JPH09184787A - Analysis/evaluation device for optical lens - Google Patents

Analysis/evaluation device for optical lens

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JPH09184787A
JPH09184787A JP34326995A JP34326995A JPH09184787A JP H09184787 A JPH09184787 A JP H09184787A JP 34326995 A JP34326995 A JP 34326995A JP 34326995 A JP34326995 A JP 34326995A JP H09184787 A JPH09184787 A JP H09184787A
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JP
Japan
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lenses
lens
optical
interference
interference fringes
Prior art date
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Application number
JP34326995A
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Japanese (ja)
Inventor
Junichi Kitagawa
純一 北川
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately measure, analyze, and evaluate an optical lens such as an object lens for microscope and a stepper lens with improved performance. SOLUTION: A flux of light (a) emitted from an interferometer 1 passes through lenses 2 and 3 to be detected being arranged oppositely, is reflected by a reference means 4, and returns to an interference fringe generation means 1 again via the lenses 2 and 3 to be detected, thus generating interference fringes. Data are measured by a light reception means 5 for receiving generated interference fringes and a measuring means 6. An analyzing means 7 analytically converts measured interference fringes to transmission wave front. The obtained interference fringes or transmission wave fronts are stored by a storage means 8 and are subjected to specific operation processing by a processing means 9.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、干渉計を用いて光
学レンズの性能を測定評価する方法に関し、特に、顕微
鏡用対物レンズや縮小露光投影レンズ(いわゆるステッ
パーレンズ)に代表されるような高性能かつ高精度の光
学レンズ用解析評価装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for measuring and evaluating the performance of an optical lens by using an interferometer, and more particularly to a method such as a microscope objective lens or a reduction exposure projection lens (so-called stepper lens). The present invention relates to a high-performance and highly accurate analysis / evaluation apparatus for optical lenses.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、代表的な干渉計としてフィゾー
(Fizeau)型とトワイマンーグリーン(Twym
an−Green)型が古くから知られており、これら
の干渉計と干渉計測に関してはDaniel Mala
caraの『Optical Shop Testin
g』(John Wiley & Sons,Inc.
1978)に詳述されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a typical interferometer, a Fizeau type and a Twyman-Green (Twym) type are used.
(an-Green) type has been known for a long time, and regarding these interferometers and interferometers, Daniel Mala
cara's "Optical Shop Testin"
g ”(John Wiley & Sons, Inc.
1978).

【0003】一例として、この本に紹介されるトワイマ
ンーグリーン型干渉計を図14に示す。これは参照ミラ
ーを用いて被検レンズの透過波面を測定する装置であ
る。また同本に紹介されている顕微鏡用対物レンズの測
定例を図15に示す。これらは、前述の手法を利用した
ものであるが、図15(d)は、2つの対物レンズを対
向させて2本分の透過波面を測定するものである(以下
この方式を「対向方式」という)。
As an example, the Twyman-Green type interferometer introduced in this book is shown in FIG. This is a device that measures the transmitted wavefront of the lens under test using a reference mirror. FIG. 15 shows a measurement example of the microscope objective lens introduced in the same book. Although these methods use the above-described method, FIG. 15 (d) shows a method in which two objective lenses are opposed to each other and two transmitted wave fronts are measured (hereinafter, this method is referred to as "opposed method"). That).

【0004】また特開昭62─127601号公報に
は、球欠の深い球面ミラーでも高精度に測定するための
装置が記載されている。対物レンズの透過率を測定する
方法としては、特開平7─92084号公報又は特開平
7─92085号公報に記載されたものがある。これら
の方法は有限系か無限系かの差異はあるが、図15
(d)に示す方法を利用したものであり、高精度に透過
率を測定することができる。
Further, Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-127601 discloses an apparatus for measuring a spherical mirror having a deep spherical portion with high accuracy. As a method for measuring the transmittance of the objective lens, there is a method described in JP-A-7-92084 or JP-A-7-92085. Although there is a difference between these methods as a finite system or an infinite system, FIG.
Since the method shown in (d) is used, the transmittance can be measured with high accuracy.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】一般に顕微鏡用対物レ
ンズは高性能かつ高精度に設計、製造されている。ここ
で、「高性能」とは、高NA化されていると共に、広範
囲にわたり諸収差が良好に補正設計され、高解像度の顕
微鏡像が実現されていることを指す。また、このような
「高性能」を保持するためには、設計された各光学部品
を高精度に製作し、かつ、組み立てる製造技術が要求さ
れる。
Objective lenses for microscopes are generally designed and manufactured with high performance and high precision. Here, “high performance” means that the NA is increased and various aberrations are satisfactorily corrected and designed over a wide range to realize a high-resolution microscope image. Further, in order to maintain such "high performance", a manufacturing technique for manufacturing and assembling each designed optical component with high accuracy is required.

【0006】しかしながら、このような顕微鏡用対物レ
ンズの性能評価は基準サンプルなどを用いた目視観察
(いわゆる官能評価)が主流であり、実際には、非常に
微妙な差異や不具合を発見することが難しい場合があ
る。
However, the performance evaluation of such an objective lens for a microscope is mainly conducted by visual observation (so-called sensory evaluation) using a reference sample or the like, and in practice, very subtle differences and defects can be found. It can be difficult.

【0007】従来、前述した干渉計測を利用して対物レ
ンズを評価する方法が試みられているが、この方法のみ
では、特に、NAが中間程度以下かつ乾燥系でないと測
定が困難であった。対物レンズを測定するには図14
(a)又は図15(a)に示した球面凹ミラーを用いる
のが適当である。その他では、図14(b)に示す凸ミ
ラーでは作動距離のない対物レンズには不向きであり、
図14(c)又は図15(b)に示す平面ミラーでは非
対称な成分の干渉縞を得ることができず、図15(c)
に示す半球プリズムを用いるとそこでの収差が問題にな
るなどの機構上の問題が生じてしまう。
Conventionally, a method for evaluating an objective lens by utilizing the above-mentioned interferometric measurement has been tried, but it is difficult to measure with this method only, especially when the NA is not higher than an intermediate level and the system is not dry. To measure the objective lens, see FIG.
It is suitable to use the spherical concave mirror shown in (a) or FIG. 15 (a). In other cases, the convex mirror shown in FIG. 14B is not suitable for an objective lens having no working distance,
The plane mirror shown in FIG. 14 (c) or FIG. 15 (b) cannot obtain the interference fringes of the asymmetrical component, and FIG.
When the hemispherical prism shown in (1) is used, mechanical problems such as aberrations in the prism occur.

【0008】図15(d)に示す対物レンズ対向方式で
は2つの和となる波面が得られると前掲の本には紹介さ
れているが、実際には、この測定のみでは非対称な収差
成分(コマ、アス)が打ち消されてしまい、得られる波
面が正確な評価につながらない場合がある。
Although it has been introduced in the above-mentioned book that the wavefront that is the sum of two can be obtained in the objective lens facing method shown in FIG. 15D, in reality, only this measurement results in an asymmetrical aberration component (coma). , Ass) are canceled out, and the obtained wavefront may not lead to accurate evaluation.

【0009】一方、図15(a)に示す球面凹ミラーを
用いる場合でも、高NAの対物レンズを測定するために
は球欠の深い半球状の非常に高精度な凹面ミラーが必要
となり、実際の制作は困難である。また、生物用に用い
られる液浸系の対物レンズでは凹面ミラーを液浸媒質に
浸さなければならず、またその媒質の流動性が干渉縞に
影響を及ぼすといった問題も生じる。
On the other hand, even in the case of using the spherical concave mirror shown in FIG. 15 (a), a hemispherical concave concave mirror with a very high accuracy is required to measure an objective lens having a high NA. Is difficult to produce. Further, in an immersion objective lens used for living organisms, the concave mirror must be immersed in the immersion medium, and the fluidity of the medium also affects the interference fringes.

【0010】特開昭62─127601号公報は球欠の
問題を解決するために、外部入力でNAを入力し、波面
収差を補正する手段をとっているが、結局は、球面凹ミ
ラーなどを使用することになるため、上述の問題は避け
られない。また、組上がり光学系を測定するためには、
予めNAを測定するための工程も必要になり、高NA時
には実際の波面と干渉縞から得られる波面とが大きく乖
離する。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-127601 discloses a means of correcting the wavefront aberration by inputting NA by an external input in order to solve the problem of ball loss, but in the end, a spherical concave mirror or the like is used. Since it will be used, the above-mentioned problems are unavoidable. Also, to measure the assembled optical system,
A step for measuring the NA in advance is also required, and when the NA is high, the actual wavefront and the wavefront obtained from the interference fringes are significantly different from each other.

