JPH10247616A - Exposure device, semiconductor production system and manufacture of semiconductor - Google Patents
Exposure device, semiconductor production system and manufacture of semiconductorInfo
- Publication number
- JPH10247616A JPH10247616A JP6398497A JP6398497A JPH10247616A JP H10247616 A JPH10247616 A JP H10247616A JP 6398497 A JP6398497 A JP 6398497A JP 6398497 A JP6398497 A JP 6398497A JP H10247616 A JPH10247616 A JP H10247616A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- information
- work
- exposure apparatus
- work information
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体露光装置お
よび該露光装置を通信ネットワークで複数結合した半導
体生産システム、並びに該システムによる半導体製造方
法に関するものである。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a semiconductor exposure apparatus, a semiconductor production system in which a plurality of the exposure apparatuses are connected by a communication network, and a semiconductor manufacturing method using the system.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来の半導体生産システムにおいては、
通信ネットワークで結合した複数の露光装置と、各々の
露光装置における露光作業の種類を決定して、その露光
作業の開始要求を行うコンピュータ装置を有しており、
これから行なおうとする作業の内容を指示した露光作業
情報（ジョブと呼ばれる）は半導体を露光しようとする
当該半導体露光装置上に存在する必要があった。このた
め複数の半導体露光装置を利用する場合、すべての半導
体露光装置が、必要となる可能性のあるすべての露光作
業情報を露光装置内の記憶領域にもつ必要があった。2. Description of the Related Art In a conventional semiconductor production system,
A plurality of exposure apparatuses coupled by a communication network, and has a computer device to determine the type of exposure work in each exposure apparatus, and to request the start of the exposure work,
Exposure work information (called a job) instructing the contents of the work to be performed from now on needs to be present on the semiconductor exposure apparatus for exposing a semiconductor. Therefore, when a plurality of semiconductor exposure apparatuses are used, all of the semiconductor exposure apparatuses need to have all the exposure work information that may be needed in a storage area in the exposure apparatus.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半導体生産システムは上記のように構成されていたの
で、必要となる可能性のあるすべての露光作業情報を調
べて、収集する必要があり、露光作業情報の維持管理が
煩雑になるという欠点があった。However, since the conventional semiconductor production system is configured as described above, it is necessary to examine and collect all the exposure work information that may be required. There is a drawback that maintenance of work information becomes complicated.
【０００４】また、まったく使用されていない露光作業
情報を記憶領域にもつ可能性が生じるため、記憶領域の
容量も大きくする必要があり不経済であった。Further, since there is a possibility that exposure work information that is not used at all is stored in the storage area, it is necessary to increase the capacity of the storage area, which is uneconomical.
【０００５】本発明の目的は、上記従来技術の課題を解
決し、半導体露光に必要な露光作業情報を任意の装置間
で転送できるようにして露光作業情報の維持管理の煩雑
さを減らすことことが可能な半導体露光装置および該露
光装置を通信ネットワークで複数結合した半導体生産シ
ステム、並びに該システムによる半導体製造方法を提供
することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art and reduce the complexity of maintenance of exposure work information by enabling transfer of exposure work information required for semiconductor exposure between arbitrary apparatuses. An object of the present invention is to provide a semiconductor exposure apparatus capable of performing the above, a semiconductor production system in which a plurality of the exposure apparatuses are connected by a communication network, and a semiconductor manufacturing method using the system.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、露光作業情報を記憶する記憶手段と、露
光作業の開始要求に応じ、それに伴って指示された種類
の露光作業の露光作業情報により露光作業を制御する手
段とを有し、他の露光装置または情報処理手段に対し通
信ネットワークを介して接続されたネットワーク型の露
光装置において、指示された種類の露光作業の露光作業
情報が記憶手段中にあるか否かを判定し、ないと判定し
たときは、他の露光装置または情報処理手段に対してそ
れらがその露光作業情報を有しているか否かを問い合わ
せ、その結果に基づいて開始を要求された露光作業を行
うことができるか否かを判断する作業情報管理手段を具
備することを特徴とする。そして、作業情報管理手段
は、問合せに対して肯定的返答を行った露光装置または
情報処理手段より、指示された種類の露光作業の露光作
業情報を得る。通常、作業情報管理手段は、他の露光装
置から、前記と同様の問合せを受けたとき、その問合せ
に係る露光作業情報が記憶手段中にあるか否かを判定
し、その結果を、問合せを発した他の露光装置に対して
送信する。このとき、作業情報管理手段は、問合せを発
した他の露光装置に対して肯定的結果を送信する場合に
は、その送信内容に、問合せに係る作業情報を含めても
よい。In order to achieve the above object, the present invention provides a storage means for storing exposure work information, and an exposure operation of an exposure work of a kind designated in response to a start request of the exposure work. Means for controlling an exposure operation based on operation information, and in a network type exposure apparatus connected to another exposure apparatus or information processing means via a communication network, the exposure operation information of the exposure operation of the designated type is provided. Is determined in the storage means, and when it is determined that the exposure work information is not present, it is inquired to other exposure apparatuses or information processing means whether or not they have the exposure work information. A work information management unit that determines whether or not the exposure work requested to be started can be performed based on the information. Then, the work information management means obtains the exposure work information of the specified type of exposure work from the exposure apparatus or the information processing means that has responded positively to the inquiry. Normally, when receiving the same inquiry from the other exposure apparatuses as described above, the work information management unit determines whether the exposure work information related to the inquiry is present in the storage unit, and determines the result as an inquiry. It is transmitted to the other exposure apparatus that issued the light. At this time, when transmitting a positive result to the other exposure apparatus that has issued the inquiry, the work information management means may include the work information relating to the inquiry in the transmitted content.
