JPH11218466A - Measuring device of substrate - Google Patents

Measuring device of substrate

Info

Publication number
JPH11218466A
JPH11218466A JP2312998A JP2312998A JPH11218466A JP H11218466 A JPH11218466 A JP H11218466A JP 2312998 A JP2312998 A JP 2312998A JP 2312998 A JP2312998 A JP 2312998A JP H11218466 A JPH11218466 A JP H11218466A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
measuring
height
color filter
measured
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2312998A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3820728B2 (en
Inventor
Hirokazu Sasamoto
裕方 佐々本
Hideo Ido
英夫 井戸
Hajime Hirata
肇 平田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP02312998A priority Critical patent/JP3820728B2/en
Publication of JPH11218466A publication Critical patent/JPH11218466A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3820728B2 publication Critical patent/JP3820728B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a measuring device of a substrate of excellent precision and reproducibility for shortening a measuring time and the production method of a color filter or a transparent electrode substrate. SOLUTION: The measuring device of a substrate judges the presence of a projection-like matter set on at least one substrate constituting a liquid crystal element sandwiching the liquid crystal composition between a pair of opposite substrates. A stage 2 mounting a sample, a height measuring means 3 or an imaging means and a data processor 5 are provided, and the presence of the projection-like matter is judged from height information obtained from the height measuring means 3 and intensity information obtained from the imaging means.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタ、
TFTアレイ基板、半導体などの積層膜構造体の各層ま
たは全体の高さまたは断面積または位置等の表面形状を
測定するLCD用透明基板などの基板の測定装置および
カラーフィルタまたは透明電極基板の製造方法に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a color filter,
TFT array substrate, apparatus for measuring substrate such as transparent substrate for LCD for measuring surface shape such as height or cross-sectional area or position of each layer of multilayer film structure such as semiconductor, and method of manufacturing color filter or transparent electrode substrate About.

【0002】[0002]

【従来の技術】カラーフィルタ上にスペーサーを成形す
る方法としては種々の方法が知られている。たとえば、
特開平9−43425号公報に記載されているように、
BM上に各着色層を積層しスペーサとする技術がある。
このスペーサーの測定技術として、スペーサーの高さ測
定については触針式高さ計を使用し、スペーサーの面
積、長さ、位置、数、あるいは画素開口部幅、画素開口
部間の距離、ストライプ幅、ストライプ間の距離は光学
顕微鏡を用いて測定を実施していた。しかしながら、そ
のような測定には、以下に述べるような問題があった。
2. Description of the Related Art Various methods are known for forming a spacer on a color filter. For example,
As described in JP-A-9-43425,
There is a technique in which each colored layer is laminated on a BM to form a spacer.
As a technique for measuring the spacer, a stylus height meter is used to measure the height of the spacer, and the area, length, position, and number of the spacer, or the pixel opening width, the distance between the pixel openings, and the stripe width The distance between stripes was measured using an optical microscope. However, such measurement has the following problems.

【0003】すなわち、スペーサーの高さ測定について
は、触針式高さ計を使用していたが、ある直線上の高さ
を測定するために、測定線上にスペーサーをとらえるの
が困難であり、このため、測定する直線をわずかに移動
させながらある範囲内について複数回測定していた。し
かも破壊測定のため、測定したカラーフィルターは廃棄
しなければならず、また、得られたチャートより検査員
が高さを読み取っていたため、読み取り誤差が大きく、
測定時間も長かった。
That is, a stylus-type height meter was used for measuring the height of a spacer, but it was difficult to capture the spacer on a measurement line in order to measure the height on a certain straight line. For this reason, measurement was performed several times within a certain range while slightly moving the straight line to be measured. In addition, the color filter measured must be discarded for destructive measurement, and because the inspector has read the height from the obtained chart, the reading error is large,
The measurement time was also long.

【0004】また、スペーサーの面積および位置、画素
開口部幅、画素開口部間の距離、ストライプ幅、ストラ
イプ間の距離については、光学顕微鏡で拡大した画像に
対し測定員が測長器にて測定を行っていたが、手動によ
る測定のため読み取り誤差が大きく、測定時間も長かっ
た。
The area and position of the spacer, the width of the pixel opening, the distance between the pixel openings, the stripe width, and the distance between the stripes are measured by a measuring instrument on an image enlarged by an optical microscope using a length measuring instrument. However, reading errors were large due to manual measurement, and the measurement time was long.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の技術
における上述した問題点を解決するもので、測定時間を
短縮し、精度・再現性の良い基板の測定装置およびカラ
ーフィルタまたは透明電極基板の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems in the prior art, and reduces a measuring time, a measuring device for a substrate with high accuracy and reproducibility, and a color filter or a transparent electrode substrate. It is an object of the present invention to provide a method for producing the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の基板の測定装置は、以下の構成を有する。す
なわち、対向する一対の基板の間に液晶組成物を挟持し
てなる液晶表示素子を構成する少なくとも一方の基板上
に設置された突起状物の有無を判定する基板の測定装置
であって、サンプルを載置するステージと、高さ測定手
段または撮像手段とデータ処理装置とを備え、高さ測定
手段から得られた高さ情報または撮像手段から得られた
輝度情報から突起状物の有無を判定することを特徴とす
るものである。
According to the present invention, there is provided a substrate measuring apparatus having the following configuration. That is, a substrate measuring device for judging the presence or absence of a protrusion placed on at least one of the substrates constituting a liquid crystal display element having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposing substrates, A stage on which is mounted, a height measuring means or an imaging means, and a data processing device, and the presence or absence of a protruding object is determined from height information obtained from the height measuring means or luminance information obtained from the imaging means. It is characterized by doing.

【0007】また、対向する一対の基板の間に液晶組成
物を挟持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一
方の基板上に設置された突起状物の有無を判定する基板
の測定装置であって、前記突起状物を1つ以上含む測定
領域内を画素分割し、分割された画素単位毎に高さを測
定し、前記分割画素単位毎の高さにより、前記突起状物
の有無を判定することを特徴とするものである。
[0007] Further, there is provided a substrate measuring apparatus for judging the presence or absence of a protrusion provided on at least one of the substrates constituting a liquid crystal display element having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposed substrates. The measurement area including one or more protrusions is divided into pixels, the height is measured for each of the divided pixel units, and the presence or absence of the protrusions is determined based on the height of each of the divided pixel units. It is characterized by doing.

【0008】また、対向する一対の基板の間に液晶組成
物を挟持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一
方の基板上に設置された突起状物の有無を判定する基板
の測定装置であって、測定する部分を決定する手段と、
ある直線上の高さを測定する手段と、得られた高さ情報
より突起状物の有無を判定することを特徴とするもので
ある。
[0008] Further, there is provided a substrate measuring apparatus for judging the presence or absence of a protrusion placed on at least one of the substrates constituting a liquid crystal display element having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposed substrates. Means for determining the part to be measured,
It is characterized by a means for measuring the height on a certain straight line and the presence or absence of a protruding object is determined from the obtained height information.

【0009】また、対向する一対の基板の間に液晶組成
物を挟持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一
方の基板上に設置された突起状物の有無を判定する基板
の測定装置であって、測定する部分を決定する手段と、
1点以上の高さを測定する手段とを備え、得られた高さ
測定値より突起の有無を判定することを特徴とするもの
である。
Further, there is provided a substrate measuring apparatus for judging the presence / absence of a protrusion placed on at least one of the substrates constituting a liquid crystal display device having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposed substrates. Means for determining the part to be measured,
Means for measuring the height of one or more points, and the presence or absence of a protrusion is determined from the obtained height measurement value.

【0010】また、予め設計された凸部あるいは凹部を
複数有する基板の凸部あるいは凹部の高さ、長さ、断面
積、位置、数の少なくとも1つを測定する基板の測定装
置であって、前記基板を載置するステージと、高さ測定
装置と、データ処理装置からなり、高さ測定装置で得ら
れた高さ情報から、前記凸部あるいは凹部の高さ、長
さ、断面積、位置、数の少なくとも1項目を測定するこ
とを特徴とするものである。
A substrate measuring apparatus for measuring at least one of height, length, cross-sectional area, position, and number of a convex portion or a concave portion of a substrate having a plurality of convex portions or concave portions designed in advance, A stage on which the substrate is mounted, a height measuring device, and a data processing device, and from height information obtained by the height measuring device, the height, length, cross-sectional area, and position of the convex or concave portion. , And at least one item of the number is measured.

【0011】また、予め設計された凸部あるいは凹部を
複数有する基板の凸部あるいは凹部の長さ、断面積、位
置、数の少なくとも1つを測定する基板の測定装置であ
って、前記基板を載置するステージと、照明装置と、撮
像装置と、データ処理装置からなり、撮像装置で得られ
た輝度情報から、前記凸部あるいは凹部の長さ、断面
積、位置の少なくとも1項目を測定することを特徴とす
るものである。
A substrate measuring apparatus for measuring at least one of a length, a cross-sectional area, a position, and a number of a convex portion or a concave portion of a substrate having a plurality of convex portions or concave portions designed in advance. It comprises a stage to be mounted, a lighting device, an imaging device, and a data processing device, and measures at least one item of the length, cross-sectional area, and position of the convex or concave portion from luminance information obtained by the imaging device. It is characterized by the following.

【0012】また、本発明のカラーフィルタまたは透明
電極基板の製造方法は、以下の構成を有する。すなわ
ち、カラーフィルタまたは透明電極基板の製造方法であ
って、前記カラーフィルタまたは透明電極基板上に設置
された突起状物の有無を前記した基板の測定装置により
1箇所以上判定し、カラーフィルタまたは透明電極基板
の良否判定を行うことを特徴とするものである。
Further, a method of manufacturing a color filter or a transparent electrode substrate according to the present invention has the following configuration. That is, a method for manufacturing a color filter or a transparent electrode substrate, wherein the presence or absence of a protrusion disposed on the color filter or the transparent electrode substrate is determined at one or more locations by the above-described substrate measuring device, and the color filter or the transparent electrode substrate is determined. It is characterized in that the quality of the electrode substrate is determined.

【0013】また、カラーフィルタまたは透明電極基板
の製造方法であって、前記カラーフィルタまたは透明電
極基板上の凸部あるいは凹部を複数有する基板の1つ以
上の凸部あるいは凹部の高さ、長さ、断面積、位置の少
なくとも1つを測定し、製造条件の変更を行うことを特
徴とするものである。
The present invention also relates to a method for manufacturing a color filter or a transparent electrode substrate, wherein the height and length of one or more projections or depressions of a substrate having a plurality of projections or depressions on the color filter or the transparent electrode substrate are provided. , A cross-sectional area and a position are measured, and manufacturing conditions are changed.

【0014】また、カラーフィルタまたは透明電極基板
の製造方法であって、前記カラーフィルタまたは透明電
極基板上の凸部あるいは凹部を複数有する基板の1つ以
上の凸部あるいは凹部の高さ、長さ、断面積、位置の少
なくとも1つを測定し、前記カラーフィルタまたは透明
電極基板の良否判定を行うことを特徴とするものであ
る。
The present invention also relates to a method for manufacturing a color filter or a transparent electrode substrate, wherein the height and length of one or more projections or depressions of a substrate having a plurality of projections or depressions on the color filter or transparent electrode substrate are provided. , The cross-sectional area and the position are measured, and the quality of the color filter or the transparent electrode substrate is determined.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】[実施例1]以下、本発明におけ
る高さ情報を用いた測定の一実施例を図面に基づいて説
明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [Embodiment 1] An embodiment of measurement using height information according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0016】図1は、本発明の測定対象であるカラーフ
ィルタ1の上面図である。図2はカラーフィルタの断面
図である。次に測定対象であるスペーサーの高さ、断面
積、位置、画素開口部幅、画素開口部間の距離、ストラ
イプ幅、ストライプ間の距離を説明する。
FIG. 1 is a top view of a color filter 1 to be measured according to the present invention. FIG. 2 is a sectional view of the color filter. Next, the height, cross-sectional area, position, pixel opening width, distance between pixel openings, stripe width, and distance between stripes of the spacer to be measured will be described.

【0017】スペーサー高さは図2のHS に示すよう
に、画素開口部109からスペーサー110の最上部ま
での距離である。
[0017] As spacer height are shown in H S of FIG. 2, the distance from the pixel openings 109 to the top of the spacer 110.

【0018】スペーサー断面積は、図2のAA’での着
色層(赤色層)の断面積である。
The spacer cross-sectional area is the cross-sectional area of the colored layer (red layer) at AA ′ in FIG.

【0019】スペーサー位置は、図1のストライプ端部
112からの距離P1 ,画素開口部109の端部からの
距離P2 ,P3 を測定する。
As for the position of the spacer, the distance P 1 from the stripe end 112 in FIG. 1 and the distances P 2 and P 3 from the end of the pixel opening 109 are measured.

【0020】画素開口部間の距離を図1のL1 、L5
画素開口部幅を図1のL2 、ストライプ幅を図1の
3 、ストライプ間の距離を図1のL4 にそれぞれ示
す。
The distances between the pixel openings are represented by L 1 , L 5 ,
Respectively the pixel aperture width L 2 of FIG. 1, FIG. 1 of L 3 stripe width, the distance between stripes L 4 in FIG. 1.

【0021】図3は、本発明の測定装置の模式図で、ス
テージ2、高さ測定装置3、データ処理装置5、制御装
置6、表示装置6から構成されている。
FIG. 3 is a schematic view of the measuring device of the present invention, which comprises a stage 2, a height measuring device 3, a data processing device 5, a control device 6, and a display device 6.