【0011】以上のように、これまでの方法は、特に、
顕微鏡用対物レンズのような高NAの光学レンズに対し
て必要十分に干渉計を構成できない。また、測定結果に
誤差要因が大きいといった問題を生じやすく、測定方法
は検討されても実用的な解析評価装置として適用するこ
とが困難であった。
As described above, the conventional methods are
An interferometer cannot be constructed sufficiently for a high NA optical lens such as a microscope objective lens. In addition, the problem that the error factor is large in the measurement result is likely to occur, and it is difficult to apply it as a practical analysis and evaluation device even if the measurement method is examined.

【0012】本発明は以上のような問題点に鑑みてなさ
れたものであり、従来困難であった、顕微鏡用対物レン
ズやスッテパーレンズなどの高性能かつ高精度な光学レ
ンズを測定し、かつ、解析・評価を行うことができる装
置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and measures high-performance and high-precision optical lenses such as objective lenses for microscopes and stepper lenses, which have been difficult in the past, and It is an object of the present invention to provide an apparatus capable of performing analysis / evaluation.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明に係る光学レンズ用解析評価装置は、干渉縞
生成手段と、前記干渉縞生成手段により干渉縞を生成す
る際に被検レンズとなる少なくとも二つの光学レンズ
と、干渉縞受光手段と、前記干渉縞受光手段により受光
された干渉縞を測定する測定手段と、前記測定手段によ
り測定された干渉縞を解析する解析手段と、前記解析手
段により解析された干渉縞を記憶する記憶手段と、前記
記憶手段により記憶された干渉縞に所定の演算を行う処
理手段とを備え、測定される前記光学レンズは相対的に
各々固有の座標系を有し、かつ、一定の位置関係にある
ように保持されていることを特徴とする。
In order to achieve this object, an optical lens analyzing and evaluating apparatus according to the present invention comprises an interference fringe generating means and a lens to be inspected when the interference fringe generating means generates the interference fringes. At least two optical lenses, interference fringe light receiving means, measuring means for measuring the interference fringes received by the interference fringe light receiving means, analysis means for analyzing the interference fringes measured by the measuring means, and The optical lens to be measured has relatively unique coordinates. The optical lens is provided with a storage unit for storing the interference fringes analyzed by the analyzing unit and a processing unit for performing a predetermined calculation on the interference fringes stored by the storage unit. It is characterized by having a system and being held so as to have a fixed positional relationship.

【0014】本発明の好ましい実施態様においては、前
記光学レンズは光軸の垂直面内に前記座標系を有し、前
記光学レンズの各々が光軸を中心として相対的に回転可
能であるように構成される。本発明の好ましい実施態様
においては、測定される光学レンズが二つである場合に
は、これら二つの光学レンズが相互に向き合って配置さ
れ、さらに、少なくとも一つの前記光学レンズの瞳面又
は絞り面の近傍へ透過光又は透過波面を反射させるよう
に配置された参照手段を設けることができる。本発明の
好ましい実施態様においては、測定される光学レンズが
少なくとも3つ以上ある場合には、測定される光学レン
ズはこれら3つの光学レンズの中から2つずつ選択する
ことができる。
In a preferred embodiment of the present invention, the optical lenses have the coordinate system in a plane perpendicular to the optical axis, and each of the optical lenses is rotatable relative to the optical axis. Composed. In a preferred embodiment of the invention, if there are two optical lenses to be measured, these two optical lenses are arranged facing each other and further, at least one of said optical lenses has a pupil plane or an aperture plane. Reference means arranged to reflect the transmitted light or the transmitted wavefront may be provided in the vicinity of the. In a preferred embodiment of the present invention, when at least three optical lenses are measured, two optical lenses to be measured can be selected from the three optical lenses.

【0015】図1に本発明の概念図を示す。干渉縞生成
手段1としては一般の干渉計を用いることができ、干渉
縞を生成できればどのようなタイプのものでもよい。被
検レンズ2、3は少なくとも2本以上必要であり、図1
5(d)に示すように対向方式とすれば、干渉計より射
出された光束aは、被検レンズ2、3を介して変換され
た高NAの光束bの受け渡しができるようになる。光束
cは参照手段4によって反射され、被検レンズ2、3を
介して、再び干渉縞生成手段1に戻り、干渉縞が生成さ
れる。生成した干渉縞を受光する受光手段5及び測定手
段6は前述のように規定されたデータを測定するために
用いられる。解析手段7は、測定された干渉縞を透過波
面に解析的に変換するものである。得られた干渉縞又は
透過波面は記憶手段8に一旦保持又は保存され、処理手
段9によって後述する所定の演算処理が施される。
FIG. 1 shows a conceptual diagram of the present invention. A general interferometer can be used as the interference fringe generating means 1, and any type can be used as long as it can generate an interference fringe. At least two lenses 2 and 3 to be inspected are necessary.
If the opposing method is used as shown in FIG. 5 (d), the light beam a emitted from the interferometer can be passed through the high-NA light beam b converted through the lenses 2 and 3 to be inspected. The light beam c is reflected by the reference means 4, returns to the interference fringe generation means 1 again via the lenses 2 and 3 to be inspected, and the interference fringes are generated. The light receiving means 5 and the measuring means 6 for receiving the generated interference fringes are used to measure the data defined as described above. The analysis means 7 analytically converts the measured interference fringes into a transmitted wavefront. The obtained interference fringes or transmitted wavefronts are once held or stored in the storage means 8, and the processing means 9 performs a predetermined arithmetic processing described later.

【0016】また、被検レンズ3から射出される光束c
はやや広がりを持つことが多く、生成される干渉縞の周
辺までピントを合わせにくくなるため、正しい干渉像を
得ることが難しい。そこで、参照手段4は、被検レンズ
の一方の瞳面又は絞り面の近傍に透過光又は透過波面を
反射させるように平面ミラーとして構成し、被検レンズ
3に近接させることが望ましい。また、図2に示すよう
に、比較的緩い凹面を用いたり、あるいは、光束c中に
図3に示すようなNAの小さいアフォーカル系を挿入
し、これを参照手段4とすることによっても上述と同等
の効果を得る。
A light beam c emitted from the lens 3 to be inspected
It often has a slight spread, and it becomes difficult to focus around the generated interference fringes, making it difficult to obtain a correct interference image. Therefore, it is desirable that the reference unit 4 be configured as a plane mirror so as to reflect the transmitted light or the transmitted wave front in the vicinity of one of the pupil surface and the diaphragm surface of the lens to be inspected, and be close to the lens to be inspected 3. Alternatively, as shown in FIG. 2, a relatively gentle concave surface may be used, or an afocal system having a small NA as shown in FIG. Get the same effect as.

【0017】ここで、2本の被検レンズ2、3には、相
対的な位置関係を保持するための固有の座標系が光軸に
対して垂直な基準面内に設けられている。この「基準
面」とは、光軸に垂直であれば、瞳面、絞り面又は当て
付け面などでよく、面内座標系の目安となる基準が枠外
周などに設けられればよい。詳しくは、被検レンズの基
準のマーキングがどこに位置するかを常にチェックして
いればよい。また、光軸を中心に基準面を回転させる
と、マーキングの位置決めが行いやすく、複数回の測定
中においても光学レンズを常に一定の位置関係に保持す
ることができる。
Here, each of the two lenses 2 and 3 to be inspected is provided with a unique coordinate system for holding a relative positional relationship in a reference plane perpendicular to the optical axis. The “reference plane” may be a pupil plane, an aperture plane, a contact surface, or the like as long as it is perpendicular to the optical axis, and a reference serving as a guide for the in-plane coordinate system may be provided on the outer circumference of the frame or the like. Specifically, it suffices to always check where the reference marking of the lens to be inspected is located. Further, when the reference surface is rotated about the optical axis, the marking can be easily positioned, and the optical lens can be always held in a fixed positional relationship even during a plurality of measurements.

【0018】2本以上の光学レンズを組み換えて選択的
に2本ずつ測定する場合でも同様に行なえば、対象とな
る光学レンズに対して同等の効果を得る。また、本発明
では、前述した高性能・高精度の光学レンズの干渉縞又
は透過波面内において、測定又は解析される対称又は非
対称な収差を効果的に測定することができ、かつ、測定
中、非対称な収差成分に常に一定の方向性を持たせるこ
ともできる。
Even when two or more optical lenses are recombined to selectively measure two lenses at a time, the same effect can be obtained with respect to the target optical lens by performing the same process. Further, in the present invention, in the interference fringes or transmitted wavefront of the high-performance and high-precision optical lens described above, it is possible to effectively measure the symmetrical or asymmetrical aberration to be measured or analyzed, and during the measurement, It is also possible to give asymmetrical aberration components a certain direction at all times.