【０００７】このように、作業情報を送信する場合は、
問合せ元の作業情報管理手段は、露光作業情報を有して
いるか否かの問合せを、その作業情報をその問合せ先の
露光装置または情報処理手段から得る場合のコストが最
も少ない露光装置または情報処理手段から順に行い、最
初に肯定的な返答を送り返してきたものからその作業情
報を得てもよく、あるいは露光作業情報を有しているか
否かの問合せを、可能なすべての他の露光装置または情
報処理手段に対して行い、そのうちの肯定的な返答を送
り返してきたものうち、その露光装置または情報処理手
段から露光作業情報を得るのに要するコストが最小であ
るものからその露光作業情報を得てもよい。また、本発
明の半導体生産システムは、上述のネットワーク型露光
装置の複数またはこれに加えて上述の情報処理手段を有
することを特徴とする。As described above, when transmitting work information,
The inquirer's work information management means sends the inquiry about whether or not the work information has the exposure work information to the exposure apparatus or the information processing apparatus having the lowest cost when the work information is obtained from the inquired exposure apparatus or the information processing means. Means may be obtained in order, and the work information may be obtained from the one that sent back a positive response first, or an inquiry about whether or not the work information has the exposure work information may be performed by all other possible exposure apparatuses or The exposure work information is obtained from the exposure apparatus or the information processing means which has the smallest cost required to obtain the exposure work information. You may. Further, a semiconductor production system according to the present invention includes a plurality of the above-described network type exposure apparatuses or the above-described information processing means in addition to the plurality of the network type exposure apparatuses.
【０００８】この半導体生産システムにおいて、通常、
情報処理手段は、各露光装置における露光作業の種類を
決定し、各露光装置に対して、その露光作業の開始要求
を行う。また、作業開始要求を受けた露光装置は、情報
処理手段からの露光作業の開始要求に伴って指示された
種類の露光作業の露光作業情報がその露光装置に無い場
合、他の露光装置または情報処理手段に対してその露光
作業情報をその露光装置または情報処理手段が有するか
否かを問い合わせ、それに対する返答に基き指示された
種類の露光作業を行い得るか否かを判断し、その結果を
情報処理手段に対して送信する。In this semiconductor production system, usually,
The information processing means determines the type of exposure work in each exposure apparatus, and requests each exposure apparatus to start the exposure work. If the exposure apparatus that has received the work start request does not have the exposure work information of the type of exposure work instructed in accordance with the exposure work start request from the information processing unit, the other exposure apparatus or information The processing unit is inquired as to whether the exposure apparatus or the information processing unit has the exposure work information, and based on a response thereto, it is determined whether the specified type of exposure work can be performed, and the result is determined. It is transmitted to the information processing means.
【０００９】さらに、本発明の半導体製造方法は、指示
された種類の露光作業を、その露光作業の作業情報に基
づき、露光装置を用いて行い、作業情報を露光装置が有
する場合は、露光作業をその作業情報に基づいて行い、
有していない場合は、通信ネットワークを介してその露
光装置に接続された他の露光装置または情報処理手段か
らその作業情報を得、その作業情報に基づいて露光作業
を行うことを特徴とする。Further, according to the semiconductor manufacturing method of the present invention, an exposure operation of a designated type is performed using an exposure apparatus based on operation information of the exposure operation. Based on the work information,
If not, the work information is obtained from another exposure apparatus or information processing means connected to the exposure apparatus via a communication network, and the exposure work is performed based on the work information.
