JPH11134892A - Internal potential generating circuit - Google Patents

Internal potential generating circuit

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JPH11134892A
JPH11134892A JP5962598A JP5962598A JPH11134892A JP H11134892 A JPH11134892 A JP H11134892A JP 5962598 A JP5962598 A JP 5962598A JP 5962598 A JP5962598 A JP 5962598A JP H11134892 A JPH11134892 A JP H11134892A
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potential
circuit
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Tomoshi Futatsuya
知士 二ッ谷
Atsushi Oba
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an internal potential generating circuit which can output a plurality of internal potentials while the increase of a circuit area is suppressed. SOLUTION: In an internal potential generating circuit 200, in the initial stage of its operation, a high voltage switching circuit 218 is in a continuity state to keep the common potential level between the output node NH1 of a 1st step-up circuit 202 and the output node NH2 of a 2nd step-up circuit for operation. After an output potential level from the 2nd step-up circuit 204 reaches a predetermined potential level, the high voltage switching circuit 218 is in a cut-off state and the 1st step-up circuit 202 and the 2nd step-up circuit 204 drive potential levels corresponding to the respective output nodes independently.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体集積回路
装置に搭載され、外部からの電源電位を受けて、内部電
位を発生する内部電位発生回路に関する。より特定的に
は、不揮発性半導体記憶装置等において、外部電源電位
を受けて、不揮発性メモリ素子へのデータの書込、消去
動作等に必要な内部電位を発生する内部電位発生回路に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an internal potential generating circuit mounted on a semiconductor integrated circuit device and receiving an external power supply potential and generating an internal potential. More specifically, the present invention relates to an internal potential generation circuit that generates an internal potential required for data writing and erasing operations to a nonvolatile memory element upon receiving an external power supply potential in a nonvolatile semiconductor memory device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路装置、特にフラッシュメ
モリ等の不揮発性半導体記憶装置においては、フローテ
ィングゲートを有するメモリセルトランジスタに対して
トンネル電流等により記憶データの書込を行なう。この
ため、一般には、外部電源電圧(たとえば、Vcc=
3.3V)よりも高い電圧をチップ上で生成してやるこ
とが必要となる。
2. Description of the Related Art In a semiconductor integrated circuit device, particularly in a nonvolatile semiconductor memory device such as a flash memory, storage data is written to a memory cell transistor having a floating gate by a tunnel current or the like. Therefore, generally, an external power supply voltage (for example, Vcc =
It is necessary to generate a voltage higher than 3.3 V) on the chip.

【0003】また、不揮発性半導体記憶装置に限らず、
たとえばダイナミック型半導体記憶装置(以下、DRA
Mと呼ぶ)等においても、センスアンプを左右のビット
線対で共有する構成とした場合、このセンスアンプと左
右のビット線対との接続を開閉するビット線分離用トラ
ンジスタのゲート電圧には十分昇圧した電位を印加する
必要がある。すなわち、昇圧された電圧が印加されない
場合、メモリセルへのデータの書込やリフレッシュ動作
時のデータの再書込動作において、このビット線分離用
トランジスタを導通状態としても、メモリセルへ書込ま
れる“H”レベルのデータの電位レベルが、データ線分
離用トランジスタのしきい値電圧分だけ低下してしまう
ことになる。
[0003] In addition to the nonvolatile semiconductor memory device,
For example, a dynamic semiconductor memory device (hereinafter, DRA)
M), when the sense amplifier is shared by the left and right bit line pairs, the gate voltage of the bit line isolation transistor that opens and closes the connection between the sense amplifier and the left and right bit line pairs is sufficient. It is necessary to apply a boosted potential. That is, when the boosted voltage is not applied, the data is written to the memory cell even when the bit line isolation transistor is turned on in the data writing operation to the memory cell or the data rewriting operation in the refresh operation. The potential level of the "H" level data is reduced by the threshold voltage of the data line isolation transistor.

【0004】また、たとえばデータ出力回路において、
出力用トランジスタには大きな電流が流れるため、一般
にはCMOSラッチアップを避けるために、Nチャネル
MOSトランジスタが使用される。この場合、出力トラ
ンジスタのしきい値電圧分の電位低下による負荷に対す
る充電速度の低下を避ける必要がある。このため、この
NチャネルMOS出力トランジスタのゲート電位も、昇
圧した電位で駆動される必要がある。
In a data output circuit, for example,
Since a large current flows through the output transistor, an N-channel MOS transistor is generally used to avoid CMOS latch-up. In this case, it is necessary to avoid a decrease in the charging speed for a load due to a decrease in the potential of the output transistor by the threshold voltage. Therefore, the gate potential of the N-channel MOS output transistor also needs to be driven at the boosted potential.

【0005】また、フラッシュメモリ等の不揮発性半導
体記憶装置においては、後に説明するように、その書込
動作や消去動作において、制御ゲート、ソース線および
基板に対して、動作モードに応じて負電位が印加される
必要がある。
In a nonvolatile semiconductor memory device such as a flash memory, as described later, in a writing operation or an erasing operation, a negative potential is applied to a control gate, a source line, and a substrate in accordance with an operation mode. Must be applied.

【0006】さらに、一般にDRAM等においても、C
MOS回路のラッチアップ耐性を向上させたり、MOS
トランジスタのしきい値変動を抑制するために、基板側
に負電位が印加されることが一般的である。
In general, DRAMs and the like also require C
Improve the latch-up resistance of MOS circuits,
In general, a negative potential is applied to the substrate side in order to suppress a variation in the threshold value of the transistor.

【0007】この場合、外部から供給される単一電源電
位(たとえば、Vcc=3.3V)から、負電位を生成
する必要がある。
In this case, it is necessary to generate a negative potential from a single power supply potential (for example, Vcc = 3.3 V) supplied from the outside.

【0008】以上説明したような、外部電源電位よりも
高い内部電位を生成したり、あるいは負の内部電位を生
成する場合、一般にチャージポンプ回路が用いられる。
When an internal potential higher than the external power supply potential or a negative internal potential is generated as described above, a charge pump circuit is generally used.

【0009】図19は、従来の正の内部高電位を発生す
るためのチャージポンプ回路2000の要部を示す回路
図である。
FIG. 19 is a circuit diagram showing a main part of a conventional charge pump circuit 2000 for generating a positive internal high potential.

【0010】チャージポンプ回路2000は、正の内部
高電位が出力されるべき出力ノードNH と、電源電位V
ccとの間に互い直列に接続される、各々がダイオード
接続されたNチャネルMOSトランジスタQ1〜Q7
と、トランジスタQ2〜Q7のゲートにそれぞれ一端が
接続するキャパシタC1〜C6とを備える。キャパシタ
C1,C3およびC5の他端には、クロック信号PHが
与えられ、キャパシタC2,C4およびC6の他端に
は、クロック信号PHと相補な(ノンオーバーラップ
な)クロック信号の信号/PHが与えられる構成となっ
ている。
Charge pump circuit 2000 includes an output node N H to which a positive internal high potential is to be output, and a power supply potential V H.
cc and N-channel MOS transistors Q1-Q7, each of which is connected in series with each other and diode-connected.
And capacitors C1 to C6 each having one end connected to the gate of each of the transistors Q2 to Q7. A clock signal PH is applied to the other ends of the capacitors C1, C3 and C5, and a signal / PH of a clock signal complementary (non-overlapping) to the clock signal PH is applied to the other ends of the capacitors C2, C4 and C6. The configuration is given.

【0011】図20は、図19に示したトランジスタQ
1〜Q7の断面構造を示す模式図である。ゲート電極と
ソースとが共通に接続されているため、ソース側からド
レイン側を順方向とするダイオードと等価な構成となっ
ている。
FIG. 20 shows the transistor Q shown in FIG.
It is a schematic diagram which shows the cross-section of 1-Q7. Since the gate electrode and the source are commonly connected, the configuration is equivalent to a diode having a forward direction from the source side to the drain side.

【0012】図21は、図19に示した回路の等価回路
を示す図である。また、図22はクロック信号PHおよ
び/PHの時間変化を示すタイミングチャートである。
FIG. 21 is a diagram showing an equivalent circuit of the circuit shown in FIG. FIG. 22 is a timing chart showing a time change of clock signals PH and / PH.

【0013】図21および図22を参照して、チャージ
ポンプ回路2000の動作を簡単に説明する。
Referring to FIGS. 21 and 22, the operation of charge pump circuit 2000 will be briefly described.

【0014】信号PH,信号/PHが、容量を介して結
合されるノードの電位は、信号PH,信号/PHに同期
して上下する。
The potential of a node to which the signal PH and the signal / PH are coupled via a capacitor rises and falls in synchronization with the signal PH and the signal / PH.

【0015】したがって、図22を参照して、時刻t1
において、信号PHが“H”レベル(Vccレベル)と
なり、信号/PHが“L”レベル(GNDレベル)へと
変化すると、ノードN1,N3およびN5の電位レベル
は上昇し、ノードN2,N4およびN6の電位は信号/
PHに応じて低下しようとする。
Therefore, referring to FIG. 22, at time t1
When signal PH attains "H" level (Vcc level) and signal / PH changes to "L" level (GND level), the potential levels of nodes N1, N3 and N5 rise, and nodes N2, N4 and The potential of N6 is a signal /
Try to decrease according to PH.

【0016】しかしながら、ノードN1およびノードN
2の間、ノードN3およびノードN4の間ならびにノー
ドN5およびノードN6との間にはそれぞれダイオード
が接続されているため、ノードN1からノードN2に
は、ダイオードQ2を介して順方向電流が流れる。同様
にして、ノードN3からノードN4へはダイオードQ4
を介して、ノードN5からノードN6へはダイオードQ
6を介して、それぞれ順方向電流が流れる。このため、
時刻t1〜時刻t2の期間において、ノードN2,N4
およびN6の電位レベルは、大きくは低下しない。
However, the nodes N1 and N
2, a diode is connected between the nodes N3 and N4 and between the nodes N5 and N6, so that a forward current flows from the node N1 to the node N2 via the diode Q2. Similarly, a diode Q4 is connected from node N3 to node N4.
Through a diode Q from node N5 to node N6.
6, forward currents respectively flow. For this reason,
In the period from time t1 to time t2, nodes N2 and N4
And N6 do not drop significantly.

【0017】次に、時刻t2において、信号PHが
“L”レベルに、信号/PHが“H”レベルへ変化す
る。時刻t1〜時刻t2の場合と同様にして、ノードN
1の電位レベルは、電源電位VccからダイオードQ1
を介して流れ込む電流のため信号PHの低下分ほどは低
下しない。同様にして、ノードN3およびノードN5
も、それぞれダイオードQ3およびQ5を介してノード
N2およびノードN4から流れ込む電流のために、信号
PHの低下分ほどは低下しない。
Next, at time t2, signal PH changes to "L" level and signal / PH changes to "H" level. As in the case of the time t1 to the time t2, the node N
1 is from the power supply potential Vcc to the diode Q1.
Does not decrease as much as the decrease in the signal PH due to the current flowing through. Similarly, the nodes N3 and N5
Does not decrease as much as the decrease in signal PH due to currents flowing from nodes N2 and N4 via diodes Q3 and Q5, respectively.

【0018】このような動作が繰返されることにより、
内部電源電位Vccよりも十分大きな電位レベルが出力
ノードNhに出力されることになる。
By repeating such an operation,
A potential level sufficiently higher than internal power supply potential Vcc is output to output node Nh.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】図19に示したチャー
ジポンプ回路2000のダイオードは、MOSトランジ
スタのソースとゲートとを接続することによって構成さ
れている。この場合、昇圧を行なうことができる電位差
は以下の式で表わされる。
The diode of the charge pump circuit 2000 shown in FIG. 19 is constituted by connecting the source and the gate of a MOS transistor. In this case, the potential difference at which the voltage can be boosted is represented by the following equation.

【0020】 (パルスとして与える信号の振幅−MOSトランジスタのしきい値)×段数 …(1) 一方で、定常状態において、チャージポンプ回路200
0から出力される供給電流IOUT は以下の式で表わされ
る。
(Amplitude of signal given as pulse−threshold of MOS transistor) × number of stages (1) On the other hand, in a steady state, charge pump circuit 200
The supply current I OUT output from 0 is represented by the following equation.

【0021】 IOUT =f×(C+Cs)×Vl …(2) ここで、fは、チャージポンプ回路に供給されるクロッ
ク信号の周波数であり、Cは、カップリングキャパシタ
C1〜C6の容量値の和であり、Csは寄生容量であ
り、VL は、カップリングキャパシタが充放電される際
の電圧振幅をそれぞれ表わしている。
I OUT = f × (C + Cs) × V 1 (2) where f is the frequency of the clock signal supplied to the charge pump circuit, and C is the capacitance value of the coupling capacitors C1 to C6. Cs is a parasitic capacitance, and VL represents a voltage amplitude when the coupling capacitor is charged and discharged.

【0022】式(2)によれば、カップリングキャパシ
タC1〜C6の容量の和Cが大きいほど出力電流が大き
いことがわかる。
According to the equation (2), it is understood that the output current increases as the sum C of the capacitances of the coupling capacitors C1 to C6 increases.

【0023】また、過渡状態においては、出力電流が大
きい方が負荷容量の充電を高速に行なうことが可能とな
る。
In the transient state, the larger the output current, the faster the load capacity can be charged.

【0024】次に、以上のような内部電位発生回路を用
いて動作する不揮発性半導体記憶装置、たとえばフラッ
シュメモリの動作について次に説明する。
Next, the operation of a nonvolatile semiconductor memory device, such as a flash memory, which operates using the above-described internal potential generating circuit will be described.

【0025】図23は、従来の不揮発性半導体記憶装置
のメモリセルを構成するフローティングゲート型トラン
ジスタの構成と、それに対する書込および消去動作にお
ける各部の電位を説明するための模式断面図であり、
(a)は書込動作の場合を、(b)は消去動作の場合を
それぞれ示している。
FIG. 23 is a schematic cross-sectional view for explaining the configuration of a floating gate type transistor constituting a memory cell of a conventional nonvolatile semiconductor memory device and the potential of each part in writing and erasing operations on the transistor.
(A) shows the case of the writing operation, and (b) shows the case of the erasing operation.

【0026】図23を参照して、メモリセルトランジス
タは、たとえば、p型半導体基板1500表面に形成さ
れるn型ドレイン領域1502およびn型ソース領域1
504と、上記ドレイン領域1502およびソース領域
1504との間のチャネル領域上に薄いトンネル酸化膜
(たとえば、膜厚=10nm)を介して形成されるフロ
ーティングゲート1506と、フローティングゲート1
506上に、絶縁膜を介して積層される制御ゲート15
08とを含む。
Referring to FIG. 23, the memory cell transistor includes, for example, an n-type drain region 1502 and an n-type source region 1 formed on the surface of p-type semiconductor substrate 1500.
A floating gate 1506 formed on a channel region between the drain region 1502 and the source region 1504 via a thin tunnel oxide film (for example, film thickness = 10 nm);
The control gate 15 stacked on the insulating film 506 via an insulating film
08.

【0027】ドレイン領域1502には、ビット線BL
が接続され、ソース領域1504には、ソース線SL
(図示せず)を介して、選択的に所定の電位が供給さ
れ、あるいはフローティング状態とされる構成となって
いる。
The drain region 1502 has a bit line BL
Is connected to the source region 1504 and the source line SL
A predetermined potential is selectively supplied via a not shown (not shown), or a floating state is provided.

【0028】ソースドレイン間の伝導度(コンダクタン
ス)は、制御ゲートに印加される電位に応じて印加され
る。上記のような構成においては、制御ゲートに印加さ
れる電位が増加するほどチャネルコンダクタンスが増加
する。すなわち、ドレインソース間に所定の電圧が印加
された状態で、制御ゲートの電位を増加させると、ソー
スドレイン間に流れる電流Idsも増加することにな
る。
The conductivity (conductance) between the source and the drain is applied according to the potential applied to the control gate. In the above configuration, the channel conductance increases as the potential applied to the control gate increases. That is, when the potential of the control gate is increased while a predetermined voltage is applied between the drain and the source, the current Ids flowing between the source and the drain also increases.

【0029】ここで、制御ゲートの電位を増加させるこ
とにより、ソースドレイン間に電流Idsが流れ始める
制御ゲート電位をセルしきい値と呼ぶ。
Here, the control gate potential at which the current Ids starts to flow between the source and the drain by increasing the potential of the control gate is called a cell threshold.

【0030】このセルしきい値は、フローティングゲー
ト1506が電気的に中性な状態から、フローティング
ゲート1506に電子が蓄積されるにつれて増加する。
This cell threshold value increases as electrons accumulate in floating gate 1506 from an electrically neutral state of floating gate 1506.

【0031】言換えると、フローティングゲート150
6に電子が蓄積されるほど、より高い電圧を制御ゲート
に印加しなければ、ソースドレイン間に電流が流れない
ことになる。
In other words, the floating gate 150
As the electrons are accumulated in 6, the current does not flow between the source and the drain unless a higher voltage is applied to the control gate.

【0032】フローティングゲートは、文字通り外部か
ら絶縁膜により電気的に遮断されているので、この蓄積
された電子により情報が不揮発性的に記憶される構成と
なっている。したがって、メモリセルにデータが書込ま
れている状態において、ソートドレイン間に所定の電位
差、たとえば1Vを印加し、制御ゲート1508には一
定の電位、たとえば3Vを与えたときに、ソースドレイ
ン間に電流が流れるか否かによって、このメモリセルに
書込まれているデータを判別することになる。
Since the floating gate is literally electrically isolated from the outside by an insulating film, information is stored in a nonvolatile manner by the stored electrons. Therefore, in a state where data is written in the memory cell, when a predetermined potential difference, for example, 1 V, is applied between the sort drains and a constant potential, for example, 3 V is applied to control gate 1508, the potential between the source and drain is reduced. The data written in the memory cell is determined based on whether or not the current flows.

【0033】図24は、上記メモリセルへデータを書込
む場合、データを消去する場合およびデータの読出を行
なう場合のそれぞれにおいて、ビット線BL、制御ゲー
ト1508、ソース線SLおよび基板1500にそれぞ
れ印加する電位の一例を示す図である。
FIG. 24 shows a case where data is applied to bit line BL, control gate 1508, source line SL and substrate 1500 when data is written to the memory cell, when data is erased, and when data is read. FIG. 4 is a diagram illustrating an example of potentials to be applied.

【0034】[書込動作]図23(a)および図13を
参照して、以下では、まず書込動作について簡単に説明
する。
[Write Operation] Referring to FIG. 23A and FIG. 13, the write operation will be briefly described first.

【0035】メモリセルへのデータの書込は、フローテ
ィングゲート1506から蓄積されている電子を引抜く
ことにより行なう。
Writing of data to the memory cell is performed by extracting accumulated electrons from floating gate 1506.

【0036】つまり、データの読出時において、制御ゲ
ート1508には電源電圧Vccが印加されるものとす
ると、書込状態のセルしきい値を0V以上電源電圧Vc
c以下となるように設定する。
That is, assuming that power supply voltage Vcc is applied to control gate 1508 at the time of data reading, the cell threshold value in the written state is set to 0 V or more.
c is set to be less than or equal to c.

【0037】一般に、非選択状態のメモリセルの制御ゲ
ート1508の電位レベルは、0Vに保持され、選択状
態のメモリセルの制御ゲート1508は電源電位Vcc
に保持される。したがって、上記のようにセルしきい値
を設定すると、選択状態となったメモリセルにデータが
書込まれている場合は、そのメモリセルを構成するフロ
ーティングゲート型トランジスタには、ソースドレイン
間に電流が流れることになる。
In general, the potential level of control gate 1508 of a non-selected memory cell is maintained at 0 V, and control gate 1508 of a selected memory cell has power supply potential Vcc.
Is held. Therefore, when the cell threshold value is set as described above, when data is written in the selected memory cell, the floating gate transistor constituting the memory cell has a current between the source and the drain. Will flow.

【0038】データの書込においては、一例として、ビ
ット線に5Vの電位を、制御ゲートに−8Vの電位を、
基板に0Vの電位を与え、ソース線SLはフローティン
グ状態とする。
In writing data, for example, a potential of 5 V is applied to the bit line, a potential of -8 V is applied to the control gate,
A potential of 0 V is applied to the substrate, and the source line SL is set in a floating state.

【0039】このように、電位を設定すると、フローテ
ィングゲート1506からドレイン領域1502に電子
の引抜きが行なわれる。すなわち、セルしきい値が低下
していくことになる。
When the potential is thus set, electrons are extracted from the floating gate 1506 to the drain region 1502. That is, the cell threshold value decreases.

【0040】[消去動作]次に、図12(b)と図13
とを参照して、消去動作について説明する。
[Erase Operation] Next, FIG. 12B and FIG.
The erase operation will be described with reference to FIGS.

【0041】消去動作においては、一例として、ビット
線BLはフローティング状態に、制御ゲート1508の
電位は10Vに、ソース線SLの電位は−8Vに、基板
1500の電位は−8Vに設定される。
In the erasing operation, as an example, the bit line BL is set in a floating state, the potential of the control gate 1508 is set to 10 V, the potential of the source line SL is set to -8 V, and the potential of the substrate 1500 is set to -8 V.

