JP6608236B2 - Marking device - Google Patents
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Description
本発明は、マーキング装置に関する。 The present invention relates to a marking device.
マーキング装置は半導体デバイスや液晶ディスプレイ用基板、電子部品等の被加工物に文字、記号、図形、配線パターン等の所定の形状を印字(マーキング)する装置である。 The marking apparatus is an apparatus that prints (marks) a predetermined shape such as a character, a symbol, a figure, or a wiring pattern on a workpiece such as a semiconductor device, a liquid crystal display substrate, or an electronic component.
具体的なマーキング装置としては、レーザ光を所定のドット径で収束させて被加工物の表面に照射しつつ2次元方向に走査し、被加工物の表面に文字や図形をマーキングするレーザマーキング装置が提案されている(例えば、特許文献1)。 As a specific marking device, a laser marking device for converging a laser beam with a predetermined dot diameter and irradiating the surface of the work piece in a two-dimensional direction to mark characters or figures on the surface of the work piece Has been proposed (for example, Patent Document 1).
また、レーザマーキング装置の構成としては、1台のレーザユニットから照射される1本のパルスレーザ光を、複数の光路に振り分けて加工を行う構成も知られている(例えば、特許文献2)。 In addition, as a configuration of the laser marking device, a configuration in which one pulse laser beam irradiated from one laser unit is distributed to a plurality of optical paths for processing (for example, Patent Document 2) is also known.
さらに、レーザマーキング装置の構成としては、3次元の加工面にレーザ印字をする際に、収束レンズから加工面までの距離に応じてレーザのドット径を調整する構成も提案されている(例えば、特許文献3)。 Furthermore, as a configuration of the laser marking device, a configuration in which the laser dot diameter is adjusted according to the distance from the convergent lens to the processing surface when laser printing is performed on a three-dimensional processing surface has been proposed (for example, Patent Document 3).
一方で、特許文献1〜3に示す技術では加工精度と作業時間の短縮の両立が困難であるという問題があった。
On the other hand, the techniques disclosed in
具体的には、特許文献1、3に示すような技術では、マーキングに用いるレーザのドット径が大きくなるほど、作業時間が短縮されるものの、微細なパターン描画ができなくなるため、加工精度が悪くなるという問題があった。一方、マーキングに用いるドット径が小さくなるほど、微細なパターン描画ができるため、加工精度が向上するものの、加工時間が長くなるため、作業時間の短縮が困難であるという問題があった。
Specifically, in the techniques as shown in
また、特許文献2に示すように、1つのレーザ光源から複数のレーザ光を複数の光路に振り分けてマーキングする技術では、1つの光路のみを用いてマーキングする場合と比べて作業時間を短縮することができるが、加工精度は向上できないという問題があり、また加工精度と作業時間の短縮がトレードオフの関係になる点に変わりはないという問題があった。
In addition, as shown in
そこで、各々が異なるドット径で描画を行う複数のレーザユニットを組み合わせ、高速かつ微細にマーキングする装置が提案されている(特許文献4)。 In view of this, there has been proposed an apparatus that combines a plurality of laser units that perform drawing with different dot diameters and performs high-speed and fine marking (Patent Document 4).
特許文献4に記載の装置は加工精度の向上と作業時間の短縮を同時に実現可能であるという点では有用である。
The apparatus described in
一方で、特許文献4に記載の装置では、複数のレーザユニットの描画位置精度を常時一定にしておかないと、それぞれのレーザユニットで描画したパターンに描画漏れ(隙間)が発生する恐れがある。そのために、各レーザユニット間で複雑な精度校正作業が必要となるという問題があった。
On the other hand, in the apparatus described in
さらに、特許文献4に記載の装置では、複数のレーザユニットが必要であるが、描画するパターンが小さい等の理由でドット径が小さい方のレーザユニットのみを用いる必要がある場合はドット径が大きい方のレーザユニットが使用されないため、無駄な構成になる。そのため、描画するパターンに対して装置構成が複雑、高価になる場合があるという問題があった。
Furthermore, in the apparatus described in
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は単純構成で高速かつ微細に描画が実現可能なマーキング装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a marking device that can realize drawing at high speed and finely with a simple configuration.
上記した課題を解決するため、本発明の1つの態様は、被加工物に設定したマーキングエリアに所定の描画パターンを描画するマーキング装置において、第1のドット径および前記第1のドット径よりもドット径の小さい第2のドット径で前記被加工物にマーキングを行うマーキング部と、前記マーキング部のドット径を変更する可変部と、前記描画パターンの一部を構成するパターンであり、前記第1のドット径で描画する第1描画パターンおよび前記描画パターンの一部を構成するパターンであり、前記第2のドット径で描画する第2描画パターンを登録する、部分描画パターン登録部と、前記第1描画パターンと前記第2描画パターンとの重ね合わせ量を設定する重ね合わせ量設定部と、前記描画パターンの縁部に対する前記第1描画パターンの縁部のオフセット量を設定するオフセット量設定部を備え、前記第1描画パターンと前記第2描画パターンとは、互いに重ね合わせて描画されることで前記被加工物に対して所定の前記描画パターンが形成されるものであり、前記第2描画パターンには、前記第1描画パターンの縁部を埋めるような輪郭パターンが含まれる、マーキング装置である。 In order to solve the above-described problem, one aspect of the present invention provides a marking apparatus that draws a predetermined drawing pattern in a marking area set on a workpiece. The first dot diameter and the first dot diameter are larger than the first dot diameter. A marking part for marking the workpiece with a second dot diameter having a small dot diameter, a variable part for changing the dot diameter of the marking part, and a pattern constituting a part of the drawing pattern, a pattern constituting a part of the first drawing pattern and the drawing pattern is drawn with one dot diameter, registers the second drawing pattern to be drawn in the second dot diameter, a partial drawing pattern registration unit, wherein An overlap amount setting unit for setting an overlap amount between the first drawing pattern and the second drawing pattern; and the first drawing with respect to an edge of the drawing pattern An offset amount setting unit configured to set an offset amount of an edge of the turn, and the first drawing pattern and the second drawing pattern are drawn on each other so as to overlap each other with respect to the workpiece. In the marking device, a drawing pattern is formed, and the second drawing pattern includes a contour pattern that fills an edge of the first drawing pattern .