【0019】本発明の好ましい実施態様においては、前
記光学レンズを組み換えて測定した透過光又は透過波面
W1,W2,W3と、前記光学レンズの一つの透過波面
Wとを有し、前記処理手段における演算が(1)式によ
り表されることを特徴とする。 W=(W1+W2−W3)/2 (1)
In a preferred embodiment of the present invention, it has transmitted light or transmitted wave fronts W1, W2, W3 measured by recombining the optical lenses and one transmitted wave front W of the optical lens, and The calculation is characterized by being expressed by the equation (1). W = (W1 + W2-W3) / 2 (1)

【0020】本発明の好ましい実施態様においては、少
なくとも3つの光学レンズを一組として測定した光学レ
ンズの透過波面Wa,Wb,Wcと、測定した透過光及
び透過波面W1,W2,W3とが次の(2)式の関係を
有し、 W1=Wa+Wb W2=Wb+Wc W3=Wa+Wc (2) 前記処理手段における演算が次の(3)式により表され
ることを特徴とする。 Wa=(W1+W3−W2)/2 Wb=(W1+W2−W3)/2 Wc=(W2+W3−W1)/2 (3)
In a preferred embodiment of the present invention, the transmitted wavefronts Wa, Wb, Wc of the optical lenses measured as a set of at least three optical lenses and the measured transmitted light and transmitted wavefronts W1, W2, W3 are as follows. (2), and W1 = Wa + Wb W2 = Wb + Wc W3 = Wa + Wc (2) The calculation in the processing means is represented by the following formula (3). Wa = (W1 + W3-W2) / 2 Wb = (W1 + W2-W3) / 2 Wc = (W2 + W3-W1) / 2 (3)

【0021】本発明の好ましい実施態様においては、少
なくとも二つ以上の光学レンズの透過波面Wa,Wb,
--- において、(1)式となるWbと、測定した透過光
及び透過波面Wとを有し、前記処理手段における演算が
(4)式により表されることを特徴とする。 Wa=W−Wb (4)
In a preferred embodiment of the present invention, transmitted wavefronts Wa, Wb of at least two optical lenses,
--- has Wb which is the formula (1), the measured transmitted light and the transmitted wavefront W, and the calculation in the processing means is represented by the formula (4). Wa = W-Wb (4)

【0022】記憶手段8に保持されている透過波面(干
渉縞)の情報が少なくとも3つ以上あり、その中に被検
レンズの透過波面Wがあるとき、(1)式の演算処理を
行なうことによってWのみを算出することができる。な
お、この演算を効果的に行なうためには、測定中の被検
レンズ(図1の2、3)の位置決めが必要であり、演算
する複数の透過波面は測定中の位置関係と一致しなけれ
ばならない。つまり、前述した基準面を回転させてマー
キング位置決めする場合は、演算する透過波面の位置関
係が測定中と同等な一定の位置関係となり、直接的に演
算することができる。たとえ、位置決めしていなくて
も、マーキングの位置が分かっていれば前述した基準面
の方位のみ異なるため、演算する透過波面をデータ上で
必要なだけ回転させて一致させれば、上述と同様に演算
処理することができる。よって、演算上から考えても、
算出される透過波面には対称な収差成分のみならず、方
向性を持つ非対称な収差成分も保存されることは明らか
であり、光学レンズの評価におていも好適である。
When there is at least three pieces of transmitted wavefront (interference fringe) information stored in the storage means 8 and the transmitted wavefront W of the lens under test is contained therein, the arithmetic processing of the equation (1) is performed. Only W can be calculated by In order to perform this calculation effectively, it is necessary to position the lens under test (2, 3 in FIG. 1) during measurement, and the plurality of transmitted wavefronts to be calculated must match the positional relationship during measurement. I have to. That is, when the above-described reference surface is rotated to perform marking positioning, the positional relationship of the transmitted wavefront to be calculated becomes a fixed positional relationship equivalent to that during measurement, and direct calculation can be performed. Even if it is not positioned, if the marking position is known, only the azimuth of the reference plane will differ, so if the transmitted wavefront to be calculated is rotated as much as necessary on the data to match it, the same as above. It can be processed. Therefore, even considering from the calculation,
It is obvious that not only the symmetric aberration component but also the symmetric asymmetric aberration component is preserved in the calculated transmitted wavefront, which is suitable for evaluation of the optical lens.

【0023】また、少なくとも3本1組の被検レンズの
透過波面Wa、Wb、Wcがある場合、(2)式となる
ように組み合わせて測定すれば、(3)式を用いてW
a、Wb、Wcを効率的に算出することができる。さら
に、少なくとも2本以上の被検レンズの透過波面Wa、
Wb、・・において、(1)式でWbが明らかな場合、
W(=Wa+Wb)を測定すれば、(4)式で簡単にW
aを算出することもできる。
If there are at least three sets of transmitted wavefronts Wa, Wb, and Wc of the lens to be inspected, if measurement is performed by combining them so as to obtain equation (2), then W using equation (3) is used.
It is possible to efficiently calculate a, Wb, and Wc. Furthermore, the transmitted wavefront Wa of at least two or more test lenses,
When Wb is clear in the formula (1) in Wb, ...
If W (= Wa + Wb) is measured, it can be easily calculated by the formula (4).
It is also possible to calculate a.

【0024】ここで干渉縞から解析される波面分布のデ
ータ表現はいくつかの手法が考えられる。一般的には画
像データ又はマトリックス・データが用いられるが、こ
の場合、各画素毎にデータが保存されるため、複数の測
定データ間において、対応する画素毎の演算を行えばよ
い。この手法は測定手段又は解析手段で必要な測定領域
のみを規定すればよいので、必ずしも同種の光学レンズ
でなくてもよい。
Several methods can be considered for the data expression of the wavefront distribution analyzed from the interference fringes. Generally, image data or matrix data is used, but in this case, since data is stored for each pixel, it is sufficient to perform calculation for each corresponding pixel among a plurality of measurement data. This method does not necessarily have to be the same type of optical lens, because only the measurement area required by the measurement means or the analysis means needs to be defined.

【0025】また、干渉計測においては、解析された波
面分布を収差関数に近似することも一般的である。特に
よく用いられるものとしてはZernike多項式があ
り、『光学の原理II』(691〜713頁)に詳し
い。Zernike多項式はStandard Zer
nikeとFringe Zernikeに分かれる
が、干渉計測ではその簡便さからFringe Zer
nikeが利用されることが多い。Zernike多項
式は光学系の瞳面を単位円内で正規化し、原点をピーク
して半径ρと角度θで、各収差成分を級数展開で表現す
るため、解析的に評価することもできる。また、上述の
画像データ又はマトリックス・データではデータが多量
となり、かつ、測定領域に誤差が生じやすく、演算する
際のマッチングに問題が生じる。Zernike多項式
は原点を基準とした座標軸を有し、マーキングとの対応
性や演算の信頼性を高めることができる。さらに、必要
なデータは多項式の各項の係数のみであるため、データ
量及び演算時間が少なくてすむため好適である。しか
し、収差成分は多項式に展開されるため、実際の測定時
に表れる高周波成分(多くはノイズ)はカットされやす
い。
In interferometry, it is common to approximate the analyzed wavefront distribution to an aberration function. The Zernike polynomial is particularly often used and is described in detail in "Principles of Optics II" (pages 691-713). Zernike polynomials are Standard Zer
Although it is divided into a Nike and a Fringe Zernike, the Fringe Zer is easy to use in interferometry because of its simplicity.
Nike is often used. The Zernike polynomial normalizes the pupil plane of the optical system within the unit circle, expresses each aberration component by a series expansion with the radius ρ and the angle θ by peaking at the origin, and therefore can be evaluated analytically. Further, the above-mentioned image data or matrix data has a large amount of data, and an error is likely to occur in the measurement area, which causes a problem in matching when performing calculation. The Zernike polynomial has coordinate axes with the origin as a reference, and can improve the correspondence with marking and the reliability of calculation. Furthermore, the necessary data is only the coefficient of each term of the polynomial, which is preferable because the amount of data and the calculation time can be reduced. However, since the aberration component is expanded into a polynomial, high frequency components (mostly noise) that appear during actual measurement are likely to be cut.