【００１０】この、露光作業情報の取得は、他の露光装
置または情報処理手段に対してそれらがその露光作業情
報を有しているか否かを問い合わせ、その問合せに対し
て肯定的返答を行った露光装置または情報処理手段よ
り、指示された種類の露光作業の露光作業情報を得る。
また、露光作業情報を有しているか否かの問合せは、そ
の作業情報をその問合せ先の露光装置または情報処理手
段から得る場合のコストが最も少ない露光装置または情
報処理手段から順に行い、最初に肯定的な返答を送り返
してきたものからその作業情報を得てもよいし、あるい
は、可能なすべての他の露光装置または情報処理手段に
対して問合せはを行い、そのうちの肯定的な返答を送り
返してきたものうち、その露光装置または情報処理手段
から露光作業情報を得るのに要するコストが最小である
ものからその露光作業情報を得る。In obtaining the exposure work information, an inquiry is made to another exposure apparatus or information processing means as to whether or not they have the exposure work information, and a positive reply is made to the inquiry. Exposure operation information of the indicated type of exposure operation is obtained from the exposure apparatus or the information processing means.
Also, the inquiry as to whether or not it has the exposure work information is performed in order from the exposure apparatus or the information processing means having the lowest cost when the work information is obtained from the exposure apparatus or the information processing means of the inquiry destination. The work information may be obtained from the person who sent back a positive response, or an inquiry is made to all other possible exposure apparatuses or information processing means, and a positive response is returned. Among them, the exposure work information is obtained from the one which requires the minimum cost for obtaining the exposure work information from the exposure apparatus or the information processing means.
【００１１】[0011]
【作用】上記の構成により、露光作業に必要な露光作業
情報が自露光装置内にない場合でも、生産システムを構
成するいずれかの装置内に該当する露光作業情報が存在
する場合には、オペレーター等が該当する露光作業情報
の存在を検索することなく、露光作業開始の可否を判断
することができる。また、他の装置から該当する露光作
業情報を取得することによって、生産システムを構成す
るどの装置内に露光作業情報があっても露光作業を開始
することができる。According to the above arrangement, even if the exposure work information necessary for the exposure work is not present in the self-exposure apparatus, if the corresponding exposure work information is present in any of the apparatuses constituting the production system, the operator is not required to be exposed. It is possible to determine whether or not to start the exposure work without searching for the existence of the exposure work information corresponding to the above. Further, by acquiring the corresponding exposure work information from another apparatus, the exposure work can be started even if the exposure work information is present in any of the apparatuses constituting the production system.
【００１２】[0012]
【００１３】[0013]
【実施例】以下本発明の一実施例を図面に基づいて説明
する。図１は本発明の一実施例に係る半導体生産システ
ムの要部構成を示すブロック図であり、同図において、
１０および２０は半導体露光装置、３０は生産システム
を管理するホストコンピュータである。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a main part configuration of a semiconductor production system according to one embodiment of the present invention.
Reference numerals 10 and 20 denote semiconductor exposure apparatuses, and reference numeral 30 denotes a host computer for managing a production system.
【００１４】半導体露光装置１０は通信制御プログラム
１１、機器制御プログラム１２、露光作業情報管理プロ
グラム１３、記憶装置１４を備え、通信制御プログラム
１１によってネットワーク４０を介して他の半導体露光
装置２０およびホストコンピュータ３０と通信する。こ
こで、機器制御プログラム１２は半導体露光に必要な機
器（不図示）の制御を行なう。また、記憶装置１４には
露光作業に必要な露光作業情報（ジョブとよばれる）が
記憶されている。The semiconductor exposure apparatus 10 includes a communication control program 11, an equipment control program 12, an exposure work information management program 13, and a storage device 14. The other semiconductor exposure apparatus 20 and a host computer are controlled by the communication control program 11 via a network 40. Communicate with 30. Here, the equipment control program 12 controls equipment (not shown) necessary for semiconductor exposure. Further, the storage device 14 stores exposure work information (called a job) necessary for the exposure work.
【００１５】露光作業情報管理プログラム１３は露光作
業に必要なジョブの有無のチェックおよび記憶装置１４
との間での入出力の管理を行なう。また露光作業情報管
理プログラム１３は他装置への露光作業情報の問合せを
行なう機能をもつと同時に、他装置からの露光作業情報
の問合せに応答する機能をもつ。半導体露光装置２０の
構成も同様である。The exposure work information management program 13 checks whether or not there is a job necessary for the exposure work and stores it in a storage device 14.
It manages input and output between and. Further, the exposure work information management program 13 has a function of making an inquiry about exposure work information to another apparatus and a function of responding to an inquiry of exposure work information from another apparatus. The configuration of the semiconductor exposure apparatus 20 is the same.