本発明によれば、単純構成で高速かつ微細に描画が実現可能なマーキング装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the marking apparatus which can implement | achieve drawing at high speed and finely by simple structure can be provided.
以下、図面を参照して本発明に好適な実施形態を詳細に説明する。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, exemplary embodiments suitable for the invention will be described in detail with reference to the drawings.
まず、図1および図2を参照して本実施形態に係るマーキング装置1の構成について説明する。
First, the configuration of the
ここではマーキング装置1として、被加工物としてのフィルム100の表面にレーザを用いてマーキングを行うレーザマーキング装置が例示されている。
Here, as the marking
具体的には、図1に示すマーキング装置1は、マーキング部としてレーザ加工部3を備えている。さらに、図2に示された装置PC7はPLC(Programmable Logic Controller)37とともに、マーキングを制御する制御装置として動作する。
Specifically, the
レーザ加工部3は第1のドット径303および第1のドット径303よりもドット径が小さい第2のドット径304でフィルム100にマーキングを行うことができる(図5参照)。
The
このうち、装置PC7は制御部6と記憶部7aとを有し、記憶部7aはマーキングする全体のパターン形状の情報である全体描画パターン113(図6参照)を格納する格納領域12と、レーザ加工部3が第1のドット径303で描画する第1描画パターン115(図8参照)を格納する第1の部分格納領域14およびレーザ加工部3が第2のドット径304で描画する第2描画パターン117(図9参照)を格納する第2の部分格納領域16を有している。このように、記憶部7aには、全体描画パターン113から生成された第1描画パターン115および第2描画パターン117が登録される。このため、装置PC7は、第1描画パターン115および第2描画パターン117を登録しておく部分描画パターン登録部として動作する。
Among these, the apparatus PC 7 includes a
さらに、装置PC7は、第2描画パターン117における輪郭パターン120(図9参照)の列数を設定する輪郭列数設定部としても動作する。
Furthermore, the apparatus PC 7 also operates as a contour column number setting unit that sets the number of columns of the contour pattern 120 (see FIG. 9) in the
また、装置PC7は、第1描画パターン115と第2描画パターン117との重ね合わせ量Vx、Vy(図11参照)を設定する重ね合わせ量設定部としても動作し、全体描画パターン113の縁部313に対する第1描画パターン115の縁部のオフセット量Gx、Gy(図11参照)を設定するオフセット量設定部としても動作する。
The apparatus PC 7 also operates as an overlap amount setting unit for setting the overlap amounts Vx and Vy (see FIG. 11) of the
このように、本実施形態では全体描画パターン113の登録、および全体描画パターン113から第1描画パターン115および第2描画パターン117を生成する処理を装置PC7が行うため、装置PC7が全体描画パターン登録部および部分描画パターン生成部としての機能を有している。
Thus, in this embodiment, since the apparatus PC7 performs the process of registering the
図1〜5を参照して、マーキング装置1の構成について、さらに詳細に説明する。
With reference to FIGS. 1-5, the structure of the marking
図1および図2に示すように、マーキング装置1はフィルム100を巻き出す巻出器11と、巻出器11から巻き出されたフィルム100を巻き取る巻取器13を有している。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
フィルム100はここでは図3に示すように、高分子フィルム等の基材101上に金属層103を形成したものであり、金属層103上にレーザ加工部3からレーザを選択的に照射することにより、照射を受けた部分が除去されて所定の配線パターン70(図6参照)が形成される。
Here, as shown in FIG. 3, the
一方、マーキング装置1において、巻出器11と巻取器13の間で、かつフィルム100の下方には、フィルム100のマーキングエリア203(図4参照)を吸着保持する相対移動部としての加工テーブル21が設けられている。加工テーブル21は駆動部23により、フィルム100の搬送方向に平行な向きである、図1の+x、−xの向き、およびフィルム100の面の法線方向に平行な向きである+z、−zの向きに移動可能である。
On the other hand, in the
一方、加工テーブル21は+x、−xの向きへの移動可能距離が図1の距離Hに制限されており、移動限界の両端には、フィルム100を一時的に吸着・保持する保持テーブル25が設けられている。保持テーブル25は図示しないアクチュエータによって図1の+z、−zの向きに移動可能である。
On the other hand, the processing table 21 has a movable distance in the + x and −x directions limited to the distance H in FIG. 1, and holding tables 25 for temporarily adsorbing and holding the
加工テーブル21はマーキング時にフィルム100を吸着することともに、フィルム100の搬送時にはフィルム100に追従して移動することによりフィルム100の位置ズレを防止する。
The processing table 21 adsorbs the
また、加工テーブル21がフィルム100の搬送により移動限界に到達した場合は、一時的に保持テーブル25でフィルム100を吸着し、加工テーブル21をフィルム100から切り離して上流側(巻出器11側)に加工テーブル21を戻す。
When the processing table 21 reaches the movement limit due to the conveyance of the
また、マーキング装置1ではレーザ加工部3は固定されていてもよいし、位置補正のためのXYθステージやUVWステージ等を設けてフィルム100に対してレーザ加工部3が、水平(XY)方向およびZ方向を回転軸とする回転(θ)方向に相対移動可能な構成であってもよい。
In the
さらに、マーキング装置1はレーザの出力を測定するレーザパワーメータ33および変換器35を有している。
Furthermore, the marking