【0042】この場合は、正側にバイアスされている制
御ゲート1508に向かって、基板1500側、すなわ
ちチャネル領域からフローティングゲート1506に対
して電子の注入が行なわれる。
In this case, electrons are injected from the substrate 1500 side, that is, the channel region to the floating gate 1506 toward the control gate 1508 which is biased to the positive side.

【0043】つまり、フローティングゲート1506に
電子が蓄積されることとなり、セルしきい値が上昇す
る。
That is, electrons are accumulated in the floating gate 1506, and the cell threshold value increases.

【0044】したがって、上述したとおり、読出動作に
おいて、ビット線BLの電位を1Vに、制御ゲート15
08の電位を3Vに、ソース線SLおよび基板1500
の電位レベルを0Vとすると、消去されたメモリセルが
選択された場合は、ソースドレイン間には電流が流れな
いことになる。
Therefore, as described above, in the read operation, the potential of the bit line BL is set to 1 V and the control gate 15
08 to 3 V, source line SL and substrate 1500
Is 0 V, no current flows between the source and drain when an erased memory cell is selected.

【0045】以上説明したとおり、フローティングゲー
ト1506への電子の注入または引抜きにより、セルし
きい値を変化させることが可能で、読出動作においては
選択されたメモリセルに電流が流れるか否かを検知する
ことで、記憶されているデータを読出すことが可能とな
る。
As described above, the cell threshold value can be changed by injecting or extracting electrons into or from floating gate 1506, and it is determined whether or not a current flows through a selected memory cell in a read operation. Then, the stored data can be read.

【0046】以上説明したようなフラッシュメモリのメ
モリセルへのデータの書込、消去および読出動作におい
ては、複数の異なったレベルの高電圧が必要となってい
る。すなわち外部電源電位3Vに対して、書込時のビッ
ト線には5Vが印加され、消去時の制御ゲートには10
Vが印加されるという構成になっている。
In writing, erasing and reading data to and from the memory cells of the flash memory as described above, a plurality of different levels of high voltages are required. That is, with respect to the external power supply potential of 3 V, 5 V is applied to the bit line at the time of writing, and 10 V is applied to the control gate at the time of erasing.
V is applied.

【0047】これらの電圧を発生するために、各々に対
応したチャージポンプ回路を不揮発性半導体記憶装置の
チップ上に搭載することとすると、回路面積が増大し、
ひいてはチップ面積の増大を招いてしまう。
If a charge pump circuit corresponding to each of these voltages is mounted on a chip of a nonvolatile semiconductor memory device, the circuit area increases.
As a result, the chip area is increased.

【0048】全く同様のことが、負電位を発生する場合
について当てはまる。つまり、図24に示した例におい
ては、負電位としては−8Vの1種類の電位レベルが必
要となっているのみであるが、回路動作の最適化等のた
めに、この負電位レベルも複数個発生させることが必要
となる可能性がある。
Exactly the same applies to the case where a negative potential is generated. That is, in the example shown in FIG. 24, only one kind of potential level of -8 V is required as the negative potential. However, in order to optimize the circuit operation and the like, the negative potential level is also plural. May need to be generated.

【0049】この場合においても、それぞれの負電位を
発生するために、チャージポンプ回路をそれぞれに対応
してチップ内に搭載する構成とすると、チップ面積が増
大してしまうことになる。
Also in this case, if the charge pump circuits are respectively mounted in the chip to generate the respective negative potentials, the chip area increases.

【0050】さらに、特開平5−182481号公報に
開示されているとおり、たとえば、消去動作モードにお
けるメモリセルのしきい値分布範囲を狭くするとともに
メモリセルデータの書き換えを容易かつ短時間で行なう
ために、消去パルス印加後に所定しきい値以下のメモリ
セルに対してそのしきい値変化量が小さくなる消去動作
を行なう場合がある。つまり、消去後書込の際にメモリ
セルトランジスタのコントロールゲートに印加する電圧
(たとえば、10V)を、通常書込時に印加する電圧
(たとえば、12V)よりも小さく設定することで、メ
モリセルのしきい値電圧を徐々に変化させ、しきい値電
圧の制御性を向上させることができる。
Further, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-182481, for example, in order to narrow the threshold distribution range of memory cells in an erase operation mode and to rewrite memory cell data easily and in a short time. In some cases, after the erase pulse is applied, an erase operation in which the amount of change in the threshold value of a memory cell equal to or less than a predetermined threshold value becomes small is performed. That is, by setting the voltage (for example, 10 V) applied to the control gate of the memory cell transistor at the time of writing after erasing to be smaller than the voltage (for example, 12 V) applied at the time of normal writing, By gradually changing the threshold voltage, the controllability of the threshold voltage can be improved.

【0051】このような場合にも、外部電源電圧以上の
少なくとも2種類の高電圧が必要になる。
Also in such a case, at least two types of high voltages higher than the external power supply voltage are required.

【0052】この発明は、上記のような問題点を解決す
るためになされたものであって、その目的は回路面積を
抑制しつつ、必要な複数の内部電位を発生することが可
能な内部電位発生回路を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to reduce the circuit area and to generate an internal potential capable of generating a plurality of necessary internal potentials. It is to provide a generating circuit.

【0053】この発明の他の目的は、複数の内部電位が
それぞれ対応する負荷容量を高速で充電することが可能
な内部電位発生回路を提供することである。
Another object of the present invention is to provide an internal potential generating circuit capable of rapidly charging a load capacitance corresponding to a plurality of internal potentials.

【0054】[0054]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の内部電位
発生回路は、外部電源電位を受けて、第1の所定の内部
電位および第1の所定の内部電位よりも絶対値の小さな
第2の所定の内部電位を発生する内部電位発生回路であ
って、互いに相補なクロック信号を出力するクロック発
生手段と、第1の所定の内部電位が出力されるべき第1
の出力ノードを有し、相補なクロック信号に応じて第1
の電流供給量で第1の出力ノードの電位を駆動する第1
のチャージポンプ手段と、第2の所定の内部電位が出力
されるべき第2の出力ノードを有し、相補なクロック信
号に応じて、第1の電流供給量よりも小さな第2の電流
供給量で第2の出力ノードの電位を駆動する第2のチャ
ージポンプ手段と、第1の出力ノードと第2の出力ノー
ドとの接続を導通状態および遮断状態のいずれかとする
スイッチ手段と、第1の出力ノードの電位レベルおよび
第2の出力ノードの電位レベルに応じて、第1のチャー
ジポンプ手段および第2のチャージポンプ手段それぞれ
への相補なクロック信号の供給を制御する制御手段とを
備え、制御手段は、第1および第2の出力ノードの電位
が第2の所定電位となるのに応じて、スイッチ手段を導
通状態から遮断状態とする。
An internal potential generating circuit according to claim 1 receives an external power supply potential and receives a first predetermined internal potential and a second predetermined potential which is smaller in absolute value than the first predetermined internal potential. An internal potential generating circuit for generating a predetermined internal potential, a clock generating means for outputting clock signals complementary to each other, and a first internal potential for outputting a first predetermined internal potential.
Output node, and the first node is provided in response to a complementary clock signal.
Driving the potential of the first output node with the current supply amount of
And a second output node to which a second predetermined internal potential is to be output, and a second current supply amount smaller than the first current supply amount according to a complementary clock signal. A second charge pump means for driving the potential of the second output node, a switch means for setting the connection between the first output node and the second output node to one of a conductive state and a cut-off state, Control means for controlling supply of complementary clock signals to the first charge pump means and the second charge pump means in accordance with the potential level of the output node and the potential level of the second output node, respectively. The means changes the switch means from the conductive state to the cut-off state in response to the potentials of the first and second output nodes reaching the second predetermined potential.

【0055】請求項2記載の内部電位発生回路は、請求
項1記載の内部電位発生回路の構成において、第1の所
定の内部電位および第2の所定の内部電位は共に正の電
位であって、制御手段は、スイッチ手段を遮断状態とし
た後は、第1の出力ノードの電位レベルが第1の所定の
内部電位となるように、第1のチャージポンプ手段への
相補なクロック信号の供給を制御し、かつ、第2の出力
ノードの電位レベルが第2の所定の内部電位となるよう
に、第2のチャージポンプ手段への相補なクロック信号
の供給を制御する。
According to a second aspect of the present invention, in the internal potential generating circuit of the first aspect, the first predetermined internal potential and the second predetermined internal potential are both positive potentials. The control means supplies the complementary clock signal to the first charge pump means so that the potential level of the first output node becomes the first predetermined internal potential after the switch means is turned off. And the supply of a complementary clock signal to the second charge pump means is controlled such that the potential level of the second output node becomes the second predetermined internal potential.

【0056】請求項3記載の内部電位発生回路は、請求
項1記載の内部電位発生回路の構成において、第1の所
定の内部電位および第2の所定の内部電位は共に正の電
位であって、制御手段は、スイッチ手段を遮断状態とし
た後は、第1の出力ノードの電位レベルが第1の所定の
内部電位となるように、第1のチャージポンプ手段への
相補なクロック信号の供給を制御する第1の内部制御手
段と、スイッチ手段を遮断状態とした後は、第2の出力
ノードの電位レベルが第2の所定の内部電位となるよう
に、第2のチャージポンプ手段への相補なクロック信号
の供給を制御する第2の内部制御手段とを含む。
According to a third aspect of the present invention, in the configuration of the first aspect, the first predetermined internal potential and the second predetermined internal potential are both positive potentials. The control means supplies the complementary clock signal to the first charge pump means so that the potential level of the first output node becomes the first predetermined internal potential after the switch means is turned off. After the first internal control means for controlling the voltage and the switch means are turned off, the second charge pump means is controlled so that the potential level of the second output node becomes the second predetermined internal potential. Second internal control means for controlling supply of a complementary clock signal.

【0057】請求項4記載の内部電位発生回路は、請求
項2記載の内部電位発生回路の構成において、制御手段
は、内部電位発生回路の動作開始に応じて、第1のチャ
ージポンプ手段と第2のチャージポンプ手段の双方に相
補なクロック信号の供給を開始させる。
According to a fourth aspect of the present invention, in the configuration of the internal potential generating circuit of the second aspect, the control means includes a first charge pump means and a second charge pump means in response to the start of the operation of the internal potential generating circuit. The supply of complementary clock signals to both of the two charge pump means is started.

【0058】請求項5記載の内部電位発生回路は、請求
項3記載の内部電位発生回路の構成において、第2の内
部制御手段は、第2の出力ノードの電位レベルが第2の
所定の内部電位以上となることに応じて、内部制御信号
を不活性とし、スイッチ手段は、内部制御信号の不活性
化に応じてセット状態となり、内部電位発生回路の動作
停止に応じてリセット状態となるラッチ手段と、ラッチ
手段がセット状態となることに応じて、第1の出力ノー
ドと第2の出力ノードとの接続を遮断状態とする接続手
段とを含む。
According to a fifth aspect of the present invention, in the configuration of the internal potential generating circuit according to the third aspect, the second internal control means controls that the potential level of the second output node is the second predetermined internal level. When the potential becomes equal to or higher than the potential, the internal control signal is deactivated, the switch means is set in response to the deactivation of the internal control signal, and is reset in response to the stop of the operation of the internal potential generating circuit. Means for connecting the first output node to the second output node when the latch means is set to the set state.

【0059】請求項6記載の内部電位発生回路は、請求
項2記載の内部電位発生回路の構成において、制御手段
は、内部電位発生回路の動作開始に応じて、第1のチャ
ージポンプ手段に相補なクロック信号の供給を開始さ
せ、スイッチ手段が遮断状態となった後に、第2のチャ
ージポンプ手段に相補なクロック信号の供給を開始させ
る。
According to a sixth aspect of the present invention, in the internal potential generating circuit of the second aspect, the control means is complementary to the first charge pump means in response to the start of the operation of the internal potential generating circuit. Supply of a complementary clock signal to the second charge pump means after the switching means is turned off.

【0060】請求項7記載の内部電位発生回路は、請求
項3記載の内部電位発生回路の構成において、第2の内
部制御手段は、第2の出力ノードの電位レベルが第2の
所定の内部電位以上となることに応じて、内部制御信号
を不活性とする電位レベル検出手段と、第2のチャージ
ポンプ手段への相補なクロック信号の供給を制御するク
ロック供給制御手段とを含み、スイッチ手段は、内部制
御信号の不活性化に応じてセット状態となり、内部電位
発生回路の動作停止に応じてリセット状態となるラッチ
手段と、ラッチ手段がセット状態となることに応じて、
第1の出力ノードと第2の出力ノードとの接続を遮断状
態とする接続手段とを含み、クロック供給制御手段は、
内部制御信号が活性状態であり、かつラッチ手段がセッ
ト状態であることに応じて、相補なクロック信号の供給
を開始する。
According to a seventh aspect of the present invention, in the configuration of the internal potential generating circuit of the third aspect, the second internal control means controls that the potential level of the second output node is the second predetermined internal level. Switch means including potential level detection means for inactivating an internal control signal in response to the potential or more, and clock supply control means for controlling supply of a complementary clock signal to the second charge pump means A latch means which is set in response to the inactivation of the internal control signal and which is reset in response to the stoppage of the operation of the internal potential generating circuit; and
A connection unit that disconnects a connection between the first output node and the second output node, wherein the clock supply control unit includes:
In response to the internal control signal being active and the latch being in the set state, the supply of the complementary clock signal is started.

【0061】請求項8記載の内部電位発生回路は、請求
項1記載の内部電位発生回路の構成において、第1の所
定の内部電位および第2の所定の内部電位は共に負の電
位であって、制御手段は、スイッチ手段を遮断状態とし
た後は、第1の出力ノードの電位レベルが第1の所定の
内部電位となるように、第1のチャージポンプ手段への
相補なクロック信号の供給を制御し、かつ、第2の出力
ノードの電位レベルが第2の所定の内部電位となるよう
に、第2のチャージポンプ手段への相補なクロック信号
の供給を制御する。
According to an eighth aspect of the present invention, in the configuration of the first aspect, the first predetermined internal potential and the second predetermined internal potential are both negative potentials. The control means supplies the complementary clock signal to the first charge pump means so that the potential level of the first output node becomes the first predetermined internal potential after the switch means is turned off. And the supply of a complementary clock signal to the second charge pump means is controlled such that the potential level of the second output node becomes the second predetermined internal potential.

【0062】請求項9記載の内部電位発生回路は、請求
項1記載の内部電位発生回路の構成において、第1の所
定の内部電位および第2の所定の内部電位は共に負の電
位であって、制御手段は、スイッチ手段を遮断状態とし
た後は、第1の出力ノードの電位レベルが第1の所定の
内部電位となるように、第1のチャージポンプ手段への
相補なクロック信号の供給を制御する第1の内部制御手
段と、スイッチ手段を遮断状態とした後は、第2の出力
ノードの電位レベルが第2の所定の内部電位となるよう
に、第2のチャージポンプ手段への相補なクロック信号
の供給を制御する第2の内部制御手段とを含む。
According to a ninth aspect of the present invention, in the configuration of the internal potential generating circuit of the first aspect, the first predetermined internal potential and the second predetermined internal potential are both negative potentials. The control means supplies the complementary clock signal to the first charge pump means so that the potential level of the first output node becomes the first predetermined internal potential after the switch means is turned off. After the first internal control means for controlling the voltage and the switch means are turned off, the second charge pump means is controlled so that the potential level of the second output node becomes the second predetermined internal potential. Second internal control means for controlling supply of a complementary clock signal.

【0063】請求項10記載の内部電位発生回路は、請
求項8記載の内部電位発生回路の構成において、制御手
段は、内部電位発生回路の動作開始に応じて、第1のチ
ャージポンプ手段と第2のチャージポンプ手段の双方に
相補なクロック信号の供給を開始させる。
According to a tenth aspect of the present invention, in the configuration of the internal potential generating circuit of the eighth aspect, the control means includes a first charge pump means and a second charge pump means in response to the start of the operation of the internal potential generating circuit. The supply of complementary clock signals to both of the two charge pump means is started.

【0064】請求項11記載の内部電位発生回路は、請
求項9記載の内部電位発生回路の構成において、第2の
内部制御手段は、第2の出力ノードの電位レベルが第2
の所定の内部電位以下となることに応じて、内部制御信
号を不活性とし、スイッチ手段は、内部制御信号の不活
性化に応じてセット状態となり、内部電位発生回路の動
作停止に応じてリセット状態となるラッチ手段と、ラッ
チ手段がセット状態となることに応じて、第1の出力ノ
ードと第2の出力ノードとの接続を遮断状態とする接続
手段とを含む。
According to an eleventh aspect of the present invention, in the configuration of the internal potential generating circuit of the ninth aspect, the second internal control means includes a second internal control means for setting the potential level of the second output node to the second level.
The internal control signal is deactivated when the internal potential becomes equal to or lower than the predetermined internal potential, the switch means is set in response to the inactivation of the internal control signal, and reset in response to the stop of the operation of the internal potential generating circuit. And a connection unit that disconnects the connection between the first output node and the second output node when the latch unit is set.

【0065】請求項12記載の内部電位発生回路は、請
求項8記載の内部電位発生回路の構成において、制御手
段は、内部電位発生回路の動作開始に応じて、第1のチ
ャージポンプ手段に相補なクロック信号の供給を開始さ
せ、スイッチ手段が遮断状態となった後に、第2のチャ
ージポンプ手段に相補なクロック信号の供給を開始させ
る。
According to a twelfth aspect of the present invention, in the configuration of the internal potential generating circuit of the eighth aspect, the control means is complementary to the first charge pump means in response to the start of the operation of the internal potential generating circuit. Supply of a complementary clock signal to the second charge pump means after the switching means is turned off.

【0066】請求項13記載の内部電位発生回路は、請
求項9記載の内部電位発生回路の構成において、第2の
内部制御手段は、第2の出力ノードの電位レベルが第2
の所定の内部電位以下となることに応じて、内部制御信
号を不活性とする電位レベル検出手段と、第2のチャー
ジポンプ手段への相補なクロック信号の供給を制御する
クロック供給制御手段とを含み、スイッチ手段は、内部
制御信号の不活性化に応じてセット状態となり、内部電
位発生回路の動作停止に応じてリセット状態となるラッ
チ手段と、ラッチ手段がセット状態となることに応じ
て、第1の出力ノードと第2の出力ノードとの接続を遮
断状態とする接続手段とを含み、クロック供給制御手段
は、内部制御信号が活性状態であり、かつラッチ手段が
セット状態であることに応じて、相補なクロック信号の
供給を開始する。
According to a thirteenth aspect of the present invention, in the configuration of the internal potential generating circuit of the ninth aspect, the second internal control means includes a second internal control means for setting the potential level of the second output node to the second level.
A potential level detecting means for inactivating the internal control signal in response to the internal potential being equal to or less than a predetermined internal potential, and a clock supply controlling means for controlling supply of a complementary clock signal to the second charge pump means. The switch means is set in response to the inactivation of the internal control signal, and is set to a reset state in response to the stoppage of the operation of the internal potential generating circuit. Connection means for disconnecting the connection between the first output node and the second output node, wherein the clock supply control means determines that the internal control signal is in an active state and the latch means is in a set state. Accordingly, the supply of the complementary clock signal is started.

【0067】[0067]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

[実施の形態1]図1は、本発明の実施の形態1の不揮
発性半導体記憶装置1000の構成を示す概略ブロック
図である。
[First Embodiment] FIG. 1 is a schematic block diagram showing a configuration of a nonvolatile semiconductor memory device 1000 according to a first embodiment of the present invention.

【0068】図1を参照して、不揮発性半導体記憶装置
1000は、外部からのアドレス信号A0〜Aiを受け
て、対応する内部行アドレス信号Axと対応する内部列
アドレス信号Ayと、ソースアドレスAsl信号と、セ
レクトゲートアドレス信号Asgを出力するアドレスバ
ッファ102と、メモリセルが行列状に配置されるメモ
リセルアレイ104と、アドレスバッファ102からの
内部行アドレス信号Axを受けて、対応するメモリセル
アレイ104の行(ワード線)を選択するXデコーダ1
06と、アドレスバッファ102からの内部列アドレス
信号Ayを受けて、メモリセルアレイ104の対応する
列を選択するYデコーダ108とを含む。
Referring to FIG. 1, nonvolatile semiconductor memory device 1000 receives external address signals A0 to Ai, and receives a corresponding internal row address signal Ax, a corresponding internal column address signal Ay, and a source address Asl. And an address buffer 102 that outputs a select gate address signal Asg, a memory cell array 104 in which memory cells are arranged in a matrix, and an internal row address signal Ax from the address buffer 102, and the corresponding memory cell array 104 X decoder 1 for selecting a row (word line)
06, and a Y decoder 108 which receives an internal column address signal Ay from the address buffer 102 and selects a corresponding column of the memory cell array 104.