【0022】ステージ2は、カラーフィルタを表面に載
置、固定し、カラーフィルタの任意の点が測定できるよ
うにするもので、XY方向に移動する。
The stage 2 is for mounting and fixing a color filter on the surface so that an arbitrary point of the color filter can be measured, and moves in the XY directions.

【0023】高さ測定装置3は、カラーフィルタ上のあ
る範囲を画素に分割して、その画素ごとの高さを測定す
るもので、制御装置6より高さ測定開始信号を与えられ
ると高さ測定を開始し、測定を終了すると高さ測定終了
信号を制御部6に出力し、高さデータをデータ処理装置
5に転送する。高さ測定装置3は、ある範囲を画素に分
割して、その画素ごとの高さを測定するものであれば、
どのようなものでもかまわない。
The height measuring device 3 divides a certain range on the color filter into pixels and measures the height of each pixel. When a height measurement start signal is given from the control device 6, the height measuring device 3 When the measurement is started and the measurement is completed, a height measurement end signal is output to the control unit 6 and the height data is transferred to the data processing device 5. If the height measuring device 3 divides a certain range into pixels and measures the height of each pixel,
Anything is fine.

【0024】データ処理装置5は、高さ測定装置3で測
定した高さ情報から、スペーサーの高さ、断面積、長
さ、位置、数およびカラーフィルタ画素開口部幅、画素
開口部間の距離、ストライプ幅、ストライプ間の距離を
測定するものである。制御装置6からデータ処理開始信
号を与えられるとデータ処理を開始し、データ処理を終
了するとデータ処理終了信号を制御装置6に出力する。
The data processing device 5 calculates the height, cross-sectional area, length, position, number of the spacers, the width of the color filter pixel opening, and the distance between the pixel openings from the height information measured by the height measuring device 3. , Stripe width, and distance between stripes. When a data processing start signal is given from the control device 6, the data processing is started, and when the data processing is completed, a data processing end signal is output to the control device 6.

【0025】制御装置6は、決められた手順に基づい
て、前記ステージと高さ測定装置とデータ処理装置に操
作指令を与えるためのものである。
The control device 6 is for giving an operation command to the stage, the height measuring device and the data processing device based on a determined procedure.

【0026】表示装置7は、データ処理装置で測定した
スペーサーの高さ、断面積、長さ、位置、数を表示する
ためのものである。
The display device 7 is for displaying the height, cross-sectional area, length, position, and number of spacers measured by the data processing device.

【0027】次に本発明の測定装置の作用を図7のフロ
ーチャートを用いて説明する。
Next, the operation of the measuring apparatus according to the present invention will be described with reference to the flowchart of FIG.

【0028】まず、サンプルをステージに設置し測定開
始ボタンを押す。(ステップ1)サンプルの設置は、手
動でも、ロボットアーム等で自動で行ってももかまわな
い。測定開始ボタンが押されると、制御装置6は測定す
るスペーサーが高さ測定装置の測定範囲内にくるように
予め設定した移動量と、移動開始信号をステージ2に与
える。この時、サンプル設置位置にバラツキがある場合
は、アライメントをかけ設置誤差を測定しステージの移
動量を補正するのが望ましい。移動開始信号を与えられ
たステージ2は移動を開始し、移動終了後に移動終了信
号を制御装置6に与える(ステップ2)。
First, the sample is set on the stage and the measurement start button is pressed. (Step 1) The sample may be set manually or automatically by a robot arm or the like. When the measurement start button is pressed, the control device 6 gives the stage 2 a movement amount set in advance so that the spacer to be measured is within the measurement range of the height measurement device, and a movement start signal. At this time, if there is a variation in the sample installation position, it is desirable to correct the stage movement amount by performing alignment and measuring the installation error. The stage 2 to which the movement start signal is given starts to move, and after the movement ends, gives a movement end signal to the control device 6 (step 2).

【0029】移動終了信号が与えられた制御装置6は、
高さ測定装置3に高さ測定開始信号を与える。測定開始
信号を与えられた高さ測定装置3は高さ測定を開始し、
測定終了後にデータ処理装置5に高さデータを送り、高
さ測定終了信号を制御装置6に与える(ステップ3)。
高さ測定装置3はカラーフィルタ表面の最も低い位置よ
りさらに数μm低い位置を高さの原点として測定を開始
する。測定範囲は、測定対象であるカラーフィルタの表
面の凹凸をすべて測定できるように設定する。図4は高
さ測定装置3で測定されたカラーフィルタの高さデータ
で、高い部分を108に示すように薄いハッチングで、
低い部分を102に示すように濃いハッチングで表示し
ている。図5は図4のXX’間の高さを、図6は図4の
YY’間の高さを示しており、横軸が位置、縦軸が高さ
である。
The control device 6, to which the movement end signal has been given,
A height measurement start signal is given to the height measuring device 3. The height measuring device 3 given the measurement start signal starts the height measurement,
After the measurement is completed, the height data is sent to the data processing device 5, and a height measurement end signal is given to the control device 6 (step 3).
The height measuring device 3 starts measurement with a position several μm lower than the lowest position on the color filter surface as the height origin. The measurement range is set so that all irregularities on the surface of the color filter to be measured can be measured. FIG. 4 shows the height data of the color filter measured by the height measuring device 3.
The low part is indicated by dark hatching as shown at 102. FIG. 5 shows the height between XX ′ in FIG. 4, and FIG. 6 shows the height between YY ′ in FIG. 4. The horizontal axis indicates the position, and the vertical axis indicates the height.

【0030】高さ測定終了信号を与えられた制御装置6
は、データ処理装置5にデータ処理開始信号を与える。
データ処理開始信号を与えられたデータ処理装置5は、
以下の手順でスペーサーの高さ、断面積、位置を測定す
る。
Control device 6 given a height measurement end signal
Supplies a data processing start signal to the data processing device 5.
The data processing device 5 given the data processing start signal
The height, cross-sectional area, and position of the spacer are measured by the following procedure.

【0031】まず、与えられた高さデータの最大値Hm
ax、最小値Hminを求め、HmaxとHminの差
を高さ範囲Rとし、予め設定した値Hと比較する。R≧
Hの場合は、そのまま処理を継続するが、R<Hの場合
は画面内にスペーサーが存在しないかスペーサーの高さ
が極端に低いとして処理を終了し、表示装置7に高さ範
囲Rを表示する(ステップ4)。Hはカラーフィルタの
着色層の膜厚等から決定する。
First, the maximum value Hm of the given height data
a, a minimum value Hmin is obtained, and a difference between Hmax and Hmin is set as a height range R, and is compared with a preset value H. R ≧
In the case of H, the processing is continued as it is, but in the case of R <H, the processing is terminated assuming that there is no spacer in the screen or the height of the spacer is extremely low, and the height range R is displayed on the display device 7. (Step 4). H is determined from the thickness of the colored layer of the color filter and the like.

【0032】次にスペーサー部分を切り出すために高さ
による2値化を行なう。(ステップ5)。2値化のしき
い値THは前記HmaxとHminからスペーサー部分
をうまく切り出すように設定する。2値化は、高さ測定
装置3で得られた各画素の高さとしきい値THを比較し
て、高い場合は1、低い場合は0とした。スペーサー部
分を切り出した2値化画像を図8に示す。白い部分がし
きい値より高いスペーサー部分である。
Next, binarization by height is performed to cut out the spacer portion. (Step 5). The threshold value TH for binarization is set so that the spacer portion can be cut out from Hmax and Hmin. The binarization is performed by comparing the height of each pixel obtained by the height measuring device 3 with the threshold value TH. FIG. 8 shows a binarized image obtained by cutting out the spacer portion. The white part is the spacer part higher than the threshold.

【0033】次に図8の白い塊に対して面積、長さ、
幅、重心位置等の特徴量を測定する(ステップ6)。こ
れらの特徴量が予め設定している範囲内に入っているも
のをスペーサーとして認識する。特徴量が設定した範囲
内に入っている前記塊が1つも存在しなかった場合は、
スペーサーが存在しないものとして処理を終了し、表示
装置7にその旨を表示する(ステップ7)。
Next, the area, length,
The characteristic quantities such as the width and the position of the center of gravity are measured (step 6). Those whose characteristic amounts fall within a preset range are recognized as spacers. If none of the chunks have the feature amount within the set range,
The processing is terminated assuming that the spacer does not exist, and the fact is displayed on the display device 7 (step 7).

【0034】前記塊が1つの場合は、重心位置Xc,Y
cを記憶する(ステップ8)。前記塊が2つ存在した場
合は、1画面に複数のスペーサーがあるものとし、ステ
ップ8〜ステップ18を各スペーサーごとに繰り返す。
When the number of the blocks is one, the position of the center of gravity Xc, Y
c is stored (step 8). When there are two blocks, it is assumed that there are a plurality of spacers on one screen, and steps 8 to 18 are repeated for each spacer.

【0035】次に前記重心位置を基準にして、図9に示
すW1 〜W6 のウインドウを設定する(ステップ9)。
これらのウインドウの大きさとXc ,Yc との相対位置
は測定するカラーフィルタに応じて予め設定している。
1 はスペーサー部分の高さおよび各層の膜厚を測定す
るためのウインドウである。W2 は開口部の高さを測定
するためのウインドウである。W3 、W4 は開口部エッ
ジを測定するウインドウである。W5 、W6 は開口部エ
ッジおよびストライプエッジおよび隣接するストライプ
エッジを測定するためのウインドウである。
[0035] Next, with reference to the said center-of-gravity position, sets the window W 1 to W-6 shown in FIG. 9 (step 9).
Size and X c of these windows, the relative position between the Y c is set in advance in accordance with the color filter to be measured.
W 1 is a window for measuring the thickness of the height and each layer of the spacer portion. W 2 is a window for measuring the height of the opening. W 3 and W 4 are windows for measuring the opening edge. W 5 and W 6 are windows for measuring the opening edge, the stripe edge, and the adjacent stripe edge.

【0036】次にウインドウW2 内の平均高さを求め
て、開口部高さWH とする(ステップ10)。
Next, the average height in the window W 2 is obtained and set as the opening height W H (step 10).

【0037】次にウインドウW1 について高さデータの
分布図を作成する(ステップ11)。図10は図9のウ
インドウW1 部分を拡大した図である。図11は高さデ
ータの分布図であり、横軸が高さ分割値、縦軸が画素数
である。高さ分割値は実際の高さを整数に変換したもの
である。この図11の102部分のピークは、図10で
示す樹脂ブラックマトリクス102部分であり、以下同
様に106〜108は対応している。
[0037] Next to create a distribution diagram of the height data for the window W 1 (step 11). Figure 10 is an enlarged view of the window W 1 portion of Fig. FIG. 11 is a distribution diagram of height data, in which the horizontal axis represents the height division value and the vertical axis represents the number of pixels. The height division value is obtained by converting the actual height into an integer. The peak at the portion 102 in FIG. 11 corresponds to the portion of the resin black matrix 102 shown in FIG.

【0038】次に図11の高さ分布図のピークを認識
し、各着色層の高さを測定する。(ステップ12)。ピ
ーク認識は、どのような手法を用いてもかまわない。
Next, the peaks in the height distribution diagram of FIG. 11 are recognized, and the height of each colored layer is measured. (Step 12). For peak recognition, any method may be used.

【0039】次に、スペーサー高さHS を求める(ステ
ップ13)。スペーサー高さはカラーフィルタをセル組
みした後、セルギャップを決定する重要な要素である。
スペーサー高さはW1 の最大値をHT としても良いが、
測定精度を向上させるためスペーサーの断面積がある面
積になる高さをHT とし、高さ測定装置3でのスパイク
ノイズなどの影響をなくすのが望ましい。
Next, the spacer height H S is obtained (step 13). The spacer height is an important factor that determines the cell gap after assembling the color filters into cells.
The maximum value of the spacer height W 1 may be H T but,
In order to improve the measurement accuracy, it is desirable that the height at which the cross-sectional area of the spacer reaches a certain area be H T to eliminate the influence of spike noise or the like in the height measurement device 3.

【0040】次に、得られた各層の高さから、各層の膜
厚を計算する(ステップ14)。
Next, the thickness of each layer is calculated from the obtained height of each layer (step 14).

【0041】次に、スペーサの断面積、スペーサーの位
置を測定する(ステップ15)。ステップ5で行った2
値化では、スペーサーのどの部分で2値化したか正確に
はわからない。そこで、ステップ12で求めた各着色層
の高さからしきい値THSを求め、再度2値化を行なう。
Next, the sectional area of the spacer and the position of the spacer are measured (step 15). 2 performed in step 5
In the binarization, it is not known exactly which part of the spacer has been binarized. Therefore, the threshold value THS is obtained from the height of each colored layer obtained in step 12, and binarization is performed again.

【0042】しきい値THSで2値化した画像について特
徴量を測定し、スペーサー断面積As 、スペーサー位置
X軸最大値Xmax 、最小値Xmin 、Y軸最大値Ymax
min を求める(ステップ16)。
The threshold T for the binarized image was measured feature value with HS, spacer cross-sectional area A s, the spacer positions the X-axis maximum value X max, the minimum value X min, Y-axis maximum value Y max,
Y min is obtained (step 16).