装置PC7はマーキング装置1の各構成要素を駆動制御するコンピュータであり、装置PC7には、当該装置PC7を操作するためのモニタ8、キーボード10が入出力装置として設けられている。これら入出力装置はタブレット型の入出力装置であっても良い。
The device PC7 is a computer that drives and controls each component of the marking
また、装置PC7は加工テーブル21、巻出器11、巻取器13を制御して、フィルム100に対してレーザ加工部3を相対的に移動させながらマーキングを行うように加工テーブル21、巻出器11、巻取器13に(PLC37を介して)指令する移動マーキング制御部としての機能も有している。
In addition, the
さらに、本実施形態では、装置PC7とPLC37がマーキングを制御する制御装置として動作する。より具体的には、装置PC7はレーザ加工部3のレーザ加工条件(レーザ出力、レーザ発振周波数、ガルバノ走査速度、加工テーブル21の搬送速度、加工テーブル21の搬送距離、レーザパワーメータ33の条件、レーザ加工のレイアウト)の設定と、レーザ加工部3に関わる加工指示制御等を主に行う他、加工が完了したことを意味する情報(加工完了トリガー)をPLC37に送信する役割も担う。
Further, in the present embodiment, the devices PC7 and
また、PLC37は加工テーブル21の動作の制御、保持テーブル25の動作の制御、加工テーブル21および保持テーブル25の真空吸着および吸着の解除の制御、図示しない集塵機、レーザ用チラー、テーブルニップ等の動作制御、レーザのメカシャッターの開閉動作の制御等の、レーザ加工部3以外の構成の動作の制御を行う他、動作の制御が完了したことを示す情報(トリガー)を装置PC7に送信する役割も担う。
The
装置PC7とレーザ加工部3、巻出器11、巻取器13、加工テーブル21、保持テーブル25、レーザパワーメータ33(変換器35)はPLC(Programmable Logic Controller)37を介して接続されている。
The
さらに、マーキング装置1はレーザ加工部3から照射さえるレーザのドット径を変更する可変部としてのアクチュエータ71を有している。
Furthermore, the marking
なお、フィルム100において一度にマーキングを行う領域は、例えば図4に示すようなマーキングエリア203になる。
In addition, the area | region which marks at a time in the
また、図1ではレーザ加工部3の数は1つであるが、2つ以上のレーザ加工部3をフィルム100の搬送方向に対して並列な向き(+y、−yの向き)に並べてマーキングを行ってもよい。
In FIG. 1, the number of the
ここで、図5を参照してレーザ加工部3およびアクチュエータ71の構成および動作の概略について説明する。
Here, with reference to FIG. 5, the outline of a structure and operation | movement of the
図5に示すように、レーザ加工部3は、YAG(Yttrium Aluminum Garnet)レーザ等のレーザを照射する光源51、光源51から照射されたレーザの光路上に設けられ、レーザのドット径を調整するビームエキスパンダ53、ビームエキスパンダ53を透過したレーザの方向を変えるためのコーナーミラー55、57、コーナーミラー57から入射されたレーザのZ軸方向の焦点の調整を行うZスキャナ59および対物レンズ61、対物レンズ61を透過した光のX軸およびY軸方向座標を調整するXYガルバノスキャナ63、およびこれらの構成要素の動作を制御するレーザ加工ユニットPC39を有している。
As shown in FIG. 5, the
また、ビームエキスパンダ53は複数のレンズ53a、53bを有しているが、レンズ53aに対してレンズ53bを光路方向(図5の−y、+yの向き)に相対的に移動させるアクチュエータ71がレンズ53bに設けられている。
The
アクチュエータ71はレンズ53aに対してレンズ53bを光路方向に相対的に移動させることにより、レンズ53aとレンズ53bの距離Lを調節する。これにより、光源51から照射されたレーザのドット径を第1のドット径303または第2のドット径304のいずれかに設定する。
The
マーキングの際には、レーザ加工部3では、光源51から所定の出力で照射されたレーザがビームエキスパンダ53で所定のドット径に調整され、Zスキャナ59、対物レンズ61、XYガルバノスキャナ63で照射する位置座標およびその位置での焦点を調整されて、第1のドット径303でフィルム100の所望の位置に照射される。
At the time of marking, the
なお、アクチュエータ71はレンズ53bではなくレンズ53aに設けられてもよい。
The
また、レーザ加工部3においては、Zスキャナ59と対物レンズ61の代わりにfθレンズを用いることも可能である。この場合、fθレンズはXYガルバノスキャナ63とフィルム100の間に配置され、Z軸方向の焦点の調整を行う。
以上がレーザ加工部3およびアクチュエータ71の構成および動作の概略である。
In the
The above is the outline of the configuration and operation of the
次に、マーキング装置1を用いたマーキングの手順について、図6〜図18を参照して説明する。
Next, a marking procedure using the
まず、以下の説明においてフィルム100上に形成する全体描画パターン113の例を、図6〜図13を参照して説明する。
First, an example of the
図6に示すように、矩形のマーキングエリア203内の全体描画パターン113には、配線パターン70が16個設けられている。
As shown in FIG. 6, 16
また、本実施形態では全体描画パターン113から、全体描画パターン113の一部を構成する第1描画パターン115および第2描画パターン117が生成される。そのため、全体描画パターン113から第1描画パターン115および第2描画パターン117を生成する方法について、図7〜図14を参照して詳細に説明する。
In the present embodiment, the
まず、図7に示すような全体描画パターン113があり、第1のドット径303の直径がDである場合を考える。この場合、Dよりも小さい(幅の狭い)領域305、306、307、309はレーザのドット径が第1のドット径303の場合は描画できないため、第2のドット径304で描画する第2描画パターン117として設定される。
First, consider a case where there is an
次に、第1のドット径303は、第2のドット径304よりも、描画の際のレーザのドット径が大きく、大面積を高速で描画できるため、第1のドット径303で描画可能な領域(領域310)は第1描画パターン115として設定されるのが本来は望ましい。
Next, since the
一方で、本実施形態では第1描画パターン115の縁部116を埋めるような輪郭パターン120を有するパターンとして、第2描画パターン117が設定される。逆に言えば、第1描画パターン115の縁部116は全体描画パターン113の縁部313に対して内側にオフセットした形状になる。一方で第2描画パターン117の外側の縁部114(輪郭パターン120を含む)は全体描画パターン113の縁部313と一致する。
On the other hand, in the present embodiment, the
