JPH10221847A - ポジ型感放射線性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高感度・高解像度でパターン形状が良好であ
り、耐熱性、残膜性、貯蔵安定性に優れたポジ型感放射
線性樹脂組成物を得る。 【解決手段】 下記構造式（１）で示される繰り返し単
位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が１０００
〜１００００であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子
を水素１原子あたり０．０３〜０．２７モルの割合で
１，２−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル基で
置換したノボラック樹脂が乳酸エステル類と酢酸エステ
ル類とを重量比９５：５〜３０：７０の割合で混合した
混合溶剤に溶解されてなることを特徴とするポジ型感放
射線性樹脂組成物。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、均一性に優れ、高感度
・高解像度でパターン形状が良好であり、耐熱性、残膜
性、貯蔵安定性に優れたポジ型感放射線性樹脂組成物に
関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
ノボラック系レジスト材料は、ノボラック樹脂と感光剤
の２成分を主成分として調製されてきたが、より高感度
・高解像度で、パターン形状に優れ、耐熱性、残膜性、
貯蔵安定性に優れ、かつ各種露光機の光源の波長に合っ
たレジスト材料とするため、ノボラック樹脂、感光剤及
び溶剤の面から数々の工夫がなされている。

【０００３】ノボラック樹脂の面から１例を挙げれば、
合成するノボラック樹脂の平均分子量を小さくすると解
像度は向上する反面、耐熱性、残膜性に劣ったものとな
る（ＢＲＥＡＫ ＴＨＲＯＵＧＨ、１９９２年２月号、
１８頁）。そこで、ノボラック樹脂を再沈殿法等の処理
によって、低分子量ノボラック樹脂を除去する等の手法
が提案されている。

【０００４】また、感光剤の面から１例を挙げれば、露
光機の光源がｇ線からｉ線に変化してゆく場合には、従
来用いられてきたベンゾフェノン系感光剤ではレジスト
材料としたときの透過率が低くなるため、ｉ線での吸収
のより少ない非ベンゾフェノン系の感光剤を用いる等の
提案がなされてきた（日経マイクロデバイス、１９９２
年４月号、４５頁）。

【０００５】更に、溶剤の面から１例を挙げれば、従
来、一般にポジ型レジスト材料の溶剤として用いられて
いるエチルセロソルブアセテート等のセロソルブ類を用
いてレジスト材料を調製すると、例えば孔径０．２μｍ
のフィルターで濾過した後でも放置すると目視では観察
し得ない微粒子が生成する場合がある。このようなポジ
型レジスト材料中で発生する微粒子は、粒径が０．５μ
ｍ以上のものもあり、このような大きい微粒子を含有す
るポジ型レジスト材料を用いて１μｍ程度のレジストパ
ターンをウエハー上に形成させると、微粒子がパターン
上に残ることによる解像度の低下や、集積回路形成時の
歩留まりの悪化の原因となる。このため、例えばアルカ
リ可溶性樹脂と１，２−キノンジアジド化合物をモノオ
キシモノカルボン酸エステル類を含有する溶剤に溶解さ
せ、レジスト材料としての長期保存安定性を図ることが
提案されている（特公平３−２２６１９号公報）。

【０００６】しかしながら、ノボラック樹脂及び感光剤
の面からの改善策では、上記の手法を組み合わせてより
高解像度のレジスト材料の性能を実現するためには、レ
ジスト材料製造工程において多くの追加工程が必要とな
り、コストアップの原因につながる等の不利があった。
また、溶剤の面からの改善策においても、上記のように
レジスト材料中に１，２−キノンジアジド化合物等のモ
ノマーを感光剤として用いる限り、濾過後のモノマーの
析出によってレジスト材料の長期にわたる保存安定性が
低下する場合がある。このため、より有効な改善策が望
まれる。

【０００７】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、均一性に優れ、高感度・高解像度でパターン形状も
良好であり、耐熱性、残膜性及び貯蔵安定性に優れたポ
ジ型感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とす
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、上
記目的を達成するため鋭意研究を行った結果、下記構造
式（１）で示される繰り返し単位を有し、ポリスチレン
換算重量平均分子量が１０００〜１００００であるノボ
ラック樹脂の水酸基の水素原子を水素１原子あたり０．
０３〜０．２７モルの割合で１，２−ナフトキノンジア
ジドスルホニルエステル基で置換したノボラック樹脂を
乳酸エステル類と酢酸エステル類とを重量比９５：５〜
３０：７０の割合で混合した混合溶剤に溶解させること
により、均一性に優れ、高感度・高解像度でパターン形
状が良好であり、耐熱性、残膜性及び貯蔵安定性に優れ
たポジ型感放射線性樹脂組成物が得られることを見出し
た。

