JP7181613B2 - デュアル光周波数コム生成光学系、レーザー装置、計測装置 - Google Patents
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Description
前記連結部に前記線形部と構成する偏波保持型光ファイバとは異なる導出用の偏波保持型光ファイバが接続され、前記第1ループ光ファイバで生成され且つ偏光の向きが前記第1方向である第1光周波数コムと前記第1ループ光ファイバで生成され且つ偏光の向きが前記第2方向である第2光周波数コムとが前記導出用の偏波保持型光ファイバから導出され、前記第2ループ部、前記線形部、前記連結部及び前記空間型共振部は可飽和吸収体として機能し、前記レーザー増幅光戻し部によって前記第2ループ部に戻された前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光は前記増幅部によって増幅され、前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光は前記第2ループ部及び前記線形部を構成する偏波保持型光ファイバの長さと前記空間型共振部に応じた非線形位相シフトを受け、前記第1ループ光ファイバを周回し、モード同期状態に移行し、前記第1レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバの光路長と前記第2レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバの光路長との光路長差は、前記第1レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバにおける屈折率と前記第2レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバにおける屈折率との屈折率差に応じ、前記第1光周波数コムの繰り返し周波数と前記第2光周波数コムの繰り返し周波数との繰り返し周波数差に依存する。
本発明のデュアル光周波数コム生成光学系において、前記空間型共振部での共振によって強め合う前記第1レーザー増幅光と前記第2レーザー増幅光との位相差は前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光の波長の半分の偶数倍に相当する。
また、本発明のデュアル光周波数コム生成光学系は、偏光の向きが第1方向である第1レーザー光を導波すると共に、偏光の向きが前記第1方向とは異なる第2方向である第2レーザー光を導波し、前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光の各々の偏光の向きを保持し、偏波保持型光ファイバからなり、環状に構成されている第1ループ光ファイバと、前記第1ループ光ファイバに設けられ、前記第1ループ光ファイバに前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光を導入する導入部と、前記第1ループ光ファイバに設けられ、前記導入部から導入された前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光の前記偏光の向きを保持しつつ、前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光を増幅して第1レーザー増幅光及び第2レーザー増幅光を生成し、前記第1ループ光ファイバの周方向及び該周方向とは逆方向に前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光を出射する増幅部と、前記第1ループ光ファイバに設けられ、可飽和吸収体及び偏波保持型光アイソレータによって構成され、前記周方向に沿って導波された前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光と前記周方向とは逆方向に沿って導波された前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光との各々のうち、前記可飽和吸収体に入射して前記第1レーザー増幅光と前記第2レーザー増幅光との位相差に応じて強め合った前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光のみを反射し、前記可飽和吸収体に入射して前記位相差に応じて弱められた前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光を前記第1ループ光ファイバを周回させて前記偏波保持型光アイソレータによって除去するレーザー増幅光戻し部と、前記第1ループ光ファイバに設けられ、前記第1ループ光ファイバで生成され且つ偏光の向きが前記第1方向である第1光周波数コムと前記第1ループ光ファイバで生成され且つ偏光の向きが前記第2方向である第2光周波数コムとを前記第1ループ光ファイバから導出する導出部と、を備えている。前記レーザー増幅光戻し部によって前記第1ループ光ファイバに反射された前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光は前記増幅部によって増幅され、前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光は前記第1ループ光ファイバを構成する偏波保持型光ファイバの長さに応じた非線形位相シフトを受け、前記第1ループ光ファイバを周回し、モード同期状態に移行し、前記第1レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバの光路長と前記第2レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバの光路長との光路長差は、前記第1レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバにおける屈折率と前記第2レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバにおける屈折率との屈折率差に応じ、第1光周波数コムの繰り返し周波数と第2光周波数コムの繰り返し周波数との繰り返し周波数差に依存する。
