JPH11255865A - Resin composition, resist ink composition for flexible printed circuit board and cured product thereof - Google Patents

Resin composition, resist ink composition for flexible printed circuit board and cured product thereof

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JPH11255865A
JPH11255865A JP7510898A JP7510898A JPH11255865A JP H11255865 A JPH11255865 A JP H11255865A JP 7510898 A JP7510898 A JP 7510898A JP 7510898 A JP7510898 A JP 7510898A JP H11255865 A JPH11255865 A JP H11255865A
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JP
Japan
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flexible printed
resin composition
composition
pts
cured product
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JP7510898A
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Japanese (ja)
Inventor
Minoru Yokoshima
実 横島
Tetsuo Okubo
哲男 大久保
Kazunori Sasahara
数則 笹原
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Nippon Kayaku Co Ltd
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Nippon Kayaku Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a composition excellent in flexibility, adherence, heat resistance and the like by admixing an epoxy group-containing thermoplastic elastomer, an aromatic glycidyl ether compound and a photo cation polymerization initiator. SOLUTION: There is provided a composition comprising 3-70 pts.wt. of an epoxy group-containing thermoplastic elastomer (A), 30-97 pts.wt. of an aromatic glycidyl ether compound (B), 0.01-30 pts.wt., based on 100 pts.wt. of (A+B), of a photo cation polymerization initiator (C) such as a diaryl iodonium salt and the like, further 0-50 wt.%, based on the component C, of a photosensitizer such as 9,10-phenylanthracene and the like, not more than 30 wt.%, based on (A+B+C), of an amine-based crosslinking agent, inorganic filler, a colorant and the like. This composition is coated to a thickness of 10-160 μm on a circuit board by the screen printing method or the like and dried to obtain a coated film, which is irradiated with ultraviolet rays with a negative film contacted directly therewith, and subsequently the unexposed part is immersed in a developer to effect development followed by heat treatment at 100-200 deg.C to obtain a printed circuit board.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂組成物、フレ
キシブルプリント配線板用レジストインキ組成物及びそ
の硬化物に関する。
The present invention relates to a resin composition, a resist ink composition for a flexible printed wiring board, and a cured product thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、省資源、省エネルギー、作業性向
上、生産性向上などの理由により各種分野において、紫
外線硬化型組成物が多用されてきている。プリント配線
板加工分野においても同様の理由によりソルダーレジス
トインキ、マーキングインキなど種々のインキが従来の
熱硬化型組成物から紫外線硬化型組成物へと移行した。
例えば、特公昭56−40329号公報には、エポキシ
樹脂−光重合性α,β−不飽和カルボン酸付加生成物と
二塩基性カルボン酸無水物との反応生成物、光重合単量
体および光重合開始剤を含有する硬化性感光材料が記載
されている。リジット(硬質)基板と呼ばれる一般のプ
リント配線板は、エレクトロニクスの進歩に伴う高密度
化実現のため、ソルダーレジストに対しても高精度、高
解像性の要求が高まった。従来のスクリーン印刷法では
パターン精度が得られない為、液状フォトレジスト法が
提案され、現在50%以上導入されている。フレキシブ
ルプリント配線板に保護層を設ける場合、これまで、カ
バーフィルムと呼ばれるポリイミドフィルムをパターン
に合わせた金型で打ち抜いたのち接着剤を用いて張り付
ける方法や、紫外線硬化型または熱硬化型のソルダーレ
ジストインキをスクリーン印刷法により塗布する方法が
知られている。
2. Description of the Related Art In recent years, ultraviolet curable compositions have been widely used in various fields for reasons such as resource saving, energy saving, workability improvement and productivity improvement. In the field of printed wiring board processing, for the same reason, various inks such as solder resist inks and marking inks have been transferred from conventional thermosetting compositions to ultraviolet curable compositions.
For example, JP-B-56-40329 discloses a reaction product of an epoxy resin-photopolymerizable α, β-unsaturated carboxylic acid addition product and a dibasic carboxylic anhydride, a photopolymerizable monomer and a photopolymerizable monomer. A curable photosensitive material containing a polymerization initiator is described. For a general printed wiring board called a rigid (hard) substrate, demand for high precision and high resolution has been increased for a solder resist in order to realize a high density with progress of electronics. Since the pattern accuracy cannot be obtained by the conventional screen printing method, a liquid photoresist method has been proposed, and 50% or more is currently introduced. Until now, when providing a protective layer on a flexible printed wiring board, a method of punching a polyimide film called a cover film with a mold that matches the pattern and then attaching it with an adhesive, or an ultraviolet-curing or thermosetting solder A method of applying a resist ink by a screen printing method is known.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】フレキシブルプリント
配線板の分野でも高密度化が近年要求されてきている。
従来の液状フォトソルダーレジストでは、パターン精度
は得られるものの、塗膜が硬くポリイミドとの密着性が
悪いため、十分な可撓性や耐折性が得られず、また、可
撓性はある程度得られるものの作業性が悪く耐薬品性、
耐熱性が不十分であり、問題である。
In the field of flexible printed wiring boards, higher densities have recently been required.
With conventional liquid photosolder resists, although pattern accuracy can be obtained, the coating is hard and the adhesion to polyimide is poor, so that sufficient flexibility and folding resistance cannot be obtained, and a certain degree of flexibility can be obtained. But poor workability and chemical resistance,
Heat resistance is insufficient, which is a problem.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するため鋭意研究の結果、エポキシ基含有熱可
塑性エラストマーを使用することによって、可撓性、耐
折性、密着性、耐薬品性、耐熱性等に優れた、フレキシ
ブルプリント配線板用レジストインキ組成物に適する樹
脂組成物及びその硬化物を見出した。即ち、本発明は、
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, by using an epoxy group-containing thermoplastic elastomer, flexibility, folding resistance, adhesion, A resin composition excellent in chemical resistance, heat resistance and the like, which is suitable for a resist ink composition for a flexible printed wiring board, and a cured product thereof have been found. That is, the present invention

