JP7390570B2 - Manufacturing method of solid electrolytic capacitor - Google Patents

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Description

本開示は、一般に固体電解コンデンサの製造方法に関し、より詳細には、誘電体層を有する箔状のコンデンサ素子を使用する固体電解コンデンサの製造方法に関する。 The present disclosure generally relates to a method of manufacturing a solid electrolytic capacitor, and more particularly, to a method of manufacturing a solid electrolytic capacitor using a foil-like capacitor element having a dielectric layer.

特許文献1に記載された固体電解コンデンサは、コンデンサ素子を陽極リードフレーム及び陰極リードフレームに搭載し、リードフレームの一部を露出させるようにして成形樹脂にてモールドすることにより製造されている。 The solid electrolytic capacitor described in Patent Document 1 is manufactured by mounting a capacitor element on an anode lead frame and a cathode lead frame, and molding the capacitor element with molding resin so as to expose a portion of the lead frame.

特開2005-311216号公報Japanese Patent Application Publication No. 2005-311216

しかし、特許文献1に記載された固体電解コンデンサでは、静電容量の向上のために、例えば、コンデンサ素子の積層数を多くしようとすると、生産性が低下することがあった。 However, in the solid electrolytic capacitor described in Patent Document 1, for example, when trying to increase the number of laminated capacitor elements in order to improve capacitance, productivity sometimes decreases.

本開示は、上記事由に鑑みてなされており、生産性を向上することができる固体電解コンデンサの製造方法を提供することを目的とする。 The present disclosure has been made in view of the above reasons, and an object thereof is to provide a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor that can improve productivity.

本開示の一態様に係る固体電解コンデンサの製造方法は、素子集合体を形成する工程と、積層体を複数形成する工程と、個片化する工程と、を有する。素子集合体を形成する工程は、誘電体層を含む平板状のコンデンサ素子を前記コンデンサ素子の一面と平行な方向に複数つなげた状態の素子集合体を形成する。積層体を複数形成する工程は、複数の前記素子集合体を前記コンデンサ素子の厚み方向に積層することにより、前記厚み方向に積層された複数の前記コンデンサ素子を含む積層体を複数形成する。個片化する工程は、前記複数の積層体を積層体毎に個片化する。 A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to one embodiment of the present disclosure includes a step of forming an element assembly, a step of forming a plurality of laminates, and a step of singulating. In the step of forming an element assembly, an element assembly is formed in which a plurality of flat capacitor elements including a dielectric layer are connected in a direction parallel to one surface of the capacitor element. In the step of forming a plurality of laminates, a plurality of the element assemblies are stacked in the thickness direction of the capacitor element, thereby forming a plurality of laminates including the plurality of capacitor elements stacked in the thickness direction. In the step of singulating, the plurality of laminates are singulated into individual laminates.

本開示によれば、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to the present disclosure, there is an advantage that productivity can be improved.

図1A、図1B及び図1Cは、本開示に係る固体電解コンデンサの製造方法の一実施形態において、素子集合体の製造工程を説明する説明図である。1A, FIG. 1B, and FIG. 1C are explanatory diagrams illustrating the manufacturing process of an element assembly in an embodiment of the solid electrolytic capacitor manufacturing method according to the present disclosure. 図2A、図2B及び図2Cは、本開示に係る固体電解コンデンサの製造方法の一実施形態において、陰極集合体の製造工程を説明する説明図である。FIGS. 2A, 2B, and 2C are explanatory diagrams illustrating the manufacturing process of a cathode assembly in an embodiment of the solid electrolytic capacitor manufacturing method according to the present disclosure. 図3Aは本開示に係る固体電解コンデンサの製造方法の一実施形態における積層工程を示す平面図である。図3Bは同上の断面図である。図3Cは、同上の斜視図である。FIG. 3A is a plan view showing a lamination step in an embodiment of the solid electrolytic capacitor manufacturing method according to the present disclosure. FIG. 3B is a cross-sectional view of the same as above. FIG. 3C is a perspective view of the same as above. 図4Aは本開示に係る固体電解コンデンサの製造方法の一実施形態における樹脂封止工程を示す平面図である。図4Bは同上の断面図である。FIG. 4A is a plan view showing a resin sealing step in an embodiment of the solid electrolytic capacitor manufacturing method according to the present disclosure. FIG. 4B is a sectional view of the same as above. 図5Aは本開示に係る固体電解コンデンサの製造方法の一実施形態におけるダイシング工程を示す平面図である。図5Bは同上の断面図である。FIG. 5A is a plan view showing a dicing step in an embodiment of the solid electrolytic capacitor manufacturing method according to the present disclosure. FIG. 5B is a cross-sectional view of the same as above. 図6Aは本開示に係る固体電解コンデンサの製造方法の一実施形態における樹脂封止工程を示す平面図である。図6Bは同上の断面図である。FIG. 6A is a plan view showing a resin sealing step in an embodiment of the solid electrolytic capacitor manufacturing method according to the present disclosure. FIG. 6B is a cross-sectional view of the same as above. 図7Aは本開示に係る固体電解コンデンサの製造方法の一実施形態におけるダイシング工程を示す平面図である。図7Bは同上の断面図である。FIG. 7A is a plan view showing a dicing process in an embodiment of the solid electrolytic capacitor manufacturing method according to the present disclosure. FIG. 7B is a cross-sectional view of the same as above. 図8Aは本開示に係る固体電解コンデンサの製造方法の一実施形態におけるめっき工程を示す説明図である。図8Bは同上のめっき後の積層体の断面図である。FIG. 8A is an explanatory diagram showing a plating process in an embodiment of the solid electrolytic capacitor manufacturing method according to the present disclosure. FIG. 8B is a cross-sectional view of the laminate after plating same as above. 図9Aは本開示に係る固体電解コンデンサの製造方法の一実施形態における個片化する工程を示す平面図である。図9Bは同上の断面図である。FIG. 9A is a plan view showing a step of dividing into pieces in an embodiment of the solid electrolytic capacitor manufacturing method according to the present disclosure. FIG. 9B is a cross-sectional view of the same as above. 図10A及び図10Bは本開示に係る固体電解コンデンサの製造方法の一実施形態における電極形成工程を示す断面図である。10A and 10B are cross-sectional views showing an electrode forming step in an embodiment of the solid electrolytic capacitor manufacturing method according to the present disclosure. 図11Aは本開示に係る固体電解コンデンサの製造方法の一実施形態における電極形成工程を示す説明図である。図11Bは固体電解コンデンサを示す断面図である。FIG. 11A is an explanatory diagram showing an electrode forming step in an embodiment of the solid electrolytic capacitor manufacturing method according to the present disclosure. FIG. 11B is a cross-sectional view showing a solid electrolytic capacitor. 図12は本開示に係る固体電解コンデンサの製造方法で得られる固体電解コンデンサの変形例を示す断面図である。FIG. 12 is a sectional view showing a modified example of a solid electrolytic capacitor obtained by the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to the present disclosure. 図13は本開示に係る固体電解コンデンサの製造方法で得られる固体電解コンデンサの変形例を示す平面図である。FIG. 13 is a plan view showing a modified example of a solid electrolytic capacitor obtained by the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to the present disclosure. 図14は本開示に係る固体電解コンデンサの製造方法で得られる固体電解コンデンサの変形例を示す平面図である。FIG. 14 is a plan view showing a modified example of a solid electrolytic capacitor obtained by the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to the present disclosure. 図15A~図15Dは、それぞれ、素子集合体及び陰極集合体の変形例を示す一部を拡大した平面図である。15A to 15D are partially enlarged plan views showing modified examples of the element assembly and the cathode assembly, respectively. 図16A~図16Cは、それぞれ、素子集合体及び陰極集合体の変形例を示す一部を拡大した平面図である。16A to 16C are partially enlarged plan views showing modified examples of the element assembly and the cathode assembly, respectively. 図17A及び図17Bは、それぞれ、ダイシング工程の変形例を示す断面図である。FIGS. 17A and 17B are cross-sectional views each showing a modification of the dicing process.

(実施形態)
図1~図11Aは、本実施形態に係る固体電解コンデンサ1の製造方法を示している。図11Bは、上記製造方法で製造された固体電解コンデンサ1の断面図を示している。
(Embodiment)
1 to 11A show a method of manufacturing a solid electrolytic capacitor 1 according to this embodiment. FIG. 11B shows a cross-sectional view of the solid electrolytic capacitor 1 manufactured by the above manufacturing method.

以下、図面を参照して、本実施形態に係る固体電解コンデンサ1の製造方法を説明する。 Hereinafter, a method for manufacturing the solid electrolytic capacitor 1 according to the present embodiment will be described with reference to the drawings.

(1)素子集合体形成工程
図1A~図1Cは素子集合体形成工程を示している。素子集合体形成工程は、誘電体層12を有する箔状(板状も含む)のコンデンサ素子10をコンデンサ素子10の一面と平行な方向に複数つなげた状態の素子集合体100を形成する工程である。すなわち、素子集合体形成工程は素子集合体100を形成するための工程である。素子集合体100は、誘電体層12を含む箔状のコンデンサ素子10を複数有している。複数のコンデンサ素子10は、コンデンサ素子10の一面と平行な方向に複数つながった状態で形成されている。なお、コンデンサ素子10の一面とは、コンデンサ素子10の厚み方向に並ぶ面であって、平面視(コンデンサ素子10を厚み方向から見ること)で視認される面である。
(1) Element assembly forming process FIGS. 1A to 1C show the element assembly forming process. The element assembly forming process is a process of forming an element assembly 100 in which a plurality of foil-shaped (including plate-shaped) capacitor elements 10 each having a dielectric layer 12 are connected in a direction parallel to one surface of the capacitor elements 10. be. That is, the element assembly forming process is a process for forming the element assembly 100. The element assembly 100 has a plurality of foil-shaped capacitor elements 10 including a dielectric layer 12. The plurality of capacitor elements 10 are formed in a plurality connected in a direction parallel to one surface of the capacitor element 10. Note that one surface of the capacitor element 10 is a surface lined up in the thickness direction of the capacitor element 10, and is a surface that is visually recognized in a plan view (viewing the capacitor element 10 from the thickness direction).

素子集合体形成工程は、レジスト形成工程と、孔形成工程とを含んでいる。 The element assembly forming step includes a resist forming step and a hole forming step.

(1-1)レジスト形成工程
レジスト形成は、素子基板101に対してレジスト102を形成する工程である。図1Aに示すように、素子基板101は、平面視で四角形であり、表面の略全面に多孔質(ポーラス)層を有し、かつ導電性を有する金属板(金属箔)である。金属箔の多孔質層の表面には、誘電体で形成される誘電体層103が形成されている。素子基板101は、弁作用金属を含んでいる。弁作用金属は、例えば、アルミニウム、タンタル、ニオブ、チタン、ハフニウム、ジルコニウム、亜鉛、タングステン等、並びにこれらを含む合金を含む。誘電体層103は素子基板101の厚み方向の少なくとも一面に形成されている。本実施形態では、誘電体層103は、素子基板101の厚み方向の両面に形成されている。
(1-1) Resist Formation Process Resist formation is a process of forming a resist 102 on the element substrate 101. As shown in FIG. 1A, the element substrate 101 is a metal plate (metal foil) that is rectangular in plan view, has a porous layer on substantially the entire surface, and has conductivity. A dielectric layer 103 made of a dielectric is formed on the surface of the porous layer of metal foil. The element substrate 101 includes a valve metal. Valve metals include, for example, aluminum, tantalum, niobium, titanium, hafnium, zirconium, zinc, tungsten, and alloys containing these. The dielectric layer 103 is formed on at least one surface of the element substrate 101 in the thickness direction. In this embodiment, the dielectric layer 103 is formed on both sides of the element substrate 101 in the thickness direction.

本実施形態では、素子基板101の金属板(金属箔)に含まれる弁作用金属はアルミニウムである。この場合、素子基板101の表面にはエッチングにより多孔質層が形成されており、その多孔質の表面に沿ってアルミニウムの酸化物である酸化アルミニウム(Al)の誘電体層103が形成されている。そして、コンデンサ素子10が有する陽極側導電部11はアルミニウム(Al)製の金属板(金属箔)で形成され、コンデンサ素子10が有する誘電体層12は、陽極側導電部11の表面に形成され、酸化アルミニウムを含んでいる。 In this embodiment, the valve metal included in the metal plate (metal foil) of the element substrate 101 is aluminum. In this case, a porous layer is formed on the surface of the element substrate 101 by etching, and a dielectric layer 103 of aluminum oxide (Al 2 O 3 ), which is an oxide of aluminum, is formed along the porous surface. has been done. The anode side conductive part 11 of the capacitor element 10 is formed of a metal plate (metal foil) made of aluminum (Al), and the dielectric layer 12 of the capacitor element 10 is formed on the surface of the anode side conductive part 11. , contains aluminum oxide.

レジスト102は、図1Bに示すように、平面視において、素子基板101の少なくとも一面に形成されている。本実施形態では、素子基板101の厚み方向の両面にレジスト102が形成されている。レジスト102は、図1Bに示すように、格子状に形成されている。レジスト102は、例えば、多孔質層の一部に樹脂を含浸することにより形成されている。レジスト102は、素子基板101のうちのレジスト102以外の部分よりも導電性が低い部分である。したがって、レジスト102は、素子基板101のうちのレジスト102以外の部分よりも電気的な絶縁性が高い部分となる。 As shown in FIG. 1B, the resist 102 is formed on at least one surface of the element substrate 101 in plan view. In this embodiment, resists 102 are formed on both sides of the element substrate 101 in the thickness direction. The resist 102 is formed in a grid shape, as shown in FIG. 1B. The resist 102 is formed, for example, by impregnating a portion of a porous layer with resin. The resist 102 is a portion of the element substrate 101 that has lower conductivity than the portion other than the resist 102 . Therefore, the resist 102 becomes a portion of the element substrate 101 that has higher electrical insulation than the portion other than the resist 102.

レジスト102は、平面視において、第1の方向Xに沿って延びる(長い)線状部112と、第2の方向Yに沿って延びる(長い)線状部122と、をそれぞれ複数含んでいる。そして、複数の線状部112と複数の線状部122とが直交することにより、全体として格子状のレジスト102が形成されている。なお、第1の方向Xと第2の方向Yとは、コンデンサ素子10の一面に沿いかつ互いに直交する2つの方向である。 The resist 102 includes a plurality of (long) linear portions 112 extending along the first direction X and a plurality of (long) linear portions 122 extending along the second direction Y in plan view. . The plurality of linear portions 112 and the plurality of linear portions 122 are orthogonal to each other, thereby forming a grid-like resist 102 as a whole. Note that the first direction X and the second direction Y are two directions along one surface of the capacitor element 10 and orthogonal to each other.

