JPH09207346A - Manufacture of thermal ink jet recording head - Google Patents

Manufacture of thermal ink jet recording head

Info

Publication number
JPH09207346A
JPH09207346A JP1892096A JP1892096A JPH09207346A JP H09207346 A JPH09207346 A JP H09207346A JP 1892096 A JP1892096 A JP 1892096A JP 1892096 A JP1892096 A JP 1892096A JP H09207346 A JPH09207346 A JP H09207346A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
jet recording
heating resistor
recording head
ink jet
electrode wiring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP1892096A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Fujikawa
孝 藤川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP1892096A priority Critical patent/JPH09207346A/en
Publication of JPH09207346A publication Critical patent/JPH09207346A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a method for manufacturing a thermal ink jet recording head producing a high definition print. SOLUTION: In the method for manufacturing a thermal ink jet recording head wherein heating elements 4 for jetting ink droplet, electrode wiring 1, 5 for conducting the heating elements 4, layers 7, 8 for protecting the electrode wiring and heating elements 4 against ink, and a port for jetting ink subjected to the action of thermal energy are formed on a substrate 6 and control elements 12 for driving the heating elements 4 are built in the substrate 6, a multilayer structure of a part of electrode wiring for conducting the heating elements 4 and the electrode wiring to be connected with the control elements 12 is formed on the substrate 6.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液体噴射記録方式
の熱インクジェット記録ヘッドの製造方法の技術分野、
特に液体噴射する発熱抵抗体への電力供給に関する技術
分野に属するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technical field of a method of manufacturing a liquid jet recording type thermal ink jet recording head,
In particular, it belongs to the technical field relating to power supply to a heat generating resistor that ejects liquid.

【0002】[0002]

【従来の技術】インク吐出に熱を利用した熱インクジェ
ット記録ヘッドでは、発熱抵抗体に電流を通して発熱し
た結果発生する泡のエネルギーを、細いノズル内のイン
クに伝えてインクを吐出する方式であり、インク滴の吐
出方向が、発熱抵抗体に対して平行に吐出するものと、
発熱抵抗体に対して垂直に吐出するものとがある。
2. Description of the Related Art A thermal ink jet recording head that uses heat to eject ink is a method of ejecting the ink by transmitting the energy of bubbles generated as a result of passing a current through a heating resistor to heat the ink in a thin nozzle. The ejection direction of the ink droplets is parallel to the heating resistor,
Some of them discharge perpendicularly to the heating resistor.

【0003】従来、液体噴射記録方式の熱インクジェッ
ト記録ヘッドの製造方法は、シリコンウエハ等の基板に
熱インクジェットプリンタを駆動制御するための素子
(IC)を作りこむ工程、成膜工程、フォトリソ工程及
び、ノズル形成工程とによって製造されている。本発明
は、このドライバー作りこみ工程、成膜工程に関連する
ものであるため、ノズル形成工程の説明は省略する。
Conventionally, a method of manufacturing a thermal ink jet recording head of a liquid jet recording system includes a step of forming an element (IC) for driving and controlling a thermal ink jet printer on a substrate such as a silicon wafer, a film forming step, a photolithography step and , A nozzle forming process. Since the present invention relates to the driver manufacturing process and the film forming process, the description of the nozzle forming process will be omitted.

【0004】熱インクジェット記録ヘッドは、大きく分
けて、発熱抵抗体と電極配線を形成した同一の基板上に
前記の駆動制御素子を搭載したもの、発熱抵抗体と電極
配線のみを基板上に形成し、駆動制御用のドライバーを
別チップとしこれをワイヤーボンディング、又はTAB
接合で接続したものとに分かれる。
The thermal ink jet recording head is broadly divided into one in which the drive control element is mounted on the same substrate on which the heating resistor and the electrode wiring are formed, and only the heating resistor and the electrode wiring are formed on the substrate. , A separate driver for drive control, wire bonding or TAB
It is divided into those connected by joining.

【0005】図5は、従来の熱インクジジェット記録ヘ
ッドの基本的構成を示した説明図であり、図6は図5の
A−A’の断面を示した断面図である。この図5は、特
に熱インクジェット記録ヘッドの基本的な膜構成を示し
たものである。
FIG. 5 is an explanatory view showing the basic structure of a conventional thermal ink jet recording head, and FIG. 6 is a sectional view showing a section taken along the line AA 'in FIG. FIG. 5 particularly shows a basic film structure of a thermal ink jet recording head.

