JP4720287B2 - Coating unevenness inspection method and program thereof - Google Patents

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Description

本発明は、基材上に一定方向に塗布された透明樹脂被膜の塗布ムラを検出する方法に関する。更に詳しくは、液晶ディスプレイの製造に用いられるフォトスペーサー用の透明感光性樹脂被膜の塗布ムラを検出するのに好適な検出方法およびそのプログラムに関するものである。   The present invention relates to a method for detecting uneven application of a transparent resin film applied in a certain direction on a substrate. More specifically, the present invention relates to a detection method suitable for detecting uneven application of a transparent photosensitive resin film for a photospacer used for manufacturing a liquid crystal display and a program thereof.

液晶ディスプレイは、それぞれ電極を形成した2枚の電極板をその間に間隙を設けて貼り合わせ、その間隙に液晶を封入して構成されている。そして、その両電極間に画素毎に電圧を印加して液晶を駆動させ、液晶を通過する光の偏光面を制御することにより偏光膜の透過・不透過を制御して画面表示するものである。   A liquid crystal display is configured by adhering two electrode plates each having an electrode to each other with a gap therebetween and enclosing liquid crystal in the gap. A voltage is applied between the electrodes for each pixel to drive the liquid crystal and control the polarization plane of the light passing through the liquid crystal to control the transmission / non-transmission of the polarizing film and display the screen. .

前記間隙は、従来一方の電極板に散布された球状ビーズの径によって保つのが通常であった。しかしながら、球状ビーズはその散布位置を制御することができず、このため散布位置によっては表示ムラを引き起こすことがあった。   Conventionally, the gap is usually maintained by the diameter of the spherical beads dispersed on one electrode plate. However, the dispersion position of the spherical beads cannot be controlled. For this reason, display unevenness may occur depending on the dispersion position.

これを解決するため、近年多数のフォトスペーサーによる前記間隙の制御が行なわれている。フォトスペーサーは、前記電極板のいずれか一方に設けられた柱状のスペーサーであって、一般にその電極板に塗布された透明感光性樹脂を露光・現像して設けられている。カラー液晶表示装置の場合には、ガラス基板上に表示画面を区画する黒色の額縁とこの額縁内を各画素に区画する黒色の遮光膜(ブラックストライプ又はブラックマトリクス)と、前記遮光膜で区画された各画素に設けられ、表示光を着色する着色膜とが設けられ、これら黒色の額縁、遮光膜及び着色膜を被覆して透明感光性樹脂被膜が塗布される。そして、この方法に因れば、フォトスペーサーの位置は露光マスクによって特定できるので、従来球状ビーズによって引き起こされていた表示ムラの恐れはない。   In order to solve this, in recent years, the gap is controlled by a large number of photo spacers. The photospacer is a columnar spacer provided on one of the electrode plates, and is generally provided by exposing and developing a transparent photosensitive resin applied to the electrode plate. In the case of a color liquid crystal display device, a black frame that divides a display screen on a glass substrate, a black light shielding film (black stripe or black matrix) that divides the inside of the frame into pixels, and the light shielding film. In addition, a colored film that colors display light is provided in each pixel, and a transparent photosensitive resin film is applied to cover the black frame, the light shielding film, and the colored film. According to this method, since the position of the photospacer can be specified by the exposure mask, there is no fear of display unevenness caused by the conventional spherical beads.

しかしながら、これら柱状フォトスペーサーの高さは、塗布された感光性樹脂被膜の膜厚で決定されることから、この感光性樹脂被膜に塗布ムラがあると、これらフォトスペーサーの高さも不揃いとなって電極間距離が不安定となり、また液晶層の厚みが不安定となって、その表示品質に影響する。このため、感光性樹脂被膜は均一な膜厚に塗布される必要があり、他方、塗布ムラのある感光性樹脂被膜は露光・現像前に検出し、この被膜を剥離除去する必要がある。仮に塗布ムラのある感光性樹脂被膜を露光・現像してフォトスペーサーを形成したとすると、そのフォトススペーサーの高さのムラを検出することは困難であり、また電極板から剥離除去することも困難だからである。   However, since the height of these columnar photospacers is determined by the thickness of the applied photosensitive resin film, if the photosensitive resin film has uneven application, the heights of these photospacers are also uneven. The distance between the electrodes becomes unstable and the thickness of the liquid crystal layer becomes unstable, which affects the display quality. For this reason, it is necessary to apply the photosensitive resin film to a uniform film thickness, and on the other hand, it is necessary to detect a photosensitive resin film having uneven coating before exposure and development, and to peel and remove this film. If a photo spacer is formed by exposing and developing a photosensitive resin film with uneven coating, it is difficult to detect the unevenness of the height of the photo spacer, and it is also difficult to peel and remove from the electrode plate. That's why.

また、近年、液晶ディスプレイは市場競争のために低価格化の傾向が著しく、これに対処するため、大面積のガラス板に多面付けして電極板を製造している。また、液晶ディスプレイの表示画面自体が大画面化しているため、これに使用するガラス基板は益々大面積化の傾向が強くなり、フォトスペーサーの再形成は、液晶ディスプレイの製造原価低減に必要な課題となりつつある。   In recent years, liquid crystal displays have a tendency to lower the price due to market competition, and in order to cope with this, electrode plates are manufactured by attaching a large number of glass plates to a large area. In addition, since the display screen of the liquid crystal display itself is becoming larger, the glass substrate used for this is becoming more and more likely to have a larger area. It is becoming.

通常、液晶ディスプレイのフォトスペーサーに用いられる透明感光性樹脂は、大面積の基板上に均一に塗布する必要があることから、ダイコーターにより一定方向に向けて塗布されている。このように一定方向に向けて塗布された透明感光性樹脂には、直線状に塗布ムラを生じることが多い。例えば、このダイコーターで塗布する際に、透明感光性樹脂を押し出すスリット幅が部分的に変動した場合には、その塗布方向に沿って直線状に塗布ムラが発生する。また、ダイコーターの送り精度が変動した場合には、塗布方向に直交する方向に直線状の塗布ムラが発生する。
また、ダイコーターステージとガラス基板間に異物が存在した場合にも膜厚が変動するため丸状や不定形状のムラが発生したり、ガラス基板を支えている支持ピンとガラス基板との温度差から乾燥性のピンムラが生じたりすることもある。
Usually, since the transparent photosensitive resin used for the photo spacer of a liquid crystal display needs to apply | coat uniformly on a large area board | substrate, it is apply | coated to the fixed direction by the die coater. In this way, the transparent photosensitive resin applied in a certain direction often has application unevenness in a straight line. For example, when the slit width for extruding the transparent photosensitive resin is partially changed during coating with this die coater, coating unevenness occurs linearly along the coating direction. Further, when the feed accuracy of the die coater fluctuates, linear coating unevenness occurs in a direction orthogonal to the coating direction.
In addition, even if there is a foreign object between the die coater stage and the glass substrate, the film thickness varies, causing irregularities in round and irregular shapes, or due to the temperature difference between the support pins supporting the glass substrate and the glass substrate. Dry pin unevenness may occur.

