JP6608236B2 - Marking device - Google Patents

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Description

本発明は、マーキング装置に関する。   The present invention relates to a marking device.

マーキング装置は半導体デバイスや液晶ディスプレイ用基板、電子部品等の被加工物に文字、記号、図形、配線パターン等の所定の形状を印字(マーキング)する装置である。   The marking apparatus is an apparatus that prints (marks) a predetermined shape such as a character, a symbol, a figure, or a wiring pattern on a workpiece such as a semiconductor device, a liquid crystal display substrate, or an electronic component.

具体的なマーキング装置としては、レーザ光を所定のドット径で収束させて被加工物の表面に照射しつつ2次元方向に走査し、被加工物の表面に文字や図形をマーキングするレーザマーキング装置が提案されている(例えば、特許文献1)。   As a specific marking device, a laser marking device for converging a laser beam with a predetermined dot diameter and irradiating the surface of the work piece in a two-dimensional direction to mark characters or figures on the surface of the work piece Has been proposed (for example, Patent Document 1).

また、レーザマーキング装置の構成としては、1台のレーザユニットから照射される1本のパルスレーザ光を、複数の光路に振り分けて加工を行う構成も知られている(例えば、特許文献2)。   In addition, as a configuration of the laser marking device, a configuration in which one pulse laser beam irradiated from one laser unit is distributed to a plurality of optical paths for processing (for example, Patent Document 2) is also known.

さらに、レーザマーキング装置の構成としては、3次元の加工面にレーザ印字をする際に、収束レンズから加工面までの距離に応じてレーザのドット径を調整する構成も提案されている(例えば、特許文献3)。   Furthermore, as a configuration of the laser marking device, a configuration in which the laser dot diameter is adjusted according to the distance from the convergent lens to the processing surface when laser printing is performed on a three-dimensional processing surface has been proposed (for example, Patent Document 3).

一方で、特許文献1〜3に示す技術では加工精度と作業時間の短縮の両立が困難であるという問題があった。   On the other hand, the techniques disclosed in Patent Documents 1 to 3 have a problem that it is difficult to achieve both machining accuracy and shortening of work time.

具体的には、特許文献1、3に示すような技術では、マーキングに用いるレーザのドット径が大きくなるほど、作業時間が短縮されるものの、微細なパターン描画ができなくなるため、加工精度が悪くなるという問題があった。一方、マーキングに用いるドット径が小さくなるほど、微細なパターン描画ができるため、加工精度が向上するものの、加工時間が長くなるため、作業時間の短縮が困難であるという問題があった。   Specifically, in the techniques as shown in Patent Documents 1 and 3, as the dot diameter of the laser used for marking increases, the working time is shortened, but fine pattern drawing cannot be performed, resulting in poor processing accuracy. There was a problem. On the other hand, the smaller the dot diameter used for marking, the finer pattern drawing can be made, so that the processing accuracy is improved, but the processing time is long, so that it is difficult to shorten the working time.

また、特許文献2に示すように、1つのレーザ光源から複数のレーザ光を複数の光路に振り分けてマーキングする技術では、1つの光路のみを用いてマーキングする場合と比べて作業時間を短縮することができるが、加工精度は向上できないという問題があり、また加工精度と作業時間の短縮がトレードオフの関係になる点に変わりはないという問題があった。   In addition, as shown in Patent Document 2, the technique of distributing and marking a plurality of laser beams from a single laser light source to a plurality of optical paths reduces the working time compared to the case of marking using only one optical path. However, there is a problem that the machining accuracy cannot be improved, and there is a problem that there is no change in the point that the machining accuracy and the shortening of the working time are in a trade-off relationship.

そこで、各々が異なるドット径で描画を行う複数のレーザユニットを組み合わせ、高速かつ微細にマーキングする装置が提案されている(特許文献4)。   In view of this, there has been proposed an apparatus that combines a plurality of laser units that perform drawing with different dot diameters and performs high-speed and fine marking (Patent Document 4).

特開2005−66611号公報JP 2005-66611 A 特開2005−74479号公報JP-A-2005-74479 特開2009−285693号公報JP 2009-285693 A 特開2015−160235号公報JP, 2015-160235, A

特許文献4に記載の装置は加工精度の向上と作業時間の短縮を同時に実現可能であるという点では有用である。   The apparatus described in Patent Document 4 is useful in that it can simultaneously improve machining accuracy and shorten work time.

一方で、特許文献4に記載の装置では、複数のレーザユニットの描画位置精度を常時一定にしておかないと、それぞれのレーザユニットで描画したパターンに描画漏れ(隙間)が発生する恐れがある。そのために、各レーザユニット間で複雑な精度校正作業が必要となるという問題があった。   On the other hand, in the apparatus described in Patent Document 4, if the drawing position accuracy of the plurality of laser units is not always constant, drawing leakage (gap) may occur in the patterns drawn by the respective laser units. Therefore, there has been a problem that complicated accuracy calibration work is required between the laser units.

さらに、特許文献4に記載の装置では、複数のレーザユニットが必要であるが、描画するパターンが小さい等の理由でドット径が小さい方のレーザユニットのみを用いる必要がある場合はドット径が大きい方のレーザユニットが使用されないため、無駄な構成になる。そのため、描画するパターンに対して装置構成が複雑、高価になる場合があるという問題があった。   Furthermore, in the apparatus described in Patent Document 4, a plurality of laser units are required. However, when it is necessary to use only a laser unit having a smaller dot diameter because the pattern to be drawn is small, the dot diameter is large. Since the other laser unit is not used, the configuration becomes useless. For this reason, there is a problem that the apparatus configuration is complicated and expensive for the pattern to be drawn.

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は単純構成で高速かつ微細に描画が実現可能なマーキング装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a marking device that can realize drawing at high speed and finely with a simple configuration.

上記した課題を解決するため、本発明の1つの態様は、被加工物に設定したマーキングエリアに所定の描画パターンを描画するマーキング装置において、第1のドット径および前記第1のドット径よりもドット径の小さい第2のドット径で前記被加工物にマーキングを行うマーキング部と、前記マーキング部のドット径を変更する可変部と、前記描画パターンの一部を構成するパターンであり、前記第1のドット径で描画する第1描画パターンおよび前記描画パターンの一部を構成するパターンであり、前記第2のドット径で描画する第2描画パターンを登録する、部分描画パターン登録部と、前記第1描画パターンと前記第2描画パターンとの重ね合わせ量を設定する重ね合わせ量設定部と、前記描画パターンの縁部に対する前記第1描画パターンの縁部のオフセット量を設定するオフセット量設定部を備え、前記第1描画パターンと前記第2描画パターンとは、互いに重ね合わせて描画されることで前記被加工物に対して所定の前記描画パターンが形成されるものであり、前記第2描画パターンには、前記第1描画パターンの縁部を埋めるような輪郭パターンが含まれる、マーキング装置である。 In order to solve the above-described problem, one aspect of the present invention provides a marking apparatus that draws a predetermined drawing pattern in a marking area set on a workpiece. The first dot diameter and the first dot diameter are larger than the first dot diameter. A marking part for marking the workpiece with a second dot diameter having a small dot diameter, a variable part for changing the dot diameter of the marking part, and a pattern constituting a part of the drawing pattern, a pattern constituting a part of the first drawing pattern and the drawing pattern is drawn with one dot diameter, registers the second drawing pattern to be drawn in the second dot diameter, a partial drawing pattern registration unit, wherein An overlap amount setting unit for setting an overlap amount between the first drawing pattern and the second drawing pattern; and the first drawing with respect to an edge of the drawing pattern An offset amount setting unit configured to set an offset amount of an edge of the turn, and the first drawing pattern and the second drawing pattern are drawn on each other so as to overlap each other with respect to the workpiece. In the marking device, a drawing pattern is formed, and the second drawing pattern includes a contour pattern that fills an edge of the first drawing pattern .

本発明によれば、単純構成で高速かつ微細に描画が実現可能なマーキング装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the marking apparatus which can implement | achieve drawing at high speed and finely by simple structure can be provided.