【0006】この両図に於て、6の基板シリコンウエハ
ー等の上に、絶縁蓄熱層2である熱酸化膜等が有り、そ
の上に順に発熱抵抗膜4、電極配線膜5の第1の保護膜
7(耐インク層)、第2の保護膜8(耐キャビテーショ
ン層)等がある。
In both of these figures, a thermal oxidation film or the like which is the insulating heat storage layer 2 is provided on a substrate silicon wafer 6 or the like, and a first heating resistance film 4 and an electrode wiring film 5 are formed thereon in this order. There are a protective film 7 (ink resistant layer), a second protective film 8 (anticavitation layer), and the like.

【0007】更に、これらにノズルを形成し外部との電
気信号接続をワイヤーボンディング、又はTAB接合等
で行い、熱インクジェット記録ヘッドとする。
Further, nozzles are formed in these, and electrical signal connection with the outside is performed by wire bonding, TAB bonding or the like to obtain a thermal ink jet recording head.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】従来の熱インクジェッ
ト記録ヘッドでは、発熱抵抗体に通電するための電極配
線を+(プラス)側、−(マイナス)側を同一層上に配
置しているために折り返し電極が必要になり、電極配線
幅が二倍必要になる。また、前記電極配線幅を細くする
と配線抵抗が上がり電力の損失が大きくなる。そのため
発熱抵抗体の密度(ドット密度)は、およそ360dp
i〜400dpiが限界となる。
In the conventional thermal ink jet recording head, the electrode wiring for energizing the heating resistor is arranged on the same layer on the + (plus) side and the- (minus) side. A folded electrode is required, and the electrode wiring width is doubled. Further, if the electrode wiring width is reduced, wiring resistance increases and power loss increases. Therefore, the density (dot density) of the heating resistor is about 360 dp.
The limit is i to 400 dpi.

【0009】本発明は、こうした従来技術の問題点を解
消した、発熱抵抗体の密度上昇を、発熱抵抗体配列を一
列で600dpiを可能とし、より高精細な印字が可能
な、熱インクジェット記録ヘッドを提供することを目的
とするものである。
The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art and makes it possible to increase the density of the heating resistors by 600 dpi in one row of the heating resistor array, thereby enabling higher-definition printing, and a thermal ink jet recording head. It is intended to provide.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、下記構成の製
造方法によって、前記の目的を達成するものである。
The present invention achieves the above object by a manufacturing method having the following constitution.

【0011】(1)基板には発熱抵抗体を駆動する駆動
電気回路が組み込まれており、液滴を吐出させる前記発
熱抵抗体と、該発熱抵抗体に通電する電極配線と、前記
発熱抵抗体と電極配線とを吐出させる液体から保護する
保護層と、前記発熱抵抗体に通電したときの発熱エネル
ギーを液体に作用させる液路と、該熱エネルギーが作用
した液体を吐出させる吐出口とを基板上に形成する熱イ
ンクジェット記録ヘッドの製造方法であって、前記発熱
抵抗体に通電する電極配線の一部と前記駆動電気回路に
接続する電極配線との多層構造を前記基板上に形成する
ことを特徴とする熱インクジェット記録ヘッドの製造方
法。
(1) A drive electric circuit for driving a heating resistor is incorporated in the substrate, and the heating resistor for discharging droplets, electrode wiring for energizing the heating resistor, and the heating resistor. A substrate having a protective layer for protecting the electrode and the electrode wiring from a liquid for ejecting, a liquid passage for causing heat generation energy when the heating resistor is energized to act on the liquid, and an ejection port for ejecting the liquid on which the heat energy acts. A method of manufacturing a thermal ink jet recording head formed on the substrate, comprising: forming a multi-layered structure of a part of an electrode wiring for energizing the heating resistor and an electrode wiring connected to the driving electric circuit on the substrate. A method of manufacturing a thermal ink jet recording head having a feature.