【０００９】

【化２】 （但し、式中、ｍは０〜３の整数を示す。）

【００１０】即ち、本出願人は、先に上記１，２−ナフ
トキノンジアジドスルホニルエステル基で部分置換した
ノボラック樹脂がアルカリ可溶性樹脂及び感光剤として
作用し、感光剤モノマー成分を含有しない一成分系レジ
スト組成物とすることが可能であることを明らかにした
（特開平６−２４２６０２号公報）が、更に検討を進め
た結果、上記部分置換ノボラック樹脂を乳酸エステル類
と酢酸エステル類との混合溶媒に溶解させて用いること
により、均一性、感度、解像度、パターン形状、耐熱
性、残膜性、貯蔵安定性が向上することを知見したもの
である。

【００１１】このようにアルカリ可溶性樹脂と感光剤と
の両方の性能を備えた部分置換ノボラック樹脂を乳酸エ
ステル類と酢酸エステル類との混合溶剤に溶解させるこ
とにより、かかる効果を与える理由は、必ずしも明らか
ではないが、一応次の通りと考えられる。

【００１２】本発明に係る上記部分置換ノボラック樹脂
は、そのベースノボラック樹脂である１，２−ナフトキ
ノンジアジドスルホニルエステル基で置換する前の未置
換のノボラック樹脂よりポリマー全体の極性が大きく、
このため上記部分置換ノボラック樹脂においては、ヒド
ロキシル基とエステル基の両方を兼ね備えた極性の大き
な溶媒、即ち、乳酸エステル類と酢酸エステル類とをそ
の混合比（重量部）が乳酸エステル類：酢酸エステル類
＝９５：５〜３０：７０の割合となるように混合した混
合溶媒が良溶媒として働き、このような溶媒中では、ポ
リマー分子鎖の末端間距離が大きくなり、ポリマー鎖が
広がっていると考えられる。一方、上記部分置換ノボラ
ック樹脂をエチルセロソルブアセテート等のヒドロキシ
ル基を持たない溶剤やエチルセロソルブ等のエステル基
を持たない溶剤に溶解させると、その溶剤の極性はヒド
ロキシル基とエステル基の両方を兼ね備えた溶剤よりも
小さくなるために、溶剤中での分子鎖の広がりも小さく
なると考えれる。分子鎖の広がりが小さいと、広がって
いる場合に比べてｉ線、あるいはｇ線の光の吸光度が大
きくなり、従ってそれがレジストの感度の低下を招くこ
とになると考えられる。また、分子鎖の広がりが小さい
とそれがミクロゲル発生の引き金となり、レジスト調製
後の濾過工程においてフィルターにトラップされること
なく通過してしまい、パーティクル発生の原因となり、
長期の保存安定性に劣る場合があるが、上記部分置換ノ
ボラック樹脂を乳酸エステル類と酢酸エステル類との混
合溶剤に溶解させた場合には、上記のようにポリマー鎖
が広がっていることから、ｉ線、ｇ線の光の吸光度が小
さく、非常に高感度であり、しかもミクロゲルの発生や
レジスト調製後の濾過工程におけるパーティクル発生が
ほとんどなく、長期の保存安定性に優れたレジスト材料
となると考えられるものである。

【００１３】従って、本発明は、上記構造式（１）で示
される繰り返し単位を有し、ポリスチレン換算重量平均
分子量が１０００〜１００００であるノボラック樹脂の
水酸基の水素原子を水素１原子あたり０．０３〜０．２
７モルの割合で１，２−ナフトキノンジアジドスルホニ
ルエステル基で置換したノボラック樹脂が乳酸エステル
類と酢酸エステル類とを重量比９５：５〜３０：７０の
割合で混合した混合溶剤に溶解されてなることを特徴と
するポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。

【００１４】以下、本発明につき更に詳細に説明する
と、本発明のポジ型感放射線性樹脂組成物では、成膜材
料レジン兼感光剤として下記構造式（１）で示される繰
り返し単位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量
（Ｍｗ）が１０００〜１００００であるノボラック樹脂
の水酸基の水素原子を水素１原子あたり０．０３〜０．
２７モルの割合で１，２−ナフトキノンジアジドスルホ
ニルエステル基で置換したノボラック樹脂を使用する。