[デュアル光周波数コム生成光学系及びレーザー装置の構成]
図1に示すように、本発明の第1実施形態のレーザー装置60Aは、光源5、偏波保持型光ファイバ6、偏波分離素子12、一方の端部が偏波分離素子12に接続された偏波保持型光ファイバ31、デュアル光周波数コム生成光学系10Aを備えている。偏波保持型光ファイバ6の入射側の端部(一方の端部)は、光源5に接続されている。偏波保持型光ファイバ6の出射側の端部(他方の端部)は、偏波分離素子12に接続されている。偏波保持型光ファイバ31の入射側の端部(一方の端部)は、偏波分離素子12に接続されている。偏波保持型光ファイバ31の出射側の端部(他方の端部)は、デュアル光周波数コム生成光学系10Aに接続されている。
導出部24においてR1方向の手前側の端部(すなわち、連結部22側の端部)に、偏波保持型光ファイバ33Aが接続されている。導出部24においてR1方向の奥側の端部に、偏波保持型光ファイバ33B,34の各々の入射側の端部(一方の端部)が接続されている。偏波保持型光ファイバ34は、導出部24を介して、第1ループ光ファイバ30から、互いに繰り返し周波数の異なる光周波数コム(第1光周波数コム,第2光周波数コム)C1,C2を取り出すために設けられる。
次に、デュアル光周波数コム生成光学系10A及びレーザー装置60Aの動作、及び、デュアル光周波数コム生成光学系10A及びレーザー装置60Aを用いて光周波数コムC1,C2を生成する原理について説明する。
デュアル光周波数コム生成光学系10A及びレーザー装置60Aによれば、レーザー増幅光L1,L2を共通の第1ループ光ファイバ30内でモード同期状態に移行させつつ、共振させる。この際、レーザー増幅光L1,L2の偏光の向きが互いに異なるので、レーザー増幅光L1,L2の屈折率が異なる。レーザー増幅光L1,L2にとって、第1ループ光ファイバ30で構成される共振器の光路長は、互いに異なる。このことによって、導出部24から、偏光の向きが第1方向であり且つ繰り返し周波数frep1を有する光周波数コムC1と、偏光の向きが第2方向であり且つ光周波数コムC1とは異なる繰り返し周波数frep2を有する光周波数コムC2を得ることができる。
本発明の第1実施形態の計測装置50の構成について説明する。図2に示すように、計測装置50は、デュアル光周波数コム生成光学系10Aを有するレーザー装置60A、偏波分離部52、偏波干渉部56、試料情報抽出部58を備えている。偏波保持型光ファイバ34の出射側の端部(他方の端部)は、偏波分離部52に接続されている。偏波干渉部56は、偏波分離部52で分離された光周波数コムC1,C2同士を干渉させる。試料情報抽出部58は、偏波干渉部56で干渉した光周波数コムC1,C2の干渉信号から試料の情報を抽出する。
計測装置50では、偏波保持型光ファイバ34から出射した光周波数コムC1,C2が偏波分離部52によって互いに異なる進路に進行するように分離される。光周波数コムC1は、進路X35に沿って進行し、試料Sを通過する。試料Sを通過する際に、光周波数コムC1に試料Sが有する光学的な情報が付加される。光周波数コムC2は偏波保持型のミラー57A,57Bによって折り返され、進路X35に沿って進行する。
計測装置50では、偏波分離部52によって光周波数コムC1,C2の進路を分離し、光周波数コムC1に試料Sの光学的な情報を付加できる。偏波干渉部56では、光周波数コムC2,C3を互いに干渉させることによって、光周波数コムC2,C3に共通して含まれる環境外乱や機械的な擾乱を除去し、高周波数帯域で容易に観測可能なモード分解スペクトルを得ることができる。試料情報抽出部58では、得られたモード分解スペクトルのスペクトル分布の波形Wから試料Sの情報を抽出できる。したがって、本発明の計測装置50によれば、高SN比の光周波数コムC1,C2を用いるので、試料Sの情報を高精度に取得できる。計測装置50において光周波数コムC1,C2の発生に関する構成を共通化しているので、従来のように光周波数コムC1,C2を生成する光学系をそれぞれ個別のスペースに用意する必要がなく、計測装置50の小型化を図ることができる。
本発明の第2実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系、レーザー装置及び計測装置について説明する。なお、第2実施形態以降の各実施形態に関する説明及び図面において、第1実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系10A、レーザー装置60A及び計測装置50と共通する構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。第2実施形態以降の各実施形態では、基本的に第1実施形態と異なる構成及び作用について説明し、説明する構成及び作用以外は第1実施形態と共通する。
図3に示すように、第2実施形態のレーザー装置60Bは、レーザー装置60Aの偏波保持型光ファイバ6及び偏波分離素子12に替えて偏波保持型光ファイバ42を備えると共に、第1実施形態で説明したデュアル光周波数コム生成光学系10Aを備えている。
レーザー装置60Bでは、光源5から発せられたレーザー光S0が偏波保持型光ファイバ42に導波される際に、複数の偏光の向きのレーザー光S0から偏光軸J42に沿う偏光の向きのレーザー光SX(図示略)が取り出される。レーザー光SXが偏波保持型光ファイバ31に導波されると、偏光軸J31によってレーザー光S1,S2に分離される。レーザー光S1,S2のみがデュアル光周波数コム生成光学系10Aの導入部21に入射する。
レーザー装置60Bは、デュアル光周波数コム生成光学系10Aを有するので、レーザー装置60Aと同様の効果を奏する。また、レーザー装置60Bでは、偏波保持型光ファイバ42,31の各々の偏光軸J42,J31を光軸Aに直交する断面において互いに45°(又は135°,225°,315°)をなすように傾けるので、偏波分離素子12を使わずにレーザー光LXをレーザーS1,S2に分けることができる。例えば、光源5を構成する半導体レーザーの出射口に偏波保持型光ファイバ42が直接接続されていれば、偏光軸J42を偏光軸J31に対して光軸Aを中心に傾けた状態で、偏波保持型光ファイバ42,31の端部を融着等により接続できる。このような構成によって、偏波分離素子12を使わずに、レーザー装置60Bの構成をレーザー装置60Aの構成に比べて簡易にすることができる。
図示していないが、第2実施形態の計測装置は、図2に示す計測装置50のレーザー装置60Aに替えて、図3に示すレーザー装置60Bを備えている。レーザー装置以外の第2実施形態の計測装置の構成は、計測装置50と同様である。レーザー装置60Bではレーザー装置60Aと同様に偏波保持型光ファイバ34から光周波数コムC1,C2が得られるので、第2実施形態の計測装置は、計測装置50と同様に動作し、計測装置50と同様の効果を奏する。
次に、本発明の第3実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系、レーザー装置及び計測装置について説明する。
図4に示すように、第3実施形態のレーザー装置60Cは、レーザー装置60Aの1台の光源5、偏波保持型光ファイバ6及び偏波分離素子12に替えて、2台の光源5A,5B、2本の偏波保持型光ファイバ6A,6B及び偏波結合素子14を備えると共に、第1実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系10Aを備えている。
レーザー装置60Cでは、光源5Aから発せられたレーザー光S1が偏波保持型光ファイバ6Aに導波されると共に、光源5Bから発せられたレーザー光S2が偏波保持型光ファイバ6Bに導波される。レーザー光S1,S2が偏波保持型光ファイバ6A,6Bから偏波結合素子14に入射すると、互いに結合する。結合したレーザー光S1,S2は、偏波保持型光ファイバ31を介して、デュアル光周波数コム生成光学系10Aの導入部21に入射する。
レーザー装置60Cは、デュアル光周波数コム生成光学系10Aを有するので、レーザー装置60Aと同様の効果を奏する。また、レーザー装置60Cでは、レーザー光S1,S2を互いに異なる光源で発生させ、互いに異なる偏波保持型光ファイバで導波させ、偏波結合素子14で結合し、レーザー光L1,L2を得る。このことによって、レーザー光S1,S2を個別に制御し、光周波数コムC1,C2の特性を容易且つ高精度に調整できる。例えば、光周波数コムC1の繰り返し周波数frep1あるいは光周波数コムC2の繰り返し周波数frep2のみを変調及び制御することや、光周波数コムC1又は光周波数コムC2のみの光周波数の位相を制御できる。
図示していないが、第3実施形態の計測装置は、図2に示す計測装置50のレーザー装置60Aに替えて、図4に示すレーザー装置60Cを備えている。レーザー装置以外の第3実施形態の計測装置の構成は、計測装置50と同様である。レーザー装置60Cではレーザー装置60Aと同様に偏波保持型光ファイバ34から光周波数コムC1,C2が得られるので、第3実施形態の計測装置は、計測装置50と同様に動作し、計測装置50と同様の効果を奏する。
次に、本発明の第4実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系、レーザー装置及び計測装置について説明する。
図5に示すように、第4実施形態のレーザー装置60Dにおける光源5から導入部21までの構成は、第1実施形態で説明したレーザー装置60Aにおける光源5から導入部21までの構成と同様である。レーザー装置60Dは、第1実施形態で説明したデュアル光周波数コム生成光学系10Aに替えて、デュアル光周波数コム生成光学系10Bを備えている。
デュアル光周波数コム生成光学系10B及びレーザー装置60Dでは、第1実施形態で説明した内容と同様の導波及び動作原理によって、偏波保持型光ファイバ34からは、互いに繰り返し周波数の異なる光周波数コムC1,C2(図2参照)が得られる。
レーザー装置60Dは、デュアル光周波数コム生成光学系10Bを有するので、レーザー装置60Aと同様の効果を奏する。また、デュアル光周波数コム生成光学系10B及びレーザー装置60Cでは、電気光学変調器73Aによるレーザー増幅光L1の光路長の変化量と電気光学変調器73Bによるレーザー増幅光L2の光路長の変化量との差を調整することによって、レーザー増幅光L1,L2の共振器長及び光路長差ΔLを高精度に制御できる。レーザー増幅光L1,L2の共振器長及び光路長差ΔLを高精度に制御することで、光周波数コムC1の繰り返し周波数frep1、又は光周波数コムC2の繰り返し周波数frep2のみを容易に制御できる。
図示していないが、本発明の第4実施形態の計測装置は、図2に示す計測装置50のレーザー装置60Aに替えて、図5に示すレーザー装置60Dを備えている。レーザー装置以外の第4実施形態の計測装置の構成は、計測装置50と同様である。レーザー装置60Dではレーザー装置60Aと同様に偏波保持型光ファイバ34から光周波数コムC1,C2が得られるので、第4実施形態の計測装置は、計測装置50と同様に動作し、計測装置50と同様の効果を奏する。レーザー装置60Dによれば、光周波数コムC1,C2同士の繰り返し周波数差Δfrepを容易に制御できるので、モード分解スペクトルにおいて周波数軸上で隣り合うスペクトル同士の周波数間隔を容易に制御すると共に、第4実施形態の計測装置の測定分解能を容易に調整できる。
次に、本発明の第5実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系、レーザー装置及び計測装置について説明する。
図6に示すように、第5実施形態のレーザー装置60Eにおける光源5から導入部21までの構成は、第1実施形態で説明したレーザー装置60Aにおける光源5から導入部21までの構成と同様である。レーザー装置60Eは、第1実施形態で説明したデュアル光周波数コム生成光学系10Aに替えて、デュアル光周波数コム生成光学系10Cを備えている。
デュアル光周波数コム生成光学系10C及びレーザー装置60Eでは、第4実施形態で説明した内容と同様の導波及び動作原理によって、偏波保持型光ファイバ34からは、互いに繰り返し周波数の異なる光周波数コムC1,C2(図2参照)が得られる。但し、デュアル光周波数コム生成光学系10C及びレーザー装置60Eでは、R1,R2方向に沿って第2ループ部32に導波されたレーザー増幅光L1,L2が非相反位相シフト部90によって非線形位相シフトを受ける。
レーザー装置60Eは、デュアル光周波数コム生成光学系10Cを有するので、レーザー装置60Dと同様の効果を奏する。デュアル光周波数コム生成光学系10C及びレーザー装置60Eでは、非相反位相シフト部90を用いてレーザー増幅光L1,L2への非線形位相シフト量を調整することによって、レーザー増幅光L1,L2の共振器長及び光路長差ΔLを制御できる。したがって、デュアル光周波数コム生成光学系10C及びレーザー装置60Eによれば、非相反位相シフト部90を用いて、レーザー増幅光L1,L2の共振器長及び光路長差ΔLを制御し、光周波数コムC1,C2の繰り返し周波数差Δfrepを調整できる。非相反位相シフト部90として非相反位相シフト部90Bを用いてレーザー増幅光L1,L2の共振器長及び光路長差ΔLを個別に制御すれば、光周波数コムC1,C2の繰り返し周波数差Δfrepを細かく調整できる。
図示していないが、第5実施形態の計測装置は、図2に示す計測装置50のレーザー装置60Aに替えて、図6に示すレーザー装置60Eを備えている。レーザー装置以外の第5実施形態の計測装置の構成は、計測装置50と同様である。レーザー装置60Eではレーザー装置60Aと同様に偏波保持型光ファイバ34から光周波数コムC1,C2が得られる。このことによって、第5実施形態の計測装置は、計測装置50と同様に動作し、計測装置50と同様の効果を奏する。レーザー装置60Eによれば、光周波数コムC1,C2同士の繰り返し周波数差Δfrepを容易に制御できる。したがって、モード分解スペクトルにおいて周波数軸上で隣り合うスペクトル同士の周波数間隔を容易に制御すると共に、第5実施形態の計測装置の測定分解能を容易に且つ高精度に調整できる。
次に、本発明の第6実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系、レーザー装置及び計測装置について説明する。
図9に示すように、第6実施形態のレーザー装置60Fにおける光源5から導入部21までの構成は、第1実施形態で説明したレーザー装置60Aにおける光源5から導入部21までの構成と同様である。レーザー装置60Fは、第1実施形態で説明したデュアル光周波数コム生成光学系10Aに替えて、デュアル光周波数コム生成光学系10Dを備えている。
デュアル光周波数コム生成光学系10D及びレーザー装置60Fでは、第5実施形態で説明した内容と同様の導波及び動作原理によって、偏波保持型光ファイバ34からは、互いに繰り返し周波数の異なる光周波数コムC1,C2(図2参照)が得られる。デュアル光周波数コム生成光学系10D及びレーザー装置60Fでは、R1,R2方向に沿って第2ループ部32に導波されたレーザー増幅光L1,L2の光路長さを共振器長制御素子76によって変更できる。共振器長制御素子76によって、レーザー増幅光L1,L2の共振器長を制御し、光周波数コムC1,C2同士の繰り返し周波数差Δfrepを容易に且つ細かく制御できる。
図示していないが、第6実施形態の計測装置は、図2に示す計測装置50のレーザー装置60Aに替えて、図6に示すレーザー装置60Fを備えている。レーザー装置以外の第6実施形態の計測装置の構成は、計測装置50と同様である。レーザー装置60Fではレーザー装置60Aと同様に偏波保持型光ファイバ34から光周波数コムC1,C2が得られるので、第6実施形態の計測装置は、計測装置50と同様に動作し、計測装置50と同様の効果を奏する。レーザー装置60Fによれば、光周波数コムC1,C2同士の繰り返し周波数差Δfrepを高精度に制御できる。このことによって、モード分解スペクトルにおいて周波数軸上で隣り合うスペクトル同士の周波数間隔を高精度に制御し、第6実施形態の計測装置の測定分解能を高精度に調整できる。
次に、本発明の第7実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系、レーザー装置及び計測装置について説明する。
図10に示すように、本発明の第7実施形態のレーザー装置60Gにおける光源5から導入部21までの構成は、第1実施形態で説明したレーザー装置60Aにおける光源5から導入部21までの構成と同様である。レーザー装置60Gは、第1実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系10Aに替えて、デュアル光周波数コム生成光学系10Eを備えている。
レーザー装置60Gは、デュアル光周波数コム生成光学系10Eを有し、レーザー装置60Aと同様の効果を奏する。また、レーザー装置60Gは、空間型共振部102を備えるので、出射端104,ミラー106の離間距離を変えることによって、レーザー増幅光L1,L2の共振器長を調節でき、加えて共振器長の調節範囲を大きく確保できる。
図示していないが、第7実施形態の計測装置は、図2に示す計測装置50のレーザー装置60Aに替えて、図10に示すレーザー装置60Gを備えている。レーザー装置以外の第2実施形態の計測装置の構成は、計測装置50と同様である。レーザー装置60Gではレーザー装置60Aと同様に偏波保持型光ファイバ34から光周波数コムC1,C2が得られるので、第7実施形態の計測装置は、計測装置50と同様に動作し、計測装置50と同様の効果を奏する。
次に、本発明の第8実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系、レーザー装置及び計測装置について説明する。
図11に示すように、第8実施形態のレーザー装置60Hは、レーザー装置60Gの偏波保持型光ファイバ6及び偏波分離素子12に替えて偏波保持型光ファイバ42を備えると共に、第7実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系10Eを備えている。第2実施形態と同様に、光軸Aを中心とする偏波保持型光ファイバ42のクラッド77の偏光軸J42は、光軸Aを中心とする偏波保持型光ファイバ31のクラッド71の偏光軸J31に対して45°,135°,225°,315°のうち何れかの角度をなしている。
レーザー装置60Hは、デュアル光周波数コム生成光学系10Eを有し、レーザー装置60Gと同様の効果を奏する。また、レーザー装置60Gによれば、第2実施形態と同様に、偏波分離素子12を使わずに光源5から発せられたレーザー光をレーザーS1,S2に分けることができる。
図示していないが、第8実施形態の計測装置は、図2に示す計測装置50のレーザー装置60Aに替えて、図11に示すレーザー装置60Hを備えている。レーザー装置以外の第8実施形態の計測装置の構成は、計測装置50と同様である。レーザー装置60Hではレーザー装置60Aと同様に偏波保持型光ファイバ34から光周波数コムC1,C2が得られるので、第8実施形態の計測装置は、計測装置50と同様に動作し、計測装置50と同様の効果を奏する。
次に、本発明の第9実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系、レーザー装置及び計測装置について説明する。
図12に示すように、第9実施形態のレーザー装置60Iは、レーザー装置60Gの1台の光源5、偏波保持型光ファイバ6及び偏波分離素子12に替えて、2台の光源5A,5B、2本の偏波保持型光ファイバ6A,6B及び偏波結合素子14を備えると共に、第7実施形態で説明したデュアル光周波数コム生成光学系10Eを備えている。
レーザー装置60Iは、デュアル光周波数コム生成光学系10Eを有し、レーザー装置60Gと同様の効果を奏する。レーザー装置60Iによれば、第3実施形態と同様に、レーザー光S1,S2を個別に制御し、光周波数コムC1,C2の特性を容易且つ高精度に調整できる。
図示していないが、第9実施形態の計測装置は、図2に示す計測装置50のレーザー装置60Aに替えて、図12に示すレーザー装置60Iを備えている。レーザー装置以外の第9実施形態の計測装置の構成は、計測装置50と同様である。レーザー装置60Iではレーザー装置60Aと同様に偏波保持型光ファイバ34から光周波数コムC1,C2が得られるので、第9実施形態の計測装置は、計測装置50と同様に動作し、計測装置50と同様の効果を奏する。
次に、本発明の第10実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系、レーザー装置及び計測装置について説明する。
図13に示すように、本発明の第10実施形態のレーザー装置60Jにおける光源5から導入部21までの構成は、第1実施形態で説明したレーザー装置60Aにおける光源5から導入部21までの構成と同様である。レーザー装置60Jは、第1実施形態で説明したデュアル光周波数コム生成光学系10Aに替えて、デュアル光周波数コム生成光学系10Fを備えている。
レーザー装置60Jは、デュアル光周波数コム生成光学系10Fを有するので、レーザー装置60Gと同様の効果を奏する。レーザー装置60Jにおいては、第4実施形態で説明したように、電気光学変調器73Aによるレーザー増幅光L1の光路長の変化量と電気光学変調器73Bによるレーザー増幅光L2の光路長の変化量との差を調整できる。このことによって、レーザー増幅光L1,L2の共振器長及び光路長差ΔLを高精度に制御できる。すなわち、レーザー装置60Jでは、光周波数コムC1の繰り返し周波数frep1、又は光周波数コムC2の繰り返し周波数差Δfrep2のみを容易に制御できる。
図示していないが、第10実施形態の計測装置は、図2に示す計測装置50のレーザー装置60Aに替えて、図13に示すレーザー装置60Jを備えている。レーザー装置以外の第10実施形態の計測装置の構成は、計測装置50と同様である。レーザー装置60Jではレーザー装置60Aと同様に偏波保持型光ファイバ34から光周波数コムC1,C2が得られるので、第10実施形態の計測装置は、計測装置50と同様に動作し、計測装置50と同様の効果を奏する。
次に、本発明の第11実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系、レーザー装置及び計測装置について説明する。
図14に示すように、第11実施形態のレーザー装置60Kにおける光源5から導入部21までの構成は、第1実施形態で説明したレーザー装置60Aにおける光源5から導入部21までの構成と同様である。レーザー装置60Kは、第1実施形態で説明したデュアル光周波数コム生成光学系10Aに替えて、デュアル光周波数コム生成光学系10Gを備えている。
レーザー装置60Kは、デュアル光周波数コム生成光学系10Gを有するので、レーザー装置60Jと同様の効果を奏すると共に、第5実施形態と同様に、非相反位相シフト部90を用いて、レーザー増幅光L1,L2の共振器長及び光路長差ΔLを制御し、光周波数コムC1,C2の繰り返し周波数差Δfrepを調整できる。レーザー装置60Kでは、レーザー増幅光L1,L2の共振器長及び光路長差ΔLを個別に制御し、光周波数コムC1,C2の繰り返し周波数差Δfrepを細かく調整できる。
図示していないが、第11実施形態の計測装置は、図2に示す計測装置50のレーザー装置60Aに替えて、図14に示すレーザー装置60Kを備えている。レーザー装置以外の第11実施形態の計測装置の構成は、計測装置50と同様である。レーザー装置60Kではレーザー装置60Aと同様に偏波保持型光ファイバ34から光周波数コムC1,C2が得られるので、第11実施形態の計測装置は、計測装置50と同様に動作し、計測装置50と同様の効果を奏する。
次に、本発明の第12実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系、レーザー装置及び計測装置について説明する。
図15に示すように、第12実施形態のレーザー装置60Lにおける光源5から導入部21までの構成は、第1実施形態で説明したレーザー装置60Aにおける光源5から導入部21までの構成と同様である。レーザー装置60Lは、第1実施形態で説明したデュアル光周波数コム生成光学系10Aに替えて、デュアル光周波数コム生成光学系10Hを備えている。
レーザー装置60Lは、デュアル光周波数コム生成光学系10Hを有するので、レーザー装置60Kと同様の効果を奏すると共に、第6実施形態と同様に、R1,R2方向に沿って第2ループ部32に導波されたレーザー増幅光L1,L2の光路長さを共振器長制御素子76によって変更できる。レーザー装置60Lによれば、レーザー増幅光L1,L2の共振器長を制御し、光周波数コムC1の繰り返し周波数frep1、又は光周波数コムC2の繰り返し周波数frep2のみ、あるいは光周波数コムC1,C2同士の繰り返し周波数差Δfrepを容易に且つ細かく制御できる。
図示していないが、第12実施形態の計測装置は、図2に示す計測装置50のレーザー装置60Aに替えて、図15に示すレーザー装置60Lを備えている。レーザー装置以外の第12実施形態の計測装置の構成は、計測装置50と同様である。レーザー装置60Lではレーザー装置60Aと同様に偏波保持型光ファイバ34から光周波数コムC1,C2が得られるので、第12実施形態の計測装置は、計測装置50と同様に動作し、計測装置50と同様の効果を奏する。
次に、本発明の第13実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系、レーザー装置及び計測装置について説明する。
図16に示すように、第13実施形態のレーザー装置60Mにおける光源5から導入部21までの構成は、第1実施形態で説明したレーザー装置60Aにおける光源5から導入部21までの構成と同様である。レーザー装置60Mは、第7実施形態のレーザー装置60Gの空間型共振部102に替えて可飽和吸収反射体110を備えている。
レーザー装置60Mは、デュアル光周波数コム生成光学系10Mを有するので、レーザー装置60Aやレーザー装置60Gと同様の効果を奏する。レーザー装置60Mは、連結部22で強め合ったレーザー増幅光L1,L2を第2ループ部32に戻す構成として可飽和吸収反射体110を備えているので、レーザー装置60Mの小型化を図ることができる。
図示していないが、第13実施形態の計測装置は、図2に示す計測装置50のレーザー装置60Aに替えて、図16に示すレーザー装置60Mを備えている。レーザー装置以外の第13実施形態の計測装置の構成は、計測装置50と同様である。レーザー装置60Mではレーザー装置60Aと同様に偏波保持型光ファイバ34から光周波数コムC1,C2が得られるので、第13実施形態の計測装置は、計測装置50と同様に動作し、計測装置50と同様の効果を奏する。
以上、好ましい実施形態のデュアル光周波数コム生成光学系について説明したが、本発明に係る別の実施形態として、例えば図17に示すデュアル光周波数コム生成光学系10Nや、図18に示すデュアル光周波数コム生成光学系10Pが挙げられる。
10A,10B,10C,10D,10E,10F,10G,10H,10M,10N,10P…デュアル光周波数コム生成光学系
21…導入部
22…連結部
24…導出部
30…第1ループ光ファイバ
32…第2ループ部
33…第3ループ部
40…増幅部
50…計測装置
60A,60B,60C,60D,60E,60F,60G,60H,60I,60J,60K,60L,60M,60N,60P…レーザー装置
70…レーザー増幅光戻し部
Claims (9)
- 偏光の向きが第1方向である第1レーザー光を導波すると共に、偏光の向きが前記第1方向とは異なる第2方向である第2レーザー光を導波し、前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光の各々の偏光の向きを保持し、偏波保持型光ファイバからなる環状の第2ループ部と偏波保持型光ファイバからなる環状の第3ループ部と偏波保持型光カプラからなる連結部とを有し、前記第2ループ部と前記第3ループ部が前記連結部によって連結され、数字の8の字を描くように構成されている第1ループ光ファイバと、
前記第2ループ部に設けられ、前記第1ループ光ファイバに前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光を導入する導入部と、
前記第2ループ部に設けられ、前記導入部から導入された前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光の前記偏光の向きを保持しつつ、前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光を増幅して第1レーザー増幅光及び第2レーザー増幅光を生成し、前記第1ループ光ファイバの周方向及び該周方向とは逆方向に前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光を出射する増幅部と、
前記連結部と前記第3ループ部と前記第3ループ部に配置された偏波保持型光アイソレータによって構成され、 前記周方向に沿って導波された前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光と前記周方向とは逆方向に沿って導波された前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光との各々のうち、前記連結部での干渉によって前記第1レーザー増幅光と前記第2レーザー増幅光との位相差に応じて強め合った前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光のみを前記第3ループ部を周回させて前記第2ループ部に戻し、前記連結部での干渉によって前記位相差に応じて弱められた前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光を前記第3ループ部を周回させて前記偏波保持型光アイソレータによって除去するレーザー増幅光戻し部と、
前記第3ループ部に設けられ、前記第1ループ光ファイバで生成され且つ偏光の向きが前記第1方向である第1光周波数コムと前記第1ループ光ファイバで生成され且つ偏光の向きが前記第2方向である第2光周波数コムとを前記第1ループ光ファイバから導出する導出部と、
を備え、
前記第2ループ部、前記第3ループ部、前記連結部及び前記偏波保持型光アイソレータは可飽和吸収体として機能し、
前記レーザー増幅光戻し部によって前記第2ループ部に戻された前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光は前記増幅部によって増幅され、
前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光は前記第2ループ部及び前記第3ループ部を構成する偏波保持型光ファイバの長さに応じた非線形位相シフトを受け、前記第1ループ光ファイバを周回し、モード同期状態に移行し、
前記第1レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバの光路長と前記第2レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバの光路長との光路長差は、前記第1レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバにおける屈折率と前記第2レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバにおける屈折率との屈折率差に応じ、前記第1光周波数コムの繰り返し周波数と前記第2光周波数コムの繰り返し周波数との繰り返し周波数差に依存する、
デュアル光周波数コム生成光学系。 - 前記第3ループ部において前記偏波保持型光アイソレータと前記導出部との間の前記連結部を介さない前記偏波保持型光ファイバに位相変調部が設けられ、
前記位相変調部は
外部から供給される高周波電気信号に応じて偏光の向きが第1方向である前記第1レーザー増幅光の位相のみを変調する第1電気光学変調器と、
外部から供給される高周波電気信号に応じて偏光の向きが第2方向である前記第2レーザー増幅光の位相のみを変調する第2電気光学変調器と、
を有する、
請求項1に記載のデュアル光周波数コム生成光学系。 - 偏光の向きが第1方向である第1レーザー光を導波すると共に、偏光の向きが前記第1方向とは異なる第2方向である第2レーザー光を導波し、前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光の各々の偏光の向きを保持し、偏波保持型光ファイバからなる環状の第2ループ部と偏波保持型光ファイバからなる線形部と偏波保持型光カプラからなる連結部とを有し、前記第2ループ部と前記線形部が前記連結部によって連結され、数字の9の字を描くように構成されている 第1ループ光ファイバと、
前記第2ループ部に設けられ、前記第1ループ光ファイバに前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光を導入する導入部と、
前記第2ループ部に設けられ、前記導入部から導入された前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光の前記偏光の向きを保持しつつ、前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光を増幅して第1レーザー増幅光及び第2レーザー増幅光を生成し、前記第1ループ光ファイバの周方向及び該周方向とは逆方向に前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光を出射する 増幅部と、
前記連結部と前記線形部と前記線形部において前記連結部と接続されている端部とは反対側の端部に接続された空間型共振部によって構成され、前記周方向に沿って導波されて前記空間型共振部に入射した前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光と前記周方向とは逆方向に沿って導波された前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光との各々のうち、前記空間型共振部での共振によって前記第1レーザー増幅光と前記第2レーザー増幅光との位相差に応じて強め合った前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光を前記線形部を介して前記第2ループ部に戻し、前記空間型共振部での共振によって前記位相差に応じて弱められた前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光を前記空間型共振部で除去する レーザー増幅光戻し部と、
を備え、
前記連結部に前記線形部と構成する偏波保持型光ファイバとは異なる導出用の偏波保持型光ファイバが接続され、前記第1ループ光ファイバで生成され且つ偏光の向きが前記第1方向である第1光周波数コムと前記第1ループ光ファイバで生成され且つ偏光の向きが前記第2方向である第2光周波数コムとが前記導出用の偏波保持型光ファイバから導出され、
前記第2ループ部、前記線形部、前記連結部及び前記空間型共振部は可飽和吸収体として機能し、
前記レーザー増幅光戻し部によって前記第2ループ部に戻された前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光は前記増幅部によって増幅され、
前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光は前記第2ループ部及び前記線形部を構成する偏波保持型光ファイバの長さと前記空間型共振部に応じた非線形位相シフトを受け、前記第1ループ光ファイバを周回し、モード同期状態に移行し、
前記第1レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバの光路長と前記第2レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバの光路長との光路長差は、前記第1レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバにおける屈折率と前記第2レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバにおける屈折率との屈折率差に応じ、前記第1光周波数コムの繰り返し周波数と前記第2光周波数コムの繰り返し周波数との繰り返し周波数差に依存する、
デュアル光周波数コム生成光学系。 - 前記空間型共振部での共振によって強め合う前記第1レーザー増幅光と前記第2レーザー増幅光との位相差は前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光の波長の半分の偶数倍に相当する、
請求項3に記載のデュアル光周波数コム生成光学系。 - 前記空間型共振部に位相変調部が設けられ、
前記位相変調部は
外部から供給される高周波電気信号に応じて偏光の向きが第1方向である前記第1レーザー増幅光の位相のみを変調する第1電気光学変調器と、
外部から供給される高周波電気信号に応じて偏光の向きが第2方向である前記第2レーザー増幅光の位相のみを変調する第2電気光学変調器と、
を有する 、
請求項3又は4に記載のデュアル光周波数コム生成光学系。 - 前記第2ループ部において前記導入部と前記連結部との間の前記偏波保持型光ファイバに設けられ、前記周方向及び前記周方向とは逆方向に沿って導波される前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光の両方に対して個別に作用し、前記第1レーザー増幅光と前記第2レーザー増幅光との位相差をシフトさせる偏波多重型の非相反位相シフト部と、
前記第2ループ部において前記導入部と前記連結部との間の前記非相反位相シフト部を介さない前記偏波保持型光ファイバに設けられ、前記第2ループ部における前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光の光路長を制御可能な共振器長制御素子と、
を備える、
請求項2又は5に記載のデュアル光周波数コム生成光学系。 - 偏光の向きが第1方向である第1レーザー光を導波すると共に、偏光の向きが前記第1方向とは異なる第2方向である第2レーザー光を導波し、前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光の各々の偏光の向きを保持し、偏波保持型光ファイバからなり、環状に構成されている第1ループ光ファイバと、
前記第1ループ光ファイバに設けられ、前記第1ループ光ファイバに前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光を導入する導入部と、
前記第1ループ光ファイバに設けられ、前記導入部から導入された前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光の前記偏光の向きを保持しつつ、前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光を増幅して第1レーザー増幅光及び第2レーザー増幅光を生成し、前記第1ループ光ファイバの周方向及び該周方向とは逆方向に前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光を出射する増幅部と、
前記第1ループ光ファイバに設けられ、可飽和吸収体及び偏波保持型光アイソレータによって構成され、前記周方向に沿って導波された前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光と前記周方向とは逆方向に沿って導波された前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光との各々のうち、前記可飽和吸収体に入射して前記第1レーザー増幅光と前記第2レーザー増幅光との位相差に応じて強め合った前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光のみを反射し、前記可飽和吸収体に入射して前記位相差に応じて弱められた前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光を前記第1ループ光ファイバを周回させて前記偏波保持型光アイソレータによって除去するレーザー増幅光戻し部と、
前記第1ループ光ファイバに設けられ、前記第1ループ光ファイバで生成され且つ偏光の向きが前記第1方向である第1光周波数コムと前記第1ループ光ファイバで生成され且つ偏光の向きが前記第2方向である第2光周波数コムとを前記第1ループ光ファイバから導出する導出部と、
を備え、
前記レーザー増幅光戻し部によって前記第1ループ光ファイバに反射された前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光は前記増幅部によって増幅され、
前記第1レーザー増幅光及び前記第2レーザー増幅光は前記第1ループ光ファイバを構成する偏波保持型光ファイバの長さに応じた非線形位相シフトを受け、前記第1ループ光ファイバを周回し、モード同期状態に移行し、
前記第1レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバの光路長と前記第2レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバの光路長との光路長差は、前記第1レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバにおける屈折率と前記第2レーザー増幅光の前記第1ループ光ファイバにおける屈折率との屈折率差に応じ、第1光周波数コムの繰り返し周波数と第2光周波数コムの繰り返し周波数との繰り返し周波数差に依存する、
デュアル光周波数コム生成光学系。 - 請求項1から請求項7の何れか一項に記載のデュアル光周波数コム生成光学系と、
前記デュアル光周波数コム生成光学系の 前記導入部に接続され、前記第1レーザー光及び前記第2レーザー光を発する光源と、
を備える、
レーザー装置。 - 請求項8に記載のレーザー装置と、
前記レーザー装置の前記デュアル光周波数コム生成光学系か ら導出される前記第1光周波数コム及び前記第2光周波数コムの進行方向の奥側に配置され、前記第1光周波数コム及び前記第2光周波数コムを分離して互いに異なる進路に進行させる偏波分離部と、
前記偏波分離部によって互いに分離された前記第1光周波数コム及び前記第2光周波数コムの少なくとも一方の進路上に配置された試料よりも前記第1光周波数コム及び前記第2光周波数コムの進行方向の奥側に配置され、測定対象の前記第1光周波数コム及び前記第2光周波数コムを干渉させる偏波干渉部と、
前記偏波干渉部で得られる干渉信号の進行方向の奥側に配置され、前記干渉信号から前記試料の情報を抽出する試料情報抽出部と、
を備える、
計測装置。
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