JP7190649B2 - Resin composition, prepreg, resin-coated film, resin-coated metal foil, metal-clad laminate, and wiring board - Google Patents

Resin composition, prepreg, resin-coated film, resin-coated metal foil, metal-clad laminate, and wiring board Download PDF

Info

Publication number
JP7190649B2
JP7190649B2 JP2019045681A JP2019045681A JP7190649B2 JP 7190649 B2 JP7190649 B2 JP 7190649B2 JP 2019045681 A JP2019045681 A JP 2019045681A JP 2019045681 A JP2019045681 A JP 2019045681A JP 7190649 B2 JP7190649 B2 JP 7190649B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
resin
formula
structural unit
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019045681A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2019194307A (en
Inventor
征士 幸田
弘明 藤原
高好 小関
佑季 北井
泰範 星野
幹男 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Original Assignee
Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd filed Critical Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Publication of JP2019194307A publication Critical patent/JP2019194307A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7190649B2 publication Critical patent/JP7190649B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、樹脂組成物、プリプレグ、樹脂付きフィルム、樹脂付き金属箔、金属張積層板、及び配線板に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a resin composition, a prepreg, a resin-coated film, a resin-coated metal foil, a metal-clad laminate, and a wiring board.

各種電子機器は、情報処理量の増大に伴い、搭載される半導体デバイスの高集積化、配線の高密度化、及び多層化等の実装技術が進展している。また、各種電子機器に用いられる配線板としては、例えば、車載用途におけるミリ波レーダ基板等の、高周波対応の配線板であることが求められる。各種電子機器において用いられる配線板には、信号の伝送速度を高めるために、信号伝送時の損失を低減させることが求められ、高周波対応の配線板には、特にそれが求められる。この要求を満たすためには、各種電子機器において用いられる配線板の基材を構成するための基材材料には、誘電率及び誘電正接が低いことが求められる。 With the increase in the amount of information processed in various electronic devices, mounting techniques such as higher integration of semiconductor devices to be mounted, higher wiring density, and multilayering are progressing. Moreover, wiring boards used in various electronic devices are required to be high-frequency compatible wiring boards, such as millimeter-wave radar boards for in-vehicle applications. Wiring boards used in various electronic devices are required to reduce loss during signal transmission in order to increase the signal transmission speed, and high-frequency compatible wiring boards are particularly required to do so. In order to satisfy this demand, substrate materials for forming substrates of wiring boards used in various electronic devices are required to have a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent.

一方、基材材料等の成形材料には、低誘電特性に優れるだけではなく、耐熱性等に優れていることも求められている。このことから、基板材料に含有される樹脂として、硬化剤等とともに重合できる樹脂、例えば、ビニル基等を有する樹脂を用いて、耐熱性を高めることが考えられる。 On the other hand, molding materials such as base materials are required to have not only excellent low dielectric properties but also excellent heat resistance and the like. For this reason, it is conceivable to increase the heat resistance by using a resin that can be polymerized together with a curing agent or the like, for example, a resin having a vinyl group or the like, as the resin contained in the substrate material.

このような基材材料としては、例えば、特許文献1に記載の樹脂組成物等が挙げられる。特許文献1には、分子内にポリフェニレンエーテル骨格を有するビニル化合物と、所定の構造を有するビスマレイミド化合物とを含有する硬化性樹脂組成物が記載されている。 Examples of such a base material include the resin composition described in Patent Document 1, and the like. Patent Document 1 describes a curable resin composition containing a vinyl compound having a polyphenylene ether skeleton in the molecule and a bismaleimide compound having a predetermined structure.

特開2009-161725号公報JP 2009-161725 A

特許文献1によれば、低誘電率、低誘電正接で、耐熱性、機械特性、耐薬品性、難燃性に優れた硬化物を与え、酸素存在下でも硬化性に優れ、また低温で硬化できる硬化性樹脂組成物を得ることができる旨が開示されている。特許文献1に記載されているような、誘電率及び誘電正接等の誘電特性が低い樹脂組成物を用いて得られた配線板の基材は、誘電特性が低く、この基材を備える配線板は、信号伝送時の損失を低減させることができると考えられる。その一方で、配線板における信号の伝送速度をより高め、さらに、製品安定性等の観点から、耐熱性により高いことが求められる。なお、前記耐熱性としては、樹脂組成物を用いて得られた配線板の基材の、オーブン耐熱性等の耐熱性だけではなく、吸湿半田耐熱性も、前記配線板を加熱することによっても、前記配線板の基材の誘電特性が変化しにくいという耐熱性も含む。このため、基材材料として用いられる材料としては、誘電特性がより低く、耐熱性がより高いことが求められる。 According to Patent Document 1, it provides a cured product with a low dielectric constant, a low dielectric loss tangent, excellent heat resistance, mechanical properties, chemical resistance, and flame retardancy, and has excellent curability even in the presence of oxygen, and cures at a low temperature. It is disclosed that a curable resin composition that can be obtained can be obtained. A substrate of a wiring board obtained using a resin composition having low dielectric properties such as dielectric constant and dielectric loss tangent as described in Patent Document 1 has low dielectric properties, and a wiring board comprising this base material can reduce loss during signal transmission. On the other hand, it is required to further increase the signal transmission speed in the wiring board, and to further increase the heat resistance from the viewpoint of product stability and the like. The heat resistance is not limited to heat resistance such as oven heat resistance of the base material of the wiring board obtained using the resin composition. Also includes heat resistance such that the dielectric properties of the base material of the wiring board do not easily change. Therefore, the material used as the base material is required to have lower dielectric properties and higher heat resistance.

本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が得られる樹脂組成物を提供することを目的とする。また、本発明は、前記樹脂組成物を用いて得られる、プリプレグ、樹脂付きフィルム、樹脂付き金属箔、金属張積層板、及び配線板を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a resin composition from which a cured product having low dielectric properties and high heat resistance can be obtained. Another object of the present invention is to provide a prepreg, a resin-coated film, a resin-coated metal foil, a metal-clad laminate, and a wiring board obtained using the resin composition.

本発明者は、種々検討した結果、上記目的は、以下の本発明により達成されることを見出した。 As a result of various studies, the inventors of the present invention have found that the above object can be achieved by the present invention described below.

本発明の一態様に係る樹脂組成物は、分子中に下記式(1)で表される構造単位を有する重合体と、分子中にマレイミド基を1つ有する単官能マレイミド化合物とを含むことを特徴とする樹脂組成物である。 A resin composition according to one aspect of the present invention comprises a polymer having a structural unit represented by the following formula (1) in its molecule, and a monofunctional maleimide compound having one maleimide group in its molecule. A resin composition characterized by:

Figure 0007190649000001
Figure 0007190649000001

式(1)中、Zは、アリーレン基を示し、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を示し、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示す。 In formula (1), Z represents an arylene group, R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 4 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or carbon It represents an alkyl group of numbers 1-6.

また、前記樹脂組成物において、前記式(1)で表される構造単位が、下記式(2)で表される構造単位を含むことが好ましい。 Moreover, in the resin composition, it is preferable that the structural unit represented by the formula (1) includes a structural unit represented by the following formula (2).

Figure 0007190649000002
Figure 0007190649000002

式(2)中、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示し、Rは、炭素数6~12のアリーレン基を示す。 In formula (2), R 4 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 7 represents an arylene group having 6 to 12 carbon atoms.

また、前記樹脂組成物において、前記式(2)で表される構造単位が、下記式(3)で表される構造単位を含むことが好ましい。 Moreover, in the resin composition, it is preferable that the structural unit represented by the formula (2) includes a structural unit represented by the following formula (3).

Figure 0007190649000003
Figure 0007190649000003

式(3)中、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示す。 In formula (3), R 4 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

また、前記樹脂組成物において、前記重合体が、下記式(4)で表される構造単位を分子中にさらに有する重合体を含むことが好ましい。 Moreover, in the resin composition, it is preferable that the polymer further includes a polymer having a structural unit represented by the following formula (4) in the molecule.

Figure 0007190649000004
Figure 0007190649000004

式(4)中、R~R10は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示し、R11は、アリール基を示す。 In formula (4), R 8 to R 10 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 11 represents an aryl group.

また、前記樹脂組成物において、前記式(4)で表される構造単位におけるアリール基が、炭素数1~6のアルキル基を有するアリール基を含むことが好ましい。 Further, in the resin composition, the aryl group in the structural unit represented by formula (4) preferably contains an aryl group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

また、前記樹脂組成物において、前記重合体の重量平均分子量が、1500~40000であることが好ましい。 Moreover, in the resin composition, the weight average molecular weight of the polymer is preferably 1,500 to 40,000.

また、前記樹脂組成物において、前記重合体の、前記式(1)で表され、R~Rが水素原子である構造単位に含まれるビニル基の当量が、250~1200であることが好ましい。 Further, in the resin composition, the equivalent weight of the vinyl group contained in the structural unit represented by the formula (1) in which R 1 to R 3 are hydrogen atoms of the polymer is 250 to 1200. preferable.

また、前記樹脂組成物において、前記単官能マレイミド化合物が、下記式(5)で表される化合物又は下記式(6)で表される化合物を含むことが好ましい。 Moreover, in the resin composition, the monofunctional maleimide compound preferably contains a compound represented by the following formula (5) or a compound represented by the following formula (6).

Figure 0007190649000005
Figure 0007190649000005

Figure 0007190649000006
Figure 0007190649000006

また、前記樹脂組成物において、前記重合体と前記単官能マレイミド化合物との含有比が、質量比で、50:50~90:10であることが好ましい。 Further, in the resin composition, the content ratio of the polymer to the monofunctional maleimide compound is preferably 50:50 to 90:10 in mass ratio.

また、本発明の他の一態様に係るプリプレグは、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物と、繊維質基材とを備える。 A prepreg according to another aspect of the present invention includes the resin composition or a semi-cured material of the resin composition, and a fibrous base material.

また、本発明の他の一態様に係る樹脂付きフィルムは、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含む樹脂層と、支持フィルムとを備える。 A resin-coated film according to another aspect of the present invention includes a resin layer containing the resin composition or a semi-cured product of the resin composition, and a support film.

また、本発明の他の一態様に係る樹脂付き金属箔は、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含む樹脂層と、金属箔とを備える。 A resin-coated metal foil according to another aspect of the present invention includes a resin layer containing the resin composition or a semi-cured material of the resin composition, and a metal foil.

また、本発明の他の一態様に係る金属張積層板は、前記樹脂組成物の硬化物又は前記プリプレグの硬化物を含む絶縁層と、金属箔とを備える。 A metal-clad laminate according to another aspect of the present invention includes an insulating layer containing a cured product of the resin composition or a cured product of the prepreg, and a metal foil.

また、本発明の他の一態様に係る配線板は、前記樹脂組成物の硬化物又は前記プリプレグの硬化物を含む絶縁層と、配線とを備える。 A wiring board according to another aspect of the present invention includes an insulating layer containing a cured product of the resin composition or a cured product of the prepreg, and wiring.

本発明によれば、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が得られる樹脂組成物を提供することができる。また、本発明によれば、前記樹脂組成物を用いて得られる、プリプレグ、樹脂付きフィルム、樹脂付き金属箔、金属張積層板、及び配線板を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, a resin composition from which a hardened|cured material with low dielectric properties and high heat resistance is obtained can be provided. Moreover, according to the present invention, it is possible to provide a prepreg, a resin-coated film, a resin-coated metal foil, a metal-clad laminate, and a wiring board obtained using the resin composition.

図1は、本発明の実施形態に係るプリプレグの一例を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a prepreg according to an embodiment of the invention. 図2は、本発明の実施形態に係る金属張積層板の一例を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a metal-clad laminate according to an embodiment of the invention. 図3は、本発明の実施形態に係る配線板の一例を示す概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of a wiring board according to an embodiment of the invention. 図4は、本発明の実施形態に係る樹脂付き金属箔の一例を示す概略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of a resin-coated metal foil according to an embodiment of the invention. 図5は、本発明の実施形態に係る樹脂付きフィルムの一例を示す概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of a resin-coated film according to an embodiment of the invention.

以下、本発明に係る実施形態について説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。 Embodiments according to the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these.

[樹脂組成物]
本発明の実施形態に係る樹脂組成物は、分子中に下記式(1)で表される構造単位を有する重合体と、分子中にマレイミド基を1つ有する単官能マレイミド化合物とを含むことを特徴とする樹脂組成物である。
[Resin composition]
A resin composition according to an embodiment of the present invention comprises a polymer having a structural unit represented by the following formula (1) in the molecule and a monofunctional maleimide compound having one maleimide group in the molecule. A resin composition characterized by:

Figure 0007190649000007
Figure 0007190649000007

式(1)中、Zは、アリーレン基を示す。R~Rは、それぞれ独立している。すなわち、R~Rは、それぞれ同一の基であっても、異なる基であってもよい。また、R~Rは、水素原子又はアルキル基を示す。R~Rは、それぞれ独立している。すなわち、R~Rは、それぞれ同一の基であっても、異なる基であってもよい。また、R~Rは、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示す。 In formula (1), Z represents an arylene group. R 1 to R 3 are each independent. That is, R 1 to R 3 may each be the same group or different groups. Also, R 1 to R 3 represent a hydrogen atom or an alkyl group. R 4 to R 6 are each independent. That is, R 4 to R 6 may each be the same group or different groups. R 4 to R 6 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

本発明者等は、従来の樹脂組成物、例えば、特許文献1に記載の樹脂組成物と比較して、耐熱性及び低誘電特性により優れた樹脂組成物を提供するために種々検討した。具体的には、本発明者等は、前記重合体、すなわち、分子中に下記式(1)で表される構造単位を有する重合体に着目し、これを硬化して得られた硬化物は、耐熱性及び低誘電特性に優れることを見出した。さらに、マレイミド化合物を用いて前記重合体を硬化させると、得られた硬化物のガラス転移温度が高まり、耐熱性を高めることができることを見出した。その一方で、本発明者等の検討によれば、用いるマレイミド化合物によっては、誘電正接が高まって、優れた低誘電特性を維持できない場合があった。そこで、さらに詳細に検討した結果、マレイミド化合物として、前記した、分子中にマレイミド基を1つ有する単官能マレイミド化合物を用いると、優れた低誘電特性を維持しつつ、得られた硬化物のガラス転移温度が高まり、耐熱性を高めることができることを見出した。具体的には、樹脂組成物を用いて配線板を得た際、その得られた配線板の基材の、オーブン耐熱性や吸湿半田耐熱性等が高く、前記配線板を加熱することによっても、前記配線板の基材の誘電特性が変化しにくいという耐熱性も高いことを見出した。 The present inventors conducted various studies to provide a resin composition that is superior in heat resistance and low dielectric properties to conventional resin compositions such as the resin composition described in Patent Document 1. Specifically, the present inventors focused on the polymer, that is, a polymer having a structural unit represented by the following formula (1) in the molecule, and the cured product obtained by curing this is , excellent in heat resistance and low dielectric properties. Furthermore, the inventors have found that when the polymer is cured using a maleimide compound, the glass transition temperature of the resulting cured product increases, and the heat resistance can be improved. On the other hand, according to the studies of the present inventors, there are cases where the dielectric loss tangent is increased and excellent low dielectric properties cannot be maintained depending on the maleimide compound used. Therefore, as a result of further detailed investigation, it was found that when the above-mentioned monofunctional maleimide compound having one maleimide group in the molecule is used as the maleimide compound, the obtained cured product glass can be obtained while maintaining excellent low dielectric properties. It has been found that the transition temperature can be increased and the heat resistance can be improved. Specifically, when a wiring board is obtained using a resin composition, the base material of the obtained wiring board has high oven heat resistance, moisture absorption solder heat resistance, etc., and even when the wiring board is heated, Furthermore, the inventors have found that the base material of the wiring board has high heat resistance such that the dielectric properties of the base material are not easily changed.

以上のことから、前記樹脂組成物は、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が得られる樹脂組成物である。 As described above, the resin composition is a resin composition that provides a cured product having low dielectric properties and high heat resistance.

(重合体)
前記重合体は、分子中に前記式(1)で表される構造単位を有する重合体であれば、特に限定されない。また、前記重合体は、分子中に前記式(1)で表される構造単位を有する重合体であれば、前記式(1)で表される構造単位以外の構造単位を有していてもよい。また、前記重合体は、前記式(1)で表される構造単位が繰り返し結合した繰り返し単位を含んでもよいし、前記式(1)で表される構造単位が繰り返し結合した繰り返し単位と前記式(1)で表される構造単位以外の構造単位が繰り返し結合した繰り返し単位とが、ランダムに結合した重合体であってもよい。すなわち、前記式(1)で表される構造単位以外の構造単位を有する場合、ブロック共重合体であってもよいし、ランダム共重合体であってもよい。
(Polymer)
The polymer is not particularly limited as long as it has a structural unit represented by formula (1) in the molecule. Further, the polymer may have a structural unit other than the structural unit represented by the formula (1) as long as it is a polymer having the structural unit represented by the formula (1) in the molecule. good. Further, the polymer may contain a repeating unit in which the structural unit represented by the formula (1) is repeatedly bonded, or a repeating unit in which the structural unit represented by the formula (1) is repeatedly bonded and the formula It may be a polymer in which repeating units in which structural units other than the structural units represented by (1) are repeatedly bonded are randomly bonded. That is, when it has a structural unit other than the structural unit represented by the formula (1), it may be a block copolymer or a random copolymer.

前記式(1)における前記アリーレン基は、特に限定されない。このアリーレン基としては、例えば、フェニレン基等の単環芳香族基や、芳香族が単環ではなく、ナフタレン環等の多環芳香族である多環芳香族基等が挙げられる。また、このアリーレン基には、芳香族環に結合する水素原子が、アルケニル基、アルキニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、又はアルキニルカルボニル基等の官能基で置換された誘導体も含む。 The arylene group in formula (1) is not particularly limited. The arylene group includes, for example, a monocyclic aromatic group such as a phenylene group, and a polycyclic aromatic group in which the aromatic is not monocyclic but polycyclic aromatic such as a naphthalene ring. The arylene group also includes derivatives in which a hydrogen atom bonded to an aromatic ring is substituted with a functional group such as an alkenyl group, an alkynyl group, a formyl group, an alkylcarbonyl group, an alkenylcarbonyl group, or an alkynylcarbonyl group. .

前記式(1)においてR~Rで示される前記アルキル基は、特に限定されず、例えば、炭素数1~18のアルキル基が好ましく、炭素数1~10のアルキル基がより好ましい。具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、及びデシル基等が挙げられる。 The alkyl groups represented by R 1 to R 3 in formula (1) are not particularly limited, and for example, alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms are preferable, and alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms are more preferable. Specific examples include methyl group, ethyl group, propyl group, hexyl group, and decyl group.

前記式(1)においてR~Rで示される前記炭素数1~6のアルキル基は、特に限定されず、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、及びヘキシル基等が挙げられる。 The alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms represented by R 4 to R 6 in formula (1) are not particularly limited, and specific examples include methyl group, ethyl group, propyl group, hexyl group, and the like. is mentioned.

前記重合体は、前記式(1)で表される構造単位として、炭素-炭素不飽和二重結合を芳香族環に2つ結合した2官能芳香族化合物に由来の構造単位を有する芳香族重合体を含むことが好ましい。なお、前記2官能芳香族化合物に由来の構造単位は、前記2官能芳香族化合物を重合して得られる構造単位である。また、本明細書において、前記芳香族重合体は、ジビニル芳香族重合体とも称する。 The polymer is an aromatic polymer having a structural unit derived from a bifunctional aromatic compound in which two carbon-carbon unsaturated double bonds are bonded to an aromatic ring as the structural unit represented by the formula (1). It preferably includes coalescence. The structural unit derived from the bifunctional aromatic compound is a structural unit obtained by polymerizing the bifunctional aromatic compound. The aromatic polymer is also referred to herein as a divinyl aromatic polymer.

