JP6572560B2 - Fundus imaging device with wavefront compensation - Google Patents

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Description

本開示は、被検眼の波面収差を補正した状態で被検眼の眼底画像を撮影する波面補償付眼底撮影装置に関する。   The present disclosure relates to a fundus imaging apparatus with wavefront compensation that captures a fundus image of a subject's eye in a state in which the wavefront aberration of the subject's eye is corrected.

シャックハルトマンセンサーなどの波面センサを用いて眼の波面収差を検出し、その検出結果に基づいて波面補償デバイスを制御し、波面補償後の眼底画像を細胞レベルで撮影する装置が知られている(特許文献1参照)。   An apparatus is known that detects wavefront aberration of an eye using a wavefront sensor such as a Shack-Hartmann sensor, controls a wavefront compensation device based on the detection result, and takes a fundus image after wavefront compensation at a cellular level ( Patent Document 1).

特開2013−52047号公報JP 2013-52047 A

波面補償デバイスにおける波面補償の性能には、デバイス設計に応じた限界があり、デバイスの性能に対して歪みの大きな波面は、補償しきれない場合がある。故に、良好な眼底画像を得るためには、デバイスの性能の範囲で、波面の歪みを適正に補償することが重要である。   The performance of wavefront compensation in a wavefront compensation device has a limit depending on the device design, and a wavefront having a large distortion with respect to the device performance may not be fully compensated. Therefore, in order to obtain a good fundus image, it is important to appropriately compensate for wavefront distortion within the range of device performance.

また、デバイスの性能の範囲で波面補償が行われる場合であっても、より歪みの大きな波面に対して波面補償を行っている場合ほど、波面補償後の眼底画像の画質が悪くなりやすい傾向が確認された。   Even when wavefront compensation is performed within the range of device performance, the image quality of the fundus image after wavefront compensation tends to deteriorate as the wavefront compensation is performed for a wavefront having a larger distortion. confirmed.

本開示は、上記事情に鑑みてなされたものであり、良好に波面補償が行われた状態で眼底画像を撮影できる波面補償付眼底撮影装置を提供することを技術課題とする。   The present disclosure has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present disclosure to provide a fundus imaging apparatus with wavefront compensation that can capture a fundus image in a state where wavefront compensation is satisfactorily performed.

本開示の第1態様に係る波面補償付眼底撮影装置は、被検眼眼底からの反射光を受光して眼底像を撮像する眼底撮像光学系と、前記眼底撮像光学系の光路中に配置されており、入射光の波面を制御して被検眼の波面収差を補償する波面補償デバイスと、前記波面収差を検出するための収差検出光学系であって、被検眼に対して測定光を投光すると共に,被検眼眼底からの測定光の反射光を検出器で検出する収差検出光学系と、被検眼と,前記波面補償デバイスにおいて波面補償が有効な領域である有効領域と,の相対的な位置関係を調整する調整手段と、前記検出器からの検出信号に基づいて被検眼の収差量を演算し、更に、前記調整手段による前記被検眼と前記有効領域とのアライメントの誘導を、前記演算の結果得られる収差量に基づいて実行する演算制御手段と、を備える。   The fundus imaging apparatus with wavefront compensation according to the first aspect of the present disclosure is disposed in an optical path of a fundus imaging optical system that receives reflected light from the fundus of a subject's eye and captures a fundus image, and the optical path of the fundus imaging optical system. A wavefront compensation device for controlling wavefront aberration of an eye to be compensated by controlling a wavefront of incident light, and an aberration detection optical system for detecting the wavefront aberration, and projecting measurement light onto the eye to be examined In addition, the relative position of the aberration detection optical system that detects the reflected light of the measurement light from the fundus of the subject's eye with the detector, the eye to be examined, and the effective region in which the wavefront compensation is effective in the wavefront compensation device An adjustment means for adjusting the relationship, and an aberration amount of the eye to be examined is calculated based on a detection signal from the detector; and further, the alignment of the eye to be examined and the effective area by the adjustment means is guided by the calculation Based on the amount of aberration obtained Arithmetic control means to be executed.

本開示の波面補償付眼底撮影装置によれば、良好に波面補償が行われた状態で眼底画像を撮影できる。   According to the fundus imaging apparatus with wavefront compensation of the present disclosure, it is possible to capture a fundus image in a state where the wavefront compensation is performed favorably.

本実施形態の撮影装置の外観図を示した図である。It is the figure which showed the external view of the imaging device of this embodiment. 撮影装置の光学系を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the optical system of the imaging device. 本実施形態の撮影装置の制御系を示したブロック図である。It is the block diagram which showed the control system of the imaging device of this embodiment. 波面補償デバイス上の補償可能領域および有効領域を示した図である。It is the figure which showed the compensation possible area | region and effective area | region on a wavefront compensation device. 指標パターン像と有効領域の具体例について説明する図である。It is a figure explaining the example of an index pattern image and an effective field. モニタの画面上に表示される収差補正画面を示した図である。It is the figure which showed the aberration correction screen displayed on the screen of a monitor. 撮影装置における動作の流れを示したフローチャートである。It is the flowchart which showed the flow of operation | movement in an imaging device. 第1のアライメントを終えた段階での収差補正グラフィックを示す図である。It is a figure which shows the aberration correction graphic in the stage which finished the 1st alignment. 第2のアライメントにおける撮影装置の動作を示したフローチャートである。It is the flowchart which showed operation | movement of the imaging device in 2nd alignment. 第2のアライメントを終えた段階での収差補正グラフィックを示す図である。It is a figure which shows the aberration correction graphic in the stage which finished 2nd alignment.

以下、図面を参照して、本開示の典型的な実施形態を説明する。撮影装置1は、被検眼Eの波面収差を補正した状態で被検眼Eの眼底像を撮影する波面収差補償付眼底撮影装置である。   Hereinafter, exemplary embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings. The imaging apparatus 1 is a fundus imaging apparatus with wavefront aberration compensation that captures a fundus image of the eye E with the wavefront aberration of the eye E corrected.

初めに、図1を参照して撮影装置1の概略構成を説明する。撮影装置1は、基台510と、顔支持ユニット600と、撮影部500と、を備える。顔支持ユニット600は、基台510に取り付けられている。撮影部500には、後述する光学系が収納されており、基台510の上に設けられている。顔支持ユニット600には、顎台610が設けられている。顎台610は、顔支持ユニット600の基部に対して左右方向(X方向)、上下方向(Y方向)および前後方向(Z方向)に移動可能である。本実施形態では、顎台610は、電動移動機構610aが駆動することによって、X,Y,Zの各方向に移動する。なお、電動移動機構610aは、顎台610を一方向に移動させる電動アクチュエータを、複数組み合わせた構成であってもよい。   First, a schematic configuration of the photographing apparatus 1 will be described with reference to FIG. The photographing apparatus 1 includes a base 510, a face support unit 600, and a photographing unit 500. The face support unit 600 is attached to the base 510. The imaging unit 500 houses an optical system described later, and is provided on the base 510. The face support unit 600 is provided with a chin rest 610. The chin rest 610 is movable in the left-right direction (X direction), the up-down direction (Y direction), and the front-rear direction (Z direction) with respect to the base of the face support unit 600. In the present embodiment, the chin rest 610 moves in each of the X, Y, and Z directions when the electric movement mechanism 610a is driven. The electric movement mechanism 610a may be configured by combining a plurality of electric actuators that move the chin rest 610 in one direction.

次に、図2を参照して、撮影装置1の光学系について説明する。本実施形態の撮影装置1は、眼底撮像光学系100と、波面収差検出光学系(以下、収差検出光学系と記載する。)110と、収差補償ユニット20,30,72と、第2撮影ユニット200と、前眼部観察ユニット700と、を備える。   Next, the optical system of the photographing apparatus 1 will be described with reference to FIG. The imaging apparatus 1 of the present embodiment includes a fundus imaging optical system 100, a wavefront aberration detection optical system (hereinafter referred to as an aberration detection optical system) 110, aberration compensation units 20, 30, and 72, and a second imaging unit. 200 and an anterior ocular segment observation unit 700.

眼底撮像光学系100は、被検眼Eにレーザー光(照明光)を投光すると共に、レーザー光の眼底による反射光を受光して被検眼Eの眼底像を撮影する。被検眼Eの眼底は、眼底撮像光学系100によって、高解像度(高分解能)・高倍率で撮影される。以下のように、眼底撮像光学系100は、例えば、共焦点光学系を用いた走査型レーザー検眼鏡の構成を有してもよい。眼底撮像光学系100は、第1照明光学系100aと、第1撮影光学系100bと、を備える。また、本実施形態において、収差補償ユニット20,30,72は、収差補償ユニット20,30,72は、被検眼Eの収差を補正するために眼底撮像光学系100に配置される。なお、収差補償ユニットとしては、波面補償デバイス72と、第2補正ユニットと、に大別される。本実施形態において、第2補正ユニットは、2次以下の低次収差を補正するための光学系を備える。また、本実施形態において、第2補正ユニットには、視度補正部20と、乱視補正部30と、を含む。視度補正部20は、視度(つまり、デフォーカス成分)を補正するための光学系を備える。また、乱視補正部30は、乱視成分を補正するための光学系を備える。   The fundus imaging optical system 100 projects laser light (illumination light) on the eye E and receives reflected light from the fundus of the laser light to capture a fundus image of the eye E. The fundus of the eye E is photographed by the fundus imaging optical system 100 with high resolution (high resolution) and high magnification. As described below, the fundus imaging optical system 100 may have a configuration of a scanning laser ophthalmoscope using a confocal optical system, for example. The fundus imaging optical system 100 includes a first illumination optical system 100a and a first imaging optical system 100b. In this embodiment, the aberration compensation units 20, 30, and 72 are disposed in the fundus imaging optical system 100 in order to correct the aberration of the eye E. The aberration compensation unit is roughly classified into a wavefront compensation device 72 and a second correction unit. In the present embodiment, the second correction unit includes an optical system for correcting low-order aberrations of the second order or lower. In the present embodiment, the second correction unit includes a diopter correction unit 20 and an astigmatism correction unit 30. The diopter correction unit 20 includes an optical system for correcting diopter (that is, defocus component). The astigmatism correction unit 30 includes an optical system for correcting astigmatism components.

第1照明光学系100aは、被検眼Eにレーザー光を照射すると共にレーザー光を眼底上で走査することによって、眼底を2次元的に照明する。第1照明光学系100aは、光源11(第1光源)から眼底に到るまでの光路において、光源11、レンズ12、偏光ビームスプリッタ(PBS)14、ビームスプリッタ(BS)71、凹面ミラー16、凹面ミラー17、平面ミラー18、収差補償ユニット72(波面補償デバイス72)、ビームスプリッタ(BS)75、凹面ミラー21、凹面ミラー22、走査部25、凹面ミラー26、凹面ミラー27、平面ミラー28、収差補償ユニット30(乱視補正部30)、レンズ32、平面ミラー33、収差補償ユニット20(視度補正部20)、平面ミラー35、凹面ミラー36、偏向部400、ダイクロイックミラー90、凹面ミラー41、平面ミラー42、平面ミラー43、および、凹面ミラー45、を有する。   The first illumination optical system 100a illuminates the fundus two-dimensionally by irradiating the eye E with laser light and scanning the laser light on the fundus. The first illumination optical system 100a includes a light source 11, a lens 12, a polarization beam splitter (PBS) 14, a beam splitter (BS) 71, a concave mirror 16, in an optical path from the light source 11 (first light source) to the fundus. Concave mirror 17, flat mirror 18, aberration compensation unit 72 (wavefront compensation device 72), beam splitter (BS) 75, concave mirror 21, concave mirror 22, scanning unit 25, concave mirror 26, concave mirror 27, flat mirror 28, Aberration compensation unit 30 (astigmatism correction unit 30), lens 32, plane mirror 33, aberration compensation unit 20 (diopter correction unit 20), plane mirror 35, concave mirror 36, deflection unit 400, dichroic mirror 90, concave mirror 41, It has a plane mirror 42, a plane mirror 43, and a concave mirror 45.

光源11は、レーザー光を出射する。本実施形態において、レーザー光は、被検眼Eに視認されにくい近赤外域の波長を持つ。例えば、本実施形態において、光源11は、波長840nmのSLD(Super Luminescent Diode)が使用される。なお、光源11は、収束性の高い特性を持つスポット光を出射するものであればよく、例えば、半導体レーザー等であってもよい。   The light source 11 emits laser light. In the present embodiment, the laser light has a near-infrared wavelength that is difficult to be visually recognized by the eye E. For example, in the present embodiment, the light source 11 is an SLD (Super Luminescent Diode) having a wavelength of 840 nm. The light source 11 may be any light source that emits spot light having a high convergence property, and may be, for example, a semiconductor laser.

光源11から出射されたレーザー光は、レンズ12により平行光とされた後、PBS14、BS71、凹面ミラー16,17、平面ミラー18を介して、波面補償デバイス72に入射する。本実施形態において、レーザー光は、PBS14を通過することによって、S偏光成分のみの光束とされる。波面補償デバイス72は、入射光の波面を制御することによって、被検眼Eの高次収差を補正する。波面補償デバイス72の詳細構成については後述する。本実施形態において、レーザー光は、波面補償デバイス72からBS75に導かれた後、凹面ミラー21、凹面ミラー22にて反射され、走査部25に向かう。   The laser light emitted from the light source 11 is converted into parallel light by the lens 12 and then enters the wavefront compensation device 72 via the PBS 14, BS 71, concave mirrors 16 and 17, and the flat mirror 18. In the present embodiment, the laser light passes through the PBS 14 and becomes a light beam having only an S-polarized component. The wavefront compensation device 72 corrects higher-order aberrations of the eye E by controlling the wavefront of the incident light. The detailed configuration of the wavefront compensation device 72 will be described later. In the present embodiment, the laser beam is guided from the wavefront compensation device 72 to the BS 75, reflected by the concave mirror 21 and the concave mirror 22, and travels toward the scanning unit 25.

本実施形態において、走査部25は、レーザー光を眼底上で2次元的に走査するために偏向部400と共に使用される。走査部25は、レーザー光の主走査に使用されるレゾナントミラーである。レーザー光は、走査部25によって、眼底上でX方向に走査される。   In the present embodiment, the scanning unit 25 is used together with the deflecting unit 400 in order to scan laser light two-dimensionally on the fundus. The scanning unit 25 is a resonant mirror used for main scanning of laser light. The laser light is scanned in the X direction on the fundus by the scanning unit 25.

走査部25を経た光は、凹面ミラー26,27、平面ミラー28を介して、乱視補正部30へ入射される。   The light that has passed through the scanning unit 25 enters the astigmatism correction unit 30 through the concave mirrors 26 and 27 and the plane mirror 28.