【0026】本発明の好ましい実施態様においては、前
記光学レンズは顕微鏡用対物レンズであることを特徴と
する。本発明の好ましい実施態様においては、前記光学
レンズ間に平行平板を着脱自在かつ位置調整可能に配置
したことを特徴とする。本発明の好ましい実施態様にお
いては、前記光学レンズ間に挿入される液浸媒質を保持
する部材を備えることを特徴とする。
In a preferred aspect of the present invention, the optical lens is a microscope objective lens. In a preferred aspect of the present invention, a parallel plate is arranged between the optical lenses so as to be detachable and positionally adjustable. In a preferred embodiment of the present invention, a member for holding an immersion medium inserted between the optical lenses is provided.

【0027】特に、本発明に係る光学レンズ用解析評価
装置は顕微鏡用対物レンズに好適である。また生物分野
などで用いられる対物レンズにはカバーガラスを必要と
するものもあるが、本発明ではガバーガラス2枚分の厚
みを持つ平行平面板を対向式の対物レンズ間に挿入する
ことによって対応することができる。この場合、カバー
ガラスの傾き及び位置の調整ができるようにしておくこ
とが好ましい。また、更なる高NA化を図った液浸系の
対物レンズについても、液浸媒質の表面張力を用いて、
対向する対物レンズ間に挿入・保持することで適用でき
る。特によく用いられる液浸媒質は水、オイルなどであ
るが、対物レンズの作動距離が長い場合、水などの粘性
の低い媒質については表面張力で保持できないため、図
4に示すような中空の管状の保持部材を設けることが好
ましい。
In particular, the optical lens analysis and evaluation apparatus according to the present invention is suitable for a microscope objective lens. In addition, although some objective lenses used in the biological field require a cover glass, the present invention deals with this by inserting a plane-parallel plate having a thickness of two pieces of gabber glass between opposed objective lenses. be able to. In this case, it is preferable that the tilt and position of the cover glass can be adjusted. Further, for the objective lens of the immersion system, which has a higher NA, the surface tension of the immersion medium is used to
It can be applied by inserting and holding between opposing objective lenses. The most commonly used immersion medium is water, oil, etc., but when the working distance of the objective lens is long, a medium with low viscosity such as water cannot be held by surface tension, so a hollow tubular structure as shown in FIG. It is preferable to provide the holding member.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

(第1実施形態)図5に本発明の第1実施形態を示す。
干渉計1はフィゾー型であり、He−Neレーザなどの
レーザ光源10、参照面を有するミラー11、ミラー1
1を移動させるピエゾ素子12、干渉縞を検出する撮像
素子5を有している。測定演算処理ユニット13は、ピ
エゾ素子12に信号を送り、ミラー11を微小に移動さ
せ、撮像素子5からの干渉強度信号を読みとる位相シフ
ト法(位相変調法ともいう)で測定を行う測定処理部
6、測定された干渉像を波面マップに変換する解析処理
部7、測定された液面マップを保持又は保存する記憶処
理部8、測定された複数の液面マップに所定の演算を施
す演算処理部9を有する。これらは一体に形成されてい
てもよく、あるいは、別個に形成されていてもよい。
(First Embodiment) FIG. 5 shows a first embodiment of the present invention.
The interferometer 1 is a Fizeau type, and includes a laser light source 10 such as a He—Ne laser, a mirror 11 having a reference surface, and a mirror 1.
It has a piezo element 12 for moving 1 and an image sensor 5 for detecting interference fringes. The measurement calculation processing unit 13 sends a signal to the piezo element 12, slightly moves the mirror 11, and performs measurement by a phase shift method (also referred to as a phase modulation method) for reading an interference intensity signal from the image pickup element 5. 6, an analysis processing unit 7 for converting the measured interference image into a wavefront map, a storage processing unit 8 for holding or storing the measured liquid level maps, an arithmetic process for performing a predetermined calculation on a plurality of measured liquid level maps It has a part 9. These may be integrally formed, or may be separately formed.

【0029】レーザ光源10から射出された光はミラー
11の参照面で参照光路と被検光路aの2光路に分割さ
れる。被検光路aは干渉計1から外部に射出され、被検
レンズ2に入射する。対向方式に配置されている被検レ
ンズ2、3は光軸を中心に回転可能であるように構成さ
れている。対向法式により被検レンズ2を介して平行光
束aは高NAの光束bに変換され、被検レンズ3を介し
て光束cに変換される。光束cは平面ミラー4によって
反射され、被検レンズ2、3を介して、再び光束aとな
って干渉計1に入射する。干渉計1では、撮像素子5を
用いて、ミラー11によって分割された参照光路と被検
光路の干渉像を観測することができる。
The light emitted from the laser light source 10 is split at the reference surface of the mirror 11 into two optical paths, a reference optical path and a test optical path a. The test optical path a is emitted from the interferometer 1 to the outside and enters the test lens 2. The lenses 2 and 3 to be inspected, which are arranged in a facing manner, are configured to be rotatable about the optical axis. The parallel luminous flux a is converted into a luminous flux b having a high NA through the lens 2 to be inspected by the facing method, and is converted into a luminous flux c via the lens 3 to be inspected. The light beam c is reflected by the plane mirror 4, passes through the lenses 2 and 3 to be inspected, and becomes the light beam a again and enters the interferometer 1. In the interferometer 1, it is possible to observe the interference image of the reference optical path and the test optical path divided by the mirror 11 by using the image sensor 5.

【0030】ここで光束cは光束aと同様の平行光とな
るが、実際はレーザビームが広がりを有しているため、
必ずしも平行光束とならない。このため、被検レンズ3
の射出光と平面ミラー4の反射光が同等とならず、平面
ミラー4が被検レンズ3から離れすぎていると、撮像素
子5で観測される干渉像で周辺のピントが合わないとい
った現象が観測される。従って、上記射出光を被検レン
ズ3に必要十分に反射させるには、平面ミラー4はでき
るだけ被検レンズ3に近接させることが望ましい。
Here, the light beam c is a parallel light beam similar to the light beam a, but since the laser beam actually has a spread,
It is not always a parallel light flux. Therefore, the lens 3 under test
When the plane mirror 4 is too far away from the lens 3 to be inspected and the light reflected by the plane mirror 4 is not the same as the light emitted from, the phenomenon that the peripheral image is out of focus in the interference image observed by the image sensor 5 may occur. To be observed. Therefore, in order to reflect the emitted light to the test lens 3 as necessary and sufficient, it is desirable that the plane mirror 4 be as close to the test lens 3 as possible.

【0031】位相シフト法に関しては、谷田貝豊彦著
『応用光学 光計測入門』(131〜135頁,丸善
(株))に詳しい。この手法においては、例えば、図1
の干渉計1では、ミラー11の参照面をピエゾ素子など
を用いて微小に移動させることによって干渉強度を変更
できるようにし、その干渉像を複数取り込んで被検物体
の波面分布(または位相分布)を測定するものであり、
高精度な干渉計測を可能にしている。
The phase shift method is described in detail in "Introduction to Applied Optical Optical Measurement" by Toyohiko Yatagai (pp. 131-135, Maruzen Co., Ltd.). In this method, for example, FIG.
In the interferometer 1, the interference intensity can be changed by minutely moving the reference surface of the mirror 11 by using a piezo element or the like, and a plurality of interference images are captured to obtain the wavefront distribution (or phase distribution) of the object to be inspected. Is to measure
It enables highly accurate interference measurement.