【0043】次にウインドウ内のエッジ位置を測定する
(ステップ17)。開口部エッジの測定について、W3
のウインドウについて説明する。まず、測定するエッジ
と平行方向にウインドウ内で高さデータの平均を取りノ
イズを除去する。図12に平均後の高さデータを示す。
このデータにさらに移動平均をかけノイズを除去し、微
分をかけたデータを図13に示す。この図13の微分値
のピーク位置をエッジ位置E3 として認識する。ピーク
の認識にはどのような手法を用いてもかまわない。以下
同様にW4 について開口部エッジを測定しE4 を求め
る。
Next, the edge position in the window is measured (step 17). For the measurement of the opening edge, W 3
Window will be described. First, the height data is averaged in a window in a direction parallel to the edge to be measured, and noise is removed. FIG. 12 shows height data after averaging.
FIG. 13 shows data obtained by further performing a moving average on this data to remove noise and performing differentiation. Recognizing the peak position of the differential value of FIG. 13 as the edge position E 3. Any method may be used for peak recognition. The following Similarly W 4 determine the E 4 measures the opening edge on.

【0044】次にストライプ部分のエッジ測定につい
て、W5 のウインドウについて説明する。まず、測定す
るエッジと平行方向にウインドウ内で高さデータの平均
をとりノイズを除去する。図14に平均後の高さデータ
を示す。このデータにさらに移動平均をかけノイズを除
去し、微分をかけたデータを図15に示す。この図15
の微分値のピーク位置をエッジとして認識する。ピーク
○1は開口部エッジ、ピーク○2はストライプエッジ、
ピーク○3は隣のストライプエッジ、ピーク○4は隣の
画素の開口部エッジである。ピーク認識はウインドウW
3と同様に行い、開口部エッジE5a、ストライプエッジ
位置E5b、隣のストライプエッジ位置E5c、隣の画素の
開口部エッジ位置E5dを測定する。
[0044] Next, the edge measurement of the stripe part, a description will be given of the window of W 5. First, height data is averaged in a window in a direction parallel to the edge to be measured, and noise is removed. FIG. 14 shows height data after averaging. FIG. 15 shows data obtained by further performing a moving average on this data to remove noise and then performing differentiation. This FIG.
Is recognized as an edge. Peak 1 is the opening edge, peak 2 is the stripe edge,
Peak 3 is the edge of the adjacent stripe, and peak 4 is the edge of the opening of the adjacent pixel. Window W for peak recognition
The measurement is performed in the same manner as in step 3, and the opening edge position E 5a , the stripe edge position E 5b , the adjacent stripe edge position E 5c , and the opening edge position E 5d of the adjacent pixel are measured.

【0045】以下同様にW6 について、開口部エッジE
6d、ストライプエッジ位置E6c、隣のストライプエッジ
位置E6b、隣の画素の開口部エッジ位置E6aを測定し
た。また、W1 〜W6 以外にウインドウを設定してエッ
ジを測定し、他の項目について測定を行ってもかまわな
い。
Similarly, for W 6 , the opening edge E
6d , a stripe edge position E 6c , an adjacent stripe edge position E 6b , and an opening edge position E 6a of an adjacent pixel were measured. Alternatively, a window may be set other than W 1 to W 6 to measure the edge, and the other items may be measured.

【0046】次にスペーサー位置、エッジ位置から、ス
トライプ端部からの距離P1 、窓開口部端部からの距離
2 ,P3 、画素開口部間の距離L1 、画素開口部幅L
2 、ストライプ幅L3 、ストライプ間の距離L4 、L5
をそれぞれ求める(ステップ18)。
Next, from the spacer position and the edge position, the distance P 1 from the end of the stripe, the distances P 2 and P 3 from the end of the window opening, the distance L 1 between the pixel openings, and the width L of the pixel opening.
2, the stripe width L 3, the distance between the stripes L 4, L 5
Are obtained (step 18).

【0047】最後に測定結果を表示装置7に表示する。
(ステップ19) 以下、実際の測定結果の一例を説明する。測定は図1に
示すカラーフィルタにおいて、製造時のエッチング時間
および着色層膜厚の水準を変化させた複数のサンプルに
ついて行った。以下にある水準のサンプル中央付近のス
ペーサーの測定について説明する。
Finally, the measurement result is displayed on the display device 7.
(Step 19) An example of an actual measurement result will be described below. The measurement was performed on a plurality of samples of the color filter shown in FIG. 1 in which the etching time during the production and the level of the colored layer thickness were changed. The following describes the measurement of the spacer near the center of the sample at a certain level.

【0048】まず、手動でサンプルをステージ2に設置
して測定開始すると、ステージ2は高さ測定装置の測定
範囲内に前記スペーサーがくるようにサンプルを移動さ
せる。
First, when a sample is manually placed on the stage 2 and measurement is started, the stage 2 moves the sample such that the spacer comes within the measurement range of the height measuring device.

【0049】次に、高さ測定装置3は高さ測定を開始
し、データ処理装置5に高さデータを送る。高さ測定装
置3は、光干渉式高さ計を用い、□200μmの範囲に
ついて、1画素□0.4μmで500×500画素につ
いて、高さ精度±0.05μmの精度で測定した。デー
タ処理装置5で高さデータの最大値Hmax 、最小値Hmi
n 、高さ範囲Rを求めたところ以下のようになった。な
お、H=4.00とした。
Next, the height measuring device 3 starts height measurement and sends height data to the data processing device 5. The height measuring device 3 used an optical interference type height meter, and measured with a height accuracy of ± 0.05 μm for 500 × 500 pixels in one pixel of 0.4 μm in a range of 200 μm. Maximum value H max of the height data in the data processing device 5, the minimum value H mi
n and the height range R were determined as follows. In addition, H was set to 4.00.

【0050】Hmax = 8.90[μm] Hmin = 1.00[μm] R = 7.90[μm] 次にスペーサー部分を切り出すために高さによる2値化
を実施した。2値化のしきい値THを下記[式1]によ
り決めたところ、TH=7.32となった。
H max = 8.90 [μm] H min = 1.00 [μm] R = 7.90 [μm] Next, in order to cut out the spacer portion, binarization by height was performed. When the threshold value TH for binarization was determined by the following [Equation 1], TH = 7.32.

【0051】[式1] TH = Hmin + 0.8×R 2値化した画像の白い塊に対して面積、長さ、幅、重心
位置等の特徴量を測定したところ、予め設定した面積、
長さ、幅の範囲内に入っている塊が1つ存在したため、
これをスペーサーとして認識し、重心位置Xc,Ycを
記憶した。
[Equation 1] TH = Hmin + 0.8 × R When a characteristic amount such as an area, a length, a width, and a position of a center of gravity was measured for a white block of the binarized image, an area set in advance was calculated.
Because there was one lump in the range of length and width,
This was recognized as a spacer, and the center of gravity positions Xc and Yc were stored.

【0052】次に前記重心位置Xc,Ycを基準にし
て、W1 〜W6 のウインドウを設定した。
Next, windows W 1 to W 6 were set based on the positions of the centers of gravity Xc and Yc.

【0053】次にウインドウW2 内の平均高さを求めた
ところ、開口部高さWH は以下のようになった。
Next, when the average height in the window W 2 was determined, the opening height W H was as follows.

【0054】WH = 2.50[μm] 次にウインドウW1 について高さデータの分布図を作成
した。本実施例では、分布の刻み間隔Hdiv をHdiv
0.02[μm]として下記[式2]より分割数DIV
を求めところ、DIV=395となった。
W H = 2.50 [μm] Next, a distribution diagram of height data was created for the window W 1 . In this embodiment, the distribution interval H div is represented by H div =
The division number DIV is calculated from the following [Equation 2] as 0.02 [μm].
Was obtained, DIV = 395 was obtained.

【0055】[式2] DIV=(Hmax −Hmin )/Hdiv (DIVは整
数) 高さデータの分布図横軸の高さ分割値Dと実際の高さH
には、下記[式3]の関係がある。
[0055] [Formula 2] DIV = (H max -H min) / H div (DIV is integer) actual height H and the height divided value D of the distribution diagram the horizontal axis of the height data
Has the relationship of the following [Equation 3].

【0056】[式3] H=Hmin +Hdiv ・D 次に高さ分布図のピーク位置を認識した。ピーク位置の
認識は、まず高さ最小値からBM膜厚設計値の範囲で、
画素数が最大となる高さ分割値をBM高さの分割値HD
BMと認識し、上記[式3]によってBM高さHBMを求め
る。以下同様に、このBM高さを基準として、青色層膜
厚設計値の60%から140%の範囲で画素数が最大と
なる高さ分割値から青色層高さHB を求める。次に青色
層高さを基準に緑色層膜厚設計値の60%から140%
の範囲で画素数が最大となる高さ分割値から緑色層高さ
G を求める。次に緑色層高さを基準に赤色層膜厚設計
値の60%から140%の範囲で画素数が最大となる高
さ分割値から赤色層高さHB を求める。今回は、前述の
ようなピーク認識手法を使用したが、微分等を利用して
ピークを認識してもかまわない。それぞれのピーク位
置、着色層高さは以下のようになった。
[Equation 3] H = H min + H div · D Next, the peak position in the height distribution diagram was recognized. Recognition of the peak position is performed in the range from the minimum height value to the BM film thickness design value.
The height division value that maximizes the number of pixels is the BM height division value HD
Recognizing BM , the BM height H BM is obtained by the above [Equation 3]. Similarly, based on the BM height, it obtains the blue layer height H B from the height divided value the number of pixels is maximum in the range of 60% of the blue layer thickness design value of 140%. Next, 60% to 140% of the green layer thickness design value based on the blue layer height
The number of pixels in the range of obtaining the green layer height H G from the height divided value becomes maximum. Then determine the red layer height H B number of pixels from the height divided value becomes maximum in the range of 60% to 140% of the red layer thickness design value relative to the green layer height. In this case, the peak recognition method as described above is used, but the peak may be recognized using differentiation or the like. The respective peak positions and coloring layer heights were as follows.

【0057】HDBM = 15 HDB = 140 HDG = 265 HBM = 1.30 [μm] HB = 3.80 [μm] HG = 6.30 [μm] 次に、スペーサー頂上部の高さHT を求める(ステップ
13)。高さ測定装置3でのスパイクノイズなどの影響
をなくし測定精度を向上させるため、ある断面積Sにな
る分割値HDT を求める。高さ分布図のある分割値HD
T でのスペーサー断面積Sは、下記[式4]になる。
[0057] HD BM = 15 HD B = 140 HD G = 265 H BM = 1.30 [μm] H B = 3.80 [μm] H G = 6.30 [μm] Next, the spacer apex height HT is determined (step 13). To improve the measurement accuracy without the influence of such spike noise at the level measuring device 3 calculates the division value HD T that causes the cross-sectional area S. Division value HD with height distribution diagram
The spacer cross-sectional area S at T is represented by the following [Equation 4].

【0058】[式4] x :高さ分割値 f(x):高さ分割値xでの画素数 DIV :高さ分布図の分割数 P :1画素の幅[μm] そこで、以下の[式5]を満たす分割値HDT を求める
ことで、スペーサーの断面積Aになる分割値が得られ
る。
[Equation 4] x: height division value f (x): number of pixels at height division value x DIV: division number of height distribution map P: width of one pixel [μm] Then, division value satisfying the following [Equation 5] by obtaining the HD T, division value is obtained to be the cross-sectional area a of the spacer.

【0059】[式5] 本実施例では、A=2.00としたところ、HD T =3
45を得た。この高さ分割値HDT を[式3]代入し
て、スペーサー頂上部の高さHT は以下のようになっ
た。
[Equation 5] In this embodiment, when A = 2.00, HD T = 3
45 was obtained. By substituting this height division value HD T into [Equation 3], the height H T at the top of the spacer was as follows.

【0060】HT = 7.90 [μm] これよりスペーサー高さHS は次のようになる。H T = 7.90 [μm] From this, the spacer height H S is as follows.

【0061】 次に、得られた各層の高さから、各層の膜厚を計算す
る。BM膜厚TBM、青色層膜厚TB 、緑色層膜厚TG
赤色層膜厚TR を[式6][式7][式8][式9]よ
り計算。
[0061] Next, the thickness of each layer is calculated from the obtained height of each layer. BM thickness T BM , blue layer thickness T B , green layer thickness T G ,
Red layer thickness T R the Expression 6] calculated from Expression 7] [Expression 8] [Expression 9].

【0062】[式6] TBM = HB −HW [式7] TB = HB −HBM [式8] TG = HG −HB [式9] TR = HT −HG 得られた各層の膜厚は以下のようになった。[0062] [Formula 6] T BM = H B -H W [ Expression 7] T B = H B -H BM [ Equation 8] T G = H G -H B [ Expression 9] T R = H T -H G The film thickness of each obtained layer was as follows.

【0063】TBM = 1.30 [μm] TB = 2.50 [μm] TG = 2.50 [μm] TR = 2.50 [μm] 次に、スペーサの断面積、スペーサーの位置を測定し
た。本実施例では、赤色層の中央での柱断面の面積をス
ペーサー断面積としたので、2値化のしきい値THS
[式10]で求めた。その結果、THS =7.55を得
た。
T BM = 1.30 [μm] T B = 2.50 [μm] T G = 2.50 [μm] T R = 2.50 [μm] Next, the sectional area of the spacer and the position of the spacer Was measured. In this embodiment, since the area of the column cross section at the center of the red layer was defined as the spacer cross sectional area, the threshold value T HS for binarization was obtained by [Equation 10]. As a result, to obtain the TH S = 7.55.

