill, 706 is the size of the drill, 70
7 indicates the end of the data. The usage codes of the lands are: 1 is a land of a pad for a signal layer; and 2 is a land of a clearance for a power supply and a ground layer.

【0027】また以下に説明するスタックバイアホール
生成プロセスにより生成されたスタックバイアホールデ
ータが図7の7cである。
The stack via hole data generated by the stack via hole generation process described below is indicated by 7c in FIG.

【0028】次に以下図2のフローに沿って説明する。Next, the operation will be described with reference to the flow chart of FIG.

【0029】まず図2の接続層の入力200で接続層が
入力される。
First, a connection layer is input at a connection layer input 200 shown in FIG.

【0030】この入力は、ユーザーが配線部120のバ
イアホール配線部122を使ってバイアホールを配置す
る際に行われる。なお、説明を簡潔にするため、ここで
入力された接続層を渡るためには、新たにスタックバイ
アホールを生成する必要があるものとする。つまりこれ
は、図1に示すところの、接続層のデータ114が、バ
イアホール配置部122からスタックバイアホール生成
部110へ送られたということである。またここで入力
された接続層は図4のビルドアッププリント基板のビル
ドアップA層410からコアC層412とする。
This input is performed when a user arranges a via hole using the via hole wiring section 122 of the wiring section 120. In order to simplify the explanation, it is assumed that a new stack via hole needs to be generated in order to cross the connection layer input here. In other words, this means that the connection layer data 114 shown in FIG. 1 has been sent from the via hole arrangement unit 122 to the stack via hole generation unit 110. The connection layers input here are from the build-up A layer 410 to the core C layer 412 of the build-up printed circuit board in FIG.

【0031】次に処理201では接続に必要なバイアホ
ールを選択する。
Next, in process 201, via holes required for connection are selected.

【0032】この処理について図3のフローを用いて説
明する。
This processing will be described with reference to the flowchart of FIG.

【0033】まず入力300において開始層と終了層を
入力するが、これは既に処理200で入力されているA
層とC層の内、部品面に近いA層を開始層とし、終了層
はC層とする。次の処理301では開始層のA層を検索
層として設定する。
First, a start layer and an end layer are inputted at an input 300.
Of the layers and the C layer, the A layer close to the component surface is defined as a start layer, and the end layer is defined as a C layer. In the next process 301, the start layer A is set as the search layer.

【0034】次に302でバイアホールの検索をする
が、部品面に近いランドが、検索層であるA層に存在す
るバイアホールを、単独バイアホールデータ格納部13
1から検索する。この結果バイアホールの400が選択
される。
Next, at 302, a search for via holes is performed. When a land close to the component surface is located in the A layer, which is a search layer, the via hole is stored in the single via hole data storage unit 13.
Search from 1. As a result, via hole 400 is selected.

【0035】次に処理303では、処理302で選択さ
れたバイアホールの400の、半田面に近いランドが何
層にあるのか調べ、検索層として設定する。
Next, in step 303, the number of lands near the solder surface of the via hole 400 selected in step 302 is checked and set as a search layer.

【0036】この結果B層が検索層として設定される。As a result, the layer B is set as a search layer.

【0037】次の処理304では303で設定された検
索層が終了層と等しいか調べ、等しくなければ処理30
2に戻り再びバイアホールの検索を行なう。
In the next process 304, it is checked whether or not the search layer set in 303 is equal to the end layer.
Return to 2 and search for via holes again.

【0038】現在の検索層はB層、終了層はC層なので
再び処理302に戻る。
Since the current search layer is the layer B and the end layer is the layer C, the process returns to the step 302 again.

【0039】処理302では、今度は検索層はB層でバ
イアホールの検索が行われ、その結果今度はバイアホー
ルの401が選択される。
In the process 302, a search for a via hole is performed this time in the search layer B, and as a result, a via hole 401 is selected this time.

【0040】処理303では検索層がC層に設定され、
処理304では検索層と終了層が共にC層のため、処理
が終了する。
In the process 303, the search layer is set to the C layer,
In the process 304, since both the search layer and the end layer are the C layer, the process ends.

【0041】よって以上の結果、A層とC層の接続に必
要なバイアホールの400と401が選択される。この
400と401は図7の7cの710に格納される。
As a result, via holes 400 and 401 required for connection between the layer A and the layer C are selected. These 400 and 401 are stored in 710 of 7c in FIG.

【0042】次の処理202では処理201で選択され
たバイアホールを配置する。
In the next process 202, the via hole selected in the process 201 is arranged.

【0043】配置の際には、バイアホールを積み上げる
形式を図6のスタック形式から選択するが、この選択は
あらかじめ決めておくか、バイアホール配置時に選択で
きるようにしておく。
At the time of arrangement, the type of stacking via holes is selected from the stack type shown in FIG. 6, and this selection is determined in advance or can be selected at the time of via hole arrangement.