【0012】(2)上記(1)記載の熱インクジェット
記録ヘッドの製造方法であって、前記発熱抵抗体に接続
する電極配線のプラス電極またはマイナス電極のどちら
か一方の一部または全部を前記発熱抵抗体の下層の蓄熱
層より下層に配置し形成することを特徴とする熱インク
ジェット記録ヘッドの製造方法。
(2) In the method of manufacturing the thermal ink jet recording head described in (1) above, a part or all of either the plus electrode or the minus electrode of the electrode wiring connected to the heating resistor is heated to generate heat. A method of manufacturing a thermal ink jet recording head, which comprises arranging and forming the lower layer of a resistor below a heat storage layer.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明は、熱インクジェット記録
ヘッドのドライバー搭載ヘッドにおいて、ドライバー搭
載工程で使用するA1配線膜を、発熱抵抗体への電力供
給する折り返し電極配線に使用することを特徴とする。
すなわち、折り返し部分の電極配線が蓄熱層であるシリ
コンの酸化物又は窒化物の下層に配置された多層構造と
する。上記実施形態の詳細を実施例により説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention is characterized in that, in a driver mounting head of a thermal ink jet recording head, an A1 wiring film used in a driver mounting step is used for a folded electrode wiring for supplying power to a heating resistor. To do.
That is, the electrode wiring in the folded portion has a multi-layer structure in which it is arranged under the oxide or nitride of silicon which is the heat storage layer. The details of the above embodiment will be described by way of examples.

【0014】[0014]

【実施例】図1は、本発明の一実施例の要部の構成を示
す説明図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is an explanatory view showing the structure of the essential part of an embodiment of the present invention.

【0015】図1の(a)は、本発明の一実施例の要部
平面図であり、(b)は図1の(a)のA−A’の断面
図である。図2は一実施例で製造した熱インクジェット
記録ヘッドのインク滴の吐出方向を示した断面図であ
る。
FIG. 1A is a plan view of an essential part of an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a sectional view taken along the line AA 'of FIG. FIG. 2 is a sectional view showing the ejection direction of ink droplets of the thermal ink jet recording head manufactured in one example.

【0016】1は下層折り返し電極配線、2は絶縁及び
断熱のための蓄熱層、3はコンタクトホール、4は発熱
抵抗膜、5は上層A1電極配線である。
Reference numeral 1 is a lower layer folded electrode wiring, 2 is a heat storage layer for insulation and heat insulation, 3 is a contact hole, 4 is a heating resistance film, and 5 is an upper layer A1 electrode wiring.

【0017】本発明による熱インクジェット記録ヘッド
の製造方法の実施例を以下に順を追って説明する。
An embodiment of a method of manufacturing a thermal ink jet recording head according to the present invention will be described below step by step.

【0018】熱インクジェット記録ヘッドの、駆動制御
用の素子12(パワートランジスタ、NAND回路等)
を半導体技術を用いて、あらかじめ作り込んでおく。そ
して発熱抵抗体、電極配線、保護膜及び、インク滴を吐
出するためのノズルを配置する。駆動制御用素子12の
作り込み時の、電極配線を配置するとき、発熱抵抗体部
4の折り返し側の電極配線も同時に幅8μmでパターニ
ングしておき、発熱抵抗体4とは反対の電極をVHライ
ンに接続する。
A drive control element 12 (power transistor, NAND circuit, etc.) of the thermal ink jet recording head.
Are created in advance by using semiconductor technology. Then, a heating resistor, electrode wiring, a protective film, and a nozzle for ejecting ink droplets are arranged. When arranging the electrode wiring at the time of making the drive control element 12, the electrode wiring on the folded side of the heating resistor portion 4 is also patterned at the same time with a width of 8 μm, and the electrode opposite to the heating resistor 4 is VH. Connect to the line.