以上の基準に従って、図7の全体描画パターン113から第1描画パターン115および第2描画パターン117を生成すると、第1描画パターン115は図8に示すパターンとなり、第2描画パターン117は図9に示すパターンとなる。
When the
また、第1描画パターン115と第2描画パターン117を重ねると、図10および図11に示すように重ね合わせ領域118を生じる。即ち、第1描画パターン115と第2描画パターン117は、互いに重ね合わせて描画されることでフィルム100に対して全体描画パターン113が形成されるものである。
Further, when the
なお、図11に示すように、第1描画パターン115と第2描画パターン117におけるX方向の重ね合わせ量をVxと称し、Y方向の重ね合わせ量をVyと称する。また、全体描画パターン113の縁部313に対する第1描画パターン115の縁部からのX方向のオフセット量をGxと称し、Y方向のオフセット量をGyと称する。
As shown in FIG. 11, the overlap amount in the X direction in the
ここで、第1描画パターン115の縁部を第2描画パターン117の輪郭パターン120として設定するのは以下の2つの理由によるものである。
Here, the edge of the
まず、レーザ加工部3は第1描画パターン115および第2描画パターン117に基づきマーキングを行うが、レーザのドット形状は平面形状が円形である。そのため、図12に示すように、Dよりも大きい領域310全体を仮に第1描画パターン115としてレーザ加工部3でマーキングすると、第1描画パターン115の縁部と実際に描画されるパターンの間には一定の隙間315が生じる。
First, the
このような隙間315はドット径を第2のドット径304として領域310に描画を行った場合でも生じるが、第1のドット径303の方が第2のドット径304よりもドット径が大きいため、第1のドット径303で描画した場合の方が、隙間315はより大きくなる。
Such a
そのため、第2描画パターン117を第1描画パターン115の縁部を埋めるような輪郭パターン120を含むパターンとして設定することにより、領域310全体を第1描画パターン115とする場合と比べて隙間315をより小さくでき、全体描画パターン113の精度を向上させることができる。これが第1の理由である。
Therefore, by setting the
次に、マーキング装置1においては、レーザ加工部3の位置合わせ精度、マーキング時の経時変化等により、実際に描画されるパターンの位置が第1描画パターン115および第2描画パターン117からズレを生じる場合がある。
Next, in the
この場合、第1描画パターン115の方が第2描画パターン117よりもズレ量が大きい。これは、第1のドット径303の方が第2のドット径304よりよりもドット径が大きいためである。そのため、第1描画パターン115のズレが特に問題となる。
In this case, the shift amount of the
そこで、第1描画パターン115の縁部を第2描画パターン117として設定することにより、第1描画パターン115で描画するべき領域が、実際にはズレを生じたとしても、ズレを生じた分は第2描画パターン117の領域内に描画される。
Therefore, by setting the edge of the
より正確には、図11に示すように全体描画パターン113の縁部313に対する第1描画パターン115の外周からのオフセット量Gx、Gyが重ね合わせ量Vx、Vy以下の場合は、第1描画パターン115のズレ量がGx、Gy以下であれば、ズレを生じた分は第2描画パターン117の領域内または重ね合わせ領域118の領域内に描画される。
More precisely, as shown in FIG. 11, when the offset amounts Gx and Gy from the outer periphery of the
一方で、オフセット量Gx、Gyが重ね合わせ量Vx、Vyよりも大きい場合は、第1描画パターン115のズレ量がVx、Vy以下であれば、ズレを生じた分は第2描画パターン117の領域内または重ね合わせ領域118の領域内に描画される。
On the other hand, when the offset amounts Gx and Gy are larger than the overlay amounts Vx and Vy, if the shift amount of the
そのため、ズレを生じた分をオフセット量Gx、Gy又は重ね合わせ量Vx、Vyの範囲で吸収することができ、実際に描画されるパターンそのものはズレの有無によらず、全体描画パターン113と同じ形状にできる。これが第2の理由である。
以上が全体描画パターン113から第1描画パターン115および第2描画パターン117を生成する方法である。
Therefore, the amount of deviation can be absorbed in the range of the offset amounts Gx, Gy or the overlay amounts Vx, Vy, and the actually drawn pattern itself is the same as the
The above is the method for generating the
このようにレーザ加工部3のドット径を可変にして異なる複数のドット径を用い、大面積を加工する必要がある部分をドット径の大きい方で高速描画し、微細な加工を要する部分をドット径の小さい方で精密に描画することにより、マーキング装置1は単純構成で高速かつ微細に描画が実現可能である。
In this way, the dot diameter of the
特に、マーキング装置1では1つのレーザ加工部3で異なるドット径によるマーキングを行うため、異なるドット径ごとに複数のレーザ加工部を設けてマーキングを行う場合と比べて装置構成が単純であり、レーザ加工部間で複雑な精度校正作業も不要になる。
In particular, since the marking
さらに、マーキング装置1では第1描画パターン115の縁部を第2描画パターン117の輪郭パターン120として設定することにより、第1描画パターン115で描画するべき領域が、実際にはズレを生じたとしても、ズレを生じた分は第2描画パターン117の領域内に描画される。
そのため、マーキング装置1はより加工精度を向上できる。
Further, in the
Therefore, the marking
なお、図11では第2描画パターン117のうち、第1描画パターン115の縁部を埋めるパターンの幅(図11ではX方向の幅をSx、Y方向の幅をSyと記す)は第2のドット径304の直径と同じである。即ち第2描画パターン117はドット一列で形成されている。
In FIG. 11, the width of the pattern that fills the edge of the
一方で、第2描画パターン117は必ずしもドット一列で形成する必要はなく、図13に示すような複数列で形成してもよい。
On the other hand, the
このように複数列にすることにより、一列の場合と比べて重ね合わせ量Vx、Vyおよびオフセット量Gx、Gyを大きくすることができる。
そのため、第1描画パターン115(および第2描画パターン117)の許容されるズレ量を、より大きくすることができる。
By using a plurality of rows in this manner, the overlay amounts Vx and Vy and the offset amounts Gx and Gy can be increased as compared with the case of one row.