【0064】[式10] THS = ( HT + HG )/2 しきい値THS で2値化した画像について特徴量を測定
し、スペーサー断面積As 、スペーサー位置X軸最大値
max 、最小値Xmin 、Y軸最大値Ymax 、Ymin を求
めたところ、以下のようになった。
[0064] [Formula 10] TH S = (H T + H G) / 2 threshold TH feature amounts measured for binarized image S, spacer cross-sectional area A s, the spacer positions the X-axis maximum value X When the max , the minimum value X min , and the Y-axis maximum values Y max , Y min were determined, they were as follows.

【0065】 As = 140 [μm2 ] Xmax = 125 Xmin = 200 Ymax = 230 Ymin = 270 次にウインドウW3 、W4 、W5 、W6 のエッジ位置を
測定したところ、エッジ位置は以下のようになった。
[0065] A s = 140 [μm 2] X max = 125 X min = 200 Y max = 230 Y min = 270 then the window W 3, W 4, W 5 , was measured edge position of W 6, an edge The position was as follows.

【0066】E3 = 200.0 E4 = 300.0 E5a = 50.0 E5b = 57.5 E5c = 67.5 E5d = 75.0 E6a = 250.0 E6b = 257.5 E6c = 267.5 E6d = 275.0 次にスペーサー位置、エッジ位置から、ストライプ端部
からの距離P1 を[式11]で、窓開口部端部からの距
離P2 ,P3 を[式12]、[式13]で、画素開口部
間の距離L1 を[式14]で、画素開口部幅L2 を[式
13]で、ストライプ幅L3 を[式16]で、ストライ
プ間の距離L4 、L5 を[式17][式18]でそれぞ
れ求めた。
E 3 = 200.0 E 4 = 300.0 E 5a = 50.0 E 5b = 57.5 E 5c = 67.5 E 5d = 75.0 E 6a = 250.0 E 6b = 257. 5 E 6c = 267.5 E 6d = 275.0 Next, from the spacer position and the edge position, the distance P 1 from the stripe end is expressed by [Equation 11], and the distances P 2 and P 3 from the window opening end are calculated. the expression 12], in [expression 13], the distance L 1 between the pixel apertures in the expression 14], the pixel aperture width L 2 in the formula 13, the stripe width L 3 in the formula 16] And the distances L 4 and L 5 between the stripes were determined by [Equation 17] and [Equation 18], respectively.

【0067】[式11] P1 =( Xmin − E5b )× P [式12] P2 =( Ymin − E3 )× P [式13] P3 =( E4 − Ymax )× P [式14] L1 =( E4 − E3 )× P [式15] L2 =( E6a − E5d )× P [式16] L3 =( E6b − E5c )× P [式17] L4 =( E5c − E5b )× P [式18] L5 =( E5d − E5a )× P 計算結果は以下のようになった。[Equation 11] P 1 = (X min −E 5b ) × P [Equation 12] P 2 = (Y min −E 3 ) × P [Equation 13] P 3 = (E 4 −Y max ) × P [formula 14] L 1 = (E 4 - E 3) × P [ equation 15] L 2 = (E 6a - E 5d) × P [ equation 16] L 3 = (E 6b - E 5c) × P [ formula 17] L 4 = (E 5c - E 5b) × P [ equation 18] L 5 = (E 5d - E 5a) × P calculated results were as follows.

【0068】P1 = 27.0 [μm] P2 = 12.0 [μm] P3 = 12.0 [μm] L1 = 40.0 [μm] L2 = 70.0 [μm] L3 = 76.0 [μm] L4 = 4.0 [μm] L5 = 10.0 [μm] 他の着色層上のスペーサーおよび、他の水準のサンプル
についても同様にして測定を行った。得られた測定結果
と、従来の方法で得られた結果には高い相関があった。
また、同じサンプルを繰り返し測定した場合の繰り返し
精度は、いずれの測定項目も従来の方法より向上した。
測定時間については大幅に短縮できた。
P 1 = 27.0 [μm] P 2 = 12.0 [μm] P 3 = 12.0 [μm] L 1 = 40.0 [μm] L 2 = 70.0 [μm] L 3 = 76.0 [μm] L 4 = 4.0 [μm] L 5 = 10.0 [μm] The same measurement was performed for spacers on other colored layers and samples of other levels. There was a high correlation between the obtained measurement results and the results obtained by the conventional method.
In addition, the repetition accuracy when the same sample was repeatedly measured was improved in all measurement items compared to the conventional method.
The measurement time was significantly reduced.

【0069】本実施例では高さ測定装置として、ある範
囲を画素に分割してその画素ごとの高さを測定する装置
を用いたが、予め設定したある直線もしくは、ある点に
ついて高さを測定することで、突起状物の有無を判定し
てもかまわない。
In this embodiment, a device for measuring the height of each pixel by dividing a certain range into pixels is used as the height measuring device. However, the height is measured for a predetermined straight line or a certain point. By doing so, the presence or absence of the protrusion may be determined.

【0070】本実施例では、図2に示すカラーフィルタ
について測定を実施したが、図16に示すカラーフィル
タについても測定可能である。図16は、3色の着色層
以外に樹脂層111を積層し、パターン加工してスペー
サーを設置したカラーフィルタである。
In this embodiment, the measurement was performed for the color filter shown in FIG. 2, but the color filter shown in FIG. 16 can also be measured. FIG. 16 shows a color filter in which a resin layer 111 is laminated in addition to the three colored layers, and pattern processing is performed to install spacers.

【0071】また、この測定装置を製造工程で使用した
ところ、工程の安定化、不良品の流出防止等の効果をあ
げることができた。工程の安定化については、最終製品
のスペーサーを測定することで各着色層の膜厚および現
像状態がわかるため、これをフィードバックすることで
工程状態の変動を問題のない範囲内に管理できた。今回
は常に測定結果を監視していたが、ある設定枚数の不良
品がでた場合に警報をならして作業員に工程の異常を知
らせてもかまわない。また、全ての基板について測定を
おこない良否判定し、不良品を抜き出すことで不良品の
流出防止がはかれた。
Further, when this measuring device was used in the manufacturing process, the effects of stabilizing the process, preventing outflow of defective products, and the like were obtained. Regarding the stabilization of the process, the thickness of each colored layer and the developed state can be determined by measuring the spacer of the final product. By feeding back the information, fluctuations in the process state could be managed within a range without any problem. This time, the measurement results were constantly monitored. However, if a certain number of defective products are found, an alarm may be issued to notify the worker of a process abnormality. In addition, all the substrates were measured to determine the quality, and defective products were extracted to prevent outflow of defective products.

【0072】[実施例2]以下、本発明における輝度情
報を用いた測定の実施の一例を図面に基づいて説明す
る。
[Embodiment 2] An embodiment of measurement using luminance information in the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0073】測定対象は実施例1と同様のため説明は省
略する。
Since the object to be measured is the same as that of the first embodiment, the description is omitted.

【0074】図17は、本発明の測定装置の模式図で、
ステージ2、照明装置8、撮像装置4、データ処理装置
5、制御装置6、表示装置7から構成されている。
FIG. 17 is a schematic view of the measuring apparatus of the present invention.
It comprises a stage 2, a lighting device 8, an imaging device 4, a data processing device 5, a control device 6, and a display device 7.

【0075】ステージ2は、カラーフィルタを表面に載
置、固定し、カラーフィルタの任意の点が測定できるよ
うにするもので、XY方向に移動する。
The stage 2 mounts and fixes the color filter on the surface so that any point of the color filter can be measured, and moves in the XY directions.

【0076】照明装置8は測定対象に光を照射する。今
回は同軸落射照明を用いたが、暗視野照明を用いても構
わない。また、透過照明を併用してもかまわない。
The illumination device 8 irradiates light to the object to be measured. This time, coaxial epi-illumination was used, but dark-field illumination may be used. Further, transmission illumination may be used in combination.

【0077】撮像装置4は、カラーフィルタ上のある範
囲を画素に分割して、その画素ごとの輝度を測定するも
ので、制御装置6より輝度測定開始信号を与えられると
輝度測定を開始し、測定を終了すると輝度測定終了信号
を制御部6に出力し、輝度データをデータ処理装置5に
転送する。撮像装置として、本実施例ではエリアセンサ
CCDカメラを用いたが、ある範囲を画素に分割して、
その画素ごとの輝度を測定するものであれば、ラインセ
ンサCCDカメラ等を用いても構わない。
The imaging device 4 divides a certain range on the color filter into pixels and measures the luminance of each pixel. When a luminance measurement start signal is given from the control device 6, the luminance measurement starts. When the measurement is completed, a luminance measurement end signal is output to the control unit 6, and the luminance data is transferred to the data processing device 5. In the present embodiment, an area sensor CCD camera was used as the imaging device, but a certain range was divided into pixels,
A line sensor CCD camera or the like may be used as long as it measures the luminance of each pixel.

【0078】データ処理装置5は、撮像装置4で測定し
た輝度データから、スペーサーの断面積、長さ、位置、
数およびカラーフィルタ画素開口部幅、画素開口部間の
距離、ストライプ幅、ストライプ間の距離を測定するも
のである。制御装置6からデータ処理開始信号を与えら
れるとデータ処理を開始し、データ処理を終了するとデ
ータ処理終了信号を制御装置6に出力する。
The data processing device 5 calculates the cross-sectional area, length, position, and position of the spacer from the luminance data measured by the imaging device 4.
The number and the width of the color filter pixel opening, the distance between the pixel openings, the stripe width, and the distance between the stripes are measured. When a data processing start signal is given from the control device 6, the data processing is started, and when the data processing is completed, a data processing end signal is output to the control device 6.

【0079】制御装置6は、決められた手順に基づい
て、前記ステージと輝度測定装置とデータ処理装置に操
作指令を与えるためのものである。
The control device 6 is for giving an operation command to the stage, the luminance measuring device and the data processing device based on a determined procedure.

【0080】表示装置7は、データ処理装置で測定した
スペーサーの断面積、長さ、位置、数を表示するための
ものである。
The display device 7 is for displaying the cross-sectional area, length, position, and number of spacers measured by the data processing device.

【0081】次に本発明の測定装置の作用を図21のフ
ローチャートを用いて説明する。
Next, the operation of the measuring apparatus of the present invention will be described with reference to the flowchart of FIG.

【0082】まず、サンプルをステージに設置し測定開
始ボタンを押す。(ステップ1)サンプルの設置は、手
動でも、ロボットアーム等で自動で行ってももかまわな
い。測定開始ボタンが押されると、制御装置6は測定す
るスペーサーが撮像装置の測定範囲内にくるように予め
設定した移動量と、移動開始信号をステージ2に与え
る。この時、サンプル設置位置にバラツキがある場合
は、アライメントをかけ設置誤差を測定しステージの移
動量を補正するのが望ましい。移動開始信号を与えられ
たステージ2は移動を開始し、移動終了後に移動終了信
号を制御装置6に与える(ステップ2)。
First, the sample is set on the stage and the measurement start button is pressed. (Step 1) The sample may be set manually or automatically by a robot arm or the like. When the measurement start button is pressed, the control device 6 gives the stage 2 a movement amount set in advance so that the spacer to be measured is within the measurement range of the imaging device, and a movement start signal. At this time, if there is a variation in the sample installation position, it is desirable to correct the stage movement amount by performing alignment and measuring the installation error. The stage 2 to which the movement start signal is given starts to move, and after the movement ends, gives a movement end signal to the control device 6 (step 2).

【0083】移動終了信号が与えられた制御装置6は、
撮像装置4に輝度測定開始信号を与える。測定開始信号
を与えられた撮像装置4は輝度測定を開始し、測定終了
後にデータ処理装置5に輝度データを送り、輝度測定終
了信号を制御装置6に与える(ステップ3)。図18は
撮像装置4で測定されたカラーフィルタの輝度データの
模式図で、輝度が高い部分を白く、低い部分を黒く表示
している。図19は図18のXX’間の輝度を、図20
は図18のYY’間の輝度を示しており、横軸が位置、
縦軸が輝度である。
The control device 6 to which the movement end signal has been given
A luminance measurement start signal is given to the imaging device 4. The imaging device 4 to which the measurement start signal is given starts the brightness measurement, sends the brightness data to the data processing device 5 after the measurement is completed, and gives a brightness measurement end signal to the control device 6 (step 3). FIG. 18 is a schematic diagram of the luminance data of the color filters measured by the image pickup device 4, where a high luminance portion is displayed in white and a low luminance portion is displayed in black. FIG. 19 shows the luminance between XX ′ in FIG.
Indicates the luminance between YY ′ in FIG. 18, and the horizontal axis indicates the position,
The vertical axis is luminance.

【0084】輝度測定終了信号を与えられた制御装置6
は、データ処理装置5にデータ処理開始信号を与える。
データ処理開始信号を与えられたデータ処理装置5は、
以下の手順でスペーサーの長さ、断面積、位置、数を測
定する。
Control device 6 supplied with a luminance measurement end signal
Supplies a data processing start signal to the data processing device 5.
The data processing device 5 given the data processing start signal
Measure the length, cross-sectional area, position, and number of spacers according to the following procedure.