【0019】次に、この駆動制御用素子12の上に、熱
インクジェット記録素子を作るためにPCVD等を使用
して絶縁及び蓄熱層であるシリコンの酸化物又は窒化物
の膜2等を成膜する。前記の駆動制御素子12の配線1
をパターニングしたときに同時に作り込んだ発熱抵抗体
部4の折り返し側電極配線の発熱抵抗体側部に、上部熱
インクジェット記録素子の折り返し電極配線側と電気的
に導通するように、前記作成のCVDのシリコンの酸化
物又は窒化物の膜2にコンタクトホール3をあけてお
く。本実施例では、電気抵抗を減らすため4X21μm
の長方形のコンタクトホールを開ける。
Next, a film 2 of silicon oxide or nitride, which is an insulating and heat storage layer, is formed on the drive control element 12 by using PCVD or the like to form a thermal ink jet recording element. To do. Wiring 1 of the drive control element 12
Of the above-mentioned CVD so as to be electrically connected to the heat generating resistor side of the return electrode wiring of the heat generating resistor portion 4 which was simultaneously formed when the A contact hole 3 is opened in the silicon oxide or nitride film 2. In this embodiment, in order to reduce the electric resistance, 4 × 21 μm
Open the rectangular contact hole.

【0020】更に、前記のCVDで作成したシリコンの
酸化物又は窒化物の膜2の上に、発熱抵抗体であるTa
N膜4等を成膜し、更に、電極配線膜5であるA1等を
スパッタ装置等の成膜装置で成膜し、それぞれをフォト
リソ技術を使用してパターニングする。このとき、パタ
ーニング位置は、図1(a)に示す様に、発熱抵抗体4
と下層の折り返し電極配線1との位置が、3μmとなる
位置にパターニングする。
Further, Ta, which is a heating resistor, is formed on the silicon oxide or nitride film 2 formed by the above CVD.
The N film 4 and the like are formed, further, the electrode wiring film A1 and the like are formed by a film forming device such as a sputtering device, and each is patterned by using a photolithography technique. At this time, as shown in FIG. 1A, the patterning position is the heating resistor 4
Then, patterning is performed so that the position of the folded electrode wiring 1 in the lower layer becomes 3 μm.

【0021】次に、図2の断面図に示すように、耐イン
ク層であるシリコンの酸化物又は窒化物等の第1の保護
膜7、耐キャビテーション層であるTa膜等の第2の保
護膜8をスパッタ装置等で成膜しパターニングする。更
に、ノズル9、インク供給部10を配置し電気的配線を
接続して熱インクジェット記録ヘッドとする。本実施例
で製造した熱インクジェット記録ヘッドは発熱抵抗体と
平行にインク滴が吐出する図2に示すタイプのものであ
る。なお図2に示す11はノズル壁であり、12は、前
記の駆動回路部(ドライバー)である。
Next, as shown in the cross-sectional view of FIG. 2, a first protective film 7 such as a silicon oxide or a nitride which is an ink resistant layer and a second protective film such as a Ta film which is an cavitation resistant layer. The film 8 is formed by a sputtering apparatus or the like and patterned. Further, the nozzle 9 and the ink supply unit 10 are arranged and electrical wiring is connected to form a thermal ink jet recording head. The thermal ink jet recording head manufactured in this embodiment is of the type shown in FIG. 2 in which ink droplets are ejected in parallel with the heating resistor. In addition, 11 shown in FIG. 2 is a nozzle wall, and 12 is the above-mentioned drive circuit section (driver).

【0022】上記実施例によって作成された、熱インク
ジェット記録ヘッドの発熱抵抗体部分の詳細な寸法を図
1(a)に示す。尚、本実施例では、28μm幅の発熱
抵抗体4をパターニングして作成した。下層の折り返し
電極配線1の幅を8μmとした場合、発熱抵抗体4との
間隔が3μm取れることになる。更に、隣の発熱抵抗体
との間隔が3μmで合計42μmのピッチとなり、60
0dpiとすることができる。
FIG. 1A shows the detailed dimensions of the heating resistor portion of the thermal ink jet recording head prepared in the above embodiment. In this example, the heating resistor 4 having a width of 28 μm was patterned and created. When the width of the folded electrode wiring 1 in the lower layer is 8 μm, the distance from the heating resistor 4 is 3 μm. Furthermore, when the distance between adjacent heating resistors is 3 μm, the total pitch is 42 μm,
It can be 0 dpi.