【0069】ここで、メモリセルアレイ104は、2つ
のメモリセルアレイブロックBLK0およびBLK1を
含む。図1に示した例では、簡単のために、1つのメモ
リセルアレイブロックBLK0またはBLK1は、各々
4つのメモリセルトランジスタを含み、メモリセルアレ
イブロックBLK0は、副ビット線SBL1に各々ドレ
インが接続するメモリセルトランジスタMC1aおよび
MC1bと、副ビット線SBL2に各々ドレインが接続
するメモリセルトランジスタMC2aおよびMC2b
と、主ビット線BL1と副ビット線SBL1との接続を
開閉する選択ゲートSG1と、主ビット線BL2と副ビ
ット線SBL2との接続を開閉する選択ゲートSG2と
を含む。
Here, memory cell array 104 includes two memory cell array blocks BLK0 and BLK1. In the example shown in FIG. 1, for the sake of simplicity, one memory cell array block BLK0 or BLK1 includes four memory cell transistors, and each memory cell array block BLK0 has a memory cell whose drain is connected to sub-bit line SBL1. Transistors MC1a and MC1b and memory cell transistors MC2a and MC2b each having a drain connected to sub-bit line SBL2
And a selection gate SG1 for opening and closing the connection between the main bit line BL1 and the sub-bit line SBL1, and a selection gate SG2 for opening and closing the connection between the main bit line BL2 and the sub-bit line SBL2.

【0070】メモリセルトランジスタMC1aおよびM
C2aの制御ゲートは、共にワード線WL1に接続し、
メモリセルトランジスタMC1bおよびMC2bの制御
ゲートはワード線WL2に接続している。
Memory cell transistors MC1a and M
The control gates of C2a are both connected to word line WL1,
The control gates of the memory cell transistors MC1b and MC2b are connected to the word line WL2.

【0071】メモリセルアレイブロックBLK1も、同
様にして、副ビット線SBL3と各々ドレインが接続す
るメモリセルトランジスタMC3aおよびMC3bと、
副ビット線SBL4と各々ドレインが接続するメモリセ
ルトランジスタMC4aおよびMC4bとを含む。
Similarly, in memory cell array block BLK1, memory cell transistors MC3a and MC3b each having a drain connected to sub-bit line SBL3,
Sub bit line SBL4 and memory cell transistors MC4a and MC4b each connected to a drain are included.

【0072】メモリセルアレイブロックBLK1は、さ
らに、主ビット線BL1と副ビット線SBL3との接続
を開閉する選択ゲートSG3と、主ビット線BL2と副
ビット線SBL4との接続を開閉する選択ゲートSG4
とを含む。
The memory cell array block BLK1 further includes a selection gate SG3 for opening and closing the connection between the main bit line BL1 and the sub bit line SBL3, and a selection gate SG4 for opening and closing the connection between the main bit line BL2 and the sub bit line SBL4.
And

【0073】メモリセルトランジスタMC3aとMC4
aの制御ゲートはワード線WL3に接続し、メモリセル
トランジスタMC3bとMC4bの制御ゲートは、ワー
ド線WL4に接続しているものとする。
Memory cell transistors MC3a and MC4
The control gate a is connected to the word line WL3, and the control gates of the memory cell transistors MC3b and MC4b are connected to the word line WL4.

【0074】Xデコーダ106は、アドレスバッファ1
02から与えられる内部行アドレス信号Axに応じて、
対応するワード線WL1〜WL4のいずれかを選択す
る。
The X decoder 106 has the address buffer 1
02 according to the internal row address signal Ax given from
One of the corresponding word lines WL1 to WL4 is selected.

【0075】不揮発性半導体記憶装置1000は、さら
に、外部電源電圧を受けて、メモリセルへのデータ書込
あるいは消去動作に必要な高電圧を発生する高電圧発生
回路110と、外部電源電圧Vccを受けて、メモリセ
ルアレイへの書込あるいは消去動作において必要な負電
圧を発生する負電圧発生回路112と、高電圧発生回路
110および負電圧発生回路112の出力を受けて、信
号Asgに応じて、対応する選択ゲートSG1〜SG4
のゲート電位を制御し、選択的に副ビット線と主ビット
線とを接続するセレクトゲートデコーダ114と、負電
圧発生回路112の出力を受けて、信号Aslに応じ
て、メモリセルトランジスタのソースに選択的に所定の
ソース電位を供給するソースデコーダ116と、負電圧
発生回路112の出力を受けて、メモリセルトランジス
タの形成される半導体基板表面のウェル電位を制御する
ウェル電位駆動回路120とを含む。
Non-volatile semiconductor memory device 1000 further includes a high voltage generating circuit 110 which receives an external power supply voltage and generates a high voltage required for data writing or erasing operation to a memory cell, and an external power supply voltage Vcc. Receiving the outputs of the negative voltage generating circuit 112 and the high voltage generating circuit 110 and the negative voltage generating circuit 112 for generating a negative voltage necessary for a write or erase operation to the memory cell array, Corresponding select gates SG1 to SG4
Select gate decoder 114 for selectively connecting the sub-bit line and the main bit line, and receiving the output of negative voltage generating circuit 112 and receiving the output of negative voltage generation circuit 112 to select the source of the memory cell transistor. A source decoder for selectively supplying a predetermined source potential; and a well potential drive circuit for receiving an output of the negative voltage generation circuit and controlling a well potential on a semiconductor substrate surface on which a memory cell transistor is formed. .

【0076】Xデコーダ106は、高電圧発生回路11
0および負電圧発生回路112の出力を受けて、書込動
作においては、選択されたワード線に所定の負電圧、消
去動作においては、選択されたワード線に高電圧を供給
する。
The X decoder 106 is connected to the high voltage generation circuit 11
In response to 0 and the output of the negative voltage generation circuit 112, a predetermined negative voltage is supplied to a selected word line in a writing operation, and a high voltage is supplied to a selected word line in an erasing operation.

【0077】不揮発性半導体記憶装置1000は、さら
に、メモリセルへの書込動作および消去動作を制御する
書込/消去制御回路122と、内部からのデータを受け
て内部回路に、あるいはメモリセルから読出されたデー
タを受けて外部に出力するデータ入出力バッファ124
と、データ入出力バッファ124に入力された書込デー
タを受けて、対応するビット線電位を駆動するデータド
ライバ126と、データ読出時において、ビット線BL
1またはBL2を介して、選択されたメモリセルの記憶
情報に応じて、対応する読出データを出力するセンスア
ンプ128と、データドライバ126からの書込データ
を受けて保持し、高電圧発生回路110からの高電圧
を、対応するビット線に供給する書込回路130と、ベ
リファイ動作時にXデコーダ106にベリファイ電位V
PVRFを供給するベリファイ電圧発生回路100とを
含む。
Nonvolatile semiconductor memory device 1000 further includes a write / erase control circuit 122 for controlling a write operation and an erase operation for a memory cell, and an internal circuit for receiving data from the inside, or for a memory cell. Data input / output buffer 124 for receiving read data and outputting it to outside
And a data driver 126 for receiving write data input to data input / output buffer 124 and driving a corresponding bit line potential, and a bit line BL for reading data.
1 or BL2, according to the storage information of the selected memory cell, according to the storage information of the selected memory cell, and receives and holds the write data from data driver 126 according to the storage data of high voltage generation circuit 110 Circuit to supply a high voltage from bit line to a corresponding bit line, and verify potential V to X decoder 106 during a verify operation.
And a verify voltage generating circuit 100 for supplying PVRF.

【0078】ここで、ベリファイ動作とは、メモリセル
に対して書込を行なった際に、メモリセルしきい値が、
所定の電位レベルとなっているかを確認するための動作
を意味する。
Here, the verify operation means that when writing is performed on a memory cell, the threshold value of the memory cell is
This means an operation for confirming whether or not the potential level has reached a predetermined level.

【0079】データドライバ126およびセンスアンプ
128は、ビット線BL1に対しては列選択ゲートSL
G1を介して、ビット線BL2に対しては列選択ゲート
SLG2を介して接続し、選択ゲートSLG1およびS
LG2のゲート電位は、Yデコーダ108により制御さ
れる。したがって、アドレスバッファ102からの内部
列アドレス信号Ayに応じて、選択されたビット線とセ
ンスアンプ128またはデータドライバ126とが接続
される。
The data driver 126 and the sense amplifier 128 are connected to the column selection gate SL for the bit line BL1.
The bit line BL2 is connected to the bit line BL2 through a column selection gate SLG2 via G1, and the selection gates SLG1 and S
The gate potential of LG2 is controlled by Y decoder 108. Therefore, the selected bit line is connected to the sense amplifier 128 or the data driver 126 according to the internal column address signal Ay from the address buffer 102.

【0080】上記の構成において、ビット線を主ビット
線および副ビット線からなる階層構造としているのは以
下の理由による。
In the above configuration, the bit lines have a hierarchical structure composed of main bit lines and sub-bit lines for the following reason.

【0081】すなわち、1つのビット線BL1にメモリ
セルアレイブロックBLK0中のメモリセルトランジス
タMC1a,MC1bとメモリセルアレイブロックBL
K1のメモリセルトランジスタMC3a,MC3bとが
同時に接続する構成となっている場合、たとえばメモリ
セルアレイブロックBLK0中のメモリセルに対しての
みデータの書込を行なう場合にも、メモリセルアレイブ
ロックBLK1中のメモリセルトランジスタのドレイン
にも高電圧が印加されてしまう。このため、隣のメモリ
セルアレイブロックBLK0へのデータ書込中に、メモ
リセルアレイブロックBLK1中のメモリセルトランジ
スタのフローティングゲート中の電荷量が変化し、最悪
の場合、書込まれているデータが変化してしまうという
問題がある。
That is, the memory cell transistors MC1a and MC1b in the memory cell array block BLK0 and the memory cell array block BL are connected to one bit line BL1.
When the memory cell transistors MC3a and MC3b of K1 are connected at the same time, for example, when writing data only to the memory cells in memory cell array block BLK0, the memory in memory cell array block BLK1 can be used. High voltage is also applied to the drain of the cell transistor. Therefore, the amount of charge in the floating gate of the memory cell transistor in the memory cell array block BLK1 changes during data writing to the adjacent memory cell array block BLK0, and in the worst case, the written data changes. Problem.

【0082】上記の問題の対策としては、データの書込
を行なうメモリセルアレイブロックごとにビット線を別
々にすればよい。すなわち、主ビット線BL1,BL2
と副ビット線SBL1〜SBL4の2層構造とし、主ビ
ット線はすべてのメモリセルアレイブロックを結び、副
ビット線SBL1〜SBL4によって、各メモリセルア
レイブロック内でのメモリセルトランジスタを接続す
る。
As a countermeasure against the above problem, a bit line may be separately provided for each memory cell array block to which data is written. That is, the main bit lines BL1, BL2
The main bit line connects all the memory cell array blocks, and the sub-bit lines SBL1 to SBL4 connect the memory cell transistors in each memory cell array block.

【0083】主ビット線BL1,BL2と副ビット線S
BL1〜SBL4との間には、選択ゲートSG1〜SG
4が存在し、書込動作においては、選択されていないメ
モリセルアレイブロックをこの選択ゲートにより主ビッ
ト線から電気的に切り離す。
The main bit lines BL1 and BL2 and the sub bit line S
BL1 to SBL4, select gates SG1 to SG
4, and in a write operation, an unselected memory cell array block is electrically disconnected from the main bit line by this select gate.

【0084】このようにすることで、1つのメモリセル
アレイブロックの書換中に他のメモリセルアレイブロッ
クのメモリセルトランジスタに影響を与えることを防ぐ
ことができる。
By doing so, it is possible to prevent the influence on the memory cell transistors of another memory cell array block during rewriting of one memory cell array block.

【0085】以下では、図1に示した不揮発性半導体記
憶装置1000の構成のうち、高電圧発生回路200ま
たは負電圧発生回路400の構成について、さらに詳し
く説明する。
Hereinafter, of the configuration of the nonvolatile semiconductor memory device 1000 shown in FIG. 1, the configuration of the high voltage generating circuit 200 or the negative voltage generating circuit 400 will be described in more detail.

【0086】図2は、図1に示した高電圧発生回路20
0の構成をより詳しく示す概略ブロック図である。
FIG. 2 is a circuit diagram of the high voltage generating circuit 20 shown in FIG.
FIG. 4 is a schematic block diagram showing the configuration of the 00 ’in more detail.

【0087】高電圧発生回路200は、図1に示した制
御回路122に制御されて、出力ノードNH1に昇圧電位
Vpp1を出力する第1の昇圧回路202と、制御回路
122に制御されて、第2の出力ノードNH2に第2の昇
圧電圧Vpp2を出力する第2の昇圧回路204と、制
御回路122および第2の昇圧回路204により制御さ
れて、第1の出力ノードNH1および第2の出力ノードN
H2との間の接続を導通状態または遮断状態とする高電圧
スイッチ回路218と、高電圧発生回路200の動作の
開始に応じて、互いに相補なクロック信号CLKおよび
クロック信号/CLKを出力するクロック発生回路22
0とを含む。
The high voltage generation circuit 200 is controlled by the control circuit 122 shown in FIG. 1 to output the boosted potential Vpp1 to the output node N H1 , and the control circuit 122 The second booster circuit 204 that outputs the second boosted voltage Vpp2 to the second output node N H2 , and is controlled by the control circuit 122 and the second booster circuit 204 to output the first output node N H1 and the second Output node N of
A high-voltage switch circuit 218 for turning on or off the connection to H2 and a clock generator for outputting complementary clock signal CLK and clock signal / CLK in response to the start of operation of high-voltage generating circuit 200 Circuit 22
0 is included.

【0088】第1の昇圧回路202には、制御回路12
2からの第1の検出回路活性化信号DE1に応じて、動
作を開始し、第1の出力ノードNH1に出力される電位レ
ベルVpp1に応じて、第1のクロック活性化信号PE
1を活性状態または不活性状態のいずれかとする高電圧
レベル検出回路206と、クロック信号CLKおよび/
CLKを受けて、信号PE1により制御されて、互いに
相補な第1の駆動クロック信号PH1および/PH1を
出力するクロックゲート回路210と、信号PH1およ
び/PH1により駆動されて、電位Vpp1を出力ノー
ドNH1に出力する第1のチャージポンプ回路214とを
含む。第2の昇圧回路204は、制御回路122から出
力される第2の検出回路活性化信号DE2により制御さ
れて、動作を開始し、出力ノードNH2に出力される電位
Vpp2に応じて、互いに相補な第2のクロック活性化
信号PE2および信号/PE2を出力する高電圧レベル
検出回路208と、クロック信号CLKおよび/CLK
を受けて、信号PE2により制御されて、互いに相補な
第2の駆動クロック信号PH2および/PH2を出力す
るクロックゲート回路212と、信号PH2および/P
H2により駆動されて、出力ノードNH2に電位Vpp2
を出力する第2のチャージポンプ回路216とを含む。
The first booster circuit 202 includes the control circuit 12
2 starts the operation in response to the first detection circuit activation signal DE1 from the first detection node activation signal DE1, and the first clock activation signal PE in response to the potential level Vpp1 output to the first output node N H1.
1 in an active state or an inactive state, and a clock signal CLK and / or
CLK, which is controlled by signal PE1, outputs first drive clock signals PH1 and / PH1 complementary to each other, and clock gate circuit 210 driven by signals PH1 and / PH1 to apply potential Vpp1 to output node N. And a first charge pump circuit 214 for outputting to H1 . Second booster circuit 204 is controlled by the second detection circuit activation signal DE2 output from the control circuit 122 starts operating in response to the potential Vpp2 output to the output node N H2, complementary to each other High voltage level detection circuit 208 for outputting second clock activation signal PE2 and signal / PE2, and clock signals CLK and / CLK
In response to this, clock gate circuit 212 controlled by signal PE2 to output second driving clock signals PH2 and / PH2 complementary to each other, and signals PH2 and / P
Driven by H2 , the potential Vpp2 is applied to the output node N H2.
And a second charge pump circuit 216 for outputting the same.

【0089】高電圧スイッチ回路218は、信号DE2
と相補な信号である信号/DE2と、高電圧レベル検出
回路208から出力される信号/PE2とに制御され
て、高電圧発生回路200が動作を開始する時点では、
出力ノードNH1および出力ノードNH2との接続を導通状
態とし、第2の出力ノードNH2の電位レベルが所定の電
位レベルとなるのに応じて、第1の出力ノードNH1およ
び第2の出力ノードNH2との間の接続を遮断状態とす
る。
The high voltage switch circuit 218 outputs the signal DE2
When the high voltage generation circuit 200 starts operating under the control of the signal / DE2 which is a signal complementary to the above and the signal / PE2 output from the high voltage level detection circuit 208,
The connection between the output node N H1 and the output node N H2 is made conductive, and as the potential level of the second output node N H2 becomes a predetermined potential level, the first output node N H1 and the second The connection to the output node N H2 is cut off.

【0090】ここで、第1のチャージポンプ回路214
は、図19に示した従来のチャージポンプ回路2000
と同様の構成を有するものとし、後に説明するように第
2のチャージポンプ回路216は、第1のチャージポン
プ回路214に比べて直列に接続されるダイオード接続
されたトランジスタの段数が少なくなっているものとす
る。
Here, the first charge pump circuit 214
Is a conventional charge pump circuit 2000 shown in FIG.
The second charge pump circuit 216 has a smaller number of diode-connected transistors connected in series than the first charge pump circuit 214, as described later. Shall be.

【0091】すなわち、第2のチャージポンプ回路21
6の電流供給量は、式(2)に従って、第1のチャージ
ポンプ回路214の供給電流量よりも小さな値となって
いるものとする。
That is, the second charge pump circuit 21
6, the current supply amount is smaller than the supply current amount of the first charge pump circuit 214 in accordance with Expression (2).

【0092】また、クロック発生回路220は、信号D
E1または信号DE2のいずれかの活性化に応じて、動
作を開始しクロック信号CLKおよびクロック信号/C
LKを出力するものとする。
The clock generation circuit 220 outputs the signal D
In response to activation of either E1 or signal DE2, the operation is started and clock signal CLK and clock signal / C
LK is output.

【0093】図3は、図2に示した高電圧レベル検出回
路206の構成を示す概略ブロック図である。
FIG. 3 is a schematic block diagram showing a configuration of high voltage level detection circuit 206 shown in FIG.

【0094】高電圧レベル検出回路208の構成も、入
力される信号が相違する点を除いて、基本的に高電圧レ
ベル検出回路206の構成と同様であるものとする。し
たがって、以下では高電圧検出回路206の構成につい
てのみ詳しく述べることにする。
The configuration of the high voltage level detection circuit 208 is basically the same as the configuration of the high voltage level detection circuit 206 except that the input signal is different. Therefore, only the configuration of the high voltage detection circuit 206 will be described in detail below.

【0095】高電圧レベル検出回路206は、電位Vp
p1と、接地電位との間に互いに直列に接続される抵抗
R1およびR2を含む。抵抗R1およびR2の接続ノー
ドn1からは、電位Vpp1がこれらの抵抗比で分割さ
れた電位レベルがVmonが出力されることになる。
The high voltage level detection circuit 206 detects the potential Vp
It includes resistors R1 and R2 connected in series with each other between p1 and the ground potential. From the connection node n1 of the resistors R1 and R2, a potential level Vmon obtained by dividing the potential Vpp1 by these resistance ratios is output.

【0096】高電圧レベル検出回路206は、さらに、
信号DE1の活性化(“H”レベルへの変化)に応じて
活性化され、所定の基準電位Vrefと電位Vmonと
を受けてその電位差を増幅するカレントミラー型差動増
幅回路2062と、カレントミラー型差動増幅器の出力
ノードn2と電源電位Vccとの間に接続され、信号D
E1の不活性化(“L”レベルへの変化)に応じて導通
状態となるpチャネルMOSトランジスタQ16と、電
源電位Vccと、接地電位との間に直列に接続されるp
チャネルMOSトランジスタQ17、nチャネルMOS
トランジスタQ18およびnチャネルMOSトランジス
タQ19とを含む。
The high voltage level detection circuit 206 further includes
A current mirror type differential amplifier circuit 2062, which is activated in response to activation of signal DE1 (change to “H” level) and receives a predetermined reference potential Vref and potential Vmon to amplify the potential difference, and a current mirror Between the output node n2 of the differential amplifier and the power supply potential Vcc.
A p-channel MOS transistor Q16 which is turned on in response to inactivation of E1 (change to "L" level), p connected in series between power supply potential Vcc and ground potential.
Channel MOS transistor Q17, n-channel MOS
It includes a transistor Q18 and an n-channel MOS transistor Q19.

【0097】トランジスタQ17およびQ18のゲート
は、共にノードn2に接続し、トランジスタQ19のゲ
ートは、電位Vrefを受けるものとする。
It is assumed that the gates of transistors Q17 and Q18 are both connected to node n2, and the gate of transistor Q19 receives potential Vref.