【0085】まず、図22に示すように予め設定された
スペーサー部分の輝度データをマスターパターンとして
図18の輝度データに対してパターンマッチングをかけ
てスペーサーの概略位置、数を測定する。スペーサーの
数が1つ以上の場合は、そのまま処理を継続するが、存
在しないときは画面内にスペーサーが存在しないかスペ
ーサーの形が極端に異なるとして処理を終了し、表示装
置7にその旨を表示する(ステップ4)。
First, as shown in FIG. 22, using the brightness data of the spacer portion set in advance as a master pattern, the brightness data of FIG. 18 is subjected to pattern matching to measure the approximate position and number of spacers. When the number of spacers is one or more, the process is continued as it is. When there is no spacer, the process is terminated assuming that there is no spacer in the screen or the shape of the spacer is extremely different, and the display device 7 informs the display device 7 to that effect. It is displayed (step 4).

【0086】スペーサーが1つの場合は、マスターパタ
ン中心位置Xc,Ycを記憶する(ステップ5)。スペ
ーサーが2つ存在した場合は、ステップ6〜ステップ1
1を各スペーサーごとに繰り返す。
If there is one spacer, the center positions Xc and Yc of the master pattern are stored (step 5). If there are two spacers, step 6 to step 1
1 is repeated for each spacer.

【0087】次に前記中心位置を基準にして、図23に
示すW1 〜W6 のウインドウを設定する(ステップ
6)。これらのウインドウの大きさとXc ,Yc との相
対位置は測定するカラーフィルタに応じて予め設定して
いる。W1 はスペーサーの長さを測定するためのウイン
ドウである。W2 はスペーサーの幅を測定するためのウ
インドウである。W3 、W4 は開口部エッジを測定する
ウインドウである。W5 、W6 は開口部エッジおよびス
トライプエッジおよび隣接するストライプエッジを測定
するためのウインドウである。
Next, windows W 1 to W 6 shown in FIG. 23 are set based on the center position (step 6). Size and X c of these windows, the relative position between the Y c is set in advance in accordance with the color filter to be measured. W 1 is a window for measuring the length of the spacer. W 2 is a window for measuring the width of the spacer. W 3 and W 4 are windows for measuring the opening edge. W 5 and W 6 are windows for measuring the opening edge, the stripe edge, and the adjacent stripe edge.

【0088】次にウインドウW1 およびW2 内のエッジ
個数から設計どおりに着色層が積層されているかを判定
する(ステップ7)。エッジの測定について、W1 のウ
インドウについて説明する。ます、測定するエッジと平
行方向にウインドウ内で輝度データの平均を取りノイズ
を除去する。図24に平均後の輝度データを示す。図2
4のaおよびdは図1の5の着色層のエッジであり、b
およびcは図1の4の着色層のエッジである。このデー
タにさらに移動平均をかけノイズを除去し、2回微分を
かけたデータを図25に示す。この図25の2回微分値
のピーク位置をエッジ位置E1a、E1b、E1c、E1dとし
て認識する。ピークの認識にはどのような手法を用いて
もかまわない。以下同様にW2 についてエッジ位置
2a、E2b、E2c、E2dを測定する。
Next, it is determined from the number of edges in the windows W 1 and W 2 whether or not the colored layers are laminated as designed (step 7). For the measurement of the edge, a description will be given of the window of W 1. First, the luminance data is averaged in a window in a direction parallel to the edge to be measured to remove noise. FIG. 24 shows luminance data after averaging. FIG.
4a and 4d are the edges of the colored layer of 5 in FIG.
And c are the edges of the colored layer of FIG. FIG. 25 shows data obtained by further performing a moving average on this data to remove noise and then performing twice differentiation. The peak positions of the second derivative in FIG. 25 are recognized as edge positions E 1a , E 1b , E 1c , and E 1d . Any method may be used for peak recognition. Hereinafter, similarly, the edge positions E 2a , E 2b , E 2c and E 2d are measured for W 2 .

【0089】次にウインドウW1 およびW2 内のエッジ
位置からスペーサーの長さ、幅、断面積、位置を測定す
る(ステップ8)。
Next, the length, width, cross-sectional area and position of the spacer are measured from the edge positions in the windows W 1 and W 2 (step 8).

【0090】次にストライプ部分のエッジ測定を行う
(ステップ9)。W3 〜W6 のウインドウについて、ス
テップ7と同様にエッジ位置の認識を行う。
Next, the edge of the stripe portion is measured (step 9). Edge positions are recognized for windows W 3 to W 6 in the same manner as in step 7.

【0091】次にスペーサー位置、エッジ位置から、ス
トライプ端部からの距離P1 、窓開口部端部からの距離
2 ,P3 、画素開口部間の距離L1 、画素開口部幅L
2 、ストライプ幅L3 、ストライプ間の距離L4 、L5
をそれぞれ求める(ステップ10)。
Next, from the spacer position and the edge position, the distance P 1 from the end of the stripe, the distances P 2 and P 3 from the end of the window opening, the distance L 1 between the pixel openings, and the width L of the pixel opening.
2, the stripe width L 3, the distance between the stripes L 4, L 5
Are obtained (step 10).

【0092】最後に測定結果を表示装置7に表示する。
(ステップ11) 以下、実際の測定結果の一例を説明する。測定は図1に
示すカラーフィルタにおいて、製造時のエッチング時間
および着色層膜厚の水準を変化させた複数のサンプルに
ついて行った。以下にある水準のサンプル中央付近のス
ペーサーの測定について説明する。
Finally, the measurement result is displayed on the display device 7.
(Step 11) Hereinafter, an example of an actual measurement result will be described. The measurement was performed on a plurality of samples of the color filter shown in FIG. 1 in which the etching time during the production and the level of the colored layer thickness were changed. The following describes the measurement of the spacer near the center of the sample at a certain level.

【0093】まず、手動でサンプルをステージ2に設置
して測定開始すると、ステージ2は輝度測定装置の測定
範囲内に前記スペーサーがくるようにサンプルを移動さ
せる。
First, when a sample is manually placed on the stage 2 and measurement is started, the stage 2 moves the sample such that the spacer comes within the measurement range of the luminance measuring device.

【0094】次に、撮像装置4は輝度測定を開始し、デ
ータ処理装置5に輝度データを送る。撮像装置4は、エ
リアセンサCCDカメラを用い、□200μmの範囲に
ついて、1画素□0.4μmで500×500画素につ
いて輝度を測定した。
Next, the imaging device 4 starts the luminance measurement and sends the luminance data to the data processing device 5. The imaging device 4 measured the luminance of 500 × 500 pixels in one pixel of 0.4 μm in a range of 200 μm using an area sensor CCD camera.

【0095】次に、パターンマッチングをかけてスペー
サーの数を測定したところ、スペーサーの数は2つであ
った。まずこのうちの1つについての測定を説明する。
Next, when the number of spacers was measured by pattern matching, the number of spacers was two. First, measurement of one of them will be described.

【0096】このスペーサーの中心座標Xc 、Yc は以
下のようになった。
The center coordinates X c and Y c of the spacer were as follows.

【0097】Xc =160 Yc =250 この中心座標を基準にウインドウW1 〜W6 を設定しエ
ッジ位置を測定したところ、エッジ位置は以下のように
なった。
X c = 160 Y c = 250 The windows W 1 to W 6 were set on the basis of the center coordinates, and the edge positions were measured. The edge positions were as follows.

【0098】E1a = 115.0 E1b = 125.0 E1c = 200.0 E1d = 210.0 E2a = 220.0 E2b = 230.0 E2c = 270.0 E2d = 280.0 E3 = 200.0 E4 = 300.0 E5a = 50.0 E5b = 57.5 E5c = 67.5 E5d = 75.0 E6a = 250.0 E6b = 257.5 E6c = 267.5 E6d = 275.0 次にスペーサー位置、エッジ位置から、ストライプ端部
からの距離P1 を[式11]で、窓開口部端部からの距
離P2 ,P3 を[式12]、[式13]で、スペーサー
の長さK1 、幅K2 、断面積Aを[式14]、[式1
5]、[式16]で、画素開口部間の距離L1 を[式1
7]で、画素開口部幅L2 を[式18]で、ストライプ
幅L3 を[式19]で、ストライプ間の距離L4 、L5
を[式20][式21]でそれぞれ求めた。
E 1a = 115.0 E 1b = 125.0 E 1c = 200.0 E 1d = 210.0 E 2a = 220.0 E 2b = 230.0 E 2c = 270.0 E 2d = 280. 0 E 3 = 200.0 E 4 = 300.0 E 5a = 50.0 E 5b = 57.5 E 5c = 67.5 E 5d = 75.0 E 6a = 250.0 E 6b = 257.5 E 6c = 267.5 E 6d = 275.0 Next, from the spacer position and the edge position, the distance P 1 from the stripe end is represented by [Equation 11], and the distances P 2 and P 3 from the window opening end are represented by [Equation 11]. In Equations 12 and 13, the length K 1 , width K 2 , and cross-sectional area A of the spacer are represented by Equations 14 and 1, respectively.
5], in [Expression 16], the distance L 1 between the pixel apertures [Formula 1
7], the pixel opening width L 2 is represented by [Equation 18], the stripe width L 3 is represented by [Equation 19], and the distances L 4 and L 5 between the stripes are obtained.
Were obtained by [Equation 20] and [Equation 21], respectively.

【0099】[式11] P1 =( E1b − E5b )× P [式12] P2 =( E2b − E3 )× P [式13] P3 =( E4 − E2c )× P [式14] K1 =( E1c − E1b )× P [式15] K2 =( E2c − E2b )× P [式16] A =( K1 − K2 )× K2 + 0.78
5 × K2 2 [式17] L1 =( E4 − E3 )× P [式18] L2 =( E6a − E5d )× P [式19] L3 =( E6b − E5c )× P [式20] L4 =( E5c − E5b )× P [式21] L5 =( E5d − E5a )× P 計算結果は以下のようになった。
[Equation 11] P 1 = (E 1b −E 5b ) × P [Equation 12] P 2 = (E 2b −E 3 ) × P [Equation 13] P 3 = (E 4 −E 2c ) × P [Expression 14] K 1 = (E 1c −E 1b ) × P [Expression 15] K 2 = (E 2c −E 2b ) × P [Expression 16] A = (K 1 −K 2 ) × K 2 + 0.78
5 × K 2 2 [Formula 17] L 1 = (E 4 - E 3) × P [ Equation 18] L 2 = (E 6a - E 5d) × P [ Equation 19] L 3 = (E 6b - E 5c ) × P [equation 20] L 4 = (E 5c - E 5b) × P [ equation 21] L 5 = (E 5d - E 5a) × P calculated results were as follows.

【0100】P1 = 27.0 [μm] P2 = 12.0 [μm] P3 = 12.0 [μm] K1 = 30.0 [μm] K2 = 16.0 [μm] A =425.0 [μm2 ] L1 = 40.0 [μm] L2 = 70.0 [μm] L3 = 76.0 [μm] L4 = 4.0 [μm] L5 = 10.0 [μm] 他の着色層上のスペーサーおよび、他の水準のサンプル
についても同様にして測定を行った。得られた測定結果
と、従来の方法で得られた結果には高い相関があった。
また、同じサンプルを繰り返し測定した場合の繰り返し
精度は、いずれの測定項目も従来の方法より向上した。
測定時間については大幅に短縮できた。
P 1 = 27.0 [μm] P 2 = 12.0 [μm] P 3 = 12.0 [μm] K 1 = 30.0 [μm] K 2 = 16.0 [μm] A = 425.0 [μm 2 ] L 1 = 40.0 [μm] L 2 = 70.0 [μm] L 3 = 76.0 [μm] L 4 = 4.0 [μm] L 5 = 10.0 [ μm] The same measurement was performed for spacers on other colored layers and samples of other levels. There was a high correlation between the obtained measurement results and the results obtained by the conventional method.
In addition, the repetition accuracy when the same sample was repeatedly measured was improved in all measurement items compared to the conventional method.
The measurement time was significantly reduced.

【0101】本実施例ではスペーサーの認識としてパタ
ーンマッチングを用いたが、周波数フィルタ等を用いて
スペーサー部分のみを強調し認識しても構わない。
In this embodiment, pattern matching is used for recognition of spacers. However, only spacers may be emphasized and recognized using a frequency filter or the like.

【0102】本実施例では、図2に示すカラーフィルタ
について測定を実施したが、図16に示すように3色の
着色層以外に樹脂層を使用してスペーサーを設置したカ
ラーフィルタについても測定可能である。
In this embodiment, the color filter shown in FIG. 2 was measured. However, as shown in FIG. 16, a color filter having a spacer using a resin layer in addition to the three colored layers can also be measured. It is.

【0103】また、この測定装置を製造工程で使用した
ところ、工程の安定化、不良品の流出防止等の効果をあ
げることができた。工程の安定化については、最終製品
のスペーサーを測定することで各着色層の膜厚および現
像状態がわかるため、これをフィードバックすることで
工程状態の変動を問題のない範囲内に管理できた。今回
は常に測定結果を監視していたが、ある設定枚数の不良
品がでた場合に警報をならして作業員に工程の異常を知
らせてもかまわない。また、全ての基板について測定を
おこない良否判定し不良品を抜き出すことで不良品の流
出防止がはかれた。
Further, when this measuring device was used in the manufacturing process, the effects of stabilizing the process, preventing outflow of defective products, and the like were obtained. Regarding the stabilization of the process, the thickness of each colored layer and the developed state can be determined by measuring the spacer of the final product. By feeding back the information, fluctuations in the process state could be managed within a range without any problem. This time, the measurement results were constantly monitored. However, if a certain number of defective products are found, an alarm may be issued to notify the worker of a process abnormality. In addition, the measurement of all the substrates was performed to determine the quality, and defective products were extracted to prevent outflow of defective products.