【0023】(他の実施例)図1の(a)は、本発明の
他の実施例の要部平面図でもあり、図1の(b)は前記
図1の(a)のA−A’の断面図である。図3は他の実
施例で製造された熱インクジェツト記録ヘッドのインク
滴吐出方向を示した断面図である。図4は本実施例の発
熱抵抗体の配置を示した説明図である。
(Other Embodiments) FIG. 1 (a) is also a plan view of essential parts of another embodiment of the present invention, and FIG. 1 (b) is a sectional view taken along the line A--A in FIG. 1 (a). FIG. FIG. 3 is a sectional view showing the ink droplet ejection direction of a thermal ink jet recording head manufactured in another embodiment. FIG. 4 is an explanatory view showing the arrangement of the heating resistors of this embodiment.

【0024】1は下層折り返し電極配線、2は絶縁及び
断熱のための蓄熱層、3はコンタクトホール、4は発熱
抵抗膜、5は上層A1電極配線である。
Reference numeral 1 is a lower layer folded electrode wiring, 2 is a heat storage layer for insulation and heat insulation, 3 is a contact hole, 4 is a heating resistance film, and 5 is an upper layer A1 electrode wiring.

【0025】本発明による熱インクジェット記録ヘッド
の製造方法の他の実施例を以下に順を追って説明する。
Another embodiment of the method for manufacturing a thermal ink jet recording head according to the present invention will be described below in order.

【0026】熱インクジェツト記録ヘッドの、駆動制御
用の素子(パワートランジスタ、NAND回路等)12
を半導体技術を用いて、あらかじめSi基板6に作り込
んでおく。そして発熱抵抗体、電極配線、保護膜及び、
インク滴を吐出するためのノズルを配置する。このと
き、図4に示すようにインク供給口10の幅を隔てた左
右対象の位置に、ヒータ位置計算で半ピッチ分ずらし
て、左右対照となるように同じ形状の発熱抵抗体4を作
り込んでおく。駆動制御素子12の作り込み時の、A1
配線を配置するとき、発熱抵抗体部の折り返し側の電極
配線も同時に幅8μmでパターニング配置しておき、発
熱抵抗体4とは反対の電極をVHラインに接続する。
Drive control elements (power transistors, NAND circuits, etc.) 12 of the thermal ink jet recording head
Are fabricated in advance on the Si substrate 6 using semiconductor technology. And the heating resistor, the electrode wiring, the protective film, and
A nozzle for ejecting ink droplets is arranged. At this time, as shown in FIG. 4, the heater resistors 4 having the same shape are formed in left and right symmetrical positions across the width of the ink supply port 10 by a half pitch in the heater position calculation so as to be symmetrical. Leave. A1 when the drive control element 12 is built
When arranging the wiring, the electrode wiring on the folded back side of the heating resistor portion is also patterned and arranged with a width of 8 μm at the same time, and the electrode opposite to the heating resistor 4 is connected to the VH line.

【0027】次に、駆動制御用素子12の上に、熱イン
クジェット記録素子を作るためにCVD等を使用して絶
縁及び蓄熱層であるシリコンの酸化物又は窒化物の膜2
等を成膜する。前記、駆動制御素子12のA1配線1を
パターニングしたときに同時に作り込んだ発熱抵抗体部
4の折り返し側電極配線の発熱抵抗体部に、上記熱イン
クジェット記録素子の折り返し電極配線側て電気的に導
通するように、前記作成のCVDのシリコンの酸化物又
は窒化物の膜2にコンタクトホール3を開けておく。本
実施例では、電気抵抗を減らすため4X21μmの長方
形のコンタクトホールを開ける。
Next, a film 2 of silicon oxide or nitride, which is an insulating and heat storage layer, is formed on the drive control element 12 by using CVD or the like to form a thermal ink jet recording element.
Etc. are formed into a film. The heating resistor portion of the electrode wiring on the folded side of the heating resistor portion 4 that was formed at the same time when the A1 wiring 1 of the drive control element 12 was patterned was electrically connected to the folded electrode wiring side of the thermal ink jet recording element. A contact hole 3 is opened in the above-described CVD silicon oxide or nitride film 2 so as to be conductive. In this embodiment, a rectangular contact hole of 4 × 21 μm is opened to reduce the electric resistance.