【００１６】ホストコンピュータ３０は通信制御プログ
ラム３１、生産管理プログラム３２、露光情報管理プロ
グラム３３および記憶装置３４を備える。これらプログ
ラム３１および３３の機能は、半導体露光装置１０にお
けるプログラム１１および１３と同様である。The host computer 30 includes a communication control program 31, a production management program 32, an exposure information management program 33, and a storage device 34. The functions of these programs 31 and 33 are the same as the programs 11 and 13 in the semiconductor exposure apparatus 10.
【００１７】生産管理プログラム３２はネットワーク４
０で結合されている半導体露光装置１０、２０に対して
露光作業の開始を指示するとともに、それらが使用すべ
き露光作業情報の種類を指定する。The production management program 32 is connected to the network 4
Instructs the semiconductor exposure apparatuses 10 and 20 connected by 0 to start exposure work, and specifies the type of exposure work information to be used by the semiconductor exposure apparatuses 10 and 20.
【００１８】本実施例においては、半導体露光装置１０
が露光作業情報１５および１６（それぞれジョブＡ、ジ
ョブＢと名付けられている）をもっており、半導体露光
装置２０が露光作業情報２５（ジョブＣと名付けられて
いる）をもっており、そして、ホストコンピュータ３０
が露光作業情報３５および３６（それぞれジョブＤ、ジ
ョブＥと名付けられている）をもっているとする。今ホ
ストコンピュータ３０の生産管理プログラム３２が半導
体露光装置１０に対し、ジョブＣという名称の露光作業
情報を用いて露光作業を行なう旨を指示したとする。こ
のときホストコンピュータ３０から半導体露光装置１０
に対して送られるメッセージは図２に示すメッセージ５
０の形式である。このメッセージを受けると、半導体露
光装置１０の露光作業情報管理プログラム１３は、記憶
装置１４内にジョブＣという名称の露光作業情報が存在
するかどうかを調べる。存在するとすればその露光作業
情報を用いて露光作業を開始するが、本例においてはジ
ョブＣという名称の露光作業情報が記憶装置４０内に存
在しない。そこで露光作業情報管理プログラム１３は、
図３に示すフローチャートにしたがって露光作業情報の
問合せを行なう。なお、本実施例においては、最初にホ
ストコンピュータ３０に問い合せ、次いで半導体露光装
置２０に問合せを行なうものとする。In this embodiment, the semiconductor exposure apparatus 10
Have exposure work information 15 and 16 (named as job A and job B, respectively), the semiconductor exposure apparatus 20 has exposure work information 25 (named as job C), and a host computer 30.
Have exposure work information 35 and 36 (named as job D and job E, respectively). It is now assumed that the production management program 32 of the host computer 30 has instructed the semiconductor exposure apparatus 10 to perform an exposure operation using the exposure operation information named job C. At this time, the host computer 30 sends the semiconductor exposure apparatus 10
Is the message 5 shown in FIG.
0 format. Upon receiving this message, the exposure work information management program 13 of the semiconductor exposure apparatus 10 checks whether the storage work 14 has exposure work information named job C. If it exists, the exposure operation is started using the exposure operation information. However, in this example, the exposure operation information named job C does not exist in the storage device 40. Therefore, the exposure work information management program 13
Inquiry of exposure work information is performed according to the flowchart shown in FIG. In this embodiment, the host computer 30 is first inquired, and then the semiconductor exposure apparatus 20 is inquired.
【００１９】この問合せを開始すると、露光作業情報管
理プログラム１３は、まず、問合せを行なう装置として
ホストコンピュータ３０を選び（ステップＳ１）、ホス
トコンピュータ３０に対してメッセージ５１を送信して
露光作業情報の問合せを行ない応答を待つ（ステップＳ
２）。この問合せに応じ、ホストコンピュータ３０の露
光作業情報管理プログラム３３は、記憶装置３４の中に
ジョブＣが存在するか否かを調べる。本例においては記
憶装置３４の中にジョブＣは存在しない。そのためホス
トコンピュータ３０は半導体露光装置１０に対して否定
応答メッセージ５２を送る。When this inquiry is started, the exposure work information management program 13 first selects the host computer 30 as a device to make an inquiry (step S1), transmits a message 51 to the host computer 30, and sends the message 51 to the exposure work information. Makes an inquiry and waits for a response (step S
2). In response to this inquiry, the exposure work information management program 33 of the host computer 30 checks whether the job C exists in the storage device 34 or not. In this example, the job C does not exist in the storage device 34. Therefore, the host computer 30 sends a negative acknowledgment message 52 to the semiconductor exposure apparatus 10.