一般に、透明被膜に光を照射すると、塗布ムラがある部位(ムラ部)では、その周囲(正常部)と異なる強度の反射光が観察されることになる。例えば、干渉光を使って観察した場合、光の波長λと膜厚との関係により膜厚の変化で反射光の強弱が発生する。膜厚と波長λの位相が合えば強め合い、膜厚が変化して位相がずれると干渉光は弱くなる。このため、塗布ムラは肉眼で観察することができる。   In general, when light is applied to a transparent coating, reflected light having an intensity different from that of the surrounding area (normal part) is observed at a part where uneven application occurs (uneven part). For example, when observation is performed using interference light, the intensity of reflected light is generated by a change in film thickness due to the relationship between the wavelength λ of the light and the film thickness. If the phase of the film thickness and the wavelength λ match, they will strengthen each other, and if the film thickness changes and the phase shifts, the interference light becomes weak. For this reason, the coating unevenness can be observed with the naked eye.

前記反射光の強度をカメラなどで観察・測定することで塗布ムラを検出することも可能である。しかしながら、カメラ等の感度は肉眼に比較して低く、正常部とムラ部の区別が困難である。また、目視ではほとんど問題になることがなく許容範囲に属する微小な膜厚変動に起因し、基板前面に亘って存在する明るさ変動(モヤムラ)の影響や、目視ではほとんど注意することがない透明感光性樹脂被膜の下層に存在する格子等の影響が画像内に顕在化してくる。この影響があると2値化処理やフィルタリング処理等の単純な画像処理手段によってムラ部を簡便に検出することはできない。   It is also possible to detect coating unevenness by observing and measuring the intensity of the reflected light with a camera or the like. However, the sensitivity of a camera or the like is lower than that of the naked eye, and it is difficult to distinguish between a normal part and an uneven part. In addition, there is almost no problem with visual inspection, and it is caused by minute film thickness fluctuations that fall within the allowable range. The influence of a lattice or the like existing in the lower layer of the photosensitive resin film becomes obvious in the image. If there is this influence, the uneven portion cannot be easily detected by simple image processing means such as binarization processing or filtering processing.

これを改善して、正常部とムラ部との間のS/Nを高め、塗布ムラを精度良く検出する試みも行なわれている。例えば、検査する領域を画素状に分割し、波長の異なる2種類の光を照射し、各画素毎に、かつ波長毎に反射光強度を測定し、次に波長に基づく反射光強度の差を算出すると共に、第一方向の所定長さ分の前記差を累積し、この累積値を第一方向に微分し、第二方向の所定区間間における微分値の最大値から最小値を引いた微分差を算出し、この微分差を閾値と比較して、塗布ムラを検出する方法があるが(特許文献1参照)、前述のモヤムラや下層に存在する格子等の影響を加味したムラ検査は困難であった。また、2種類の光信号を検出処理する点で処理スピードにおいても満足できるものではなかった。   Attempts have been made to improve this, increase the S / N between the normal portion and the uneven portion, and detect the coating unevenness with high accuracy. For example, the region to be inspected is divided into pixels, irradiated with two types of light with different wavelengths, the reflected light intensity is measured for each pixel and for each wavelength, and then the difference in reflected light intensity based on the wavelength is calculated. Calculate and accumulate the difference for a predetermined length in the first direction, differentiate this accumulated value in the first direction, and subtract the minimum value from the maximum value of the differential value between the predetermined sections in the second direction Although there is a method of calculating the difference and comparing the differential difference with a threshold value to detect coating unevenness (see Patent Document 1), it is difficult to perform unevenness inspection that takes into account the effects of the above-mentioned moire unevenness and the lattice existing in the lower layer. Met. Further, the processing speed is not satisfactory in terms of detecting and processing two types of optical signals.

特開2003−166941号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-166941

本発明は、以上のような事情の下でなされたものであり、大面積の全基板上において反射光強度を精度良く測定し、この反射光強度から透明感光性樹脂被膜の下層に存在する格子影響等の外乱要因を除去すると共に塗布ムラの可能性のある領域(ムラ候補領域)を精度良く推定し、透明感光性樹脂被膜の塗布ムラを効率的に検出する方法を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made under the circumstances as described above. The reflected light intensity is accurately measured on the entire substrate having a large area, and the lattice existing under the transparent photosensitive resin film is determined from the reflected light intensity. An object of the present invention is to provide a method for efficiently detecting a coating unevenness of a transparent photosensitive resin coating by accurately estimating a region (unevenness candidate region) where there is a possibility of coating unevenness while removing disturbance factors such as influences. To do.

すなわち、請求項1に係る発明は、基材上に塗布された透明樹脂被膜の塗布ムラを検査する方法であって、透明樹脂の塗布方向及びこれに直交する方向に分割して多数の小領域とし、これら小領域に光を照射してその反射光強度を小領域毎に測定する反射光強度測定工程と、塗布方向又は塗布方向に直交する方向を包絡方向として、この包絡方向に沿って並んだ小領域の反射光強度を包絡処理してその包絡値を算出し、算出した包絡値から明側包絡画像データと暗側包絡画像データを生成する包絡画像データ生成工程と該包絡画像データに対して、注目画素を取り囲む画素群を構成する各輝度値の平均値と前記注目画素の輝度値の差分を算出することにより塗布ムラを抽出するムラ抽出工程と、を備えることを特徴とする塗布ムラ検査方法である。   That is, the invention according to claim 1 is a method for inspecting application unevenness of a transparent resin film applied on a substrate, and is divided into a plurality of small regions by dividing the application direction of the transparent resin and a direction perpendicular thereto. The reflected light intensity measuring step for irradiating light to these small areas and measuring the reflected light intensity for each small area, and the coating direction or the direction orthogonal to the coating direction as the envelope direction, are arranged along this envelope direction. Envelope processing is performed on the reflected light intensity of the small area, the envelope value is calculated, and the envelope image data generation step for generating the bright side envelope image data and the dark side envelope image data from the calculated envelope value and the envelope image data A non-uniformity extracting step of extracting a non-uniformity of application by calculating a difference between an average value of each luminance value constituting a pixel group surrounding the target pixel and a luminance value of the target pixel. Inspection method That.

この方法によれば、塗布方向又は塗布方向に直交する方向を包絡方向として、包絡方向に沿って並んだ小領域の反射光強度から包絡値を求めることによって透明感光性樹脂被膜の下層に存在する格子影響を除去した画像データとすることで、検出精度の向上を図ることができる。また、緩やかなグラデーション画像データとし、かつ注目画素と注目画素とを取り囲む画素群の輝度値平均値とを比較することで局所的な輝度変化が生じる塗布ムラの検出が容易となる。   According to this method, the coating direction or the direction perpendicular to the coating direction is taken as the envelope direction, and the envelope value is obtained from the reflected light intensity of the small regions arranged along the envelope direction, thereby existing in the lower layer of the transparent photosensitive resin coating. The detection accuracy can be improved by using the image data from which the lattice influence is removed. Further, it is easy to detect application unevenness in which a local luminance change occurs by using gentle gradation image data and comparing the target pixel and the average luminance value of a pixel group surrounding the target pixel.

次に、請求項2に係る発明は、包絡画像データ生成工程にて、上側包絡値と反射光強度の移動平均値との除算値及び下側包絡値と反射光強度の移動平均値との除算値から包絡画像データを生成することで、基板全面に亘って存在する明るさ変動(モヤムラ影響)を軽減させることを狙ったものである。   Next, in the invention according to claim 2, in the envelope image data generation step, a division value between the upper envelope value and the moving average value of the reflected light intensity and a division between the lower envelope value and the moving average value of the reflected light intensity. By generating the envelope image data from the values, it is aimed to reduce the brightness fluctuation (fogging effect) existing over the entire surface of the substrate.

次に、請求項3に係る発明は、包絡画像データ生成工程にて、上側包絡値と下側包絡値との比から包絡画像データを生成することで、局所的な輝度変化が生じる塗布ムラをより強調させることができ、検出精度の向上を狙ったものである。   Next, in the invention according to claim 3, in the envelope image data generation step, by generating envelope image data from the ratio of the upper envelope value and the lower envelope value, coating unevenness in which local luminance changes occur. This can be emphasized more and aims to improve detection accuracy.

次に、請求項4に係る発明は、基材上に塗布された透明樹脂を塗布方向及びこれに直交する方向に分割して多数の小領域とし、これら小領域に照射された光の反射光強度から塗布ムラを検査するためのプログラムであって、塗布方向又は塗布方向に直交する方向を包絡方向として、この包絡方向に沿って並んだ小領域の反射光強度を包絡処理してその包絡値を算出するステップと、算出された包絡値から明側包絡画像データと暗側包絡画像データを生成する包絡画像データ生成ステップと、該包絡画像データに対して、注目画素を取り囲む画素群を構成する各輝度値の平均値と前記注目画素の輝度値の差分を算出することにより塗布ムラを抽出するムラ抽出ステップと、を備える塗布ムラ検査プログラムである。   Next, the invention according to claim 4 divides the transparent resin applied on the base material into a small number of small areas by dividing the transparent resin in the coating direction and the direction perpendicular thereto, and the reflected light of the light irradiated to these small areas This is a program for inspecting coating unevenness from the strength, and the envelope value is obtained by enveloping the reflected light intensity of a small area aligned along the envelope direction with the coating direction or the direction orthogonal to the coating direction as the envelope direction. An envelope image data generating step for generating bright-side envelope image data and dark-side envelope image data from the calculated envelope value, and a group of pixels surrounding the target pixel with respect to the envelope image data A non-uniformity inspecting program comprising: a non-uniformity extracting step for extracting non-uniformity of application by calculating a difference between an average value of each luminance value and a luminance value of the target pixel.

このプログラムによれば、塗布方向又は塗布方向に直交する方向を包絡方向として、包絡方向に沿って並んだ小領域の反射光強度から包絡値を求めることによって透明感光性樹脂被膜の下層に存在する格子影響を除去した画像データとすることができ、検出精度の向上を図ることができる。また、緩やかなグラデーション画像データとし、かつ注目画素と注目画素とを取り囲む画素群の輝度値平均値とを比較することで局所的な輝度変化が生じる塗布ムラの検出が容易となる。   According to this program, the coating direction or the direction orthogonal to the coating direction is defined as the envelope direction, and the envelope value is obtained from the reflected light intensity of the small region arranged along the envelope direction, thereby existing in the lower layer of the transparent photosensitive resin coating. Image data from which the influence of the lattice is removed can be obtained, and detection accuracy can be improved. Further, it is easy to detect application unevenness in which a local luminance change occurs by using gentle gradation image data and comparing the target pixel and the average luminance value of a pixel group surrounding the target pixel.

本発明によれば、大面積の全基板上において反射光強度を精度良く測定し、この反射光強度から、許容範囲に属する微小な膜厚変動に起因し、基板前面に亘って存在する明るさ変動(モヤムラ)の影響や、透明感光性樹脂被膜の下層に存在する格子影響等の外乱要因を除去することができると共に、塗布ムラの可能性のある領域(ムラ候補領域)を精度良く推定することができるため、精度良い塗布ムラの検出が可能となるという効果を奏する。   According to the present invention, the reflected light intensity is accurately measured on the entire substrate having a large area, and the brightness existing over the front surface of the substrate due to the minute film thickness fluctuation belonging to the allowable range is calculated from the reflected light intensity. It is possible to remove disturbance factors such as the influence of fluctuation (moyamura) and the lattice effect existing under the transparent photosensitive resin film, and accurately estimate the area (unevenness candidate area) that may have coating unevenness. As a result, it is possible to accurately detect coating unevenness.

本発明は例えば、液晶ディスプレイの電極板の製造に適用される中間製品を基材とし、この基材上にダイコーターで塗布された透明感光性樹脂被膜を透明樹脂被膜として、本発明を利用することができる。   The present invention uses the present invention, for example, with an intermediate product applied to the production of an electrode plate for a liquid crystal display as a base material, and a transparent photosensitive resin film coated on the base material with a die coater as a transparent resin film. be able to.

図1は、この中間製品1とその表面に塗布された透明感光性樹脂とを示す説明用平面図で、説明に不要な点については図示を省略してある。   FIG. 1 is an explanatory plan view showing the intermediate product 1 and the transparent photosensitive resin applied to the surface of the intermediate product 1, and illustrations of points unnecessary for the description are omitted.

すなわち、この中間製品1は、ガラス基板上に、表示画面12を区画する黒色の額縁11と、この額縁11内を各画素に区画するブラックマトリクス(図示せず)と、このブラックマトリクスで区画された各画素に設けられ、表示光を着色する着色膜(図示せず)とが設けられたものである。尚、一枚のガラス基板上に表示画面が多面付けされていることが普通であるが、図では一表示画面だけを示している。   That is, the intermediate product 1 is partitioned on a glass substrate by a black frame 11 that partitions the display screen 12, a black matrix (not shown) that partitions the frame 11 into pixels, and the black matrix. In addition, a color film (not shown) that is provided in each pixel and colors display light is provided. In addition, although it is normal that the display screen is multi-faced on one glass substrate, only one display screen is shown in the figure.

そして、この中間製品上に透明感光性樹脂がダイコーターで塗布されている。透明感光性樹脂は、ガラス基板端面13から塗布を開始し、図示の方向にダイコーターのスリットダイを搬送するかガラス基板を搬送することにより均一な膜厚に塗布されている。図中14は塗布領域を示し、15は塗布ムラを示している。図示の塗布ムラは、異物起因のピンムラ及びダイコーターのスリットダイと基材との間のギャップのムラに起因するもので前者は任意箇所に丸状及び不定形状、後者は塗布方向又は塗布直交方向に沿って直線状に生じる。   A transparent photosensitive resin is applied on the intermediate product with a die coater. The transparent photosensitive resin is applied to a uniform film thickness by starting application from the glass substrate end face 13 and conveying the slit die of the die coater or conveying the glass substrate in the illustrated direction. In the figure, reference numeral 14 denotes an application region, and 15 denotes application unevenness. The coating unevenness shown in the figure is due to pin unevenness due to foreign matter and unevenness of the gap between the slit die of the die coater and the substrate. The former is round and indefinite in any place, the latter is the coating direction or the coating orthogonal direction Along a straight line.

そして、本発明は例えば図2に示すような装置を用いて実施することができる。図2の装置を用いて実施する際には、まずガントリー4を備えるステージ上に、透明感光性樹脂が塗布されたガラス基板1を載置・固定する。   And this invention can be implemented using an apparatus as shown, for example in FIG. When performing using the apparatus of FIG. 2, first, the glass substrate 1 coated with the transparent photosensitive resin is placed and fixed on the stage including the gantry 4.