【0032】測定される被検レンズは3本の同種の無限
遠補正の顕微鏡用対物レンズであり、それぞれの透過波
面をWa、Wb、Wcとする。また、それぞれの対物レ
ンズの外周にはアライメントマークが付されており、被
検レンズ2、3のように取り付ける際にはそのアライメ
ントマークが一致するように回転させる。測定は、 W1=Wa+Wb W2=Wb+Wc W3=Wa+Wc (2) となるように対物レンズを組合せ、干渉計1と測定演算
処理部13の測定処理部6を用いて3回行なわれる。こ
れらの各々の干渉縞データは測定ごとに解析処理部7を
用いて解析され、透過波面マップW1〜W3に変換し、
記憶処理部8に保存される。測定透過波面W1〜W3は
演算処理部9において、 Wa=(W1+W3−W2)/2 Wb=(W1+W2−W3)/2 Wc=(W2+W3−W1)/2 (3) の処理が施され、各対物レンズの透過波面に分離され
る。保持される測定波面W1〜W3は撮像素子5による
マトリックスデータでもZernike係数でもよい。
The inspected lenses to be measured are three objective lenses for infinity correction of the same kind for microscopes, and their transmitted wavefronts are Wa, Wb, and Wc, respectively. Alignment marks are attached to the outer circumferences of the respective objective lenses, and when the objective lenses 2 and 3 are attached like the alignment marks, they are rotated so that the alignment marks match. The measurement is performed three times using the interferometer 1 and the measurement processing unit 6 of the measurement calculation processing unit 13 by combining the objective lenses so that W1 = Wa + Wb W2 = Wb + Wc W3 = Wa + Wc (2). Each of these interference fringe data is analyzed using the analysis processing unit 7 for each measurement and converted into the transmitted wavefront maps W1 to W3,
It is stored in the storage processing unit 8. The measurement transmitted wavefronts W1 to W3 are processed by the arithmetic processing unit 9 as follows: Wa = (W1 + W3-W2) / 2 Wb = (W1 + W2-W3) / 2 Wc = (W2 + W3-W1) / 2 (3) It is separated into the transmitted wavefront of the objective lens. The held measurement wavefronts W1 to W3 may be matrix data by the image sensor 5 or Zernike coefficients.

【0033】マトリックスデータではW1〜W3に対応
する画素データ同士で演算を行なえばよく、一方、Ze
rnike係数では各項係数同士の演算のみとなるため
データ量も少なく簡便である。また、評価される収差成
分は主に球面収差、コマ収差、非点収差であるが、対称
な収差成分が球面収差、非対称な収差成分がコマ収差、
非点収差である。W1〜W3の測定の際、アライメント
マークを共通の位置にしておけば、非対称な収差成分も
打ち消されず、(3)式は直接的に演算できるため簡便
である。
In the matrix data, the pixel data corresponding to W1 to W3 may be calculated, and on the other hand, Ze
With the rnike coefficient, only the calculation of each term coefficient is performed, so the amount of data is small and it is simple. The evaluated aberration components are mainly spherical aberration, coma and astigmatism, but symmetrical aberration components are spherical aberrations, asymmetrical aberration components are coma aberrations,
It is astigmatism. If the alignment mark is set at a common position during the measurement of W1 to W3, the asymmetrical aberration component is not canceled and the formula (3) can be directly calculated, which is simple.

【0034】これら対物レンズのデータを再び液面マッ
プ化すれば、高性能の光学レンズでも高精度に測定で
き、かつ、評価解析できるようになる。また、(2)式
及び(3)式は一つの対物レンズの透過液面Waがある
複数回の測定中に含まれ、その測定がW1〜W3であれ
ばWaを算出できることも含んでいる。さらに、有限系
の対物レンズでも収束光を平行光に変換するレンズを挿
入すれば適用できる。
By converting the data of these objective lenses into a liquid level map again, it becomes possible to measure with high accuracy and evaluate and analyze even a high-performance optical lens. Further, the expressions (2) and (3) are included in the measurement of the permeation liquid surface Wa of one objective lens during a plurality of measurements, and if the measurements are W1 to W3, Wa can be calculated. Further, even a finite objective lens can be applied by inserting a lens that converts convergent light into parallel light.

【0035】(第2実施形態)図6に本発明の第2実施
形態を示す。干渉計1はトワイマン・グリーン型であ
り、He−Neレーザなどのレーザ光源10、参照面を
有するミラー11、ミラー11を移動させるピエゾ素子
12、干渉縞を検出する撮像素子5を有している。測定
演算処理ユニット13は、第1実施形態に用いたユニッ
トと同様の作用をもつものからなる。
(Second Embodiment) FIG. 6 shows a second embodiment of the present invention. The interferometer 1 is a Twyman-Green type, and has a laser light source 10 such as a He-Ne laser, a mirror 11 having a reference surface, a piezo element 12 for moving the mirror 11, and an image sensor 5 for detecting interference fringes. . The measurement calculation processing unit 13 has a function similar to that of the unit used in the first embodiment.

【0036】レーザ光源10から射出された光は干渉計
1に内蔵されているビームスプリッタにより分割され、
参照光路と被検光路aの2光路となる。被検光路aは干
渉計1から外部に射出され、被検レンズ2に入射する。
第1実施形態と同様に、対向方式の被検レンズ2、3は
光軸を中心に回転可能であるように構成されており、被
検レンズ2を介して平行光束aは高NAの光束bに変換
され、被検レンズ3を介して光束cに変換される。光束
cは平面ミラー4によって反射される。本実施形態にお
いても、干渉像を良好に観測するため、平面ミラー4を
被検レンズ3に近接させておく。光束cは、被検レンズ
2、3を介して、再び光束aとなり干渉1に入射する。
干渉計1では、撮像素子5を用いて、ミラー11によっ
て分割された参照光路と被検光路の干渉像を観測するこ
とができる。
The light emitted from the laser light source 10 is split by the beam splitter incorporated in the interferometer 1,
There are two optical paths, the reference optical path and the test optical path a. The test optical path a is emitted from the interferometer 1 to the outside and enters the test lens 2.
Similar to the first embodiment, the opposed type test lenses 2 and 3 are configured to be rotatable about the optical axis, and the parallel light flux a is a high NA light flux b through the test lens 2. Is converted into a light beam c through the lens 3 to be inspected. The light beam c is reflected by the plane mirror 4. Also in this embodiment, the plane mirror 4 is placed close to the lens 3 to be inspected in order to observe the interference image well. The light beam c becomes the light beam a again through the lenses 2 and 3 to be inspected and enters the interference 1.
In the interferometer 1, it is possible to observe the interference image of the reference optical path and the test optical path divided by the mirror 11 by using the image sensor 5.

【0037】測定される被検レンズは2本の同種の無限
遠補正の顕微鏡用対物レンズであり、それぞれの透過波
面をWa、Wbとする。このとき、Wbは第1実施形態
又は本構成の手法を用いて既知であるとする。また、そ
れぞれの対物レンズの外周にはアライメントマークが付
されており、被検レンズ2、3のように対向させる際に
は、そのアライメントマークが一致するように回転させ
る。測定は、 W=Wa+Wb (5) となるように、干渉計1と測定演算処理部13の測定処
理部6を用いて、Wの一回のみ行なわれる。これらの各
々のデータは、測定ごとに解析処理部7を用いて解析さ
れ、波面マップに変換され、記憶処理部8に保存され
る。測定透過波面Wは演算処理部位9において、 Wa=W−Wb (4) の処理が施され、対物レンズの透過波面Waが分離され
る。第1実施形態と同様に、保存される測定波面Wは撮
像素子5によるマトリックスデータでもZernike
係数でもよいが、WとWbとの演算があるため、Wbの
データ保持方式と一致させる必要がある。また、評価さ
れる収差成分もWbのアライメントマークを既知のデー
タと共通の位置にしておけば、第1実施形態と同等の効
果を得ることができ、かつ、(4)式で簡単に演算する
ことができる。
The lenses to be measured are two types of objective lenses for microscopes of infinity correction of the same kind, and their transmitted wavefronts are Wa and Wb, respectively. At this time, Wb is assumed to be known using the method of the first embodiment or this configuration. Alignment marks are provided on the outer circumferences of the respective objective lenses, and when the objective lenses 2 and 3 are opposed to each other, they are rotated so that the alignment marks are aligned. The measurement is performed only once by using the interferometer 1 and the measurement processing unit 6 of the measurement calculation processing unit 13 so that W = Wa + Wb (5). Each of these data is analyzed by the analysis processing unit 7 for each measurement, converted into a wavefront map, and stored in the storage processing unit 8. The measured transmitted wavefront W is subjected to the processing of Wa = W−Wb (4) in the calculation processing portion 9, and the transmitted wavefront Wa of the objective lens is separated. Similar to the first embodiment, the stored measurement wavefront W is the same as the Zernike matrix data obtained by the image sensor 5.
Although it may be a coefficient, it is necessary to match the data holding method of Wb because there is a calculation of W and Wb. Further, if the aberration component to be evaluated is also set to have the Wb alignment mark at a common position with known data, the same effect as that of the first embodiment can be obtained, and the calculation can be easily performed by the equation (4). be able to.

【0038】これにより、例えば、4本以上の対物レン
ズを測定する際、3本1組で第1実施形態のような方法
で測定し、残り1本は本実施形態でより簡便に高精度に
測定でき、かつ、評価解析できる。なお、第1及び第2
実施形態は上述の形態に限定されるわけではなく、干渉
計1は干渉縞が生成かつ検出できればよく、どの様なタ
イプを用いても同等の効果を得ることができる。例え
ば、マッハツェンダ型干渉計を用いれば、被検レンズが
アフォーカルな構成をとるため、平面ミラー4を用いな
くとも干渉縞を生成できる。
Thus, for example, when measuring four or more objective lenses, one set of three lenses is measured by the method as in the first embodiment, and the remaining one is more simply and highly accurately in this embodiment. It can be measured and can be evaluated and analyzed. The first and second
The embodiment is not limited to the above-described embodiment, and the interferometer 1 is only required to generate and detect interference fringes, and the same effect can be obtained by using any type. For example, if a Mach-Zehnder interferometer is used, interference fringes can be generated without using the plane mirror 4 because the lens under test has an afocal configuration.

【0039】同様に、測定も必ずしも位相シフト法のみ
ならず、干渉縞を計測即ち解析的に波面マップを算出で
きればよい。例えば、従来からある方法としては縞解析
法などがある。以上の実施形態では特に顕微鏡用対物レ
ンズの例を示したが、本発明に係る解析評価装置は、対
物レンズと同様の仕様をもつ光学系であれば、簡便に適
用することができる。例えば、ステッパーレンズやFナ
ンバーの小さいカメラレンズなどに適用できる。
Similarly, the measurement is not limited to the phase shift method, and the interference fringes may be measured, that is, the wavefront map can be calculated analytically. For example, a conventional method is a fringe analysis method. In the above embodiments, an example of a microscope objective lens is shown, but the analysis and evaluation apparatus according to the present invention can be easily applied to any optical system having the same specifications as the objective lens. For example, it can be applied to a stepper lens or a camera lens with a small F number.

【0040】(第3実施形態)図7に第3実施形態に係
る解析評価装置を示す。干渉計1及び干渉計1に連結す
る測定演算処理装置13は第一又は第二実施形態に示し
たものと同様の構成を有している。干渉計1から射出さ
れる被検光路aは対向方式の被検レンズ2,3に入射す
る。前述したように、被検レンズ3から射出される光束
cは図3に示すような広がりを有している。このため、
非常にゆるやかな半径Rを有する凹面ミラー4を光束c
中に配置すれば、凹面ミラー4で反射する光束は再び被
検レンズ3に効果的に入射する。半径Rは凹面ミラー4
によって光束cが被検レンズの瞳面又は絞り面近傍に反
射するように設定される。これにより、第一及び第二実
施形態と同様に、干渉計1内にある撮像素子5において
周辺までピントズレのない正確な干渉縞を観測すること
ができる。
(Third Embodiment) FIG. 7 shows an analysis / evaluation apparatus according to the third embodiment. The interferometer 1 and the measurement arithmetic processing unit 13 connected to the interferometer 1 have the same configuration as that shown in the first or second embodiment. The optical path a to be inspected emitted from the interferometer 1 enters the inspected lenses 2 and 3 of the opposed type. As described above, the light beam c emitted from the lens 3 to be inspected has a spread as shown in FIG. For this reason,
The concave mirror 4 having a very gentle radius R causes the light beam c
When arranged inside, the light flux reflected by the concave mirror 4 is effectively incident on the lens 3 under test again. Radius R is concave mirror 4
Is set so that the light beam c is reflected in the vicinity of the pupil surface or the diaphragm surface of the lens under test. As a result, as in the first and second embodiments, it is possible to observe accurate interference fringes in the image sensor 5 inside the interferometer 1 without causing focus deviation to the periphery.

【0041】(第4実施形態)図8に第4実施形態に係
る解析評価装置を示す。干渉計1及び干渉計1に連結す
る測定演算処理装置13は第3実施形態と同様のもので
ある。第1乃至第3実施形態において、干渉像にピント
がうまく合わない理由は光束cが平行光とならないこと
の他に、撮像素子5までの結像関係が崩れてしまうこと
にある。すなわち、図1の平面ミラー4と被検レンズ
2,3の瞳面が共役な位置関係とならないからである。
このため、本実施形態においても、図8に示すように、
光束c中にアフォーカル系を挿入することによって、参
照手段4中の平面ミラーと被検レンズ2,3の瞳面とが
光学的に共役な位置関係となる。ここで、アフォーカル
系を被検レンズのNAよりも小さいNAとなるように構
成すれば、参照手段4で反射する光束cが被検レンズの
瞳面又は絞り面近傍に入射し、より効果的かつ正確な干
渉縞を観測することができる。
(Fourth Embodiment) FIG. 8 shows an analysis and evaluation apparatus according to the fourth embodiment. The interferometer 1 and the measurement calculation processing device 13 connected to the interferometer 1 are the same as those in the third embodiment. In the first to third embodiments, the reason why the interference image is not properly focused is that the light flux c is not parallel light and that the image forming relationship up to the image pickup element 5 is broken. That is, the plane mirror 4 of FIG. 1 and the pupil planes of the lenses 2 and 3 to be inspected do not have a conjugate positional relationship.
Therefore, also in this embodiment, as shown in FIG.
By inserting the afocal system in the light beam c, the plane mirror in the reference means 4 and the pupil planes of the lenses 2 and 3 to be inspected have an optically conjugate positional relationship. Here, if the afocal system is configured to have an NA smaller than the NA of the lens to be inspected, the light beam c reflected by the reference means 4 enters near the pupil plane or diaphragm surface of the lens to be inspected, which is more effective. In addition, accurate interference fringes can be observed.

【0042】(第5実施形態)図9に第5実施形態に係
る解析評価装置を示す。対向方式で測定される被検レン
ズ2,3は生物用顕微鏡用対物レンズである。干渉計1
及び干渉計1に連結される測定演算処理装置13は第3
及び第4実施形態と同様のものである。本実施形態にお
いては、平行平面板14及び平行平面板14を支持して
いる取り付け治具15が設けられている。
(Fifth Embodiment) FIG. 9 shows an analysis / evaluation apparatus according to the fifth embodiment. The test lenses 2 and 3 measured by the facing method are objective lenses for a biological microscope. Interferometer 1
And the measurement processing unit 13 connected to the interferometer 1 is the third
And the same as the fourth embodiment. In this embodiment, a plane-parallel plate 14 and a mounting jig 15 that supports the plane-parallel plate 14 are provided.

【0043】生物用の対物レンズはカバーガラスを使用
するものが多く、そのような対物レンズに対向方式を用
いる場合には、図9に示すように、カバーガラス2枚分
の厚みを有する平行平面板14を取り付け治具15を用
いて挿入すればよい。特に、平行平面板14は高NAの
光束中に挿入されるため、傾斜及び位置の調整を行うこ
とができる取り付け治具15が好ましい。
Most of the objective lenses for living organisms use a cover glass. When such an objective lens is used in a facing manner, as shown in FIG. 9, a parallel flat plate having a thickness of two cover glasses is used. The face plate 14 may be inserted using the attachment jig 15. In particular, since the plane-parallel plate 14 is inserted into a high NA light flux, a mounting jig 15 that can adjust the inclination and position is preferable.

【0044】また、生物用の対物レンズは液浸系のもの
が多く、そのような対物レンズを測定する場合には、図
10に示すように、液浸媒質16(水、専用オイルな
ど)を平行平面板14と被検レンズ2,3の各々の間に
挿入すればよい。この場合、一般には、対物レンズは作
動距離が短いため、各対物レンズは媒質16の表面張力
によって対向するように保持される。
Many biological objective lenses are of the immersion type. When measuring such objective lenses, an immersion medium 16 (water, special oil, etc.) is used as shown in FIG. It may be inserted between the plane-parallel plate 14 and each of the lenses 2 and 3 to be inspected. In this case, since the objective lens generally has a short working distance, the objective lenses are held so as to face each other by the surface tension of the medium 16.

【0045】なお、作動距離が長い場合には、図11に
示すように、液浸媒質16を保持する保持部材17を設
ければよい。保持部材17としては、図12(a)に示
すように、媒質16を挿入する穴を有する管状の部材で
あって、ゴムその他の弾性を有する材料からなるものを
用いる。保持部材17は対物レンズの作動距離よりもや
や長めにしておけば、対物レンズ間で押さえ付けること
により固定可能である。また、図12(b)のように、
対物レンズに接触する部分17aのみ弾性のある材料で
つくってもよい。保持部材17の部分17aに挟まれる
部分17bは金属又はプラスチックなどの剛性のある材
料からつくることもできる。平行平面板14は、図11
のように取り付けるのみならず、必要に応じて、保持部
材17を支持するように構成することもできる。その際
には、当て付け面などを基準として位置決めを行えばよ
い。
When the working distance is long, a holding member 17 for holding the immersion medium 16 may be provided as shown in FIG. As the holding member 17, as shown in FIG. 12A, a tubular member having a hole for inserting the medium 16 and made of rubber or another elastic material is used. If the holding member 17 is made slightly longer than the working distance of the objective lens, it can be fixed by pressing between the objective lenses. In addition, as shown in FIG.
Only the portion 17a contacting the objective lens may be made of an elastic material. The portion 17b sandwiched between the portions 17a of the holding member 17 can be made of a rigid material such as metal or plastic. The plane-parallel plate 14 is shown in FIG.
Not only can it be attached as described above, but the holding member 17 can be configured to be supported if necessary. In that case, the positioning may be performed with reference to the contact surface or the like.

【0046】さらに、作動距離が長くカバーガラスを有
しない対物レンズの場合、図13のような一体型の保持
部材17を用いることもできる。この場合、図11の場
合よりも、保持部材17の体積が大きくなるため、取扱
いが容易になる。また、図12(c)及び(d)のよう
に、対物レンズの外周に嵌め込む形式の保持部材18を
用いることもできる。
Furthermore, in the case of an objective lens having a long working distance and no cover glass, an integral holding member 17 as shown in FIG. 13 can be used. In this case, since the volume of the holding member 17 is larger than that in the case of FIG. 11, the handling becomes easier. Further, as shown in FIGS. 12 (c) and 12 (d), a holding member 18 of a type fitted to the outer periphery of the objective lens can be used.

【0047】以上のように、本実施形態によって各種の
顕微鏡用対物レンズを測定することが可能である。さら
に、液浸物質の挿入を簡便にするため、保持部材17,
18の外周に孔を設けておくことが好ましい。
As described above, according to this embodiment, various microscope objective lenses can be measured. Further, in order to facilitate the insertion of the immersion substance, the holding member 17,
It is preferable to provide a hole on the outer circumference of 18.

【0048】以上の説明から明らかであるように、本発
明に係る光学レンズ用解析評価装置は特許請求の範囲に
記載したものの他に、以下のようにも構成することが可
能である。 (1)前記光学レンズが光軸の垂直面内に前記座標系を
有し、前記光学レンズの各々が光軸を中心として相対的
に回転可能であることを特徴とする請求項1に記載の光
学レンズ用解析評価装置。
As is apparent from the above description, the optical lens analysis / evaluation apparatus according to the present invention can be configured as follows in addition to those described in the claims. (1) The optical lens has the coordinate system in a plane perpendicular to the optical axis, and each of the optical lenses is relatively rotatable about the optical axis. Analytical evaluation device for optical lenses.

【0049】(2)測定される光学レンズが二つである
場合には、これら二つの光学レンズが相互に向き合って
配置されており、少なくとも一つの前記光学レンズの瞳
面又は絞り面の近傍へ透過光又は透過波面を反射させる
ように配置された参照手段を備えていることを特徴とす
る請求項1に記載の光学レンズ用解析評価装置。 (3)測定される光学レンズが少なくとも3つ以上あ
り、測定される光学レンズはこれら3つの光学レンズの
中から2つずつ選択されるものであることを特徴とする
請求項1に記載の光学レンズ用解析評価装置。
(2) When the number of optical lenses to be measured is two, these two optical lenses are arranged so as to face each other, and are located near the pupil plane or diaphragm surface of at least one of the optical lenses. The optical lens analysis and evaluation apparatus according to claim 1, further comprising a reference unit arranged to reflect the transmitted light or the transmitted wavefront. (3) There are at least three or more optical lenses to be measured, and two optical lenses to be measured are selected from each of these three optical lenses. Analysis and evaluation device for lenses.

【0050】(4)前記光学レンズを組み換えて測定し
た透過光又は透過波面W1,W2,W3と、前記光学レ
ンズの一つの透過波面Wとを有し、前記処理手段におけ
る演算が(1)式により表されることを特徴とする請求
項1に記載の光学レンズ用解析評価装置。 W=(W1+W2−W3)/2 (1)
(4) Transmitted light or transmitted wavefronts W1, W2, W3 measured by recombining the optical lenses, and one transmitted wavefront W of the optical lens, and the calculation in the processing means is expressed by the equation (1). The optical lens analysis / evaluation apparatus according to claim 1, wherein W = (W1 + W2-W3) / 2 (1)

【0051】(5)少なくとも3つの光学レンズを一組
として測定した光学レンズの透過波面Wa,Wb,Wc
と、測定した透過光及び透過波面W1,W2,W3とが
次の(2)式の関係を有し、 W1=Wa+Wb W2=Wb+Wc W3=Wa+Wc (2) 前記処理手段における演算が次の(3)式により表され
ることを特徴とする(4)に記載の光学レンズ用解析評
価装置。 Wa=(W1+W3−W2)/2 Wb=(W1+W2−W3)/2 Wc=(W2+W3−W1)/2 (3)
(5) Transmitted wavefronts Wa, Wb, Wc of the optical lenses measured with at least three optical lenses as a set
And the measured transmitted light and the transmitted wavefronts W1, W2 and W3 have the relationship of the following equation (2), W1 = Wa + Wb W2 = Wb + Wc W3 = Wa + Wc (2) The calculation in the processing means is the following (3). The optical lens analysis / evaluation device according to (4), wherein Wa = (W1 + W3-W2) / 2 Wb = (W1 + W2-W3) / 2 Wc = (W2 + W3-W1) / 2 (3)

【0052】(6)少なくとも二つ以上の光学レンズの
透過波面Wa,Wb,--- において、(1)式となるW
bと、測定した透過光及び透過波面Wとを有し、前記処
理手段における演算が(4)式により表されることを特
徴とする(4)に記載の光学レンズ用解析評価装置。 Wa=W−Wb (4) (7)前記光学レンズが顕微鏡用対物レンズであること
を特徴とする請求項1又は(4)に記載の光学レンズ用
解析評価装置。
(6) In the transmitted wavefronts Wa, Wb, --- of at least two or more optical lenses, the following formula (1) is satisfied.
b, and the transmitted light and the transmitted wavefront W that have been measured, and the calculation in the processing means is expressed by equation (4). Wa = W-Wb (4) (7) The optical lens analysis and evaluation apparatus according to claim 1 or 4, wherein the optical lens is a microscope objective lens.

【0053】(8)前記光学レンズ間に平行平板を着脱
自在かつ位置調整可能に配置したことを特徴とする請求
項1に記載の光学レンズ用解析評価装置。 (9)前記光学レンズ間に挿入される液浸媒質を保持す
る部材を備えることを特徴とする請求項1に記載の光学
レンズ用解析評価装置。 (10)測定される透過波面及び演算される被検レンズ
の透過波面がZernike多項式に近似されることを
特徴とする(4)乃至(6)の何れか一に記載の光学レ
ンズ用解析評価装置。
(8) The optical lens analysis and evaluation apparatus according to claim 1, wherein a parallel plate is arranged between the optical lenses so as to be detachable and positionally adjustable. (9) The optical lens analysis and evaluation apparatus according to claim 1, further comprising a member for holding an immersion medium inserted between the optical lenses. (10) The optical lens analysis / evaluation apparatus according to any one of (4) to (6), wherein the transmitted wavefront to be measured and the transmitted wavefront of the subject lens to be calculated are approximated to a Zernike polynomial. .

【0054】[0054]

【発明の効果】以上のように、本発明に係る光学レンズ
用解析評価装置によれば、干渉計を用いても、高性能か
つ高精度の光学レンズの透過波面を高精度に測定評価す
ることができる。また、本発明に係る光学レンズ用解析
評価装置はいわゆる一般の干渉にも適用することがで
き、各種の光学レンズ(特に、顕微鏡用対物レンズ)に
適用することができる。
As described above, according to the optical lens analysis / evaluation apparatus of the present invention, the transmitted wavefront of a high-performance and high-precision optical lens can be measured and evaluated with high accuracy even if an interferometer is used. You can Further, the optical lens analysis and evaluation apparatus according to the present invention can be applied to so-called general interference, and can be applied to various optical lenses (in particular, microscope objective lenses).

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る光学レンズ用解析評価装置の概要
を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing the outline of an optical lens analysis and evaluation apparatus according to the present invention.

【図2】参照手段の一例を示す概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a reference unit.

【図3】参照手段の他の例を示す概略図である。FIG. 3 is a schematic view showing another example of the reference means.

【図4】保持部材の一例を示す概略図である。FIG. 4 is a schematic view showing an example of a holding member.

【図5】本発明に係る光学レンズ用解析評価装置の第一
実施形態の構成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram of a first embodiment of an optical lens analysis and evaluation apparatus according to the present invention.

【図6】本発明に係る光学レンズ用解析評価装置の第二
実施形態の構成図である。
FIG. 6 is a configuration diagram of a second embodiment of an optical lens analysis and evaluation apparatus according to the present invention.

【図7】本発明に係る光学レンズ用解析評価装置の第三
実施形態の構成図である。
FIG. 7 is a configuration diagram of a third embodiment of an optical lens analysis and evaluation apparatus according to the present invention.

【図8】本発明に係る光学レンズ用解析評価装置の第四
実施形態の構成図である。
FIG. 8 is a configuration diagram of a fourth embodiment of an optical lens analysis and evaluation apparatus according to the present invention.

【図9】本発明に係る光学レンズ用解析評価装置の第五
実施形態の構成図である。
FIG. 9 is a configuration diagram of a fifth embodiment of the analysis / evaluation apparatus for an optical lens according to the present invention.

【図10】液浸媒質を使用した実施形態の概略図であ
る。
FIG. 10 is a schematic diagram of an embodiment using an immersion medium.

【図11】液浸媒質を保持部材中に保持した実施形態の
概略図である。
FIG. 11 is a schematic view of an embodiment in which an immersion medium is held in a holding member.

【図12】保持部材の変形例を示す概略図である。FIG. 12 is a schematic view showing a modified example of a holding member.

【図13】保持部材の他の変形例を示す概略図である。FIG. 13 is a schematic view showing another modified example of the holding member.

【図14】対物レンズ測定のための従来の方法の概略図
である。
FIG. 14 is a schematic diagram of a conventional method for measuring an objective lens.

【図15】対物レンズ測定のための従来の方法の概念図
である。
FIG. 15 is a conceptual diagram of a conventional method for measuring an objective lens.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 干渉縞生成手段 2 被検レンズ 3 被検レンズ 4 参照手段 5 受光手段 6 測定手段 7 解析手段 8 記憶手段 9 処理手段 10 レーザ光源 11 ミラー 12 ピエゾ素子 13 測定演算処理ユニット 14 平行平面板 15 取り付け治具 16 液浸物質 17 保持部材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Interference fringe generating means 2 Test lens 3 Test lens 4 Reference means 5 Light receiving means 6 Measuring means 7 Analyzing means 8 Storage means 9 Processing means 10 Laser light source 11 Mirror 12 Piezo element 13 Measurement arithmetic processing unit 14 Parallel plane plate 15 Mounting Jig 16 Immersion substance 17 Holding member

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成8年2月26日[Submission date] February 26, 1996

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0025[Name of item to be corrected] 0025

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0025】また、干渉計測においては、解析された波
面分布を収差関数に近似することも一般的である。特に
よく用いられるものとしてはZernike多項式があ
り、Max Born and Emil Wolf:
『光学の原理II』((東海大学出版会,1991,)
691〜713頁)に詳しい。Zernike多項式は
Standard ZernikeとFringe Z
ernikeに分かれるが、干渉計測ではその簡便さか
らFringe Zernikeが利用されることが多
い。Zernike多項式は光学系の瞳面を単位円内で
正規化し、原点をピークして半径ρと角度θで、各収
差成分を級数展開で表現するため、解析的に評価するこ
ともできる。また、上述の画像データ又はマトリックス
・データではデータが多量となり、かつ、測定領域に誤
差が生じやすく、演算する際のマッチングに問題が生じ
る。Zernike多項式は原点を基準とした座標軸を
有し、マーキングとの対応性や演算の信頼性を高めるこ
とができる。さらに、必要なデータは多項式の各項の係
数のみであるため、データ量及び演算時間が少なくてす
むため好適である。しかし、収差成分は多項式に展開さ
れるため、実際の測定時に表れる高周波成分(多くはノ
イズ)はカットされやすい。
In interferometry, it is common to approximate the analyzed wavefront distribution to an aberration function. A particularly popular one is the Zernike polynomial, which is Max Born and Emil Wolf:
"Principles of Optics II" ( (Tokai University Press, 1991,)
Pp. 691-713). Zernike polynomials are Standard Zernike and Fringe Z
The Fringe Zernike is often used in interference measurement because of its simplicity. Zernike polynomials are normalized pupil plane of the optical system within the unit circle, a radius ρ and the angle θ with the origin as a peak, each aberration component to represent in series expansion, can be evaluated analytically. Further, the above-mentioned image data or matrix data has a large amount of data, and an error is likely to occur in the measurement area, which causes a problem in matching when performing calculation. The Zernike polynomial has coordinate axes with the origin as a reference, and can improve the correspondence with marking and the reliability of calculation. Furthermore, the necessary data is only the coefficient of each term of the polynomial, which is preferable because the amount of data and the calculation time can be reduced. However, since the aberration component is expanded into a polynomial, high frequency components (mostly noise) that appear during actual measurement are likely to be cut.

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0040[Correction target item name] 0040

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0040】(第3実施形態)図7に第3実施形態に係
る解析評価装置を示す。干渉計1及び干渉計1に連結す
る測定演算処理装置13は第一又は第二実施形態に示し
たものと同様の構成を有している。干渉計1から射出さ
れる被検光路aは対向方式の被検レンズ2,3に入射す
る。前述したように、被検レンズ3から射出される光束
cは図に示すような広がりを有している。このため、
非常にゆるやかな半径Rを有する凹面ミラー4を光束c
中に配置すれば、凹面ミラー4で反射する光束は再び被
検レンズ3に効果的に入射する。半径Rは凹面ミラー4
によって光束cが被検レンズの瞳面又は絞り面近傍に反
射するように設定される。これにより、第一及び第二実
施形態と同様に、干渉計1内にある撮像素子5において
周辺までピントズレのない正確な干渉縞を観測すること
ができる。 ─────────────────────────────────────────────────────
(Third Embodiment) FIG. 7 shows an analysis / evaluation apparatus according to the third embodiment. The interferometer 1 and the measurement arithmetic processing unit 13 connected to the interferometer 1 have the same configuration as that shown in the first or second embodiment. The optical path a to be inspected emitted from the interferometer 1 enters the inspected lenses 2 and 3 of the opposed type. As described above, the light beam c emitted from the sample lens 3 has a spread such as shown in FIG. For this reason,
The concave mirror 4 having a very gentle radius R causes the light beam c
When arranged inside, the light flux reflected by the concave mirror 4 is effectively incident on the lens 3 under test again. Radius R is concave mirror 4
Is set so that the light beam c is reflected in the vicinity of the pupil surface or the diaphragm surface of the lens under test. As a result, as in the first and second embodiments, it is possible to observe accurate interference fringes in the image sensor 5 inside the interferometer 1 without causing focus deviation to the periphery. ─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成8年2月26日[Submission date] February 26, 1996

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図9[Correction target item name] Figure 9

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図9】 [Figure 9]

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 干渉縞生成手段と、 前記干渉縞生成手段により干渉縞を生成する際に被検レ
ンズとなる少なくとも二つの光学レンズと、 干渉縞受光手段と、 前記干渉縞受光手段により受光された干渉縞を測定する
測定手段と、 前記測定手段により測定された干渉縞を解析する解析手
段と、 前記解析手段により解析された干渉縞を記憶する記憶手
段と、 前記記憶手段により記憶された干渉縞に所定の演算を行
う処理手段とを備え、 測定される前記光学レンズは相対的に各々固有の座標系
を有し、かつ、一定の位置関係にあるように保持されて
いる光学レンズ用解析評価装置。
1. An interference fringe generating unit, at least two optical lenses which are lenses to be inspected when the interference fringe generating unit generates an interference fringe, an interference fringe light receiving unit, and an interference fringe light receiving unit. Measuring means for measuring interference fringes, analyzing means for analyzing the interference fringes measured by the measuring means, storage means for storing the interference fringes analyzed by the analyzing means, and interference stored by the storing means. An optical lens analysis, which is provided with processing means for performing a predetermined calculation on the stripes, and the optical lenses to be measured each have a relatively unique coordinate system and are held in a fixed positional relationship. Evaluation device.
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