【００２０】否定応答メッセージ５２を受け取った半導
体露光装置１０はそれが肯定応答でないことを判定し
（ステップＳ３）、すべての装置に対して問合せを行っ
たか否かの判定（ステップＳ４）について、まだすべて
の装置に対して問合せを行なっていないと判定し、次に
問合せを行なう装置として半導体露光装置２０を選び
（ステップＳ１）、そして、メッセージ５１によって露
光作業情報の問合せを行ない応答を待つ（ステップＳ
２）。このメッセージを受け取ると、半導体露光装置２
０の露光作業情報管理プログラム２３は、記憶装置２４
の中にジョブＣが存在するか否かを調べる。本例におい
ては記憶装置２４の中にジョブＣが存在する。そのため
半導体露光装置２０は半導体露光装置１０に対して肯定
応答メッセージ５３を送る。肯定応答メッセージ５３を
受け取った半導体露光装置１０はそれが肯定応答である
と判定し（ステップＳ３）、ホスト３０に対して露光作
業を開始できる旨のメッセージ５４を送り（ステップＳ
７）、そして、露光作業情報の問合せ処理を終了する。The semiconductor exposure apparatus 10 that has received the negative response message 52 determines that it is not a positive response (step S3), and determines whether or not all the apparatuses have been inquired (step S4). It is determined that all the devices have not been inquired, the semiconductor exposure device 20 is selected as the next device to inquire (step S1), and the exposure operation information is inquired by the message 51 and a response is waited for (step S1). S
2). Upon receiving this message, the semiconductor exposure apparatus 2
0 exposure work information management program 23
It is checked whether or not the job C exists in the. In this example, the job C exists in the storage device 24. Therefore, the semiconductor exposure apparatus 20 sends an acknowledgment message 53 to the semiconductor exposure apparatus 10. Upon receiving the acknowledgment message 53, the semiconductor exposure apparatus 10 determines that the acknowledgment is an acknowledgment (step S3) and sends a message 54 to the host 30 indicating that the exposure operation can be started (step S3).
7) Then, the inquiry processing of the exposure work information is ended.
【００２１】もしここでジョブＣが見つからなかった場
合には、必要な露光作業情報が生産システム内に存在し
ないものと判断し（ステップＳ５）、ホストコンピュー
タ３０に対して露光作業を開始できない旨のメッセージ
５５を送信し（ステップＳ６）、露光作業情報の問合せ
処理を終了する。なお、露光作業情報の問合せの順序は
任意であり、あらかじめ定めておいた順序にしたがって
問合せを行なえばよい。露光作業情報を得るコストが小
さいところから順番に問合せを行ない、露光作業情報が
存在する旨の応答を最初に得た装置から露光作業情報を
受け取るようにするのが最も経済的である。If the job C is not found here, it is determined that the necessary exposure work information does not exist in the production system (step S5), and it is determined that the exposure work cannot be started to the host computer 30. The message 55 is transmitted (step S6), and the inquiry processing of the exposure work information ends. Note that the order of the inquiry of the exposure work information is arbitrary, and the inquiry may be made in accordance with a predetermined order. It is most economical to make inquiries in order from the place where the cost of obtaining the exposure work information is small, and to receive the exposure work information from the apparatus which first obtained the response indicating that the exposure work information is present.
【００２２】本実施例においては露光作業情報自体の転
送については述べていないが、メッセージ５６のよう
な、露光作業情報が存在する旨の肯定メッセージととも
に、露光作業情報自体を含むメッセージを送信してもよ
い。また、すべての装置に問合せを行ない、求める露光
作業情報をもつ装置のうち露光作業情報を得るのに要す
るコストが最小になる装置に対し、あらためて露光作業
情報を要求してもよい。Although the transfer of the exposure work information itself is not described in this embodiment, a message including the exposure work information itself is transmitted together with a positive message such as the message 56 indicating that the exposure work information exists. Is also good. In addition, all the apparatuses may be inquired, and the apparatus having the minimum required cost for obtaining the exposure operation information among the apparatuses having the required exposure operation information may be requested again.
【００２３】[0023]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば通
信ネットワークに結ばれた複数の半導体露光装置の利用
において、すべての半導体露光装置が必要となる可能性
のあるすべての露光作業情報をもつ必要がなくなり、露
光作業情報の維持管理が容易になる効果がある。As described above, according to the present invention, in the case of using a plurality of semiconductor exposure apparatuses connected to a communication network, all the exposure operation information which may be required by all the semiconductor exposure apparatuses is stored. This eliminates the necessity of holding the exposure operation information, which facilitates maintenance of the exposure operation information.
【図１】 本発明の一実施例に係る半導体生産システム
の要部構成を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing a main configuration of a semiconductor production system according to an embodiment of the present invention.