【0104】[0104]

【発明の効果】請求項1の対向する一対の基板の間に液
晶組成物を挟持してなる液晶表示素子を構成する少なく
とも一方の基板上に設置された突起状物の有無を判定す
る装置によれば、短時間で精度・再現性の良い判定が可
能になるという優れた効果が得られる。
According to the first aspect of the present invention, there is provided an apparatus for judging the presence or absence of a projection provided on at least one of the substrates constituting a liquid crystal display device having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposed substrates. According to this, an excellent effect that determination with good accuracy and reproducibility can be performed in a short time can be obtained.

【0105】請求項2の対向する一対の基板の間に液晶
組成物を挟持してなる液晶表示素子を構成する少なくと
も一方の基板上に設置された突起状物の有無を判定する
装置によれば、突起状物の断面積、位置、数の情報より
短時間で精度・再現性の良い判定が可能になるという優
れた効果が得られる。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an apparatus for judging the presence or absence of a projection on at least one of the substrates constituting a liquid crystal display device having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposed substrates. An excellent effect is obtained in that a determination with good accuracy and reproducibility can be made in a shorter time than the information on the cross-sectional area, position and number of the protrusions.

【0106】請求項3の対向する一対の基板の間に液晶
組成物を挟持してなる液晶表示素子を構成する少なくと
も一方の基板上に設置された突起状物の有無を判定する
装置によれば、突起状物の長さ、位置の情報より短時間
で精度・再現性の良い判定判定が可能になるという優れ
た効果が得られる。
According to a third aspect of the present invention, there is provided an apparatus for judging the presence or absence of a projection on at least one of the substrates constituting a liquid crystal display device having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposed substrates. An excellent effect is obtained in that it is possible to perform determination and determination with good accuracy and reproducibility in a shorter time than the information on the length and position of the projection.

【0107】請求項4の対向する一対の基板の間に液晶
組成物を挟持してなる液晶表示素子を構成する少なくと
も一方の基板上に設置された突起状物の有無を判定する
装置によれば、安価な装置で短時間で判定が可能になる
という優れた効果が得られる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for judging the presence or absence of a projection provided on at least one of the substrates constituting a liquid crystal display device having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposed substrates. An excellent effect that determination can be performed in a short time with an inexpensive device can be obtained.

【0108】請求項5の装置によれば、非接触で判定が
可能になるという優れた効果が得られる。
According to the apparatus of the fifth aspect, an excellent effect that determination can be made without contact is obtained.

【0109】請求項6の装置によれば、基板間の間隙を
一定に保つためのスペーサーについて短時間で精度・再
現性の良い判定が可能になるという優れた効果が得られ
る。
According to the apparatus of claim 6, there is obtained an excellent effect that a spacer for maintaining a constant gap between substrates can be determined in a short time with good accuracy and reproducibility.

【0110】請求項7の装置によれば、予め基板上に設
定した基準位置より測定する部分を決定し、短時間で精
度・再現性の良い判定が可能になるという優れた効果が
得られる。
According to the apparatus of claim 7, an excellent effect is obtained in that a portion to be measured is determined from a reference position set in advance on the substrate, and a determination with good accuracy and reproducibility can be made in a short time.

【0111】請求項8の装置によれば、複数の樹脂層の
積層により成形されたスペーサーについて、撮像手段よ
り得られた輝度情報から少なくとも1つ以上の層を認識
してスペーサー有無の判定が可能になるという優れた効
果が得られる。
According to the apparatus of the eighth aspect, for the spacer formed by laminating a plurality of resin layers, it is possible to recognize at least one or more layers from the luminance information obtained by the imaging means to determine the presence or absence of the spacer. Is obtained.

【0112】請求項9の予め設計された凸部あるいは凹
部を複数有する基板の凸部あるいは凹部を測定する装置
によれば、凸部あるいは凹部の高さ、長さ、断面積、位
置、数の少なくとも1項目を測定することが可能になる
という優れた効果が得られる。
According to the ninth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for measuring a convex portion or a concave portion of a substrate having a plurality of convex portions or concave portions designed in advance, the height, the length, the sectional area, the position, and the number of the convex portions or the concave portions. An excellent effect that at least one item can be measured is obtained.

【0113】請求項10の装置によれば、対向する一対
の基板の間に液晶組成物を挟持してなる液晶表示素子を
構成する少なくとも一方の基板の測定が可能になるとい
う優れた効果が得られる。
According to the apparatus of the tenth aspect, an excellent effect is obtained that at least one of the substrates constituting the liquid crystal display device having the liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposed substrates can be measured. Can be

【0114】請求項11の測定装置によれば、カラーフ
ィルタ上に設置した突起状物、あるいはカラーフィルタ
の表示画素開口部の測定が可能になるという優れた効果
が得られる。
According to the measuring apparatus of the eleventh aspect, an excellent effect is obtained in that it is possible to measure the projections provided on the color filters or the display pixel openings of the color filters.

【0115】請求項12の測定装置によれば、カラーフ
ィルタのブラックマトリクス上に樹脂層により成形され
たスペーサー、あるいはカラーフィルタの表示画素開口
部の測定が可能になるという優れた効果が得られる。
According to the measuring device of the twelfth aspect, an excellent effect is obtained in that the spacer formed by the resin layer on the black matrix of the color filter or the display pixel opening of the color filter can be measured.

【0116】請求項13の測定装置によれば、高さ測定
装置で得られた高さ情報の分布図から、スペーサーの高
さあるいは各層の厚さの測定が可能になるという優れた
効果が得られる。
According to the measuring device of the thirteenth aspect, the excellent effect that the height of the spacer or the thickness of each layer can be measured from the distribution diagram of the height information obtained by the height measuring device is obtained. Can be

【0117】請求項14の測定装置によれば、 (1)前記高さ測定装置で得られた高さ情報の分布図か
ら高さのしきい値を設定 (2)前記しきい値を超える高さを持つ画素から断面積
あるいは長さを測定 するのでスペーサーの断面積の測定が可能になるという
優れた効果が得られる。
According to the measuring device of the present invention, (1) a height threshold value is set from a distribution map of height information obtained by the height measuring device. (2) a height exceeding the threshold value. Since the cross-sectional area or the length is measured from the pixel having the height, an excellent effect that the cross-sectional area of the spacer can be measured is obtained.

【0118】請求項15の測定装置によれば、前記スペ
ーサーの位置を (1)前記高さ測定装置で得られた高さ情報の分布図か
ら高さのしきい値を設定 (2)前記しきい値を越える高さを持つ画素から突起状
物の位置を測定 (3)窓部の位置を測定し、突起状物の窓部からの相対
的な位置を測定 するのでスペーサーの断面積の測定が可能になるという
優れた効果が得られる。
According to the measuring device of the fifteenth aspect, the position of the spacer is determined by: (1) setting a height threshold from a distribution map of height information obtained by the height measuring device; Measure the position of the protrusion from the pixel with a height exceeding the threshold (3) Measure the position of the window and measure the relative position of the protrusion from the window, so measure the cross-sectional area of the spacer An excellent effect of being able to perform is obtained.

【0119】請求項16の測定装置によれば、カラーフ
ィルタの画素を形成する着色層および着色層の間隙の測
定が可能になるという優れた効果が得られる。
According to the measuring device of the sixteenth aspect, an excellent effect is obtained in that it is possible to measure the colored layers forming the pixels of the color filter and the gap between the colored layers.

【0120】請求項17の測定装置によれば、基板に接
触することなく測定が可能になるという優れた効果が得
られる。
According to the measuring apparatus of the seventeenth aspect, an excellent effect that measurement can be performed without contacting the substrate can be obtained.

【0121】請求項18の測定装置によれば、短時間で
精度・再現性の良い判定が可能になるという優れた効果
が得られる。
According to the measuring apparatus of the eighteenth aspect, an excellent effect that determination with good accuracy and reproducibility can be performed in a short time can be obtained.

【0122】請求項19の予め設計された凸部あるいは
凹部を複数有する基板の凸部あるいは凹部の測定装置に
よれば、前記凸部あるいは凹部の長さ、断面積、位置、
数の少なくとも1項目を測定が可能になるという優れた
効果が得られる。
According to the apparatus for measuring a convex portion or a concave portion of a substrate having a plurality of convex portions or concave portions designed in advance according to claim 19, the length, cross-sectional area, position,
An excellent effect that at least one item of the number can be measured is obtained.

【0123】請求項20の測定装置によれば、対向する
一対の基板の間に液晶組成物を挟持してなる液晶表示素
子を構成する少なくとも一方の基板の測定が可能になる
という優れた効果が得られる。
According to the measuring apparatus of the twentieth aspect, there is an excellent effect that it is possible to measure at least one of the substrates constituting a liquid crystal display device having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposed substrates. can get.

【0124】請求項21の測定装置によれば、カラーフ
ィルタ上に設置した突起状物、あるいはカラーフィルタ
の表示画素開口部の測定をが可能になるという優れた効
果が得られる。
According to the measuring apparatus of the twenty-first aspect, an excellent effect is obtained in that it is possible to measure the projections provided on the color filters or the display pixel openings of the color filters.

【0125】請求項22の測定装置によれば、反射照明
によって前記凸部を測定し、透過照明によって表示画素
開口部を測定するので精度・再現性の良い測定が可能に
なるという優れた効果が得られる。
According to the measuring apparatus of the twenty-second aspect, the convex portion is measured by reflected illumination, and the aperture of the display pixel is measured by transmitted illumination. can get.

【0126】請求項23の測定装置によれば、カラーフ
ィルタのブラックマトリクス上に樹脂層により成形され
たスペーサー、あるいはカラーフィルタの表示画素開口
部の測定が可能になるという優れた効果が得られる。
According to the measuring apparatus of the twenty-third aspect, an excellent effect is obtained in that a spacer formed by a resin layer on a black matrix of a color filter or a display pixel opening of a color filter can be measured.

【0127】請求項24の測定装置によれば、スペーサ
ーの1つ以上の層についての長さ、断面積、位置、数の
少なくとも1項目の測定が可能になるという優れた効果
が得られる。
According to the measuring device of the twenty-fourth aspect, an excellent effect that at least one item of the length, the cross-sectional area, the position, and the number of one or more layers of the spacer can be measured is obtained.

【0128】請求項25の測定装置によれば、カラーフ
ィルタの画素を形成する着色層、あるいはカラーフィル
タの着色層の間隙の測定が可能になるという優れた効果
が得られる。
According to the measuring device of the twenty-fifth aspect, an excellent effect is obtained in that it is possible to measure the colored layer forming the pixel of the color filter or the gap between the colored layers of the color filter.

【0129】請求項26の測定装置によれば、短時間で
精度・再現性の良い判定が可能になるという優れた効果
が得られる。
According to the measuring device of the twenty-sixth aspect, an excellent effect is obtained that a determination with good accuracy and reproducibility can be made in a short time.

【0130】請求項27のカラーフィルタまたは透明電
極基板の製造方法によれば、カラーフィルタまたは透明
電極基板上に設置された突起状物の有無を1箇所以上判
定し、カラーフィルタまたは透明電極基板の良否判定を
行うことが可能になるという優れた効果が得られる。
According to the method for manufacturing a color filter or a transparent electrode substrate according to the twenty-seventh aspect, the presence / absence of one or more protrusions disposed on the color filter or the transparent electrode substrate is determined, and the presence of the color filter or the transparent electrode substrate is determined. An excellent effect that it is possible to make a quality judgment is obtained.

【0131】請求項28のカラーフィルタまたは透明電
極基板の製造方法によれば、カラーフィルタまたは透明
電極基板上の凸部あるいは凹部を複数有する基板の1つ
以上の凸部あるいは凹部の高さ、長さ、断面積、位置の
少なくとも1つを測定し、製造条件の変更を行うことが
可能になるという優れた効果が得られる。
According to the method for manufacturing a color filter or a transparent electrode substrate of claim 28, the height and length of one or more projections or depressions of a substrate having a plurality of projections or depressions on the color filter or the transparent electrode substrate. An excellent effect is obtained in that at least one of the cross-sectional area and the position can be measured and the manufacturing conditions can be changed.

【0132】請求項29のカラーフィルタまたは透明電
極基板の製造方法によれば、カラーフィルタまたは透明
電極基板上の凸部あるいは凹部を複数有する基板の1つ
以上の凸部あるいは凹部の高さ、長さ、断面積、位置の
少なくとも1つを測定し、カラーフィルタまたは透明電
極基板の良否判定を行うことが可能になるという優れた
効果が得られる。
According to the method for manufacturing a color filter or a transparent electrode substrate of claim 29, the height and the length of one or more convex portions or concave portions of a substrate having a plurality of convex portions or concave portions on the color filter or the transparent electrode substrate. An excellent effect is obtained in that at least one of the cross-sectional area and the position is measured and the quality of the color filter or the transparent electrode substrate can be determined.