【0028】更に、前記P−CVDで作成したシリコン
の酸化物又は窒化物の膜2の上に、発熱抵抗体であるT
aN膜4等を成膜し、更に、電極配線膜5であるA1等
をスパッタ装置等の成膜装置で成膜し、それぞれをフォ
トリソ技術を使用してパターニングする。このとき、パ
ターニング位置は図1(a)に示すように、発熱抵抗体
4と下層の折り返し電極配線1との位置が、3μmとな
る位置に来るようにパターニングする。次に、図3の断
面図に示すように、耐インク層であるシリコンの酸化物
又は窒化物の等の第1の保護膜7、耐キャビテーョン層
であるTa膜等の第2の保護膜8をスパッタ装置等で成
膜しパターニングする。次に、異方性エッチング又は、
サンドブラスト等を使用して、インク供給口10を開け
る。
Further, on the silicon oxide or nitride film 2 formed by the P-CVD, a T is a heating resistor.
The aN film 4 and the like are formed, and the electrode wiring film A1 and the like are further formed by a film forming device such as a sputtering device, and each is patterned using a photolithography technique. At this time, as shown in FIG. 1A, the patterning position is patterned so that the position between the heating resistor 4 and the lower folded electrode wiring 1 is 3 μm. Next, as shown in the sectional view of FIG. 3, a first protective film 7 such as a silicon oxide or a nitride which is an ink resistant layer, and a second protective film 8 such as a Ta film which is an anticavitation layer. Is formed by a sputtering device or the like and patterned. Next, anisotropic etching or
The ink supply port 10 is opened by using sandblast or the like.

【0029】更に、ノズル9、インク供給部10を配置
し電気的配線を接続して熱インクジェツト記録ヘッドと
する。
Further, the nozzle 9 and the ink supply unit 10 are arranged and electrical wiring is connected to form a thermal ink jet recording head.

【0030】上記、実施例によって作成された熱インク
ジェット記録ヘッドの発熱抵抗体部分の詳細な寸法を図
1(a)に示す。尚、本実施例では、28μm幅の発熱
抵抗体4をパターニングして作成した。下層の折り返し
電極配線1の幅を8μmとした場合、発熱抵抗体4との
間隔が3μm取れることになる。更に隣の発熱抵抗体と
の間隔が3μmで合計42μmのピッチとなり、600
dpiとすることができる。
FIG. 1A shows the detailed dimensions of the heating resistor portion of the thermal ink jet recording head prepared in the above embodiment. In this example, the heating resistor 4 having a width of 28 μm was patterned and created. When the width of the folded electrode wiring 1 in the lower layer is 8 μm, the distance from the heating resistor 4 is 3 μm. Furthermore, when the distance between adjacent heating resistors is 3 μm, the total pitch is 42 μm.
It can be dpi.

【0031】更に、図4に示す様に、発熱抵抗体4をイ
ンク供給口10を隔てた左右対照の位置に、半ピッチ分
ずらして配置することによって、1200dpiとな
る。尚、この熱インクジェット記録ヘッドは、前記、実
施例とは異なり、図3に示すように発熱抵抗体4の面に
対して垂直に吐出するタイプのものである。
Further, as shown in FIG. 4, by disposing the heating resistors 4 at the left and right symmetrical positions across the ink supply port 10 with a shift of a half pitch, a total of 1200 dpi is obtained. Note that this thermal ink jet recording head is of a type that discharges perpendicularly to the surface of the heating resistor 4, as shown in FIG. 3, unlike the above-described embodiment.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ドライバ搭載工程によってあらかじめ折り返し電極配線
を蓄熱層下に作成しておくことにより、前記方法によっ
て完成された熱インクジェット記録ヘッドは、従来工法
に比較して、高密度のヒータ配置が可能となる。また、
インク滴がヒータ面に対して平行吐出するヘッドの場合
は600dpi。インク滴がヒータ面に対して垂直に吐
出する構成では、ヒータを半ピッチずらして二例に配置
することにより1200dpiが可能となり、より高精
細な印字が可能な熱インクジェット記録ヘッドの製造提
供が可能となる。
As described above, according to the present invention,
By forming the folded electrode wiring under the heat storage layer in advance in the driver mounting step, the thermal ink jet recording head completed by the above method can have a higher density heater arrangement than the conventional method. Also,
600 dpi for a head that ejects ink droplets in parallel to the heater surface. In the configuration in which ink droplets are ejected perpendicularly to the heater surface, the heaters can be shifted by half a pitch and arranged in two cases to achieve 1200 dpi, and it is possible to manufacture and provide a thermal ink jet recording head capable of higher-definition printing. Becomes

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の一実施例の要部説明図である。FIG. 1 is an explanatory view of a main part of an embodiment of the present invention.