前記2官能芳香族化合物は、炭素-炭素不飽和二重結合を芳香族環に2つ結合した2官能芳香族化合物であれば、特に限定されない。前記2官能芳香族化合物としては、例えば、m-ジビニルベンゼン、p-ジビニルベンゼン、1,2-ジイソプロペニルベンゼン、1,3-ジイソプロペニルベンゼン、1,4-ジイソプロペニルベンゼン、1,3-ジビニルナフタレン、1,8-ジビニルナフタレン、1,4-ジビニルナフタレン、1,5-ジビニルナフタレン、2,3-ジビニルナフタレン、2,7-ジビニルナフタレン、2,6-ジビニルナフタレン、4,4’-ジビニルビフェニル、4,3’-ジビニルビフェニル、4,2’-ジビニルビフェニル、3,2’-ジビニルビフェニル、3,3’-ジビニルビフェニル、2,2’-ジビニルビフェニル、2,4-ジビニルビフェニル、1,2-ジビニル-3,4-ジメチルベンゼン、1,3-ジビニル-4,5,8-トリブチルナフタレン、及び2,2’-ジビニル-4-エチル-4’-プロピルビフェニル等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。前記2官能芳香族化合物は、これらの中でも、m-ジビニルベンゼン及びp-ジビニルベンゼン等のジビニルベンゼンが好ましく、p-ジビニルベンゼンがより好ましい。 The bifunctional aromatic compound is not particularly limited as long as it is a bifunctional aromatic compound in which two carbon-carbon unsaturated double bonds are bonded to an aromatic ring. Examples of the bifunctional aromatic compound include m-divinylbenzene, p-divinylbenzene, 1,2-diisopropenylbenzene, 1,3-diisopropenylbenzene, 1,4-diisopropenylbenzene, 1, 3-divinylnaphthalene, 1,8-divinylnaphthalene, 1,4-divinylnaphthalene, 1,5-divinylnaphthalene, 2,3-divinylnaphthalene, 2,7-divinylnaphthalene, 2,6-divinylnaphthalene, 4,4 '-divinylbiphenyl, 4,3'-divinylbiphenyl, 4,2'-divinylbiphenyl, 3,2'-divinylbiphenyl, 3,3'-divinylbiphenyl, 2,2'-divinylbiphenyl, 2,4-divinyl biphenyl, 1,2-divinyl-3,4-dimethylbenzene, 1,3-divinyl-4,5,8-tributylnaphthalene, and 2,2'-divinyl-4-ethyl-4'-propylbiphenyl, and the like. be done. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, the bifunctional aromatic compound is preferably divinylbenzene such as m-divinylbenzene and p-divinylbenzene, and more preferably p-divinylbenzene.

前記芳香族重合体は、前記2官能芳香族化合物に由来の構造単位を有するだけでなく、他の構造単位を有していてもよい。この他の構造単位としては、例えば、炭素-炭素不飽和二重結合を芳香族環に1つ結合した単官能芳香族化合物に由来の構造単位、炭素-炭素不飽和二重結合を芳香族環に3つ結合した3官能芳香族化合物に由来の構造単位、インデン類に由来の構造単位、及びアセナフチレン類に由来の構造単位等が挙げられる。なお、前記単官能芳香族化合物に由来の構造単位は、前記単官能芳香族化合物を重合して得られる構造単位である。前記3官能芳香族化合物に由来の構造単位は、前記3官能芳香族化合物を重合して得られる構造単位である。インデン類に由来の構造単位は、インデン類を重合して得られる構造単位である。また、アセナフチレン類に由来の構造単位は、アセナフチレン類を重合して得られる構造単位である。 The aromatic polymer may have other structural units in addition to the structural units derived from the bifunctional aromatic compound. Other structural units include, for example, a structural unit derived from a monofunctional aromatic compound in which one carbon-carbon unsaturated double bond is attached to an aromatic ring, and a carbon-carbon unsaturated double bond attached to an aromatic ring. Structural units derived from trifunctional aromatic compounds, structural units derived from indenes, structural units derived from acenaphthylenes, and the like. The structural unit derived from the monofunctional aromatic compound is a structural unit obtained by polymerizing the monofunctional aromatic compound. The structural unit derived from the trifunctional aromatic compound is a structural unit obtained by polymerizing the trifunctional aromatic compound. Structural units derived from indenes are structural units obtained by polymerizing indenes. Further, the structural unit derived from acenaphthylenes is a structural unit obtained by polymerizing acenaphthylenes.

前記単官能芳香族化合物は、炭素-炭素不飽和二重結合を芳香族環に1つ結合していればよく、芳香族環には、炭素-炭素不飽和二重結合以外の基が結合されていてもよい。前記単官能芳香族化合物としては、例えば、炭素-炭素不飽和二重結合を芳香族環に1つ結合し、この炭素-炭素不飽和二重結合以外の基が結合されていない単官能芳香族化合物、及び、炭素-炭素不飽和二重結合を芳香族環に1つ結合し、さらにエチル基等のアルキル基を芳香族環に結合した単官能芳香族化合物等が挙げられる。 The monofunctional aromatic compound may have one carbon-carbon unsaturated double bond bonded to the aromatic ring, and the aromatic ring is bonded with a group other than the carbon-carbon unsaturated double bond. may be As the monofunctional aromatic compound, for example, one carbon-carbon unsaturated double bond is bonded to an aromatic ring, and a monofunctional aromatic compound other than the carbon-carbon unsaturated double bond is not bonded. compounds, and monofunctional aromatic compounds in which one carbon-carbon unsaturated double bond is bonded to an aromatic ring and an alkyl group such as an ethyl group is further bonded to the aromatic ring.

炭素-炭素不飽和二重結合を芳香族環に1つ結合し、この炭素-炭素不飽和二重結合以外の基が結合されていない単官能芳香族化合物としては、例えば、スチレン、2-ビニルビフェニル、3-ビニルビフェニル、4-ビニルビフェニル、1-ビニルナフタレン、2-ビニルナフタレン、及びα-アルキル置換スチレン等が挙げられる。また、α-アルキル置換スチレンとしては、例えば、α-メチルスチレン、α-エチルスチレン、α-プロピルスチレン、α-n-ブチルスチレン、α-イソブチルスチレン、α-t-ブチルスチレン、α-n-ペンチルスチレン、α-2-メチルブチルスチレン、α-3-メチルブチル-2-スチレン、α-t-ブチルスチレン、α-t-ブチルスチレン、α-n-ペンチルスチレン、α-2-メチルブチルスチレン、α-3-メチルブチルスチレン、α-t-ペンチルスチレン、α-n-ヘキシルスチレン、α-2-メチルペンチルスチレン、α-3-メチルペンチルスチレン、α-1-メチルペンチルスチレン、α-2,2-ジメチルブチルスチレン、α-2,3-ジメチルブチルスチレン、α-2,4-ジメチルブチルスチレン、α-3,3-ジメチルブチルスチレン、α-3,4-ジメチルブチルスチレン、α-4,4-ジメチルブチルスチレン、α-2-エチルブチルスチレン、α-1-エチルブチルスチレン、α-シクロヘキシルスチレン、及びα-シクロヘキシルスチレン等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of monofunctional aromatic compounds having one carbon-carbon unsaturated double bond bonded to an aromatic ring and having no groups other than this carbon-carbon unsaturated double bond include styrene, 2-vinyl biphenyl, 3-vinylbiphenyl, 4-vinylbiphenyl, 1-vinylnaphthalene, 2-vinylnaphthalene, α-alkyl-substituted styrene, and the like. Examples of α-alkyl-substituted styrene include α-methylstyrene, α-ethylstyrene, α-propylstyrene, α-n-butylstyrene, α-isobutylstyrene, α-t-butylstyrene, α-n- pentylstyrene, α-2-methylbutylstyrene, α-3-methylbutyl-2-styrene, α-t-butylstyrene, α-t-butylstyrene, α-n-pentylstyrene, α-2-methylbutylstyrene, α-3-methylbutylstyrene, α-t-pentylstyrene, α-n-hexylstyrene, α-2-methylpentylstyrene, α-3-methylpentylstyrene, α-1-methylpentylstyrene, α-2, 2-dimethylbutylstyrene, α-2,3-dimethylbutylstyrene, α-2,4-dimethylbutylstyrene, α-3,3-dimethylbutylstyrene, α-3,4-dimethylbutylstyrene, α-4, 4-dimethylbutylstyrene, α-2-ethylbutylstyrene, α-1-ethylbutylstyrene, α-cyclohexylstyrene, α-cyclohexylstyrene and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

炭素-炭素不飽和二重結合を芳香族環に1つ結合し、さらにアルキル基を芳香族環に結合した単官能芳香族化合物としては、例えば、核アルキル置換芳香族化合物及びアルコキシ置換スチレン等が挙げられる。 Examples of monofunctional aromatic compounds having one carbon-carbon unsaturated double bond bonded to an aromatic ring and an alkyl group bonded to the aromatic ring include, for example, nuclear alkyl-substituted aromatic compounds and alkoxy-substituted styrenes. mentioned.

前記核アルキル置換芳香族化合物としては、例えば、芳香族環に結合されるアルキル基がエチル基であるエチルビニル芳香族化合物、芳香族環としてのスチレンにアルキル基が結合した核アルキル置換スチレン、及び、前記エチルビニル芳香族化合物及び前記核アルキル置換スチレン以外の核アルキル置換芳香族化合物(他の核アルキル置換芳香族化合物)等が挙げられる。 Examples of the nuclear alkyl-substituted aromatic compound include an ethylvinyl aromatic compound in which the alkyl group bonded to the aromatic ring is an ethyl group, a nuclear alkyl-substituted styrene in which an alkyl group is bonded to styrene as the aromatic ring, and The ethylvinyl aromatic compound and the nuclear alkyl-substituted aromatic compounds other than the nuclear alkyl-substituted styrene (other nuclear alkyl-substituted aromatic compounds) are included.

前記エチルビニル芳香族化合物としては、例えば、o-エチルビニルベンゼン、m-エチルビニルベンゼン、p-エチルビニルベンゼン、2-ビニル-2’-エチルビフェニル、2-ビニル-3’-エチルビフェニル、2-ビニル-4’-エチルビフェニル、3-ビニル-2’-エチルビフェニル、3-ビニル-3’-エチルビフェニル、3-ビニル-4’-エチルビフェニル、4-ビニル-2’-エチルビフェニル、4-ビニル-3’-エチルビフェニル、4-ビニル-4’-エチルビフェニル、1-ビニル-2-エチルナフタレン、1-ビニル-3-エチルナフタレン、1-ビニル-4-エチルナフタレン、1-ビニル-5-エチルナフタレン、1-ビニル-6-エチルナフタレン、1-ビニル-7-エチルナフタレン、1-ビニル-8-エチルナフタレン、2-ビニル-1-エチルナフタレン、2-ビニル-3-エチルナフタレン、2-ビニル-4-エチルナフタレン、2-ビニル-5-エチルナフタレン、2-ビニル-6-エチルナフタレン、2-ビニル-7-エチルナフタレン、及び2-ビニル-8-エチルナフタレン等が挙げられる。 Examples of the ethylvinyl aromatic compounds include o-ethylvinylbenzene, m-ethylvinylbenzene, p-ethylvinylbenzene, 2-vinyl-2'-ethylbiphenyl, 2-vinyl-3'-ethylbiphenyl, 2- Vinyl-4'-ethylbiphenyl, 3-vinyl-2'-ethylbiphenyl, 3-vinyl-3'-ethylbiphenyl, 3-vinyl-4'-ethylbiphenyl, 4-vinyl-2'-ethylbiphenyl, 4- Vinyl-3'-ethylbiphenyl, 4-vinyl-4'-ethylbiphenyl, 1-vinyl-2-ethylnaphthalene, 1-vinyl-3-ethylnaphthalene, 1-vinyl-4-ethylnaphthalene, 1-vinyl-5 -ethylnaphthalene, 1-vinyl-6-ethylnaphthalene, 1-vinyl-7-ethylnaphthalene, 1-vinyl-8-ethylnaphthalene, 2-vinyl-1-ethylnaphthalene, 2-vinyl-3-ethylnaphthalene, 2 -vinyl-4-ethylnaphthalene, 2-vinyl-5-ethylnaphthalene, 2-vinyl-6-ethylnaphthalene, 2-vinyl-7-ethylnaphthalene, and 2-vinyl-8-ethylnaphthalene.

前記核アルキル置換スチレンとしては、例えば、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、m-プロピルスチレン、p-プロピルスチレン、m-n-ブチルスチレン、p-n-ブチルスチレン、m-t-ブチルスチレン、p-t-ブチルスチレン、m-n-ヘキシルスチレン、p-n-ヘキシルスチレン、m-シクロヘキシルスチレン、及びp-シクロヘキシルスチレン等が挙げられる。 Examples of the nuclear alkyl-substituted styrene include m-methylstyrene, p-methylstyrene, m-propylstyrene, p-propylstyrene, mn-butylstyrene, pn-butylstyrene and mt-butylstyrene. , pt-butylstyrene, mn-hexylstyrene, pn-hexylstyrene, m-cyclohexylstyrene, and p-cyclohexylstyrene.

前記他の核アルキル置換芳香族化合物としては、例えば、2-ビニル-2’-プロピルビフェニル、2-ビニル-3’-プロピルビフェニル、2-ビニル-4’-プロピルビフェニル、3-ビニル-2’-プロピルビフェニル、3-ビニル-3’-プロピルビフェニル、3-ビニル-4’-プロピルビフェニル、4-ビニル-2’-プロピルビフェニル、4-ビニル-3’-プロピルビフェニル、4-ビニル-4’-プロピルビフェニル、1-ビニル-2-プロピルナフタレン、1-ビニル-3-プロピルナフタレン、1-ビニル-4-プロピルナフタレン、1-ビニル-5-プロピルナフタレン、1-ビニル-6-プロピルナフタレン、1-ビニル-7-プロピルナフタレン、1-ビニル-8-プロピルナフタレン、2-ビニル-1-プロピルナフタレン、2-ビニル-3-プロピルナフタレン、2-ビニル-4-プロピルナフタレン、2-ビニル-5-プロピルナフタレン、2-ビニル-6-プロピルナフタレン、2-ビニル-7-プロピルナフタレン、及び2-ビニル-8-プロピルナフタレン等が挙げられる。 Examples of other nuclear alkyl-substituted aromatic compounds include 2-vinyl-2'-propylbiphenyl, 2-vinyl-3'-propylbiphenyl, 2-vinyl-4'-propylbiphenyl, and 3-vinyl-2'. -propylbiphenyl, 3-vinyl-3'-propylbiphenyl, 3-vinyl-4'-propylbiphenyl, 4-vinyl-2'-propylbiphenyl, 4-vinyl-3'-propylbiphenyl, 4-vinyl-4' -propylbiphenyl, 1-vinyl-2-propylnaphthalene, 1-vinyl-3-propylnaphthalene, 1-vinyl-4-propylnaphthalene, 1-vinyl-5-propylnaphthalene, 1-vinyl-6-propylnaphthalene, 1 -vinyl-7-propylnaphthalene, 1-vinyl-8-propylnaphthalene, 2-vinyl-1-propylnaphthalene, 2-vinyl-3-propylnaphthalene, 2-vinyl-4-propylnaphthalene, 2-vinyl-5- propylnaphthalene, 2-vinyl-6-propylnaphthalene, 2-vinyl-7-propylnaphthalene, 2-vinyl-8-propylnaphthalene and the like.

前記アルコキシ置換スチレンとしては、例えば、o-エトキシスチレン、m-エトキシスチレン、p-エトキシスチレン、o-プロポキシスチレン、m-プロポキシスチレン、p-プロポキシスチレン、o-n-ブトキシスチレン、m-n-ブトキシスチレン、p-n-ブトキシスチレン、o-イソブトキシスチレン、m-イソブトキシスチレン、p-イソブトキシスチレン、o-t-ブトキシスチレン、m-t-ブトキシスチレン、p-t-ブトキシスチレン、o-n-ペントキシスチレン、m-n-ペントキシスチレン、p-n-ペントキシスチレン、α-メチル-o-ブトキシスチレン、α-メチル-m-ブトキシスチレン、α-メチル-p-ブトキシスチレン、o-t-ペントキシスチレン、m-t-ペントキシスチレン、p-t-ペントキシスチレン、o-n-ヘキソキシスチレン、m-n-ヘキソキシスチレン、p-n-ヘキソキシスチレン、α-メチル-o-ペントキシスチレン、α-メチル-m-ペントキシスチレン、α-メチル-p-ペントキシスチレン、o-シクロヘキソキシスチレン、m-シクロヘキソキシスチレン、p-シクロヘキソキシスチレン、o-フェノキシスチレン、m-フェノキシスチレン、及びp-フェノキシスチレン等が挙げられる。 Examples of the alkoxy-substituted styrene include o-ethoxystyrene, m-ethoxystyrene, p-ethoxystyrene, o-propoxystyrene, m-propoxystyrene, p-propoxystyrene, on-butoxystyrene, mn- butoxystyrene, pn-butoxystyrene, o-isobutoxystyrene, m-isobutoxystyrene, p-isobutoxystyrene, ot-butoxystyrene, mt-butoxystyrene, pt-butoxystyrene, o -n-pentoxystyrene, mn-pentoxystyrene, pn-pentoxystyrene, α-methyl-o-butoxystyrene, α-methyl-m-butoxystyrene, α-methyl-p-butoxystyrene, ot-pentoxystyrene, mt-pentoxystyrene, pt-pentoxystyrene, on-hexoxystyrene, mn-hexoxystyrene, pn-hexoxystyrene, α- Methyl-o-pentoxystyrene, α-methyl-m-pentoxystyrene, α-methyl-p-pentoxystyrene, o-cyclohexoxystyrene, m-cyclohexoxystyrene, p-cyclohexoxystyrene, o-phenoxystyrene , m-phenoxystyrene, and p-phenoxystyrene.

前記単官能芳香族化合物は、前記例示の化合物を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、前記単官能芳香族化合物としては、前記例示の化合物の中でも、スチレン及びp-エチルビニルベンゼンが好ましい。 As the monofunctional aromatic compound, the compounds exemplified above may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. Among the compounds exemplified above, styrene and p-ethylvinylbenzene are preferable as the monofunctional aromatic compound.

炭素-炭素不飽和二重結合を芳香族環に3つ結合した3官能芳香族化合物としては、例えば、1,2,4-トリビニルベンゼン、1,3,5-トリビニルベンゼン、1,2,4-トリイソプロペニルベンゼン、1,3,5-トリイソプロペニルベンゼン、1,3,5-トリビニルナフタレン、及び3,5,4’-トリビニルビフェニル等が挙げられる。前記3官能芳香族化合物は、前記例示の化合物を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of trifunctional aromatic compounds in which three carbon-carbon unsaturated double bonds are bonded to an aromatic ring include 1,2,4-trivinylbenzene, 1,3,5-trivinylbenzene, 1,2 ,4-triisopropenylbenzene, 1,3,5-triisopropenylbenzene, 1,3,5-trivinylnaphthalene, and 3,5,4′-trivinylbiphenyl. As the trifunctional aromatic compound, the compounds exemplified above may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

前記インデン類としては、例えば、インデン、アルキル置換インデン、及びアルキコシインデン等が挙げられる。前記アルキル置換インデンとしては、例えば、メチルインデン、エチルインデン、プロピルインデン、ブチルインデン、t-ブチルインデン、sec-ブチルインデン、n-ペンチルインデン、2-メチル-ブチルインデン、3-メチル-ブチルインデン、n-ヘキシルインデン、2-メチル-ペンチルインデン、3-メチル-ペンチルインデン、4-メチル-ペンチルインデン等が挙げられる。前記アルキコシインデンとしては、例えば、メトキシインデン、エトキシインデン、プトキシインデン、ブトキシインデン、t-ブトキシインデン、sec-ブトキシインデン、n-ペントキシインデン、2-メチル-ブトキシインデン、3-メチル-ブトキシインデン、n-ヘキトシインデン、2-メチル-ペントキシインデン、3-メチル-ペントキシインデン、4-メチル-ペントキシインデン等のアルキコシインデン等が挙げられる。前記インデン類は、前記例示の化合物を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the indenes include indene, alkyl-substituted indene, and alkoxyindene. Examples of the alkyl-substituted indene include methylindene, ethylindene, propylindene, butylindene, t-butylindene, sec-butylindene, n-pentylindene, 2-methyl-butylindene, 3-methyl-butylindene, n-hexylindene, 2-methyl-pentylindene, 3-methyl-pentylindene, 4-methyl-pentylindene and the like. Examples of the alkoxyindene include methoxyindene, ethoxyindene, ptoxyindene, butoxyindene, t-butoxyindene, sec-butoxyindene, n-pentoxyindene, 2-methyl-butoxyindene, 3-methyl-butoxyindene, alkoxyindene such as n-hexytocyindene, 2-methyl-pentoxyindene, 3-methyl-pentoxyindene, 4-methyl-pentoxyindene; As the indenes, the compounds exemplified above may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

前記アセナフチレン類としては、例えば、アセナフチレン、アルキルアセナフチレン類、ハロゲン化アセナフチレン類、及びフェニルアセナフチレン類等が挙げられる。前記アルキルアセナフチレン類としては、例えば、1-メチルアセナフチレン、3-メチルアセナフチレン、4-メチルアセナフチレン、5-メチルアセナフチレン、1-エチルアセナフチレン、3-エチルアセナフチレン、4-エチルアセナフチレン、5-エチルアセナフチレン等が挙げられる。前記ハロゲン化アセナフチレン類としては、例えば、1-クロロアセナフチレン、3-クロロアセナフチレン、4-クロロアセナフチレン、5-クロロアセナフチレン、1-ブロモアセナフチレン、3-ブロモアセナフチレン、4-ブロモアセナフチレン、5-ブロモアセナフチレン等が挙げられる。前記フェニルアセナフチレン類としては、例えば、1-フェニルアセナフチレン、3-フェニルアセナフチレン、4-フェニルアセナフチレン、5-フェニルアセナフチレン等が挙げられる。前記アセナフチレン類は、前記例示の化合物を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the acenaphthylenes include acenaphthylene, alkylacenaphthylenes, halogenated acenaphthylenes, and phenylacenaphthylenes. Examples of the alkylacenaphthylenes include 1-methylacenaphthylene, 3-methylacenaphthylene, 4-methylacenaphthylene, 5-methylacenaphthylene, 1-ethylacenaphthylene, and 3-ethylacenaphthylene. phthalene, 4-ethylacenaphthylene, 5-ethylacenaphthylene and the like. Examples of the halogenated acenaphthylenes include 1-chloroacenaphthylene, 3-chloroacenaphthylene, 4-chloroacenaphthylene, 5-chloroacenaphthylene, 1-bromoacenaphthylene, and 3-bromoacenaphthylene. rene, 4-bromoacenaphthylene, 5-bromoacenaphthylene and the like. Examples of the phenylacenaphthylenes include 1-phenylacenaphthylene, 3-phenylacenaphthylene, 4-phenylacenaphthylene, 5-phenylacenaphthylene and the like. As the acenaphthylenes, the compounds exemplified above may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

前記芳香族重合体は、前記2官能芳香族化合物に由来の構造単位を有するだけでなく、他の構造単位を有する場合、前記2官能芳香族化合物に由来の構造単位と、前記単官能芳香族化合物に由来の構造単位等の、他の構造単位との共重合体である。この共重合体は、ブロック共重合体であってもよいし、ランダム共重合体であってもよい。 When the aromatic polymer not only has a structural unit derived from the bifunctional aromatic compound but also has other structural units, the structural unit derived from the bifunctional aromatic compound and the monofunctional aromatic It is a copolymer with other structural units such as structural units derived from compounds. This copolymer may be a block copolymer or a random copolymer.

前記重合体は、上述したように、分子中に前記式(1)で表される構造単位を有する重合体であれば、特に限定されない。そして、前記式(1)で表される構造単位は、下記式(2)で表される構造単位を含むことが好ましい。すなわち、前記重合体は、分子中に下記式(2)で表される構造単位を有する重合体であることが好ましい。 As described above, the polymer is not particularly limited as long as it is a polymer having a structural unit represented by the formula (1) in its molecule. The structural unit represented by the formula (1) preferably contains a structural unit represented by the following formula (2). That is, the polymer is preferably a polymer having a structural unit represented by the following formula (2) in its molecule.

Figure 0007190649000008
Figure 0007190649000008

式(2)中、R~Rは、式(1)中のR~Rと同様である。具体的には、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示す。Rは、炭素数6~12のアリーレン基を示す。 In formula (2), R 4 to R 6 are the same as R 4 to R 6 in formula (1). Specifically, R 4 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 7 represents an arylene group having 6 to 12 carbon atoms.

前記式(2)における前記炭素数6~12のアリーレン基は、特に限定されない。このアリーレン基としては、例えば、フェニレン基等の単環芳香族基や、芳香族が単環ではなく、ナフタレン環等の二環芳香族である二環芳香族基等が挙げられる。また、このアリーレン基には、芳香族環に結合する水素原子が、アルケニル基、アルキニル基、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、又はアルキニルカルボニル基等の官能基で置換された誘導体も含む。 The arylene group having 6 to 12 carbon atoms in formula (2) is not particularly limited. The arylene group includes, for example, a monocyclic aromatic group such as a phenylene group, and a bicyclic aromatic group in which the aromatic is not a monocyclic but a bicyclic aromatic such as a naphthalene ring. The arylene group also includes derivatives in which a hydrogen atom bonded to an aromatic ring is substituted with a functional group such as an alkenyl group, an alkynyl group, a formyl group, an alkylcarbonyl group, an alkenylcarbonyl group, or an alkynylcarbonyl group. .

前記式(2)で表される構造単位は、下記式(3)で表される構造単位を含むことが好ましい。すなわち、前記式(2)で表される構造単位において、Rが、フェニレン基であることが好ましい。また、前記フェニレン基の中でも、p-フェニレン基がより好ましい。 The structural unit represented by the formula (2) preferably includes a structural unit represented by the following formula (3). That is, in the structural unit represented by formula (2) above, R 7 is preferably a phenylene group. Further, among the phenylene groups, the p-phenylene group is more preferable.

Figure 0007190649000009
Figure 0007190649000009

式(3)中、R~Rは、式(1)中のR~Rと同様である。具体的には、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示す。 In formula (3), R 4 to R 6 are the same as R 4 to R 6 in formula (1). Specifically, R 4 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

前記重合体は、下記式(4)で表される構造単位を分子中にさらに有する重合体を含むことが好ましい。すなわち、前記重合体は、下記式(4)で表される構造単位として、前記炭素-炭素不飽和二重結合を芳香族環に1つ結合した単官能芳香族化合物に由来の構造単位を含むことが好ましい。よって、前記重合体は、前記式(1)で表される構造単位と下記式(4)で表される構造単位とを分子中に有する重合体であることが好ましい。すなわち、前記重合体は、分子中に前記式(1)で表される構造単位と下記式(4)で表される構造単位とを有する重合体であれば、前記式(1)で表される構造単位及び下記式(4)で表される構造単位以外の構造単位((1)及び(4)以外の構造単位)を有していてもよい。また、前記重合体は、前記(1)及び(4)以外の構造単位を含んでもよいし、前記式(1)で表される構造単位が繰り返し結合した繰り返し単位と下記式(4)で表される繰り返し結合した繰り返し単位と前記(1)及び(4)以外の構造単位が繰り返し結合した繰り返し単位とが、ランダムに結合した重合体であってもよいし、ブロック共重合体であってもよいし、ランダム共重合体であってもよい。 The polymer preferably contains a polymer further having a structural unit represented by the following formula (4) in the molecule. That is, the polymer contains a structural unit derived from a monofunctional aromatic compound in which one carbon-carbon unsaturated double bond is bonded to an aromatic ring as a structural unit represented by the following formula (4). is preferred. Therefore, the polymer is preferably a polymer having in its molecule a structural unit represented by the formula (1) and a structural unit represented by the following formula (4). That is, if the polymer is a polymer having a structural unit represented by the formula (1) and a structural unit represented by the following formula (4) in the molecule, it is represented by the formula (1). and a structural unit other than the structural unit represented by the following formula (4) (structural units other than (1) and (4)). Further, the polymer may contain structural units other than the above (1) and (4), and a repeating unit in which the structural unit represented by the above formula (1) is repeatedly bonded and represented by the following formula (4) A repeating unit that is repeatedly bonded and a repeating unit that is repeatedly bonded to structural units other than the above (1) and (4) may be a randomly bonded polymer or a block copolymer. Alternatively, it may be a random copolymer.

Figure 0007190649000010
Figure 0007190649000010

式(4)中、R~R10は、それぞれ独立している。すなわち、R~R10は、それぞれ同一の基であっても、異なる基であってもよい。また、R~R10は、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示す。R11は、アリール基を示す。 In formula (4), R 8 to R 10 are each independent. That is, R 8 to R 10 may each be the same group or different groups. R 8 to R 10 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 11 represents an aryl group.

前記式(4)においてR~R10で示される前記炭素数1~6のアルキル基は、特に限定されず、前記式(1)においてR~Rで示される前記炭素数1~6のアルキル基と同様であってもよい。前記式(4)においてR~R10で示される前記炭素数1~6のアルキル基は、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、及びヘキシル基等が挙げられる。 The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 8 to R 10 in the formula (4) is not particularly limited, and the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 4 to R 6 in the formula (1) may be the same as the alkyl group of Specific examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 8 to R 10 in the formula (4) include methyl group, ethyl group, propyl group and hexyl group.

前記式(4)における前記アリール基は、特に限定されず、無置換のアリール基であってもよいし、芳香族環に結合する水素原子がアルキル基等で置換されたアリール基であってもよい。また、前記無置換のアリール基としては、芳香族環1個を有する芳香族炭化水素から水素原子1個を除いた基であってもよいし、独立した芳香族環2個以上を有する芳香族炭化水素(例えば、ビフェニル等)から水素原子1個を除いた基であってもよい。前記式(4)における前記アリール基は、例えば、炭素数6~12の無置換のアリール基、及び炭素数6~12のアリール基の水素原子が炭素数1~6のアルキル基で置換された炭素数6~18のアリーレン基等が挙げられる。また、前記炭素数6~12の無置換のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、及びビフェニリル基等が挙げられる。前記式(4)における前記アリール基、すなわち、R11は、より具体的には、下記表1及び表2に記載のアリール基等が挙げられる。 The aryl group in the formula (4) is not particularly limited, and may be an unsubstituted aryl group or an aryl group in which a hydrogen atom bonded to an aromatic ring is substituted with an alkyl group or the like. good. Further, the unsubstituted aryl group may be a group obtained by removing one hydrogen atom from an aromatic hydrocarbon having one aromatic ring, or an aromatic hydrocarbon having two or more independent aromatic rings. It may be a group obtained by removing one hydrogen atom from a hydrocarbon (eg, biphenyl, etc.). The aryl group in the formula (4) is, for example, an unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and a hydrogen atom of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms is substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. An arylene group having 6 to 18 carbon atoms and the like can be mentioned. Examples of the unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms include phenyl group, naphthyl group and biphenylyl group. More specifically, the aryl group in formula (4), ie, R 11 , includes the aryl groups listed in Tables 1 and 2 below.

Figure 0007190649000011
Figure 0007190649000011

Figure 0007190649000012
Figure 0007190649000012

前記重合体の重量平均分子量が、1500~40000であることが好ましく、1500~35000であることがより好ましい。前記重量平均分子量が低すぎると、耐熱性等が低下する傾向がある。また、前記重量平均分子量が高すぎると、成形性等が低下する傾向がある。よって、前記樹脂組成物の重量平均分子量が上記範囲内であると、耐熱性及び成形性に優れたものとなる。なお、ここで、重量平均分子量は、一般的な分子量測定で測定したものであればよく、具体的には、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)を用いて測定した値等が挙げられる。 The weight average molecular weight of the polymer is preferably 1,500 to 40,000, more preferably 1,500 to 35,000. If the weight-average molecular weight is too low, the heat resistance tends to deteriorate. On the other hand, if the weight average molecular weight is too high, there is a tendency for moldability and the like to deteriorate. Therefore, when the weight average molecular weight of the resin composition is within the above range, the heat resistance and moldability are excellent. Here, the weight-average molecular weight may be one measured by general molecular weight measurement, and specifically includes a value measured using gel permeation chromatography (GPC).

前記重合体において、前記重合体における構造単位の合計を100モル%とするとき、前記式(1)で表される構造単位のモル含有率は、上記重合平均分子量の範囲内になるモル含有率であることが好ましく、具体的には、2~95モル%であることが好ましく、8~81モル%であることがより好ましい。また、前記式(2)で表される構造単位のモル含有率や前記式(3)で表される構造単位のモル含有率は、前記式(1)で表される構造単位のモル含有率と同様であり、具体的には、2~95モル%であることが好ましく、8~81モル%であることがより好ましい。また、前記重合体が、前記式(1)で表される構造単位と下記式(4)で表される構造単位とを分子中に有する重合体の場合、前記式(1)で表される構造単位のモル含有率は、2~95モル%であることが好ましく、8~81モル%であることがより好ましく、前記式(4)で表される構造単位のモル含有率は、5~98モル%であることが好ましく、19~92モル%であることがより好ましい。 In the polymer, when the total amount of structural units in the polymer is 100 mol%, the molar content of the structural unit represented by the formula (1) is within the range of the above polymerization average molecular weight. Specifically, it is preferably 2 to 95 mol %, more preferably 8 to 81 mol %. Further, the molar content of the structural unit represented by the formula (2) and the molar content of the structural unit represented by the formula (3) are the molar contents of the structural unit represented by the formula (1). Specifically, it is preferably 2 to 95 mol%, more preferably 8 to 81 mol%. Further, when the polymer is a polymer having a structural unit represented by the formula (1) and a structural unit represented by the following formula (4) in the molecule, the polymer represented by the formula (1) The molar content of the structural unit is preferably 2 to 95 mol%, more preferably 8 to 81 mol%, and the molar content of the structural unit represented by the formula (4) is 5 to It is preferably 98 mol %, more preferably 19 to 92 mol %.

前記重合体において、前記式(1)で表される構造単位の平均数は、上記重合平均分子量の範囲内になる数であることが好ましく、具体的には、1~160であることが好ましく、3~140であることがより好ましい。また、前記式(2)で表される構造単位の平均数や前記式(3)で表される構造単位の平均数は、前記式(1)で表される構造単位の平均数と同様であり、具体的には、1~160であることが好ましく、3~140であることがより好ましい。また、前記重合体が、前記式(1)で表される構造単位と下記式(4)で表される構造単位とを分子中に有する重合体の場合、前記式(1)で表される構造単位の平均数は、1~160であることが好ましく、3~140であることがより好ましく、前記式(4)で表される構造単位の平均数は、2~350であることが好ましく、4~300であることがより好ましい。 In the polymer, the average number of structural units represented by the formula (1) is preferably a number within the range of the polymerization average molecular weight, specifically, preferably 1 to 160. , 3 to 140. The average number of structural units represented by formula (2) and the average number of structural units represented by formula (3) are the same as the average number of structural units represented by formula (1). Specifically, it is preferably from 1 to 160, more preferably from 3 to 140. Further, when the polymer is a polymer having a structural unit represented by the formula (1) and a structural unit represented by the following formula (4) in the molecule, the polymer represented by the formula (1) The average number of structural units is preferably 1 to 160, more preferably 3 to 140, and the average number of structural units represented by the formula (4) is preferably 2 to 350. , 4 to 300.

前記重合体の具体例としては、分子中に下記式(8)で表される構造単位を含み、下記式(7)で表される構造単位及び下記式(9)で表される構造単位のうちの少なくとも一方をさらに含む重合体が挙げられる。この重合体は、ブロック共重合体であってもよいし、ランダム共重合体であってもよい。 Specific examples of the polymer include a structural unit represented by the following formula (8) in the molecule, and a structural unit represented by the following formula (7) and a structural unit represented by the following formula (9). Polymers further containing at least one of This polymer may be a block copolymer or a random copolymer.

Figure 0007190649000013
Figure 0007190649000013

Figure 0007190649000014
Figure 0007190649000014

Figure 0007190649000015
Figure 0007190649000015

分子中に前記式(8)で表される構造単位を含み、前記式(7)で表される構造単位及び前記式(9)で表される構造単位のうちの少なくとも一方をさらに含む重合体では、前記式(7)で表される構造単位、前記式(8)で表される構造単位、及び前記式(9)で表される構造単位のモル含有率が、それぞれ、0~92モル%、8~54モル%、及び0~89モル%であることが好ましい。また、前記式(7)で表される構造単位の平均数は、0~350であることが好ましく、前記式(8)で表される構造単位の平均数は、1~160であることが好ましく、前記式(9)で表される構造単位の平均数は、0~270であることが好ましい。前記重合体としては、例えば、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製の、ODV-XET(X03)、ODV-XET(X04)、及びODV-XET(X05)の、市販品等が用いられる。 A polymer containing a structural unit represented by the formula (8) in the molecule and further containing at least one of a structural unit represented by the formula (7) and a structural unit represented by the formula (9) Then, the molar contents of the structural unit represented by the formula (7), the structural unit represented by the formula (8), and the structural unit represented by the formula (9) are each 0 to 92 mol. %, 8 to 54 mol %, and 0 to 89 mol %. The average number of structural units represented by formula (7) is preferably 0 to 350, and the average number of structural units represented by formula (8) is preferably 1 to 160. Preferably, the average number of structural units represented by the formula (9) is 0-270. As the polymer, for example, commercially available products such as ODV-XET (X03), ODV-XET (X04), and ODV-XET (X05) manufactured by Nippon Steel Chemical & Materials Co., Ltd. are used.

前記重合体の、前記式(1)で表され、R~Rが水素原子である構造単位に含まれるビニル基の当量が、250~1200であることが好ましく、300~1100であることがより好ましい。前記当量が小さすぎると、前記ビニル基が多くなりすぎ、反応性が高くなりすぎて、例えば、樹脂組成物の保存性が低下したり、樹脂組成物の流動性が低下してしまう等の不具合が発生するおそれがある。前記当量が小さすぎる樹脂組成物を用いると、流動性不足等により、例えば、多層成形時にボイドが発生する等の成形不良が発生し、信頼度の高い配線板が得られにくいという成形性の問題が発生するおそれがある。また、前記当量が大きすぎると、前記ビニル基が少なくなりすぎ、硬化物の耐熱性が不充分になる傾向がある。よって、前記当量が上記範囲内であると、耐熱性及び成形性に優れたものとなる。なお、前記式(1)で表され、R~Rが水素原子である構造単位に含まれるビニル基の当量は、いわゆるビニル当量である。 The equivalent weight of the vinyl group contained in the structural unit of the polymer represented by the formula (1) in which R 1 to R 3 are hydrogen atoms is preferably from 250 to 1,200, and preferably from 300 to 1,100. is more preferred. If the equivalent weight is too small, the number of vinyl groups will be too large, and the reactivity will be too high. may occur. When a resin composition having an excessively small equivalent weight is used, molding defects such as voids occur during multi-layer molding due to insufficient fluidity, etc., and it is difficult to obtain a highly reliable wiring board. may occur. On the other hand, if the equivalent weight is too large, the vinyl groups are too small, and the heat resistance of the cured product tends to be insufficient. Therefore, when the equivalent weight is within the above range, excellent heat resistance and moldability can be obtained. The equivalent weight of the vinyl group contained in the structural unit represented by the formula (1) and having R 1 to R 3 each being a hydrogen atom is the so-called vinyl equivalent weight.

(単官能マレイミド化合物)
前記単官能マレイミド化合物は、分子中にマレイミド基を1つ有する単官能マレイミド化合物であれば、特に限定されない。前記単官能マレイミド化合物の好ましい具体例としては、例えば、下記式(5)で表される化合物及び下記式(6)で表される化合物等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいし、2種を組み合わせて用いてもよい。
(Monofunctional maleimide compound)
The monofunctional maleimide compound is not particularly limited as long as it is a monofunctional maleimide compound having one maleimide group in the molecule. Preferred specific examples of the monofunctional maleimide compound include compounds represented by the following formula (5) and compounds represented by the following formula (6). These may be used independently and may be used in combination of 2 types.

Figure 0007190649000016
Figure 0007190649000016

Figure 0007190649000017
Figure 0007190649000017

(含有量)
前記重合体と前記単官能マレイミド化合物との含有比は、質量比で、50:50~90:10であることが好ましく、60:40~80:20であることがより好ましい。すなわち、前記重合体の含有量は、前記重合体と前記単官能マレイミド化合物との合計質量100質量部に対して、50~90質量部であることが好ましく、60~80質量部であることがより好ましい。また、前記単官能マレイミド化合物の含有量は、前記重合体と前記単官能マレイミド化合物との合計質量100質量部に対して、10~50質量部であることが好ましく、20~40質量部であることがより好ましい。前記重合体の含有量が少なすぎると、すなわち、前記単官能マレイミドの含有量が多すぎると、低誘電正接を充分に発揮できない傾向がある。また、前記重合体の含有量が多すぎると、すなわち、単官能マレイミドの含有量が少なすぎると、耐熱性を充分に発揮できない傾向がある。よって、前記重合体、及び前記単官能マレイミド化合物の各含有量が、上記範囲内であれば、得られた樹脂組成物が、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物を好適に得ることができる。
(Content)
The content ratio of the polymer to the monofunctional maleimide compound is preferably 50:50 to 90:10, more preferably 60:40 to 80:20, in mass ratio. That is, the content of the polymer is preferably 50 to 90 parts by mass, more preferably 60 to 80 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the total mass of the polymer and the monofunctional maleimide compound. more preferred. The content of the monofunctional maleimide compound is preferably 10 to 50 parts by mass, more preferably 20 to 40 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the total mass of the polymer and the monofunctional maleimide compound. is more preferable. If the content of the polymer is too low, that is, if the content of the monofunctional maleimide is too high, the low dielectric loss tangent tends to be insufficient. On the other hand, if the content of the polymer is too high, that is, if the content of the monofunctional maleimide is too low, the heat resistance tends to be insufficient. Therefore, if the respective contents of the polymer and the monofunctional maleimide compound are within the above ranges, the obtained resin composition can suitably obtain a cured product having low dielectric properties and high heat resistance. be able to.

(その他の成分)
本実施形態に係る樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、前記重合体、及び前記単官能マレイミド化合物以外の成分(その他の成分)を含有してもよい。本実施の形態に係る樹脂組成物に含有されるその他の成分としては、例えば、前記単官能マレイミド化合物以外の硬化剤、シランカップリング剤、難燃剤、開始剤、消泡剤、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、染料や顔料、滑剤、及び無機充填材等の添加剤をさらに含んでもよい。また、前記樹脂組成物には、前記重合体以外にも、ポリフェニレンエーテル、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、及び熱硬化性ポリイミド樹脂等の樹脂を含有してもよい。
(other ingredients)
The resin composition according to the present embodiment may optionally contain components (other components) other than the polymer and the monofunctional maleimide compound within a range that does not impair the effects of the present invention. Other components contained in the resin composition according to the present embodiment include, for example, a curing agent other than the monofunctional maleimide compound, a silane coupling agent, a flame retardant, an initiator, an antifoaming agent, an antioxidant, Additives such as heat stabilizers, antistatic agents, UV absorbers, dyes and pigments, lubricants, and inorganic fillers may also be included. In addition to the polymer, the resin composition may contain resins such as polyphenylene ether, epoxy resin, unsaturated polyester resin, and thermosetting polyimide resin.

前記硬化剤としては、前記重合体と反応して、前記重合体と前記硬化剤とが架橋し、前記樹脂組成物を硬化させることができる硬化剤(架橋型架橋剤)であれば、特に限定されない。前記架橋型硬化剤としては、例えば、分子中に不飽和二重結合を2個以上有する化合物、アルケニルイソシアヌレート化合物、スチレン、スチレン誘導体、分子中にアリル基少なくとも1つ以上を有するアリル化合物、分子中にマレイミド基を少なくとも2つ以上有する多官能マレイミド化合物、変性マレイミド化合物、及び分子中にアセナフチレン構造を有するアセナフチレン化合物等が挙げられる。また、前記分子中に不飽和二重結合を2個以上有する化合物としては、分子中にメタクリロイル基を2個以上有する多官能メタクリレート化合物、分子中にアクリロイル基を2個以上有する多官能アクリレート化合物、及び分子中にビニル基を2個以上有する多官能ビニル化合物等が挙げられる。前記多官能ビニル化合物としては、例えば、ジビニルベンゼン、及びポリブタジエン等が挙げられる。前記アルケニルイソシアヌレート化合物としては、イソシアヌレート構造及びアルケニル基を分子中に有する化合物であればよく、例えば、トリアリルイソシアヌレート(TAIC)等のトリアルケニルイソシアヌレート化合物等が挙げられる。前記スチレン誘導体としては、ブロモスチレン等が挙げられる。前記変性マレイミド化合物としては、例えば、分子中の一部がアミン変性された変性マレイミド化合物、分子中の一部がシリコーン変性された変性マレイミド化合物、及び分子中の一部がアミン変性及びシリコーン変性された変性マレイミド化合物等が挙げられる。この中でも、前記アルケニルイソシアヌレート化合物、前記多官能アクリレート化合物、前記多官能メタクリレート化合物、及び前記多官能ビニル化合物が、前記樹脂組成物の硬化物の耐熱性をより高めることができる点で好ましい。このことは、これらの架橋型硬化剤を用いることによって、硬化反応により、前記樹脂組成物の架橋がより好適に形成されることによると考えられる。また、前記架橋型硬化剤は、例示した架橋型硬化剤を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、前記架橋型硬化剤としては、前記分子中に不飽和二重結合を2個以上有する化合物等の、上記に例示した架橋型硬化剤だけではなく、分子中に不飽和二重結合を1個有する化合物を併用してもよい。前記分子中に不飽和二重結合を1個有する化合物としては、例えば、分子中にビニル基を1個有するモノビニル化合物等が挙げられる。 The curing agent is particularly limited as long as it is a curing agent (crosslinking type crosslinking agent) that can react with the polymer to crosslink the polymer and the curing agent and cure the resin composition. not. Examples of the cross-linking curing agent include compounds having two or more unsaturated double bonds in the molecule, alkenyl isocyanurate compounds, styrene, styrene derivatives, allyl compounds having at least one allyl group in the molecule, molecules Examples include polyfunctional maleimide compounds having at least two maleimide groups therein, modified maleimide compounds, and acenaphthylene compounds having an acenaphthylene structure in the molecule. Further, the compound having two or more unsaturated double bonds in the molecule includes a polyfunctional methacrylate compound having two or more methacryloyl groups in the molecule, a polyfunctional acrylate compound having two or more acryloyl groups in the molecule, and polyfunctional vinyl compounds having two or more vinyl groups in the molecule. Examples of the polyfunctional vinyl compound include divinylbenzene and polybutadiene. The alkenyl isocyanurate compound may be any compound having an isocyanurate structure and an alkenyl group in the molecule, and examples thereof include triallyl isocyanurate (TAIC) and other triallyl isocyanurate compounds. Bromostyrene etc. are mentioned as said styrene derivative. Examples of the modified maleimide compound include a modified maleimide compound in which a portion of the molecule is amine-modified, a modified maleimide compound in which a portion of the molecule is modified with silicone, and a modified maleimide compound in which a portion of the molecule is amine-modified and silicone-modified. and modified maleimide compounds. Among these, the alkenyl isocyanurate compound, the polyfunctional acrylate compound, the polyfunctional methacrylate compound, and the polyfunctional vinyl compound are preferable because they can further increase the heat resistance of the cured product of the resin composition. This is believed to be due to the fact that the use of these cross-linking curing agents facilitates the formation of cross-links in the resin composition through the curing reaction. In addition, as the cross-linking curing agent, the exemplified cross-linking curing agents may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. In addition, as the cross-linking curing agent, not only the above-exemplified cross-linking curing agents such as compounds having two or more unsaturated double bonds in the molecule, but also compounds having one unsaturated double bond in the molecule. Individual compounds may be used in combination. Examples of the compound having one unsaturated double bond in the molecule include monovinyl compounds having one vinyl group in the molecule.

前記多官能メタクリレート化合物としては、例えば、分子中にポリフェニレンエーテル構造及び2つ以上のメタクリロイル基を有する化合物、及びトリシクロデカンジメタノールジメタクリレート等が挙げられる。前記分子中にポリフェニレンエーテル構造及び2つ以上のメタクリロイル基を有する化合物としては、ポリフェニレンエーテルの末端水酸基をメタクリル基で変性したメタクリル変性ポリフェニレンエーテル化合物等が挙げられる。 Examples of the polyfunctional methacrylate compound include compounds having a polyphenylene ether structure and two or more methacryloyl groups in the molecule, and tricyclodecanedimethanol dimethacrylate. Examples of the compound having a polyphenylene ether structure and two or more methacryloyl groups in the molecule include methacryl-modified polyphenylene ether compounds obtained by modifying terminal hydroxyl groups of polyphenylene ether with methacryl groups.

本実施形態に係る樹脂組成物は、上述したように、シランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤は、樹脂組成物に含有してもよいし、樹脂組成物に含有されている無機充填材に予め表面処理されたシランカップリング剤として含有していてもよい。この中でも、前記シランカップリング剤としては、無機充填材に予め表面処理されたシランカップリング剤として含有することが好ましく、このように無機充填材に予め表面処理されたシランカップリング剤として含有し、さらに、樹脂組成物にもシランカップリング剤を含有させることがより好ましい。また、プリプレグの場合、そのプリプレグには、繊維質基材に予め表面処理されたシランカップリング剤として含有していてもよい。 The resin composition according to this embodiment may contain a silane coupling agent as described above. The silane coupling agent may be contained in the resin composition, or may be contained as a silane coupling agent surface-treated in advance in the inorganic filler contained in the resin composition. Among these, the silane coupling agent is preferably contained as a silane coupling agent surface-treated in advance on the inorganic filler. Furthermore, it is more preferable to incorporate a silane coupling agent into the resin composition. Moreover, in the case of prepreg, the prepreg may contain a silane coupling agent that is previously surface-treated on the fibrous base material.

前記シランカップリング剤としては、例えば、ビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、フェニルアミノ基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基を有するシランカップリング剤等が挙げられる。すなわち、このシランカップリング剤は、反応性官能基として、ビニル基、スチリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、及びフェニルアミノ基のうち、少なくとも1つを有し、さらに、メトキシ基やエトキシ基等の加水分解性基を有する化合物等が挙げられる。 Examples of the silane coupling agent include silane coupling agents having at least one functional group selected from the group consisting of a vinyl group, a styryl group, a methacryloyl group, an acryloyl group, and a phenylamino group. That is, this silane coupling agent has at least one of a vinyl group, a styryl group, a methacryloyl group, an acryloyl group, and a phenylamino group as a reactive functional group. Examples thereof include compounds having a hydrolyzable group.

前記シランカップリング剤としては、ビニル基を有するものとして、例えば、ビニルトリエトキシシラン、及びビニルトリメトキシシラン等が挙げられる。前記シランカップリング剤としては、スチリル基を有するものとして、例えば、p-スチリルトリメトキシシラン、及びp-スチリルトリエトキシシラン等が挙げられる。前記シランカップリング剤としては、メタクリロイル基を有するものとして、例えば、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、及び3-メタクリロキシプロピルエチルジエトキシシラン等が挙げられる。前記シランカップリング剤としては、アクリロイル基を有するものとして、例えば、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、及び3-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。前記シランカップリング剤としては、フェニルアミノ基を有するものとして、例えば、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン及びN-フェニル-3-アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the silane coupling agent having a vinyl group include vinyltriethoxysilane and vinyltrimethoxysilane. Examples of the silane coupling agent having a styryl group include p-styryltrimethoxysilane and p-styryltriethoxysilane. Examples of the silane coupling agent having a methacryloyl group include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyl diethoxysilane, 3-methacryloxypropylethyldiethoxysilane, and the like. Examples of the silane coupling agent having an acryloyl group include 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and 3-acryloxypropyltriethoxysilane. Examples of the silane coupling agent having a phenylamino group include N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane and N-phenyl-3-aminopropyltriethoxysilane.

本実施形態に係る樹脂組成物は、上述したように、難燃剤を含有してもよい。難燃剤を含有することによって、樹脂組成物の硬化物の難燃性を高めることができる。前記難燃剤は、特に限定されない。具体的には、臭素系難燃剤等のハロゲン系難燃剤を使用する分野では、例えば、融点が300℃以上のエチレンジペンタブロモベンゼン、エチレンビステトラブロモイミド、デカブロモジフェニルオキサイド、及びテトラデカブロモジフェノキシベンゼンが好ましい。ハロゲン系難燃剤を使用することにより、高温時におけるハロゲンの脱離が抑制でき、耐熱性の低下を抑制できると考えられる。また、ハロゲンフリーが要求される分野では、リン酸エステル系難燃剤、ホスファゼン系難燃剤、ビスジフェニルホスフィンオキサイド系難燃剤、及びホスフィン酸塩系難燃剤が挙げられる。リン酸エステル系難燃剤の具体例としては、ジキシレニルホスフェートの縮合リン酸エステルが挙げられる。ホスファゼン系難燃剤の具体例としては、フェノキシホスファゼンが挙げられる。ビスジフェニルホスフィンオキサイド系難燃剤の具体例としては、キシリレンビスジフェニルホスフィンオキサイドが挙げられる。ホスフィン酸塩系難燃剤の具体例としては、例えば、ジアルキルホスフィン酸アルミニウム塩のホスフィン酸金属塩が挙げられる。前記難燃剤としては、例示した各難燃剤を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The resin composition according to this embodiment may contain a flame retardant as described above. By containing a flame retardant, the flame retardancy of the cured product of the resin composition can be enhanced. The flame retardant is not particularly limited. Specifically, in the field of using halogen-based flame retardants such as brominated flame retardants, for example, ethylene dipentabromobenzene, ethylenebistetrabromoimide, decabromodiphenyl oxide, and tetradecabromo, which have a melting point of 300° C. or higher Diphenoxybenzene is preferred. By using a halogen-based flame retardant, desorption of halogen at high temperatures can be suppressed, and it is thought that a decrease in heat resistance can be suppressed. Further, in fields where halogen-free is required, phosphate ester-based flame retardants, phosphazene-based flame retardants, bisdiphenylphosphine oxide-based flame retardants, and phosphinate-based flame retardants can be used. Specific examples of the phosphate flame retardant include condensed phosphate of dixylenyl phosphate. A specific example of the phosphazene-based flame retardant is phenoxyphosphazene. Specific examples of bisdiphenylphosphine oxide flame retardants include xylylenebisdiphenylphosphine oxide. Specific examples of phosphinate-based flame retardants include metal phosphinates of aluminum dialkylphosphinates. As the flame retardant, each of the exemplified flame retardants may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.

本実施形態に係る樹脂組成物には、上述したように、開始剤(反応開始剤)を含有してもよい。前記樹脂組成物は、前記重合体と前記単官能マレイミドとからなるものであっても、硬化反応は進行し得る。しかしながら、プロセス条件によっては硬化が進行するまで高温にすることが困難な場合があるので、反応開始剤を添加してもよい。反応開始剤は、前記重合体と前記単官能マレイミド化合物との硬化反応を促進することができるものであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、α,α’-ジ(t-ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)-3-ヘキシン、過酸化ベンゾイル、3,3’,5,5’-テトラメチル-1,4-ジフェノキノン、クロラニル、2,4,6-トリ-t-ブチルフェノキシル、t-ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート、アゾビスイソブチロニトリル等の酸化剤が挙げられる。また、必要に応じて、カルボン酸金属塩等を併用することができる。そうすることによって、硬化反応を一層促進させるができる。これらの中でも、α,α’-ジ(t-ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼンが好ましく用いられる。α,α’-ジ(t-ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼンは、反応開始温度が比較的に高いため、プリプレグ乾燥時等の硬化する必要がない時点での硬化反応の促進を抑制することができ、前記樹脂組成物の保存性の低下を抑制することができる。さらに、α,α’-ジ(t-ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼンは、揮発性が低いため、プリプレグ乾燥時や保存時に揮発せず、安定性が良好である。また、反応開始剤は、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The resin composition according to the present embodiment may contain an initiator (reaction initiator) as described above. Even if the resin composition consists of the polymer and the monofunctional maleimide, the curing reaction can proceed. However, depending on the process conditions, it may be difficult to increase the temperature until curing proceeds, so a reaction initiator may be added. The reaction initiator is not particularly limited as long as it can accelerate the curing reaction between the polymer and the monofunctional maleimide compound. Specifically, for example, α,α'-di(t-butylperoxy)diisopropylbenzene, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)-3-hexyne, benzoyl peroxide, 3,3′,5,5′-tetramethyl-1,4-diphenoquinone, chloranil, 2,4,6-tri-t-butylphenoxyl, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, azobisisobutyronitrile, etc. oxidizing agents. Moreover, carboxylic acid metal salt etc. can be used together as needed. By doing so, the curing reaction can be further accelerated. Among these, α,α'-di(t-butylperoxy)diisopropylbenzene is preferably used. Since α,α'-di(t-butylperoxy)diisopropylbenzene has a relatively high reaction initiation temperature, it is possible to suppress the acceleration of the curing reaction at a time when curing is not necessary, such as when the prepreg is dried. , the deterioration of the storage stability of the resin composition can be suppressed. Furthermore, since α,α'-di(t-butylperoxy)diisopropylbenzene has low volatility, it does not volatilize during drying or storage of the prepreg and has good stability. Moreover, the reaction initiator may be used alone or in combination of two or more.

本実施形態に係る樹脂組成物には、上述したように、無機充填材等の充填材を含有してもよい。充填材としては、樹脂組成物の硬化物の、耐熱性及び難燃性を高めるために添加するもの等が挙げられ、特に限定されない。また、充填材を含有させることによって、耐熱性及び難燃性等をさらに高めることができる。充填材としては、具体的には、球状シリカ等のシリカ、アルミナ、酸化チタン、及びマイカ等の金属酸化物、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物、タルク、ホウ酸アルミニウム、硫酸バリウム、及び炭酸カルシウム等が挙げられる。また、充填材としては、この中でも、シリカ、マイカ、及びタルクが好ましく、球状シリカがより好ましい。また、充填材は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、充填材としては、そのまま用いてもよいし、前記シランカップリング剤で表面処理したものを用いてもよい。また、充填材を含有する場合、その含有率(フィラーコンテンツ)は、前記樹脂組成物に対して、30~270質量%であることが好ましく、50~250質量%であることがより好ましい。 As described above, the resin composition according to the present embodiment may contain a filler such as an inorganic filler. The filler is not particularly limited and includes those added to improve the heat resistance and flame retardancy of the cured product of the resin composition. Moreover, heat resistance, flame retardancy, etc. can be further improved by containing a filler. Specific examples of fillers include silica such as spherical silica, metal oxides such as alumina, titanium oxide and mica, metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, talc, aluminum borate, and sulfuric acid. barium, calcium carbonate, and the like. Among these fillers, silica, mica, and talc are preferable, and spherical silica is more preferable. Moreover, a filler may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more types. The filler may be used as it is, or may be surface-treated with the silane coupling agent. When a filler is contained, its content (filler content) is preferably 30 to 270% by mass, more preferably 50 to 250% by mass, relative to the resin composition.

(製造方法)
前記樹脂組成物を製造する方法としては、特に限定されず、例えば、前記重合体、及び前記単官能マレイミド化合物を、所定の含有量となるように混合する方法等が挙げられる。具体的には、有機溶媒を含むワニス状の組成物を得る場合は、後述する方法等が挙げられる。
(Production method)
A method for producing the resin composition is not particularly limited, and examples thereof include a method of mixing the polymer and the monofunctional maleimide compound so that the content is predetermined. Specifically, when obtaining a varnish-like composition containing an organic solvent, the method described later and the like can be used.

また、本実施形態に係る樹脂組成物を用いることによって、以下のように、プリプレグ、金属張積層板、配線板、樹脂付き金属箔、及び樹脂付きフィルムを得ることができる。 Moreover, by using the resin composition according to the present embodiment, a prepreg, a metal-clad laminate, a wiring board, a resin-coated metal foil, and a resin-coated film can be obtained as follows.

[プリプレグ]
図1は、本発明の実施形態に係るプリプレグ1の一例を示す概略断面図である。
[Prepreg]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a prepreg 1 according to an embodiment of the invention.

本実施形態に係るプリプレグ1は、図1に示すように、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物2と、繊維質基材3とを備える。このプリプレグ1は、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物2と、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物2の中に存在する繊維質基材3とを備える。 A prepreg 1 according to the present embodiment includes the resin composition or a semi-cured material 2 of the resin composition, and a fibrous base material 3, as shown in FIG. The prepreg 1 comprises the resin composition or a semi-cured material 2 of the resin composition, and a fibrous base material 3 present in the resin composition or the semi-cured material 2 of the resin composition.

なお、本実施形態において、半硬化物とは、樹脂組成物をさらに硬化しうる程度に途中まで硬化された状態のものである。すなわち、半硬化物は、樹脂組成物を半硬化した状態の(Bステージ化された)ものである。例えば、樹脂組成物は、加熱すると、最初、粘度が徐々に低下し、その後、硬化が開始し、その後、硬化が開始し、粘度が徐々に上昇する。このような場合、半硬化としては、粘度が上昇し始めてから、完全に硬化する前の間の状態等が挙げられる。 In the present embodiment, the semi-cured product is a state in which the resin composition is partially cured to the extent that it can be further cured. That is, the semi-cured product is a semi-cured resin composition (B-staged). For example, when the resin composition is heated, the viscosity first gradually decreases, then curing starts, and then curing starts and the viscosity gradually increases. In such a case, semi-curing includes the state between when the viscosity starts to rise and before it is completely cured.

また、本実施形態に係る樹脂組成物を用いて得られるプリプレグとしては、上記のような、前記樹脂組成物の半硬化物を備えるものであってもよいし、また、硬化させていない前記樹脂組成物そのものを備えるものであってもよい。すなわち、前記樹脂組成物の半硬化物(Bステージの前記樹脂組成物)と、繊維質基材とを備えるプリプレグであってもよいし、硬化前の前記樹脂組成物(Aステージの前記樹脂組成物)と、繊維質基材とを備えるプリプレグであってもよい。また、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物としては、前記樹脂組成物を乾燥又は加熱乾燥させたものであってもよい。 In addition, the prepreg obtained using the resin composition according to the present embodiment may include a semi-cured product of the resin composition as described above, or may include the uncured resin composition. It may comprise the composition itself. That is, it may be a prepreg comprising a semi-cured product of the resin composition (the resin composition in the B stage) and a fibrous base material, or the resin composition before curing (the resin composition in the A stage). and a fibrous base material. Further, the resin composition or the semi-cured product of the resin composition may be obtained by drying or heat-drying the resin composition.

プリプレグを製造する際には、プリプレグを形成するための基材である繊維質基材3に含浸するために、樹脂組成物2は、ワニス状に調製されて用いられることが多い。すなわち、樹脂組成物2は、通常、ワニス状に調製された樹脂ワニスであることが多い。このようなワニス状の樹脂組成物(樹脂ワニス)は、例えば、以下のようにして調製される。 When producing a prepreg, the resin composition 2 is often prepared in the form of a varnish and used to impregnate the fibrous base material 3, which is the base material for forming the prepreg. That is, the resin composition 2 is usually a resin varnish prepared in the form of a varnish. Such a varnish-like resin composition (resin varnish) is prepared, for example, as follows.

まず、有機溶媒に溶解できる各成分を、有機溶媒に投入して溶解させる。この際、必要に応じて、加熱してもよい。その後、必要に応じて用いられる、有機溶媒に溶解しない成分を添加して、ボールミル、ビーズミル、プラネタリーミキサー、ロールミル等を用いて、所定の分散状態になるまで分散させることにより、ワニス状の樹脂組成物が調製される。ここで用いられる有機溶媒としては、前記重合体、及び前記単官能マレイミド化合物等を溶解させ、硬化反応を阻害しないものであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、トルエンやメチルエチルケトン(MEK)等が挙げられる。 First, each component that can be dissolved in an organic solvent is put into the organic solvent and dissolved. At this time, it may be heated, if necessary. After that, a component that is insoluble in an organic solvent, which is used as necessary, is added, and dispersed by using a ball mill, a bead mill, a planetary mixer, a roll mill, or the like, until a predetermined dispersed state is obtained, thereby forming a varnish-like resin. A composition is prepared. The organic solvent used here is not particularly limited as long as it dissolves the polymer, the monofunctional maleimide compound and the like and does not inhibit the curing reaction. Specific examples include toluene and methyl ethyl ketone (MEK).

前記プリプレグの製造方法は、前記プリプレグを製造することができれば、特に限定されない。具体的には、プリプレグを製造する際には、上述した本実施形態で用いる樹脂組成物は、上述したように、ワニス状に調製し、樹脂ワニスとして用いられることが多い。 A method for manufacturing the prepreg is not particularly limited as long as the prepreg can be manufactured. Specifically, when producing a prepreg, the resin composition used in the present embodiment described above is often prepared in the form of a varnish and used as a resin varnish, as described above.

前記繊維質基材としては、具体的には、例えば、ガラスクロス、アラミドクロス、ポリエステルクロス、ガラス不織布、アラミド不織布、ポリエステル不織布、パルプ紙、及びリンター紙が挙げられる。なお、ガラスクロスを用いると、機械強度が優れた積層板が得られ、特に偏平処理加工したガラスクロスが好ましい。偏平処理加工として、具体的には、例えば、ガラスクロスを適宜の圧力でプレスロールにて連続的に加圧してヤーンを偏平に圧縮する方法が挙げられる。なお、一般的に使用される繊維質基材の厚さは、例えば、0.01mm以上、0.3mm以下である。 Specific examples of the fibrous base material include glass cloth, aramid cloth, polyester cloth, glass nonwoven fabric, aramid nonwoven fabric, polyester nonwoven fabric, pulp paper, and linter paper. When glass cloth is used, a laminate having excellent mechanical strength can be obtained, and flattened glass cloth is particularly preferable. As a specific example of the flattening process, there is a method in which glass cloth is continuously pressed with press rolls at an appropriate pressure to flatten the yarn. In addition, the thickness of the generally used fibrous base material is, for example, 0.01 mm or more and 0.3 mm or less.

前記プリプレグの製造方法は、前記プリプレグを製造することができれば、特に限定されない。具体的には、プリプレグを製造する際には、上述した本実施形態に係る樹脂組成物は、上述したように、ワニス状に調製し、樹脂ワニスとして用いられることが多い。 A method for manufacturing the prepreg is not particularly limited as long as the prepreg can be manufactured. Specifically, when producing a prepreg, the resin composition according to the present embodiment described above is often prepared in the form of a varnish and used as a resin varnish, as described above.

プリプレグ1を製造する方法としては、例えば、樹脂組成物2、例えば、ワニス状に調製された樹脂組成物2を繊維質基材3に含浸させた後、乾燥する方法が挙げられる。 樹脂組成物2は、繊維質基材3へ、浸漬及び塗布等によって含浸される。必要に応じて複数回繰り返して含浸することも可能である。また、この際、組成や濃度の異なる複数の樹脂組成物を用いて含浸を繰り返すことにより、最終的に希望とする組成及び含浸量に調整することも可能である。 As a method of manufacturing the prepreg 1, for example, a method of impregnating the fibrous base material 3 with the resin composition 2, for example, the resin composition 2 prepared in the form of varnish, and then drying the impregnated resin composition 2 can be mentioned. The resin composition 2 is impregnated into the fibrous base material 3 by dipping, coating, or the like. It is also possible to repeat impregnation several times as needed. In this case, it is also possible to adjust the desired composition and impregnation amount by repeating the impregnation using a plurality of resin compositions having different compositions and concentrations.

樹脂組成物(樹脂ワニス)2が含浸された繊維質基材3は、所望の加熱条件、例えば、80℃以上180℃以下で1分間以上10分間以下加熱される。加熱によって、硬化前(Aステージ)又は半硬化状態(Bステージ)のプリプレグ1が得られる。なお、前記加熱によって、前記樹脂ワニスから有機溶媒を揮発させ、有機溶媒を減少又は除去させることができる。 The fibrous base material 3 impregnated with the resin composition (resin varnish) 2 is heated under desired heating conditions, for example, at 80° C. or higher and 180° C. or lower for 1 minute or longer and 10 minutes or shorter. By heating, the prepreg 1 is obtained before curing (A stage) or in a semi-cured state (B stage). The heating can volatilize the organic solvent from the resin varnish and reduce or remove the organic solvent.

本実施形態に係る樹脂組成物は、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が好適に得られる樹脂組成物である。このため、この樹脂組成物又はこの樹脂組成物の半硬化物を備えるプリプレグは、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が好適に得られるプリプレグである。そして、このプリプレグは、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い絶縁層を備える配線板を製造することができるプリプレグである。 The resin composition according to the present embodiment is a resin composition from which a cured product having low dielectric properties and high heat resistance can be suitably obtained. Therefore, a prepreg comprising this resin composition or a semi-cured product of this resin composition is a prepreg from which a cured product with low dielectric properties and high heat resistance can be suitably obtained. This prepreg is a prepreg from which a wiring board having an insulating layer with low dielectric properties and high heat resistance can be manufactured.

[金属張積層板]
図2は、本発明の実施形態に係る金属張積層板11の一例を示す概略断面図である。
[Metal clad laminate]
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the metal-clad laminate 11 according to the embodiment of the invention.

金属張積層板11は、図2に示すように、図1に示したプリプレグ1の硬化物を含む絶縁層12と、絶縁層12とともに積層される金属箔13とから構成されている。すなわち、金属張積層板11は、樹脂組成物の硬化物を含む絶縁層12と、絶縁層12の上に設けられた金属箔13とを有する。また、絶縁層12は、前記樹脂組成物の硬化物からなるものであってもよいし、前記プリプレグの硬化物からなるものであってもよい。また、前記金属箔13の厚みは、最終的に得られる配線板に求められる性能等に応じて異なり、特に限定されない。金属箔13の厚みは、所望の目的に応じて、適宜設定することができ、例えば、0.2~70μmであることが好ましい。また、前記金属箔13としては、例えば、銅箔及びアルミニウム箔等が挙げられ、前記金属箔が薄い場合は、ハンドリング性を向上のために剥離層及びキャリアを備えたキャリア付銅箔であってもよい。 As shown in FIG. 2, the metal-clad laminate 11 is composed of an insulating layer 12 containing a cured product of the prepreg 1 shown in FIG. That is, the metal-clad laminate 11 has an insulating layer 12 containing a cured resin composition and a metal foil 13 provided on the insulating layer 12 . Moreover, the insulating layer 12 may be made of a cured product of the resin composition, or may be made of a cured product of the prepreg. Moreover, the thickness of the metal foil 13 is not particularly limited, and varies depending on the performance required for the finally obtained wiring board. The thickness of the metal foil 13 can be appropriately set according to the desired purpose, and is preferably 0.2 to 70 μm, for example. Examples of the metal foil 13 include copper foil and aluminum foil. When the metal foil is thin, a carrier-attached copper foil having a peeling layer and a carrier for improving handling properties can be used. good too.

前記金属張積層板11を製造する方法としては、前記金属張積層板11を製造することができれば、特に限定されない。具体的には、プリプレグ1を用いて金属張積層板11を作製する方法が挙げられる。この方法としては、プリプレグ1を1枚又は複数枚重ね、さらに、その上下の両面又は片面に銅箔等の金属箔13を重ね、金属箔13およびプリプレグ1を加熱加圧成形して積層一体化することによって、両面金属箔張り又は片面金属箔張りの積層板11を作製する方法等が挙げられる。すなわち、金属張積層板11は、プリプレグ1に金属箔13を積層して、加熱加圧成形して得られる。また、加熱加圧条件は、製造する金属張積層板11の厚みやプリプレグ1の組成物の種類等により適宜設定することができる。例えば、温度を170~210℃、圧力を3.5~4MPa、時間を60~150分間とすることができる。また、前記金属張積層板は、プリプレグを用いずに製造してもよい。例えば、ワニス状の樹脂組成物を金属箔上に塗布し、金属箔上に樹脂組成物を含む層を形成した後に、加熱加圧する方法等が挙げられる。 A method for manufacturing the metal-clad laminate 11 is not particularly limited as long as the metal-clad laminate 11 can be manufactured. Specifically, a method of producing a metal-clad laminate 11 using the prepreg 1 can be mentioned. As this method, one or more prepregs 1 are stacked, and metal foils 13 such as copper foils are stacked on both sides or one side of the prepregs 1, and the metal foils 13 and the prepregs 1 are heat-pressed and laminated to integrate. A method of manufacturing a laminate 11 with metal foil on both sides or with metal foil on one side, etc., can be mentioned. That is, the metal-clad laminate 11 is obtained by laminating the metal foil 13 on the prepreg 1 and molding it under heat and pressure. Moreover, the heating and pressurizing conditions can be appropriately set according to the thickness of the metal-clad laminate 11 to be manufactured, the type of composition of the prepreg 1, and the like. For example, the temperature can be 170-210° C., the pressure can be 3.5-4 MPa, and the time can be 60-150 minutes. Moreover, the metal-clad laminate may be produced without using a prepreg. For example, there is a method of applying a varnish-like resin composition onto a metal foil, forming a layer containing the resin composition on the metal foil, and heating and pressurizing the layer.

本実施形態に係る樹脂組成物は、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が好適に得られる樹脂組成物である。このため、この樹脂組成物の硬化物を含む絶縁層を備える金属張積層板は、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い絶縁層を備える金属張積層板である。そして、この金属張積層板は、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い絶縁層を備える配線板を製造することができる金属張積層板である。 The resin composition according to the present embodiment is a resin composition from which a cured product having low dielectric properties and high heat resistance can be suitably obtained. Therefore, a metal-clad laminate having an insulating layer containing a cured product of this resin composition is a metal-clad laminate having an insulating layer with low dielectric properties and high heat resistance. This metal-clad laminate is a metal-clad laminate from which a wiring board having an insulating layer with low dielectric properties and high heat resistance can be manufactured.

[配線板]
図3は、本発明の実施形態に係る配線板21の一例を示す概略断面図である。
[Wiring board]
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of the wiring board 21 according to the embodiment of the invention.

本実施形態に係る配線板21は、図3に示すように、図1に示したプリプレグ1を硬化して用いられる絶縁層12と、絶縁層12ともに積層され、金属箔13を部分的に除去して形成された配線14とから構成されている。すなわち、前記配線板21は、樹脂組成物の硬化物を含む絶縁層12と、絶縁層12の上に設けられた配線14とを有する。また、絶縁層12は、前記樹脂組成物の硬化物からなるものであってもよいし、前記プリプレグの硬化物からなるものであってもよい。 As shown in FIG. 3, a wiring board 21 according to the present embodiment is laminated with an insulating layer 12 that is used by curing the prepreg 1 shown in FIG. and a wiring 14 formed as follows. That is, the wiring board 21 has an insulating layer 12 containing a cured product of a resin composition and wirings 14 provided on the insulating layer 12 . Moreover, the insulating layer 12 may be made of a cured product of the resin composition, or may be made of a cured product of the prepreg.

前記配線板21を製造する方法は、前記配線板21を製造することができれば、特に限定されない。具体的には、前記プリプレグ1を用いて配線板21を作製する方法等が挙げられる。この方法としては、例えば、上記のように作製された金属張積層板11の表面の金属箔13をエッチング加工等して配線形成をすることによって、絶縁層12の表面に回路として配線が設けられた配線板21を作製する方法等が挙げられる。すなわち、配線板21は、金属張積層板11の表面の金属箔13を部分的に除去することにより回路形成して得られる。また、回路形成する方法としては、上記の方法以外に、例えば、セミアディティブ法(SAP:Semi Additive Process)やモディファイドセミアディティブ法(MSAP:Modified Semi Additive Process)による回路形成等が挙げられる。配線板21は、ガラス転移温度が高く、吸水率が低く、及び吸水後であっても、吸水による、誘電率及び誘電正接の上昇を充分に抑制した絶縁層12を有する。 A method for manufacturing the wiring board 21 is not particularly limited as long as the wiring board 21 can be manufactured. Specifically, a method of manufacturing a wiring board 21 using the prepreg 1, and the like can be mentioned. As this method, for example, wiring is provided as a circuit on the surface of the insulating layer 12 by etching the metal foil 13 on the surface of the metal-clad laminate 11 produced as described above to form wiring. and a method for fabricating the wiring board 21 . That is, wiring board 21 is obtained by partially removing metal foil 13 from the surface of metal-clad laminate 11 to form a circuit. In addition to the above methods, other methods for forming a circuit include, for example, forming a circuit by a semi-additive process (SAP: Semi Additive Process) or a modified semi-additive process (MSAP: Modified Semi Additive Process). Wiring board 21 has insulating layer 12 which has a high glass transition temperature, a low water absorption rate, and sufficiently suppresses increases in dielectric constant and dielectric loss tangent due to water absorption even after water absorption.

このような配線板は、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い絶縁層を備える配線板である。 Such a wiring board is a wiring board having an insulating layer with low dielectric properties and high heat resistance.

[樹脂付き金属箔]
図4は、本実施の形態に係る樹脂付き金属箔31の一例を示す概略断面図である。
[Metal foil with resin]
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of the resin-coated metal foil 31 according to this embodiment.

本実施形態に係る樹脂付き金属箔31は、図4に示すように、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含む樹脂層32と、金属箔13とを備える。この樹脂付き金属箔31は、前記樹脂層32の表面上に金属箔13を有する。すなわち、この樹脂付き金属箔31は、前記樹脂層32と、前記樹脂層32とともに積層される金属箔13とを備える。また、前記樹脂付き金属箔31は、前記樹脂層32と前記金属箔13との間に、他の層を備えていてもよい。 A resin-coated metal foil 31 according to the present embodiment includes a resin layer 32 containing the resin composition or a semi-cured material of the resin composition, and a metal foil 13, as shown in FIG. This resin-coated metal foil 31 has a metal foil 13 on the surface of the resin layer 32 . That is, the resin-coated metal foil 31 includes the resin layer 32 and the metal foil 13 laminated together with the resin layer 32 . Moreover, the resin-coated metal foil 31 may have another layer between the resin layer 32 and the metal foil 13 .

また、前記樹脂層32としては、上記のような、前記樹脂組成物の半硬化物を含むものであってもよいし、また、硬化させていない前記樹脂組成物を含むものであってもよい。すなわち、前記樹脂付き金属箔31は、前記樹脂組成物の半硬化物(Bステージの前記樹脂組成物)を含む樹脂層と、金属箔とを備えるであってもよいし、硬化前の前記樹脂組成物(Aステージの前記樹脂組成物)を含む樹脂層と、金属箔とを備える樹脂付き金属箔であってもよい。また、前記樹脂層としては、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含んでいればよく、繊維質基材を含んでいても、含んでいなくてもよい。また、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物としては、前記樹脂組成物を乾燥又は加熱乾燥させたものであってもよい。また、繊維質基材としては、プリプレグの繊維質基材と同様のものを用いることができる。 The resin layer 32 may contain a semi-cured material of the resin composition as described above, or may contain the uncured resin composition. . That is, the resin-coated metal foil 31 may include a resin layer containing a semi-cured product of the resin composition (the B-stage resin composition) and a metal foil, or may include the resin before curing. It may be a resin-coated metal foil comprising a resin layer containing the composition (the resin composition in the A stage) and a metal foil. The resin layer may contain the resin composition or a semi-cured material of the resin composition, and may or may not contain a fibrous base material. Further, the resin composition or the semi-cured product of the resin composition may be obtained by drying or heat-drying the resin composition. As the fibrous base material, the same fibrous base material as that of the prepreg can be used.

また、金属箔としては、金属張積層板に用いられる金属箔を限定なく用いることができる。金属箔としては、例えば、銅箔及びアルミニウム箔等が挙げられる。 As the metal foil, any metal foil used for metal-clad laminates can be used without limitation. Examples of metal foil include copper foil and aluminum foil.

前記樹脂付き金属箔31及び前記樹脂付きフィルム41は、必要に応じて、カバーフィル等を備えてもよい。カバーフィルムを備えることにより、異物の混入等を防ぐことができる。前記カバーフィルムとしては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリオレフィンフィルム、ポリエステルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、及びこれらのフィルムに離型剤層を設けて形成されたフィルム等が挙げられる。 The resin-coated metal foil 31 and the resin-coated film 41 may be provided with a cover fill or the like, if necessary. By providing the cover film, it is possible to prevent foreign matter from entering. Examples of the cover film include, but are not limited to, polyolefin films, polyester films, polymethylpentene films, and films formed by providing these films with a release agent layer.

前記樹脂付き金属箔31を製造する方法は、前記樹脂付き金属箔31を製造することができれば、特に限定されない。前記樹脂付き金属箔31の製造方法としては、上記ワニス状の樹脂組成物(樹脂ワニス)を金属箔13上に塗布し、加熱することにより製造する方法等が挙げられる。ワニス状の樹脂組成物は、例えば、バーコーターを用いることにより、金属箔13上に塗布される。塗布された樹脂組成物は、例えば、80℃以上180℃以下、1分以上10分以下の条件で加熱される。加熱された樹脂組成物は、未硬化の樹脂層32として、金属箔13上に形成される。なお、前記加熱によって、前記樹脂ワニスから有機溶媒を揮発させ、有機溶媒を減少又は除去させることができる。 A method for manufacturing the resin-coated metal foil 31 is not particularly limited as long as the resin-coated metal foil 31 can be manufactured. Examples of the method for producing the resin-coated metal foil 31 include a method in which the varnish-like resin composition (resin varnish) is applied onto the metal foil 13 and heated. The varnish-like resin composition is applied onto the metal foil 13 by using, for example, a bar coater. The applied resin composition is heated, for example, under conditions of 80° C. to 180° C. and 1 minute to 10 minutes. The heated resin composition is formed on the metal foil 13 as an uncured resin layer 32 . The heating can volatilize the organic solvent from the resin varnish and reduce or remove the organic solvent.

本実施形態に係る樹脂組成物は、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が好適に得られる樹脂組成物である。このため、この樹脂組成物又はこの樹脂組成物の半硬化物を含む樹脂層を備える樹脂付き金属箔は、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が好適に得られる樹脂付き金属箔である。そして、この樹脂付き金属箔は、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い絶縁層を備える配線板を製造する際に用いることができる。例えば、配線板の上に積層することによって、多層の配線板を製造することができる。このような樹脂付き金属箔を用いて得られた配線板としては、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い絶縁層を備える配線板が得られる。 The resin composition according to the present embodiment is a resin composition from which a cured product having low dielectric properties and high heat resistance can be suitably obtained. Therefore, the resin-coated metal foil provided with a resin layer containing this resin composition or a semi-cured product of this resin composition has low dielectric properties and a resin-coated metal foil from which a cured product with high heat resistance can be suitably obtained. is. This resin-coated metal foil can be used when manufacturing a wiring board having an insulating layer with low dielectric properties and high heat resistance. For example, a multilayer wiring board can be manufactured by laminating on a wiring board. A wiring board obtained using such a resin-coated metal foil is a wiring board having an insulating layer with low dielectric properties and high heat resistance.

[樹脂付きフィルム]
図5は、本実施の形態に係る樹脂付きフィルム41の一例を示す概略断面図である。
[Film with resin]
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of the resin-coated film 41 according to this embodiment.

本実施形態に係る樹脂付きフィルム41は、図5に示すように、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含む樹脂層42と、支持フィルム43とを備える。この樹脂付きフィルム41は、前記樹脂層42と、前記樹脂層42とともに積層される支持フィルム43とを備える。また、前記樹脂付きフィルム41は、前記樹脂層42と前記支持フィルム43との間に、他の層を備えていてもよい。 A resin-coated film 41 according to this embodiment includes a resin layer 42 containing the resin composition or a semi-cured material of the resin composition, and a support film 43, as shown in FIG. The resin-coated film 41 includes the resin layer 42 and a support film 43 laminated together with the resin layer 42 . Further, the resin-coated film 41 may have another layer between the resin layer 42 and the support film 43 .

また、前記樹脂層42としては、上記のような、前記樹脂組成物の半硬化物を含むものであってもよいし、また、硬化させていない前記樹脂組成物を含むものであってもよい。すなわち、前記樹脂付きフィルム41は、前記樹脂組成物の半硬化物(Bステージの前記樹脂組成物)を含む樹脂層と、支持フィルムとを備えるであってもよいし、硬化前の前記樹脂組成物(Aステージの前記樹脂組成物)を含む樹脂層と、支持フィルムとを備える樹脂付きフィルムであってもよい。また、前記樹脂層としては、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含んでいればよく、繊維質基材を含んでいても、含んでいなくてもよい。また、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物としては、前記樹脂組成物を乾燥又は加熱乾燥させたものであってもよい。また、繊維質基材としては、プリプレグの繊維質基材と同様のものを用いることができる。 The resin layer 42 may contain a semi-cured material of the resin composition as described above, or may contain an uncured resin composition. . That is, the resin-coated film 41 may include a resin layer containing a semi-cured product of the resin composition (the B-stage resin composition) and a support film. It may be a resin-coated film comprising a resin layer containing a substance (the resin composition in the A stage) and a support film. The resin layer may contain the resin composition or a semi-cured material of the resin composition, and may or may not contain a fibrous base material. Further, the resin composition or the semi-cured product of the resin composition may be obtained by drying or heat-drying the resin composition. As the fibrous base material, the same fibrous base material as that of the prepreg can be used.

また、支持フィルム43としては、樹脂付きフィルムに用いられる支持フィルムを限定なく用いることができる。前記支持フィルムとしては、例えば、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリイミドフィルム、ポリパラバン酸フィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム、ポリアミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、及びポリアリレートフィルム等の電気絶縁性フィルム等が挙げられる。 Moreover, as the support film 43, the support film used for the film with resin can be used without limitation. Examples of the support film include electrically insulating films such as polyester film, polyethylene terephthalate (PET) film, polyimide film, polyparabanic acid film, polyetheretherketone film, polyphenylene sulfide film, polyamide film, polycarbonate film, and polyarylate film. A film etc. are mentioned.

前記樹脂付きフィルム41は、必要に応じて、カバーフィルム等を備えてもよい。カバーフィルムを備えることにより、異物の混入等を防ぐことができる。前記カバーフィルムとしては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリオレフィンフィルム、ポリエステルフィルム、及びポリメチルペンテンフィルム等が挙げられる。 The resin-coated film 41 may be provided with a cover film or the like, if necessary. By providing the cover film, it is possible to prevent foreign matter from entering. Examples of the cover film include, but are not limited to, polyolefin film, polyester film, and polymethylpentene film.

前記支持フィルム及びカバーフィルムとしては、必要に応じて、マット処理、コロナ処理、離型処理、及び粗化処理等の表面処理が施されたものであってもよい。 The support film and cover film may be subjected to surface treatment such as matte treatment, corona treatment, release treatment, and roughening treatment, if necessary.

前記樹脂付きフィルム41を製造する方法は、前記樹脂付きフィルム41を製造することができれば、特に限定されない。前記樹脂付きフィルム41の製造方法は、例えば、上記ワニス状の樹脂組成物(樹脂ワニス)を支持フィルム43上に塗布し、加熱することにより製造する方法等が挙げられる。ワニス状の樹脂組成物は、例えば、バーコーターを用いることにより、支持フィルム43上に塗布される。塗布された樹脂組成物は、例えば、80℃以上180℃以下、1分以上10分以下の条件で加熱される。加熱された樹脂組成物は、未硬化の樹脂層42として、支持フィルム43上に形成される。なお、前記加熱によって、前記樹脂ワニスから有機溶媒を揮発させ、有機溶媒を減少又は除去させることができる。 A method for manufacturing the resin-coated film 41 is not particularly limited as long as the resin-coated film 41 can be manufactured. Examples of the method for manufacturing the resin-coated film 41 include a method for manufacturing by applying the varnish-like resin composition (resin varnish) on the support film 43 and heating. The varnish-like resin composition is applied onto the support film 43 by using, for example, a bar coater. The applied resin composition is heated, for example, under conditions of 80° C. to 180° C. and 1 minute to 10 minutes. The heated resin composition is formed on the support film 43 as an uncured resin layer 42 . The heating can volatilize the organic solvent from the resin varnish and reduce or remove the organic solvent.

本実施形態に係る樹脂組成物は、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が好適に得られる樹脂組成物である。このため、この樹脂組成物又はこの樹脂組成物の半硬化物を含む樹脂層を備える樹脂付きフィルムは、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が好適に得られる樹脂付きフィルムである。そして、この樹脂付きフィルムは、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い絶縁層を備える配線板を製造する際に用いることができる。例えば、配線板の上に積層した後に、支持フィルムを剥離すること、又は、支持フィルムを剥離した後に、配線板の上に積層することによって、多層の配線板を製造することができる。このような樹脂付きフィルムを用いて得られた配線板としては、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い絶縁層を備える配線板が得られる。 The resin composition according to the present embodiment is a resin composition from which a cured product having low dielectric properties and high heat resistance can be suitably obtained. Therefore, a resin-coated film provided with a resin layer containing this resin composition or a semi-cured product of this resin composition is a resin-coated film from which a cured product having low dielectric properties and high heat resistance can be suitably obtained. . This resin-coated film can be used when manufacturing a wiring board having an insulating layer with low dielectric properties and high heat resistance. For example, a multilayer wiring board can be manufactured by laminating on a wiring board and then peeling off the supporting film, or by laminating on the wiring board after peeling off the supporting film. As a wiring board obtained by using such a film with resin, a wiring board having an insulating layer with low dielectric properties and high heat resistance is obtained.

本明細書は、上記のように様々な態様の技術を開示しているが、そのうち主な技術を以下に纏める。 Although this specification discloses various aspects of the technology as described above, the main technologies thereof are summarized below.

本発明の一態様に係る樹脂組成物は、分子中に下記式(1)で表される構造単位を有する重合体と、分子中にマレイミド基を1つ有する単官能マレイミド化合物とを含むことを特徴とする樹脂組成物である。 A resin composition according to one aspect of the present invention comprises a polymer having a structural unit represented by the following formula (1) in its molecule, and a monofunctional maleimide compound having one maleimide group in its molecule. A resin composition characterized by:

Figure 0007190649000018
Figure 0007190649000018

式(1)中、Zは、アリーレン基を示し、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を示し、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示す。 In formula (1), Z represents an arylene group, R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 4 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or carbon It represents an alkyl group of numbers 1-6.

このような構成によれば、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が得られる樹脂組成物を提供することができる。また、前記樹脂組成物を用いて配線板を得た際、その得られた配線板の基材の、オーブン耐熱性や吸湿半田耐熱性等の耐熱性が高く、前記配線板を加熱することによっても、前記配線板の基材の誘電特性が変化しにくいという耐熱性も高い。これらのことは、以下のことによると考えられる。 According to such a configuration, it is possible to provide a resin composition that gives a cured product having low dielectric properties and high heat resistance. In addition, when a wiring board is obtained using the resin composition, the base material of the obtained wiring board has high heat resistance such as oven heat resistance and moisture absorption solder heat resistance, and the wiring board can be heated by heating. Also, the substrate of the wiring board has a high heat resistance such that the dielectric properties of the base material do not easily change. These things are considered to be due to the following.

まず、前記重合体を硬化して得られた硬化物は、耐熱性及び低誘電特性に優れると考えられる。さらに、前記単官能マレイミド化合物を用いて、前記重合体を硬化させると、その反応性が高く、残存するビニル基が少なくなると考えられる。このため、優れた低誘電特性を維持しつつ、得られた硬化物のガラス転移温度をより高めることができ、耐熱性をより高めることができると考えられる。そして、残存するビニル基が少なくなることから、硬化物自体の耐熱性が高いだけではなく、この硬化物を加熱することによる誘電特性の変化も起こりにくいという耐熱性も奏すると考えられる。これらのことから、この樹脂組成物は、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が得られる樹脂組成物であると考えられる。そして、この樹脂組成物を用いて配線板を製造すると、誘電特性が低く、かつ、配線板の基材の、オーブン耐熱性や吸湿半田耐熱性等の耐熱性が高く、前記配線板を加熱することによっても、前記配線板の基材の誘電特性が変化しにくいという耐熱性も高い配線板が得られると考えられる。 First, the cured product obtained by curing the polymer is considered to be excellent in heat resistance and low dielectric properties. Furthermore, it is thought that when the polymer is cured using the monofunctional maleimide compound, the reactivity is high and the residual vinyl groups are reduced. For this reason, it is considered that the glass transition temperature of the obtained cured product can be further increased while maintaining excellent low dielectric properties, and the heat resistance can be further increased. In addition, since the residual vinyl groups are reduced, not only the cured product itself has high heat resistance, but also heat resistance such that the dielectric properties of the cured product hardly change due to heating is considered to be exhibited. From these facts, it is considered that this resin composition has low dielectric properties and gives a cured product with high heat resistance. When a wiring board is produced using this resin composition, the dielectric properties are low, and the base material of the wiring board has high heat resistance such as oven heat resistance and moisture absorption solder heat resistance, and the wiring board is heated. It is considered that this also makes it possible to obtain a wiring board having high heat resistance in which the dielectric properties of the base material of the wiring board do not easily change.

また、前記樹脂組成物において、前記式(1)で表される構造単位が、下記式(2)で表される構造単位を含むことが好ましい。 Moreover, in the resin composition, it is preferable that the structural unit represented by the formula (1) includes a structural unit represented by the following formula (2).

Figure 0007190649000019
Figure 0007190649000019

式(2)中、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示し、Rは、炭素数6~12のアリーレン基を示す。 In formula (2), R 4 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 7 represents an arylene group having 6 to 12 carbon atoms.

このような構成によれば、誘電特性がより低く、かつ、耐熱性のより高い硬化物が得られる樹脂組成物が得られる。 According to such a configuration, it is possible to obtain a resin composition from which a cured product having lower dielectric properties and higher heat resistance can be obtained.

また、前記樹脂組成物において、前記式(2)で表される構造単位が、下記式(3)で表される構造単位を含むことが好ましい。 Moreover, in the resin composition, it is preferable that the structural unit represented by the formula (2) includes a structural unit represented by the following formula (3).

Figure 0007190649000020
Figure 0007190649000020

式(3)中、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示す。 In formula (3), R 4 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

このような構成によれば、誘電特性がより低く、かつ、耐熱性のより高い硬化物が得られる樹脂組成物が得られる。 According to such a configuration, it is possible to obtain a resin composition from which a cured product having lower dielectric properties and higher heat resistance can be obtained.

また、前記樹脂組成物において、前記重合体が、下記式(4)で表される構造単位を分子中にさらに有する重合体を含むことが好ましい。 Moreover, in the resin composition, it is preferable that the polymer further includes a polymer having a structural unit represented by the following formula (4) in the molecule.

Figure 0007190649000021
Figure 0007190649000021

式(4)中、R~R10は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示し、R11は、アリール基を示す。 In formula (4), R 8 to R 10 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 11 represents an aryl group.

このような構成によれば、誘電特性がより低く、かつ、耐熱性のより高い硬化物が得られる樹脂組成物が得られる。 According to such a configuration, it is possible to obtain a resin composition from which a cured product having lower dielectric properties and higher heat resistance can be obtained.

また、前記樹脂組成物において、前記式(4)で表される構造単位におけるアリール基が、炭素数1~6のアルキル基を有するアリール基を含むことが好ましい。 Further, in the resin composition, the aryl group in the structural unit represented by formula (4) preferably contains an aryl group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

このような構成によれば、誘電特性がより低く、かつ、耐熱性のより高い硬化物が得られる樹脂組成物が得られる。 According to such a configuration, it is possible to obtain a resin composition from which a cured product having lower dielectric properties and higher heat resistance can be obtained.

また、前記樹脂組成物において、前記重合体の重量平均分子量が、1500~40000であることが好ましい。 Moreover, in the resin composition, the weight average molecular weight of the polymer is preferably 1,500 to 40,000.

このような構成によれば、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が得られ、成形性にも優れた樹脂組成物が得られる。 According to such a constitution, a cured product having low dielectric properties and high heat resistance can be obtained, and a resin composition having excellent moldability can be obtained.

また、前記樹脂組成物において、前記重合体の、前記式(1)で表され、R~Rが水素原子である構造単位に含まれるビニル基の当量が、250~1200であることが好ましい。 Further, in the resin composition, the equivalent weight of the vinyl group contained in the structural unit represented by the formula (1) in which R 1 to R 3 are hydrogen atoms of the polymer is 250 to 1200. preferable.

このような構成によれば、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が得られ、成形性にも優れた樹脂組成物が得られる。 According to such a constitution, a cured product having low dielectric properties and high heat resistance can be obtained, and a resin composition having excellent moldability can be obtained.

また、前記樹脂組成物において、前記単官能マレイミド化合物が、下記式(5)で表される化合物又は下記式(6)で表される化合物を含むことが好ましい。 Moreover, in the resin composition, the monofunctional maleimide compound preferably contains a compound represented by the following formula (5) or a compound represented by the following formula (6).

Figure 0007190649000022
Figure 0007190649000022

Figure 0007190649000023
Figure 0007190649000023

このような構成によれば、誘電特性がより低く、かつ、耐熱性のより高い硬化物が得られる樹脂組成物が得られる。 According to such a configuration, it is possible to obtain a resin composition from which a cured product having lower dielectric properties and higher heat resistance can be obtained.

また、前記樹脂組成物において、前記重合体と前記単官能マレイミド化合物との含有比が、質量比で、50:50~90:10であることが好ましい。 Further, in the resin composition, the content ratio of the polymer to the monofunctional maleimide compound is preferably 50:50 to 90:10 in mass ratio.

このような構成によれば、誘電特性がより低く、かつ、耐熱性のより高い硬化物が得られる樹脂組成物が得られる。 According to such a configuration, it is possible to obtain a resin composition from which a cured product having lower dielectric properties and higher heat resistance can be obtained.

また、本発明の他の一態様に係るプリプレグは、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物と、繊維質基材とを備える。 A prepreg according to another aspect of the present invention includes the resin composition or a semi-cured material of the resin composition, and a fibrous base material.

このような構成によれば、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が好適に得られるプリプレグを提供することができる。 With such a configuration, it is possible to provide a prepreg from which a cured product having low dielectric properties and high heat resistance can be suitably obtained.

また、本発明の他の一態様に係る樹脂付きフィルムは、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含む樹脂層と、支持フィルムとを備える。 A resin-coated film according to another aspect of the present invention includes a resin layer containing the resin composition or a semi-cured product of the resin composition, and a support film.

このような構成によれば、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が好適に得られる樹脂付きフィルムを提供することができる。 According to such a configuration, it is possible to provide a resin-coated film from which a cured product having low dielectric properties and high heat resistance can be suitably obtained.

また、本発明の他の一態様に係る樹脂付き金属箔は、前記樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含む樹脂層と、金属箔とを備える。 A resin-coated metal foil according to another aspect of the present invention includes a resin layer containing the resin composition or a semi-cured material of the resin composition, and a metal foil.

このような構成によれば、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が好適に得られる樹脂付き金属箔を提供することができる。 According to such a configuration, it is possible to provide a resin-coated metal foil from which a cured product having low dielectric properties and high heat resistance can be suitably obtained.

また、本発明の他の一態様に係る金属張積層板は、前記樹脂組成物の硬化物又は前記プリプレグの硬化物を含む絶縁層と、金属箔とを備える。 A metal-clad laminate according to another aspect of the present invention includes an insulating layer containing a cured product of the resin composition or a cured product of the prepreg, and a metal foil.

このような構成によれば、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い絶縁層を備える金属張積層板を提供することができる。 According to such a configuration, it is possible to provide a metal-clad laminate having an insulating layer with low dielectric properties and high heat resistance.

また、本発明の他の一態様に係る配線板は、前記樹脂組成物の硬化物又は前記プリプレグの硬化物を含む絶縁層と、配線とを備える。 A wiring board according to another aspect of the present invention includes an insulating layer containing a cured product of the resin composition or a cured product of the prepreg, and wiring.

このような構成によれば、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い絶縁層を備える配線板を提供することができる。 According to such a configuration, it is possible to provide a wiring board having an insulating layer with low dielectric properties and high heat resistance.

以下に、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定さえるものではない。 The present invention will be described in more detail with reference to examples below, but the scope of the present invention is not limited to these.

[実施例1~6、及び比較例1~9]
本実施例において、樹脂組成物を調製する際に用いる各成分について説明する。
[Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 9]
In this example, each component used in preparing the resin composition will be described.

重合体1:日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製のODV-XET(X03)(分子中に前記式(1)で表される構造単位を有する重合体:炭素-炭素不飽和二重結合を芳香族環に2つ結合した2官能芳香族化合物に由来の構造単位を有する芳香族重合体であり、上記式(7)~(9)で表される構造単位を有する化合物、重量平均分子量Mw:26300、前記式(1)で表され、R~Rが水素原子である構造単位に含まれるビニル基の当量(ビニル当量):510)
重合体2:日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製のODV-XET(X04)(分子中に前記式(1)で表される構造単位を有する重合体:炭素-炭素不飽和二重結合を芳香族環に2つ結合した2官能芳香族化合物に由来の構造単位を有する芳香族重合体であり、上記式(7)~(9)で表される構造単位を有する化合物、重量平均分子量Mw:31100、前記式(1)で表され、R~Rが水素原子である構造単位に含まれるビニル基の当量(ビニル当量):380)
重合体3:日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製のODV-XET(X05)(分子中に前記式(1)で表される構造単位を有する重合体:炭素-炭素不飽和二重結合を芳香族環に2つ結合した2官能芳香族化合物に由来の構造単位を有する芳香族重合体であり、上記式(7)~(9)で表される構造単位を有する化合物、重量平均分子量Mw:39500、前記式(1)で表され、R~Rが水素原子である構造単位に含まれるビニル基の当量(ビニル当量):320)
なお、重合体1~3の、前記式(1)で表され、R~Rが水素原子である構造単位に含まれるビニル基の当量(ビニル当量)は、ウィイス法によるヨウ素価測定により算出した。具体的には、まず、測定対象物である化合物を、濃度が0.3g/35mL~0.3g/25mLとなるようにクロロホルムに溶解させた。この溶液中に存在する二重結合に対して、過剰量の塩化ヨウ素を添加した。そうすることによって、二重結合と塩化ヨウ素とが反応し、この反応が充分に進行した後、その反応後の溶液に20質量%のヨウ化カリウム水溶液を添加することによって、反応後の溶液に残存するヨウ素分がI の形で水相に抽出された。このI が抽出された水相を、チオ硫酸ナトリウム水溶液(0.1mol/Lのチオ硫酸ナトリウム標準溶液)により滴定し、ヨウ素価を算出した。ヨウ素価の算出には、下記式を用いた。
Polymer 1: ODV-XET (X03) manufactured by Nippon Steel Chemical & Materials Co., Ltd. (Polymer having a structural unit represented by the above formula (1) in the molecule: carbon-carbon unsaturated double bond is aromatic An aromatic polymer having a structural unit derived from a bifunctional aromatic compound bonded to two rings, a compound having a structural unit represented by the above formulas (7) to (9), weight average molecular weight Mw: 26300 , the equivalent weight of the vinyl group contained in the structural unit represented by the above formula (1) in which R 1 to R 3 are hydrogen atoms (vinyl equivalent): 510)
Polymer 2: ODV-XET (X04) manufactured by Nippon Steel Chemical & Materials Co., Ltd. (Polymer having a structural unit represented by the above formula (1) in the molecule: carbon-carbon unsaturated double bond is aromatic An aromatic polymer having a structural unit derived from a bifunctional aromatic compound bonded to two rings, a compound having a structural unit represented by the above formulas (7) to (9), weight average molecular weight Mw: 31100 , the equivalent weight of the vinyl group contained in the structural unit represented by the above formula (1) in which R 1 to R 3 are hydrogen atoms (vinyl equivalent): 380)
Polymer 3: ODV-XET (X05) manufactured by Nippon Steel Chemical & Materials Co., Ltd. (Polymer having a structural unit represented by the above formula (1) in the molecule: carbon-carbon unsaturated double bond is aromatic An aromatic polymer having a structural unit derived from a bifunctional aromatic compound bonded to two rings, a compound having a structural unit represented by the above formulas (7) to (9), weight average molecular weight Mw: 39500 , the equivalent weight of the vinyl group contained in the structural unit represented by the above formula (1) in which R 1 to R 3 are hydrogen atoms (vinyl equivalent): 320)
The equivalent weight (vinyl equivalent weight) of the vinyl group contained in the structural unit represented by the above formula (1) in which R 1 to R 3 are hydrogen atoms in Polymers 1 to 3 is determined by iodine value measurement by the Wiiss method. Calculated. Specifically, first, the compound to be measured was dissolved in chloroform to a concentration of 0.3 g/35 mL to 0.3 g/25 mL. An excess amount of iodine chloride was added to the double bonds present in this solution. By doing so, the double bond reacts with iodine chloride, and after the reaction has sufficiently progressed, by adding a 20% by mass aqueous solution of potassium iodide to the solution after the reaction, The residual iodine content was extracted into the aqueous phase in the form of I 3 - . The aqueous phase from which I 3 was extracted was titrated with an aqueous sodium thiosulfate solution (0.1 mol/L sodium thiosulfate standard solution) to calculate the iodine value. The following formula was used to calculate the iodine value.

ヨウ素価=[(B-A)×F×1.269]/化合物の質量(g)
前記式中、Bは、空試験に要した0.1mol/Lのチオ硫酸ナトリウム標準溶液の滴定量(cc)を示し、Aは、中和に要した0.1mol/Lのチオ硫酸ナトリウム標準溶液の滴定量(cc)を示し、Fは、チオ硫酸ナトリウムの力価を示す。
Iodine value = [(B-A) × F × 1.269] / mass of compound (g)
In the above formula, B represents the titer (cc) of the 0.1 mol/L sodium thiosulfate standard solution required for the blank test, and A represents the 0.1 mol/L sodium thiosulfate standard required for neutralization. Titration volume (cc) of solution is indicated, F indicates titer of sodium thiosulfate.

ブタジエン-スチレンオリゴマー:クレイバレー社製のRicon100
単官能マレイミド1:株式会社日本触媒製のイミレックスC(前記式(5)で表される化合物)
単官能マレイミド2:株式会社日本触媒製のイミレックスP(前記式(6)で表される化合物)
二官能マレイミド:3,3-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド(大和化成工業株式会社製のBMI-5100)
DVB:ジビニルベンゼン(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製のDVB810)
TAIC:トリアリルイソシアヌレート(日本化成株式会社製のTAIC)
TMPT:トリメチロールプロパントリメタクリレート(新中村化学工業株式会社製のTMPT)
ポリブタジエン:日本曹達株式会社製のB-1000
充填材(シリカ):ビニルシラン処理された球状シリカ(株式会社アドマテックス製のSC2300-SVJ)
(調製方法)
まず、充填材以外の上記各成分を表3に記載の組成(質量部)で、固形分濃度が55質量%となるように、メチルエチルケトン(MEK)に添加し、混合させた。その混合物を60分間攪拌した。その後、得られた液体に充填材を添加し、ビーズミルで充填材を分散させた。そうすることによって、ワニス状の樹脂組成物(ワニス)が得られた。
Butadiene-styrene oligomer: Ricon 100 from Clay Valley
Monofunctional maleimide 1: Imirex C manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. (compound represented by the above formula (5))
Monofunctional maleimide 2: Imirex P manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. (compound represented by the above formula (6))
Bifunctional maleimide: 3,3-dimethyl-5,5′-diethyl-4,4′-diphenylmethanebismaleimide (BMI-5100 manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.)
DVB: divinylbenzene (DVB810 manufactured by Nippon Steel Chemical & Materials Co., Ltd.)
TAIC: triallyl isocyanurate (TAIC manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.)
TMPT: trimethylolpropane trimethacrylate (TMPT manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Polybutadiene: B-1000 manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.
Filler (silica): Vinylsilane-treated spherical silica (SC2300-SVJ manufactured by Admatechs Co., Ltd.)
(Preparation method)
First, each component other than the filler was added to and mixed with methyl ethyl ketone (MEK) in the composition (parts by mass) shown in Table 3 so that the solid content concentration was 55% by mass. The mixture was stirred for 60 minutes. After that, a filler was added to the obtained liquid, and the filler was dispersed by a bead mill. By doing so, a varnish-like resin composition (varnish) was obtained.

次に、得られたワニスを繊維質基材(ガラスクロス:旭化成株式会社製のL2116、#2116タイプ、Lガラス)に含浸させた後、110℃で約3~8分間加熱乾燥することによりプリプレグを作製した。その際、樹脂化合物(重合体等)、及び架橋型硬化剤(単官能マレイミド化合物等)等の、硬化反応により樹脂を構成する成分の、プリプレグに対する含有量(レジンコンテント)が約55質量%となるように調整した。 Next, a fibrous base material (glass cloth: L2116, #2116 type, L glass manufactured by Asahi Kasei Corporation) is impregnated with the obtained varnish, and then dried by heating at 110 ° C. for about 3 to 8 minutes to prepare a prepreg. was made. At that time, the content (resin content) of the components constituting the resin by the curing reaction, such as the resin compound (polymer, etc.) and the cross-linking curing agent (monofunctional maleimide compound, etc.), with respect to the prepreg is about 55% by mass. adjusted to be

そして、得られた各プリプレグを6枚重ねて、昇温速度3.5℃/分で温度200℃まで加熱し、200℃、120分間、圧力3MPaの条件で加熱加圧することにより評価基板(プリプレグの硬化物)を得た。 Then, six sheets of each of the obtained prepregs were stacked, heated to a temperature of 200° C. at a temperature increase rate of 3.5° C./min, and heated and pressed at 200° C. for 120 minutes at a pressure of 3 MPa to form an evaluation substrate (prepreg). (cured product) was obtained.

上記のように調製された、ワニス、プリプレグ、及び評価基板を、以下に示す方法により評価を行った。 The varnish, prepreg, and substrate for evaluation prepared as described above were evaluated by the methods shown below.

[ガラス転移温度(Tg)]
セイコーインスツルメンツ株式会社製の粘弾性スペクトロメータ「DMS6100」を用いて、プリプレグのTgを測定した。このとき、曲げモジュールで周波数を10Hzとして動的粘弾性測定(DMA)を行い、昇温速度5℃/分の条件で室温から320℃まで昇温した際のtanδが極大を示す温度をTgとした。
[Glass transition temperature (Tg)]
The Tg of the prepreg was measured using a viscoelastic spectrometer "DMS6100" manufactured by Seiko Instruments Inc. At this time, dynamic viscoelasticity measurement (DMA) was performed with a bending module at a frequency of 10 Hz, and the temperature at which tan δ when the temperature was raised from room temperature to 320 ° C. at a temperature increase rate of 5 ° C./min was defined as Tg. did.

[オーブン耐熱性1]
JIS C 6481の規格に準じて、評価基板を所定の温度に設定した恒温槽に所定時間放置した後、取り出した。そして、取り出した金属張積層板を目視で観察した。種々の時間で取り出した金属張積層板に膨れ等の異常が確認でき始めた時間を測定した。なお、60分間で取り出した金属張積層板に膨れ等の異常が確認できなければ、「>60」と評価した。
[Oven heat resistance 1]
According to the standard of JIS C 6481, the evaluation substrate was left in a constant temperature bath set at a predetermined temperature for a predetermined time, and then taken out. Then, the removed metal-clad laminate was visually observed. The time at which abnormalities such as blisters began to be observed in the metal-clad laminate taken out at various times was measured. If no abnormality such as blistering was found in the metal-clad laminate taken out after 60 minutes, it was evaluated as ">60".

[オーブン耐熱性2]
JIS C 6481の規格に準じて、評価基板を所定の温度に設定した恒温槽に1時間放置した後、取り出した。そして、取り出した金属張積層板を目視で観察した。上記温度が300℃のときでも膨れ等の異常の発生が確認されなければ、「◎」と評価した。また、上記温度が300℃のとき、膨れ等の異常の発生が確認されるが、上記温度が280℃のとき、膨れ等の異常の発生が確認されなければ、「○」と評価した。また、上記温度が280℃のとき、膨れ等の異常の発生が確認されれば、「×」と評価した。
[Oven heat resistance 2]
According to the standard of JIS C 6481, the evaluation board was left in a constant temperature bath set at a predetermined temperature for 1 hour, and then taken out. Then, the removed metal-clad laminate was visually observed. If no abnormality such as blistering was observed even when the temperature was 300°C, it was evaluated as "⊚". When the temperature was 300°C, occurrence of abnormalities such as blisters was observed, but when the temperature was 280°C, when no abnormalities such as blisters were observed, the evaluation was given as "Good". Moreover, when the temperature was 280° C., if an abnormality such as blistering was observed, it was evaluated as “×”.

[吸湿半田耐熱性]
前記評価基板を作製する際に、プリプレグを重ねる枚数を6枚にすることによって、両面に銅箔が接着された、厚み約0.8mmの銅箔張積層板(金属箔張積層板)を得た。この銅箔張積層板が備える両面の銅箔に対して、それぞれ残銅率が50%となるように、格子状のパターンを形成して、配線を形成させた。この配線が形成された基板の両面に、前記プリプレグを1枚ずつ積層し、銅箔張積層板を製造したときと同じ条件で、加熱加圧を行った。この形成された積層体の両面銅箔をエッチングして除去した。このようにして得られた評価用積層体を、温度121℃相対湿度100%の条件下で6時間保持した。その後、この評価用積層体を、288℃の半田槽中に10秒間浸漬した。そして、浸漬した積層体に、ミーズリングや膨れ等の発生の有無を目視で観察した。ミーズリングや膨れ等の発生が確認されなければ、「◎」と評価した。また、別途、288℃の半田槽の代わりに、260℃の半田槽を用いて、同様の評価を行った。288℃の場合、ミーズリングや膨れ等の発生が確認されたが、260℃の場合、ミーズリングや膨れ等の発生が確認されなければ、「○」と評価した。260℃の場合でも、ミーズリングや膨れ等の発生が確認されれば、「×」と評価した。
[Moisture absorption solder heat resistance]
When preparing the evaluation board, by stacking 6 prepregs, a copper foil-clad laminate (metal foil-clad laminate) having a thickness of about 0.8 mm with copper foil adhered to both sides was obtained. rice field. Wiring was formed by forming a grid-like pattern so that the copper foil on both sides of the copper foil-clad laminate had a residual copper rate of 50%. The prepreg was laminated one by one on both sides of the substrate on which the wiring was formed, and the laminate was heated and pressurized under the same conditions as in the production of the copper foil-clad laminate. The double-sided copper foils of the laminate thus formed were removed by etching. The laminate for evaluation thus obtained was held for 6 hours under conditions of a temperature of 121° C. and a relative humidity of 100%. After that, this laminate for evaluation was immersed in a solder bath at 288° C. for 10 seconds. Then, the immersed laminate was visually observed for the occurrence of measling, blistering, and the like. If the occurrence of measling, blistering, etc. was not confirmed, it was evaluated as "A". In addition, the same evaluation was performed using a solder bath at 260°C instead of the solder bath at 288°C. In the case of 288°C, the occurrence of measling, blistering, etc. was confirmed, but in the case of 260°C, if the occurrence of measling, blistering, etc. was not confirmed, it was evaluated as "good". Even at 260° C., if occurrence of measling, blistering, etc. was confirmed, it was evaluated as “×”.

[加熱処理前の誘電正接]
10GHzにおける評価基板の誘電正接を、空洞共振器摂動法で測定した。具体的には、ネットワーク・アナライザ(キーサイト・テクノロジー株式会社製のN5230A)を用い、10GHzにおける評価基板の誘電正接を測定した。
[Dielectric loss tangent before heat treatment]
The dielectric loss tangent of the evaluation substrate at 10 GHz was measured by the cavity resonator perturbation method. Specifically, a network analyzer (N5230A manufactured by Keysight Technologies, Inc.) was used to measure the dielectric loss tangent of the evaluation substrate at 10 GHz.

[加熱処理後の誘電正接]
前記加熱処理前の誘電正接の測定で用いた評価基板を、130℃の条件下で120時間保持(加熱処理)させ、この加熱処理させた評価基板の誘電正接(加熱処理後の誘電正接)を、前記加熱処理前の誘電正接の測定と同様の方法で測定した。
[Dielectric loss tangent after heat treatment]
The evaluation substrate used in the measurement of the dielectric loss tangent before the heat treatment is held (heated) for 120 hours under conditions of 130 ° C., and the dielectric loss tangent of the heat-treated evaluation substrate (dielectric loss tangent after heat treatment) is , was measured by the same method as the measurement of the dielectric loss tangent before the heat treatment.

[誘電正接の変化量(加熱処理後-加熱処理前)]
加熱処理前の誘電正接と加熱処理後の誘電正接の差(=加熱処理後の誘電正接-加熱処理前の誘電正接)を算出した。
[Change in dielectric loss tangent (after heat treatment - before heat treatment)]
The difference between the dielectric loss tangent before heat treatment and the dielectric loss tangent after heat treatment (=dielectric loss tangent after heat treatment−dielectric loss tangent before heat treatment) was calculated.

[誘電正接の変化率([加熱処理後-加熱処理前]/加熱処理前)]
加熱処理前の誘電正接から加熱処理後の誘電正接の変化率(=[加熱処理後の誘電正接-加熱処理前の誘電正接]/加熱処理前の誘電正接×100)を算出した。
[Change rate of dielectric loss tangent ([after heat treatment - before heat treatment]/before heat treatment)]
The change rate of the dielectric loss tangent after the heat treatment from the dielectric loss tangent before the heat treatment (=[dielectric loss tangent after the heat treatment−dielectric loss tangent before the heat treatment]/dielectric loss tangent before the heat treatment×100) was calculated.

上記各評価における結果は、表3に示す。 Table 3 shows the results of each of the above evaluations.

Figure 0007190649000024
Figure 0007190649000024

表3からわかるように、分子中に前記式(1)で表される構造単位を有する重合体と、分子中にマレイミド基を1つ有する単官能マレイミド化合物とを含む場合(実施例1~6)は、ガラス転移温度が高く、オーブン耐熱性も高く、かつ、誘電正接が低くかった。このことから、これらの樹脂組成物は、誘電特性が低く、かつ、耐熱性の高い硬化物が得られる樹脂組成物であることがわかる。また、評価基板を加熱した後の誘電正接も低く、加熱処理による誘電正接の変化量も少なかった。このことから、高温多湿等の環境になった後でも、信号の伝送が維持できることがわかる。さらに、評価基板を加熱した後の誘電正接も低く、加熱処理による誘電正接の変化率も低かった。また、この樹脂組成物を用いて得られた評価基板は、上述したように、オーブン耐熱性が高いだけではなく、吸湿後の耐熱性である吸湿半田耐熱性も高かった。これのことから、高温多湿等の環境になった後でも、配線板の性能が維持できる環境安定性の高い配線板が得られることがわかる。 As can be seen from Table 3, when a polymer having a structural unit represented by formula (1) in the molecule and a monofunctional maleimide compound having one maleimide group in the molecule are included (Examples 1 to 6 ) had a high glass transition temperature, a high oven heat resistance, and a low dielectric loss tangent. From this, it can be seen that these resin compositions have low dielectric properties and give cured products with high heat resistance. In addition, the dielectric loss tangent after heating the evaluation substrate was low, and the amount of change in the dielectric loss tangent due to the heat treatment was also small. From this, it can be seen that signal transmission can be maintained even after the environment becomes hot and humid. Furthermore, the dielectric loss tangent after heating the evaluation substrate was low, and the change rate of the dielectric loss tangent due to the heat treatment was also low. Moreover, the evaluation board obtained using this resin composition not only had high oven heat resistance, but also high moisture absorption solder heat resistance, which is heat resistance after moisture absorption, as described above. From this, it can be seen that a wiring board with high environmental stability can be obtained, which can maintain the performance of the wiring board even after being exposed to an environment such as high temperature and high humidity.

これに対して、前記単官能マレイミド化合物を含有していない場合(比較例1~8)は、実施例1~6と比較すると、少なくとも、ガラス転移温度が低いか、オーブン耐熱性が低いか、誘電正接が高かった。また、評価基板を加熱した後の誘電正接も低くかった。これにより、加熱処理による誘電正接の変化量も大きく、加熱処理による誘電正接の変化率も高かった。この中でも、前記単官能マレイミド化合物ではなく、二官能マレイミド化合物を含む場合(比較例4)は、ガラス転移温度が充分に高いわけではない上に、誘電正接が低かった。また、硬化剤として作用するものを何ら含有しない場合(比較例1~3)や、マレイミド化合物以外の硬化剤を含有する場合(比較例5~8)は、実施例1~6と比較して、ガラス転移温度及びオーブン耐熱性が低かった。特に、トリメチロールプロパントリメタクリレート(TMPT)を含む場合(比較例7)は、実施例1~6と比較して、ガラス転移温度及びオーブン耐熱性が低いだけではなく、誘電正接も高かった。また、ポリブタジエンを含む場合(比較例8)は、実施例1~6と比較して、さらに、他の比較例と比較しても、オーブン耐熱性が低かった。 On the other hand, when the monofunctional maleimide compound is not contained (Comparative Examples 1 to 8), compared with Examples 1 to 6, at least the glass transition temperature is low, the oven heat resistance is low, Dielectric loss tangent was high. Also, the dielectric loss tangent after heating the evaluation substrate was low. As a result, the amount of change in the dielectric loss tangent due to the heat treatment was large, and the rate of change in the dielectric loss tangent due to the heat treatment was also high. Among these, when the bifunctional maleimide compound was included instead of the monofunctional maleimide compound (Comparative Example 4), the glass transition temperature was not sufficiently high and the dielectric loss tangent was low. Further, in the case of not containing anything that acts as a curing agent (Comparative Examples 1 to 3) or in the case of containing a curing agent other than a maleimide compound (Comparative Examples 5 to 8), compared with Examples 1 to 6, , the glass transition temperature and oven heat resistance were low. In particular, when trimethylolpropane trimethacrylate (TMPT) was included (Comparative Example 7), not only the glass transition temperature and oven heat resistance were lower than those of Examples 1 to 6, but also the dielectric loss tangent was high. In addition, when polybutadiene was contained (Comparative Example 8), the oven heat resistance was lower than that of Examples 1 to 6 and even that of the other comparative examples.

また、前記芳香族重合体を含有せずに、ブタジエン-スチレンオリゴマーを含有する場合(比較例9)は、実施例1~6と比較すると、ガラス転移温度が低く、オーブン耐熱性も低かった。 In addition, when the aromatic polymer was not contained but the butadiene-styrene oligomer was contained (Comparative Example 9), the glass transition temperature was lower and the oven heat resistance was lower as compared with Examples 1 to 6.

1 プリプレグ
2 樹脂組成物又は樹脂組成物の半硬化物
3 繊維質基材
11 金属張積層板
12 絶縁層
13 金属箔
14 配線
21 配線板
31 樹脂付き金属箔
32、42 樹脂層
41 樹脂付きフィルム
43 支持フィルム
Reference Signs List 1 prepreg 2 resin composition or semi-cured resin composition 3 fibrous base material 11 metal-clad laminate 12 insulating layer 13 metal foil 14 wiring 21 wiring board 31 metal foil with resin 32, 42 resin layer 41 film with resin 43 support film

Claims (14)

分子中に下記式(1)で表される構造単位を有する重合体と、
分子中にマレイミド基を1つ有するマレイミド化合物とを含むことを特徴とする樹脂組成物。
Figure 0007190649000025

(式(1)中、Zは、アリーレン基を示し、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を示し、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示す。)
a polymer having a structural unit represented by the following formula (1) in the molecule;
A resin composition comprising a maleimide compound having one maleimide group in the molecule.
Figure 0007190649000025

(In Formula (1), Z represents an arylene group, R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, R 4 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or Indicates an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.)
前記式(1)で表される構造単位が、下記式(2)で表される構造単位を含む請求項1に記載の樹脂組成物。
Figure 0007190649000026

(式(2)中、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示し、Rは、炭素数6~12のアリーレン基を示す。)
The resin composition according to claim 1, wherein the structural unit represented by formula (1) includes a structural unit represented by formula (2) below.
Figure 0007190649000026

(In Formula (2), R 4 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 7 represents an arylene group having 6 to 12 carbon atoms.)
前記式(2)で表される構造単位が、下記式(3)で表される構造単位を含む請求項2に記載の樹脂組成物。
Figure 0007190649000027

(式(3)中、R~Rは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示す。)
3. The resin composition according to claim 2, wherein the structural unit represented by the formula (2) contains a structural unit represented by the following formula (3).
Figure 0007190649000027

(In Formula (3), R 4 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.)
前記重合体が、下記式(4)で表される構造単位を分子中にさらに有する重合体を含む請求項1~3のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
Figure 0007190649000028

(式(4)中、R~R10は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を示し、R11は、アリール基を示す。)
The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the polymer further contains a polymer having a structural unit represented by the following formula (4) in the molecule.
Figure 0007190649000028

(In Formula (4), R 8 to R 10 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 11 represents an aryl group.)
前記式(4)で表される構造単位におけるアリール基が、炭素数1~6のアルキル基を有するアリール基を含む請求項4に記載の樹脂組成物。 5. The resin composition according to claim 4, wherein the aryl group in the structural unit represented by formula (4) contains an aryl group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. 前記重合体の重量平均分子量が、1500~40000である請求項1~5のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the polymer has a weight average molecular weight of 1,500 to 40,000. 前記重合体の、前記式(1)で表され、R~Rが水素原子である構造単位に含まれるビニル基の当量が、250~1200である請求項1~6のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 7. The equivalent weight of the vinyl group contained in the structural unit of the polymer represented by the formula (1) in which R 1 to R 3 are hydrogen atoms is 250 to 1200. The resin composition according to . 記マレイミド化合物が、下記式(5)で表される化合物又は下記式(6)で表される化合物を含む請求項1~7のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
Figure 0007190649000029

Figure 0007190649000030
The resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the maleimide compound comprises a compound represented by the following formula (5) or a compound represented by the following formula (6).
Figure 0007190649000029

Figure 0007190649000030
前記重合体と前記マレイミド化合物との含有比が、質量比で、50:50~90:10である請求項1~8のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 9. The resin composition according to any one of claims 1 to 8, wherein the content ratio of the polymer and the maleimide compound is 50:50 to 90:10 in mass ratio. 請求項1~9のいずれか1項に記載の樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物と、繊維質基材とを備えるプリプレグ。 A prepreg comprising the resin composition according to any one of claims 1 to 9 or a semi-cured product of the resin composition, and a fibrous base material. 請求項1~9のいずれか1項に記載の樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含む樹脂層と、支持フィルムとを備える樹脂付きフィルム。 A resin-coated film comprising a resin layer containing the resin composition according to any one of claims 1 to 9 or a semi-cured product of the resin composition, and a support film. 請求項1~9のいずれか1項に記載の樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含む樹脂層と、金属箔とを備える樹脂付き金属箔。 A resin-coated metal foil comprising a resin layer containing the resin composition according to any one of claims 1 to 9 or a semi-cured product of the resin composition, and a metal foil. 請求項1~9のいずれか1項に記載の樹脂組成物の硬化物又は請求項10に記載のプリプレグの硬化物を含む絶縁層と、金属箔とを備える金属張積層板。 A metal-clad laminate comprising an insulating layer containing the cured product of the resin composition according to any one of claims 1 to 9 or the cured product of the prepreg according to claim 10, and a metal foil. 請求項1~9のいずれか1項に記載の樹脂組成物の硬化物又は請求項10に記載のプリプレグの硬化物を含む絶縁層と、配線とを備える配線板。 A wiring board comprising an insulating layer containing the cured product of the resin composition according to any one of claims 1 to 9 or the cured product of the prepreg according to claim 10, and wiring.
JP2019045681A 2018-04-27 2019-03-13 Resin composition, prepreg, resin-coated film, resin-coated metal foil, metal-clad laminate, and wiring board Active JP7190649B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018087156 2018-04-27
JP2018087156 2018-04-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019194307A JP2019194307A (en) 2019-11-07
JP7190649B2 true JP7190649B2 (en) 2022-12-16

Family

ID=68469250

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019045681A Active JP7190649B2 (en) 2018-04-27 2019-03-13 Resin composition, prepreg, resin-coated film, resin-coated metal foil, metal-clad laminate, and wiring board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7190649B2 (en)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020230870A1 (en) * 2019-05-15 2020-11-19 パナソニックIpマネジメント株式会社 Copper-clad laminated plate, resin-clad copper foil, and circuit substrate using said plate and foil
WO2021079817A1 (en) * 2019-10-25 2021-04-29 パナソニックIpマネジメント株式会社 Metal clad laminate, wiring board, resin-including metal foil, and resin composition
CN114555360A (en) * 2019-10-25 2022-05-27 松下知识产权经营株式会社 Copper-clad laminate, wiring board, and resin-attached copper foil
JP7476574B2 (en) 2020-03-03 2024-05-01 住友ベークライト株式会社 Resin composition, carrier-attached resin film, prepreg, laminate, printed wiring board, and semiconductor device using the same
CN111620982B (en) * 2020-06-04 2023-02-10 南亚新材料科技股份有限公司 Thermosetting resin composition, and adhesive sheet, metal-clad laminate and printed wiring board produced using same
TW202248350A (en) * 2021-05-17 2022-12-16 日商松下知識產權經營股份有限公司 Resin composition, prepreg using same, film with resin, metal foil with resin, metal-clad laminate, and wiring board
WO2023026829A1 (en) * 2021-08-25 2023-03-02 三菱瓦斯化学株式会社 Resin composition, cured object, prepreg, metal-foil-clad laminate, resin sheet, and printed wiring board

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013047305A1 (en) 2011-09-26 2013-04-04 新日鐵住金化学株式会社 Photosensitive resin composition, and dry film resist
WO2013069077A1 (en) 2011-11-07 2013-05-16 新日鉄住金化学株式会社 Method for producing styrene-based resin composition comprising highly branched ultra-high-molecular-weight polymer, and composition
WO2016104748A1 (en) 2014-12-26 2016-06-30 新日鉄住金化学株式会社 Terminal-modified soluble polyfunctional vinyl aromatic copolymer, and curable resin composition and optical waveguide produced using same
JP2016190899A (en) 2015-03-30 2016-11-10 新日鉄住金化学株式会社 Terminal-modified soluble poly-functional vinyl aromatic copolymer, and production method thereof
JP2016210915A (en) 2015-05-11 2016-12-15 日立化成株式会社 Thermosetting insulation resin composition, and insulation film with support, prepreg, laminated sheet and multilayer printed circuit board using the thermosetting insulation resin composition
JP2018039995A (en) 2016-08-31 2018-03-15 新日鉄住金化学株式会社 Soluble polyfunctional vinyl aromatic copolymer, method for producing the same, curable resin composition, and cured product of the same
WO2020175538A1 (en) 2019-02-28 2020-09-03 三菱瓦斯化学株式会社 Resin composition, prepreg, metal foil-clad laminated sheet, composite resin sheet, and printed wiring board
WO2020175537A1 (en) 2019-02-28 2020-09-03 三菱瓦斯化学株式会社 Resin composition, prepreg, metal foil-clad laminate board, resin composite sheet, and, printed circuit board

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013047305A1 (en) 2011-09-26 2013-04-04 新日鐵住金化学株式会社 Photosensitive resin composition, and dry film resist
WO2013069077A1 (en) 2011-11-07 2013-05-16 新日鉄住金化学株式会社 Method for producing styrene-based resin composition comprising highly branched ultra-high-molecular-weight polymer, and composition
WO2016104748A1 (en) 2014-12-26 2016-06-30 新日鉄住金化学株式会社 Terminal-modified soluble polyfunctional vinyl aromatic copolymer, and curable resin composition and optical waveguide produced using same
JP2016190899A (en) 2015-03-30 2016-11-10 新日鉄住金化学株式会社 Terminal-modified soluble poly-functional vinyl aromatic copolymer, and production method thereof
JP2016210915A (en) 2015-05-11 2016-12-15 日立化成株式会社 Thermosetting insulation resin composition, and insulation film with support, prepreg, laminated sheet and multilayer printed circuit board using the thermosetting insulation resin composition
JP2018039995A (en) 2016-08-31 2018-03-15 新日鉄住金化学株式会社 Soluble polyfunctional vinyl aromatic copolymer, method for producing the same, curable resin composition, and cured product of the same
WO2020175538A1 (en) 2019-02-28 2020-09-03 三菱瓦斯化学株式会社 Resin composition, prepreg, metal foil-clad laminated sheet, composite resin sheet, and printed wiring board
WO2020175537A1 (en) 2019-02-28 2020-09-03 三菱瓦斯化学株式会社 Resin composition, prepreg, metal foil-clad laminate board, resin composite sheet, and, printed circuit board

Also Published As

Publication number Publication date
JP2019194307A (en) 2019-11-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7190649B2 (en) Resin composition, prepreg, resin-coated film, resin-coated metal foil, metal-clad laminate, and wiring board
TWI750360B (en) Soluble polyfunctional vinyl aromatic copolymer, its production method, curable resin composition and its cured product, curable composite material, cured composite material, laminate, metal foil with resin, and varnish for circuit board material
JP7217441B2 (en) Resin composition, prepreg, resin-coated film, resin-coated metal foil, metal-clad laminate, and wiring board
JP7145441B2 (en) Resin composition, prepreg, resin-coated film, resin-coated metal foil, metal-clad laminate, and wiring board
JP7316572B2 (en) Resin composition, and prepreg, resin-coated film, resin-coated metal foil, metal-clad laminate, and wiring board using the same
WO2016009611A1 (en) Metal-clad laminate, method for producing same, metal foil with resin, and printed wiring board
CN111285980B (en) Halogen-free low dielectric resin composition, prepreg, metal foil laminate and printed wiring board using the same
JP7203386B2 (en) Polyphenylene ether resin composition, and prepreg, resin-coated film, resin-coated metal foil, metal-clad laminate, and wiring board using the same
WO2021024923A1 (en) Resin composition, prepreg, resin-equipped film, resin-equipped metal foil, metal-cladded layered sheet, and wiring board
WO2020262089A1 (en) Resin composition, prepreg, resin-attached film, resin-attached metal foil, metal-cladded laminate sheet, and wiring board
WO2020262253A1 (en) Resin composition, prepreg, method for producing prepreg, layered board, and printed circuit board
WO2021060181A1 (en) Resin composition, prepreg, film with resin, metal foil with resin, metal-clad laminated board, and wiring board
JP7378090B2 (en) Resin compositions, prepregs, resin-coated films, resin-coated metal foils, metal-clad laminates, and wiring boards
WO2021060178A1 (en) Resin composition, prepreg, film with resin, metal foil with resin, metal-clad laminate, and wiring board
WO2020203320A1 (en) Resin composition, prepreg obtained using same, resin-coated film, resin-coated metal foil, metal-clad laminate, and wiring board
JPH08231847A (en) Polyphenylene oxide resin composition and prepreg and laminate prepared by using the same
WO2022054864A1 (en) Resin composition, prepreg, film provided with resin, metal foil provided with resin, metal-clad laminate, and wiring board
WO2022202742A1 (en) Resin composition, prepreg, resin-coated film, resin-coated metal foil, metal-clad laminate, and wiring board
JP7450136B2 (en) Resin compositions, prepregs, resin-coated films, resin-coated metal foils, metal-clad laminates, and wiring boards
JP7476574B2 (en) Resin composition, carrier-attached resin film, prepreg, laminate, printed wiring board, and semiconductor device using the same
WO2021060046A1 (en) Resin composition, prepreg obtained using same, resin-coated film, resin-coated metal foil, metal-clad laminate, and wiring board
JP7281650B2 (en) Resin composition, and prepreg, resin-coated film, resin-coated metal foil, metal-clad laminate, and wiring board using the same
WO2018061736A1 (en) Metal-clad laminate, printed wiring board and metal foil with resin
WO2022054862A1 (en) Resin composition, prepreg, film provided with resin, metal foil provided with resin, metal-clad laminate, and wiring board
WO2022210227A1 (en) Resin composition, prepreg, resin-equipped film, resin-equipped metal foil, metal-clad laminate, and wiring board

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20211110

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220822

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220830

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221024

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221108

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221121

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7190649

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151