ステージとしては任意のもので良いが、ステージ表面からの反射ノイズ光を防ぐため、表面黒色のステージを用いることが望ましい。例えば、表面をアルマイト処理して黒色としたアルミニウム製のステージである。または、撮像ポイント部におけるガラス基板1下部だけを表面黒色部材としても良い。   Any stage may be used, but it is desirable to use a stage with a black surface in order to prevent reflected noise light from the stage surface. For example, an aluminum stage whose surface is anodized to be black. Or it is good also considering only the glass substrate 1 lower part in an imaging point part as a surface black member.

また、ガラス基板1の載置・固定は、例えば、ステージの上面に真空吸着機構を設けて、この機構によって吸着することによって載置・固定することが可能である。また、リフターを使用してステージ上方の中空位置に固定しても良いし、クランプによってガラス基板1の端面を把持することによりステージ上方の中空位置に固定することも可能である。このように中空位置に固定することによって、ステージ表面からの反射ノイズ光を防ぐことができる。   The glass substrate 1 can be placed and fixed by, for example, providing a vacuum suction mechanism on the upper surface of the stage and sucking it by this mechanism. Moreover, you may fix to the hollow position above a stage using a lifter, and it is also possible to fix to the hollow position above a stage by gripping the end surface of the glass substrate 1 with a clamp. By fixing in the hollow position in this way, reflected noise light from the stage surface can be prevented.

次に、図2の装置においては、ガントリー4に、複数の光源2と、この光源から照射された光が透明樹脂被膜にて反射された反射光を受光するカメラ3とが装着されている。   2, the gantry 4 is equipped with a plurality of light sources 2 and a camera 3 that receives reflected light obtained by reflecting light emitted from the light sources with a transparent resin film.

カメラ3としては、白黒カメラが好ましく利用できるが、カラーカメラであっても良い。また、カメラ4は、ラインカメラとエリアカメラのいずれであっても良い。尚、10bit以上の高感度カメラを使用することが好ましい。   As the camera 3, a monochrome camera can be preferably used, but a color camera may be used. The camera 4 may be either a line camera or an area camera. Note that it is preferable to use a high-sensitivity camera of 10 bits or more.

このカメラ3は、その測定感度の点から、その光軸が、基板1の法線に対し40〜60°の角度をなすように配置されていることが望ましい。より望ましくは50°である。また、このカメラ3の角度に対応して光源2も、照射光が基板1の法線に対し40〜60°の角度で入射するように配置されていることが望ましい。   The camera 3 is preferably arranged so that its optical axis forms an angle of 40 to 60 ° with respect to the normal line of the substrate 1 in terms of measurement sensitivity. More desirably, it is 50 °. Further, it is desirable that the light source 2 is also arranged so that the irradiation light is incident at an angle of 40 to 60 ° with respect to the normal line of the substrate 1 corresponding to the angle of the camera 3.

そして、前記光源2からの光を照射し、基板2の透明感光性被膜で反射された光の強度をカメラ2によって測定する。ガントリー4を移動させて反射光強度を測定することにより、測定対象全領域について、その反射光強度を測定することが可能である。尚、測定範囲が広い場合には、ガントリーの間欠移動と反射光強度の測定を繰り返したり、又はインライン上に具備させるとき等設置スペースに余裕が無い場合には、基板2そのものを動かし、ガントリー4を停止させた状態で、全範囲の反射光強度測定を行っても良い。   Then, the light from the light source 2 is irradiated, and the intensity of the light reflected by the transparent photosensitive film on the substrate 2 is measured by the camera 2. By measuring the reflected light intensity by moving the gantry 4, it is possible to measure the reflected light intensity for the entire measurement target region. If the measurement range is wide, the substrate 2 itself is moved and the gantry 4 is moved if there is not enough room for installation, such as when the intermittent movement of the gantry and the measurement of the reflected light intensity are repeated or provided on the in-line. The reflected light intensity measurement of the entire range may be performed in a state in which is stopped.

なお、反射光強度は、透明樹脂の塗布方向(m方向)及びこれに直交する方向(n方向)に分割して多数の小領域(m,n)とし、これら小領域(m,n)に光を照射してその反射光強度Rを、小領域(m,n)毎に測定する必要がある。図2の装置においては、ガントリー4の移動方向又はガラス基板の移動方向を塗布方向(m方向)としたが、ガントリー4の移動方向又はガラス基板の移動方向を塗布方向(m方向)に直交する方向(n方向)となるように配置しても良い。   The reflected light intensity is divided into a plurality of small regions (m, n) by dividing the transparent resin in the direction of application (m direction) and the direction (n direction) perpendicular thereto. It is necessary to irradiate light and measure the reflected light intensity R for each small area (m, n). In the apparatus of FIG. 2, the moving direction of the gantry 4 or the moving direction of the glass substrate is defined as the coating direction (m direction), but the moving direction of the gantry 4 or the moving direction of the glass substrate is orthogonal to the coating direction (m direction). You may arrange | position so that it may become a direction (n direction).

前記小領域(m,n)は、カメラ3の各画素に対応する領域であって良い。このため、カメラ3の分解能が高いほど透明感光性樹脂被膜の表面は細かい小領域に分割され、精度良く測定することが可能となる。また、カメラ3の画素を複数個にまとめて小領域(m,n)に対応させることも可能である。   The small area (m, n) may be an area corresponding to each pixel of the camera 3. For this reason, the higher the resolution of the camera 3, the more the surface of the transparent photosensitive resin coating is divided into fine small regions, which enables accurate measurement. It is also possible to combine a plurality of pixels of the camera 3 to correspond to the small area (m, n).

次に、本発明において膜厚ムラの検査に使用する光は、任意の波長の光で良いが、透明感光性樹脂被膜が感光性を有する場合には、その透明感光性樹脂被膜に感受性の無い波長の光を用いることが望ましい。一般に、感光性樹脂は紫外線などの短波長の光に感受性を有することから、本発明においては膜厚ムラの検査に使用する光として、500〜570nmの波長域に属する緑色光、あるいは580〜630nmの波長域に属する赤色光が好適に使用できる。尚、これらの光は狭帯域の光線であることが望ましい。好ましくは、半地幅20nm以下の単色光である。   Next, the light used for the inspection of film thickness unevenness in the present invention may be light of any wavelength, but when the transparent photosensitive resin film has photosensitivity, it is not sensitive to the transparent photosensitive resin film. It is desirable to use light of a wavelength. In general, since a photosensitive resin is sensitive to short-wavelength light such as ultraviolet rays, in the present invention, green light belonging to a wavelength range of 500 to 570 nm, or 580 to 630 nm is used as light for inspection of film thickness unevenness. Red light belonging to the wavelength region can be suitably used. These lights are preferably narrow-band rays. Preferably, it is monochromatic light with a half-width of 20 nm or less.

500〜570nmの波長域に属する緑色の単色光は、例えば光源2としてハロゲンランプや高圧水銀ランプを使用し、その光をバンドパスフィルタを透過させることで得ることができる。また、赤色の単色光は、ハロゲンランプや低圧ナトリウムランプを光源2とし、その光をバンドパスフィルタを透過させることによって得ることができる。尚、バンドパスフィルタや雰囲気への熱対策には十分注意を払う必要がある。   Green monochromatic light belonging to a wavelength range of 500 to 570 nm can be obtained by using, for example, a halogen lamp or a high-pressure mercury lamp as the light source 2 and transmitting the light through a band-pass filter. Red monochromatic light can be obtained by using a halogen lamp or a low-pressure sodium lamp as the light source 2 and transmitting the light through a band-pass filter. In addition, it is necessary to pay sufficient attention to measures against heat to the bandpass filter and atmosphere.