【0005】(1)エポキシ基含有熱可塑性エラストマ
ー(A)、芳香族グリシジルエーテル化合物(B)及び
光カチオン重合開始剤(C)を含有してなることを特徴
とする樹脂組成物、(2)フレキシブルプリント配線板
のレジストインキ用である(1)記載の樹脂組成物、
(3)(1)又は(2)に記載の樹脂組成物の硬化物、
(4)フレキシブルプリント配線板用レジストである
(3)記載の硬化物、(5)(3)又は(4)記載の硬
化物層を有するフレキシブルプリント配線板、に関す
る。
(1) A resin composition comprising an epoxy group-containing thermoplastic elastomer (A), an aromatic glycidyl ether compound (B) and a cationic photopolymerization initiator (C), (2) The resin composition according to (1), which is used for a resist ink for a flexible printed wiring board,
(3) a cured product of the resin composition according to (1) or (2),
(4) A cured product according to (3), which is a resist for a flexible printed wiring board, and (5) a flexible printed wiring board having a cured product layer according to (3) or (4).

【0006】本発明に用いられるエポキシ基含有熱可塑
性エラストマー(A)としては、例えば、スチレンとブ
タジエンを共重合させ、次いで過酢酸等の酸化剤を用い
て前記共重合体中の二重結合を酸化してエポキシ化した
ものがあげられる。このエラストマーは、市場より容易
に入手することができる。例えば、ダイセル化学工業
(株)製のエポフレンド(スチレンとブタジエンとスチ
レンブロック共重合体のエポキシ化物)があげられる。
具体的には、例えばエポフレンドA1005(ブタジエ
ン/スチレン重量比、60/40、エポキシ当量180
0〜2100)、エポフレンドA1010(ブタジエン
/スチレン重量比、60/40、エポキシ当量950〜
1050)、エポフレンドA1020(ブタジエン/ス
チレン重量比60/40、エポキシ当量480〜54
0)等である。
As the epoxy group-containing thermoplastic elastomer (A) used in the present invention, for example, styrene and butadiene are copolymerized, and then the double bond in the copolymer is formed using an oxidizing agent such as peracetic acid. Those oxidized and epoxidized. This elastomer can be easily obtained from the market. For example, Epofriend (an epoxidized product of styrene, butadiene, and a styrene block copolymer) manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. may be used.
Specifically, for example, Epofriend A1005 (butadiene / styrene weight ratio, 60/40, epoxy equivalent 180
0-2100), Epofriend A1010 (butadiene / styrene weight ratio, 60/40, epoxy equivalent 950-
1050), Epofriend A1020 (butadiene / styrene weight ratio 60/40, epoxy equivalent 480-54)
0) and so on.

【0007】本発明に用いられる芳香族グリシジルエー
テル化合物(B)としては、例えばエピコート100
1、1002、1004(いずれも油化シェルエポキシ
(株)製)、エポミックR−301、R−302、R−
304(いずれも三井石油化学工業(株)製)等のビス
フェノールA型エポキシ樹脂、エピコート4001、4
002、4004(いずれも油化シェルエポキシ(株)
製)等のビスフェノールF型エポキシ樹脂、前記、ビス
フェノールA型エポキシ樹脂あるいはビスフェノールF
型エポキシ樹脂の分子中の水酸基に更にエピクロルヒド
リンを反応させてグリシジルエーテル化した化合物、日
本化薬(株)製のNC−3000P等のビスフェニル変
性エポキシ樹脂、NC−7000、NC−7300(い
ずれも日本化薬(株)製)等のナフタレン変性エポキシ
樹脂、日本化薬(株)製、EPPN−201、EOCN
−102S、EOCN−103S、EOCN−104
S、EOCN−1020、BREN−S(いずれも日本
化薬(株)製)等のノボラック型エポキシ樹脂、YX−
4000、YL−6056(いずれも油化シェルエポキ
シ(株)製)等のビフェノール型エポキシ樹脂等を挙げ
ることができる。これらの芳香族グリシジルエーテル化
合物(B)は、単独で又は2種類以上組み合わせて用い
られる。
The aromatic glycidyl ether compound (B) used in the present invention includes, for example, Epicoat 100
1, 1002, 1004 (all manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), Epomic R-301, R-302, R-
Bisphenol A type epoxy resin such as No. 304 (all manufactured by Mitsui Petrochemical Industries, Ltd.), Epicoat 4001, 4
002, 4004 (both Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.)
Bisphenol F type epoxy resin, the above-mentioned bisphenol A type epoxy resin or bisphenol F
A compound obtained by further reacting epichlorohydrin with a hydroxyl group in a molecule of a type epoxy resin to form a glycidyl ether, a bisphenyl-modified epoxy resin such as NC-3000P manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., NC-7000, NC-7300 (all Naphthalene-modified epoxy resin such as Nippon Kayaku Co., Ltd., EPPN-201, EOCN by Nippon Kayaku Co., Ltd.
-102S, EOCN-103S, EOCN-104
Novolak-type epoxy resins such as S, EOCN-1020, BREN-S (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), YX-
Biphenol type epoxy resins such as 4000 and YL-6056 (both manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) can be used. These aromatic glycidyl ether compounds (B) are used alone or in combination of two or more.