【0098】高電圧レベル検出回路206は、さらに、
トランジスタQ17とトランジスタQ18の接続ノード
n3と、接地電位との間に接続され、信号/DE1の不
活性化(“H”レベルへの変化)に応じて導通状態とな
るnチャネルMOSトランジスタQ20と、ノードn3
と入力ノードが接続し、信号PE1を出力するインバー
タ2064とを含む。
The high voltage level detection circuit 206 further includes
An n-channel MOS transistor Q20 connected between a connection node n3 between the transistors Q17 and Q18 and the ground potential, and rendered conductive in response to the inactivation of the signal / DE1 (change to "H"level); Node n3
And an input node, and an inverter 2064 that outputs signal PE1.

【0099】ノードN3の電位レベルが、信号/PE1
として出力される。次に、高電圧レベル検出回路206
の動作について簡単に説明する。
When the potential level of node N3 is at signal / PE1
Is output as Next, the high voltage level detection circuit 206
The operation of will be briefly described.

【0100】信号DE1が不活性状態(“L”レベル)
である期間中は、差動増幅回路2062中のトランジス
タQ15は遮断状態であって、この差動増幅器2062
は不活性状態である。一方、トランジスタQ20は、信
号/DE1が不活性状態(“H”レベル)であることに
応じて導通状態となり、ノードn3は、“L”レベルと
なる。これに応じて、インバータ2064から出力され
る信号PE1は“H”レベルとなり、信号/PE1は
“L”レベルとなる。
Signal DE1 is inactive ("L" level)
, The transistor Q15 in the differential amplifier circuit 2062 is in a cut-off state.
Is inactive. On the other hand, transistor Q20 is rendered conductive in response to signal / DE1 being inactive ("H" level), and node n3 attains "L" level. In response, signal PE1 output from inverter 2064 attains an "H" level, and signal / PE1 attains an "L" level.

【0101】次に、信号DE1が活性状態(“H”レベ
ル)となると、差動増幅回路2062は活性状態とな
る。これに応じて、基準電位Vrefと、電位Vmon
との比較結果に応じて、高電圧レベル検出回路206か
ら出力される信号PE1および/PE1の電位レベルは
以下のように変化する。
Next, when signal DE1 is activated ("H" level), differential amplifier circuit 2062 is activated. Accordingly, the reference potential Vref and the potential Vmon
In accordance with the comparison result, the potential levels of signals PE1 and / PE1 output from high voltage level detection circuit 206 change as follows.

【0102】i) 基準電位Vrefよりも電位Vmo
nが大きい場合 信号DE1が活性状態(“H”レベル)であるために、
トランジスタQ16は遮断状態である。このため、差動
増幅回路2062の出力ノードn2の電位レベルは、
“L”レベルへと変化する。これに応じて、トランジス
タQ17が導通状態となり、トランジスタQ18は遮断
状態となるので、ノードn3の電位レベルは“H”レベ
ルとなる。これに応じて、インバータ2064から出力
される信号PE1のレベルは“L”レベルに、信号/P
E1は“H”レベルとなる。
I) The potential Vmo is higher than the reference potential Vref
When n is large Since the signal DE1 is in the active state (“H” level),
Transistor Q16 is off. Therefore, the potential level of the output node n2 of the differential amplifier circuit 2062 is
It changes to the “L” level. In response, transistor Q17 is turned on and transistor Q18 is turned off, so that the potential level of node n3 attains "H" level. In response, the level of signal PE1 output from inverter 2064 attains an "L" level and signal / P
E1 becomes "H" level.

【0103】ii) 基準電位Vrefよりも電位Vmo
nが低い場合 この場合は、差動増幅器2062の出力ノードn2の電
位レベルは“H”レベルとなる。これに応じて、トラン
ジスタQ17は遮断状態となり、トランジスタQ18は
導通状態となる。トランジスタQ19のゲートに基準電
位Vrefを受けているので、導通状態となっており、
これにより、ノードn3の電位レベルは“L”レベルへ
と変化する。
Ii) The potential Vmo is higher than the reference potential Vref.
In the case where n is low In this case, the potential level of output node n2 of differential amplifier 2062 attains "H" level. In response, transistor Q17 is turned off and transistor Q18 is turned on. Since the gate of the transistor Q19 receives the reference potential Vref, it is in a conductive state,
Thereby, the potential level of node n3 changes to "L" level.

【0104】したがって、インバータ2064の出力信
号の信号PE1は“H”レベルに、信号/PE1は
“L”レベルへと変化する。
Therefore, signal PE1 of the output signal of inverter 2064 changes to "H" level, and signal / PE1 changes to "L" level.

【0105】すなわち、高電圧レベル検出回路206か
らは、昇圧回路202の出力ノードNH1から出力される
電位レベルVpp1の電位レベルが、所定の値以下とな
った場合には、活性なCLK活性信号PE1が出力され
ることになる。
[0105] That is, from the high voltage level detecting circuit 206, when the potential level of the potential level Vpp1 output from the output node N H1 of the step-up circuit 202, becomes equal to or less than a predetermined value, active CLK activity signal PE1 will be output.

【0106】図4は、図2に示した高電圧スイッチ回路
218の構成を示す概略ブロック図である。
FIG. 4 is a schematic block diagram showing a configuration of high voltage switch circuit 218 shown in FIG.

【0107】高電圧スイッチ回路218は、信号/PE
2をセット信号として、信号/DE2をリセット信号と
して受けるフリップフロップ回路2182と、フリップ
フロップ回路2182の出力信号/TGXを受けて、反
転した信号TGXを出力するインバータ2184と、第
1の昇圧回路202の出力ノードNH1と、第2の昇圧回
路204の出力ノードNH2との接続を導通状態または遮
断状態とするpチャネルMOSトランジスタ2188
と、信号TGXおよび信号/TGXに制御されて、pチ
ャネルMOSトランジスタ2188のゲート電位レベル
を制御するレベル変換回路2186とを含む。
The high voltage switch circuit 218 outputs the signal / PE
2 as a set signal, a flip-flop circuit 2182 receiving a signal / DE2 as a reset signal, an inverter 2184 receiving an output signal / TGX of the flip-flop circuit 2182 and outputting an inverted signal TGX, and a first booster circuit 202 P-channel MOS transistor 2188 that sets the connection between output node N H1 of the second stage and output node N H2 of second booster circuit 204 to a conductive state or a cut-off state.
And a level conversion circuit 2186 controlled by signals TGX and / TGX to control the gate potential level of p-channel MOS transistor 2188.

【0108】pチャネルMOSトランジスタ2188の
バックゲートは、出力ノードNH1と接続されている。
The back gate of p channel MOS transistor 2188 is connected to output node N H1 .

【0109】一方、レベル変換回路2186は、信号T
GXが“L”レベルであって、信号/TGXが“H”レ
ベルである場合は、pチャネルMOSトランジスタ21
88のゲートに“L”レベル(接地電位)の電位レベル
を与え、信号TGXが“H”レベル(信号/TGXは
“L”レベル)である期間は、pチャネルMOSトラン
ジスタ2188のゲートには、ノードNH1の電位レベル
を供給する。
On the other hand, level conversion circuit 2186 outputs signal T
When GX is at "L" level and signal / TGX is at "H" level, p-channel MOS transistor 21
A potential level of "L" level (ground potential) is applied to the gate of 88, and during the period when signal TGX is at "H" level (signal / TGX is at "L" level), the gate of p-channel MOS transistor 2188 has: The potential level of the node N H1 is supplied.

【0110】以下、高電圧スイッチ回路218の動作に
ついて簡単に説明する。 i) 信号DE2が“L”レベルであり、信号PE2が
“H”レベルである場合 図3において説明したとおり、高電圧レベル検出回路2
08においては、信号DE2のレベルが不活性状態
(“L”レベル)である期間中は、信号PE2のレベル
は“H”レベルとなっている。
The operation of the high voltage switch circuit 218 will be briefly described below. i) When the signal DE2 is at the “L” level and the signal PE2 is at the “H” level As described with reference to FIG.
At 08, while the level of the signal DE2 is in the inactive state (“L” level), the level of the signal PE2 is at “H” level.

【0111】この場合は、フリップフロップ回路218
2が受ける信号/PE2は“L”レベルであって、信号
/DE2は“H”レベルである。したがって、フリップ
フロップ回路2182から出力される信号/TGHは
“H”レベルであって、レベルシフト回路2186によ
り制御されるpチャネルMOSトランジスタ2188は
導通状態である。
In this case, flip-flop circuit 218
2 is at "L" level, and signal / DE2 is at "H" level. Therefore, signal / TGH output from flip-flop circuit 2182 is at “H” level, and p-channel MOS transistor 2188 controlled by level shift circuit 2186 is conductive.

【0112】つまり、第1の昇圧回路202の出力ノー
ドNH1と、第2の昇圧回路204の出力ノードNH2とは
導通状態に維持される。
That is, the output node N H1 of the first booster circuit 202 and the output node N H2 of the second booster circuit 204 are kept conductive.

【0113】ii) 信号DE2が“H”レベルとなった
場合 この場合、図3において示した高電圧レベル検出回路2
06において、電位Vmonのレベルは、基準電位Vr
efよりも当初は低いはずである。このため、信号DE
2が“H”レベルとなって、高電圧レベル検出回路20
8が活性状態となった時点では、信号PE2は“H”レ
ベルである。
Ii) When the signal DE2 goes to "H" level In this case, the high voltage level detection circuit 2 shown in FIG.
06, the level of the potential Vmon is changed to the reference potential Vr
It should initially be lower than ef. Therefore, the signal DE
2 becomes “H” level and the high voltage level detection circuit 20
At the time when 8 is activated, signal PE2 is at "H" level.

【0114】したがって、フリップフロップ回路218
2は、その状態を変更することなく、信号/TGHは
“H”レベルを維持する。
Therefore, flip-flop circuit 218
2, the signal / TGH maintains the "H" level without changing its state.

【0115】すなわち、トランジスタ2188は導通状
態のままである。さらに、信号PE2が“L”レベルへ
と変化し、信号/PE2が“H”レベルとなると、レベ
ル変換回路2186から、pチャネルMOSトランジス
タ2188のゲートに与えられる電位レベルは、ノード
H1の電位レベルと同じとなり、トランジスタpチャネ
ルMOSトランジスタ2188は遮断状態となる。
That is, the transistor 2188 remains conductive. Further, when signal PE2 changes to "L" level and signal / PE2 attains "H" level, the potential level applied from level conversion circuit 2186 to the gate of p-channel MOS transistor 2188 becomes the potential of node NH1 . Level, and the transistor p-channel MOS transistor 2188 is turned off.

【0116】以後は、信号DE2が“H”レベルを維持
する限り、信号PE2の電位レベルとかかわりなく、フ
リップフロップ回路2182の出力する電位レベルは変
化せず、pチャネルMOSトランジスタ2188は遮断
状態を維持する。
Thereafter, as long as signal DE2 maintains the "H" level, the potential level output from flip-flop circuit 2182 does not change, regardless of the potential level of signal PE2, and p-channel MOS transistor 2188 remains cut off. maintain.

【0117】図5は、図2に示したCLKゲート回路2
10の構成を示す概略ブロック図である。
FIG. 5 shows the CLK gate circuit 2 shown in FIG.
It is a schematic block diagram which shows the structure of No.10.

【0118】CLKゲート回路212も、受ける信号お
よび出力する信号が異なるのみで、その構成は、基本的
にCLKゲート回路210の構成と同様である。
The configuration of CLK gate circuit 212 is basically the same as that of CLK gate circuit 210, except that the received signal and the output signal are different.

【0119】CLKゲート回路210は、信号CLKお
よび信号PE1を受けて、駆動クロック信号PH1を出
力する第1のAND回路2102と、信号/CLKと信
号PE1とを受けて、駆動クロック信号/PH1を出力
する第2のAND回路2104とを含む。
CLK gate circuit 210 receives signal CLK and signal PE1, and outputs a first AND circuit 2102 for outputting drive clock signal PH1, and receives signal / CLK and signal PE1 to generate drive clock signal / PH1. And a second AND circuit 2104 for outputting.

【0120】したがって、CLKゲート回路210は、
信号PE1が活性状態(“H”レベル)である期間の
み、入力されたクロック信号CLKおよび/CLKを、
それぞれ駆動クロック信号PH1および/PH1として
出力する。
Therefore, CLK gate circuit 210
Only during the period when signal PE1 is in the active state (“H” level), input clock signals CLK and / CLK are
They are output as drive clock signals PH1 and / PH1, respectively.

【0121】信号PE1が不活性状態である期間は、駆
動クロック信号PH1および/PH1は、“L”レベル
を維持する。
While signal PE1 is inactive, drive clock signals PH1 and / PH1 maintain the "L" level.

【0122】図6は、図2に示したチャージポンプ回路
212の構成を示す概略ブロック図である。
FIG. 6 is a schematic block diagram showing the structure of charge pump circuit 212 shown in FIG.

【0123】図2において説明したとおり、第1のチャ
ージポンプ回路214は、従来のチャージポンプ回路2
000と同様の構成を有している。
As described with reference to FIG. 2, the first charge pump circuit 214 is
000.

【0124】第1のチャージポンプ回路214が、カッ
プリングキャパシタC1〜C6を介して駆動クロック信
号PH1および/PH1により駆動されるダイオード接
続されたトランジスタが7段接続され構成となっている
のに対し、第2のチャージポンプ回路216において
は、ダイオード接続されたトランジスタが3段接続され
る構成となっている。
The first charge pump circuit 214 is configured by connecting seven stages of diode-connected transistors driven by drive clock signals PH1 and / PH1 via coupling capacitors C1 to C6. , The second charge pump circuit 216 has a configuration in which diode-connected transistors are connected in three stages.

【0125】したがって、式(2)によれば、第2のチ
ャージポンプ回路216の供給電流量は、第1のチャー
ジポンプ回路214の供給電流量に比べて小さな値を有
することになる。
Therefore, according to equation (2), the amount of supply current of the second charge pump circuit 216 has a smaller value than the amount of supply current of the first charge pump circuit 214.

【0126】図7は、図2に示した高電圧発生回路20
0の動作を説明するためのタイミングチャートである。
FIG. 7 is a circuit diagram of the high voltage generating circuit 20 shown in FIG.
6 is a timing chart for explaining the operation of the "0".

【0127】まず時刻t0において、制御回路122か
ら出力される検出回路活性化信号DE1およびDE2は
共に“L”レベルであるものとする。この場合、高電圧
レベル検出回路206および208からそれぞれ出力さ
れるCLK活性化信号PE1およびPE2は、共に
“H”レベルである。
First, at time t0, detection circuit activation signals DE1 and DE2 output from control circuit 122 are both at "L" level. In this case, both CLK activation signals PE1 and PE2 output from high voltage level detection circuits 206 and 208 are at "H" level.

【0128】図4において説明したとおり、このような
信号レベルにおいては、高電圧スイッチ回路218にお
けるpチャネルMOSトランジスタ2188は導通状態
となっている。
As described with reference to FIG. 4, at such a signal level, p-channel MOS transistor 2188 in high voltage switch circuit 218 is conductive.

【0129】続いて、時刻t1において、信号DE1お
よび信号DE2が共に活性状態(“H”レベル)へと変
化する。
Subsequently, at time t1, both signal DE1 and signal DE2 change to the active state ("H" level).

【0130】これに応じて、クロック発生回路220
は、クロック信号CLKおよびクロック信号/CLKの
出力を開始する。
In response, clock generation circuit 220
Starts outputting the clock signal CLK and the clock signal / CLK.

【0131】第1のチャージポンプ回路214および第
2のチャージポンプ回路216は、CLKゲート回路2
10および212からそれぞれ与えられる駆動クロック
信号PH1/PH1ならびにPH2/PH2に応じて、
対応する出力ノードNH1およびNH2の電位レベルを上昇
させる。ただし、高電圧スイッチ回路218は導通状態
となっているので、出力のとNH1および出力ノードNH2
の電位レベルは等しく保たれていることになる。
The first charge pump circuit 214 and the second charge pump circuit 216 include the CLK gate circuit 2
In response to drive clock signals PH1 / PH1 and PH2 / PH2 provided from 10 and 212, respectively,
The potential levels of corresponding output nodes N H1 and N H2 are raised. However, since the high voltage switch circuit 218 is in a conductive state, the output voltage N H1 and the output node N H2
Are kept equal.

【0132】言換えると、この段階では、供給電流量の
より大きな第1のチャージポンプ回路214が、より支
配的に出力ノードNH1および出力ノードNH2の電位レベ
ルを駆動していることになる。
In other words, at this stage, the first charge pump circuit 214 having a larger supply current amount drives the potential levels of the output nodes N H1 and N H2 more dominantly. .

【0133】時刻t3において、出力ノードNH1の電位
レベル(すなわち、出力ノードNH2の電位レベル)が、
所定の電位レベルに到達したことを、高電圧レベル検出
回路208が検出すると、信号/PE2が“H”レベル
へと変化する。
At time t3, the potential level of output node N H1 (that is, the potential level of output node N H2 ) becomes
When the high voltage level detection circuit 208 detects that a predetermined potential level has been reached, the signal / PE2 changes to "H" level.

【0134】これに応じて、高電圧スイッチ回路218
中のフリップフロップ回路2182から出力される信号
/TGXは“L”レベルに、インバータ2184の出力
信号の信号TGXは“H”レベルへと変化する。
In response, high voltage switch circuit 218
The signal / TGX output from the middle flip-flop circuit 2182 changes to “L” level, and the signal TGX of the output signal of the inverter 2184 changes to “H” level.

【0135】これら信号TGXおよび/TGXに制御さ
れて、高電圧スイッチ回路218は遮断状態となる。
Under the control of these signals TGX and / TGX, high voltage switch circuit 218 is turned off.

【0136】したがって、時刻t3以降は、出力ノード
H1の電位レベルと、出力ノードN H2の電位レベルは、
それぞれ第1の昇圧回路202および第2の昇圧回路2
04とにより独立に制御されることになる。
Therefore, after time t3, the output node
NH1Potential level and output node N H2The potential level of
A first booster circuit 202 and a second booster circuit 2
04 is controlled independently.

【0137】つまり、第2の昇圧回路204の出力ノー
ドNH2から出力される電位Vpp2の電位レベルは、既
に時刻t3において所定の電位レベルに到達しているた
め、以後は、高電圧レベル検出回路208が、この電位
レベルVpp2が所定の下限電位レベル以上であるか否
かに応じて、CLKゲート回路212を制御することに
なる。
[0137] That is, the output node potential level of the potential Vpp2 output from N H2 of the second booster circuit 204, because it reaches a predetermined potential level in already time t3, the subsequent high voltage level detecting circuit 208 controls the CLK gate circuit 212 according to whether or not the potential level Vpp2 is equal to or higher than a predetermined lower limit potential level.

【0138】すなわち、たとえば時刻t4において、電
位Vpp2が、所定の下限電位レベルVs2よりも低下し
たと高電圧レベル検出回路208が検知した場合、CL
K活性化信号PE2が”L”レベルから”H”レベルへ
と変化し、いいかえると、高電圧レベル検出回路208
は、CLK活性化信号PE2を活性状態として、CLK
ゲート回路212から第2のチャージポンプ回路216
に対して駆動クロック信号PH2および/PH2を出力
させる。
[0138] That is, for example, at time t4, when the potential Vpp2 has a lower than a predetermined lower limit voltage level V s2 high voltage level detecting circuit 208 detects, CL
The K activation signal PE2 changes from “L” level to “H” level, in other words, the high voltage level detection circuit 208
Activates the CLK activation signal PE2,
From the gate circuit 212 to the second charge pump circuit 216
Output the drive clock signals PH2 and / PH2.

【0139】これにより、再び電位Vpp2は上昇を開
始し、時刻t5において、所定の電位レベル以上に上昇
したことを、高電圧レベル検出回路208が検知した場
合、信号PE2は不活性状態となって、第2のチャージ
ポンプ回路216に対する駆動クロック信号の供給が停
止される。
As a result, the potential Vpp2 starts rising again, and at time t5, when the high voltage level detecting circuit 208 detects that the potential Vpp2 has risen to a predetermined potential level or higher, the signal PE2 becomes inactive. The supply of the drive clock signal to the second charge pump circuit 216 is stopped.

【0140】以後同様にして、電位Vpp2が所定の電
位レベルを維持するように、第2の昇圧回路204が制
御されることになる。
Thereafter, similarly, second booster circuit 204 is controlled such that potential Vpp2 maintains a predetermined potential level.

【0141】一方で、第1の昇圧回路202の出力ノー
ドNH1の電位レベルVpp1は、時刻t3の段階では、
所定の電位レベルに到達していないため、高電圧レベル
検出回路206から出力されるCLK活性化信号PE1
は時刻t3以後も活性状態を維持する。
On the other hand, the potential level Vpp1 of the output node N H1 of the first booster circuit 202 is at the stage of time t3.
Since the potential has not reached the predetermined potential level, CLK activation signal PE1 output from high voltage level detection circuit 206
Maintains the active state after time t3.

【0142】時刻t6において、電位Vpp1が所定の
電位レベルに達したと高電圧レベル検出回路206が検
知すると、CLK活性化信号PE1を不活性化する。
At time t6, when high voltage level detection circuit 206 detects that potential Vpp1 has reached a predetermined potential level, it deactivates CLK activation signal PE1.

【0143】これに応じて、第1のチャージポンプ回路
214の動作が停止する。電位Vpp1のレベルは、第
1のチャージポンプ回路214が停止したことにより徐
々に低下し始め、時刻t7において、高電圧レベル検出
回路206が、電位Vpp1が所定の下限レベルVs1
下になったと検知すると、CLK活性化信号PE1が活
性状態になる。
In response, the operation of first charge pump circuit 214 stops. Level potential Vpp1 is detected gradually began to decline by the first charge pump circuit 214 is stopped, at time t7, the high voltage level detecting circuit 206, the potential Vpp1 is equal to or less than a predetermined lower limit level V s1 Then, the CLK activation signal PE1 is activated.

【0144】これに応じて、再び第1のチャージポンプ
回路214が動作し、電位Vpp1が所定の電位レベル
以上となるまで上昇する。以後は、同様にして、高電圧
レベル検出回路206に制御されて、第1の昇圧回路2
02から出力される電位Vpp1のレベルが所定の値に
維持される。
In response, first charge pump circuit 214 operates again, and rises until potential Vpp1 becomes higher than a predetermined potential level. Thereafter, similarly, the first booster circuit 2 is controlled by the high voltage level detection circuit 206.
02 is kept at a predetermined value.

【0145】実施の形態1の高電圧発生回路において
は、以上のような動作を行なうので、第2のチャージポ
ンプ回路216の供給電流量が小さい場合、すなわち言
換えると第2のチャージポンプ回路216の回路面積の
小さい場合であっても、第2の昇圧回路204から出力
される電位レベルVpp2の立上がりを、第1の昇圧回
路202の立上がり速度と同一にすることが可能であ
る。
In the high voltage generating circuit of the first embodiment, the above operation is performed. Therefore, when the amount of current supplied to second charge pump circuit 216 is small, in other words, second charge pump circuit 216 Even when the circuit area is small, it is possible to make the rising of the potential level Vpp2 output from the second boosting circuit 204 equal to the rising speed of the first boosting circuit 202.

【0146】第2のチャージポンプ回路216は、電位
Vpp2のレベルを所定の電位レベルに保持するだけの
電流供給量を有していればよいので、高電圧発生回路2
00が、第1の高電圧出力Vpp1および第2の高電圧
出力Vpp2を出力する場合でも、それぞれの電位Vp
p1およびVpp2を全く独立の昇圧回路により生成す
る場合に比べて、回路面積の増大を抑制することが可能
である。
The second charge pump circuit 216 only needs to have a current supply amount enough to maintain the level of potential Vpp2 at a predetermined potential level.
00 outputs the first high voltage output Vpp1 and the second high voltage output Vpp2,
It is possible to suppress an increase in circuit area as compared with a case where p1 and Vpp2 are generated by completely independent boosting circuits.

【0147】以上の説明では、高電圧発生回路200か
ら出力される高電圧が2種類の場合について説明した
が、本発明はこのような場合に限定されることなく、さ
らにより多くの高電圧を出力する場合に適用することも
可能である。
In the above description, the case where the high voltage output from the high voltage generating circuit 200 is of two types has been described. However, the present invention is not limited to such a case, and even more high voltages can be output. It is also possible to apply when outputting.

【0148】[実施の形態2]図9は、本発明の実施の
形態2の高電圧発生回路300の構成を示す概略ブロッ
ク図である。
[Second Embodiment] FIG. 9 is a schematic block diagram showing a configuration of a high voltage generating circuit 300 according to a second embodiment of the present invention.

【0149】実施の形態1の高電圧発生回路200の構
成と異なる点は、高電圧スイッチ218内で生成される
信号TGXと、CLK活性化信号PE2の両方に制御さ
れて、第2の昇圧回路204中のCLKゲート回路31
2が動作する構成となっている点である。
The difference from the configuration of the high voltage generation circuit 200 of the first embodiment is that both the signal TGX generated in the high voltage switch 218 and the CLK activation signal PE2 are controlled and the second booster circuit CLK gate circuit 31 in 204
2 operates.

【0150】その他の点は、図2に示した実施の形態1
の高電圧発生回路200の構成と同様であるので、同一
部分には同一符号を付してその説明は繰返さない。
Other points are the same as those of the first embodiment shown in FIG.
Is the same as that of high voltage generating circuit 200, the same portions are denoted by the same reference characters and description thereof will not be repeated.

【0151】図8は、図9に示したCLKゲート回路3
12の構成を示す回路図である。CLKゲート回路31
2は、クロック信号CLK,信号TGXおよび信号PE
2を受けて、第1の駆動クロック信号PHを出力するA
ND回路3122と、クロック信号/CLK,信号TG
Xおよび信号PE2を受けて、第2の駆動クロック信号
/PH2を出力するAND回路3124とを含む。
FIG. 8 shows the CLK gate circuit 3 shown in FIG.
FIG. 12 is a circuit diagram illustrating a configuration of a twelfth embodiment. CLK gate circuit 31
2 is a clock signal CLK, a signal TGX and a signal PE.
2 that outputs the first drive clock signal PH
ND circuit 3122, clock signal / CLK, signal TG
And an AND circuit 3124 receiving X and signal PE2 and outputting a second drive clock signal / PH2.

【0152】したがって、CLKゲート回路312から
は、信号TGXおよびPE2が共に活性手段(“H”レ
ベル)である期間中のみクロック信号CLKおよび/C
LKに応じて、第1および第2の駆動クロック信号PH
および/PHが出力されることになる。
Therefore, CLK gate circuit 312 outputs clock signals CLK and / C only while signal TGX and PE2 are both active means ("H" level).
LK, the first and second drive clock signals PH
And / PH are output.

【0153】図10は、図9に示した高電圧発生回路3
00の動作を説明するためのタイミングチャートであ
る。
FIG. 10 is a circuit diagram of the high voltage generating circuit 3 shown in FIG.
10 is a timing chart for explaining the operation of the control unit 00.

【0154】時刻t0において、制御回路122から出
力される検出回路活性化信号DE1およびDE2は、共
に不活性状態であり、時刻t1において、信号DE1お
よびDE2が活性状態(“H”レベル)へと変化する。
一方、時刻t0の時点において、信号PE2は活性状態
であって、信号/PE2は“L”レベルである。一方、
信号/DE2は“H”レベルであるため、図9に示した
高電圧スイッチ218は導通状態である。
At time t0, detection circuit activation signals DE1 and DE2 output from control circuit 122 are both inactive, and at time t1, signals DE1 and DE2 change to the active state ("H" level). Change.
On the other hand, at time t0, signal PE2 is in the active state, and signal / PE2 is at "L" level. on the other hand,
Since signal / DE2 is at "H" level, high voltage switch 218 shown in FIG. 9 is conductive.

【0155】時刻t1において、信号DE2が“H”レ
ベルに、すなわち、信号/DE2が“L”レベルとなっ
た場合でも、高電圧スイッチ218は導通状態を維持す
る。
At time t1, even when signal DE2 attains "H" level, that is, signal / DE2 attains "L" level, high voltage switch 218 maintains a conductive state.

【0156】すなわち、高電圧スイッチ218から出力
される信号TGXは“L”レベルである。このため、C
LKゲート回路312からは活性な駆動クロック信号P
H2および/PH2は出力されない。このため、第2の
チャージポンプ回路216は動作を停止したままであ
る。
That is, signal TGX output from high voltage switch 218 is at "L" level. Therefore, C
The LK gate circuit 312 outputs an active drive clock signal P
H2 and / PH2 are not output. Therefore, the operation of the second charge pump circuit 216 remains stopped.

【0157】したがって、時刻t1〜t3の期間におい
ては、第1のチャージポンプ回路214のみが動作し、
第1の昇圧回路202の出力ノードNH1および第2の昇
圧回路204の出力ノードNH2の電位レベルは、第1の
チャージポンプ回路214のみによって駆動される。
Therefore, only the first charge pump circuit 214 operates during the period from time t1 to t3,
The potential levels of the output node N H1 of the first booster circuit 202 and the output node N H2 of the second booster circuit 204 are driven only by the first charge pump circuit 214.

【0158】時刻t3において、ノードNH2の電位レベ
ルが、所定の電位レベルになると、高電圧レベル検出回
路208は、信号PE2の電位レベルを“L”レベルへ
と変化させる。これに応じて、高電圧スイッチ回路21
8に入力する信号/PE2は“H”レベルへと変化し、
高電圧スイッチ回路218は遮断状態となる。さらに、
信号/PE2の“H”レベルへの変化に応じて、信号T
GXも“H”レベルへと変化する。
At time t3, when the potential level of node NH2 reaches a predetermined potential level, high voltage level detection circuit 208 changes the potential level of signal PE2 to "L" level. Accordingly, the high voltage switch circuit 21
8, the signal / PE2 changes to "H" level,
The high voltage switch circuit 218 is turned off. further,
In response to the change of the signal / PE2 to the “H” level, the signal T
GX also changes to “H” level.

【0159】つまり、CLKゲート回路312において
は、信号TGXは“H”レベルであるものの、信号PE
2が“L”レベルであるため、依然として第2のチャー
ジポンプ回路216には、駆動クロック信号PH2およ
び/PH2は供給されない。
That is, in CLK gate circuit 312, although signal TGX is at "H" level, signal PE
Since 2 is at the “L” level, drive clock signals PH2 and / PH2 are not yet supplied to second charge pump circuit 216.

【0160】時刻t4において、高電圧レベル検出回路
208が、ノードNH2の電位レベル、すなわち電位Vp
p2の電位レベルが所定の下限電位レベルVs2以下であ
ることを検知すると、高電圧レベル検出回路208は、
信号PE2を活性状態へと変化させる。この時点で、信
号PE2および信号TGXが共に“H”レベルとなるの
で、CLKゲート回路312から第2のチャージポンプ
回路216に対して、活性な駆動クロック信号PH2お
よび/PH2が供給される。
[0160] At time t4, the high voltage level detecting circuit 208, the node N H2 potential level, i.e. the potential Vp
Upon detecting that the potential level of p2 is equal to or lower than the predetermined lower limit potential level Vs2 , the high voltage level detection circuit 208
The signal PE2 is changed to the active state. At this point, since both signal PE2 and signal TGX attain an "H" level, active drive clock signals PH2 and / PH2 are supplied from CLK gate circuit 312 to second charge pump circuit 216.

【0161】これにより、電位Vpp2は、第2のチャ
ージポンプ回路216により、独立に駆動されて、再び
所定の電位レベルに達するまで昇圧される。時刻t5に
おいて、高電圧レベル検出回路208が電位Vpp2が
所定の電位レベル以上になったことを検知すると、信号
PE2は不活性化し、これに応じて、第2のチャージポ
ンプ回路216への駆動クロック信号の供給も停止され
る。
As a result, the potential Vpp2 is independently driven by the second charge pump circuit 216 and is boosted until it reaches a predetermined potential level again. At time t5, when high voltage level detection circuit 208 detects that potential Vpp2 has become equal to or higher than the predetermined potential level, signal PE2 is inactivated, and accordingly, the driving clock to second charge pump circuit 216 is driven. The supply of the signal is also stopped.

【0162】以後は、同様にして、第2の昇圧回路20
4により独立に、電位Vpp2が制御される。
Thereafter, similarly, the second booster circuit 20
4 independently controls the potential Vpp2.

【0163】一方、時刻t3において、高電圧スイッチ
回路218が遮断状態となった時点では、第1の昇圧回
路202から出力される電位Vpp1は、電位Vpp1
に対して予め定められた所定の電位レベルには到達して
いない。したがって、高電圧レベル検出回路206は、
信号PE1を活性状態(“H”レベル)に維持する。こ
のため、第1のチャージポンプ回路214が、電位Vp
p1を独立に制御してさらに昇圧動作を継続する。
On the other hand, at time t3, when the high voltage switch circuit 218 is turned off, the potential Vpp1 output from the first booster circuit 202 becomes the potential Vpp1.
Does not reach a predetermined potential level. Therefore, the high voltage level detection circuit 206
Signal PE1 is maintained in an active state ("H" level). Therefore, the first charge pump circuit 214 outputs the potential Vp
The boosting operation is continued by controlling p1 independently.

【0164】時刻t6において、電位Vpp1が、所定
の電位レベルに到達したことを高電圧レベル検出回路2
06が検知すると、信号PE1は不活性状態へと変化す
る。
At time t6, high voltage level detection circuit 2 detects that potential Vpp1 has reached a predetermined potential level.
When 06 is detected, the signal PE1 changes to the inactive state.

【0165】これに応じて、第1のチャージポンプ回路
214への駆動クロック信号PH1および/PH1の供
給が停止される。時刻t7において、再び電位Vpp1
の電位レベルが、第1の所定の下限電位レベルVs1より
も低下したことを、高電圧レベル検出回路206が検知
すると、再び信号PE1が活性状態(”H”レベル)と
なり、第1のチャージポンプ回路214により電位Vp
p1の昇圧動作が行なわれる。
In response, supply of drive clock signals PH1 and / PH1 to first charge pump circuit 214 is stopped. At time t7, the potential Vpp1 again
Charge potential level, that lower than the first predetermined lower potential level V s1, the high voltage level detecting circuit 206 detects again the signal PE1 is the active state ( "H" level), the first Potential Vp by pump circuit 214
A boost operation of p1 is performed.

【0166】以上説明したとおり、実施の形態2の昇圧
回路300においては、電位Vpp1が供給される出力
ノードNH1および電位Vpp2が供給される出力ノード
H2の電位レベルは、昇圧動作の初期段階においては、
共に第1のチャージポンプ回路214により駆動され
る。
As described above, in boosting circuit 300 of the second embodiment, the potential levels of output node N H1 supplied with potential Vpp1 and output node N H2 supplied with potential Vpp2 are set at the initial stage of the boosting operation. In
Both are driven by the first charge pump circuit 214.

【0167】第2のチャージポンプ回路216は、第2
の所定の電位レベルまで昇圧された電位Vpp2を、こ
の第2の所定電位レベルに維持する動作のみを行なえば
よい。このため、第2のチャージポンプ回路の供給電流
量を第1のチャージポンプ回路の供給電流量に比べて小
さく抑えた場合でも、言換えると、第2のチャージポン
プ回路216の回路面積を、第1のチャージポンプ回路
214の回路面積に比べて小さく抑えた場合でも、昇圧
動作の初期段階においては、ノードNH2の電位レベル
は、ノードNH1の電位レベルと同様に立上げることが可
能となる。
The second charge pump circuit 216 has the second
Only the operation of maintaining the potential Vpp2 raised to the predetermined potential level at the second predetermined potential level may be performed. For this reason, even when the supply current amount of the second charge pump circuit is suppressed to be smaller than the supply current amount of the first charge pump circuit, in other words, the circuit area of the second charge pump circuit 216 is reduced. Even when the charge pump circuit 214 has a smaller circuit area, the potential level of the node N H2 can rise in the initial stage of the boosting operation, similarly to the potential level of the node N H1. .

【0168】[実施の形態3]図11は、図1に示した
負電圧発生回路400の構成を示す概略ブロック図であ
る。
[Third Embodiment] FIG. 11 is a schematic block diagram showing a configuration of negative voltage generating circuit 400 shown in FIG.

【0169】図2に示した実施の形態1の高電圧発生回
路200の構成と異なる点は、以下のとおりである。
The difference from the configuration of high voltage generating circuit 200 of the first embodiment shown in FIG. 2 is as follows.

【0170】すなわち、負電圧発生回路400において
は、まず第1の負電位駆動回路402と、第2の負電位
駆動回路404と、負の高電圧スイッチ418と、クロ
ック発生回路220とを含む。
That is, the negative voltage generating circuit 400 includes a first negative potential driving circuit 402, a second negative potential driving circuit 404, a negative high voltage switch 418, and a clock generating circuit 220.

【0171】ここで、第1の負電位駆動回路402は、
その出力ノードNn1の電位レベルを、制御回路122
に制御されて、負の高電圧(たとえば、−10V)に駆
動する。第2の負電位駆動回路404は、その出力ノー
ドNn1の電位レベルを負の高電位に駆動する。ここ
で、第2の負電位駆動回路404の供給電流量は、第1
の負電位駆動回路402の供給電流量よりも小さなもの
とする。高電圧スイッチ418は、後に説明するよう
に、制御回路122および出力ノードNn1の電位レベ
ルに応じて制御されて、ノードNn1とノードNn2と
の接続を開閉する。
Here, the first negative potential driving circuit 402
The potential level of the output node Nn1 is determined by the control circuit 122
, And is driven to a negative high voltage (for example, −10 V). Second negative potential driving circuit 404 drives the potential level of output node Nn1 to a negative high potential. Here, the amount of supply current of the second negative potential drive circuit 404 is equal to the first supply current.
Is smaller than the supply current amount of the negative potential drive circuit 402. The high voltage switch 418 is controlled according to the potential levels of the control circuit 122 and the output node Nn1 to open and close the connection between the node Nn1 and the node Nn2, as described later.

【0172】つまり、第1の負電位駆動回路402およ
び第2の負電位駆動回路404が、共にその出力ノード
の電位レベルを負に駆動する点、および高電圧スイッチ
回路418が、負の電位レベルにある2つの出力ノード
Nn1およびNn2の接続を開閉する点において、負電
圧発生回路400は、高電圧発生回路200の構成と異
なる。
That is, the point that both the first negative potential drive circuit 402 and the second negative potential drive circuit 404 drive the potential level of the output node to be negative, and that the high voltage switch circuit 418 has the negative potential level Negative voltage generation circuit 400 is different from high voltage generation circuit 200 in that the connection between two output nodes Nn1 and Nn2 is opened and closed.

【0173】第1の負電位駆動回路402は、制御回路
122からの検出回路活性化信号DE1に応じて活性化
され、出力ノードNn1の電位レベルが所定の電位レベ
ル以上であることを検知すると、CLK活性化信号PE
1を活性状態とする高電圧レベル検出回路406と、信
号PE1に応じて活性化され、クロック信号CLKおよ
び/CLKを受けて、駆動クロック信号PH1および/
PH1を出力するCLKゲート回路410と、駆動クロ
ック信号PH1および/PH1に応じて、第1の電流供
給量で出力ノードNn1の電位レベルを負電位に駆動す
るチャージポンプ回路414とを含む。
The first negative potential drive circuit 402 is activated in response to the detection circuit activation signal DE1 from the control circuit 122, and detects that the potential level of the output node Nn1 is equal to or higher than a predetermined potential level. CLK activation signal PE
1 is activated in response to signal PE1 and receives clock signals CLK and / CLK, and receives drive clock signals PH1 and / CLK.
It includes a CLK gate circuit 410 that outputs PH1, and a charge pump circuit 414 that drives the potential level of output node Nn1 to a negative potential with a first current supply amount according to drive clock signals PH1 and / PH1.

【0174】第2の負電位駆動回路404も、制御回路
122からの検出回路活性化信号DE2に応じて活性化
され、出力ノードNn2の電位レベルが、第2の所定の
電位レベルよりも高い場合には、CLK活性化信号PE
2を活性状態とする高電圧レベル検出回路408と、信
号PE2に応じて活性化され、クロック信号CLKおよ
び/CLKを受けて、駆動クロック信号PH2および/
PH2を出力するCLKゲート回路412と、信号PH
2および/PH2に応じて駆動され、第2の所定の供給
電流量で、出力ノードNn2の電位レベルを駆動する第
2のチャージポンプ回路416を含む。
Second negative potential drive circuit 404 is also activated in response to detection circuit activation signal DE2 from control circuit 122, and the potential level of output node Nn2 is higher than a second predetermined potential level. Includes the CLK activation signal PE
2 is activated in response to signal PE2, receives clock signals CLK and / CLK, and receives drive clock signals PH2 and / CLK.
A CLK gate circuit 412 that outputs PH2;
2 and a second charge pump circuit 416 driven according to / PH2 and driving the potential level of output node Nn2 with a second predetermined supply current amount.

【0175】負の高電圧レベル検出回路からは、信号P
E2の反転信号である/PE2が出力され、高電圧スイ
ッチ回路418は、検出回路活性化信号DE2の反転信
号である信号/DE2と信号/PE2とに制御されて、
導通状態または遮断状態に切換わる。
From the negative high voltage level detection circuit, the signal P
The inverted signal / PE2 of E2 is output, and the high voltage switch circuit 418 is controlled by the signal / DE2 and the signal / PE2 which are inverted signals of the detection circuit activation signal DE2,
The state is switched to the conduction state or the interruption state.

【0176】図12は、図11に示した負の高電圧レベ
ル検出回路406の構成を示す回路図であり、図3と対
比される図である。
FIG. 12 is a circuit diagram showing a configuration of negative high voltage level detection circuit 406 shown in FIG. 11, and is a diagram to be compared with FIG.

