JP6804199B2 - Solar cells and methods of manufacturing solar cells - Google Patents

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Description

本発明は、基板上に光などを照射したときに高電子濃度を生成する領域を作成すると共に領域の上に光などを透過する絶縁膜を形成し、絶縁膜に形成した電子取出口から電子を取り出すバス電極を有する太陽電池および太陽電池の製造方法に関するものである。 In the present invention, a region that generates a high electron concentration when the substrate is irradiated with light or the like is created, an insulating film that transmits light or the like is formed on the region, and electrons are emitted from the electron outlet formed in the insulating film. It relates to a solar cell having a bus electrode for taking out the light, and a method for manufacturing the solar cell.

従来、再生可能エネルギー利用の一つである太陽電池は、20世紀の主役である半導体技術をベースにその開発が行われている。人類の生存を左右する地球レベルの重要な開発である。その開発の課題は太陽光を電気エネルギーに変換する効率ばかりではなく製造コストの低減および無公害という課題にも向き合いながら進められている。これらを実現する取り組みは、特に、電極に使用されている銀(Ag)や鉛(Pb)の使用量を低減ないし無くすことが重要とされている。 Conventionally, solar cells, which are one of the uses of renewable energy, have been developed based on semiconductor technology, which is the leading role in the 20th century. It is an important development at the global level that affects the survival of humankind. The challenges of its development are not only the efficiency of converting sunlight into electrical energy, but also the challenges of reducing manufacturing costs and pollution-free. Efforts to achieve these are particularly important to reduce or eliminate the amount of silver (Ag) and lead (Pb) used in the electrodes.

一般に、太陽電池の構造は、図7の(a)の平面図および(b)の断面図に示すように、太陽光エネルギーを電気エネルギーに変換するN型/P型のシリコン基板43、シリコン基板43の表面の反射を防止および絶縁体薄膜である窒化シリコン45、シリコン基板43中に発生した電子を取り出すフィンガー電極42、フィンガー電極42で取り出した電子を集めるバスバー電極41、バスバー電極41に集めた電子を外部に取り出す引出リード電極47の各要素より構成されている。 Generally, the structure of a solar cell is an N-type / P-type silicon substrate 43 and a silicon substrate that convert solar energy into electrical energy, as shown in the plan view of FIG. 7A and the cross-sectional view of FIG. 7B. Silicon nitride 45, which is an insulator thin film that prevents reflection on the surface of 43, a finger electrode 42 that extracts electrons generated in the silicon substrate 43, a bus bar electrode 41 that collects electrons taken out by the finger electrode 42, and a bus bar electrode 41. It is composed of each element of a lead lead electrode 47 that takes out electrons to the outside.

このうち、バスバー電極41およびフィンガー電極42に銀および鉛(鉛ガラス)が使用されており、これの銀の使用量を低減および鉛(鉛ガラス)の使用量を低減あるいは無くし、低コストかつ無公害にすることが望まれていた。 Of these, silver and lead (lead glass) are used for the bus bar electrode 41 and the finger electrode 42, and the amount of silver used is reduced and the amount of lead (lead glass) used is reduced or eliminated, resulting in low cost and no cost. It was desired to make it pollution.

上述した従来の図7の太陽電池の構成要素のうち、フィンガー電極42などに銀および鉛(バインダーとしての鉛ガラス)が使用されており、これの銀の使用量を低減および鉛(鉛ガラス)の使用量を低減ないし無くし、太陽電池の製造コストの低減かつ無公害にするという課題があった。 Among the components of the conventional solar cell of FIG. 7 described above, silver and lead (lead glass as a binder) are used for the finger electrode 42 and the like, and the amount of silver used is reduced and lead (lead glass) is used. There has been a problem of reducing or eliminating the amount of lead used, reducing the manufacturing cost of solar cells, and making them pollution-free.

本発明は、銀の使用量を低減および鉛(鉛ガラス)の使用量を低減ないし無くすために、太陽電池の構成要素であるバスバー電極などを形成するのに、銀ペースト中にバナジン酸塩ガラス(以下、導電性のNTAガラスという、”NTA”は登録商標5009023号))を焼結助剤として混入して焼成し、銀および鉛(鉛ガラス)の使用量を低減ないし無くすことを可能とした。 In the present invention, in order to reduce the amount of silver used and to reduce or eliminate the amount of lead (lead glass) used, vanadate glass is used in a silver paste to form a bus bar electrode or the like, which is a component of a solar cell. (Hereinafter referred to as conductive NTA glass, "NTA" is a registered trademark No. 5009023)) is mixed as a sintering aid and fired to reduce or eliminate the amount of silver and lead (lead glass) used. did.

そのため、本発明は、基板上に光などを照射したときに高電子濃度を生成する領域を作成すると共に領域の上に光などを透過する絶縁膜を形成し、絶縁膜に形成した電子取出口から電子を取り出すバス電極(バスバー電極)を有する太陽電池において、バス電極を形成するために、導電性ペーストにガラスフリットとして導電性ガラスを重量比20%から70%を混入して焼成してバス電極を形成し、導電性ペーストの使用量を低減するようにしている。 Therefore, in the present invention, a region that generates a high electron concentration when the substrate is irradiated with light or the like is created, and an insulating film that transmits light or the like is formed on the region, and an electron outlet formed in the insulating film is formed. In a solar cell having a bus electrode (bus bar electrode) that extracts electrons from the conductor, in order to form the bus electrode, conductive glass is mixed with a conductive paste as a glass frit in a weight ratio of 20% to 70% and fired. Electrodes are formed to reduce the amount of conductive paste used.

この際、導電性ガラスは、少なくともバナジウムあるいはバナジウムとバリウムを含むバナシン酸ガラスとするようにしている。 At this time, the conductive glass is borosilicate glass containing at least vanadium or vanadium and barium.

また、導電性ガラスを混入して焼成する工程の時間は、長くても1分以内、数秒以上とするようにしている。 Further, the time of the step of mixing and firing the conductive glass is set to be within 1 minute at the longest and several seconds or more.

また、導電性ガラスは、Pbフリーとするようにしている。 Further, the conductive glass is made Pb-free.

また、焼成して形成したバスバー電極の上にリード電極を設けるようにしている。 Further, the lead electrode is provided on the bus bar electrode formed by firing.

本発明は、上述したように、導電性のNTAガラスを銀ペースト中に焼成助剤として混入して焼成することにより、従来の銀ペースト中の銀の使用量を低減および鉛(鉛ガラス)の利用量を低減ないし無くすことができた。これらにより、下記の特徴がある。 As described above, the present invention reduces the amount of silver used in the conventional silver paste and reduces the amount of silver used in the conventional silver paste by mixing conductive NTA glass in the silver paste as a firing aid and firing the lead (lead glass). We were able to reduce or eliminate usage. Due to these, there are the following features.

第1に、太陽電池のバスバー電極(銀電極)を形成するのに導電性のバナジン酸塩ガラスであるNTAガラス(登録商標第5009023号、特許第5333976号)を銀ペーストの焼結助剤として用い、Agの使用量を低減し、更に、鉛(鉛ガラス)の使用量を低減ないし無くすことができた。 First, NTA glass (registered trademark No. 5009023, patent No. 5333976), which is a conductive vanadate glass for forming a bus bar electrode (silver electrode) of a solar cell, is used as a sintering aid for silver paste. It was possible to reduce the amount of Ag used and further reduce or eliminate the amount of lead (lead glass) used.