【図2】 一実施例で製造した熱インクジェット記録ヘ
ッドのインク滴の吐出方向を示した断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the ejection direction of ink droplets of the thermal inkjet recording head manufactured in one example.

【図3】 他の実施例のインク滴の吐出方向を示した断
面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing the ejection direction of ink droplets of another embodiment.

【図4】 他の実施例の1200dpiヒータ配置を示
した説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a 1200 dpi heater arrangement according to another embodiment.

【図5】 従来の熱インクジェット記録ヘッドの要部の
構造を示す一部切断斜視図である。
FIG. 5 is a partially cutaway perspective view showing a structure of a main part of a conventional thermal inkjet recording head.

【図6】 従来の熱インクジェツト記録ヘッドの発熱抵
抗体の膜構造を示した断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a film structure of a heating resistor of a conventional thermal ink jet recording head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 下層折り返し電極配線 2 絶縁蓄熱層(CVDのシリコンの酸化物又は窒化物
の膜) 3 コンタクトホール 4 発熱抵抗体膜 5 上層電極配線膜 6 Si基板 7 第1の保護膜(耐インク層) 8 第2の保護膜(耐キャビテーション層) 9 ノズル部 10 インク供給口 11 ノズル壁 12 駆動制御用素子(ドライバー)
1 Lower Layer Folded Electrode Wiring 2 Insulation Thermal Storage Layer (CVD Silicon Oxide or Nitride Film) 3 Contact Hole 4 Heating Resistor Film 5 Upper Electrode Wiring Film 6 Si Substrate 7 First Protective Film (Inkproof Layer) 8 Second protective film (anti-cavitation layer) 9 Nozzle section 10 Ink supply port 11 Nozzle wall 12 Drive control element (driver)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板には発熱抵抗体を駆動する駆動電気
回路が組み込まれており、液滴を吐出させる前記発熱抵
抗体と、該発熱抵抗体に通電する電極配線と、前記発熱
抵抗体と電極配線とを吐出させる液体から保護する保護
層と、前記発熱抵抗体に通電したときの発熱エネルギー
を液体に作用させる液路と、該熱エネルギーが作用した
液体を吐出させる吐出口とを基板上に形成する熱インク
ジェット記録ヘッドの製造方法であって、 前記発熱抵抗体に通電する電極配線の一部と前記駆動電
気回路に接続する電極配線との多層構造を前記基板上に
形成することを特徴とする熱インクジェット記録ヘッド
の製造方法。
1. A drive electric circuit for driving a heating resistor is incorporated in a substrate, the heating resistor for discharging droplets, electrode wiring for energizing the heating resistor, and the heating resistor. On the substrate, there are provided a protective layer for protecting the electrode wiring from a liquid ejected, a liquid passage for causing the heat generation energy when the heating resistor is energized to act on the liquid, and an ejection port for ejecting the liquid on which the heat energy acts. A method of manufacturing a thermal ink jet recording head, wherein a multi-layer structure of a part of the electrode wiring that conducts electricity to the heating resistor and an electrode wiring that connects to the driving electric circuit is formed on the substrate. And a method for manufacturing a thermal ink jet recording head.
【請求項2】 請求項1記載の熱インクジェット記録ヘ
ッドの製造方法であって、前記発熱抵抗体に接続する電
極配線のプラス電極またはマイナス電極のどちらか一方
の一部または全部を前記発熱抵抗体の下層の蓄熱層より
下層に配置し形成することを特徴とする熱インクジェッ
ト記録ヘッドの製造方法。
2. The method for manufacturing a thermal ink jet recording head according to claim 1, wherein a part or all of one of a positive electrode and a negative electrode of electrode wiring connected to the heating resistor is the heating resistor. A method of manufacturing a thermal ink jet recording head, characterized in that the thermal ink jet recording head is formed by arranging the heat storage layer below the lower heat storage layer.
JP1892096A 1996-02-05 1996-02-05 Manufacture of thermal ink jet recording head Withdrawn JPH09207346A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1892096A JPH09207346A (en) 1996-02-05 1996-02-05 Manufacture of thermal ink jet recording head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1892096A JPH09207346A (en) 1996-02-05 1996-02-05 Manufacture of thermal ink jet recording head