【0044】また図6の積上げ形式によるバイアホール
の配置について詳しく説明する。6aはZ方向に進む従
い、X方向にプラスとマイナスへ交互に移動しながらバ
イアホールを配置し、6aはZ方向に進む従い、X方向
にプラス、Y方向にプラス、X方向にマイナス、Y方向
にマイナス、という四つの移動をくり返しながらバイア
ホールを配置し、6cはZ方向に進む従い、常にX方向
にプラスへ移動しながらバイアホールを配置していく。
The arrangement of the via holes in the stacking format shown in FIG. 6 will be described in detail. 6a arranges via holes while moving in the X direction alternately in the plus and minus directions as it proceeds in the Z direction, and 6a follows in the Z direction as plus in the X direction, plus in the Y direction, minus in the X direction, and Y. The via holes are arranged while repeating the four movements of minus in the direction, and the via holes 6c are arranged while constantly moving in the plus direction in the X direction as they proceed in the Z direction.

【0045】またここでいうZ方向とは基板の厚みの方
向であり、X方向、Y方向とは基板面の方向である。プ
ラス方向及びマイナス方向の移動量はバイアホール−バ
イアホール間の最小許容間隔420と同じである。この
X方向、Y方向の値は図7の7cの711に格納され
る。
Here, the Z direction is the direction of the thickness of the substrate, and the X direction and the Y direction are the directions of the substrate surface. The movement amounts in the plus direction and the minus direction are the same as the minimum allowable distance 420 between via holes. The values in the X and Y directions are stored in 711 of 7c in FIG.

【0046】次の処理203では、スタックバイアホー
ルランドの生成を行う。
In the next process 203, a stack via hole land is generated.

【0047】なおスタックバイアホールランドとは図6
の600に示す様に、バイアホールとバイアホールを積
上げたときの接合部のランドの事である。
FIG. 6 shows the stack via hole land.
As shown by reference numeral 600, this is a land at the junction when the via holes are stacked.

【0048】なお600では積上げた状態を分かり易く
説明するため、2つのランドとその接続で示してある
が、スタックバイアホールランドのデータ上では1つの
ランドとして定義する。
In FIG. 600, two lands and their connections are shown for easy understanding of the stacked state, but are defined as one land on the data of the stack via hole land.

【0049】この処理では、まず処理201で選択され
た400と401が共に存在する層を調べる。その結果
B層を選択する。ここでB層における400と401の
ランドと、バイアホール−バイアホール間の最小許容間
隔420から、B層におけるスタックバイアホールラン
ドを生成する。なおここで述べるバイアホール−バイア
ホール間の最小許容間隔とは、バイアホールとバイアホ
ールとが積上げ可能な、製造上許される最も近い距離の
ことである。
In this process, first, a layer in which both 400 and 401 selected in the process 201 exist is checked. As a result, the layer B is selected. Here, a stacked via hole land in the B layer is generated from the lands 400 and 401 in the B layer and the minimum allowable interval 420 between via holes. Note that the minimum allowable interval between via holes described herein is the closest manufacturing distance at which via holes can be stacked.

【0050】この処理で生成されたスタックバイアホー
ルランドを図5に示す。
FIG. 5 shows the stack via hole land generated by this processing.

【0051】500の形状は、400と401をバイア
ホール−バイアホール間の最小許容間隔で配置し、それ
ぞれのランドの中心を、小さい方のランド径、即ち40
0のランド径と同じ幅のラインで結んだものと同じ形状
である。
The shape of 500 is such that 400 and 401 are arranged at the minimum allowable interval between via holes, and the center of each land is set to the smaller land diameter, that is, 40 mm.
It has the same shape as that connected by a line having the same width as the land diameter of 0.

【0052】またこのランドのデータ上の製造は、先に
述べた通り、400と401の二つのランドとラインで
構成されているのではなく、一つのランドとして定義す
る。
As described above, the manufacture of the land on the data is not defined by two lands and lines of 400 and 401, but is defined as one land.

【0053】また501は500の形状に沿って、電源
またはグランド層のベタ銅箔とのクリアランス値の幅の
ラインで縁取りした形状であり、これは電源及びグラン
ド層、即ちガーバーデータ出力時のネガティブ層用に使
用する。この処理203により生成されたスタックバイ
アホールランド名は図7の7cの714に格納され、同
時に用途コードも713に格納される。
Reference numeral 501 denotes a shape which is bordered by a line having a width of the clearance value between the solid copper foil of the power supply or ground layer and the power supply or ground layer, that is, the negative at the time of Gerber data output. Used for layers. The stack viahole land name generated by this process 203 is stored in 714 of 7c in FIG.

【0054】以上200〜203の処理により、図7の
単独バイアホールデータ7a及び7bからスタックバイ
アホールのデータ7cを生成することができる。
By the processes 200 to 203 described above, the data 7c of the stacked via hole can be generated from the single via hole data 7a and 7b of FIG.

【0055】そして図1の説明で述べた様に、スタック
バイアホールのデータ7cを、スタックバイアホールデ
ータ格納部132に格納することで、一つのバイアホー
ルデータとして利用することが可能となる。
Then, as described in the description of FIG. 1, by storing the stack via hole data 7c in the stack via hole data storage section 132, it becomes possible to use the data as one via hole data.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば単
独バイアホールを積上げ、各々を接続したものをまた新
たな一つのバイアホールとすることで、配線設計上全て
の層間の接続が一回のバイアホールの配置作業で可能に
なるので配線設計工数を低減することが出来る。
As described above, according to the present invention, a single via hole is stacked, and a connected via hole is formed as one new via hole, so that connection between all layers is one in terms of wiring design. Since the number of via hole arrangement operations becomes possible, wiring man-hours can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例である配線設計装置の全体構
成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing an overall configuration of a wiring design apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】スタックバイアホールを生成する際の処理を説
明するフロー図である。
FIG. 2 is a flowchart illustrating processing when a stack via hole is generated.

【図3】接続に必要なバイアホールを選択する際の処理
を説明するフロー図である。
FIG. 3 is a flowchart illustrating a process when selecting a via hole required for connection.

【図4】ビルドアッププリント基板の一例である。FIG. 4 is an example of a build-up printed circuit board.

【図5】スタックバイアホールランドの一例である。FIG. 5 is an example of a stack via hole land.

【図6】スタックバイアホールの一例である。FIG. 6 is an example of a stacked via hole.

【図7】各種バイアホールデータの一例である。FIG. 7 is an example of various via hole data.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

111…バイアホール配置部へ送られる単独バイアホー
ルのデータ、112…スタックバイアホール生成部へ送
られる単独バイアホールのデータ、113…スタックバ
イアホールデータ格納部へ送られるスタックバイアホー
ルのデータ、114…接続層のデータ、115…バイア
ホール配置部へ送られるスタックバイアホールのデー
タ、400…ビルドアップバイアホール、 401…非
貫通バイアホール、420…バイアホール−バイアホー
ル間の最小許容間隔、500…ポジティブ層用のスタッ
クバイアホールランド、501…ネガティブ層用のスタ
ックバイアホールランド、600…バイアホールとバイ
アホールをスタックしたときの接合部、7a…バイアホ
ール400のデータ、 7b…バイアホール401のデ
ータ、7c…バイアホール400と401を元に生成し
たスタックバイアホールのデータ。
111: Data of a single via hole sent to the via hole arrangement unit; 112: Data of a single via hole sent to the stack via hole generation unit; 113: Data of a stack via hole sent to the stack via hole data storage unit; Connection layer data, 115: Stack via hole data sent to via hole arrangement unit, 400: Build-up via hole, 401: Non-penetrating via hole, 420: Minimum allowable distance between via hole and via hole, 500: Positive Stack via hole lands for layers, 501: stack via hole lands for negative layers, 600: junctions when via holes are stacked, 7a: data for via holes 400, 7b: data for via holes 401, 7c ... Viaho Data of the stack via holes generated based on the Le 400 and 401.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】バイアホールのデータを格納する機能とバ
イアホールを配置する機能を備えた配線設計装置におい
て、層間の接続をする際の層名を入力する機能と、一種
類のバイアホールだけでは接続できない層間を接続する
ために必要な複数のバイアホールを選択する機能と、選
択したバイアホール同士を接続するランドを生成する機
能と、選択したバイアホールを指定した形式で積上げる
機能と、選択したバイアホール同士を接続するランドと
バイアホールを指定した形式で積上げたものを一つのバ
イアホールとしてデータを格納する機能を備えることを
特徴とする配線設計装置。
In a wiring design apparatus having a function of storing data of via holes and a function of arranging via holes, a function of inputting a layer name when connecting between layers and a function of inputting only one kind of via holes are required. A function to select multiple via holes required to connect layers that cannot be connected, a function to generate lands connecting the selected via holes, a function to stack the selected via holes in a specified format, and a selection A wiring design device having a function of storing data as a single via hole by stacking lands connecting via holes and via holes in a specified format.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6886151B2 (en) * 2001-05-21 2005-04-26 Nec Corporation Design method for multilayer wiring board
JP2018200625A (en) * 2017-05-29 2018-12-20 株式会社図研 Design support device, design support method and program

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