【図２】 装置間のメッセージの内容を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing the contents of a message between devices.
【図３】 露光作業情報の問合せ処理を示すフローチャ
ートである。FIG. 3 is a flowchart illustrating an inquiry process of exposure work information.
１０，２０：半導体露光装置、１１，２１，３１：通信
制御プログラム、１２，２２：機器制御プログラム、１
３，２３，３３：露光作業情報管理プログラム、１４，
２４，３４：記憶装置、１５，１６，２５，３５，３
６：露光作業情報、３０：ホストコンピュータ、３２：
生産管理プログラム、４０：ネットワーク、５０：露光
作業開始メッセージ、５１：問合せメッセージ、５２：
否定メッセージ、５３：肯定メッセージ、５４，５６：
開始可能メッセージ、５５：開始不可メッセージ。10, 20: semiconductor exposure apparatus, 11, 21, 31: communication control program, 12, 22: equipment control program, 1
3, 23, 33: Exposure work information management program, 14,
24, 34: storage device, 15, 16, 25, 35, 3
6: Exposure work information, 30: Host computer, 32:
Production management program, 40: network, 50: exposure work start message, 51: inquiry message, 52:
Negative message, 53: Positive message, 54, 56:
Startable message, 55: start impossible message.
Claims (13)
光作業の開始要求に応じ、それに伴って指示された種類
の露光作業の露光作業情報により露光作業を制御する手
段とを有し、他の露光装置または情報処理手段に対し通
信ネットワークを介して接続されたネットワーク型の露
光装置において、 指示された種類の露光作業の露光作業情報が前記記憶手
段中にあるか否かを判定し、ないと判定したときは、前
記他の露光装置または情報処理手段に対してそれらがそ
の露光作業情報を有しているか否かを問い合わせ、その
結果に基づいて前記開始を要求された露光作業を行うこ
とができるか否かを判断する作業情報管理手段を具備す
ることを特徴とするネットワーク型露光装置。A storage means for storing exposure work information; and a means for controlling an exposure work based on exposure work information of an exposure work of a type specified in response to a start request of the exposure work. In the network type exposure apparatus connected to the exposure apparatus or the information processing means via the communication network, it is determined whether or not the exposure work information of the exposure work of the designated type exists in the storage means. When it is determined that the exposure work has been performed, it is inquired of the other exposure apparatus or the information processing means whether or not they have the exposure work information, and based on the result, the exposure work requested to be started is performed. A network-type exposure apparatus, comprising: a work information management unit for determining whether or not the operation can be performed.
対して肯定的返答を行った露光装置または情報処理手段
より、前記指示された種類の露光作業の露光作業情報を
得るものであることを特徴とする請求項１記載のネット
ワーク型露光装置。2. The work information management means obtains exposure work information of the specified type of exposure work from an exposure apparatus or an information processing means that has answered affirmatively to the inquiry. 2. The network type exposure apparatus according to claim 1, wherein:
装置から、前記と同様の問合せを受けたとき、その問合
せに係る露光作業情報が前記記憶手段中にあるか否かを
判定し、その結果を、前記問合せを発した他の露光装置
に対して送信するものであることを特徴とする請求項２
記載のネットワーク型露光装置。3. The work information management means, when receiving the same inquiry from the other exposure apparatus as above, determines whether or not the exposure work information relating to the inquiry is in the storage means, 3. The apparatus according to claim 2, wherein the result is transmitted to another exposure apparatus that has issued the inquiry.
The network type exposure apparatus according to any one of the preceding claims.
発した他の露光装置に対して肯定的結果を送信する場合
には、その送信内容に、前記問合せに係る作業情報を含
めることを特徴とする請求項３記載のネットワーク型露
光装置。4. When transmitting a positive result to another exposure apparatus which has issued the inquiry, the operation information management means includes the operation information relating to the inquiry in the transmitted content. The network type exposure apparatus according to claim 3, wherein
情報を有しているか否かの問合せを、その作業情報をそ
の問合せ先の露光装置または情報処理手段から得る場合
のコストが最も少ない露光装置または情報処理手段から
順に行い、最初に肯定的な返答を送り返してきたものか
らその作業情報を得るものであることを特徴とする請求
項２〜４記載のネットワーク型露光装置。5. The work information management means, wherein an inquiry as to whether or not the work information has the exposure work information is obtained when the work information is obtained from the exposure apparatus or the information processing means of the inquiry destination. 5. The network type exposure apparatus according to claim 2, wherein the operation information is obtained from an apparatus or an information processing means, and the operation information is obtained from an apparatus which sends back a positive response first.