【0133】請求項30の各画素に複数色を形成するカ
ラーフィルタまたは透明電極基板の製造方法によれば、
3原色形成後のカラーフィルタまたは透明電極基板の測
定により製造工程の条件を決定することが可能になると
いう優れた効果が得られる。
According to the method for manufacturing a color filter or a transparent electrode substrate for forming a plurality of colors in each pixel according to claim 30,
An excellent effect is obtained in that the conditions of the manufacturing process can be determined by measuring the color filter or the transparent electrode substrate after the formation of the three primary colors.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の測定対象であるカラーフィルタの上面
図である。
FIG. 1 is a top view of a color filter to be measured according to the present invention.

【図2】本発明の測定対象であるカラーフィルタの断面
図である。
FIG. 2 is a sectional view of a color filter to be measured according to the present invention.

【図3】本発明の一例である測定装置の全体模式図であ
る。
FIG. 3 is an overall schematic diagram of a measuring device as an example of the present invention.

【図4】高さ測定結果を濃淡に変換した図である。FIG. 4 is a diagram in which the height measurement result is converted into light and shade.

【図5】図4のXX’の高さデータを示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating height data of XX ′ in FIG. 4;

【図6】図4のYY’の高さデータを示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating height data of YY ′ in FIG. 4;

【図7】本発明の測定の手順の一例を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing an example of a measurement procedure according to the present invention.

【図8】高さ測定結果をある高さで2値化したときの図
である。
FIG. 8 is a diagram when the height measurement result is binarized at a certain height.

【図9】ウインドウの位置関係を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a positional relationship between windows.

【図10】ウインドウW1を拡大した図である。FIG. 10 is an enlarged view of a window W1.

【図11】ウインドウW1の高さデータの分布図であ
る。
FIG. 11 is a distribution diagram of height data of a window W1.

【図12】ウインドウW3の高さデータを示す図であ
る。
FIG. 12 is a diagram showing height data of a window W3.

【図13】ウインドウW3の高さデータの微分値を示す
図である。
FIG. 13 is a diagram showing a differential value of height data of a window W3.

【図14】ウインドウW5を高さデータを示す図であ
る。
FIG. 14 is a diagram showing height data of a window W5.

【図15】ウインドウW5を高さデータの微分値を示す
図である。
FIG. 15 is a diagram showing a differential value of height data in a window W5.

【図16】本発明で測定可能なカラーフィルタの断面図
の一例である。
FIG. 16 is an example of a cross-sectional view of a color filter that can be measured in the present invention.

【図17】本発明の一例である測定装置の全体模式図で
ある。
FIG. 17 is an overall schematic diagram of a measuring device as an example of the present invention.

【図18】輝度測定結果を濃淡に変換した図である。FIG. 18 is a diagram in which the luminance measurement result is converted into light and shade.

【図19】図18のXX’の輝度データを示す図であ
る。
FIG. 19 is a diagram illustrating luminance data of XX ′ in FIG. 18;

【図20】図18のYY’の輝度データを示す図であ
る。
FIG. 20 is a diagram showing luminance data of YY ′ in FIG. 18;

【図21】本発明の測定の手順の一例を示す図である。FIG. 21 is a diagram showing an example of a measurement procedure according to the present invention.

【図22】パターンマッチングで使用したマスタパター
ンを示す図である。
FIG. 22 is a diagram showing a master pattern used in pattern matching.

【図23】ウインドウの位置関係を示す図である。FIG. 23 is a diagram showing a positional relationship between windows.

【図24】ウインドウW1の輝度データを示す図であ
る。
FIG. 24 is a diagram showing luminance data of a window W1.

【図25】ウインドウW1の輝度データの微分値を示す
図である。
FIG. 25 is a diagram showing a differential value of luminance data of a window W1.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……カラーフィルタ 2……ステージ 3……高さ測定装置 4……撮像装置 5……データ処理装置 6……制御装置 7……表示装置 8……照明装置 101……透明基板(ガラス基板) 102……樹脂ブラックマトリクス 103……着色層(青色層) 104……着色層(緑色層) 105……着色層(赤色層) 106……樹脂ブラックマトリクス上に積層された青色
層 107……樹脂ブラックマトリクス上に積層された緑色
層 108……樹脂ブラックマトリクス上に積層された赤色
層 109……画素開口部 110……スペーサー 111……樹脂層 112……ストライプ端部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Color filter 2 ... Stage 3 ... Height measuring device 4 ... Imaging device 5 ... Data processing device 6 ... Control device 7 ... Display device 8 ... Illumination device 101 ... Transparent substrate (glass substrate) ) 102: resin black matrix 103: colored layer (blue layer) 104: colored layer (green layer) 105: colored layer (red layer) 106: blue layer 107 laminated on resin black matrix Green layer laminated on resin black matrix 108 Red layer laminated on resin black matrix 109 Pixel opening 110 Spacer 111 Resin layer 112 Strip end

Claims (30)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】対向する一対の基板の間に液晶組成物を挟
持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一方の基
板上に設置された突起状物の有無を判定する基板の測定
装置であって、サンプルを載置するステージと、高さ測
定手段または撮像手段とデータ処理装置とを備え、高さ
測定手段から得られた高さ情報または撮像手段から得ら
れた輝度情報から突起状物の有無を判定することを特徴
とする基板の測定装置。
1. A substrate measuring device for judging the presence or absence of a protrusion placed on at least one substrate constituting a liquid crystal display element having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposed substrates. A stage on which a sample is mounted, a height measuring means or an imaging means, and a data processing device, and a projection-like object is obtained from height information obtained from the height measuring means or luminance information obtained from the imaging means. An apparatus for measuring a substrate, characterized in that the presence or absence is determined.
【請求項2】対向する一対の基板の間に液晶組成物を挟
持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一方の基
板上に設置された突起状物の有無を判定する基板の測定
装置であって、前記突起状物を1つ以上含む測定領域内
を画素分割し、分割された画素単位毎に高さを測定し、
前記分割画素単位毎の高さにより、前記突起状物の有無
を判定することを特徴とする基板の測定装置。
2. A substrate measuring device for judging the presence or absence of a protrusion provided on at least one substrate constituting a liquid crystal display device having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposed substrates. And dividing the measurement area including one or more protrusions into pixels, measuring the height of each divided pixel unit,
A substrate measuring apparatus, wherein the presence or absence of the protrusion is determined based on the height of each divided pixel unit.
【請求項3】対向する一対の基板の間に液晶組成物を挟
持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一方の基
板上に設置された突起状物の有無を判定する基板の測定
装置であって、測定する部分を決定する手段と、ある直
線上の高さを測定する手段と、得られた高さ情報より突
起状物の有無を判定することを特徴とする基板の測定装
置。
3. A substrate measuring device for judging the presence or absence of a projection placed on at least one of the substrates constituting a liquid crystal display device comprising a liquid crystal composition sandwiched between a pair of substrates facing each other. And a means for determining a portion to be measured, a means for measuring a height on a certain straight line, and determining the presence or absence of a protruding object from the obtained height information.
【請求項4】対向する一対の基板の間に液晶組成物を挟
持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一方の基
板上に設置された突起状物の有無を判定する基板の測定
装置であって、測定する部分を決定する手段と、1点以
上の高さを測定する手段とを備え、得られた高さ測定値
より突起の有無を判定することを特徴とする基板の測定
装置。
4. A substrate measuring device for judging the presence or absence of a projection placed on at least one substrate constituting a liquid crystal display element comprising a liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposed substrates. A means for determining a portion to be measured and a means for measuring the height of one or more points, and determining the presence or absence of a protrusion from the obtained height measurement value.
【請求項5】請求項1〜4のいずれかに記載の基板の測
定装置において、前記高さを測定する手段が測定対象基
板と接触することなく行うことができるものであること
を特徴とする基板の測定装置。
5. The apparatus for measuring a substrate according to claim 1, wherein the means for measuring the height can be performed without contacting the substrate to be measured. Substrate measuring device.
【請求項6】請求項1〜5のいずれかに記載の基板の測
定装置において、前記突起状物が前記一対の基板間の間
隙を一定に保つためのスペーサーであることを特徴とす
る基板の測定装置。
6. A substrate measuring apparatus according to claim 1, wherein said projections are spacers for keeping a gap between said pair of substrates constant. measuring device.
【請求項7】請求項1〜5のいずれかに記載の基板の測
定装置において、予め基板上に設定した基準位置より測
定する部分を決定する手段をさらに有してなることを特
徴とする基板の測定装置。
7. The substrate measuring apparatus according to claim 1, further comprising means for determining a portion to be measured from a reference position set in advance on the substrate. Measuring device.
【請求項8】請求項1に記載の、対向する一対の基板の
間に液晶組成物を挟持してなる液晶表示素子を構成する
少なくとも一方の基板上に設置された突起状物の有無を
判定する基板の測定装置において、前記突起状物は複数
色の樹脂層の積層により成形されたスペーサーであり、
撮像手段より得られた輝度情報から少なくとも1つ以上
の層を認識してスペーサーの有無を判定することを特徴
とする基板の測定装置。
8. A method for judging the presence or absence of a protrusion provided on at least one of the substrates constituting a liquid crystal display device comprising a liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposed substrates according to claim 1. In the substrate measuring apparatus, the protrusions are spacers formed by laminating resin layers of a plurality of colors,
An apparatus for measuring a substrate, characterized in that at least one or more layers are recognized from luminance information obtained by an imaging means to determine the presence or absence of a spacer.
【請求項9】予め設計された凸部あるいは凹部を複数有
する基板の凸部あるいは凹部の高さ、長さ、断面積、位
置、数の少なくとも1つを測定する基板の測定装置であ
って、前記基板を載置するステージと、高さ測定装置
と、データ処理装置からなり、高さ測定装置で得られた
高さ情報から、前記凸部あるいは凹部の高さ、長さ、断
面積、位置、数の少なくとも1項目を測定することを特
徴とする基板の測定装置。
9. A substrate measuring apparatus for measuring at least one of height, length, cross-sectional area, position and number of a convex or concave portion of a substrate having a plurality of convex or concave portions designed in advance, A stage on which the substrate is mounted, a height measuring device, and a data processing device, and from height information obtained by the height measuring device, the height, length, cross-sectional area, and position of the convex or concave portion. And a substrate measuring device for measuring at least one item of the number.
【請求項10】請求項9に記載の基板の測定装置におい
て、前記基板が対向する一対の基板の間に液晶組成物を
挟持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一方の
基板であることを特徴とする基板の測定装置。
10. The substrate measuring apparatus according to claim 9, wherein said substrate is at least one substrate constituting a liquid crystal display device having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposed substrates. Characteristic substrate measuring device.
【請求項11】請求項9に記載の基板の測定装置におい
て、前記凸部がカラーフィルタ上に設置した突起状物、
あるいは前記凹部がカラーフィルタの表示画素開口部で
あることを特徴とする基板の測定装置。
11. The apparatus for measuring a substrate according to claim 9, wherein said projection is a projection provided on a color filter.
Alternatively, the concave portion is a display pixel opening of a color filter.
【請求項12】請求項9に記載の基板の測定装置におい
て、前記凸部がカラーフィルタのブラックマトリクス上
に樹脂層により成形されたスペーサー、あるいは前記凹
部がカラーフィルタの表示画素開口部であることを特徴
とする基板の測定装置。
12. The substrate measuring apparatus according to claim 9, wherein the convex portion is a spacer formed by a resin layer on a black matrix of a color filter, or the concave portion is a display pixel opening of the color filter. A substrate measuring device characterized by the above-mentioned.
【請求項13】請求項12に記載の基板の測定装置にお
いて、前記スペーサーの高さあるいは各層の厚さを前記
高さ測定装置で得られた高さ情報の分布図から測定する
ことを特徴とする基板の測定装置。
13. The substrate measuring apparatus according to claim 12, wherein the height of the spacer or the thickness of each layer is measured from a distribution diagram of height information obtained by the height measuring apparatus. Substrate measuring device.
【請求項14】請求項12に記載の基板の測定装置にお
いて、前記スペーサーの断面積を、(1)前記高さ測定
装置で得られた高さ情報の分布図から高さのしきい値を
設定し、(2)前記しきい値を超える高さを持つ画素か
ら断面積あるいは長さを測定する、ことを特徴とする基
板の測定装置。
14. A substrate measuring apparatus according to claim 12, wherein: a cross-sectional area of the spacer is determined by: (1) determining a height threshold from a distribution map of height information obtained by the height measuring apparatus; (2) measuring a cross-sectional area or a length from a pixel having a height exceeding the threshold value.
【請求項15】請求項12に記載の基板の測定装置にお
いて、前記スペーサーの位置を、(1)前記高さ測定装
置で得られた高さ情報の分布図から高さのしきい値を設
定し、(2)前記しきい値を越える高さを持つ画素から
突起状物の位置を測定し、(3)窓部の位置を測定し、
突起状物の窓部からの相対的な位置を測定する、ことを
特徴とする基板の測定装置。
15. The apparatus for measuring a substrate according to claim 12, wherein: the position of the spacer is set; and (1) a height threshold is set from a distribution map of height information obtained by the height measuring apparatus. (2) measuring the position of the protrusion from the pixel having a height exceeding the threshold, (3) measuring the position of the window,
A substrate measuring device for measuring a relative position of a projection from a window.
【請求項16】請求項9に記載の基板の測定装置におい
て、凸部がカラーフィルタの画素を形成する着色層、あ
るいは前記凹部が前記着色層の間隙であることを特徴と
する基板の測定装置。
16. The substrate measuring apparatus according to claim 9, wherein the convex portion is a colored layer forming a pixel of a color filter, or the concave portion is a gap between the colored layers. .
【請求項17】請求項9に記載の基板の測定装置におい
て、前記高さ測定装置が該凸部あるいは凹部を1つ以上
含む測定領域内を均等に画素分割し、分割された画素単
位毎に高さを測定する手段が、測定対象基板と接触する
ことなく行うことができるものであることを特徴とする
基板の測定装置。
17. The apparatus for measuring a substrate according to claim 9, wherein said height measuring device equally divides a pixel in a measurement area including at least one of said convex portion or concave portion, and for each divided pixel unit. An apparatus for measuring a substrate, wherein the means for measuring the height can be performed without contacting the substrate to be measured.
【請求項18】請求項6に記載の基板の測定装置におい
て、予め基板上に設定した基準位置より測定する部分を
決定する手段をさらに有してなることを特徴とする基板
の測定装置。
18. The substrate measuring apparatus according to claim 6, further comprising means for determining a portion to be measured from a reference position set in advance on the substrate.
【請求項19】予め設計された凸部あるいは凹部を複数
有する基板の凸部あるいは凹部の長さ、断面積、位置、
数の少なくとも1つを測定する基板の測定装置であっ
て、前記基板を載置するステージと、照明装置と、撮像
装置と、データ処理装置からなり、撮像装置で得られた
輝度情報から、前記凸部あるいは凹部の長さ、断面積、
位置の少なくとも1項目を測定することを特徴とする基
板の測定装置。
19. The length, cross-sectional area, position, and length of a convex or concave portion of a substrate having a plurality of convex or concave portions designed in advance.
A substrate measuring device for measuring at least one of the number, comprising a stage on which the substrate is mounted, an illumination device, an imaging device, and a data processing device, and based on luminance information obtained by the imaging device, The length and cross-sectional area of the protrusion or recess,
A substrate measuring device for measuring at least one item of a position.
【請求項20】請求項19に記載の基板の測定装置にお
いて、前記基板が対向する一対の基板の間に液晶組成物
を挟持してなる液晶表示素子を構成する少なくとも一方
の基板であることを特徴とする基板の測定装置。
20. The apparatus for measuring a substrate according to claim 19, wherein said substrate is at least one substrate constituting a liquid crystal display device having a liquid crystal composition sandwiched between a pair of opposed substrates. Characteristic substrate measuring device.
【請求項21】請求項19または20に記載の基板の測
定装置において、前記凸部がカラーフィルタ上に設置し
た突起状物、あるいは前記凹部がカラーフィルタの表示
画素開口部であることを特徴とする基板の測定装置。
21. The apparatus for measuring a substrate according to claim 19, wherein the projection is a projection provided on a color filter, or the depression is a display pixel opening of the color filter. Substrate measuring device.
【請求項22】請求項19〜21のいずれかに記載の基
板の測定装置において、反射照明によって前記凸部を測
定し、透過照明によって表示画素開口部を測定すること
を特徴とする基板の測定装置。
22. The substrate measuring apparatus according to claim 19, wherein the convex portion is measured by reflected illumination, and the display pixel opening is measured by transmitted illumination. apparatus.
【請求項23】請求項19〜22のいずれかに記載の基
板の測定装置において、前記凸部がカラーフィルタのブ
ラックマトリクス上に樹脂層により成形されたスペーサ
ー、あるいは前記凹部がカラーフィルタの表示画素開口
部であることを特徴とする基板の測定装置。
23. The substrate measuring apparatus according to claim 19, wherein the convex portion is a spacer formed by a resin layer on a black matrix of a color filter, or the concave portion is a display pixel of the color filter. An apparatus for measuring a substrate, which is an opening.
【請求項24】請求項23に記載の基板の測定装置にお
いて、撮像装置で得られた輝度情報から、1つ以上の層
についての長さ、断面積、位置、数の少なくとも1項目
を測定することを特徴とする基板の測定装置。
24. The apparatus for measuring a substrate according to claim 23, wherein at least one of a length, a cross-sectional area, a position, and a number of one or more layers is measured from the luminance information obtained by the imaging device. An apparatus for measuring a substrate, comprising:
【請求項25】請求項19〜22のいずれかに記載の基
板の測定装置において、前記凸部がカラーフィルタの画
素を形成する着色層、あるいは前記凹部が着色層の間隙
であることを特徴とする基板の測定装置。
25. The apparatus for measuring a substrate according to claim 19, wherein the convex portion is a colored layer forming a pixel of a color filter, or the concave portion is a gap between the colored layers. Substrate measuring device.
【請求項26】請求項19〜22のいずれかに記載の基
板の測定装置において、予め基板上に設定した基準位置
より測定する部分を決定する手段をさらに有してなるこ
とを特徴とする基板の測定装置。
26. The substrate measuring apparatus according to claim 19, further comprising means for determining a portion to be measured from a reference position set on the substrate in advance. Measuring device.
【請求項27】カラーフィルタまたは透明電極基板の製
造方法であって、前記カラーフィルタまたは透明電極基
板上に設置された突起状物の有無を請求項1〜5のいず
れかに記載の測定装置により1箇所以上判定し、カラー
フィルタまたは透明電極基板の良否判定を行うことを特
徴とするカラーフィルタまたは透明電極基板の製造方
法。
27. A method for manufacturing a color filter or a transparent electrode substrate, wherein the presence or absence of a projection on the color filter or the transparent electrode substrate is determined by the measuring apparatus according to claim 1. A method for manufacturing a color filter or a transparent electrode substrate, comprising determining at least one location and determining whether the color filter or the transparent electrode substrate is good.
【請求項28】カラーフィルタまたは透明電極基板の製
造方法であって、前記カラーフィルタまたは透明電極基
板上の凸部あるいは凹部を複数有する基板の1つ以上の
凸部あるいは凹部の高さ、長さ、断面積、位置の少なく
とも1つを測定し、製造条件の変更を行うことを特徴と
するカラーフィルタまたは透明電極基板の製造方法。
28. A method for manufacturing a color filter or a transparent electrode substrate, comprising: height and length of one or more projections or depressions of a substrate having a plurality of projections or depressions on the color filter or the transparent electrode substrate. A method for measuring a color filter or a transparent electrode substrate by measuring at least one of a cross-sectional area and a position, and changing manufacturing conditions.
【請求項29】カラーフィルタまたは透明電極基板の製
造方法であって、前記カラーフィルタまたは透明電極基
板上の凸部あるいは凹部を複数有する基板の1つ以上の
凸部あるいは凹部の高さ、長さ、断面積、位置の少なく
とも1つを測定し、前記カラーフィルタまたは透明電極
基板の良否判定を行うことを特徴とするカラーフィルタ
または透明電極基板の製造方法。
29. A method for manufacturing a color filter or a transparent electrode substrate, comprising: height and length of one or more projections or depressions of a substrate having a plurality of projections or depressions on the color filter or the transparent electrode substrate. A method of manufacturing a color filter or a transparent electrode substrate, wherein at least one of a cross-sectional area and a position is measured, and the quality of the color filter or the transparent electrode substrate is determined.
【請求項30】各画素に複数色を形成するカラーフィル
タまたは透明電極基板の製造方法であって、請求項6ま
たは7に記載の測定装置を使用して、3原色形成後のカ
ラーフィルタまたは透明電極基板の測定により前記製造
工程の条件を変更することを特徴とするカラーフィルタ
または透明電極基板の製造方法。
30. A method for manufacturing a color filter or a transparent electrode substrate for forming a plurality of colors in each pixel, wherein the color filter or the transparent film after three primary colors are formed using the measuring device according to claim 6 or 7. A method of manufacturing a color filter or a transparent electrode substrate, wherein conditions of the manufacturing process are changed by measuring an electrode substrate.
JP02312998A 1998-02-04 1998-02-04 Substrate measuring device Expired - Lifetime JP3820728B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP02312998A JP3820728B2 (en) 1998-02-04 1998-02-04 Substrate measuring device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP02312998A JP3820728B2 (en) 1998-02-04 1998-02-04 Substrate measuring device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11218466A true JPH11218466A (en) 1999-08-10
JP3820728B2 JP3820728B2 (en) 2006-09-13