第2に、焼結助剤であるNTAガラスの銀ペースト中の重量比率を20%〜70%の範囲で用いることにある。太陽光エネルギーを電子エネルギーに変換する効率を落とすことなくバスバー電極としての効果を発揮する電極形成が実験で確かめられた。これはNTAガラスが(1)導電性を有すること、(2)銀ペーストに混入したことで銀をガラスから分離して集めたことにより導電性が改善されたこと、(3)従来ガラスの針状結晶の成長を抑制してAgによる導電性が改善されたこと、(4)バスバー電極形成に用いる焼結助剤をファイヤリング現象の生じないNTAガラスを用いて変換効率の低減を無くすこと(下記第3、第4参照)などができたなどによると考察される。 The second is to use the weight ratio of NTA glass, which is a sintering aid, in the silver paste in the range of 20% to 70%. Experiments have confirmed the formation of electrodes that are effective as busbar electrodes without reducing the efficiency of converting solar energy into electron energy. This is because NTA glass has (1) conductivity, (2) the conductivity is improved by separating and collecting silver from the glass by mixing it with silver paste, and (3) needles of conventional glass. The growth of shaped crystals was suppressed and the conductivity due to Ag was improved. (4) The reduction in conversion efficiency was eliminated by using NTA glass, which does not cause the firing phenomenon, as the sintering aid used for forming the bus bar electrode (4). It is considered that the following 3rd and 4th) were made.

第3に、銀粒子等に接触しているNTAガラスが高抵抗の結晶を形成することがないような焼結プロセス条件の中で焼結することにある。高抵抗結晶(例えば上記針状結晶)が形成されるとフィンガー電極からバスバー電極を通過する際、電子の移動が適切に行われずエネルギーの変換効率を落とすことになるが、高抵抗の結晶の発生を少なくする一つの手法として短時間(例えば長くても1分間以内)で焼結工程を完了することにより、解決できたと思慮する。 Thirdly, the NTA glass in contact with silver particles or the like is sintered under sintering process conditions such that crystals with high resistance are not formed. When a high-resistance crystal (for example, the above-mentioned acicular crystal) is formed, when the finger electrode passes through the bus bar electrode, electrons are not moved properly and the energy conversion efficiency is lowered, but a high-resistance crystal is generated. It is considered that the solution was solved by completing the sintering process in a short time (for example, within 1 minute at the longest) as one method of reducing the amount of energy.

第4に、従来と異なり、フィンガー電極の形成とバスバー電極の形成とを異なるガラスフリットを含有した銀ペーストを用いることにある。従来、フィンガー電極の形成においてはファイアリングと呼ばれる現象を生ずる必要があった。これは、銀の焼結助剤として用いているガラスフリットの中の成分分子、例えば鉛ガラス中の鉛分子の働きによってシリコン基板の表層に形成された窒化シリコン膜の絶縁層を突き破ってフィンガー電極を形成するようにしてシリコン基板に生成された電子を効率よく集めていた。しかし、バスバー電極の形成については、ファイヤリング現象は必要でない。従来はバスバー電極も鉛成分を含んだ鉛ガラスを焼結助剤にして焼結していたので構造は異なるもののバスバー電極とシリコン基板との電気的な導通路が形成されて変換効率を低減する事となっていた。バスバー電極形成に用いる焼結助剤をファイヤリング現象の生じないNTAガラスを用いることによって変換効率の低減を無くすことができた。 Fourth, unlike the conventional method, a silver paste containing different glass frit is used for forming the finger electrode and the bus bar electrode. Conventionally, in the formation of finger electrodes, it has been necessary to cause a phenomenon called firing. This is a finger electrode that breaks through the insulating layer of the silicon nitride film formed on the surface layer of the silicon substrate by the action of the component molecules in the glass frit used as the silver sintering aid, for example, the lead molecules in the lead glass. The electrons generated on the silicon substrate were efficiently collected so as to form the above. However, the firing phenomenon is not necessary for the formation of the busbar electrode. In the past, the busbar electrode was also sintered using lead glass containing a lead component as a sintering aid, so although the structure is different, an electrical conduction path between the busbar electrode and the silicon substrate is formed to reduce conversion efficiency. It was a thing. The reduction in conversion efficiency could be eliminated by using NTA glass, which does not cause the firing phenomenon, as the sintering aid used for forming the bus bar electrode.

第5に、銀粉末材料の使用による太陽電池のコスト高(原材料費高)の問題がある。また、銀材料の過剰な需要によって材料調達の問題も浮上している。導電ガラスであるNTAガラスの含有比率20%ないし70%に大幅に増加してその分の銀量を少なくした銀ペーストを用いても変換効率を低減することなく太陽電池を作製出来ることができたことは産業界に大きなインパクトを与えると思慮する。 Fifth, there is a problem of high cost of solar cells (high raw material cost) due to the use of silver powder material. In addition, the problem of material procurement has emerged due to the excessive demand for silver materials. A solar cell could be manufactured without reducing the conversion efficiency even by using a silver paste in which the content ratio of NTA glass, which is a conductive glass, was significantly increased to 20% to 70% and the amount of silver was reduced accordingly. I think that will have a big impact on the industry.

第6に、(5)従来のバスバー電極の形成に使用していた鉛ガラスの使用を無くすこと、即ち鉛フリーにすることができた。これによって鉛公害の環境問題を皆無にすることが可能となる。 Sixth, (5) the use of lead glass used for forming the conventional bus bar electrode could be eliminated, that is, lead-free. This makes it possible to eliminate the environmental problems of lead pollution.

図1は、本発明の1実施例構造図(工程の完成図:断面図)を示す。 FIG. 1 shows a structural diagram of an embodiment of the present invention (completed process diagram: cross-sectional view).

図1において、シリコン基板11は、公知の半導体のシリコン基板である。 In FIG. 1, the silicon substrate 11 is a known semiconductor silicon substrate.

高電子濃度領域(拡散ドーピング層)12は、シリコン基板11の上に所望のp型/n型の層を拡散ドーピングなどで形成した公知の領域(層)であって、図では上方向から太陽光が入射するとシリコン基板11で電子を発生(発電)し、その電子を蓄積する領域である。ここでは、蓄積した電子は電子取出口(フィンガー電極(銀))14によって上方向に取り出されるものである(発明の効果参照)。 The high electron concentration region (diffusion doping layer) 12 is a known region (layer) in which a desired p-type / n-type layer is formed on a silicon substrate 11 by diffusion doping or the like, and in the figure, the sun is seen from above. This is a region where electrons are generated (generated) by the silicon substrate 11 when light is incident and the electrons are accumulated. Here, the accumulated electrons are taken out upward by the electron outlet (finger electrode (silver)) 14 (see the effect of the invention).

絶縁膜(窒化シリコン膜)13は、太陽光を通過(透過)させ、かつバスバー電極15と高電子濃度領域14とを電気的に絶縁する公知の膜である(発明の効果参照)。 The insulating film (silicon nitride film) 13 is a known film that allows sunlight to pass through (transmits) and electrically insulates the bus bar electrode 15 and the high electron concentration region 14 (see the effect of the invention).

電子取出口(フィンガー電極(銀))14は、高電子濃度領域12中に蓄積した電子を絶縁膜13に形成した穴を介して取り出す口(フィンガー電極)である(発明の効果参照)。 The electron outlet (finger electrode (silver)) 14 is a port (finger electrode) for taking out electrons accumulated in the high electron concentration region 12 through a hole formed in the insulating film 13 (see the effect of the invention).

バスバー電極(電極1(銀))15は、複数の電子取出口(フィンガーバー電極)14を電気的に接続する電極であって、Agの使用量を削減する対象の電極である(発明の効果参照)。 The bus bar electrode (electrode 1 (silver)) 15 is an electrode for electrically connecting a plurality of electron outlets (finger bar electrodes) 14 and is an electrode for reducing the amount of Ag used (effect of the invention). reference).

裏面電極(電極2(アルミ))16は、シリコン基板11の下面に形成した公知の電極である。 The back surface electrode (electrode 2 (aluminum)) 16 is a known electrode formed on the lower surface of the silicon substrate 11.

リード線(ハンダ形成)17は、複数のバス電極15を電気的に連結した電子(電流I)を外部に取り出すリード線である。 The lead wire (solder forming) 17 is a lead wire that takes out electrons (current I) that electrically connect a plurality of bus electrodes 15 to the outside.

以上の図1の構造のもとで、上から下方向に太陽光を照射すると、太陽光はリード線17および電子取出口14の無い部分と絶縁膜13を通過し、シリコン基板11に入射して電子を発生する。その後、高電子濃度領域12に蓄積した電子は、電子取出口(フィンガー電極)14、バスバー電極15、リード線17を介して外部に取り出される。この際、図2から図6で後述するように、バスバー電極15を、銀ペーストにガラスフリットとしてNTAガラス(導電性ガラス)を混入して焼成して形成し、Agの使用量を低減することが可能となる。以下順次詳細に説明する。 Under the structure of FIG. 1 above, when sunlight is irradiated from top to bottom, the sunlight passes through the lead wire 17 and the portion without the electron outlet 14 and the insulating film 13 and is incident on the silicon substrate 11. Generates electrons. After that, the electrons accumulated in the high electron concentration region 12 are taken out to the outside through the electron outlet (finger electrode) 14, the bus bar electrode 15, and the lead wire 17. At this time, as will be described later in FIGS. 2 to 6, the bus bar electrode 15 is formed by mixing NTA glass (conductive glass) as a glass frit with silver paste and firing the bus bar electrode 15 to reduce the amount of Ag used. Is possible. This will be described in detail below.

図2は、本発明の動作説明フローチャートを示し、図3および図4は各工程の詳細構造を示す。 FIG. 2 shows an operation explanatory flowchart of the present invention, and FIGS. 3 and 4 show a detailed structure of each step.

図2において、S1は、シリコン基板を準備する。 In FIG. 2, S1 prepares a silicon substrate.

S2は、クリーニングする。これらS1、S2は、図3の(a)に示すように、S1で準備したシリコン基板11の面(高電子濃度領域12を形成する面)を綺麗にクリーニングする。 S2 is cleaned. As shown in FIG. 3A, these S1 and S2 clean the surface of the silicon substrate 11 prepared in S1 (the surface forming the high electron concentration region 12).

S3は、拡散ドーピングする。これは、図3の(b)に示すように、図3の(a)でクリーニングしたシリコン基板11の上に公知の拡散ドーピングを行い、高電子濃度領域12を形成する。 S3 is diffusion doped. As shown in FIG. 3B, the silicon substrate 11 cleaned in FIG. 3A is subjected to known diffusion doping to form a high electron concentration region 12.

S4は、反射防止膜(窒化シリコン膜)を形成する。これは、図3の(c)に示すように、図3の(b)の高電子濃度領域12を形成した上に、反射防止膜(太陽光を通過させ、かつ表面反射を可及的に低減した膜)として例えば窒化シリコン膜を公知の手法で形成する。 S4 forms an antireflection film (silicon nitride film). As shown in FIG. 3 (c), this forms the high electron concentration region 12 of FIG. 3 (b), and also has an antireflection film (which allows sunlight to pass through and allows surface reflection as much as possible). As a reduced film), for example, a silicon nitride film is formed by a known method.

S5は、フィンガー電極をスクリーン印刷する。これは、図3の(d)に示すように、図3の(c)の窒化シリコン膜13を形成した上に、形成するフィンガー電極14のパターンをスクリーン印刷する。印刷材料は、例えば銀にフリットとして鉛ガラスを混入したものを用いる。 In S5, the finger electrodes are screen-printed. This screen-prints the pattern of the finger electrodes 14 to be formed on the silicon nitride film 13 of FIG. 3 (c) as shown in FIG. 3 (d). As the printing material, for example, silver mixed with lead glass as a frit is used.

S6は、フィンガー電極を焼成し、ファイヤースルーさせる。これは、図3の(d)でスクリーン印刷したフィンガー電極14のパターン(銀と鉛ガラスのフリットを混入したもの)を焼成し、図3の(e)に示すように、窒化シリコン膜13にファイヤースルーさせてその中に銀(導電性)を形成したフィンガー電極14を形成する。 In S6, the finger electrode is fired and fired through. This is performed by firing the pattern of the finger electrode 14 (mixed with silver and lead glass frit) screen-printed in FIG. 3D, and forming the silicon nitride film 13 as shown in FIG. 3E. A finger electrode 14 having silver (conductivity) formed therein is formed by being fired through.

S7は、バスバー電極(電極1)をスクリーン印刷する。これは、図4の(f)に示すように、図3の(e)のフィンガー電極14を形成した上に、形成するバスバー電極15のパターンをスクリーン印刷する。印刷材料は、例えば銀にフリットとしてNTAガス(20%から70%)を混入したものを用いる。 In S7, the bus bar electrode (electrode 1) is screen-printed. As shown in FIG. 4 (f), the pattern of the formed bus bar electrode 15 is screen-printed on the finger electrode 14 of FIG. 3 (e). As the printing material, for example, silver mixed with NTA gas (20% to 70%) as a frit is used.

S8は、バスバー電極を焼成する。これは、図3の(f)でスクリーン印刷したバスバー電極15のパターン(銀とNTAガラス(20%から70%)のフリットを混入したもの)を焼成(焼成時間は長くても1分以内、2〜3秒以上で焼成)し、図4の(g)に示すように、バスバー電極15を最上層に形成する。 S8 fires the bus bar electrode. This involves firing the pattern of the bus bar electrode 15 screen-printed in FIG. 3 (f) (mixed with silver and NTA glass (20% to 70%) frit) (firing time is within 1 minute at the longest). It is fired in 2 to 3 seconds or more) to form the bus bar electrode 15 on the uppermost layer as shown in FIG. 4 (g).

S9は、裏面電極(電極2)を形成する。これは、図4の(h)に示すように、シリコン基板11の下側(裏面)に例えばアルミ電極を形成する。 S9 forms a back surface electrode (electrode 2). This forms, for example, an aluminum electrode on the lower side (back surface) of the silicon substrate 11 as shown in FIG. 4 (h).

S10は、リード線をハンダ形成する。これは、図4の(i)に示すように、図4の(g)のバスバー電極を電気的に接続するリード線をハンダで形成して電気的に接続する。 In S10, the lead wire is soldered. In this method, as shown in FIG. 4 (i), a lead wire for electrically connecting the bus bar electrode of FIG. 4 (g) is formed by solder and electrically connected.

以上の工程により、シリコン基板に太陽電池を作成することが可能となる。 Through the above steps, it is possible to create a solar cell on a silicon substrate.

図5は、本発明の詳細説明図(バスバー電極の焼成)を示す。 FIG. 5 shows a detailed explanatory view (firing of a bus bar electrode) of the present invention.

図5の(a)はバスバー電極を銀100%、NTA0%(重量比)で焼成した例を模式的に示し、図5の(b)はバスバー電極を銀50%、NTA50%(重量比)で焼成した例を模式的に示す。焼成時間は、長くても1分以内で、2〜3秒以上とした。 FIG. 5 (a) schematically shows an example in which the bus bar electrode is fired with 100% silver and 0% NTA (weight ratio), and FIG. 5 (b) shows the bus bar electrode with 50% silver and 50% NTA (weight ratio). An example of firing in is schematically shown. The firing time was 1 minute or less at the longest, and was set to 2 to 3 seconds or more.

図5の(a)と図5の(b)とで図示のようにほぼ同構造となるように形成した太陽電池の試作実験では下記のような実験結果が得られた。 The following experimental results were obtained in a trial experiment of a solar cell formed so as to have substantially the same structure as shown in FIG. 5 (a) and FIG. 5 (b).

太陽電池の変換効率
図5の(a)のAg 100%,NTA 0% 平均約17%
図5の(b)のAg 50%,NTA 50% 平均約17%
試作実験結果は、バスバー電極のパターンを印刷する材料として、図5の(a)と、図5の(b)とでは太陽電池を作成したときの変換効率が平均約17%でほぼ同じ結果が得られ、AgをNTAガラス(導電性ガラス、20%から70%))で置き換えることができることが実験で確かめられた(発明の効果参照)。尚、NTAガラスは、バナジウム、バリウム、鉄から構成され、特に鉄は内部的に強く結合して当該内部に留まっており、他の材料と混合してもその結合性は極めて小さい性質を有するものである(特許第5333976号等参照)。
Conversion efficiency of solar cells
Ag 100%, NTA 0% in FIG. 5 (a) Average about 17%
Ag 50%, NTA 50% in FIG. 5 (b) Average about 17%
As for the results of the trial experiment, as a material for printing the pattern of the bus bar electrode, the conversion efficiency of (a) in FIG. 5 and (b) in FIG. 5 when a solar cell was produced averaged about 17%, and almost the same result was obtained. It was experimentally confirmed that the obtained Ag could be replaced with NTA glass (conductive glass, 20% to 70%) (see effect of invention). NTA glass is composed of vanadium, barium, and iron. In particular, iron is strongly bonded internally and stays inside the glass, and its bondability is extremely small even when mixed with other materials. (See Patent No. 5333996, etc.).

図6は、本発明の説明図(バスバー電極)を示す。 FIG. 6 shows an explanatory view (bus bar electrode) of the present invention.

図6の(a)は全体平面図を示し、図6の(b)は拡大図を示す。 FIG. 6A shows an overall plan view, and FIG. 6B shows an enlarged view.

図6において、バスバー電極15は、図6の(a)の全体平面図に示すように、長いバー状の電極であって、これを光学顕微鏡で拡大すると図6の(b)に示すような構造が観察された。 In FIG. 6, the bus bar electrode 15 is a long bar-shaped electrode as shown in the overall plan view of FIG. 6A, and when enlarged with an optical microscope, it is as shown in FIG. 6B. The structure was observed.

図6の(b)において、バスバー電極15は、従来のAgと鉛ガラスのフリットで焼成した場合にはAgが均一に分散していたが、本発明のAgとNTAガラスのフリットで焼成(長くても1分以内、2〜3秒以上の焼成)した場合には当該図6の(b)に示すように、当該バスバー電極15の両側にNTAガラス(特にバリウム)が粒子状に形成され、かつ当該バスバー電極15の中央部分にAgが集まって形成されることが判明した。そのため、発明の効果の欄で説明したように、AgにNTAガラスを混入して短時間焼成(長くても1分、2〜3秒以上の焼成)するとAgが中央部分に集まって導電性が向上し(従来はAgは均一に分散していた場合に比較して導電性が向上し)、かつNTAガラス自身も導電性を有することなどの総合的な作用によりAgの割合を減らしてNTAガラスを増やしても、太陽電池として製造した場合の変換効率は既述したように約17%と実験ではほぼ同じ結果が得られた。 In FIG. 6B, when the bus bar electrode 15 was fired with the conventional frit of Ag and lead glass, Ag was uniformly dispersed, but the bus bar electrode 15 was fired with the frit of Ag and NTA glass of the present invention (longer). When it is fired within 1 minute for 2 to 3 seconds or more), as shown in FIG. 6B, NTA glass (particularly barium) is formed in particles on both sides of the bus bar electrode 15. Moreover, it was found that Ag was gathered and formed in the central portion of the bus bar electrode 15. Therefore, as explained in the column of the effect of the invention, when NTA glass is mixed with Ag and fired for a short time (firing for 1 minute, 2 to 3 seconds or more at the longest), Ag gathers in the central portion and becomes conductive. It is improved (conductivity is improved compared to the case where Ag is uniformly dispersed in the past), and the proportion of Ag is reduced by the overall action such as the NTA glass itself having conductivity. Even if the amount was increased, the conversion efficiency when manufactured as a solar cell was about 17% as described above, and almost the same result was obtained in the experiment.

尚、焼成温度は、500℃から900℃であるが、太陽電池として作成した場合に最適な温度を実験により決定することが必要である。低すぎても高すぎても図6の(b)のような構造が得られず、実験で決定することが必要である。 The firing temperature is 500 ° C. to 900 ° C., but it is necessary to experimentally determine the optimum temperature when the solar cell is manufactured. If it is too low or too high, the structure shown in FIG. 6 (b) cannot be obtained, and it is necessary to determine it experimentally.

図8は、本発明の他の実施例フローチャートを示す。これは、バスバー電極15にリード線(リード電極)17を超音波ハンダ付けするときの手順を示したものである。 FIG. 8 shows a flowchart of another embodiment of the present invention. This shows the procedure for ultrasonically soldering the lead wire (lead electrode) 17 to the bus bar electrode 15.

図8において、S21は、フィンガー電極を形成する。これは、図1から図6で既述したフィンガー電極14を形成する。 In FIG. 8, S21 forms a finger electrode. This forms the finger electrodes 14 described in FIGS. 1 to 6.

S22は、バスバー電極を形成する。これは、図1から図6で既述したバスバー電極15を形成する。 S22 forms a busbar electrode. This forms the busbar electrode 15 described above in FIGS. 1 to 6.

S23は、ハンダ材料を接着する。これは、S22で形成したバスバー電極15の表面にハンダをプリ溶着し、リード線17の超音波ハンダ付けをしやすくする。尚、必ずしもハンダをプリ溶着する必要はないが、ハンダによる密着性を確実にするために行う作業である。 S23 adheres the solder material. This pre-solders the solder on the surface of the bus bar electrode 15 formed in S22, facilitating ultrasonic soldering of the lead wire 17. It is not always necessary to pre-weld the solder, but it is a work performed to ensure the adhesion by the solder.

S24は、リード線を接着する。これは、S22、S23で形成したバスバー電極15(プリハンダ有、またはプリハンダ無)に、リード線(プリハンダ有、またはプリハンダ無)17を超音波ハンダ付けを行う。超音波ハンダ付けは、室温からハンダの溶融温度以下にバスバー電極15を予備加熱した状態で、超音波ハンダゴテのコテ先に超音波を供給しつつハンダを当該コテ先に供給し(プリハンダした場合はハンダを供給する/しない場合がある)、バスバー電極15とリード線17とをハンダで接着(溶着)し、密着性を極めて良好にする(後述する)。超音波を供給しないときは、バスバー電極15とリード線17とをハンダで接着不可で、密着できなかった(後述する)。 In S24, the lead wire is adhered. This involves ultrasonically soldering a lead wire (with or without pre-solder) 17 to the bus bar electrode 15 (with or without pre-solder) formed in S22 and S23. In ultrasonic soldering, the bath bar electrode 15 is preheated from room temperature to below the melting temperature of the solder, and the solder is supplied to the iron tip of the ultrasonic soldering iron while supplying ultrasonic waves (in the case of pre-soldering). Solder may or may not be supplied), and the bus bar electrode 15 and the lead wire 17 are bonded (welded) with solder to make the adhesion extremely good (described later). When the ultrasonic waves were not supplied, the bus bar electrode 15 and the lead wire 17 could not be adhered to each other by soldering (described later).