情報を有しているか否かの問合せを、可能なすべての前
記他の露光装置または情報処理手段に対して行い、その
うちの肯定的な返答を送り返してきたもののうち、その
露光装置または情報処理手段から露光作業情報を得るの
に要するコストが最小であるものからその露光作業情報
を得るものであることを特徴とする請求項２〜４記載の
ネットワーク型露光装置。6. The work information management means inquires of all possible other exposure apparatuses or information processing means whether or not the work information management means has the exposure work information. 5. The method according to claim 2, wherein, among the replies sent back, the exposure work information is obtained from the one which requires the minimum cost for obtaining the exposure work information from the exposure apparatus or the information processing means. The network type exposure apparatus according to any one of the preceding claims.
型露光装置の複数またはこれに加えて請求項１〜６中の
情報処理手段を有することを特徴とする半導体生産シス
テム。7. A semiconductor production system comprising a plurality of the network type exposure apparatuses according to any one of claims 1 to 6, or the information processing means according to any one of claims 1 to 6.
る露光作業の種類を決定し、各露光装置に対して、その
露光作業の開始要求を行うものであることを特徴とする
請求項７記載の半導体生産システム。8. The apparatus according to claim 7, wherein said information processing means determines the type of exposure work in each exposure apparatus and requests each exposure apparatus to start the exposure work. Semiconductor production system.
の露光作業の開始要求に伴って指示された種類の露光作
業の露光作業情報がその露光装置に無い場合、他の露光
装置または前記情報処理手段に対してその露光作業情報
をその露光装置または情報処理手段が有するか否かを問
い合わせ、それに対する返答に基き前記指示された種類
の露光作業を行い得るか否かを判断し、その結果を前記
情報処理手段に対して送信するものであることを特徴と
する請求項８記載の半導体生産システム。9. The exposure apparatus, if the exposure apparatus does not have the exposure work information of the type of exposure work instructed in response to the exposure work start request from the information processing means, sets the other exposure apparatus or the information. The processing unit is inquired as to whether the exposure apparatus or the information processing unit has the exposure work information, and based on a response thereto, it is determined whether the specified type of exposure work can be performed. 9. The semiconductor production system according to claim 8, wherein the information is transmitted to said information processing means.
光作業の作業情報に基づき、露光装置を用いて行う半導
体製造方法において、前記作業情報を前記露光装置が有
する場合は、前記露光作業をその作業情報に基づいて行
い、有していない場合は、通信ネットワークを介してそ
の露光装置に接続された他の露光装置または情報処理手
段からその作業情報を得、その作業情報に基づいて前記
露光作業を行うことを特徴とする半導体製造方法。10. In a semiconductor manufacturing method for performing an exposure operation of a specified type based on operation information of the exposure operation using an exposure apparatus, when the exposure information has the operation information, the exposure operation is performed. Performed based on the work information, and if not provided, obtain the work information from another exposure apparatus or information processing means connected to the exposure apparatus via a communication network, and perform the exposure based on the work information. A semiconductor manufacturing method characterized by performing operations.
露光装置または情報処理手段に対してそれらがその露光
作業情報を有しているか否かを問い合わせ、その問合せ
に対して肯定的返答を行った露光装置または情報処理手
段より、前記指示された種類の露光作業の露光作業情報
を得ることを特徴とする請求項１０記載の半導体製造方
法。11. Acquiring the exposure work information, inquires the other exposure apparatus or the information processing means whether or not they have the exposure work information, and gives a positive reply to the inquiry. 11. The semiconductor manufacturing method according to claim 10, wherein exposure operation information of the exposure operation of the designated type is obtained from the performed exposure apparatus or information processing means.
の問合せは、その作業情報をその問合せ先の露光装置ま
たは情報処理手段から得る場合のコストが最も少ない露
光装置または情報処理手段から順に行い、最初に肯定的
な返答を送り返してきたものからその作業情報を得るこ
とを特徴とする請求項１１記載の半導体製造方法。12. An inquiry as to whether or not the work information has the exposure work information is sequentially issued from the exposure apparatus or the information processing means having the lowest cost when the work information is obtained from the exposure apparatus or the information processing means of the inquiry destination. 12. The semiconductor manufacturing method according to claim 11, wherein the operation information is obtained from the one which first sent back a positive response.