【００１５】

【化３】 （但し、式中、ｍは０〜３の整数を示す。）

【００１６】上記構造式（１）で示される１，２−ナフ
トキノンジアジドスルホニルエステル基で置換したノボ
ラック樹脂としては、特開平６−２４２６０２号公報に
記載のものを好適に使用することができる。

【００１７】即ち、上記式（１）のノボラック樹脂は、
常法に従い、フェノール類とアルデヒド類とを重縮合す
ることによって得ることができる。

【００１８】ここで用いるフェノール類は、ｍ−クレゾ
ール、ｐ−クレゾール及びその混合物が好適であるが、
これらに限定されるものではなく、フェノール、各種異
性体キシレノール、各種異性体トリメチルフェノール及
びこれらの混合物などを用いることもできる。

【００１９】また、これらフェノール類と重縮合させる
アルデヒド類としてはホルムアルデヒドが好適である
が、これに限定されることはなく、アセトアルデヒド、
プロピルアルデヒド、ブチルアルデヒド等炭素数４以下
のアルデヒド及びそれらの混合物を用いることもでき
る。これらアルデヒドの使用量は、生成するノボラック
樹脂のＭｗを１０００〜１００００とするために、フェ
ノール類１モルに対し０．３〜１．５モルが好ましい。

【００２０】本重縮合において用いる触媒は、酸性触媒
で、シュウ酸、酢酸、ギ酸が好ましいが、塩酸、硝酸、
硫酸なども用いることができる。反応溶媒はメタノー
ル、ジオキサン等の親水性溶媒を用い、５０〜１５０℃
の温度で重縮合させることが好適である。重縮合終了後
は、未反応原料や触媒を除去するため、１３０〜２５０
℃で減圧ストリップするか、水洗後、ＥＣＡ（エチルセ
ロソルブアセテート）等の溶媒に抽出した後、１３０〜
２５０℃で減圧ストリップし、原料となるノボラック樹
脂を得ることが推奨される。

【００２１】このようにして得られるノボラック樹脂
は、Ｍｗが１０００〜１００００であることが必要であ
る。Ｍｗが１００００を超えるノボラック樹脂を用いる
と、解像度及び感度が低下し、Ｍｗが１０００より小さ
いものでは、耐熱性が劣る傾向にある。

【００２２】本発明は、かかるノボラック樹脂の水酸基
の水素原子の一部を１，２−ナフトキノンジアジドスル
ホニル基で置換したものをアルカリ可溶性樹脂及び感光
剤として使用するものである。

【００２３】この場合、１，２−ナフトキノンジアジド
スルホニル基の導入に用いる１，２−キノンジアジド化
合物としては、１，２−ナフトキノンジアジド−４−ス
ルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸エステル等が挙げられる。この時にノボラ
ック樹脂の水酸基の水素原子１個当り、０．０３〜０．
２７モル％の割合で１，２−ナフトキノンジアジドスル
ホニル基を置換する。０．２７モル％を超えて置換した
ものでは溶媒に溶けにくく、レジスト組成物としての調
合ができない。また、０．０３モル％より少なく置換し
たものでは、残膜性が劣り、レジスト組成物としては、
パターンが切れなくなり、使用し得ない。なお、上記
１，２−キノンジアジド化合物による部分エステル化方
法としては、部分エステル化の常法を採用し得る。

【００２４】本発明の組成物は、上記部分置換ノボラッ
ク樹脂を固形分として５〜６０重量％、特に１０〜５０
重量％となるように溶剤に溶解させ、必要に応じて下記
各種配合剤を添加して調製することが好ましい。

【００２５】本発明では、この際に用いられる上記部分
置換ノボラック樹脂を溶解させる溶剤として、ヒドロキ
シル基とエステル基の両方を兼ね備えた乳酸エステル類
と酢酸エステル類との混合溶剤を使用する。

【００２６】この場合、乳酸エステル類としては、例え
ば乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−プロピル、乳酸ｎ
−ブチル等が挙げられ、これらから選ばれる１種又は２
種以上が好適であり、また、酢酸エステル類としては、
例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢
酸ｎ−ブチル等が挙げられ、これらから選ばれる１種又
は２種以上が好適に使用される。

【００２７】上記乳酸エステル類と酢酸エステル類との
混合割合は、重量比で乳酸エステル類：酢酸エステル類
が９５：５〜３０：７０であり、好ましくは９５：５〜
５１：４９、特に９０：１０〜８０：２０であることが
高感度で保存安定性に優れたレジスト組成物を得るため
に好適である。乳酸エステル類の混合割合が全体の溶剤
量の９５重量部より多くなると、塗膜形成プロセスの際
のプリベーク時においてレジスト膜中に溶剤が多く残存
してしまうためにそれがレジスト膜の耐熱性の低下及び
解像度の低下を引き起し、酢酸エステル類の混合割合が
全体の溶剤量の７０重量部より多くなると、塗膜形成プ
ロセスの際のプリベーク時においてレジスト膜中の溶剤
が少なくなるため感度の低下、解像度の低下及び、上記
原因によるために長期の保存安定性の低下の原因とな
る。

【００２８】本発明の組成物においては、更に任意成分
として、必要に応じて上記部分置換ノボラック樹脂以外
の他の感光剤、染料、顔料、界面活性剤等の各種配合剤
を添加することができるが、これら任意成分の合計添加
量は、上記部分置換ノボラック樹脂１００重量部に対し
て５重量部以下、特０．０１〜３重量部の範囲で添加す
ることが望ましい。添加量が５重量部を超えると、長期
の保存安定性に欠ける場合がある。

【００２９】なお、界面活性剤としては、フロラードＦ
Ｃ−４３０，ＦＣ−４３１（商品名、住友スリーエム社
製）等が好適に使用できる。この界面活性剤の配合量
は、上記部分置換ノボラック樹脂１００重量部に対して
１重量部以下が好ましい。

【００３０】本発明のポジ型感放射線性樹脂組成物は、
常法に準じて調製することができる。例えばスピン塗布
法で所望の膜厚を得るのに好適な濃度に上記部分置換ノ
ボラック樹脂を上記混合溶剤に溶解させ、孔径０．０５
〜０．５μｍ程度のフィルターで濾過するなどの方法を
採用することができる。また、この組成物を使用するに
際しては、この組成物を例えばオートコーターを用いて
ヘキサメチルジシラザンにて蒸気処理したシリコンウエ
ハーにスピンコートし、プリベーク後、このフォトレジ
スト塗布したウエハーをマスクパターンを介して露光
し、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液など
で所定の時間現像し、水洗乾燥するなどの方法を採用し
得る。

【００３１】

【発明の効果】本発明のポジ型感放射線性樹脂組成物
は、均一性に優れ、高感度・高解像度でパターン形状が
良好であり、耐熱性、残膜性、貯蔵安定性に優れたもの
である。

【００３２】

【実施例】以下、実施例及び比較例を示して本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるも
のではない。

【００３３】〔合成例１〜４〕 〔Ｉ〕ノボラック樹脂の合成 撹拌機、コンデンサー、温度計を装着した３つ口フラス
コにｐ−クレゾール６４．９ｇ（０．６０ｍｏｌ）、ｍ
−クレゾール４３．３ｇ（０．４０ｍｏｌ）、３７重量
％ホルムアルデヒド水溶液４８．７ｇ（０．６０ｍｏ
ｌ）及び重縮合触媒であるシュウ酸２水和物０．３０ｇ
（２．４０×１０^-3ｍｏｌ）を仕込み、フラスコをオイ
ルバスに浸し、内温を１００℃に保持し、１時間重縮合
を行った。反応終了後、５００ｍｌのＭＩＢＫ（メチル
イソブチルケトン）を加え、３０分撹拌した後、水層を
分離し、ＭＩＢＫ層に抽出された生成物を３００ｍｌの
純水で５回水洗、分液し、エバポレーターにて、４ｍｍ
Ｈｇで１５０℃の減圧ストリップを行い、ノボラック樹
脂Ａ（８７ｇ）を得た。

【００３４】また、表１に示すようなｍ−クレゾール／
ｐ−クレゾール比、ホルマリン／クレゾール比となるよ
うに原料の使用量を変更する以外はノボラック樹脂Ａと
同様にして、ノボラック樹脂Ｂ、Ｃ、Ｄを合成した。

【００３５】得られたノボラック樹脂Ａ〜Ｄの重量平均
分子量（Ｍｗ）を表１に示す。なお、Ｍｗの測定は、東
ソー社製ＧＰＣカラムＧ−２０００Ｈ₆・２本、Ｇ−３
０００Ｈ₆・１本、Ｇ−４００００Ｈ₆・１本）を用い、
流量１．５ｍｌ／ｍｉｎ、溶出溶媒ＴＨＦ、カラム温度
４０℃で行った。