【0177】高電圧レベル検出回路408の構成も、入
力する信号、出力する信号および基準電位のレベル値が
異なるのみで、その基本的な構成は図12に示した高電
圧レベル検出回路406の構成と同様である。
The configuration of high voltage level detection circuit 408 is also different only in the level of the input signal, output signal and reference potential, and the basic configuration is the same as that of high voltage level detection circuit 406 shown in FIG. Is the same as

【0178】また、図12に示した高電圧レベル検出回
路406の構成が、図3に示した高電圧レベル検出回路
206の構成と異なる点は、以下の2点である。
The configuration of the high voltage level detection circuit 406 shown in FIG. 12 is different from the configuration of the high voltage level detection circuit 206 shown in FIG. 3 in the following two points.

【0179】すなわち、まず第1には、差動増幅回路4
062の入力信号であるVmonを出力するノードn1
は、電源電位Vccと電位Vnn1との間に直列に接続
される抵抗R1およびR2の接続ノードに対応してい
る。
That is, first, the differential amplifier circuit 4
Node n1 that outputs Vmon which is an input signal of 062
Corresponds to a connection node between resistors R1 and R2 connected in series between power supply potential Vcc and potential Vnn1.

【0180】第2には、差動増幅回路4062に入力す
る電位Vmonと第1の基準電位Vref1に対して、
差動増幅回路4062の出力ノードN2の電位レベルが
以下のように駆動される点である。
Second, with respect to the potential Vmon input to the differential amplifier circuit 4062 and the first reference potential Vref1,
The point is that the potential level of the output node N2 of the differential amplifier circuit 4062 is driven as follows.

【0181】すなわち、電位レベルVmonが電位Vr
ef1よりも高い場合、ノードN1の電位レベルは
“H”レベルに駆動される。一方、電位Vmonの電位
レベルが、電位Vref1よりも低い場合は、ノードN
2の電位レベルは“L”レベルに駆動される。
That is, the potential level Vmon changes to the potential Vr
When it is higher than ef1, the potential level of node N1 is driven to "H" level. On the other hand, when the potential level of potential Vmon is lower than potential Vref1, node N
2 is driven to the “L” level.

【0182】したがって、電位Vmonが電位Vref
1よりも高い場合は、信号PE1が“H”レベルに、信
号/PE1が“L”レベルとなる。
Therefore, the potential Vmon changes to the potential Vref.
If it is higher than 1, the signal PE1 goes high and the signal / PE1 goes low.

【0183】一方、電位Vmonの電位レベルが、電位
Vref1よりも低い場合は、信号PE1は“L”レベ
ルに、信号/PE1は“H”レベルとなる。
On the other hand, when the potential level of potential Vmon is lower than potential Vref1, signal PE1 is at "L" level and signal / PE1 is at "H" level.

【0184】その他の点は、図3に示した高電圧レベル
検出回路206の構成と同一であるので、同一部分には
同一符号を付して説明は繰返さない。
Since the other points are the same as those of high voltage level detecting circuit 206 shown in FIG. 3, the same portions are denoted by the same reference characters and description thereof will not be repeated.

【0185】図13は、図11に示した高電圧スイッチ
回路418の構成を示す回路図であり、図4と対比され
る図である。
FIG. 13 is a circuit diagram showing a configuration of high voltage switch circuit 418 shown in FIG. 11, and is a diagram compared with FIG.

【0186】図13に示した高電圧スイッチ回路418
の構成が、図4の高電圧スイッチ回路218の構成と異
なる点は、以下のとおりである。
High voltage switch circuit 418 shown in FIG.
Is different from the configuration of the high-voltage switch circuit 218 in FIG. 4 in the following point.

【0187】まず第1に、高電圧スイッチ回路418
は、フリップフロップ回路2182から出力される信号
を受けて反転して出力するインバータ2184の出力ノ
ードと、レベルシフト回路4186との間に、インバー
タ2184の出力側に、接地電位以下の電位レベルが伝
達するのを防止するためのpチャネルMOSトランジス
タ4190を含む構成となっている点である。
First, the high voltage switch circuit 418
A potential level lower than the ground potential is transmitted to the output side of inverter 2184 between an output node of inverter 2184, which receives and inverts and outputs a signal output from flip-flop circuit 2182, and a level shift circuit 4186. This is a configuration including a p-channel MOS transistor 4190 for preventing the operation.

【0188】pチャネルMOSトランジスタ4190
は、レベルシフト回路4186の入力ノードとインバー
タ2184の出力ノードとの間に接続され、ゲートは接
地電位を受け、バックゲートは、インバータ2184の
出力レベルを受ける構成となっている。
P-channel MOS transistor 4190
Is connected between the input node of the level shift circuit 4186 and the output node of the inverter 2184, the gate receives the ground potential, and the back gate receives the output level of the inverter 2184.

【0189】第2には、レベルシフト回路4186が、
インバータ2184から出力される信号に応じて、電源
電位Vccを出力する状態と、ノードNH2の電位レベル
を出力する状態とに切換わる点である。
Second, the level shift circuit 4186 includes:
Depending on the signal output from the inverter 2184, and a state for outputting a power supply potential Vcc, it is that switches to a state of outputting the potential level of the node N H2.

【0190】第3には、ノードNH1とノードNH2との接
続を開閉するのは、nチャネルMOSトランジスタ41
88となっている点である。
Third, the connection between the node N H1 and the node N H2 is switched by the n-channel MOS transistor 41.
88.

【0191】nチャネルMOSトランジスタ4188
は、ノードNH1とノードNH2との間に接続され、ゲート
は、レベルシフト回路4186の出力を受け、バックゲ
ートは、ノードNH2の電位レベルを受ける構成となって
いる。
N channel MOS transistor 4188
Is connected between the nodes N H1 and N H2 , the gate receives the output of the level shift circuit 4186, and the back gate receives the potential level of the node N H2 .

【0192】すなわち、高電圧スイッチ回路418は、
信号TE2が“L”レベルであって、信号/DE2が
“H”レベル、信号/PE2が“L”レベルである場合
は、ノードNH1とノードNH2との接続を導通状態とす
る。
That is, the high voltage switch circuit 418
When the signal TE2 is at the "L" level, the signal / DE2 is at the "H" level, and the signal / PE2 is at the "L" level, the connection between the nodes N H1 and N H2 is made conductive.

【0193】この状態は、信号/PE2が“L”レベル
のままで、信号/DE2が“L”レベル(信号DE2は
“H”レベル)となった後も維持される。
This state is maintained even after signal / PE2 is at "L" level and signal / DE2 is at "L" level (signal DE2 is at "H" level).

【0194】信号/DE2が“L”レベル(信号DE2
は“H”レベル)であって、信号/PE2が“H”レベ
ルとなることに応じて、トランジスタ4188は遮断状
態となる。
When signal / DE2 is at "L" level (signal DE2
Is at "H" level), and the transistor 4188 is turned off in response to the signal / PE2 attaining "H" level.

【0195】図14は、図11に示した負電圧発生回路
400の構成要素のうち、第1のチャージポンプ回路4
14の構成を示す図であり、図19と対比される図であ
る。
FIG. 14 shows the first charge pump circuit 4 of the components of the negative voltage generation circuit 400 shown in FIG.
FIG. 20 is a diagram showing a configuration of No. 14 and is a diagram to be compared with FIG. 19.

【0196】図19の構成と異なる点は、トランジスタ
Q1のゲートおよびソースが共に、接地電位を受ける構
成となつている点である。
The difference from the structure of FIG. 19 is that both the gate and the source of transistor Q1 receive the ground potential.

【0197】その他の点は、図19に示したチャージポ
ンプ回路2000の構成と同様である。
The other points are the same as the configuration of charge pump circuit 2000 shown in FIG.

【0198】図15は、図11に示した負電圧発生回路
400の構成要素のうち、第2のチャージポンプ回路4
16の構成を示す回路図である。
FIG. 15 shows the second charge pump circuit 4 of the components of the negative voltage generation circuit 400 shown in FIG.
FIG. 16 is a circuit diagram showing a configuration of No. 16;

【0199】図14に示した第1のチャージポンプ回路
414の構成と異なる点は、ダイオード接続された互い
に直列に接続するトランジスタの段数が、第1のチャー
ジポンプ回路414においては7段構成であるのに対
し、第2のチャージポンプ回路416においては、3段
構成となっている点である。
The difference from the structure of the first charge pump circuit 414 shown in FIG. 14 is that the number of stages of diode-connected transistors connected in series to each other is seven in the first charge pump circuit 414. On the other hand, the second charge pump circuit 416 has a three-stage configuration.

【0200】このため、図14に示したチャージポンプ
回路においてはカップリングトランジスタがC1〜C6
の6個存在するのに対し、図15に示した第2のチャー
ジポンプ回路416においては、C1′およびC2′の
2個が存在するのみである。このため、式(2)によれ
ば、第1のチャージポンプ回路414に比べて、第2の
チャージポンプ回路416の供給電流量は小さな値を有
することになる。
Therefore, in the charge pump circuit shown in FIG. 14, coupling transistors C1 to C6
Whereas, in the second charge pump circuit 416 shown in FIG. 15, only two of C1 'and C2' are present. Therefore, according to Expression (2), the amount of current supplied to the second charge pump circuit 416 has a smaller value than that of the first charge pump circuit 414.

【0201】図16は、図11に示した負電圧発生回路
400の動作を説明するためのタイミングチャートであ
る。
FIG. 16 is a timing chart for explaining the operation of negative voltage generating circuit 400 shown in FIG.

【0202】まず時刻t0において、制御回路122か
ら出力される検出回路活性化信号DE1およびDE2は
共に“L”レベルであるものとする。この場合、高電圧
レベル検出回路406および408からそれぞれ出力さ
れるCLK活性化信号PE1およびPE2は、共に
“H”レベルである。
First, at time t0, detection circuit activation signals DE1 and DE2 output from control circuit 122 are both at "L" level. In this case, both CLK activation signals PE1 and PE2 output from high voltage level detection circuits 406 and 408 are at "H" level.

【0203】図13において説明したとおり、このよう
な信号レベルにおいては、高電圧スイッチ回路418に
おけるnチャネルMOSトランジスタ4188は導通状
態となっている。
As described with reference to FIG. 13, at such a signal level, n-channel MOS transistor 4188 in high voltage switch circuit 418 is conductive.

【0204】続いて、時刻t1において、信号DE1お
よび信号DE2が共に活性状態(“H”レベル)へと変
化する。
Subsequently, at time t1, both signal DE1 and signal DE2 change to the active state ("H" level).

【0205】第1のチャージポンプ回路414および第
2のチャージポンプ回路416は、CLKゲート回路4
10および412からそれぞれ与えられる駆動クロック
信号PH1/PH1ならびにPH2/PH2に応じて、
対応する出力ノードNn1およびNn2の電位レベルを
上昇させる。ただし、高電圧スイッチ回路418は導通
状態となっているので、出力のとNn1および出力ノー
ドNn2の電位レベルは等しく保たれていることにな
る。
The first charge pump circuit 414 and the second charge pump circuit 416
10 and 412, respectively, according to drive clock signals PH1 / PH1 and PH2 / PH2,
The potential levels of corresponding output nodes Nn1 and Nn2 are raised. However, since high voltage switch circuit 418 is conductive, the potential levels of the output, Nn1 and output node Nn2 are kept equal.

【0206】言換えると、この段階では、供給電流量の
より大きな第1のチャージポンプ回路414が、より支
配的に出力ノードNn1および出力ノードNn2の電位
レベルを駆動していることになる。
In other words, at this stage, first charge pump circuit 414 having a larger supply current amount drives the potential levels of output nodes Nn1 and Nn2 more dominantly.

【0207】時刻t3において、出力ノードNn1の電
位レベル(すなわち、出力ノードNn2の電位レベル)
が、所定の電位レベルに到達したことを、高電圧レベル
検出回路408が検出すると、信号/PE2が“H”レ
ベルへと変化する。
At time t3, the potential level of output node Nn1 (that is, the potential level of output node Nn2)
However, when the high voltage level detection circuit 408 detects that the signal has reached the predetermined potential level, the signal / PE2 changes to the “H” level.

【0208】これに応じて、高電圧スイッチ回路418
中のフリップフロップ回路2182から出力される信号
を受けるインバータ2184の出力信号の信号TGXは
“H”レベルへと変化する。
In response, high voltage switch circuit 418
Signal TGX of the output signal of inverter 2184 receiving the signal output from middle flip-flop circuit 2182 changes to “H” level.

【0209】信号TGXに制御されて、高電圧スイッチ
回路418は遮断状態となる。したがって、時刻t3以
降は、出力ノードNn1の電位レベルと、出力ノードN
n2の電位レベルは、それぞれ第1の負電位駆動回路4
02および第2の負電位駆動回路404とにより独立に
制御されることになる。
Under the control of signal TGX, high voltage switch circuit 418 is cut off. Therefore, after time t3, the potential level of output node Nn1 and output node Nn
The potential level of n2 is the first negative potential drive circuit 4
02 and the second negative potential drive circuit 404 are controlled independently.

【0210】つまり、第2の負電位駆動回路404の出
力ノードNn2から出力される電位Vnn2の電位レベ
ルは、既に時刻t3において所定の電位レベルに到達し
ているため、以後は、高電圧レベル検出回路408が、
この電位レベルVnn2が所定の上限電位レベルVR2
下であるか否かに応じて、CLKゲート回路412を制
御することになる。
That is, since the potential level of potential Vnn2 output from output node Nn2 of second negative potential drive circuit 404 has already reached the predetermined potential level at time t3, high voltage level detection is performed thereafter. The circuit 408 is
The potential level Vnn2 in response to or less than a predetermined upper limit voltage level V R2, will control the CLK gate circuit 412.

【0211】一般には、ノードNn2の電位レベルは、
微少なリーク電流のためにチャージポンプ回路416が
不活性化した後は、徐々に上昇する。
Generally, the potential level of node Nn2 is
After the charge pump circuit 416 is inactivated due to a minute leakage current, the voltage gradually rises.

【0212】すなわち、たとえば時刻t4において、電
位Vnn2が、所定の上限電位レベルVR2よりも上昇し
たと高電圧レベル検出回路408が検知した場合、CL
K活性化信号PE2は”L”レベルから”H”へと変化
し、いいかえると、高電圧レベル検出回路408は、C
LK活性化信号PE2を活性状態として、CLKゲート
回路412から第2のチャージポンプ回路416に対し
て駆動クロック信号PH2および/PH2を出力させ
る。
[0212] That is, for example, at time t4, when the potential Vnn2 is, that rises above a predetermined upper limit voltage level V R2 high voltage level detecting circuit 408 detects, CL
The K activation signal PE2 changes from “L” level to “H”. In other words, the high voltage level detection circuit 408
The LK activation signal PE2 is activated, and the drive clock signals PH2 and / PH2 are output from the CLK gate circuit 412 to the second charge pump circuit 416.

【0213】これにより、再び電位Vnn2は下降を開
始し、時刻t5において、所定の電位レベル以下に下降
したことを、高電圧レベル検出回路408が検知した場
合、信号PE2は不活性状態となって、第2のチャージ
ポンプ回路416に対する駆動クロック信号の供給が停
止される。
As a result, the potential Vnn2 starts falling again. At time t5, when the high voltage level detection circuit 408 detects that the potential has dropped below the predetermined potential level, the signal PE2 becomes inactive. The supply of the drive clock signal to the second charge pump circuit 416 is stopped.

【0214】以後同様にして、電位Vnn2が所定の電
位レベルを維持するように、第2の負電位駆動回路20
4が制御されることになる。
Thereafter, similarly, the second negative potential driving circuit 20 is set so that potential Vnn2 maintains a predetermined potential level.
4 will be controlled.

【0215】一方で、第1の負電位駆動回路202の出
力ノードNn1の電位レベルVnn1は、時刻t3の段
階では、所定の電位レベルに到達していないため、高電
圧レベル検出回路406から出力されるCLK活性化信
号PE1は時刻t3以後も活性状態を維持する。時刻t
6において、電位Vnn1が所定の電位レベルに達した
と高電圧レベル検出回路406が検知すると、CLK活
性化信号PE1を不活性化する。
On the other hand, the potential level Vnn1 of the output node Nn1 of the first negative potential drive circuit 202 has not reached the predetermined potential level at the stage of time t3, and is thus output from the high voltage level detection circuit 406. CLK activation signal PE1 maintains an active state after time t3. Time t
In 6, when the high voltage level detection circuit 406 detects that the potential Vnn1 has reached a predetermined potential level, it deactivates the CLK activation signal PE1.

【0216】これに応じて、第1のチャージポンプ回路
414の動作が停止する。電位Vnn1のレベルは、第
1のチャージポンプ回路414が停止したことにより徐
々に上昇し始め、時刻t7において、高電圧レベル検出
回路406が、電位Vnn1が所定の上限レベルVR1
上になったと検知すると、CLK活性化信号PE1が活
性状態になる。
In response, the operation of first charge pump circuit 414 stops. Level potential Vnn1 is detected gradually begins to rise by the first charge pump circuit 414 is stopped, at time t7, the high voltage level detecting circuit 406, the potential Vnn1 exceeds a predetermined upper limit level V R1 Then, the CLK activation signal PE1 is activated.

【0217】これに応じて、再び第1のチャージポンプ
回路414が動作し、電位Vnn1が所定の電位レベル
以下となるまで低下する。以後は、同様にして、高電圧
レベル検出回路406に制御されて、第1の負電位駆動
回路402から出力される電位Vnn1のレベルが所定
の値に維持される。
In response, first charge pump circuit 414 operates again, and lowers potential Vnn1 until it falls below a predetermined potential level. Thereafter, similarly, the level of the potential Vnn1 output from the first negative potential drive circuit 402 is maintained at a predetermined value under the control of the high voltage level detection circuit 406.

【0218】実施の形態3の高電圧発生回路において
は、以上のような動作を行なうので、第2のチャージポ
ンプ回路416の供給電流量が小さい場合、すなわち言
換えると第2のチャージポンプ回路416の回路面積の
小さい場合であっても、第2の負電位駆動回路404か
ら出力される電位レベルVnn2のたち下がりを、第1
の負電位駆動回路402の立ち下がり速度と同一にする
ことが可能である。
In the high voltage generating circuit according to the third embodiment, the above operation is performed. Therefore, when the amount of current supplied to second charge pump circuit 416 is small, in other words, second charge pump circuit 416 Of the potential level Vnn2 output from the second negative potential drive circuit 404,
Can be made equal to the falling speed of the negative potential driving circuit 402.

【0219】第2のチャージポンプ回路416は、電位
Vnn2のレベルを所定の電位レベルに保持するだけの
電流供給量を有していればよいので、負電圧発生回路4
00が、第1の高電圧出力Vnn1および第2の高電圧
出力Vnn2を出力する場合でも、それぞれの電位Vn
n1およびVnn2を全く独立の負電位駆動回路により
生成する場合に比べて、回路面積の増大を抑制すること
が可能である。
Second charge pump circuit 416 only needs to have a current supply amount for maintaining the level of potential Vnn2 at a predetermined potential level.
00 outputs the first high voltage output Vnn1 and the second high voltage output Vnn2,
Compared to the case where n1 and Vnn2 are generated by completely independent negative potential drive circuits, it is possible to suppress an increase in circuit area.

【0220】以上の説明では、負電圧発生回路400か
ら出力される高電圧が2種類の場合について説明した
が、本発明はこのような場合に限定されることなく、さ
らにより多くの高電圧を出力する場合に適用することも
可能である。
In the above description, a case has been described where there are two types of high voltages output from negative voltage generating circuit 400. However, the present invention is not limited to such a case, and even more high voltages can be output. It is also possible to apply when outputting.

【0221】[実施の形態4]図17は、本発明の実施
の形態4の負電圧発生回路500の構成を示す概略ブロ
ック図である。
[Fourth Embodiment] FIG. 17 is a schematic block diagram showing a configuration of a negative voltage generating circuit 500 according to a fourth embodiment of the present invention.

【0222】図11に示した実施の形態3の負電圧発生
回路の構成と異なる点は、以下のとおりである。
The difference from the configuration of the negative voltage generating circuit of the third embodiment shown in FIG. 11 is as follows.

【0223】すなわち、実施の形態4の負電圧発生回路
においては、第2の負電位駆動回路404中のCLKゲ
ート回路512が、高電圧レベル検出回路408からの
CLK活性化信号PE2および高電圧スイッチ418か
らの信号TGXの双方に制御されて動作する構成となっ
ている点である。
That is, in the negative voltage generating circuit according to the fourth embodiment, CLK gate circuit 512 in second negative potential driving circuit 404 is connected to CLK activating signal PE2 from high voltage level detecting circuit 408 and high voltage switch. 418 is controlled by both signals TGX from 418.

【0224】すなわち、図8に示した、実施の形態2の
CLKゲート回路312の構成と同様にして、CLKゲ
ート回路512は、信号TGXおよび信号PE2が共に
活性状態(“H”レベル)である期間内のみクロック発
生回路220から受けたクロックCLKおよび/CLK
を、駆動クロック信号PH2および/PH2として出力
する。
That is, similarly to the configuration of CLK gate circuit 312 of the second embodiment shown in FIG. 8, CLK gate circuit 512 has both signal TGX and signal PE2 in an active state ("H" level). Clocks CLK and / CLK received from clock generation circuit 220 only during the period
Are output as drive clock signals PH2 and / PH2.