Therefore, the allowable deviation amount of the first drawing pattern 115 (and the second drawing pattern 117) can be further increased.
ただし、列数や重ね合わせ量Vx、Vyが大きくなるほど、第2描画パターン117の面積が大きくなり、描画に要する時間が長くなる。
そのため、重ね合わせ量Vx、Vyと列数は、予想されるズレ量と作業時間とを比較して適切な範囲が選択されるのが望ましい。
However, as the number of columns and the overlapping amounts Vx and Vy increase, the area of the
For this reason, it is desirable that the overlapping amounts Vx, Vy and the number of columns are selected in an appropriate range by comparing the expected deviation amount with the working time.
例えば、マーキング時の経時変化等によるマーキング位置の想定される第1描画パターン115および第2描画パターン117の位置ずれを各々α、βとすると、重ね合わせ量Vx、Vyは最低でもα+βが必要となる。さらに、第1描画パターン115と第2描画パターン117が互いに反対方向に最大量ずれた場合は、ドット径が円であることに由来した隙間(図12の隙間315参照)が生じる可能性があるため、この隙間を埋められる量をγとすると、実際の重ね合わせ量Vx、Vyはα+β+γとなる。
For example, if the positional deviations of the
また、上記の通り第2描画パターン117の列数は、重ね合わせ量Vx、Vyの大きさおよびオフセット量Gx、Gyの大きさによって増減する。即ち重ね合わせ量Vx、Vyおよびオフセット量Gx、Gyが大きくなるほど列数を増やすのが望ましく、重ね合わせ量Vx、Vyおよびオフセット量Gx、Gyが小さいほど列数を減らすのが望ましい。
以上がフィルム100上に形成する全体描画パターン113の例の説明である。
Further, as described above, the number of columns of the
The above is the description of the example of the
次に、マーキングの手順について図14を参照して説明する。なお、以下の説明では第1のドット径303が直径0.1mm、第2のドット径304が直径0.05mmであるものと仮定する。即ち、第2のドット径304の直径が第1のドット径303の直径の1/2であると仮定する。
Next, the marking procedure will be described with reference to FIG. In the following description, it is assumed that the
まず、マーキング装置1の装置PC7(の制御部6)は、全体描画パターン113および全体描画パターン113に対応する第1描画パターン115、第2描画パターン117が記憶部7aに登録されているか否かを判断し(図14のS1)、登録されている場合は登録されたパターンに従ってマーキング(パターンの描画)を行う(図14のS2)。
First, the apparatus PC7 (the control unit 6) of the
第1描画パターン115および第2描画パターン117が登録されていない場合は、装置PC7の制御部6は以下の手順に従って第1描画パターン115および第2描画パターン117(部分描画パターン)を生成して登録する。なお、ここでは部分描画パターンを生成する部分描画パターン生成部として装置PC7を使用しているが、部分描画パターンの生成は装置PC7を使用するのではなく、他のコンピュータを使用してもよい。
When the
まず、装置PC7の制御部6は全体描画パターン113に対応するCADデータ等のパターン形状のデータを読み込む(図14のS3)。
First, the
次に、装置PC7の制御部6は第1描画パターン115および第2描画パターン117の重ね合わせ量Vx、Vy、全体描画パターン113の縁部313に対する第1描画パターン115のオフセット量Gx、Gy、および第2描画パターン117の列数を設定する(図14のS4)。具体的には作業者に重ね合わせ量Vx、Vy、オフセット量Gx、Gyおよび第2描画パターン117の列数を入力させるか、あるいはこれらのデータを他のPCや記憶媒体から読み込む。
Next, the
次に、装置PC7の制御部6は読み込んだCADデータをガーバーデータに変換する(図14のS5)。
Next, the
次に、装置PC7の制御部6は全体描画パターン113から、第1描画パターン115および第2描画パターン117を生成し、登録する(図14のS6)。具体的な生成の仕方は図6〜図13を参照して説明した通りであるが以下に簡単に説明する。
Next, the
即ち、分割描画パターン生成部は、全体描画パターン113の形状、S4で設定された第1描画パターン115および第2描画パターン117の重ね合わせ量Vx、Vy、全体描画パターン113の縁部313に対する第1描画パターン115のオフセット量Gx、Gyおよび第2描画パターン117の列数に基づいて第2描画パターン117を生成する。
That is, the divided drawing pattern generation unit sets the shape of the
次に、装置PC7の制御部6は第1描画パターン115を描画する際の光源51の描画エネルギー(レーザ出力や発振周波数)の設定を行い、設定した描画エネルギーを記憶部7aの第1の部分格納領域14等に登録する(図14のS7)。ここでは、第1のドット径303で描画する場合の光源51のレーザ出力を1000mW、周波数を10kHzに設定するものと仮定する。
Next, the
次に、装置PC7の制御部6は第2描画パターン117を描画する際の光源51の描画エネルギー(レーザ出力や発振周波数)の計算を行う(図14のS8)。ここでは、第2描画パターン117を描画する際の単位面積当たりの描画エネルギーが第1描画パターン115を描画する際の単位面積当たりの描画エネルギーと実質的に等しくなるように計算を行う。これは、第1描画パターン115および第2描画パターン117はドット径が異なるため、単純に光源51が同じレーザ出力や発振周波数で第1描画パターン115および第2描画パターン117の描画を行うと、描画の際に単位面積当たりの描画エネルギーが異なってしまい、第1描画パターン115と第2描画パターン117で描画のムラ(加工深さの違い等)が生じるためである。
Next, the
この例では第2のドット径304の直径が第1のドット径303の直径の1/2であるため、第2のドット径304の面積は第1のドット径303の面積の1/4になる。そこで、第2のドット径304で描画する場合の光源51のレーザ出力は、第1のドット径303で描画する場合のレーザ出力の1/4である250mWに設定される。
In this example, since the diameter of the
また、加工速度が等しい場合、第2のドット径304で描画する場合にレーザを一回照射する毎のXY方向の移動量は第1のドット径303の1/2になるため、発振周波数は第1のドット径303で描画する場合の発振周波数の2倍である20kHzに設定される。
In addition, when the processing speed is equal, the amount of movement in the X and Y directions for each laser irradiation when drawing with the
次に、装置PC7の制御部6はS8で計算した描画エネルギーを記憶部7aの第2の部分格納領域16等に登録する(図14のS9)。
Next, the
次に、全体描画パターン113の描画方法(図14のS2)について、図15〜図18を参照して、より詳細に説明する。 Next, the drawing method of the entire drawing pattern 113 (S2 in FIG. 14) will be described in more detail with reference to FIGS.
まず、マーキング装置1(の装置PC7のPLC37)は巻出器11および巻取器13を図示しないモータ等で駆動し、レーザ加工部3が描画可能な位置にフィルム100のマーキングエリア203が配置されるようにフィルム100を+xの向きに搬送する(図15のS11、図16(a))。この際、加工テーブル21はPLC37の制御を受けて、マーキングエリア203の下面を吸着保持しつつ、移動する。加工テーブル21の移動が完了すると、PLC37は移動が完了したことを意味する情報(移動完了トリガー)および加工テーブル21の位置情報を装置PC7に送信する。
First, the marking device 1 (
次に、移動完了トリガーおよび加工テーブル21の位置情報を受信した装置PC7は、レーザ加工部3(のレーザ加工ユニットPC39)にまずレーザのドット径を第1のドット径303に設定するように指示する(図15のS12)。なお、この際には装置PC7はレーザ加工部3に描画エネルギー(レーザ出力および周波数)も第1のドット径303に対応した値にするように指示する。
Next, the apparatus PC7 that has received the movement completion trigger and the position information of the processing table 21 instructs the laser processing unit 3 (the laser processing unit PC39) to first set the laser dot diameter to the
次に、装置PC7は、レーザ加工部3(のレーザ加工ユニットPC39)第1描画パターン115の加工を指示する。指示を受けたレーザ加工部3は、第1描画パターン115に基づき、マーキングエリア203にレーザを照射し、パターニングを行う(図15のS13、図16(b))。
Next, the apparatus PC7 instructs processing of the
次に、装置PC7はレーザ加工部3(のレーザ加工ユニットPC39)にレーザのドット径を第2のドット径304に設定するように指示する(図15のS14、図16(b))。この際には装置PC7はレーザ加工部3に描画エネルギー(レーザ出力および周波数)も第2のドット径304に対応した値にするように指示する。
Next, the apparatus PC7 instructs the laser processing unit 3 (the laser processing unit PC39) to set the laser dot diameter to the second dot diameter 304 (S14 in FIG. 15, FIG. 16B). At this time, the
次に、装置PC7は、レーザ加工部3(のレーザ加工ユニットPC39)に第2描画パターン117の加工を指示する。指示を受けたレーザ加工部3は、第2描画パターン117に基づき、マーキングエリア203にレーザを照射し、パターニングを行う(図15のS15)。
Next, the apparatus PC7 instructs the laser processing unit 3 (the laser processing unit PC39) to process the
加工が完了すると、装置PC7は加工が完了したことを意味する情報(加工完了トリガー)をPLC37に送信する。
When the machining is completed, the
次に、加工完了トリガーを受信したでマーキング装置1のPLC37は加工テーブル21の位置が下流側(巻取器13側)の移動限界にあるか否かを判断し(図15のS16)下流側の移動限界にない場合はS11に戻り、移動限界にある場合はS17に進む。
Next, upon receiving the processing completion trigger, the
加工テーブル21の位置が下流側の移動限界にある場合、マーキング装置1は加工テーブル21を上流側(巻出器11側)に戻す必要があるため、以下の手順に従って加工テーブル21を移動させる。
When the position of the processing table 21 is at the downstream movement limit, the marking
まず、マーキング装置1のPLC37は図示しないアクチュエータ等を用いて保持テーブル25を+zの向きに移動させ、フィルム100を吸着保持する(図15のS17、図16(c))。
First, the
次に、マーキング装置1のPLC37は加工テーブル21によるフィルム100の吸着を解除し、駆動部23を用いて加工テーブル21を−zの向きに移動させてフィルム100から引き離す(図15のS18、図17(a))。
Next, the
次に、マーキング装置1のPLC37は駆動部23を用いて加工テーブル21を−xの向きに移動させ、上流側に移動させる(図15のS19、図17(b))。
Next, the
次に、マーキング装置1のPLC37は駆動部23を用いて加工テーブル21を+zの向きに移動させて再びフィルム100と接触させ、フィルム100を吸着させる(図15のS20、図17(c))。
Next, the
次に、マーキング装置1のPLC37は保持テーブル25のフィルム100への吸着を解除し、保持テーブル25を−zの向きに移動させ、フィルム100から引き離す(図15のS21、図17(d))。
Next, the
以後は、マーキングエリア203をすべて加工するまでS11〜S21を繰り返す。
Thereafter, S11 to S21 are repeated until the
このように、加工テーブル21が常にマーキングエリア203を下から吸着保持することにより、マーキング時のフィルム100の位置ずれを最小限に抑えることができる。
以上がマーキング装置1を用いたマーキングの手順である。
In this manner, the processing table 21 always holds the marking
The above is the marking procedure using the
このように、本実施形態によれば、マーキング装置1は、第1のドット径303および第1のドット径303よりもドット径の小さい第2のドット径304でフィルム100にマーキングを行うレーザ加工部3と、レーザ加工部3のドット径を変更するアクチュエータ71と、全体描画パターン113の一部を構成するパターンであり、第1のドット径303で描画する第1描画パターン115および全体描画パターン113の一部を構成するパターンであり、第2のドット径304で描画する第2描画パターン117を登録する、部分描画パターン登録部としての装置PC7を有する。
そのため、マーキング装置1は単純構成で高速かつ微細に描画が実現可能である。
As described above, according to this embodiment, the marking
Therefore, the marking
以上、本発明を実施形態に基づき説明したが、本発明は上記した実施形態に限定されることはない。 As mentioned above, although this invention was demonstrated based on embodiment, this invention is not limited to above-described embodiment.