【００３６】

【表１】

【００３７】〔ＩＩ〕１，２−ナフトキノンジアジドス
ルホニル基置換ノボラック樹脂の合成 遮光下にて撹拌機、滴下ロート、コンデンサー、温度計
を装着した３つ口フラスコに上記方法で得たノボラック
樹脂Ａ１２５ｇ（１ｍｏｌ）、１，２−ナフトキノンジ
アジドスルホニルクロライド６７ｇ（０．２５ｍｏ
ｌ）、１，４−ジオキサン３００ｇ、メタノール１００
ｇを仕込み、１時間撹拌しながら溶解させた。フラスコ
を２５℃に調整したウォーターバスに浸し、トリエチル
アミン２６．５ｇ（０．２６３ｍｏｌ）を内温が３０℃
を超えないように滴下した。その後、１時間熟成させ、
０．１規定塩酸水１５００ｃｃ中に注ぎ込んで、上澄み
液をデカンテーションにて取り除き、析出物を８００ｇ
の酢酸エチルにて抽出し、水洗、分液した後、４０℃で
減圧ストリップを行い、１，２−ナフトキノンジアジド
スルホニル基置換（置換率２５ｍｏｌ％）ノボラック樹
脂Ａ’１９１ｇを得た。

【００３８】また、表２に示すノボラック樹脂を原料と
して使用する以外は１，２−ナフトキノンジアジドスル
ホニル基置換ノボラック樹脂Ａ’と同様にして、１，２
−ナフトキノンジアジドスルホニル基置換ノボラック樹
脂Ｂ’、Ｃ’、Ｄ’を合成した。得られた１，２−ナフ
トキノンジアジドスルホニル基置換ノボラック樹脂の
１，２−ナフトキノンジアジドスルホニル（ＮＱＤ）基
置換率は表２に示すとおりであった。

【００３９】

【表２】

【００４０】〔実施例１〕１，２−ナフトキノンジアジ
ドスルホニル基置換ノボラック樹脂Ａ’５０ｇを乳酸プ
ロピル／酢酸エチル＝７０／３０（重量比）混合溶剤１
５０ｇ、界面活性剤ＦＣ−４３０（商品名、住友スリー
エム社製）０．１２５ｇに溶解させた後、０．２μｍの
孔径のメンブレンフィルターにて濾過し、ポジ型感放射
線性樹脂組成物を調製した。

【００４１】次に、これを６インチ−ベアシリコンウエ
ハー上にスピンナーを用いて塗布し、ホットプレート上
で９０℃／９０ｓｅｃにてプリベークし、厚さ０．８μ
ｍのレジスト膜を形成し、ｉ線ステッパー（ニコン社製
ＮＲＳ−１７５５ｉ７，ＮＡ＝０．５０）を用いて露光
し、現像、リンスした後、該レジスト膜の最適露光量Ｅ
ｏｐを評価した。なお、パターン評価は日立社製ＳＥＭ
にて行った。

【００４２】この場合、５μｍＬ／Ｓで、最適焦点位置
においてライン＆スペースのボトム位置での１：１の寸
法比となるところをＥｏｐとして定めた。

【００４３】また、レジスト膜の耐熱性を評価した。こ
の場合、耐熱性データは、さらにホットプレート上で１
３０℃にて５分間加熱し、５μｍＬ／Ｓのパターン形状
が加熱後も保持されているかどうかで判断した。

【００４４】一方、長期保存安定性試験については次の
ように評価した。上記ポジ型感放射線性樹脂組成物溶液
のうち１４０ｇを７０ｇずつ１００ｍｌのガラスビン２
本に充填し、一方はサンプル調製直後に、もう一方のサ
ンプルは４０℃にコントロールされた恒温槽に入れ、４
ヶ月保存した後、リオン社製パーティクルカウンターＫ
Ｌ−２０にて残存微粒子数を測定することにより評価し
た。

【００４５】〔実施例２〕混合溶剤の種類及び比率を表
３に示すとおりに変えた以外は実施例１と同様にして、
ポジ型感放射線性樹脂組成物溶液を調製し、Ｅｏｐ、耐
熱性及び長期保存安定性を評価した。