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09207346A true JPH09207346A (en) 1997-08-12

Family

ID=11985059

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1892096A Withdrawn JPH09207346A (en) 1996-02-05 1996-02-05 Manufacture of thermal ink jet recording head

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09207346A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006009236A1 (en) * 2004-07-22 2006-01-26 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet recording head and ink jet recording apparatus
WO2006112526A1 (en) * 2005-04-18 2006-10-26 Canon Kabushiki Kaisha Liquid discharge head, ink jet recording head and ink jet recording apparatus
WO2008057334A1 (en) * 2006-11-03 2008-05-15 Eastman Kodak Company Inkjet printhead with backside power return conductor

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006009236A1 (en) * 2004-07-22 2006-01-26 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet recording head and ink jet recording apparatus
US7690767B2 (en) 2004-07-22 2010-04-06 Canon Kabushiki Kaisha Ink jet recording head and ink jet recording apparatus
WO2006112526A1 (en) * 2005-04-18 2006-10-26 Canon Kabushiki Kaisha Liquid discharge head, ink jet recording head and ink jet recording apparatus
EP1874543A1 (en) * 2005-04-18 2008-01-09 Canon Kabushiki Kaisha Liquid discharge head, ink jet recording head and ink jet recording apparatus
EP1874543A4 (en) * 2005-04-18 2012-03-21 Canon Kk Liquid discharge head, ink jet recording head and ink jet recording apparatus
US8177330B2 (en) 2005-04-18 2012-05-15 Canon Kabushiki Kaisha Liquid discharge head, ink jet recording head and ink jet recording apparatus
WO2008057334A1 (en) * 2006-11-03 2008-05-15 Eastman Kodak Company Inkjet printhead with backside power return conductor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7472975B2 (en) Substrate for ink jet printing head, ink jet printing head, ink jet printing apparatus, and method of blowing fuse element of ink jet printing head
TW200823068A (en) Liquid jet head
JP2006123551A (en) Nozzle plate, inkjet printing head with the same and manufacturing method of nozzle plate
JP5038460B2 (en) Liquid discharge head
WO2001074592A1 (en) Multiple-nozzle ink-jet head and method of manufacture thereof
JP2006051769A (en) Substrate for ink-jet head, method for manufacturing the substrate and ink-jet head using the substrate
JP3397473B2 (en) Liquid ejecting head using element substrate for liquid ejecting head, and liquid ejecting apparatus using the head
US5821960A (en) Ink jet recording head having first and second connection lines
JP3533234B2 (en) Parts for printer printheads
KR101313946B1 (en) Liquid-discharge-head substrate, method of manufacturing the same, and liquid discharge head
US6357862B1 (en) Substrate for ink jet recording head, ink jet recording head and method of manufacture therefor
JP3200098B2 (en) Ink jet recording head and ink jet recording apparatus
JP2840271B2 (en) Recording head
JPH09207346A (en) Manufacture of thermal ink jet recording head
JPH1170658A (en) Recording element unit, ink jet recording element unit, ink jet cartridge, and ink jet recording apparatus
JP3382424B2 (en) Substrate for inkjet head, method for manufacturing inkjet head and inkjet device, substrate for inkjet head, inkjet head and inkjet device
US6231165B1 (en) Inkjet recording head and inkjet apparatus provided with the same
JP2001341309A (en) Thermal ink jet head
JP3618960B2 (en) Ink jet recording head and ink jet apparatus equipped with the head
JPH06238901A (en) Ink-jet recording device
JP3573539B2 (en) Ink jet recording head
JP3804011B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JPH11198387A (en) Manufacture of ink jet recording head
JPH10235865A (en) Ink-jet head, ink-jet cartridge, and ink-jet print apparatus
JPH0924612A (en) Ink jet head

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20030506