【0225】したがって、負電圧発生回路500の動作
の初期段階においては、高電圧スイッチ418は導通状
態となっており、かつCLKゲート回路512は、活性
な駆動クロック信号PH2および/PH2を出力しない
状態となっている。
Therefore, in the initial stage of operation of negative voltage generating circuit 500, high voltage switch 418 is conductive and CLK gate circuit 512 does not output active drive clock signals PH2 and / PH2. It has become.

【0226】したがって、出力ノードNn2の電位レベ
ルが所望の電圧になるまでは、第2のチャージポンプ回
路416は動作しない構成となっている。
Therefore, second charge pump circuit 416 does not operate until the potential level of output node Nn2 attains a desired voltage.

【0227】その他の点は、図11に示した第3の実施
例の負電圧発生回路400の構成と同様であるので、同
一部分には同一符号を付してその説明は繰返さない。図
18は、図17に示した負電圧発生回路500の動作を
説明するためのタイミングチャートである。
Since the other points are the same as those of the configuration of negative voltage generating circuit 400 of the third embodiment shown in FIG. 11, the same portions are denoted by the same reference characters and description thereof will not be repeated. FIG. 18 is a timing chart for explaining the operation of negative voltage generation circuit 500 shown in FIG.

【0228】時刻t0において、制御回路122から出
力される検出回路活性化信号DE1およびDE2は、共
に不活性状態であり、時刻t1において、信号DE1お
よびDE2が活性状態(“H”レベル)へと変化する。
一方、時刻t0の時点において、信号PE2は活性状態
であって、信号/PE2は“L”レベルである。信号/
DE2は“H”レベルであるため、図17に示した高電
圧スイッチ418は導通状態である。
At time t0, detection circuit activation signals DE1 and DE2 output from control circuit 122 are both inactive, and at time t1, signals DE1 and DE2 change to the active state ("H" level). Change.
On the other hand, at time t0, signal PE2 is in the active state, and signal / PE2 is at "L" level. signal/
Since DE2 is at the “H” level, the high-voltage switch 418 shown in FIG. 17 is conductive.

【0229】時刻t1において、信号DE2が“H”レ
ベルに、すなわち、信号/DE2が“L”レベルとなっ
た場合でも、高電圧スイッチ418は導通状態を維持す
る。
At time t1, even when signal DE2 attains "H" level, that is, signal / DE2 attains "L" level, high voltage switch 418 maintains a conductive state.

【0230】すなわち、高電圧スイッチ418から出力
される信号TGXは“L”レベルである。このため、C
LKゲート回路412からは活性な駆動クロック信号P
H2および/PH2は出力されない。このため、第2の
チャージポンプ回路416は動作を停止したままであ
る。
That is, signal TGX output from high voltage switch 418 is at "L" level. Therefore, C
The LK gate circuit 412 outputs an active drive clock signal P
H2 and / PH2 are not output. For this reason, the operation of the second charge pump circuit 416 remains stopped.

【0231】したがって、時刻t1〜t3の期間におい
ては、第1のチャージポンプ回路414のみが動作し、
第1の負電位駆動回路402の出力ノードNH1および第
2の負電位駆動回路404の出力ノードNn2の電位レ
ベルは、第1のチャージポンプ回路414のみによって
駆動される。
Therefore, during the period from time t1 to time t3, only first charge pump circuit 414 operates,
The potential levels of the output node N H1 of the first negative potential drive circuit 402 and the output node Nn2 of the second negative potential drive circuit 404 are driven only by the first charge pump circuit 414.

【0232】時刻t3において、ノードNn2の電位レ
ベルが、所定の電位レベルになると、高電圧レベル検出
回路408は、信号PE2の電位レベルを“L”レベル
へと変化させる。これに応じて、高電圧スイッチ回路4
18に入力する信号/PE2は“H”レベルへと変化
し、高電圧スイッチ回路418は遮断状態となる。さら
に、信号/PE2の“H”レベルへの変化に応じて、信
号TGXも“H”レベルへと変化する。
At time t3, when the potential level of node Nn2 attains a predetermined potential level, high voltage level detection circuit 408 changes the potential level of signal PE2 to "L" level. In response, the high-voltage switch circuit 4
The signal / PE2 input to 18 changes to "H" level, and the high voltage switch circuit 418 is cut off. Further, signal TGX also changes to "H" level in response to change of signal / PE2 to "H" level.

【0233】つまり、CLKゲート回路512において
は、信号TGXは“H”レベルであるものの、信号PE
2が“L”レベルであるため、依然として第2のチャー
ジポンプ回路416には、駆動クロック信号PH2およ
び/PH2は供給されない。
That is, in the CLK gate circuit 512, although the signal TGX is at the “H” level, the signal PE
Since 2 is at the “L” level, drive clock signals PH2 and / PH2 are not yet supplied to second charge pump circuit 416.

【0234】時刻t4において、高電圧レベル検出回路
408が、ノードNn2の電位レベル、すなわち電位V
nn2の電位レベルが所定の上限電位レベルVR2以上で
あることを検知すると、高電圧レベル検出回路408
は、信号PE2を活性状態へと変化させる。この時点
で、信号PE2および信号TGXが共に“H”レベルと
なるので、CLKゲート回路512から第2のチャージ
ポンプ回路416に対して、活性な駆動クロック信号P
H2および/PH2が供給される。
At time t4, high voltage level detection circuit 408 detects the potential level of node Nn2, that is, potential V
When nn2 potential level detects that the predetermined upper limit potential level V R2 above, the high voltage level detecting circuit 408
Changes the signal PE2 to the active state. At this point, both the signal PE2 and the signal TGX become “H” level, so that the CLK gate circuit 512 sends the active drive clock signal P to the second charge pump circuit 416.
H2 and / PH2 are supplied.

【0235】これにより、電位Vnn2は、第2のチャ
ージポンプ回路416により、独立に駆動されて、再び
所定の電位レベルに達するまで降圧される。時刻t5に
おいて、高電圧レベル検出回路408が電位Vnn2が
所定の電位レベル以下になったことを検知すると、信号
PE2は不活性化し、これに応じて、第2のチャージポ
ンプ回路416への駆動クロック信号の供給も停止され
る。
As a result, the potential Vnn2 is independently driven by the second charge pump circuit 416, and is lowered until it reaches a predetermined potential level again. At time t5, when high voltage level detection circuit 408 detects that potential Vnn2 has become equal to or lower than the predetermined potential level, signal PE2 is inactivated, and accordingly, the driving clock to second charge pump circuit 416 is driven. The supply of the signal is also stopped.

【0236】以後は、同様にして、第2の負電位駆動回
路404により独立に、電位Vnn2が制御される。
Thereafter, similarly, the potential Vnn2 is independently controlled by the second negative potential drive circuit 404.

【0237】一方、時刻t3において、高電圧スイッチ
回路418が遮断状態となった時点では、第1の負電位
駆動回路402から出力される電位Vnn1は、電位V
nn1に対して予め定められた所定の電位レベルには到
達していない。したがって、高電圧レベル検出回路40
6は、信号PE1を活性状態(“H”レベル)に維持す
る。このため、第1のチャージポンプ回路414が、電
位Vnn1を独立に制御してさらに降圧動作を継続す
る。
On the other hand, at time t3, when the high voltage switch circuit 418 is turned off, the potential Vnn1 output from the first negative potential drive circuit 402 becomes the potential Vnn.
nn1 has not reached a predetermined potential level. Therefore, the high voltage level detection circuit 40
6 maintains the signal PE1 in an active state ("H" level). For this reason, the first charge pump circuit 414 independently controls the potential Vnn1, and further continues the step-down operation.

【0238】時刻t6において、電位Vnn1が、所定
の電位レベルに到達したことを高電圧レベル検出回路4
06が検知すると、信号PE1は不活性状態へと変化す
る。
At time t6, the high voltage level detection circuit 4 detects that the potential Vnn1 has reached the predetermined potential level.
When 06 is detected, the signal PE1 changes to the inactive state.

【0239】これに応じて、第1のチャージポンプ回路
414への駆動クロック信号PH1および/PH1の供
給が停止される。時刻t7において、再び電位Vnn1
の電位レベルが、第1の所定の上限電位レベルVR1より
も上昇したことを、高電圧レベル検出回路406が検知
すると、再び信号PE1が活性状態となり、第1のチャ
ージポンプ回路414により電位Vnn1の降圧動作が
行なわれる。
In response, supply of drive clock signals PH1 and / PH1 to first charge pump circuit 414 is stopped. At time t7, the potential Vnn1 again
When the high voltage level detection circuit 406 detects that the potential level has risen above the first predetermined upper limit potential level V R1 , the signal PE1 is activated again, and the potential Vnn1 is applied by the first charge pump circuit 414. Is performed.

【0240】以上説明したとおり、実施の形態4の負電
位駆動回路500においては、電位Vnn1が供給され
る出力ノードNn1および電位Vnn2が供給される出
力ノードNn2の電位レベルは、降圧動作の初期段階に
おいては、共に第1のチャージポンプ回路414により
駆動される。
As described above, in negative potential drive circuit 500 of the fourth embodiment, the potential levels of output node Nn1 supplied with potential Vnn1 and output node Nn2 supplied with potential Vnn2 are set at the initial stage of the step-down operation. Are driven by the first charge pump circuit 414.

【0241】第2のチャージポンプ回路416は、第2
の所定の電位レベルまで降圧された電位Vnn2を、こ
の第2の所定電位レベルに維持する動作のみを行なえば
よい。このため、第2のチャージポンプ回路の供給電流
量を第1のチャージポンプ回路の供給電流量に比べて小
さく抑えた場合でも、言換えると、第2のチャージポン
プ回路416の回路面積を、第1のチャージポンプ回路
414の回路面積に比べて小さく抑えた場合でも、降圧
動作の初期段階においては、ノードNn2の電位レベル
は、ノードNn1の電位レベルと同様に立上げることが
可能となる。
[0241] The second charge pump circuit 416
Only the operation of maintaining the potential Vnn2 lowered to the predetermined potential level at the second predetermined potential level may be performed. For this reason, even when the supply current amount of the second charge pump circuit is suppressed smaller than the supply current amount of the first charge pump circuit, in other words, the circuit area of the second charge pump circuit 416 is reduced. Even when the charge pump circuit 414 is kept small compared to the circuit area of the single charge pump circuit 414, the potential level of the node Nn2 can rise in the initial stage of the step-down operation, similarly to the potential level of the node Nn1.

【0242】[0242]

【発明の効果】請求項1記載の内部電位発生回路におい
ては、第1および第2の出力ノードの電位が第2の所定
電位となるまでは、第1および第2のチャージポンプ手
段の出力ノードの電位レベルは共通に保たれる。このた
め、第1のチャージポンプ手段および第2のチャージポ
ンプ手段の電流供給量が異なる場合でも、第1の出力ノ
ードと第2の出力ノードの電位レベルの立上がる速度を
共通とすることができる。このため、内部電位発生回路
が、第1の所定の内部電位および第2の所定の内部電位
を発生する必要がある場合でも、回路面積の増大を抑制
することが可能である。
In the internal potential generating circuit according to the first aspect, the output nodes of the first and second charge pump means are kept until the potentials of the first and second output nodes reach the second predetermined potential. Are maintained in common. Therefore, even when the current supply amounts of the first charge pump unit and the second charge pump unit are different, the speed at which the potential levels of the first output node and the second output node rise can be made common. . Therefore, even when the internal potential generation circuit needs to generate the first predetermined internal potential and the second predetermined internal potential, it is possible to suppress an increase in circuit area.

【0243】請求項2記載の内部電位発生回路は、第2
の出力ノードの電位が第2の所定電位となって、スイッ
チ手段が遮断状態となった後は、第1の出力ノードと第
2の出力ノードの電位レベルは、それぞれ独立に制御さ
れるため、第2のチャージポンプ手段が出力する第1の
電流供給量は、第2の所定の内部電位を維持する大きさ
で十分である。このため、第2のチャージポンプ手段の
回路面積を縮小することが可能で、内部電位発生回路の
回路面積自体の増大を抑制することが可能である。
The internal potential generating circuit according to the second aspect has a second
After the potential of the output node attains the second predetermined potential and the switch is turned off, the potential levels of the first output node and the second output node are controlled independently of each other. The first current supply amount output from the second charge pump means is sufficient to maintain the second predetermined internal potential. For this reason, the circuit area of the second charge pump means can be reduced, and the increase in the circuit area of the internal potential generating circuit itself can be suppressed.

【0244】請求項3記載の内部電位発生回路は、第2
の出力ノードの電位が第2の所定電位となって、スイッ
チ手段が遮断状態となった後は、第1の出力ノードと第
2の出力ノードの電位レベルは、それぞれ独立に制御さ
れるため、第2のチャージポンプ手段が出力する第1の
電流供給量は、第2の所定の内部電位を維持する大きさ
で十分である。このため、第2のチャージポンプ手段の
回路面積を縮小することが可能で、内部電位発生回路の
回路面積自体の増大を抑制することが可能である。
The internal potential generating circuit according to claim 3 is characterized in that:
After the potential of the output node becomes the second predetermined potential and the switch means is turned off, the potential levels of the first output node and the second output node are controlled independently of each other. The first current supply amount output from the second charge pump means is sufficient to maintain the second predetermined internal potential. For this reason, the circuit area of the second charge pump means can be reduced, and the increase in the circuit area of the internal potential generating circuit itself can be suppressed.

【0245】請求項4記載の内部電位発生回路は、内部
電位発生回路が第1の所定の内部電位および第2の所定
の内部電位を出力し始める初期段階においては、第1お
よび第2のチャージポンプ手段の双方が動作するため、
第1および第2の出力ノードの電位レベルが、それぞれ
所定の電位レベルとなるまでの時間を短縮することが可
能である。
The internal potential generating circuit according to claim 4 is characterized in that the internal potential generating circuit starts outputting the first predetermined internal potential and the second predetermined internal potential in the initial stage, and Because both pump means operate
It is possible to reduce the time required for the potential levels of the first and second output nodes to reach the predetermined potential levels, respectively.

【0246】請求項5記載の内部電位発生回路は、内部
電位発生回路が第1の所定の内部電位および第2の所定
の内部電位を出力し始める初期段階においては、第1お
よび第2のチャージポンプ手段の双方が動作するため、
第1および第2の出力ノードの電位レベルが、それぞれ
所定の電位レベルとなるまでの時間を短縮することが可
能である。
According to a fifth aspect of the present invention, in the initial stage in which the internal potential generating circuit starts outputting the first predetermined internal potential and the second predetermined internal potential, the first and second charge circuits are provided. Because both pump means operate
It is possible to reduce the time required for the potential levels of the first and second output nodes to reach the predetermined potential levels, respectively.

【0247】請求項6記載の内部電位発生回路は、第1
および第2の出力ノードの電位レベルが、第2の所定の
電位レベルとなるまでは、第1のチャージポンプ手段の
みが動作するため、消費電力を抑制することが可能であ
る。
The internal potential generating circuit according to claim 6 is characterized in that:
Until the potential level of the second output node reaches the second predetermined potential level, only the first charge pump means operates, so that power consumption can be suppressed.

【0248】請求項7記載の内部電位発生回路は、第1
および第2の出力ノードの電位レベルが、第2の所定の
電位レベルとなるまでは、第1のチャージポンプ手段の
みが動作するため、消費電力を抑制することが可能であ
る。
An internal potential generating circuit according to claim 7 is characterized in that:
Until the potential level of the second output node reaches the second predetermined potential level, only the first charge pump means operates, so that power consumption can be suppressed.

【0249】請求項8記載の内部電位発生回路は、第2
の出力ノードの電位が第2の所定電位となって、スイッ
チ手段が遮断状態となった後は、第1の出力ノードと第
2の出力ノードの電位レベルは、それぞれ独立に制御さ
れるため、第2のチャージポンプ手段が出力する第1の
電流供給量は、第2の所定の内部電位を維持する大きさ
で十分である。このため、第2のチャージポンプ手段の
回路面積を縮小することが可能で、内部電位発生回路の
回路面積自体の増大を抑制することが可能である。
The internal potential generating circuit according to claim 8 is characterized in that:
After the potential of the output node becomes the second predetermined potential and the switch means is turned off, the potential levels of the first output node and the second output node are controlled independently of each other. The first current supply amount output from the second charge pump means is sufficient to maintain the second predetermined internal potential. For this reason, the circuit area of the second charge pump means can be reduced, and the increase in the circuit area of the internal potential generating circuit itself can be suppressed.

【0250】請求項9記載の内部電位発生回路は、第2
の出力ノードの電位が第2の所定電位となって、スイッ
チ手段が遮断状態となった後は、第1の出力ノードと第
2の出力ノードの電位レベルは、それぞれ独立に制御さ
れるため、第2のチャージポンプ手段が出力する第1の
電流供給量は、第2の所定の内部電位を維持する大きさ
で十分である。このため、第2のチャージポンプ手段の
回路面積を縮小することが可能で、内部電位発生回路の
回路面積自体の増大を抑制することが可能である。
The internal potential generating circuit according to claim 9 is characterized in that
After the potential of the output node becomes the second predetermined potential and the switch means is turned off, the potential levels of the first output node and the second output node are controlled independently of each other. The first current supply amount output from the second charge pump means is sufficient to maintain the second predetermined internal potential. For this reason, the circuit area of the second charge pump means can be reduced, and the increase in the circuit area of the internal potential generating circuit itself can be suppressed.

【0251】請求項10記載の内部電位発生回路は、内
部電位発生回路が第1の所定の内部電位および第2の所
定の内部電位を出力し始める初期段階においては、第1
および第2のチャージポンプ手段の双方が動作するた
め、第1および第2の出力ノードの電位レベルが、それ
ぞれ所定の電位レベルとなるまでの時間を短縮すること
が可能である。
According to a tenth aspect of the present invention, in the initial stage where the internal potential generating circuit starts outputting the first predetermined internal potential and the second predetermined internal potential,
Since both the first and second charge pumps operate, it is possible to reduce the time required for the potential levels of the first and second output nodes to reach the predetermined potential levels, respectively.

【0252】請求項11記載の内部電位発生回路は、内
部電位発生回路が第1の所定の内部電位および第2の所
定の内部電位を出力し始める初期段階においては、第1
および第2のチャージポンプ手段の双方が動作するた
め、第1および第2の出力ノードの電位レベルが、それ
ぞれ所定の電位レベルとなるまでの時間を短縮すること
が可能である。
According to an eleventh aspect of the present invention, in the initial stage in which the internal potential generating circuit starts outputting the first predetermined internal potential and the second predetermined internal potential,
Since both the first and second charge pumps operate, it is possible to reduce the time required for the potential levels of the first and second output nodes to reach the predetermined potential levels, respectively.

【0253】請求項12記載の内部電位発生回路は、第
1および第2の出力ノードの電位レベルが、第2の所定
の電位レベルとなるまでは、第1のチャージポンプ手段
のみが動作するため、消費電力を抑制することが可能で
ある。
In the internal potential generating circuit according to the twelfth aspect, only the first charge pump means operates until the potential levels of the first and second output nodes reach the second predetermined potential level. Thus, power consumption can be reduced.

【0254】請求項13記載の内部電位発生回路は、第
1および第2の出力ノードの電位レベルが、第2の所定
の電位レベルとなるまでは、第1のチャージポンプ手段
のみが動作するため、消費電力を抑制することが可能で
ある。
In the internal potential generating circuit according to the thirteenth aspect, only the first charge pump means operates until the potential levels of the first and second output nodes reach the second predetermined potential level. Thus, power consumption can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1の不揮発性半導体記憶
装置1000の構成を示す概略ブロック図である。
FIG. 1 is a schematic block diagram illustrating a configuration of a nonvolatile semiconductor memory device 1000 according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 実施の形態1の高電圧発生回路200の構成
を示す概略ブロック図である。
FIG. 2 is a schematic block diagram illustrating a configuration of a high voltage generation circuit 200 according to the first embodiment.

【図3】 高電圧レベル検出回路206の構成を示す回
路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of a high voltage level detection circuit 206.

【図4】 高電圧スイッチ回路218の構成を示す概略
ブロック図である。
FIG. 4 is a schematic block diagram illustrating a configuration of a high-voltage switch circuit 218.

【図5】 CLKゲート回路210の構成を示す概略ブ
ロック図である。
FIG. 5 is a schematic block diagram showing a configuration of a CLK gate circuit 210.

【図6】 第2のチャージポンプ回路216の構成を示
す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a second charge pump circuit 216.

【図7】 実施の形態1の高電圧発生回路200の動作
を説明するタイミングチャートである。
FIG. 7 is a timing chart illustrating an operation of the high voltage generation circuit 200 according to the first embodiment.

【図8】 実施の形態2のCLKゲート回路312の構
成を示す概略ブロック図である。
FIG. 8 is a schematic block diagram illustrating a configuration of a CLK gate circuit 312 according to the second embodiment.

【図9】 実施の形態2の高電圧発生回路300の構成
を示す概略ブロック図である。
FIG. 9 is a schematic block diagram illustrating a configuration of a high-voltage generation circuit 300 according to a second embodiment.

【図10】 実施の形態2の高電圧発生回路300の動
作を説明するためのタイミングチャートである。
FIG. 10 is a timing chart for explaining an operation of the high voltage generation circuit 300 according to the second embodiment.

【図11】 実施の形態3の負電圧発生回路400の構
成を示す概略ブロック図である。
FIG. 11 is a schematic block diagram showing a configuration of a negative voltage generation circuit 400 according to a third embodiment.

【図12】 高電圧レベル検出回路406の構成を示す
回路図である。
FIG. 12 is a circuit diagram showing a configuration of a high voltage level detection circuit 406.

【図13】 高電圧スイッチ418の構成を示す回路図
である。
FIG. 13 is a circuit diagram showing a configuration of a high voltage switch 418.

【図14】 第1のチャージポンプ回路414の構成を
示す回路図である。
FIG. 14 is a circuit diagram showing a configuration of a first charge pump circuit 414.

【図15】 第2のチャージポンプ回路416の構成を
示す回路図である。
FIG. 15 is a circuit diagram showing a configuration of a second charge pump circuit 416.

【図16】 実施の形態3の負電圧発生回路400の動
作を説明するためのタイミングチャートである。
FIG. 16 is a timing chart illustrating an operation of negative voltage generation circuit 400 according to the third embodiment.

【図17】 実施の形態4の負電圧発生回路500の構
成を示す概略ブロック図である。
FIG. 17 is a schematic block diagram illustrating a configuration of a negative voltage generation circuit 500 according to a fourth embodiment.

【図18】 負電圧発生回路500の動作を説明するた
めのタイミングチャートである。
FIG. 18 is a timing chart for explaining an operation of the negative voltage generation circuit 500.

【図19】 従来のチャージポンプ回路2000の構成
を示す回路図である。
FIG. 19 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional charge pump circuit 2000.

【図20】 従来のチャージポンプ回路2000中のト
ランジスタの構造を示す模式断面図である。
FIG. 20 is a schematic cross-sectional view showing a structure of a transistor in a conventional charge pump circuit 2000.

【図21】 従来のチャージポンプ回路2000の等価
回路を示す回路図である。
FIG. 21 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of a conventional charge pump circuit 2000.

【図22】 駆動クロック信号PHおよび/PHの時間
変化を示すタイミングチャートである。
FIG. 22 is a timing chart showing temporal changes of drive clock signals PH and / PH.

【図23】 従来の不揮発性半導体記憶装置のメモリセ
ルトランジスタの構成および動作を説明するための模式
断面図であり、(a)は書込動作における各部分の電位
を、(b)は消去動作における各部の電位をそれぞれ示
す。
23A and 23B are schematic cross-sectional views illustrating the configuration and operation of a memory cell transistor of a conventional nonvolatile semiconductor memory device. FIG. 23A shows the potential of each part in a write operation, and FIG. Shows the potential of each part in.

【図24】 従来の不揮発性半導体記憶装置に対する書
込動作、消去動作および読出動作における各電位レベル
を示す図である。
FIG. 24 is a diagram showing potential levels in a write operation, an erase operation, and a read operation for a conventional nonvolatile semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 ベリファイ電圧発生回路、102 アドレスバ
ッファ、104 メモリセルアレイ、106 Xデコー
ダ、108 Yデコーダ、114 セレクトゲートデコ
ーダ,116,118 ソースデコーダ、120 ウェ
ル電位駆動回路、122 制御回路、124 データ入
出力バッファ、126 データドライバ、128 セン
スアンプ、130 書込回路、200,300 高電圧
発生回路、400,500 負電圧発生回路、1000
不揮発性半導体記憶装置。
100 verify voltage generating circuit, 102 address buffer, 104 memory cell array, 106 X decoder, 108 Y decoder, 114 select gate decoder, 116, 118 source decoder, 120 well potential drive circuit, 122 control circuit, 124 data input / output buffer, 126 Data driver, 128 sense amplifier, 130 writing circuit, 200, 300 high voltage generating circuit, 400, 500 negative voltage generating circuit, 1000
Non-volatile semiconductor storage device.

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 外部電源電位を受けて、第1の所定の内
部電位および前記第1の所定の内部電位よりも絶対値の
小さな第2の所定の内部電位を発生する内部電位発生回
路であって、 互いに相補なクロック信号を出力するクロック発生手段
と、 前記第1の所定の内部電位が出力されるべき第1の出力
ノードを有し、前記相補なクロック信号に応じて第1の
電流供給量で前記第1の出力ノードの電位を駆動する第
1のチャージポンプ手段と、 前記第2の所定の内部電位が出力されるべき第2の出力
ノードを有し、前記相補なクロック信号に応じて、前記
第1の電流供給量よりも小さな第2の電流供給量で前記
第2の出力ノードの電位を駆動する第2のチャージポン
プ手段と、 前記第1の出力ノードと前記第2の出力ノードとの接続
を導通状態および遮断状態のいずれかとするスイッチ手
段と、 前記第1の出力ノードの電位レベルおよび前記第2の出
力ノードの電位レベルに応じて、前記第1のチャージポ
ンプ手段および前記第2のチャージポンプ手段それぞれ
への前記相補なクロック信号の供給を制御する制御手段
とを備え、 前記制御手段は、 前記第1および前記第2の出力ノードの電位が前記第2
の所定電位となるのに応じて、前記スイッチ手段を導通
状態から遮断状態とする、内部電位発生回路。
1. An internal potential generating circuit for receiving an external power supply potential and generating a first predetermined internal potential and a second predetermined internal potential having an absolute value smaller than the first predetermined internal potential. Clock generating means for outputting mutually complementary clock signals; and a first output node to which the first predetermined internal potential is to be output, wherein a first current supply is performed in accordance with the complementary clock signals. A first charge pump means for driving the potential of the first output node by an amount, and a second output node to which the second predetermined internal potential is to be output, and the second output node is responsive to the complementary clock signal. A second charge pump means for driving the potential of the second output node with a second current supply amount smaller than the first current supply amount; the first output node and the second output Make the connection with the node conductive. Switch means for setting the first charge pump means and the second charge pump means in accordance with a potential level of the first output node and a potential level of the second output node. And control means for controlling the supply of the complementary clock signal to the first and second output nodes.
An internal potential generating circuit for switching the switch means from a conductive state to a cut-off state in response to a predetermined potential.
【請求項2】 前記第1の所定の内部電位および前記第
2の所定の内部電位は共に正の電位であって、 前記制御手段は、 前記スイッチ手段を遮断状態とした後は、前記第1の出
力ノードの電位レベルが前記第1の所定の内部電位とな
るように、前記第1のチャージポンプ手段への前記相補
なクロック信号の供給を制御し、かつ、前記第2の出力
ノードの電位レベルが前記第2の所定の内部電位となる
ように、前記第2のチャージポンプ手段への前記相補な
クロック信号の供給を制御する、請求項1記載の内部電
位発生回路。
2. The method according to claim 1, wherein the first predetermined internal potential and the second predetermined internal potential are both positive potentials. To control the supply of the complementary clock signal to the first charge pump means, so that the potential level of the output node of the second node becomes the first predetermined internal potential, and the potential of the second output node 2. The internal potential generating circuit according to claim 1, wherein the supply of said complementary clock signal to said second charge pump means is controlled so that a level becomes said second predetermined internal potential.
【請求項3】 前記第1の所定の内部電位および前記第
2の所定の内部電位は共に正の電位であって、 前記制御手段は、 前記スイッチ手段を遮断状態とした後は、前記第1の出
力ノードの電位レベルが前記第1の所定の内部電位とな
るように、前記第1のチャージポンプ手段への前記相補
なクロック信号の供給を制御する第1の内部制御手段
と、 前記スイッチ手段を遮断状態とした後は、前記第2の出
力ノードの電位レベルが前記第2の所定の内部電位とな
るように、前記第2のチャージポンプ手段への前記相補
なクロック信号の供給を制御する第2の内部制御手段と
を含む、請求項1記載の内部電位発生回路。
3. The first predetermined internal potential and the second predetermined internal potential are both positive potentials, and the control unit sets the first predetermined internal potential to the first predetermined internal potential after the switch unit is turned off. First internal control means for controlling the supply of the complementary clock signal to the first charge pump means, so that the potential level of the output node of the first node becomes the first predetermined internal potential; and the switch means After turning off the second clock signal, the supply of the complementary clock signal to the second charge pump means is controlled so that the potential level of the second output node becomes the second predetermined internal potential. 2. The internal potential generation circuit according to claim 1, further comprising a second internal control means.
【請求項4】 前記制御手段は、 前記内部電位発生回路の動作開始に応じて、前記第1の
チャージポンプ手段と前記第2のチャージポンプ手段の
双方に前記相補なクロック信号の供給を開始させる、請
求項2記載の内部電位発生回路。
4. The control means starts supply of the complementary clock signal to both the first charge pump means and the second charge pump means in response to the start of operation of the internal potential generation circuit. 3. The internal potential generating circuit according to claim 2.
【請求項5】 前記第2の内部制御手段は、 前記第2の出力ノードの電位レベルが前記第2の所定の
内部電位以上となることに応じて、内部制御信号を不活
性とし、 前記スイッチ手段は、 前記内部制御信号の不活性化に応じてセット状態とな
り、前記内部電位発生回路の動作停止に応じてリセット
状態となるラッチ手段と、 前記ラッチ手段がセット状態となることに応じて、前記
第1の出力ノードと前記第2の出力ノードとの接続を遮
断状態とする接続手段とを含む、請求項3記載の内部電
位発生回路。
5. The internal control signal according to claim 2, wherein said second internal control means inactivates an internal control signal in response to a potential level of said second output node being equal to or higher than said second predetermined internal potential. A latch unit that is set in response to the deactivation of the internal control signal and is reset in response to the stoppage of the operation of the internal potential generation circuit; and 4. The internal potential generating circuit according to claim 3, further comprising: connection means for disconnecting a connection between said first output node and said second output node.
【請求項6】 前記制御手段は、 前記内部電位発生回路の動作開始に応じて、前記第1の
チャージポンプ手段に前記相補なクロック信号の供給を
開始させ、前記スイッチ手段が遮断状態となった後に、
前記第2のチャージポンプ手段に前記相補なクロック信
号の供給を開始させる、請求項2記載の内部電位発生回
路。
6. The control means causes the first charge pump means to start supplying the complementary clock signal in response to the start of the operation of the internal potential generating circuit, and the switch means is turned off. later,
3. The internal potential generating circuit according to claim 2, wherein said second charge pump means starts supplying said complementary clock signal.
【請求項7】 前記第2の内部制御手段は、 前記第2の出力ノードの電位レベルが前記第2の所定の
内部電位以上となることに応じて、内部制御信号を不活
性とする電位レベル検出手段と、 前記第2のチャージポンプ手段への前記相補なクロック
信号の供給を制御するクロック供給制御手段とを含み、 前記スイッチ手段は、 前記内部制御信号の不活性化に応じてセット状態とな
り、前記内部電位発生回路の動作停止に応じてリセット
状態となるラッチ手段と、 前記ラッチ手段がセット状態となることに応じて、前記
第1の出力ノードと前記第2の出力ノードとの接続を遮
断状態とする接続手段とを含み、 前記クロック供給制御手段は、 前記内部制御信号が活性状態であり、かつ前記ラッチ手
段がセット状態であることに応じて、前記相補なクロッ
ク信号の供給を開始する、請求項3記載の内部電位発生
回路。
7. A potential level for inactivating an internal control signal in response to a potential level of said second output node being equal to or higher than said second predetermined internal potential. Detecting means; and clock supply control means for controlling supply of the complementary clock signal to the second charge pump means, wherein the switch means is set in response to inactivation of the internal control signal. A latch unit that is reset when the operation of the internal potential generating circuit is stopped, and a connection between the first output node and the second output node when the latch unit is set. Connection means for setting a cut-off state, wherein the clock supply control means is configured to perform the complementary operation in response to the internal control signal being in an active state and the latch means being in a set state. It starts supplying the clock signal, the internal potential generation circuit of claim 3, wherein.
【請求項8】 前記第1の所定の内部電位および前記第
2の所定の内部電位は共に負の電位であって、 前記制御手段は、 前記スイッチ手段を遮断状態とした後は、前記第1の出
力ノードの電位レベルが前記第1の所定の内部電位とな
るように、前記第1のチャージポンプ手段への前記相補
なクロック信号の供給を制御し、かつ、前記第2の出力
ノードの電位レベルが前記第2の所定の内部電位となる
ように、前記第2のチャージポンプ手段への前記相補な
クロック信号の供給を制御する、請求項1記載の内部電
位発生回路。
8. The first predetermined internal potential and the second predetermined internal potential are both negative potentials, and the control unit sets the first predetermined internal potential to the first predetermined internal potential after setting the switch unit to a cutoff state. To control the supply of the complementary clock signal to the first charge pump means, so that the potential level of the output node of the second node becomes the first predetermined internal potential, and the potential of the second output node 2. The internal potential generating circuit according to claim 1, wherein the supply of said complementary clock signal to said second charge pump means is controlled so that a level becomes said second predetermined internal potential.
【請求項9】 前記第1の所定の内部電位および前記第
2の所定の内部電位は共に負の電位であって、 前記制御手段は、 前記スイッチ手段を遮断状態とした後は、前記第1の出
力ノードの電位レベルが前記第1の所定の内部電位とな
るように、前記第1のチャージポンプ手段への前記相補
なクロック信号の供給を制御する第1の内部制御手段
と、 前記スイッチ手段を遮断状態とした後は、前記第2の出
力ノードの電位レベルが前記第2の所定の内部電位とな
るように、前記第2のチャージポンプ手段への前記相補
なクロック信号の供給を制御する第2の内部制御手段と
を含む、請求項1記載の内部電位発生回路。
9. The control circuit according to claim 1, wherein the first predetermined internal potential and the second predetermined internal potential are both negative potentials. First internal control means for controlling the supply of the complementary clock signal to the first charge pump means, so that the potential level of the output node of the first node becomes the first predetermined internal potential; and the switch means After turning off the second clock signal, the supply of the complementary clock signal to the second charge pump means is controlled so that the potential level of the second output node becomes the second predetermined internal potential. 2. The internal potential generation circuit according to claim 1, further comprising a second internal control means.
【請求項10】 前記制御手段は、 前記内部電位発生回路の動作開始に応じて、前記第1の
チャージポンプ手段と前記第2のチャージポンプ手段の
双方に前記相補なクロック信号の供給を開始させる、請
求項8記載の内部電位発生回路。
10. The control means causes both the first charge pump means and the second charge pump means to start supplying the complementary clock signal in response to the start of the operation of the internal potential generation circuit. The internal potential generating circuit according to claim 8, wherein
【請求項11】 前記第2の内部制御手段は、 前記第2の出力ノードの電位レベルが前記第2の所定の
内部電位以下となることに応じて、内部制御信号を不活
性とし、 前記スイッチ手段は、 前記内部制御信号の不活性化に応じてセット状態とな
り、前記内部電位発生回路の動作停止に応じてリセット
状態となるラッチ手段と、 前記ラッチ手段がセット状態となることに応じて、前記
第1の出力ノードと前記第2の出力ノードとの接続を遮
断状態とする接続手段とを含む、請求項9記載の内部電
位発生回路。
11. The second internal control means, when the potential level of the second output node becomes lower than or equal to the second predetermined internal potential, deactivates an internal control signal. A latch unit that is set in response to the deactivation of the internal control signal and is reset in response to the stoppage of the operation of the internal potential generation circuit; and 10. The internal potential generating circuit according to claim 9, further comprising: connection means for disconnecting a connection between said first output node and said second output node.
【請求項12】 前記制御手段は、 前記内部電位発生回路の動作開始に応じて、前記第1の
チャージポンプ手段に前記相補なクロック信号の供給を
開始させ、前記スイッチ手段が遮断状態となった後に、
前記第2のチャージポンプ手段に前記相補なクロック信
号の供給を開始させる、請求項8記載の内部電位発生回
路。
12. The control means causes the first charge pump means to start supplying the complementary clock signal in response to the start of the operation of the internal potential generating circuit, and the switch means is turned off. later,
9. The internal potential generating circuit according to claim 8, wherein said second charge pump means starts supplying said complementary clock signal.
【請求項13】 前記第2の内部制御手段は、 前記第2の出力ノードの電位レベルが前記第2の所定の
内部電位以下となることに応じて、内部制御信号を不活
性とする電位レベル検出手段と、 前記第2のチャージポンプ手段への前記相補なクロック
信号の供給を制御するクロック供給制御手段とを含み、 前記スイッチ手段は、 前記内部制御信号の不活性化に応じてセット状態とな
り、前記内部電位発生回路の動作停止に応じてリセット
状態となるラッチ手段と、 前記ラッチ手段がセット状態となることに応じて、前記
第1の出力ノードと前記第2の出力ノードとの接続を遮
断状態とする接続手段とを含み、 前記クロック供給制御手段は、 前記内部制御信号が活性状態であり、かつ前記ラッチ手
段がセット状態であることに応じて、前記相補なクロッ
ク信号の供給を開始する、請求項9記載の内部電位発生
回路。
13. A potential level for inactivating an internal control signal in response to a potential level of the second output node falling below the second predetermined internal potential. Detecting means; and clock supply control means for controlling supply of the complementary clock signal to the second charge pump means, wherein the switch means is set in response to inactivation of the internal control signal. A latch unit that is reset when the operation of the internal potential generating circuit is stopped, and a connection between the first output node and the second output node when the latch unit is set. Connection means for setting a cutoff state, wherein the clock supply control means sets the phase in response to the internal control signal being active and the latch means being set. It starts supplying a clock signal, the internal potential generation circuit of claim 9, wherein.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100465068B1 (en) * 2002-06-29 2005-01-06 주식회사 하이닉스반도체 Pumping circuit
JP2006172687A (en) * 2004-11-17 2006-06-29 Renesas Technology Corp Semiconductor device
KR100723773B1 (en) 2005-03-25 2007-05-30 주식회사 하이닉스반도체 High voltage switch circuit of non-volatile memory device
KR100769781B1 (en) * 2005-08-25 2007-10-24 주식회사 하이닉스반도체 Circuit for generating step-up voltage in non-volatile memory device
KR100908536B1 (en) 2007-12-28 2009-07-20 주식회사 하이닉스반도체 Current consumption prevention device of high voltage generator
JP2011008875A (en) * 2009-06-26 2011-01-13 Toshiba Corp Semiconductor device
JP2015164386A (en) * 2013-08-21 2015-09-10 株式会社半導体エネルギー研究所 Charge pump circuit and semiconductor device including the same
US9201439B2 (en) 2012-03-13 2015-12-01 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device
JP2018027014A (en) * 2012-09-03 2018-02-15 株式会社半導体エネルギー研究所 Semiconductor device

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100465068B1 (en) * 2002-06-29 2005-01-06 주식회사 하이닉스반도체 Pumping circuit
JP2006172687A (en) * 2004-11-17 2006-06-29 Renesas Technology Corp Semiconductor device
KR100723773B1 (en) 2005-03-25 2007-05-30 주식회사 하이닉스반도체 High voltage switch circuit of non-volatile memory device
US7282956B2 (en) 2005-03-25 2007-10-16 Hynix Semiconductor Inc. High voltage switching circuit of nonvolatile memory device
KR100769781B1 (en) * 2005-08-25 2007-10-24 주식회사 하이닉스반도체 Circuit for generating step-up voltage in non-volatile memory device
US7385852B2 (en) 2005-08-25 2008-06-10 Hynix Semiconductor Inc. Circuit for generating step-up voltage in non-volatile memory device
KR100908536B1 (en) 2007-12-28 2009-07-20 주식회사 하이닉스반도체 Current consumption prevention device of high voltage generator
US7642839B2 (en) 2007-12-28 2010-01-05 Hynix Semiconductor Inc. Current consumption prevention apparatus of a high voltage generator
JP2011008875A (en) * 2009-06-26 2011-01-13 Toshiba Corp Semiconductor device
US8493786B2 (en) 2009-06-26 2013-07-23 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device for short-circuiting output terminals of two or more voltage generator circuits at read time and control method for the same
USRE47017E1 (en) 2009-06-26 2018-08-28 Toshiba Memory Corporation Semiconductor device for short-circuiting output terminals of two or more voltage generator circuits at read time and control method for the same
USRE49175E1 (en) 2009-06-26 2022-08-16 Kioxia Corporation Semiconductor device including three voltage generator circuits and two transistors configured to short-circuit respective different combinations of the voltage generator circuits
US9201439B2 (en) 2012-03-13 2015-12-01 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device
US9614439B2 (en) 2012-03-13 2017-04-04 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device
US10192594B2 (en) 2012-03-13 2019-01-29 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device
JP2018027014A (en) * 2012-09-03 2018-02-15 株式会社半導体エネルギー研究所 Semiconductor device
JP2015164386A (en) * 2013-08-21 2015-09-10 株式会社半導体エネルギー研究所 Charge pump circuit and semiconductor device including the same

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