素子集合体100は、レジスト102によって区画されている。すなわち、素子集合体100はレジスト102により複数の部分に区切られており、レジスト102で区画された複数の部分のそれぞれが一つのコンデンサ素子10に対応している。そして、レジスト102はコンデンサ素子10の端面になる部分を含んでいる。したがって、レジスト形成工程においてレジスト102を形成することにより、コンデンサ素子10の端部が電気的に絶縁化された部分が形成されることになる。 The element assembly 100 is partitioned by a resist 102. That is, the element assembly 100 is divided into a plurality of parts by the resist 102, and each of the plurality of parts divided by the resist 102 corresponds to one capacitor element 10. The resist 102 includes a portion that will become the end surface of the capacitor element 10. Therefore, by forming the resist 102 in the resist forming step, an electrically insulated end portion of the capacitor element 10 is formed.

レジスト102を樹脂含浸で形成する場合は、例えば、スクリーン印刷、インクジェット、転写、テープ貼り付け等の方法で、樹脂を誘電体層103の表面に供給することができる。レジストは、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アルキド樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミドおよび不飽和ポリエステル等の絶縁性樹脂を用いることができる。 When the resist 102 is formed by resin impregnation, the resin can be supplied to the surface of the dielectric layer 103 by, for example, screen printing, inkjet, transfer, tape attachment, or the like. As the resist, for example, insulating resins such as epoxy resin, phenol resin, silicone resin, melamine resin, urea resin, alkyd resin, polyurethane, polyamide, polyimide, polyamideimide, and unsaturated polyester can be used.

(1-2)孔形成工程
孔形成工程は、レジスト形成工程後に、図1Cに示すように、レジスト102を形成した素子基板101に孔104を形成する工程である。孔形成工程では、例えば、プレス成形により、素子基板101の一部を打ち抜いて孔104を形成することができる。孔104は1枚の素子基板101に複数形成される。孔104は、平面視において、レジスト102の一部に形成される。つまり、各孔104は、レジスト102及び素子基板101を厚み方向に貫通している。すなわち、孔104は、素子基板101の厚み方向の一面に形成したレジスト102の表面と、素子基板101の厚み方向の他面に形成したレジスト102の表面との両方に開口している。
(1-2) Hole Forming Step The hole forming step is a step of forming holes 104 in the element substrate 101 on which the resist 102 is formed, as shown in FIG. 1C, after the resist forming step. In the hole forming step, the hole 104 can be formed by punching out a part of the element substrate 101 by, for example, press molding. A plurality of holes 104 are formed on one element substrate 101. The hole 104 is formed in a part of the resist 102 in plan view. That is, each hole 104 penetrates the resist 102 and the element substrate 101 in the thickness direction. That is, the hole 104 is open to both the surface of the resist 102 formed on one surface of the element substrate 101 in the thickness direction and the surface of the resist 102 formed on the other surface of the element substrate 101 in the thickness direction.

複数の孔104は、各々、第1の方向Xに沿って延びる長孔である。各孔104は、第1の方向Xに沿って延びる線状部112上に形成されている。各孔104は、第2の方向Yの寸法が線状部112の第2の方向Yの寸法よりも小さい。各孔104は、線状部112と線状部122の交差部分P上に形成されている。複数の孔104のうち、大部分の孔104は2つの交差部分Pにまたがるように形成されている。複数の孔104のうち、一部の孔104は1つの交差部分P上に形成されている。言い換えれば、素子集合体100の第1の方向Xの端部に位置する孔104は、1つの交差部分P上に形成され、その他の孔104は2つの交差部分Pにまたがるように形成される。 Each of the plurality of holes 104 is a long hole extending along the first direction X. Each hole 104 is formed on a linear portion 112 extending along the first direction X. The dimension of each hole 104 in the second direction Y is smaller than the dimension of the linear portion 112 in the second direction Y. Each hole 104 is formed on the intersection P of the linear portion 112 and the linear portion 122. Most of the holes 104 among the plurality of holes 104 are formed so as to straddle two intersections P. Some of the holes 104 among the plurality of holes 104 are formed on one intersection P. In other words, the holes 104 located at the ends of the element assembly 100 in the first direction X are formed on one intersection P, and the other holes 104 are formed so as to span two intersections P. .

複数の孔104は、平面視において、第2の方向Yで隣り合う2つの孔104が第1の方向Xで所定のピッチでずれている状態に配置されている。すなわち、第2の方向Yに並ぶ複数の孔104は、各孔104の中心を結ぶ線が平面視でジグザグになるように並んでおり、第2の方向Yに並ぶ複数の孔104は直線状に並んでいない。つまり、平面視において、第2の方向Yにおいて隣り合う2つの孔104は、第1の方向Xの端部同士が対向している。言い換えると、平面視において、第2の方向Yにおいて隣り合う2つの孔104は、第1の方向Xの中央同士は対向していない。 The plurality of holes 104 are arranged such that two holes 104 adjacent to each other in the second direction Y are shifted from each other at a predetermined pitch in the first direction X when viewed from above. That is, the plurality of holes 104 lined up in the second direction Y are lined up so that the line connecting the centers of each hole 104 forms a zigzag pattern in plan view, and the plurality of holes 104 lined up in the second direction Y are lined up in a straight line. Not lined up. That is, in plan view, the two holes 104 that are adjacent in the second direction Y have their ends in the first direction X facing each other. In other words, in plan view, the two holes 104 that are adjacent in the second direction Y do not face each other at their centers in the first direction X.

複数の孔104は、第1の孔105と第2の孔106とを含んでいる。第1の孔105は、図1Cの平面図において、複数の線状部112のうち、第2の方向Yの一端側(図1Cの上方)から数えて奇数番目に位置する線状部112上に形成されている。第2の孔106は、図1Cの平面図において、複数の線状部112のうち、第2の方向Yの一端側(図1Cの上方)から数えて偶数番目に位置する線状部112上に形成されている。 The plurality of holes 104 include a first hole 105 and a second hole 106. The first hole 105 is located on the odd-numbered linear portion 112 among the plurality of linear portions 112 when counted from one end side in the second direction Y (the upper part of FIG. 1C) in the plan view of FIG. 1C. is formed. In the plan view of FIG. 1C, the second hole 106 is located on the even-numbered linear portion 112 among the plurality of linear portions 112 counting from one end side in the second direction Y (the upper part of FIG. 1C). is formed.

なお、誘電体層103が形成されていない金属箔を使用する場合は、打ち抜き工程後に、複数の孔104を打ち抜いた際に露出した金属箔の露出面に、誘電体層103を形成してもよい。 Note that when using metal foil on which the dielectric layer 103 is not formed, the dielectric layer 103 may be formed on the exposed surface of the metal foil that was exposed when the plurality of holes 104 were punched out after the punching process. good.

(1-3)素子集合体
上記のレジスト形成工程と孔形成工程とを行って、図1Cのような素子集合体100が形成されている。素子集合体100において、複数のコンデンサ素子10は、コンデンサ素子10の一面に沿い、かつ互いに直交する第1の方向Xと第2の方向Yとの両方に並ぶように、二次元配置されている。すなわち、素子集合体100には、第1の方向Xに沿って延びる線状部112と、第2の方向Yに沿って延びる線状部122とで格子状のレジスト102が形成されている。そして、第1の方向Xにおいて隣り合う2つの線状部122と、第2の方向Yにおいて隣り合う2つの線状部112とで囲まれる部分が一つのコンデンサ素子10として形成される。したがって、素子集合体100には、複数のコンデンサ素子10が形成されており、複数のコンデンサ素子10が第1の方向Xと第2の方向Yとの両方に並んで形成されている。
(1-3) Element assembly By performing the above-described resist forming process and hole forming process, an element assembly 100 as shown in FIG. 1C is formed. In the element assembly 100, the plurality of capacitor elements 10 are two-dimensionally arranged along one surface of the capacitor element 10 and lined up in both a first direction X and a second direction Y that are orthogonal to each other. . That is, in the element assembly 100, a grid-like resist 102 is formed with linear portions 112 extending along the first direction X and linear portions 122 extending along the second direction Y. A portion surrounded by two linear portions 122 adjacent in the first direction X and two linear portions 112 adjacent in the second direction Y is formed as one capacitor element 10. Therefore, a plurality of capacitor elements 10 are formed in the element assembly 100, and the plurality of capacitor elements 10 are formed side by side in both the first direction X and the second direction Y.

複数のコンデンサ素子10は、それぞれ陽極部13及び陰極部14を有する。複数のコンデンサ素子10は、素子集合体100において、素子集合体100の一面と平行な方向に隣り合うコンデンサ素子10の陽極部13及び陰極部14の位置が逆である。すなわち、各コンデンサ素子10は、陽極部13及び陰極部14を有しており、平面視において、隣り合うコンデンサ素子10の陽極部13と陰極部14との位置が反対になっている。陽極部13は、固体電解コンデンサ1の陽極となる電極が形成される側の端部である。陰極部14は、固体電解コンデンサ1の陰極となる電極が形成される側の端部である。 Each of the plurality of capacitor elements 10 has an anode section 13 and a cathode section 14. In the plurality of capacitor elements 10 , the positions of the anode portions 13 and cathode portions 14 of adjacent capacitor elements 10 in a direction parallel to one surface of the element assembly 100 are opposite to each other in the element assembly 100 . That is, each capacitor element 10 has an anode part 13 and a cathode part 14, and the positions of the anode part 13 and the cathode part 14 of adjacent capacitor elements 10 are opposite in plan view. The anode portion 13 is an end portion of the solid electrolytic capacitor 1 on the side where an electrode serving as an anode is formed. The cathode portion 14 is an end portion of the solid electrolytic capacitor 1 on the side where an electrode serving as a cathode is formed.

各コンデンサ素子10は、第2の方向Yと平行な方向における一方の端部に陽極部13を有し、第2の方向Yと平行な方向における他方の端部に陰極部14を有している。すなわち、各コンデンサ素子10において、第2の方向Yと平行な方向に並ぶ端部は、いずれか一方が陽極部13として形成され、他方が陰極部14として形成されている。そして、第1の方向Xにおいて隣り合うコンデンサ素子10において、一方のコンデンサ素子10aの陽極部13aの位置が、他方のコンデンサ素子10bの陽極部13bの位置と、第2の方向Yにおいて逆(反対)である。同様に、第1の方向Xにおいて隣り合うコンデンサ素子10において、一方のコンデンサ素子10aの陰極部14aの位置が、他方のコンデンサ素子10bの陰極部14bの位置と、第2の方向Yにおいて逆(反対)である。したがって、第1の方向Xにおいて隣り合うコンデンサ素子10において、一方のコンデンサ素子10aの陽極部13aが、他方のコンデンサ素子10bの陰極部14bと隣り合っている。また第1の方向Xにおいて隣り合うコンデンサ素子10において、一方のコンデンサ素子10aの陰極部14aが、他方のコンデンサ素子10bの陽極部13bと隣り合っている。 Each capacitor element 10 has an anode portion 13 at one end in a direction parallel to the second direction Y, and a cathode portion 14 at the other end in a direction parallel to the second direction Y. There is. That is, in each capacitor element 10, one of the end portions aligned in a direction parallel to the second direction Y is formed as the anode portion 13, and the other is formed as the cathode portion 14. In the capacitor elements 10 that are adjacent to each other in the first direction ). Similarly, in the capacitor elements 10 that are adjacent to each other in the first direction opposite). Therefore, in the capacitor elements 10 adjacent in the first direction X, the anode portion 13a of one capacitor element 10a is adjacent to the cathode portion 14b of the other capacitor element 10b. Further, in the capacitor elements 10 that are adjacent to each other in the first direction X, the cathode portion 14a of one capacitor element 10a is adjacent to the anode portion 13b of the other capacitor element 10b.

各コンデンサ素子10の陽極部13には、第1の方向Xに並ぶ2つの孔104の各端部が対応して形成されている。各コンデンサ素子10の陰極部14には、1つの孔104が対応して形成されている。 The anode portion 13 of each capacitor element 10 is formed with corresponding end portions of two holes 104 aligned in the first direction X. One hole 104 is formed in the cathode portion 14 of each capacitor element 10 .

素子集合体100の孔104の少なくとも一方の開口縁部にはレジスト102が形成されている。すなわち、平面視において、レジスト102は孔104を囲むように形成されている。レジスト102が素子集合体100の厚み方向のいずれか片面にのみ形成されている場合は、その片面における孔104の開口縁部にレジスト102が形成されていることになる。 A resist 102 is formed on at least one opening edge of the hole 104 of the element assembly 100 . That is, in plan view, the resist 102 is formed to surround the hole 104. When the resist 102 is formed only on one side of the element assembly 100 in the thickness direction, the resist 102 is formed at the opening edge of the hole 104 on that one side.

素子集合体100は、樹脂50が充填される孔104を有する。すなわち、素子集合体100の孔104には後述の樹脂封止工程により樹脂50が充填される。この場合、樹脂50はレジスト102に形成された孔104の開口から孔104の内側に流入して充填される。 The element assembly 100 has holes 104 filled with resin 50. That is, the holes 104 of the element assembly 100 are filled with resin 50 by a resin sealing process described later. In this case, the resin 50 flows into the inside of the hole 104 from the opening of the hole 104 formed in the resist 102 and is filled.

(2)陰極集合体形成工程
図2A~図2Cは陰極集合体形成工程を示している。本実施形態において、陰極体20は、陰極体20の一面と平行な方向に複数つなげた状態の陰極集合体200を形成している。すなわち、陰極集合体形成工程は、陰極集合体200を形成する工程である。陰極集合体200を、複数の陰極体20が、陰極体20の一面と平行な方向につながって構成される。言い換えると、陰極集合体形成工程は陰極集合体200を形成する工程であって、陰極集合体200は、複数の平板状の陰極体20が陰極体20の一面と平行な方向に複数つながった状態で形成されている。なお、陰極体20の一面とは、陰極体20の厚み方向に並ぶ面であって、平面視(陰極体20を厚み方向から見ること)で視認される面である。
(2) Cathode assembly forming step FIGS. 2A to 2C show the cathode assembly forming step. In this embodiment, the cathode body 20 forms a cathode assembly 200 in which a plurality of cathode bodies 20 are connected in a direction parallel to one surface of the cathode body 20 . That is, the cathode assembly forming step is a step of forming the cathode assembly 200. The cathode assembly 200 is configured by a plurality of cathode bodies 20 connected in a direction parallel to one surface of the cathode bodies 20. In other words, the cathode assembly forming step is a step of forming the cathode assembly 200, and the cathode assembly 200 is a state in which a plurality of flat cathode bodies 20 are connected in a direction parallel to one surface of the cathode body 20. It is formed of. Note that one surface of the cathode body 20 is a surface lined up in the thickness direction of the cathode body 20, and is a surface that is visually recognized in a plan view (viewing the cathode body 20 from the thickness direction).

陰極集合体形成工程は、レジスト形成工程と、孔形成工程とを含んでいる。 The cathode assembly forming step includes a resist forming step and a hole forming step.

(2-1)レジスト形成工程
レジスト形成加工は、陰極集合体200の表面上のレジストを形成する工程である。
すなわち、レジスト形成加工は、陰極基板201に対してレジスト202を形成する工程である。図2Aに示すように、陰極基板201は平面視で四角形であり、導電性を有する金属板(金属箔)である。陰極基板201は、例えば、アルミニウム並びにこれらを含む合金を含む。また陰極基板201の表面には全面にわたって導電材料としてカーボン層203が形成されていてもよい。これにより、陰極体20は、表面にカーボン層203を有する平板状の金属箔である。なお、陰極基板201の表面には導電材料の層が形成されていなくてもよい。またカーボン層203の代わりに、チタン層を形成することも可能である。
(2-1) Resist Forming Process The resist forming process is a process of forming a resist on the surface of the cathode assembly 200.
That is, the resist forming process is a process of forming a resist 202 on the cathode substrate 201. As shown in FIG. 2A, the cathode substrate 201 is rectangular in plan view and is a conductive metal plate (metal foil). The cathode substrate 201 includes, for example, aluminum and an alloy containing aluminum. Further, a carbon layer 203 may be formed as a conductive material over the entire surface of the cathode substrate 201. Thereby, the cathode body 20 is a flat metal foil having a carbon layer 203 on its surface. Note that the layer of conductive material does not need to be formed on the surface of the cathode substrate 201. Further, instead of the carbon layer 203, it is also possible to form a titanium layer.

レジスト202は、図2Bに示すように、平面視において、陰極基板201の少なくとも一面に格子状に形成されている。本実施形態では、陰極基板201の厚み方向の両面にレジスト202が形成されている。レジスト202は電気絶縁性を有する樹脂の被膜で形成される。レジスト202は、例えば、エポキシ樹脂を含んでいる。 As shown in FIG. 2B, the resist 202 is formed in a grid pattern on at least one surface of the cathode substrate 201 in plan view. In this embodiment, resists 202 are formed on both sides of the cathode substrate 201 in the thickness direction. The resist 202 is formed of a resin film having electrical insulation properties. The resist 202 contains, for example, epoxy resin.

レジスト202は、平面視において、第1の方向Xに沿って延びる(長い)線状部212と、第2の方向Yに沿って延びる(長い)線状部222と、をそれぞれ複数含んでいる。そして、線状部212と線状部222とが直交することにより、全体として格子状のレジスト202が形成されている。なお、第1の方向Xと第2の方向Yとは、陰極体20の一面に沿いかつ互いに直交する2つの方向である。 The resist 202 includes a plurality of (long) linear portions 212 extending along the first direction X and a plurality of (long) linear portions 222 extending along the second direction Y in a plan view. . The linear portions 212 and 222 are perpendicular to each other, thereby forming a grid-like resist 202 as a whole. Note that the first direction X and the second direction Y are two directions along one surface of the cathode body 20 and orthogonal to each other.

陰極集合体200は、レジスト202によって区画されている。すなわち、陰極集合体200はレジスト202により複数の部分に区切られており、レジスト202で区画された複数の部分のそれぞれが一つの陰極体20に対応している。そして、レジスト202は陰極体20の端面になる部分を含んでいる。 Cathode assembly 200 is partitioned by resist 202. That is, the cathode assembly 200 is divided into a plurality of parts by the resist 202, and each of the plurality of parts divided by the resist 202 corresponds to one cathode body 20. The resist 202 includes a portion that will become the end surface of the cathode body 20.

レジスト202は、例えば、スクリーン印刷、インクジェット、転写、テープ貼り付け等の方法で、樹脂を陰極基板201に供給して形成することができる。 The resist 202 can be formed by supplying resin to the cathode substrate 201 by, for example, screen printing, inkjet, transfer, tape pasting, or the like.

(2-2)孔形成工程
孔形成工程は、レジスト形成加工後に、図2Cに示すように、レジスト202を形成した陰極基板201に孔204を形成する工程である。孔形成工程では、例えば、プレス成形により、陰極基板201の一部を撃ち抜いて孔204を形成することができる。孔204は一枚の陰極基板201に複数形成される。孔204は、平面視において、レジスト202の一部に形成される。つまり、各孔204は、レジスト202及び陰極基板201を厚み方向に貫通している。つまり、孔204は、陰極基板201の厚み方向の一面に形成したレジスト202の表面と、陰極基板201の厚み方向の他面に形成したレジスト202の表面との両方に開口している。
(2-2) Hole Forming Step The hole forming step is a step of forming holes 204 in the cathode substrate 201 on which the resist 202 is formed, as shown in FIG. 2C, after the resist forming process. In the hole forming step, the hole 204 can be formed by punching out a part of the cathode substrate 201 by, for example, press molding. A plurality of holes 204 are formed in one cathode substrate 201. The hole 204 is formed in a part of the resist 202 in plan view. That is, each hole 204 penetrates the resist 202 and the cathode substrate 201 in the thickness direction. That is, the holes 204 are open to both the surface of the resist 202 formed on one surface of the cathode substrate 201 in the thickness direction and the surface of the resist 202 formed on the other surface of the cathode substrate 201 in the thickness direction.

複数の孔204は、各々、第1の方向Xに沿って延びる長孔である。各孔204は、第1の方向Xに沿って延びる線状部212上に形成されている。各孔204は、第2の方向Yの寸法が線状部212の第2の方向Yの寸法よりも小さい。各孔204は、線状部212と線状部222の交差部分P上に形成されている。複数の孔204のうち、大部分の孔204は2つの交差部分Pにまたがるように形成されている。複数の孔204のうち、一部の孔204は1つの交差部分P上に形成されている。言い換えれば、陰極集合体200の第1の方向Xの端部に位置する孔204は、1つの交差部分P上に形成され、その他の孔204は、2つの交差部分Pにまたがるように形成される。 Each of the plurality of holes 204 is a long hole extending along the first direction X. Each hole 204 is formed on a linear portion 212 extending along the first direction X. The dimension of each hole 204 in the second direction Y is smaller than the dimension of the linear portion 212 in the second direction Y. Each hole 204 is formed on the intersection P of the linear portion 212 and the linear portion 222. Among the plurality of holes 204, most of the holes 204 are formed so as to span two intersections P. Some of the holes 204 among the plurality of holes 204 are formed on one intersection P. In other words, the holes 204 located at the ends of the cathode assembly 200 in the first direction X are formed on one intersection P, and the other holes 204 are formed so as to span two intersections P. Ru.

複数の孔204は、平面視において、第2の方向Yで隣り合う2つの孔204が第1の方向Xで所定のピッチでずれている状態に配置されている。すなわち、第2の方向Yに並ぶ複数の孔204は、各孔204の中心を結ぶ線が平面視でジグザグになるように並んでおり、第2の方向Yに並ぶ複数の孔204は直線状に並んでいない。つまり、平面視において、第2の方向Yにおいて隣り合う2つの孔204は、第1の方向Xの端部同士が対向している。言い換えると、平面視において、第2の方向Yにおいて隣り合う2つの孔204は、第1の方向Xの中央同士は対向していない。複数の孔204は、第3の孔205と第4の孔206とを含んでいる。第3の孔205は、図2Cの平面図において、複数の線状部212のうち、第2の方向Yの一端側(図2Cの上方)から数えて偶数番目に位置する線状部212上に形成されている。第4の孔206は、図2Cの平面図において、複数の線状部212のうち、第2の方向Yの一端側(図2Cの上方)から数えて奇数番目に位置する線状部212上に形成されている。 The plurality of holes 204 are arranged such that two holes 204 adjacent to each other in the second direction Y are shifted at a predetermined pitch in the first direction X when viewed from above. That is, the plurality of holes 204 lined up in the second direction Y are lined up so that the line connecting the centers of each hole 204 forms a zigzag pattern in plan view, and the plurality of holes 204 lined up in the second direction Y are lined up in a straight line. Not lined up. That is, in plan view, the ends of the two holes 204 adjacent in the second direction Y face each other in the first direction X. In other words, in plan view, the two holes 204 that are adjacent in the second direction Y do not face each other at their centers in the first direction X. The plurality of holes 204 include a third hole 205 and a fourth hole 206. In the plan view of FIG. 2C, the third hole 205 is located on an even-numbered linear portion 212 among the plurality of linear portions 212 counting from one end side in the second direction Y (the upper part of FIG. 2C). is formed. In the plan view of FIG. 2C, the fourth hole 206 is located on the odd-numbered linear portion 212 among the plurality of linear portions 212 when counted from one end side in the second direction Y (the upper part of FIG. 2C). is formed.

(2-3)陰極集合体
上記のレジスト形成加工と孔形成工程とを行って、図2Cのような陰極集合体200が形成されている。陰極集合体200において、複数の陰極体20は、陰極体20の一面に沿いかつ互いに直交する第1の方向Xと第2の方向Yとの両方に並ぶように二次元配置されている。すなわち、陰極集合体200には、第1の方向Xに沿って延びる線状部212と、第2の方向Yに沿って延びる線状部222とで格子状のレジスト202が形成されている。そして、第1の方向Xにおいて隣り合う線状部222と、第2の方向Yにおいて隣り合う線状部212とで囲まれる部分が一つの陰極体20として形成される。したがって、陰極集合体200には、複数の陰極体20が形成されており、複数の陰極体20が第1の方向Xと第2の方向Yとの両方に並んで形成されている。
(2-3) Cathode Assembly A cathode assembly 200 as shown in FIG. 2C is formed by performing the above resist forming process and hole forming process. In the cathode assembly 200, the plurality of cathode bodies 20 are two-dimensionally arranged along one surface of the cathode body 20 so as to be lined up in both a first direction X and a second direction Y that are orthogonal to each other. That is, in the cathode assembly 200, a grid-like resist 202 is formed with linear portions 212 extending along the first direction X and linear portions 222 extending along the second direction Y. A portion surrounded by the linear portions 222 adjacent in the first direction X and the linear portions 212 adjacent in the second direction Y is formed as one cathode body 20. Therefore, a plurality of cathode bodies 20 are formed in the cathode assembly 200, and the plurality of cathode bodies 20 are formed side by side in both the first direction X and the second direction Y.

複数の陰極体20は、それぞれ陽極部23及び陰極部24を有する。陽極部23は、固体電解コンデンサ1において陽極となる電極が形成される側の端部である。陰極部24は、固体電解コンデンサ1において陰極となる電極が形成される側の端部である。陰極集合体200において、陰極集合体200の一面と平行な方向に隣り合う陰極体20の陽極部23及び陰極部24の位置が逆である。すなわち、各陰極体20は、陽極部23及び陰極部24を有しており、平面視において、隣り合う陰極体20の陽極部23と陰極部24との位置が反対になっている。 Each of the plurality of cathode bodies 20 has an anode section 23 and a cathode section 24. The anode portion 23 is an end portion of the solid electrolytic capacitor 1 on the side where an electrode serving as an anode is formed. The cathode portion 24 is an end portion of the solid electrolytic capacitor 1 on the side where an electrode serving as a cathode is formed. In the cathode assembly 200, the positions of the anode part 23 and the cathode part 24 of the cathode bodies 20 adjacent to each other in a direction parallel to one surface of the cathode assembly 200 are reversed. That is, each cathode body 20 has an anode part 23 and a cathode part 24, and the positions of the anode part 23 and the cathode part 24 of adjacent cathode bodies 20 are opposite in plan view.

各陰極体20は、第2の方向Yと平行な方向における一方の端部に陽極部23を有し、第2の方向Yと平行な方向における他方の端部に陰極部24を有している。すなわち、各陰極体20において、第2の方向Yと平行な方向に並ぶ端部は、いずれか一方が陽極部23として形成され、他方が陰極部24として形成されている。そして、第1の方向Xにおいて隣り合う陰極体20において、一方の陰極体20aの陽極部23aの位置が、他方の陰極体20bの陽極部23bの位置と、第2の方向Yにおいて逆(反対)である。同様に、第1の方向Xにおいて隣り合う陰極体20において、一方の陰極体20aの陰極部24aの位置が、他方の陰極体20bの陰極部24bの位置と、第2の方向Yにおいて逆(反対)である。したがって、第1の方向Xにおいて隣り合う陰極体20において、一方の陰極体20aの陽極部23aが、他方の陰極体20bの陰極部24bと隣り合っている。また、第1の方向Xにおいて隣り合う陰極体20において、一方の陰極体20aの陰極部24aが、他方の陰極体20bの陽極部23bと隣り合っている。 Each cathode body 20 has an anode portion 23 at one end in a direction parallel to the second direction Y, and a cathode portion 24 at the other end in a direction parallel to the second direction Y. There is. That is, in each cathode body 20, one of the ends aligned in the direction parallel to the second direction Y is formed as the anode section 23, and the other end is formed as the cathode section 24. In the cathode bodies 20 adjacent in the first direction ). Similarly, in the cathode bodies 20 adjacent in the first direction opposite). Therefore, in the cathode bodies 20 adjacent in the first direction X, the anode portion 23a of one cathode body 20a is adjacent to the cathode portion 24b of the other cathode body 20b. Furthermore, among the cathode bodies 20 that are adjacent to each other in the first direction X, the cathode portion 24a of one cathode body 20a is adjacent to the anode portion 23b of the other cathode body 20b.

各陰極体20の陽極部23には、1つの孔104が対応して形成されている。各陰極体20の陰極部24には、第1の方向Xに並ぶ2つの孔104の各端部が対応して形成されている。 One hole 104 is formed in the anode portion 23 of each cathode body 20 . The cathode portion 24 of each cathode body 20 is formed with corresponding ends of two holes 104 aligned in the first direction X.

陰極集合体200の孔204の少なくとも一方の開口縁部にはレジスト202が形成されている。すなわち、平面視において、レジスト202は孔204を囲むように形成されている。レジスト202が陰極集合体200の厚み方向のいずれか片面にのみ形成されている場合は、その片面における孔204の開口縁部にレジスト202が形成されていることになる。 A resist 202 is formed at the opening edge of at least one of the holes 204 of the cathode assembly 200 . That is, the resist 202 is formed so as to surround the hole 204 in plan view. When the resist 202 is formed only on one side of the cathode assembly 200 in the thickness direction, the resist 202 is formed at the opening edge of the hole 204 on that one side.

陰極集合体200は、樹脂50が充填される孔204を有する。言い換えると、陰極集合体200の孔204には後述の樹脂封止工程により樹脂50が充填される。この場合、樹脂50はレジスト202に形成された孔204の開口から孔204の内側に流入して充填される。 Cathode assembly 200 has holes 204 filled with resin 50. In other words, the holes 204 of the cathode assembly 200 are filled with the resin 50 by a resin sealing process described below. In this case, the resin 50 flows into the inside of the hole 204 from the opening of the hole 204 formed in the resist 202 and is filled.

(3)積層工程
積層工程は、複数の素子集合体100をコンデンサ素子10の厚み方向に積層することにより、厚み方向に積層された複数のコンデンサ素子10を含む積層体30を複数形成する工程を含む。すなわち、積層工程は、誘電体層12を含むコンデンサ素子10を複数対向させて積層した積層体30を形成する工程を含む。素子集合体100は複数のコンデンサ素子10を備える。また陰極集合体200は複数の陰極体20を備えている。そのため、積層工程において、各コンデンサ素子10と各陰極体20とを厚み方向に対向するようにして複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200とを積層することにより、複数の積層体30を第1の方向Xと第2の方向Yとにつなげた状態で形成することができる。
(3) Lamination process The lamination process is a process of forming a plurality of laminates 30 including a plurality of capacitor elements 10 stacked in the thickness direction by stacking a plurality of element assemblies 100 in the thickness direction of the capacitor element 10. include. That is, the lamination process includes a process of forming a laminated body 30 in which a plurality of capacitor elements 10 including dielectric layers 12 are laminated in a facing manner. The element assembly 100 includes a plurality of capacitor elements 10. Further, the cathode assembly 200 includes a plurality of cathode bodies 20. Therefore, in the lamination process, by laminating a plurality of element assemblies 100 and a plurality of cathode assemblies 200 such that each capacitor element 10 and each cathode body 20 face each other in the thickness direction, a plurality of laminates 30 can be formed in a state where they are connected in the first direction X and the second direction Y.

また積層工程は、厚み方向で隣り合うコンデンサ素子10の間に陰極となる陰極体20を形成する工程を含む。言い換えると、積層工程は、対向するコンデンサ素子10の間には陰極となる陰極体20を有するようにする工程を含む。 Further, the lamination step includes a step of forming a cathode body 20 serving as a cathode between capacitor elements 10 adjacent in the thickness direction. In other words, the lamination step includes a step of providing a cathode body 20 serving as a cathode between the capacitor elements 10 facing each other.

したがって、図3A~図3Cに示すように、積層工程では、複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200とを交互に積層する。この積層前には、素子集合体100の表面に導電性高分子で形成される高分子層40が形成される。また、コンデンサ素子10と陰極体20とが対向するように、隣り合って積層される素子集合体100と陰極集合体200と位置合わせする。さらに、対向するコンデンサ素子10と陰極体20とは、コンデンサ素子10の陽極部13と陰極体20の陽極部23とが対向し、コンデンサ素子10の陰極部14と陰極体20の陰極部24とが対向する。すなわち、平面視において、コンデンサ素子10と陰極体20とが同じ位置にある。 Therefore, as shown in FIGS. 3A to 3C, in the lamination process, a plurality of element assemblies 100 and a plurality of cathode assemblies 200 are alternately laminated. Before this lamination, a polymer layer 40 made of conductive polymer is formed on the surface of the element assembly 100. Further, the element assembly 100 and the cathode assembly 200, which are stacked next to each other, are aligned so that the capacitor element 10 and the cathode body 20 face each other. Further, the capacitor element 10 and the cathode body 20 are arranged such that the anode part 13 of the capacitor element 10 and the anode part 23 of the cathode body 20 face each other, and the cathode part 14 of the capacitor element 10 and the cathode part 24 of the cathode body 20 face each other. are facing each other. That is, in plan view, the capacitor element 10 and the cathode body 20 are at the same position.

積層工程では、素子集合体100の孔104と陰極集合体200の孔204とは、少なくとも一部が厚み方向で重なるように配置される。つまり、平面視において、素子集合体100の孔104の一部と陰極集合体200の孔204の一部とが同じ位置にある。この場合、素子集合体100の第1の孔105の第1の方向Xにおける端部と、陰極集合体200の第4の孔206の第1の方向Xにおける端部とが厚み方向で重なるように配置される。また素子集合体100の第2の孔106の第1の方向Xにおける端部と、陰極集合体200の第3の孔205の第1の方向Xにおける端部とが厚み方向で重なるように配置される。 In the lamination process, the holes 104 of the element assembly 100 and the holes 204 of the cathode assembly 200 are arranged so that at least a portion thereof overlaps in the thickness direction. That is, in plan view, a portion of the hole 104 of the element assembly 100 and a portion of the hole 204 of the cathode assembly 200 are located at the same position. In this case, the end of the first hole 105 of the element assembly 100 in the first direction X and the end of the fourth hole 206 of the cathode assembly 200 in the first direction X overlap in the thickness direction. will be placed in Further, the end portion of the second hole 106 of the element assembly 100 in the first direction X and the end portion of the third hole 205 of the cathode assembly 200 in the first direction X are arranged so as to overlap in the thickness direction. be done.

要するに、1つのコンデンサ素子10の第2の方向Yにおける一方側には、2つの第1の孔105が形成されている(図1C参照)。また1つの陰極体20の第2の方向Yにおける一方側には、第4の孔206が形成されている(図2C参照)。そして、コンデンサ素子10と陰極体20とを厚み方向で重ねると、2つの第1の孔105のうちの一方の第1の孔105の端部と、第4の孔206の両端部のうちの一端部とが厚み方向で重なる。また2つの第1の孔105のうちの他方の第1の孔105の端部と、第4の孔206の両端部のうちの他端部とが厚み方向で重なる。 In short, two first holes 105 are formed on one side of one capacitor element 10 in the second direction Y (see FIG. 1C). Further, a fourth hole 206 is formed on one side of one cathode body 20 in the second direction Y (see FIG. 2C). Then, when the capacitor element 10 and the cathode body 20 are overlapped in the thickness direction, the end of one of the two first holes 105 and the end of both ends of the fourth hole 206 One end overlaps in the thickness direction. Further, the end of the other of the two first holes 105 and the other end of both ends of the fourth hole 206 overlap in the thickness direction.

1つのコンデンサ素子10の第2の方向Yにおける他方側には、第2の孔106が形成されている(図1C参照)。また1つの陰極体20の第2の方向Yにおける他方側には、2つの第3の孔205が形成されている(図2C参照)。そして、コンデンサ素子10と陰極体20とを厚み方向で重ねると、2つの第3の孔205のうちの一方の第3の孔205の端部と、第2の孔106の両端部のうちの一端部とが厚み方向で重なる。また2つの第3の孔205のうちの他方の第3の孔205の端部と、第2の孔106の両端部のうちの他端部とが厚み方向で重なる。 A second hole 106 is formed on the other side of one capacitor element 10 in the second direction Y (see FIG. 1C). Furthermore, two third holes 205 are formed on the other side of one cathode body 20 in the second direction Y (see FIG. 2C). Then, when the capacitor element 10 and the cathode body 20 are overlapped in the thickness direction, the end of one of the two third holes 205 and the end of the second hole 106 are overlapped in the thickness direction. One end overlaps in the thickness direction. Further, the end of the other of the two third holes 205 and the other end of both ends of the second hole 106 overlap in the thickness direction.

積層工程では、素子集合体100の格子状のレジスト102と陰極集合体200の格子状のレジスト202とは、少なくとも一部が厚み方向で重なるように配置される。つまり、平面視において、素子集合体100のレジスト102と陰極集合体200のレジスト202とが同じ位置にある。したがって、レジスト102の線状部112とレジスト202の線状部212とが厚み方向で重なるように配置される。またレジスト102の線状部122とレジスト202の線状部222とが厚み方向で重なるように配置される。 In the lamination process, the lattice-shaped resist 102 of the element assembly 100 and the lattice-shaped resist 202 of the cathode assembly 200 are arranged so that at least a portion thereof overlaps in the thickness direction. That is, in plan view, the resist 102 of the element assembly 100 and the resist 202 of the cathode assembly 200 are at the same position. Therefore, the linear portions 112 of the resist 102 and the linear portions 212 of the resist 202 are arranged so as to overlap in the thickness direction. Furthermore, the linear portions 122 of the resist 102 and the linear portions 222 of the resist 202 are arranged so as to overlap in the thickness direction.

積層工程は、前記複数の素子集合体100が基板60上で積層される。すなわち、積層工程は、基板60上で複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200とを交互に重ね合わせる。基板60は平面視で四角形に形成されている。基板60としてはガラス布エポキシ樹脂含浸基材を含む電気絶縁性基板が使用される。 In the stacking step, the plurality of element assemblies 100 are stacked on the substrate 60. That is, in the lamination step, a plurality of element assemblies 100 and a plurality of cathode assemblies 200 are alternately laminated on the substrate 60. The substrate 60 is formed into a rectangular shape when viewed from above. As the substrate 60, an electrically insulating substrate including a glass cloth epoxy resin impregnated base material is used.

積層工程において、複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200とを接着剤41で接着してもよい。また積層工程において、コンデンサ素子10の陰極部14と、陰極体20とは、カーボンペーストを介して接続される。つまり、カーボンペーストにより、コンデンサ素子10の陰極部14と、陰極体20の陰極部24とが接続される。 In the lamination process, the plurality of element assemblies 100 and the plurality of cathode assemblies 200 may be bonded together with adhesive 41. Further, in the lamination process, the cathode portion 14 of the capacitor element 10 and the cathode body 20 are connected via carbon paste. That is, the carbon paste connects the cathode section 14 of the capacitor element 10 and the cathode section 24 of the cathode body 20.

(4)第1の樹脂封止工程
図4A及び図4Bに示すように、第1の樹脂封止工程は、積層された複数の素子集合体100を樹脂50でモールドする工程を含む。すなわち、第1の樹脂封止工程では、積層された複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200とを樹脂50で封止する工程である。このようなモールドする工程は、後述の溝を形成する工程の前と後とに少なくとも2回に分けて行う。すなわち、第1の樹脂封止工程は、溝を形成する工程の前に行われる樹脂封止である。
(4) First resin sealing process As shown in FIGS. 4A and 4B, the first resin sealing process includes a process of molding a plurality of stacked element assemblies 100 with resin 50. That is, the first resin sealing step is a step of sealing the stacked plurality of element assemblies 100 and plurality of cathode assemblies 200 with the resin 50. Such a molding step is performed at least twice, before and after the step of forming grooves, which will be described later. That is, the first resin sealing step is resin sealing performed before the step of forming the groove.

第1の樹脂封止工程は、例えば、エポキシ樹脂などの樹脂50をトランスファ成形などで成形することにより行われる。樹脂50にはフィラーが含まれていてもよい。第1の樹脂封止工程では、積層された状態の複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200とを樹脂50で覆う。すなわち、複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200とは積層された状態で端面(周面)が樹脂50で覆われる。また最も上(基板60から最も遠い位置)に積層された陰極集合体200の上面も樹脂50で覆われる。 The first resin sealing step is performed, for example, by molding a resin 50 such as epoxy resin by transfer molding or the like. The resin 50 may contain filler. In the first resin sealing step, the plurality of element assemblies 100 and the plurality of cathode assemblies 200 in a stacked state are covered with resin 50. That is, the plurality of element assemblies 100 and the plurality of cathode assemblies 200 are stacked and their end surfaces (peripheral surfaces) are covered with the resin 50. Further, the upper surface of the cathode assembly 200 stacked at the top (the farthest position from the substrate 60) is also covered with the resin 50.

また第1の樹脂封止工程では、孔104及び孔204に樹脂50が充填される。言い換えると、素子集合体100の第1の孔105と第2の孔106及び陰極集合体200の第3の孔205と第4の孔206とに樹脂50が充填される。樹脂50は、コンデンサ素子10の厚み方向に重なっている複数の孔104及び複数の孔204に流れ込んで充填される。つまり、コンデンサ素子10の陽極部13及び陰極体20の陽極部23では、複数の第1の孔105と複数の第4の孔206とが厚み方向で重なっているので、複数の第1の孔105と複数の第4の孔206とにわたって樹脂50が充填される。またコンデンサ素子10の陰極部14及び陰極体20の陰極部24では、複数の第2の孔106と複数の第3の孔205とが厚み方向で重なっているので、複数の第2の孔106と複数の第3の孔205とにわたって樹脂50が充填される。 Further, in the first resin sealing step, the holes 104 and 204 are filled with the resin 50. In other words, the first hole 105 and the second hole 106 of the element assembly 100 and the third hole 205 and the fourth hole 206 of the cathode assembly 200 are filled with the resin 50. The resin 50 flows into and fills the plurality of holes 104 and the plurality of holes 204 that overlap in the thickness direction of the capacitor element 10 . That is, in the anode part 13 of the capacitor element 10 and the anode part 23 of the cathode body 20, the plurality of first holes 105 and the plurality of fourth holes 206 overlap in the thickness direction, so that the plurality of first holes 105 and the plurality of fourth holes 206 are filled with resin 50 . Further, in the cathode section 14 of the capacitor element 10 and the cathode section 24 of the cathode body 20, the plurality of second holes 106 and the plurality of third holes 205 overlap in the thickness direction, so that the plurality of second holes 106 and the plurality of third holes 205 are filled with resin 50.

(5)第1のダイシング工程
図5A及び図5Bに示すように、第1のダイシング工程は、基板60の厚みのうちの一部を残して素子集合体100を切断し、溝70を形成する工程を含む。すなわち、積層工程で積層された複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200とを切断し、切断位置に切込みのような溝70を形成する工程を含む。また第1のダイシング工程では、基板60は分割されないように切断される。すなわち、溝70は基板60に達するように形成されるが、基板60の裏面(素子集合体100と陰極集合体200とが積層されていない方の面)までは達していない。溝70は基板60の厚みの一部(例えば、基板60の厚みの半分)にまで達して形成される。したがって、溝70の底面71は基板60の厚み内に形成される。
(5) First dicing process As shown in FIGS. 5A and 5B, in the first dicing process, the element assembly 100 is cut leaving a part of the thickness of the substrate 60 to form the groove 70. Including process. That is, it includes a step of cutting the plurality of element assemblies 100 and the plurality of cathode assemblies 200 stacked in the stacking process and forming grooves 70 like cuts at the cutting positions. Further, in the first dicing step, the substrate 60 is cut so as not to be divided into parts. That is, the groove 70 is formed to reach the substrate 60, but does not reach the back surface of the substrate 60 (the surface on which the element assembly 100 and the cathode assembly 200 are not stacked). The groove 70 is formed to reach a part of the thickness of the substrate 60 (for example, half the thickness of the substrate 60). Therefore, the bottom surface 71 of the groove 70 is formed within the thickness of the substrate 60.

溝70は、第2の方向Yに沿って形成される。すなわち、積層された複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200と基板60とは、図5Aに矢印で示すカットラインC1に沿って切断される。また溝70は、積層された複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200との第2の方向Yの全長にわたって形成される。すなわち、溝70は、複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200との第2の方向Yと直交する両方の端面に開口している。また溝70は、レジスト102の第2の方向Yに沿って延びる線状部122及びレジスト202の第2の方向Yに沿って延びる線状部222に沿って形成される。すなわち、複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200及び基板60とは、平面視において、線状部122及び線状部222が重なっている位置で切断されて溝70が形成される。 The groove 70 is formed along the second direction Y. That is, the stacked plurality of element assemblies 100, plurality of cathode assemblies 200, and substrate 60 are cut along the cut line C1 shown by the arrow in FIG. 5A. Further, the groove 70 is formed over the entire length of the stacked plurality of element assemblies 100 and the plurality of cathode assemblies 200 in the second direction Y. That is, the groove 70 is open to both end faces of the plurality of element assemblies 100 and the plurality of cathode assemblies 200 perpendicular to the second direction Y. Furthermore, the groove 70 is formed along the linear portion 122 of the resist 102 extending along the second direction Y and the linear portion 222 of the resist 202 extending along the second direction Y. That is, the plurality of element assemblies 100, the plurality of cathode assemblies 200, and the substrate 60 are cut to form the groove 70 at a position where the linear portions 122 and the linear portions 222 overlap in plan view.

そして、溝70により積層体30の両方の側面が露出される。積層体30の両方の側面は第1の方向Xで並ぶ2つの端面である。すなわち、コンデンサ素子10と陰極体20とが厚み方向で重なって形成される積層体30の側面が、溝70の内面72として露出する。内面72は底面71の上方に位置しており、第1の方向Xで並んでいる。また溝70の底面71と対向する開口は、積層体30の上面(基板60と反対側の面)を覆う樹脂50の表面に形成されている。 Then, both side surfaces of the stacked body 30 are exposed by the groove 70. Both side surfaces of the laminate 30 are two end surfaces aligned in the first direction X. That is, the side surface of the laminate 30 formed by overlapping the capacitor element 10 and the cathode body 20 in the thickness direction is exposed as the inner surface 72 of the groove 70 . The inner surface 72 is located above the bottom surface 71 and is aligned in the first direction X. Further, the opening facing the bottom surface 71 of the groove 70 is formed in the surface of the resin 50 covering the upper surface of the laminate 30 (the surface opposite to the substrate 60).

積層された状態の複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200とは、例えば、ダイシングにより切断される。またダイシングには、ダイヤモンドブレードなどのダイシングブレードが使用できる。また第1のダイシング工程は、例えば、ダイシングリング500の上にダイシングテープ501を載せて配置し、ダイシングテープ501の上に基板60と複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200とを積層する。 The plurality of element assemblies 100 and the plurality of cathode assemblies 200 in a stacked state are cut by, for example, dicing. Further, a dicing blade such as a diamond blade can be used for dicing. In the first dicing step, for example, a dicing tape 501 is placed on a dicing ring 500, and a substrate 60, a plurality of element assemblies 100, and a plurality of cathode assemblies 200 are laminated on the dicing tape 501. do.

(6)第2の樹脂封止工程
図6A及び図6Bに示すように、第2の樹脂封止工程は、溝70を形成する工程の後にモールドする工程でモールドする樹脂51は、溝70の内側に充填される。第2の樹脂封止工程は、溝70を形成する工程の後に行われる樹脂封止である。第2の樹脂封止工程は、例えば、エポキシ樹脂などの樹脂51をトランスファ成形などで成形することにより行われる。樹脂51にはフィラーが含まれていてもよい。第2の樹脂封止工程では、積層された状態の複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200とを覆う樹脂50の外側を樹脂51で更に覆う。また樹脂51は溝70内に進入し、溝70は樹脂51で充填される。樹脂51は固体電解コンデンサ1の側面と上面とを保護するために形成される。
(6) Second resin sealing process As shown in FIGS. 6A and 6B, the second resin sealing process is a molding process after the process of forming the grooves 70. Filled inside. The second resin sealing process is resin sealing performed after the process of forming the groove 70. The second resin sealing step is performed, for example, by molding resin 51 such as epoxy resin by transfer molding or the like. The resin 51 may contain filler. In the second resin sealing step, the outside of the resin 50 covering the plurality of element assemblies 100 and the plurality of cathode assemblies 200 in a stacked state is further covered with a resin 51. Further, the resin 51 enters into the groove 70, and the groove 70 is filled with the resin 51. The resin 51 is formed to protect the side and top surfaces of the solid electrolytic capacitor 1.

(7)第2のダイシング工程
第2のダイシング工程は、積層体30の端面に陰極又は陽極となる電極を形成する工程を含む。すなわち、第2のダイシング工程は、積層体30端面に少なくとも陰極又は陽極となる電極を形成する工程であって、図7A及び図7Bに示すように、複数の積層体30がつながった状態の電極形成体80を形成する電極形成工程を含む。すなわち、第2のダイシング工程2は、複数の積層体30がつながった状態の電極形成体80を形成し、この電極形成体80に陰極又は陽極となる電極を形成する工程を含む。
(7) Second dicing process The second dicing process includes a process of forming an electrode to serve as a cathode or an anode on the end face of the laminate 30. That is, the second dicing step is a step of forming at least an electrode to serve as a cathode or an anode on the end face of the laminate 30, and as shown in FIG. 7A and FIG. This includes an electrode forming step of forming the formed body 80. That is, the second dicing step 2 includes a step of forming an electrode forming body 80 in which a plurality of laminates 30 are connected, and forming an electrode to serve as a cathode or an anode on this electrode forming body 80.

電極形成体80を形成する工程は、第1の方向Xと第2の方向Yとの両方向につながった状態の複数の積層体30を、第1の方向Xに沿った方向のカットラインC2で切断する。またカットラインC2は、レジスト102の線状部112とレジスト202の線状部212とが厚み方向で重なる位置にある。したがって、積層体30の少なくとも一の端面を露出させる工程は、カットラインC2上の孔104の位置で切断する工程を含む。これにより、積層体30は平面視で隣接する二つの端面を露出させる。すなわち、第2の方向Yで隣接する積層体30の各端面を露出させるが、一方の積層体30の端面33は陽極となる端面であり、他方の積層体30の端面34は陰極となる端面が露出される。 In the step of forming the electrode formation body 80, the plurality of laminates 30 connected in both the first direction X and the second direction Y are cut along a cut line C2 along the first direction X. disconnect. Further, the cut line C2 is located at a position where the linear portion 112 of the resist 102 and the linear portion 212 of the resist 202 overlap in the thickness direction. Therefore, the step of exposing at least one end surface of the laminate 30 includes the step of cutting at the position of the hole 104 on the cut line C2. Thereby, the stacked body 30 exposes two adjacent end faces in a plan view. That is, each end face of the stacked bodies 30 adjacent in the second direction Y is exposed, but the end face 33 of one stacked body 30 is an end face that becomes an anode, and the end face 34 of the other stacked body 30 is an end face that becomes a cathode. is exposed.

第2のダイシング工程は、個片化する工程を一部含む。個片化する工程は、素子集合体100の孔104及び陰極集合体200の孔204の位置で、素子集合体100及び陰極集合体200を切断する工程を含んでいる。すなわち、第2のダイシング工程は複数の電極形成体80が切断によって形成される。第2のダイシング工程では、孔104及び204の縁から離れた位置で積層体30を切削する工程を更に有する。すなわち、積層体30を切断するにあたっては、第1の孔105、第2の孔106、第3の孔205及び第4の孔206の開口縁部が残存するように切削される。これにより、積層体30の陽極となる端面33ではコンデンサ素子10の陽極側導電部11の端面が露出し、陰極体20の陰極基板201の端面は露出しない。また積層体30の陰極となる端面34ではコンデンサ素子10の陽極側導電部11の端面が露出せず、陰極体20の陰極基板201の端面が露出する。 The second dicing step partially includes a step of dividing into pieces. The step of separating into pieces includes a step of cutting the element assembly 100 and the cathode assembly 200 at the positions of the holes 104 of the element assembly 100 and the holes 204 of the cathode assembly 200. That is, in the second dicing step, a plurality of electrode formation bodies 80 are formed by cutting. The second dicing step further includes a step of cutting the stacked body 30 at a position away from the edges of the holes 104 and 204. That is, when cutting the laminate 30, the opening edges of the first hole 105, second hole 106, third hole 205, and fourth hole 206 remain. As a result, the end face of the anode-side conductive portion 11 of the capacitor element 10 is exposed at the end face 33 of the laminate 30 that becomes the anode, and the end face of the cathode substrate 201 of the cathode body 20 is not exposed. Further, at the end face 34 of the laminate 30 that becomes the cathode, the end face of the anode-side conductive portion 11 of the capacitor element 10 is not exposed, but the end face of the cathode substrate 201 of the cathode body 20 is exposed.

第2のダイシング工程は、第1のダイシング工程と同様にダイヤモンドブレードなどのダイシングブレードが使用されるが、ダイシングブレードには、第1のダイシング工程よりも幅寸法(第1の方向Xの寸法)の小さいものが使用される。また第2のダイシング工程は、第1のダイシング工程と同様に、ダイシングリング500の上にダイシングテープ501を載せて配置して行われるが、ダイシングブレード502は樹脂51の上面からダイシングテープ501にまで達するようにして、複数の電極形成体80に切断される。 In the second dicing process, a dicing blade such as a diamond blade is used as in the first dicing process, but the dicing blade has a width dimension (dimension in the first direction X) that is larger than that in the first dicing process. A small one is used. In addition, the second dicing process is performed by placing the dicing tape 501 on the dicing ring 500 in the same way as the first dicing process, but the dicing blade 502 extends from the top surface of the resin 51 to the dicing tape 501. It is cut into a plurality of electrode formation bodies 80 in such a manner that the electrode formation bodies 80 reach each other.

(8)第1電極層形成工程
第1電極層形成工程では、第2のダイシング工程で得られた電極形成体80の陰極又は陽極となる電極に、金属層である第1電極層90、91を形成する工程である。第1電極層形成工程では、例えば、無電解めっき又は電解めっきなどのめっき法、蒸着法又はスパッタ法などの気相法及びコールドスプレー法などにより、第1電極層90、91を形成することができる。
(8) First electrode layer forming step In the first electrode layer forming step, first electrode layers 90, 91, which are metal layers, are applied to the electrodes that will become the cathode or anode of the electrode formed body 80 obtained in the second dicing step. This is the process of forming. In the first electrode layer forming step, the first electrode layers 90 and 91 may be formed by, for example, a plating method such as electroless plating or electrolytic plating, a vapor phase method such as a vapor deposition method or a sputtering method, or a cold spray method. can.

図8A及び図8Bには、第1電極層形成工程として、無電解めっき法を示している。この第1電極層形成工程では、電極形成体80を複数まとめて無電解めっきしている。すなわち、容器503にめっき浴504の中に複数の電極形成体80を浸漬して無電解めっきが行われる。この無電解めっきにより、積層体30の陽極側ではコンデンサ素子10の陽極側導電部11の端面にNi(ニッケル)めっきなどの第1電極層90が形成され、積層体30の陰極側では陰極体20の陰極基板201の端面にNi(ニッケル)めっきなどの第1電極層91が形成される。この場合、第1電極層90、91を形成するにあたってZn(亜鉛)処理の後にNiめっきに置換してもよい。 なお、第1電極層90、91は単層で形成する場合だけでなく、複数の層で形成することもできる。この場合、上記のようなめっき法を繰り返し行ったり、めっき法で形成しためっき膜に他の方法(例えば、蒸着法)で、さらに、金属膜を付着させることができる。 8A and 8B show an electroless plating method as the first electrode layer forming step. In this first electrode layer forming step, a plurality of electrode formation bodies 80 are collectively subjected to electroless plating. That is, electroless plating is performed by immersing a plurality of electrode formation bodies 80 in a plating bath 504 in a container 503. By this electroless plating, a first electrode layer 90 such as Ni (nickel) plating is formed on the end face of the anode-side conductive part 11 of the capacitor element 10 on the anode side of the laminate 30, and a cathode layer 90 on the cathode side of the laminate 30 is formed. A first electrode layer 91 such as Ni (nickel) plating is formed on the end surface of the cathode substrate 201 of No. 20. In this case, when forming the first electrode layers 90 and 91, Ni plating may be substituted after Zn (zinc) treatment. Note that the first electrode layers 90 and 91 can be formed not only as a single layer but also as a plurality of layers. In this case, the above-described plating method can be repeatedly performed, or a metal film can be further attached to the plated film formed by the plating method using another method (for example, a vapor deposition method).

(9)第3のダイシング工程
図9A及び図9Bは、複数の積層体30を積層体30毎に個片化する工程を含む。すなわち、第1電極層形成工程後の電極形成体80を更に切断して個片化する。個片化する工程は、溝70に沿ったカットラインC3で切断する工程を含む。すなわち、電極形成体80は溝70の長手方向に沿って切断されて個片化される。個片化する工程は、溝70の幅内にあるカットラインC3で切断する工程を含む。すなわち、溝70内には樹脂51が充填されているが、この樹脂51が積層体30に残存するように切断される。
(9) Third dicing step FIGS. 9A and 9B include a step of dividing the plurality of laminates 30 into individual pieces. That is, the electrode formed body 80 after the first electrode layer forming step is further cut into pieces. The step of singulating includes the step of cutting along the cut line C3 along the groove 70. That is, the electrode formation body 80 is cut into pieces along the longitudinal direction of the groove 70. The step of separating into pieces includes a step of cutting along a cut line C3 within the width of the groove 70. That is, although the groove 70 is filled with the resin 51, it is cut so that the resin 51 remains in the laminate 30.

第3のダイシング工程は、第1及び第2のダイシング工程と同様にダイヤモンドブレードなどのダイシングブレードが使用されるが、ダイシングには、第1のダイシング工程よりも幅寸法の小さいダイシングブレードが使用される。また第3のダイシング工程は、第1及び第2のダイシング工程と同様に、ダイシングリング500の上にダイシングテープ501を載せて配置して行われるが、ダイシングブレード505は樹脂51の上面からダイシングテープ501にまで達するようにして、複数の積層体30に切断される。 In the third dicing process, a dicing blade such as a diamond blade is used in the same way as in the first and second dicing processes, but a dicing blade with a width dimension smaller than that in the first dicing process is used for dicing. Ru. In addition, the third dicing process is performed by placing the dicing tape 501 on the dicing ring 500 in the same way as the first and second dicing processes, but the dicing blade 505 moves the dicing tape 501 from the top surface of the resin 51. 501, and is cut into a plurality of laminates 30.

(10)第2電極層形成工程
図10A及び図10B並びに図11A及び図11Bに示すように、第2電極層形成工程では、積層体30の端面33、34に少なくとも陰極又は陽極となる電極を形成する工程を含む。すなわち、積層体30の一方の端面33に陽極となる電極が形成され、積層体30の他方の端面34に陰極となる電極が形成される。このように形成される電極は、陰極となる電極及び陽極となる電極の両方が、積層体30の露出した端面33,34を接合した集電構造を含む。すなわち、積層体30の陽極側となる端面33では、第1電極層90が第1の外部電極部94及び第2の外部電極部96で電気的に接続されて集電構造が形成されている。また積層体30の陰極側となる端面34では、第1電極層91が第1の外部電極部95及び第2の外部電極部97で電気的に接続されて集電構造が形成されている。第1の外部電極部94,95及び第2の外部電極部96,97はそれぞれAg(銀)ペーストなどの導電性ペーストの硬化物で形成される。
(10) Second electrode layer forming step As shown in FIGS. 10A and 10B and FIGS. 11A and 11B, in the second electrode layer forming step, at least an electrode serving as a cathode or an anode is formed on the end surfaces 33 and 34 of the laminate 30. It includes a step of forming. That is, an electrode serving as an anode is formed on one end face 33 of the laminate 30, and an electrode serving as a cathode is formed on the other end face 34 of the laminate 30. The electrode formed in this manner includes a current collecting structure in which both the electrode serving as a cathode and the electrode serving as an anode are joined to the exposed end surfaces 33 and 34 of the laminate 30. That is, on the end surface 33 of the laminate 30 on the anode side, the first electrode layer 90 is electrically connected to the first external electrode section 94 and the second external electrode section 96 to form a current collecting structure. . In addition, on the end surface 34 of the laminate 30 on the cathode side, the first electrode layer 91 is electrically connected to the first external electrode section 95 and the second external electrode section 97 to form a current collecting structure. The first external electrode parts 94, 95 and the second external electrode parts 96, 97 are each formed of a cured conductive paste such as Ag (silver) paste.

上記ように、第1の外部電極部94,95及び第2の外部電極部96,97を形成した後、積層体30に表面電極層を形成する。表面電極層は、第2の外部電極部96,97の外面に形成される第1端子層98,99と、第1端子層98,99の外面に形成される第2端子層981,991とから構成されている。第1端子層98,99及び第2端子層981,991は、各々、導電性のある金属層で形成される。 After forming the first external electrode parts 94 and 95 and the second external electrode parts 96 and 97 as described above, a surface electrode layer is formed on the laminate 30. The surface electrode layer includes first terminal layers 98, 99 formed on the outer surfaces of the second external electrode parts 96, 97, and second terminal layers 981, 991 formed on the outer surfaces of the first terminal layers 98, 99. It consists of The first terminal layers 98, 99 and the second terminal layers 981, 991 are each formed of a conductive metal layer.

第1端子層98,99及び第2端子層981,991は、例えば、無電解めっき又は電解めっきなどのめっき法、蒸着法又はスパッタ法などの気相法及びコールドスプレー法などにより形成することができる。例えば、第1端子層98,99及び第2端子層981,991を電解めっき法で形成する場合、第1端子層98,99は、例えば、Ni(ニッケル)めっきなどで層状に形成される。また、第2端子層981,991は、例えば、Ni(ニッケル)めっきなどで層状に形成され、又は錫(Sn)めっきなどで層状に形成される。図11Aに示すように、電解めっき法は、例えば、複数の積層体30をバレル508内に入れ、このバレル508を容器506に貯めためっき浴507内で回転させながら通電するようにして行う。 The first terminal layers 98, 99 and the second terminal layers 981, 991 can be formed by, for example, a plating method such as electroless plating or electrolytic plating, a vapor phase method such as a vapor deposition method or a sputtering method, or a cold spray method. can. For example, when forming the first terminal layers 98, 99 and the second terminal layers 981, 991 by electrolytic plating, the first terminal layers 98, 99 are formed in a layered manner using, for example, Ni (nickel) plating. Further, the second terminal layers 981 and 991 are formed, for example, in a layered manner using Ni (nickel) plating or the like, or formed in a layered manner using tin (Sn) plating or the like. As shown in FIG. 11A, the electrolytic plating method is performed by, for example, placing a plurality of laminates 30 in a barrel 508 and rotating the barrel 508 in a plating bath 507 stored in a container 506 while applying electricity.

上記のようにして図11Bに示すような断面形状を有する固体電解コンデンサ1が形成される。 As described above, solid electrolytic capacitor 1 having a cross-sectional shape as shown in FIG. 11B is formed.

(変形例)
実施形態は、本開示の様々な実施形態の一つに過ぎない。実施形態は、本開示の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。
(Modified example)
The embodiment is only one of various embodiments of the present disclosure. The embodiments can be modified in various ways depending on the design, etc., as long as the objective of the present disclosure can be achieved.

上記実施形態では、コンデンサ素子10を3層に積層する場合について説明したが、コンデンサ素子10を積層する数は、特に制限はなく、製造する固体電解コンデンサの静電容量などの性能に応じて、適宜設定可能である。例えば、図12及び13に示すように、8層のコンデンサ素子10を積層した固体電解コンデンサであってもよい。 In the above embodiment, the case where the capacitor elements 10 are laminated in three layers has been described, but the number of laminated capacitor elements 10 is not particularly limited, and depends on the performance such as the capacitance of the solid electrolytic capacitor to be manufactured. It can be set as appropriate. For example, as shown in FIGS. 12 and 13, a solid electrolytic capacitor in which eight layers of capacitor elements 10 are stacked may be used.

上記実施形態では、素子集合体100において、複数のコンデンサ素子10がコンデンサ素子10の一面に沿いかつ互いに直交する第1の方向と第2の方向との両方に並ぶように二次元配置されて形成されているが、これに限られない。例えば、複数のコンデンサ素子10がコンデンサ素子10の一面に沿いかつ一方向に並ぶように配置されて素子集合体100が形成されていてもよい。この場合、隣合うコンデンサ素子10は、一方のコンデンサ素子10が有する陽極部13と、他方のコンデンサ素子10が有する陰極部14とがつながっている。また、一つの素子集合体100に一つのコンデンサ素子10が形成されていてもよい。 In the above embodiment, in the element assembly 100, a plurality of capacitor elements 10 are two-dimensionally arranged along one surface of the capacitor element 10 and lined up in both the first direction and the second direction that are orthogonal to each other. However, it is not limited to this. For example, the element assembly 100 may be formed by arranging a plurality of capacitor elements 10 so as to line up along one surface of the capacitor element 10 in one direction. In this case, in adjacent capacitor elements 10, the anode part 13 of one capacitor element 10 is connected to the cathode part 14 of the other capacitor element 10. Further, one capacitor element 10 may be formed in one element assembly 100.

図14に示す変形例では、この変形例では誘電体層を含むコンデンサ素子10を少なくとも1つ有する積層体30を備える。積層体30は平面視で隣接する2辺で構成される角部が欠けている構成を有する。すなわち、素子集合体100における第1の孔105がレジスト102の線状部112と線状部122の交点を含むように形成されている。また陰極集合体200における第3の孔205がレジスト202の線状部212と線状部222の交点を含むように形成されている。したがって、積層体30の第1の孔105及び第3の孔205に対応する位置、すなわち、積層体30の角部が欠けている形状となる。 The modification shown in FIG. 14 includes a laminate 30 having at least one capacitor element 10 including a dielectric layer. The laminate 30 has a structure in which a corner formed by two adjacent sides in a plan view is missing. That is, the first hole 105 in the element assembly 100 is formed to include the intersection of the linear portions 112 and 122 of the resist 102. Further, the third hole 205 in the cathode assembly 200 is formed to include the intersection of the linear portions 212 and 222 of the resist 202. Therefore, the position corresponding to the first hole 105 and the third hole 205 of the laminate 30, that is, the corner of the laminate 30 is missing.

図15A~図15D及び図16A~図16Cに、素子集合体100の変形例及び陰極集合体200の変形例を示す。これらの変形例では、厚み方向で重なった素子集合体100の孔104と陰極集合体200の孔204とは形状が異なるようになる。すなわち、これらの変形例では、孔104及び孔204の形状及び個数が図1Cの素子集合体100及び図2Cの陰極集合体200と異なっており、その他の構成は、実施形態と同様である。図15A~図15D及び図16A~図16Cには、素子集合体100及び陰極集合体200の一部分のみを示しており、各部分の中央に位置する一つのコンデンサ素子10と一つの陰極体20とが、互いに厚み方向で重なる。 15A to 15D and FIGS. 16A to 16C show modified examples of the element assembly 100 and modified examples of the cathode assembly 200. In these modified examples, the holes 104 of the element assembly 100 and the holes 204 of the cathode assembly 200, which overlap in the thickness direction, have different shapes. That is, in these modified examples, the shape and number of holes 104 and holes 204 are different from the element assembly 100 of FIG. 1C and the cathode assembly 200 of FIG. 2C, and the other configurations are the same as the embodiment. 15A to 15D and 16A to 16C show only a portion of the element assembly 100 and the cathode assembly 200, with one capacitor element 10 and one cathode body 20 located in the center of each portion. overlap each other in the thickness direction.

図15Aの変形例では、素子集合体100において、第1の方向Xで隣り合う孔104の間に、さらに、1個の孔114が形成されている。また陰極集合体200において、第1の方向Xで隣り合う孔204の間に、さらに、一つの孔214が形成されている。孔114及び孔214は、各々、平面視で円形に形成されている。 In the modification shown in FIG. 15A, one hole 114 is further formed between adjacent holes 104 in the first direction X in the element assembly 100. Further, in the cathode assembly 200, one hole 214 is further formed between the holes 204 adjacent in the first direction X. The hole 114 and the hole 214 are each formed in a circular shape in plan view.

図15Bの変形例では、図15Aと同様の孔114及び孔214が、各々、第1の方向Xに2個並んで形成されている。 In the modification shown in FIG. 15B, two holes 114 and two holes 214 similar to those shown in FIG. 15A are each formed side by side in the first direction X.

図15Cの変形例では、図15Aと同様の孔114及び孔214が、各々、第1の方向Xに3個並んで形成されている。 In the modified example of FIG. 15C, three holes 114 and three holes 214 similar to those in FIG. 15A are each formed in line in the first direction X.

図15Dの変形例では、図15Aと同様の孔114及び孔214が、各々、第2の方向Yにおいて2列に分かれ、各列において第1の方向Xに複数(3又は4個)ずつ並ぶように形成されている。この場合、第2の方向Yにおいて隣接して形成される固体電解コンデンサ1の陰極又は陽極の個数を異ならせることができる。 In the modified example of FIG. 15D, holes 114 and holes 214 similar to those in FIG. 15A are each divided into two rows in the second direction Y, and a plurality (3 or 4) of holes are lined up in the first direction X in each row. It is formed like this. In this case, the number of cathodes or anodes of the solid electrolytic capacitors 1 formed adjacent to each other in the second direction Y can be made different.

図16Aの変形例では、孔114及び孔214は、各々、平面視で第2の方向Yに延びる長孔に形成されている。また孔114及び孔214は、各々、第1の方向Xで隣り合う孔104及び孔204の間に、複数(4個)並んで形成されている。 In the modified example of FIG. 16A, the hole 114 and the hole 214 are each formed as a long hole extending in the second direction Y in plan view. Further, a plurality (four) of the holes 114 and the holes 214 are formed side by side between the holes 104 and the holes 204 that are adjacent to each other in the first direction X.

図16Bの変形例では、図15C、図15D及び図16Aの各々の孔114及び孔214の形態を混在させて形成している。 In the modification shown in FIG. 16B, the shapes of the holes 114 and holes 214 shown in FIGS. 15C, 15D, and 16A are formed in a mixed manner.

図16Cの変形例では、第1の孔105及び第3の孔205の形状が、平面視において、第1の方向Xに沿って延びる長方形に形成されている。また第2の孔106及び第4の孔206の形状が、平面視において、円形であり、交差部分Pの位置に形成されている。この変形例の素子集合体100と陰極集合体200を使用すると、図14に示す変形例の固体電解コンデンサ1が形成可能である。 In the modification shown in FIG. 16C, the first hole 105 and the third hole 205 are formed into rectangular shapes extending along the first direction X in plan view. Further, the shapes of the second hole 106 and the fourth hole 206 are circular in plan view, and are formed at the intersection P position. By using the element assembly 100 and the cathode assembly 200 of this modification, the solid electrolytic capacitor 1 of the modification shown in FIG. 14 can be formed.

図17A及び図17Bに第1のダイシング工程の変形例を示す。図5では、1個の溝70を形成する場合について説明したが、溝70よりも幅寸法(第1の方向Xの寸法)の小さい溝73を第1の方向Xに並べて2個形成してもよい。この場合、第1の方向Xで隣接する溝73の間には壁部74が形成される。また壁部74は切断により除去されてもよい。さらに、このような溝73は、2個に限らず、第1の方向Xに並べて3個以上形成されてもよい。 A modification of the first dicing process is shown in FIGS. 17A and 17B. In FIG. 5, a case has been described in which one groove 70 is formed, but two grooves 73 whose width dimension (dimension in the first direction X) is smaller than the groove 70 are formed side by side in the first direction X. Good too. In this case, a wall portion 74 is formed between adjacent grooves 73 in the first direction X. Alternatively, the wall portion 74 may be removed by cutting. Furthermore, the number of such grooves 73 is not limited to two, and three or more grooves may be formed in line in the first direction X.

2個の溝73を形成する場合、2個のダイシングブレード509で同時に、積層された複数の素子集合体100と複数の陰極集合体200とを切断することができる。また1個のダイシングブレード509で2回切断して、2個の溝73を1個ずつ形成してもよい。また1個のダイシングブレード509で2回切断する場合、1回目の切断位置と2回目の切断位置とを重ねる(オーバーラップ)させてもよい。この場合、図5Bのような、太い1個の溝70を形成することができる。ダイシングブレード509としては、第2のダイシング工程で使用するダイシングブレード502と同じサイズ(幅寸法)のダイシングを使用することができる。 When two grooves 73 are formed, two dicing blades 509 can simultaneously cut the stacked plurality of element assemblies 100 and plurality of cathode assemblies 200. Alternatively, two grooves 73 may be formed by cutting twice with one dicing blade 509. Further, when cutting twice with one dicing blade 509, the first cutting position and the second cutting position may be overlapped. In this case, one thick groove 70 as shown in FIG. 5B can be formed. As the dicing blade 509, a dicing having the same size (width dimension) as the dicing blade 502 used in the second dicing process can be used.

第2のダイシング工程において、電極形成体80を形成する前に、固体電解コンデンサ1の陰極及び陽極の少なくとも一方の位置、つまり固体電解コンデンサ1の向きを確認可能とするためのマーカーを付与するマーキングを、第2の樹脂封止工程後に行ってもよい。マーキングは、1個の電極形成体80毎に行ってもよいし、1個の積層体30(最終的に1個の固体電解コンデンサ1に形成される)毎に行ってもよい。マーカーは、印刷や刻印などの任意の方法で付与することができる。またマーキングは、記号、英数及び漢字並びにひらがななどの文字を採用することができる。 In the second dicing step, before forming the electrode formation body 80, marking is provided to provide a marker to enable confirmation of the position of at least one of the cathode and anode of the solid electrolytic capacitor 1, that is, the orientation of the solid electrolytic capacitor 1. may be performed after the second resin sealing step. Marking may be performed for each electrode formation body 80 or for each laminated body 30 (finally formed into one solid electrolytic capacitor 1). The marker can be applied by any method such as printing or engraving. Furthermore, the markings can be made of characters such as symbols, alphanumeric characters, kanji, and hiragana.

上記実施形態では、第2のダイシング工程(図7A及び図7B参照)、第1電極層形成工程(図8A参照)、第3のダイシング工程(図9A及び図9B参照)の順(第1の順)で行ったが、これに限られない。例えば、第2のダイシング工程、第3のダイシング工程、第1電極層形成工程の順(第2の順)で行ってもよい。第1の順の場合、複数の積層体30を備えた電極形成体80で第1電極層形成工程が行えるので、効率がよい。一方、第2の順の場合、第2のダイシング工程と第3のダイシング工程とで共通する工程(ダイシングテープ501の貼り付け、切断、剥がしの一連の工程)を削減することができる。 In the above embodiment, the order of the second dicing process (see FIGS. 7A and 7B), the first electrode layer forming process (see FIG. 8A), and the third dicing process (see FIGS. 9A and 9B) (see FIGS. 9A and 9B) (in this order), but it is not limited to this. For example, the second dicing step, the third dicing step, and the first electrode layer forming step may be performed in this order (second order). In the case of the first order, the first electrode layer forming step can be performed using the electrode forming body 80 including the plurality of laminates 30, which is efficient. On the other hand, in the case of the second order, the steps common to the second dicing step and the third dicing step (a series of steps of pasting, cutting, and peeling off the dicing tape 501) can be omitted.

上記実施形態では、第1電極層形成工程において、1層のめっき層を形成したが、複数のめっき層を形成してもよい。複数のめっき層の場合、各層のめっきの組成及び種類は同じであってもよいし、異なっていてもよい。また無電解めっきの代わりに、スパッタ法又はコールドスプレー法などで金属膜を形成してもよい。 In the embodiment described above, one plating layer is formed in the first electrode layer forming step, but a plurality of plating layers may be formed. In the case of multiple plating layers, the composition and type of plating in each layer may be the same or different. Further, instead of electroless plating, the metal film may be formed by a sputtering method, a cold spray method, or the like.

基板60はガラス布エポキシ樹脂含浸基材で形成されるものに限られず、電気絶縁性を有する樹脂製又はセラミック製等の基板60を使用することができる。また基板60は必須でなく省略してもよい。 The substrate 60 is not limited to one formed of a glass cloth epoxy resin-impregnated base material, and a substrate 60 made of electrically insulating resin, ceramic, or the like can be used. Further, the substrate 60 is not essential and may be omitted.

上記実施形態では、複数の積層体30が連なった状態(図3Aの状態)において、第2の方向Yで並ぶ複数の積層体30は、陽極と陰極とが交互に変わるように形成されているが、これに限られない。すなわち、第2の方向Yで並ぶ複数の積層体30は、陽極と陰極とが一定であってもよい。しかし、実施形態のように、陽極と陰極とが交互に変わる場合は、隣接する積層体30を切断して個片化することにより、陽極と陰極とが同時に形成することができるため、作りやすい。 In the embodiment described above, in a state in which a plurality of laminates 30 are connected (the state shown in FIG. 3A), the plurality of laminates 30 lined up in the second direction Y are formed so that the anodes and cathodes alternate. However, it is not limited to this. That is, the plurality of laminates 30 arranged in the second direction Y may have the same anode and cathode. However, when the anode and cathode alternate as in the embodiment, the anode and cathode can be formed at the same time by cutting adjacent laminates 30 into individual pieces, which is easy to manufacture. .

(まとめ)
以上説明したように、第1の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、素子集合体(100)を形成する工程と、積層体(30)を複数形成する工程と、個片化する工程と、を有する。素子集合体(100)を形成する工程は、誘電体層(12)を有する箔状のコンデンサ素子(10)をコンデンサ素子(10)の一面と平行な方向に複数つなげた状態の素子集合体(100)を形成する。積層体(30)を複数形成する工程は、複数の素子集合体(100)をコンデンサ素子(10)の厚み方向に積層することにより、厚み方向に積層された複数のコンデンサ素子(10)を含む積層体(30)を複数形成する。個片化する工程は、複数の積層体(30)を積層体(30)毎に個片化する。
(summary)
As explained above, the method for manufacturing the solid electrolytic capacitor (1) according to the first aspect includes the steps of forming an element assembly (100), forming a plurality of laminates (30), and singulating. and a step of doing so. The step of forming an element assembly (100) is to form an element assembly (100) in which a plurality of foil-shaped capacitor elements (10) having a dielectric layer (12) are connected in a direction parallel to one surface of the capacitor element (10). 100). The step of forming a plurality of laminates (30) includes a plurality of capacitor elements (10) stacked in the thickness direction by stacking a plurality of element assemblies (100) in the thickness direction of the capacitor element (10). A plurality of laminates (30) are formed. In the step of singulating, the plurality of laminates (30) are singulated into individual laminates (30).

この態様によれば、複数の積層体(30)をつなげた状態で取り扱うことができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that a plurality of laminates (30) can be handled in a connected state, and productivity can be improved.

第2の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第1の態様であって、各素子集合体(100)において、複数のコンデンサ素子(10)は、コンデンサ素子(10)の一面に沿いかつ互いに直交する第1の方向(X)と第2の方向(Y)との両方に並ぶように二次元配置されている。 A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a second aspect is the first aspect, in which in each element assembly (100), a plurality of capacitor elements (10) are arranged on one side of the capacitor element (10). They are two-dimensionally arranged so as to be lined up in both a first direction (X) and a second direction (Y) which are along and orthogonal to each other.

この態様によれば、二次元配置で複数の積層体(30)をつなげた状態で取り扱うことができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that a plurality of laminates (30) can be handled in a connected state in a two-dimensional arrangement, and productivity can be improved.

第3の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第1又は2の態様において、複数のコンデンサ素子(10)は、それぞれ陽極部(13)及び陰極部(14)を有する。素子集合体(100)において、素子集合体(100)の一面と平行な方向に隣り合うコンデンサ素子(10)の陽極部(13)及び陰極部(14)の位置が逆である。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to the third aspect, in the first or second aspect, each of the plurality of capacitor elements (10) has an anode part (13) and a cathode part (14). In the element assembly (100), the positions of the anode part (13) and the cathode part (14) of adjacent capacitor elements (10) in a direction parallel to one surface of the element assembly (100) are reversed.

この態様によれば、素子集合体(100)に複数のコンデンサ素子(10)を効率よく形成することができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that a plurality of capacitor elements (10) can be efficiently formed in the element assembly (100), and productivity can be improved.

第4の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第1~3のいずれか一つの態様において、素子集合体(100)は、レジスト(102)によって区画されている。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a fourth aspect, in any one of the first to third aspects, the element assembly (100) is divided by a resist (102).

この態様によれば、素子集合体(100)にレジスト(102)によって区画された複数のコンデンサ素子(10)を効率よく形成することができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that a plurality of capacitor elements (10) partitioned by the resist (102) can be efficiently formed in the element assembly (100), and productivity can be improved. .

第5の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第1~4のいずれか一つの態様において、厚み方向で隣り合うコンデンサ素子(10)の間に陰極となる陰極体(20)を形成する工程を更に有する。陰極体(20)は、陰極体(20)の一面と平行な方向に複数つなげた状態の陰極集合体(200)を形成している。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a fifth aspect, in any one of the first to fourth aspects, a cathode body (20) serving as a cathode is placed between adjacent capacitor elements (10) in the thickness direction. The method further includes the step of forming. A plurality of cathode bodies (20) are connected in a direction parallel to one surface of the cathode body (20) to form a cathode assembly (200).

この態様によれば、複数の陰極体(20)をつなげた状態の陰極集合体(200)で取り扱うことができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that a plurality of cathode bodies (20) can be handled as a cathode assembly (200) in a connected state, and productivity can be improved.

第6の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第5の態様において、陰極集合体(200)の表面上のレジスト(202)を形成する工程を更に有する。 The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to the sixth aspect further includes the step of forming a resist (202) on the surface of the cathode assembly (200).

この態様によれば、陰極集合体(200)にレジスト(202)によって区画された複数の陰極体(20)を効率よく形成することができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that a plurality of cathode bodies (20) partitioned by the resist (202) can be efficiently formed in the cathode assembly (200), and productivity can be improved. .

第7の態様に係る固体電解コンデンサの製造方法は、第6の態様において、陰極集合体(200)は、レジスト(202)によって区画されている。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to a seventh aspect, in the sixth aspect, the cathode assembly (200) is partitioned by a resist (202).

この態様によれば、陰極集合体(200)にレジスト(202)によって区画された複数の陰極体(20)を効率よく形成することができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that a plurality of cathode bodies (20) partitioned by the resist (202) can be efficiently formed in the cathode assembly (200), and productivity can be improved. .

第8の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第1~7のいずれか一つの態様において、複数の素子集合体(100)が基板(60)上で積層され、基板(60)の厚みのうちの一部を残して素子集合体(100)を切断し、溝(70)を形成する工程を更に有する。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to an eighth aspect, in any one of the first to seventh aspects, a plurality of element assemblies (100) are stacked on a substrate (60); The method further includes the step of cutting the element assembly (100) leaving a portion of the thickness of the groove (70).

この態様によれば、溝(70)で積層体(30)に切断しても基板(60)で切断された複数の積層体(30)をつなげた状態で取り扱うことができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, even if the laminates (30) are cut by the grooves (70), the plurality of laminates (30) cut by the substrate (60) can be handled in a connected state, improving productivity. The advantage is that it can be done.

第9の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第1~8のいずれか一つの態様において、積層された複数の素子集合体(100)を樹脂(50)、(51)でモールドする工程を更に有する。 A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a ninth aspect is a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to any one of the first to eighth aspects, in which a plurality of stacked element assemblies (100) are coated with resins (50) and (51). The method further includes a step of molding.

この態様によれば、複数の素子集合体(100)が備える複数の積層体(30)を樹脂(50、51)でモールドすることができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that the plurality of laminates (30) included in the plurality of element assemblies (100) can be molded with the resin (50, 51), and productivity can be improved. .

第10の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第9の態様において、モールドする工程は、溝(70)を形成する工程の前と後とに少なくとも2回に分けて行う。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a tenth aspect, in the ninth aspect, the molding step is performed at least twice, before and after the step of forming the groove (70).

この態様によれば、溝(70)を形成する工程の前の樹脂(50)のモールド工程で、積層体(30)を補強することができ、溝(70)を形成する工程で積層体(30)の破損が少なくなり、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, the laminate (30) can be reinforced in the step of molding the resin (50) before the step of forming the grooves (70), and the laminate (30) can be reinforced in the step of forming the grooves (70). 30) is advantageous in that damage can be reduced and productivity can be improved.

第11の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第10の態様において、溝(70)を形成する工程の後にモールドする工程でモールドする樹脂(51)は、溝(70)の内側に充填される。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to an eleventh aspect, in the tenth aspect, the resin (51) to be molded in the molding step after the step of forming the grooves (70) is Filled inside.

この態様によれば、溝(70)により露出する積層体(30)の表面を樹脂(51)で覆うことができ、積層体(30)を封止することができる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that the surface of the laminate (30) exposed by the groove (70) can be covered with the resin (51), and the laminate (30) can be sealed.

第12の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第8~11のいずれか一つの態様において、個片化する工程は、溝(70)に沿ったカットライン(C2)で切断する工程を含む。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a twelfth aspect, in any one of the eighth to eleventh aspects, the step of dividing into pieces includes cutting at a cut line (C2) along the groove (70). including the step of

この態様によれば、溝(70)に沿ったカットライン(C2)で切断することができ、積層体(30)毎に切断しやすくなる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that cutting can be performed along the cut line (C2) along the groove (70), making it easier to cut each laminate (30).

第13の態様に係る固体電解コンデンサの製造方法は、第8~12のいずれか一つの態様において、個片化する工程は、溝(70)の幅内にあるカットライン(C2)で切断する工程を含む。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to a thirteenth aspect, in any one of the eighth to twelfth aspects, the step of dividing into pieces includes cutting at a cut line (C2) within the width of the groove (70). Including process.

この態様によれば、積層体(30)の表面を樹脂(51)で覆った状態で積層体ごとに個片化することができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that each laminate can be separated into individual pieces with the surface of the laminate (30) covered with the resin (51), and productivity can be improved.

第14の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第5~7のいずれか一つの態様において、素子集合体(100)及び陰極集合体(200)は、それぞれ、樹脂(50)が充填される孔(104、204)を有する。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a fourteenth aspect, in any one of the fifth to seventh aspects, the element assembly (100) and the cathode assembly (200) are each made of a resin (50). It has holes (104, 204) filled with.

この態様によれば、樹脂(50)で素子集合体(100)の孔(104)及び陰極集合体(200)の孔(204)の両方を充填することができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, both the holes (104) of the element assembly (100) and the holes (204) of the cathode assembly (200) can be filled with the resin (50), and productivity can be improved. The advantage is that it can be done.

第15の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第14の態様において、素子集合体(100)の孔(104)及び陰極集合体(200)の孔(204)の少なくとも一方の開口縁部にはレジスト(102,202)が形成されている。 A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a fifteenth aspect is a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a fourteenth aspect, in which at least one of the holes (104) of the element assembly (100) and the holes (204) of the cathode assembly (200) is provided. A resist (102, 202) is formed at the edge of the opening.

この態様によれば、素子集合体(100)の孔(104)及び陰極集合体(200)の孔(204)のそれぞれの開口縁部をレジスト(102,202)で形成することができ、電気絶縁性を向上させることができる、という利点がある。 According to this aspect, the opening edges of each of the hole (104) of the element assembly (100) and the hole (204) of the cathode assembly (200) can be formed with the resist (102, 202), and the It has the advantage that insulation can be improved.

第16の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第14又は15の態様において、素子集合体(100)の孔(104)と陰極集合体(200)の孔(204)とは、少なくとも一部が厚み方向で重なるように配置される。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a sixteenth aspect, in the fourteenth or fifteenth aspect, the hole (104) of the element assembly (100) and the hole (204) of the cathode assembly (200) are , are arranged so that at least a portion thereof overlaps in the thickness direction.

この態様によれば、素子集合体(100)の孔(104)と陰極集合体(200)の孔(204)とに樹脂(50)が充填しやすくなって、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, the resin (50) can be easily filled into the holes (104) of the element assembly (100) and the holes (204) of the cathode assembly (200), and productivity can be improved. , there is an advantage.

第17の態様に係る固体電解コンデンサの製造方法は、第16の態様において、厚み方向で重なった素子集合体(100)の孔(104)と陰極集合体(200)の孔(204)とは形状が異なる。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to a seventeenth aspect, in the sixteenth aspect, the hole (104) of the element assembly (100) and the hole (204) of the cathode assembly (200) overlap in the thickness direction. Different shapes.

この態様によれば、コンデンサ素子(10)と陰極体(20)との電気絶縁性が、孔(104)と孔(204)との形状の差で得やすくなり、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, electrical insulation between the capacitor element (10) and the cathode body (20) can be easily obtained due to the difference in shape between the holes (104) and the holes (204), and productivity can be improved. The advantage is that it can be done.

第18の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第14~17のいずれか一つの態様において、個片化する工程は、素子集合体(100)の孔(104)及び陰極集合体(200)の孔(204)の位置で、素子集合体(100)及び陰極集合体(200)を切断する工程を含む。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to an eighteenth aspect, in any one of the fourteenth to seventeenth aspects, the step of dividing into pieces includes the step of separating the holes (104) of the element assembly (100) and the cathode assembly. The method includes cutting the element assembly (100) and the cathode assembly (200) at the position of the hole (204) in the body (200).

この態様によれば、コンデンサ素子(10)と陰極体(20)との電気絶縁性が、孔(104)と孔(204)との切断で得やすくなり、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, electrical insulation between the capacitor element (10) and the cathode body (20) can be easily obtained by cutting the holes (104) and (204), and productivity can be improved. There is an advantage.

第19の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、積層体(30)を形成する工程と、端面(33,34)を露出させる工程と、電極(90~99,981,991)を形成する工程と、を有する。積層体(30)を形成する工程は、誘電体層(12)を含むコンデンサ素子(10)を複数対向させて積層した積層体(30)を形成する。端面(33,34)を露出させる工程は、積層体(30)の少なくとも一の端面(33,34)を露出させる。電極(90~99,981,991)を形成する工程は、端面(33,34)に少なくとも陰極又は陽極となる電極(90~99,981,991)を形成する。 A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a nineteenth aspect includes a step of forming a laminate (30), a step of exposing end surfaces (33, 34), and electrodes (90 to 99,981,991). A step of forming. In the step of forming the laminate (30), a laminate (30) is formed by stacking a plurality of capacitor elements (10) including dielectric layers (12) in a facing manner. The step of exposing the end surfaces (33, 34) exposes at least one end surface (33, 34) of the laminate (30). In the step of forming the electrodes (90 to 99,981,991), the electrodes (90 to 99,981,991), which serve as at least a cathode or an anode, are formed on the end faces (33, 34).

この態様によれば、コンデンサ素子(10)を複数対向させて積層した積層体(30)に端面(33,34)を露出させる工程と、電極(90~99,981,991)を形成する工程とを行うことができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, the step of exposing the end surfaces (33, 34) of the laminate (30) in which a plurality of capacitor elements (10) are stacked facing each other, and the step of forming the electrodes (90 to 99,981,991). This has the advantage that productivity can be improved.

第20の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第19の態様において、積層体(30)は平面視で隣接する二つの端面(33,34)を露出させ、一方の端面(33)に陽極となる電極(90、94、96,98,981)が形成され、他方の端面(34)に陰極となる電極(91、95、97,99,991)が形成される。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to the 20th aspect, in the 19th aspect, the laminate (30) exposes two end surfaces (33, 34) adjacent to each other in plan view, and one end surface ( 33) are formed with electrodes (90, 94, 96, 98, 981) serving as anodes, and electrodes (91, 95, 97, 99, 991) serving as cathodes are formed on the other end surface (34).

この態様によれば、陽極となる電極(90、94、96,98,981)と陰極となる電極(91、95、97,99,991)を効率よく形成することができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, the electrodes (90, 94, 96, 98, 981) that will serve as anodes and the electrodes (91, 95, 97, 99, 991) that will serve as cathodes can be efficiently formed, improving productivity. The advantage is that it can be done.

第21の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第19又は20の態様において、陰極となる電極(91、95、97,99,991)及び陽極となる電極(90、94、96,98,981)の両方が、積層体(30)の露出した端面(33,34)を接合した集電構造を含む。 A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a twenty-first aspect includes an electrode (91, 95, 97, 99, 991) serving as a cathode and an electrode (90, 94, 96, 98, 981) both include current collecting structures joined to the exposed end faces (33, 34) of the laminate (30).

この態様によれば、集電構造により、陰極となる電極(91、95、97,99,991)及び陽極となる電極(90、94、96,98,981)を効率よく形成することができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, the current collecting structure allows the electrodes (91, 95, 97, 99, 991) to become cathodes and the electrodes (90, 94, 96, 98, 981) to become anodes to be efficiently formed. This has the advantage that productivity can be improved.

第22の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第19~21のいずれか一つの態様において、対向するコンデンサ素子(10)の間に陰極となる陰極体(20)を有する。 A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a twenty-second aspect, in any one of the nineteenth to twenty-first aspects, includes a cathode body (20) serving as a cathode between opposing capacitor elements (10).

この態様によれば、陰極体(20)から陰極を容易に形成することができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that a cathode can be easily formed from the cathode body (20), and productivity can be improved.

第23の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第22の態様において、陰極体(20)は、表面にカーボン層(203)又はチタン層を有する平板状の金属箔である。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a twenty-third aspect, in the twenty-second aspect, the cathode body (20) is a flat metal foil having a carbon layer (203) or a titanium layer on the surface.

この態様によれば、カーボン層(203)又はチタン層で陰極の導電性を向上させることができ、固体電解コンデンサ(1)のESRを低減することができる、という利点がある。 According to this embodiment, there is an advantage that the conductivity of the cathode can be improved by the carbon layer (203) or the titanium layer, and the ESR of the solid electrolytic capacitor (1) can be reduced.

第24の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第22又は23の態様において、コンデンサ素子(10)の陰極部(14)と、陰極体(20)とは、カーボンペーストを介して接続される。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a twenty-fourth aspect, in the twenty-second or twenty-third aspect, the cathode part (14) of the capacitor element (10) and the cathode body (20) are bonded to each other through carbon paste. connected.

この態様によれば、カーボンペーストにより陰極部(14)と陰極体(20)とを接着することができ、生産性を向上し、固体電解コンデンサ(1)のESRを低減することができる、という利点がある。 According to this aspect, the cathode part (14) and the cathode body (20) can be bonded together using carbon paste, improving productivity and reducing ESR of the solid electrolytic capacitor (1). There are advantages.

第25の態様に係る固体電解コンデンサの製造方法は、第19~24のいずれか一つの態様において、積層体(30)を樹脂(50)でモールドする工程を更に有する。 The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to the twenty-fifth aspect, in any one of the nineteenth to twenty-fourth aspects, further includes a step of molding the laminate (30) with a resin (50).

この態様によれば、積層体(30)を樹脂(50)でモールドすることができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that the laminate (30) can be molded with the resin (50), and productivity can be improved.

第26の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第25の態様において、積層体(30)は樹脂(50)が充填される孔(104、204)を有する。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a twenty-sixth aspect, in the twenty-fifth aspect, the laminate (30) has holes (104, 204) filled with the resin (50).

この態様によれば、樹脂(50)で積層体(30)の孔(104,204)の両方を充填することができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that both the holes (104, 204) of the laminate (30) can be filled with the resin (50), and productivity can be improved.

第27の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第26の態様において、孔(104,204)の縁から離れた位置で積層体(30)を切削する工程を更に有する。 The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to the twenty-seventh aspect, in the twenty-sixth aspect, further includes the step of cutting the laminate (30) at a position away from the edge of the hole (104, 204).

この態様によれば、電極となる層(90~99,981,991)を形成する工程を容易に行うことができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that the step of forming the layers (90 to 99, 981, 991) to become electrodes can be easily performed, and productivity can be improved.

第28の態様に係る固体電解コンデンサ(1)の製造方法は、第19~27のいずれか一つの態様において、端面に少なくとも陰極又は陽極となる電極を形成する工程は、複数の積層体(30)がつながった状態の電極形成体(80)を形成する第1電極形成工程と、電極形成体(80)を複数まとめてめっきする第2めっき工程と、を含む。 In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor (1) according to a twenty-eighth aspect, in any one of the nineteenth to twenty-seventh aspects, the step of forming at least an electrode serving as a cathode or an anode on the end face includes a plurality of laminates (30 ) includes a first electrode forming process of forming an electrode forming body (80) in a state where the electrode forming bodies (80) are connected, and a second plating process of plating a plurality of electrode forming bodies (80) at once.

この態様によれば、複数の電極形成体(80)をまとめてめっきすることができ、生産性を向上することができる、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that a plurality of electrode formation bodies (80) can be plated at once, and productivity can be improved.

第29の態様に係る固体電解コンデンサ(1)は、誘電体層(12)を含むコンデンサ素子(10)を少なくとも1つ有する積層体(30)を備える。積層体(30)は平面視で隣接する2辺で構成される角部が欠けている構成を有する。 A solid electrolytic capacitor (1) according to a twenty-ninth aspect includes a laminate (30) having at least one capacitor element (10) including a dielectric layer (12). The laminate (30) has a structure in which a corner formed by two adjacent sides in a plan view is missing.

この態様によれば、積層体(30)を形成する工程を容易に行うことができ、生産性を向上することができる、という利点がある。また、積層体(30)の角部が欠けていることで、積層体(30)を被覆する外装樹脂からの応力が緩和されて固体電解コンデンサ(1)の信頼性が向上する、という利点がある。 According to this aspect, there is an advantage that the step of forming the laminate (30) can be easily performed and productivity can be improved. Additionally, the lack of corners of the laminate (30) has the advantage that stress from the exterior resin covering the laminate (30) is alleviated, improving the reliability of the solid electrolytic capacitor (1). be.

1 固体電解コンデンサ
10 コンデンサ素子
12 誘電体層
20 陰極体
30 積層体
50 樹脂
51 樹脂
60 基板
70 溝
100 素子集合体
104 孔
200 陰極集合体
204 孔
X 第1の方向
Y 第2の方向
C2 カットライン
1 Solid electrolytic capacitor 10 Capacitor element 12 Dielectric layer 20 Cathode body 30 Laminated body 50 Resin 51 Resin 60 Substrate 70 Groove 100 Element assembly 104 Hole 200 Cathode assembly 204 Hole X First direction Y Second direction C2 Cut line

Claims (15)

誘電体層を有する箔状のコンデンサ素子を前記コンデンサ素子の一面と平行な方向に複数つなげた状態の素子集合体を形成する工程と、
複数の前記素子集合体を前記コンデンサ素子の厚み方向に積層することにより、前記厚み方向に積層された複数の前記コンデンサ素子を含む積層体を複数形成する工程と、
前記複数の積層体を積層体毎に個片化する工程と、を有し、
前記厚み方向で隣り合う前記コンデンサ素子の間に陰極となる陰極体を形成する工程を更に有し、
前記陰極体は、前記陰極体の一面と平行な方向に複数つなげた状態の陰極集合体を形成し、
前記陰極集合体の表面上のレジストを形成する工程を更に有し、
前記陰極集合体は、前記レジストによって区画されている、
固体電解コンデンサの製造方法。
forming an element assembly in which a plurality of foil-shaped capacitor elements having a dielectric layer are connected in a direction parallel to one surface of the capacitor element;
forming a plurality of laminates including a plurality of capacitor elements stacked in the thickness direction by stacking a plurality of the element aggregates in the thickness direction of the capacitor element;
A step of dividing the plurality of laminates into individual pieces for each laminate ,
further comprising a step of forming a cathode body serving as a cathode between the capacitor elements adjacent in the thickness direction,
The cathode body forms a cathode assembly in which a plurality of cathode bodies are connected in a direction parallel to one surface of the cathode body,
further comprising the step of forming a resist on the surface of the cathode assembly,
the cathode assembly is partitioned by the resist;
Method of manufacturing solid electrolytic capacitors.
前記各素子集合体において、前記複数のコンデンサ素子は、前記コンデンサ素子の一面に沿いかつ互いに直交する第1の方向と第2の方向との両方に並ぶように二次元配置されている、
請求項1に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
In each of the element aggregates, the plurality of capacitor elements are two-dimensionally arranged along one surface of the capacitor element so as to be lined up in both a first direction and a second direction that are perpendicular to each other.
A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 1.
前記複数のコンデンサ素子は、それぞれ陽極部及び陰極部を有し、
前記素子集合体において、前記素子集合体の一面と平行な方向に隣り合う前記コンデンサ素子の陽極部及び陰極部の位置が逆である、
請求項1又は2に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
Each of the plurality of capacitor elements has an anode part and a cathode part,
In the element assembly, the positions of the anode portion and the cathode portion of adjacent capacitor elements in a direction parallel to one surface of the element assembly are reversed;
A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 1 or 2.
前記素子集合体は、レジストによって区画されている、
請求項1~3のいずれか1項に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
the element assembly is partitioned by a resist,
A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to any one of claims 1 to 3.
前記複数の素子集合体が基板上で積層され、前記基板の厚みのうちの一部を残して前記素子集合体を切断し、溝を形成する工程を更に有する、
請求項1~4のいずれか1項に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
The method further includes the step of stacking the plurality of element assemblies on a substrate, and cutting the element assemblies leaving a part of the thickness of the substrate to form a groove.
A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to any one of claims 1 to 4.
積層された前記複数の素子集合体を樹脂でモールドする工程を更に有する、
請求項1~5のいずれか1項に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
further comprising the step of molding the plurality of stacked element assemblies with resin;
A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to any one of claims 1 to 5.
積層された前記複数の素子集合体を樹脂でモールドする工程を更に有し、
前記モールドする工程は、前記溝を形成する工程の前と後とに少なくとも2回行う、
請求項5に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
further comprising the step of molding the plurality of stacked element assemblies with resin,
The molding step is performed at least twice before and after the groove forming step.
The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 5 .
前記溝を形成する工程の後に前記モールドする工程でモールドする樹脂は、前記溝に充填される、
請求項7に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
After the step of forming the groove, the resin to be molded in the molding step is filled into the groove.
The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 7 .
前記個片化する工程は、前記溝に沿って切断する工程を含む、
請求項5に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
The step of dividing into pieces includes the step of cutting along the grooves,
The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 5 .
前記個片化する工程は、前記溝の幅内にあるカットラインで切断する工程を含む、
請求項5に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
The step of dividing into pieces includes the step of cutting along a cut line within the width of the groove.
The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 5 .
積層された前記複数の素子集合体を樹脂でモールドする工程を更に有し、
前記素子集合体及び前記陰極集合体は、それぞれ、前記樹脂が充填される孔を有する、
請求項1に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
further comprising the step of molding the plurality of stacked element assemblies with resin,
The element assembly and the cathode assembly each have a hole filled with the resin,
A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 1 .
前記素子集合体の前記孔及び前記陰極集合体の前記孔の少なくとも一方の開口縁部にはレジストが形成されている、
請求項11に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
a resist is formed on an opening edge of at least one of the hole of the element assembly and the hole of the cathode assembly;
The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 11 .
前記素子集合体の前記孔と前記陰極集合体の前記孔とは、少なくとも一部が前記厚み方向で重なるように配置される、
請求項11又は12に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
The hole of the element assembly and the hole of the cathode assembly are arranged so that at least a portion thereof overlaps in the thickness direction,
The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 11 or 12 .
前記厚み方向で重なった前記素子集合体の前記孔と前記陰極集合体の前記孔とは形状が異なる、
請求項13に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
The pores of the element assembly and the pores of the cathode assembly, which overlap in the thickness direction, have different shapes;
The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 13 .
前記個片化する工程は、前記素子集合体の前記孔及び前記陰極集合体の前記孔の位置で、前記素子集合体及び前記陰極集合体を切断する工程を含む、
請求項11~14のいずれか1項に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
The step of separating into pieces includes the step of cutting the element assembly and the cathode assembly at the positions of the holes of the element assembly and the holes of the cathode assembly.
The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to any one of claims 11 to 14 .
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