Family

ID=12101924

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP02312998A Expired - Lifetime JP3820728B2 (en) 1998-02-04 1998-02-04 Substrate measuring device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3820728B2 (en)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006105702A (en) * 2004-10-01 2006-04-20 Keyence Corp Optical displacement gauge, method for measuring application cross-sectional area of viscous liquid using this gauge, program of measuring optical displacement gauge and recording medium readable by computer
JP2006214817A (en) * 2005-02-02 2006-08-17 Nikon Corp Semiconductor inspecting device
JP2008064718A (en) * 2006-09-11 2008-03-21 Dainippon Printing Co Ltd Inspecting device for color filter, and inspecting method for color filter
US7426022B2 (en) 2005-11-28 2008-09-16 Funai Electric Co., Ltd. Liquid crystal module brightness measurement apparatus and brightness measurement apparatus
WO2009044519A1 (en) * 2007-10-05 2009-04-09 Nikon Corporation Display device defect detecting method and display device defect detecting device
US8099147B2 (en) 1999-04-22 2012-01-17 University Of Miami Intraoperative monitoring of temperature-induced tissue changes with a high-resolution digital X-ray system during thermotherapy
US20130271945A1 (en) 2004-02-06 2013-10-17 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8099147B2 (en) 1999-04-22 2012-01-17 University Of Miami Intraoperative monitoring of temperature-induced tissue changes with a high-resolution digital X-ray system during thermotherapy
US9885959B2 (en) 2003-04-09 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9760014B2 (en) 2003-10-28 2017-09-12 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US10281632B2 (en) 2003-11-20 2019-05-07 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US10241417B2 (en) 2004-02-06 2019-03-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US20130271945A1 (en) 2004-02-06 2013-10-17 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10234770B2 (en) 2004-02-06 2019-03-19 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10007194B2 (en) 2004-02-06 2018-06-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
JP2006105702A (en) * 2004-10-01 2006-04-20 Keyence Corp Optical displacement gauge, method for measuring application cross-sectional area of viscous liquid using this gauge, program of measuring optical displacement gauge and recording medium readable by computer
JP2006214817A (en) * 2005-02-02 2006-08-17 Nikon Corp Semiconductor inspecting device
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US7426022B2 (en) 2005-11-28 2008-09-16 Funai Electric Co., Ltd. Liquid crystal module brightness measurement apparatus and brightness measurement apparatus
JP2008064718A (en) * 2006-09-11 2008-03-21 Dainippon Printing Co Ltd Inspecting device for color filter, and inspecting method for color filter
WO2009044519A1 (en) * 2007-10-05 2009-04-09 Nikon Corporation Display device defect detecting method and display device defect detecting device
US8926387B2 (en) 2007-10-05 2015-01-06 Nikon Corporation Defect detection method of display device and defect detection apparatus of display device
CN103499588A (en) * 2007-10-05 2014-01-08 株式会社尼康 Defect detection method of display device and defect detection apparatus of display device
JP5305246B2 (en) * 2007-10-05 2013-10-02 株式会社ニコン Display device defect detection method and display device defect detection apparatus
US8301289B2 (en) 2007-10-05 2012-10-30 Nikon Corporation Defect detection method of display device and defect detection apparatus of display device
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9857599B2 (en) 2007-10-24 2018-01-02 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
JP3820728B2 (en) 2006-09-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH11218466A (en) Measuring device of substrate
JP3273972B2 (en) Inspection method of liquid crystal display substrate
US20090303468A1 (en) Undulation Inspection Device, Undulation Inspecting Method, Control Program for Undulation Inspection Device, and Recording Medium
US10274762B2 (en) Display substrate motherboard, manufacturing and detecting methods thereof and display panel motherboard
CN107680523A (en) The detection method of array base palte cross line defect
JP4288901B2 (en) Height measurement method
JP4987810B2 (en) 3D image display apparatus inspection apparatus and 3D image display apparatus manufacturing method
KR100507887B1 (en) Inspection apparatus and method for an illuminating optical element
WO2010117004A1 (en) Method for detecting ream of light-transmitting platy object
KR100366613B1 (en) Method for detecting thickness of thin layer and device adopting the same
JP5572925B2 (en) VA pattern defect inspection method and inspection apparatus
JP4720287B2 (en) Coating unevenness inspection method and program thereof
KR101111383B1 (en) Denting inspecting system having 3D surface measuring instrument
JP2002286427A (en) Solder printing inspection apparatus
JP4650096B2 (en) Coating unevenness inspection method and program thereof
JP3311628B2 (en) Defect location device for thin display devices
JP2938126B2 (en) Color filter surface inspection device
KR102393922B1 (en) COF Disctance Measuring Apparatus
KR102393924B1 (en) COF Disctance Inspection Method Through COF Distance Inspectiong Apparatus
KR100476599B1 (en) Board Alignment Method
JP2000039599A (en) Method and device for inspecting liquid crystal display substrate and liquid crystal display substrate
JP3618599B2 (en) Concavity and convexity detection apparatus and method
KR20240045829A (en) Method for inspecting mini led mounting
JPH11288463A (en) Checking device for object
JPH01212338A (en) Apparatus for measuring surface properties of glass plate

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040308

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040308

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051118

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051129

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060228

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060427

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060530

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060612

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090630

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100630

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110630

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110630

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120630

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130630

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130630

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140630

Year of fee payment: 8

EXPY Cancellation because of completion of term