【００４６】〔実施例３〕１，２−ナフトキノンジアジ
ドスルホニル基置換ノボラック樹脂Ｂ’５０ｇを乳酸プ
ロピル／酢酸エチル＝９０／１０（重量比）混合溶剤１
５０ｇ、界面活性剤ＦＣ−４３０（商品名、住友スリー
エム社製）０．１２５ｇに溶解させた後、０．２μｍの
孔径のメンブレンフィルターにて濾過し、ポジ型感放射
線性樹脂組成物溶液を調製する以外は実施例１と同様に
してＥｏｐ、耐熱性及び長期保存安定性を評価した。

【００４７】〔実施例４〕混合溶剤の種類及び比率を変
える以外は実施例３と同様にして組成物溶液を調製し、
Ｅｏｐ、耐熱性及び長期保存安定性を評価した。

【００４８】〔比較例１〕１，２−ナフトキノンジアジ
ドスルホニル基置換ノボラック樹脂Ａ’５０ｇをＥＣＡ
（エチルセロソルブアセテート）に溶解させた後、０．
２μｍの孔径のメンブレンフィルターにて濾過し、ポジ
型感放射線性樹脂組成物溶液を調製した以外は実施例１
と同様にしてＥｏｐ、耐熱性及び長期保存安定性を評価
した。

【００４９】〔比較例２〕１，２−ナフトキノンジアジ
ドスルホニル基置換ノボラック樹脂Ｃ’５０ｇをＥＣＡ
に溶解させた後、０．２μｍの孔径のメンブレンフィル
ターにて濾過してポジ型感放射線性樹脂組成物溶液を調
製した以外は実施例１と同様にしてＥｏｐ、耐熱性及び
長期保存安定性を評価した。

【００５０】〔比較例３〕１，２−ナフトキノンジアジ
ドスルホニル基置換ノボラック樹脂Ｄ’５０ｇを乳酸プ
ロピル／酢酸エチル＝８５／１５（重量比）混合溶剤１
５０ｇ、界面活性剤ＦＣ−４３０（商品名、住友スリー
エム社製）０．１２５ｇに溶解させた後、０．２μｍの
孔径のメンブレンフィルターにて濾過し、ポジ型感放射
線性樹脂組成物溶液を調製した以外は実施例１と同様に
してＥｏｐ、耐熱性及び長期保存安定性を評価した。

【００５１】〔比較例４〕上記ノボラック樹脂Ａ３６ｇ
と下記式（２）の感光剤１４ｇを１５０ｇのＥＣＡに溶
解させ、２成分系レジスト液を調製し、実施例１と同様
にしてＥｏｐ、耐熱性及び長期保存安定性を評価した。

【００５２】

【化４】

【００５３】〔比較例５〕上記ノボラック樹脂Ｂ３６ｇ
と上記式（２）の感光剤１４ｇを乳酸エチル／酢酸ｎ−
ブチル＝８５／１５（重量比）混合溶剤１５０ｇに溶解
させ、２成分系レジスト液を調製し、実施例１と同様に
してＥｏｐ、耐熱性及び長期保存安定性を評価した。

【００５４】〔比較例６〕乳酸プロピル／酢酸エチル＝
２９／７１（重量比）混合溶剤を用いた以外は実施例１
と同様にしてＥｏｐ、耐熱性及び長期保存安定性を評価
した。以上の結果を表３に示す。

【００５５】

【表３】

【００５６】表３の結果より、本発明のポジ型感放射線
性樹脂組成物は、高感度・高解像度でパターン形状が良
好であり、耐熱性、残膜性、貯蔵安定性に優れたもので
あることが確認された。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記構造式（１）で示される繰り返し単
   位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が１０００
   〜１００００であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子
   を水素１原子あたり０．０３〜０．２７モルの割合で
   １，２−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル基で
   置換したノボラック樹脂が乳酸エステル類と酢酸エステ
   ル類とを重量比９５：５〜３０：７０の割合で混合した
   混合溶剤に溶解されてなることを特徴とするポジ型感放
   射線性樹脂組成物。 【化１】 （但し、式中、ｍは０〜３の整数を示す。）
2. 【請求項２】 混合溶剤が乳酸メチル、乳酸エチル、乳
   酸ｎ−プロピル及び乳酸ｎ−ブチルから選ばれる１種又
   は２種以上の乳酸エステル類と、酢酸メチル、酢酸エチ
   ル、酢酸ｎ−プロピル及び酢酸ｎ−ブチルから選ばれる
   １種又は２種以上の酢酸エステル類との混合溶剤である
   請求項１記載のポジ型感放射線性樹脂組成物。