乱視補正部30は、被検眼Eの収差における乱視成分(2次)を補正するためのユニットである。乱視補正部30としては、様々な構成が考えられる。例えば、クロスシリンダレンズを備える構成であってもよい。この場合、乱視補正部30は、光軸上で向きを反対にして配置された、円柱度数の等しい1対のシリンダレンズが含まれていてもよい。更に、それぞれのシリンダレンズを独立に回転させる機構が含まれていてもよい。また、別の構成として、乱視補正部30は、円柱度数の異なる複数のレンズと、それぞれのレンズを独立して光軸に挿脱する機構、および,それぞれのレンズの光軸上における軸角度を変更する機構とを、備えたものであってもよい。   The astigmatism correction unit 30 is a unit for correcting an astigmatism component (secondary) in the aberration of the eye E to be examined. Various configurations are possible for the astigmatism correction unit 30. For example, the structure provided with a cross cylinder lens may be sufficient. In this case, the astigmatism correction unit 30 may include a pair of cylinder lenses having the same cylindrical power and arranged in opposite directions on the optical axis. Further, a mechanism for independently rotating each cylinder lens may be included. As another configuration, the astigmatism correction unit 30 includes a plurality of lenses having different cylindrical powers, a mechanism for inserting and removing each lens independently from the optical axis, and an axis angle of each lens on the optical axis. You may provide the mechanism to change.

また、本実施形態において、乱視補正部30は、被検眼Eについて測定された乱視成分を示す値に応じて、乱視補正部30におけるレンズの配置が制御される。その結果、乱視成分が補正される。   In the present embodiment, the astigmatism correction unit 30 controls the arrangement of the lenses in the astigmatism correction unit 30 according to the value indicating the astigmatism component measured for the eye E. As a result, the astigmatism component is corrected.

乱視補正部30を経たレーザー光は、その後、レンズ32、平面ミラー33を介して、視度補正部20へ入射される。   The laser light that has passed through the astigmatism correction unit 30 is then incident on the diopter correction unit 20 via the lens 32 and the plane mirror 33.

視度補正部20は、視度補正を行うためのユニットである。視度補正部20は、駆動部20aのほかに、レンズおよび平面ミラーを1対ずつ有する。視度補正部20の平面ミラーおよびレンズが駆動部20aによって所定方向に移動されることで、光路長が調節される。その結果として、視度(つまり、被検眼Eの収差のデフォーカス成分)が補正される。   The diopter correction unit 20 is a unit for performing diopter correction. The diopter correction unit 20 includes a pair of lenses and plane mirrors in addition to the drive unit 20a. The optical path length is adjusted by moving the plane mirror and lens of the diopter correction unit 20 in a predetermined direction by the drive unit 20a. As a result, the diopter (that is, the defocus component of the aberration of the eye E) is corrected.

視度補正部20から平面ミラー35へ導かれた照明光は、凹面ミラー36に反射され、偏向部400に向かう。   The illumination light guided from the diopter correction unit 20 to the plane mirror 35 is reflected by the concave mirror 36 and travels toward the deflection unit 400.

偏向部400は、光源11から出射されたレーザー光を眼底上で上下方向(Y方向)に走査する。さらに、偏向部400は、眼底におけるレーザー光の走査範囲を移動させるためにも使用される。例えば、本実施形態において、偏向部400は、レーザー光を偏向する方向が異なる2つの光スキャナ(具体例としては、XガルバノミラーおよびYガルバノミラー)を有していてもよい。   The deflecting unit 400 scans the laser light emitted from the light source 11 in the vertical direction (Y direction) on the fundus. Furthermore, the deflecting unit 400 is also used to move the scanning range of the laser light on the fundus. For example, in the present embodiment, the deflecting unit 400 may include two optical scanners (specifically, an X galvanometer mirror and a Y galvanometer mirror) having different directions of deflecting laser light.

偏向部400を経た光は、ダイクロイックミラー90、凹面ミラー41、平面ミラー42,43、および凹面ミラー45を経て、被検眼Eの瞳孔内に導かれる。レーザー光は、被検眼Eの眼底面上で集光する。眼底上では、前述したように、走査部25および偏向部400の動作によって、レーザー光が2次元的に走査される。   The light that has passed through the deflecting unit 400 is guided into the pupil of the eye E through the dichroic mirror 90, the concave mirror 41, the plane mirrors 42 and 43, and the concave mirror 45. The laser light is collected on the fundus of the eye E. As described above, the laser beam is two-dimensionally scanned on the fundus by the operations of the scanning unit 25 and the deflecting unit 400.

また、ダイクロイックミラー90は、後述する第2撮影ユニット200からの光束を透過させ、光源11および後述する光源76からの光束を反射させる特性を持つ。なお、光源11および光源76の出射端と被検眼Eの眼底とは共役とされている。このようにして、第1照明光学系100aが形成される。   Further, the dichroic mirror 90 has a characteristic of transmitting a light beam from the second photographing unit 200 described later and reflecting a light beam from the light source 11 and a light source 76 described later. Note that the emission ends of the light sources 11 and 76 and the fundus of the eye E are conjugate. In this way, the first illumination optical system 100a is formed.

次に、第1撮影光学系100bを説明する。第1撮影光学系100bは、眼底に照射されたレーザー光の反射光を受光素子56によって受光する。撮影装置1は、第1眼底画像(細胞画像、AO−SLO画像)を、受光素子56からの信号に基づいて取得する。第1撮影光学系100bは、被検眼EからBS71までの光路を、第1照明光学系100aと共用する。また、第1撮影光学系100は、BS71の反射側光路に配置された要素、即ち、平面ミラー51、PBS52、レンズ53、ピンホール板54、レンズ55、および、受光素子56を有している。なお、本実施形態では、受光素子56はAPD(アバランシェフォトダイオード)が用いられている。また、ピンホール板54は、眼底と共役な位置に置かれる。   Next, the first photographing optical system 100b will be described. The first imaging optical system 100 b receives the reflected light of the laser light irradiated on the fundus by the light receiving element 56. The imaging device 1 acquires a first fundus image (cell image, AO-SLO image) based on a signal from the light receiving element 56. The first imaging optical system 100b shares the optical path from the eye E to the BS 71 with the first illumination optical system 100a. The first imaging optical system 100 includes elements arranged in the reflection side optical path of the BS 71, that is, a plane mirror 51, a PBS 52, a lens 53, a pinhole plate 54, a lens 55, and a light receiving element 56. . In this embodiment, the light receiving element 56 is an APD (avalanche photodiode). Further, the pinhole plate 54 is placed at a position conjugate with the fundus.

光源11からのレーザー光の眼底反射光は、前述した第1照明光学系100aを逆に辿り、BS71、平面ミラー51のそれぞれで反射され、PBS52にてS偏光の光だけ透過される。この透過光は、レンズ53を介してピンホール板54のピンホールに焦点を結ぶ。ピンホールにて焦点を結んだ反射光は、レンズ55を経て受光素子56に受光される。なお、照明光の一部は角膜上で反射されるが、ピンホール板54により大部分が除去される。よって、受光素子56は、角膜反射の影響を抑えて、眼底からの反射光を受光できる。   The fundus reflection light of the laser light from the light source 11 traces the first illumination optical system 100 a in the reverse direction, is reflected by the BS 71 and the flat mirror 51, and only the S-polarized light is transmitted by the PBS 52. This transmitted light is focused on the pinhole of the pinhole plate 54 via the lens 53. The reflected light focused at the pinhole is received by the light receiving element 56 through the lens 55. A part of the illumination light is reflected on the cornea, but most of the illumination light is removed by the pinhole plate 54. Therefore, the light receiving element 56 can receive the reflected light from the fundus while suppressing the influence of corneal reflection.

受光素子56の受光信号を画像処理部(例えば、制御部800)が処理することによって、第1眼底画像(つまり、細胞画像、AO−SLO画像ともいう)が取得される。本実施形態において、1フレームの眼底画像は、走査部25の主走査と、偏向部400に設けられたY走査用のガルバノミラーの副走査によって形成される。なお、第1撮影ユニット100で取得する眼底画像(眼底像)の画角が所定の角度となるように走査部25および偏向部400におけるミラーの振れ角(揺動角度)を定める。ここでは、眼底の所定の範囲を高倍率で観察、撮影する(ここでは、細胞レベルでの観察等をする)ために、画角を1度〜5度程度とする。本実施形態では、1.5度とする。被検眼Eの視度等にもよるが、第1眼底画像の撮影範囲は、500μm角程度とされる。   A first fundus image (that is, also referred to as a cell image or an AO-SLO image) is acquired by an image processing unit (for example, the control unit 800) processing a light reception signal of the light receiving element 56. In this embodiment, a fundus image of one frame is formed by main scanning of the scanning unit 25 and sub-scanning of a Y-scan galvanometer mirror provided in the deflection unit 400. Note that the deflection angle (swing angle) of the mirror in the scanning unit 25 and the deflection unit 400 is determined so that the angle of view of the fundus image (fundus image) acquired by the first imaging unit 100 becomes a predetermined angle. Here, in order to observe and photograph a predetermined range of the fundus at a high magnification (here, observation at a cell level or the like), the angle of view is set to about 1 to 5 degrees. In this embodiment, the angle is 1.5 degrees. Although depending on the diopter of the eye E, the imaging range of the first fundus image is about 500 μm square.

さらに、偏向部400に設けられたX走査用のガルバノミラーとY走査用のガルバノミラーの反射角度が第1眼底画像の撮像画角より大きく移動されることによって、眼底における第1眼底画像の撮像位置(つまり、レーザー光の走査範囲)が変更される。   Further, when the reflection angle of the X-scanning galvanometer mirror and the Y-scanning galvanometer mirror provided in the deflection unit 400 is moved larger than the imaging field angle of the first fundus image, the first fundus image is captured on the fundus. The position (that is, the scanning range of the laser beam) is changed.

第2撮影ユニット200は、第1撮影ユニット100の画角よりも広画角の眼底画像(第2眼底画像)を取得するためのユニットである。第2眼底画像は、例えば、第1眼底画像を得るための位置指定、および位置確認用の画像として用いられる。本実施形態の第2撮影ユニット200は、被検眼Eの眼底画像を広画角(例えば20度〜60度程度)でリアルタイムに取得および観察できる構成であることが好ましい。例えば、第2撮影ユニット200として、既存の眼底カメラの観察・撮影光学系、および走査型レーザー検眼鏡(Scanning Laser Ophthalmoscope:SLO)の光学系および制御系が利用されてもよい。   The second photographing unit 200 is a unit for obtaining a fundus image (second fundus image) having a wider angle of view than the angle of view of the first photographing unit 100. The second fundus image is used, for example, as an image for position designation and position confirmation for obtaining the first fundus image. The second imaging unit 200 of the present embodiment preferably has a configuration capable of acquiring and observing a fundus image of the eye E to be examined in real time with a wide angle of view (for example, about 20 to 60 degrees). For example, as the second imaging unit 200, an observation / imaging optical system of an existing fundus camera and an optical system and a control system of a scanning laser ophthalmoscope (SLO) may be used.

前眼部観察ユニット700は、被検眼Eの前眼部を可視光にて照明し、前眼部正面像を撮像するユニットである。前眼部観察ユニット700にて撮像された画像は、モニタ850に出力される。前眼部観察ユニット700によって取得される前眼部画像は、撮影部500と被検眼Eとのアライメントに利用される。なお、ダイクロイックミラー95は、第2撮影ユニット200からの光束を透過させ、前眼部観察ユニット700からの光束を反射させる特性を持つ。   The anterior segment observation unit 700 is a unit that illuminates the anterior segment of the eye E with visible light and captures a front image of the anterior segment. An image captured by the anterior segment observation unit 700 is output to the monitor 850. The anterior ocular segment image acquired by the anterior ocular segment observation unit 700 is used for alignment between the imaging unit 500 and the eye E to be examined. The dichroic mirror 95 has a characteristic of transmitting the light beam from the second photographing unit 200 and reflecting the light beam from the anterior ocular segment observation unit 700.

次に、収差検出光学系110について説明する。収差検出光学系110は、波面センサ73を有する。また、収差検出光学系110は、被検眼Eの眼底に測定光を投光し、測定光の眼底反射光を、指標パターン像として波面センサ73にて受光(検出)する。収差検出光学系110は、一部の光学素子を第1照明光学系100aおよび第1撮影光学系100bの光路上(本実施形態では、共通光路上)に持ち、光学系100a,100bと光路を一部共用している。つまり、本実施形態の収差検出光学系110は、光学系100a,100bの光路上に配置されたBS71から凹面ミラー45までを、光学系100a,100bと共用する。更に、収差検出光学系110は、光源76、レンズ77、PBS78、BS75、BS71、ダイクロイックミラー86、PBS85、レンズ84、平面ミラー83、レンズ82、を有する。   Next, the aberration detection optical system 110 will be described. The aberration detection optical system 110 includes a wavefront sensor 73. The aberration detection optical system 110 projects measurement light onto the fundus of the eye E, and receives (detects) the fundus reflection light of the measurement light as an index pattern image with the wavefront sensor 73. The aberration detection optical system 110 has a part of optical elements on the optical path of the first illumination optical system 100a and the first photographing optical system 100b (in the present embodiment, on the common optical path), and the optical paths of the optical systems 100a and 100b. Some are shared. That is, the aberration detection optical system 110 of the present embodiment shares the BS 71 to the concave mirror 45 arranged on the optical path of the optical systems 100a and 100b with the optical systems 100a and 100b. Further, the aberration detection optical system 110 includes a light source 76, a lens 77, PBS 78, BS 75, BS 71, a dichroic mirror 86, a PBS 85, a lens 84, a plane mirror 83, and a lens 82.

光源76は、被検眼Eの波面収差検出に使用される。本実施形態において、光源76は、光源11と異なる波長の光を発する。一例として、本実施形態では、測定光として、波長780nmのレーザー光を出射するレーザーダイオードが光源76として使用される。光源76から出射した測定光は、レンズ77によって平行光束とされた後、PBS78に入射される。   The light source 76 is used for wavefront aberration detection of the eye E. In the present embodiment, the light source 76 emits light having a wavelength different from that of the light source 11. As an example, in this embodiment, a laser diode that emits laser light having a wavelength of 780 nm is used as the light source 76 as measurement light. The measurement light emitted from the light source 76 is converted into a parallel light beam by the lens 77 and then incident on the PBS 78.

PBS78は、波面補償部に備えられた第1偏光手段の一例である。PBS78は、光源76から出射された光を所定の方向に偏光する。より詳細には、PBS78は、PBS14の偏向方向(つまり、S偏光)とは、直交する方向(即ち、P偏光)に偏光する。PBS78を経た光は、BS75によって反射されることによって、第1照明光学系100aの光路に導かれる。その結果、測定光は、第1照明光学系100aの光路を経て被検眼Eの眼底に集光される。   The PBS 78 is an example of first polarization means provided in the wavefront compensation unit. The PBS 78 polarizes the light emitted from the light source 76 in a predetermined direction. More specifically, the PBS 78 is polarized in a direction (ie, P-polarized light) orthogonal to the polarization direction (ie, S-polarized light) of the PBS 14. The light that has passed through the PBS 78 is reflected by the BS 75 and guided to the optical path of the first illumination optical system 100a. As a result, the measurement light is condensed on the fundus of the eye E through the optical path of the first illumination optical system 100a.

測定光は、眼底の集光位置(例えば、網膜表面)にて反射される。測定光の眼底反射光は、第1照明光学系100aの光路(つまり、第1撮影光学系100bの光路)を、投光時とは逆に辿る。途中、測定光は、波面補償デバイス72によって反射される。その後、測定光は、BS71によって反射されることによって、第1照明光学系100aの光路を外れる。更にその後、測定光は、ダイクロイックミラー86によって反射され、PBS85、レンズ84、平面ミラー83、レンズ82を経て、波面センサ73へと導かれる。   The measurement light is reflected at the condensing position of the fundus (for example, the retina surface). The fundus reflection light of the measurement light follows the optical path of the first illumination optical system 100a (that is, the optical path of the first photographing optical system 100b) in the opposite direction to that during projection. On the way, the measurement light is reflected by the wavefront compensation device 72. Thereafter, the measurement light is reflected by the BS 71, thereby deviating from the optical path of the first illumination optical system 100a. Thereafter, the measurement light is reflected by the dichroic mirror 86 and guided to the wavefront sensor 73 through the PBS 85, the lens 84, the plane mirror 83, and the lens 82.

PBS85は、波面補償部に備えられた第2偏光手段である。PBS85は、光源76から被検眼Eに照射された光のうち、一方向に偏波した光(ここでは、S偏光光)を透過することによって、波面センサ73へと導光するために利用される。また、PBS85は、透過した成分とは直交する方向に偏波された成分(P偏光光)を遮断する。なお、ダイクロイックミラー86は、光源11の波長の光(840nm)を透過し、収差検出用の光源76の波長の光(780nm)を反射する特性とされる。従って、波面センサ73では、測定光の眼底反射光のうちS偏光成分を持つ光が検出される。このようにして、角膜や光学素子で反射される光が波面センサ73に検出されることを抑制している。   The PBS 85 is a second polarization unit provided in the wavefront compensation unit. The PBS 85 is used to guide light to the wavefront sensor 73 by transmitting light polarized in one direction (here, S-polarized light) out of the light irradiated to the eye E from the light source 76. The The PBS 85 blocks a component polarized in a direction orthogonal to the transmitted component (P-polarized light). The dichroic mirror 86 has a characteristic of transmitting light (840 nm) having the wavelength of the light source 11 and reflecting light (780 nm) having the wavelength of the light source 76 for detecting aberration. Therefore, the wavefront sensor 73 detects light having an S-polarized component from the fundus reflection light of the measurement light. In this way, light reflected by the cornea and the optical element is suppressed from being detected by the wavefront sensor 73.

波面センサ73は、被検眼Eの波面収差を検出するために、収差測定用の測定光の眼底反射光を受光する。波面センサ73としては、低次収差および高次収差を含む波面収差を検出できる素子(より詳細には、ハルトマンシャック検出器、および、光強度の変化を検出する波面曲率センサ等)等が利用されてもよい。本実施形態において、波面センサ73は、例えば、多数のマイクロレンズからなるマイクロレンズアレイと、マイクロレンズアレイを透過した光束を受光させるための2次元撮像素子73a(又は、2次元受光素子)と、を有する。波面センサ73のマイクロレンズアレイは、被検眼Eの瞳と略共役な位置に配置される。また、2次元撮像素子73aの撮像面(受光面)は、被検眼Eの眼底と略共役な位置に配置される。   The wavefront sensor 73 receives fundus reflection light of measurement light for aberration measurement in order to detect wavefront aberration of the eye E. As the wavefront sensor 73, an element that can detect wavefront aberration including low-order aberration and high-order aberration (more specifically, a Hartmann Shack detector, a wavefront curvature sensor that detects a change in light intensity, and the like) is used. May be. In the present embodiment, the wavefront sensor 73 includes, for example, a microlens array composed of a large number of microlenses, a two-dimensional imaging element 73a (or a two-dimensional light receiving element) for receiving a light beam transmitted through the microlens array, Have The microlens array of the wavefront sensor 73 is disposed at a position substantially conjugate with the pupil of the eye E to be examined. Further, the imaging surface (light receiving surface) of the two-dimensional imaging element 73a is disposed at a position substantially conjugate with the fundus of the eye E to be examined.

2次元撮像素子73aの撮像面には、マイクロレンズアレイを透過した光束によって、指標パターン像61(本実施形態では、ハルトマン像)が形成される(図示を省略する)。よって、眼底反射光は、マイクロレンズアレイを通過して2次元撮像素子73aに受光されることによって、ハルトマン像(ドットパターン像)として撮像される。本実施形態では、ハルトマン像から被検眼Eの収差情報が取得され、収差情報に基づいて波面補償デバイス72が制御される。なお、ハルトマン像の詳細については、後述する。   An index pattern image 61 (Hartmann image in this embodiment) is formed on the imaging surface of the two-dimensional imaging element 73a by the light beam that has passed through the microlens array (not shown). Therefore, the fundus reflection light passes through the microlens array and is received by the two-dimensional imaging device 73a, thereby being imaged as a Hartmann image (dot pattern image). In the present embodiment, the aberration information of the eye E is acquired from the Hartmann image, and the wavefront compensation device 72 is controlled based on the aberration information. Details of the Hartmann image will be described later.

波面補償デバイス72は、眼底撮像光学系100の光路中(本実施形態では、眼底撮像光学系100と収差検出光学系110との共通光路中)に配置される。波面補償デバイス72は、入射光の波面を制御して被検眼Eの波面収差を補償する。波面補償デバイス72は、例えば、波面の位相を変調することで、波面を補償する構成でもよい。また、例えば、波面の各部分に対して光路長差を与えることで、波面を補償する構成であってもよい。また、これら両方の方法を併用する構成でもよいし、勿論、他の構成であってもよい。   The wavefront compensation device 72 is disposed in the optical path of the fundus imaging optical system 100 (in the present embodiment, in the common optical path of the fundus imaging optical system 100 and the aberration detection optical system 110). The wavefront compensation device 72 compensates the wavefront aberration of the eye E by controlling the wavefront of the incident light. For example, the wavefront compensation device 72 may be configured to compensate the wavefront by modulating the phase of the wavefront. Further, for example, a configuration in which the wavefront is compensated by giving an optical path length difference to each part of the wavefront may be employed. Moreover, the structure which uses both these methods together may be sufficient, and of course, another structure may be sufficient.

一例として、本実施形態では、波面補償デバイス72として液晶空間光変調器が使用される場合を説明する。以下では、反射型のLCOS(Liquid Crystal On Silicon)等が使用されるものとして説明する。この場合、波面補償デバイス72は、光源11からのレーザー光(S偏光光)、該レーザー光の眼底反射光(S偏光光)、収差検出用の光(つまり、測定光)の反射光(S偏光成分)等の所定の直線偏光(S偏光)に対して収差を補正することが可能な向きに配置される。その結果、波面補償デバイス72は、入射する光のS偏光成分を変調できる。また、本実施形態において、波面補償デバイス72の反射面は、被検眼Eの瞳と略共役となる位置に配置される。   As an example, in the present embodiment, a case where a liquid crystal spatial light modulator is used as the wavefront compensation device 72 will be described. In the following description, it is assumed that a reflective LCOS (Liquid Crystal On Silicon) or the like is used. In this case, the wavefront compensation device 72 reflects the laser light (S-polarized light) from the light source 11, the fundus reflection light (S-polarized light) of the laser light, and the reflected light (S measurement light) of the aberration detection light (S measurement light). It is arranged in a direction in which aberration can be corrected with respect to predetermined linearly polarized light (S-polarized light) such as a polarization component. As a result, the wavefront compensation device 72 can modulate the S-polarized component of the incident light. Further, in the present embodiment, the reflection surface of the wavefront compensation device 72 is disposed at a position that is substantially conjugate with the pupil of the eye E to be examined.

本実施形態の波面補償デバイス72において、液晶層内の液晶分子の配列方向は、入射する反射光の偏光面と略平行である。また、液晶層への印加電圧の変化に応じて回転する液晶分子の所定の面は、波面補償デバイス72に対する眼底反射光の入射光軸および反射光軸と、波面補償デバイス72が持つミラー層の法線と、を含む平面に対して略平行に配置されている。   In the wavefront compensation device 72 of the present embodiment, the alignment direction of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer is substantially parallel to the polarization plane of incident reflected light. Further, the predetermined plane of the liquid crystal molecules that rotates in accordance with the change in the voltage applied to the liquid crystal layer includes the incident optical axis and the reflected optical axis of the fundus reflection light with respect to the wavefront compensation device 72, and the mirror layer of the wavefront compensation device 72. And a plane that includes the normal line.

なお、以上の説明では、収差検出用光源として、眼底撮影用の光源11(第1光源)とは異なる波長の光を出射する光源71を用いた。しかし、眼底撮影用の光源11を、収差検出用の(つまり、測定光を発する)光源と兼用してもよい。   In the above description, the light source 71 that emits light having a wavelength different from that of the light source 11 (first light source) for fundus photographing is used as the aberration detection light source. However, the light source 11 for fundus photography may also be used as a light source for detecting aberrations (that is, emitting measurement light).

なお、以上説明した本実施形態では、波面センサ(より詳細には、そのマイクロレンズアレイ)および波面補償デバイスを被検眼Eの瞳共役としたが、被検眼Eの前眼部の所定部位と略共役な位置であればよく、例えば、角膜共役であってもよい。   In the present embodiment described above, the wavefront sensor (more specifically, its microlens array) and the wavefront compensation device are used as the pupil conjugate of the eye E. It may be a conjugate position, and may be, for example, a corneal conjugate.

次に、図3を参照して、本実施形態における撮影装置1の制御系を説明する。撮影装置1は、演算制御部800(以下、制御部800と省略する)を有している。制御部800は、撮影装置1の装置全体の制御を行うプロセッサ(例えば、CPU)である。本実施形態において、制御部800には、記憶部801、操作部802、画像処理部803、モニタ850、が電気的に接続される。また、制御部800には、光源11、走査部15、視度補正部20、乱視補正部30、受光素子56、波面補償デバイス72、波面センサ73、光源76、第2撮影ユニット200、偏向部400、電動移動機構610a、前眼部観察ユニット700が電気的に接続される。   Next, with reference to FIG. 3, a control system of the photographing apparatus 1 in the present embodiment will be described. The photographing apparatus 1 includes an arithmetic control unit 800 (hereinafter abbreviated as the control unit 800). The control unit 800 is a processor (for example, a CPU) that controls the entire apparatus of the photographing apparatus 1. In the present embodiment, a storage unit 801, an operation unit 802, an image processing unit 803, and a monitor 850 are electrically connected to the control unit 800. The control unit 800 includes a light source 11, a scanning unit 15, a diopter correction unit 20, an astigmatism correction unit 30, a light receiving element 56, a wavefront compensation device 72, a wavefront sensor 73, a light source 76, a second imaging unit 200, and a deflection unit. 400, the electric moving mechanism 610a, and the anterior ocular segment observation unit 700 are electrically connected.

記憶部801は、各種の制御プログラムおよび固定データを格納する。また、記憶部801には、撮影装置1によって撮影された画像、一時データ等が記憶されてもよい。   The storage unit 801 stores various control programs and fixed data. Further, the storage unit 801 may store an image captured by the imaging device 1, temporary data, and the like.

制御部800は、操作部802から出力される操作信号に基づいて、第1撮影ユニット100等の上記の各部材を制御する。操作部802は、検者によって操作される操作部材として図示無きマウス等が接続されている。   The control unit 800 controls each member described above such as the first imaging unit 100 based on the operation signal output from the operation unit 802. The operation unit 802 is connected to a mouse or the like (not shown) as an operation member operated by the examiner.

画像処理部803は、受光素子56、第2撮影ユニット200にて受光した信号に基づきモニタ850に画角の異なる被検眼眼底の画像、つまり、第1眼底画像及び第2眼底画像を形成する。なお、画像処理部803は、制御部800によって兼用される構成であってもよい。   The image processing unit 803 forms, on the monitor 850, images of the fundus oculi having different angles of view, that is, a first fundus image and a second fundus image, based on signals received by the light receiving element 56 and the second imaging unit 200. Note that the image processing unit 803 may be configured to be shared by the control unit 800.

モニタ850は、撮影装置1に搭載された表示モニタであってもよいし、撮影装置1とは別体の汎用の表示モニタであってもよい。また、これらが併用された構成であってもよい。モニタ850は、撮影装置1で撮影される眼底画像(第1眼底画像、および第2眼底画像)を、動画像および静止画像のそれぞれで表示できる。   The monitor 850 may be a display monitor mounted on the photographing apparatus 1 or a general-purpose display monitor that is separate from the photographing apparatus 1. Moreover, the structure in which these were used together may be sufficient. The monitor 850 can display fundus images (first fundus image and second fundus image) captured by the imaging apparatus 1 as moving images and still images.

なお、制御部800による波面補償デバイス72の制御は、波面センサ73によって検出される波面収差に基づいて実行される。本実施形態では、波面センサ73からの検出信号に基づく波面補償デバイス72のフィードバック制御が行われる。波面補償デバイス72が制御されることによって、光源76の反射光のS偏光成分と共に、光源11から出射されるレーザー光と該レーザー光の眼底反射光の高次収差が取り除かれる。このようにして、光源11から出射されたレーザー光、および該レーザー光の眼底反射光が持つ収差が取り除かれる。その結果、被検眼Eの高次収差が取り除かれた(波面補償された)高解像度の第1眼底画像が撮影装置1によって取得される。なお、本実施形態では、低次の収差が、視度補正部20と乱視補正部30とのそれぞれによって補正される。   The control of the wavefront compensation device 72 by the controller 800 is executed based on the wavefront aberration detected by the wavefront sensor 73. In the present embodiment, feedback control of the wavefront compensation device 72 based on the detection signal from the wavefront sensor 73 is performed. By controlling the wavefront compensation device 72, the high-order aberrations of the laser light emitted from the light source 11 and the fundus reflection light of the laser light are removed together with the S-polarized component of the reflected light of the light source 76. In this way, the aberrations of the laser light emitted from the light source 11 and the fundus reflection light of the laser light are removed. As a result, the imaging apparatus 1 acquires a high-resolution first fundus image from which higher-order aberrations of the eye E have been removed (wavefront compensated). In the present embodiment, low-order aberrations are corrected by the diopter correction unit 20 and the astigmatism correction unit 30, respectively.

ここで、図4〜図6を参照して、波面補償デバイス72と波面センサ73とを用いた波面補償制御の概要について説明する。図4に示すように、波面補償デバイス72は、補償可能領域40が形成される範囲において、入射光の波面を制御可能である。図4において、補償可能領域40上の領域41は、波面補償デバイス72上の有効領域を示す。有効領域41は、波面センサ73からの検出信号に基づいて収差補正が有効に行われる領域である。補償可能領域40において有効領域41が設定される範囲(つまり、位置、および大きさ)は、例えば、補償可能領域40における一定の領域(全体、又は、一部)として予め定められていてもよい。但し、必ずしもこれに限られるものではなく、有効領域41が設定される範囲は、補償可能領域40上で変位してもよい。この場合、後述の制御部800が、補償可能領域40における有効領域40の範囲を制御する構成であってもよい。本実施形態において、補償可能領域40は、16×12mmの大きさである。また、一例として図4に示した有効領域41は、φ8.64mmの大きさである。補償可能領域40は、有効領域41と比べて十分な大きさを有するので、有効領域41は、位置・大きさ・形状の少なくともいずれかを補償可能領域40内において変更可能である(詳しくは後述する)。また、波面補償デバイス72において、有効領域41は、入射光全体の内、ある一部の領域(例えば、瞳孔上における直径6mm領域)の光束に制限される場合がある。この場合、本実施形態の波面補償デバイス72は、有効領域41の外側に入射された光についても、有効領域41内への入射光と同様に受光素子56に向けて反射するが、外側に入射された光の波面は補償できない。   Here, an overview of wavefront compensation control using the wavefront compensation device 72 and the wavefront sensor 73 will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 4, the wavefront compensation device 72 can control the wavefront of incident light in a range where the compensable region 40 is formed. In FIG. 4, a region 41 on the compensable region 40 indicates an effective region on the wavefront compensation device 72. The effective area 41 is an area where aberration correction is effectively performed based on the detection signal from the wavefront sensor 73. The range (that is, the position and the size) in which the effective region 41 is set in the compensable region 40 may be determined in advance as, for example, a certain region (whole or part) in the compensable region 40. . However, the present invention is not necessarily limited to this, and the range in which the effective area 41 is set may be displaced on the compensable area 40. In this case, the configuration may be such that the control unit 800 described later controls the range of the effective region 40 in the compensable region 40. In the present embodiment, the compensable region 40 has a size of 16 × 12 mm. As an example, the effective area 41 shown in FIG. 4 has a size of φ8.64 mm. Since the compensable region 40 has a sufficient size compared to the effective region 41, the effective region 41 can be changed within the compensable region 40 in at least one of position, size, and shape (details will be described later). To do). In the wavefront compensation device 72, the effective region 41 may be limited to a light beam in a certain region (for example, a 6 mm diameter region on the pupil) of the entire incident light. In this case, the wavefront compensation device 72 of the present embodiment also reflects the light incident on the outside of the effective region 41 toward the light receiving element 56 similarly to the light incident on the effective region 41, but enters the outside. The wavefront of the emitted light cannot be compensated.

一方、図5に示すように、波面センサ73の2次元撮像素子73aでは、前述したように、ハルトマン像61が撮像される。ハルトマン像61は、波面センサ73上に受光された複数の点像61aの集まりを示す。1つのレンズアレイを通過した光束が、一つの点像61を形成する。波面センサ73によって点像61aが検出される領域において、収差検出が可能である。   On the other hand, as shown in FIG. 5, as described above, the Hartmann image 61 is captured by the two-dimensional image sensor 73 a of the wavefront sensor 73. The Hartmann image 61 shows a group of a plurality of point images 61 a received on the wavefront sensor 73. A light beam that has passed through one lens array forms one point image 61. In the area where the point image 61a is detected by the wavefront sensor 73, aberration detection is possible.

また、図5では、円62によって、有効領域41(即ち、円62は、有効領域41の外周と対応する)が仮想的に示されている。本実施形態では、波面補償デバイス72の制御に使用される波面収差は、円62に含まれるハルトマン像61から検出される。円62(有効領域41)とハルトマン像61との位置関係は、例えば、波面補償デバイス72上で有効領域41の位置を変位することによって、調節可能である。また、撮影光軸と被検眼Eの瞳位置との位置関係に応じて、円62とハルトマン像61との位置関係も変位する。本実施形態において、ハルトマン像61と円62とは、収差補正画面60の一部として、モニタ850上に表示される。   In FIG. 5, the effective area 41 (that is, the circle 62 corresponds to the outer periphery of the effective area 41) is virtually indicated by a circle 62. In the present embodiment, the wavefront aberration used for controlling the wavefront compensation device 72 is detected from the Hartmann image 61 included in the circle 62. The positional relationship between the circle 62 (effective region 41) and the Hartmann image 61 can be adjusted by, for example, displacing the position of the effective region 41 on the wavefront compensation device 72. Further, the positional relationship between the circle 62 and the Hartmann image 61 is also displaced according to the positional relationship between the imaging optical axis and the pupil position of the eye E to be examined. In the present embodiment, the Hartmann image 61 and the circle 62 are displayed on the monitor 850 as a part of the aberration correction screen 60.

このように、本実施形態において、ハルトマン像61の形成される領域は、ある面上(例えば、前眼部共役面上)において、収差検出光学系110によって波面収差が測定される領域(つまり、「波面測定領域」)である。波面補償デバイス72によって波面補償が有効に行われる領域は、そのある面に対して投影された有効領域(その波面測定領域における有効領域)となる。   As described above, in the present embodiment, the region where the Hartmann image 61 is formed is a region on which a wavefront aberration is measured by the aberration detection optical system 110 on a certain surface (for example, on the anterior ocular segment conjugate surface) (that is, "Wavefront measurement region"). A region where wavefront compensation is effectively performed by the wavefront compensation device 72 is an effective region projected on the certain surface (an effective region in the wavefront measurement region).

ここで、図6を参照して、収差補正画面60について説明する。収差補正画面60は、受光素子56、波面センサ73等からの信号に基づいて生成される。収差補正画面60には、ハルトマン像表示画面64と、収差補正グラフィック表示画面65と、細胞表示画面66と、を含む。   Here, the aberration correction screen 60 will be described with reference to FIG. The aberration correction screen 60 is generated based on signals from the light receiving element 56, the wavefront sensor 73, and the like. The aberration correction screen 60 includes a Hartmann image display screen 64, an aberration correction graphic display screen 65, and a cell display screen 66.

ハルトマン像表示画面64では、ハルトマン像61と円62とを、同一平面上(例えば、波面センサ73の受光面上等)において重畳して示す。円62の位置、及び大きさは、制御部800によって設定される。制御部800は、例えば、波面補償デバイス72上の有効領域41の位置および大きさと対応する領域に、円62を設定する。ハルトマン像表示画面64上の円62の外周、領域等を規定する情報は、例えば、キャリブレーション又はシミュレーション等の結果から予め求めておくことができる。   On the Hartmann image display screen 64, the Hartmann image 61 and the circle 62 are shown superimposed on the same plane (for example, on the light receiving surface of the wavefront sensor 73). The position and size of the circle 62 are set by the control unit 800. For example, the control unit 800 sets a circle 62 in an area corresponding to the position and size of the effective area 41 on the wavefront compensation device 72. Information defining the outer circumference, region, etc. of the circle 62 on the Hartmann image display screen 64 can be obtained in advance from the result of calibration or simulation, for example.

図6において、円62の中心に位置するマーク62aは、波面センサ73上における有効領域41の中心位置を示すグラフィックである。収差補正グラフィック表示画面65では、収差補正の補正度合(残収差)を示す収差補正グラフィック65aが表示される。   In FIG. 6, the mark 62 a located at the center of the circle 62 is a graphic showing the center position of the effective area 41 on the wavefront sensor 73. On the aberration correction graphic display screen 65, an aberration correction graphic 65a indicating the correction degree (residual aberration) of the aberration correction is displayed.

収差補正グラフィック65aは、波面センサ73への入射光束が持つ波面収差の分布を等高線で表したものである。収差補正グラフィック65aは、例えば、波面センサ73を介して撮像されたハルトマン像61を制御部800が処理することによって生成される。具体例としては、ハルトマン像61の処理結果として波面収差のRMS値(平均2乗平方根)を位置毎に求め、各位置のRMS値に基づいて生成されてもよい。この場合において、収差補正グラフィック65aにおける等高線が密であるほど、波面収差が大きいと評価してもよい。   The aberration correction graphic 65a represents the distribution of wavefront aberration of the light beam incident on the wavefront sensor 73 by contour lines. The aberration correction graphic 65 a is generated, for example, when the control unit 800 processes the Hartmann image 61 captured through the wavefront sensor 73. As a specific example, an RMS value (average square root) of wavefront aberration may be obtained for each position as a processing result of the Hartmann image 61, and may be generated based on the RMS value at each position. In this case, it may be evaluated that the wavefront aberration is larger as the contour lines in the aberration correction graphic 65a are denser.

また、細胞表示画面66には、実際に撮影されている眼底の細胞画像66a(つまり、第1眼底画像、AO−SLO画像)が表示される。   The cell display screen 66 displays a cell image 66a of the fundus that is actually captured (that is, a first fundus image, an AO-SLO image).

ここで、収差補正は、波面センサ73による波面収差検出結果に基づいて行われる。すなわち、円62の内側においてハルトマン像61が形成された領域では、波面の状態が検出可能である(図5(b)参照)。一方、円62の内側において、ハルトマン像61が形成されていない領域Sにおいては、波面の状態が検出されない。ここで、波面データの一部が欠損している場合(例えば、図6(a)参照)、波面全体の情報が得られないため、有効領域41における波面収差が適正に測定されない。よって、収差補正が実行されても、図6の収差補正グラフィック65に示されるように適正に収差が除去されない。この場合、細胞画像66aは良好に表示されない。また、細胞画像66aの良好な撮影が困難となる。   Here, the aberration correction is performed based on the detection result of the wavefront aberration by the wavefront sensor 73. That is, in the region where the Hartmann image 61 is formed inside the circle 62, the wavefront state can be detected (see FIG. 5B). On the other hand, in the region S where the Hartmann image 61 is not formed inside the circle 62, the state of the wave front is not detected. Here, when part of the wavefront data is missing (see, for example, FIG. 6A), the wavefront aberration in the effective region 41 is not properly measured because information on the entire wavefront cannot be obtained. Therefore, even if the aberration correction is executed, the aberration is not properly removed as shown in the aberration correction graphic 65 of FIG. In this case, the cell image 66a is not displayed well. In addition, it is difficult to take a good image of the cell image 66a.

以上のような構成と持つ装置の動作を、図7に示すフローチャートを参照して説明する。   The operation of the apparatus having the above configuration will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

撮影装置1の電源がオンされると、記憶部801に記憶された制御プログラムに従って、制御部800は、メイン処理を実行する。撮影装置1は、メイン処理に従って動作する。   When the photographing apparatus 1 is turned on, the control unit 800 executes main processing according to the control program stored in the storage unit 801. The photographing apparatus 1 operates according to the main process.

図7に示すフローチャートでは、まず、制御部800によって、前眼部観察画像の取得および表示が開始される(S1)。以降、制御部800は、前眼部観察ユニット700から出力される撮像信号に基づいて、前眼部画像を逐次取得してもよい。さらに、制御部800は、随時取得される前眼部画像を、モニタ850における前眼部画像の表示領域に、逐次表示してもよい。   In the flowchart shown in FIG. 7, first, the control unit 800 starts acquisition and display of an anterior ocular segment observation image (S1). Thereafter, the control unit 800 may sequentially acquire the anterior ocular segment image based on the imaging signal output from the anterior ocular segment observation unit 700. Further, the control unit 800 may sequentially display the anterior segment image acquired at any time in the display region of the anterior segment image on the monitor 850.

次に、X,Y,Zの各方向に、被検眼Eと撮影部500との位置関係が調整される(第1のアライメント:S2)。第1のアライメントは、制御部800によって自動で行われてもよいし、操作部802に対する検者の操作に基づいて手動で行われてもよい。以下、具体例として、手動で行われる場合を示す。なお、アライメントが行われる場合において、検者は、被検者が図示無き固視標を固視するように指示する。   Next, the positional relationship between the eye E and the imaging unit 500 is adjusted in each of the X, Y, and Z directions (first alignment: S2). The first alignment may be automatically performed by the control unit 800, or may be manually performed based on an examiner's operation on the operation unit 802. Hereinafter, as a specific example, a case where it is performed manually will be described. When alignment is performed, the examiner instructs the subject to fixate a fixation target (not shown).

本実施形態では、モニタ850において逐次表示される前眼部画像を参考にして、アライメントが行われる。例えば、検者は、モニタ850において表示される前眼部画像を観察しながら、操作部802を操作することによって、電動移動機構610aを駆動させ、顎台610の位置をX,Y,Z方向に調整する。例えば、XY方向については、被検眼Eの瞳孔中心が光軸中心(例えば、画像中心)となるように、アライメントを行う。なお、角膜頂点が光軸中心となるようにアライメントが行われてもよい。例えば、図示無きアライメント投影光学系によって角膜に投影されるアライメント指標を参考にして、アライメントを行ってもよい。また、Z方向については、例えば、虹彩にピントがあうように、アライメントを行ってもよい。   In the present embodiment, alignment is performed with reference to the anterior segment image sequentially displayed on the monitor 850. For example, the examiner operates the operation unit 802 while observing the anterior segment image displayed on the monitor 850, thereby driving the electric movement mechanism 610a, and the position of the chin rest 610 in the X, Y, and Z directions. Adjust to. For example, in the XY directions, alignment is performed so that the pupil center of the eye E to be examined is the optical axis center (for example, the image center). The alignment may be performed so that the corneal apex is the center of the optical axis. For example, the alignment may be performed with reference to an alignment index projected onto the cornea by an alignment projection optical system (not shown). For the Z direction, for example, alignment may be performed so that the iris is in focus.

第1のアライメントが完了した後、本実施形態では、制御部800によって、波面補償制御が開始される(S3)。つまり、制御部800は、光源76を点灯して測定光の投光を開始する。また、制御部800は、波面センサ73(検出器の一例)によって検出される像に基づく波面収差検出を開始する。制御部800は、波面センサ73からの検出信号に基づいて、波面収差の収差量を演算する。例えば、本実施形態では、波面センサ73で検出される像(ハルトマン像61)に基づく演算が行われる。この場合、例えば、ハルトマン像61における各ドット像の偏位量が検出される。そして、検出された偏位量に基づいてゼルニケ(Zernike)多項式の展開が適用されることで、収差の成分ごとに収差量が得られる。なお、ハルトマン像61から収差量を得る方法としては、上記方法以外の直交展開が使用されても良い。また、直交展開以外の数学的技術(即ち、演算)が利用されてもよい。   After the first alignment is completed, in the present embodiment, wavefront compensation control is started by the control unit 800 (S3). That is, the control unit 800 turns on the light source 76 and starts projecting measurement light. The control unit 800 also starts wavefront aberration detection based on an image detected by the wavefront sensor 73 (an example of a detector). The control unit 800 calculates the amount of wavefront aberration based on the detection signal from the wavefront sensor 73. For example, in the present embodiment, calculation based on an image (Hartmann image 61) detected by the wavefront sensor 73 is performed. In this case, for example, the displacement amount of each dot image in the Hartmann image 61 is detected. Then, by applying the Zernike polynomial expansion based on the detected deviation amount, an aberration amount is obtained for each aberration component. As a method for obtaining the aberration amount from the Hartmann image 61, orthogonal expansion other than the above method may be used. In addition, mathematical techniques (that is, operations) other than orthogonal expansion may be used.

ゼルニケ多項式での展開が適用された場合であれば、ゼルニケ多項式における1次から4次までの収差についての収差量が、少なくとも得られることが好ましい。なお、ゼルニケ多項式における2次の収差としては、デフォーカス、および乱視があり、3次の収差としては、コマ収差、および、トレフォイルがあり、4次の収差としては、球面収差、2次の非点収差、テトラフォイルがあることが知られている。勿論、ゼルニケ多項式における5次以上の収差が、演算によって得られてもよい。ゼルニケ展開以外の数学的技術が適用される場合であっても、演算の結果として、少なくともコマ収差と球面収差とを得ることが好ましい。更に、演算の結果として、デフォーカス、および乱視が得られると、より好ましい。   In the case where the Zernike polynomial expansion is applied, it is preferable that at least aberration amounts for the first to fourth order aberrations in the Zernike polynomial are obtained. The second-order aberration in the Zernike polynomial includes defocus and astigmatism, the third-order aberration includes coma and trefoil, and the fourth-order aberration includes spherical aberration and second-order non-linearity. It is known that there are point aberration and tetrafoil. Of course, fifth-order or higher aberrations in the Zernike polynomial may be obtained by calculation. Even when a mathematical technique other than Zernike expansion is applied, it is preferable to obtain at least coma and spherical aberration as a result of the calculation. Furthermore, it is more preferable that defocus and astigmatism are obtained as a result of the calculation.

また、S3のステップでは、波面補償ユニット(本実施形態では、第2補正ユニット20,30,および波面補償デバイス72)による収差補正が開始される。この場合において、制御部800は、2次以下の低次収差の収差量(例えば、デフォーカス成分の収差量、乱視成分の収差量等)を、波面センサ73からの検出信号に基づいて演算を行い、求めることができる。そして、制御部800は、第2補正ユニット20,30を、低次収差の収差量に基づいて駆動させる。その結果として、低次収差が補正される。ここでは、具体例として、デフォーカス成分の収差量に応じた視度補正部20の駆動制御と、乱視成分の収差量に応じた乱視補正部30の駆動制御とが、それぞれ行われるものとする。但し、このうち一方だけの駆動制御が行われるようにしてもよい。   In step S3, aberration correction by the wavefront compensation unit (in this embodiment, the second correction units 20 and 30, and the wavefront compensation device 72) is started. In this case, the control unit 800 calculates the aberration amount of the second or lower order low-order aberration (for example, the aberration amount of the defocus component, the aberration amount of the astigmatism component) based on the detection signal from the wavefront sensor 73. Can be done and asked. Then, the control unit 800 drives the second correction units 20 and 30 based on the amount of low-order aberration. As a result, low order aberrations are corrected. Here, as a specific example, drive control of the diopter correction unit 20 according to the amount of aberration of the defocus component and drive control of the astigmatism correction unit 30 according to the amount of aberration of the astigmatism component are performed. . However, only one of the drive controls may be performed.

また、制御部800は、演算によって得られた収差量に基づいて、波面補償デバイス72を駆動制御する。これによって、低次、および高次の収差が補償される。特に、本実施形態では、上記のとおり、波面補償デバイス72は、第2補正ユニット20,30と共に、駆動される。低次の収差は、可能な限り、第2補正ユニット20,30によって補正し、その補正状態で残留する残収差(つまり、3次以上の高次の収差と、2次以下の低次の収差であって、第2補正ユニット20,30では補正されずに残留した収差)とを、波面補償デバイス72を用いて補正するようにしてもよい。この場合、制御部800は、第2補正ユニット20,30による収差補正が行われた状態において、波面センサ73から出力される検出信号に対して演算を行い、その演算結果に基づいて波面補償デバイス72を駆動制御する。結果、残収差が波面補償デバイス72によって補償される。   Further, the control unit 800 drives and controls the wavefront compensation device 72 based on the aberration amount obtained by the calculation. This compensates for lower and higher order aberrations. In particular, in the present embodiment, as described above, the wavefront compensation device 72 is driven together with the second correction units 20 and 30. Low-order aberrations are corrected by the second correction units 20 and 30 as much as possible, and residual aberrations remaining in the corrected state (that is, higher-order aberrations higher than the third order and lower-order aberrations lower than the second order). Then, the aberration that remains without being corrected by the second correction units 20 and 30) may be corrected using the wavefront compensation device 72. In this case, the control unit 800 performs an operation on the detection signal output from the wavefront sensor 73 in a state where the aberration correction is performed by the second correction units 20 and 30, and based on the calculation result, the wavefront compensation device. 72 is driven and controlled. As a result, the residual aberration is compensated by the wavefront compensation device 72.

ここで、例えば、波面補償デバイス72としてLCOSが用いられる場合、波面補償制御としては、波面センサ73による波面収差の検出演算と、この演算結果に基づくLCOSの位相パターンの算出と、この算出結果に基づくLCOSの各画素への電圧印加と、を含むループ処理が行われる。ループ処理において、補償用位相パターンはフィードバック制御される。これにより、波面収差の検出に基づいてLCOSの液晶層の屈折率が随時変化され、眼底反射光の波面の歪みが補正される。   Here, for example, when LCOS is used as the wavefront compensation device 72, the wavefront compensation control includes wavefront aberration detection calculation by the wavefront sensor 73, calculation of the LCOS phase pattern based on the calculation result, and the calculation result. A loop process including a voltage application to each pixel of the LCOS based is performed. In the loop processing, the compensation phase pattern is feedback controlled. Accordingly, the refractive index of the LCOS liquid crystal layer is changed as needed based on the detection of the wavefront aberration, and the distortion of the wavefront of the fundus reflection light is corrected.

本実施形態では、S3の処理によって波面補償制御が開始された後、上記のような波面の検出、収差量の演算、および算出された収差量に基づく波面補償ユニットの駆動制御は、逐次、繰り返し実行される。なお、制御部800は、演算の結果取得された収差量を、演算の度にメモリ(例えば、記憶部801等)に記憶する。   In the present embodiment, after the wavefront compensation control is started by the process of S3, the wavefront detection, the aberration amount calculation, and the drive control of the wavefront compensation unit based on the calculated aberration amount as described above are sequentially and repeatedly performed. Executed. Note that the control unit 800 stores the aberration amount acquired as a result of the calculation in a memory (for example, the storage unit 801) for each calculation.

ここで、図8に、第1のアライメントを終えた段階における眼底反射光の波面の状態を示す。なお、図8は、波面補償ユニットを駆動させない状態での有効領域41における波面の状態を示す収差補正グラフィック65である。第1のアライメントを終えた段階では、波面補償デバイス72における有効領域41の中心位置は、瞳の中心(或いは、角膜頂点)に位置合わせされている。この場合、有効領域41の中心に対してピークP1,P2(つまり、波面の極大、極小)が偏心した、図8に示すような非対称な波面が検出される場合がある。非対称な波面の歪みは、第2補正ユニット20,30では補正できない。このような歪みは、波面補償デバイス72が駆動することによって補償される。   Here, FIG. 8 shows the state of the wavefront of the fundus reflection light at the stage where the first alignment is completed. FIG. 8 is an aberration correction graphic 65 showing the state of the wavefront in the effective area 41 when the wavefront compensation unit is not driven. At the stage where the first alignment is completed, the center position of the effective region 41 in the wavefront compensation device 72 is aligned with the center of the pupil (or the apex of the cornea). In this case, an asymmetric wavefront as shown in FIG. 8 in which the peaks P1 and P2 (that is, the maximum and minimum of the wavefront) are decentered with respect to the center of the effective region 41 may be detected. The asymmetric wavefront distortion cannot be corrected by the second correction units 20 and 30. Such distortion is compensated by driving the wavefront compensation device 72.

これに対し、本実施形態の撮影装置1では、第2のアライメントが、制御部800によって誘導される(S4)。第2のアライメントでは、被検眼Eと、波面補償デバイス72の有効領域41との相対的な位置関係が、少なくともX,Yの各方向に関して(つまり、眼底撮像光学系100の光軸と交差する方向に関して)微調整される。第2のアライメントは、波面補償デバイス72に対して入射する入射光(主に、測定光、および撮影光の眼底反射光)の波面の歪みが少ない位置に、波面補償デバイス72(より詳細には、その有効領域41)を配置するために行われる。この場合、制御部800が、被検眼Eと有効領域41との位置関係を自動的に調整することで、アライメントを誘導してもよい。また、検者が手動で位置関係を調整するための案内を、モニタ850等で行うことで、アライメントを誘導してもよい。以下では、具体例として、被検眼Eと有効領域41との位置関係を、制御部800が自動的に調整する場合について説明する。   On the other hand, in the imaging device 1 of the present embodiment, the second alignment is guided by the control unit 800 (S4). In the second alignment, the relative positional relationship between the eye E to be examined and the effective region 41 of the wavefront compensation device 72 intersects at least the X and Y directions (that is, the optical axis of the fundus imaging optical system 100). Tweaked (with respect to direction). In the second alignment, the wavefront compensation device 72 (more specifically, in a position where the distortion of the wavefront of incident light (mainly measurement light and fundus reflection light of photographing light) incident on the wavefront compensation device 72 is small. This is done to arrange the effective area 41). In this case, the control unit 800 may guide alignment by automatically adjusting the positional relationship between the eye E and the effective area 41. Further, the alignment may be guided by performing guidance for manually adjusting the positional relationship on the monitor 850 or the like. Below, the case where the control part 800 adjusts the positional relationship of the to-be-tested eye E and the effective area | region 41 automatically as a specific example is demonstrated.

ここで、図9のフローチャートを参照して、第2のアライメントを誘導する動作を、詳細に説明する。まず、制御部800は、コマ収差についての収差量の演算結果を、メモリから読み出す。ここでは、直近の演算結果が読み出されてもよい。また、読み出したコマ収差の収差量が、閾値以下であるか否かを判定する(S22)。この場合、閾値は、例えば、0であっても良い。勿論、0よりも大きな値であってもよい。この場合、閾値は、必要とされる第1眼底画像の画質、又は、波面補償デバイス72の性能、或いはその両方の観点から、許容される範囲で設定され得る。コマ収差の収差量が閾値以下であると判定される場合は(S22:Yes)、第2のアライメントを終了して、S5のステップに進む。一方、コマ収差の収差量が閾値より大きいと判定される場合は(S22:No)、S23のステップに進む。   Here, the operation for guiding the second alignment will be described in detail with reference to the flowchart of FIG. First, the control unit 800 reads out the calculation result of the aberration amount for the coma aberration from the memory. Here, the latest calculation result may be read. Further, it is determined whether or not the read coma aberration amount is equal to or less than a threshold value (S22). In this case, the threshold value may be 0, for example. Of course, the value may be larger than 0. In this case, the threshold value can be set in an allowable range from the viewpoint of the required image quality of the first fundus image, the performance of the wavefront compensation device 72, or both. When it is determined that the amount of coma aberration is equal to or less than the threshold (S22: Yes), the second alignment is terminated and the process proceeds to step S5. On the other hand, when it is determined that the amount of coma aberration is greater than the threshold (S22: No), the process proceeds to step S23.

S23〜S26のステップでは、制御部800が、コマ収差の収差量に基づいて被検眼Eと波面補償デバイス72の有効領域41との位置関係を調整する。コマ収差は、有効領域41の中心に対し、極大と極小のピークが対称(軸対称)に現れる。このため、コマ収差は、図8に示すような波面におけるピークP1,P2の偏心に対する影響が大きいと考えられる。本実施形態では、有効領域41への入射光におけるコマ収差が軽減されるように、制御部800は、第2のアライメントを誘導する。つまり、制御部800は、有効領域41を満たすハルトマン像61から得られるコマ収差の収差量がより少なくなるように、被検眼Eと有効領域41との相対的な位置関係を調整する。   In steps S23 to S26, the control unit 800 adjusts the positional relationship between the eye E and the effective area 41 of the wavefront compensation device 72 based on the amount of coma aberration. In the coma aberration, the maximum and minimum peaks appear symmetrically (axially symmetric) with respect to the center of the effective region 41. For this reason, it is considered that the coma aberration has a great influence on the eccentricity of the peaks P1 and P2 in the wavefront as shown in FIG. In the present embodiment, the control unit 800 guides the second alignment so that the coma aberration in the light incident on the effective region 41 is reduced. That is, the control unit 800 adjusts the relative positional relationship between the eye E and the effective area 41 so that the amount of coma aberration obtained from the Hartmann image 61 that fills the effective area 41 becomes smaller.

被検眼Eと有効領域41との相対的な位置関係は、例えば、以下の方法で調整できる。
(1)被検眼Eと波面補償デバイス71とを相対的に移動させる方法。
(2)波面補償デバイス71の補償可能領域40において、有効領域41が設定される範囲を変更する方法。
The relative positional relationship between the eye E and the effective area 41 can be adjusted by the following method, for example.
(1) A method of relatively moving the eye E and the wavefront compensation device 71.
(2) A method of changing the range in which the effective region 41 is set in the compensable region 40 of the wavefront compensation device 71.

さらに、(1)の具体例としては、例えば、被検眼Eと,波面補償デバイス71を含む補償光学系と,のうち少なくとも一方を移動させる方法、光スキャナー(本実施形態では、走査部25および撮影部400)の走査範囲を、X,Yの各方向に関して移動させる方法等が挙げられる。なお、ここでいう補償光学系は、眼底反射光の収差を補償する光学系であり、図1においては、撮影光学系100における波面補償デバイス72から凹面ミラー41までの部材を含む。補償光学系と被検眼Eとの位置関係を変化させる場合は、被検眼Eと収差検出光学系110との位置関係が連動して変化することが好ましい。つまり、位置関係が変化する際に、収差検出光学系の検出光軸と、補償光学系の光軸とが同軸に維持されるとよい。   Further, as a specific example of (1), for example, a method of moving at least one of the eye E and the compensation optical system including the wavefront compensation device 71, an optical scanner (in this embodiment, the scanning unit 25 and For example, there is a method of moving the scanning range of the photographing unit 400) in the X and Y directions. The compensation optical system here is an optical system that compensates for the aberration of fundus reflection light. In FIG. 1, the compensation optical system includes members from the wavefront compensation device 72 to the concave mirror 41 in the photographing optical system 100. When the positional relationship between the compensation optical system and the eye E is changed, it is preferable that the positional relationship between the eye E and the aberration detection optical system 110 change in conjunction. That is, when the positional relationship changes, the detection optical axis of the aberration detection optical system and the optical axis of the compensation optical system are preferably maintained coaxially.

以下、本実施形態では、顎台610を移動させることで、被検眼Eの位置を、補償光学系に対して移動させ、その結果として、被検眼Eと有効領域41との相対的な位置関係を調整するものとして説明する。なお、本実施形態では、制御部800が電動移動機構610aを駆動制御することによって、被検眼Eと有効領域41との位置関係を、装置が自動的に調整するものとする。   Hereinafter, in the present embodiment, the position of the eye E is moved with respect to the compensation optical system by moving the chin rest 610, and as a result, the relative positional relationship between the eye E and the effective area 41. Will be described as adjusting. In the present embodiment, it is assumed that the apparatus automatically adjusts the positional relationship between the eye E to be examined and the effective region 41 by the control unit 800 driving and controlling the electric movement mechanism 610a.

S23のステップでは、アライメントの目標位置までの変位量および変位の方向に関する変位情報を、演算の結果として取得する。本実施形態における目標位置は、被検眼Eを基準とする有効領域41の目標位置である。本実施形態では、第2のアライメントにおける目標位置への移動方向と、目標位置までの移動量とを、コマ収差の収差量に基づいて求める。そして、変位情報として、目標位置へのベクトルを得る。   In step S23, displacement information about the amount of displacement and the direction of displacement up to the alignment target position is acquired as a result of the calculation. The target position in the present embodiment is the target position of the effective area 41 with the eye E to be examined as a reference. In the present embodiment, the movement direction to the target position and the movement amount to the target position in the second alignment are obtained based on the amount of coma aberration. Then, a vector to the target position is obtained as the displacement information.

ここで、目標位置への移動方向は、有効領域41への入射光におけるコマ収差が抑制される方向に定められる。コマ収差(その収差量)が抑制される方向は、図8に示した波面のピークP1,P2を結ぶ線に沿う方向である。この場合、移動方向は、P1からP2に向かう方向でもよいし、P2からP1に向かう方向でもよい。いずれの方向にも、収差量の極小点(例えば、計算上、コマ収差が極小となる位置)が存在するためである。このように、例えば、コマ収差を示すZernike係数から、移動方向を定めることが可能である。   Here, the moving direction to the target position is determined in a direction in which the coma aberration in the incident light to the effective region 41 is suppressed. The direction in which the coma aberration (the amount of aberration) is suppressed is the direction along the line connecting the wavefront peaks P1 and P2 shown in FIG. In this case, the moving direction may be a direction from P1 to P2, or a direction from P2 to P1. This is because a minimum point of the aberration amount (for example, a position where the coma aberration is minimized in the calculation) exists in any direction. Thus, for example, the moving direction can be determined from the Zernike coefficient indicating coma aberration.

この場合において、制御部800は、有効領域41の中心(つまり、収差補正グラフィック65aの中心O)に対し、より近い波面のピークに向かう方向を移動方向として設定することが好ましい。例えば、図8では、「OP1間の距離m>OP2間の距離n」であるため、P1からP2に向かう方向が移動方向として設定される。ピークが近いほど、収差量が極小となる位置までの移動量は少なくなる。ここで、前述したように、被検眼Eに対する有効領域41の変位に伴って、有効領域41とハルトマン像62との位置関係が変化する。収差量の極小点までの移動量がより少なくなる移動方向が選択された場合、移動後においても、有効領域41がハルトマン像62によって満たされ易くなる。結果、移動後の波面補償が確実に行われやすい。   In this case, the control unit 800 preferably sets the direction toward the peak of the wavefront closer to the center of the effective area 41 (that is, the center O of the aberration correction graphic 65a) as the moving direction. For example, in FIG. 8, since “distance m between OP1> distance n between OP2”, the direction from P1 to P2 is set as the movement direction. The closer the peak is, the smaller the amount of movement to a position where the amount of aberration is minimized. Here, as described above, with the displacement of the effective area 41 with respect to the eye E, the positional relationship between the effective area 41 and the Hartmann image 62 changes. When a movement direction in which the movement amount to the minimum point of the aberration amount is smaller is selected, the effective region 41 is easily filled with the Hartmann image 62 even after the movement. As a result, wavefront compensation after movement is easily performed reliably.

目標位置までの移動量は、例えば、コマ収差の収差量と球面収差の収差量とに基づいて求めることができる。ここで、球面収差は、有効領域41の中心に対し、回転対称に表れる収差であり、波面を歪ませる影響が比較的大きい。よって、本実施形態では、有効領域41を、入射光における波面の歪みがより少ない領域に配置するために、コマ収差だけでなく、球面収差についても考慮して(球面収差とコマ収差とを重ねあわせた収差を考慮して)、第2のアライメントにおける目標位置を設定する。   The amount of movement to the target position can be obtained based on, for example, the coma aberration amount and the spherical aberration amount. Here, the spherical aberration is an aberration that appears rotationally symmetric with respect to the center of the effective region 41, and has a relatively large effect of distorting the wavefront. Therefore, in this embodiment, in order to arrange the effective region 41 in a region where the wavefront distortion in incident light is smaller, not only coma aberration but also spherical aberration is taken into consideration (superposition of spherical aberration and coma aberration). In consideration of the combined aberration), a target position in the second alignment is set.

ここで、移動量の厳密解は、コマ収差の収差量と球面収差の収差量との比を変数とする3次方程式で表される。これを解いて移動量を得ても良いが、複雑になる。そこで、本実施形態では、以下のように近似式を用いて移動量を得る。   Here, the exact solution of the movement amount is represented by a cubic equation having a variable between the coma aberration amount and the spherical aberration amount. It may be solved to obtain the amount of movement, but it becomes complicated. Therefore, in the present embodiment, the movement amount is obtained using an approximate expression as follows.

コマ収差の収差量(但し、絶対値)をc、球面収差の収差量(但し、絶対値)をsとし、x=c/(c+s)と置いた場合、瞳半径1(例えば、有効領域41の半径を1)として規格化された移動量(変位)は、次の式(1)で近似できる。   When coma aberration aberration amount (however, absolute value) is c, spherical aberration aberration amount (however, absolute value) is s, and x = c / (c + s), pupil radius 1 (for example, effective) The movement amount (displacement) normalized with the radius of the region 41 as 1) can be approximated by the following equation (1).

d=0.454x−0.838x−0.0837x ・・・(1)
また、次の式(2)で直線近似してもよい。
d = 0.454x 3 -0.838x 2 -0.0837x (1)
Further, linear approximation may be performed by the following equation (2).

d=0.44x ・・・(2)
このように、コマ収差の収差量と、球面収差の収差量とが得られた場合には、式(1)、(2)のいずれかを用いて、制御部800は、目標位置までの移動量を求めることができる。
d = 0.44x (2)
As described above, when the coma aberration amount and the spherical aberration aberration amount are obtained, the control unit 800 moves to the target position using either of the equations (1) and (2). The amount can be determined.

以上のようにして求めた移動方向と、移動量とから、有効領域41を現在位置から目標位置まで移動させるためのベクトルが得られる。   A vector for moving the effective area 41 from the current position to the target position is obtained from the movement direction and the movement amount obtained as described above.

次に、制御部800は、上記のようにして求めた目標位置における有効領域41とハルトマン像61との位置関係をシミュレーションする(S24)。例えば、現在の有効領域41の位置情報を、上記のベクトルの分だけ変化させることによって、目標位置に配置された場合における有効領域41の位置を予測(シミュレーション)できる。これにより、目標位置における有効領域41の位置情報が得られる。この位置情報と、ハルトマン像61の位置情報とから、有効領域41とハルトマン像61との位置関係が予測される。なお、それぞれの位置情報は、例えば、領域の中心の位置情報であってもよいし、輪郭の位置情報であってもよい。   Next, the control unit 800 simulates the positional relationship between the effective area 41 and the Hartmann image 61 at the target position obtained as described above (S24). For example, by changing the position information of the current effective area 41 by the amount of the above-described vector, the position of the effective area 41 when placed at the target position can be predicted (simulated). Thereby, the position information of the effective area 41 at the target position is obtained. From this positional information and positional information of the Hartmann image 61, the positional relationship between the effective area 41 and the Hartmann image 61 is predicted. Each piece of position information may be, for example, position information at the center of the region or position information of the contour.

次に、制御部800は、有効領域41が目標位置に設定される場合において、適正な波面補償制御が可能であるか否かを、シミュレーションの結果に基づいて判定する(S25)。つまり、有効領域41が目標位置に配置される場合において、有効領域41がハルトマン像61によって満たされるか否かが、シミュレーションの結果に基づいて判定される。例えば、目標位置における有効領域41の中心とハルトマン像61の中心(つまり、ハルトマン像61の外周における中心)との中心間距離に基づいて、上記判定を行うことができる。例えば、有効領域41の中心とハルトマン像61との中心間距離が、有効領域41とハルトマン像61との半径の差分に対して大きな値であれば、有効領域41はハルトマン像61によって満たされていない。一方、中心間距離が、有効領域41とハルトマン像61との半径の差分に対して小さな値であれば、有効領域41はハルトマン像61によって満たされている。また、判定の手法はこれに限られるものではなく、目標位置における有効領域41とハルトマン像61との輪郭(外周)同士の位置関係を用いて判定を行ってもよいし、その他の情報に基づいて判定を行ってもよい。   Next, the control unit 800 determines whether or not appropriate wavefront compensation control is possible based on the simulation result when the effective region 41 is set to the target position (S25). That is, when the effective area 41 is arranged at the target position, whether or not the effective area 41 is filled with the Hartmann image 61 is determined based on the result of the simulation. For example, the above determination can be made based on the center-to-center distance between the center of the effective area 41 at the target position and the center of the Hartmann image 61 (that is, the center on the outer periphery of the Hartmann image 61). For example, if the distance between the centers of the effective area 41 and the Hartmann image 61 is a large value with respect to the difference in radius between the effective area 41 and the Hartmann image 61, the effective area 41 is filled with the Hartmann image 61. Absent. On the other hand, if the center-to-center distance is a small value with respect to the difference in radius between the effective area 41 and the Hartmann image 61, the effective area 41 is filled with the Hartmann image 61. The determination method is not limited to this, and the determination may be performed using the positional relationship between the contours (outer circumferences) of the effective region 41 and the Hartmann image 61 at the target position, or based on other information. Determination may be performed.

S25のステップでは、シミュレーションの結果として、目標位置における有効領域41がハルトマン像61によって満たされる場合は、制御部800は、目標位置において適正な波面補償制御が可能であると判定する(S25:Yes)。この場合、S26のステップに進む。一方、目標位置における有効領域41がハルトマン像61によって満たされない場合には、制御部800は、目標位置において、適正な波面補償ができないと判定する(S25:No)。この場合、有効領域41が目標位置に設定されてしまうと、かえって良好な画像が得られ難くなってしまう。そこで、本実施形態では、S23のステップで設定された目標位置に対するアライメントの誘導を実行せずに、第2のアライメントを終了して、S5のステップに進む(S5のステップの内容については後述する)。   In step S25, if the effective region 41 at the target position is filled with the Hartmann image 61 as a result of the simulation, the control unit 800 determines that appropriate wavefront compensation control is possible at the target position (S25: Yes). ). In this case, the process proceeds to step S26. On the other hand, when the effective area 41 at the target position is not filled with the Hartmann image 61, the control unit 800 determines that proper wavefront compensation cannot be performed at the target position (S25: No). In this case, if the effective area 41 is set as the target position, it is difficult to obtain a good image. Therefore, in this embodiment, the second alignment is terminated without executing alignment guidance for the target position set in step S23, and the process proceeds to step S5 (the contents of step S5 will be described later). ).

S26のステップにおいて、制御部800は、電動移動機構610aを駆動制御することによって、有効領域41を目標位置まで変位させる。制御部800は、S23のステップで求められた移動量および移動方向を、電動移動機構610aに対して指令する。その結果、本実施形態では、顎台610が移動されることで、被検眼Eと有効領域41との相対的な位置関係が調整される。結果として、本実施形態では、有効領域41への入射光におけるコマ収差、および球面収差が軽減される位置に、有効領域41が配置される。   In step S26, the control unit 800 displaces the effective area 41 to the target position by driving and controlling the electric movement mechanism 610a. The control unit 800 commands the electric movement mechanism 610a with the movement amount and movement direction obtained in step S23. As a result, in this embodiment, the relative positional relationship between the eye E to be examined and the effective area 41 is adjusted by moving the chin rest 610. As a result, in the present embodiment, the effective region 41 is arranged at a position where coma aberration and spherical aberration in incident light to the effective region 41 are reduced.

本実施形態では、S26のステップの後、S22に戻って、被検眼Eと有効領域41との位置関係を、繰り返し微調整する。その結果として、有効領域41がハルトマン像で満たされる限度において(つまり、ハルトマン像61の中に有効領域41が配置される限度において)、コマ収差が閾値以下となる位置、或いは、コマ収差が可能な限り抑制される位置に、被検眼Eに対する有効領域41の位置が誘導される。   In the present embodiment, after step S26, the process returns to S22, and the positional relationship between the eye E and the effective area 41 is repeatedly finely adjusted. As a result, at the limit where the effective area 41 is filled with the Hartmann image (that is, at the limit where the effective area 41 is arranged in the Hartmann image 61), a position where the coma aberration is equal to or less than the threshold value, or coma is possible. The position of the effective area 41 with respect to the eye E is guided to a position that is suppressed as much as possible.

ここで、図10に、第2のアライメントを終えた段階における眼底反射光の波面の状態を示す。なお、図10は、波面補償ユニットを駆動させない状態での有効領域41における波面の状態を示す収差補正グラフィック65である。このように、第2のアライメントによって被検眼Eと有効領域41との位置関係が微調整された場合には、第1のアライメントが行われた段階での収差補正グラフィック65に対し、非対称に生じる波面の歪みが有効領域41において軽減されることがわかる。即ち、第2のアライメントが行われた結果として、波面補償デバイス72によって補償すべき波面の歪みが軽減される。その結果、波面補償デバイス72の性能の範囲で、良好に波面補償が行われやすくなる。つまり、例えば、補償できる波面の歪みが比較的小さなデバイスを用いて良好な波面補償が可能となる。   Here, FIG. 10 shows the state of the wavefront of the fundus reflection light at the stage where the second alignment is completed. FIG. 10 is an aberration correction graphic 65 showing the state of the wavefront in the effective area 41 when the wavefront compensation unit is not driven. As described above, when the positional relationship between the eye E and the effective area 41 is finely adjusted by the second alignment, the aberration correction graphic 65 at the stage where the first alignment is performed is asymmetrical. It can be seen that wavefront distortion is reduced in the effective region 41. That is, as a result of the second alignment, the wavefront distortion to be compensated by the wavefront compensation device 72 is reduced. As a result, the wavefront compensation is easily performed well within the performance range of the wavefront compensation device 72. That is, for example, satisfactory wavefront compensation can be performed by using a device having a relatively small wavefront distortion that can be compensated.

ここで、波面補償デバイス72に光が入射した際に、回折光が発生する場合がある。例えば、波面補償デバイス72として、LCOS等の液晶を利用した装置の場合、画素を構成する液晶分子の端部にて、入射光が回折する。入射光の一部は、回折によって補償に有効利用されないロスとなってしまう。また、回折光が波面検出用の検出器(本実施形態では、波面センサ73)へ照射すると、波面検出に影響を及ぼしてしまう。波面補償デバイス72では、歪みの大きな波面を補償する場合ほど、回折光が生じやすくなる。つまり、波面補償デバイス72によって補償される波面の歪みが大きい場合ほど、波面補償を良好に行うことが難しくなり、第1眼底画像の画質が悪くなり易い。これに対し、第2のアライメントが行われることによって、波面補償デバイス72には、比較的波面の歪みの小さな光が入射する。このため、波面補償デバイス72において、入射光から回折光が生じにくくなる。その結果、良好な画質の第1眼底画像が得られやすくなる。   Here, when light enters the wavefront compensation device 72, diffracted light may be generated. For example, in the case of a device using liquid crystal such as LCOS as the wavefront compensation device 72, the incident light is diffracted at the end of the liquid crystal molecules constituting the pixel. Part of the incident light becomes a loss that is not effectively used for compensation due to diffraction. In addition, when the diffracted light is applied to the wavefront detection detector (in this embodiment, the wavefront sensor 73), the wavefront detection is affected. In the wavefront compensation device 72, the more distorted wavefront is compensated, the more diffracted light is generated. That is, as the wavefront distortion compensated by the wavefront compensation device 72 increases, it becomes difficult to perform wavefront compensation well, and the image quality of the first fundus image tends to deteriorate. In contrast, by performing the second alignment, light having a relatively small wavefront distortion is incident on the wavefront compensation device 72. For this reason, in the wavefront compensation device 72, diffracted light is hardly generated from incident light. As a result, it is easy to obtain a first fundus image with good image quality.

また、本実施形態において、波面補償デバイス72は、第2補正ユニット(視度補正部20,および乱視補正部30)によって低次の収差が補正された状態で駆動される。つまり、有効領域41に対する入射光の波面は、予めその低次の収差による歪みが軽減されているので、波面補償デバイス72による波面補償をより良好に行うことができる。   In the present embodiment, the wavefront compensation device 72 is driven in a state where low-order aberrations are corrected by the second correction unit (the diopter correction unit 20 and the astigmatism correction unit 30). That is, the wavefront of the incident light with respect to the effective region 41 is reduced in advance by distortion due to low-order aberrations, so that the wavefront compensation by the wavefront compensation device 72 can be performed better.

本実施形態では、第2のアライメント完了後、第1眼底画像および第2眼底画像の取得、および表示を開始する(S5)。その後、例えば、毎秒数フレームから、数十フレームずつ、第1および第2眼底画像がそれぞれ取り込まれ、それぞれ随時モニタ85に表示されるようになる。   In the present embodiment, after the second alignment is completed, acquisition and display of the first fundus image and the second fundus image is started (S5). Thereafter, for example, the first and second fundus images are captured from several frames every second to several tens of frames, and are displayed on the monitor 85 as needed.

また、第2のアライメント完了後、トラッキングが開始される(S6)。例えば、トラッキングは、眼の動きによる第1眼底画像の撮影位置の変化を、補正するものであってもよい。また、トラッキングは、眼の動きによる被検眼Eと有効領域41との位置関係の変化を、補正するものであってもよい。勿論、これらの両方が併用されてもよい。なお、本実施形態では、被検眼Eと有効領域41との位置関係の変化を補正するトラッキングが行われる場合、制御部800は、第2のアライメントによって設定された被検眼Eと有効領域Eとの位置関係(換言すれば、ハルトマン像61と有効領域41との位置関係)が維持されることが好ましい。この場合、制御部800は、第2のアライメントが完了した際における被検眼Eと有効領域41との位置関係を示す基準情報を取得する。そして、トラッキング開始後、制御部800は、被検眼Eと有効領域41との位置関係を示す変動情報を、随時取得する。そして、変動情報と基準情報との差分に応じて被検眼Eと有効領域41との位置関係を調整することによって、被検眼Eと有効領域41との位置関係を、基準情報によって示される位置関係に補正する。ここで、基準情報および変動情報は、例えば、ハルトマン像61の位置情報と有効領域41の位置情報とに基づく情報であってもよい(具体例としては、ハルトマン像61と有効領域41との中心同士の位置関係を示す情報等でもよい)。また、前眼部観察ユニット700の撮像素子から逐次出力される情報(例えば、前眼部画像そのもの、およびその前眼部画像における瞳孔の位置情報のいずれか等)であってもよい。このような被検眼Eと有効領域41との位置関係を維持するトラッキングが行われることによって、眼が動いてしまっても、良好に波面補償が行われた第1眼底画像が得られやすくなる。なお、トラッキングにおいて被検眼Eと有効領域41との位置関係を調整するためには、被検眼Eと波面補償デバイス71との位置関係を(主には、X,Y方向に関して)相対的に移動させてもよいし、波面補償デバイス71における有効領域41の位置を変位させてもよい。   Further, tracking is started after the completion of the second alignment (S6). For example, the tracking may correct a change in the photographing position of the first fundus image due to eye movement. The tracking may be for correcting a change in the positional relationship between the eye E to be examined and the effective area 41 due to eye movement. Of course, both of these may be used in combination. In the present embodiment, when tracking for correcting a change in the positional relationship between the eye E and the effective area 41 is performed, the control unit 800 sets the eye E and the effective area E set by the second alignment. (In other words, the positional relationship between the Hartmann image 61 and the effective region 41) is preferably maintained. In this case, the control unit 800 acquires reference information indicating the positional relationship between the eye E and the effective area 41 when the second alignment is completed. Then, after starting tracking, the control unit 800 acquires, as needed, fluctuation information indicating the positional relationship between the eye E to be examined and the effective area 41. Then, by adjusting the positional relationship between the eye E and the effective area 41 according to the difference between the variation information and the reference information, the positional relationship between the eye E and the effective area 41 is represented by the positional relationship indicated by the reference information. To correct. Here, the reference information and the variation information may be, for example, information based on the position information of the Hartmann image 61 and the position information of the effective area 41 (as a specific example, the center of the Hartmann image 61 and the effective area 41). It may be information indicating a positional relationship between each other). Further, the information may be information sequentially output from the imaging element of the anterior ocular segment observation unit 700 (for example, either the anterior ocular segment image itself or the position information of the pupil in the anterior ocular segment image). By performing tracking that maintains the positional relationship between the eye E to be examined and the effective region 41, it is easy to obtain a first fundus image that has been favorably wavefront compensated even if the eye moves. In order to adjust the positional relationship between the eye E and the effective area 41 in tracking, the positional relationship between the eye E and the wavefront compensation device 71 is relatively moved (mainly in the X and Y directions). Alternatively, the position of the effective region 41 in the wavefront compensation device 71 may be displaced.

その後、第1眼底画像撮影処理が実行される(S7)。S7では、制御部800は、撮影トリガ信号の入力さに基づいて、画像撮影を実行する。例えば、制御部800は、トリガ信号の入力タイミングにて取得された眼底の細胞像動画像又は静止画像を、記憶部801に記憶する。上記のように、本実施形態では、第2のアライメントが行われたことで、眼底反射光の波面が適正に補償される。このため、S5およびS7のステップにおいて、制御部800は、画質の良好な第1眼底画像を得ることができる。   Thereafter, the first fundus image photographing process is executed (S7). In S7, the control unit 800 performs image shooting based on the input of the shooting trigger signal. For example, the control unit 800 stores a fundus cell image moving image or a still image acquired at the trigger signal input timing in the storage unit 801. As described above, in the present embodiment, the wavefront of the fundus reflection light is appropriately compensated by performing the second alignment. Therefore, in steps S5 and S7, the control unit 800 can obtain a first fundus image with good image quality.

以上、実施形態に基づいて説明したが、本開示は、上記実施形態に限定されるものではなく、様々に変形可能である。   As mentioned above, although demonstrated based on embodiment, this indication is not limited to the said embodiment, A various deformation | transformation is possible.

例えば、上記実施形態において、波面補償デバイス72は液晶変調素子とし、特に、反射型のLCOS等を用いるものとしているが、これに限るものではない。他の反射型の波面補償デバイスであってもよい。例えば、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)の1形態であるデフォーマブルミラーが使用されてもよい。デフォーマブルミラーは、デバイスの入射面において多数のマイクロミラーが二次元的に配置される。各マイクロミラーが光軸方向に変位することで、波面全体の光路長差を調整して波面を補償する。デフォーマブルミラーにおいても、隣り合うミラーとの隙間で生じる回折が、補償のロスとなる。光軸方向におけるミラー同士の隙間が大きくなるほど、回折によるロスが大きくなる。つまり、例えば、デフォーマブルミラーにおいても、歪みの少ない波面を補償した場合のほうが、良好な画質の画像が得られやすい。従って、上記実施形態を、デフォーマブルミラーに置き換えた場合においても、上記実施形態と同様の効果を享受することができる。また、反射型の波面補償デバイスではなく、透過型の波面補償デバイスが使用されてもよい。透過型のデバイスでは、眼底からの反射光を透過させて波面収差が補償される。   For example, in the above-described embodiment, the wavefront compensation device 72 is a liquid crystal modulation element, and in particular, a reflective LCOS or the like is used. However, the present invention is not limited to this. Other reflective wavefront compensation devices may be used. For example, a deformable mirror that is a form of MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) may be used. In the deformable mirror, a large number of micromirrors are two-dimensionally arranged on the incident surface of the device. Each micromirror is displaced in the optical axis direction, thereby adjusting the optical path length difference of the entire wavefront to compensate the wavefront. Even in a deformable mirror, diffraction that occurs in a gap between adjacent mirrors causes a loss of compensation. As the gap between the mirrors in the optical axis direction increases, the loss due to diffraction increases. That is, for example, even in a deformable mirror, an image with good image quality is more easily obtained when a wavefront with less distortion is compensated. Therefore, even when the above embodiment is replaced with a deformable mirror, the same effect as the above embodiment can be obtained. Further, a transmissive wavefront compensation device may be used instead of the reflective wavefront compensation device. In the transmission type device, the wavefront aberration is compensated by transmitting the reflected light from the fundus.

また、上記実施形態では、撮影装置1の光学系に設けられた波面センサ73を用いて被検眼Eの波面収差を測定する場合について説明した。しかし、撮影装置1は、被検眼Eの波面収差を眼底からの反射光に基づいて測定する構成を備えていればよく、必ずしも波面センサ73が設けられていなくてもよい。例えば、PhaseDiversity法を用いて、波面収差を測定する場合が考えられる。この方法は、対象の光学系(ここでは、被検眼E)に、PhaseDiversityと呼ばれる既知の波面収差を持つ測定光をわざと与え、その際に得られる画像に対し、所定の画像処理を行うことによって、対象の光学系における波面収差を推定するものである。この場合、例えば、眼底撮像光学系100に設けられた受光素子56を、波面収差検出用の検出器として利用できる。つまり、この場合、眼底撮像光学系100は、収差検出光学系110と共用できる。勿論、検出器は、受光素子56とは別体に設けられていてもよい。なお、PhaseDiversityを持つ測定光は、例えば、波面補償デバイス73を所定の状態に制御することによって、生成できる。勿論、他の手法で生成されてもよい。   In the above embodiment, the case where the wavefront aberration of the eye E is measured using the wavefront sensor 73 provided in the optical system of the imaging apparatus 1 has been described. However, the imaging apparatus 1 only needs to have a configuration for measuring the wavefront aberration of the eye E based on the reflected light from the fundus, and the wavefront sensor 73 is not necessarily provided. For example, a case where the wavefront aberration is measured using the Phase Diversity method is conceivable. In this method, measurement light having a known wavefront aberration called Phase Diversity is intentionally given to a target optical system (here, eye E), and predetermined image processing is performed on an image obtained at that time. The wavefront aberration in the target optical system is estimated. In this case, for example, the light receiving element 56 provided in the fundus imaging optical system 100 can be used as a detector for wavefront aberration detection. That is, in this case, the fundus imaging optical system 100 can be shared with the aberration detection optical system 110. Of course, the detector may be provided separately from the light receiving element 56. Note that measurement light having Phase Diversity can be generated by controlling the wavefront compensation device 73 to a predetermined state, for example. Of course, it may be generated by other methods.

また、上記実施形態では、第2のアライメントにおいて、電動移動機構610a駆動制御して顎台610を移動させることによって、被検眼Eと有効領域41との相対的な位置関係を調整する場合について説明した。しかし、この場合において、顎台610の移動ではなく、撮影部500の移動によって実現されてもよい。この場合、撮影装置1は、撮影部500を基台に対して移動させる電動移動機構を備える。また、撮影部500の筐体内部の補償光学系が、X,Y方向に関して移動されることによって、第2のアライメントが行われてもよい。   Further, in the above-described embodiment, in the second alignment, the case where the relative positional relationship between the eye E and the effective area 41 is adjusted by driving and controlling the electric movement mechanism 610a to move the chin rest 610 will be described. did. However, in this case, the movement may be realized not by moving the chin rest 610 but by moving the photographing unit 500. In this case, the photographing apparatus 1 includes an electric movement mechanism that moves the photographing unit 500 with respect to the base. Further, the second alignment may be performed by moving the adaptive optics system inside the housing of the photographing unit 500 in the X and Y directions.

なお、上記実施形態では、第2のアライメントにおいて、波面センサ73からの検出信号に対する演算の結果として得られる被検眼Eの収差のうち、コマ収差の収差量と、球面収差の収差量とに基づいて、被検眼Eと有効領域41との位置関係を調整した。しかし、第2のアライメントは、有効領域41への入射光における波面の歪みがより少ない位置に、有効領域41を配置するためのものであればよく、必ずしもコマ収差の収差量と、球面収差の収差量とを考慮して位置調整が行われる必要はない。コマ収差、および、球面収差、のいずれとも異なる種類の収差の量に基づいて、被検眼Eと有効領域41との位置関係が調整されてもよい。この場合、例えば、コマ収差のような有効領域の経線に対して対称に表れる収差の収差量に基づいて、被検眼Eと有効領域41との位置関係が調整されてもよい。また、例えば、ゼルニケ展開において次数が奇数となる3次以上(例えば、3次、5次、7次・・・)の収差の収差量に基づいて、被検眼Eと有効領域41との位置関係が調整されてもよい。いずれの場合においても、制御部800は、波面収差の検出信号に基づく演算によって、所望の収差量を求め、その演算によって得られる収差量に基づいて第2のアライメントを誘導する。   In the above embodiment, in the second alignment, among the aberrations of the eye E to be obtained as a result of the calculation on the detection signal from the wavefront sensor 73, the coma aberration amount and the spherical aberration aberration amount are used. Thus, the positional relationship between the eye E and the effective area 41 was adjusted. However, the second alignment is not limited as long as the effective region 41 is disposed at a position where the wavefront distortion in the incident light to the effective region 41 is less. It is not necessary to adjust the position in consideration of the amount of aberration. The positional relationship between the eye E and the effective area 41 may be adjusted based on the amount of aberration that is different from both coma and spherical aberration. In this case, for example, the positional relationship between the eye E and the effective area 41 may be adjusted based on the aberration amount of aberration that appears symmetrically with respect to the meridian of the effective area such as coma. Further, for example, the positional relationship between the eye E and the effective region 41 based on the aberration amount of the third or higher order (for example, the third order, the fifth order, the seventh order, etc.) whose order is an odd number in the Zernike expansion. May be adjusted. In any case, the control unit 800 obtains a desired aberration amount by calculation based on the wavefront aberration detection signal, and induces the second alignment based on the aberration amount obtained by the calculation.

また、上記実施形態において、制御部800は、波面センサ73からの検出信号から得られる収差量を用いて、目標位置を求め、その目標位置にアライメントを誘導した。しかし、必ずしも目標位置を求める必要はない。例えば、制御部800は、被検眼Eと有効領域41との位置関係を切換えながら、各位置で収差量を求めることで、有効領域41に対する入射光の波面の歪みが抑制される位置を、トライ&エラーで探索してもよい。この場合、例えば、トライ&エラーの結果、求められた波面の歪みが最も抑制される位置へアライメントが誘導されてもよい。   In the above embodiment, the control unit 800 obtains the target position using the aberration amount obtained from the detection signal from the wavefront sensor 73 and induces alignment to the target position. However, it is not always necessary to obtain the target position. For example, the control unit 800 tries the position where the distortion of the wavefront of the incident light with respect to the effective region 41 is suppressed by obtaining the aberration amount at each position while switching the positional relationship between the eye E and the effective region 41. You may search by & error. In this case, for example, as a result of trial and error, alignment may be guided to a position where the obtained wavefront distortion is most suppressed.

また、上記実施形態では、第2のアライメント(つまり、被検眼Eと有効領域41との位置関係の微調整のステップ)において、制御部800は、有効領域41への入射光における収差量が抑制される(上記実施形態では、閾値以下となる)まで、繰り返し、被検眼Eと有効領域41との位置関係が調整される。このとき、上記実施形態では、被検眼Eの収差量に基づいて算出した移動量分だけ、被検眼Eと有効領域41とを相対的に変位させる制御が、制御部800によって行われた。しかし、必ずしもこれに限られるものではなく、S26の処理が行われる度に、一定の移動量分だけ、被検眼Eと有効領域41とを相対的に変位させる構成であってもよい。   Further, in the above embodiment, in the second alignment (that is, the fine adjustment step of the positional relationship between the eye E and the effective area 41), the control unit 800 suppresses the aberration amount in the incident light to the effective area 41. The positional relationship between the eye E to be examined and the effective area 41 is adjusted repeatedly until it is done (in the above embodiment, equal to or less than the threshold). At this time, in the above-described embodiment, the control unit 800 performs control to relatively displace the eye E and the effective area 41 by the movement amount calculated based on the aberration amount of the eye E. However, the present invention is not necessarily limited thereto, and a configuration in which the eye E and the effective area 41 are relatively displaced by a certain amount of movement each time the process of S26 is performed may be employed.

また、上記実施形態では、目標位置における有効領域41とハルトマン像61との位置関係をシミュレーションし、そのシミュレーション結果に応じて、被検眼Eと有効領域41との位置調整を行うか、行わないかを定めた場合について説明した。しかし、シミュレーション結果に応じて、アライメントの誘導内容を変更する制御としては、これに限定されるものではない。例えば、制御部800は、シミュレーションの結果として、目標位置において有効領域41がハルトマン像61によって満たされる場合には、目標位置までのアライメントの誘導を行い、目標位置において有効領域41がハルトマン像61によって満たされない場合には、有効領域41がハルトマン像61によって満たされる限度においてアライメントの誘導を行うようにしてもよい。この場合、例えば、S23で求めた移動方向に関して、有効領域41がハルトマン像61によって満たされる範囲で、有効領域41が移動可能な移動可能量(例えば、瞳半径1に対する移動可能量)を、制御部800は求める。そして、移動可能量分だけ、アライメントを誘導してから、S5のステップに進むように構成しても良い。   In the above embodiment, the positional relationship between the effective area 41 and the Hartmann image 61 at the target position is simulated, and whether or not the position of the eye E to be examined and the effective area 41 is adjusted according to the simulation result. We explained the case where However, the control for changing the alignment guidance content according to the simulation result is not limited to this. For example, when the effective area 41 is filled with the Hartmann image 61 at the target position as a result of the simulation, the control unit 800 guides alignment to the target position, and the effective area 41 is detected by the Hartmann image 61 at the target position. If not satisfied, the alignment may be guided to the extent that the effective area 41 is filled with the Hartmann image 61. In this case, for example, with respect to the movement direction obtained in S23, a movable amount (for example, a movable amount with respect to the pupil radius 1) in which the effective region 41 can move within a range where the effective region 41 is filled with the Hartmann image 61 is controlled. Part 800 seeks. Then, after the alignment is guided by the movable amount, the process may proceed to step S5.

また、シミュレーションの結果として、目標位置において有効領域41がハルトマン像61によって満たされない場合には、制御部800は、有効領域41を狭小化させるようにしてもよい。狭小化の結果、ハルトマン像61によって満たされる範囲で、有効領域41を変位させる余裕が生じるため、有効領域の更なる微調整をおこなうことができる。その結果として、第1眼底画像の画質が改善される可能性がある。   As a result of the simulation, when the effective area 41 is not filled with the Hartmann image 61 at the target position, the control unit 800 may narrow the effective area 41. As a result of the narrowing, there is a margin for displacing the effective area 41 within the range filled with the Hartmann image 61, so that the fine adjustment of the effective area can be performed. As a result, the image quality of the first fundus image may be improved.

また、上記実施形態では、制御部800は、電動移動機構610aの駆動制御によって、被検眼Eと有効領域41との位置関係を自動的に移動させることで、第2のアライメントを誘導する場合について説明した。しかし、必ずしもこれに限られるものではなく、第2のアライメントにおいて、被検眼Eと有効領域41との位置関係を手動で調整する構成が採用されてもよい。この場合、被検眼Eと有効領域41とを相対的に移動させる移動機構は、上記電動移動機構610aのような電動の機構である必要はなく、機械式の移動機構であってもよい。この移動機構は、例えば、被検眼Eと撮影部500との相対的な位置関係を調節する機構であってもよい。機械式の場合、被検眼Eと有効領域41とを相対的に移動させるための操作が入力される操作部として、例えば、移動機構と機械的にリンクしたジョイスティック、および調節ノブ等のいずれかを用いることができる。この場合において、制御部800は、波面センサからの検出信号に対する演算によって、被検眼Eの収差量を求めてもよい。そして、収差量の演算結果に基づいて、第2のアライメントのための操作のガイド情報をモニタ850に表示させてもよい。ガイド情報は、例えば、XY方向における顎台(或いは、撮影部でもよい)の移動方向を図示するための指標であってもよい。指標としては、有効領域41の移動方向(或いは、検者の操作方向でもよい)を示す矢印であってもよい。また、前眼部画像表示画面、又は、収差補正画面60等において目標位置を示す点、十字等のマーク等であってもよい。制御部800は、ガイド情報をモニタ850に表示させることで、検者の操作による第2のアライメントを誘導する。   In the above embodiment, the control unit 800 guides the second alignment by automatically moving the positional relationship between the eye E and the effective area 41 by driving control of the electric movement mechanism 610a. explained. However, the configuration is not necessarily limited thereto, and a configuration in which the positional relationship between the eye E and the effective area 41 is manually adjusted in the second alignment may be employed. In this case, the moving mechanism that relatively moves the eye E and the effective area 41 does not need to be an electric mechanism such as the electric moving mechanism 610a, and may be a mechanical moving mechanism. This moving mechanism may be a mechanism that adjusts the relative positional relationship between the eye E and the imaging unit 500, for example. In the case of the mechanical type, as an operation unit to which an operation for relatively moving the eye E and the effective area 41 is input, for example, a joystick mechanically linked to a moving mechanism, an adjustment knob, or the like is used. Can be used. In this case, the control unit 800 may obtain the aberration amount of the eye E by calculating the detection signal from the wavefront sensor. Then, based on the calculation result of the aberration amount, the operation guide information for the second alignment may be displayed on the monitor 850. The guide information may be, for example, an index for illustrating the moving direction of the jaw table (or the imaging unit) in the XY directions. The index may be an arrow indicating the moving direction of the effective area 41 (or the operation direction of the examiner). Further, it may be a point indicating a target position on the anterior eye part image display screen, the aberration correction screen 60 or the like, a mark such as a cross, or the like. The control unit 800 displays the guide information on the monitor 850 to guide the second alignment by the examiner's operation.

なお、以上の説明においては、眼底撮像光学系100として、被検眼眼底と略共役な位置に配置された共焦点開口を介して被検眼眼底で反射した光束を受光して被検眼眼底の共焦点正面画像を撮影する共焦点光学系(SLO光学系)を用いるものとしたが、これに限るものではない(例えば、特表2001−507258号公報参照)。   In the above description, the fundus imaging optical system 100 receives the light beam reflected from the fundus of the eye to be examined through the confocal aperture disposed at a position substantially conjugate to the fundus of the eye to be examined, and confocals the fundus of the eye to be examined. Although a confocal optical system (SLO optical system) that captures a front image is used, the present invention is not limited to this (see, for example, JP 2001-507258 A).

例えば、被検眼眼底で反射した光束を2次元撮像素子により受光して被検眼Eの眼底正面画像を撮影する眼底カメラ光学系であってもよい。また、被検眼眼底で反射した光束と参照光による干渉光を受光して被検眼Eの断層画像を撮影する光断層干渉光学系(OCT光学系)であってもよい。   For example, a fundus camera optical system that captures a fundus front image of the eye E by receiving a light beam reflected by the fundus of the eye to be examined by a two-dimensional image sensor. Alternatively, an optical tomographic interference optical system (OCT optical system) that captures a tomographic image of the eye E by receiving interference light generated by the light beam reflected from the fundus of the eye to be examined and the reference light may be used.

20 視度補正部
30 乱視補正部
41 有効領域
61 ハルトマン像
72 波面補償デバイス
73 波面センサ
100 眼底撮像光学系
110 波面収差検出光学系
400 偏向部
610a 電動移動機構
800 演算制御部
850 モニタ
E 被検眼
DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 Diopter correction part 30 Astigmatism correction part 41 Effective area 61 Hartmann image 72 Wavefront compensation device 73 Wavefront sensor 100 Fundus imaging optical system 110 Wavefront aberration detection optical system 400 Deflection part 610a Electric moving mechanism 800 Arithmetic control part 850 Monitor E Eye to be examined

Claims (3)

被検眼眼底からの反射光を受光して眼底像を撮像する眼底撮像光学系と、
前記眼底撮像光学系の光路中に配置されており、入射光の波面を制御して被検眼の波面収差を補償する波面補償デバイスと、
前記波面収差を検出するための収差検出光学系であって、被検眼に対して測定光を投光すると共に,被検眼眼底からの測定光の反射光を検出器で検出する収差検出光学系と、
被検眼と,前記波面補償デバイスにおいて波面補償が有効な領域である有効領域と,の相対的な位置関係を調整する調整手段と、
前記検出器からの検出信号に基づいて被検眼の収差量を演算し、更に、前記調整手段による前記被検眼と前記有効領域とのアライメントの誘導を、前記演算の結果得られる収差量に基づいて実行する演算制御手段と、を備える波面補償付眼底撮影装置。
A fundus imaging optical system that receives reflected light from the fundus of the subject's eye and captures a fundus image;
A wavefront compensation device that is disposed in the optical path of the fundus imaging optical system and that controls the wavefront of incident light by controlling the wavefront of incident light;
An aberration detection optical system for detecting the wavefront aberration, wherein the measurement light is projected onto the eye to be examined, and the reflected light of the measurement light from the fundus of the eye to be examined is detected by a detector; ,
Adjusting means for adjusting a relative positional relationship between an eye to be examined and an effective region in which wavefront compensation is effective in the wavefront compensation device;
Based on the detection signal from the detector, the amount of aberration of the eye to be examined is calculated, and further, the guidance of alignment between the eye to be examined and the effective area by the adjusting means is based on the amount of aberration obtained as a result of the calculation. A fundus imaging apparatus with wavefront compensation, comprising: an arithmetic control unit to execute.
前記演算制御手段は、ゼルニケ展開が適用される場合において次数が奇数となる3次以上の収差の収差量を前記演算によって求め、前記演算によって得られる収差量を少なくとも用いて前記アライメントの誘導を行う請求項1記載の波面補償付眼底撮影装置。   The calculation control means obtains an aberration amount of a third or higher order aberration having an odd order when the Zernike expansion is applied by the calculation, and induces the alignment using at least the aberration amount obtained by the calculation. The fundus imaging apparatus with wavefront compensation according to claim 1. 前記波面補償デバイスは、被検眼の前眼部共役面上において、前記収差検出光学系によって前記波面収差が測定される領域である波面測定領域のうち、前記波面補償デバイスにおいて波面補償が有効な領域である有効領域において波面を補償するものであり、
前記演算制御手段は、前記演算によって得られる収差量に基づいてアライメントの誘導が行われた結果における前記有効領域と前記波面測定領域との位置関係をシミュレーションし、そのシミュレーション結果に応じて前記アライメントの誘導内容を変更する請求項1又は2に記載の波面補償付眼底撮影装置。
The wavefront compensation device is an area where wavefront compensation is effective in the wavefront compensation device, out of wavefront measurement areas in which the wavefront aberration is measured by the aberration detection optical system on the anterior ocular conjugate plane of the eye to be examined. Which compensates for the wavefront in the effective region
The calculation control means simulates a positional relationship between the effective area and the wavefront measurement area in the result of alignment guidance based on the aberration amount obtained by the calculation, and according to the simulation result, the alignment control The fundus imaging apparatus with wavefront compensation according to claim 1 or 2, wherein the guidance content is changed.
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