以上のように、バスバー電極15にリード線17を超音波ハンダ付けすることにより、バスバー電極15にリード線17を密着性良好に接着することが可能となった。この際、バスバー電極15などを予備加熱することにより、極めて良好かつ確実に超音波ハンダ付け作業が可能となった。 As described above, by ultrasonically soldering the lead wire 17 to the bus bar electrode 15, it is possible to bond the lead wire 17 to the bus bar electrode 15 with good adhesion. At this time, by preheating the bus bar electrode 15 and the like, the ultrasonic soldering work can be performed extremely well and reliably.

図9は、本発明のバスバー電極上のハンダ・リード線の概略構造図を示す。 FIG. 9 shows a schematic structure diagram of a solder lead wire on a bus bar electrode of the present invention.

図9の(a)は全体断面図を示し、図9の(b)はリード線17の断面図を示す。ここで、シリコン基板11、バスバー電極15、リード線17は、図1の同じ番号のものと同一であるので、説明を省略する。 FIG. 9A shows an overall sectional view, and FIG. 9B shows a sectional view of the lead wire 17. Here, since the silicon substrate 11, the bus bar electrode 15, and the lead wire 17 are the same as those having the same number in FIG. 1, the description thereof will be omitted.

図9の(a)において、ハンダ172は、バスバー電極(予備加熱する)15とリード線17とを超音波ハンダ付けした後の状態を模式的に示したものである。ハンダ172は、バスバー電極15の上に全面に密着してリード線17に溶着している。 In FIG. 9A, the solder 172 schematically shows a state after the bus bar electrode (preheating) 15 and the lead wire 17 are ultrasonically soldered. The solder 172 is adhered to the entire surface of the bus bar electrode 15 and welded to the lead wire 17.

図9の(b)において、ハンダ172は、リード線(リード電極)17の周りに予めプリハンダした状態を示す。 In FIG. 9B, the solder 172 shows a state in which the lead wire (lead electrode) 17 is pre-soldered in advance.

銅171は、銅のリボンであって、この周りに予めハンダ172を溶着し、バスバー電極15と超音波ハンダ付けしやすくした様子を模式的に示す。 Copper 171 is a copper ribbon, and a state in which solder 172 is welded around the ribbon in advance to facilitate ultrasonic soldering with the bus bar electrode 15 is shown schematically.

以上のように、ハンダ172を銅リボン171の周りにプリハンダしたリード線17を用い、かつバスバー電極15を予備加熱(シリコン基板11、バスバー電極15等を含む太陽電池の全体を予備加熱)した状態で、超音波ハンダ付けすることにより、図示のように、バスバー電極15にリード線17を密着性良好にハンダ付けすることが可能となる。 As described above, the lead wire 17 in which the solder 172 is pre-soldered around the copper ribbon 171 is used, and the bus bar electrode 15 is preheated (the entire solar cell including the silicon substrate 11, the bus bar electrode 15 and the like is preheated). By ultrasonic soldering, the lead wire 17 can be soldered to the bus bar electrode 15 with good adhesion as shown in the drawing.

図10は、本発明のNTAガラスのバスバー電極とのハンダの密着(接着)性の実験結果例を示す。ここで、
・ハンダの種類は、鉛ハンダ・フラックス無、鉛ハンダ・フラックス有、錫・銀入り、錫・亜鉛入りの4種類を実験した。
FIG. 10 shows an example of an experimental result of solder adhesion (adhesion) with the bus bar electrode of the NTA glass of the present invention. here,
-As for the types of solder, four types were tested: no lead solder / flux, with lead solder / flux, with tin / silver, and with tin / zinc.

・主な成分は、ハンダの種類に応じた主な成分を示す。 -Main components indicate the main components according to the type of solder.

・超音波コテを使用した場合のNTAガラスと密着性は、OKとNGの区別を示す。 -Adhesion with NTA glass when using an ultrasonic iron shows the distinction between OK and NG.

・超音波コテを使用しない場合のNTAガラスと密着性は、OKとNGの区別を示す。 -Adhesion with NTA glass when no ultrasonic iron is used shows the distinction between OK and NG.

以上の項目について、実験した結果を、図10に示す。この図10の結果より、
・超音波ハンダコテを使用した場合には、鉛ハンダ・フラックス有を除いて他の全てのハンダの種類についてOKの結果が得られ、図1から図6記載のNTAガラスのバスバー電極15に対して、リード線17をハンダ付けして良好に密着できることが実験で確かめられた。一方、超音波ハンダコテを使用しない場合には、全てのハンダの種類についてNGの結果が得られた。
The results of experiments on the above items are shown in FIG. From the result of FIG.
-When an ultrasonic soldering iron was used, OK results were obtained for all other types of solder except those with lead solder and flux, and for the NTA glass bus bar electrodes 15 shown in FIGS. 1 to 6. , It was confirmed by experiments that the lead wire 17 can be soldered and adhered well. On the other hand, when the ultrasonic soldering iron was not used, NG results were obtained for all types of solder.

次に、図11から図16を用いてNTA50%のハンダ付け状況(個別焼成)の実験例を下記のように順次詳細に説明する。 Next, an experimental example of the soldering state (individual firing) of NTA 50% will be described in detail in order as follows with reference to FIGS. 11 to 16.

使用ハンダ 予備加熱 超音波有無 ハンダコテ温度
図11(A):SnAg 200℃ 超音波有 ハンダコテ温度350℃
図12(B):SnAg 200℃ 超音波有 ハンダコテ温度400℃
図13(C):SnZn 200℃ 超音波有 ハンダコテ温度350℃
図14(D):SnPb 200℃ 超音波無 ハンダコテ温度350℃
(フラックス有)
図15(E):SnPb 200℃ 超音波無 ハンダコテ温度400℃
(フラックス有)
図16(F):SnPb 200℃ 超音波有 ハンダコテ温度350℃
(フラックス無)
図11は、本発明のSn−Agハンダのハンダ付け写真(A)を示す。
Solder used Preheating With / without ultrasonic wave Solder iron temperature Fig. 11 (A): SnAg 200 ℃ With ultrasonic wave Solder iron temperature 350 ℃
FIG. 12 (B): SnAg 200 ° C. With ultrasonic wave Solder iron temperature 400 ° C.
FIG. 13 (C): SnZn 200 ° C. With ultrasonic wave Solder iron temperature 350 ° C.
FIG. 14 (D): SnPb 200 ° C. Ultrasonic-free soldering iron temperature 350 ° C.
(With flux)
FIG. 15 (E): SnPb 200 ° C. Ultrasonic-free soldering iron temperature 400 ° C.
(With flux)
FIG. 16 (F): SnPb 200 ° C. With ultrasonic wave Solder iron temperature 350 ° C.
(No flux)
FIG. 11 shows a soldering photograph (A) of the Sn-Ag solder of the present invention.

図11の(a)はハンダ付け条件を示し、図11の(b)はハンダ付け前の写真を示し、図11の(c)はハンダ付け後(超音波有)の写真を示す。 FIG. 11A shows the soldering conditions, FIG. 11B shows a photograph before soldering, and FIG. 11C shows a photograph after soldering (with ultrasonic waves).

図11の(a)において、ハンダ付け条件は図示の下記である。 In FIG. 11A, the soldering conditions are as shown below.

・使用半田:Sn−Agハンダ
・超音波 :有
・コテ先温度:350℃
・コテ発振出力:10W
・予備加熱:200℃
図11の(b)は、ハンダ付け前の写真を示す。
・ Solder used: Sn-Ag solder ・ Ultrasonic wave: Yes ・ Iron tip temperature: 350 ℃
・ Iron oscillation output: 10W
・ Preheating: 200 ° C
FIG. 11B shows a photograph before soldering.

図11の(c)は、ハンダ付け後(超音波有)の写真を示す。ハンダ付け後の写真から判明するように、図11の(b)のハンダ付け前の写真上の縦方向の幅広いバスバー電極15の上にハンダが幅広く溶着かつ密着していることが判明する。 FIG. 11 (c) shows a photograph after soldering (with ultrasonic waves). As can be seen from the photograph after soldering, it can be seen that the solder is widely welded and adhered to the wide bus bar electrode 15 in the vertical direction on the photograph before soldering in FIG. 11 (b).

図11の(d)は、同条件で超音波無の場合には、バスバー電極15にハンダ付けができない為、写真データ無と記載したものである。 FIG. 11D shows that there is no photographic data because soldering cannot be performed on the bus bar electrode 15 when there is no ultrasonic wave under the same conditions.

以上のように、Sn−Agハンダでは超音波ハンダ付け(予備加熱付)は良好にできた。そして、この上にリード線17を密着性良好に超音波ハンダ付けできた。 As described above, ultrasonic soldering (with preheating) was successfully performed with Sn-Ag solder. Then, the lead wire 17 could be ultrasonically soldered on the lead wire 17 with good adhesion.

図12は、本発明のSn−Agハンダのハンダ付け写真(B)を示す。 FIG. 12 shows a soldered photograph (B) of the Sn-Ag solder of the present invention.

図12の(a)はハンダ付け条件を示し、図12の(b)はハンダ付け前の写真を示し、図12の(c)はハンダ付け後(超音波有)の写真を示す。 FIG. 12A shows the soldering conditions, FIG. 12B shows a photograph before soldering, and FIG. 12C shows a photograph after soldering (with ultrasonic waves).

図12の(a)において、ハンダ付け条件は図示の下記である。 In FIG. 12A, the soldering conditions are as shown below.

・使用半田:Sn−Agハンダ
・超音波 :有
・コテ先温度:400℃
・コテ発振出力:10W
・予備加熱:200℃
図12の(b)は、ハンダ付け前の写真を示す。
・ Solder used: Sn-Ag solder ・ Ultrasonic wave: Yes ・ Iron tip temperature: 400 ℃
・ Iron oscillation output: 10W
・ Preheating: 200 ° C
FIG. 12B shows a photograph before soldering.

図12の(c)は、ハンダ付け後(超音波有)の写真を示す。ハンダ付け後の写真から判明するように、図12の(b)のハンダ付け前の写真上の縦方向の幅広いバスバー電極15の上にハンダが幅広く溶着かつ密着していることが判明する。 FIG. 12C shows a photograph after soldering (with ultrasonic waves). As can be seen from the photograph after soldering, it can be seen that the solder is widely welded and adhered to the wide bus bar electrode 15 in the vertical direction on the photograph before soldering in FIG. 12 (b).

図12の(d)は、同条件で超音波無の場合には、バスバー電極15にハンダ付けができない為、写真データ無と記載したものである。 FIG. 12D shows that there is no photographic data because soldering cannot be performed on the bus bar electrode 15 when there is no ultrasonic wave under the same conditions.

以上のように、Sn−Agハンダでは超音波ハンダ付け(予備加熱付)は良好にできた。そして、この上にリード線17を密着性良好に超音波ハンダ付けできた。 As described above, ultrasonic soldering (with preheating) was successfully performed with Sn-Ag solder. Then, the lead wire 17 could be ultrasonically soldered on the lead wire 17 with good adhesion.

図13は、本発明のSn−Znハンダのハンダ付け写真(C)を示す。 FIG. 13 shows a soldering photograph (C) of the Sn—Zn solder of the present invention.

図13の(a)はハンダ付け条件を示し、図13の(b)はハンダ付け前の写真を示し、図13の(c)はハンダ付け後(超音波有)の写真を示す。 FIG. 13 (a) shows the soldering conditions, FIG. 13 (b) shows a photograph before soldering, and FIG. 13 (c) shows a photograph after soldering (with ultrasonic waves).

図13の(a)において、ハンダ付け条件は図示の下記である。 In FIG. 13A, the soldering conditions are as shown below.

・使用半田:Sn−Znハンダ
・超音波 :有
・コテ先温度:350℃
・コテ発振出力:10W
・予備加熱:200℃
図13の(b)は、ハンダ付け前の写真を示す。
・ Solder used: Sn-Zn solder ・ Ultrasonic wave: Yes ・ Iron tip temperature: 350 ℃
・ Iron oscillation output: 10W
・ Preheating: 200 ° C
FIG. 13B shows a photograph before soldering.

図13の(c)は、ハンダ付け後(超音波有)の写真を示す。ハンダ付け後の写真から判明するように、図13の(b)のハンダ付け前の写真上の縦方向の幅広いバスバー電極15の上にハンダが幅広く溶着かつ密着していることが判明する。 FIG. 13C shows a photograph after soldering (with ultrasonic waves). As can be seen from the photograph after soldering, it can be seen that the solder is widely welded and adhered to the wide bus bar electrode 15 in the vertical direction on the photograph before soldering in FIG. 13 (b).

図13の(d)は、同条件で超音波無の場合には、バスバー電極15にハンダ付けができない為、写真データ無と記載したものである。 FIG. 13 (d) describes that there is no photographic data because soldering cannot be performed on the bus bar electrode 15 when there is no ultrasonic wave under the same conditions.

以上のように、Sn−Znハンダでは超音波ハンダ付け(予備加熱付)は良好にできた。そして、この上にリード線17を密着性良好に超音波ハンダ付けできた。 As described above, ultrasonic soldering (with preheating) was successfully performed with Sn—Zn solder. Then, the lead wire 17 could be ultrasonically soldered on the lead wire 17 with good adhesion.

図14は、本発明のSn−Pbハンダ(フラックス有)のハンダ付け写真(D)を示す。 FIG. 14 shows a soldering photograph (D) of the Sn-Pb solder (with flux) of the present invention.

図14の(a)はハンダ付け条件を示し、図14の(b)はハンダ付け前の写真を示し、図14の(c)はハンダ付け後の写真を示す。 FIG. 14 (a) shows the soldering conditions, FIG. 14 (b) shows a photograph before soldering, and FIG. 14 (c) shows a photograph after soldering.

図14の(a)において、ハンダ付け条件は図示の下記である。 In FIG. 14A, the soldering conditions are as shown below.

・使用半田:Sn−Pbハンダ(フラックス有)
・超音波 :無
・コテ先温度:350℃
・予備加熱:200℃
図14の(b)は、ハンダ付け前の写真を示す。
-Solder used: Sn-Pb solder (with flux)
・ Ultrasonic wave: None ・ Iron tip temperature: 350 ℃
・ Preheating: 200 ° C
FIG. 14B shows a photograph before soldering.

図14の(c)は、ハンダ付け後の写真を示す。ハンダ付け後の写真から判明するように、図14の(b)のハンダ付け前の写真上の縦方向の幅広いバスバー電極15の上に幅広くフラックスが泡状になってハンダ付けできないことが判明する。 FIG. 14 (c) shows a photograph after soldering. As can be seen from the photograph after soldering, it is found that the flux is widely foamed on the wide vertical bus bar electrode 15 on the photograph before soldering in FIG. 14 (b) and cannot be soldered. ..

以上のように、Sn−Pbハンダでは超音波無、フラックス有では、フラックスの泡で覆われハンダメッキ不可であった。そして、この上にリード線17もハンダ付け不可であった。 As described above, with Sn-Pb solder, without ultrasonic waves, with flux, it was covered with flux bubbles and solder plating was not possible. And the lead wire 17 could not be soldered on this.

図15は、本発明のSn−Pbハンダ(フラックス有)のハンダ付け写真(E)を示す。 FIG. 15 shows a soldered photograph (E) of the Sn-Pb solder (with flux) of the present invention.

図15の(a)はハンダ付け条件を示し、図15の(b)はハンダ付け前の写真を示し、図15の(c)はハンダ付け後の写真を示す。 FIG. 15 (a) shows the soldering conditions, FIG. 15 (b) shows a photograph before soldering, and FIG. 15 (c) shows a photograph after soldering.

図15の(a)において、ハンダ付け条件は図示の下記である。 In FIG. 15A, the soldering conditions are as shown below.

・使用半田:Sn−Pbハンダ(フラックス有)
・超音波 :無
・コテ先温度:400℃
・予備加熱:200℃
図15の(b)は、ハンダ付け前の写真を示す。
-Solder used: Sn-Pb solder (with flux)
・ Ultrasonic wave: None ・ Iron tip temperature: 400 ℃
・ Preheating: 200 ° C
FIG. 15B shows a photograph before soldering.

図15の(c)は、ハンダ付け後の写真を示す。ハンダ付け後の写真から判明するように、図15の(b)のハンダ付け前の写真上の縦方向の幅広いバスバー電極15の上に幅広くフラックスが泡状になってハンダ付けできないことが判明する。 FIG. 15 (c) shows a photograph after soldering. As can be seen from the photograph after soldering, it is found that the flux is widely foamed on the wide vertical bus bar electrode 15 on the photograph before soldering in FIG. 15 (b) and cannot be soldered. ..

以上のように、Sn−Pbハンダでは超音波無、フラックス有では、フラックスの泡で覆われハンダメッキ不可であった。そして、この上にリード線17もハンダ付け不可であった。 As described above, with Sn-Pb solder, without ultrasonic waves, with flux, it was covered with flux bubbles and solder plating was not possible. And the lead wire 17 could not be soldered on this.

図16は、本発明のSn−Pbハンダ(フラックス無)のハンダ付け写真(F)を示す。 FIG. 16 shows a soldered photograph (F) of the Sn-Pb solder (without flux) of the present invention.

図16の(a)はハンダ付け条件を示し、図16の(b)はハンダ付け前の写真を示し、図16の(c)はハンダ付け後の写真を示す。 FIG. 16A shows the soldering conditions, FIG. 16B shows a photograph before soldering, and FIG. 16C shows a photograph after soldering.

図16の(a)において、ハンダ付け条件は図示の下記である。 In FIG. 16A, the soldering conditions are as shown below.

・使用半田:Sn−Pbハンダ(フラックス無)
・超音波 :有
・コテ先温度:350℃
・コテ発振出力:10W
・予備加熱:200℃
図16の(b)は、ハンダ付け前の写真を示す。
-Solder used: Sn-Pb solder (without flux)
・ Ultrasonic wave: Yes ・ Iron tip temperature: 350 ℃
・ Iron oscillation output: 10W
・ Preheating: 200 ° C
FIG. 16B shows a photograph before soldering.

図16の(c)は、ハンダ付け後(超音波有)の写真を示す。ハンダ付け後の写真から判明するように、図16の(b)のハンダ付け前の写真上の縦方向の幅広いバスバー電極15の上にハンダが幅広く溶着かつ密着していることが判明する。 FIG. 16C shows a photograph after soldering (with ultrasonic waves). As can be seen from the photograph after soldering, it can be seen that the solder is widely welded and adhered to the wide bus bar electrode 15 in the vertical direction on the photograph before soldering in FIG. 16 (b).

図16の(d)は、同条件で超音波無の場合には、バスバー電極15にハンダ付けができない為、写真データ無と記載したものである。 FIG. 16D shows that there is no photographic data because soldering cannot be performed on the bus bar electrode 15 when there is no ultrasonic wave under the same conditions.

以上のように、Sn−Pbハンダ(フラックス無)では超音波ハンダ付け(予備加熱付)は良好にできた。そして、この上にリード線17を密着性良好に超音波ハンダ付けできた。 As described above, ultrasonic soldering (with preheating) was successfully performed with Sn-Pb solder (without flux). Then, the lead wire 17 could be ultrasonically soldered on the lead wire 17 with good adhesion.

本発明の1実施例構造図(工程の完成図:断面図)である。It is 1 Example structural drawing (completion view of process: sectional view of 1 invention) of this invention. 本発明の動作説明フローチャートである。It is an operation explanatory flowchart of this invention. 本発明の詳細工程説明図(その1)である。It is a detailed process explanatory drawing (the 1) of this invention. 本発明の詳細工程説明図(その2)である。It is a detailed process explanatory drawing (the 2) of this invention. 本発明の詳細説明図(バスバー電極の詳細)である。It is a detailed explanatory drawing (details of a bus bar electrode) of this invention. 本発明の説明図(バスバー電極)である。It is explanatory drawing (bus bar electrode) of this invention. 従来技術の説明図である。It is explanatory drawing of the prior art. 本発明の他の実施例フローチャートである。It is a flowchart of another Example of this invention. 本発明のバスバー電極上のハンダ・リード線の概略構造図である。It is a schematic structural drawing of the solder lead wire on the bus bar electrode of this invention. 本発明のNTAガラスのバスバー電極とのハンダの密着(接着)性の実験結果例である。This is an example of an experimental result of the adhesion (adhesion) property of solder to the bus bar electrode of the NTA glass of the present invention. 本発明のSn−Agハンダのハンダ付け写真(A)である。It is a soldering photograph (A) of the Sn-Ag solder of this invention. 本発明のSn−Agハンダのハンダ付け写真(B)である。It is a soldering photograph (B) of the Sn-Ag solder of this invention. 本発明のSn−Znハンダのハンダ付け写真(C)である。It is a soldering photograph (C) of the Sn—Zn solder of this invention. 本発明のSn−Pbハンダ(フラックス有)のハンダ付け写真(D)である。It is a soldering photograph (D) of the Sn-Pb solder (with flux) of this invention. 本発明のSn−Pbハンダ(フラックス有)のハンダ付け写真(E)である。It is a soldering photograph (E) of the Sn-Pb solder (with flux) of this invention. 本発明のSn−Pbハンダ(フラックス無)のハンダ付け写真(F)である。It is a soldering photograph (F) of the Sn-Pb solder (without flux) of this invention.

11:シリコン基板
12:高電子濃度領域(拡散ドーピング)
13:絶縁膜(窒化シリコン膜)
14:電子取出口(フィンガー電極)
15:バスバー電極
16:裏面電極
17:リード線
171:銅
172:ハンダ
11: Silicon substrate 12: High electron concentration region (diffusion doping)
13: Insulating film (silicon nitride film)
14: Electron outlet (finger electrode)
15: Bus bar electrode 16: Back electrode 17: Lead wire 171: Copper 172: Solder

Claims (12)

基板上に光を照射したときに高電子濃度を生成する領域を作成すると共に該領域の上に光を透過する絶縁膜を形成し、該絶縁膜に形成した電子取出口から電子を取り出すバス電極を有する太陽電池において、
前記バス電極を形成するために、導電性ペーストにガラスフリットとしてAgあるいはその酸化物を含まない導電性ガラスを重量比20%から70%を混入し残部をAgとして、長くても1分以内、数秒以上、焼成して前記導電性ガラスから分離して集まったAgが中央部分に集まって導電性が向上したバス電極を形成し、導電性ペーストに含まれるAgの使用量を低減したことを特徴とする太陽電池。
A bus electrode that creates a region that generates high electron concentration when light is irradiated on the substrate, forms an insulating film that transmits light on the region, and takes out electrons from the electron outlet formed in the insulating film. In solar cells with
In order to form the bath electrode, 20% to 70% by weight of conductive glass containing no Ag or its oxide as a glass frit is mixed with the conductive paste, and the balance is Ag, within 1 minute at the longest. It is characterized by reducing the amount of Ag contained in the conductive paste by forming a bath electrode with improved conductivity by firing and collecting Ag separated from the conductive glass for several seconds or more and gathering in the central part. Solar cell.
前記導電性ガラスは、少なくともバナジウムあるいはバナジウムとバリウムを含むバナシン酸ガラスとしたことを特徴とする請求項1記載の太陽電池。 The solar cell according to claim 1 , wherein the conductive glass is vanadium or vanadium silicate glass containing vanadium and barium. 前記導電性ガラスは、Pbフリーであることを特徴とする請求項1から請求項2のいずれかに記載の太陽電池。 The solar cell according to any one of claims 1 to 2, wherein the conductive glass is Pb-free. 前記焼成して形成したバス電極の上にリード電極を設けたことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の太陽電池。 The solar cell according to any one of claims 1 to 3, wherein a lead electrode is provided on the bus electrode formed by firing. 前記リード電極は、導電性のリード線であって、該リード線を前記バス電極に超音波ハンダ付けし、該リード線と該バス電極とをハンダを介して良好に密着させたことを特徴とする請求項4に記載の太陽電池。 The lead electrode is a conductive lead wire, and is characterized in that the lead wire is ultrasonically soldered to the bus electrode and the lead wire and the bus electrode are satisfactorily adhered to each other via solder. The solar cell according to claim 4. 前記バス電極を室温からハンダの溶融温度以下の温度に予備加熱した状態で、該バス電極と前記リード線とを超音波ハンダ付けしたことを特徴とする請求項5に記載の太陽電池。 The solar cell according to claim 5, wherein the bath electrode and the lead wire are ultrasonically soldered in a state where the bath electrode is preheated from room temperature to a temperature equal to or lower than the melting temperature of the solder. 基板上に光を照射したときに高電子濃度を生成する領域を作成すると共に該領域の上に光を透過する絶縁膜を形成し、該絶縁膜に形成した電子取出口から電子を取り出すバス電極を有する太陽電池の製造方法において、
前記バス電極を形成するために、導電性ペーストにガラスフリットとしてAgあるいはその酸化物を含まない導電性ガラスを重量比20%から70%を混入し残部をAgとして、長くても1分以内、数秒以上、焼成して前記導電性ガラスから分離して集まったAgが中央部分に集まって導電性が向上したバス電極を形成し、導電性ペーストに含まれるAgの使用量を低減するステップ
を有することを特徴とする太陽電池の製造方法。
A bus electrode that creates a region that generates high electron concentration when light is irradiated on the substrate, forms an insulating film that transmits light on the region, and extracts electrons from the electron outlet formed in the insulating film. In the method of manufacturing a solar cell having
In order to form the bath electrode, 20% to 70% by weight of conductive glass containing no Ag or its oxide as a glass frit is mixed with the conductive paste, and the balance is Ag, within 1 minute at the longest. It has a step of reducing the amount of Ag contained in the conductive paste by firing for several seconds or more and collecting Ag separated from the conductive glass in the central portion to form a bath electrode having improved conductivity. A method for manufacturing a solar cell, which is characterized in that.
前記導電性ガラスは、少なくもとバナジウムあるいはバナジウムとバリウム含むバナジン酸塩ガラスとしたことを特徴とする請求項7記載の太陽電池の製造方法。 The conductive glass fabrication process of solar cell according to claim 7, characterized in that the To and vanadate glasses containing vanadium or vanadium and barium Sukunakumo. 前記導電性ガラスは、Pbフリーであることを特徴とする請求項7から請求項8のいずれかに記載の太陽電池の製造方法。 The method for manufacturing a solar cell according to any one of claims 7 to 8, wherein the conductive glass is Pb-free. 前記焼成して形成したバス電極の上にリード電極を設けたことを特徴とする請求項7から請求項9のいずれかに記載の太陽電池の製造方法。 The method for manufacturing a solar cell according to any one of claims 7 to 9, wherein a lead electrode is provided on the bus electrode formed by firing. 前記リード電極は、導電性のリード線であって、該リード線を前記バス電極に超音波ハンダ付けし、該リード線と該バス電極とをハンダを介して良好に密着させたことを特徴と
する請求項10に記載の太陽電池の製造方法。
The lead electrode is a conductive lead wire, and is characterized in that the lead wire is ultrasonically soldered to the bus electrode and the lead wire and the bus electrode are satisfactorily adhered to each other via solder. The method for manufacturing a solar cell according to claim 10.
前記バス電極を室温からハンダの溶融温度以下の温度に予備加熱した状態で、該バス電極と前記リード線とを超音波ハンダ付けしたことを特徴とする請求項11記載の太陽電池の製造方法。 Wherein the bus electrode in a state preheated to melt temperature below the temperature of the solder from room method for manufacturing a solar cell according to claim 11, characterized in that the said the said bus electrode lead was attached ultrasonic soldering ..
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6659074B2 (en) * 2015-10-13 2020-03-04 農工大ティー・エル・オー株式会社 NTA paste
WO2017204422A1 (en) * 2016-05-25 2017-11-30 알무스인터내셔널 주식회사 Solar cell and manufacturing method therefor
JP2018110178A (en) * 2016-12-30 2018-07-12 アートビーム有限会社 Solar cell and manufacturing method for the same
JP7058390B2 (en) * 2020-07-21 2022-04-22 農工大ティー・エル・オー株式会社 Solar cells and methods for manufacturing solar cells

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001044470A (en) * 1999-07-30 2001-02-16 Hitachi Ltd Solar battery, manufacture of the solar battery and condenser solar battery module
JP3854985B2 (en) * 2001-07-18 2006-12-06 財団法人北九州産業学術推進機構 Vanadate glass and method for producing vanadate glass
JP4738149B2 (en) * 2005-02-22 2011-08-03 京セラ株式会社 Solar cell module
US8093491B2 (en) * 2005-06-03 2012-01-10 Ferro Corporation Lead free solar cell contacts
JP4885781B2 (en) * 2007-03-30 2012-02-29 日立粉末冶金株式会社 Conductive paste
US20100122728A1 (en) * 2008-11-17 2010-05-20 Fulton Kevin R Photovoltaic device using low iron high transmission glass with antimony and reduced alkali content and corresponding method
TWI391362B (en) * 2009-03-27 2013-04-01 Hitachi Powdered Metals A glass composition and a conductive mortar composition using the same, an electrode wire member, and an electronic component
JP5497504B2 (en) * 2010-03-23 2014-05-21 株式会社日立製作所 Electronic components
CN102655030B (en) * 2011-03-02 2015-07-15 韩国电子通信研究院 Conductive composition, silicon solar cell including the same, and manufacturing method thereof
US20120260981A1 (en) * 2011-04-14 2012-10-18 Hitachi Chemical Company, Ltd. Paste composition for electrode, photovoltaic cell element, and photovoltaic cell
WO2012173203A1 (en) * 2011-06-14 2012-12-20 京セラ株式会社 Solar cell and method for manufacturing same
JP2013103840A (en) * 2011-11-10 2013-05-30 Hitachi Ltd Conductive glass paste, and electric/electronic component using the same
CN104137274B (en) * 2012-02-28 2016-09-21 京瓷株式会社 The electrode of solaode electric conductivity unguentum, solaode and the manufacture method of solaode
TWI595510B (en) * 2012-04-17 2017-08-11 賀利氏貴金屬北美康舍霍肯有限責任公司 Tellurium inorganic reaction systems for conductive thick film paste for solar cell contacts
JP2014192481A (en) * 2013-03-28 2014-10-06 Toppan Printing Co Ltd Metal foil lamination body for solar cell, solar cell module, and manufacturing method of metal foil lamination body for solar cell

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