本発明の一実施形態に係るマーキング装置1の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view showing a schematic structure of marking device 1 concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係るマーキング装置1のブロック図であって、太線は専用線による接続を、波形の線は通信による接続を、細線はI/O(入出力)ポートによる接続を、点線はアナログ回線による接続を意味している。1 is a block diagram of a marking device 1 according to an embodiment of the present invention, in which a thick line indicates a connection by a dedicated line, a waveform line indicates a connection by communication, a thin line indicates a connection by an I / O (input / output) port, and a dotted line Means an analog line connection. 本発明の一実施形態に係るフィルム100の断面図である。It is sectional drawing of the film 100 which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係るフィルム100上のマーキングエリア203を示す平面図である。It is a top view which shows the marking area 203 on the film 100 which concerns on one Embodiment of this invention. レーザ加工部3およびアクチュエータ71の概略構成を示す斜視図である。3 is a perspective view showing a schematic configuration of a laser processing unit 3 and an actuator 71. FIG. フィルム100上に形成する全体描画パターン113の例を示す平面図である。4 is a plan view showing an example of an overall drawing pattern 113 formed on a film 100. FIG. フィルム100上に形成する全体描画パターン113の例を示す平面図であって、図6の配線パターン70近傍を拡大した図である。FIG. 7 is a plan view showing an example of an overall drawing pattern 113 formed on the film 100, and is an enlarged view of the vicinity of the wiring pattern 70 of FIG. 第1描画パターン115の例を示す平面図であって、図7に対応した図である。FIG. 8 is a plan view illustrating an example of a first drawing pattern 115, corresponding to FIG. 第2描画パターン117の例を示す平面図であって、図7に対応した図である。FIG. 8 is a plan view showing an example of a second drawing pattern 117, corresponding to FIG. 全体描画パターン113の例を示す平面図であって、斜線で描かれた部分が第1描画パターン115を、点描された部分が第2描画パターン117を、網掛けで描かれた部分が第1描画パターン115と第2描画パターン117の重ね合わせ領域118を示す。It is a top view which shows the example of the whole drawing pattern 113, Comprising: The part drawn by the oblique line is the 1st drawing pattern 115, the part drawn by the dotted line is the 2nd drawing pattern 117, and the part drawn by the shading is the 1st An overlapping region 118 of the drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 is shown. 図10の領域Aの拡大図であり、第1のドット径303および第2のドット径304も記載している。FIG. 11 is an enlarged view of region A in FIG. 10, and also shows a first dot diameter 303 and a second dot diameter 304. 領域310全体を第1描画パターン115として、ドット径を第1のドット径303のみとして描画した場合を仮定した描画パターンを示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a drawing pattern assuming that the entire region 310 is drawn as the first drawing pattern 115 and the dot diameter is drawn only as the first dot diameter 303; 複数列を含むパターンで第2描画パターン117を形成した例を示す図である。It is a figure which shows the example which formed the 2nd drawing pattern 117 with the pattern containing several rows. マーキング装置1を用いたマーキングの手順を示すフロー図である。It is a flowchart which shows the procedure of marking using the marking apparatus. 図14のS2の詳細なフロー図である。It is a detailed flowchart of S2 of FIG. 本発明の一実施形態に係るマーキング装置1の加工テーブル21の周囲の側面図であって、図15の各フローに対応する図である。It is a side view of the circumference | surroundings of the process table 21 of the marking apparatus 1 which concerns on one Embodiment of this invention, Comprising: It is a figure corresponding to each flow of FIG. 本発明の一実施形態に係るマーキング装置1の加工テーブル21の周囲の側面図であって、図15の各フローに対応する図である。It is a side view of the circumference | surroundings of the process table 21 of the marking apparatus 1 which concerns on one Embodiment of this invention, Comprising: It is a figure corresponding to each flow of FIG.

以下、図面を参照して本発明に好適な実施形態を詳細に説明する。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, exemplary embodiments suitable for the invention will be described in detail with reference to the drawings.

まず、図1および図2を参照して本実施形態に係るマーキング装置1の構成について説明する。   First, the configuration of the marking device 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

ここではマーキング装置1として、被加工物としてのフィルム100の表面にレーザを用いてマーキングを行うレーザマーキング装置が例示されている。   Here, as the marking apparatus 1, a laser marking apparatus that performs marking using a laser on the surface of a film 100 as a workpiece is illustrated.

具体的には、図1に示すマーキング装置1は、マーキング部としてレーザ加工部3を備えている。さらに、図2に示された装置PC7はPLC(Programmable Logic Controller)37とともに、マーキングを制御する制御装置として動作する。   Specifically, the marking device 1 shown in FIG. 1 includes a laser processing unit 3 as a marking unit. Further, the apparatus PC7 shown in FIG. 2 operates together with a PLC (Programmable Logic Controller) 37 as a control apparatus that controls the marking.

レーザ加工部3は第1のドット径303および第1のドット径303よりもドット径が小さい第2のドット径304でフィルム100にマーキングを行うことができる(図5参照)。   The laser processing unit 3 can perform marking on the film 100 with the first dot diameter 303 and the second dot diameter 304 that is smaller than the first dot diameter 303 (see FIG. 5).

このうち、装置PC7は制御部6と記憶部7aとを有し、記憶部7aはマーキングする全体のパターン形状の情報である全体描画パターン113(図6参照)を格納する格納領域12と、レーザ加工部3が第1のドット径303で描画する第1描画パターン115(図8参照)を格納する第1の部分格納領域14およびレーザ加工部3が第2のドット径304で描画する第2描画パターン117(図9参照)を格納する第2の部分格納領域16を有している。このように、記憶部7aには、全体描画パターン113から生成された第1描画パターン115および第2描画パターン117が登録される。このため、装置PC7は、第1描画パターン115および第2描画パターン117を登録しておく部分描画パターン登録部として動作する。   Among these, the apparatus PC 7 includes a control unit 6 and a storage unit 7a, and the storage unit 7a stores a storage area 12 that stores an overall drawing pattern 113 (see FIG. 6) that is information on the overall pattern shape to be marked, and a laser. The first partial storage area 14 that stores the first drawing pattern 115 (see FIG. 8) drawn by the processing unit 3 with the first dot diameter 303 and the second that the laser processing unit 3 draws with the second dot diameter 304. It has a second partial storage area 16 for storing the drawing pattern 117 (see FIG. 9). Thus, the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 generated from the entire drawing pattern 113 are registered in the storage unit 7a. For this reason, the apparatus PC 7 operates as a partial drawing pattern registration unit for registering the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117.

さらに、装置PC7は、第2描画パターン117における輪郭パターン120(図9参照)の列数を設定する輪郭列数設定部としても動作する。   Furthermore, the apparatus PC 7 also operates as a contour column number setting unit that sets the number of columns of the contour pattern 120 (see FIG. 9) in the second drawing pattern 117.

また、装置PC7は、第1描画パターン115と第2描画パターン117との重ね合わせ量Vx、Vy(図11参照)を設定する重ね合わせ量設定部としても動作し、全体描画パターン113の縁部313に対する第1描画パターン115の縁部のオフセット量Gx、Gy(図11参照)を設定するオフセット量設定部としても動作する。   The apparatus PC 7 also operates as an overlap amount setting unit for setting the overlap amounts Vx and Vy (see FIG. 11) of the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117, and the edge of the overall drawing pattern 113. It also operates as an offset amount setting unit that sets offset amounts Gx and Gy (see FIG. 11) of the edge of the first drawing pattern 115 with respect to 313.

このように、本実施形態では全体描画パターン113の登録、および全体描画パターン113から第1描画パターン115および第2描画パターン117を生成する処理を装置PC7が行うため、装置PC7が全体描画パターン登録部および部分描画パターン生成部としての機能を有している。   Thus, in this embodiment, since the apparatus PC7 performs the process of registering the entire drawing pattern 113 and generating the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 from the entire drawing pattern 113, the apparatus PC7 registers the entire drawing pattern. And a function as a partial drawing pattern generation unit.

図1〜5を参照して、マーキング装置1の構成について、さらに詳細に説明する。   With reference to FIGS. 1-5, the structure of the marking apparatus 1 is demonstrated in detail.

図1および図2に示すように、マーキング装置1はフィルム100を巻き出す巻出器11と、巻出器11から巻き出されたフィルム100を巻き取る巻取器13を有している。   As shown in FIGS. 1 and 2, the marking device 1 includes an unwinder 11 that unwinds the film 100 and a winder 13 that winds the film 100 unwound from the unwinder 11.

フィルム100はここでは図3に示すように、高分子フィルム等の基材101上に金属層103を形成したものであり、金属層103上にレーザ加工部3からレーザを選択的に照射することにより、照射を受けた部分が除去されて所定の配線パターン70(図6参照)が形成される。   Here, as shown in FIG. 3, the film 100 is obtained by forming a metal layer 103 on a base material 101 such as a polymer film, and selectively irradiating laser on the metal layer 103 from the laser processing unit 3. Thus, the irradiated portion is removed to form a predetermined wiring pattern 70 (see FIG. 6).

一方、マーキング装置1において、巻出器11と巻取器13の間で、かつフィルム100の下方には、フィルム100のマーキングエリア203(図4参照)を吸着保持する相対移動部としての加工テーブル21が設けられている。加工テーブル21は駆動部23により、フィルム100の搬送方向に平行な向きである、図1の+x、−xの向き、およびフィルム100の面の法線方向に平行な向きである+z、−zの向きに移動可能である。   On the other hand, in the marking device 1, a processing table as a relative moving unit that holds and holds the marking area 203 (see FIG. 4) of the film 100 between the unwinder 11 and the winder 13 and below the film 100. 21 is provided. The processing table 21 is driven by the drive unit 23 in directions parallel to the transport direction of the film 100, + x and −x in FIG. 1, and + z and −z that are parallel to the normal direction of the surface of the film 100. It is possible to move in the direction.

一方、加工テーブル21は+x、−xの向きへの移動可能距離が図1の距離Hに制限されており、移動限界の両端には、フィルム100を一時的に吸着・保持する保持テーブル25が設けられている。保持テーブル25は図示しないアクチュエータによって図1の+z、−zの向きに移動可能である。   On the other hand, the processing table 21 has a movable distance in the + x and −x directions limited to the distance H in FIG. 1, and holding tables 25 for temporarily adsorbing and holding the film 100 at both ends of the movement limit. Is provided. The holding table 25 can be moved in the directions of + z and -z in FIG. 1 by an actuator (not shown).

加工テーブル21はマーキング時にフィルム100を吸着することともに、フィルム100の搬送時にはフィルム100に追従して移動することによりフィルム100の位置ズレを防止する。   The processing table 21 adsorbs the film 100 at the time of marking, and moves along the film 100 when the film 100 is conveyed, thereby preventing the positional deviation of the film 100.

また、加工テーブル21がフィルム100の搬送により移動限界に到達した場合は、一時的に保持テーブル25でフィルム100を吸着し、加工テーブル21をフィルム100から切り離して上流側(巻出器11側)に加工テーブル21を戻す。   When the processing table 21 reaches the movement limit due to the conveyance of the film 100, the film 100 is temporarily sucked by the holding table 25, and the processing table 21 is separated from the film 100 to the upstream side (unwinder 11 side). Return the processing table 21 to.

また、マーキング装置1ではレーザ加工部3は固定されていてもよいし、位置補正のためのXYθステージやUVWステージ等を設けてフィルム100に対してレーザ加工部3が、水平(XY)方向およびZ方向を回転軸とする回転(θ)方向に相対移動可能な構成であってもよい。   In the marking device 1, the laser processing unit 3 may be fixed, or an XYθ stage or a UVW stage for position correction is provided so that the laser processing unit 3 can move in the horizontal (XY) direction with respect to the film 100. It may be configured to be relatively movable in the rotation (θ) direction with the Z direction as the rotation axis.

さらに、マーキング装置1はレーザの出力を測定するレーザパワーメータ33および変換器35を有している。   Furthermore, the marking device 1 has a laser power meter 33 and a converter 35 for measuring the output of the laser.

装置PC7はマーキング装置1の各構成要素を駆動制御するコンピュータであり、装置PC7には、当該装置PC7を操作するためのモニタ8、キーボード10が入出力装置として設けられている。これら入出力装置はタブレット型の入出力装置であっても良い。   The device PC7 is a computer that drives and controls each component of the marking device 1. The device PC7 is provided with a monitor 8 and a keyboard 10 for operating the device PC7 as input / output devices. These input / output devices may be tablet-type input / output devices.

また、装置PC7は加工テーブル21、巻出器11、巻取器13を制御して、フィルム100に対してレーザ加工部3を相対的に移動させながらマーキングを行うように加工テーブル21、巻出器11、巻取器13に(PLC37を介して)指令する移動マーキング制御部としての機能も有している。   In addition, the apparatus PC 7 controls the processing table 21, the unwinder 11, and the winder 13 to perform marking while moving the laser processing unit 3 relative to the film 100. It also has a function as a movement marking control unit that commands the device 11 and the winder 13 (via the PLC 37).

さらに、本実施形態では、装置PC7とPLC37がマーキングを制御する制御装置として動作する。より具体的には、装置PC7はレーザ加工部3のレーザ加工条件(レーザ出力、レーザ発振周波数、ガルバノ走査速度、加工テーブル21の搬送速度、加工テーブル21の搬送距離、レーザパワーメータ33の条件、レーザ加工のレイアウト)の設定と、レーザ加工部3に関わる加工指示制御等を主に行う他、加工が完了したことを意味する情報(加工完了トリガー)をPLC37に送信する役割も担う。   Further, in the present embodiment, the devices PC7 and PLC 37 operate as a control device that controls marking. More specifically, the apparatus PC7 determines the laser processing conditions of the laser processing unit 3 (laser output, laser oscillation frequency, galvano scanning speed, transport speed of the processing table 21, transport distance of the processing table 21, conditions of the laser power meter 33, In addition to mainly setting the layout of the laser processing and processing instruction control related to the laser processing unit 3, it also plays a role of transmitting information (processing completion trigger) indicating that the processing is completed to the PLC 37.

また、PLC37は加工テーブル21の動作の制御、保持テーブル25の動作の制御、加工テーブル21および保持テーブル25の真空吸着および吸着の解除の制御、図示しない集塵機、レーザ用チラー、テーブルニップ等の動作制御、レーザのメカシャッターの開閉動作の制御等の、レーザ加工部3以外の構成の動作の制御を行う他、動作の制御が完了したことを示す情報(トリガー)を装置PC7に送信する役割も担う。   The PLC 37 controls the operation of the processing table 21, the operation of the holding table 25, the vacuum suction and the suction release control of the processing table 21 and the holding table 25, the operations of a dust collector, a laser chiller, a table nip, etc. (not shown). In addition to controlling the operation of the components other than the laser processing unit 3 such as control and control of the opening / closing operation of the mechanical shutter of the laser, the role of transmitting information (trigger) indicating that the operation control is completed to the apparatus PC7 Bear.

装置PC7とレーザ加工部3、巻出器11、巻取器13、加工テーブル21、保持テーブル25、レーザパワーメータ33(変換器35)はPLC(Programmable Logic Controller)37を介して接続されている。   The apparatus PC 7, the laser processing unit 3, the unwinder 11, the winder 13, the processing table 21, the holding table 25, and the laser power meter 33 (converter 35) are connected via a PLC (Programmable Logic Controller) 37. .

さらに、マーキング装置1はレーザ加工部3から照射さえるレーザのドット径を変更する可変部としてのアクチュエータ71を有している。   Furthermore, the marking device 1 has an actuator 71 as a variable unit that changes the dot diameter of the laser irradiated from the laser processing unit 3.

なお、フィルム100において一度にマーキングを行う領域は、例えば図4に示すようなマーキングエリア203になる。   In addition, the area | region which marks at a time in the film 100 becomes the marking area 203 as shown, for example in FIG.

また、図1ではレーザ加工部3の数は1つであるが、2つ以上のレーザ加工部3をフィルム100の搬送方向に対して並列な向き(+y、−yの向き)に並べてマーキングを行ってもよい。   In FIG. 1, the number of the laser processing units 3 is one, but two or more laser processing units 3 are arranged in a parallel direction (+ y, −y direction) with respect to the transport direction of the film 100 for marking. You may go.

ここで、図5を参照してレーザ加工部3およびアクチュエータ71の構成および動作の概略について説明する。   Here, with reference to FIG. 5, the outline of a structure and operation | movement of the laser processing part 3 and the actuator 71 is demonstrated.

図5に示すように、レーザ加工部3は、YAG(Yttrium Aluminum Garnet)レーザ等のレーザを照射する光源51、光源51から照射されたレーザの光路上に設けられ、レーザのドット径を調整するビームエキスパンダ53、ビームエキスパンダ53を透過したレーザの方向を変えるためのコーナーミラー55、57、コーナーミラー57から入射されたレーザのZ軸方向の焦点の調整を行うZスキャナ59および対物レンズ61、対物レンズ61を透過した光のX軸およびY軸方向座標を調整するXYガルバノスキャナ63、およびこれらの構成要素の動作を制御するレーザ加工ユニットPC39を有している。   As shown in FIG. 5, the laser processing unit 3 is provided on a light source 51 for irradiating a laser such as a YAG (Yttrium Aluminum Garnet) laser, and on the optical path of the laser irradiated from the light source 51, and adjusts the dot diameter of the laser. Beam expander 53, corner mirrors 55 and 57 for changing the direction of the laser beam that has passed through beam expander 53, a Z scanner 59 that adjusts the focal point in the Z-axis direction of the laser incident from corner mirror 57, and objective lens 61 And an XY galvano scanner 63 that adjusts the X-axis and Y-axis direction coordinates of the light transmitted through the objective lens 61, and a laser processing unit PC39 that controls the operation of these components.

また、ビームエキスパンダ53は複数のレンズ53a、53bを有しているが、レンズ53aに対してレンズ53bを光路方向(図5の−y、+yの向き)に相対的に移動させるアクチュエータ71がレンズ53bに設けられている。   The beam expander 53 includes a plurality of lenses 53a and 53b. An actuator 71 that moves the lens 53b relative to the lens 53a in the optical path direction (directions -y and + y in FIG. 5) is provided. It is provided on the lens 53b.

アクチュエータ71はレンズ53aに対してレンズ53bを光路方向に相対的に移動させることにより、レンズ53aとレンズ53bの距離Lを調節する。これにより、光源51から照射されたレーザのドット径を第1のドット径303または第2のドット径304のいずれかに設定する。   The actuator 71 adjusts the distance L between the lens 53a and the lens 53b by moving the lens 53b relative to the lens 53a in the optical path direction. As a result, the dot diameter of the laser emitted from the light source 51 is set to either the first dot diameter 303 or the second dot diameter 304.

マーキングの際には、レーザ加工部3では、光源51から所定の出力で照射されたレーザがビームエキスパンダ53で所定のドット径に調整され、Zスキャナ59、対物レンズ61、XYガルバノスキャナ63で照射する位置座標およびその位置での焦点を調整されて、第1のドット径303でフィルム100の所望の位置に照射される。   At the time of marking, the laser processing unit 3 adjusts the laser beam irradiated with a predetermined output from the light source 51 to a predetermined dot diameter by the beam expander 53, and the Z scanner 59, the objective lens 61, and the XY galvano scanner 63. The position coordinates to be irradiated and the focal point at the position are adjusted, and a desired position on the film 100 is irradiated with the first dot diameter 303.

なお、アクチュエータ71はレンズ53bではなくレンズ53aに設けられてもよい。   The actuator 71 may be provided not on the lens 53b but on the lens 53a.

また、レーザ加工部3においては、Zスキャナ59と対物レンズ61の代わりにfθレンズを用いることも可能である。この場合、fθレンズはXYガルバノスキャナ63とフィルム100の間に配置され、Z軸方向の焦点の調整を行う。
以上がレーザ加工部3およびアクチュエータ71の構成および動作の概略である。
In the laser processing unit 3, an fθ lens can be used instead of the Z scanner 59 and the objective lens 61. In this case, the fθ lens is disposed between the XY galvano scanner 63 and the film 100 to adjust the focus in the Z-axis direction.
The above is the outline of the configuration and operation of the laser processing unit 3 and the actuator 71.

次に、マーキング装置1を用いたマーキングの手順について、図6〜図18を参照して説明する。   Next, a marking procedure using the marking device 1 will be described with reference to FIGS.

まず、以下の説明においてフィルム100上に形成する全体描画パターン113の例を、図6〜図13を参照して説明する。   First, an example of the overall drawing pattern 113 formed on the film 100 in the following description will be described with reference to FIGS.

図6に示すように、矩形のマーキングエリア203内の全体描画パターン113には、配線パターン70が16個設けられている。   As shown in FIG. 6, 16 wiring patterns 70 are provided in the entire drawing pattern 113 in the rectangular marking area 203.

また、本実施形態では全体描画パターン113から、全体描画パターン113の一部を構成する第1描画パターン115および第2描画パターン117が生成される。そのため、全体描画パターン113から第1描画パターン115および第2描画パターン117を生成する方法について、図7〜図14を参照して詳細に説明する。   In the present embodiment, the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 constituting a part of the whole drawing pattern 113 are generated from the whole drawing pattern 113. Therefore, a method for generating the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 from the overall drawing pattern 113 will be described in detail with reference to FIGS.

まず、図7に示すような全体描画パターン113があり、第1のドット径303の直径がDである場合を考える。この場合、Dよりも小さい(幅の狭い)領域305、306、307、309はレーザのドット径が第1のドット径303の場合は描画できないため、第2のドット径304で描画する第2描画パターン117として設定される。   First, consider a case where there is an overall drawing pattern 113 as shown in FIG. 7 and the diameter of the first dot diameter 303 is D. In this case, the regions 305, 306, 307, and 309 that are smaller (narrower) than D cannot be drawn when the laser dot diameter is the first dot diameter 303. Therefore, the second drawing is performed with the second dot diameter 304. The drawing pattern 117 is set.

次に、第1のドット径303は、第2のドット径304よりも、描画の際のレーザのドット径が大きく、大面積を高速で描画できるため、第1のドット径303で描画可能な領域(領域310)は第1描画パターン115として設定されるのが本来は望ましい。   Next, since the first dot diameter 303 is larger than the second dot diameter 304 in drawing, the laser dot diameter is larger, and a large area can be drawn at a higher speed, so that the first dot diameter 303 can be drawn. It is originally desirable that the region (region 310) is set as the first drawing pattern 115.

一方で、本実施形態では第1描画パターン115の縁部116を埋めるような輪郭パターン120を有するパターンとして、第2描画パターン117が設定される。逆に言えば、第1描画パターン115の縁部116は全体描画パターン113の縁部313に対して内側にオフセットした形状になる。一方で第2描画パターン117の外側の縁部114(輪郭パターン120を含む)は全体描画パターン113の縁部313と一致する。   On the other hand, in the present embodiment, the second drawing pattern 117 is set as a pattern having the contour pattern 120 that fills the edge 116 of the first drawing pattern 115. In other words, the edge portion 116 of the first drawing pattern 115 has a shape offset inward with respect to the edge portion 313 of the overall drawing pattern 113. On the other hand, the outer edge 114 (including the contour pattern 120) of the second drawing pattern 117 coincides with the edge 313 of the overall drawing pattern 113.

以上の基準に従って、図7の全体描画パターン113から第1描画パターン115および第2描画パターン117を生成すると、第1描画パターン115は図8に示すパターンとなり、第2描画パターン117は図9に示すパターンとなる。   When the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 are generated from the entire drawing pattern 113 of FIG. 7 according to the above criteria, the first drawing pattern 115 becomes the pattern shown in FIG. 8, and the second drawing pattern 117 is shown in FIG. It becomes the pattern shown.

また、第1描画パターン115と第2描画パターン117を重ねると、図10および図11に示すように重ね合わせ領域118を生じる。即ち、第1描画パターン115と第2描画パターン117は、互いに重ね合わせて描画されることでフィルム100に対して全体描画パターン113が形成されるものである。   Further, when the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 are overlapped, an overlapping region 118 is generated as shown in FIGS. That is, the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 are drawn so as to overlap each other, whereby the entire drawing pattern 113 is formed on the film 100.

なお、図11に示すように、第1描画パターン115と第2描画パターン117におけるX方向の重ね合わせ量をVxと称し、Y方向の重ね合わせ量をVyと称する。また、全体描画パターン113の縁部313に対する第1描画パターン115の縁部からのX方向のオフセット量をGxと称し、Y方向のオフセット量をGyと称する。   As shown in FIG. 11, the overlap amount in the X direction in the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 is referred to as Vx, and the overlap amount in the Y direction is referred to as Vy. Further, the offset amount in the X direction from the edge portion of the first drawing pattern 115 with respect to the edge portion 313 of the overall drawing pattern 113 is referred to as Gx, and the offset amount in the Y direction is referred to as Gy.

ここで、第1描画パターン115の縁部を第2描画パターン117の輪郭パターン120として設定するのは以下の2つの理由によるものである。   Here, the edge of the first drawing pattern 115 is set as the contour pattern 120 of the second drawing pattern 117 for the following two reasons.

まず、レーザ加工部3は第1描画パターン115および第2描画パターン117に基づきマーキングを行うが、レーザのドット形状は平面形状が円形である。そのため、図12に示すように、Dよりも大きい領域310全体を仮に第1描画パターン115としてレーザ加工部3でマーキングすると、第1描画パターン115の縁部と実際に描画されるパターンの間には一定の隙間315が生じる。   First, the laser processing unit 3 performs marking based on the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117, but the dot shape of the laser has a circular planar shape. Therefore, as shown in FIG. 12, if the entire region 310 larger than D is marked by the laser processing unit 3 as the first drawing pattern 115, the space between the edge of the first drawing pattern 115 and the pattern actually drawn is between Produces a certain gap 315.

このような隙間315はドット径を第2のドット径304として領域310に描画を行った場合でも生じるが、第1のドット径303の方が第2のドット径304よりもドット径が大きいため、第1のドット径303で描画した場合の方が、隙間315はより大きくなる。   Such a gap 315 is generated even when drawing is performed in the area 310 with the second dot diameter 304 as the dot diameter, but the first dot diameter 303 is larger than the second dot diameter 304 because the dot diameter is larger. When the first dot diameter 303 is used for drawing, the gap 315 becomes larger.

そのため、第2描画パターン117を第1描画パターン115の縁部を埋めるような輪郭パターン120を含むパターンとして設定することにより、領域310全体を第1描画パターン115とする場合と比べて隙間315をより小さくでき、全体描画パターン113の精度を向上させることができる。これが第1の理由である。   Therefore, by setting the second drawing pattern 117 as a pattern including the contour pattern 120 that fills the edge of the first drawing pattern 115, the gap 315 is formed as compared with the case where the entire region 310 is the first drawing pattern 115. Thus, the accuracy of the entire drawing pattern 113 can be improved. This is the first reason.

次に、マーキング装置1においては、レーザ加工部3の位置合わせ精度、マーキング時の経時変化等により、実際に描画されるパターンの位置が第1描画パターン115および第2描画パターン117からズレを生じる場合がある。   Next, in the marking device 1, the position of the actually drawn pattern is shifted from the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 due to the alignment accuracy of the laser processing unit 3, changes with time during marking, and the like. There is a case.

この場合、第1描画パターン115の方が第2描画パターン117よりもズレ量が大きい。これは、第1のドット径303の方が第2のドット径304よりよりもドット径が大きいためである。そのため、第1描画パターン115のズレが特に問題となる。   In this case, the shift amount of the first drawing pattern 115 is larger than that of the second drawing pattern 117. This is because the first dot diameter 303 has a larger dot diameter than the second dot diameter 304. Therefore, the deviation of the first drawing pattern 115 is particularly problematic.

そこで、第1描画パターン115の縁部を第2描画パターン117として設定することにより、第1描画パターン115で描画するべき領域が、実際にはズレを生じたとしても、ズレを生じた分は第2描画パターン117の領域内に描画される。   Therefore, by setting the edge of the first drawing pattern 115 as the second drawing pattern 117, even if the region to be drawn with the first drawing pattern 115 actually shifts, Drawing is performed in the area of the second drawing pattern 117.

より正確には、図11に示すように全体描画パターン113の縁部313に対する第1描画パターン115の外周からのオフセット量Gx、Gyが重ね合わせ量Vx、Vy以下の場合は、第1描画パターン115のズレ量がGx、Gy以下であれば、ズレを生じた分は第2描画パターン117の領域内または重ね合わせ領域118の領域内に描画される。   More precisely, as shown in FIG. 11, when the offset amounts Gx and Gy from the outer periphery of the first drawing pattern 115 with respect to the edge 313 of the entire drawing pattern 113 are equal to or less than the overlapping amounts Vx and Vy, the first drawing pattern If the amount of deviation 115 is equal to or less than Gx and Gy, the amount of deviation is drawn in the area of the second drawing pattern 117 or the area of the overlapping area 118.

一方で、オフセット量Gx、Gyが重ね合わせ量Vx、Vyよりも大きい場合は、第1描画パターン115のズレ量がVx、Vy以下であれば、ズレを生じた分は第2描画パターン117の領域内または重ね合わせ領域118の領域内に描画される。   On the other hand, when the offset amounts Gx and Gy are larger than the overlay amounts Vx and Vy, if the shift amount of the first drawing pattern 115 is equal to or less than Vx and Vy, the amount of the shift is the amount of the second drawing pattern 117. Drawing is performed in the region or the region of the overlapping region 118.

そのため、ズレを生じた分をオフセット量Gx、Gy又は重ね合わせ量Vx、Vyの範囲で吸収することができ、実際に描画されるパターンそのものはズレの有無によらず、全体描画パターン113と同じ形状にできる。これが第2の理由である。
以上が全体描画パターン113から第1描画パターン115および第2描画パターン117を生成する方法である。
Therefore, the amount of deviation can be absorbed in the range of the offset amounts Gx, Gy or the overlay amounts Vx, Vy, and the actually drawn pattern itself is the same as the entire drawing pattern 113 regardless of whether or not there is a deviation. Can be shaped. This is the second reason.
The above is the method for generating the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 from the entire drawing pattern 113.

このようにレーザ加工部3のドット径を可変にして異なる複数のドット径を用い、大面積を加工する必要がある部分をドット径の大きい方で高速描画し、微細な加工を要する部分をドット径の小さい方で精密に描画することにより、マーキング装置1は単純構成で高速かつ微細に描画が実現可能である。   In this way, the dot diameter of the laser processing unit 3 is made variable and a plurality of different dot diameters are used, a portion that needs to be processed in a large area is drawn at a high speed with a larger dot diameter, and a portion that requires fine processing is formed as a dot. By accurately drawing with a smaller diameter, the marking device 1 can realize drawing with high speed and fineness with a simple configuration.

特に、マーキング装置1では1つのレーザ加工部3で異なるドット径によるマーキングを行うため、異なるドット径ごとに複数のレーザ加工部を設けてマーキングを行う場合と比べて装置構成が単純であり、レーザ加工部間で複雑な精度校正作業も不要になる。   In particular, since the marking device 1 performs marking with different dot diameters by one laser processing unit 3, the apparatus configuration is simple compared to the case where marking is performed by providing a plurality of laser processing units for different dot diameters. Complicated accuracy calibration work between processing parts is also unnecessary.

さらに、マーキング装置1では第1描画パターン115の縁部を第2描画パターン117の輪郭パターン120として設定することにより、第1描画パターン115で描画するべき領域が、実際にはズレを生じたとしても、ズレを生じた分は第2描画パターン117の領域内に描画される。
そのため、マーキング装置1はより加工精度を向上できる。
Further, in the marking device 1, by setting the edge of the first drawing pattern 115 as the contour pattern 120 of the second drawing pattern 117, the region to be drawn with the first drawing pattern 115 is actually misaligned. However, the amount of deviation is drawn in the area of the second drawing pattern 117.
Therefore, the marking device 1 can further improve the processing accuracy.

なお、図11では第2描画パターン117のうち、第1描画パターン115の縁部を埋めるパターンの幅(図11ではX方向の幅をSx、Y方向の幅をSyと記す)は第2のドット径304の直径と同じである。即ち第2描画パターン117はドット一列で形成されている。   In FIG. 11, the width of the pattern that fills the edge of the first drawing pattern 115 in the second drawing pattern 117 (in FIG. 11, the width in the X direction is denoted by Sx and the width in the Y direction is denoted by Sy) is the second width. This is the same as the diameter of the dot diameter 304. That is, the second drawing pattern 117 is formed by a single line of dots.

一方で、第2描画パターン117は必ずしもドット一列で形成する必要はなく、図13に示すような複数列で形成してもよい。   On the other hand, the second drawing pattern 117 is not necessarily formed by a single line of dots, and may be formed by a plurality of lines as shown in FIG.

このように複数列にすることにより、一列の場合と比べて重ね合わせ量Vx、Vyおよびオフセット量Gx、Gyを大きくすることができる。
そのため、第1描画パターン115(および第2描画パターン117)の許容されるズレ量を、より大きくすることができる。
By using a plurality of rows in this manner, the overlay amounts Vx and Vy and the offset amounts Gx and Gy can be increased as compared with the case of one row.
Therefore, the allowable deviation amount of the first drawing pattern 115 (and the second drawing pattern 117) can be further increased.

ただし、列数や重ね合わせ量Vx、Vyが大きくなるほど、第2描画パターン117の面積が大きくなり、描画に要する時間が長くなる。
そのため、重ね合わせ量Vx、Vyと列数は、予想されるズレ量と作業時間とを比較して適切な範囲が選択されるのが望ましい。
However, as the number of columns and the overlapping amounts Vx and Vy increase, the area of the second drawing pattern 117 increases and the time required for drawing increases.
For this reason, it is desirable that the overlapping amounts Vx, Vy and the number of columns are selected in an appropriate range by comparing the expected deviation amount with the working time.

例えば、マーキング時の経時変化等によるマーキング位置の想定される第1描画パターン115および第2描画パターン117の位置ずれを各々α、βとすると、重ね合わせ量Vx、Vyは最低でもα+βが必要となる。さらに、第1描画パターン115と第2描画パターン117が互いに反対方向に最大量ずれた場合は、ドット径が円であることに由来した隙間(図12の隙間315参照)が生じる可能性があるため、この隙間を埋められる量をγとすると、実際の重ね合わせ量Vx、Vyはα+β+γとなる。   For example, if the positional deviations of the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 that are assumed to be the marking positions due to changes over time during marking are α and β, respectively, the overlapping amounts Vx and Vy need to be α + β at least. Become. Furthermore, when the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 are displaced by the maximum amount in the opposite directions, a gap (see the gap 315 in FIG. 12) derived from the dot diameter being a circle may occur. Therefore, if the amount that can fill this gap is γ, the actual overlay amounts Vx and Vy are α + β + γ.

また、上記の通り第2描画パターン117の列数は、重ね合わせ量Vx、Vyの大きさおよびオフセット量Gx、Gyの大きさによって増減する。即ち重ね合わせ量Vx、Vyおよびオフセット量Gx、Gyが大きくなるほど列数を増やすのが望ましく、重ね合わせ量Vx、Vyおよびオフセット量Gx、Gyが小さいほど列数を減らすのが望ましい。
以上がフィルム100上に形成する全体描画パターン113の例の説明である。
Further, as described above, the number of columns of the second drawing pattern 117 increases or decreases depending on the size of the overlay amounts Vx and Vy and the size of the offset amounts Gx and Gy. That is, it is desirable to increase the number of columns as the overlapping amounts Vx, Vy and offset amounts Gx, Gy increase, and it is desirable to decrease the number of columns as the overlapping amounts Vx, Vy and offset amounts Gx, Gy decrease.
The above is the description of the example of the overall drawing pattern 113 formed on the film 100.

次に、マーキングの手順について図14を参照して説明する。なお、以下の説明では第1のドット径303が直径0.1mm、第2のドット径304が直径0.05mmであるものと仮定する。即ち、第2のドット径304の直径が第1のドット径303の直径の1/2であると仮定する。   Next, the marking procedure will be described with reference to FIG. In the following description, it is assumed that the first dot diameter 303 is 0.1 mm in diameter and the second dot diameter 304 is 0.05 mm in diameter. That is, it is assumed that the diameter of the second dot diameter 304 is ½ of the diameter of the first dot diameter 303.

まず、マーキング装置1の装置PC7(の制御部6)は、全体描画パターン113および全体描画パターン113に対応する第1描画パターン115、第2描画パターン117が記憶部7aに登録されているか否かを判断し(図14のS1)、登録されている場合は登録されたパターンに従ってマーキング(パターンの描画)を行う(図14のS2)。   First, the apparatus PC7 (the control unit 6) of the marking apparatus 1 determines whether or not the entire drawing pattern 113 and the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 corresponding to the entire drawing pattern 113 are registered in the storage unit 7a. (S1 in FIG. 14), if registered, marking (pattern drawing) is performed according to the registered pattern (S2 in FIG. 14).

第1描画パターン115および第2描画パターン117が登録されていない場合は、装置PC7の制御部6は以下の手順に従って第1描画パターン115および第2描画パターン117(部分描画パターン)を生成して登録する。なお、ここでは部分描画パターンを生成する部分描画パターン生成部として装置PC7を使用しているが、部分描画パターンの生成は装置PC7を使用するのではなく、他のコンピュータを使用してもよい。   When the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 are not registered, the control unit 6 of the apparatus PC 7 generates the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 (partial drawing pattern) according to the following procedure. register. Here, the apparatus PC 7 is used as a partial drawing pattern generation unit that generates a partial drawing pattern. However, instead of using the apparatus PC 7, another computer may be used to generate the partial drawing pattern.

まず、装置PC7の制御部6は全体描画パターン113に対応するCADデータ等のパターン形状のデータを読み込む(図14のS3)。   First, the control unit 6 of the apparatus PC 7 reads pattern shape data such as CAD data corresponding to the entire drawing pattern 113 (S3 in FIG. 14).

次に、装置PC7の制御部6は第1描画パターン115および第2描画パターン117の重ね合わせ量Vx、Vy、全体描画パターン113の縁部313に対する第1描画パターン115のオフセット量Gx、Gy、および第2描画パターン117の列数を設定する(図14のS4)。具体的には作業者に重ね合わせ量Vx、Vy、オフセット量Gx、Gyおよび第2描画パターン117の列数を入力させるか、あるいはこれらのデータを他のPCや記憶媒体から読み込む。   Next, the control unit 6 of the apparatus PC7 superimposes Vx and Vy of the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117, and offset amounts Gx, Gy of the first drawing pattern 115 with respect to the edge 313 of the entire drawing pattern 113. And the number of columns of the second drawing pattern 117 is set (S4 in FIG. 14). Specifically, the operator inputs the overlay amounts Vx, Vy, the offset amounts Gx, Gy, and the number of columns of the second drawing pattern 117, or reads these data from another PC or storage medium.

次に、装置PC7の制御部6は読み込んだCADデータをガーバーデータに変換する(図14のS5)。   Next, the control unit 6 of the apparatus PC 7 converts the read CAD data into Gerber data (S5 in FIG. 14).

次に、装置PC7の制御部6は全体描画パターン113から、第1描画パターン115および第2描画パターン117を生成し、登録する(図14のS6)。具体的な生成の仕方は図6〜図13を参照して説明した通りであるが以下に簡単に説明する。   Next, the control unit 6 of the apparatus PC 7 generates and registers the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 from the entire drawing pattern 113 (S6 in FIG. 14). A specific generation method is as described with reference to FIGS. 6 to 13 and will be briefly described below.

即ち、分割描画パターン生成部は、全体描画パターン113の形状、S4で設定された第1描画パターン115および第2描画パターン117の重ね合わせ量Vx、Vy、全体描画パターン113の縁部313に対する第1描画パターン115のオフセット量Gx、Gyおよび第2描画パターン117の列数に基づいて第2描画パターン117を生成する。   That is, the divided drawing pattern generation unit sets the shape of the entire drawing pattern 113, the overlapping amounts Vx and Vy of the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 set in S4, and the first to the edge 313 of the entire drawing pattern 113. The second drawing pattern 117 is generated based on the offset amounts Gx and Gy of the one drawing pattern 115 and the number of columns of the second drawing pattern 117.

次に、装置PC7の制御部6は第1描画パターン115を描画する際の光源51の描画エネルギー(レーザ出力や発振周波数)の設定を行い、設定した描画エネルギーを記憶部7aの第1の部分格納領域14等に登録する(図14のS7)。ここでは、第1のドット径303で描画する場合の光源51のレーザ出力を1000mW、周波数を10kHzに設定するものと仮定する。   Next, the control unit 6 of the apparatus PC7 sets the drawing energy (laser output and oscillation frequency) of the light source 51 when drawing the first drawing pattern 115, and uses the set drawing energy as the first part of the storage unit 7a. Registration is made in the storage area 14 or the like (S7 in FIG. 14). Here, it is assumed that the laser output of the light source 51 in the case of drawing with the first dot diameter 303 is set to 1000 mW and the frequency is set to 10 kHz.

次に、装置PC7の制御部6は第2描画パターン117を描画する際の光源51の描画エネルギー(レーザ出力や発振周波数)の計算を行う(図14のS8)。ここでは、第2描画パターン117を描画する際の単位面積当たりの描画エネルギーが第1描画パターン115を描画する際の単位面積当たりの描画エネルギーと実質的に等しくなるように計算を行う。これは、第1描画パターン115および第2描画パターン117はドット径が異なるため、単純に光源51が同じレーザ出力や発振周波数で第1描画パターン115および第2描画パターン117の描画を行うと、描画の際に単位面積当たりの描画エネルギーが異なってしまい、第1描画パターン115と第2描画パターン117で描画のムラ(加工深さの違い等)が生じるためである。   Next, the control unit 6 of the apparatus PC7 calculates the drawing energy (laser output and oscillation frequency) of the light source 51 when drawing the second drawing pattern 117 (S8 in FIG. 14). Here, the calculation is performed so that the drawing energy per unit area when drawing the second drawing pattern 117 is substantially equal to the drawing energy per unit area when drawing the first drawing pattern 115. This is because, since the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 have different dot diameters, the light source 51 simply draws the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 with the same laser output and oscillation frequency. This is because the drawing energy per unit area is different during drawing, and drawing unevenness (difference in processing depth, etc.) occurs between the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117.

この例では第2のドット径304の直径が第1のドット径303の直径の1/2であるため、第2のドット径304の面積は第1のドット径303の面積の1/4になる。そこで、第2のドット径304で描画する場合の光源51のレーザ出力は、第1のドット径303で描画する場合のレーザ出力の1/4である250mWに設定される。   In this example, since the diameter of the second dot diameter 304 is ½ of the diameter of the first dot diameter 303, the area of the second dot diameter 304 is ¼ of the area of the first dot diameter 303. Become. Therefore, the laser output of the light source 51 when drawing with the second dot diameter 304 is set to 250 mW, which is ¼ of the laser output when drawing with the first dot diameter 303.

また、加工速度が等しい場合、第2のドット径304で描画する場合にレーザを一回照射する毎のXY方向の移動量は第1のドット径303の1/2になるため、発振周波数は第1のドット径303で描画する場合の発振周波数の2倍である20kHzに設定される。   In addition, when the processing speed is equal, the amount of movement in the X and Y directions for each laser irradiation when drawing with the second dot diameter 304 is ½ of the first dot diameter 303, so the oscillation frequency is The frequency is set to 20 kHz, which is twice the oscillation frequency when drawing with the first dot diameter 303.

次に、装置PC7の制御部6はS8で計算した描画エネルギーを記憶部7aの第2の部分格納領域16等に登録する(図14のS9)。   Next, the control unit 6 of the apparatus PC7 registers the drawing energy calculated in S8 in the second partial storage area 16 and the like of the storage unit 7a (S9 in FIG. 14).

次に、全体描画パターン113の描画方法(図14のS2)について、図15〜図18を参照して、より詳細に説明する。   Next, the drawing method of the entire drawing pattern 113 (S2 in FIG. 14) will be described in more detail with reference to FIGS.

まず、マーキング装置1(の装置PC7のPLC37)は巻出器11および巻取器13を図示しないモータ等で駆動し、レーザ加工部3が描画可能な位置にフィルム100のマーキングエリア203が配置されるようにフィルム100を+xの向きに搬送する(図15のS11、図16(a))。この際、加工テーブル21はPLC37の制御を受けて、マーキングエリア203の下面を吸着保持しつつ、移動する。加工テーブル21の移動が完了すると、PLC37は移動が完了したことを意味する情報(移動完了トリガー)および加工テーブル21の位置情報を装置PC7に送信する。   First, the marking device 1 (PLC 37 of the device PC7) drives the unwinder 11 and the winder 13 with a motor or the like (not shown), and the marking area 203 of the film 100 is arranged at a position where the laser processing unit 3 can draw. Then, the film 100 is conveyed in the + x direction (S11 in FIG. 15, FIG. 16A). At this time, the processing table 21 moves under the control of the PLC 37 while adsorbing and holding the lower surface of the marking area 203. When the movement of the machining table 21 is completed, the PLC 37 transmits information (movement completion trigger) indicating that the movement is completed and position information of the machining table 21 to the apparatus PC7.

次に、移動完了トリガーおよび加工テーブル21の位置情報を受信した装置PC7は、レーザ加工部3(のレーザ加工ユニットPC39)にまずレーザのドット径を第1のドット径303に設定するように指示する(図15のS12)。なお、この際には装置PC7はレーザ加工部3に描画エネルギー(レーザ出力および周波数)も第1のドット径303に対応した値にするように指示する。   Next, the apparatus PC7 that has received the movement completion trigger and the position information of the processing table 21 instructs the laser processing unit 3 (the laser processing unit PC39) to first set the laser dot diameter to the first dot diameter 303. (S12 in FIG. 15). At this time, the apparatus PC 7 instructs the laser processing unit 3 to set the drawing energy (laser output and frequency) to a value corresponding to the first dot diameter 303.

次に、装置PC7は、レーザ加工部3(のレーザ加工ユニットPC39)第1描画パターン115の加工を指示する。指示を受けたレーザ加工部3は、第1描画パターン115に基づき、マーキングエリア203にレーザを照射し、パターニングを行う(図15のS13、図16(b))。   Next, the apparatus PC7 instructs processing of the first drawing pattern 115 by the laser processing unit 3 (laser processing unit PC39). Upon receiving the instruction, the laser processing unit 3 performs patterning by irradiating the marking area 203 with a laser based on the first drawing pattern 115 (S13 in FIG. 15, FIG. 16B).

次に、装置PC7はレーザ加工部3(のレーザ加工ユニットPC39)にレーザのドット径を第2のドット径304に設定するように指示する(図15のS14、図16(b))。この際には装置PC7はレーザ加工部3に描画エネルギー(レーザ出力および周波数)も第2のドット径304に対応した値にするように指示する。   Next, the apparatus PC7 instructs the laser processing unit 3 (the laser processing unit PC39) to set the laser dot diameter to the second dot diameter 304 (S14 in FIG. 15, FIG. 16B). At this time, the apparatus PC 7 instructs the laser processing unit 3 to set the drawing energy (laser output and frequency) to a value corresponding to the second dot diameter 304.

次に、装置PC7は、レーザ加工部3(のレーザ加工ユニットPC39)に第2描画パターン117の加工を指示する。指示を受けたレーザ加工部3は、第2描画パターン117に基づき、マーキングエリア203にレーザを照射し、パターニングを行う(図15のS15)。   Next, the apparatus PC7 instructs the laser processing unit 3 (the laser processing unit PC39) to process the second drawing pattern 117. Upon receiving the instruction, the laser processing unit 3 performs patterning by irradiating the marking area 203 with a laser based on the second drawing pattern 117 (S15 in FIG. 15).

加工が完了すると、装置PC7は加工が完了したことを意味する情報(加工完了トリガー)をPLC37に送信する。   When the machining is completed, the apparatus PC 7 transmits information (machining completion trigger) indicating that the machining is completed to the PLC 37.

次に、加工完了トリガーを受信したでマーキング装置1のPLC37は加工テーブル21の位置が下流側(巻取器13側)の移動限界にあるか否かを判断し(図15のS16)下流側の移動限界にない場合はS11に戻り、移動限界にある場合はS17に進む。   Next, upon receiving the processing completion trigger, the PLC 37 of the marking device 1 determines whether or not the position of the processing table 21 is at the movement limit on the downstream side (winder 13 side) (S16 in FIG. 15) downstream side. If it is not within the movement limit, the process returns to S11.

加工テーブル21の位置が下流側の移動限界にある場合、マーキング装置1は加工テーブル21を上流側(巻出器11側)に戻す必要があるため、以下の手順に従って加工テーブル21を移動させる。   When the position of the processing table 21 is at the downstream movement limit, the marking device 1 needs to return the processing table 21 to the upstream side (unwinder 11 side), and therefore the processing table 21 is moved according to the following procedure.

まず、マーキング装置1のPLC37は図示しないアクチュエータ等を用いて保持テーブル25を+zの向きに移動させ、フィルム100を吸着保持する(図15のS17、図16(c))。   First, the PLC 37 of the marking device 1 moves the holding table 25 in the + z direction by using an actuator or the like (not shown) and sucks and holds the film 100 (S17 in FIG. 15, FIG. 16C).

次に、マーキング装置1のPLC37は加工テーブル21によるフィルム100の吸着を解除し、駆動部23を用いて加工テーブル21を−zの向きに移動させてフィルム100から引き離す(図15のS18、図17(a))。   Next, the PLC 37 of the marking device 1 releases the adsorption of the film 100 by the processing table 21, and moves the processing table 21 in the -z direction using the driving unit 23 to separate it from the film 100 (S18 in FIG. 15, FIG. 15). 17 (a)).

次に、マーキング装置1のPLC37は駆動部23を用いて加工テーブル21を−xの向きに移動させ、上流側に移動させる(図15のS19、図17(b))。   Next, the PLC 37 of the marking device 1 uses the drive unit 23 to move the processing table 21 in the -x direction and moves it upstream (S19 in FIG. 15, FIG. 17B).

次に、マーキング装置1のPLC37は駆動部23を用いて加工テーブル21を+zの向きに移動させて再びフィルム100と接触させ、フィルム100を吸着させる(図15のS20、図17(c))。   Next, the PLC 37 of the marking device 1 uses the drive unit 23 to move the processing table 21 in the direction of + z to contact with the film 100 again to attract the film 100 (S20 in FIG. 15, FIG. 17C). .

次に、マーキング装置1のPLC37は保持テーブル25のフィルム100への吸着を解除し、保持テーブル25を−zの向きに移動させ、フィルム100から引き離す(図15のS21、図17(d))。   Next, the PLC 37 of the marking device 1 releases the suction of the holding table 25 to the film 100, moves the holding table 25 in the direction of -z, and pulls it away from the film 100 (S21 in FIG. 15, FIG. 17 (d)). .

以後は、マーキングエリア203をすべて加工するまでS11〜S21を繰り返す。   Thereafter, S11 to S21 are repeated until the entire marking area 203 is processed.

このように、加工テーブル21が常にマーキングエリア203を下から吸着保持することにより、マーキング時のフィルム100の位置ずれを最小限に抑えることができる。
以上がマーキング装置1を用いたマーキングの手順である。
In this manner, the processing table 21 always holds the marking area 203 by suction from below, so that the positional deviation of the film 100 during marking can be minimized.
The above is the marking procedure using the marking device 1.

このように、本実施形態によれば、マーキング装置1は、第1のドット径303および第1のドット径303よりもドット径の小さい第2のドット径304でフィルム100にマーキングを行うレーザ加工部3と、レーザ加工部3のドット径を変更するアクチュエータ71と、全体描画パターン113の一部を構成するパターンであり、第1のドット径303で描画する第1描画パターン115および全体描画パターン113の一部を構成するパターンであり、第2のドット径304で描画する第2描画パターン117を登録する、部分描画パターン登録部としての装置PC7を有する。
そのため、マーキング装置1は単純構成で高速かつ微細に描画が実現可能である。
As described above, according to this embodiment, the marking apparatus 1 performs laser processing for marking the film 100 with the first dot diameter 303 and the second dot diameter 304 that is smaller than the first dot diameter 303. Part 3, an actuator 71 that changes the dot diameter of the laser processing unit 3, and a pattern that forms part of the overall drawing pattern 113, and a first drawing pattern 115 that draws with the first dot diameter 303 and the overall drawing pattern 113 includes a device PC7 as a partial drawing pattern registration unit that registers a second drawing pattern 117 to be drawn with the second dot diameter 304.
Therefore, the marking apparatus 1 can realize drawing with high speed and fineness with a simple configuration.

以上、本発明を実施形態に基づき説明したが、本発明は上記した実施形態に限定されることはない。   As mentioned above, although this invention was demonstrated based on embodiment, this invention is not limited to above-described embodiment.

例えば、上記した実施形態では、マーキング装置1として、レーザを用いたマーキングを行う装置を例示したが、本発明は何らこれに限定されるものではなく、被加工物にマーキング可能な装置であれば、例えばインクジェットやディスペンサ等の塗布装置を用いてマーキングする装置であってもよい。   For example, in the above-described embodiment, the marking device 1 is exemplified by a device that performs marking using a laser. However, the present invention is not limited to this, and any device that can mark a workpiece is used. For example, an apparatus for marking using a coating apparatus such as an inkjet or a dispenser may be used.

また、上記した実施形態では、レーザ加工部3は第1のドット径303と第2のドット径304の2つのドット径で描画を行っているが、ドット径は3つ以上でもよい。この場合、部分描画パターンも第1描画パターン115と第2描画パターン117の2つだけではなく、3つ以上になる。   In the above-described embodiment, the laser processing unit 3 performs drawing with two dot diameters of the first dot diameter 303 and the second dot diameter 304, but the dot diameter may be three or more. In this case, the number of partial drawing patterns is not limited to two, ie, the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117, but is three or more.

また、本実施形態では全体描画パターン113について、まず第1描画パターン115の描画を行った後に、第2描画パターン117の描画を行っているが、描画の順番は逆でもよい。即ち、まず第2描画パターン117の描画を行った後に、第1描画パターン115の描画を行ってもよい。   In the present embodiment, the first drawing pattern 115 is first drawn and then the second drawing pattern 117 is drawn for the entire drawing pattern 113. However, the drawing order may be reversed. In other words, the first drawing pattern 115 may be drawn after the second drawing pattern 117 is drawn first.

同様に、本実施形態では第1描画パターン115を描画する際の光源51の描画エネルギーをまず設定し、次に第2描画パターン117を描画する際の光源51の描画エネルギーを設定しているが、この順番も逆でもよい。   Similarly, in this embodiment, the drawing energy of the light source 51 when drawing the first drawing pattern 115 is set first, and then the drawing energy of the light source 51 when drawing the second drawing pattern 117 is set. This order may be reversed.

さらに、上記した実施形態では第1描画パターン115と第2描画パターン117は全体描画パターン113を分割したパターンとなっているが、第1描画パターン115と第2描画パターン117は必ずしも分割したパターンである必要はなく、例えば図10のように全体描画パターン113に第1描画パターン115と第2描画パターン117の領域を上書きする形で1つのパターンを生成してもよい。   Further, in the above-described embodiment, the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 are patterns obtained by dividing the entire drawing pattern 113, but the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117 are not necessarily divided patterns. For example, as shown in FIG. 10, one pattern may be generated by overwriting the entire drawing pattern 113 with the areas of the first drawing pattern 115 and the second drawing pattern 117.

また、本発明が適用できるマーキング対象(被加工物)としては、上記フィルム100などの長尺シートに限定されず、ガラス板やプリント基板などの矩形基板や、半導体ウエハーやガラスウエハーなどの円形基板等が例示できる。   In addition, the marking object (workpiece) to which the present invention can be applied is not limited to a long sheet such as the film 100, but a rectangular substrate such as a glass plate or a printed board, or a circular substrate such as a semiconductor wafer or a glass wafer. Etc. can be exemplified.

1 :マーキング装置
3 :レーザ加工部
6 :制御部
7 :装置PC
7a :記憶部
8 :モニタ
10 :キーボード
11 :巻出器
12 :格納領域
13 :巻取器
14 :第1の部分格納領域
16 :第2の部分格納領域
21 :加工テーブル
23 :駆動部
25 :保持テーブル
33 :レーザパワーメータ
35 :変換器
37 :PLC
39 :レーザ加工ユニットPC
51 :光源
53 :ビームエキスパンダ
53a :レンズ
53b :レンズ
55 :コーナーミラー
57 :コーナーミラー
59 :Zスキャナ
61 :対物レンズ
63 :XYガルバノスキャナ
70 :配線パターン
71 :アクチュエータ
100 :フィルム
101 :基材
103 :金属層
113 :全体描画パターン
114 :縁部
115 :第1描画パターン
116 :縁部
117 :第2描画パターン
118 :重ね合わせ領域
120 :輪郭パターン
203 :マーキングエリア
303 :第1のドット径
304 :第2のドット径
305 :領域
306 :領域
307 :領域
309 :領域
310 :領域
313 :縁部
315 :隙間
A :領域
1: Marking device 3: Laser processing unit 6: Control unit 7: Device PC
7a: Storage unit 8: Monitor 10: Keyboard 11: Unwinder 12: Storage area 13: Winder 14: First partial storage area 16: Second partial storage area 21: Processing table 23: Drive unit 25: Holding table 33: Laser power meter 35: Converter 37: PLC
39: Laser processing unit PC
51: Light source 53: Beam expander 53a: Lens 53b: Lens 55: Corner mirror 57: Corner mirror 59: Z scanner 61: Objective lens 63: XY galvano scanner 70: Wiring pattern 71: Actuator 100: Film 101: Substrate 103 : Metal layer 113: entire drawing pattern 114: edge 115: first drawing pattern 116: edge 117: second drawing pattern 118: overlapping region 120: contour pattern 203: marking area 303: first dot diameter 304: Second dot diameter 305: region 306: region 307: region 309: region 310: region 313: edge 315: gap A: region

Claims (6)

被加工物に設定したマーキングエリアに所定の描画パターンを描画するマーキング装置において、
第1のドット径および前記第1のドット径よりもドット径の小さい第2のドット径で前記被加工物にマーキングを行うマーキング部と、
前記マーキング部のドット径を変更する可変部と、
前記描画パターンの一部を構成するパターンであり、前記第1のドット径で描画する第1描画パターンおよび前記描画パターンの一部を構成するパターンであり、前記第2のドット径で描画する第2描画パターンを登録する、部分描画パターン登録部と、
前記第1描画パターンと前記第2描画パターンとの重ね合わせ量を設定する重ね合わせ量設定部と、
前記描画パターンの縁部に対する前記第1描画パターンの縁部のオフセット量を設定するオフセット量設定部を備え、
前記第1描画パターンと前記第2描画パターンとは、互いに重ね合わせて描画されることで前記被加工物に対して所定の前記描画パターンが形成されるものであり、
前記第2描画パターンには、前記第1描画パターンの縁部を埋めるような輪郭パターンが含まれる、
マーキング装置。
In a marking device that draws a predetermined drawing pattern in a marking area set on a workpiece,
A marking portion that marks the workpiece with a first dot diameter and a second dot diameter that is smaller than the first dot diameter;
A variable portion for changing the dot diameter of the marking portion;
A pattern constituting a part of the drawing pattern, a first drawing pattern drawn with the first dot diameter, and a pattern constituting a part of the drawing pattern, wherein the first drawing pattern is drawn with the second dot diameter. A partial drawing pattern registration unit for registering two drawing patterns;
An overlap amount setting unit for setting an overlap amount between the first drawing pattern and the second drawing pattern;
An offset amount setting unit that sets an offset amount of an edge of the first drawing pattern with respect to an edge of the drawing pattern;
The first drawing pattern and the second drawing pattern are formed so as to overlap each other, whereby the predetermined drawing pattern is formed on the workpiece,
The second drawing pattern includes a contour pattern that fills an edge of the first drawing pattern.
Marking device.
前記第2描画パターンの前記輪郭パターンは複数列で構成される、請求項に記載のマーキング装置。 The marking device according to claim 1 , wherein the contour pattern of the second drawing pattern is configured by a plurality of columns. 前記第2描画パターンにおける前記輪郭パターンの列数を設定する輪郭列数設定部を備え、
前記部分描画パターン登録部には、前記輪郭列数設定部で設定された列数の前記輪郭パターンを有する前記第2描画パターンが登録されている、請求項に記載のマーキング装置。
A contour column number setting unit for setting the number of columns of the contour pattern in the second drawing pattern;
The marking device according to claim 2 , wherein the second drawing pattern having the number of contour patterns set by the contour column number setting unit is registered in the partial drawing pattern registration unit.
前記被加工物と前記マーキング部を相対的に移動させる相対移動部と、
前記相対移動部を制御して前記被加工物に対して前記マーキング部を相対的に移動させながらマーキング指令を行う移動マーキング制御部を備えた、
請求項1〜のいずれか一項に記載のマーキング装置。
A relative movement part for relatively moving the workpiece and the marking part;
A moving marking control unit that performs a marking command while controlling the relative moving unit to move the marking unit relative to the workpiece;
The marking device according to any one of claims 1 to 3 .
前記被加工物にマーキングする全体の前記描画パターンを全体描画パターンとして登録する全体描画パターン登録部と、
前記全体描画パターンから前記第1描画パターンおよび前記第2描画パターンを生成する部分描画パターン生成部を備えた、請求項1〜のいずれか一項に記載のマーキング装置。
An overall drawing pattern registration unit for registering the entire drawing pattern to be marked on the workpiece as an overall drawing pattern;
The marking device according to any one of claims 1 to 4 , further comprising a partial drawing pattern generation unit that generates the first drawing pattern and the second drawing pattern from the entire drawing pattern.
前記マーキング部は、
前記被加工物にレーザでマーキングを行う光源と、
前記光源から照射されたレーザの光路上に設けられた複数のレンズを有し、複数の前記レンズの間の距離で前記レーザのドット径を調節するビームエキスパンダを有し、
前記可変部は、
複数の前記レンズの少なくとも一方に設けられ、複数の前記レンズの少なくとも一方を他方に対して移動させて前記レーザのドット径を前記第1のドット径または前記第2のドット径のいずれかに設定するアクチュエータを有する、請求項1〜のいずれか一項に記載のマーキング装置。
The marking part is
A light source for marking the workpiece with a laser;
A plurality of lenses provided on an optical path of a laser irradiated from the light source, and a beam expander that adjusts a dot diameter of the laser by a distance between the plurality of lenses,
The variable part is:
Provided on at least one of the plurality of lenses, and moving at least one of the plurality of lenses relative to the other to set the dot diameter of the laser to either the first dot diameter or the second dot diameter The marking apparatus as described in any one of Claims 1-5 which has an actuator to perform.
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