JPH0827209A - Photopolymerization initiator, actinic energy-curing polymer composition containing the initiator and cured article - Google Patents

Photopolymerization initiator, actinic energy-curing polymer composition containing the initiator and cured article

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JPH0827209A
JPH0827209A JP18907994A JP18907994A JPH0827209A JP H0827209 A JPH0827209 A JP H0827209A JP 18907994 A JP18907994 A JP 18907994A JP 18907994 A JP18907994 A JP 18907994A JP H0827209 A JPH0827209 A JP H0827209A
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哲也 安倍
Minoru Yokoshima
実 横島
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Abstract

PURPOSE:To obtain a photopolymerization initiator consisting of a specific sulfonium salt or sulfoxonium salt and capable of producing a cured coating film excellent in compatibility and storage stability, having excellent transparency, curability and glossiness and free from smell when used in cation- polymerizable material. CONSTITUTION:This initiator is a sulfonium salt or sulfoxonium salt expressed by formula I [X is formula II; R1 to R10 are each H, a halogen, nitro, an alkoxy, a 1-18C aliphatic group, phenyl, a phenoxy, a thiophenoxy, (CH2)mOH, (OCH2 CH2)1OH ((m) and (1) are each 1-5), OCH2CH=CH2, etc.; G is sulfur or formula III; Ar is a monovalent to 4-valent aromatic group; Y is formula IV or V; a=1-4; b=0-3; a+b=1-4; Z is MQp or MQp-1 (OH) (M is phosphorus, boron, arsenic or antimony; Q is a halogen; p=4-6)]. The objective composition is obtained by compounding a cation-polymerizable material with the sulfonium salt or sulfoxonium salt as a polymerization initiator. An epoxy resin, styrene, etc., is used as the polymerizable material.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、新規な特定な構造を有
するスルホニウム塩またはスルホキソニウム塩、それら
からなる光重合開始剤、これを含有するエネルギー線の
照射により硬化が可能なエネルギー線硬化性組成物及び
その硬化物に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a sulfonium salt or sulfoxonium salt having a novel specific structure, a photopolymerization initiator composed of the same, and an energy ray-curable resin containing the same which can be cured by irradiation with energy rays. Composition and a cured product thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】光重合性組成物は印刷インキ、塗料、コ
ーティング、液状レジストインキ等の分野において、省
エネルギー、省スペース、無公害性等の要請から盛んに
研究され、実用化が検討されてきた。しかしこれらの研
究の大部分は二重結合のラジカル重合反応に基づくもの
であった。カチオン重合性物質、例えばエポキシ樹脂
は、物性的には優れた材料であるが光重合をさせること
は困難で、今までアクリル変性することにより二重結合
を導入した材料が主に使用されている。
2. Description of the Related Art Photopolymerizable compositions have been extensively studied in the fields of printing inks, paints, coatings, liquid resist inks, etc., in order to save energy, space, and pollution, and their practical application has been studied. . However, most of these studies were based on the radical polymerization reaction of double bonds. Cationic polymerizable substances, such as epoxy resins, are materials with excellent physical properties, but it is difficult to photopolymerize them, and so far, materials with double bonds introduced by acrylic modification have been mainly used. .

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】光によりエポキシ樹脂
を硬化されるのに、例えば米国特許第3794576号
には感光性芳香族ジアゾニウム塩を光重合開始剤として
使用し光照射により光重合開始剤を分解し、ルイス酸を
放出することによりエポキシ樹脂を重合する方法が提案
されている。しかしながら芳香族ジアゾニウム塩は光分
解によりルイス酸と同時に窒素ガスを放出し、そのため
にエポキシ樹脂の膜厚が15μ以上になると塗膜が発泡
し、厚塗りの用途には適さない。更に、又、エポキシ樹
脂との混合物は光が存在しない時でも、徐々に硬化が進
行する等、保存安定性に問題があり、一液性の組成物と
はなりえない。上記のジアゾニウム塩系開始剤の欠点を
克服すべく、種々検討がなされ、厚塗り性及び保存安定
性の改良された技術として芳香族スルホニウム塩系や芳
香族ヨードニウム塩系開始剤及びそれらを含有する硬化
性樹脂組成物が特公昭52−14278号公報、特公昭
52−14277号公報、特開昭54−53181号公
報、特公昭59−19581号公報等に開示されてい
る。しかしながら、これらの芳香族オニウム塩を含有す
る組成物はジアゾニウム塩に比較し硬化性が乏しいとい
う欠点を有し、又芳香族スルホニウム塩の場合は、硬化
物の臭気が問題となっていた。かかる欠点を克服するべ
く、特開昭56−55420号公報等に、特定の基を有
する芳香族スルホニウム塩が提案されている。しかし、
上記の欠点は、いくらか解消されるものの十分ではな
い。又、光重合性組成物の使用される分野が拡大するに
つれて、市場の要求に対応するために、新規な光重合開
始剤、それを含有する組成物の提供は重要である。
Although the epoxy resin is cured by light, for example, in US Pat. No. 3,794,576, a photosensitive aromatic diazonium salt is used as a photopolymerization initiator. A method of polymerizing an epoxy resin by decomposing and releasing a Lewis acid has been proposed. However, the aromatic diazonium salt releases nitrogen gas at the same time as Lewis acid by photolysis, and when the film thickness of the epoxy resin becomes 15 μm or more, the coating film foams and is not suitable for thick coating applications. Further, the mixture with the epoxy resin has a problem in storage stability such as gradual curing even in the absence of light, and cannot be a one-part composition. In order to overcome the above-mentioned drawbacks of the diazonium salt-based initiator, various investigations have been made, and as a technique with improved thick coatability and storage stability, an aromatic sulfonium salt-based or aromatic iodonium salt-based initiator and containing them are contained. Curable resin compositions are disclosed in JP-B-52-1278, JP-B-52-14277, JP-A-54-53181, JP-B-59-19581 and the like. However, compositions containing these aromatic onium salts have the drawback of poorer curability than diazonium salts, and in the case of aromatic sulfonium salts, the odor of the cured product has been a problem. In order to overcome this drawback, an aromatic sulfonium salt having a specific group has been proposed in JP-A-56-55420. But,
Although the above drawbacks are alleviated, they are not sufficient. Further, as the fields in which the photopolymerizable composition is used are expanded, it is important to provide a novel photopolymerization initiator and a composition containing it in order to meet the market demand.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するため鋭意研究の結果、新規な光重合開始剤
を開発し、これを用いた組成物は、保存安定性、相容
性、硬化性に優れ、その硬化物は臭気が少ないエネルギ
ー線硬化性組成物を提供することに成功した。すなわ
ち、本発明は、
As a result of earnest research to solve the above-mentioned problems, the present inventors have developed a novel photopolymerization initiator, and a composition using the same has a long storage stability and a good phase stability. We have succeeded in providing an energy ray-curable composition which has excellent acceptability and curability and has a cured product with little odor. That is, the present invention is

【0005】(1)式(1)Expression (1)

【0006】[0006]

【化10】 [Chemical 10]

【0007】(但し、式中Xは下記の式(2)で表され
る基
(Where X is a group represented by the following formula (2)

【0008】[0008]

【化11】 [Chemical 11]

【0009】(R1 〜R10は、それぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、アルコキシ基、C1 〜C18の脂肪
族基、フェニル基、フェノキシ基、チオフェノキシ基、
(R 1 to R 10 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, an alkoxy group, a C 1 to C 18 aliphatic group, a phenyl group, a phenoxy group, a thiophenoxy group,

【0010】[0010]

【化12】 [Chemical 12]

【0011】またはOr

【0012】[0012]

【化13】 [Chemical 13]

【0013】のいずれかから選択された基である。m及
びlは1〜5の数であり、Gはイオウ原子または
A group selected from any of the following: m and l are numbers from 1 to 5, G is a sulfur atom or

【0014】[0014]

【化14】 Embedded image

【0015】である。)、Arは1〜4価の芳香族基、
Yは
[0015] ), Ar is a monovalent to tetravalent aromatic group,
Y is

【0016】[0016]

【化15】 [Chemical 15]

【0017】またはOr

【0018】[0018]

【化16】 Embedded image

【0019】であり、aは1〜4、bは0または1〜
3、a+bは1〜4、nは1〜4、Zは式(3)または
式(4)で示され、
Where a is 1 to 4 and b is 0 or 1
3, a + b is 1 to 4, n is 1 to 4, Z is represented by the formula (3) or the formula (4),

【0020】[0020]

【化17】 [Chemical 17]

【0021】[0021]

【化18】 Embedded image

【0022】Mは、リン原子、ホウ素原子、ヒ素原子ま
たはアンチモン原子であり、Qはハロゲン原子であり、
pは4〜6の整数である。)で示されるスルホニウム塩
またはスルホキソニウム塩、(2)これらの塩からなる
光重合開始剤及び(3)カチオン重合性物質(A)と
(1)項記載の光重合開始剤(B)を含有することを特
徴とするエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物に関
する。
M is a phosphorus atom, boron atom, arsenic atom or antimony atom, Q is a halogen atom,
p is an integer of 4-6. ) A sulfonium salt or a sulfoxonium salt, (2) a photopolymerization initiator comprising these salts, (3) a cationically polymerizable substance (A) and (1) the photopolymerization initiator (B). TECHNICAL FIELD The present invention relates to an energy ray-curable composition and a cured product thereof.

【0023】本発明で用いるカチオン重合性物質(A)
としては、例えば、エポキシ樹脂、スチレン、ビニルエ
ーテル等のカチオン重合性ビニル化合物、更にはスピロ
オルソエステル、ビシクロオルソエステル、スピロオル
ソカーボナートのような環状エーテル類が挙げられる。
エポキシ樹脂としては、従来、公知の芳香族エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、更には
エポキシド単量体類、エピサルファイド単量体類が挙げ
られる。ここで、芳香族エポキシ樹脂として例示すれ
ば、少なくとも1個の芳香族核を有する多価フェノール
またはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジ
ルエーテルであって、例えばビスフェノールA、ビスフ
ェノールF、ビスフェノールS等のビスフェノール化合
物またはビスフェノール化合物のアルキレンオキサイド
(例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、ブチレンオキサイド等)付加体とエピクロロヒドリ
ンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル類、
ノボラック型エポキシ樹脂類(例えば、フェノール・ノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エ
ポキシ樹脂、臭素化フェノール・ノボラック型エポキシ
樹脂等)、トリスフェノールメタントリグリシジルエー
テル等が挙げられる。また、脂環式エポキシ樹脂とし
て、具体的な例としては、3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシルメ
チル)アジペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキ
サノン−メタ−ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシ
クロペンチル)エーテル、EHPE−3150(ダイセ
ル化学工業株式会社製、脂環式エポキシ樹脂、軟化点7
1℃)等が挙げられる。更に脂肪族エポキシ樹脂の例と
しては、脂肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオ
キサイド付加物のポリグリシジルエーテルがあり、その
代表例としては、1,4−ブタンジオールのジグリシジ
ルエーテル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジル
エーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエ
チレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレン
グリコールのジグリシジルエーテル、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価
アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイ
ド(エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド)を付
加することにより得られるポリエーテルポリオールのポ
リグリシジルエーテルが挙げられる。更にエポキシド単
量体類の例としては、脂肪族高級アルコールのモノグリ
シジルエーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフェ
ノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加する
ことにより得られるポリエーテルアルコールのモノグリ
シジルエーテル等が挙げられる。カチオン重合性ビニル
化合物としては、例えば、トリエチレングリコールジビ
ニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエー
テル、シクロヘキサン−1,4−ジメチロールジビニル
エーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、
Cationic polymerizable substance (A) used in the present invention
Examples thereof include cationically polymerizable vinyl compounds such as epoxy resin, styrene and vinyl ether, and cyclic ethers such as spiro orthoester, bicyclo orthoester and spiro orthocarbonate.
Examples of the epoxy resin include conventionally known aromatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, aliphatic epoxy resins, and further epoxide monomers and episulfide monomers. Here, as an example of the aromatic epoxy resin, a polyglycidyl ether of a polyhydric phenol having at least one aromatic nucleus or an alkylene oxide adduct thereof, such as bisphenol A, bisphenol F, and bisphenol S Glycidyl ethers produced by reacting a compound or an alkylene oxide (for example, ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, etc.) adduct of a bisphenol compound with epichlorohydrin,
Examples thereof include novolac type epoxy resins (for example, phenol / novolac type epoxy resin, cresol / novolac type epoxy resin, brominated phenol / novolac type epoxy resin, etc.) and trisphenolmethane triglycidyl ether. Specific examples of the alicyclic epoxy resin include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, bis- (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, and 2- (3 , 4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexanone-meta-dioxane, bis (2,3-epoxycyclopentyl) ether, EHPE-3150 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., alicyclic epoxy) Resin, softening point 7
1 ° C.) and the like. Further, examples of the aliphatic epoxy resin include polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, and representative examples thereof include diglycidyl ether of 1,4-butanediol and 1,6-hexane. Diglycidyl ether of diol, triglycidyl ether of glycerin, triglycidyl ether of trimethylolpropane, diglycidyl ether of polyethylene glycol, diglycidyl ether of propylene glycol, aliphatic polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol and glycerin 1 Examples include polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding one kind or two or more kinds of alkylene oxides (ethylene oxide, propylene oxide). Further, examples of the epoxide monomers include monoglycidyl ether of aliphatic higher alcohol, phenol, cresol, butylphenol, and monoglycidyl ether of polyether alcohol obtained by adding alkylene oxide to these. As the cationically polymerizable vinyl compound, for example, triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, cyclohexane-1,4-dimethylol divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether,

【0024】[0024]

【化19】 [Chemical 19]

【0025】及びAnd

【0026】[0026]

【化20】 Embedded image

【0027】等が挙げられる。また、これらカチオン重
合性有機材料は単独でも2種以上の混合物でもかまわな
い。
And the like. Further, these cationically polymerizable organic materials may be used alone or as a mixture of two or more kinds.

【0028】本発明で用いる一般式(1)で表されるス
ルホニウム塩またはスルホキソニウム塩としては、例え
ば一般式(5)で表されるスルホニウム塩
The sulfonium salt or sulfoxonium salt represented by the general formula (1) used in the present invention is, for example, the sulfonium salt represented by the general formula (5).

【0029】[0029]

【化21】 [Chemical 21]

【0030】(式中、R1 〜R10は、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシ基、C1 〜C
18の脂肪族基、フェニル基、フェノキシ基、チオフェノ
キシ基、
(In the formula, R 1 to R 10 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, an alkoxy group, and C 1 to C.
18 aliphatic groups, phenyl group, phenoxy group, thiophenoxy group,

【0031】[0031]

【化22】 または[Chemical formula 22] Or

【0032】[0032]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0033】のいずれかから選択された基である。m及
びlは1〜5の数であり、Arは1〜4価の芳香族基で
あり、aは1〜4、bは0または1〜3、a+bは1〜
4、nは1〜4、Zは前記式(3)または式(4)で示
される。)を酸化することによって得ることができる。
一般式(5)で表されるスルホニウム塩は、 1)出発原料として式(6)で表されるジフェニルスル
フィド系化合物
A group selected from any of the following: m and l are numbers from 1 to 5, Ar is a monovalent to tetravalent aromatic group, a is 1 to 4, b is 0 or 1 to 3, and a + b is 1 to 1.
4, n is 1 to 4, and Z is represented by the above formula (3) or formula (4). ) Can be obtained.
The sulfonium salt represented by the general formula (5) includes: 1) a diphenyl sulfide compound represented by the formula (6) as a starting material.

【0034】[0034]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0035】(但し、式中Cは1〜4、Arは1〜4価
の芳香族基である。)と置換または非置換ジフェニルス
ルホキシド化合物を公知のスルホニウム塩の生成反応を
利用する方法(以下1)法という)、2)相当する置換
及び非置換のスルホニウム塩をあらかじめ合成し、その
後、置換基を変換、導入する方法(以下2)法という)
のいずれかにより合成することができる。
(Wherein C is 1 to 4 and Ar is a 1 to 4 valent aromatic group) and a substituted or unsubstituted diphenyl sulfoxide compound is utilized by a known sulfonium salt formation reaction (hereinafter 1) method), 2) preliminarily synthesizing corresponding substituted and unsubstituted sulfonium salts, and then converting and introducing a substituent (hereinafter referred to as 2) method)
Can be synthesized by any of the following.

【0036】先ず1)法を具体的に説明すると式(6)
で表されるジフェニルスルフィド系化合物(具体的な例
としては、安息香酸、o−メチル−安息香酸、m−メチ
ル−安息香酸、p−メチル−安息香酸、3,5−ジメチ
ル−安息香酸、p−エチル−安息香酸、p−ブチル安息
香酸、o−メチルカルボニルオキシ安息香酸、p−メチ
ルオキシカルボニル安息香酸、o−クロル−安息香酸、
m−クロル−安息香酸、p−クロル安息香酸、2,4−
ジクロル安息香酸、o−フルオロ安息香酸、m−フルオ
ロ−安息香酸、2,4−ジフルオロ安息香酸、p−メト
キシ安息香酸、o−ベンゾイル安息香酸、p−フェニル
安息香酸、ナフタリン−2−カルボン酸、p−フェニル
チオ安息香酸、o−シアノ安息香酸、p−シアノ安息香
酸、p−メチルチオ安息香酸、等の芳香族モノカルボン
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ベンゼン−1,2,
4−トリカルボン酸、ナフタリン−1,4,5,8−テ
トラカルボン酸、ナフタリン−2,6−ジカルボン酸、
ナフタリン−2,3−ジカルボン酸
First, the method 1) will be described in detail by using the equation (6).
A diphenyl sulfide compound represented by the formula (as specific examples, benzoic acid, o-methyl-benzoic acid, m-methyl-benzoic acid, p-methyl-benzoic acid, 3,5-dimethyl-benzoic acid, p -Ethyl-benzoic acid, p-butylbenzoic acid, o-methylcarbonyloxybenzoic acid, p-methyloxycarbonylbenzoic acid, o-chloro-benzoic acid,
m-chloro-benzoic acid, p-chlorobenzoic acid, 2,4-
Dichlorobenzoic acid, o-fluorobenzoic acid, m-fluoro-benzoic acid, 2,4-difluorobenzoic acid, p-methoxybenzoic acid, o-benzoylbenzoic acid, p-phenylbenzoic acid, naphthalene-2-carboxylic acid, Aromatic monocarboxylic acids such as p-phenylthiobenzoic acid, o-cyanobenzoic acid, p-cyanobenzoic acid, p-methylthiobenzoic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, benzene-1,2,
4-tricarboxylic acid, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid, naphthalene-2,6-dicarboxylic acid,
Naphthalene-2,3-dicarboxylic acid

【0037】[0037]

【化25】 [Chemical 25]

【0038】[0038]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0039】[0039]

【化27】 [Chemical 27]

【0040】[0040]

【化28】 [Chemical 28]

【0041】[0041]

【化29】 [Chemical 29]

【0042】[0042]

【化30】 Embedded image

【0043】[0043]

【化31】 [Chemical 31]

【0044】等の芳香族ポリカルボン酸等の芳香族カル
ボン酸化合物とジフェニルスルフィドを反応することに
より得ることができる。反応溶媒としてアルキルスルホ
ン酸(例えば、メタンスルホン酸等)に無水リン酸を溶
解させたものを用いるのが好ましく、反応温度は、常温
〜130℃が好ましい。反応時間は0.5〜15時間が
好ましい。前記芳香族カルボン酸化合物中のカルボン酸
1当量に対して、ジフェニルスルフィドを約1モル反応
させるのが好ましい。)と置換または非置換ジフェニル
スルホキシド化合物(例えば、ジフェニルスルホキシ
ド、4,4′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、
2,2′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、3,
3′−ジフルオロジフェニルスルホキシド、4,2′−
ジフルオロジフェニルスルホキシド、4,4′−ジブロ
ムジフェニルスルホキシド、4,4′−ジクロロジフェ
ニルスルホキシド、2,2′−ジクロロジフェニルスル
ホキシド、2,2′,4,4′−テトラクロロジフェニ
ルスルホキシド、4,4′−ジメチルフェニルスルホキ
シド、4,4′−ジエチルジフェニルスルホキシド、
4,4′−ジメトキシシフェニルスルホキシド、4−メ
チルチオジフェニルスルホキシド、4−フェニルチオジ
フェニルスルホキシド、4−フェニルカルボニルジフェ
ニルスルホキシド、4−ベンゾイルオキシジフェニルス
ルホキシド等)を公知の方法、例えば脱水剤(例えば、
五酸化リン、濃硫酸、無水酢酸等)中で、常温〜150
℃で縮合反応を行ない、次いで、これらの反応液を式
(3)又は式(4)(例えば、NaSbF6、NaPF6 、NaAs
F6、NaBF4 、NaSbF5OH、KSbF6 、KPF6、KAsF6 、KSbF5O
H 等)の水溶液に滴下し、スルホニウム塩を得ることが
できる。
It can be obtained by reacting an aromatic carboxylic acid compound such as an aromatic polycarboxylic acid with a diphenyl sulfide. As the reaction solvent, it is preferable to use one obtained by dissolving phosphoric anhydride in alkylsulfonic acid (for example, methanesulfonic acid), and the reaction temperature is preferably room temperature to 130 ° C. The reaction time is preferably 0.5 to 15 hours. It is preferable to react about 1 mol of diphenyl sulfide with respect to 1 equivalent of the carboxylic acid in the aromatic carboxylic acid compound. ) And a substituted or unsubstituted diphenyl sulfoxide compound (eg, diphenyl sulfoxide, 4,4′-difluorodiphenyl sulfoxide,
2,2'-difluorodiphenyl sulfoxide, 3,
3'-difluorodiphenyl sulfoxide, 4,2'-
Difluorodiphenyl sulfoxide, 4,4'-dibromodiphenyl sulfoxide, 4,4'-dichlorodiphenyl sulfoxide, 2,2'-dichlorodiphenyl sulfoxide, 2,2 ', 4,4'-tetrachlorodiphenyl sulfoxide, 4,4 ′ -Dimethylphenyl sulfoxide, 4,4′-diethyldiphenyl sulfoxide,
4,4'-dimethoxydiphenyl sulfoxide, 4-methylthiodiphenyl sulfoxide, 4-phenylthiodiphenyl sulfoxide, 4-phenylcarbonyldiphenyl sulfoxide, 4-benzoyloxydiphenyl sulfoxide and the like are known methods, for example, a dehydrating agent (for example,
Phosphorus pentoxide, concentrated sulfuric acid, acetic anhydride, etc.) at room temperature to 150
Condensation reaction is carried out at ℃, and then these reaction solutions are subjected to formula (3) or formula (4) (eg NaSbF 6 , NaPF 6 , NaAs).
F 6, NaBF 4, NaSbF 5 OH, KSbF 6, KPF 6, KAsF 6, KSbF 5 O
Sulfonium salt can be obtained by dropwise addition to an aqueous solution of H 2).

【0045】2)法を具体的に説明すると、1)法で合
成したスルホニウム塩、例えば式(7)
The method 2) will be described in detail. A sulfonium salt synthesized by the method 1), for example, the formula (7)

【0046】[0046]

【化32】 Embedded image

【0047】(但し、式中、Arは1〜4価の芳香族
基、Aはハロゲン原子、aは1〜4、bは0または1〜
3、a+bは1〜4、nは1〜4、Zは前記式(3)ま
たは式(4)で示される。)で示される化合物等のハラ
イド化合物を公知の方法、例えば塩基性化合物(例え
ば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム
等)の存在下、大過剰のモノ又ポリアルコール類(例え
ば、メタノール、エタノール、カルビトール、エチレン
グリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリ
コール、グリセリン、トリメチロールプロパン、1,4
−ブタンジオール、グリシドール、2−ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、アリルアルコール等)を室温〜15
0℃で、必要に応じて、ジメチルスルホキシド等の有機
溶剤の存在下反応させることにより、前記ハライド化合
物のハライド部が例えば、
(In the formula, Ar is a monovalent to tetravalent aromatic group, A is a halogen atom, a is 1 to 4, b is 0 or 1
3, a + b is 1 to 4, n is 1 to 4, and Z is represented by the above formula (3) or formula (4). In a known method, for example, in the presence of a basic compound (for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, etc.), a halide compound such as a compound represented by Ethanol, carbitol, ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, 1,4
-Butanediol, glycidol, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, allyl alcohol, etc.) at room temperature to 15
By reacting at 0 ° C. in the presence of an organic solvent such as dimethyl sulfoxide, if necessary, the halide part of the halide compound can be converted into

【0048】[0048]

【化33】 [Chemical 33]

【0049】[0049]

【化34】 Embedded image

【0050】[0050]

【化35】 Embedded image

【0051】[0051]

【化36】 Embedded image

【0052】等の置換基に変換されたスルホニウム塩を
得ることができる。この様にして得たスルホニウム塩を
酸化剤(例えば、過酸化水素や過酸化ナトリウム等)を
用いて、0〜30℃で反応させることにより得ることが
できる。必要に応じて有機溶剤類(例えば、ジクロロメ
タン、アセトン、ブチロラクトン、酢酸等)を用いるこ
ともできる。
A sulfonium salt converted to a substituent such as can be obtained. It can be obtained by reacting the sulfonium salt thus obtained with an oxidizing agent (for example, hydrogen peroxide, sodium peroxide, etc.) at 0 to 30 ° C. If necessary, organic solvents (eg, dichloromethane, acetone, butyrolactone, acetic acid, etc.) can be used.

【0053】一般式(1)で示される化合物の代表例と
しては表1〜表3の化合物を挙げることができるが、こ
れらに限定されるものではない。
Typical examples of the compound represented by the general formula (1) include the compounds shown in Tables 1 to 3, but the compounds are not limited to these.

【0054】[0054]

【表1】 [Table 1]

【0055】[0055]

【表2】 [Table 2]

【0056】[0056]

【表3】 本発明の硬化性組成物は、100重量部のカチオン重合
性物質(A)に対して0.01〜20重量部、より好ま
しくは0.1〜10重量部の前記の式(1)で示される
スルホニウム塩またはスルホキソニウム塩(B)を必須
の成分とするが、適当な割合は、カチオン重合性物質の
性質やエネルギー線の種類、照射量、所望の硬化時間、
温度、湿度、塗膜厚などさまざまな要因を考慮すること
によって決定される。カチオン重合性物質へのスルホニ
ウム塩またはスルホキソニウム塩の溶解を容易にするた
め、あらかじめスルホニウム塩またはスルホキソニウム
塩を溶剤類(例えば、プロピレンカーボネート、カルビ
トール、カルビトールアセテート、ブチロラクトン等)
に溶解し使用することができる。本発明の硬化性組成物
は、カチオン重合性物質及びスルホニウム塩またはスル
ホキソニウム塩を混合、溶解あるいは混練等の方法によ
り調製することができる。
[Table 3] The curable composition of the present invention is represented by the above formula (1) in an amount of 0.01 to 20 parts by weight, more preferably 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the cationically polymerizable substance (A). The sulfonium salt or sulfoxonium salt (B) is used as an essential component, but an appropriate ratio is the nature of the cationically polymerizable substance, the type of energy ray, the irradiation dose, the desired curing time,
It is determined by considering various factors such as temperature, humidity and coating thickness. In order to facilitate the dissolution of the sulfonium salt or sulfoxonium salt in the cationically polymerizable substance, the sulfonium salt or sulfoxonium salt is previously dissolved in a solvent (eg, propylene carbonate, carbitol, carbitol acetate, butyrolactone).
It can be dissolved in and used. The curable composition of the present invention can be prepared by a method such as mixing, dissolving or kneading a cationically polymerizable substance and a sulfonium salt or a sulfoxonium salt.

【0057】本発明の硬化性組成物は、紫外線等のエネ
ルギー線を照射することにより0.1秒〜数分後に指触
乾燥状態あるいは溶媒不溶性の状態に硬化することがで
きる。適当なエネルギー線としては、スルホニウム塩ま
たはスルホキソニウム塩の分触を誘発するエネルギーを
有する限りいかなるものでもよいが、好ましくは、高、
低圧水銀ランプ、キセノンランプ、殺菌灯、レーザー光
などから得られる2000オングストローム〜7000
オングストロームの波長を有する電磁波エネルギーや電
子線、X線、放射線等の高エネルギー線を使用する。エ
ネルギー線への暴露は、エネルギー線の強度によるが、
通常は0.1秒〜10秒程度で十分である。しかし比較
的厚い塗装物についてはそれ以上の時間をかけるのが好
ましい。エネルギー線照射後0.1秒〜数分後には、ほ
とんどの組成物はカチオン重合により指触乾燥するが、
カチオン重合反応を促進するために加熱を併用すること
も場合によっては好ましい。
The curable composition of the present invention can be cured to a touch-free state or a solvent-insoluble state after 0.1 seconds to several minutes by irradiating with energy rays such as ultraviolet rays. The appropriate energy ray may be any one as long as it has an energy that induces the dissociation of the sulfonium salt or the sulfoxonium salt, but is preferably high.
2000 angstrom to 7000 obtained from low-pressure mercury lamp, xenon lamp, germicidal lamp, laser light, etc.
Electromagnetic wave energy having a wavelength of angstrom and high energy rays such as electron beam, X-ray, and radiation are used. Exposure to energy rays depends on the intensity of the energy rays,
Generally, about 0.1 to 10 seconds is sufficient. However, it is preferable to spend more time on a relatively thick coated object. After 0.1 seconds to several minutes after irradiation with energy rays, most compositions dry by touch due to cationic polymerization.
It is also preferable in some cases to use heating in combination to accelerate the cationic polymerization reaction.

【0058】本発明の組成物には、さらにカチオン重合
を損わない範囲で希釈のための溶剤や、改質のための非
反応性の樹脂や(メタ)アクリル酸エステル化合物(例
えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型
エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の
反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン
(メタ)アクリレート、ポリエステルポリ(メタ)アク
リレート等のオリゴマーや、2−ヒドロキシ(メタ)ア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アク
リレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等
のモノマー等)を配合することができる。(メタ)アク
リル酸エステル化合物を使用する場合には、光ラジカル
重合開始剤(例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン、アセトフェノンジメチルケタール、ベン
ゾイルメチルエーテル等)を使用するのが好ましい。ま
た例えば、電気特性を改良する目的などのため有機カル
ボン酸や酸無水物を使用したり、あるいはゴム弾性をも
たせるなどの目的でポリマールその他の可とう性プレポ
リマーを混合することができる。
The composition of the present invention further comprises a solvent for dilution, a non-reactive resin for modification and a (meth) acrylic acid ester compound (for example, bisphenol A) within a range not impairing the cationic polymerization. -Type epoxy resin, novolac-type epoxy resin, and other oligomers such as epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, and polyester poly (meth) acrylate, which are reaction products of (meth) acrylic acid, and 2-hydroxy ( (Meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, etc. It can be blended. When a (meth) acrylic acid ester compound is used, it is preferable to use a photoradical polymerization initiator (eg, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, acetophenone dimethyl ketal, benzoyl methyl ether, etc.). Further, for example, an organic carboxylic acid or an acid anhydride may be used for the purpose of improving electric properties, or a polymer or other flexible prepolymer may be mixed for the purpose of imparting rubber elasticity.

【0059】本発明の組成物は、通常透明な液状として
使用されるものであるが、用途によっては不活性な顔
料、染料、充填剤、静電防止剤、難燃剤、消泡剤、流動
調整剤、増感剤、促進剤、光安定剤等を混合して用いら
れる。本発明の組成物は金属、木材、ゴム、プラスチッ
ク、ガラス、セラミック製品等に使用することができ
る。さらに本発明の具体的な用途としては、塗料、コー
ティング剤、インキ、レジスト、液状レジスト、接着
剤、成形材料、注型材料、パテ、ガラス繊維含浸剤、目
止め剤等が挙げられる。
The composition of the present invention is usually used as a transparent liquid, but depending on the application, it is an inert pigment, dye, filler, antistatic agent, flame retardant, defoaming agent, flow control agent. Used as a mixture of agents, sensitizers, accelerators, light stabilizers and the like. The composition of the present invention can be used for metal, wood, rubber, plastic, glass, ceramic products and the like. Further, specific applications of the present invention include paints, coating agents, inks, resists, liquid resists, adhesives, molding materials, casting materials, putties, glass fiber impregnating agents, and sealing agents.

【0060】[0060]

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。なお、実施例中の部は、重量部である。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples. The parts in the examples are parts by weight.

【0061】(式(1)で表されるスルホニウム塩の合
成例) 実施例1 下記式で表されるジフェニルスルフィド化合物
(Synthesis Example of Sulfonium Salt Represented by Formula (1)) Example 1 Diphenyl sulfide compound represented by the following formula

【0062】[0062]

【化37】 Embedded image

【0063】29部、4,4′−ジフルオロジフェニル
スルホキシド23.9部、無水酢酸100部及びメタン
スルホン酸398部を仕込み、80℃に加熱し、攪拌し
ながら約8時間反応を行ない、次いで、この反応混合物
をNaPF6 の水溶液280部(水263.2部にNaPF6
6.8部を溶解したもの。)に少しずつ滴下し、析出し
た白色の固体をろ過、水で洗浄し、乾燥する。生成物の
一部13.1部をブチロラクトン30部に溶解した。つ
いで30%過酸化水素4部を添加し、25℃で約18時
間反応を行なった。ついで混合物を蒸溜水200部中に
注入した。得られた粗生成物を水及びエチルエーテルで
洗浄した。白色の固体が13部得られた。生成物の融点
は、151〜162℃で元素分析値は次のとおりであっ
た。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 54.02 54.05 水素 3.01 3.07 イオウ 9.27 9.32 リン 4.51 4.50 フッ素 22.03 22.08 この製造方法に基づいて、構造式
29 parts, 2,4'-difluorodiphenyl sulfoxide (23.9 parts), acetic anhydride (100 parts) and methanesulfonic acid (398 parts) were charged, heated to 80 ° C. and reacted for about 8 hours with stirring. The reaction mixture was mixed with 280 parts of an aqueous solution of NaPF 6 (263.2 parts of water with 1 part of NaPF 6
Dissolved 6.8 parts. ), And the precipitated white solid is filtered, washed with water and dried. A portion of the product, 13.1 parts, was dissolved in 30 parts butyrolactone. Then, 4 parts of 30% hydrogen peroxide was added and the reaction was carried out at 25 ° C. for about 18 hours. The mixture was then poured into 200 parts distilled water. The crude product obtained was washed with water and ethyl ether. 13 parts of white solid were obtained. The melting point of the product was 151 to 162 ° C, and the elemental analysis values were as follows. Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 54.02 54.05 Hydrogen 3.01 3.07 Sulfur 9.27 9.32 Phosphorus 4.51 4.50 Fluorine 22.03 22.08 This production Structural formula based on the method

【0064】[0064]

【化38】 [Chemical 38]

【0065】のスルホニウム塩を得た。A sulfonium salt of was obtained.

【0066】実施例2.4−(p−クロロベンゾイル)
−ジフェニルスルフィド32.5部、4,4′−ジブロ
ム・ジフェニルスルホキシド36部、無水酢酸100
部、及びメタンスルホン酸398部を仕込み、80℃で
約8時間反応を行ない、次いで混合物をNaSbF6の水溶液
431.1部(水405.3部にNaSbF6を26.8部を
溶解したもの。)に少しずつ滴下し、析出した白色の固
体をろ過、水で洗浄し乾燥した。生成物の一部18.0
部をブチロラクトン30部に溶解した。ついで0℃に冷
却し30%過酸化水素2部を添加し、0℃で24時間反
応を行なった。ついで水200部に注入した。得られた
粗生成物を水及びエチルエーテルで洗浄した。白色の固
体が18部得られた。生成物の融点は115〜124℃
で元素分析値はつぎのとおりである。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 40.49 40.46 水素 2.15 2.19 イオウ 7.01 6.97 アンチモン 3.83 3.85 フッ素 12.39 12.40 臭素 17.36 17.38 塩素 3.81 3.85 この製造方法に基づいて、構造式
Example 2.4- (p-chlorobenzoyl)
-Diphenyl sulfide 32.5 parts, 4,4'-dibromodiphenyl sulfoxide 36 parts, acetic anhydride 100
And 398 parts of methanesulfonic acid were charged, the reaction was carried out at 80 ° C. for about 8 hours, and then the mixture was dissolved in 431.1 parts of an aqueous solution of NaSbF 6 (26.8 parts of NaSbF 6 dissolved in 405.3 parts of water). .) Little by little, and the precipitated white solid was filtered, washed with water and dried. Part of the product 18.0
Parts were dissolved in 30 parts butyrolactone. Then, the mixture was cooled to 0 ° C., 2 parts of 30% hydrogen peroxide was added, and the reaction was carried out at 0 ° C. for 24 hours. Then, 200 parts of water was poured. The crude product obtained was washed with water and ethyl ether. 18 parts of white solid were obtained. The melting point of the product is 115-124 ° C.
The elemental analysis values are as follows. Element Measured value (% by weight) Calculated value (% by weight) Carbon 40.49 40.46 Hydrogen 2.15 2.19 Sulfur 7.01 6.97 Antimony 3.83 3.85 Fluorine 12.39 12.40 Bromine 17 .36 17.38 Chlorine 3.81 3.85 Based on this production method,

【0067】[0067]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0068】のスルホニウム塩を得た。A sulfonium salt of was obtained.

【0069】実施例3.下記式で表されるジフェニルス
ルフィド化合物50.3部
Example 3. 50.3 parts of diphenyl sulfide compound represented by the following formula

【0070】[0070]

【化40】 [Chemical 40]

【0071】4,4′−ジフルオロジフェニルスルホキ
シド47.6部、無水酢酸200部及びメタンスルホン
酸796部を仕込み、80℃で約8時間反応させ、次い
で混合物をNaSbF6の水溶液862.3部(水810.6
部にNaSbF6を51.7部を溶解したもの。)に少しずつ
滴下し、析出した白色の固体をろ過し、水で洗浄し乾燥
した。生成物の一部28.3をブチロラクトン65部に
溶解した。ついで0℃に冷却し30%過酸化水素4部を
添加し、0℃で24時間反応を行なった。ついで水20
0部に注入した。得られた粗生成物に水及びエチルエー
テルで洗浄した。白色の固体が28.5部得られた。生
成物の融点は157〜165℃で元素分析値は次のとお
りである。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 46.37 46.41 水素 2.52 2.50 イオウ 8.82 8.86 アンチモン 16.78 16.82 フッ素 20.90 20.99 この製造方法に基づいて、構造式
4,4'-Difluorodiphenyl sulfoxide (47.6 parts), acetic anhydride (200 parts) and methanesulfonic acid (796 parts) were charged and reacted at 80 ° C. for about 8 hours, and then the mixture was mixed with an aqueous solution of NaSbF 6 (862.3 parts). Water 810.6
51.7 parts of NaSbF 6 dissolved in 1 part. ) Was gradually added dropwise, and the precipitated white solid was filtered, washed with water and dried. Part 28.3 of the product was dissolved in 65 parts butyrolactone. Then, the mixture was cooled to 0 ° C., 4 parts of 30% hydrogen peroxide was added, and the reaction was carried out at 0 ° C. for 24 hours. Then water 20
It was injected at 0 part. The crude product obtained was washed with water and ethyl ether. 28.5 parts of white solid were obtained. The melting point of the product is 157 to 165 ° C, and the elemental analysis values are as follows. Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 46.37 46.41 Hydrogen 2.52 2.50 Sulfur 8.82 8.86 Antimony 16.78 16.82 Fluorine 20.90 20.99 Production Structural formula based on the method

【0072】[0072]

【化41】 Embedded image

【0073】のスルホニウム塩を得た。A sulfonium salt of was obtained.

【0074】実施例4.下記式で表わされるジフェニル
スルフィド化合物55.3部
Example 4. 55.3 parts of diphenyl sulfide compound represented by the following formula

【0075】[0075]

【化42】 Embedded image

【0076】4,4′−ジメチルジフェニルスルホキシ
ド46.1部、無水酢酸200部、及びメタンスルホン
酸796部を仕込み、80℃で約8時間反応させ、次い
で混合物をNaSbF6の水溶液862.3部(水810.6
部にNaSbF6を51.7部を溶解したもの。)に少しずつ
滴下し、析出した白色の固体をろ過し、水で洗浄し乾燥
した。生成物の一部29部をブチロラクトン68部に溶
解した。ついで0℃に冷却し、30%過酸化水素4部を
添加し、0℃で24時間反応を行なった。ついで水20
0部に注入した。得られた粗生成物を水及びエチルエー
テルで洗浄した。白色の固体が29部得られた。生成物
の融点は190〜202℃で元素分析値は次のとおりで
ある。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 51.76 51.81 水素 3.39 3.40 イオウ 8.66 8.65 アンチモン 16.39 16.43 フッ素 15.34 15.38 この製造方法に基づいて、構造式
4,4'-Dimethyldiphenyl sulfoxide (46.1 parts), acetic anhydride (200 parts), and methanesulfonic acid (796 parts) were charged and reacted at 80 ° C. for about 8 hours, and then the mixture was mixed with an aqueous solution of NaSbF 6 (862.3 parts). (Water 810.6
51.7 parts of NaSbF 6 dissolved in 1 part. ) Was gradually added dropwise, and the precipitated white solid was filtered, washed with water and dried. Part 29 parts of the product was dissolved in 68 parts butyrolactone. Then, it was cooled to 0 ° C., 4 parts of 30% hydrogen peroxide was added, and the reaction was carried out at 0 ° C. for 24 hours. Then water 20
It was injected at 0 part. The crude product obtained was washed with water and ethyl ether. 29 parts of a white solid was obtained. The melting point of the product is 190 to 202 ° C., and the elemental analysis values are as follows. Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 51.76 51.81 Hydrogen 3.39 3.40 Sulfur 8.66 8.65 Antimony 16.39 16.43 Fluorine 15.34 15.38 This production Structural formula based on the method

【0077】[0077]

【化43】 [Chemical 43]

【0078】のスルホニウム塩を得た。A sulfonium salt of was obtained.

【0079】(式(1)で表されるスルホキソニウム塩
の実施例 実施例5.4−ベンゾイル−ジフェニルスルフィド29
部、4,4′−ジフルオロジフェニルスルホキシド2
3.9部、無水リン酸100部及びメタンスルホン酸3
98部を仕込み、80℃で約8時間反応し、次いでこの
反応混合物をNaPF6 水溶液280部(水263.2部に
NaPF6 16.8部を溶解したもの。)に少しずつ滴下
し、析出した白色の固体をろ過し、水で洗浄し乾燥す
る。生成物の一部70部、水酸化ナトリウム4部、エタ
ノール200部を仕込み、室温で24時間反応し、その
後、水中に注入し析出した白色の固体をろ過し、水で洗
浄し乾燥する。生成物の一部7.1部、ジクロロメタン
400部に溶解した。次いでp−トルエンスルホニルク
ロライド47.6部を仕込み0℃に冷却し、この混合物
に過酸化ナトリウム48.4部を水600部に溶解した
水溶液を0℃を保ちながら約30分で滴下する。さらに
同一温度で約2時間反応を行なった。その後、静置し、
2層を分離するよう放置する。下層の有機層を集め、乾
燥し、減圧下で濃縮する。得られた残渣を水およびエチ
ルエーテルで洗浄し、白色の固体7.0部を得た。生成
物の融点は135〜143℃で元素分析値は次のとおり
である。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 55.48 55.53 水素 4.10 4.13 イオウ 8.46 8.48 リン 4.10 4.09 フッ素 15.03 15.07 この製造方法に基づいて、構造式
Example of Sulfoxonium Salt Represented by Formula (1) Example 5.4 4-Benzoyl-diphenyl sulfide 29
Part, 4,4'-difluorodiphenyl sulfoxide 2
3.9 parts, phosphoric anhydride 100 parts and methanesulfonic acid 3
98 parts were charged and reacted at 80 ° C. for about 8 hours, and then the reaction mixture was added to 280 parts NaPF 6 aqueous solution (to 263.2 parts water).
Obtained by dissolving a NaPF 6 16.8 parts. ), And the white solid that has precipitated is filtered, washed with water and dried. A portion of the product (70 parts), sodium hydroxide (4 parts) and ethanol (200 parts) are charged and reacted at room temperature for 24 hours, then poured into water and the precipitated white solid is filtered, washed with water and dried. Part of the product was dissolved in 7.1 parts and 400 parts of dichloromethane. Then, 47.6 parts of p-toluenesulfonyl chloride was charged and cooled to 0 ° C., and an aqueous solution in which 48.4 parts of sodium peroxide was dissolved in 600 parts of water was added dropwise to this mixture in about 30 minutes while maintaining 0 ° C. Further, the reaction was carried out at the same temperature for about 2 hours. Then, let it stand,
Allow the two layers to separate. The lower organic layers are combined, dried and concentrated under reduced pressure. The obtained residue was washed with water and ethyl ether to obtain 7.0 parts of a white solid. The melting point of the product is 135 to 143 ° C., and the elemental analysis values are as follows. Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 55.48 55.53 Hydrogen 4.10 4.13 Sulfur 8.46 8.48 Phosphorus 4.10 4.09 Fluorine 15.03 15.07 Production Structural formula based on the method

【0080】[0080]

【化44】 [Chemical 44]

【0081】のスルホキソニウム塩を得た。A sulfoxonium salt of was obtained.

【0082】実施例6.実施例3で得たスルホニウム塩
11.6部、ジクロロメタン400部に溶解した。次い
でp−トルエンスルホニルクロライド47.6部を仕込
み、0℃に冷却し、この混合物に過酸化ナトリウム4
8.4部を水600部に溶解した水溶液を0℃を保ちな
がら約30分で滴下する。さらに同一温度で約2時間反
応を行なった。その後、静置し、2層を分離するよう放
置する。下層の有機層を集め、乾燥し、減圧下で濃縮す
る。得られた残渣を水およびエチルエーテルで洗浄し、
白色の固体12.0部を得た。生成物の融点は195〜
204℃で元素分析値は次のとおりであった。 元素 実測値(重量%) 計算値(重量%) 炭素 44.47 44.44 水素 2.37 2.40 イオウ 8.41 8.48 アンチモン 15.95 16.10 フッ素 20.13 20.10 この製造方法に基づいて、構造式
Example 6. It was dissolved in 11.6 parts of the sulfonium salt obtained in Example 3 and 400 parts of dichloromethane. Then, 47.6 parts of p-toluenesulfonyl chloride was charged, the mixture was cooled to 0 ° C., and the mixture was mixed with sodium peroxide 4
An aqueous solution prepared by dissolving 8.4 parts in 600 parts of water is added dropwise in about 30 minutes while maintaining 0 ° C. Further, the reaction was carried out at the same temperature for about 2 hours. Then, it is left still and left to separate the two layers. The lower organic layers are combined, dried and concentrated under reduced pressure. The resulting residue is washed with water and ethyl ether,
12.0 parts of white solid were obtained. The melting point of the product is 195-
The elemental analysis values at 204 ° C. were as follows. Element Measured value (wt%) Calculated value (wt%) Carbon 44.47 44.44 Hydrogen 2.37 2.40 Sulfur 8.41 8.48 Antimony 15.95 16.10 Fluorine 20.13 20.10 This production Structural formula based on the method

【0083】[0083]

【化45】 Embedded image

【0084】のスルホキソニウム塩を得た。A sulfoxonium salt of was obtained.

【0085】(組成物の実施例) 実施例7〜12、比較例1,2 表4に示す配合組成(数値は重量部である。)に従って
エネルギー線硬化性組成物を配合し、混合溶解した。こ
れを、アルミテストパネル上に5μの厚さに塗布し高圧
水銀灯(80w/cm)で8cmの路離から紫外線を照射し、硬
化させた。調整された組成物の透明性、保存安定性、指
触乾燥性、硬化塗膜の光沢、臭気について試験した。そ
れらの結果を表4に示す。
(Examples of Compositions) Examples 7 to 12 and Comparative Examples 1 and 2 The energy ray-curable compositions were compounded according to the compounding compositions (numerical values are parts by weight) shown in Table 4 and mixed and dissolved. . This was applied on an aluminum test panel to a thickness of 5 μm, and was irradiated with ultraviolet rays from a high pressure mercury lamp (80 w / cm) at a distance of 8 cm to cure it. The prepared composition was tested for transparency, storage stability, dryness to the touch, gloss of cured coating, and odor. The results are shown in Table 4.

【0086】透明性:組成物の透明性を目視判定した。 ○・・・・完全に透明である △・・・・わずかににごりあり ×・・・・白ダクしている ××・・・・すぐに分離する 保存安定性:組成物を40℃で3ケ月間保存し、安定性
を調査した。 ○・・・・全く変化していない △・・・・やや増粘している ×・・・・ゲル化している 指触乾燥性:指触乾燥するまでの照射量(mJ/cm2)を測定
した。 光沢:指触乾燥するまでの照射量(mJ/cm2)を照射した
後、硬化塗膜の表面を目視判定した。 ○・・・・光沢が良好である △・・・・ややくもりがある ×・・・・全く光沢がない
Transparency: The transparency of the composition was visually evaluated. ○ ・ ・ ・ ・ Completely transparent △ ・ ・ ・ ・ Slightly turbid × ・ ・ ・ ・ White dull XX ・ ・ ・ ・ Immediately separates Storage stability: Composition at 3 ° C at 3 ° C It was stored for 6 months and stability was investigated. ○ ・ ・ ・ ・ No change △ ・ ・ ・ ・ Slightly thickened × ・ ・ ・ ・ Gelled to touch: Dryness to touch (mJ / cm 2 ) It was measured. Gloss: The surface of the cured coating film was visually evaluated after irradiation with the irradiation amount (mJ / cm 2 ) until the film was dried to the touch. ○ ・ ・ ・ ・ Gloss is good △ ・ ・ ・ ・ Slightly cloudy × ・ ・ ・ ・ No gloss

【0087】臭気:塗布面に1000mJ/cm2照射した
後、硬化塗膜の表面の臭気を観察した。 ○・・・・全く臭気がない △・・・・わずかに臭気がある ×・・・・臭気がある ××・・・・臭気が強い
Odor: After the coated surface was irradiated with 1000 mJ / cm 2 , the odor on the surface of the cured coating film was observed. ○ ・ ・ ・ ・ No odor △ ・ ・ ・ ・ Slight odor × ・ ・ ・ ・ Smelling XX ・ ・ ・ ・ Strong odor

【0088】[0088]

【表4】 表4 実 施 例 比較例 7 8 9 10 11 12 1 2 実施例1で得た光重合開始剤 1.5 実施例2で得た光重合開始剤 1.5 実施例3で得た光重合開始剤 1.5 実施例4で得た光重合開始剤 1.5 実施例5で得た光重合開始剤 1.5 実施例6で得た光重合開始剤 1.5 化合物1 *1 1.5 化合物2 *2 1.5 セロキサイド2021 *3 80 80 80 80 80 80 80 80 EHPE−3150 *4 20 20 20 20 20 20 20 20 透明性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ 保存安定性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ 指触乾燥性(mJ/cm2) 75 45 23 23 75 23 75 35 光沢 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ 臭気 ○ ○ ○ ○ ○ ○ △ ×[Table 4] Table 4 Examples Comparative Examples 7 8 9 10 11 12 1 2 Photopolymerization initiator obtained in Example 1 1.5 Photopolymerization initiator obtained in Example 2 1.5 Photopolymerization initiation obtained in Example 3 Agent 1.5 Photopolymerization initiator obtained in Example 4 1.5 Photopolymerization initiator obtained in Example 5 1.5 Photopolymerization initiator obtained in Example 6 1.5 Compound 1 * 1 1.5 Compound 2 * 2 1.5 Celoxide 2021 * 3 80 80 80 80 80 80 80 80 EHPE-3150 * 4 20 20 20 20 20 20 20 20 Transparency ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ Storage stability ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ Touch dryness (mJ / cm 2 ) 75 45 23 23 75 23 75 35 Gloss ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ Odor ○ ○ ○ ○ ○ ○ △ ×

【0089】注 *1 化合物1:ジフェニル−4
−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
ホスフェート *2 化合物2:4,4′−ビス〔ビスフェニルスル
ホニオ〕フェニルスルフィドビスヘキサフルオロホスフ
ェート *3 セロキサイド2021:ダイセル化学工業
(株)製、脂環式エポキシ樹脂 *4 EHPE−3150:ダイセル化学工業(株)
製、脂環式エポキシ樹脂
Note * 1 Compound 1: Diphenyl-4
-Thiophenoxyphenylsulfonium hexafluorophosphate * 2 Compound 2: 4,4'-bis [bisphenylsulfonio] phenyl sulfide bishexafluorophosphate * 3 Celoxide 2021: Daicel Chemical Industries, Ltd., alicyclic epoxy resin * 4 EHPE-3150: Daicel Chemical Industries, Ltd.
Made, alicyclic epoxy resin

【0090】表4の結果から明らかなように、本発明の
光重合開始剤を含有した組成物は、相容性、保存安定性
に優れ、透明で硬化性に優れ、硬化塗膜の光沢が良好で
あり、硬化塗膜の臭気も小さい。
As is clear from the results shown in Table 4, the composition containing the photopolymerization initiator of the present invention has excellent compatibility and storage stability, is transparent and has excellent curability, and has a gloss of a cured coating film. Good and little odor of cured coating.

【0091】[0091]

【発明の効果】本発明の光重合開始剤を含有したエネル
ギー線硬化性組成物は、相容性、保存安定性に優れ、透
明で硬化性に優れ、硬化塗膜の光沢が良好で、硬化塗膜
の臭気も小さく、優れた物性の硬化物をあたえる。
The energy ray-curable composition containing the photopolymerization initiator of the present invention is excellent in compatibility and storage stability, is transparent and has excellent curability, and has a good gloss of a cured coating film and is cured. The odor of the coating film is also small, giving a cured product with excellent physical properties.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】式(1) 【化1】 (式中、Xは式(2)で示される基 【化2】 (R1 〜R10は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ニ
トロ基、アルコキシ基、C1 〜C18の脂肪族基、フェニ
ル基、フェノキシ基、チオフェノキシ基、 【化3】 および 【化4】 のいずれかから選択された基である。m及びlは1〜5
の数であり、Gは、イオウ原子または 【化5】 である。) Arは1〜4価の芳香族基、Yは、 【化6】 または 【化7】 であり、aは1〜4、bは0または1〜3、a+bは1
〜4、nは1〜4、Zは式(3)または式(4) 【化8】 【化9】 (式中、Mは、リン原子、ホウ素原子、ヒ素原子または
アンチモン原子であり、Qはハロゲン原子であり、pは
4〜6の整数である。)で示される。)で示されるスル
ホニウム塩またはスルホキソニウム塩。
1. A formula (1): (In the formula, X is a group represented by the formula (2) (R 1 to R 10 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, an alkoxy group, a C 1 to C 18 aliphatic group, a phenyl group, a phenoxy group, a thiophenoxy group, and And Is a group selected from m and l are 1 to 5
And G is a sulfur atom or Is. ) Ar is a monovalent to tetravalent aromatic group, and Y is Or [Chemical 7] And a is 1 to 4, b is 0 or 1 to 3, and a + b is 1
˜4, n is 1 to 4, Z is the formula (3) or the formula (4) [Chemical 9] (In the formula, M is a phosphorus atom, a boron atom, an arsenic atom or an antimony atom, Q is a halogen atom, and p is an integer of 4 to 6.). ) The sulfonium salt or sulfoxonium salt represented by the formula (1).
【請求項2】前記式(1)で示されるスルホニウム塩ま
たはスルホキソニウム塩からなる重合開始剤
2. A polymerization initiator comprising a sulfonium salt or sulfoxonium salt represented by the formula (1).
【請求項3】カチオン重合性物質(A)と請求項1記載
の光重合開始剤(B)を含有することを特徴とするエネ
ルギー線硬化性組成物。
3. An energy ray curable composition comprising a cationically polymerizable substance (A) and the photopolymerization initiator (B) according to claim 1.
【請求項4】請求項2記載の組成物の硬化物。4. A cured product of the composition according to claim 2.
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