の問合せは、可能なすべての前記他の露光装置または情
報処理手段に対して行い、そのうちの肯定的な返答を送
り返してきたものうち、その露光装置または情報処理手
段から露光作業情報を得るのに要するコストが最小であ
るものからその露光作業情報を得ることを特徴とする請
求項１１記載の半導体製造方法。13. An inquiry as to whether or not the exposure work information is provided is made to all of the other exposure apparatuses or information processing means that are possible, and a positive response is returned. 12. The semiconductor manufacturing method according to claim 11, wherein the exposure operation information is obtained from the one which requires the minimum cost for obtaining the exposure operation information from the exposure apparatus or the information processing means.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6398497A JP3472066B2 (en) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | Exposure apparatus, semiconductor production system and semiconductor manufacturing method |
| TW087102644A TW376542B (en) | 1997-03-04 | 1998-02-24 | Exposure unit, exposure system and device manufacturing method |
| EP98301384A EP0863439B1 (en) | 1997-03-04 | 1998-02-25 | Exposure unit, exposure system and device manufacturing method |
| DE69838154T DE69838154T2 (en) | 1997-03-04 | 1998-02-25 | Exposure unit, exposure system and method of making a device |
| US09/034,019 US6185474B1 (en) | 1997-03-04 | 1998-03-02 | Exposure unit, exposure system and device manufacturing method |
| KR1019980007071A KR19980079878A (en) | 1997-03-04 | 1998-03-04 | Exposure apparatus, exposure system and device manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6398497A JP3472066B2 (en) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | Exposure apparatus, semiconductor production system and semiconductor manufacturing method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10247616A true JPH10247616A (en) | 1998-09-14 |
| JP3472066B2 JP3472066B2 (en) | 2003-12-02 |
Family
ID=13245071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6398497A Expired - Fee Related JP3472066B2 (en) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | Exposure apparatus, semiconductor production system and semiconductor manufacturing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3472066B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001284214A (en) * | 2000-03-30 | 2001-10-12 | Canon Inc | Exposure system, method of manufacturing device, maintenance method for semiconductor manufacturing plant and exposure system |
| US6801826B2 (en) | 2001-08-16 | 2004-10-05 | Nec Corporation | System and method for manufacturing semiconductor devices controlled by customer |
| JP2007123608A (en) * | 2005-10-28 | 2007-05-17 | Nikon Corp | Device manufacturing processing system, exposure device and exposure method, measuring test equipment, measuring inspection method, and method for manufacturing the device |
-
1997
- 1997-03-04 JP JP6398497A patent/JP3472066B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001284214A (en) * | 2000-03-30 | 2001-10-12 | Canon Inc | Exposure system, method of manufacturing device, maintenance method for semiconductor manufacturing plant and exposure system |
| JP4532660B2 (en) * | 2000-03-30 | 2010-08-25 | キヤノン株式会社 | Exposure equipment |
| US6801826B2 (en) | 2001-08-16 | 2004-10-05 | Nec Corporation | System and method for manufacturing semiconductor devices controlled by customer |
| JP2007123608A (en) * | 2005-10-28 | 2007-05-17 | Nikon Corp | Device manufacturing processing system, exposure device and exposure method, measuring test equipment, measuring inspection method, and method for manufacturing the device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3472066B2 (en) | 2003-12-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH04271454A (en) | Loosely-coupled computer system | |
| JPH1153134A (en) | Printing control system and method therefor | |
| JPH10247616A (en) | Exposure device, semiconductor production system and manufacture of semiconductor | |
| JPH11194913A (en) | Network printer | |
| JP3314734B2 (en) | Communication parameter setting device | |
| JP3494545B2 (en) | Distributed computer system, computer and distributed processing method | |
| JP2752696B2 (en) | Printer control method under network environment | |
| JP2000330750A (en) | Network printer managing device and network printer system | |
| JPH0991213A (en) | Transfer system and method between different communication protocol files | |
| JPH10124432A (en) | Client server system | |
| JPH11184769A (en) | File transfer system | |
| JP2746961B2 (en) | Facsimile communication system | |
| JP4965765B2 (en) | Communication method and communication system | |
| JPH02222336A (en) | Computer address managing system | |
| JPH0468936A (en) | Address management system in local area network | |
| KR100881654B1 (en) | Computer system and information processing method | |
| JP2000163329A (en) | Data transfer system | |
| JPH1078902A (en) | System for storing data and method therefor and storage medium for storing program for storing data | |
| JPH0991231A (en) | Application program execution method and device therefor in server-client computer system | |
| JPH1185712A (en) | Network monitoring system and its file transfer method | |
| JPS6063674A (en) | File retrieval system of local area network system | |
| JPH11331244A (en) | Electronic information circular system | |
| JPH1125058A (en) | Method for automatically selecting lan processor | |
| JPH07152702A (en) | Distribution processing system | |
| JPH0553738A (en) | Printer starting device for local area network |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070912 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080912 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090912 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090912 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100912 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100912 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120912 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120912 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130912 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |