JPH0212227A - 光パルス発生装置 - Google Patents

光パルス発生装置

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JPH0212227A
JPH0212227A JP63163859A JP16385988A JPH0212227A JP H0212227 A JPH0212227 A JP H0212227A JP 63163859 A JP63163859 A JP 63163859A JP 16385988 A JP16385988 A JP 16385988A JP H0212227 A JPH0212227 A JP H0212227A
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JP
Japan
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light
pulsed laser
spectrum
wavelength range
laser beam
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JP63163859A
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English (en)
Inventor
Aaru Arufuano Robaato
ロバート アール.アルファノ
Jiei Derufuetsuto Piitaa
ピーター ジェイ.デルフェット
Dorushinbiru Rojiyaa
ロジャー ドルシンビル
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Hamamatsu Photonics KK
Original Assignee
Hamamatsu Photonics KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、超短パルス幅(ピコ秒、フェムト秒)の光
パルス発生装置に関するものである。
〔従来技術〕
光パルスの発生技術は、レーザの制御技術の進展と共に
、多くの分野で利用されている。この場合、レーザを使
用するメリットは、短光パルス化しても、全体のエネル
ギがそれほど低下しないので、波高値を非常に高くする
ことができることである。また、レーザは、遠方にまで
ビーム状で伝播できる。また、レーザは可干渉性が良く
、計n1等に適している。
その為、短パルス化した光パルス、特にピコ秒領域の光
パルスは、分光測光、レーザプラズマ、光通信、シンク
ロトロン放射技術、ホログラフィ及び測距など、多岐の
応用が可能である(Opluse  E、 No、  
100.1988年3月、p6166)。
光層パルスの発生技術として、−船釣に、Qスイッチ法
、モードロック法等がある。Qスイッチ法は、レーザ媒
質を放電や光ボンピング等によって励起している間に、
レーザ共振器のQ値をゼロから急激に上げることで、励
起状態にある多くの原子・分子を急速に基底状態に誘導
放出させ、レーザ発振を行うものである。この方法では
、反転分布の度合が通常の場合よりかなり大きく、パル
ス幅も狭くなるので、光パルスの波高値を極端に大きく
することができる。
また、モードロック法は、モード同期または位相同期と
も呼ばれ、同時発振している多数の縦モードの位相を同
期させる方法である。これにより、ビークパワーが大き
く、パルス幅が極端に狭い(ピコ秒単位)光パルスが得
られる。
さらに、これらの短光パルスを圧縮し、より短い光パル
スを発生する為に、回折格子法や光フアイバ法を利用す
ることができる。回折格子法では、回折格子を適当な面
間隔で配置することにより、光パルスを圧縮することが
できる。また、光フアイバ法では、コア材料の持つ群速
度分散・非線形性を利用して、パルスを圧縮することが
できる。
第10図は、従来の光パルス圧縮装置を示すものである
。この光パルス圧縮装置は、光ファイバと回折格子を併
用したものである。短パルスで、かつ、ビークパワーの
高い入力パルスが、集光レンズ1を介して光ファイバ2
へ入射される。光ファイバ2を通過した光パルスは、そ
の中央付近で、周波数が直線状に(時間に対して)広が
る。すなわち、光の波長はパルス前部で長くなり後部で
は短くなる。この段階で、パルス幅は一旦広がる。
この十分な周波数変化が与えられた光パルスは、コリメ
ートレンズ3を通り、平行に向い合わせて配置された一
対の回折格子4に入射する。回折格子4上の光の反射方
向は、溝による光の干渉の為光の波長によって変化する
ので、パルスの前部にある長波長の部分(R)は、後部
にある短波長の部分(B)より長い光路を走ることにな
る(負分散)。従って、後部にある短波長の部分(B)
は、完全に前部にある長波長の部分(R)に追い付き、
光フアイバ通過後に一旦広がったパルスは、回折格子対
の作用により極限まで圧縮される。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、Qスイッチ法では、十分に光パルスを短
くすることができなかった。
また、従来の光パルス発生装置では、ピコ秒、フェムト
秒単位の超短光パルスを発生させることはできるが、構
造が複雑になるという欠点があった。
そこで本発明は、構造が簡単で広い波長可変領域を有す
る光パルス発生装置を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕 上記課題を達成する為、この発明は所定波長域にスペク
トルを有する第1のパルスレーザ光を出射するレーザ出
力手段と、第1のパルスレーザ光のスペクトルを広げて
白色光を生成する白色先出力学段と、上記所定波長域と
異なる波長域における前記白色光を選択的に抽出するこ
とにより、第1のパルスレーザ光より短パルス幅の第2
のパルスレーザ光を出力するスペクトル選択手段を備え
て)h成される。ここで白色光とは、広い帯域にわたり
連続もしくは狭い間隔を有するスペクトルをいう。
この場合、白色光出力手段は非線形媒質を含み、第1の
パルスレーザ光を当該非線形媒質中で伝播させることに
より、自己位相変調によるスペクトルの広がりを生成さ
せることを特徴とするものでもよい。
また、スペクトル選択手段は第1のパルスレーザ光の所
定の波長域と異なる狭い波長域における白色光を透過さ
せる狭帯域フィルタを含むことを特徴とするものでもよ
い。
さらに、スペクトル選択手段による前記白色光の透過帯
域及び帯域幅が可変であることを特徴とするものでもよ
い。
また、レーザ出力手段からの第1のパルスレーザ光を分
離してポンプ光を得る分離手段と、ポンプ光により励起
されることにより、前記スペクトル選択手段からの第2
のパルスレーザ光を増幅させる増幅手段とを更に備える
ことを特徴とするものでもよい。
さらに、第2のパルスレーザ光をシードパルスに入力す
ることにより、所定繰り返し周波数のパルスレーザ光を
出力する発振手段を更に備えることを特徴とするもので
もよい。
〔作用〕
この発明は、以上のように構成されているので、レーザ
出力手段、白色光出力手段、及びスペクト・ル選択手段
の相互作用により、当初の波長域とは異なる波長域で、
より短いパルス幅のパルスレーザ光を発生させることが
できる。最初に、所定波長域にスペクトルを有するパル
スレーザ光が、レーザ出力手段により出力される。次に
、このパルスレーザ光は、白色光出力手段の作用により
、当該スペクトルが広げられる。最後に、スペクトル選
択手段の作用により、広げられたスペクトルから当初の
波長域とは異なる波長域のパルスレーザ光が選択され、
同調可能な超短パルス幅のパルスレーザ光を発生させる
ことができる。
〔実施例〕
以下、この発明に係る光パルス発生装置の一実施例を添
附図面に基づき説明する。なお、説明において同一要素
には同一符号を使用し、重複する説明は省略する。
まず、この発明の根拠となる基本原理を説明する。凝縮
媒体内を伝播する高出力の超短パルス幅レーザパルス光
は、自己位相変調(SPM)とパラメトリックミキシン
グを経て、広帯域の白色光を発生させる。最近の理論分
析では、ポンプパルスの先端と後端にストークスシフト
及び反ストークスシフトが現れることを結論付けており
、この結論は、白色光の種々の部分の時間的位置が自己
相関法及びストリークカメラ法に基づきピコ秒及びフェ
ムト秒領域で測定された実験研究により支持されている
この自己位相変調により、パルス幅が短くなる。
自己位相変調とは、非線形媒質中をピコ秒程度の超短光
パルスが伝播すると、屈折率の急激な時間的変化が起こ
り、光波の位相変調が自然に生じるものであり、変化の
応答時間がパルス幅に比べて十分短い場合には、光の搬
送周波数はパルス波形の微分に沿−つで時間変化する。
これが、光スペクトルの大きな広がりを生じさせる(光
工学ハンドブック、1986年2月20日 初版第1刷
、p。
97)。発生するスペクトルは、入力レーザパルスの強
度エンベロープ(1ntensity envelop
e)の導関数に比例する。瞬時周波数は、異なるスペク
トル成分が異なる時間において次式に従い生成されるこ
とが必要である。
(1)式において、φは次式で表される。
φ(t)−ωLt−n (t)(L)l、Z/C・・’
 (2)(2)式において、2は相互作用長、ωLは人
力パルスの周波数、Cは光速度である。ここで、n(1
)は、 n  (t)−n  +n21  (t)−(3)で表
される。(3)式で、noと02は、それぞれ線形屈折
率と非線形屈折率であり、I  (t)はレーザパルス
の強度エンベロープである。この(3)式を(1)式及
び(2)に代入すると、ωIn5(t)−ωL−n2ω
t、 X(d I  (t)/d t)z/c・−(4
)が得られる。この式は、生成された白色光の一部を周
波数フィルタにより選択すると、短いパルス幅のパルス
が得られることを示している。この場合、得られたパル
スの時間的パルス幅は、入力パルス強度とスペクトルフ
ィルタの帯域幅の導関数に依存する。従って、所定の波
長域にスペクトルを有するパルスレーザ光のスペクトル
を広げ、その一部を狭帯域フィルタ等で選択的に透過さ
せれば、超短光パルス幅のパルスレーザ光を得ることが
できる。
第1図は、この発明に係る光パルス発生装置の基本構成
を示すブロック図である。この発明は、基本的にレーザ
出力手段A1白色光出力手段B1及びスペクトル選択手
段Cを備えて構成されている。レーザ出力手段Aは、所
定の波長域にスペクトルを有するパルスレーザ光(第1
のパルスレーザ光)を出射するもので、例えば、モード
ロックNd−YAGレーザ等が使用できる。白色光出力
手段Bは、このパルスレーザ光のスペクトルを広げて白
色光を生成するもので、例えば、凝縮媒体等が使用でき
る。スペクトル選択手段Cは、上記所定波長域と異なる
波長域における白色光を選択して透過させるものである
。以上の構成により、前述したパルスレーザ光から超短
パルス幅(ピコ秒、フェムト秒単位)のパルスレーザ光
(第2のパルスレーザ光)を出力することができる。
なお、上記白色光出力手段Bは非線形媒質を含むもので
もよい。この場合、レーザ出力手段Aから出力されるパ
ルスレーザ光を、この非線形媒質中で伝播させ、自己位
相変調によりスペクトルの広がりを生成させる。
また、スペクトル選択手段Cは狭帯域フィルタを含むも
のでもよい。この場合、レーザ出力手段Aから出力され
た第1パルスレーザ光のスペクトルが存在する波長域と
は異なる狭い波長域で白色光を透過させることにより、
パルス幅の短いパルスレーザ光を出力させることができ
る。この場合、白色パルスの透過帯域及びその帯域幅は
、フィルタを変えることにより任意的に選択することが
できる。
さらに、スペクトル選択手段Cは分光器でもよい。この
場合、レーザ出力手段Aから出力された第1パルスレー
ザ光のスペクトルが存在する波長域とは異なる波長の白
色光を分光して選択することにより、パルス幅の短いパ
ルスレーザ光を出力させることができる。
また、分光器で選択された白色光は、波長ごとに空間的
に異なった場所に出力されているので、同一光路上に戻
す為に、例えば分光器の出力光を再びミラーを用いて分
光器を逆戻りさせた後でハーフミラ−で取り出してもよ
い。
なお、スペクトル選択手段Cは上記実施例に限定される
ものではない。重要なことは、広がりを有するスペクト
ルから、所定の波長域を選択できることである。従って
、分光器の代わりに回折格子等の波長選択素子(波長同
調素子)を使用することもできる。
第2図は、この発明に係る光パルス発生装置の第1実施
例を示すブロック図である。この実施例では、レーザ出
力手段Aとしてモードロックレーザ5、白色光出力手段
Bとして白色光 (continuua+ )発生装置6、スペクトル選
択手段Cとしてスペクトル選択装置7を使用したもので
ある。モードロックレーザ5には、アルゴンレーザ、ク
リプトンレーザ、色素レーザ及びYAGレーザ等が使用
できる。モードロックレーザは、船釣に出力エネルギは
小さいが、パルス幅をピコ秒からサブピコ秒単位で狭く
することができる。
このモードロックレーザ5により発生する第1のパルス
レーザ光は、所定の波長域にスペクトルを有し、ピコ秒
単位の短光パルス幅を有するものである。この第1のパ
ルスレーザ光が白色光発生装置6へ入射すると、当該ス
ペクトル幅は広げられ、白色パルス光が生成される。さ
らに、この白色パルス光がスペクトル選択装置7へ入射
すると、前述した第1のパルスレーザ光の波長域とは異
なる波長域において、上記白色パルス光が選択される。
この為、よりパルス幅の狭い不確定性制限パルス(un
certainty 11m1ted pulses)
を発生させることができる。この実施例によれば、所定
のスペクトルを選−択することによりフェムト秒単位の
光パルスを得ることができ、不確定性制限 (uncertainty 11n+it )へ近付け
ることができる。
第3図は、この発明に係る光パルス発生装置の第2実施
例を示すブロック図である。この装置は、単一パルス選
択装置を有する受動・能動モードロックのNd : Y
AGレーザ装置(レーザ出力手段)8、KDP第2高調
波発生装置(SHG)9、フィルタ10、ビームスプリ
ッタ11、集光レンズ12、白色パルス光(contI
nuua+ pulses)発生装置(白色光出力手段
)13、コリメートレンズ14、狭帯域フィルタ(スペ
クトル選択手段)15、ミラー24.25、プリズム1
7、ストリークカメラ18及び時間分析装置(temp
oralanalyzer ) 19を備えている。こ
こで、フィルタ10は、第2高調波発生装置9からの第
2高調波光パルス(25ps、5mJ)から、基本波長
成分を除去するカラーフィルタである。ビームスプリッ
タ11は、フィルタ10を通過した光パルスの5%を反
射する。また、白色パルス光発生装置13は、水(D2
0)が充填されたセル(長さ5cm)を含んで構成され
ている。狭帯域フィルタ15は、この白色パルス光から
特定の波長を選択する為に使用されている。
以下、この実施例の動作を説明する。レーザ装置8から
の第2高調波パルス光(第1のパルスレーザ光)は、所
定波長域にスペクトルを有しており、5%反射のビーム
スプリッタ11により2本のビーム(第1ビーム、第2
ビーム)に分けられる。第1ビームは強度が高く、超短
パルス幅のパルス光を生成するポンプビームとして使用
される。
一方、第2ビームは強度が低く、白色パルス光の相対的
な時間的スケールとして第2高調波パルスのパルス幅を
決定する為のブリパルスビームとして使用される。
前述した第1ビームは、集光レンズ12、白色パルス光
発生装置13、コリメートレンズ14、狭帯域フィルタ
15を経て、ストリークカメラ18に入射する。この第
1ビームは、集光レンズ12(焦点距M20cm)で集
束されて白色パルス光発生装置13に入射することによ
り、当該スペクトルが広げられ、白色パルス光(eon
tlnuumpulses)が生成される。この白色パ
ルス光は、450〜600nm以上におよび、スペクト
ル幅にわたって少なくとも20 n J / n mの
最小平均エネルギを有している。白色パルス光発生装置
13により生成された白色パルス光は、コリメートレン
ズ14で平行化され、狭帯域フィルタ15に入射する。
狭帯域フィルタ15では、この白色パルス光における広
げられたスペクトルの特定スペクトル域のみを選択して
通過させる。この狭帯域フィルタ15では、第2高調波
パルス光の波長(530nm)と異なる波長(例えば、
580nm)を透過し、第2高調波パルス光より超短パ
ルス幅のパルス光(第2のパルスレーザ光)を出力する
この超短パルス光となった第1ビームは、ミラー16.
23により光路が変更され、ストリークカメラ18に入
射される。一方、ビームスプリッタ11により分けられ
た第2ビームは、ミラー24、プリズム17及びミラー
25により光路長が変更され、第1ビームと合流してス
トリークカメラ18に入射する。入射する光パルスの測
定は、いくつかの波長において10nm帯域幅のフィル
タを使用して行われる。
第4図は、ストリークカメラ18における時間出力特性
を示すものである。同図には、第2高調波(530nm
)入射レーザパルス(右側波形)と、580nmを中心
として10nmのバンド幅を有する狭帯域フィルタで選
択された白色パルス光の一部(左側波形)を表示したも
のである。これによると、入射レーザパルス(530n
m)のパルス幅はほぼ24psであったが、白色パルス
光の一部から得られたパルスのパルス幅は3±1psで
あった。従って、この実施例により最小圧縮率8の光パ
ルスを達成することができた。
第5図は、異なる狭帯域フィルタ15におけるパルス幅
とピーク伝送波長の関係を示すものである。同図におい
て、垂直方向のエラーパー(error bars)は
当該フィルタの10nm帯域幅に対応するものであり、
各点は少なくとも6個の異なる測定値を平均したもので
ある。このグラフによると、信号パルス幅が入力パルス
幅(〉25ps)に等しいポンプレーザ波長(530n
m)を除き、すべてパルス幅は4ps未満であった。
結局、当初の波長(530nm)と異なる波長(例えば
、580nm)を通過させる狭帯域フィルタを使用する
ことにより、超短光パルスを得ることができる。この場
合、超短光パルスが得られる波長の範囲が広いので、目
的に応じた波長を自由に選択することができる。
第6図は、白色パルス光の波長の時間分布特性を示すも
のである。同図は、スペクトルより選択された白色パル
ス光と標準パルス(ref’erencepulse 
)との遅延時間を測定することにより求めたものである
。これによると、波長140nmの変化(460nm〜
600nm)に対して、遅延時間はほぼ22ps (−
12ps 〜10ps)であり、ストークス波長に反ス
トークス波長が続いている。このように、波長によって
遅延時間が異なることから、バンドパスフィルターの透
過帯域幅を狭くしていくにつれて、所望の波長で不確定
性制限パルスに近づいていくことが予想される。
また、透過帯域幅を制御することにより出力されるパル
スレーザ光のパルス幅を制御することができる。
第7図は、この発明に係る光パルス発生装置の第3実施
例を示すものである。第1実施例との差異は、モードロ
ックレーザ5から出力された第1のパルスレーザ光をス
プリッタ11で分離し、ポンプビームとして第2のパル
スレーザ光と共に利得媒質20へ入射している点である
。この実施例によれば、異なる波長で選択された超短パ
ルス光を、標準的なレーザダイで増幅することができる
この場合、さらに利得媒質(図示せず)を設けることに
より出力光パルスを2段階で増幅させ、−層の短パルス
化、広帯域化を図ることもできる。
第8図は、この発明に係る光パルス発生装置の第4実施
例を示すものである。第1実施例との差異は、スペクト
ル選択装置7から得られた第2のパルスレーザ光を、色
素レーザ発振器(dyelaser oscillat
ors ) 21のシードパルスとして利用し・ている
点である。この実施例によれば、出力レーザパルスの波
長を連続的に変えることができる。なお、色素レーザに
使用する色素は、1種類でほぼ数十〜百数十nm前後の
発振波長域があるので、適当な色素を数種類選んでスペ
クトル選択装置7の波長域を変化することにより、紫外
域から可視、近赤外域までの波長域を、とぎれることな
く連続的に可変とすることができる。
なお、この実施例は色素レーザ発振器に限定されるもの
ではなく、所定のパルスを発振させるものであればよい
。例えば、固体増幅器(solldstate aBI
INers)を使用することもできる。
第9図は、この発明に係る光パルス発生装置の第5実施
例を示すものである。第1実施例との差異は、スペクト
ル選択装置7から得られた第2のパルスレーザ光を、ダ
イレーザキャビティ(dyelaser cavltl
es) 22のポンプパルス光として利用している点で
ある。この実施例によれば、出力レーザパルス光を同調
可能にすることができ、パルス幅がフェムト秒単位のパ
ルス光を得ることができる。
〔発明の効果〕
この発明は、以上説明したように構成されているので、
構造が簡単であり、パルス幅が短く (ピコ秒、フェム
ト秒単位の)、同調性の広い光パルスを発生させること
ができる。
また、構造がシンプルなので、生産効率を向上させるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明に係る光パルス発生装置の基本構成
を示すブロック図、第2図は、この発明に係る光パルス
発生装置の第1実施例を示すブロック図、第3図は、こ
の発明に係る光パルス発生装置の第2実施例を示すブロ
ック図、第4図は、第2実施例で出力されるパルスレー
ザ光の時間出力特性を示す図、第5図は、第2実施例に
おける狭帯域フィルタのピーク透過波長とパルス幅の関
係を示す図、第6図は、第2実施例における狭帯域フィ
ルタから発生する白色光の波長の時間分布特性を示す図
、第7図は、この発明に係る光パルス発生装置の第3実
施例を示すブロック図、第8図は、この発明に係る光パ
ルス発生装置の第4実施例を示すブロック図、第9図は
、この発明に係る光パルス発生装置の第5実施例を示す
ブロック図、第10図は、従来技術に係る光パルス圧縮
装置の説明図である。 1.12・・・集光レンズ 2・・・光ファイバ 3.14・・・コリメートレンズ 4・・・回折格子 5・・・モードロックレーザ 6・・・白色光発生装置 7・・・スペクトル選択装置 8・・・Nd : YAGレーザ装置 9・・・第2高調波発生装置 10・・・フィルタ 11・・・ビームスプリッタ 13・・・白色パルス光発生装置 15・・・狭帯域フィルタ 16、  2B、   24.  25  ・・・ ミ
 ラ −17・・・プリズム 18・・・ストリークカメラ 19・・・時間分析装置 20・・・利得媒質 21・・・色素レーザ発振器 22・・・超短パルスレーザキャビティ特許出願人  
浜松ホトニクス株式会社代理人弁理士   長谷用  
芳  横向          山    1)   
行    −波 長 (nm) パルス幅とフィルタのピーク透過波長 男5 図 遅延時間(ps) 白色光の波長の時閘分布特性 第6図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、所定波長域にスペクトルを有する第1のパルスレー
    ザ光を出射するレーザ出力手段と、前記第1のパルスレ
    ーザ光のスペクトルを広げて白色光を生成する白色光出
    力手段と、前記第1のパルスレーザ光の所定波長域と異
    なる波長域における前記白色連続光を選択的に抽出する
    ことにより、前記第1のパルスレーザ光より短パルス幅
    の第2のパルスレーザ光を出力するスペクトル選択手段
    とを備えていることを特徴とする光パルス発生装置。 2、前記白色光出力手段が、非線形媒質を含み、前記第
    1のパルスレーザ光を当該非線形媒質中で伝播させるこ
    とにより自己位相変調によるスペクトルの広がりを生成
    させることを特徴とする請求項1記載の光パルス発生装
    置。 3、前記スペクトル選択手段が、前記第1のパルスレー
    ザ光の所定の波長域と異なる狭い波長域における前記白
    色光を透過させる狭帯域フィルタを含むことを特徴とす
    る請求項1記載の光パルス発生装置。 4、前記スペクトル選択手段による前記白色光の透過帯
    域及び帯域幅が可変であることを特徴とする請求項1記
    載の光パルス発生装置。 5、前記レーザ出力手段からの第1のパルスレーザ光を
    分離してポンプ光を得る分離手段と、前記ポンプ光によ
    り励起されることにより、前記スペクトル選択手段から
    の第2のパルスレーザ光を増幅させる増幅手段とを更に
    備えることを特徴とする請求項1記載の光パルス発生装
    置。 6、前記第2のパルスレーザ光をシードパルスとして入
    力し、所定繰り返し周波数のパルスレーザ光を出力する
    発振手段を更に備えることを特徴とする請求項1記載の
    光パルス発生装置。 7、前記第2のパルスレーザ光をポンプパルスとして入
    力し、同調されたパルスレーザ光を出力するレーザキャ
    ビティを更に備えることを特徴とする請求項1記載の光
    パルス発生装置。
JP63163859A 1988-06-30 1988-06-30 光パルス発生装置 Pending JPH0212227A (ja)

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JP (1) JPH0212227A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5149687A (en) * 1991-04-01 1992-09-22 United Technologies Corporation Method for making oriented bismuth and thallium superconductors comprising cold pressing at 700 MPa
WO2001044863A1 (fr) * 1999-12-14 2001-06-21 Japan Science And Technology Corporation Dispositif de mise en forme de formes d'ondes d'impulsions multiplexees en longueurs d'ondes, a longueurs d'ondes variables, a bande ultra-large
JP2002156452A (ja) * 2000-11-20 2002-05-31 Hioki Ee Corp レーザレーダシステム
JP2008507143A (ja) * 2004-07-21 2008-03-06 フェムトレーザース プロドゥクシオンズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 周波数を安定化した放射の生成
JP2009512205A (ja) * 2005-10-13 2009-03-19 サントル ナシオナル ドゥ ラ ルシェルシェサイアンティフィク(セエヌエールエス) 広帯域レーザ源によるスレーブキャビティのアドレッシングのための光学装置
JP2016063240A (ja) * 2014-09-12 2016-04-25 Necエンジニアリング株式会社 光伝送装置
JP2018010123A (ja) * 2016-07-13 2018-01-18 株式会社ディスコ 波長変換装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
OPTICS COMMUNICATION=1986 *

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5149687A (en) * 1991-04-01 1992-09-22 United Technologies Corporation Method for making oriented bismuth and thallium superconductors comprising cold pressing at 700 MPa
WO2001044863A1 (fr) * 1999-12-14 2001-06-21 Japan Science And Technology Corporation Dispositif de mise en forme de formes d'ondes d'impulsions multiplexees en longueurs d'ondes, a longueurs d'ondes variables, a bande ultra-large
US6826209B1 (en) 1999-12-14 2004-11-30 Japan Science And Technology Corporation Ultrabroad-band variable-wavelength wavelength-multiplexed pulse waveform shaping device
JP2002156452A (ja) * 2000-11-20 2002-05-31 Hioki Ee Corp レーザレーダシステム
JP2008507143A (ja) * 2004-07-21 2008-03-06 フェムトレーザース プロドゥクシオンズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 周波数を安定化した放射の生成
JP4718547B2 (ja) * 2004-07-21 2011-07-06 フェムトレーザース プロドゥクシオンズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 周波数を安定化した放射の生成
JP2009512205A (ja) * 2005-10-13 2009-03-19 サントル ナシオナル ドゥ ラ ルシェルシェサイアンティフィク(セエヌエールエス) 広帯域レーザ源によるスレーブキャビティのアドレッシングのための光学装置
JP2016063240A (ja) * 2014-09-12 2016-04-25 Necエンジニアリング株式会社 光伝送装置
JP2018010123A (ja) * 2016-07-13 2018-01-18 株式会社ディスコ 波長変換装置

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