【0008】本発明に用いられる光カチオン重合開始剤
(C)としては、例えばジアリールヨードニウム塩、ト
リアリールスルホニウム塩、ジアルキルフェナシルスル
ホニウム塩、ジアルキル−4−ヒドロキシフェニルスル
ホニウム塩等が挙げられる。ジアリールヨードニウム塩
としては、例えばジフェニルヨードニウムヘキサフロロ
ホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフロロア
ンチモネート、ジフェニルヨードニウムテトラキスペン
タフルオロフェニルボレート等が挙げられる。
Examples of the cationic photopolymerization initiator (C) used in the present invention include diaryliodonium salts, triarylsulfonium salts, dialkylphenacylsulfonium salts, and dialkyl-4-hydroxyphenylsulfonium salts. Examples of the diaryliodonium salt include diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium tetrakispentafluorophenyl borate, and the like.

【0009】トリアリールスルホニウム塩としては、例
えばトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェ
ート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチ
モネート、4,4′−ビス〔ジフェニルスルフォニオ〕
フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネ
ート、4,4′−ビス〔ジフェニルスルフォニオ〕フェ
ニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート、
4,4′−ビス〔ジ(β−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ルスルフォニオ〕フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフ
ルオロアンチモネート、7−ジ(p−トルイル)スルフ
ォニオ−2−イソプロピル−チオキサントン−ヘキサフ
ルオロアンチモネート、7−ジ(p−トルイル)スルフ
ォニオ−2−イソプロピル−チオキサントン−ヘキサフ
ルオロホスフェート、4−ジ(p−トルイル)スルフォ
ニオ−4′−p−ter−ブチルフェニルカボニル−ジ
フェニルスルフィド−ヘキサフルオロアンチモネート、
4−ジ(p−トルイル)フルフォニオ−4′−p−te
r−ブチルフェニルカルボニル−ジフェニルスルフィド
−テトラキスペンタフルオロフェニルボレート等が挙げ
られる。
As the triarylsulfonium salt, for example, triarylsulfonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, 4,4'-bis [diphenylsulfonio]
Phenylsulfide-bis-hexafluoroantimonate, 4,4'-bis [diphenylsulfonio] phenylsulfide-bis-hexafluorophosphate,
4,4′-bis [di (β-hydroxyethoxy) phenylsulfonio] phenylsulfide-bis-hexafluoroantimonate, 7-di (p-toluyl) sulfonio-2-isopropyl-thioxanthone-hexafluoroantimonate, 7-di (p-toluyl) sulfonio-2-isopropyl-thioxanthone-hexafluorophosphate, 4-di (p-toluyl) sulfonio-4′-p-ter-butylphenylcabonyl-diphenylsulfide-hexafluoroantimonate,
4-di (p-toluyl) fluphonio-4'-p-te
r-butylphenylcarbonyl-diphenylsulfide-tetrakispentafluorophenyl borate and the like.

【0010】ジアルキルフェナシルスルホニウム塩とし
ては、例えばジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフ
ルオロアンチモネート、ジエチルフェナシルスルホニウ
ムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。
Examples of the dialkylphenacylsulfonium salt include dimethylphenacylsulfonium hexafluoroantimonate, diethylphenacylsulfonium hexafluorophosphate and the like.

【0011】ジアルキル−4−ヒドロキシフェニルスル
ホニウム塩としては、例えばジメチル−4−ヒドロキシ
フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
ジエチル−4−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサ
フルオロホスフェート等が挙げられる。
The dialkyl-4-hydroxyphenylsulfonium salt includes, for example, dimethyl-4-hydroxyphenylsulfonium hexafluoroantimonate,
Diethyl-4-hydroxyphenylsulfonium hexafluorophosphate and the like.

【0012】本発明の樹脂組成物を構成する(A)成
分、(B)成分及び(C)成分の使用割合は、(A)+
(B)の総量を100重量部とした場合、(A)成分は
3〜70重量部が好ましく、特に好ましくは5〜50重
量部であり、(B)成分は、30〜97重量部、特に好
ましくは50〜95重量部である。(C)成分は、
(A)+(B)の総量100重量部に対して、0.01
〜30重量部が好ましく、特に好ましくは0.05〜1
0重量部である。
The proportions of the components (A), (B) and (C) constituting the resin composition of the present invention are (A) +
When the total amount of (B) is 100 parts by weight, component (A) is preferably from 3 to 70 parts by weight, particularly preferably from 5 to 50 parts by weight, and component (B) from 30 to 97 parts by weight, in particular Preferably it is 50 to 95 parts by weight. The component (C)
(A) + (B) 100 parts by weight of the total amount, 0.01
To 30 parts by weight, particularly preferably 0.05 to 1 part by weight.
0 parts by weight.

【0013】本発明に用いられる光カチオン重合開始剤
(C)に光増感剤を併用することにより、さらに感光性
を向上することができる。光増感剤としては、例えば、
置換フェノチアジンを含むフェノチアジン類、2−エチ
ル−9,10−ジメトキシアントラセン、9,10−ジ
クロロアントラセン、9,10−フェニルアントラセ
ン、1−クロロアントラセン、2−メチルアントラセ
ン、9−メチルアントラセン、2−t−ブチルアントラ
セン、アントラセン、1,2−ベンズアントラセン、
1,2,3,4−ジベンズアントラセン、1,2,5,
6−ジベンズアントラセン、1,2,7,8−ジベンズ
アントラセン、9,10−ジメトキシジメチルアントラ
セン、ペリレン、ピレン、9−フルオレノン等が挙げら
れる。光増感剤の使用量は、光カチオン重合開始剤
(C)に対して0〜50重量%とするのが好ましく、特
に好ましくは0.5〜30重量%である。
The photosensitivity can be further improved by using a photosensitizer in combination with the cationic photopolymerization initiator (C) used in the present invention. As the photosensitizer, for example,
Phenothiazines including substituted phenothiazines, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-dichloroanthracene, 9,10-phenylanthracene, 1-chloroanthracene, 2-methylanthracene, 9-methylanthracene, 2-t -Butyl anthracene, anthracene, 1,2-benzanthracene,
1,2,3,4-dibenzanthracene, 1,2,5
6-dibenzanthracene, 1,2,7,8-dibenzanthracene, 9,10-dimethoxydimethylanthracene, perylene, pyrene, 9-fluorenone and the like. The use amount of the photosensitizer is preferably 0 to 50% by weight, particularly preferably 0.5 to 30% by weight, based on the cationic photopolymerization initiator (C).

【0014】本発明の樹脂組成物では、更に、アミンベ
ースの架橋剤、例えばメラミン類を併用するのが好まし
い。好ましいアミンベースの架橋剤としては、例えばメ
ラミンホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン−ホル
ムアルデヒド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂等が挙
げられ、これらを単独で又は2種以上組み合わせて用い
ることができる。特に適当なアミンベースの架橋剤とし
ては、メラミンホルムアルデヒド樹脂では、例えばサイ
メル300、301、303、350、370、38
0、1116及び1130等が、ベンゾグアナミン−ホ
ルムアルデヒド樹脂では、例えばサイメル1123及び
1125等が、尿素−ホルムアルデヒド樹脂では、例え
ばビートル60、65及び80等が挙げられる(いずれ
もアメリカン・サイアナミド(American Cy
anamid)社製)。他にも多くの類似のアミンベー
スの架橋剤が市販されている。
In the resin composition of the present invention, it is preferable to further use an amine-based crosslinking agent such as melamine. Preferred amine-based crosslinking agents include, for example, melamine formaldehyde resin, benzoguanamine-formaldehyde resin, urea-formaldehyde resin and the like, and these can be used alone or in combination of two or more. Particularly suitable amine-based crosslinkers include, for example, Cymel 300, 301, 303, 350, 370, 38 for melamine formaldehyde resins.
And benzoguanamine-formaldehyde resins, for example, Cymel 1123 and 1125, and urea-formaldehyde resins, for example, beetles 60, 65, and 80 (all of which are American Cyanamid (American Cyanamid)).
anamid). Many other similar amine-based crosslinkers are commercially available.

【0015】前記のアミンベースの架橋剤のうち、メラ
ミン類がより好ましく、メラミンホルムアルデヒド樹
脂、即ち、メラミンとホルムアルデヒドとの反応生成物
が特に好ましい。これらの樹脂は、通常水酸基がアルキ
ルエーテルとなっており、例えばトリアルキロールメラ
ミン及びヘキサアルキロールメラミンのようなエーテル
である。アルキル基は、炭素原子を1〜8個有するもの
が好ましく、メチル基がより好ましい。これら架橋剤の
使用量は、前記(A)、(B)及び(C)成分の総量に
対して30重量%以下とすることが好ましい。
Of the above amine-based crosslinking agents, melamines are more preferred, and melamine formaldehyde resins, ie, reaction products of melamine and formaldehyde, are particularly preferred. In these resins, the hydroxyl group is usually an alkyl ether, for example, ethers such as trialkylol melamine and hexaalkylol melamine. The alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a methyl group. The use amount of these crosslinking agents is preferably 30% by weight or less based on the total amount of the components (A), (B) and (C).

【0016】本発明の樹脂組成物には、更に、密着性、
硬度などの特性を向上する目的で、必要に応じて、硫酸
バリウム、チタン酸バリウム、酸化ケイ素粉、微粉状酸
化ケイ素、無定形シリカ、タルク、クレー、炭酸マグネ
シウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、雲母粉、
水酸化アルミニウム、三酸化アンチモン、硼酸バリウム
等の無機充填剤を使用できる。その使用量は、本発明の
組成物中の0〜60重量%が好ましく、特に好ましくは
0〜40重量%である。
The resin composition of the present invention further has an adhesive property,
Barium sulfate, barium titanate, silicon oxide powder, finely divided silicon oxide, amorphous silica, talc, clay, magnesium carbonate, calcium carbonate, calcium oxide, aluminum oxide, mica powder for the purpose of improving properties such as hardness ,
Inorganic fillers such as aluminum hydroxide, antimony trioxide and barium borate can be used. The amount used is preferably from 0 to 60% by weight, particularly preferably from 0 to 40% by weight, in the composition of the present invention.

【0017】更に、必要に応じて、フタロシアニン・ブ
ルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリー
ン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化
チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラック等の着
色剤、アスベスト、オルベン、ベントン、モンモリロナ
イト等の増粘剤、シリコーン系、フッ素および高分子系
等の消泡剤および/またはレベリング剤およびシランカ
ップリング剤等の密着性付与イオン捕捉剤のような各種
の添加剤類を用いることができる。これらの添加剤等を
使用する場合、その使用量は、例えば、本発明の組成物
中、それぞれ0.5〜30重量%程度が一応の目安であ
るが、使用目的に応じ適宜増減し得る。
Further, if necessary, coloring agents such as phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodine green, disazo yellow, crystal violet, titanium oxide, carbon black and naphthalene black, asbestos, orben, benton, montmorillonite and the like can be used. Various additives such as a thickener, an antifoaming agent such as a silicone type, a fluorine type and a polymer type, and / or an adhesion-imparting ion trapping agent such as a leveling agent and a silane coupling agent can be used. When these additives and the like are used, their use amounts are, for example, about 0.5 to 30% by weight in the composition of the present invention, respectively, but may be appropriately increased or decreased according to the purpose of use.

【0018】本発明の樹脂組成物は、前記、(A)、
(B)及び(C)成分を溶解しうる溶剤、例えばエチル
メチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノンなどのケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチ
ルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ジプロピレングリ
コールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエ
チルエーテルなどのグリコールエーテル類、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、ブチルセロソルブアセテート、カルビ
トールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテートなどのエステル類、石油エーテル、石
油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサなどの石
油系溶剤、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロ
リドン等に溶解、混合させることにより、均一な溶液と
することができる。
The resin composition of the present invention comprises the above (A)
Solvents which can dissolve the components (B) and (C), for example, ketones such as ethyl methyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene Glycol ethers such as propylene glycol diethyl ether, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, solvent naphtha and other petroleum-based A uniform solution can be obtained by dissolving and mixing in a solvent, γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, or the like.

【0019】本発明の樹脂組成物は、前記の配合成分を
好ましくは前記の割合で配合し、ロールミル等で均一に
混合することにより得られる。この本発明の樹脂組成物
は通常液状であるが、ドライフィルムとしてもよい。
The resin composition of the present invention can be obtained by blending the above-mentioned components preferably in the above-mentioned proportions and mixing them uniformly with a roll mill or the like. The resin composition of the present invention is usually liquid, but may be a dry film.

【0020】ドライフィルムを製造するには、例えばベ
ースフィルム(離型フィルム)上にロールコーターやド
クターバー、ワイヤーバー方式、ディッピング方式、ス
ピンコート方式、クラビア方式及びドクターブレート方
式等を用いて上記の本発明の樹脂組成物を塗布した後、
60〜100℃に設定した乾燥炉で乾燥し、所定量の溶
剤を除去することにより、又必要に応じて離型フィルム
等を張り付けることにより得ることができる。この際、
ベースフィルム上のレジストの厚さは、10〜160μ
m、好ましくは20〜60μmに調製される。上記、ベ
ースフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、
ポリプロピレン等のフィルムが好適に使用される。
In order to produce a dry film, for example, a roll coater, a doctor bar, a wire bar method, a dipping method, a spin coating method, a gravure method, a doctor plate method, etc. are used on a base film (release film). After applying the resin composition of the present invention,
It can be obtained by drying in a drying oven set at 60 to 100 ° C. and removing a predetermined amount of solvent, and by attaching a release film or the like as necessary. On this occasion,
The thickness of the resist on the base film is 10 to 160 μm
m, preferably 20 to 60 μm. As the base film, polyethylene terephthalate,
A film such as polypropylene is preferably used.

【0021】本発明の樹脂組成物は、レジストインキ、
特にフレキシブルプリント配線板用のレジストインキと
して有用である他、塗料、コーティング剤、接着剤等と
しても使用できる。
The resin composition of the present invention comprises a resist ink,
Particularly, it is useful as a resist ink for a flexible printed wiring board, and can also be used as a paint, a coating agent, an adhesive and the like.

【0022】本発明の硬化物は、紫外線照射により上記
の本発明の樹脂組成物を硬化させたものである。この本
発明の樹脂組成物の硬化物は、例えば永久レジストとし
てスルホールを有するフレキシブルプリント配線板のよ
うな電気・電子部品に利用される。
The cured product of the present invention is obtained by curing the above-mentioned resin composition of the present invention by irradiation with ultraviolet rays. The cured product of the resin composition of the present invention is used for an electric / electronic component such as a flexible printed wiring board having a through hole as a permanent resist.

【0023】本発明のフレキシブルプリント配線板は、
上記の本発明の樹脂組成物の硬化物の層を有する。この
硬化物層の膜厚は10〜160μm程度で、20〜60
μm程度が好ましい。このフレキシブルプリント配線板
は、例えば次のようにして得ることができる。即ち、液
状の樹脂組成物を使用する場合、フレキシブルプリント
配線板用基板に、スクリーン印刷法、スプレー法、ロー
ルコート法、静電塗装法、カーテンコート法等の方法に
より10〜160μmの膜厚で本発明の組成物を塗布
し、塗膜を60〜110℃で乾燥後、ネガフィルムを塗
膜に直接に接触させ(又は接触しない状態で塗膜の上に
置く)、紫外線を照射し、次いで、必要に応じて加熱
(例えば60〜100℃×1〜30分)後、未露光部分
を適当な現像液を用いて、例えばスプレー、揺動浸漬、
ブラッシング、スクラッビング等の公知方法により現像
する。その後、必要に応じて紫外線を照射し、次いで1
00〜200℃で加熱処理をすることにより諸特性を満
足する永久保護膜を有するフレキシブルプリント配線板
が得られる。
The flexible printed wiring board of the present invention comprises:
It has a layer of a cured product of the above resin composition of the present invention. The thickness of the cured product layer is about 10 to 160 μm,
It is preferably about μm. This flexible printed wiring board can be obtained, for example, as follows. That is, when a liquid resin composition is used, a flexible printed wiring board substrate is screen-printed, sprayed, roll-coated, electrostatic-coated, curtain-coated by a method such as 10 to 160 μm in thickness. After applying the composition of the present invention and drying the coating film at 60 to 110 ° C., the negative film is brought into direct contact with the coating film (or placed on the coating film without contact), irradiated with ultraviolet light, After heating (for example, 60 to 100 ° C. × 1 to 30 minutes) as necessary, the unexposed portion is exposed to an appropriate developer, for example, by spraying, rocking and
Development is performed by a known method such as brushing or scrubbing. Then, if necessary, irradiate ultraviolet rays,
By performing the heat treatment at 00 to 200 ° C., a flexible printed wiring board having a permanent protective film satisfying various characteristics can be obtained.

【0024】現像液としては、例えば炭素数1〜4のア
ルコキシ基を有するアルコキシエタノール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチル
エーテル、カルビトールアセテート、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクト
ン、シクロヘキサノン、N−メチル−2−ピロリドン等
が挙げられる。これらは、単独で又は2種以上組み合わ
せて用いることができる。また、その温度は、25〜4
5℃の間で任意に調節することができる。又、この現像
液中に界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよ
い。これらの現像液には、引火防止の目的で1〜50容
量%の範囲で水を添加することもできる。
Examples of the developing solution include alkoxyethanol having 1 to 4 carbon atoms, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, and the like.
Examples thereof include diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, γ-butyrolactone, cyclohexanone, and N-methyl-2-pyrrolidone. These can be used alone or in combination of two or more. The temperature is 25 to 4
It can be adjusted arbitrarily between 5 ° C. Further, a small amount of a surfactant, an antifoaming agent or the like may be mixed in the developer. Water can be added to these developers in the range of 1 to 50% by volume for the purpose of preventing ignition.

【0025】本発明のフレキシブルプリント配線板をド
ライフィルムを用いて製造する場合は、例えば離型フィ
ルムをはがした上記のドライフィルムを上記のフレキシ
ブルプリント配線板用基板に転写し、上記と同様に露
光、現像、加熱処理をすればよい。
When the flexible printed wiring board of the present invention is manufactured using a dry film, for example, the dry film from which the release film has been peeled off is transferred to the flexible printed wiring board substrate, and Exposure, development, and heat treatment may be performed.

【0026】[0026]

【実施例】以下、本発明の実施例により更に具体的に説
明する。 実施例1〜3、比較例1〜2 表1に示す配合組成(数値は重量部である)に従って各
成分を配合し、3本ロールミルで混練し樹脂組成物を調
製した。これを、フレキシブルプリント配線板用基板
(パターン形成されている銅張ポリイミドフィルム基
板:銅厚/12μm・ポリイミドフィルム厚/25μ
m)に、100メッシュのポリエステルスクリーンを用
いたスクリーン印刷法により、20〜30μmの厚さに
なるように全面塗布し、塗膜を80℃の熱風乾燥器で3
0分乾燥させる。次いで、レジストパターンを有するネ
ガフィルムを塗膜に密着させ、紫外線を照射した(紫外
線露光装置:(株)オーク製作所、型式NMW−680
GW、露光量1000mJ/cm2 )。次に、100℃
で10分間、加熱した後、N−メチル−2−ピロリドン
/水=80/20(容量比)からなる現像液で40℃で
120秒間スプレー現像し、未露光部分を溶解除去し
た。その後、2J/cm2 の紫外線を照射を行い、さら
に150℃で40分間加熱処理を行い、フレキシブルプ
リント配線板を得た。得られた硬化膜を有する試験片に
ついて、後述のとおり密着性、鉛筆硬度、耐溶解性、耐
酸性、耐熱性、耐屈曲性、耐折性の試験を行った。それ
らの結果を表1に示す。なお、試験方法及び評価方法は
次のとおりである。
The present invention will be described more specifically below with reference to examples. Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 2 Each component was blended according to the blending composition (the numerical values are parts by weight) shown in Table 1 and kneaded with a three-roll mill to prepare a resin composition. This is printed on a flexible printed wiring board substrate (patterned copper-clad polyimide film substrate: copper thickness / 12 μm, polyimide film thickness / 25 μm).
m), the entire surface was coated by a screen printing method using a 100-mesh polyester screen so as to have a thickness of 20 to 30 μm, and the coating film was dried with a hot air drier at 80 ° C. for 3 hours.
Let dry for 0 minutes. Next, a negative film having a resist pattern was brought into close contact with the coating film and irradiated with ultraviolet rays (ultraviolet exposure apparatus: Oak Manufacturing Co., Ltd., model NMW-680).
GW, exposure amount 1000 mJ / cm 2 ). Next, at 100 ° C
For 10 minutes, and spray-developed at 40 ° C. for 120 seconds with a developer consisting of N-methyl-2-pyrrolidone / water = 80/20 (volume ratio) to dissolve and remove unexposed portions. Thereafter, irradiation with ultraviolet rays of 2 J / cm 2 was performed, and further, heat treatment was performed at 150 ° C. for 40 minutes to obtain a flexible printed wiring board. The test piece having the obtained cured film was tested for adhesion, pencil hardness, dissolution resistance, acid resistance, heat resistance, bending resistance, and bending resistance as described below. Table 1 shows the results. In addition, the test method and the evaluation method are as follows.

【0027】(密着性)JIS K5400に準じて、
試験片に1mmのごばん目を100ケ作りセロテープに
よりピーリング試験を行った。ごばん目の剥離状態を観
察し、次の基準で評価した。 ○・・・・100/100で、剥れのないもの。 △・・・・50/100〜99/100。 ×・・・・0/100〜50/100。
(Adhesion) According to JIS K5400,
100 test pieces were made with a 1 mm-thick grain and subjected to a peeling test using cellophane tape. The state of peeling was evaluated by the following criteria.・ ・ ・: 100/100 without peeling. Δ: 50/100 to 99/100. X: 0/100 to 50/100.

【0028】(鉛筆硬度)JIS K5400に準じて
評価を行った。 (耐溶剤性)試験片をイソプロピルアルコール液に室温
で30分間浸漬する。外観に異常がないか確認した後、
セロテープによるピーリング試験を行い、次の基準で評
価した。 ○・・・・塗膜外観に異常がなく、フクレや剥離のない
もの。 ×・・・・塗膜にフクレや剥離のあるもの。
(Pencil hardness) Evaluation was performed according to JIS K5400. (Solvent resistance) A test piece is immersed in an isopropyl alcohol solution at room temperature for 30 minutes. After confirming that there is no abnormality in the appearance,
A peeling test was performed using cellotape and evaluated according to the following criteria.・ ・ ・: No abnormality in the appearance of the coating film and no blistering or peeling. X: The coating film has blisters or peeling.

【0029】(耐酸性)試験片を10%塩酸水溶液に室
温で30分浸漬する。外観に異常がないか確認した後、
セロテープによるピーリング試験を行い、次の基準で評
価した。 ○・・・・塗膜外観に異常がなく、フクレや剥離のない
もの。 ×・・・・塗膜にフクレや剥離のあるもの。
(Acid Resistance) A test piece is immersed in a 10% hydrochloric acid aqueous solution at room temperature for 30 minutes. After confirming that there is no abnormality in the appearance,
A peeling test was performed using cellotape and evaluated according to the following criteria.・ ・ ・: No abnormality in the appearance of the coating film and no blistering or peeling. X: The coating film has blisters or peeling.

【0030】(耐熱性)試験片にロジン系フラックスを
塗布し260℃の半田槽に5秒間浸漬した。これを1サ
イクルとし、3サイクル繰り返した。室温まで放冷した
後、セロテープによるピーリング試験を行い、次の基準
で評価した。 ○・・・・塗膜外観に異常がなく、フクレや剥離のない
もの。 ×・・・・塗膜にフクレや剥離のあるもの。
(Heat Resistance) A rosin-based flux was applied to a test piece and immersed in a solder bath at 260 ° C. for 5 seconds. This was defined as one cycle, and three cycles were repeated. After allowing to cool to room temperature, a peeling test was performed using cellophane tape, and evaluated according to the following criteria.・ ・ ・: No abnormality in the appearance of the coating film and no blistering or peeling. X: The coating film has blisters or peeling.

【0031】(耐屈曲性)JIS K5400に準じて
行った。試験片を用いて、心棒の直径は2mmとし、ク
ラック発生の有無を観察した。 ○・・・・クラック なし。 ×・・・・クラック発生。
(Bending resistance) The bending resistance was measured in accordance with JIS K5400. Using the test piece, the diameter of the mandrel was set to 2 mm, and the occurrence of cracks was observed. ○ ・ ・ ・ ・ No crack. ×: cracks occurred.

【0032】(耐折性)JIS C5016に準じて行
った。折り曲げ面の曲率半径は0.38mmとし、クラ
ックが入るまでの折り曲げ回数を測定した。
(Folding resistance) This was performed according to JIS C5016. The radius of curvature of the bent surface was 0.38 mm, and the number of times of bending until a crack was formed was measured.

【0033】[0033]

【表1】 表1 実 施 例 比較例 1 2 3 1 2 (A)成分 エポフレンドA1020 *1 30 エポフレンドA1010 *2 30 20 (B)成分 エピコート1004 *3 10 10 20 EPPN−201 *4 20 40 NER *5 30 30 60 (C)成分 KAYACURE PCI-615 *6 10 10 10 10 10 その他 ヘキサメトキシメラミン 5 5 5 5 5 シリカ(無機充填剤) 10 10 10 10 10 フタロシアニングリーン (顔料) 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 アエロジル#200 *7 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 モダフロー *8 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 カルビトールアセテート 35 35 35 35 35 ─────────────────────────────────── 密着性 ○ ○ ○ ○ ○ 鉛筆硬度 5H 5H 4H 6H 7H 耐屈曲性 ○ ○ ○ × × 耐折性 1000回 1000回 1000回 1回 1回 以上 以上 以上 耐溶剤性 ○ ○ ○ ○ ○ 耐酸性 ○ ○ ○ ○ ○ 耐熱性 ○ ○ ○ ○ ○Table 1 Example 1 Comparative Example 1 2 3 12 (A) Component Epo Friend A1020 * 1 30 Epo Friend A1010 * 2 30 20 (B) Component Epicoat 1004 * 3 10 10 20 EPPN-201 * 4 20 40 NER * 5 30 30 60 (C) component KAYACURE PCI-615 * 6 10 10 10 10 10 Others hexamethoxymelamine 5.5 5 5.5 5 Silica (inorganic filler) 10 10 10 10 10 10 Phthalocyanine green (pigment) 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 Aerosil # 200 * 7 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 Modaflow * 8 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 Carbitol acetate 35 35 35 35 35 ────────────────────── ───────────── Adhesion ○ ○ ○ ○ ○ Pencil hardness 5H 5H 4H 6H 7H Flex resistance ○ ○ ○ × × Fold resistance 1000 times 1000 times 1000 times 1 time 1 time or more or more Solvent resistance ○ ○ ○ ○ ○ Acid resistance ○ ○ ○ ○ ○ Heat resistance ○ ○ ○ ○ ○

【0034】注) *1)エポフレンドA1020:ダイセル化学工業
(株)製、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共
重合体のエポキシ化物。ブタジエン/スチレン重量比=
60/40、エポキシ当量480〜540 *2)エポフレンドA1010:ダイセル化学工業
(株)製、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共
重合体のエポキシ化物。ブタジエン/スチレン重量比=
60/40、エポキシ当量950〜1050。 *3)エピコート1004:油化シェルエポキシ(株)
製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂。 *4)EPPN−201:日本化薬(株)製、フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂。 *5)NER:日本化薬(株)製、エピコート1001
(油化シェルエポキシ(株)製、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂)の水酸基とエピクロルヒドリンを反応させ
グリシジルエーテル化したもの。 *6)KAYACURE PCI−615:日本化薬
(株)製、光カチオン重合開始剤。7ージ(p−トルイ
ル)スルホニオ−2−イソプロピル−チオキサントン−
ヘキサフルオロアンチモネート。 *7)アエロジル#200:日本アエロジル(株)製、
無水シリカ。 *8)モダフロー:モンサント(株)製、レベリング
剤。
Note) * 1) Epofriend A1020: Epoxidized product of styrene-butadiene-styrene block copolymer, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. Butadiene / styrene weight ratio =
60/40, epoxy equivalent 480-540 * 2) Epofriend A1010: an epoxidized product of a styrene / butadiene / styrene block copolymer manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. Butadiene / styrene weight ratio =
60/40, epoxy equivalent 950-1050. * 3) Epicoat 1004: Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.
Bisphenol A type epoxy resin. * 4) EPPN-201: a phenol novolak type epoxy resin manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. * 5) NER: Nippon Kayaku Co., Ltd. Epicoat 1001
(Bisphenol A type epoxy resin, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) A glycidyl ether obtained by reacting a hydroxyl group with epichlorohydrin. * 6) KAYACURE PCI-615: a cationic photopolymerization initiator manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. 7-di (p-toluyl) sulfonio-2-isopropyl-thioxanthone-
Hexafluoroantimonate. * 7) Aerosil # 200: manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
Anhydrous silica. * 8) Modaflow: a leveling agent manufactured by Monsanto Co., Ltd.

【0035】表1の評価結果から明らかなように、本発
明のレジストインキ組成物の硬化物は、耐屈曲性、耐折
性に優れ、密着性、耐溶剤性、耐酸性、耐熱性等が満足
すべき性能を有しているのは明らかである。
As is clear from the evaluation results in Table 1, the cured product of the resist ink composition of the present invention is excellent in bending resistance and folding resistance, and has excellent adhesion, solvent resistance, acid resistance, heat resistance and the like. Clearly, it has satisfactory performance.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明の樹脂組成物は、パターンを形成
したフィルムを通して紫外線により露光し、未露光部分
を現像することによるソルダーレジストパターンの形成
において、現像が可能で、得られた硬化物は、耐屈曲
性、耐折性に優れ、密着性、鉛筆硬度、耐溶剤性、耐酸
性、耐熱性等も十分に満足するものであり、特にフレキ
シブルプリント配線板用液状ソルダーレジストインキ組
成物に適している。
The resin composition of the present invention can be developed in the formation of a solder resist pattern by exposing to ultraviolet light through a film on which a pattern has been formed, and developing the unexposed portions. It has excellent flex resistance, bending resistance, adhesiveness, pencil hardness, solvent resistance, acid resistance, heat resistance, etc., and is particularly suitable for liquid solder resist ink compositions for flexible printed wiring boards. ing.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】エポキシ含有熱可塑性エラストマー
(A)、芳香族グリシジルエーテル化合物(B)及び光
カチオン重合開始剤(C)を含有してなることを特徴と
する樹脂組成物。
1. A resin composition comprising an epoxy-containing thermoplastic elastomer (A), an aromatic glycidyl ether compound (B) and a cationic photopolymerization initiator (C).
【請求項2】フレキシブルプリント配線板のレジストイ
ンキ用である請求項1記載の樹脂組成物。
2. The resin composition according to claim 1, which is used as a resist ink for a flexible printed wiring board.
【請求項3】請求項1又は2に記載の樹脂組成物の硬化
物。
3. A cured product of the resin composition according to claim 1 or 2.
【請求項4】フレキシブルプリント配線板用レジストで
ある請求項3記載の硬化物。
4. The cured product according to claim 3, which is a resist for a flexible printed wiring board.
【請求項5】請求項3又は4記載の硬化物の層を有する
フレキシブルプリント配線板。
5. A flexible printed wiring board having a layer of the cured product according to claim 3.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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