尚、透明感光性樹脂に照射する照射光は、検査に使用する光の他、別の波長域に属する光を含むものであってもよい。この場合には、反射光をバンドパスフィルタを通過させることによって、検査に使用する光の反射光強度を測定することができる。また、カラーカメラで色光毎に反射光強度を測定した後、検査に使用する光の反射光強度をデータ上で抽出しても良い。   In addition, the irradiation light with which the transparent photosensitive resin is irradiated may include light belonging to another wavelength region in addition to the light used for inspection. In this case, the reflected light intensity of the light used for the inspection can be measured by passing the reflected light through the band pass filter. Further, after measuring the reflected light intensity for each color light with a color camera, the reflected light intensity of the light used for the inspection may be extracted on the data.

次に、塗布方向(m方向)又は塗布方向に直交する方向(n方向)に沿って並んだ小領域(m,n)の反射光強度R(m,n)から移動平均値及び包絡値を算出する。透明感光性樹脂の下層に存在する格子影響を除去する手段として移動平均値及び包絡値を算出するが、好ましくはガラス基板上に形成された画素ストライプと直交する方向が好適である。これは、画素ストライプと直交する方向では、透明感光樹脂下層に存在する格子影響が格子配置構造上顕著に生じ、基板全体に亘って生じるうねり(モヤムラ)がより的確に現れるため、グラデーション画像データを生成するのに適するからである。この画素ストライプの方向は、ガラス基板上の面付け配置によって変わり、塗布方向(m方向)と同方向になる場合と、塗布方向に直交する方向(n方向)と同方向の場合の2種類があり、適時選択する。   Next, the moving average value and the envelope value are calculated from the reflected light intensity R (m, n) of the small regions (m, n) arranged along the coating direction (m direction) or the direction orthogonal to the coating direction (n direction). calculate. The moving average value and the envelope value are calculated as means for removing the lattice effect existing in the lower layer of the transparent photosensitive resin, and the direction orthogonal to the pixel stripe formed on the glass substrate is preferable. This is because in the direction perpendicular to the pixel stripes, the lattice effect existing in the lower layer of the transparent photosensitive resin is noticeably generated in the lattice arrangement structure, and the undulation (moire) generated over the entire substrate appears more accurately. This is because it is suitable for generation. The direction of the pixel stripe varies depending on the imposition arrangement on the glass substrate, and there are two types of cases: the same direction as the application direction (m direction) and the same direction as the direction orthogonal to the application direction (n direction). Yes, choose timely.

以下、塗布方向(m方向)に並んだ小領域(m,n)の反射光強度R(m,n)から移動平均値及び包絡値を算出する場合を例として説明する(塗布方向(m方向)が画素ストライプと直交する方向とする)。   Hereinafter, a case where the moving average value and the envelope value are calculated from the reflected light intensity R (m, n) of the small regions (m, n) arranged in the application direction (m direction) will be described as an example (application direction (m direction). ) In a direction perpendicular to the pixel stripe).

塗布方向(m方向)に並んだ小領域(m,n)の反射光強度R(m,n)から得られる移動平均値は、例えば互いに隣接する反射光強度Rm(m,n)とRm+1(m,n)との平均を算出することで実施することができる。例えば、(R1+R2)/2,(R2+R3)/2,・・・などである。もちろん、互いに隣接する2つの反射光強度Rmに限らず、互いに連続する3以上の反射光強度Rmの平均を移動平均値Rm’として利用することも可能である。平滑化処理として、フーリエ変換後高周波成分を除去し、逆変換する処理を利用することも可能である。   The moving average value obtained from the reflected light intensity R (m, n) of the small regions (m, n) arranged in the coating direction (m direction) is, for example, the reflected light intensity Rm (m, n) and Rm + 1 (adjacent to each other). m, n) and calculating the average. For example, (R1 + R2) / 2, (R2 + R3) / 2,. Of course, not only the two reflected light intensities Rm adjacent to each other but also an average of three or more reflected light intensities Rm that are continuous with each other can be used as the moving average value Rm ′. As the smoothing process, it is also possible to use a process of removing a high-frequency component after Fourier transform and performing inverse transform.

塗布方向(m方向)に並んだ小領域(m,n)の反射光強度R(m,n)から得られる包絡値は、例えば次のような方法で求めることができる。反射光強度Rmと移動平均値Rm’との差を求める。この時、プラスの値を示す方が上側包絡値候補となり、マイナスの値を示す方が下側包絡値候補となるが、これらの値は離散値である。そこで、離散値を連続値に置換させる。上側包絡値の場合は、ある特定区間(m,n)−(m+m’,n)において包絡値候補の最大値を求め、(m+m’,n)−(m+2m’,n)・・・・・の区間で同様に包絡値候補の最大値を求める。各区間で得られた包絡値候補の最大値間を一次近似補間することで、間隙データを補填し、反射光強度の明部側をトレースするデータ、すなわち上側包絡値Tmを得る。下側包絡値の場合は、ある特定区間(m,n)−(m+m’,n)において包絡値候補の最小値を求め、(m+m’,n)−(m+2m’,n)・・・・・の区間で同様に包絡値候補の最小値を求める。各区間で得られた包絡値候補の最小値間を一次近似補間することで、間隙データを補填し、反射光強度の暗部側をトレースするデータ、すなわち下側包絡値Bmを得る。この包絡処理を全面に亘って行なう。そして、求めた上側包絡値から明側包絡画像、求めた下側包絡値から暗側包絡画像を生成する。このような処理フローの例を図6に示す。   The envelope value obtained from the reflected light intensity R (m, n) of the small regions (m, n) arranged in the coating direction (m direction) can be obtained by the following method, for example. The difference between the reflected light intensity Rm and the moving average value Rm ′ is obtained. At this time, a positive value is an upper envelope value candidate, and a negative value is a lower envelope value candidate, but these values are discrete values. Therefore, the discrete value is replaced with a continuous value. In the case of the upper envelope value, the maximum value of the envelope value candidate is obtained in a specific interval (m, n) − (m + m ′, n), and (m + m ′, n) − (m + 2m ′, n). In the same way, the maximum value of the envelope value candidates is obtained. By interpolating between the maximum values of the envelope value candidates obtained in each section by linear approximation interpolation, the gap data is compensated, and data for tracing the bright part side of the reflected light intensity, that is, the upper envelope value Tm is obtained. In the case of the lower envelope value, the minimum value of the envelope value candidate is obtained in a specific section (m, n) − (m + m ′, n), and (m + m ′, n) − (m + 2m ′, n). Similarly, the minimum value of the envelope value candidates is obtained in the interval of. By interpolating between the minimum values of the envelope value candidates obtained in each section by linear approximation interpolation, the gap data is compensated, and data for tracing the dark side of the reflected light intensity, that is, the lower envelope value Bm is obtained. This envelope processing is performed over the entire surface. Then, a bright side envelope image is generated from the obtained upper envelope value, and a dark side envelope image is generated from the obtained lower envelope value. An example of such a processing flow is shown in FIG.

他の包絡データ生成方法として、ある区間内で反射光強度Rの最大値と最小値を求め、この区間を順次移動させながら同様に各区間内の最大値と最小値を求める。次に求められた各区間の最大値間を補間して上側包絡値Tmを、同様に各区間の最小値間を補間して下側包絡値Bmを生成することができる。尚、区間については、下地の画素区画のピッチ等の配置構造から周期を予測設定できる。   As another envelope data generation method, the maximum value and the minimum value of the reflected light intensity R are obtained in a certain section, and the maximum value and the minimum value in each section are similarly obtained while sequentially moving the section. Next, it is possible to generate the upper envelope value Tm by interpolating between the maximum values of the respective sections obtained, and similarly interpolating between the minimum values of the sections. For the section, the period can be predicted and set from the arrangement structure such as the pitch of the underlying pixel section.

このような包絡処理を行なうことで、人間の目で観察しているのと同様に反射光強度をなだらかなデータ(画像)として再形成することで、求める塗布ムラの検出感度の向上を狙うと共に、反射光強度データ内に存在する高周波変動、すなわち透明感光性樹脂下層に存在する格子影響を軽減させることで外乱影響を除き、塗布ムラの検出精度の向上を狙っている。   By performing such an envelope process, the reflected light intensity is re-created as gentle data (image) in the same way as observed by the human eye, aiming to improve the detection sensitivity of the required coating unevenness. The aim is to improve the detection accuracy of coating unevenness by reducing the influence of disturbance by reducing high-frequency fluctuations present in the reflected light intensity data, that is, the lattice effect existing in the lower layer of the transparent photosensitive resin.

また、上側包絡値Tmと移動平均値Rm’との除算Tm/Rm’、下側包絡値Bmと移動平均値Rm’との除算Bm/Rm’によって、基板全面に存在する明るさ変動(モヤムラ影響)の軽減をさらに狙って明側包絡画像及び暗側包絡画像を生成する。尚、上側包絡値と移動平均値との除算値は、必ず1以上の値となる。逆に下側包絡値と移動平均値との除算では、必ず1以下の値となるため、例えば同一の尺度で処理をしたい場合には、移動平均値と下側包絡値との除算値Rm’/Bmとしても良い。また、画像化する際に値を底上げして表示上の視認性向上を狙っても良い。これにより、官能欠陥である塗布ムラ有無判断を定量的に下すことが可能になる。また、これら除算値に閾値を設け、この閾値より大きい又は小さい除算値を示す部位を塗布ムラとして可能性のある領域を抽出することも可能である。   Further, brightness variation (Hyamura) existing on the entire surface of the substrate by division Tm / Rm ′ between upper envelope value Tm and moving average value Rm ′ and division Bm / Rm ′ between lower envelope value Bm and moving average value Rm ′. A bright-side envelope image and a dark-side envelope image are generated with the aim of further reducing the influence. The division value between the upper envelope value and the moving average value is always 1 or more. On the other hand, since the division between the lower envelope value and the moving average value is always a value of 1 or less, for example, when processing on the same scale is desired, the division value Rm ′ of the moving average value and the lower envelope value is used. / Bm may be used. In addition, when imaging is performed, the value may be raised to improve visibility on display. This makes it possible to quantitatively determine whether or not there is coating unevenness, which is a sensory defect. It is also possible to provide a threshold value for these division values and extract a region having a possibility of coating unevenness as a portion showing a division value larger or smaller than the threshold value.

また、上側包絡値Tmと下側包絡値Bmとの比を求め、明部を示す上側包絡値と暗部を示す下側包絡値に生じている明るさ変動を相乗させることによって塗布ムラを強調させた包絡画像を得ることが可能である。また、この乗算値に閾値を設け、この閾値より大きい乗算値を示す部位を塗布ムラとして可能性のある領域を抽出することも可能である。   In addition, the ratio of the upper envelope value Tm and the lower envelope value Bm is obtained, and the coating unevenness is emphasized by synergizing the brightness fluctuation occurring in the upper envelope value indicating the bright portion and the lower envelope value indicating the dark portion. It is possible to obtain an envelope image. It is also possible to provide a threshold value for this multiplication value, and extract a region having a possibility of application unevenness as a portion showing a multiplication value larger than this threshold value.

次に、包絡画像に対してムラ抽出を試みる方法について説明する。この処理は、図3に示すようなフィルタ形状を用いることで実施することができる。注目画素F(m,n)からM画素分だけ離れた位置に存在し、かつ注目画素を取り囲む複数の画素の輝度値の平均値A(m,n)を求める。次に、注目画素F(m,n)からN(N>M)画素分だけ離れた位置に存在し、かつ注目場画素を取り囲む複数の画素の輝度値の平均値B(m,n)を求める。そして、注目画素F(m,n)と外周輝度値平均B(m,n)との比較、内周輝度値平均A(m,n)と外周輝度値平均B(m,n)との比較を実施し、局所的な輝度変化の生じている部位を塗布ムラとして抽出する。塗布ムラ部位として抽出された画像データに対して、メディアンフィルタや膨張収縮処理を行なった後、ラベリング処理等を経て特徴量を求めることで塗布ムラ検出を行なう。このような処理フローの例を図7に示す。以上のようにして塗布ムラの検出が可能となる。
尚、このような演算は、図示しないコンピュータによって可能である。
Next, a method for trying to extract unevenness from the envelope image will be described. This processing can be performed by using a filter shape as shown in FIG. An average value A (m, n) of the luminance values of a plurality of pixels existing at a position separated from the target pixel F (m, n) by M pixels and surrounding the target pixel is obtained. Next, an average value B (m, n) of luminance values of a plurality of pixels existing at a position separated from the target pixel F (m, n) by N (N> M) pixels and surrounding the target field pixel is obtained. Ask. Then, the target pixel F (m, n) is compared with the outer peripheral luminance value average B (m, n), and the inner peripheral luminance value average A (m, n) is compared with the outer peripheral luminance value average B (m, n). And a part where a local luminance change occurs is extracted as coating unevenness. The image data extracted as the coating unevenness portion is subjected to median filter and expansion / contraction processing, and then subjected to labeling processing and the like to obtain a feature amount to detect coating unevenness. An example of such a processing flow is shown in FIG. As described above, application unevenness can be detected.
Such calculation can be performed by a computer (not shown).

本実施例で使用した基板1の概要は、図1に示した通りである。青色光に感受性のある透明感光性樹脂をダイコーターを使用して一方向に向かって塗布したもので、目視にて白く見えるムラと黒く見えるムラの二種類の丸状塗布ムラを設けてあり、本実施例ではこれら丸状のムラに関して説明することにする。   The outline of the substrate 1 used in this example is as shown in FIG. A transparent photosensitive resin sensitive to blue light is applied in one direction using a die coater, and there are two types of round coating unevenness: unevenness that looks white and unevenness that looks black. In this embodiment, these round unevenness will be described.

次に、本実施例で利用した装置の概要は、図2に示した通りである。光源としては、低圧ナトリウムランプを照明ボックス内に具備し、照明ボックスの中心軸が基材表面の法線に対して50°となるように配置、拡散照射させて使用した。また、カメラ3としては、白黒のラインカメラを使用し、これをその光軸が基材表面の法線に対し50°をなすように配置した。そして、基板1を移動させて、基板全領域についてその反射光強度Rを測定し、反射光強度Rから包絡画像を生成した。また、生成した包絡画像に対して注目画素を取り囲む画素群を構成する各輝度値の平均値と前記注目画素の輝度値の差分を算出するフィルタ処理を行い、自動ムラ検出を試みた。尚、この時使用した画像データは、8bit濃淡画像である。   Next, the outline of the apparatus used in this embodiment is as shown in FIG. As a light source, a low-pressure sodium lamp was provided in an illumination box, and the illumination box was disposed and diffused so that the central axis of the illumination box was 50 ° with respect to the normal of the substrate surface. As the camera 3, a black and white line camera was used, which was arranged so that its optical axis was 50 ° with respect to the normal of the substrate surface. And the board | substrate 1 was moved, the reflected light intensity R was measured about the board | substrate whole area | region, and the envelope image was produced | generated from the reflected light intensity R. FIG. In addition, automatic unevenness detection was attempted by performing a filter process for calculating the difference between the average value of each luminance value constituting the pixel group surrounding the pixel of interest and the luminance value of the pixel of interest on the generated envelope image. The image data used at this time is an 8-bit grayscale image.

図4は、白ムラは、明側包絡値の方がその存在が分かり易いので、白ムラ原画像に対して明側包絡画像を生成した結果を示したものである。左側が白ムラ原画像、右側が生成した白ムラ明側包絡画像である。この結果より、白ムラが原画像に対して明側包絡画像を生成することによって、強調されていることが分かる。
また、図5は、黒ムラは、暗側包絡値の方がその存在が分かり易いので、黒ムラ原画像に対して暗側包絡画像を生成した結果を示したものである。左側が黒ムラ原画像、右側が生成した黒ムラ暗側包絡画像である。この結果より、黒ムラが原画像に対して暗側包絡画像を生成することによって、強調されていることが分かる。
FIG. 4 shows the result of generating a bright-side envelope image for a white-uneven original image because the presence of a white-side unevenness value is easier to understand. The left side is the original white uneven image, and the right side is the generated white uneven side envelope image. From this result, it can be seen that white unevenness is enhanced by generating a bright envelope image with respect to the original image.
Further, FIG. 5 shows the result of generating the dark side envelope image for the black uneven original image because the presence of the dark side envelope value is easier to understand. The left side is a black unevenness original image, and the right side is a black unevenness dark side envelope image generated. From this result, it can be seen that black unevenness is enhanced by generating a dark side envelope image with respect to the original image.

次に、図4及び図5に示した白ムラ明側包絡画像、黒ムラ暗側包絡画像に対して、注目画素を取り囲む画素群を構成する各輝度値の平均値と注目画素の輝度値の差分を算出するフィルタ処理を行なった。図3に示したフィルタ形状を適用し、図7に示した処理フローにてムラ検出処理を行った。そして、この処理フローに従い、白ムラ及び黒ムラに対してムラ検出処理を行なった結果を図8に示す。この時の条件として、M=15、N=25、閾値(Th_br1、Th_br2、Th_da1、Th_da2)=10とした。この時、Th_br1は内外周間の閾値(明側)、Th_br2は注目画素と内周間の閾値(明側)、Th_da1は内外周間の閾値(暗側)、Th_da2は注目画素と内周間の閾値(明側)である。尚、閾値は便宜上、F、A、B等に対する相対値としても良い。
この結果より、精度良くムラ部位が捉えられていることが確認できる。
Next, with respect to the white unevenness bright side envelope image and the black unevenness dark side envelope image shown in FIGS. 4 and 5, the average value of each luminance value constituting the pixel group surrounding the target pixel and the luminance value of the target pixel Filter processing for calculating the difference was performed. The filter shape shown in FIG. 3 was applied, and unevenness detection processing was performed in the processing flow shown in FIG. FIG. 8 shows the result of performing the unevenness detection process for white unevenness and black unevenness according to this processing flow. As conditions at this time, M = 15, N = 25, and threshold values (Th_br1, Th_br2, Th_da1, Th_da2) = 10. At this time, Th_br1 is a threshold value between the inner and outer periphery (bright side), Th_br2 is a threshold value between the target pixel and the inner periphery (bright side), Th_da1 is a threshold value between the inner and outer periphery (dark side), and Th_da2 is between the target pixel and the inner periphery. Threshold (bright side). The threshold value may be a relative value with respect to F, A, B, etc. for convenience.
From this result, it can be confirmed that the uneven portion is accurately captured.

これらの結果から、本発明によれば基板全面の反射光強度から求める包絡画像生成手段及びフィルタ処理手段によって透明感光性樹脂の下層にある格子影響及び基板全面に亘って存在する大きなうねり(モヤムラ)を軽減し、精度良く塗布ムラが検出できることが分かった。   From these results, according to the present invention, by the envelope image generation means and the filter processing means obtained from the reflected light intensity on the entire surface of the substrate, the lattice effect on the lower layer of the transparent photosensitive resin and the large waviness existing over the entire surface of the substrate (Hayamura) It was found that uneven coating can be detected with high accuracy.

液晶ディスプレイの製造に用いられるフォトスペーサー用の透明感光性樹脂被膜の塗布ムラを検出するのに好適である。   It is suitable for detecting coating unevenness of a transparent photosensitive resin film for a photospacer used for manufacturing a liquid crystal display.

透明感光性樹脂を有する基板の説明用平面図である。It is a top view for description of the board | substrate which has transparent photosensitive resin. 本発明に係る検出装置の説明用斜視図である。It is a perspective view for explanation of a detection device concerning the present invention. 本発明に係るフィルタ形状の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the filter shape which concerns on this invention. 本発明の白ムラ実施例に係る包絡画像の一例である。It is an example of the envelope image which concerns on the white nonuniformity Example of this invention. 本発明の黒ムラ実施例に係る包絡画像の一例である。It is an example of the envelope image which concerns on the black nonuniformity Example of this invention. 本発明に係る包絡処理の一例を示す処理フロー図である。It is a processing flowchart which shows an example of the envelope process which concerns on this invention. 本発明に係るフィルタ処理の一例を示す処理フロー図である。It is a processing flow figure showing an example of filter processing concerning the present invention. 本発明のムラ実施例に係るムラ検出画像の一例である。It is an example of the nonuniformity detection image which concerns on the nonuniformity example of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・透明感光性被膜を供える基材
2・・・光源
3・・・カメラ
11・・・黒色額縁
12・・・表示画面
13・・・端面
14・・・塗布領域
15・・・塗布ムラ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base material which provides a transparent photosensitive film 2 ... Light source 3 ... Camera 11 ... Black picture frame 12 ... Display screen 13 ... End surface 14 ... Application | coating area | region 15 ... Application | coating village

Claims (4)

基材上に塗布された透明樹脂被膜の塗布ムラを検査する方法であって、この基材が透明樹脂被膜の下層に存在する格子を有するものである前記検査方法において、
透明樹脂の塗布方向及びこれに直交する方向に分割して多数の小領域とし、これら小領域に光を照射してその反射光強度を小領域毎に測定する反射光強度測定工程と、
塗布方向又は塗布方向に直交する方向を包絡方向として、この包絡方向に沿って並んだ小領域の反射光強度を包絡処理してその包絡値を算出し、算出した包絡値から明側包絡画像データと暗側包絡画像データを生成する包絡画像データ生成工程と、
該包絡画像データに対して、注目画素を取り囲む画素群を構成する各輝度値の平均値と前記注目画素の輝度値の差分を算出することにより塗布ムラを抽出するムラ抽出工程と、
を備えることを特徴とする塗布ムラ検査方法。
In the method of inspecting the coating unevenness of the transparent resin film applied on the substrate, wherein the substrate has a lattice present in the lower layer of the transparent resin film,
A reflected light intensity measuring step of dividing the application direction of the transparent resin and a plurality of small areas by dividing the direction into the direction orthogonal thereto, irradiating light to these small areas and measuring the reflected light intensity for each small area;
With the envelope direction as the coating direction or the direction orthogonal to the coating direction, the reflected light intensity of the small area aligned along the envelope direction is envelope-processed to calculate the envelope value, and the bright-side envelope image data from the calculated envelope value And an envelope image data generation step for generating dark side envelope image data,
For the envelope image data, a non-uniformity extraction step of extracting application non-uniformity by calculating the difference between the average value of each luminance value constituting the pixel group surrounding the target pixel and the luminance value of the target pixel;
A coating unevenness inspection method comprising:
前記包絡画像データ生成工程にて、上側包絡値と反射光強度の移動平均値との除算値及び下側包絡値と反射光強度の移動平均値との除算値から包絡画像データを生成することを特徴とする請求項1に記載の塗布ムラ検査方法。   In the envelope image data generation step, envelope image data is generated from a division value of the upper envelope value and the moving average value of the reflected light intensity and a division value of the lower envelope value and the moving average value of the reflected light intensity. The coating unevenness inspection method according to claim 1. 基材上に塗布された透明樹脂被膜の塗布ムラを検査する方法であって、この基材が透明樹脂被膜の下層に存在する格子を有するものである前記検査方法において、
透明樹脂の塗布方向及びこれに直交する方向に分割して多数の小領域とし、これら小領域に光を照射してその反射光強度を小領域毎に測定する反射光強度測定工程と、
塗布方向又は塗布方向に直交する方向を包絡方向として、この包絡方向に沿って並んだ小領域の反射光強度を包絡処理してその包絡値を算出し、算出した上側包絡値と下側包絡値との比から包絡画像データを生成する包絡画像データ生成工程と、
該包絡画像データに対して、注目画素を取り囲む画素群を構成する各輝度値の平均値と前記注目画素の輝度値の差分を算出することにより塗布ムラを抽出するムラ抽出工程と、
を備えることを特徴とする塗布ムラ検査方法
In the method of inspecting the coating unevenness of the transparent resin film applied on the substrate, wherein the substrate has a lattice present in the lower layer of the transparent resin film,
A reflected light intensity measuring step of dividing the application direction of the transparent resin and a plurality of small areas by dividing the direction into the direction orthogonal thereto, irradiating light to these small areas and measuring the reflected light intensity for each small area;
The envelope direction is defined as the coating direction or the direction perpendicular to the coating direction, and the envelope values are calculated by enveloping the reflected light intensity of the small regions aligned along the envelope direction, and the calculated upper envelope value and lower envelope value are calculated. An envelope image data generation step for generating envelope image data from the ratio of
For the envelope image data, a non-uniformity extraction step of extracting application non-uniformity by calculating the difference between the average value of each luminance value constituting the pixel group surrounding the target pixel and the luminance value of the target pixel;
A coating unevenness inspection method comprising:
基材上に塗布された透明樹脂を塗布方向及びこれに直交する方向に分割して多数の小領域とし、これら小領域に照射された光の反射光強度から塗布ムラを検査するためのプログラムであって、この基材が透明樹脂被膜の下層に存在する格子を有するものである前記プログラムにおいて、
塗布方向又は塗布方向に直交する方向を包絡方向として、この包絡方向に沿って並んだ小領域の反射光強度を包絡処理してその包絡値を算出するステップと、
算出された包絡値から明側包絡画像データと暗側包絡画像データを生成する包絡画像データ生成ステップと、
該包絡画像データに対して、注目画素を取り囲む画素群を構成する各輝度値の平均値と前記注目画素の輝度値の差分を算出することにより塗布ムラを抽出するムラ抽出ステップと、
を備えることを特徴とする塗布ムラ検査プログラム。
A program for inspecting coating unevenness from the reflected light intensity of the light irradiated to these small areas by dividing the transparent resin applied on the base material into a plurality of small areas by dividing the transparent resin in the coating direction and the direction perpendicular thereto. In this program, the base material has a lattice existing in the lower layer of the transparent resin film.
The envelope direction is a direction perpendicular to the application direction or the application direction, and the envelope value is calculated by enveloping the reflected light intensity of the small regions arranged along the envelope direction; and
An envelope image data generating step for generating bright side envelope image data and dark side envelope image data from the calculated envelope value;
A non-uniformity extracting step for extracting coating non-uniformity by calculating a difference between an average value of each luminance value constituting a pixel group surrounding the target pixel and the luminance value of the target pixel with respect to the envelope image data;
A coating unevenness inspection program characterized by comprising:
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5136282B2 (en) * 2008-08-21 2013-02-06 大日本印刷株式会社 Design confirmation device, design confirmation method, and program
JP2010048633A (en) * 2008-08-21 2010-03-04 Dainippon Printing Co Ltd Device, method and program for visualizing luster unevenness
CN107807135B (en) * 2017-07-31 2020-05-01 水利部交通运输部国家能源局南京水利科学研究院 Method for early warning crack initiation and real-time monitoring expansion of built-in crack of transparent material
JP7211169B2 (en) * 2019-03-07 2023-01-24 コニカミノルタ株式会社 Image inspection device and image forming system

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003166941A (en) * 2001-11-29 2003-06-13 Asahi Glass Co Ltd Apparatus, method and program for inspection of irregularities in film thickness
JP2005077181A (en) * 2003-08-29 2005-03-24 Toppan Printing Co Ltd Method for inspecting striped unevenness in cyclic pattern
JP2006263643A (en) * 2005-03-25 2006-10-05 Toppan Printing Co Ltd Method for detecting irregularities in coating
JP2006322872A (en) * 2005-05-20 2006-11-30 Toppan Printing Co Ltd Inspection method of coating irregularity and its program

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0621775B2 (en) * 1986-04-04 1994-03-23 日産自動車株式会社 Surface inspection device
JPH06300998A (en) * 1993-04-13 1994-10-28 Toshiba Corp Apparatus for inspecting uniformity
JPH07301608A (en) * 1994-03-11 1995-11-14 Dainippon Ink & Chem Inc Thin film defect inspection method and inspection device therefor

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003166941A (en) * 2001-11-29 2003-06-13 Asahi Glass Co Ltd Apparatus, method and program for inspection of irregularities in film thickness
JP2005077181A (en) * 2003-08-29 2005-03-24 Toppan Printing Co Ltd Method for inspecting striped unevenness in cyclic pattern
JP2006263643A (en) * 2005-03-25 2006-10-05 Toppan Printing Co Ltd Method for detecting irregularities in coating
JP2006322872A (en) * 2005-05-20 2006-11-30 Toppan Printing Co Ltd Inspection method of coating irregularity and its program

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