例えば、上記した実施形態では、マーキング装置1として、レーザを用いたマーキングを行う装置を例示したが、本発明は何らこれに限定されるものではなく、被加工物にマーキング可能な装置であれば、例えばインクジェットやディスペンサ等の塗布装置を用いてマーキングする装置であってもよい。
For example, in the above-described embodiment, the marking
また、上記した実施形態では、レーザ加工部3は第1のドット径303と第2のドット径304の2つのドット径で描画を行っているが、ドット径は3つ以上でもよい。この場合、部分描画パターンも第1描画パターン115と第2描画パターン117の2つだけではなく、3つ以上になる。
In the above-described embodiment, the
また、本実施形態では全体描画パターン113について、まず第1描画パターン115の描画を行った後に、第2描画パターン117の描画を行っているが、描画の順番は逆でもよい。即ち、まず第2描画パターン117の描画を行った後に、第1描画パターン115の描画を行ってもよい。
In the present embodiment, the
同様に、本実施形態では第1描画パターン115を描画する際の光源51の描画エネルギーをまず設定し、次に第2描画パターン117を描画する際の光源51の描画エネルギーを設定しているが、この順番も逆でもよい。
Similarly, in this embodiment, the drawing energy of the
さらに、上記した実施形態では第1描画パターン115と第2描画パターン117は全体描画パターン113を分割したパターンとなっているが、第1描画パターン115と第2描画パターン117は必ずしも分割したパターンである必要はなく、例えば図10のように全体描画パターン113に第1描画パターン115と第2描画パターン117の領域を上書きする形で1つのパターンを生成してもよい。
Further, in the above-described embodiment, the
また、本発明が適用できるマーキング対象(被加工物)としては、上記フィルム100などの長尺シートに限定されず、ガラス板やプリント基板などの矩形基板や、半導体ウエハーやガラスウエハーなどの円形基板等が例示できる。
In addition, the marking object (workpiece) to which the present invention can be applied is not limited to a long sheet such as the
1 :マーキング装置
3 :レーザ加工部
6 :制御部
7 :装置PC
7a :記憶部
8 :モニタ
10 :キーボード
11 :巻出器
12 :格納領域
13 :巻取器
14 :第1の部分格納領域
16 :第2の部分格納領域
21 :加工テーブル
23 :駆動部
25 :保持テーブル
33 :レーザパワーメータ
35 :変換器
37 :PLC
39 :レーザ加工ユニットPC
51 :光源
53 :ビームエキスパンダ
53a :レンズ
53b :レンズ
55 :コーナーミラー
57 :コーナーミラー
59 :Zスキャナ
61 :対物レンズ
63 :XYガルバノスキャナ
70 :配線パターン
71 :アクチュエータ
100 :フィルム
101 :基材
103 :金属層
113 :全体描画パターン
114 :縁部
115 :第1描画パターン
116 :縁部
117 :第2描画パターン
118 :重ね合わせ領域
120 :輪郭パターン
203 :マーキングエリア
303 :第1のドット径
304 :第2のドット径
305 :領域
306 :領域
307 :領域
309 :領域
310 :領域
313 :縁部
315 :隙間
A :領域
1: Marking device 3: Laser processing unit 6: Control unit 7: Device PC
7a: Storage unit 8: Monitor 10: Keyboard 11: Unwinder 12: Storage area 13: Winder 14: First partial storage area 16: Second partial storage area 21: Processing table 23: Drive unit 25: Holding table 33: Laser power meter 35: Converter 37: PLC
39: Laser processing unit PC
51: Light source 53:
Claims (6)
第1のドット径および前記第1のドット径よりもドット径の小さい第2のドット径で前記被加工物にマーキングを行うマーキング部と、
前記マーキング部のドット径を変更する可変部と、
前記描画パターンの一部を構成するパターンであり、前記第1のドット径で描画する第1描画パターンおよび前記描画パターンの一部を構成するパターンであり、前記第2のドット径で描画する第2描画パターンを登録する、部分描画パターン登録部と、
前記第1描画パターンと前記第2描画パターンとの重ね合わせ量を設定する重ね合わせ量設定部と、
前記描画パターンの縁部に対する前記第1描画パターンの縁部のオフセット量を設定するオフセット量設定部を備え、
前記第1描画パターンと前記第2描画パターンとは、互いに重ね合わせて描画されることで前記被加工物に対して所定の前記描画パターンが形成されるものであり、
前記第2描画パターンには、前記第1描画パターンの縁部を埋めるような輪郭パターンが含まれる、
マーキング装置。 In a marking device that draws a predetermined drawing pattern in a marking area set on a workpiece,
A marking portion that marks the workpiece with a first dot diameter and a second dot diameter that is smaller than the first dot diameter;
A variable portion for changing the dot diameter of the marking portion;
A pattern constituting a part of the drawing pattern, a first drawing pattern drawn with the first dot diameter, and a pattern constituting a part of the drawing pattern, wherein the first drawing pattern is drawn with the second dot diameter. A partial drawing pattern registration unit for registering two drawing patterns;
An overlap amount setting unit for setting an overlap amount between the first drawing pattern and the second drawing pattern;
An offset amount setting unit that sets an offset amount of an edge of the first drawing pattern with respect to an edge of the drawing pattern;
The first drawing pattern and the second drawing pattern are formed so as to overlap each other, whereby the predetermined drawing pattern is formed on the workpiece,
The second drawing pattern includes a contour pattern that fills an edge of the first drawing pattern.
Marking device.
前記部分描画パターン登録部には、前記輪郭列数設定部で設定された列数の前記輪郭パターンを有する前記第2描画パターンが登録されている、請求項2に記載のマーキング装置。 A contour column number setting unit for setting the number of columns of the contour pattern in the second drawing pattern;
The marking device according to claim 2 , wherein the second drawing pattern having the number of contour patterns set by the contour column number setting unit is registered in the partial drawing pattern registration unit.
前記相対移動部を制御して前記被加工物に対して前記マーキング部を相対的に移動させながらマーキング指令を行う移動マーキング制御部を備えた、
請求項1〜3のいずれか一項に記載のマーキング装置。 A relative movement part for relatively moving the workpiece and the marking part;
A moving marking control unit that performs a marking command while controlling the relative moving unit to move the marking unit relative to the workpiece;
The marking device according to any one of claims 1 to 3 .
前記全体描画パターンから前記第1描画パターンおよび前記第2描画パターンを生成する部分描画パターン生成部を備えた、請求項1〜4のいずれか一項に記載のマーキング装置。 An overall drawing pattern registration unit for registering the entire drawing pattern to be marked on the workpiece as an overall drawing pattern;
The marking device according to any one of claims 1 to 4 , further comprising a partial drawing pattern generation unit that generates the first drawing pattern and the second drawing pattern from the entire drawing pattern.
前記被加工物にレーザでマーキングを行う光源と、
前記光源から照射されたレーザの光路上に設けられた複数のレンズを有し、複数の前記レンズの間の距離で前記レーザのドット径を調節するビームエキスパンダを有し、
前記可変部は、
複数の前記レンズの少なくとも一方に設けられ、複数の前記レンズの少なくとも一方を他方に対して移動させて前記レーザのドット径を前記第1のドット径または前記第2のドット径のいずれかに設定するアクチュエータを有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載のマーキング装置。 The marking part is
A light source for marking the workpiece with a laser;
A plurality of lenses provided on an optical path of a laser irradiated from the light source, and a beam expander that adjusts a dot diameter of the laser by a distance between the plurality of lenses,
The variable part is:
Provided on at least one of the plurality of lenses, and moving at least one of the plurality of lenses relative to the other to set the dot diameter of the laser to either the first dot diameter or the second dot diameter The marking apparatus as described in any one of Claims 1-5 which has an actuator to perform.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015200742A JP6608236B2 (en) | 2015-10-09 | 2015-10-09 | Marking device |
PCT/JP2016/076250 WO2017061222A1 (en) | 2015-10-09 | 2016-09-07 | Marking device |
KR1020187009237A KR20180063103A (en) | 2015-10-09 | 2016-09-07 | Marking device |
CN201680052982.6A CN108025392B (en) | 2015-10-09 | 2016-09-07 | Marking device |
TW105130653A TWI677392B (en) | 2015-10-09 | 2016-09-22 | Marking device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015200742A JP6608236B2 (en) | 2015-10-09 | 2015-10-09 | Marking device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017070989A JP2017070989A (en) | 2017-04-13 |
JP6608236B2 true JP6608236B2 (en) | 2019-11-20 |
Family
ID=58487686
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015200742A Active JP6608236B2 (en) | 2015-10-09 | 2015-10-09 | Marking device |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6608236B2 (en) |
KR (1) | KR20180063103A (en) |
CN (1) | CN108025392B (en) |
TW (1) | TWI677392B (en) |
WO (1) | WO2017061222A1 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7119421B2 (en) * | 2018-02-27 | 2022-08-17 | Agc株式会社 | Glass plate with identification mark and method for forming identification mark on glass plate |
JP2020007591A (en) * | 2018-07-04 | 2020-01-16 | Dgshape株式会社 | Processing method, processing system, and processing program |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2577638B2 (en) * | 1989-07-14 | 1997-02-05 | 三井東圧化学株式会社 | Laser marking method and apparatus |
JPH04356380A (en) * | 1991-05-24 | 1992-12-10 | Fuji Electric Co Ltd | Laser marking method |
JPH07116869A (en) * | 1993-10-21 | 1995-05-09 | Nippon Steel Corp | Marking method by laser beam |
JP4461740B2 (en) | 2003-08-21 | 2010-05-12 | オムロン株式会社 | Laser marking device |
JP3872462B2 (en) | 2003-09-01 | 2007-01-24 | 住友重機械工業株式会社 | Laser processing apparatus and laser processing method |
JP2007025394A (en) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Fujifilm Holdings Corp | Pattern forming method |
JP5248205B2 (en) | 2008-05-29 | 2013-07-31 | パナソニック デバイスSunx株式会社 | Laser marking device |
JP5896459B2 (en) * | 2012-03-06 | 2016-03-30 | 東レエンジニアリング株式会社 | Marking apparatus and method |
JP6278451B2 (en) * | 2014-02-27 | 2018-02-14 | 東レエンジニアリング株式会社 | Marking device and pattern generation device |
-
2015
- 2015-10-09 JP JP2015200742A patent/JP6608236B2/en active Active
-
2016
- 2016-09-07 KR KR1020187009237A patent/KR20180063103A/en not_active Application Discontinuation
- 2016-09-07 WO PCT/JP2016/076250 patent/WO2017061222A1/en active Application Filing
- 2016-09-07 CN CN201680052982.6A patent/CN108025392B/en active Active
- 2016-09-22 TW TW105130653A patent/TWI677392B/en active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108025392B (en) | 2020-03-03 |
TW201722599A (en) | 2017-07-01 |
JP2017070989A (en) | 2017-04-13 |
KR20180063103A (en) | 2018-06-11 |
TWI677392B (en) | 2019-11-21 |
WO2017061222A1 (en) | 2017-04-13 |
CN108025392A (en) | 2018-05-11 |
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Date | Code | Title | Description |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20151106 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191002 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |