JP6510113B2 - Composition for optical member, optical member and image display device - Google Patents

Composition for optical member, optical member and image display device Download PDF

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Description

本発明は、光学部材用組成物、及び当該光学部材用組成物から形成された光学部材に関する。また本発明は、前記光学部材用組成物を用いた画像表示装置に関する。   The present invention relates to a composition for an optical member, and an optical member formed from the composition for an optical member. The present invention also relates to an image display using the composition for an optical member.

本発明が適用される光学部材は、各種の光学用途に適用される部材であり、例えば、光学フィルムそのもの、光学フィルム用粘着剤層又は接着剤層、光学フィルムに設けられる表面処理層、光学フィルムに設けられる機能層等が挙げられる。前記光学フィルムとしては、例えば、偏光フィルム、偏光子、偏光子用透明保護フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルム、輝度向上フィルム、レンチキュラーフィルム、カバーウィンドウフィルム(前面板)、飛散防止フィルム、加飾印刷フィルム等を例示することができる。前記光学部材は、偏光子及び位相差フィルムを含む光学積層体として用いることができる。また前記表面処理層としては、例えば、ハードコート層、アンチグレア層、反射防止層、屈折率調整層等を例示することができる。前記機能層としては、例えば、易接着層、帯電防止層、ブロッキング防止層、オリゴマー防止層、バリア層等を例示する事ができる。また、前記光学部材は、透明基材フィルム及び透明導電層を有する透明導電性フィルムにおいて、前記透明基材フィルム、又は前記透明基材フィルムとの間に設けられる中間層として用いることができる。前記中間層としては、屈折率調整層、易接着剤層、ハードコート層、クラック防止層等を例示する事ができる。これら光学部材は、液晶表示装置(LCD)、有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置(OLED)などの画像表示装置を形成しうる。   The optical member to which the present invention is applied is a member applied to various optical applications, and, for example, an optical film itself, an adhesive layer or adhesive layer for an optical film, a surface treatment layer provided on an optical film, an optical film Functional layers and the like provided in Examples of the optical film include a polarizing film, a polarizer, a transparent protective film for a polarizer, a retardation film, a light diffusing film, a brightness enhancement film, a lenticular film, a cover window film (front plate), a shatterproof film, and decoration A printing film etc. can be illustrated. The optical member can be used as an optical laminate including a polarizer and a retardation film. Moreover, as said surface treatment layer, a hard-coat layer, an anti glare layer, a reflection prevention layer, a refractive index adjustment layer etc. can be illustrated, for example. Examples of the functional layer may include an adhesive layer, an antistatic layer, an antiblocking layer, an oligomer preventing layer, a barrier layer and the like. Moreover, the said optical member can be used as an intermediate | middle layer provided in the transparent conductive film which has a transparent base film and a transparent conductive layer between the said transparent base film or the said transparent base film. Examples of the intermediate layer include a refractive index adjustment layer, an easily adhesive layer, a hard coat layer, and a crack prevention layer. These optical members can form an image display device such as a liquid crystal display (LCD) or an organic EL (electroluminescence) display (OLED).

近年、光学部材は各種分野で用いられており、例えば、画像表示装置を構成部材として広く用いられている。画像表示装置は、携帯電話、カーナビゲーション装置、パソコン用モニタ、テレビ等の各種用途において広く用いられるようになっている。画像表示装置が有機EL表示装置の場合に用いる光学部材としては、外光が金属電極(陰極)で反射されて鏡面のように視認されることを抑止するために、有機ELパネルの視認側表面に円偏光フィルム(偏光フィルムと1/4波長板の積層体等)が配置される。また、有機ELパネルの視認側表面に積層された円偏光フィルムには、光学部材として、さらに加飾パネル等が積層される場合がある。また透明導電性フィルムは透明電極フィルムとして用いられて、タッチパネル等を形成する。前記円偏光フィルムや加飾パネル等の有機EL表示装置の構成部材や、透明電極フィルム等は、通常、光学部材として粘着剤層や接着剤層等の接合材料を介して積層される。   In recent years, optical members are used in various fields, and for example, image display devices are widely used as constituent members. Image display devices are widely used in various applications such as mobile phones, car navigation devices, monitors for personal computers, and televisions. As an optical member used when the image display device is an organic EL display device, in order to prevent external light from being reflected by a metal electrode (cathode) and viewed like a mirror surface, the viewing side surface of the organic EL panel A circularly polarizing film (a laminate of a polarizing film and a quarter wavelength plate, etc.) is disposed on the Moreover, a decorative panel etc. may be further laminated | stacked as an optical member in the circularly polarized film laminated | stacked on the visual recognition side surface of an organic electroluminescent panel. The transparent conductive film is used as a transparent electrode film to form a touch panel or the like. The component members of the organic EL display device such as the circularly polarizing film and the decorative panel, the transparent electrode film and the like are usually laminated as an optical member through a bonding material such as an adhesive layer or an adhesive layer.

有機EL表示装置等の画像表示装置においては、入射する紫外光により画像表示装置内の構成部材等が劣化する場合があり、当該紫外光による劣化を抑制するために、紫外線吸収剤を含有する層を設けることが知られている。具体的には、例えば、少なくとも1層の紫外線吸収層を有し、波長380nmの光線透過率が30%以下であり、かつ波長430nmよりも長波長側における可視光透過率が80%以上である画像表示装置用透明両面粘着シート(例えば、特許文献1参照)や、アクリル系ポリマー及びトリアジン系紫外線吸収剤を含有する粘着剤層を有する粘着シートが知られている(例えば、特許文献2参照)。   In an image display apparatus such as an organic EL display apparatus, a component or the like in the image display apparatus may be degraded by incident ultraviolet light, and a layer containing an ultraviolet absorber to suppress the deterioration due to the ultraviolet light. It is known to provide. Specifically, for example, it has at least one ultraviolet absorbing layer, the light transmittance at a wavelength of 380 nm is 30% or less, and the visible light transmittance at a longer wavelength side than a wavelength of 430 nm is 80% or more Transparent double-sided pressure-sensitive adhesive sheets for image display devices (see, for example, Patent Document 1) and pressure-sensitive adhesive sheets having a pressure-sensitive adhesive layer containing an acrylic polymer and a triazine-based ultraviolet absorber are known (see, for example, Patent Document 2) .

特開2012−211305号公報JP, 2012-211305, A 特開2013−75978号公報JP, 2013-75978, A

特許文献1、2に記載の粘着シートは、波長380nmの光の透過率を制御することができるものであるが、当該粘着シートを有機EL表示装置で用いた場合、長時間使用によって有機EL素子が劣化してしまう場合があり、十分なものではなかった。これは、特許文献1、2に記載の粘着シートでは、波長380nmの光を吸収することができるものの、有機EL素子の発光領域(430nmよりも長波長側)より短波長側の波長領域(380nm〜430nm)の光が十分に吸収されておらず、当該透過光により劣化が生じると考えられる。   Although the adhesive sheet of patent document 1, 2 can control the transmittance | permeability of the light of wavelength 380nm, When the said adhesive sheet is used with an organic electroluminescence display, organic EL element by long-term use However, it was not enough. This is because the pressure-sensitive adhesive sheets described in Patent Documents 1 and 2 can absorb light with a wavelength of 380 nm, but the wavelength range (380 nm) on the shorter wavelength side than the light emitting region (longer wavelength side than 430 nm) of the organic EL element It is considered that the light of ̃430 nm is not sufficiently absorbed, and the transmitted light causes deterioration.

従って、有機EL素子の劣化抑制のためには、有機EL素子の発光領域(430nmよりも長波長側)より短波長側の波長(380nm〜430nm)の光の透過を抑制し、前記有機EL素子の発光領域における可視光の透過率を十分に確保でき、かつ、高い透明性を有する層を有機EL表示装置に用いることが必要とされる。また、画像表示装置は、高温、高湿の環境下で用いられるため、厳しい環境条件下における耐久性についても求められる。   Therefore, in order to suppress the deterioration of the organic EL element, the transmission of light with a wavelength (380 nm to 430 nm) on the short wavelength side of the light emitting region (longer than 430 nm) of the organic EL element is suppressed. It is necessary to use a layer having high transparency, which can ensure sufficient transmittance of visible light in the light emitting region of the above, for the organic EL display device. In addition, since the image display apparatus is used under a high temperature and high humidity environment, the image display apparatus is also required to have durability under severe environmental conditions.

本発明は、画像表示装置に適用した場合には、表示素子の劣化を抑制することができ、かつ高い透明性を有し、さらに厳しい環境条件下における耐久性にも優れる光学部材を形成することができる、光学部材用組成物を提供することを目的とする。   The present invention, when applied to an image display device, can form an optical member which can suppress deterioration of a display element, has high transparency, and is also excellent in durability under severe environmental conditions. It is an object of the present invention to provide a composition for an optical member, which can

また、本発明は、前記組成物から形成される光学部材を提供すること、さらには当該光学部材を用いた画像表示装置を提供することを目的とする。   Another object of the present invention is to provide an optical member formed of the composition, and to provide an image display using the optical member.

本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、下記光学部材用組成物を見出し、本発明を完成するに至った。   MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of repeating earnest examination, in order to solve the said subject, the present inventors discovered the following composition for optical members, and came to complete this invention.

即ち、本発明は、ベースポリマー及び下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする光学部材用組成物、に関する。   That is, the present invention relates to a composition for an optical member comprising a base polymer and a compound represented by the following general formula (1).

Figure 0006510113
Figure 0006510113

(一般式(1)中、mは1〜6の整数を表し、
は、mが1のとき水素原子を表し、mが2〜6のとき2〜6価の連結基を表し、
は、下記一般式(2)で表される化合物から水素原子が1つ外れた基を表し、mが2〜6のとき、複数のDは、全て同じであってもよく、異なっていてもよい。
(In the general formula (1), m represents an integer of 1 to 6,
Q 1 represents a hydrogen atom when m is 1 and a divalent to hexavalent linking group when m is 2 to 6,
D 1 represents a group in which one hydrogen atom is removed from the compound represented by the following general formula (2), and when m is 2 to 6, a plurality of D 1 may be all the same or different It may be

Figure 0006510113
Figure 0006510113

(一般式(2)中、Rは、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。Rは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−C(O)−R又は−SO−Rを表す。Rは、ヒドロキシ基又は−OR71を表し、Rは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−OR81、−NR8283又は−R84を表す。R71及びR81〜R84は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
402及びR403は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、−NR406407、−OR408、シアノ基、−C(O)R409、−O−C(O)R410又は−C(O)OR411を表し、
404〜R411は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。R404と、R405と、R404及びR405が結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環を形成してもよい。))
(In General Formula (2), R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. R 2 represents a hydrogen atom, a cyano group , A nitro group, a trifluoromethyl group, a heterocycle-containing group, -C (O) -R 7 or -SO 2 -R 8. R 7 represents a hydroxy group or -OR 71 , and R 8 represents a halogen. R 71 and R 81 to R 84 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent, an atom, a hydroxy group, -OR 81 , -NR 82 R 83 or -R 84. Or an aryl group which may have a substituent.
R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent.
R 402 and R 403 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, -NR 406 R 407 , -OR 408, a cyano group, -C (O) R 409, -O-C (O) R 410 or -C (O) oR 411,
R 404 to R 411 are the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. R 404 , R 405, and the nitrogen atom to which R 404 and R 405 are bonded may form a 4- to 8-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may have a substituent. )))

本発明においては、上記一般式(1)におけるmが1又は2であることが好ましい。   In the present invention, m in the above general formula (1) is preferably 1 or 2.

上記一般式(1)で表される化合物は、下記一般式(3)で表される化合物であることが好ましい。   The compound represented by the above general formula (1) is preferably a compound represented by the following general formula (3).

Figure 0006510113
Figure 0006510113

(一般式(3)中、R1aは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表し、R2aは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−C(O)−R7a又は−SO−R8aを表す。R7aは、ヒドロキシ基又は−OR71aを表し、R8aは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−OR81a、−NR82a83a又は−R84aを表す。R71a及びR81a〜R84aは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
3aは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
402aは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、−NR406a407a、−OR408a、シアノ基、−C(O)R409a、−O−C(O)R410a又は−C(O)OR411aを表し、R404a〜R411aは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R404aと、R405aと、R404a及びR405aが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環を形成してもよい。
413は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表すか、又は、下記一般式(4)で表される基を表す。
(In the general formula (3), R 1a is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent R 2a represents a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a heterocyclic group, -C (O) -R 7a or -SO 2 -R 8a, and R 7a represents a hydroxy group. Or -OR 71a , R 8a represents a halogen atom, a hydroxy group, -OR 81a , -NR 82a R 83a or -R 84a , R 71a and R 81a to R 84a are the same or different, and a hydrogen atom; And an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
R 3a represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent .
R 402a is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, -NR 406a R 407a , -OR 408a , cyano group, -C (O) R 409a , -OC (O) R 410a or -C (O) OR 411a , wherein R 404a to R 411a are the same or different and hydrogen; This represents an atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. R 404 a , R 405 a, and the nitrogen atom to which R 404 a and R 405 a are bonded may form a 4- to 8-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may have a substituent.
R 413 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or This represents a group represented by formula (4).

Figure 0006510113
Figure 0006510113

(一般式(4)中、Qは置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基を表し、*は一般式(3)との結合部位を表す。
1bは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表し、R2bは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−C(O)−R7b又は−SO−R8bを表す。R7bは、ヒドロキシ基又は−OR71bを表し、R8bは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−OR81b、−NR82b83b又は−R84bを表す。R71b及びR81b〜R84bは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
3bは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
402bは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、−NR406b407b、−OR408b、シアノ基、−C(O)R409b、−O−C(O)R410b又は−C(O)OR411bを表し、R404b〜R411bは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R404bと、R405bと、R404b及びR405bが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環を形成してもよい。))
(In the general formula (4), Q 2 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent, and * represents a bonding site to the general formula (3).
R 1b represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and R 2b is a hydrogen And represents an atom, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a heterocycle-containing group, -C (O) -R 7b or -SO 2 -R 8b . R 7b represents a hydroxy group or -OR 71b , and R 8b represents a halogen atom, a hydroxy group, -OR 81b , -NR 82b R 83b or -R 84b . R 71 b and R 81 b to R 84 b are the same or different and each is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent Represents an aryl group of
R 3b represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent .
R 402b is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, -NR 406b R 407 b , -OR 408 b , cyano group, -C (O) R 409 b , -O-C (O) R 410 b or -C (O) OR 411 b , and R 404 b to R 411 b are the same or different and hydrogen; This represents an atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. R 404 b , R 405 b, and the nitrogen atom to which R 404 b and R 405 b are bonded may form a 4- to 8-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may have a substituent. )))

本発明の一態様においては、上記R413が、上記一般式(4)で表される基であることが好ましい。 In one aspect of the present invention, the R 413 is preferably a group represented by the general formula (4).

上記一般式(1)で表される化合物が、下記一般式(5)で表される化合物であることも好ましい。   It is also preferable that the compound represented by the said General formula (1) is a compound represented by following General formula (5).

Figure 0006510113
Figure 0006510113

(一般式(5)中、R2cは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−C(O)−R7c又は−SO−R8cを表す。R7cは、ヒドロキシ基又は−OR71cを表し、R8cは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−OR81c、−NR82c83c又は−R84cを表す。R71c及びR81c〜R84cは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
3cは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
402c及びR403cは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、−NR406c407c、−OR408c、シアノ基、−C(O)R409c、−O−C(O)R410c又は−C(O)OR411cを表し、R404c〜R411cは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R404cと、R405cと、R404c及びR405cが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環を形成してもよい。
501は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、又は、下記一般式(6)で表される基を表す。
(In the general formula (5), R 2c represents a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a heterocycle-containing group, —C (O) —R 7c or —SO 2 —R 8c. 7c represents a hydroxy group or -OR 71c , R 8c represents a halogen atom, a hydroxy group, -OR 81c , -NR 82c R 83c or -R 84c , R 71c and R 81c to R 84c are the same or Differently, it represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
R 3c represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent .
R 402c and R 403c are the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent aryl group, -NR 406c R 407c, represent -OR 408 c, a cyano group, -C (O) R 409c, a -O-C (O) R 410c or -C (O) oR 411c, R 404c ~R 411c The same or different and each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. And R 404c, and R 405c, R 404c and R 405c together with the nitrogen to atom to which they are attached, may form a nitrogen-containing heterocycle 4-8 membered which may have a substituent.
R 501 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or the following general formula (6) Represents a group represented by).

Figure 0006510113
Figure 0006510113

(一般式(6)中、Qは、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基を表し、*は一般式(5)との結合部位を表す。
2dは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−C(O)−R7d又は−SO−R8dを表す。R7dは、ヒドロキシ基又は−OR71dを表し、R8dは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−OR81d、−NR82d83d又は−R84dを表す。R71d及びR81d〜R84dは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
3dは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
402d及びR403dは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、−NR406d407d、−OR408d、シアノ基、−C(O)R409d、−O−C(O)R410d又は−C(O)OR411dを表し、R404d〜R411dは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R404dと、R405dと、R404d及びR405dが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環を形成してもよい。))
(In the general formula (6), Q 3 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent, and * represents a bonding site to the general formula (5).
R 2d represents a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a heterocycle-containing group, -C (O) -R 7d or -SO 2 -R 8d . R 7d represents a hydroxy group or -OR 71d , and R 8d represents a halogen atom, a hydroxy group, -OR 81d , -NR 82d R 83d or -R 84d . R 71 d and R 81 d to R 84 d are the same or different and each is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent Represents an aryl group of
R 3d represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent .
R 402d and R 403d are the same or different, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent group, carbon atoms which may have a substituent having 6 to 20 aryl group, -NR 406d R 407d, represents -OR 408d, a cyano group, -C (O) R 409d, a -O-C (O) R 410d or -C (O) oR 411d, R 404d ~R 411d The same or different and each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. R 404 d , R 405 d, and the nitrogen atom to which R 404 d and R 405 d are bonded may form a 4- to 8-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may have a substituent. )))

本発明の一態様においては、上記R501は、上記一般式(6)で表される基であることが好ましい。 In one aspect of the present invention, the R 501 is preferably a group represented by the general formula (6).

前記光学部材用組成物において、前記一般式(1)で表される化合物は、吸収スペクトルの吸収極大波長が380〜430nmの波長領域に存在する色素化合物であることが好ましい。   In the composition for an optical member, the compound represented by the general formula (1) is preferably a dye compound having an absorption maximum wavelength of an absorption spectrum in a wavelength region of 380 to 430 nm.

前記光学部材用組成物において、さらに、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。前記紫外線吸収剤の吸収スペクトルの吸収極大波長が、300〜400nmの波長領域に存在することが好ましい。   The composition for an optical member preferably further contains an ultraviolet absorber. It is preferable that the absorption maximum wavelength of the absorption spectrum of the said ultraviolet absorber exists in a 300-400 nm wavelength range.

また本発明は、前記光学部材用組成物から形成されることを特徴とする光学部材、に関する。   The present invention also relates to an optical member formed from the composition for an optical member.

前記光学部材は、例えば、光学フィルムとして用いることができる。   The optical member can be used, for example, as an optical film.

前記光学部材は、例えば、光学フィルム用粘着剤層又は接着剤層として用いることができる。前記光学フィルム用粘着剤層を形成する組成物が含有するベースポリマーは、(メタ)アクリル系ポリマーであることが好ましい。   The optical member can be used, for example, as an adhesive layer or an adhesive layer for an optical film. The base polymer contained in the composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer for an optical film is preferably a (meth) acrylic polymer.

前記光学部材は、例えば、光学フィルムに設けられる表面処理層として用いることができる。   The optical member can be used, for example, as a surface treatment layer provided on an optical film.

前記光学部材に係る前記光学フィルムとしては、例えば、偏光フィルム、偏光子、偏光子用透明保護フィルム、又は位相差フィルムを挙げることができる。   As said optical film which concerns on the said optical member, a polarizing film, a polarizer, the transparent protective film for light polarizers, or retardation film can be mentioned, for example.

また本発明は、偏光子及び位相差フィルムを含む光学積層体であって、
前記光学積層体が、前記光学部材を含有する光学積層体(1)であることを特徴とする光学積層体、に関する。
The present invention is also an optical laminate comprising a polarizer and a retardation film,
The present invention relates to an optical laminate characterized in that the optical laminate is an optical laminate (1) containing the optical member.

また本発明は、画像表示部及び前記光学部材又は前記光学積層体(1)を有することを特徴とする画像表示装置、に関する。本発明の前記画像表示装置は、前記光学部材又は光学積層体(1)が画像表示部よりも視認側に設けられている場合に好適である。   The present invention also relates to an image display apparatus characterized by comprising an image display unit and the optical member or the optical laminate (1). The said image display apparatus of this invention is suitable when the said optical member or optical laminated body (1) is provided in the visual recognition side rather than an image display part.

前記画像表示装置としては、例えば、視認側から、少なくとも、偏光子及び位相差フィルムをこの順に含む光学積層体、並びに有機ELパネルを、前記画像表示部として含む有機EL表示装置が挙げられ、前記光学積層体が、前記光学部材又は光学積層体(1)を含有するものを好適で用いることができる。   Examples of the image display device include an optical laminate including at least a polarizer and a retardation film in this order from the viewing side, and an organic EL display device including an organic EL panel as the image display unit. As the optical laminate, one containing the optical member or the optical laminate (1) can be suitably used.

前記光学部材は、透明基材フィルム及び透明導電層を有する透明導電性フィルムにおいて、前記透明基材フィルム、又は前記透明基材フィルムと透明導電層との間に設けられる中間層として用いることができる。   The optical member can be used in the transparent conductive film having a transparent base film and a transparent conductive layer, as the transparent base film or an intermediate layer provided between the transparent base film and the transparent conductive layer. .

前記中間層としては、屈折率調整層、易接着剤層、ハードコート層及びクラック防止層から選ばれるいずれか少なくとも1つを挙げることができる。   Examples of the intermediate layer include at least one selected from a refractive index adjustment layer, an easily adhesive layer, a hard coat layer, and a crack prevention layer.

また本発明は、透明基材フィルム及び透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、前記透明基材フィルム、又は前記透明基材フィルムとの間に設けられる中間層として、前記光学部材を含有することを特徴とする透明導電性フィルム、に関する。   Moreover, this invention is a transparent conductive film which has a transparent base film and a transparent conductive layer, Comprising: The said optical member is contained as an intermediate | middle layer provided between the said transparent base film or the said transparent base film It relates to the transparent conductive film characterized by doing.

また本発明は、画像表示部及び前記透明導電性フィルムを含有することを特徴とする画像表示装置、に関する。本発明の前記画像表示装置は、前記透明導電性フィルムが画像表示部よりも視認側に設けられている場合に好適である。   The present invention also relates to an image display apparatus characterized by containing an image display unit and the transparent conductive film. The said image display apparatus of this invention is suitable when the said transparent conductive film is provided in the visual recognition side rather than an image display part.

前記画像表示装置としては、例えば、前記画像表示部として有機ELパネルを含む有機EL表示装置が挙げられる。   Examples of the image display device include an organic EL display device including an organic EL panel as the image display unit.

本発明の光学部材用組成物は、光学部材を有する形成するベースポリマーの他に、上記一般式(1)で表される化合物を含有する。当該化合物は、吸収スペクトルの吸収極大波長が400nm付近に存在するため、色素として好適に用いられ、当該化合物(色素化合物)と紫外線吸収剤を組み合わせて用いることで、有機ELパネル等の表示素子に影響しない領域の光を十分に吸収することができ、かつ、前記領域よりも長波長側は十分に透過することができる。さらに、上記一般式(1)で表される化合物は、高温、高湿の環境下の厳しい環境条件下における耐久性にも優れている。その結果、本発明の光学部材用組成物から形成される光学部材は、表示素子の外光による劣化を抑制することができ、かつ、優れた耐候劣化性を有し、長寿命化することができる。   The composition for optical members of the present invention contains a compound represented by the above general formula (1) in addition to the base polymer to be formed having the optical members. The compound is preferably used as a dye because the absorption maximum wavelength of the absorption spectrum is around 400 nm, and by using the compound (dye compound) and an ultraviolet absorber in combination, the display element such as an organic EL panel or the like The light in the non-influenced area can be sufficiently absorbed, and the longer wavelength side than the area can be sufficiently transmitted. Furthermore, the compound represented by the said General formula (1) is excellent also in durability under severe environmental conditions in a high temperature, high humidity environment. As a result, the optical member formed from the composition for an optical member of the present invention can suppress deterioration of the display element due to external light, and has excellent weathering deterioration resistance and can achieve long life. it can.

本発明の光学部材を適用することができる光学積層体の一実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one Embodiment of the optical laminated body which can apply the optical member of this invention. 本発明の光学部材を適用することができる有機EL表示装置の一実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one Embodiment of the organic electroluminescence display which can apply the optical member of this invention. 本発明の光学部材を適用することができる透明導電性フィルムの一実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one Embodiment of the transparent conductive film which can apply the optical member of this invention.

<光学部材用組成物>
以下、本発明の光学部材用組成物が含有する各成分については説明する。本発明の光学部材用組成物は、光学部材を有する形成するベースポリマーの他に、上記一般式(1)で表される化合物を含有する。その他、本発明の光学部材用組成物は、各種の用途に応じて、上記一般式(1)で表される化合物以外の各種の添加剤を含有することができる。
<Composition for Optical Member>
Hereinafter, each component which the composition for optical members of this invention contains is demonstrated. The composition for optical members of the present invention contains a compound represented by the above general formula (1) in addition to the base polymer to be formed having the optical members. In addition, the composition for optical members of this invention can contain various additives other than the compound represented by the said General formula (1) according to the various use.

<ベースポリマー>
前記ベースポリマーは、光学部材が適用される用途に応じて適宜に選択される。前記ベースポリマーに用いる樹脂は特に限定されず、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂等の樹脂が挙げられる。これらは1種のみ使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
<Base polymer>
The base polymer is appropriately selected depending on the application to which the optical member is applied. The resin used for the base polymer is not particularly limited, and examples thereof include thermoplastic resins, photocurable resins, and thermosetting resins. For example, acrylic resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, low density polyethylene resin, polypropylene resin, polyurethane resin, polyamide resin, polyacetal resin, polyphenylene sulfide resin, polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polycycloolefin resin, polysulfone resin, poly Resins, such as ether sulfone resin, a fluorine resin, a silicone resin, a polyester resin, an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

なお、光学用途に応じた、具体的なベースポリマーについては、当該光学用途において用いられているものを用いることができる。ベースポリマーは、各光学部材を形成する主成分であり、光学用途の説明とともに後述する。ベースポリマーに係る材料は、各種用途における周知標記としても示される。例えば、粘着剤の用途において、アクリル系粘着剤であれば、(メタ)アクリル系ポリマーをベースポリマーと認識する事ができる。   In addition, as a specific base polymer according to an optical use, what is used in the said optical use can be used. The base polymer is a main component for forming each optical member, and will be described later along with the description of the optical application. The material of the base polymer is also indicated as a well-known mark in various applications. For example, in the use of a pressure-sensitive adhesive, if it is an acrylic pressure-sensitive adhesive, a (meth) acrylic-based polymer can be recognized as a base polymer.

<一般式(1)で表される化合物>
上記一般式(1)で表される化合物を、本明細書中、化合物(1)ともいう。他の式番号の化合物についても同様であり、例えば一般式(2)で表される化合物を、化合物(2)ともいう。
<Compound Represented by General Formula (1)>
In the present specification, the compound represented by the above general formula (1) is also referred to as a compound (1). The same applies to compounds of other formula numbers. For example, the compound represented by General Formula (2) is also referred to as Compound (2).

本発明の化合物(1)において幾何学異性が存在する場合、本発明はその幾何学異性体のいずれも包含する。また、本発明の化合物(1)において1つ以上の不斉炭素原子が存在する場合、本発明は各々の不斉炭素原子がR配置の化合物、S配置の化合物及びそれらの任意の組み合せの化合物のいずれも包含する。またそれらのラセミ化合物、ラセミ混合物、単一のエナンチオマー、ジアステレオマー混合物のいずれも本発明に包含される。   When geometrical isomerism exists in the compound (1) of the present invention, the present invention includes any of its geometrical isomers. When one or more asymmetric carbon atoms are present in the compound (1) of the present invention, the present invention provides compounds wherein each asymmetric carbon atom is in the R configuration, compounds in the S configuration, and compounds of any combination thereof Includes any of Also, their racemates, racemic mixtures, single enantiomers and diastereomeric mixtures are all included in the present invention.

上記一般式(1)中、mは1〜6の整数を表す。mが2〜6であると、化合物(1)の耐熱性が向上するため好ましい。本発明の一態様においては、mは、好ましくは1又は2であり、より好ましくは2である。 In the above general formula (1), m represents an integer of 1 to 6. Since the heat resistance of a compound (1) improves that m is 2-6, it is preferable. In one aspect of the present invention, m is preferably 1 or 2, more preferably 2.

は、mが1のとき水素原子を表し、mが2〜6のとき2〜6価の連結基を表す。
2〜6価の連結基として、例えば、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2〜6価の炭化水素基、−SO−等が挙げられる。
置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2〜6価の炭化水素基として、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状の2〜6価のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20の2〜6価のアリーレン基が挙げられる。Qは、好ましくは水素原子又は2価の連結基である。
Q 1 represents a hydrogen atom when m is 1 and a divalent to hexavalent linking group when m is 2 to 6.
Examples of the di- to hexa-valent linking group include, for example, a divalent to hexa-valent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, -SO 2- and the like.
As a C1-C20 2 to 6-valent hydrocarbon group which may have a substituent, a linear, branched or cyclic 2 to 6 carbon atom having 1 to 20 carbons which may have a substituent And alkyl groups having 6 to 20 carbon atoms and optionally having 2 or 6 carbon atoms which may have a substituent. Q 1 is preferably a hydrogen atom or a divalent linking group.

2価の連結基として、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基、−SO−等が好ましく、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基がより好ましい。置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基は、好ましくは、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状の2価のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20の2価のアリーレン基である。
炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状の2価のアルキル基は、炭素−炭素間に酸素原子、硫黄原子又は置換基を有していてもよいアリーレン基が挿入された2価のアルキル基であってもよく、好ましくは、−(CHk1−(k1は、1〜20の整数を表す)で表される炭素数1〜20の直鎖状の2価のアルキル基であり、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、デシレン基等が挙げられる。また、1個以上のハロゲン原子で置換された2価のアルキル基であることも好ましく、例えば、ビストリフルオロメチルメチレン基等が挙げられる。直鎖状の2価のアルキル基の炭素数は2〜10(上記式中のk1が2〜10)がより好ましく、4〜8(上記式中のk1が4〜8)がさらに好ましい。
As the divalent linking group, a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent, -SO 2 - and the like are preferable, good carbon atoms 1 may have a substituent 20 divalent hydrocarbon groups are more preferred. The C1-C20 divalent hydrocarbon group which may have a substituent is preferably a linear, branched or cyclic divalent C1-C20 group which may have a substituent. Or an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
The linear, branched or cyclic divalent alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is a divalent alkyl in which an oxygen atom, a sulfur atom or an arylene group which may have a substituent may be inserted between carbon and carbon It may be a group, preferably a linear divalent alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, represented by- (CH 2 ) k1- (where k 1 represents an integer of 1 to 20) For example, methylene group, ethylene group, propylene group, butylene group, pentylene group, hexylene group, heptylene group, octylene group, decylene group and the like can be mentioned. Moreover, it is also preferable that it is a bivalent alkyl group substituted by one or more halogen atoms, for example, a bis trifluoromethyl methylene group etc. are mentioned. The carbon number of the linear divalent alkyl group is preferably 2 to 10 (k1 in the above formula is 2 to 10), and more preferably 4 to 8 (k1 in the above formula is 4 to 8).

置換基を有していてもよい炭素数6〜20の2価のアリーレン基として、例えば、下記一般式(20)で表される基が好ましい。   As a C6-C20 bivalent arylene group which may have a substituent, the group represented by following General formula (20) is preferable, for example.

Figure 0006510113
Figure 0006510113

上記一般式(20)中、Xは、互いに独立に、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、スルホ基、炭素数1〜3のアルキル基又は炭素数1〜3のアルコキシ基を表し、sは0〜4の整数を表す。ベンゼン環の2カ所の結合手は、o−、m−、p−配向のいずれでもよい。また、ベンゼン環が置換基を有していない(s=0である)ことが好ましい。   In the above general formula (20), X independently represents a halogen atom, a nitro group, a hydroxy group, a sulfo group, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, and s is 0 Represents an integer of ~ 4. The two bonds in the benzene ring may be either o-, m- or p-oriented. In addition, it is preferable that the benzene ring has no substituent (s = 0).

一般式(1)中、Dは、化合物(2)から水素原子が1つ外れた基を表す。化合物(2)から水素原子が1つ外れた基は、化合物(2)から水素原子を1つ除いた基ということもできる。化合物(2)は、含窒素芳香環及び電子求引性基を含み、色素となり得るメチン構造を含む。化合物(1)は、このようなメチン構造を含むことから、色素化合物として使用され得る。mが2〜6のとき、複数のDは、全て同じであってもよく、異なっていてもよい。一態様においては、複数のDは、全て同じであることが好ましい。
一般式(1)において、mが1である化合物(1)は、化合物(2)である。mが1である化合物(1)を単量体化合物ともいう。mが2〜6である化合物(1)は、連結基(Q)により、化合物(2)から水素原子が外れた基が2〜6連結した2〜6量体構造を有する化合物である。mが2〜6である化合物(1)を、2〜6量体化合物ということもできる。
は、化合物(2)の、R、R403又はR404から水素原子が1つ外れた基(Rが水素原子の場合は、Rが外れた基)であることが好ましく、R又はR403から水素原子が1つ外れた基であることがより好ましい。換言すると、一般式(1)において、Qは、一般式(2)中のR、R403又はR404の部分に結合していることが好ましく、R又はR403の部分に結合していることがより好ましい。
In general formula (1), D 1 represents a group in which one hydrogen atom is removed from compound (2). A group in which one hydrogen atom is removed from compound (2) can also be said to be a group in which one hydrogen atom is removed from compound (2). The compound (2) contains a nitrogen-containing aromatic ring and an electron-withdrawing group, and contains a methine structure which can be a dye. The compound (1) can be used as a dye compound because it contains such methine structure. When m is 2 to 6, the plurality of D 1 may be all the same or different. In one aspect, it is preferable that all of the plurality of D 1 be the same.
The compound (1) in which m is 1 in the general formula (1) is a compound (2). The compound (1) in which m is 1 is also referred to as a monomeric compound. The compound (1) in which m is 2 to 6 is a compound having a 2- to 6-mer structure in which a group in which a hydrogen atom is removed from the compound (2) is linked 2 to 6 depending on the linking group (Q 1 ). The compound (1) in which m is 2 to 6 can also be referred to as a 2 to 6-mer compound.
D 1 is preferably a group in which one hydrogen atom is removed from R 1 , R 403 or R 404 in the compound (2) (when R 1 is a hydrogen atom, a group in which R 1 is removed), More preferably, it is a group in which one hydrogen atom is removed from R 1 or R 403 . In other words, in the general formula (1), Q 1 is preferably bonded to the portion of R 1 , R 403 or R 404 in the general formula (2), and is bonded to the portion of R 1 or R 403 Is more preferable.

一般式(2)中、Rは、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。置換基を有していてもよいアルキル基として、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基が挙げられる。置換基を有していてもよいアリール基として、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基が挙げられる。一般式(2)中の−C(O)−O−Rは、電子求引性基である。Rは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基であり、より好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1〜20アルキル基である。 In General Formula (2), R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. As an alkyl group which may have a substituent, the C1-C20 alkyl group which may have a substituent is mentioned. As an aryl group which may have a substituent, the C6-C20 aryl group which may have a substituent is mentioned. -C in the general formula (2) (O) -O-R 1 is an electron withdrawing group. R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, more preferably a substituent It is a C1-C20 alkyl group which may have.

は、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基(CF基)、複素環含有基、−C(O)−R又は−SO−Rを表す。Rは、ヒドロキシ基又は−OR71を表し、Rは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−OR81、−NR8283又は−R84を表す。R71及びR81〜R84は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。 R 2 represents a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group (CF 3 group), a heterocycle-containing group, —C (O) —R 7 or —SO 2 —R 8 . R 7 represents a hydroxy group or -OR 71 , and R 8 represents a halogen atom, a hydroxy group, -OR 81 , -NR 82 R 83 or -R 84 . R 71 and R 81 to R 84 are the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent.

における複素環含有基として、ピロール環、ピリジン環、キノリン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、トリアジン環、トリアゾール環、テトラゾール環等の含窒素複素環;フラン環、ベンゾフラン環等の含酸素複素環;チオフェン環、ベンゾチオフェン環等の含硫黄複素環;オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環等の酸素原子及び窒素原子を含む複素環;チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チアジアゾール環等の含硫黄複素環等が挙げられ、これらの環は更に他の炭素環(例えば、ベンゼン環)や複素環(例えば、ピリジン環)と縮合環を形成していてもよく、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環が好ましい。 The heterocyclic ring-containing group for R 2 includes nitrogen-containing heterocyclic rings such as pyrrole ring, pyridine ring, quinoline ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, pyrazine ring, pyrazine ring, imidazole ring, benzoimidazole ring, triazine ring, triazole ring, tetrazole ring, etc .; Oxygen-containing heterocycles such as rings and benzofuran rings; Sulfur-containing heterocycles such as thiophene rings and benzothiophene rings; Heterocycles containing oxygen atoms and nitrogen atoms such as oxazole rings and benzoxazole rings; Thiazole rings, benzothiazole rings, thiadiazoles And sulfur-containing heterocyclic rings such as rings, which may further form a condensed ring with other carbon rings (for example, benzene ring) or heterocycles (for example, pyridine ring); Benzoxazole rings are preferred.

本発明の一態様においては、Rにおける複素環含有基として、ベンゾオキサゾール環又はオキサゾール環の窒素と酸素の間の炭素(2位)から水素原子が外れた基(水素原子を除いた基ということもできる)が好ましく、より好ましくは、ベンゾオキサゾール環の窒素と酸素の間の炭素(2位)から水素原子が外れた基である。
また、例えば、一般式(1)において、mが2〜6であり、Rがベンゾオキサゾール環又はオキサゾール環から水素原子が外れた基であり、QとDとが、化合物(2)のRの部位で結合している場合、Rは、ベンゾオキサゾール環又はオキサゾール環の窒素と酸素の間の炭素(2位)以外の炭素原子でQと結合していることが好ましい。
In one aspect of the present invention, as a heterocycle-containing group for R 2 , a group in which a hydrogen atom is removed from carbon (2-position) between nitrogen and oxygen of benzoxazole ring or oxazole ring (group excluding hydrogen atom) Is preferable, and more preferable is a group in which a hydrogen atom is removed from carbon (2-position) between nitrogen and oxygen of benzoxazole ring.
Also, for example, in the general formula (1), m is 2 to 6, and R 2 is a group in which a hydrogen atom is removed from a benzoxazole ring or an oxazole ring, and Q 1 and D 1 are compounds (2) When R 2 is bonded at the R 2 site, R 2 is preferably bonded to Q 1 at a carbon atom other than the carbon (2-position) between nitrogen and oxygen of the benzoxazole ring or oxazole ring.

、R71、R81、R82、R83及びR84における置換基を有していてもよいアルキル基として、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基として、後述する置換基を有していてもよい炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられる。本発明の一態様において、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基は、好ましくは炭素数4〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基であり、炭素数が4以上の分岐又は環状の立体的に嵩高いアルキル基が好ましく、より好ましくは、炭素数6〜20の環状のアルキル基であり、特に好ましくは、直鎖又は分岐アルキル基を置換基として有してもよい環状のアルキル基である。R、R71、R81、R82、R83及びR84における炭素数1〜20のアルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、4−t−ブチルシクロヘキシル基、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルシクロヘキシル等が好ましく、t−ブチル基、シクロヘキシル基、4−t−ブチルシクロヘキシル基、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルシクロヘキシル基等がより好ましく、4−t−ブチルシクロヘキシル基、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルシクロヘキシル基等がさらに好ましい。
、R71、R81、R82、R83及びR84における置換基を有していてもよいアリール基として、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基として、後述する置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基が挙げられ、例えば、アルキル基で置換されていてもよいフェニル基(例えば、フェニル基、3−メチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基等)等が好ましい。
Examples of the alkyl group which may have a substituent in R 1 , R 71 , R 81 , R 82 , R 83 and R 84 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent. Be As a C1-C20 alkyl group which may have a substituent, the C1-C20 linear, branched or cyclic alkyl group which may have a substituent mentioned later is mentioned. In one aspect of the present invention, the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent is preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 4 to 20 carbon atoms, and has 4 carbon atoms The above branched or cyclic sterically bulky alkyl group is preferable, more preferably a cyclic alkyl group having 6 to 20 carbon atoms, and particularly preferably a linear or branched alkyl group as a substituent It is also a good cyclic alkyl group. As a C1-C20 alkyl group in R 1 , R 71 , R 81 , R 82 , R 83 and R 84 , for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group , I-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 4-t-butylcyclohexyl group, 2,6-di-t-butyl-4-methyl Cyclohexyl and the like are preferable, and t-butyl, cyclohexyl, 4-t-butylcyclohexyl, 2,6-di-t-butyl-4-methylcyclohexyl and the like are more preferable, and 4-t-butylcyclohexyl, 2 And 6-di-t-butyl-4-methylcyclohexyl are more preferable.
As an aryl group which may have a substituent in R 1 , R 71 , R 81 , R 82 , R 83 and R 84, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent is mentioned Be Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent include aryl groups having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent described later, and for example, it is substituted with an alkyl group Preferred is a phenyl group (eg, phenyl group, 3-methylphenyl group, 2,6-dimethylphenyl group etc.) and the like.

は、好ましくは、n−ブチル基、s−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、4−t−ブチルシクロヘキシル基、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルシクロヘキシル基等であり、4−t−ブチルシクロヘキシル基、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルシクロヘキシル基等がより好ましい。
は、好ましくは、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−C(O)−R又は−SO−Rであり、より好ましくはシアノ基、複素環含有基、又は、−C(O)−Rであり、さらに好ましくは、シアノ基又は−C(O)−OR71である。
R 1 is preferably n-butyl group, s-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 4-t-butylcyclohexyl, 2,6-di-t-butyl-4-methylcyclohexyl and the like, 4-t-butylcyclohexyl, 2,6-di-t-butyl-4-methylcyclohexyl Etc. is more preferable.
R 2 is preferably a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a heterocycle-containing group, -C (O) -R 7 or -SO 2 -R 8 , more preferably a cyano group, a heterocycle-containing group group, or a -C (O) -R 7, more preferably a cyano group or -C (O) -OR 71.

71及びR81は、同一又は異なって、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、4−t−ブチルシクロヘキシル基、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルシクロヘキシル基等が好ましく、4−t−ブチルシクロヘキシル基、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルシクロヘキシル基等がより好ましい。R82は、好ましくは、水素原子である。R83は、好ましくは、水素原子、フェニル基、3−メチルフェニル基又は2,6−ジメチルフェニル基である。R84は、好ましくは、メチル基、エチル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等である。 R 71 and R 81 are the same or different and are, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, s-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-pentyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-octyl, 2-ethylhexyl, 4-tert-butylcyclohexyl, 2,6-di-tert-butyl-4-methylcyclohexyl and the like are preferable, 4-t-butylcyclohexyl, 2,6-di-t-butyl-4-methylcyclohexyl and the like are more preferable. R 82 is preferably a hydrogen atom. R 83 is preferably a hydrogen atom, a phenyl group, a 3-methylphenyl group or a 2,6-dimethylphenyl group. R 84 is preferably a methyl group, an ethyl group, a t-butyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a naphthyl group or the like.

一般式(2)中、Rは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
402及びR403は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、−NR406407、−OR408、シアノ基、−C(O)R409、−O−C(O)R410又は−C(O)OR411を表す。
404〜R411は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。R404と、R405と、R404及びR405が結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環を形成してもよい。
In general formula (2), R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent.
R 402 and R 403 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, -NR 406 R 407 , -OR 408, a cyano group, -C (O) R 409, represents an -O-C (O) R 410 or -C (O) oR 411.
R 404 to R 411 are the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. R 404 , R 405, and the nitrogen atom to which R 404 and R 405 are bonded may form a 4- to 8-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may have a substituent.

、R402及びR403におけるアルキル基としては、例えば、炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられる。
炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基として、具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、2−メチルブチル基、1−メチルブチル基、neo−ペンチル基、1、2−ジメチルプロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、4−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、1−メチルペンチル基、3,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1,1−ジメチルブチル基、2−エチルブチル基、1−エチルブチル基、1,1,2−トリメチルブチル基、1−エチル−2−メチルプロピル基、シクロヘキシル基、n−へプチル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、2,4−ジメチルペンチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、2,5−ジメチルヘキシル基、2,4−ジメチルヘキシル基、2,2,4−トリメチルペンチル基、t−オクチル基、n−ノニル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、n−デシル基、4−エチルオクチル基、4−エチル−4,5−ジメチルヘキシル基、4−t−ブチルシクロヘキシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、1,3,5,7−テトラメチルオクチル基、4−ブチルオクチル基、6,6−ジエチルオクチル基、n−トリデシル基、6−メチル−4−ブチルオクチル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、3,5−ジメチルヘプタデシル基、2,6−ジメチルヘプタデシル基、2,4−ジメチルヘプタデシル基、2,2,5,5−テトラメチルヘキシル基、1−シクロペンチル−2,2−ジメチルプロピル基、1−シクロヘキシル−2,2−ジメチルプロピル基、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルシクロヘキシル基、n−オクタデシル基等が挙げられる。
As an alkyl group in R < 3 > , R <402> and R <403> , a C1-C20 linear, branched or cyclic alkyl group is mentioned, for example.
Specifically, as a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group, an iso-butyl group, a sec- Butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, neo-pentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, cyclopentyl group, n-hexyl Group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1,1,2-trimethylbutyl group 1-ethyl-2-methylpropyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2,4-dimethylpentyl group , N-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 2,4-dimethylhexyl group, 2,2,4-trimethylpentyl group, t-octyl group, n-nonyl group, 3,5 3,5-trimethylhexyl group, n-decyl group, 4-ethyloctyl group, 4-ethyl-4,5-dimethylhexyl group, 4-t-butylcyclohexyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, 1, 3,5,7-Tetramethyloctyl group, 4-butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, n-tridecyl group, 6-methyl-4-butyloctyl group, n- Tradecyl, n-pentadecyl, 3,5-dimethylheptadecyl, 2,6-dimethylheptadecyl, 2,4-dimethylheptadecyl, 2,2,5,5-tetramethylhexyl, 1- Examples thereof include a cyclopentyl-2,2-dimethylpropyl group, a 1-cyclohexyl-2,2-dimethylpropyl group, a 2,6-di-t-butyl-4-methylcyclohexyl group, an n-octadecyl group and the like.

置換基を有していてもよいアルキル基における置換基は特に限定されず、炭素数6〜10の単環又は多環の芳香環基(フェニル基、ナフチル基等)、炭素数1〜8の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基(アルキルの炭素数は1〜8)、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、炭素数1〜8のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜10のアシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、ピバロイル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ベンゾイル基、トルオイル基、シンナモイル基、アニソイル基、ナフトイル基等)、炭素数2〜10のアシルオキシ基等が挙げられる。   The substituent in the alkyl group which may have a substituent is not particularly limited, and is a monocyclic or polycyclic aromatic ring group having 6 to 10 carbon atoms (phenyl group, naphthyl group, etc.), 1 to 8 carbon atoms Linear, branched or cyclic alkoxy group, amino group, mono- or di-alkylamino group (alkyl carbon number is 1 to 8), halogen atom, cyano group, hydroxy group, nitro group, carboxy group, carbon number 1 To 8 alkoxycarbonyl groups, acyl groups having 2 to 10 carbon atoms (eg, acetyl group, propionyl group, butyryl group, valeryl group, pivaloyl group, acryloyl group, methacryloyl group, benzoyl group, toluoyl group, cinnamoyl group, anisoyl group , Naphthoyl group, etc., an acyloxy group having 2 to 10 carbon atoms, and the like.

、R402及びR403におけるアリール基として、炭素数6〜20の単環又は多環の芳香環基が挙げられる。
炭素数6〜20の単環又は多環の芳香環基として、具体的には、フェニル基等の単環の芳香族炭化水素基;ナフチル基、アントラセニル基、ナフタセニル基、ペンタセニル基、フェナントレニル基、ピレニル基等の多環の芳香族炭化水素基が挙げられる。
置換基を有していてもよいアリール基における置換基は特に限定されず、例えば、炭素数1〜8の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基(アルキルの炭素数は1〜8)、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、炭素数1〜8のハロゲン化炭化水素基、カルボキシ基、炭素数1〜8のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。好ましくは、炭素数1〜8の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。例えば、置換基を有するフェニル基及びナフチル基の一例を挙げると、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、N,N−ジメチルアミノフェニル基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル基、フルオロナフチル基、クロロナフチル基、ブロモナフチル基、トリフルオロメチルナフチル基等が挙げられる。
As an aryl group in R < 3 > , R <402> and R <403 >, a C6-C20 monocyclic or polycyclic aromatic ring group is mentioned.
Specific examples of the monocyclic or polycyclic aromatic ring group having 6 to 20 carbon atoms include a monocyclic aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group; naphthyl group, anthracenyl group, naphthacenyl group, pentacenyl group, phenanthrenyl group, Polycyclic aromatic hydrocarbon groups such as pyrenyl group can be mentioned.
The substituent in the aryl group which may have a substituent is not particularly limited. For example, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an amino group, Mono- or di-alkylamino group (alkyl carbon number is 1 to 8), halogen atom, cyano group, hydroxy group, nitro group, halogenated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, carboxy group, 1 to 5 carbon atoms 8 alkoxycarbonyl group etc. are mentioned. Preferably, it is a C1-C8 linear, branched or cyclic alkyl group. For example, to cite one example of phenyl group and naphthyl group having a substituent, nitrophenyl group, cyanophenyl group, hydroxyphenyl group, methylphenyl group, dimethylphenyl group, trimethylphenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group , Bromophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, trifluoromethylphenyl group, N, N-dimethylaminophenyl group, nitronaphthyl group, cyanonaphthyl group, hydroxynaphthyl group, methylnaphthyl group, fluoronaphthyl group, chloronaphthyl group Groups, bromonaphthyl group, trifluoromethylnaphthyl group and the like.

一般式(2)において、R404と、R405と、R404及びR405が結合している窒素原子とで形成される、4〜8員の含窒素複素環は、酸素原子を含む含窒素複素環であってもよい。含窒素複素環としては、非芳香族性含窒素複素環が挙げられる。4〜8員の含窒素複素環として、例えば、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環等の非芳香族性含窒素複素環が挙げられる。
置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環における置換基は特に限定されず、例えば、炭素数1〜8の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、アミノ基、モノ−又はジ−アルキルアミノ基(アルキルの炭素数は1〜8)、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、炭素数1〜8のハロゲン化炭化水素基、カルボキシ基、炭素数1〜8のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。好ましくは、炭素数1〜8の直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。
In the general formula (2), the 4- to 8-membered nitrogen-containing heterocyclic ring formed by R 404 , R 405 and the nitrogen atom to which R 404 and R 405 are bonded is a nitrogen-containing nitrogen atom containing an oxygen atom It may be a heterocycle. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic ring include non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic rings. Examples of the 4- to 8-membered nitrogen-containing heterocyclic ring include non-aromatic nitrogen-containing heterocyclic rings such as pyrrolidine ring, piperidine ring, piperazine ring and morpholine ring.
The substituent in the 4-8 membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may have a substituent is not particularly limited, and, for example, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, 1 to 8 carbon atoms Alkoxy group, amino group, mono- or di-alkylamino group (alkyl carbon number is 1 to 8), halogen atom, cyano group, hydroxy group, nitro group, halogenated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, A carboxy group, a C1-C8 alkoxycarbonyl group, etc. are mentioned. Preferably, it is a C1-C8 linear, branched or cyclic alkyl group.

アルキル基、アリール基、含窒素複素環、複素環等の環が置換基を有する場合において、置換基が2以上ある場合には、それぞれの置換基は同一であっても異なっていてもよい。   When rings, such as an alkyl group, an aryl group, a nitrogen-containing heterocyclic ring, and a heterocyclic ring, have a substituent, when there are two or more substituents, each substituent may be the same or different.

一般式(2)中の各基の好ましい態様についてさらに説明する。
は、好ましくは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又はシアノ基であり、より好ましくは水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜5のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子である。
The preferable aspect of each group in General formula (2) is further demonstrated.
R 3 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or a cyano group, and more preferably a hydrogen atom or a carbon number 1 which may have a substituent. It is an alkyl group of 5 to 5, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably a hydrogen atom.

402は、好ましくは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基又はアルコキシ基であり、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基がより好ましい。より好ましくは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜5のアルキル基であり、さらに好ましくは、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基であり、特に好ましくはメチル基である。 R 402 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an alkoxy group, The C1-C20 alkyl group which may have a substituent is more preferable. More preferably, it is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent, still more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably a methyl group It is.

403は、好ましくは−OR408である。R408は、好ましくは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基であり、より好ましくは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜5のアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数1〜3のアルキル基であり、特に好ましくはエチル基である。
本発明の一態様において、R402及びR403は、少なくともどちらか一方が水素原子以外の置換基であることが好ましく、R402及びR403が、同一又は異なって、水素原子以外の置換基であることがより好ましい。
R 403 is preferably -OR 408 . R 408 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, more preferably And a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably an ethyl group.
In one aspect of the present invention, at least one of R 402 and R 403 is preferably a substituent other than a hydrogen atom, and R 402 and R 403 are the same or different and are a substituent other than a hydrogen atom. It is more preferable that

404及びR405は、同一又は異なって、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基であり、より好ましくは炭素数1〜10のアルキル基又は炭素数6〜10のアリール基であり、さらに好ましくは炭素数1〜10のアルキル基であり、特に好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基である。
406、R407、R408、R409、R410及びR411は、同一又は異なって、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基である。
R 404 and R 405 are the same or different, preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent And more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, still more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and particularly preferably a methyl group, an ethyl group, or n- Propyl and n-butyl.
R406 , R407 , R408 , R409 , R410 and R411 are the same or different, and preferably have an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent or a substituent It is a C6-C20 aryl group which may be.

一般式(1)においてmが1又は2である化合物として、上記一般式(3)で表される化合物(化合物(3))、一般式(5)で表される化合物(化合物(5))等が好ましい。   As a compound in which m is 1 or 2 in the general formula (1), a compound represented by the above general formula (3) (compound (3)), a compound represented by the general formula (5) (compound (5)) Etc. is preferred.

本発明の一態様においては、化合物(1)として化合物(3)が好ましい。化合物(3)は、耐光性に優れるため好ましい。
一般式(3)中、R1aは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表し、R2aは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−C(O)−R7a又は−SO−R8aを表す。R7aは、ヒドロキシ基又は−OR71aを表し、R8aは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−OR81a、−NR82a83a又は−R84aを表す。R71a及びR81a〜R84aは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
In one aspect of the present invention, compound (3) is preferred as compound (1). The compound (3) is preferable because it is excellent in light resistance.
In the general formula (3), R 1a is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. R 2a represents a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a heterocycle-containing group, -C (O) -R 7a or -SO 2 -R 8a . R 7a represents a hydroxy group or -OR 71a , and R 8a represents a halogen atom, a hydroxy group, -OR 81a , -NR 82a R 83a or -R 84a . R 71 a and R 81 a to R 84 a are the same or different and each is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent Represents an aryl group of

1aの好ましい態様は、上述したRの好ましい態様と同じである。
2aは、シアノ基、複素環含有基、又は、−C(O)−R7aが好ましく、シアノ基又は−C(O)−OR71aがより好ましい。R71a、R81a、R82a、R83a及びR84aの好ましい態様は、上述したR71、R81、R82、R83及びR84の好ましい態様とそれぞれ同じである。
Preferred embodiments of R 1a are the same as the preferred embodiments of R 1 described above.
R 2a is preferably a cyano group, a heterocycle-containing group or -C (O) -R 7a, more preferably a cyano group or -C (O) -OR 71a . Preferred embodiments of R 71a , R 81a , R 82a , R 83a and R 84a are the same as the preferred embodiments of R 71 , R 81 , R 82 , R 83 and R 84 described above.

一般式(3)中、R3aは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
402aは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、−NR406a407a、−OR408a、シアノ基、−C(O)R409a、−O−C(O)R410a又は−C(O)OR411aを表し、R404a〜R411aは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R404aと、R405aと、R404a及びR405aが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環を形成してもよい。
3a、R402a、R404a、R405a、R406a、R407a、R408a、R409a、R410a及びR411aの好ましい態様は、上述したR、R402、R404、R405、R406、R407、R408、R409、R410及びR411の好ましい態様とそれぞれ同じである。
In the general formula (3), R 3a is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or 6 carbon atoms which may have a substituent And an aryl group of -20.
R 402a is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, -NR 406a R 407a , -OR 408a , cyano group, -C (O) R 409a , -OC (O) R 410a or -C (O) OR 411a , wherein R 404a to R 411a are the same or different and hydrogen; This represents an atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. R 404 a , R 405 a, and the nitrogen atom to which R 404 a and R 405 a are bonded may form a 4- to 8-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may have a substituent.
Preferred embodiments of R 3a , R 402a , R 404a , R 405a , R 406a , R 407a , R 408a , R 409a , R 409a , R 410a and R 411a are the same as described above for R 3 , R 402 , R 404 , R 405 , R 406 , R 407 , R 408 , R 409 , R 410 and R 411 are respectively the same as the preferred embodiments.

一般式(3)中、R413は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表すか、又は、上記一般式(4)で表される基を表す。R413は、好ましくは、置換基を有していてもよい炭素数1〜5のアルキル基又は一般式(4)で表される基であり、より好ましくは炭素数1〜3のアルキル基又は一般式(4)で表される基であり、さらに好ましくはエチル基又は上記一般式(4)で表される基である。本発明の一態様においては、R413は、一般式(4)で表される基であることが好ましい。 In the general formula (3), R 413 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. Or a group represented by the above general formula (4). R 413 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent or a group represented by the general formula (4), and more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or It is a group represented by the general formula (4), more preferably an ethyl group or a group represented by the above general formula (4). In one aspect of the present invention, R 413 is preferably a group represented by General Formula (4).

一般式(4)中、Qは置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基を表し、*は一般式(3)との結合部位を表す。一般式(4)において、Qが一般式(3)に結合している。Qにおける置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基及びその好ましい態様は、上述したQにおける置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基及びその好ましい態様と同じである。 In General Formula (4), Q 2 represents a C 1 to C 20 divalent hydrocarbon group which may have a substituent, and * represents a bonding site to General Formula (3). In the general formula (4), Q 2 is bonded to the general formula (3). The C 1 to C 20 divalent hydrocarbon group which may have a substituent in Q 2 and the preferable embodiment thereof are the C 1 to 20 carbon optionally having a substituent in Q 1 described above It is the same as the divalent hydrocarbon group and its preferred embodiment.

一般式(4)中、R1bは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表し、R2bは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−C(O)−R7b又は−SO−R8bを表す。R7bは、ヒドロキシ基又は−OR71bを表し、R8bは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−OR81b、−NR82b83b又は−R84bを表す。R71b及びR81b〜R84bは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
1bの好ましい態様は、上述したRの好ましい態様と同じである。
2bは、シアノ基、複素環含有基、又は、−C(O)−R7bが好ましく、シアノ基又は−C(O)−OR71bがより好ましい。R71b、R81b、R82b、R83b及びR84bの好ましい態様は、上述したR71、R81、R82、R83及びR84の好ましい態様とそれぞれ同じである。
In the general formula (4), R 1b is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. R 2b represents a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a heterocyclic group, -C (O) -R 7b or -SO 2 -R 8b . R 7b represents a hydroxy group or -OR 71b , and R 8b represents a halogen atom, a hydroxy group, -OR 81b , -NR 82b R 83b or -R 84b . R 71 b and R 81 b to R 84 b are the same or different and each is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent Represents an aryl group of
Preferred embodiments of R 1b are the same as the preferred embodiments of R 1 described above.
R 2b is preferably a cyano group, a heterocycle-containing group, or -C (O) -R 7b, more preferably a cyano group or -C (O) -OR 71b . Preferred embodiments of R 71b , R 81b , R 82b , R 83b and R 84b are the same as the preferred embodiments of R 71 , R 81 , R 82 , R 83 and R 84 described above.

一般式(4)中、R3bは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
402bは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、−NR406b407b、−OR408b、シアノ基、−C(O)R409b、−O−C(O)R410b又は−C(O)OR411bを表し、R404b〜R411bは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R404bと、R405bと、R404b及びR405bが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環を形成してもよい。
3b、R402b、R404b、R405a、R406b、R407b、R408b、R409b、R410b及びR411bの好ましい態様は、上述したR、R402、R404、R405、R406、R407、R408、R409、R410及びR411の好ましい態様とそれぞれ同じである。
In the general formula (4), R 3b is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or 6 carbon atoms which may have a substituent And an aryl group of -20.
R 402b is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, -NR 406b R 407 b , -OR 408 b , cyano group, -C (O) R 409 b , -O-C (O) R 410 b or -C (O) OR 411 b , and R 404 b to R 411 b are the same or different and hydrogen; This represents an atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. R 404 b , R 405 b, and the nitrogen atom to which R 404 b and R 405 b are bonded may form a 4- to 8-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may have a substituent.
Preferred embodiments of R 3b , R 402b , R 404b , R 405a , R 406b , R 407b , R 408b , R 409b , R 410b and R 411b are the same as described above for R 3 , R 402 , R 404 , R 405 , R 406 and R 406. , R 407 , R 408 , R 409 , R 410 and R 411 are respectively the same as the preferred embodiments.

化合物(1)として、化合物(5)も好ましい。
一般式(5)中、R2cは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−C(O)−R7c又は−SO−R8cを表す。R7cは、ヒドロキシ基又は−OR71cを表し、R8cは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−OR81c、−NR82c83c又は−R84cを表す。R71c及びR81c〜R84cは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R2cは、シアノ基、複素環含有基、又は−C(O)−R7cが好ましく、シアノ基又は−C(O)−OR71cがより好ましい。
71c、R81c、R82c、R83c及びR84cの好ましい態様は、上述したR71、R81、R82、R83及びR84の好ましい態様とそれぞれ同じである。
As the compound (1), the compound (5) is also preferred.
In the general formula (5), R 2c represents a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a heterocyclic ring-containing group, a -C (O) -R 7c or -SO 2 -R 8c. R 7c represents a hydroxy group or -OR 71c , and R 8c represents a halogen atom, a hydroxy group, -OR 81c , -NR 82c R 83c or -R 84c . R 71c and R 81c to R 84c are the same or different, a hydrogen atom, the number alkyl group or may have a substituent group carbons having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent having 6 to 20 Represents an aryl group of R 2c is preferably a cyano group, a heterocycle-containing group, or -C (O) -R 7c, more preferably a cyano group or -C (O) -OR 71c .
Preferred embodiments of R 71c , R 81c , R 82c , R 83c and R 84c are the same as the preferred embodiments of R 71 , R 81 , R 82 , R 83 and R 84 described above.

一般式(5)中、R3cは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
402c及びR403cは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、−NR406c407c、−OR408c、シアノ基、−C(O)R409c、−O−C(O)R410c又は−C(O)OR411cを表し、R404c〜R411cは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R404cと、R405cと、R404c及びR405cが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環を形成してもよい。
3c、R402c、R403c、R404c、R405c、R406c、R407c、R408c、R409c、R410c及びR411cの好ましい態様は、上述したR、R402、R403、R404、R405、R406、R407、R408、R409、R410及びR411の好ましい態様とそれぞれ同じである。
In the general formula (5), R 3c is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or 6 carbon atoms which may have a substituent And an aryl group of -20.
R 402c and R 403c are the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent aryl group, -NR 406c R 407c, represent -OR 408 c, a cyano group, -C (O) R 409c, a -O-C (O) R 410c or -C (O) oR 411c, R 404c ~R 411c The same or different and each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. And R 404c, and R 405c, R 404c and R 405c together with the nitrogen to atom to which they are attached, may form a nitrogen-containing heterocycle 4-8 membered which may have a substituent.
Preferred embodiments of R 3c , R 402c , R 403c , R 404c , R 405c , R 406c , R 407c , R 408c , R 409c , R 410c and R 411c are the same as described above for R 3 , R 402 , R 403 and R 404 , R 405 , R 406 , R 407 , R 408 , R 409 , R 410 and R 411 are respectively the same as the preferable embodiments.

一般式(5)中、R501は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、又は、上記一般式(6)で表される基を表す。R501は、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基、4−t−ブチルシクロヘキシル基、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルシクロヘキシル基等)、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基(例えば、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基等)、又は、上記一般式(6)で表される基である。本発明の一態様においては、R501は、上記一般式(6)で表される基であることが好ましい。 In the general formula (5), R 501 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, Or, it represents a group represented by the above general formula (6). R 501 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent (eg, methyl group, ethyl group, t-butyl group, cyclohexyl group, 4-t-butylcyclohexyl group, 2, 6-di-t-butyl-4-methylcyclohexyl and the like), an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent (eg, phenyl group, methylphenyl group, dimethylphenyl group, trimethylphenyl group) And the like, or a group represented by the above general formula (6). In one aspect of the present invention, R 501 is preferably a group represented by the above general formula (6).

一般式(6)中、Qは、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基を表し、*は一般式(5)との結合部位を表す。一般式(6)において、Qが一般式(5)に結合している。Qにおける置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基及びその好ましい態様は、上述したQにおける置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基及びその好ましい態様と同じである。一態様においては、Qは、より好ましくは、上記一般式(20)で表され、sが0である2価のアリール基である。 In the general formula (6), Q 3 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent, and * represents a bonding site to the general formula (5). In the general formula (6), Q 3 is bonded to the general formula (5). The C 1 to C 20 divalent hydrocarbon group which may have a substituent in Q 3 and the preferable embodiments thereof are the C 1 to 20 carbon optionally having a substituent in Q 1 described above It is the same as the divalent hydrocarbon group and its preferred embodiment. In one aspect, Q 3 is more preferably a divalent aryl group represented by the above general formula (20) and s is 0.

一般式(6)中、R2dは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、複素環含有基、−C(O)−R7d又は−SO−R8dを表す。R7dは、ヒドロキシ基又は−OR71dを表し、R8dは、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−OR81d、−NR82d83d又は−R84dを表す。R71d及びR81d〜R84dは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
2dは、シアノ基、複素環含有基、又は、−C(O)−R7dが好ましく、シアノ基又は−C(O)−OR71dがより好ましい。R71d、R81d、R82d、R83d及びR84dの好ましい態様は、上述したR71、R81、R82、R83及びR84の好ましい態様とそれぞれ同じである。
In general formula (6), R2d represents a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a heterocyclic group, -C (O) -R 7d or -SO 2 -R 8d . R 7d represents a hydroxy group or -OR 71d , and R 8d represents a halogen atom, a hydroxy group, -OR 81d , -NR 82d R 83d or -R 84d . R 71 d and R 81 d to R 84 d are the same or different and each is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent Represents an aryl group of
R 2d is preferably a cyano group, a heterocycle-containing group, or -C (O) -R 7d, more preferably a cyano group or -C (O) -OR 71d . Preferred embodiments of R 71d , R 81d , R 82d , R 83d and R 84d are the same as the preferred embodiments of R 71 , R 81 , R 82 , R 83 and R 84 described above.

3dは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
402d及びR403dは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、−NR406d407d、−OR408d、シアノ基、−C(O)R409d、−O−C(O)R410d又は−C(O)OR411dを表し、R404d〜R411dは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R404dと、R405dと、R404d及びR405dが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環を形成してもよい。
3d、R402d、R403d、R404d、R405d、R406d、R407d、R408d、R409d、R410d及びR411dの好ましい態様は、上述したR、R402、R403、R404、R405、R406、R407、R408、R409、R410及びR411の好ましい態様とそれぞれ同じである。
R 3d represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent .
R 402d and R 403d are the same or different, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent group, carbon atoms which may have a substituent having 6 to 20 aryl group, -NR 406d R 407d, represents -OR 408d, a cyano group, -C (O) R 409d, a -O-C (O) R 410d or -C (O) oR 411d, R 404d ~R 411d The same or different and each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. R 404 d , R 405 d, and the nitrogen atom to which R 404 d and R 405 d are bonded may form a 4- to 8-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may have a substituent.
Preferred embodiments of R 3d , R 402d , R 403d , R 404d , R 405d , R 406d , R 407d , R 408d , R 409d , R 410d and R 411d are the same as described above for R 3 , R 402 , R 403 and R 404 , R 405 , R 406 , R 407 , R 408 , R 409 , R 410 and R 411 are respectively the same as the preferable embodiments.

化合物(3)は、R413が一般式(4)で表される基である場合は、一般式(1)においてQがQ(置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基)であり、該Qにより、一般式(3)で表される基及び一般式(4)で表される基が両側に連結した2量体構造を有する化合物である。一般式(3)で表される基及び一般式(4)で表される基は、メチン構造を含み、いずれも色素となる構造である。このような色素となる構造が2量体構造となっていることにより分子量が増大するため、化合物が昇華しにくくなって、耐熱性に優れた色素化合物となる。R413が一般式(4)で表される基である化合物(3)は、下記一般式(3−1)で表される化合物である。 Compound (3), when R 413 is a group represented by the general formula (4) has the general formula (1) Q 1 is Q 2 (carbon atoms which may have a substituent 1 to 20 in A compound represented by formula (3), and a group represented by the general formula (3) and a group represented by the general formula (4) according to Q 2: is there. The group represented by the general formula (3) and the group represented by the general formula (4) contain a methine structure, and both have a structure to be a pigment. Since the molecular weight is increased due to the dimer structure of the structure to be such a dye, the compound becomes difficult to sublime, and a dye compound having excellent heat resistance is obtained. The compound (3) in which R 413 is a group represented by general formula (4) is a compound represented by the following general formula (3-1).

Figure 0006510113
Figure 0006510113

上記式(3−1)中、R1a、R2a、R3a、R402a、R404a及びR405a、並びに、Q、R1b、R2b、R3b、R402b、R404b及びR405bは、それぞれ上記と同義である。 In the above formula (3-1), R 1a , R 2a , R 3a , R 402a , R 404a and R 405a , and Q 2 , R 1b , R 2b , R 3b , R 402b , R 404b and R 405b are , And the same as the above.

化合物(5)は、R501が一般式(6)で表される基である場合は、一般式(1)においてQがQ(置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基)であり、該Qにより、一般式(5)で表される基及び一般式(6)で表される基が両側に連結した2量体構造を有する化合物である。一般式(5)で表される基及び一般式(6)で表される構造は、メチン構造を含み、色素となる構造である。このような色素となる構造が2量体構造となっていることにより分子量が増大するため、化合物が昇華しにくくなって、耐熱性に優れた色素化合物となる。
501が一般式(6)で表される基である化合物(5)は、下記一般式(5−1)で表される化合物である。
Compound (5), when R 501 is a group represented by the general formula (6) has the general formula (1) Q 1 is Q 3 (carbon atoms which may have a substituent 1 to 20 in Compounds having a dimer structure in which the group represented by the general formula (5) and the group represented by the general formula (6) are linked on both sides by Q 3 ; is there. The group represented by the general formula (5) and the structure represented by the general formula (6) include a methine structure and are structures to be dyes. Since the molecular weight is increased due to the dimer structure of the structure to be such a dye, the compound becomes difficult to sublime, and a dye compound having excellent heat resistance is obtained.
The compound (5) in which R 501 is a group represented by general formula (6) is a compound represented by the following general formula (5-1).

Figure 0006510113
Figure 0006510113

上記一般式(5−1)中、R2c、R3c、R402c、R403c、R404c及びR405c、並びに、Q、R2d、R3d、R402d、R403d、R404d及びR405dは、上記と同義である。 In the above general formula (5-1), R 2c , R 3c , R 402c , R 403c , R 404c and R 405c , and Q 3 , R 2d , R 3d , R 402d , R 403d , R 404d and R 405d Is as defined above.

本発明の化合物(1)の好ましい態様の一例として、例えば、実施例で製造した化合物C1〜C5等が挙げられる。中でも、耐光性が高いことから、化合物C1、C2及びC5が好ましい。耐熱性が高い点から、化合物C1〜C3が好ましい。有機溶媒への溶解度が高い点では、化合物C1〜C5が好ましい。化合物C1〜C5は、化合物(3)の一例である。   As an example of the preferable aspect of a compound (1) of this invention, compound C1-C5 etc. which were manufactured by the Example are mentioned, for example. Among them, compounds C1, C2 and C5 are preferable because of their high light resistance. Compounds C1 to C3 are preferable in terms of high heat resistance. Compounds C1 to C5 are preferred in terms of high solubility in organic solvents. Compounds C1 to C5 are an example of compound (3).

本発明の化合物(1)の製造方法は特に限定されず、例えば、以下の方法により製造することができる。本発明の化合物の製造方法について、以下に合成方法の一例を挙げて説明するが、本発明の化合物(1)の製造方法は下記方法に限定されるものではない。また、後述の反応を行う際に、当該部位以外の官能基については、必要に応じてあらかじめ適当な保護基により保護しておき、適当な段階においてこれを脱保護してもよい。   The method for producing the compound (1) of the present invention is not particularly limited, and can be produced, for example, by the following method. The method for producing the compound of the present invention will be described below with reference to an example of the synthesis method, but the method for producing the compound (1) of the present invention is not limited to the following method. Moreover, when performing the below-mentioned reaction, about functional groups other than the said site | part, you may protect beforehand with a suitable protective group as needed, and you may deprotect this at an appropriate stage.

本発明の一態様として、一般式(1)で表される化合物が下記一般式(11)で表される化合物(化合物(11))である場合、例えば、次のような方法により合成することができる。化合物(11)は、本発明の化合物(1)の一例であり、一般式(1)においてmが2である化合物(二量体化合物)である。化合物(11)は、化合物(3)において、R413が一般式(4)で表される基である化合物の一例ともいえる。下記では、化合物(M4)に化合物(M21)を脱水縮合反応させることにより化合物(11)が得られる。 In one embodiment of the present invention, when the compound represented by the general formula (1) is a compound represented by the following general formula (11) (compound (11)), for example, the compound is synthesized by the following method Can. The compound (11) is an example of the compound (1) of the present invention, and is a compound (dimeric compound) in which m is 2 in the general formula (1). The compound (11) can be said to be an example of a compound in which in the compound (3), R 413 is a group represented by the general formula (4). In the following, compound (M21) is subjected to dehydration condensation reaction with compound (M4) to obtain compound (11).

Figure 0006510113
Figure 0006510113

上記反応式中、Qは、2価の連結基を表す。R1f、R2f及びこれらの好ましい態様は、上述したR、R及びこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。R402f、R404f及びR405f並びにこれらの好ましい態様は、上述したR402、R404及びR405並びにこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。Qにおける2価の連結基は、Qにおける2価の連結基と同じである。Qは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基である。 In the above reaction formula, Q f represents a divalent linking group. R 1f , R 2f and their preferred embodiments are the same as R 1 and R 2 described above and their preferred embodiments, respectively. R 402f, R 404f and R 405 f as well as a preferred embodiment thereof are respectively R 402, R 404 and R 405 and their preferred embodiments as described above the same. The divalent linking group in Q f is the same as the divalent linking group in Q 1 . Q f is preferably a divalent C 1-20 hydrocarbon group which may have a substituent.

Figure 0006510113
Figure 0006510113

で表される波線(上記の波線は化学式中の波線に同じ)は、単結合であって、それが結合している二重結合についての立体配置が、それぞれ独立して、E配置若しくはZ配置又はそれらの混合であることを示す。以下も同様である。 The wavy line represented by (the above wavy line is the same as the wavy line in the chemical formula) is a single bond, and the configuration for the double bond to which it is attached is independently an E configuration or a Z configuration. Or indicate that they are mixed. The same applies to the following.

化合物(M4)は、例えば、下記一般式(M1)で表される化合物(M1)にジハロゲン化アルキル化合物を反応させて化合物(M1)のヒドロキシ基をアルコキシ化することにより得ることができる。化合物(M1)は、Journal of the Chemical Society 1957,4845に記載の方法に従って得ることができる。   The compound (M4) can be obtained, for example, by reacting a compound (M1) represented by the following general formula (M1) with a dihalogenated alkyl compound to alkoxylate the hydroxy group of the compound (M1). The compound (M1) can be obtained according to the method described in the Journal of the Chemical Society 1957, 4845.

Figure 0006510113
Figure 0006510113

上記一般式(M1)中、R402f、R404f及びR405fは、上記と同義である。
また、化合物(11)は、化合物(M1)と化合物(M21)とを脱水縮合させた後、アルコキシ化により二量化して得ることも可能である。
In the above general formula (M1), R 402f , R 404f and R 405f are as defined above.
The compound (11) can also be obtained by dimerization of the compound (M1) and the compound (M21) by dehydration after condensation of the compound (M1) and the compound (M21).

一般式(1)で表される化合物が下記一般式(12)で表される化合物(化合物(12))である場合は、例えば、次のような方法により合成することができる。化合物(12)は、本発明の化合物(1)の一例であり、二量体化合物である。化合物(12)は、化合物(5)において、R501が一般式(6)で表される基である化合物の一例ともいえる。下記では、化合物(M2−1)に化合物(M22)を脱水縮合反応させることにより化合物(12)が得られる。 When the compound represented by General formula (1) is a compound (compound (12)) represented by following General formula (12), it can synthesize | combine, for example by the following methods. The compound (12) is an example of the compound (1) of the present invention, and is a dimer compound. The compound (12) can be said to be an example of a compound in which R 501 is a group represented by general formula (6) in the compound (5). Below, a compound (12) is obtained by dehydrating-condensing a compound (M22) with a compound (M2-1).

Figure 0006510113
Figure 0006510113

上記反応式中、R2g及びその好ましい態様は、上述したR2c及びこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。Wは、−C(O)−O−Q−O−C(O)−を表し、Qは、2価の連結基を表す。Qにおける2価の連結基は、Qにおける2価の連結基と同じである。Qは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基である。R402g、R403g、R404g及びR405g並びにこれらの好ましい態様は、上述したR402、R403、R404及びR405並びにこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。
化合物(M2−1)及び後記の化合物(M2−2)は、例えば、上記化合物(M1)のヒドロキシ基をアルコキシ化することにより得ることができる。
また、化合物(12)は、上記の化合物(M21)と化合物(M2−1)とを脱水縮合させた後、R1fで連結させてWとして二量化して得ることも可能である。
In the above reaction scheme , R 2g and its preferred embodiments are respectively the same as R 2c described above and their preferred embodiments. W g represents -C (O) -O-Q g -O-C (O)-, and Q g represents a divalent linking group. The divalent linking group in Q g is the same as the divalent linking group in Q 1 . Q g is preferably a C 1 to C 20 divalent hydrocarbon group which may have a substituent. R 402g, R 403g, R 404g and R 405 g and a preferred embodiment thereof is R 402 described above, R 403, R 404 and R 405 and each and these preferred embodiments the same.
The compound (M2-1) and the compound (M2-2) described later can be obtained, for example, by alkoxylating the hydroxy group of the compound (M1).
The compound (12) can also be obtained by dehydrating condensation of the compound (M21) and the compound (M2-1) and then linking with R 1 f to dimerize as W g .

一般式(1)で表される化合物が下記一般式(13)で表される化合物(化合物(13))である場合は、例えば、次のような方法により合成することができる。化合物(13)は、本発明の化合物(1)の一例であり、単量体化合物(一般式(1)中のmが1)である。化合物(13)は、化合物(3)において、R413が水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す化合物の一例でもある。下記では、化合物(M2−2)に化合物(M23)を脱水縮合反応させることにより化合物(13)が得られる。 When the compound represented by General Formula (1) is a compound (Compound (13)) represented by the following General Formula (13), for example, it can be synthesized by the following method. The compound (13) is an example of the compound (1) of the present invention, and the monomer compound (m in the general formula (1) is 1). In the compound (3), in the compound (3), R 413 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. It is also an example of a compound representing an aryl group of In the following, compound (M2) is subjected to dehydration condensation reaction with compound (M23) to obtain compound (13).

Figure 0006510113
Figure 0006510113

上記式中、R402h、R403h、R404h及びR405h並びにこれらの好ましい態様は、上述したR402、R403、R404及びR405並びにこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。R1h、R2h及びこれらの好ましい態様は、上述したR、R及びこれらの好ましい態様とそれぞれ同じである。 In the above formulas, R 402h , R 403h , R 404h and R 405h and their preferred embodiments are the same as the aforementioned R 402 , R 403 , R 404 and R 405 and their preferred embodiments, respectively. R 1h , R 2h and their preferred embodiments are the same as R 1 and R 2 described above and their preferred embodiments, respectively.

上記の製造方法における各生成物の単離や精製は、通常の有機合成で用いられる方法、例えば濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、結晶化、各種クロマトグラフィー等を適宜組み合わせて行うことができる。また、中間体においては、特に精製せずに次の反応に供することも可能である。   The isolation and purification of each product in the above production method can be carried out by appropriately combining methods used in ordinary organic synthesis, such as filtration, extraction, washing, drying, concentration, crystallization, various chromatographies, etc. . In addition, intermediates can be subjected to the next reaction without particular purification.

本発明の化合物(1)は、通常360〜430nmに吸収極大波長を有するものである。360〜430nmに吸収極大波長を有すると、紫外線、青色の光を選択的に吸収することができる。本発明の化合物(1)は、370〜420nmに吸収極大波長を有することが好ましく、380〜400nmに吸収極大波長を有することがより好ましい。また、本発明の化合物(1)は、400nmのグラム吸光係数が30以上であることも好ましい。吸収極大波長及びグラム吸光係数は、実施例に記載の方法で測定することができる。
また、本発明の化合物(1)は、通常、有機溶媒への溶解性が良好である。
The compound (1) of the present invention usually has an absorption maximum wavelength at 360 to 430 nm. If it has an absorption maximum wavelength in 360-430 nm, ultraviolet light and blue light can be selectively absorbed. The compound (1) of the present invention preferably has an absorption maximum wavelength at 370 to 420 nm, and more preferably an absorption maximum wavelength at 380 to 400 nm. In addition, the compound (1) of the present invention preferably has a gram absorption coefficient of 400 nm of 30 or more. The absorption maximum wavelength and the gram absorption coefficient can be measured by the methods described in the examples.
In addition, the compound (1) of the present invention generally has good solubility in organic solvents.

本発明の化合物(1)は、以下の有機溶媒に溶解する化合物であることが好ましい。
有機溶媒としては、例えば、芳香族炭化水素類(例えば、トルエン、キシレン等)、ケトン類(メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等)、エーテル類(例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等)、エステル類(例えば、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル等)及びこれらの2種以上の混合溶媒が挙げられる。
化合物(1)は、上記有機溶媒の少なくとも1種に対し、0.1質量%以上溶解することが好ましく、例えば、0.1質量%以上50質量%以下溶解することが好ましく、1質量%以上40質量%以下溶解することがより好ましく、3質量%以上30質量%以下溶解することが更に好ましい。より好ましくは、20℃における有機溶媒に対する溶解性がこのような範囲にあることである。有機溶媒に対する溶解性がこのような範囲にあると、本発明の化合物(1)を、例えば、光学部材の製造に使用する際に、製造性が良好であるため好ましい。
The compound (1) of the present invention is preferably a compound that dissolves in the following organic solvent.
Examples of the organic solvent include aromatic hydrocarbons (eg, toluene, xylene etc.), ketones (methyl ethyl ketone, acetone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone etc.), ethers (eg propylene glycol monomethyl ether acetate) , Methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether etc., esters (eg methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl lactate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate) And the like, and mixed solvents of two or more thereof.
The compound (1) is preferably dissolved in at least one of the organic solvents in an amount of 0.1% by mass or more, for example, 0.1% by mass or more and 50% by mass or less, preferably 1% by mass or more It is more preferable to dissolve 40% by mass or less, and it is further preferable to dissolve 3% by mass to 30% by mass. More preferably, the solubility in an organic solvent at 20 ° C. is in such a range. When the solubility in an organic solvent is in such a range, for example, when the compound (1) of the present invention is used for the production of an optical member, it is preferable because the productivity is good.

本発明の化合物(1)は、その熱分解温度が200℃以上であることが好ましく、210℃以上がより好ましく、例えば、250〜400℃であることが好ましい。熱分解温度は、熱重量測定装置により測定することができる。   It is preferable that the thermal decomposition temperature of the compound (1) of this invention is 200 degreeC or more, 210 degreeC or more is more preferable, for example, it is preferable that it is 250-400 degreeC. The thermal decomposition temperature can be measured by a thermogravimetric apparatus.

本発明の化合物(1)は、通常、360〜430nmに吸収極大波長を持ち、この波長の光を効果的に吸収することができる。本発明の化合物(1)は400nm付近の光を効果的に吸収することができる。一態様として、本発明の化合物(1)は、2〜6量体化合物(一般式(1)においてmが2〜6)であると、耐熱性を向上させることができる。また、本発明の好ましい態様において、本発明の化合物(1)は、有機溶媒への溶解性に優れるものである。このため本発明の化合物(1)は、例えば、光学部材等に好適に使用される。   The compound (1) of the present invention usually has an absorption maximum wavelength at 360 to 430 nm, and can effectively absorb light of this wavelength. The compound (1) of the present invention can effectively absorb light around 400 nm. In one aspect, the compound (1) of the present invention can improve heat resistance when it is a 2- to 6-mer compound (m is 2 to 6 in the general formula (1)). In a preferred embodiment of the present invention, the compound (1) of the present invention is excellent in solubility in an organic solvent. Therefore, the compound (1) of the present invention is suitably used, for example, in an optical member and the like.

<色素化合物>
前記の吸収極大波長を360〜430nmに持つ化合物(1)は、色素化合物として使用することができる。前記化合物(1)のなかでも吸収スペクトルの吸収極大波長が380〜430nmの波長領域に存在する色素化合物が好適に用いられる。色素化合物の吸収スペクトルの吸収極大波長は、380〜420nmの波長領域に存在することがより好ましい。本発明においては、このような色素化合物と前記紫外線吸収剤を組み合わせて用いることで、例えば、有機EL素子の発光に影響しない領域(波長380nm〜430nm)の光を十分に吸収することができ、かつ、有機EL素子の発光領域(430nmよりも長波長側)は十分に透過することができるものであり、その結果、有機EL素子の外光による劣化を抑制することができる。また、色素化合物は前記波長特性を有するものであれば特に限定されないが、有機EL素子の表示性を阻害しないような、蛍光及び燐光性能(フォトルミネセンス)を有しない材料が好ましい。
<Color compound>
The compound (1) having the absorption maximum wavelength at 360 to 430 nm can be used as a dye compound. Among the compounds (1), a dye compound having an absorption maximum wavelength in the absorption spectrum in a wavelength range of 380 to 430 nm is suitably used. The absorption maximum wavelength of the absorption spectrum of the dye compound is more preferably in the wavelength range of 380 to 420 nm. In the present invention, by using such a dye compound and the ultraviolet absorber in combination, for example, light in a region (wavelength 380 nm to 430 nm) which does not affect light emission of the organic EL element can be sufficiently absorbed. In addition, the light emitting region (longer wavelength than 430 nm) of the organic EL element can be sufficiently transmitted, and as a result, deterioration of the organic EL element due to external light can be suppressed. The dye compound is not particularly limited as long as it has the above-mentioned wavelength characteristics, but a material having neither fluorescence nor phosphorescence performance (photoluminescence) which does not inhibit the display performance of the organic EL element is preferable.

また、前記色素化合物の半値幅は、特に限定されるものではないが、80nm以下であることが好ましく、5〜70nmであることがより好ましく、10〜60nmであることがさらに好ましい。色素化合物の半値幅が、前記範囲にあることで、有機EL素子の発光に影響しない領域の光を十分に吸収しつつ、430nmよりも長波長側の光は十分に透過するコントロールが可能となるため好ましい。なお、半値幅の測定方法は、以下に記載の方法による。
<半値幅の測定方法>
色素化合物の半値幅は、紫外可視分光光度計(U−4100、(株)日立ハイテクサイエンス製)を使用し、以下の条件で色素化合物の溶液の透過吸光スペクトルから測定した。吸収極大波長の吸光度が1.0となるよう濃度を調整して測定した分光スペクトルから、ピーク値の50%になる2点間の波長の間隔(半値全幅)をその色素化合物の半値幅とした。
(測定条件)
溶媒:トルエン又はクロロホルム
セル:石英セル
光路長:10mm
The half-width of the dye compound is not particularly limited, but is preferably 80 nm or less, more preferably 5 to 70 nm, and still more preferably 10 to 60 nm. When the full width at half maximum of the dye compound is in the above range, it is possible to sufficiently transmit light in a region that does not affect the light emission of the organic EL element while transmitting sufficient light at wavelengths longer than 430 nm. Because it is preferable. In addition, the measuring method of a half value width is based on the method as described below.
<Method of measuring half width>
The full width at half maximum of the dye compound was measured from the transmission absorption spectrum of the solution of the dye compound under the following conditions using an ultraviolet-visible spectrophotometer (U-4100, manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.). From the spectrum measured by adjusting the concentration so that the absorbance at the absorption maximum wavelength is 1.0, the distance (full width at half maximum) between two points at which 50% of the peak value is obtained was taken as the half width of the dye compound .
(Measurement condition)
Solvent: toluene or chloroform Cell: quartz cell Optical path length: 10 mm

前記化合物(1)、特に前記色素化合物は、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量は、前記ベースポリマー(又はそのポリマーを形成するモノマー成分)100重量部に対して、0.01〜10重量部程度であることが好ましく、0.02〜5重量部程度であることがより好ましい。前記化合物(1)、特に前記色素化合物の添加量を前記範囲とすることで、例えば、有機EL素子の発光に影響しない領域の光を十分に吸収することができ、当該粘着剤組成物から形成される粘着剤層を用いることで、有機EL素子の劣化を抑制することができるため、好ましい。   The compound (1), in particular, the dye compound may be used alone or in combination of two or more, but the total content is based on the base polymer (or its polymer) The amount is preferably about 0.01 to 10 parts by weight, and more preferably about 0.02 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the monomer component to be formed. By setting the addition amount of the compound (1), particularly the dye compound, in the above range, for example, light of a region not affecting light emission of the organic EL element can be sufficiently absorbed, and the compound is formed from the pressure-sensitive adhesive composition It is preferable to use the pressure-sensitive adhesive layer, because deterioration of the organic EL element can be suppressed.

<紫外線吸収剤>
前記紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、オキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤等を挙げることができ、これらを1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好ましく、1分子中にヒドロキシル基を2個以下有するトリアジン系紫外線吸収剤、及び、1分子中にベンゾトリアゾール骨格を1個有するベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤からなる群から選択される少なくとも1種の紫外線吸収剤であることが、例えば、光学部材として、アクリル系粘着剤組成物を用いる場合にはその形成に用いられるモノマーへの溶解性が良好であり、かつ、波長380nm付近での紫外線吸収能力が高いため好ましい。
<UV absorber>
The UV absorber is not particularly limited. For example, triazine based UV absorber, benzotriazole based UV absorber, benzophenone based UV absorber, oxybenzophenone based UV absorber, salicylic acid ester based UV absorber, cyanoacrylate based An ultraviolet absorber etc. can be mentioned, These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Among these, triazine-based UV absorbers and benzotriazole-based UV absorbers are preferable, triazine-based UV absorbers having two or less hydroxyl groups in one molecule, and benzo having one benzotriazole skeleton in one molecule. At least one ultraviolet absorber selected from the group consisting of triazole-based ultraviolet absorbers. For example, when an acrylic adhesive composition is used as an optical member, it is dissolved in the monomer used for the formation. It is preferable because it has good properties and a high ability to absorb ultraviolet light near a wavelength of 380 nm.

1分子中にヒドロキシル基を2個以下有するトリアジン系紫外線吸収剤としては、具体的には、2,4−ビス−[{4−(4−エチルヘキシルオキシ)−4−ヒドロキシ}−フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン(Tinosorb S、BASF製)、2,4−ビス[2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル]−6−(2,4−ジブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン(TINUVIN 460、BASF製)、2−(4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−ヒドロキシフェニルと[(C10−C16(主としてC12−C13)アルキルオキシ)メチル]オキシランとの反応生成物(TINUVIN400、BASF製)、2−[4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−5−[3−(ドデシルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ]フェノール)、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンと(2−エチルヘキシル)−グリシド酸エステルの反応生成物(TINUVIN405、BASF製)、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−フェノール(TINUVIN1577、BASF製)、2−(4,6−ジフェニルー1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[2−(2−エチルヘキサノイルオキシ)エトキシ]−フェノール(ADK STAB LA46、ADEKA製)、2−(2−ヒドロキシ−4−[1−オクチルオキシカルボニルエトキシ]フェニル)−4,6−ビス(4−フェニルフェニル)−1,3,5−トリアジン(TINUVIN479、BASF社製)等を挙げることができる。   Specifically as a triazine type ultraviolet absorber having two or less hydroxyl groups in one molecule, 2,4-bis-[{4- (4-ethylhexyloxy) -4-hydroxy} -phenyl] -6 -(4-Methoxyphenyl) -1,3,5-triazine (Tinosorb S, manufactured by BASF), 2,4-bis [2-hydroxy-4-butoxyphenyl] -6- (2,4-dibutoxyphenyl) -1,3,5-Triazine (TINUVIN 460, manufactured by BASF), 2- (4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazin-2-yl) -5-hydroxyphenyl Of [(C10-C16 (mainly C12-C13) alkyloxy) methyl] oxirane (TINUVIN 400, manufactured by BASF), 2- [4, 6-bis (2, -Dimethylphenyl) -1,3,5-triazin-2-yl] -5- [3- (dodecyloxy) -2-hydroxypropoxy] phenol), 2- (2,4-dihydroxyphenyl) -4,6 -Reaction product of bis- (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine and (2-ethylhexyl) -glycidic ester (TINUVIN 405, manufactured by BASF), 2- (4,6-diphenyl-1) , 3,5-Triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol (TINUVIN 1577, manufactured by BASF), 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)- 5- [2- (2-ethylhexanoyloxy) ethoxy] -phenol (ADK STAB LA46, manufactured by ADEKA), 2- (2-hydroxy-4- [4 - octyloxycarbonylethoxy] phenyl) -4,6-bis (4-phenylphenyl) -1,3,5-triazine (TINUVIN 479, manufactured by BASF), and the like.

また、1分子中にベンゾトリアゾール骨格を1個有するベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(1−メチル−1−フェニルエチル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール(TINUVIN 928、BASF製)、2−(2−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール(TINUVIN PS、BASF製)、ベンゼンプロパン酸及び3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ(C7−9側鎖及び直鎖アルキル)のエステル化合物(TINUVIN384−2、BASF製)、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール(TINUVIN900、BASF製)、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(1−メチル−1−フェニルエチル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール(TINUVIN928、BASF製)、メチル−3−(3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート/ポリエチレングリコール300の反応生成物(TINUVIN1130、BASF製)、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−p−クレゾール(TINUVIN P、BASF製)、2(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール(TINUVIN234、BASF製)、2−〔5−クロロ(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル〕−4−メチル−6−(tert−ブチル)フェノール(TINUVIN326、BASF製)、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ジ−tert−ペンチルフェノール(TINUVIN328、BASF製)、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール(TINUVIN329、BASF製)、メチル3−(3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートとポリエチレングリコール300との反応生成物(TINUVIN213、BASF製)、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−ドデシル−4−メチルフェノール(TINUVIN571、BASF製)、2−[2−ヒドロキシ−3−(3、4、5,6−テトラヒドロフタルイミドーメチル)−5−メチルフェニル]ベンゾトリアゾール(Sumisorb250、住友化学工業(株)製)、2−(2−ヒドロキシ−3−tert−ブチル−5−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール(SeeSorb 703、シプロ化成(株)製、又は、KEMISORB 73、シプロ化成(株)製)等を挙げることができる。   Moreover, as a benzotriazole type ultraviolet absorber having one benzotriazole skeleton in one molecule, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (1-methyl-1-phenylethyl) -4- (1,1,3,3-Tetramethylbutyl) phenol (TINUVIN 928, manufactured by BASF), 2- (2-hydroxy-5-tert-butylphenyl) -2H-benzotriazole (TINUVIN PS, manufactured by BASF), benzene Ester compounds of propanoic acid and 3- (2H-benzotriazol-2-yl) -5- (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy (C7-9 side chain and straight chain alkyl) (TINUVIN 384-2, BASF Product), 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenyl) Ethyl) phenol (TINUVIN 900, manufactured by BASF), 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (1-methyl-1-phenylethyl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) ) Reaction products of phenol (TINUVIN 928, from BASF), methyl-3- (3- (2H-benzotriazol-2-yl) -5-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate / polyethylene glycol 300 (TINUVIN 1130, BASF), 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -p-cresol (TINUVIN P, BASF), 2 (2H-benzotriazol-2-yl) -4-6-bis (1-methyl-) 1-phenylethyl) phenol (TINUVIN 234, manufactured by BASF), 2- [5- (2H) -benzotriazol-2-yl] -4-methyl-6- (tert-butyl) phenol (TINUVIN 326, manufactured by BASF), 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-di -Tert-pentylphenol (TINUVIN 328, manufactured by BASF), 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol (TINUVIN 329, manufactured by BASF), methyl 3 Reaction product of (3- (2H-benzotriazol-2-yl) -5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate and polyethylene glycol 300 (TINUVIN 213, manufactured by BASF), 2- (2H-benzotriazole) -2-yl) -6-dodecyl-4-methylphenol (TI NUVIN 571 (manufactured by BASF), 2- [2-hydroxy-3- (3,4,5,6-tetrahydrophthalimido-methyl) -5-methylphenyl] benzotriazole (Sumisorb 250, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), 2 -(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole (SeeSorb 703, manufactured by Shipro Kasei Co., Ltd. or KEMISORB 73, manufactured by Shipro Kasei Co., Ltd.), etc. Can.

また、前記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(ベンゾフェノン系化合物)、オキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤(オキシベンゾフェノン系化合物)としては、例えば、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸(無水及び三水塩)、2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシベンゾフェノン、4−ドデシルオキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンジルオキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,2´,4,4´−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2´−ジヒドロキシ−4,4−ジメトキシベンゾフェノン、2,2´,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン(SeeSorb 106、シプロ化成(株)製)、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン(KEMISORB 111、ケミプロ化成(株)製)等を挙げることができる。   Further, examples of the benzophenone based ultraviolet absorber (benzophenone based compound) and the oxybenzophenone based ultraviolet absorber (oxybenzophenone based compound) include, for example, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, and 2-hydroxy. -4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid (anhydrous and trihydrate), 2-hydroxy-4-octyloxybenzophenone, 4-dodecyloxy-2-hydroxybenzophenone, 4-benzyloxy-2-hydroxybenzophenone, 2, 2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4-dimethoxybenzophenone, 2,2', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone (SeeSorb 106, manufactured by Shipro Kasei Co., Ltd.) , 2, 2'-dihydroxy-4-methoxy benzophenone (KEMISORB 111, manufactured by Chemipro Chemical Industries, Ltd.) and the like can be mentioned.

また前記サリチル酸エステル系紫外線吸収剤(サリチル酸エステル系化合物)としては、例えば、フェニル−2−アクリロイルオキシベンゾエ−ト、フェニル−2−アクロリイルオキシ−3−メチルベンゾエ−ト、フェニル−2−アクリロイルオキシ−4−メチルベンゾエ−ト、フェニル−2−アクリロイルオキシ−5−メチルベンゾエ−ト、フェニル−2−アクリロイルオキシ−3−メトキシベンゾエ−ト、フェニル−2−ヒドロキシベンゾエ−ト、フェニル−2−ヒドロキシ−3−メチルベンゾエ−ト、フェニル−2−ヒドロキシ−4メチルベンゾエ−ト、フェニル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンゾエ−ト、フェニル2−ヒドロキシ−3−メトキシベンゾエ−ト、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート(TINUVIN120、BASF製)等を挙げることができる。   Moreover, as said salicylic acid ester type ultraviolet absorber (salicylic acid ester type compound), for example, phenyl-2-acryloyloxybenzoate, phenyl-2-acryloyloxy-3-methylbenzoate, phenyl-2-acryloyloxy -4-Methyl benzoate, phenyl-2-acryloyloxy-5-methyl benzoate, phenyl-2-acryloyloxy-3-methoxy benzoate, phenyl 2-hydroxy benzoate, phenyl 2-hydroxy -3-Methylbenzoate, phenyl-2-hydroxy-4methylbenzoate, phenyl-2-hydroxy-5-methylbenzoate, phenyl 2-hydroxy-3-methoxybenzoate, 2,4-di-tert -Butylphenyl-3,5-di-tert-bu And the like-4-hydroxybenzoate (TINUVIN120, manufactured by BASF).

前記シアノアクリレート系紫外線吸収剤(シアノアクリレート系化合物)としては、例えば、アルキル−2−シアノアクリレート、シクロアルキル−2−シアノアクリレート、アルコキシアルキル−2−シアノアクリレート、アルケニル−2−シアノアクリレート、アルキニル−2−シアノアクリレート等を挙げることができる。   Examples of the cyanoacrylate ultraviolet absorber (cyanoacrylate compound) include alkyl-2-cyanoacrylate, cycloalkyl-2-cyanoacrylate, alkoxyalkyl-2-cyanoacrylate, alkenyl-2-cyanoacrylate, and alkynyl- 2-cyanoacrylate etc. can be mentioned.

前記紫外線吸収剤の吸収スペクトルの吸収極大波長は、300〜400nmの波長領域に存在することが好ましく、300〜380nmの波長領域に存在することがより好ましい。ここで、吸収極大波長とは、300〜460nmの波長領域での分光吸収スペクトルにおいて、複数の吸収極大が存在する場合には、その中で最大の吸光度を示す吸収極大波長を意味するものである。吸収極大波長の測定方法は、色素系化合物の測定方法と同様である。   The absorption maximum wavelength of the absorption spectrum of the ultraviolet absorber is preferably in a wavelength range of 300 to 400 nm, and more preferably in a wavelength range of 300 to 380 nm. Here, the absorption maximum wavelength means an absorption maximum wavelength showing the maximum absorbance among the plurality of absorption maxima in the spectral absorption spectrum in the wavelength region of 300 to 460 nm. . The measuring method of the absorption maximum wavelength is the same as the measuring method of a pigment | dye type-compound.

前記紫外線吸収剤は、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量は、前記ベースポリマー(又はそのポリマーを形成するモノマー成分100重量部に対して、0.1〜8重量部程度であることが好ましく、0.2〜6重量部程度であることがより好ましい。紫外線吸収剤の添加量を前記範囲とすることで、光学部材の紫外線吸収機能を十分に発揮することできる。また、光学部材のベースポリマーが、例えば、アクリル系ポリマーの場合には、アクリル系ポリマーを紫外線重合する場合は、当該重合の妨げとはならないため、好ましい。   Although the said ultraviolet absorber may be used independently and may be used in mixture of 2 or more types, content as a whole is 100 weight of monomer components which form the said base polymer (or its polymer) The amount is preferably about 0.1 to 8 parts by weight, and more preferably about 0.2 to 6 parts by weight, based on the amount of the ultraviolet absorber added to the above range. In the case where the base polymer of the optical member is, for example, an acrylic polymer, when the acrylic polymer is subjected to ultraviolet polymerization, it does not interfere with the polymerization. preferable.

<その他添加剤>
本発明の光学部材用組成物には、前記成分の他に、用途に応じて、適宜な添加剤が含まれていてもよい。
<Other additives>
The composition for an optical member of the present invention may contain, in addition to the components described above, appropriate additives depending on the application.

<光学部材用組成物の調製>
本発明の光学部材用組成物は、少なくとも、光学部材を有する形成するベースポリマー、紫外線吸収剤、及び、上記一般式(1)で表される化合物を混合することにより調製することができる。例えば、ベースポリマーに紫外線吸収剤、及び上記の化合物(1)を混練したり、溶剤に溶解して混合することができ、また、ベースポリマーを形成するモノマー成分に予め紫外線吸収剤、及び上記の化合物(1)を配合して、その配合物を重合してポリマー得ることにより、前記組成物を調製することができる。また、光学部材の形成に当たっては、光学部材用組成物は適宜に溶剤を含有することができ、また、光学部材に応じた各種の添加剤を含有することができる。上記溶媒としては、特に制限されないが、上述した有機溶媒等が挙げられる。
Preparation of Composition for Optical Member
The composition for optical members of the present invention can be prepared by mixing at least a base polymer having an optical member, a UV absorber, and a compound represented by the above general formula (1). For example, the UV absorber and the compound (1) described above can be kneaded into the base polymer, or dissolved and mixed in a solvent, and a UV component can be previously added to the monomer component forming the base polymer, and The composition can be prepared by blending the compound (1) and polymerizing the blend to obtain a polymer. Moreover, in formation of an optical member, the composition for optical members can contain a solvent suitably, and can also contain the various additive according to an optical member. Although it does not restrict | limit especially as said solvent, The organic solvent etc. which were mentioned above are mentioned.

本発明の光学部材用組成物は、光学部材に応じた各種方法により、各種の光学部材を形成することができうる。例えば、形成方法としては、光学部材用組成物を射出成形法、圧縮成形法、押出成形法等により成形する方法や、後述の支持体上に本発明の光学部材用組成物を塗布し形成する方法等の各種の方法を採ることができる。前記塗布方法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗工方法によって支持体上に塗膜形成する方法が挙げられる。   The composition for optical members of the present invention can form various optical members by various methods according to the optical members. For example, as a forming method, a method of molding the composition for optical members by an injection molding method, a compression molding method, an extrusion molding method or the like, or the composition for optical members of the present invention is formed by coating on a support described later. Various methods such as methods can be adopted. The coating method may be a coating method such as dip coating method, air knife coating method, curtain coating method, roller coating method, wire bar coating method, gravure coating method, spin coating method or extrusion coating method. The method of forming a coating film is mentioned.

<光学部材>
光学部材としては、例えば、光学フィルムが挙げられる。具体的には、本発明の光学部材として適用できる光学フィルムとしては、偏光子用透明保護フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルム、集光フィルム、輝度向上フィルム、レンチキュラーフィルム、カバーウィンドウフィルム(前面板)、飛散防止フィルム、加飾印刷フィルム等が挙げられる。
<Optical member>
As an optical member, an optical film is mentioned, for example. Specifically, as an optical film applicable as an optical member of the present invention, a transparent protective film for a polarizer, a retardation film, a light diffusion film, a light collection film, a brightness enhancement film, a lenticular film, a cover window film (front plate ), Scattering prevention films, decorative printing films and the like.

また、光学部材としては、光学フィルムに適用される粘着剤層又は接着剤層が挙げられる。これら粘着剤層又は接着剤層は、偏光フィルム、偏光子、偏光子用透明保護フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルム、集光フィルム、輝度向上フィルム、レンチキュラーフィルム、カバーウィンドウフィルム(前面板)、飛散防止フィルム、加飾印刷フィルム等の光学フィルムに設けることで適用することができる。前記光学部材は、偏光子及び位相差フィルムを含む光学積層体として用いることができる。   Moreover, as an optical member, the adhesive layer or adhesive layer applied to an optical film is mentioned. The pressure-sensitive adhesive layer or the adhesive layer is a polarizing film, a polarizer, a transparent protective film for a polarizer, a retardation film, a light diffusing film, a light collecting film, a brightness improving film, a lenticular film, a cover window film (front plate), It can apply by providing in optical films, such as a scattering prevention film and a decoration printing film. The optical member can be used as an optical laminate including a polarizer and a retardation film.

また、光学部材としては、光学フィルムに設けられる表面処理層等が挙げられる。これら表面処理層としては、ハードコート層、反射防止層、防眩処理層、反射防止層、屈折率調整層等が挙げられ、偏光フィルム、偏光子、偏光子用透明保護フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルム、集光フィルム、輝度向上フィルム、レンチキュラーフィルム、カバーウィンドウフィルム(前面板)、飛散防止フィルム、加飾印刷フィルム等の光学フィルムに設けることで適用することができる。   Moreover, the surface treatment layer etc. which are provided in an optical film as an optical member are mentioned. Examples of the surface treatment layer include a hard coat layer, an antireflective layer, an antiglare layer, an antireflective layer, a refractive index adjusting layer, etc. A polarizing film, a polarizer, a transparent protective film for a polarizer, a retardation film, It can apply by providing in optical films, such as a light-diffusion film, a condensing film, a brightness improvement film, a lenticular film, a cover window film (front plate), a scattering prevention film, a decoration printing film.

また、光学部材としては、光学フィルムに設けられる機能層等が挙げられる。これら機能層としては、易接着層、帯電防止層、ブロッキング防止層、オリゴマー防止層、バリア層等が挙げられ、偏光フィルム、偏光子、偏光子用透明保護フィルム、位相差フィルム、光拡散フィルム、集光フィルム、輝度向上フィルム、レンチキュラーフィルム、カバーウィンドウフィルム(前面板)、飛散防止フィルム、加飾印刷フィルム等の光学フィルムに設けることで適用することができる。   Moreover, the functional layer etc. which are provided in an optical film as an optical member are mentioned. Examples of these functional layers include easy-adhesion layers, antistatic layers, antiblocking layers, oligomer prevention layers, barrier layers, etc. Polarizing films, polarizers, transparent protective films for polarizers, retardation films, light diffusing films, It can apply by providing in optical films, such as a condensing film, a brightness improvement film, a lenticular film, a cover window film (front plate), a scattering prevention film, a decoration printing film.

また、前記光学部材は、透明基材フィルム及び透明導電層を有する透明導電性フィルムにおいて、前記透明基材フィルム、又は前記透明基材フィルムとの間に設けられる中間層として用いることができる。前記中間層としては、屈折率調整層、易接着剤層、ハードコート層、クラック防止等を例示する事ができる。   Moreover, the said optical member can be used as an intermediate | middle layer provided in the transparent conductive film which has a transparent base film and a transparent conductive layer between the said transparent base film or the said transparent base film. Examples of the intermediate layer include a refractive index adjustment layer, an easily adhesive layer, a hard coat layer, and a crack prevention.

<画像表示装置>
本発明の画像表示装置は、画像表示部及び前記光学部材を備える。画像表示部を備える画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネセンス(EL)表示装置が挙げられる。前記光学部材は画像表示部よりも視認側に設けられていることが好ましい。
<Image display device>
An image display device of the present invention includes an image display unit and the optical member. A liquid crystal display device and an organic electroluminescent (EL) display device are mentioned as a representative example of an image display device provided with an image display part. It is preferable that the optical member be provided closer to the viewer than the image display unit.

例えば、有機EL表示装置においては、前記画像表示部として有機ELパネルを有し、当該有機ELパネルの視認側には、視認側から、少なくとも、偏光子及び位相差フィルムをこの順に含む光学積層体を含む。本発明の光学部材は、例えば、前記光学積層体を形成する部材として使用することができる。   For example, an organic EL display device includes an organic EL panel as the image display unit, and an optical laminate including at least a polarizer and a retardation film in this order from the viewing side on the viewing side of the organic EL panel. including. The optical member of the present invention can be used, for example, as a member for forming the optical laminate.

以下、本発明の一般式(1)で表される化合物を含有する光学部材を、有機EL表示装置に用いる光学積層体に用いる場合を、代表例として説明する。前記光学積層体は、偏光子及び位相差フィルムを含む。   Hereinafter, the case where the optical member containing the compound represented by General formula (1) of this invention is used for the optical laminated body used for an organic electroluminescence display is demonstrated as a representative example. The optical laminate includes a polarizer and a retardation film.

図1に示すように、光学積層体1は、視認側から、少なくとも、粘接着剤層2/透明保護フィルム3/偏光子4/位相差フィルム5/粘着剤層6がこの順に積層されたものを例示することができる。粘接着剤層2/(視認側)透明保護フィルム3/偏光子4/有機ELパネル側透明保護フィルム/層間粘着剤層(又は接着剤層)/位相差フィルム5/(有機ELパネル側)粘着剤層6がこの順に積層されたものであってもよい。また、これら以外にも、例えば、ハードコート層、防眩処理層、反射防止層等の機能層や、センサー層、またこれらを積層するための粘着剤層や接着剤層等を含むことができる。前記透明保護フィルム4/偏光子5を偏光フィルムということもある。本発明の一般式(1)で表される化合物を含有する光学部材は、前記光学積層体を形成する各種の部材または層として用いることができる。前記光学積層体としは、本発明の一般式(1)で表される化合物を含有する光学部材を含有する光学積層体(1)であることが好ましい。   As shown in FIG. 1, in the optical laminate 1, at least the pressure-sensitive adhesive layer 2 / transparent protective film 3 / polarizer 4 / retardation film 5 / pressure-sensitive adhesive layer 6 were laminated in this order from the viewing side. The thing can be illustrated. Adhesive layer 2 / (visual side) transparent protective film 3 / polarizer 4 / organic EL panel side transparent protective film / interlayer pressure-sensitive adhesive layer (or adhesive layer) / retardation film 5 / (organic EL panel side) The pressure-sensitive adhesive layer 6 may be laminated in this order. In addition to these, for example, functional layers such as a hard coat layer, an antiglare treatment layer, an antireflective layer, a sensor layer, and an adhesive layer or an adhesive layer for laminating them can be included. . The transparent protective film 4 / polarizer 5 may be referred to as a polarizing film. The optical member containing the compound represented by General formula (1) of this invention can be used as various members or layers which form the said optical laminated body. The optical laminate is preferably an optical laminate (1) containing an optical member containing the compound represented by the general formula (1) of the present invention.

(1−1)粘接着剤層2
本発明において「接着剤層」とは、粘着剤層又は接着剤層のことをいう。
(1-1) Adhesive layer 2
In the present invention, the "adhesive layer" refers to a pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive layer.

(1−1−1)接着剤層
接着剤層としては、任意の適切な接着剤からなる層を採用し得る。このような接着剤としては、例えば、天然ゴム接着剤、α−オレフィン系接着剤、ウレタン樹脂系接着剤、エチレン−酢酸ビニル樹脂エマルション接着剤、エチレン−酢酸ビニル樹脂系ホットメルト接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、塩化ビニル樹脂溶剤系接着剤、クロロプレンゴム系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、シリコーン系接着剤、スチレン−ブタジエンゴム溶剤系接着剤、ニトリルゴム系接着剤、ニトロセルロース系接着剤、反応性ホットメルト接着剤、フェノール樹脂系接着剤、変性シリコーン系接着剤、ポリエステル系ホットメルト接着剤、ポリアミド樹脂ホットメルト接着剤、ポリイミド系接着剤、ポリウレタン樹脂ホットメルト接着剤、ポリオレフィン樹脂ホットメルト接着剤、ポリ酢酸ビニル樹脂溶剤系接着剤、ポリスチレン樹脂溶剤系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ポリビニルピロリドン樹脂系接着剤、ポリビニルブチラール系接着剤、ポリベンズイミダゾール接着剤、ポリメタクリレート樹脂溶剤系接着剤、メラミン樹脂系接着剤、ユリア樹脂系接着剤、レゾルシノール系接着剤等が挙げられる。このような接着剤は、1種単独又は2種以上を混合して使用することができる。前記接着剤の種類に応じたベースポリマーが用いられる。
(1-1-1) Adhesive layer As an adhesive layer, the layer which consists of arbitrary appropriate adhesives can be employ | adopted. As such an adhesive, for example, natural rubber adhesive, α-olefin adhesive, urethane resin adhesive, ethylene-vinyl acetate resin emulsion adhesive, ethylene-vinyl acetate resin hot melt adhesive, epoxy resin Adhesive, vinyl chloride resin solvent adhesive, chloroprene rubber adhesive, cyanoacrylate adhesive, silicone adhesive, styrene-butadiene rubber solvent adhesive, nitrile rubber adhesive, nitrocellulose adhesive, Reactive hot melt adhesive, phenolic resin adhesive, modified silicone adhesive, polyester hot melt adhesive, polyamide resin hot melt adhesive, polyimide adhesive, polyurethane resin hot melt adhesive, polyolefin resin hot melt adhesive Agent, polyvinyl acetate resin solvent-based adhesive, Styrene resin solvent adhesive, polyvinyl alcohol adhesive, polyvinyl pyrrolidone resin adhesive, polyvinyl butyral adhesive, polybenzimidazole adhesive, polymethacrylate resin solvent adhesive, melamine resin adhesive, urea resin adhesive Agents, resorcinol adhesives and the like. Such an adhesive can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. A base polymer corresponding to the type of the adhesive is used.

接着剤としては、接着形態で分類すると、例えば、熱硬化型接着剤、ホットメルト接着剤等が挙げられる。このような接着剤は、1種のみであっても良いし、2種以上であっても良い。   As an adhesive agent, if it classify | categorizes by the adhesion form, a thermosetting adhesive, a hot-melt adhesive agent etc. will be mentioned, for example. Such an adhesive may be used alone or in combination of two or more.

熱硬化型接着剤は、加熱により熱硬化して固化することにより接着力を発現する。熱硬化型接着剤としては、例えば、エポキシ系熱硬化型接着剤、ウレタン系熱硬化型接着剤、アクリル系熱硬化型接着剤等が挙げられる。熱硬化型接着剤の硬化温度は、例えば、100〜200℃である。   A thermosetting adhesive develops adhesion by heat-curing and solidifying by heating. Examples of the thermosetting adhesive include an epoxy-based thermosetting adhesive, a urethane-based thermosetting adhesive, and an acrylic-based thermosetting adhesive. The curing temperature of the thermosetting adhesive is, for example, 100 to 200 ° C.

ホットメルト接着剤は、加熱により溶融又は軟化して、被着体に熱融着し、その後の冷却によって、固化することにより、被着体に接着する。ホットメルト接着剤としては、例えば、ゴム系ホットメルト接着剤、ポリエステル系ホットメルト接着剤、ポリオレフィン系ホットメルト接着剤、エチレン−酢酸ビニル樹脂系ホットメルト接着剤、ポリアミド樹脂ホットメルト接着剤、ポリウレタン樹脂ホットメルト接着剤等が挙げられる。ホットメルト接着剤の軟化温度(環球法)は、例えば、100〜200℃である。また、ホットメルト接着剤の溶融粘度は、180℃で、例えば、100〜30000mPa・sである。   The hot melt adhesive is adhered to the adherend by melting or softening upon heating, heat fusion to the adherend, and solidifying by subsequent cooling. As a hot melt adhesive, for example, rubber based hot melt adhesives, polyester based hot melt adhesives, polyolefin based hot melt adhesives, ethylene-vinyl acetate resin based hot melt adhesives, polyamide resin hot melt adhesives, polyurethane resin Hot melt adhesive etc. are mentioned. The softening temperature (ring and ball method) of the hot melt adhesive is, for example, 100 to 200 ° C. Moreover, the melt viscosity of the hot melt adhesive is, for example, 100 to 30000 mPa · s at 180 ° C.

接着剤層の厚みは、特に限定されるものではないが、例えば、0.01〜10μm程度であることが好ましく、0.05〜8μm程度であることがより好ましい。   The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably, for example, about 0.01 to 10 μm, and more preferably about 0.05 to 8 μm.

(1−1−2)粘着剤層
粘着剤層を形成する粘着剤組成物の種類としては、特に限定されるものではなく、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等を挙げることができる。これら粘着剤の中でも、光学的透明性に優れ、適宜な密着性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性等に優れる点から、アクリル系粘着剤が好ましく使用される。前記粘着剤の種類に応じたベースポリマーが用いられる。本発明においては、(メタ)アクリル系ポリマーをベースポリマーとして含有するアクリル系粘着剤組成物であることが好ましい。
(1-1-2) Pressure-sensitive adhesive layer The type of pressure-sensitive adhesive composition forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and, for example, rubber-based pressure-sensitive adhesives, acrylic pressure-sensitive adhesives, silicone-based pressure-sensitive adhesives Examples thereof include urethane-based adhesives, vinyl alkyl ether-based adhesives, polyvinyl alcohol-based adhesives, polyvinyl pyrrolidone-based adhesives, polyacrylamide-based adhesives, and cellulose-based adhesives. Among these pressure-sensitive adhesives, acrylic pressure-sensitive adhesives are preferably used from the viewpoints of excellent optical transparency, showing appropriate adhesion, cohesiveness and adhesion properties of adhesion, and excellent in weather resistance, heat resistance, etc. . The base polymer according to the kind of said adhesive is used. In the present invention, an acrylic pressure-sensitive adhesive composition containing a (meth) acrylic polymer as a base polymer is preferable.

前記アクリル系粘着剤組成物は、例えば、アルキル(メタ)アクリレートを含有するモノマー成分の部分重合物及び/又は前記モノマー成分から得られる(メタ)アクリル系ポリマーを含むことが好ましく、当該アクリル系粘着剤組成物に色素化合物(さらには紫外線吸収剤)を添加することができる。   The acrylic pressure-sensitive adhesive composition preferably includes, for example, a partially polymerized product of a monomer component containing an alkyl (meth) acrylate and / or a (meth) acrylic polymer obtained from the monomer component, and the acrylic adhesive Dye compounds (further UV absorbers) can be added to the agent composition.

(モノマー成分の部分重合物、及び(メタ)アクリル系ポリマー)
前記アクリル系粘着剤組成物は、アルキル(メタ)アクリレートを含有するモノマー成分の部分重合物及び/又は前記モノマー成分から得られる(メタ)アクリル系ポリマーを含む。
(Partial polymer of monomer component, and (meth) acrylic polymer)
The acrylic pressure-sensitive adhesive composition contains a partially polymerized product of a monomer component containing an alkyl (meth) acrylate and / or a (meth) acrylic polymer obtained from the monomer component.

前記アルキル(メタ)アクリレートとしては、直鎖状又は分岐鎖状の炭素数1〜24のアルキル基をエステル末端に有するものを例示できる。アルキル(メタ)アクリレートは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。なお、「アルキル(メタ)アクリレート」は、アルキルアクリレート及び/又はアルキルメタクリレートをいい、本発明の(メタ)とは同様の意味である。   As said alkyl (meth) acrylate, what has a linear or branched C1-C24 alkyl group in an ester terminal can be illustrated. Alkyl (meth) acrylate can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. In addition, "alkyl (meth) acrylate" refers to alkyl acrylate and / or alkyl methacrylate, and (meth) of the present invention has the same meaning.

前記アルキル(メタ)アクリレートとしては、前述の直鎖状又は分岐鎖状の炭素数1〜24のアルキル(メタ)アクリレートを挙げることができ、これらの中でも、炭素数1〜9のアルキル(メタ)アクリレートが好ましく、炭素数4〜9の分岐を有するアルキル(メタ)アクリレートを好ましく例示することができる。当該アルキル(メタ)アクリレートは、粘着特性のバランスがとりやすい点で好ましい。炭素数4〜9の分岐を有するアルキル(メタ)アクリレートとしては、具体的には、n−ブチル(メタ)アクリレート、s−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、n−ペンチル(メタ)アクリレート、イソペンチル(メタ)アクリレート、イソヘキシル(メタ)アクリレート、イソヘプチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート等が挙げられ、これらを1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   As said alkyl (meth) acrylate, the above-mentioned linear or branched C1-C24 alkyl (meth) acrylate can be mentioned, Among these, C1-C9 alkyl (meth) is mentioned Acrylate is preferred, and alkyl (meth) acrylate having a C 4-9 branched chain can be preferably exemplified. The said alkyl (meth) acrylate is preferable at the point which is easy to balance the adhesion characteristic. Specific examples of the branched alkyl (meth) acrylate having 4 to 9 carbon atoms include n-butyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate and isobutyl (meth) Acrylate, n-pentyl (meth) acrylate, isopentyl (meth) acrylate, isohexyl (meth) acrylate, isoheptyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate and the like These can be used singly or in combination of two or more.

本発明において、前記炭素数1〜24のアルキル基をエステル末端に有するアルキル(メタ)アクリレートは、(メタ)アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分の全量に対して40重量%以上であることが好ましく、50重量%以上がより好ましく、60重量%以上がさらに好ましい。   In the present invention, the alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms at the ester end is 40% by weight or more based on the total amount of monofunctional monomer components forming a (meth) acrylic polymer Is preferably 50% by weight or more, and more preferably 60% by weight or more.

前記モノマー成分には、単官能性モノマー成分として、前記アルキル(メタ)アクリレート以外の共重合モノマーを含有することができる。共重合モノマーは、モノマー成分における前記アルキル(メタ)アクリレートの残部として用いることができる。   The monomer component may contain, as a monofunctional monomer component, a copolymerizable monomer other than the alkyl (meth) acrylate. The copolymerizable monomer can be used as the remainder of the alkyl (meth) acrylate in the monomer component.

共重合モノマーとしては、例えば、環状窒素含有モノマーを含むことができる。上記環状窒素含有モノマーとしては、(メタ)アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有する重合性の官能基を有し、かつ環状窒素構造を有するものを特に制限なく用いることができる。環状窒素構造は、環状構造内に窒素原子を有するものが好ましい。環状窒素含有モノマーとしては、例えば、N−ビニルピロリドン、N−ビニル−ε−カプロラクタム、メチルビニルピロリドン等のラクタム系ビニルモノマー;ビニルピリジン、ビニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン等の窒素含有複素環を有するビニル系モノマー等が挙げられる。また、モルホリン環、ピペリジン環、ピロリジン環、ピペラジン環等の複素環を含有する(メタ)アクリルモノマーが挙げられる。具体的には、N−アクリロイルモルホリン、N−アクリロイルピペリジン、N−メタクリロイルピペリジン、N−アクリロイルピロリジン等が挙げられる。前記環状窒素含有モノマーの中でも、ラクタム系ビニルモノマーが好ましい。   As a copolymerization monomer, for example, a cyclic nitrogen-containing monomer can be included. As the cyclic nitrogen-containing monomer, one having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and having a cyclic nitrogen structure can be used without particular limitation. The cyclic nitrogen structure preferably has a nitrogen atom in the cyclic structure. Examples of cyclic nitrogen-containing monomers include lactam vinyl monomers such as N-vinylpyrrolidone, N-vinyl-ε-caprolactam, methylvinylpyrrolidone and the like; vinylpyridine, vinylpiperidone, vinylpyrimidine, vinylpiperazine, vinylpyrazine, vinylpyrrole, vinyl And vinyl monomers having a nitrogen-containing heterocycle such as imidazole, vinyl oxazole and vinyl morpholine. In addition, (meth) acrylic monomers containing a heterocyclic ring such as morpholine ring, piperidine ring, pyrrolidine ring, piperazine ring and the like can be mentioned. Specifically, N-acryloyl morpholine, N-acryloyl piperidine, N-methacryloyl piperidine, N-acryloyl pyrrolidine etc. are mentioned. Among the cyclic nitrogen-containing monomers, lactam vinyl monomers are preferable.

本発明において、環状窒素含有モノマーは、(メタ)アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分の全量に対して、0.5〜50重量%であるのが好ましく、0.5〜40重量%がより好ましく、0.5〜30重量%がさらに好ましい。   In the present invention, the cyclic nitrogen-containing monomer is preferably 0.5 to 50% by weight, preferably 0.5 to 40% by weight, based on the total amount of monofunctional monomer components forming the (meth) acrylic polymer. Is more preferable, and 0.5 to 30% by weight is more preferable.

本発明で用いるモノマー成分には、単官能性モノマー成分として、ヒドロキシル基含有モノマーを含むことができる。ヒドロキシル基含有モノマーとしては、(メタ)アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有する重合性の官能基を有し、かつヒドロキシル基を有するものを特に制限なく用いることができる。ヒドロキシル基含有モノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、8−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、10−ヒドロキシデシル(メタ)アクリレート、12−ヒドロキシラウリル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート;(4−ヒドロキシメチルシクロへキシル)メチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキルシクロアルカン(メタ)アクリレートが挙げられる。その他、ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アリルアルコール、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル等が挙げられる。これらは単独で又は組み合わせて使用できる。これらの中でもヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートが好適である。   The monomer component used in the present invention can contain a hydroxyl group-containing monomer as a monofunctional monomer component. As the hydroxyl group-containing monomer, one having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and having a hydroxyl group can be used without particular limitation. As a hydroxyl group containing monomer, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (4-hydroxybutyl (meth) acrylate Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as meta) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 10-hydroxydecyl (meth) acrylate, 12-hydroxy lauryl (meth) acrylate; And hydroxyalkyl cycloalkane (meth) acrylates such as -hydroxymethylcyclohexyl) methyl (meth) acrylate. In addition, hydroxyethyl (meth) acrylamide, allyl alcohol, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether etc. are mentioned. These can be used alone or in combination. Among these, hydroxyalkyl (meth) acrylate is preferred.

本発明において、前記ヒドロキシル基含有モノマーは、(メタ)アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分の全量に対して、接着力、凝集力を高める点から1重量%以上であるのが好ましく、2重量%以上であるがより好ましく、3重量%以上であるのがさらに好ましい。一方、前記ヒドロキシル基含有モノマーが多くなりすぎると、粘着剤層が固くなり、接着力が低下する場合があり、また、粘着剤の粘度が高くなりすぎたり、ゲル化したりする場合があることから、前記ヒドロキシル基含有モノマーは、(メタ)アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分の全量に対して、30重量%以下であるのが好ましく、27重量%以下がより好ましく、25重量%以下がさらに好ましい。   In the present invention, the hydroxyl group-containing monomer is preferably 1% by weight or more from the viewpoint of enhancing adhesion and cohesion with respect to the total amount of monofunctional monomer components forming the (meth) acrylic polymer. It is more preferably 2% by weight or more, still more preferably 3% by weight or more. On the other hand, if the amount of the hydroxyl group-containing monomer is too large, the pressure-sensitive adhesive layer may become hard and adhesion may decrease, and the viscosity of the pressure-sensitive adhesive may be too high or gelation may occur. The content of the hydroxyl group-containing monomer is preferably 30% by weight or less, more preferably 27% by weight or less, and 25% by weight or less based on the total amount of the monofunctional monomer component forming the (meth) acrylic polymer. Is more preferred.

また、(メタ)アクリル系ポリマーを形成するモノマー成分には、単官能性モノマーとして、その他の官能基含有モノマーを含有することができ、例えば、カルボキシル基含有モノマー、環状エーテル基を有するモノマーが挙げられる。   Moreover, the monomer component which forms a (meth) acrylic-type polymer can contain the other functional group containing monomer as a monofunctional monomer, For example, the monomer which has a carboxyl group containing monomer and cyclic ether group is mentioned. Be

カルボキシル基含有モノマーとしては、(メタ)アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有する重合性の官能基を有し、かつカルボキシル基を有するものを特に制限なく用いることができる。カルボキシル基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、イソクロトン酸等が挙げられ、これらは単独で又は組み合わせて使用できる。イタコン酸、マレイン酸はこれらの無水物を用いることができる。これらの中でも、アクリル酸、メタクリル酸が好ましく、特にアクリル酸が好ましい。なお、本発明の(メタ)アクリル系ポリマーの製造に用いるモノマー成分にはカルボキシル基含有モノマーを任意に用いることができ、一方では、カルボキシル基含有モノマーを用いなくともよい。   As the carboxyl group-containing monomer, one having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and having a carboxyl group can be used without particular limitation. Examples of the carboxyl group-containing monomer include (meth) acrylic acid, carboxyethyl (meth) acrylate, carboxypentyl (meth) acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, isocrotonic acid and the like. It can be used alone or in combination. Itaconic acid and maleic acid can use these anhydrides. Among these, acrylic acid and methacrylic acid are preferable, and acrylic acid is particularly preferable. In addition, a carboxyl group-containing monomer can be arbitrarily used for the monomer component used for manufacture of the (meth) acrylic-type polymer of this invention, On the other hand, it is not necessary to use a carboxyl group-containing monomer.

環状エーテル基を有するモノマーとしては、(メタ)アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有する重合性の官能基を有し、かつエポキシ基又はオキセタン基等の環状エーテル基を有するものを特に制限なく用いることができる。エポキシ基含有モノマーとしては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル等が挙げられる。オキセタン基含有モノマーとしては、例えば、3−オキセタニルメチル(メタ)アクリレート、3−メチル−オキセタニルメチル(メタ)アクリレート、3−エチル−オキセタニルメチル(メタ)アクリレート、3−ブチル−オキセタニルメチル(メタ)アクリレート、3−ヘキシル−オキセタニルメチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは単独で又は組み合わせて使用できる。   As a monomer having a cyclic ether group, one having a polymerizable functional group having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and having a cyclic ether group such as an epoxy group or an oxetane group It can be used without particular limitation. Examples of the epoxy group-containing monomer include glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether and the like. As the oxetane group-containing monomer, for example, 3-oxetanylmethyl (meth) acrylate, 3-methyl-oxetanylmethyl (meth) acrylate, 3-ethyl-oxetanylmethyl (meth) acrylate, 3-butyl-oxetanylmethyl (meth) acrylate And 3-hexyl-oxetanylmethyl (meth) acrylate. These can be used alone or in combination.

本発明において、前記カルボキシル基含有モノマー、環状エーテル基を有するモノマーは、(メタ)アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分の全量に対して、30重量%以下であるのが好ましく、27重量%以下がより好ましく、25重量%以下がさらに好ましい。   In the present invention, the content of the carboxyl group-containing monomer and the monomer having a cyclic ether group is preferably 30% by weight or less with respect to the total amount of monofunctional monomer components forming a (meth) acrylic polymer, 27 weight % Or less is more preferable, and 25% by weight or less is more preferable.

本発明の(メタ)アクリル系ポリマーを形成するモノマー成分には、共重合モノマーとしては、例えば、CH=C(R)COOR(前記Rは水素又はメチル基、Rは炭素数1〜3の置換されたアルキル基、環状のシクロアルキル基を表す。)で表されるアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。 In the monomer component forming the (meth) acrylic polymer of the present invention, as a copolymerizable monomer, for example, CH 2 CC (R 1 ) COOR 2 (wherein R 1 is hydrogen or methyl, R 2 is carbon number And alkyl (meth) acrylates represented by 1 to 3 substituted alkyl groups and cyclic cycloalkyl groups).

ここで、Rとしての、炭素数1〜3の置換されたアルキル基の置換基としては、炭素数3〜8個のアリール基又は炭素数3〜8個のアリールオキシ基であることが好ましい。アリール基としては、限定はされないが、フェニル基が好ましい。 Here, as a substituent of the C1-C3 substituted alkyl group as R 2 , a C3-C8 aryl group or a C3-C8 aryloxy group is preferable . The aryl group is preferably, but not limited to, a phenyl group.

このようなCH=C(R)COORで表されるモノマーの例としては、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、3,3,5−トリメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは単独で又は組み合わせて使用できる。 Examples of such a monomer represented by CH 2 CC (R 1 ) COOR 2 include phenoxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate and 3,3,5-trimethylcyclohexyl (Meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate and the like. These can be used alone or in combination.

本発明において、前記CH=C(R)COORで表される(メタ)アクリレートは、(メタ)アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分の全量に対して、50重量%以下で用いることができ、45重量%以下が好ましく、40重量%以下がより好ましく、35重量%以下がさらに好ましい。 In the present invention, the (meth) acrylate represented by CH 2 CC (R 1 ) COOR 2 is not more than 50% by weight based on the total amount of monofunctional monomer components forming a (meth) acrylic polymer. It can be used, 45 wt% or less is preferable, 40 wt% or less is more preferable, 35 wt% or less is more preferable.

他の共重合モノマーとしては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、スチレン、α−メチルスチレン;(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸ポリプロピレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシエチレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシポリプロピレングリコール等のグリコール系アクリルエステルモノマー;(メタ)アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレートや2−メトキシエチルアクリレート等のアクリル酸エステル系モノマー;アミド基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、イミド基含有モノマー、N−アクリロイルモルホリン、ビニルエーテルモノマー等も使用することができる。また、共重合モノマーとしては、テルペン(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート等の環状構造を有するモノマーを用いることができる。   Other copolymerization monomers include vinyl acetate, vinyl propionate, styrene, α-methylstyrene, polyethylene glycol (meth) acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, (meth) Glycol-based acrylic ester monomers such as methoxypolypropylene glycol acrylic acid; acrylic acid ester-based monomers such as (meth) acrylic acid tetrahydrofurfuryl, fluorine (meth) acrylate, silicone (meth) acrylate and 2-methoxyethyl acrylate; amide group-containing Monomers, amino group-containing monomers, imide group-containing monomers, N-acryloyl morpholine, vinyl ether monomers and the like can also be used. Further, as the copolymerizable monomer, monomers having a cyclic structure such as terpene (meth) acrylate and dicyclopentanyl (meth) acrylate can be used.

さらに、ケイ素原子を含有するシラン系モノマー等が挙げられる。シラン系モノマーとしては、例えば、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、4−ビニルブチルトリメトキシシラン、4−ビニルブチルトリエトキシシラン、8−ビニルオクチルトリメトキシシラン、8−ビニルオクチルトリエトキシシラン、10−メタクリロイルオキシデシルトリメトキシシラン、10−アクリロイルオキシデシルトリメトキシシラン、10−メタクリロイルオキシデシルトリエトキシシラン、10−アクリロイルオキシデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Furthermore, the silane type monomer containing a silicon atom, etc. are mentioned. Examples of silane monomers include 3-acryloxypropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 4-vinylbutyltrimethoxysilane, 4-vinylbutyltriethoxysilane, 8-vinyloctyltrimethoxysilane 8-vinyloctyl triethoxysilane, 10-methacryloyloxydecyl trimethoxysilane, 10-acryloyloxydecyl trimethoxysilane, 10-methacryloyloxydecyl triethoxysilane, 10-acryloyloxydecyl triethoxysilane, and the like.

本発明の(メタ)アクリル系ポリマーを形成するモノマー成分には、前記例示の単官能性モノマーの他に、粘着剤の凝集力を調整するために、必要に応じて多官能性モノマーを含有することができる。   The monomer component for forming the (meth) acrylic polymer of the present invention contains, in addition to the monofunctional monomer exemplified above, a polyfunctional monomer as needed to adjust the cohesion of the adhesive. be able to.

多官能性モノマーは、(メタ)アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有する重合性の官能基を少なくとも2つ有するモノマーであり、例えば、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2−エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,12−ドデカンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート等の多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化合物;アリル(メタ)アクリレート、ビニル(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、ブチルジ(メタ)アクリレート、ヘキシルジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートを好適に使用することができる。多官能性モノマーは、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   The polyfunctional monomer is a monomer having at least two polymerizable functional groups having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group, for example, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (Poly) propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2-ethylene Glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,12-dodecanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane tri (meth) acrylate Ester compounds of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid such as allyl; allyl (meth) acrylate, vinyl (meth) acrylate, divinyl benzene, epoxy acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, butyl di (meth) acrylate, hexyl di (meta And the like. Among these, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate can be suitably used. The polyfunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.

多官能性モノマーの使用量は、その分子量や官能基数等により異なるが、単官能性モノマーの合計100重量部に対して、3重量部以下で用いることが好ましく、2重量部以下がより好ましく、1重量部以下がさらに好ましい。また、下限値としては特に限定されないが、0重量部以上であることが好ましく、0.001重量部以上であることがより好ましい。多官能性モノマーの使用量が前記範囲内であることにより、接着力を向上することができる。   The amount of the polyfunctional monomer used varies depending on the molecular weight, the number of functional groups, etc., but is preferably 3 parts by weight or less, more preferably 2 parts by weight or less, based on 100 parts by weight in total of the monofunctional monomers. 1 part by weight or less is more preferable. The lower limit value is not particularly limited, but is preferably 0 parts by weight or more, and more preferably 0.001 parts by weight or more. Adhesiveness can be improved by the usage-amount of a polyfunctional monomer being in the said range.

前記(メタ)アクリル系ポリマーの製造は、溶液重合、紫外線(UV)重合等の放射線重合、塊状重合、乳化重合等の各種ラジカル重合等の公知の製造方法を適宜選択できる。また、得られる(メタ)アクリル系ポリマーは、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体等のいずれでもよい。   The production of the (meth) acrylic polymer can be appropriately selected from known production methods such as solution polymerization, radiation polymerization such as ultraviolet (UV) polymerization, and various radical polymerization such as bulk polymerization and emulsion polymerization. Further, the (meth) acrylic polymer to be obtained may be any of a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer and the like.

また、本発明においては、前記モノマー成分の部分重合物も好適に用いることができる。   Moreover, in the present invention, a partially polymerized product of the monomer component can also be suitably used.

前記(メタ)アクリル系ポリマーをラジカル重合により製造する場合には、前記モノマー成分に、ラジカル重合に用いられる重合開始剤、連鎖移動剤、乳化剤等を適宜添加して、重合を行うことができる。前記ラジカル重合に用いられる重合開始剤、連鎖移動剤、乳化剤等は特に限定されず適宜選択して使用することができる。なお、(メタ)アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、重合開始剤、連鎖移動剤の使用量、反応条件により制御可能であり、これらの種類に応じて適宜その使用量が調整される。   When the (meth) acrylic polymer is produced by radical polymerization, polymerization can be carried out by appropriately adding a polymerization initiator, a chain transfer agent, an emulsifier and the like used for radical polymerization to the monomer component. The polymerization initiator, chain transfer agent, emulsifier and the like used for the radical polymerization are not particularly limited and can be appropriately selected and used. The weight average molecular weight of the (meth) acrylic polymer can be controlled by the amount of the polymerization initiator and the chain transfer agent used, and the reaction conditions, and the amount used can be appropriately adjusted according to the type of these.

例えば、溶液重合等においては、重合溶媒として、例えば、酢酸エチル、トルエン等が用いられる。具体的な溶液重合例としては、反応は窒素等の不活性ガス気流下で、重合開始剤を加え、通常、50〜70℃程度で、5〜30時間程度の反応条件で行われる。   For example, in solution polymerization etc., ethyl acetate, toluene etc. are used as a polymerization solvent, for example. As a specific example of solution polymerization, the reaction is carried out under a stream of an inert gas such as nitrogen, usually with a polymerization initiator added, at about 50 to 70 ° C., for about 5 to 30 hours.

溶液重合等に用いられる、熱重合開始剤としては、例えば、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−2−メチルブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオン酸)ジメチル、4,4’−アゾビス−4−シアノバレリアン酸、アゾビスイソバレロニトリル、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)ジヒドロクロライド、2,2’−アゾビス[2−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]ジヒドロクロライド、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)二硫酸塩、2,2’−アゾビス(N,N’−ジメチレンイソブチルアミジン)、2,2’−アゾビス[N−(2−カルボキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン]ハイドレート(VA−057、和光純薬工業(株)製)等のアゾ系開始剤;過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩、ジ(2−エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ヘキシルパーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシピバレート、ジラウロイルパーオキシド、ジ−n−オクタノイルパーオキシド、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ(4−メチルベンゾイル)パーオキシド、ジベンゾイルパーオキシド、t−ブチルパーオキシイソブチレート、1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、t−ブチルハイドロパーオキシド、過酸化水素等の過酸化物系開始剤、過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムの組み合わせ、過酸化物とアスコルビン酸ナトリウムの組み合わせ等の過酸化物と還元剤とを組み合わせたレドックス系開始剤等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   As a thermal polymerization initiator used for solution polymerization etc., for example, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile, 2,2'-azobis (2 -Methylpropionic acid) dimethyl, 4,4'-azobis-4-cyanovaleric acid, azobisisovaleronitrile, 2,2'-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, 2,2'-azobis [2- (5-Methyl-2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2'-azobis (2-methylpropionamidine) disulfate, 2,2'-azobis (N, N'-dimethylene isobutyl Amidine), 2,2′-azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methylpropionamidine] hydrate (VA-057, Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Azo initiators such as potassium persulfate, ammonium persulfate, di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-sec -Butyl peroxy dicarbonate, t-butyl peroxy neodecanoate, t-hexyl peroxy pivalate, t-butyl peroxy pivalate, dilauroyl peroxide, di-n-octanoyl peroxide, 1,1 3,3-Tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, di (4-methylbenzoyl) peroxide, dibenzoylperoxide, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1-di (t-hexyl) Peroxy) cyclohexane, t-butyl hydroperoxide, hydrogen peroxide etc. May be mentioned, for example, halide initiators, combinations of persulfates and sodium bisulfite, redox initiators such as combinations of peroxides and sodium ascorbate and combinations of reducing agents with peroxides, etc. It is not limited.

前記重合開始剤は、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、モノマー成分の全量100重量部に対して、1重量部以下程度であることが好ましく、0.005〜1重量部程度であることがより好ましく、0.02〜0.5重量部程度であることがさらに好ましい。   The polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more, but it is preferably about 1 part by weight or less based on 100 parts by weight of the total amount of the monomer components. The amount is preferably about 0.005 to 1 part by weight, and more preferably about 0.02 to 0.5 part by weight.

なお、重合開始剤として、2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを用いる場合、重合開始剤の使用量は、モノマー成分の全量100重量部に対して、0.2重量部以下程度であることが好ましく、0.06〜0.2重量部程度とするのがより好ましい。   When 2,2′-azobisisobutyronitrile is used as the polymerization initiator, the amount of the polymerization initiator used is about 0.2 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the total amount of the monomer components. Is preferable, and it is more preferable to make it about 0.06 to 0.2 parts by weight.

連鎖移動剤としては、例えば、ラウリルメルカプタン、グリシジルメルカプタン、メルカプト酢酸、2−メルカプトエタノール、チオグリコール酸、チオグルコール酸2−エチルヘキシル、2,3−ジメルカプト−1−プロパノール等が挙げられる。連鎖移動剤は、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量はモノマー成分の全量100重量部に対して、0.3重量部程度以下である。   Examples of the chain transfer agent include lauryl mercaptan, glycidyl mercaptan, mercaptoacetic acid, 2-mercaptoethanol, thioglycolic acid, 2-ethylhexyl thioglycolate, 2,3-dimercapto-1-propanol and the like. The chain transfer agent may be used alone or as a mixture of two or more, but the total content is 0.3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the monomer components. Less than or equal to.

また、乳化重合する場合に用いる乳化剤としては、例えば、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウム等のアニオン系乳化剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックポリマー等のノニオン系乳化剤等が挙げられる。これらの乳化剤は、単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。   Moreover, as an emulsifier used when carrying out the emulsion polymerization, for example, anionic emulsifiers such as sodium lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, sodium dodecyl benzene sulfonate, ammonium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate, etc., polyoxy Nonionic emulsifiers, such as ethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene polyoxypropylene block polymer, etc. are mentioned. These emulsifiers may be used alone or in combination of two or more.

さらに、反応性乳化剤として、プロペニル基、アリルエーテル基等のラジカル重合性官能基が導入された乳化剤として、具体的には、例えば、アクアロンHS−10、HS−20、KH−10、BC−05、BC−10、BC−20(以上、いずれも第一工業製薬(株)製)、アデカリアソープSE10N(ADEKA社製)等がある。乳化剤の使用量は、モノマー成分の全量100重量部に対して、5重量部以下であることが好ましい。   Furthermore, as a reactive emulsifier, as an emulsifier into which a radical polymerizable functional group such as propenyl group or allyl ether group has been introduced, specifically, for example, Aqualon HS-10, HS-20, KH-10, BC-05 BC-10, BC-20 (all from Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), Adekaria Soap SE10N (manufactured by Adeka), and the like. The amount of the emulsifier used is preferably 5 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the total amount of the monomer components.

また、前記(メタ)アクリル系ポリマーを放射線重合により製造する場合には、前記モノマー成分に、電子線、紫外線(UV)等の放射線を照射することにより重合して製造することができる。これらの中でも、紫外線重合が好ましい。以下、放射線重合の中で好ましい態様である紫外線重合について説明する。   Moreover, when manufacturing the said (meth) acrylic-type polymer by radiation polymerization, it can superpose | polymerize by irradiating radiation, such as an electron beam and an ultraviolet-ray (UV), to the said monomer component. Among these, ultraviolet polymerization is preferable. Hereinafter, ultraviolet polymerization which is a preferable embodiment in radiation polymerization will be described.

紫外線重合を行う際には、重合時間を短くすることができる利点等から、モノマー成分に光重合開始剤を含有させることが好ましい。   When the ultraviolet polymerization is performed, it is preferable that the monomer component contains a photopolymerization initiator from the advantage that the polymerization time can be shortened.

前記光重合開始剤としては、波長400nm未満に吸収帯を有する光重合開始剤(B)を挙げることができる。また、光重合開始剤(B)は、波長400nm以上に吸収帯を有さないことが好ましい。当該光重合開始剤(B)としては、紫外線によりラジカルを発生し、光重合を開始するものであって、波長400nm未満に吸収帯を有するものであれば特に制限されず、通常用いられる光重合開始剤をいずれも好適に用いることができる。例えば、ベンゾインエーテル系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、α−ケトール系光重合開始剤、光活性オキシム系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンジル系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ケタール系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤等を用いることができる。   Examples of the photopolymerization initiator include a photopolymerization initiator (B) having an absorption band at a wavelength of less than 400 nm. The photopolymerization initiator (B) preferably has no absorption band at a wavelength of 400 nm or more. The photopolymerization initiator (B) is not particularly limited as long as it generates radicals by ultraviolet rays and starts photopolymerization, and has an absorption band at a wavelength of less than 400 nm, and usually used photopolymerization Any initiator can be suitably used. For example, benzoin ether type photopolymerization initiator, acetophenone type photopolymerization initiator, α-ketol type photopolymerization initiator, photoactive oxime type photopolymerization initiator, benzoin type photopolymerization initiator, benzyl type photopolymerization initiator, benzophenone A system photopolymerization initiator, a ketal photopolymerization initiator, a thioxanthone photopolymerization initiator, an acyl phosphine oxide photopolymerization initiator, and the like can be used.

具体的には、ベンゾインエーテル系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、アニソールメチルエーテル等が挙げられる。   Specifically, as benzoin ether photopolymerization initiators, for example, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane- 1-one, anisole methyl ether etc. are mentioned.

アセトフェノン系光重合開始剤としては、例えば、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチルジクロロアセトフェノン等が挙げられる。   Examples of acetophenone photopolymerization initiators include 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyldichloroacetophenone Etc.

α−ケトール系光重合開始剤としては例えば、2−メチル−2−ヒドロキシプロピオフェノン、1−[4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン等が挙げられる。   Examples of α-ketol photopolymerization initiators include 2-methyl-2-hydroxypropiophenone, 1- [4- (2-hydroxyethyl) phenyl] -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, etc. Can be mentioned.

光活性オキシム系光重合開始剤としては例えば、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(O−エトキシカルボニル)−オキシム等が挙げられる。   Examples of the photoactive oxime-based photopolymerization initiator include 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (O-ethoxycarbonyl) -oxime and the like.

ベンゾイン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン等が挙げられる。   Examples of benzoin photopolymerization initiators include benzoin.

ベンジル系光重合開始剤としては、例えば、ベンジル等が含まれる。   As a benzyl type photoinitiator, a benzyl etc. are contained, for example.

ベンゾフェノン系光重合開始剤には、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、ポリビニルベンゾフェノン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が含まれる。   The benzophenone series photoinitiators include, for example, benzophenone, benzoylbenzoic acid, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, polyvinylbenzophenone, α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and the like.

ケタール系光重合開始剤には、ベンジルジメチルケタール等が含まれる。   The ketal photopolymerization initiators include benzyl dimethyl ketal and the like.

チオキサントン系光重合開始剤には、例えば、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、ドデシルチオキサントン等が含まれる。   Thioxanthone photopolymerization initiators include, for example, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl thioxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-dichloro thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4- -Including diisopropyl thioxanthone, dodecyl thioxanthone and the like.

アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤には、例えば、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド等が含まれる。   The acyl phosphine oxide photopolymerization initiators include, for example, 2,4,6-trimethyl benzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethyl benzoyl) -phenyl phosphine oxide and the like.

前記波長400nm未満に吸収帯を有する光重合開始剤(B)は、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。前記波長400nm未満に吸収帯を有する光重合開始剤(B)は、本発明の効果を損なわない範囲で添加することができるが、添加量としては、(メタ)アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分100重量部に対して、0.005〜0.5重量部程度であることが好ましく、0.02〜0.1重量部程度であることがより好ましい。   The photopolymerization initiator (B) having an absorption band at a wavelength of less than 400 nm can be used alone or in combination of two or more. The photopolymerization initiator (B) having an absorption band at a wavelength of less than 400 nm can be added as long as the effects of the present invention are not impaired, but the addition amount is a monofunctional that forms a (meth) acrylic polymer The amount is preferably about 0.005 to 0.5 parts by weight, and more preferably about 0.02 to 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the base monomer component.

また、前記粘着剤層に、色素化合物(さらには紫外線吸収剤)を含む場合であって、紫外線重合を行う場合、例えば、前記アルキル(メタ)アクリレートを含有するモノマー成分及び/又は前記モノマー成分の部分重合物、色素化合物(さらには紫外線吸収剤)、及び光重合開始剤を含む紫外線硬化型アクリル系粘着剤組成物を紫外線重合することにより形成されることが好ましい。前記紫外線硬化型アクリル系粘着剤組成物を紫外線重合することにより形成された粘着剤層は、150μm以上の厚手のものも形成が可能になり、幅広い厚みの粘着剤層を形成することができるため好ましい。   In the case where the pressure-sensitive adhesive layer contains a dye compound (further, an ultraviolet absorber), and ultraviolet polymerization is performed, for example, the monomer component containing the alkyl (meth) acrylate and / or the monomer component It is preferable to form by ultraviolet-ray polymerizing the ultraviolet curable acrylic adhesive composition containing a partial polymer, a pigment compound (further, an ultraviolet absorber), and a photoinitiator. The pressure-sensitive adhesive layer formed by UV-polymerizing the above-mentioned ultraviolet-curable acrylic pressure-sensitive adhesive composition can also be formed with a thickness of 150 μm or more, and a wide-thickness pressure-sensitive adhesive layer can be formed. preferable.

その際の光重合開始剤としては、波長400nm以上に吸収帯を有する光重合開始剤(A)を含むものであることが好ましい。粘着剤組成物に色素化合物(さらには紫外線吸収剤)を含む場合、紫外線重合を行うと、前記色素化合物(さらには紫外線吸収剤)により紫外線が吸収されてしまい十分に重合できない場合があった。しかしながら、波長400nm以上に吸収帯を有する光重合開始剤(A)であれば、色素化合物(さらには紫外線吸収剤)を含んでいても、十分に重合することができるため、好ましい。   It is preferable that it is a thing containing the photoinitiator (A) which has an absorption band in wavelength 400nm or more as a photoinitiator in that case. When the pressure-sensitive adhesive composition contains a dye compound (further, an ultraviolet absorber), when the ultraviolet polymerization is performed, the dye compound (further, an ultraviolet absorber) absorbs the ultraviolet light and the polymer may not be polymerized sufficiently. However, if it is a photoinitiator (A) which has an absorption band in wavelength 400 nm or more, even if it contains a pigment compound (further, an ultraviolet absorber), since it can fully superpose | polymerize, it is preferable.

波長400nm以上に吸収帯を有する光重合開始剤(A)としては、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド(Irgacure819、BASF製)、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル-フォスフィンオキサイド(LUCIRIN TPO、BASF製)等を挙げることができる。   As the photopolymerization initiator (A) having an absorption band at a wavelength of 400 nm or more, bis (2,4,6-trimethyl benzoyl) -phenyl phosphine oxide (Irgacure 819, manufactured by BASF), 2,4,6-trimethyl benzoyl- Diphenyl-phosphine oxide (LUCIRIN TPO, manufactured by BASF) etc. can be mentioned.

前記波長400nm以上に吸収帯を有する光重合開始剤(A)は、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。   The photopolymerization initiator (A) having an absorption band at a wavelength of 400 nm or more may be used alone or in combination of two or more.

また、前記波長400nm以上に吸収帯を有する光重合開始剤(A)の添加量は、特に限定されるものではないが、色素化合物(さらには紫外線吸収剤)の添加量よりも少ないことが好ましく、(メタ)アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分100重量部に対して、0.005〜1重量部程度であることが好ましく、0.02〜0.8重量部程度であることがより好ましい。光重合開始剤(A)の添加量が前記範囲であることで、紫外線重合を十分に進行することができるため好ましい。   Further, the addition amount of the photopolymerization initiator (A) having an absorption band at the wavelength of 400 nm or more is not particularly limited, but is preferably smaller than the addition amount of the dye compound (further, the ultraviolet light absorber) Preferably, it is about 0.005 to 1 part by weight, and about 0.02 to 0.8 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the monofunctional monomer component forming the (meth) acrylic polymer More preferable. When the addition amount of the photopolymerization initiator (A) is in the above-mentioned range, ultraviolet polymerization can be sufficiently advanced, which is preferable.

また、前記粘着剤層に、色素化合物(さらには紫外線吸収剤)を含む場合であって、紫外線重合を行う場合、前記モノマー成分に波長400nm未満に吸収帯を有する光重合開始剤(B)を先に添加して、紫外線を照射して一部重合したモノマー成分の部分重合物(プレポリマー組成物)に、前記波長400nm以上に吸収帯を有する光重合開始剤(A)、色素化合物(さらには紫外線吸収剤)を添加して紫外線重合することが好ましい。紫外線照射をして一部重合したモノマー成分の部分重合物(プレポリマー組成物)に、前記波長400nm以上に吸収帯を有する光重合開始剤(A)を添加する際には、前記光重合開始剤をモノマーに溶解した後添加することが好ましい。   In addition, in the case where the pressure-sensitive adhesive layer contains a dye compound (further, an ultraviolet absorber) and the ultraviolet polymerization is performed, the monomer component contains a photopolymerization initiator (B) having an absorption band at a wavelength of less than 400 nm. A photopolymerization initiator (A) having an absorption band at a wavelength of 400 nm or more, a dye compound (further added to a partial polymer (prepolymer composition) of a monomer component which is previously added and partially polymerized by irradiation with ultraviolet light It is preferable to perform ultraviolet polymerization by adding an ultraviolet absorber). When adding the photopolymerization initiator (A) having an absorption band at the wavelength of 400 nm or more to the partially polymerized product (prepolymer composition) of the monomer component partially polymerized by ultraviolet irradiation, the photopolymerization initiation It is preferable to add the agent after dissolving it in the monomer.

前記アクリル系ポリマーの他に、ゴム系ポリマーがベースポリマーとして公的である。ゴム系ポリマーは、1種の共役ジエン化合物を重合することによって得られる共役ジエン系重合体、2種以上の共役ジエン化合物を重合することによって得られる共役ジエン系共重合体、共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって得られる共役ジエン系共重合体を含むことができる。また、これらの水添物も好適に用いることができる。ジエン系共重合体は、ランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよく、また、共役ジエン化合物、芳香族ビニル化合物以外の化合物を共重合してもよい。   In addition to the acrylic polymer, a rubber polymer is publicly available as a base polymer. The rubber-based polymer is a conjugated diene-based polymer obtained by polymerizing one conjugated diene compound, a conjugated diene-based copolymer obtained by polymerizing two or more conjugated diene compounds, a conjugated diene compound and an aromatic A conjugated diene-based copolymer obtained by copolymerizing with a group vinyl compound can be included. Moreover, these hydrogenated substances can also be used suitably. The diene copolymer may be a random copolymer or a block copolymer, and may be copolymerized with a compound other than the conjugated diene compound and the aromatic vinyl compound.

このような共役ジエン系(共)重合体としては、具体的には、ブタジエンゴム(BR)、イソプレンゴム(IR)、スチレン−ブタジエン共重合体(SBR)、ブタジエン−イソプレン−スチレンランダム共重合体、イソプレン−スチレンランダム共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体(SIS)、ブタジエン−スチレン共重合体、スチレン−エチレン−ブタジエンブロック共重合体(SEBS)、アクリロニトリル−ブタジエンゴム(NBR)等を挙げることができ、これらを1種単独で、又は2種以上を混合して用いることができる。これらの中でも、イソプレン−スチレン共重合体が好ましい。また、これらの水添物も好適に用いることができる。   Specific examples of such conjugated diene-based (co) polymers include butadiene rubber (BR), isoprene rubber (IR), styrene-butadiene copolymer (SBR), butadiene-isoprene-styrene random copolymer , Isoprene-styrene random copolymer, styrene-isoprene block copolymer (SIS), butadiene-styrene copolymer, styrene-ethylene-butadiene block copolymer (SEBS), acrylonitrile-butadiene rubber (NBR), etc. These can be used alone or in combination of two or more. Among these, isoprene-styrene copolymer is preferable. Moreover, these hydrogenated substances can also be used suitably.

(シランカップリング剤)
さらに、本発明の粘着剤組成物にはシランカップリング剤を含有することができる。シランカップリング剤の配合量は、ベースポリマー(例えば、上記(メタ)アクリル系ポリマー)100重量部に対して1重量部以下であるのが好ましく、0.01〜1重量部がより好ましく、0.02〜0.6重量部がさらに好ましい。
(Silane coupling agent)
Furthermore, the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention can contain a silane coupling agent. The compounding amount of the silane coupling agent is preferably 1 part by weight or less, more preferably 0.01 to 1 part by weight, with respect to 100 parts by weight of the base polymer (for example, the (meth) acrylic polymer). More preferred is .02 to 0.6 parts by weight.

前記シランカップリング剤としては、例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、2−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有シランカップリング剤、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチルブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基含有シランカップリング剤、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等の(メタ)アクリル基含有シランカップリング剤、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート基含有シランカップリング剤等が挙げられる。   Examples of the silane coupling agent include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2- (3,4 epoxycyclohexyl) Epoxy group-containing silane coupling agent such as ethyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,1 Amino group-containing silane coupling agents such as 3-dimethylbutylidene) propylamine, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane Meta) Acrylic group containing silane Coupling agent, 3-isocyanate propyltriethoxysilane isocyanate group-containing silane coupling agents such as and the like.

(架橋剤)
本発明の粘着剤組成物は、架橋剤を含有することができる。架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、シリコーン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、シラン系架橋剤、アルキルエーテル化メラミン系架橋剤、金属キレート系架橋剤、過酸化物等の架橋剤が含まれる。架橋剤は1種を単独で又は2種以上を組み合わせることができる。これらの中でも、イソシアネート系架橋剤が好ましく用いられる。
(Crosslinking agent)
The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention can contain a crosslinking agent. As a crosslinking agent, an isocyanate type crosslinking agent, an epoxy type crosslinking agent, a silicone type crosslinking agent, an oxazoline type crosslinking agent, an aziridine type crosslinking agent, a silane type crosslinking agent, an alkyl etherified melamine type crosslinking agent, a metal chelate type crosslinking agent, Crosslinkers such as oxides are included. The crosslinking agents can be used alone or in combination of two or more. Among these, an isocyanate type crosslinking agent is preferably used.

上記架橋剤は1種を単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量は、(メタ)アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分100重量部に対し、5重量部以下であることが好ましく、0.01〜5重量部であることがより好ましく、0.01〜4重量部がさらに好ましく、0.02〜3重量部が特に好ましい。   Although the said crosslinking agent may be used individually by 1 type and may be used in mixture of 2 or more types, the content as a whole is a monofunctional monomer which forms a (meth) acrylic-type polymer. The amount is preferably 5 parts by weight or less, more preferably 0.01 to 5 parts by weight, still more preferably 0.01 to 4 parts by weight, and more preferably 0.02 to 3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component. Particularly preferred.

イソシアネート系架橋剤は、イソシアネート基(イソシアネート基をブロック剤又は数量体化等により一時的に保護したイソシアネート再生型官能基を含む)を1分子中に2つ以上有する化合物をいう。イソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族イソシアネート等が挙げられる。   An isocyanate type crosslinking agent refers to a compound having two or more isocyanate groups (including an isocyanate regenerated functional group in which an isocyanate group is temporarily protected by a blocking agent or quantification or the like) in one molecule. As an isocyanate type crosslinking agent, aromatic isocyanates, such as tolylene diisocyanate and xylene diisocyanate, alicyclic isocyanates, such as isophorone diisocyanate, aliphatic isocyanates, such as hexamethylene diisocyanate, etc. are mentioned.

より具体的には、例えば、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート類、2,4−トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類、トリメチロールプロパン/トリレンジイソシアネート3量体付加物(商品名:コロネートL、日本ポリウレタン工業(株)製)、トリメチロールプロパン/ヘキサメチレンジイソシアネート3量体付加物(商品名:コロネートHL、日本ポリウレタン工業(株)製)、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体(商品名:コロネートHX、日本ポリウレタン工業(株)製)等のイソシアネート付加物、キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物(商品名:D110N、三井化学(株)製)、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物(商品名:D160N、三井化学(株)製);ポリエーテルポリイソシアネート、ポリエステルポリイソシアネート、ならびにこれらと各種のポリオールとの付加物、イソシアヌレート結合、ビューレット結合、アロファネート結合等で多官能化したポリイソシアネート等を挙げることができる。   More specifically, for example, lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, cycloaliphatic diisocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate and isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, Aromatic diisocyanates such as 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, polymethylene polyphenylisocyanate, trimethylolpropane / tolylene diisocyanate trimer adduct (trade name: Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) ), Trimethylolpropane / hexamethylene diisocyanate trimer adduct (trade name: Coronate HL, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), hexamethylene Isocyanate adduct of isocyanurate of isocyanate (trade name: Coronate HX, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), trimethylolpropane adduct of xylylene diisocyanate (trade name: D110N, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), hexa Trimethylolpropane adduct of methylene diisocyanate (trade name: D160N, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.); polyether polyisocyanate, polyester polyisocyanate, adducts of these with various polyols, isocyanurate bond, buret bond, The polyisocyanate etc. which were polyfunctionalized by the allophanate coupling etc. can be mentioned.

(その他の添加剤)
本発明の粘着剤組成物には、前記成分の他に、用途に応じて、適宜な添加剤が含まれていてもよい。例えば、粘着付与剤(例えば、ロジン誘導体樹脂、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、油溶性フェノール樹脂等からなる常温で固体、半固体、あるいは液状のもの);中空ガラスバルーン等の充填剤;可塑剤;老化防止剤;酸化防止剤;光安定剤(HALS)等が挙げられる。
(Other additives)
The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention may contain, in addition to the components described above, appropriate additives depending on the application. For example, tackifier (for example, solid, semi-solid or liquid at room temperature consisting of rosin derivative resin, polyterpene resin, petroleum resin, oil-soluble phenolic resin, etc.); Filler such as hollow glass balloon; Plasticizer; Antioxidants; antioxidants; light stabilizers (HALS) etc. may be mentioned.

本発明において、前記粘着剤組成物は、基材上に塗布等する作業に適した粘度に調整するのが好ましい。粘着剤組成物の粘度の調整は、例えば、増粘性添加剤等の各種ポリマーや多官能性モノマー等の添加や、粘着剤組成物中のモノマー成分を部分重合させることにより行う。なお、当該部分重合は、増粘性添加剤等の各種ポリマーや多官能性モノマー等を添加する前に行っても良く、その後に行っても良い。上記粘着剤組成物の粘度は添加剤の量等によって変わるため、粘着剤組成物中のモノマー成分を部分重合させる場合の重合率は、一意に決めることはできないが、目安としては20%以下程度であることが好ましく、3〜20%程度がより好ましく、5〜15%程度がさらに好ましい。20%を超えると粘度が高くなりすぎるため、基材へ塗布が難しくなる。   In the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition is preferably adjusted to a viscosity suitable for an operation of coating or the like on a substrate. The adjustment of the viscosity of the pressure-sensitive adhesive composition is performed, for example, by adding various polymers such as a thickening additive or a polyfunctional monomer, or partially polymerizing monomer components in the pressure-sensitive adhesive composition. The partial polymerization may be carried out before or after addition of various polymers such as thickening additives and polyfunctional monomers. The viscosity of the above-mentioned pressure-sensitive adhesive composition varies depending on the amount of the additive and the like, so the polymerization rate in the case of partially polymerizing the monomer component in the pressure-sensitive adhesive composition can not be determined uniquely. Is preferably, 3 to 20% is more preferable, and 5 to 15% is more preferable. If it exceeds 20%, the viscosity becomes too high, which makes it difficult to apply to a substrate.

(粘着剤層の形成方法)
粘着剤層の形成方法としては、特に限定されるものではなく、通常本分野において用いられる方法により形成することができる。具体的には、前記粘着剤組成物を基材の少なくとも片面に塗工し、当該粘着剤組成物から形成される塗布膜を乾燥して形成するか、又は、紫外線等の活性エネルギー線を照射して形成することができる。また、前記基材に形成した粘着剤層を、偏光フィルム等に転写することもできる。
(Method of forming pressure-sensitive adhesive layer)
It does not specifically limit as a formation method of an adhesive layer, It can form by the method generally used in this field | area. Specifically, the pressure-sensitive adhesive composition is coated on at least one surface of a substrate, and a coated film formed from the pressure-sensitive adhesive composition is dried and formed, or an active energy ray such as ultraviolet light is irradiated. Can be formed. The pressure-sensitive adhesive layer formed on the substrate can also be transferred to a polarizing film or the like.

前記基材としては、特に限定されるものではなく、例えば、離型フィルム、透明樹脂フィルム基材等の各種基材や、後述する偏光フィルムも基材として好適に用いることができる。   It does not specifically limit as said base material, For example, various base materials, such as a release film and a transparent resin film base material, and the polarizing film mentioned later can also be used suitably as a base material.

前記離型フィルムの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステルフィルム等の樹脂フィルム、紙、布、不織布等の多孔質材料、ネット、発泡シート、金属箔、及びこれらのラミネート体等の適宜な薄葉体等を挙げることができるが、表面平滑性に優れる点から樹脂フィルムが好適に用いられる。   As a constituent material of the release film, for example, resin film such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyester film, porous material such as paper, cloth, non-woven fabric, net, foam sheet, metal foil, and laminate thereof Although an appropriate thin leaf etc. can be mentioned, a resin film is used suitably from the point which is excellent in surface smoothness.

その樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム等が挙げられる。   As the resin film, for example, polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, polyvinyl chloride film, vinyl chloride copolymer film, polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, polyurethane film, ethylene film -A vinyl acetate copolymer film etc. are mentioned.

前記離型フィルムの厚さは、通常5〜200μmであり、好ましくは5〜100μm程度である。前記離型フィルムには、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系もしくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型及び防汚処理や、塗布型、練り込み型、蒸着型等の帯電防止処理をすることもできる。特に、前記離型フィルムの表面にシリコーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理等の剥離処理を適宜行うことにより、前記粘着剤層からの剥離性をより高めることができる。   The thickness of the release film is usually 5 to 200 μm, and preferably about 5 to 100 μm. The release film may be, if necessary, a release agent of silicone type, fluorine type, long chain alkyl type or fatty acid amide type, silica powder etc, release treatment and antifouling treatment, coating type, kneading type, It is also possible to carry out an antistatic treatment such as a deposition type. In particular, the releasability from the pressure-sensitive adhesive layer can be further enhanced by appropriately performing release treatment such as silicone treatment, long chain alkyl treatment, fluorine treatment and the like on the surface of the release film.

前記透明樹脂フィルム基材としては、特に制限されないが、透明性を有する各種の樹脂フィルムが用いられる。当該樹脂フィルムは1層のフィルムにより形成されている。例えば、その材料として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの中で特に好ましいのは、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂及びポリエーテルスルホン系樹脂である。   The transparent resin film substrate is not particularly limited, but various resin films having transparency are used. The said resin film is formed of the film of one layer. For example, as the material, polyester resin such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, acetate resin, polyether sulfone resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyimide resin, polyolefin resin, (meth) acrylic resin Polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyarylate resin, polyphenylene sulfide resin and the like can be mentioned. Among these, polyester resins, polyimide resins and polyethersulfone resins are particularly preferable.

前記フィルム基材の厚さは、15〜200μmであることが好ましく、25〜188μmであることがより好ましい。   The thickness of the film substrate is preferably 15 to 200 μm, and more preferably 25 to 188 μm.

上記粘着剤組成物を上記基材上に塗布する方法は、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーター等公知適宜な方法を用いることができ、特に制限されない。   The method for applying the pressure-sensitive adhesive composition onto the substrate may be roll coating, kiss roll coating, gravure coating, reverse coating, roll brushing, spray coating, dip roll coating, bar coating, knife coating, air knife coating, curtain Well-known appropriate methods, such as a coat, a lip coat, a die coater, can be used, and it does not restrict | limit in particular.

前記粘着剤層は、前記粘着剤組成物から形成される塗布膜を乾燥して形成する場合、その乾燥条件(温度、時間)は、特に限定されるものではなく、粘着剤組成物の組成、濃度等により適宜設定することができるが、例えば、60〜170℃程度、好ましくは60〜150℃で、1〜60分間、好ましくは2〜30分間である。   When the pressure-sensitive adhesive layer is formed by drying a coating film formed of the pressure-sensitive adhesive composition, the drying conditions (temperature, time) are not particularly limited, and the composition of the pressure-sensitive adhesive composition Although it can set suitably by a density | concentration etc., for example, it is about 60-170 degreeC, Preferably it is 60-150 degreeC, 1 to 60 minutes, Preferably it is 2 to 30 minutes.

前記粘着剤組成物が紫外線硬化型粘着剤組成物であって、当該紫外線硬化型粘着剤組成物から形成される塗布膜に紫外線を照射して形成する場合、照射する紫外線の照度は、5mW/cm以上が好ましい。当該紫外線の照度が5mW/cm未満であると、重合反応時間が長くなり、生産性に劣ることがある。なお、当該紫外線の照度は200mW/cm以下が好ましい。当該紫外線の照度が200mW/cmを超えると、光重合開始剤が急激に消費されるため、重合体の低分子量化が起こり、特に高温での保持力が低下することがある。また、紫外線の積算光量は、100mJ/cm〜5000mJ/cmであることが好ましい。 When the pressure-sensitive adhesive composition is an ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive composition and the coating film formed from the ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive composition is formed by irradiating the ultraviolet light, the illuminance of the ultraviolet light to be irradiated is 5 mW /. cm 2 or more is preferred. When the illuminance of the ultraviolet light is less than 5 mW / cm 2 , the polymerization reaction time may be prolonged and the productivity may be poor. In addition, as for the illumination intensity of the said ultraviolet-ray, 200 mW / cm < 2 > or less is preferable. When the illuminance of the ultraviolet light exceeds 200 mW / cm 2 , the photopolymerization initiator is rapidly consumed, so that the polymer may be reduced in molecular weight, and in particular, the holding power at high temperatures may be reduced. Further, the integrated quantity of ultraviolet light is preferably 100mJ / cm 2 ~5000mJ / cm 2 .

本発明に用いられる紫外線ランプは、特に限定されるものではないが、LEDランプが好ましい。LEDランプは他の紫外線ランプに比べて放出熱が低いランプであるため、粘着剤層の重合中の温度を抑えることができる。そのため、重合体の低分子量化を防ぐことができ、粘着剤層の凝集力の低下を防ぐとともに粘着シートとした場合の高温における保持力を高めることができる。また、複数の紫外線ランプを組み合わせることも可能である。また、紫外線を間欠的に照射し、紫外線を照射する明期と紫外線を照射しない暗期とを設けることもできる。   The ultraviolet lamp used in the present invention is not particularly limited, but an LED lamp is preferable. Since the LED lamp has a lower heat release than other ultraviolet lamps, the temperature during polymerization of the adhesive layer can be suppressed. Therefore, it is possible to prevent the lowering of the molecular weight of the polymer, and to prevent the lowering of the cohesion of the pressure-sensitive adhesive layer, and to enhance the holding power at high temperature when forming the pressure-sensitive adhesive sheet. It is also possible to combine multiple ultraviolet lamps. In addition, it is possible to intermittently irradiate ultraviolet light and provide a light period in which the ultraviolet light is irradiated and a dark period in which the ultraviolet light is not irradiated.

本発明において、紫外線硬化型粘着剤組成物中のモノマー成分の最終的な重合率は90%以上が好ましく、95%以上がより好ましく、98%以上が更に好ましい。   In the present invention, the final polymerization rate of the monomer component in the ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive composition is preferably 90% or more, more preferably 95% or more, and still more preferably 98% or more.

本発明において、上記紫外線硬化型粘着剤組成物に照射する紫外線のピーク波長は、200〜500nmの範囲内にあることが好ましく、300〜450nmの範囲内にあることがより好ましい。紫外線のピーク波長が500nmを超えると、光重合開始剤が分解せず、重合反応が開始しないことがある。また、紫外線のピーク波長が200nm未満であると、ポリマー鎖が切断され、接着特性が低下することがある。   In the present invention, the peak wavelength of the ultraviolet light irradiated to the ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive composition is preferably in the range of 200 to 500 nm, and more preferably in the range of 300 to 450 nm. When the peak wavelength of ultraviolet light exceeds 500 nm, the photopolymerization initiator may not be decomposed and the polymerization reaction may not start. In addition, when the peak wavelength of ultraviolet light is less than 200 nm, polymer chains may be cut, and adhesion properties may be degraded.

反応は空気中の酸素に阻害されるため、酸素を遮断するために、紫外線硬化型アクリル系粘着剤組成物から形成される塗布膜上に離型フィルム等を形成したり、光重合反応を窒素雰囲気下で行ったりすることが好ましい。離型フィルムとしては、前述のものを挙げることができる。なお、離型フィルムを用いた場合、当該離型フィルムはそのまま粘着剤層付き偏光フィルムのセパレータとして用いることができる。   Since the reaction is inhibited by oxygen in the air, a release film or the like is formed on a coating film formed of an ultraviolet-curable acrylic pressure-sensitive adhesive composition to block oxygen, or a photopolymerization reaction is performed using nitrogen It is preferable to carry out under an atmosphere. As a release film, the above-mentioned thing can be mentioned. In addition, when a release film is used, the said release film can be used as a separator of the polarizing film with an adhesive layer as it is.

また、本発明で用いる紫外線硬化型粘着剤組成物が、色素化合物(さらには紫外線吸収剤)を含む場合、アルキル(メタ)アクリレートを含有するモノマー成分と前記光重合開始剤(B)(「前添加重合開始剤」ということもある)を含む組成物に紫外線を照射して、前記モノマー成分の部分重合物を形成し、前記モノマー成分の部分重合物に、色素化合物(さらには紫外線吸収剤)、並びに波長400nm以上に吸収帯を有する光重合開始剤(A)(「後添加重合開始剤」ということもある)を添加して、紫外線硬化型粘着剤組成物を作製することが好ましい。部分重合物の重合率は、20%以下程度であることが好ましく、3〜20%程度がより好ましく、5〜15%程度がさらに好ましい。紫外線の照射条件は前述の通りである。   In addition, when the ultraviolet curable adhesive composition used in the present invention contains a dye compound (further, an ultraviolet absorber), the monomer component containing alkyl (meth) acrylate and the photopolymerization initiator (B) ( The composition containing “additional polymerization initiator” is irradiated with ultraviolet light to form a partial polymer of the monomer component, and the partial polymer of the monomer component is a dye compound (further, an ultraviolet absorber) And a photopolymerization initiator (A) having an absorption band at a wavelength of 400 nm or more (sometimes referred to as "post-addition polymerization initiator") is preferably added to produce an ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive composition. The polymerization rate of the partially polymerized product is preferably about 20% or less, more preferably about 3 to 20%, and still more preferably about 5 to 15%. The irradiation conditions of the ultraviolet light are as described above.

前述の通り、色素化合物(さらには紫外線吸収剤)を含有する紫外線硬化型粘着剤組成物から粘着剤層を形成する場合、前述のような2段階で重合することにより、モノマー成分の重合率を上げることができ、かつ、最終的に作製された粘着剤層の紫外線吸収機能を向上することができる。   As described above, when the pressure-sensitive adhesive layer is formed from the ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive composition containing the dye compound (further, the ultraviolet light absorber), the polymerization rate of the monomer component is obtained by polymerization in two steps as described above. The ultraviolet absorbing function of the pressure-sensitive adhesive layer finally produced can be improved.

粘着剤層の厚さは、12μm以上であることが好ましく、50μm以上であることがより好ましく、100μm以上であることがさらに好ましく、150μm以上であることが特に好ましい。粘着剤層の厚さの上限値は特に限定されないが、1mm以下であることが好ましい。粘着剤層の厚さが1mmを超えると紫外線の透過が困難になり、モノマー成分の重合に時間がかかる他、加工性や工程での巻き取り、搬送性に問題を生じ、生産性が劣る場合があるため、好ましくない。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 12 μm or more, more preferably 50 μm or more, still more preferably 100 μm or more, and particularly preferably 150 μm or more. The upper limit of the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 1 mm or less. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer exceeds 1 mm, the transmission of ultraviolet light becomes difficult, and it takes time to polymerize the monomer component, and problems occur in processability, winding up in steps and transportability, and productivity is poor. Not desirable because

本発明の粘着剤層のゲル分率は、特に限定されるものではないが、35%以上であることが好ましく、50%以上であることがより好ましく、75%以上であることがさらに好ましく、85%以上であることが特に好ましい。粘着剤層のゲル分率が小さい場合には、加工性やハンドリング性に問題が出る場合がある。   The gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is not particularly limited, but is preferably 35% or more, more preferably 50% or more, and still more preferably 75% or more. Particularly preferred is 85% or more. When the gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer is small, problems may occur in processability and handling.

前記粘着剤層は、厚さ25μmで測定したヘイズ値が2%以下であることが好ましく、0〜1.5%であることがより好ましく、0〜1.0%であることがさらに好ましい。ヘイズが前記範囲にあることで、粘着剤層が高い透明性を有するため好ましい。   The pressure-sensitive adhesive layer preferably has a haze value measured at a thickness of 25 μm of 2% or less, more preferably 0 to 1.5%, and still more preferably 0 to 1.0%. It is preferable for the pressure-sensitive adhesive layer to have high transparency when the haze is in the above-mentioned range.

前記粘着剤層が露出する場合には、実用に供されるまで離型フィルムで粘着剤層を保護してもよい。   When the pressure-sensitive adhesive layer is exposed, the pressure-sensitive adhesive layer may be protected with a release film until it is practically used.

(1−2)偏光フィルム
前記偏光フィルムは、偏光子の少なくとも一方の面に透明保護フィルムを有するものを挙げることができる。
(1-2) Polarizing Film The polarizing film may be one having a transparent protective film on at least one surface of a polarizer.

(1−2−1)偏光子4
偏光子は、特に限定されず、各種のものを使用できる。偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素等の二色性物質からなる偏光子が好適である。これらの偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に5〜80μm程度である。
(1-2-1) Polarizer 4
The polarizer is not particularly limited, and various types of polarizers can be used. As a polarizer, for example, a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol-based film, a partially formalized polyvinyl alcohol-based film, or an ethylene / vinyl acetate copolymer-based partially saponified film, dichroism of iodine or a dichroic dye Examples thereof include those obtained by adsorbing a substance and uniaxially stretched, and dehydrated products of polyvinyl alcohol and dehydrochlorinated products of polyvinyl chloride such as polyene-based oriented films. Among these, a polarizer made of a polyvinyl alcohol film and a dichroic substance such as iodine is preferable. Although the thickness in particular of these polarizers is not restrict | limited, Generally it is about 5-80 micrometers.

ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の3〜7倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいても良いヨウ化カリウム等の水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラ等の不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸しても良いし、また延伸してからヨウ素で染色しても良い。ホウ酸やヨウ化カリウム等の水溶液や水浴中でも延伸することができる。   The polarizer which dye | stained the polyvinyl alcohol-type film with iodine, and uniaxially stretched it can be produced by, for example, dyeing | staining by immersing polyvinyl alcohol in the aqueous solution of iodine, and extending | stretching 3 to 7 times of original length. It can also be immersed in an aqueous solution such as potassium iodide which may contain boric acid, zinc sulfate, zinc chloride and the like as required. Furthermore, before dyeing, the polyvinyl alcohol-based film may be dipped in water and rinsed if necessary. In addition to being able to wash the stains and antiblocking agents on the surface of the polyvinyl alcohol film by washing the polyvinyl alcohol film with water, it is also possible to prevent unevenness such as uneven dyeing by swelling the polyvinyl alcohol film. is there. The stretching may be performed after staining with iodine, may be stretching while staining, or may be stretched and then stained with iodine. It can also be stretched in an aqueous solution of boric acid or potassium iodide or in a water bath.

また、本発明においては、厚さが10μm以下の薄型偏光子も用いることができる。薄型化の観点から言えば当該厚さは1〜7μmであるのが好ましい。このような薄型の偏光子は、厚みムラが少なく、視認性が優れており、また寸法変化が少ないため耐久性に優れ、さらには偏光フィルムとしての厚さも薄型化が図れる点が好ましい。   In the present invention, a thin polarizer having a thickness of 10 μm or less can also be used. From the viewpoint of thinning, the thickness is preferably 1 to 7 μm. It is preferable that such a thin polarizer has less thickness unevenness, excellent visibility, and less dimensional change, so it is excellent in durability, and further, thickness reduction as a polarizing film can be achieved.

薄型の偏光子としては、代表的には、特開昭51−069644号公報や特開2000−338329号公報や、国際公開第2010/100917号パンフレット、国際公開第2010/100917号パンフレット、又は特許4751481号明細書や特開2012−073563号公報に記載されている薄型偏光膜を挙げることができる。これら薄型偏光膜は、ポリビニルアルコール系樹脂(以下、PVA系樹脂ともいう)層と延伸用樹脂基材を積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法により得ることができる。この製法であれば、PVA系樹脂層が薄くても、延伸用樹脂基材に支持されていることにより延伸による破断等の不具合なく延伸することが可能となる。   Typical thin polarizers are disclosed in JP-A-51-069644, JP-A-2000-338329, WO 2010/100917, WO 2010/100917, or a patent. The thin-shaped polarizing film described in 4751481 specification and Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-073563 can be mentioned. These thin polarizing films can be obtained by a manufacturing method including a step of stretching a polyvinyl alcohol resin (hereinafter, also referred to as a PVA-based resin) layer and a resin base for stretching in the state of a laminate and a dyeing step. With this manufacturing method, even if the PVA-based resin layer is thin, it is possible to stretch without any problems such as breakage due to stretching by being supported by the stretching resin base material.

前記薄型偏光膜としては、積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法の中でも、高倍率に延伸できて偏光性能を向上させることのできる点で、国際公開第2010/100917号パンフレット、国際公開第2010/100917号パンフレット、又は特許4751481号明細書や特開2012−073563号公報に記載のあるようなホウ酸水溶液中で延伸する工程を含む製法で得られるものが好ましく、特に特許4751481号明細書や特開2012−073563号公報に記載のあるホウ酸水溶液中で延伸する前に補助的に空中延伸する工程を含む製法により得られるものが好ましい。   Among the thin polarizing films described above, among the process of drawing in the state of a laminate and the process of dyeing, it can be drawn at a high magnification and the polarization performance can be improved. WO 2010/100917 pamphlet, or those obtained by the process including the step of stretching in an aqueous solution of boric acid as described in Japanese Patent No. 4751481 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-073563, particularly preferred is the patent What is obtained by the manufacturing method which includes the process of carrying out airborne extension auxiliary | assistant before extending | stretching in the boric-acid aqueous solution which is described in 4751481 specification or Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-073563 is preferable.

(1−2−2)透明保護フィルム3
本発明で用いる透明保護フィルム3は、偏光子4の視認側に配置されるものであるが、偏光子4の有機ELパネル側にも透明保護フィルムを配置することができる。
(1-2-2) Transparent protective film 3
Although the transparent protective film 3 used by this invention is arrange | positioned at the visual recognition side of the polarizer 4, a transparent protective film can be arrange | positioned also at the organic EL panel side of the polarizer 4. FIG.

透明保護フィルムについては、従来から用いられているものを適宜用いることができる。具体的には、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性等に優れる材料(ベースポリマー)から形成される透明保護フィルムが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体(AS樹脂)等のスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー等が挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は、前記ポリマーのブレンド物等も前記透明保護フィルムを形成するポリマーの例として挙げられる。透明保護フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型、紫外線硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。   As the transparent protective film, those conventionally used can be appropriately used. Specifically, a transparent protective film formed of a material (base polymer) which is excellent in transparency, mechanical strength, heat stability, water blocking property, isotropy, etc. is preferable, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc. Polyester polymers, cellulose polymers such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose, acrylic polymers such as polymethyl methacrylate, styrene polymers such as polystyrene and acrylonitrile / styrene copolymer (AS resin), polycarbonate polymers, etc. Be In addition, polyolefins having polyethylene, polypropylene, cyclo-based or norbornene structure, polyolefin-based polymers such as ethylene / propylene copolymer, vinyl chloride-based polymers, amide-based polymers such as nylon and aromatic polyamides, imide-based polymers, sulfone-based polymers , Polyether sulfone polymers, polyetheretherketone polymers, polyphenylene sulfide polymers, vinyl alcohol polymers, vinylidene chloride polymers, vinyl butyral polymers, arylate polymers, polyoxymethylene polymers, epoxy polymers, or Blends of the above-mentioned polymers and the like are also mentioned as examples of the polymer forming the above-mentioned transparent protective film. The transparent protective film can also be formed as a cured layer of thermosetting resin such as acrylic resin, urethane resin, acrylic urethane resin, epoxy resin, and silicone resin, and ultraviolet curable resin.

透明保護フィルムの厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄膜性等の点より1〜500μm程度である。   The thickness of the transparent protective film can be determined as appropriate, but generally it is about 1 to 500 μm from the viewpoints of strength, workability such as handleability, and thin film properties.

(1−2−3)接着剤層
前記偏光子と透明保護フィルムとは、水系接着剤等を介して密着することが好ましい。水系接着剤としては、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリウレタン、水系ポリエステル等を例示できる。上記の他、偏光子と透明保護フィルムとの接着剤としては、紫外硬化型接着剤、電子線硬化型接着剤等が挙げられる。電子線硬化型偏光フィルム用接着剤は、上記各種の視認側透明保護フィルムに対して、好適な接着性を示す。また本発明で用いる接着剤には、金属化合物フィラーを含有させることができる。
(1-2-3) Adhesive Layer It is preferable that the polarizer and the transparent protective film be in close contact with each other via an aqueous adhesive or the like. Examples of water-based adhesives include isocyanate-based adhesives, polyvinyl alcohol-based adhesives, gelatin-based adhesives, vinyl-based latexes, water-based polyurethanes, water-based polyesters, and the like. In addition to the above, as an adhesive agent of a polarizer and a transparent protective film, an ultraviolet curable adhesive, an electron beam curable adhesive, etc. are mentioned. The adhesive for electron beam-curable polarizing film exhibits suitable adhesiveness to the above various viewing side transparent protective films. The adhesive used in the present invention can contain a metal compound filler.

(1−2−4)表面処理層:機能層
前記透明保護フィルムの偏光子を接着させない面には、ハードコート層や反射防止層、スティッキング防止層等の機能層を形成することができ、また、拡散ないしアンチグレアを目的とした処理を施したものであっても良い。
(1-2-4) Surface treatment layer: functional layer A functional layer such as a hard coat layer, an antireflection layer, or a sticking prevention layer can be formed on the surface of the transparent protective film to which the polarizer is not attached. , Or may be treated for the purpose of diffusion or antiglare.

前記ハードコート層としては、例えば、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂等をベースポリマーとする硬化型樹脂からなる硬化被膜が、好ましく用いられる。前記硬化型樹脂は、分子中に少なくとも一つの重合性二重結合を有する官能基を有する活性エネルギー線硬化型化合物として用いることができる。前記ハードコート層の厚みとしては、0.1〜30μmが好ましい。   As the hard coat layer, for example, a cured film made of a curable resin having a melamine-based resin, a urethane-based resin, an alkyd-based resin, an acrylic resin, a silicone-based resin or the like as a base polymer is preferably used. The curable resin can be used as an active energy ray curable compound having a functional group having at least one polymerizable double bond in the molecule. The thickness of the hard coat layer is preferably 0.1 to 30 μm.

前記機能層に光安定剤(HALS)、酸化防止剤等を添加することもできる。   A light stabilizer (HALS), an antioxidant, etc. can also be added to the said functional layer.

(1−3)位相差フィルム5
前記位相差フィルムは、遅相軸方向の屈折率をnx、面内の進相軸方向の屈折率をny、厚み方向の屈折率をnzとした場合に、nx=ny>nz、nx>ny>nz、nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz=nx>ny、nz>nx>ny、nz>nx=ny、の関係を満足するものが、各種用途に応じて選択して用いられる。なお、nx=nyとは、nxとnyが完全に同一である場合だけでなく、実質的にnxとnyが同じ場合も含む。また、ny=nzとは、nyとnzが完全に同一である場合だけでなく、実質的にnyとnzが同じ場合も含む。
(1-3) Retardation film 5
The retardation film has a refractive index in the slow axis direction of nx, a refractive index in the in-plane fast axis direction of ny, and a refractive index in the thickness direction of nz: nx = ny> nz, nx> ny Those satisfying the relationship of> nz, nx> ny = nz, nx>nz> ny, nz = nx> ny, nz>nx> ny, nz> nx = ny are selected and used according to various applications. Be Note that nx = ny includes not only cases in which nx and ny are completely identical but also cases in which nx and ny are substantially the same. Also, ny = nz includes not only cases in which ny and nz are completely identical, but also cases in which ny and nz are substantially the same.

本発明においては、有機EL表示装置に用いるため、前記位相差フィルムは、正面レターデーションを1/4波長(約100〜170nm)とした1/4波長板であることが好ましい。前記偏光フィルムと1/4波長板を積層することで、有機EL表示装置の反射防止用の円偏光フィルムとして機能するため好ましい。   In the present invention, for use in an organic EL display device, the retardation film is preferably a quarter wavelength plate with a front retardation of quarter wavelength (about 100 to 170 nm). By laminating the polarizing film and the 1⁄4 wavelength plate, it is preferable because it functions as a circularly polarizing film for preventing reflection of the organic EL display device.

すなわち、この有機EL表示装置に入射する外部光は、偏光フィルムにより直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相差フィルムにより一般に楕円偏光となるが、とくに位相差板が1/4波長板で、しかも位相差フィルムとの偏光方向のなす角がπ/4のときには円偏光となる。   That is, only linearly polarized light components of the external light incident on the organic EL display device are transmitted by the polarizing film. Although this linearly polarized light is generally elliptically polarized due to the retardation film, it is circularly polarized particularly when the retardation plate is a 1⁄4 wavelength plate and the angle between the retardation film and the polarization direction is π / 4.

この円偏光は、有機ELパネル中の透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相差フィルムで再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光フィルムの偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。   The circularly polarized light passes through the transparent substrate, the transparent electrode and the organic thin film in the organic EL panel, is reflected by the metal electrode, is again transmitted through the organic thin film, the transparent electrode and the transparent substrate, and is linearly polarized again by the retardation film. It becomes. And since this linearly polarized light is orthogonal to the polarization direction of the polarizing film, it can not transmit through the polarizing plate. As a result, the mirror surface of the metal electrode can be completely shielded.

位相差フィルムとしては、高分子素材を一軸または二軸延伸処理してなる複屈折性フィルム、液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したものなどが挙げられる。   Examples of the retardation film include a birefringent film formed by uniaxially or biaxially stretching a polymer material, an alignment film of liquid crystal polymer, and a film supporting an alignment layer of liquid crystal polymer.

高分子素材(ベースポリマー)としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルビニルエーテル、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリアリルスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、セルロース系重合体、シクロオレフィン系樹脂、またはこれらの二元系、三元系各種共重合体、グラフト共重合体、ブレンド物などが挙げられる。これらの高分子素材は延伸等により配向物(延伸フィルム)となる。   Examples of the polymer material (base polymer) include polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polymethyl vinyl ether, polyhydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, methyl cellulose, polycarbonate, polyarylate, polysulfone, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, Polyether sulfone, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polyallyl sulfone, polyamide, polyimide, polyolefin, polyvinyl chloride, cellulose polymer, cycloolefin resin, or binary or ternary copolymers of these, Graft copolymers, blends and the like can be mentioned. These polymer materials become oriented products (stretched films) by stretching or the like.

液晶ポリマー(ベースポリマー)としては、例えば、液晶配向性を付与する共役性の直線状原子団(メソゲン)がポリマーの主鎖や側鎖に導入された主鎖型や側鎖型の各種のものなどが挙げられる。主鎖型の液晶ポリマーの具体例としては、屈曲性を付与するスペーサ部でメソゲン基を結合した構造の、例えばネマチック配向性のポリエステル系液晶性ポリマー、ディスコティックポリマーやコレステリックポリマーなどが挙げられる。側鎖型の液晶ポリマーの具体例としては、ポリシロキサン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート又はポリマロネートを主鎖骨格とし、側鎖として共役性の原子団からなるスペーサ部を介してネマチック配向付与性のパラ置換環状化合物単位からなるメソゲン部を有するものなどが挙げられる。これらの液晶ポリマーは、例えば、ガラス板上に形成したポリイミドやポリビニルアルコール等の薄膜の表面をラビング処理したもの、酸化ケイ素を斜方蒸着したものなどの配向処理面上に液晶性ポリマーの溶液を展開して熱処理することにより行われる。   As a liquid crystal polymer (base polymer), for example, various types of main chain type or side chain type in which a conjugated linear atomic group (mesogen) imparting liquid crystal orientation is introduced into the main chain or side chain of the polymer Etc. Specific examples of the main chain type liquid crystal polymer include a polyester-based liquid crystalline polymer, a discotic polymer, a cholesteric polymer, and the like having a structure in which a mesogen group is bonded at a spacer portion that imparts flexibility. Specific examples of the side chain type liquid crystal polymer include a polysiloxane, a polyacrylate, a polymethacrylate, or a polymalonate as a main chain skeleton, and a para-substituted nematic alignment imparting agent through a spacer portion composed of a conjugated atomic group as a side chain. What has a mesogenic part which consists of a cyclic compound unit etc. are mentioned. These liquid crystal polymers are prepared, for example, by rubbing a surface of a thin film of polyimide, polyvinyl alcohol or the like formed on a glass plate, a solution of a liquid crystalline polymer on an alignment treated surface such as one obtained by oblique deposition of silicon oxide. It is carried out by developing and heat treating.

(1−4)粘着剤層6、層間粘着剤層(又は接着剤層)
本発明で用いる粘着剤層6(有機ELパネル側の粘着剤層)としては、層間粘着剤層(又は接着剤層)、前記粘接着剤層の粘着剤層と同様のものを挙げることができるが、その中でも、(メタ)アクリル系ポリマーをベースポリマーとする(メタ)アクリル系粘着剤組成物から形成されるアクリル系粘着剤層が好ましい。また、ゴム系ポリマーをベースポリマーとするゴム系粘着剤組成物から形成されるゴム粘着剤層を好ましく適用できる。また、粘着剤層の製造方法や好ましい態様等も同様のものを挙げることができる。
(1-4) Pressure-sensitive adhesive layer 6, interlayer pressure-sensitive adhesive layer (or adhesive layer)
As the pressure-sensitive adhesive layer 6 (pressure-sensitive adhesive layer on the organic EL panel side) used in the present invention, the same layers as the pressure-sensitive adhesive layer of the interlayer pressure-sensitive adhesive layer (or adhesive layer) and the pressure-sensitive adhesive layer may be mentioned. Among them, an acrylic pressure-sensitive adhesive layer formed of a (meth) acrylic pressure-sensitive adhesive composition containing a (meth) acrylic polymer as a base polymer is preferable. Further, a rubber pressure-sensitive adhesive layer formed of a rubber-based pressure-sensitive adhesive composition containing a rubber-based polymer as a base polymer can be preferably applied. Moreover, the thing similar to the manufacturing method of an adhesive layer, a preferable aspect, etc. can be mentioned.

粘着剤層の厚みとしては、特に限定されるものではないが、10〜75μm程度であることが好ましく、12〜50μm程度であることがより好ましい。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but is preferably about 10 to 75 μm, and more preferably about 12 to 50 μm.

(1−5)その他の層
前記(有機ELパネル側)透明保護フィルムとしては、透明保護フィルム3と同様のものを例示することができ、前記有機ELパネル側第1粘着剤層(又は接着剤層)としては、本明細書中のいかなる粘着剤層、接着剤層も好適に使用することができる。
(1-5) Other Layers As the above-mentioned (organic EL panel side) transparent protective film, the same one as the transparent protective film 3 can be exemplified, and the organic EL panel side first pressure-sensitive adhesive layer (or adhesive As the layer), any pressure-sensitive adhesive layer and adhesive layer in the present specification can be suitably used.

≪光学部材の透過率≫
本発明の組成物から形成される光学部材(各層)の波長380nmにおける透過率は、15%以下であることが好ましく、10%以下であることがより好ましく、7%以下であることがさらに好ましく、3%以下であることが特に好ましい。波長380nmにおける透過率が前記範囲であることにより、入射する紫外線をより高度に遮断することができるため、有機EL素子の劣化を著しく抑制することができる。
«Transmittance of optical members»
The transmittance at a wavelength of 380 nm of an optical member (each layer) formed from the composition of the present invention is preferably 15% or less, more preferably 10% or less, and still more preferably 7% or less Particularly preferred is 3% or less. When the transmittance at a wavelength of 380 nm is in the above range, incident ultraviolet light can be blocked at a higher level, so that deterioration of the organic EL element can be remarkably suppressed.

また本発明の組成物から形成される光学部材(各層)の波長400nmにおける透過率は、15%以下であることが好ましく、10%以下であることがより好ましく、7%以下であることがさらに好ましく、3%以下であることが特に好ましい。波長400nmにおける透過率が前記範囲であることにより、入射する紫外線をより高度に遮断することができるため、有機EL素子の劣化を著しく抑制することができる。   The transmittance at a wavelength of 400 nm of an optical member (each layer) formed from the composition of the present invention is preferably 15% or less, more preferably 10% or less, and further preferably 7% or less Preferably, it is 3% or less. When the transmittance at a wavelength of 400 nm is in the above range, incident ultraviolet light can be blocked at a higher level, so that deterioration of the organic EL element can be remarkably suppressed.

一方、本発明の組成物から形成される光学部材(各層)の波長440nmにおける透過率は、60%以上であることが好ましく、75%以上であることが好ましく、85%以上であることがより好ましい。波長440nmにおける透過率が前記範囲であることにより、有機EL素子の発光を十分に透過することができ、有機EL表示装置において十分な表示性能を確保できるため好ましい。   On the other hand, the transmittance at a wavelength of 440 nm of the optical member (each layer) formed from the composition of the present invention is preferably 60% or more, preferably 75% or more, and more preferably 85% or more. preferable. When the transmittance at a wavelength of 440 nm is in the above range, the light emitted from the organic EL element can be sufficiently transmitted, and sufficient display performance can be secured in the organic EL display device, which is preferable.

≪光学積層体の透過率≫
前記光学積層体の波長380nmにおける透過率が、9%以下であることが好ましく、7%以下であることがより好ましく、5%以下であることがさらに好ましく、3%以下であることが特に好ましい。波長380nmにおける透過率が前記範囲であることにより、入射する紫外線をより高度に遮断することができるため、有機EL素子の劣化を著しく抑制することができるため、好ましい。
«Transmittance of Optical Laminates»
The transmittance of the optical laminate at a wavelength of 380 nm is preferably 9% or less, more preferably 7% or less, still more preferably 5% or less, particularly preferably 3% or less . When the transmittance at a wavelength of 380 nm is in the above range, it is possible to block incident ultraviolet rays to a higher degree, which is preferable because deterioration of the organic EL element can be remarkably suppressed.

また、前記光学積層体の波長400nmにおける透過率は、20%以下であることが好ましく、15%以下であることが好ましく、10%以下であることがより好ましい。波長400nmにおける透過率が前記範囲であることにより、入射する紫外線をより高度に遮断することができるため、有機EL素子の劣化を著しく抑制することができるため、好ましい。   The transmittance at a wavelength of 400 nm of the optical laminate is preferably 20% or less, preferably 15% or less, and more preferably 10% or less. When the transmittance at a wavelength of 400 nm is in the above-mentioned range, it is possible to block incident ultraviolet rays to a higher degree, which is preferable because deterioration of the organic EL element can be remarkably suppressed.

また、前記光学積層体の波長440nmにおける透過率は、25%以上であることが好ましく、30%以上であることが好ましく、33%以上であることがより好ましい。波長440nmにおける透過率が前記範囲であることにより、有機EL素子の発光を十分に透過することができ、有機EL表示装置において十分な表示性能を確保できるため好ましい。   The transmittance at a wavelength of 440 nm of the optical laminate is preferably 25% or more, preferably 30% or more, and more preferably 33% or more. When the transmittance at a wavelength of 440 nm is in the above range, the light emitted from the organic EL element can be sufficiently transmitted, and sufficient display performance can be secured in the organic EL display device, which is preferable.

≪有機EL表示装置≫
本発明の有機EL表示装置は、前記光学積層体1と、有機ELパネルを含むものであって、その他の層を含むこともできる。具体的には、図2に示すように、視認側から、カバー部材7/粘接着剤層2/保護フィルム3/偏光子4/位相差フィルム5/粘着剤層6/有機ELパネル8がこの順に積層された有機EL表示装置10が好ましく、カバー部材7/粘接着剤層2/(視認側)保護フィルム3/偏光子4/有機ELパネル側保護フィルム/有機ELパネル側第1粘着剤層(又は接着剤層)/位相差フィルム5/(有機ELパネル側第2)粘着剤層6/有機ELパネル8がこの順に積層された有機EL表示装置等も挙げることができる。また、これら以外にも、ハードコート層、防眩処理層、反射防止層等の機能層や、センサー層、またこれらを積層するための粘着剤層や接着剤層等を含む構成を挙げることができる。
«Organic EL display device»
The organic EL display device of the present invention includes the optical laminate 1 and an organic EL panel, and may include other layers. Specifically, as shown in FIG. 2, from the viewing side, the cover member 7 / adhesive layer 2 / protective film 3 / polarizer 4 / retardation film 5 / adhesive layer 6 / organic EL panel 8 The organic EL display device 10 laminated in this order is preferable, and the cover member 7 / adhesive layer 2 / (visual side) protective film 3 / polarizer 4 / organic EL panel side protective film / organic EL panel side first adhesive Agent layer (or adhesive layer) / retardation film 5 / (organic EL panel side 2nd) adhesive layer 6 / organic EL display etc. with which the organic EL panel 8 was laminated | stacked in this order can also be mentioned. In addition to these, mention may be made of structures including functional layers such as a hard coat layer, an antiglare layer, an antireflective layer, a sensor layer, and an adhesive layer or adhesive layer for laminating these. it can.

前記カバー部材は、特に限定されるものではなく、本分野において通常用いられているものを好適に用いることができ、カバーガラス、カバープラスチック等を挙げることができる。また、有機ELパネルは、特に限定されるものではなく、本分野において通常用いられているものを好適に用いることができ、例えば、基材と、前記基材の上に並んで設けられた複数の有機EL素子と、前記有機EL素子の上に設けられた保護層と、前記保護層の上に設けられた封止フィルムと、を有するパネルを挙げることができる。   The cover member is not particularly limited, and those commonly used in the present field can be suitably used, and a cover glass, a cover plastic and the like can be mentioned. In addition, the organic EL panel is not particularly limited, and those commonly used in the present field can be suitably used. For example, a plurality of substrates and a plurality of substrates provided on the substrate are provided. And a protective film provided on the organic EL device, and a sealing film provided on the protective layer.

以下では、本発明の一般式(1)で表される化合物を含有する光学部材を、透明導電性フィルムに用いる場合を説明する。前記透明導電性フィルムは、透明基材フィルム及び透明導電層を含む。   Below, the case where the optical member containing the compound represented by General formula (1) of this invention is used for a transparent conductive film is demonstrated. The transparent conductive film includes a transparent substrate film and a transparent conductive layer.

図3に示すように、透明導電性フィルム20として、例えば、透明導電層22/中間層23/透明基材フィルム21、がこの順に積層されたものを例示することができる。中間層23は任意に設けることができる。前記中間層としては、屈折率調整層、易接着剤層、ハードコート層、クラッキング防止層等が挙げられ、これらから選ばれるいずれか少なくとも1つを用いることができる。本発明の一般式(1)で表される化合物を含有する光学部材は、前記透明導電性フィルムを形成する透明基材フィルム、又は中間層として用いることができる。また、透明導電性フィルム20には、透明基材フィルム21において、透明導電層22を設けていない側に、アンチブロッキング層24を設けることができる。アンチブロッキング層を本発明の一般式(1)で表される化合物を含有する光学部材として用いることができる。   As shown in FIG. 3, as the transparent conductive film 20, for example, one in which the transparent conductive layer 22 / the intermediate layer 23 / the transparent base film 21 is laminated in this order can be illustrated. The intermediate layer 23 can be optionally provided. Examples of the intermediate layer include a refractive index adjustment layer, an easily adhesive layer, a hard coat layer, a cracking prevention layer and the like, and at least one selected from these can be used. The optical member containing the compound represented by General formula (1) of this invention can be used as a transparent base film which forms the said transparent conductive film, or an intermediate | middle layer. Moreover, the transparent conductive film 20 can be provided with the antiblocking layer 24 on the side of the transparent base film 21 where the transparent conductive layer 22 is not provided. The antiblocking layer can be used as an optical member containing the compound represented by General formula (1) of this invention.

透明導電性フィルム20が、中間層23、アンチブロッキング層24を有する場合には、例えば、下記態様を例示できる。
態様1:透明導電層22/中間層23(屈折率調整層)/透明基材フィルム21/アンチブロッキング層24。
態様2:透明導電層22/中間層23(屈折率調整層/ハードコート層)/透明基材フィルム21/アンチブロッキング層24。
態様3:透明導電層22/中間層23(クラック防止層)/透明基材フィルム21/アンチブロッキング層24。
態様4:透明導電層22/中間層23(クラック防止層/易接着剤層)/透明基材フィルム21/アンチブロッキング層24。
態様5:透明導電層22/中間層23(屈折率調整層/ハードコート層/易接着剤層)/透明基材フィルム21/アンチブロッキング層24。
When the transparent conductive film 20 has the intermediate | middle layer 23 and the anti blocking layer 24, the following aspect can be illustrated, for example.
Aspect 1: Transparent conductive layer 22 / intermediate layer 23 (refractive index adjustment layer) / transparent substrate film 21 / anti-blocking layer 24.
Aspect 2: Transparent conductive layer 22 / intermediate layer 23 (refractive index adjustment layer / hard coat layer) / transparent substrate film 21 / anti-blocking layer 24.
Aspect 3: Transparent conductive layer 22 / intermediate layer 23 (anti-crack layer) / transparent substrate film 21 / anti-blocking layer 24.
Aspect 4: Transparent conductive layer 22 / intermediate layer 23 (anti-crack layer / adhesive layer) / transparent substrate film 21 / anti-blocking layer 24.
Aspect 5: Transparent conductive layer 22 / intermediate layer 23 (refractive index adjustment layer / hard coat layer / easy adhesive layer) / transparent substrate film 21 / anti-blocking layer 24.

前記透明導電性フィルムにおいて、本発明の一般式(1)で表される化合物を含有する光学部材は、前記透明導電性フィルムを形成する透明基材フィルム、又は中間層として用いることが好ましい。本発明の一般式(1)で表される化合物を含有する光学部材を、アンチブロッキング層に適用した場合には、アンチブロッキング層中のアンチブロッキング粒子の密着性への不具合により、耐擦傷性の確保が困難になるおそれがある。   In the transparent conductive film, an optical member containing the compound represented by the general formula (1) of the present invention is preferably used as a transparent base film or an intermediate layer for forming the transparent conductive film. When the optical member containing the compound represented by the general formula (1) of the present invention is applied to the antiblocking layer, the scratch resistance is due to a defect in the adhesion of the antiblocking particles in the antiblocking layer. It may be difficult to secure.

(2−1)透明基材フィルム21
透明基材フィルムの材料(ベースポリマー)としては、特に制限されないが、透明性を有する各種のプラスチック材料があげられる。例えば、その材料(ベースポリマー)として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂などのポリシクロオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの中で特に好ましいのは、ポリシクロオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂である。
(2-1) Transparent base film 21
The material (base polymer) of the transparent substrate film is not particularly limited, and various plastic materials having transparency can be mentioned. For example, as the material (base polymer), polyester resin such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, acetate resin, polyether sulfone resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyimide resin, polyolefin resin, polynorbornene Resin such as polycycloolefin resin, (meth) acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyarylate resin, polyphenylene sulfide resin etc. Be Among these, polycycloolefin resins, polyester resins, polycarbonate resins and polyolefin resins are particularly preferable.

前記透明基材フィルムの厚さは、通常、30〜250μmであるのが好ましく、より好ましくは45〜200μmである。   The thickness of the transparent substrate film is usually preferably 30 to 250 μm, more preferably 45 to 200 μm.

(2−2)透明導電層22
透明導電層の構成材料としては特に限定されず、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンからなる群より選択される少なくとも1種の金属の金属酸化物が用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子を含んでいてもよい。例えば酸化スズを含有する酸化インジウム(ITO)、アンチモンを含有する酸化スズ(ATO)などが好ましく用いられる。
(2-2) Transparent conductive layer 22
The constituent material of the transparent conductive layer is not particularly limited, and at least one selected from the group consisting of indium, tin, zinc, gallium, antimony, titanium, silicon, zirconium, magnesium, aluminum, gold, silver, copper, palladium, tungsten One metal oxide of metal is used. The said metal oxide may contain the metal atom further shown by the said group as needed. For example, indium oxide (ITO) containing tin oxide, tin oxide (ATO) containing antimony, etc. are preferably used.

透明導電層の厚さは特に制限されないが、その表面抵抗を1×10Ω/□以下の良好な導電性を有する連続被膜とするには、厚さ10nm以上とするのが好ましい。膜厚が、厚くなりすぎると透明性の低下などをきたすため、15〜35nmであることが好ましく、より好ましくは20〜30nmの範囲内である。 The thickness of the transparent conductive layer is not particularly limited, but the thickness is preferably 10 nm or more in order to obtain a continuous film having a good conductivity of 1 × 10 3 Ω / sq or less. If the film thickness is too large, the transparency may be reduced, so the thickness is preferably 15 to 35 nm, and more preferably in the range of 20 to 30 nm.

透明導電層の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法を例示できる。また、必要とする膜厚に応じて適宜の方法を採用することもできる。なお、透明導電層を形成した後、必要に応じて、100〜150℃の範囲内でアニール処理を施して結晶化することができる。   It does not specifically limit as a formation method of a transparent conductive layer, A conventionally well-known method is employable. Specifically, for example, a vacuum evaporation method, a sputtering method, and an ion plating method can be exemplified. In addition, an appropriate method can be adopted according to the required film thickness. In addition, after forming a transparent conductive layer, it can anneal-treat and crystallize within the range of 100-150 degreeC as needed.

(2−3−1)中間層23:屈折率調整層
屈折率調整層は、無機物、有機物または無機物と有機物との混合物により形成することができる。例えば、無機物として、NaF(1.3)、NaAlF(1.35)、LiF(1.36)、MgF(1.38)、CaF(1.4)、BaF(1.3)、SiO(1.46)、LaF(1.55)、CeF(1.63)、Al(1.63)などの無機物〔上記各材料の( )内の数値は光の屈折率である〕があげられる。また有機物としてはアクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、有機シラン縮合物などがあげられ、これら有機物をベースポリマーとして用いることができる。これらベースポリマーは、少なくとも1種が用いられる。
(2-3-1) Intermediate Layer 23: Refractive Index Adjustment Layer The refractive index adjustment layer can be formed of an inorganic substance, an organic substance, or a mixture of an inorganic substance and an organic substance. For example, as inorganic substances, NaF (1.3), Na 3 AlF 6 (1.35), LiF (1.36), MgF 2 (1.38), CaF 2 (1.4), BaF 2 (1. 3) inorganic substances such as SiO 2 (1.46), LaF 3 (1.55), CeF 3 (1.63), Al 2 O 3 (1.63), etc. Is the refractive index of light]. Examples of the organic substance include acrylic resins, urethane resins, melamine resins, alkyd resins, siloxane polymers, organic silane condensates and the like, and these organic substances can be used as the base polymer. At least one of these base polymers is used.

屈折率調整層は、平均粒径が1nm〜500nm、好ましくは、5nm〜300nmのナノ微粒子を有していてもよい。屈折率調整層中のナノ微粒子の含有量は好ましくは0.1重量%〜90重量%、より好ましくは10重量%〜80重量%が、さらに好ましくは20重量%〜70重量%である。屈折率調整層中にナノ微粒子を含有することによって、屈折率調整層自体の屈折率の調整を容易に行うことができる。   The refractive index adjusting layer may have nanoparticles with an average particle diameter of 1 nm to 500 nm, preferably 5 nm to 300 nm. The content of nanoparticulates in the refractive index adjustment layer is preferably 0.1% by weight to 90% by weight, more preferably 10% by weight to 80% by weight, and still more preferably 20% by weight to 70% by weight. By including nano-fine particles in the refractive index adjusting layer, it is possible to easily adjust the refractive index of the refractive index adjusting layer itself.

ナノ微粒子を形成する無機酸化物としては、例えば、酸化ケイ素(シリカ)、中空ナノシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム等の微粒子があげられる。これらの中でも、酸化ケイ素(シリカ)、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the inorganic oxide forming the nanoparticulates include fine particles of silicon oxide (silica), hollow nanosilica, titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide and the like. Among these, fine particles of silicon oxide (silica), titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide and zirconium oxide are preferable. One of these may be used alone, or two or more may be used in combination.

前記屈折率調整層の厚さは、特に制限されるものではないが、光学設計、前記透明基材フィルムからのオリゴマー発生防止効果の点から、通常、10nm〜200nmであることが好ましく、20nm〜150nmであることがより好ましく、20nm〜130nmであることがさらに好ましい。   The thickness of the refractive index adjusting layer is not particularly limited, but is preferably 10 nm to 200 nm in general from the viewpoint of optical design and the effect of preventing generation of oligomers from the transparent substrate film, and is preferably 20 nm to 200 nm It is more preferably 150 nm and even more preferably 20 nm to 130 nm.

(2−3−2)中間層23:ハードコート層
ハードコート層は、有機成分(ベースポリマー)等を含む塗工液により形成され、ハードコート層は、有機成分(ベースポリマー)等を含む塗工液により形成され、ハードコート層を形成することにより局所的に過大な凹凸が埋められ、これにより透明導電層の表面一様性を高めることができ、透明導電性フィルムの耐屈曲性を高めることができる。
(2-3-2) Intermediate layer 23: Hard coat layer The hard coat layer is formed of a coating solution containing an organic component (base polymer) and the like, and the hard coat layer is a coating containing an organic component (base polymer) and the like It is formed by a processing solution, and by forming a hard coat layer, excessive unevenness is locally buried, thereby making it possible to enhance the surface uniformity of the transparent conductive layer and enhance the bending resistance of the transparent conductive film. be able to.

前記ハードコート層の厚みは特に限定されないものの、0.5μm以上3μm以下であることが好ましく、0.8μm以上2μm以下であることがより好ましい。   Although the thickness of the hard coat layer is not particularly limited, it is preferably 0.5 μm or more and 3 μm or less, and more preferably 0.8 μm or more and 2 μm or less.

前記有機成分としては特に限定されず、紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。加工速度の早さや透明基材フィルムへの熱ダメージを抑制する観点からは、紫外線硬化型樹脂を用いることが特に好ましい。このような紫外線硬化型樹脂としては、例えば、光(紫外線)により硬化するアクリレート基およびメタクリレート基の少なくとも一方の基を有する硬化型化合物を用いることができる。硬化型化合物としては、例えば、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物のアクリレートやメタクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマー等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The organic component is not particularly limited, and an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, a thermoplastic resin or the like is used. From the viewpoint of speed of processing speed and suppression of heat damage to the transparent substrate film, it is particularly preferable to use an ultraviolet curable resin. As such an ultraviolet curable resin, for example, a curable compound having at least one of an acrylate group and a methacrylate group which is cured by light (ultraviolet light) can be used. As the curable compound, for example, acrylate or methacrylate of a polyfunctional compound such as silicone resin, polyester resin, polyether resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiroacetal resin, polybutadiene resin, polythiol polyene resin, polyhydric alcohol and the like And oligomers or prepolymers thereof. One of these may be used alone, or two or more may be used in combination.

ハードコート層には、無機成分を含有することができる。無機成分としては、例えば、酸化ケイ素(シリカ)、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム等の無機酸化物の微粒子ないし微粉末があげられる。無機成分は、ハードコート層の着色防止及び透明性の点等から、最頻粒子径が1nm〜100nmのナノ粒子であることが好ましく、5nm〜80nmの範囲のナノ粒子であることがより好ましく、10nm〜60nmの範囲のナノ粒子であることがさらに好ましい。このように、ナノ粒子の最頻粒子径が小さければ、可視光の散乱が生じ難く、有機成分とナノ粒子の屈折率が異なる場合であっても、ハードコート層のヘイズが大幅に増大することが抑制される。   The hard coat layer can contain an inorganic component. Examples of the inorganic component include fine particles or fine powders of inorganic oxides such as silicon oxide (silica), titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide and zirconium oxide. The inorganic component is preferably nanoparticles having a mode particle diameter of 1 nm to 100 nm, more preferably nanoparticles of 5 nm to 80 nm, from the viewpoints of coloration prevention and transparency of the hard coat layer, etc. More preferably, the nanoparticles are in the range of 10 nm to 60 nm. As described above, when the mode particle size of the nanoparticles is small, scattering of visible light is difficult to occur, and the haze of the hard coat layer is significantly increased even when the refractive index of the organic component and the nanoparticles is different. Is suppressed.

ハードコート層は、上記ナノ粒子に加え、又はナノ粒子に代えて、表面凹凸や光学特性の制御等を目的として、ナノ粒子より粒径の大きい粗粒子を含んでいてもよい。粗粒子の最頻粒子径は、ハードコート層の厚みとの関係を考慮する必要があるものの、0.5μm〜3.0μmの範囲であることが好ましく、1.0μm〜2.5μmであることがより好ましく、1.5μm〜2.0μmであることがさらに好ましい。   The hard coat layer may contain coarse particles having a larger particle size than the nanoparticles, in addition to or in place of the nanoparticles, for the purpose of controlling surface irregularities and optical properties. Although it is necessary to consider the relationship with the thickness of the hard coat layer, the mode particle size of the coarse particles is preferably in the range of 0.5 μm to 3.0 μm, and is preferably 1.0 μm to 2.5 μm. Is more preferably 1.5 μm to 2.0 μm.

ハードコート層の形成材料には、有機成分、無機成分及び粗粒子に加えて、さらに各種の添加剤を加えることもできる。添加剤としては、例えば有機成分を硬化してハードコート層を形成するための重合開始剤や、レベリング剤、顔料、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、酸化防止剤、チクソトロピー化剤等を使用することができる。ハードコート層の形成材料は、適宜に溶媒を含むことができる。   In addition to the organic component, the inorganic component and the coarse particles, various additives may be further added to the material for forming the hard coat layer. As an additive, for example, a polymerization initiator for curing an organic component to form a hard coat layer, a leveling agent, a pigment, a filler, a dispersant, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a surfactant, an antioxidant And thixotroping agents can be used. The material for forming the hard coat layer can contain a solvent as appropriate.

(2−3−3)中間層23:クラック防止層
クラック防止層は、例えば、特開2017−224269号公報において硬化樹脂層として記載されているものを用いることができる。クラック防止層は、上記透明基材フィルムの厚みが大きい場合にも透明導電層のクラックを防止して所期の電気特性を発揮することができる。
(2-3-3) Intermediate layer 23: crack prevention layer For example, what is described as a cured resin layer in Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-224269 can be used for a crack prevention layer. Even when the thickness of the transparent base film is large, the anti-cracking layer can prevent cracks in the transparent conductive layer and can exert desired electrical characteristics.

クラック防止層の厚みは特に制限されるものではないが、耐湿熱性、前記透明樹脂フィルム1からのオリゴマー発生防止効果、及び光学特性の点から、150nm以下であり、好ましくは20〜100nm程度であり、より好ましくは30〜50nmである。なお、クラック防止層2を2層以上設ける場合、各層の厚みは、20〜60nm程度であり、好ましくは25〜55nmである。   The thickness of the crack preventing layer is not particularly limited, but is 150 nm or less, preferably about 20 to 100 nm, from the viewpoint of moisture heat resistance, the effect of preventing generation of oligomers from the transparent resin film 1 and optical properties. And more preferably 30 to 50 nm. When two or more layers of the crack prevention layer 2 are provided, the thickness of each layer is about 20 to 60 nm, preferably 25 to 55 nm.

クラック防止層は、例えば、重量平均分子量が1500以上のエポキシ樹脂を含む樹脂組成物を硬化したクラック防止層を用いることができる。前記エポキシ樹脂は、ゴム変性エポキシ樹脂であることが好ましい。これによりクラック防止層に靭性や耐衝撃性を好適に付与することができる。エポキシ樹脂を変性するためのゴム成分としては特に限定されず、ブタジエンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブチルゴム、ニトリルゴム、天然ゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、エチレン−プロピレンゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、エチレン−酢酸ビニルゴム、エピクロルヒドリンゴム等が挙げられる。中でも、靭性や耐薬品性の点で、ブタジエンゴムが好ましい。ゴム変性エポキシ樹脂は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The anti-cracking layer may be, for example, an anti-cracking layer obtained by curing a resin composition containing an epoxy resin having a weight average molecular weight of 1,500 or more. The epoxy resin is preferably a rubber-modified epoxy resin. Toughness and impact resistance can be suitably provided to a crack prevention layer by this. The rubber component for modifying the epoxy resin is not particularly limited, and butadiene rubber, acrylonitrile butadiene rubber, styrene butadiene rubber, butyl rubber, nitrile rubber, natural rubber, isoprene rubber, chloroprene rubber, ethylene-propylene rubber, urethane rubber, silicone Rubber, fluororubber, ethylene-vinyl acetate rubber, epichlorohydrin rubber and the like can be mentioned. Among them, butadiene rubber is preferable in terms of toughness and chemical resistance. The rubber-modified epoxy resin may be used alone or in combination of two or more.

上記樹脂組成物は、硬化促進剤を含むことが好ましい。これによりエポキシ樹脂の硬化反応を迅速かつ十分に進行させることができ、膜強度の高い硬化物膜を形成することができる。硬化促進剤としては特に限定されず、例えば、オクタン酸,ステアリン酸,アセチルアセトネート,ナフテン酸,サリチル酸等の有機酸の亜鉛,銅,鉄、アンチモン等の有機金属塩;金属キレート等が挙げられる。中でも、硬化促進剤はアンチモンを含むことが好ましい。アンチモン含有硬化促進剤は、樹脂組成物の硬化反応を迅速かつ十分に進行させることができ、より強固な硬化物膜を効率的に形成することができる。なお、硬化促進剤は単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   It is preferable that the said resin composition contains a hardening accelerator. Thereby, the curing reaction of the epoxy resin can be advanced rapidly and sufficiently, and a cured film having high film strength can be formed. The curing accelerator is not particularly limited, and examples thereof include zinc, copper, iron, antimony and other organic metal salts of organic acids such as octanoic acid, stearic acid, acetylacetonate, naphthenic acid and salicylic acid; metal chelates and the like . Among them, the curing accelerator preferably contains antimony. The antimony-containing curing accelerator can accelerate the curing reaction of the resin composition rapidly and sufficiently, and can form a stronger cured film efficiently. In addition, a hardening accelerator can be used individually or in combination of 2 or more types.

硬化促進剤の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成物中に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量(100重量部)に対して、0.005〜5重量部が好ましく、より好ましくは0.01〜4重量部、さらに好ましくは0.01〜1重量部である。硬化促進剤の含有量が上記下限を下回ると、硬化促進効果が不十分となる場合がある。   The content of the curing accelerator is not particularly limited, but preferably 0.005 to 5 parts by weight, more preferably 0 based on the total amount (100 parts by weight) of the compound having an epoxy group contained in the resin composition. 0.1 to 4 parts by weight, more preferably 0.01 to 1 part by weight. When the content of the curing accelerator is below the above lower limit, the curing acceleration effect may be insufficient.

前記樹脂組成物には、エポキシ樹脂のほか、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アミド樹脂、シリコーン樹脂等を適宜配合してもよい。さらに樹脂組成物には各種の添加剤を加えることもできる。添加剤としては、例えばレベリング剤、顔料、充填剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、酸化防止剤、チクソトロピー化剤等を使用することができる。   Besides the epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, an amide resin, a silicone resin or the like may be appropriately blended in the resin composition. Furthermore, various additives can also be added to the resin composition. As an additive, a leveling agent, a pigment, a filler, a dispersing agent, a plasticizer, a ultraviolet absorber, surfactant, an antioxidant, a thixotroping agent etc. can be used, for example.

(2−3−4)中間層23:易接着剤層
前記易接着層を形成するベースポリマーとしては、例えば、ポリエステル骨格、ポリエーテル骨格、ポリカーボネート骨格、ポリウレタン骨格、シリコーン系、ポリアミド骨格、ポリイミド骨格、ポリビニルアルコール骨格等を有する各種樹脂を用いることができる。これらポリマー樹脂は1種を単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。
(2-3-4) Intermediate Layer 23: Adhesive Layer As the base polymer for forming the adhesive layer, for example, polyester skeleton, polyether skeleton, polycarbonate skeleton, polyurethane skeleton, silicone type, polyamide skeleton, polyimide skeleton And various resins having a polyvinyl alcohol skeleton and the like can be used. These polymer resins can be used alone or in combination of two or more.

また易接着層の形成にあたっては、前記ベースポリマーには添加剤を加えてもよい。具体的にはさらには粘着付与剤、紫外線吸収剤、耐熱安定剤などの安定剤等を用いてもよい。易接着層の膜厚は0.01〜20μmであることが好ましい。   In addition, an additive may be added to the base polymer in forming the easily adhesive layer. Specifically, stabilizers such as tackifiers, ultraviolet light absorbers, heat resistant stabilizers and the like may be used. It is preferable that the film thickness of an easily bonding layer is 0.01-20 micrometers.

(2−4)アンチブロッキング層24
アンチブロッキング層は、バインダー樹脂(ベースポリマー)及び粒子を含む樹脂組成物の硬化物層であり、表面に平坦部及び隆起部を有しており、これらによりハンドリング性と低反射特性とを高いレベルで発揮することができる。アンチブロッキング層の平坦部の厚みは、特に限定されないものの、200nm以上30μm以下であることが好ましく、500nm以上10μm以下であることがより好ましく、800nm以上5μm以下であることがさらに好ましい。
(2-4) Anti-blocking layer 24
The antiblocking layer is a cured product layer of a resin composition containing a binder resin (base polymer) and particles, and has a flat portion and a raised portion on the surface, thereby providing high levels of handling properties and low reflection properties. Can be demonstrated. Although the thickness of the flat portion of the antiblocking layer is not particularly limited, it is preferably 200 nm or more and 30 μm or less, more preferably 500 nm or more and 10 μm or less, and still more preferably 800 nm or more and 5 μm or less.

粒子の最頻粒子径は、最表面層の隆起部のサイズやアンチブロッキング層の平坦部の厚みとの関係などを考慮して適宜設定することができ、特に限定されない。なお、透明導電性フィルムに耐ブロッキング性を十分に付与し、かつ光散乱等を十分に抑制するという観点から、粒子の最頻粒子径は500nm以上30μm以下であることが好ましく、800nm以上20μm以下であることがより好ましく、1μm以上10μm以下であることがより好ましい。なお、本明細書において、「最頻粒子径」とは、粒子分布の極大値を示す粒径をいい、フロー式粒子像分析装置(Sysmex社製、製品名「FPIA−3000S」)を用いて、所定条件下(Sheath液:酢酸エチル、測定モード:HPF測定、測定方式:トータルカウント)で測定することによって求められる。測定試料は、粒子を酢酸エチルで1.0重量%に希釈し、超音波洗浄機を用いて均一に分散させたものを用いる。   The most frequent particle diameter of the particles can be appropriately set in consideration of the size of the raised portion of the outermost surface layer, the relationship with the thickness of the flat portion of the antiblocking layer, and the like, and is not particularly limited. From the viewpoint of sufficiently imparting blocking resistance to the transparent conductive film and sufficiently suppressing light scattering and the like, the mode diameter of the particles is preferably 500 nm or more and 30 μm or less, and 800 nm or more and 20 μm or less Is more preferable, and more preferably 1 μm to 10 μm. In the present specification, the "mode particle size" refers to the particle size showing the maximum value of the particle distribution, using a flow-type particle image analyzer (product name "FPIA-3000S" manufactured by Sysmex Corporation). It is determined by measurement under predetermined conditions (Sheat liquid: ethyl acetate, measurement mode: HPF measurement, measurement method: total count). As a measurement sample, used is one in which particles are diluted to 1.0% by weight with ethyl acetate and uniformly dispersed using an ultrasonic cleaner.

隆起部の高さは、要求される滑り性等を考慮して設定される。隆起部、すなわちアンチブロッキング層の平坦部から上に突出する部分の高さは、アンチブロッキング層の平坦部の厚みや粒子の最頻粒子径等によって制御することができる。隆起部の高さは、好ましくは100nm以上3μm以下であり、より好ましくは200nm以上2μm以下であり、さらに好ましくは300nm以上1.5μm以下である。隆起部の高さを上記範囲に設定することで、透明導電性フィルムの耐ブロッキング性を満足すると同時に、光散乱や偏光解消を十分に抑えることができる。   The height of the raised portion is set in consideration of the required slippage and the like. The height of the raised portion, that is, the height of the portion protruding upward from the flat portion of the antiblocking layer can be controlled by the thickness of the flat portion of the antiblocking layer, the mode diameter of the particles, or the like. The height of the raised portion is preferably 100 nm or more and 3 μm or less, more preferably 200 nm or more and 2 μm or less, and still more preferably 300 nm or more and 1.5 μm or less. By setting the height of the raised portion in the above range, it is possible to satisfy the blocking resistance of the transparent conductive film and at the same time, to sufficiently suppress light scattering and depolarization.

粒子は多分散粒子及び単分散粒子のいずれでもよいが、隆起部の付与の容易性や光散乱防止性等を考慮すると単分散粒子が好ましい。単分散粒子の場合は、粒子の粒径と最頻粒子径とが実質的に同一と見なすことができる。   The particles may be either polydispersed particles or monodispersed particles, but monodispersed particles are preferable in consideration of ease of application of the raised portions, light scattering prevention property, and the like. In the case of monodisperse particles, the particle size of the particles and the mode particle size can be regarded as substantially the same.

アンチブロッキング層中の粒子の含有量は、樹脂組成物の固形分100重量部に対して0.01〜5重量部であることが好ましく、0.02〜1重量部であることがより好ましく、0.05〜0.5重量部であることがさらに好ましい。   The content of particles in the antiblocking layer is preferably 0.01 to 5 parts by weight, and more preferably 0.02 to 1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the resin composition. More preferably, it is 0.05 to 0.5 parts by weight.

アンチブロッキング層を形成する樹脂組成物におけるバインダー樹脂としては粒子の分散が可能で、アンチブロッキング層形成後の皮膜として十分な強度を持ち、透明性のあるものを特に制限なく使用できる。用いるバインダー樹脂としては熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂などがあげられるが、これらのなかでも紫外線照射による硬化処理にて、簡単な加工操作にて効率よく皮膜を形成することができる紫外線硬化型樹脂が好適である。   As the binder resin in the resin composition for forming the antiblocking layer, particles can be dispersed, and a resin having sufficient strength as a film after formation of the antiblocking layer and transparency can be used without particular limitation. Examples of the binder resin to be used include thermosetting resins, thermoplastic resins, ultraviolet curable resins, electron beam curable resins, two-component mixed resins, and the like. Among them, the curing process by ultraviolet irradiation is easy. A UV curable resin that can form a film efficiently by various processing operations is preferable.

紫外線硬化型樹脂としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系等の各種のものがあげられ、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等が含まれる。好ましく用いられる紫外線硬化型樹脂は、例えば紫外線重合性の官能基を有するもの、なかでも当該官能基を2個以上、特に3〜6個有するアクリル系のモノマーやオリゴマー成分を含むものがあげられる。また、紫外線硬化型樹脂には、紫外線重合開始剤が配合されている。   Examples of the UV curable resin include polyester resins, acrylic resins, urethane resins, amide resins, silicone resins and epoxy resins, and include UV curable monomers, oligomers, polymers and the like. The UV curable resin to be preferably used is, for example, a resin having a UV polymerizable functional group, and in particular, a resin containing an acrylic monomer or oligomer component having 2 or more, particularly 3 to 6 of the functional groups. Moreover, the ultraviolet curing resin contains an ultraviolet polymerization initiator.

樹脂組成物には、前記材料に加えて、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤、硬化触媒、及び紫外線吸収剤等の添加剤を用いることができる。チクソトロピー剤を用いると、微細凹凸形状表面における突出粒子の形成に有利であるこれら添加剤の含有量は、通常、紫外線硬化型樹脂100重量部に対して、15重量部以下程度、好ましくは0.01〜15重量部、とするのが好適である。アンチブロッキング層を形成する樹脂組成物は、適宜に溶媒を含むことができる。   In addition to the above-mentioned materials, additives such as a leveling agent, a thixotropy agent, an antistatic agent, a plasticizer, a surfactant, an antioxidant, a curing catalyst, and an ultraviolet light absorber can be used in the resin composition. The content of these additives, which is advantageous for the formation of projecting particles on the surface of fine asperity shape when a thixotropic agent is used, is usually about 15 parts by weight or less, preferably about 0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ultraviolet curable resin. It is preferable to set it as 01 to 15 parts by weight. The resin composition forming the antiblocking layer can optionally contain a solvent.

アンチブロッキング層2に含有される粒子としては、各種金属酸化物、ガラス、プラスチックなどの透明性を有するものを特に制限なく使用することができる。例えばシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム等の無機系粒子、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル系樹脂、アクリル−スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、ポリカーボネート等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系粒子やシリコーン系粒子などがあげられる。前記粒子は、1種または2種以上を適宜に選択して用いることができるが、有機系粒子が好ましい。有機系粒子としては、屈折率の観点から、アクリル系樹脂が好ましい。   As the particles contained in the antiblocking layer 2, those having transparency such as various metal oxides, glasses, and plastics can be used without particular limitation. For example, cross-linked or not comprising various polymers such as inorganic particles such as silica, alumina, titania, zirconia and calcium oxide, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyurethane, acrylic resin, acrylic-styrene copolymer, benzoguanamine, melamine and polycarbonate Examples thereof include crosslinked organic particles and silicone particles. The particles may be used alone or in combination of two or more, but organic particles are preferred. As the organic particles, acrylic resins are preferable from the viewpoint of the refractive index.

以下に、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、各例中の部及び%はいずれも特記を除き重量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited by these examples. All parts and percentages in each example are based on weight unless otherwise specified.

以下で、得られた化合物の物性を測定する際に使用した機器及び測定条件は次の通りである。
(GC−MS) (株)島津製作所製 ガスクロマトグラフ質量分析計GCMS−QP2010Plus(EI法)
(LC/MS) (株)島津製作所製 高速液体クロマトグラフ質量分析計LCMS−2010EV(ESI法)
The equipment and measurement conditions used when measuring the physical property of the compound obtained below are as follows.
(GC-MS) Gas chromatograph mass spectrometer GCMS-QP2010 Plus (EI method) manufactured by Shimadzu Corporation
(LC / MS) High-performance liquid chromatograph mass spectrometer LCMS-2010 EV (ESI method) manufactured by Shimadzu Corporation

<製造例1>
化合物IM3、化合物IM5及び化合物IM6の合成
化合物IM3は、以下の方法で合成した。反応式を以下に示す。
<Production Example 1>
Synthesis of Compound IM3, Compound IM5 and Compound IM6 Compound IM3 was synthesized by the following method. The reaction formula is shown below.

Figure 0006510113
Figure 0006510113

(化合物IM2の合成)
冷却管及び温度計を付した1L四つ口フラスコに、Journal of American Chemical Society 1954,76,1879に記載の2−ジメチルアミノ−4−ヒドロキシ−6−メチルピリミジンの合成において、N,N−ジメチルグアニジン硫酸塩を、BE639386に記載の方法と同様にして得た1,1−ジブチルグアニジン塩酸塩に代えた以外は同様にして、化合物IM1を得た。化合物IM1を用い、Journal of the Chemical Society 1957,4845 に記載の方法と同様の手順で、ライマー・チーマン(Reimer−Tiemann)反応によってホルミル化し、化合物IM2(18.4g,収率69%)を得た。
GC−MS:m/z=265([M]
(Synthesis of Compound IM2)
In the synthesis of 2-dimethylamino-4-hydroxy-6-methylpyrimidine described in Journal of American Chemical Society 1954, 76, 1879 in a 1 L four-necked flask provided with a condenser and a thermometer, N, N-dimethyl A compound IM1 was obtained in the same manner except that guanidine sulfate was replaced with 1,1-dibutylguanidine hydrochloride obtained in the same manner as the method described in BE639386. Compound IM1 was used for formylation by Reimer-Tiemann reaction according to a procedure similar to the method described in Journal of the Chemical Society 1957, 4845 to give compound IM2 (18.4 g, yield 69%) The
GC-MS: m / z = 265 ([M] + )

(化合物IM3の合成)
冷却管及び温度計を付した100mL四つ口フラスコ中で、化合物IM2(15.8g)、ヨウ化エチル(14g)(東京化成工業株式会社製)、炭酸カリウム(14g)、ジメチルホルムアミド(DMF)(60mL)の混合液を70℃で3時間撹拌した後、室温まで放冷させた。反応液を水(300mL)に排出し、トルエン(300mL)で抽出した。有機層を減圧濃縮することで化合物IM3(17.3g,収率99%)を得た。
GC−MS:m/z=293([M]
(Synthesis of Compound IM3)
Compound IM2 (15.8 g), ethyl iodide (14 g) (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), potassium carbonate (14 g), dimethylformamide (DMF) in a 100 mL four-necked flask provided with a condenser and a thermometer The mixture of (60 mL) was stirred at 70 ° C. for 3 hours and allowed to cool to room temperature. The reaction was poured into water (300 mL) and extracted with toluene (300 mL). The organic layer was concentrated under reduced pressure to give compound IM3 (17.3 g, yield 99%).
GC-MS: m / z = 293 ([M] + )

化合物IM5及び化合物IM6は、以下の方法で合成した。反応式を以下に示す。下記式中のpが5の化合物が、化合物IM5であり、pが6の化合物が、化合物IM6である。   The compound IM5 and the compound IM6 were synthesized by the following method. The reaction formula is shown below. In the following formulae, a compound in which p is 5 is a compound IM5, and a compound in which p is 6 is a compound IM6.

Figure 0006510113
Figure 0006510113

(化合物IM5の合成)
冷却管及び温度計を付した50mL四つ口フラスコ中に、化合物IM2(2.7g)、1,5−ジブロモペンタン(1.1g)(東京化成工業株式会社製)、炭酸カリウム(1.7g)、DMF(20mL)を仕込み、80℃で2.5時間撹拌した。反応液を水に排出し、析出した結晶を濾過して取り出した。この結晶をメタノールで洗浄し、化合物IM5を2.1g得た(収率71%)。
(Synthesis of Compound IM5)
Compound IM2 (2.7 g), 1,5-dibromopentane (1.1 g) (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), potassium carbonate (1.7 g) in a 50 mL four-necked flask equipped with a condenser and a thermometer ), DMF (20 mL) was charged and stirred at 80 ° C. for 2.5 hours. The reaction solution was drained into water, and the precipitated crystals were collected by filtration. The crystals were washed with methanol to give 2.1 g of compound IM5 (yield 71%).

(化合物IM6の合成)
化合物IM5の合成における1,5−ジブロモペンタンを1,6−ジブロモヘキサン(東京化成工業株式会社製)に代えた以外は同様の手順で、化合物IM6を得た(収率82%)。
(Synthesis of Compound IM6)
Compound IM6 was obtained (yield 82%) by the same procedure except that 1,5-dibromopentane in the synthesis of compound IM5 was replaced with 1,6-dibromohexane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.).

<製造例2>
化合物C1〜C5を合成した。化合物C1は、下記式で表される化合物である。
<Production Example 2>
Compounds C1 to C5 were synthesized. The compound C1 is a compound represented by the following formula.

Figure 0006510113
Figure 0006510113

化合物C2〜C4は、下記式で表される化合物である。化合物C2は、下記式中のRが2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルシクロヘキシル基である。化合物C3は、下記式中のRが4−t−ブチルシクロヘキシル基である。化合物C4は、下記式中のRがt−ブチル基である。   Compounds C2 to C4 are compounds represented by the following formula. In the compound C2, R in the following formula is a 2,6-di-t-butyl-4-methylcyclohexyl group. In the compound C3, R in the following formula is a 4-t-butylcyclohexyl group. In the compound C4, R in the following formula is a t-butyl group.

Figure 0006510113
Figure 0006510113

化合物C5は、下記式で表される化合物である。   The compound C5 is a compound represented by the following formula.

Figure 0006510113
Figure 0006510113

化合物C1〜C4を得た反応式を以下に示す。式中のp及び対応する化合物を、表1に示す。合成に使用した化合物IM12、化合物IM13及び化合物IM14の構造を以下に示す。   The reaction formulas for obtaining the compounds C1 to C4 are shown below. The p and corresponding compounds in the formula are shown in Table 1. The structures of compound IM12, compound IM13 and compound IM14 used for the synthesis are shown below.

Figure 0006510113
Figure 0006510113

Figure 0006510113
Figure 0006510113

Figure 0006510113
Figure 0006510113

(化合物C1の合成)
冷却管及び温度計を付した50mL四つ口フラスコ中に、化合物IM6(2.0g)、特開2000−310841号公報に記載の方法と同様にして合成した化合物IM12(2.0g)、ピペリジン(0.06g)、エタノール(13mL)を混合し、75℃で18時間撹拌した。室温まで放冷し、析出した結晶を濾過して取り出し、エタノールで洗浄して、化合物C1(3.5g,収率93%)を得た。
LC−MS:m/z=1164([M+H]
(Synthesis of Compound C1)
Compound IM6 (2.0 g), compound IM12 (2.0 g) synthesized in the same manner as described in JP-A 2000-310841, in a 50 mL four-necked flask provided with a condenser and a thermometer, piperidine (0.06 g), ethanol (13 mL) were mixed and stirred at 75 ° C. for 18 hours. The mixture was allowed to cool to room temperature, and the precipitated crystals were collected by filtration and washed with ethanol to give compound C1 (3.5 g, yield 93%).
LC-MS: m / z = 1164 ([M + H] + )

(化合物C2の合成)
化合物C1の合成における化合物IM6を化合物IM5に代えた以外は同様の手順で、化合物C2を得た(収率81%)。
LC−MS:m/z1150([M+H]
(Synthesis of Compound C2)
Compound C2 was obtained by the same procedure except that the compound IM6 in the synthesis of the compound C1 was replaced with the compound IM5 (yield 81%).
LC-MS: m / z 1150 ([M + H] + )

(化合物C3の合成)
化合物C1の合成における化合物IM6を化合物IM5に代え、化合物IM12を、化合物IM12の合成と同様にして得た化合物IM13に代えた以外は同様の手順で、化合物C3を得た(収率61%)。
LC−MS:m/z=1010([M+H]
(Synthesis of Compound C3)
The compound C3 was obtained by the same procedure except that the compound IM6 in the synthesis of the compound C1 was replaced with the compound IM5, and the compound IM12 was replaced with the compound IM13 obtained in the same manner as the synthesis of the compound IM12 (yield 61%) .
LC-MS: m / z = 1010 ([M + H] + )

(化合物C4の合成)
化合物C1の合成における化合物IM6を化合物IM5に代え、化合物IM12を化合物IM14(東京化成工業株式会社製)に代えた以外は同様の手順で、化合物C4を得た(収率80%)。
LC−MS:m/z=846([M+H]
(Synthesis of Compound C4)
Compound C4 was obtained (yield: 80%) by the same procedure except replacing compound IM6 in the synthesis of compound C1 with compound IM5 and replacing compound IM12 with compound IM14 (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.).
LC-MS: m / z = 846 ([M + H] + )

(化合物C5の合成)
冷却管及び温度計を付した25mL四つ口フラスコ中で、化合物IM3(1.2g)、IM12(1.5g)、ピペリジン(0.02g)、エタノール(4mL)の混合液を75℃で1時間撹拌した。室温まで放冷し、析出している結晶を濾過して取り出した。得られた結晶をエタノールで洗浄し、化合物C5を1.9g得た(収率80%)。以下に反応式を示す。
LC−MS:m/z=569([M+H]
(Synthesis of Compound C5)
In a 25 mL four-necked flask fitted with a condenser and a thermometer, a mixture of compound IM3 (1.2 g), IM12 (1.5 g), piperidine (0.02 g) and ethanol (4 mL) at 75 ° C. Stir for hours. The mixture was allowed to cool to room temperature, and the precipitated crystals were collected by filtration. The obtained crystals were washed with ethanol to give 1.9 g of compound C5 (yield 80%). The reaction formula is shown below.
LC-MS: m / z = 569 ([M + H] + )

Figure 0006510113
Figure 0006510113

<比較製造例(比較例化合物)> <Comparative production example (comparative example compound)>

Figure 0006510113
Figure 0006510113

(比較例化合物Z1の合成)
特開2011−184414号公報に記載の方法と同様にして、比較例化合物Z1を得た。
(Synthesis of Comparative Example Compound Z1)
Comparative example compound Z1 was obtained in the same manner as the method described in JP2011-184414A.

(比較例化合物Z2の合成)
特開2014−194508号公報に記載の方法と同様にして、比較例化合物Z2を得た。
(Synthesis of Comparative Example Compound Z2)
Comparative example compound Z2 was obtained in the same manner as the method described in JP-A-2014-194508.

(比較例化合物Z3の合成) (Synthesis of Comparative Example Compound Z3)

特開2009−067973号公報に記載の方法と同様にして、比較例化合物Z3を得た。
(比較例化合物Z4の合成)
US2986528号公報に記載の方法と同様にして、比較例化合物Z4を得た。
Comparative example compound Z3 was obtained in the same manner as the method described in JP-A-2009-067973.
(Synthesis of Comparative Example Compound Z4)
A comparative example compound Z4 was obtained in the same manner as the method described in US2986528.

各製造例で得られた化合物について、以下の評価を行った。結果を表2に示す。
<分光特性試験>
各化合物のクロロホルム中での吸収スペクトルを測定し、吸収極大波長(λmax)及び400nmにおけるグラム吸光係数を測定し下記基準により評価した。
測定機器:日本分光社製紫外可視分光光度計V−560
A:グラム吸光係数が30以上
B:グラム吸光係数が20以上、30未満
C:グラム吸光係数が10以上、20未満
D:グラム吸光係数が10未満
The following evaluation was performed about the compound obtained by each manufacture example. The results are shown in Table 2.
<Spectroscopic characteristic test>
The absorption spectrum of each compound in chloroform was measured, and the absorption maximum wavelength (λmax) and the gram absorption coefficient at 400 nm were measured and evaluated according to the following criteria.
Measuring instrument: UV-visible spectrophotometer V-560 manufactured by JASCO Corporation
A: Gram absorption coefficient 30 or more B: Gram absorption coefficient 20 or more, less than 30 C: Gram absorption coefficient 10 or more, less than 20 D: Gram absorption coefficient less than 10

<耐光性試験>
製造例及び比較製造例で得た一部の化合物について、耐光性試験を行った。各化合物10mgを、ポリメタクリレート8重量%トルエン溶液5mLに溶融し、ガラス基板上にスピンコート法により塗布し、乾燥させることで膜厚1.5μmの薄膜を作製した。
作製した薄膜にキセノンランプ(142klux)の光を連続的に96時間照射し、照射前(0時間)、照射後の薄膜の透過率を分光光度計で測定し、下記式(1)に従って色素残存率を測定した。
色素残存率(%)={(1−T)/(1−T)}×100 (1)
[ただし、Tはキセノンランプ照射前の透過率、Tはキセノンランプ照射後の透過率であり、T及びTは0〜1である。]
なお、「透過率」とは、各化合物の吸収極大波長における透過率を表しており、色素残存率が高い程、化合物が光によって分解されにくく、耐光性が高いことを示す。
耐光性は、下記基準により評価した。
A:色素残存率が65%以上
B:色素残存率が40%以上、65%未満
C:色素残存率が10%以上、40%未満
D:色素残存率が10%未満
<Light resistance test>
The light resistance test was done about the one part compound obtained by the manufacture example and the comparative manufacture example. 10 mg of each compound was melted in 5 mL of a polymethacrylate 8 wt% toluene solution, applied onto a glass substrate by spin coating, and dried to prepare a thin film having a thickness of 1.5 μm.
The thin film produced was continuously irradiated with light of a xenon lamp (142 klux) for 96 hours continuously, the transmittance of the thin film after irradiation was measured with a spectrophotometer before irradiation (0 hour), and the dye remained according to the following formula (1) The rate was measured.
Dye residual ratio (%) = {(1-T 1 ) / (1-T 0 )} × 100 (1)
[Wherein T 0 is the transmittance before irradiation with the xenon lamp, T 1 is the transmittance after irradiation with the xenon lamp, and T 0 and T 1 are 0 to 1 . ]
The “transmittance” represents the transmittance at the absorption maximum wavelength of each compound, and the higher the dye residual rate, the more difficult the compound is to be decomposed by light and the higher the light resistance.
The light resistance was evaluated according to the following criteria.
A: Dye residual rate is 65% or more B: Dye residual rate is 40% or more and less than 65% C: Dye residual rate is 10% or more and less than 40% D: Dye residual rate is less than 10%

<耐熱性>
製造例及び比較製造例で得た一部の化合物について、(株)島津製作所製の熱重量測定装置TGA−50を使用して下記の測定条件で熱分解による重量減少を測定し、初期重量から1%減量した温度を分解開始温度として測定した。
(測定条件)
試料量5mg、昇温速度10℃/分(最高到達温度400℃)、窒素雰囲気中、流量10mL/分の条件で測定した。
耐熱性は、分解開始温度から下記基準により評価した。
A:250℃以上
B:210℃以上250℃未満
C:210℃未満
<Heat resistance>
For some compounds obtained in Production Examples and Comparative Production Examples, the weight loss due to thermal decomposition was measured under the following measurement conditions using a thermogravimetry apparatus TGA-50 manufactured by Shimadzu Corporation, and from the initial weight The temperature reduced by 1% was measured as the decomposition initiation temperature.
(Measurement condition)
The sample amount was 5 mg, the temperature rising rate was 10 ° C./min (the maximum temperature reached 400 ° C.), and the measurement was performed in a nitrogen atmosphere under a flow rate of 10 mL / min.
The heat resistance was evaluated from the decomposition initiation temperature according to the following criteria.
A: 250 ° C. or more B: 210 ° C. or more and less than 250 ° C. C: less than 210 ° C.

<溶解度試験>
製造例で得た化合物及び比較製造例で得た一部の化合物について、それぞれ20℃におけるトルエン、メチルエチルケトン(MEK)及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)に対する溶解度(重量%)を、以下の方法により測定した。
各化合物をガラス製試験管に秤り取り、溶媒を混合し20℃で撹拌して溶解させ、その溶液の状態を目視観察し、溶解可能な重量濃度を評価した。
A:3重量%以上溶解する
B:1重量%以上3重量%未満溶解する
C:1重量%未満しか溶解しない
<Solubility test>
The solubility (% by weight) of the compound obtained in Production Example and some of the compounds obtained in Comparative Production Example in toluene, methyl ethyl ketone (MEK) and propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) at 20 ° C. was determined according to the following method It was measured.
Each compound was weighed in a glass test tube, the solvents were mixed, stirred at 20 ° C. for dissolution, the state of the solution was visually observed, and the soluble weight concentration was evaluated.
A: 3% by weight or more dissolved B: 1% by weight or more and less than 3% by weight C: less than 1% by weight

Figure 0006510113
Figure 0006510113

上記結果から、各製造例で製造した化合物C1〜C5は、400nm付近に吸収極大波長を持ち、400nmにおいて高いグラム吸光係数を持つことが分かった。これらの化合物は、400nm付近の光を効果的に吸収できるものである。化合物C1〜C5は、有機溶媒への溶解性が良好であった。また、これらの化合物は、耐久性も良好であった。例えば、化合物C1〜C2は、耐光性、溶解度、耐熱性にともに優れる。   From the above results, it was found that the compounds C1 to C5 produced in each production example had an absorption maximum wavelength around 400 nm and a high gram absorption coefficient at 400 nm. These compounds can effectively absorb light around 400 nm. The compounds C1 to C5 had good solubility in organic solvents. Moreover, these compounds were also good in durability. For example, the compounds C1 to C2 are excellent in light resistance, solubility, and heat resistance.

製造例3(アクリル系粘着剤組成物(a)の調製)
アクリル酸2−エチルヘキシル(2EHA)76重量部、N−ビニル−2−ピロリドン(NVP)18重量部、及びアクリル酸2−ヒドロキシエチル(HEA)16重量部から構成されるモノマー混合物に、光重合開始剤として、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(商品名:イルガキュア184,波長200〜370nmに吸収帯を有する,BASF社製)0.035重量部、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(商品名:イルガキュア651,波長200〜380nmに吸収帯を有する,BASF社製)0.035重量部を配合した後、粘度(計測条件:BH粘度計No.5ローター,10rpm,測定温度30℃)が約20Pa・sになるまで紫外線を照射して、上記モノマー成分の一部が重合したプレポリマー組成物(重合率:9%)を得た。次に、該プレポリマー組成物に、ヘキサンジオールジアクリレート(HDDA)0.080重量部、シランカップリング剤(商品名:KBM−403,信越化学工業(株)製)0.3重量部を添加して混合し、アクリル系粘着剤組成物(a)を得た。
Production Example 3 (Preparation of Acrylic Pressure-Sensitive Adhesive Composition (a))
Photopolymerization is initiated to a monomer mixture composed of 76 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), 18 parts by weight of N-vinyl-2-pyrrolidone (NVP), and 16 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) Agent, 0.035 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name: Irgacure 184, having an absorption band at a wavelength of 200 to 370 nm, manufactured by BASF Corp.), 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1 -On (trade name: Irgacure 651, having an absorption band at a wavelength of 200 to 380 nm, 0.035 parts by weight) after blending, viscosity (measurement conditions: BH viscometer No. 5 rotor, 10 rpm, measurement temperature UV irradiation is performed until the temperature of 30 ° C. reaches approximately 20 Pa · s, and a portion of the above monomer component is polymerized. A repolymer composition (polymerization rate: 9%) was obtained. Next, 0.080 parts by weight of hexanediol diacrylate (HDDA) and 0.3 parts by weight of a silane coupling agent (trade name: KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) are added to the prepolymer composition. And mixed to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition (a).

(粘着剤組成物(A1)の製造)
製造例3で得られたアクリル系粘着剤組成物(a)に対して(アクリル系ポリマーを形成するモノマー成分を100重量部とする)、ブチルアクリレートに固形分15%となるように溶解させた2,4−ビス−[{4−(4−エチルヘキシルオキシ)−4−ヒドロキシ}−フェニル]−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5-トリアジン(商品名:Tinosorb S,表3中の「紫外線吸収剤(b1)」,吸収スペクトルの吸収極大波長:346nm,BASFジャパン社製)0.8重量部(固形分重量)と、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド(商品名:イルガキュア819、波長200〜450nmに吸収帯域を有する、BASFジャパン社製)0.3重量部を添加し撹拌することにより粘着剤組成物(A1)を得た。
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Composition (A1))
The acrylic pressure-sensitive adhesive composition (a) obtained in Production Example 3 (having a monomer component for forming an acrylic polymer of 100 parts by weight) was dissolved in butyl acrylate so as to have a solid content of 15%. 2,4-bis-[{4- (4-ethylhexyloxy) -4-hydroxy} -phenyl] -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine (trade name: Tinosorb S, Table 3 In the “ultraviolet absorber (b1)”, absorption maximum wavelength of absorption spectrum: 346 nm, manufactured by BASF Japan Ltd.) 0.8 parts by weight (solid content by weight) and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenyl 0.3 parts by weight of phosphine oxide (trade name: Irgacure 819, having an absorption band at a wavelength of 200 to 450 nm, manufactured by BASF Japan Ltd.) is added and stirred. Agent to give the composition a (A1).

(粘着剤層(A1)の製造)
前記粘着剤組成物(A1)を、離型フィルムの剥離処理されたフィルム上に、粘着剤層形成後の厚さが100μmとなるように塗布し、次いで、該粘着剤組成物層の表面に、離型フィルムを貼り合わせた。その後、照度:6.5mW/cm、光量:2000mJ/cm、ピーク波長:350nmの条件で紫外線照射を行い、粘着剤組成物層を光硬化させて、粘着剤層(A1)を形成した。粘着剤層(A1)中のアクリル系ポリマー重量(100重量%)に対して、紫外線吸収剤の添加量は、0.8重量%であった。
(Production of pressure-sensitive adhesive layer (A1))
The pressure-sensitive adhesive composition (A1) is applied onto a release-treated film of a release film so that the thickness after forming the pressure-sensitive adhesive layer is 100 μm, and then, it is applied to the surface of the pressure-sensitive adhesive composition layer , The release film was laminated. Then, ultraviolet irradiation was performed under the conditions of illuminance: 6.5 mW / cm 2 , light quantity: 2000 mJ / cm 2 , peak wavelength: 350 nm, and the pressure-sensitive adhesive composition layer was photocured to form a pressure-sensitive adhesive layer (A1) . The amount of the UV absorber added was 0.8% by weight based on the weight (100% by weight) of the acrylic polymer in the pressure-sensitive adhesive layer (A1).

製造例4
(粘着剤組成物(B1)の製造)
温度計、攪拌機、還流冷却管及び窒素ガス導入管を備えたセパラブルフラスコに、ブチルアクリレート95重量部、アクリル酸5重量部、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル0.2重量部、及び酢酸エチル233重量部を投入した後、窒素ガスを流し、攪拌しながら約1時間窒素置換を行った。その後、60℃にフラスコを加熱し、7時間反応させて、重量平均分子量(Mw)110万のアクリル系ポリマーを得た。上記アクリル系ポリマー溶液(固形分を100重量部とする)に、イソシアネート系架橋剤として、トリメチロールプロパントリレンジイソシアネート(商品名:コロネートL,日本ポリウレタン工業(株)製)0.8重量部、シランカップリング剤(商品名:KBM−403、信越化学工業(株)製)0.1重量部を加えて粘着剤組成物(溶液)を調製した。
Production Example 4
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Composition (B1))
In a separable flask equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser, and a nitrogen gas inlet, 95 parts by weight of butyl acrylate, 5 parts by weight of acrylic acid, 0.2 parts by weight of azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator, After charging 233 parts by weight of ethyl acetate, nitrogen gas was flowed, and nitrogen replacement was performed for about 1 hour while stirring. Thereafter, the flask was heated to 60 ° C. and reacted for 7 hours to obtain an acrylic polymer having a weight average molecular weight (Mw) of 1.1 million. 0.8 parts by weight of trimethylolpropane tolylene diisocyanate (trade name: Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) as an isocyanate-based crosslinking agent in the above acrylic polymer solution (solid content is 100 parts by weight), 0.1 parts by weight of a silane coupling agent (trade name: KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added to prepare a pressure-sensitive adhesive composition (solution).

(粘着剤層(B1)の製造)
前記粘着剤組成物(B1:溶液)を、厚さ38μmのセパレータ(表面が剥離処理されたポリエチレンテレフタレート系フィルム:離型フィルム)上に、乾燥後の厚さが15μmとなるように塗布し、100℃で3分間乾燥層させて溶媒を除去し、粘着剤層を得た。その後、50℃で48時間加熱して架橋処理を行った。以下、この粘着剤層を「粘着剤層(B1)」と言う。なお、粘着剤層の露出面に、他の離型フィルムを貼り合わせた。
(Production of pressure-sensitive adhesive layer (B1))
The pressure-sensitive adhesive composition (B1: solution) is coated on a 38 μm-thick separator (polyethylene terephthalate film with release-treated surface: release film) to a dry thickness of 15 μm, The layer was dried at 100 ° C. for 3 minutes to remove the solvent to obtain a pressure-sensitive adhesive layer. Then, the crosslinking treatment was performed by heating at 50 ° C. for 48 hours. Hereinafter, this pressure-sensitive adhesive layer is referred to as “pressure-sensitive adhesive layer (B1)”. In addition, the other release film was bonded together to the exposed surface of the adhesive layer.

製造例5
(粘着剤層(B2)の製造)
製造例4の粘着剤層(B1)の製造において、乾燥後の厚さが20μmとなるように塗布したこと以外は、製造例4と同様にして粘着剤層を形成した。その後、50℃で48時間加熱して架橋処理を行った。以下、この粘着剤層を「粘着剤層(B2)」と言う。
Production Example 5
(Production of pressure-sensitive adhesive layer (B2))
A pressure-sensitive adhesive layer was formed in the same manner as in Production Example 4 except that in the production of the pressure-sensitive adhesive layer (B1) of Production Example 4, the dry thickness was 20 μm. Then, the crosslinking treatment was performed by heating at 50 ° C. for 48 hours. Hereinafter, this pressure-sensitive adhesive layer is referred to as “pressure-sensitive adhesive layer (B2)”.

実施例1
(粘着剤組成物(A1‐1)の製造)
製造例3の粘着剤組成物(A1)の製造において、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド(商品名:イルガキュア819、BASFジャパン社製)の添加量を0.6重量部に変え、さらに製造例2で得られた色素化合物(C5)「吸収スペクトルの吸収極大波長:394nm,半値全幅48.5nm」0.48重量部(固形分重量)を直接添加し撹拌したこと以外は、製造例3と同様にして粘着剤組成物(A1‐1)を得た。
Example 1
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Composition (A1-1))
In the production of the pressure-sensitive adhesive composition (A1) of Production Example 3, the addition amount of bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide (trade name: Irgacure 819, manufactured by BASF Japan Ltd.) is 0.6. In place of parts by weight, 0.48 parts by weight (solid content by weight) of the dye compound (C5) “absorption maximum wavelength of absorption spectrum: 394 nm, full width at half maximum 48.5 nm” obtained in Production Example 2 was further added and stirred A pressure-sensitive adhesive composition (A1-1) was obtained in the same manner as in Production Example 3 except for the above.

(粘着剤層(A1‐1)の製造)
前記粘着剤組成物(A1‐1)を、離型フィルムの剥離処理されたフィルム上に、粘着剤層形成後の厚さが100μmとなるように塗布した以外は製造例1と同様にして粘着剤層(A1‐1)を形成した。粘着剤層(A1‐1)中のアクリル系ポリマー重量(100重量%)に対して、紫外線吸収剤の添加量は、0.8重量%、色素化合物(C5)の添加量は、0.48重量%であった。
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Layer (A1-1))
Adhesion was carried out in the same manner as in Production Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition (A1-1) was coated on a release-treated film so as to have a thickness of 100 μm after forming the pressure-sensitive adhesive layer. Agent layer (A1-1) was formed. With respect to the acrylic polymer weight (100% by weight) in the pressure-sensitive adhesive layer (A1-1), the addition amount of the ultraviolet light absorber is 0.8% by weight, and the addition amount of the dye compound (C5) is 0.48 It was% by weight.

実施例2
(粘着剤組成物(A1‐2)の製造)
製造例3の粘着剤組成物(A1)の製造において、紫外線吸収剤を、2‐(2H‐ベンゾトリアゾール‐2‐イル)‐6‐(1‐メチル‐1‐フェニルエチル)‐4‐(1,1,3,3‐テトラメチルブチル)フェノール(商品名:Tinuvin 928、表3中の「紫外線吸収剤b2」、吸収スペクトルの吸収極大波長:349nm,BASFジャパン社製)1.0重量部(固形分重量)に変え、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド(商品名:イルガキュア819、BASFジャパン社製)の添加量を0.6重量部に変え、さらに製造例2で得られた色素化合物(C5)0.5重量部(固形分重量)を直接添加し撹拌したこと以外は、製造例3と同様にして粘着剤組成物(A1‐2)を得た。
Example 2
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Composition (A1-2))
In the production of the pressure-sensitive adhesive composition (A1) of Production Example 3, a UV absorber was used as 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (1-methyl-1-phenylethyl) -4- (1). 1,1,3,3-Tetramethylbutyl) phenol (trade name: Tinuvin 928, “UV absorber b2” in Table 3, absorption maximum wavelength of absorption spectrum: 349 nm, manufactured by BASF Japan Ltd.) 1.0 part by weight ( Production weight is changed to solid weight), and the addition amount of bis (2,4,6-trimethyl benzoyl) -phenyl phosphine oxide (trade name: Irgacure 819, manufactured by BASF Japan Ltd.) is changed to 0.6 parts by weight. A pressure-sensitive adhesive composition (A1-2) was obtained in the same manner as in Production Example 3, except that 0.5 parts by weight (solid content) of the coloring compound (C5) obtained in 2 was directly added and stirred.

(粘着剤層(A1‐2)の製造)
前記粘着剤組成物(A1‐2)を、離型フィルムの剥離処理されたフィルム上に、粘着剤層形成後の厚さが175μmとなるように塗布した以外は製造例1と同様にして粘着剤層(A1‐2)を形成した。粘着剤層(A1‐2)中のアクリル系ポリマー重量(100重量%)に対して、紫外線吸収剤の添加量は、1.0重量%、色素化合物(C5)の添加量は、0.50重量%であった。
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Layer (A1-2))
Adhesion was carried out in the same manner as in Production Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition (A1-2) was applied onto the release-treated film so that the thickness after forming the pressure-sensitive adhesive layer would be 175 μm. Agent layer (A1-2) was formed. The amount of the ultraviolet absorber added is 1.0% by weight, and the amount of the dye compound (C5) added is 0.50 with respect to the weight (100% by weight) of the acrylic polymer in the pressure-sensitive adhesive layer (A1-2). It was% by weight.

実施例3
(粘着剤組成物(B1‐1)の製造)
製造例4の粘着剤組成物(B1)の製造において、上記アクリル系ポリマー溶液(固形分を100重量部とする)に、イソシアネート系架橋剤、シランカップリング剤と共に、紫外線吸収剤として、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン(商品名:Seesorb 106,表3中の「紫外線吸収剤b3」,吸収スペクトルの吸収極大波長:348nm、シプロ化成株式会社製)3.0重量部(固形分重量)を加え、さらに製造例2で得られた色素化合物(C1)「吸収極大波長:393nm,半値全幅49.5nm)」3.0重量部(固形分重量)を加えたこと以外は製造例4と同様にして粘着剤組成物(溶液)を調製した。
Example 3
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Composition (B1-1))
In the production of the pressure-sensitive adhesive composition (B1) of Production Example 4, the above-mentioned acrylic polymer solution (solid content is 100 parts by weight) is combined with an isocyanate-based crosslinking agent and a silane coupling agent as an ultraviolet absorber 2, 2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone (trade name: Seesorb 106, “UV absorber b3” in Table 3, absorption maximum wavelength of absorption spectrum: 348 nm, manufactured by Shipro Kasei Co., Ltd.) 3.0 parts by weight ( The solid content weight is added, and 3.0 parts by weight (solid content weight) of the dye compound (C1) “absorption maximum wavelength: 393 nm, full width at half maximum 49.5 nm) obtained in Production Example 2 is further added. In the same manner as in Production Example 4, a pressure-sensitive adhesive composition (solution) was prepared.

(粘着剤層(B1‐1)の製造)
前記粘着剤組成物(B1‐1:溶液)を、厚さ38μmのセパレータ(表面が剥離処理されたポリエチレンテレフタレート系フィルム)上に、乾燥後の厚さが15μmとなるように塗布し、100℃で3分間乾燥層させて溶媒を除去し、粘着剤層を得た。その後、50℃で48時間加熱して架橋処理を行った。以下、この粘着剤層を「粘着剤層(B1−1)」と言う。粘着剤層(B1−1)中のアクリル系ポリマー重量(100重量%)に対して、紫外線吸収剤の添加量は、3.0重量%、色素化合物(C1)の添加量は、3.0重量%であった。
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Layer (B1-1))
The pressure-sensitive adhesive composition (B1-1: solution) is applied on a 38 μm-thick separator (polyethylene terephthalate film with a surface subjected to a peeling treatment) so that the thickness after drying is 15 μm, and 100 ° C. The mixture was dried for 3 minutes to remove the solvent and obtain a pressure-sensitive adhesive layer. Then, the crosslinking treatment was performed by heating at 50 ° C. for 48 hours. Hereinafter, this pressure-sensitive adhesive layer is referred to as "pressure-sensitive adhesive layer (B1-1)". With respect to the acrylic polymer weight (100% by weight) in the pressure-sensitive adhesive layer (B1-1), the addition amount of the ultraviolet light absorber is 3.0% by weight, and the addition amount of the dye compound (C1) is 3.0 It was% by weight.

実施例4
(粘着剤組成物(B1‐2)の製造)
実施例3の粘着剤組成物(B1−1)の製造において、製造例2で得られた色素化合物(C1)の代わりに、製造例2で得られた色素化合物(C2)「吸収スペクトルの吸収極大波長393nm、半値全幅49.5nm)を3.0重量部(固形分重量)用いたこと以外は、実施例3と同様にして粘着剤組成物(溶液)を調製した。
Example 4
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Composition (B1-2))
In the production of the pressure-sensitive adhesive composition (B1-1) of Example 3, instead of the dye compound (C1) obtained in Production Example 2, the dye compound (C2) obtained in Production Example 2 “absorption of absorption spectrum A pressure-sensitive adhesive composition (solution) was prepared in the same manner as in Example 3, except that 3.0 parts by weight (solid content) of a maximum wavelength of 393 nm and a full width at half maximum of 49.5 nm) was used.

(粘着剤層(B1‐2)の製造)
また、当該粘着剤組成物(溶液)を用いて、乾燥後の厚さを20μmとした以外は、実施例3と同様にして粘着剤層を形成した。その後、50℃で48時間加熱して架橋処理を行った。以下、この粘着剤層を「粘着剤層(B1‐2)」と言う。粘着剤層(B1‐2)中のアクリル系ポリマー重量(100重量%)に対して、紫外線吸収剤の添加量は、3.0重量%、色素化合物(C2)の添加量は、3.0重量%であった。
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Layer (B1-2))
Further, a pressure-sensitive adhesive layer was formed in the same manner as in Example 3 except that the thickness after drying was set to 20 μm using the pressure-sensitive adhesive composition (solution). Then, the crosslinking treatment was performed by heating at 50 ° C. for 48 hours. Hereinafter, this pressure-sensitive adhesive layer is referred to as "pressure-sensitive adhesive layer (B1-2)". With respect to the acrylic polymer weight (100% by weight) in the pressure-sensitive adhesive layer (B1-2), the addition amount of the ultraviolet light absorber is 3.0% by weight, and the addition amount of the dye compound (C2) is 3.0 It was% by weight.

実施例5
(粘着剤組成物(B1‐3)の製造)
実施例3の粘着剤組成物(B1−1)の製造において、紫外線吸収剤(b3)を添加しなかったこと以外は、実施例3と同様にして粘着剤組成物(溶液)を調製した。
Example 5
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Composition (B1-3))
A pressure-sensitive adhesive composition (solution) was prepared in the same manner as in Example 3, except that the ultraviolet light absorber (b3) was not added in the production of the pressure-sensitive adhesive composition (B1-1) in Example 3.

(粘着剤層(B1‐3)の製造)
また、当該粘着剤組成物(溶液)を用いて、乾燥後の厚さを20μmとした以外は、実施例3と同様にして粘着剤層を形成した。その後、50℃で48時間加熱して架橋処理を行った。以下、この粘着剤層を「粘着剤層(B2−2)」と言う。粘着剤層(B1‐3)中のアクリル系ポリマー重量(100重量%)に対して、色素化合物(C2)の添加量は、3.0重量%であった。
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Layer (B1-3))
Further, a pressure-sensitive adhesive layer was formed in the same manner as in Example 3 except that the thickness after drying was set to 20 μm using the pressure-sensitive adhesive composition (solution). Then, the crosslinking treatment was performed by heating at 50 ° C. for 48 hours. Hereinafter, this pressure-sensitive adhesive layer is referred to as “pressure-sensitive adhesive layer (B2-2)”. The amount of the dye compound (C2) added was 3.0% by weight based on the weight (100% by weight) of the acrylic polymer in the pressure-sensitive adhesive layer (B1-3).

比較例2
(粘着剤組成物(A1‐3)の製造)
実施例1の粘着剤組成物(A1−1)の製造において、紫外線吸収剤b1の使用量を1.0重量部に変え、製造例2で得られた色素化合物(C5)の代わりに、色素化合物(C6)(「BONASORB UA3911」、クロロホルム溶媒中での吸収スペクトルの吸収極大波長:395nm,半値全幅48nm,オリエント工業株式会社製)0.45重量部をN−ビニル−2−ピロリドン(NVP)で6重量%になるよう溶解して添加したこと以外は、実施例1と同様にして粘着剤組成物を調製した。
Comparative example 2
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Composition (A1-3))
In the production of the pressure-sensitive adhesive composition (A1-1) of Example 1, the amount of the ultraviolet absorber b1 used is changed to 1.0 parts by weight, and a pigment is used instead of the pigment compound (C5) obtained in Production Example 2 Compound (C6) (“BONASORB UA3911”, absorption maximum wavelength of absorption spectrum in chloroform solvent: 395 nm, full width at half maximum 48 nm, manufactured by Orient Industrial Co., Ltd.) 0.45 parts by weight, N-vinyl-2-pyrrolidone (NVP) The pressure-sensitive adhesive composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that it was dissolved and added so as to be 6% by weight.

(粘着剤層(A1‐3)の製造)
また、当該粘着剤組成物を用いて、実施例1と同様にして粘着剤層(A1−3)を形成した。
粘着剤層(A1−3)中のアクリル系ポリマー重量(100重量%)に対して、紫外線吸収剤の添加量は、1.0重量%、色素化合物(C6)の添加量は、0.45重量%であった。
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Layer (A1-3))
Further, a pressure-sensitive adhesive layer (A1-3) was formed in the same manner as in Example 1 using the pressure-sensitive adhesive composition.
With respect to the acrylic polymer weight (100% by weight) in the pressure-sensitive adhesive layer (A1-3), the addition amount of the UV absorber is 1.0% by weight, and the addition amount of the dye compound (C6) is 0.45 It was% by weight.

比較例3
(粘着剤組成物(B1‐4)の製造)
実施例3の(粘着剤組成物(B1−1)の製造において、紫外線吸収剤b3の使用量を2.0重量部に変え、製造例2で得られた色素化合物(C1)の代わりに、色素化合物(C6)(「BONASORB UA3911」、クロロホルム溶媒中での吸収スペクトルの吸収極大波長:395nm、半値全幅48nm、オリエント工業株式会社製)2.5重量部をN,N−ジメチルホルムアミドに10重量%になるよう溶解して添加し、乾燥温度を100℃で3分間、155℃で5分間としたこと以外は、実施例3と同様にして粘着剤組成物を調製した。
Comparative example 3
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Composition (B1-4))
In the preparation of the pressure-sensitive adhesive composition (B1-1) of Example 3, the amount of the ultraviolet absorber b3 used was changed to 2.0 parts by weight, and instead of the dye compound (C1) obtained in Production Example 2, Dye compound (C6) ("BONASORB UA3911", absorption maximum wavelength of absorption spectrum in chloroform solvent: 395 nm, full width at half maximum 48 nm, made by Orient Industrial Co., Ltd.) 2.5 parts by weight in N, N-dimethylformamide %. The pressure-sensitive adhesive composition was prepared in the same manner as in Example 3 except that the solution was dissolved so as to become%, and the drying temperature was set to 100 ° C. for 3 minutes and 155 ° C. for 5 minutes.

(粘着剤層(B1‐4)の製造)
また、当該粘着剤組成物(溶液)を用いて、乾燥後の厚さを20μmとした以外は、実施例3と同様にして粘着剤層を形成した。その後、50℃で48時間加熱して架橋処理を行った。以下、この粘着剤層を「粘着剤層(B1‐4)」と言う。粘着剤層(B1‐4)中のアクリル系ポリマー重量(100重量%)に対して、紫外線吸収剤の添加量は、2.0重量%、色素化合物(C6)の添加量は、2.5重量%であった。
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Layer (B1-4))
Further, a pressure-sensitive adhesive layer was formed in the same manner as in Example 3 except that the thickness after drying was set to 20 μm using the pressure-sensitive adhesive composition (solution). Then, the crosslinking treatment was performed by heating at 50 ° C. for 48 hours. Hereinafter, this pressure-sensitive adhesive layer is referred to as "pressure-sensitive adhesive layer (B1-4)". With respect to the acrylic polymer weight (100% by weight) in the pressure-sensitive adhesive layer (B1-4), the addition amount of the ultraviolet light absorber is 2.0% by weight, and the addition amount of the dye compound (C6) is 2.5 It was% by weight.

(評価)
実施例1〜5及び比較例2〜3で得られて粘着剤層について、以下の評価を行った。結果を表3、表4に示す。なお、比較例1には、製造例3で得られた粘着剤層(A1)を用いた評価した。
(Evaluation)
The following evaluation was performed about the adhesive layer obtained by Examples 1-5 and Comparative Examples 2-3. The results are shown in Tables 3 and 4. In Comparative Example 1, the pressure-sensitive adhesive layer (A1) obtained in Production Example 3 was evaluated.

<透過率、色相の測定:初期値>
実施例及び比較例で得られた粘着剤層の離型フィルムを剥離して、スライドガラス(商品名:白研磨 No.1、厚さ:0.8〜1.0mm、全光線透過率:92%、ヘイズ:0.2%、松浪硝子工業(株)製)に貼り合わせた。さらに他方の離型フィルムを剥離して、同じスライドガラスを貼り合せ、オートクレーブ処理(50℃、0.5MPa、15分)を経て、スライドガラス/粘着剤層/スライドガラスの層構成を有する試験片を作製した。作成した試験片を、分光光度計(製品名:U4100、(株)日立ハイテクノロジーズ製)で測定した。波長350nm〜780nmの範囲における透過率(表3には、380nm、400nm、420nm、440nmの測定値を示す)を測定し、透過Y値、透過色相(L, a*, b)はD65光源、視野2度での色相を測定した。
<Measurement of transmittance and hue: initial value>
The release film of the pressure-sensitive adhesive layer obtained in Examples and Comparative Examples is peeled off, and a slide glass (trade name: white polished No. 1, thickness: 0.8 to 1.0 mm, total light transmittance: 92) %, Haze: 0.2%, it bonded to Matsunami Glass Industry Co., Ltd. product). Furthermore, the other mold release film is peeled off, the same slide glass is pasted, autoclaved (50 ° C., 0.5 MPa, 15 minutes), and a test piece having a slide glass / adhesive layer / slide glass layer structure Was produced. The produced test piece was measured by a spectrophotometer (product name: U4100, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). The transmittance in the wavelength range of 350 nm to 780 nm (Table 3 shows measured values at 380 nm, 400 nm, 420 nm, and 440 nm), and the transmission Y value and transmission hue (L * , a * , b * ) is D65. The light source, the hue in 2 degrees of visual field was measured.

<信頼性の評価>
前述の手法で初期測定を行った試験片を85℃、85%RHのオーブン中に500時間投入し、耐熱性試験を実施した。また同様にして紫外線フェード試験機(装置名;紫外線フェードメーター試験機U48、スガ試験機株式会社製)に試験片を投入し、100時間連続照射して耐光性試験を実施した。試験後の試験片を、初期測定と同様にして、透過Y値、透過色相(L, a*, b)の測定を実施した。試験前後のY値の変化ΔY,色相変化ΔEを計算で求め、ΔY≦0.3、ΔE≦1.0の場合を合格(OK)、それ以外を不合格(NG)とした。
<Evaluation of reliability>
The test pieces initially measured by the above-described method were placed in an oven at 85 ° C. and 85% RH for 500 hours to conduct a heat resistance test. Similarly, a test piece was put into a UV fade tester (device name: UV fade meter tester U48, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), and a light resistance test was conducted by continuous irradiation for 100 hours. The test pieces after the test were subjected to measurement of transmission Y value and transmission hue (L * , a * , b * ) in the same manner as the initial measurement. The change ΔY in Y value and the hue change ΔE * before and after the test are calculated, and the case where ΔY ≦ 0.3 and ΔE * ≦ 1.0 is accepted (OK), and the others are rejected (NG).

<接着性>
実施例及び比較例で得られた粘着剤層から、長さ100mm、幅20mmのシート片を切り出した。次いで、粘着剤層の一方の離型フィルムを剥離して、PETフィルム(商品名:ルミラー S−10、厚さ:25μm、東レ(株)製)を貼付(裏打ち)した。次に、他方の離型フィルムを剥離して、試験板としてガラス板(商品名:ソーダライムガラス♯0050、松浪硝子工業(株)製)に、2kgローラー、1往復の圧着条件で圧着し、試験板/粘着剤層/PETフィルムから構成されるサンプルを作製した。得られたサンプルについて、オートクレーブ処理(50℃、0.5MPa、15分)し、その後、23℃、50%R.H.の雰囲気下で30分間放冷した。放冷後、引張試験機(装置名:オートグラフ AG−IS、(株)島津製作所製)を用い、JIS Z0237に準拠して、23℃、50%R.H.の雰囲気下、引張速度300mm/分、剥離角度180°の条件で、試験板から粘着シート(粘着剤層/PETフィルム)を引きはがし、180°引き剥がし接着力(N/20mm)を測定した。
<Adhesiveness>
A sheet piece of 100 mm in length and 20 mm in width was cut out from the pressure-sensitive adhesive layer obtained in Examples and Comparative Examples. Next, one release film of the pressure-sensitive adhesive layer was peeled off, and a PET film (trade name: LUMIRROR S-10, thickness: 25 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) was attached (backed). Next, the other release film is peeled off, and pressed as a test plate to a glass plate (trade name: soda lime glass # 0050, manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd.) under a pressure condition of 1 reciprocation with a 2 kg roller. The sample comprised from a test board / adhesive layer / PET film was produced. The obtained sample is autoclaved (50 ° C., 0.5 MPa, 15 minutes), and then 23 ° C., 50% R.H. H. It was allowed to cool for 30 minutes under the atmosphere of After leaving to cool, a tensile tester (apparatus name: Autograph AG-IS, manufactured by Shimadzu Corporation) is used, according to JIS Z0237, 23 ° C., 50% R.H. H. The pressure-sensitive adhesive sheet (pressure-sensitive adhesive layer / PET film) was peeled off from the test plate under the conditions of a tensile speed of 300 mm / min and a peeling angle of 180 ° under an atmosphere of 1, and the 180 ° peel adhesion (N / 20 mm) was measured.

<全光線透過率、ヘイズ>
実施例及び比較例で得られた粘着剤層から、一方の離型フィルムを剥離して、スライドガラス(商品名:白研磨 No.1、厚さ:0.8〜1.0mm、全光線透過率:92%、ヘイズ:0.2%、松浪硝子工業(株)製)に貼り合わせた。さらに他方の離型フィルムを剥離して、粘着剤層(A)/スライドガラスの層構成を有する試験片を作製した。上記試験片の可視光領域における全光線透過率、ヘイズ値を、ヘイズメーター(装置名:HM−150、(株)村上色彩研究所製)を用いて測定した。
<Total light transmittance, haze>
One release film is peeled off from the pressure-sensitive adhesive layer obtained in Examples and Comparative Examples, and a slide glass (trade name: white polishing No. 1, thickness: 0.8 to 1.0 mm, total light transmission) Rate: 92%, haze: 0.2%, it bonded together to Matsunami Glass Industry Co., Ltd. product). Furthermore, the other release film was peeled off to prepare a test piece having a layer structure of pressure-sensitive adhesive layer (A) / slide glass. The total light transmittance and haze value in the visible light region of the test piece were measured using a haze meter (device name: HM-150, manufactured by Murakami Color Research Laboratory).

Figure 0006510113
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Figure 0006510113
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以下では、粘着剤層付き偏光フィルムを作製して評価した。   Below, the polarizing film with an adhesive layer was produced and evaluated.

(シクロオレフィンポリマーフィルム(G))
厚さ25μmのシクロオレフィンポリマーフィルム(商品名ゼオノアフィルム,日本ゼオン株式会社製)を用いた。
(Cycloolefin polymer film (G))
A cycloolefin polymer film (trade name: Zeonor Film, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) having a thickness of 25 μm was used.

(偏光子(P1)の製造)
ヨウ素が含浸された厚さ5μmの延伸ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光子を用いた。偏光子(又は保護フィルムを貼り合わせた偏光フィルム)の単体透過率Y値は、42.4%、偏光度は99.995であった。
(Production of Polarizer (P1))
A polarizer consisting of a 5 μm thick stretched polyvinyl alcohol film impregnated with iodine was used. The single transmittance Y value of the polarizer (or the polarizing film laminated with the protective film) was 42.4%, and the degree of polarization was 99.995.

(アクリル系樹脂フィルム(E))
特開2010−284840号公報の製造例1に記載のイミド化MS樹脂100重量部からなる樹脂ペレットを、100.5kPa、100℃で12時間乾燥させ、単軸の押出機にてダイス温度270℃でTダイから押出してフィルム状に成形した(厚さ80μm)。さらに当該フィルムを、その搬送方向に150℃の雰囲気下に延伸し(厚さ40μm)、次いでフィルム搬送方向と直交する方向に150℃の雰囲気下に延伸して、厚さ20μmのアクリル系樹脂フィルムを得た。
(Acrylic resin film (E))
The resin pellet consisting of 100 parts by weight of the imidized MS resin described in Production Example 1 of JP-A-2010-284840 is dried at 100.5 kPa and 100 ° C. for 12 hours, and the die temperature is 270 ° C. in a single-screw extruder. And extruded from a T-die to form a film (thickness 80 μm). Furthermore, the film is stretched in an atmosphere of 150 ° C. in the transport direction (thickness 40 μm), and then stretched in an atmosphere of 150 ° C. in a direction perpendicular to the film transport direction, and an acrylic resin film of 20 μm thickness I got

(位相差フィルム(H))
厚み56μmのポリカーボネートフィルム(日東電工株式会社製「NRF」、面内位相差Re(550):135nm)を用いた。
(Retardation film (H))
A polycarbonate film (“NRF” manufactured by Nitto Denko Corporation, in-plane retardation Re (550): 135 nm) having a thickness of 56 μm was used.

比較例4
粘着剤層(A1)/シクロオレフィンポリマーフィルム(G)/偏光子(P1)/アクリル系樹脂フィルム(E)/粘着剤層(B1:層間接着剤層)/位相差フィルム(H)/粘着剤層(B2)の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
粘着剤層(A1)は、製造例3で製造したものを用いた。
粘着剤層(B1)は、製造例4で製造したものを用いた。
粘着剤層(B2)は、製造例5で製造したものを用いた。
粘着剤層付き偏光フィルムを作製にあたっては、各粘着剤層を介して、各フィルムを貼り合わせた。なお、偏光子(P1)の両側のシクロオレフィンポリマーフィルム(G)及びアクリル系樹脂フィルム(E)は、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せた。
得られた、粘着剤層付き偏光フィルムは、有機EL表示装置に用いる光学積層体とし用いることができ、粘着剤層(A1)が視認側、粘着剤層(B2)が有機ELパネル側に対応する。
Comparative example 4
Pressure-sensitive adhesive layer (A1) / cycloolefin polymer film (G) / polarizer (P1) / acrylic resin film (E) / pressure-sensitive adhesive layer (B1: interlayer adhesive layer) / retardation film (H) / pressure-sensitive adhesive A pressure-sensitive adhesive layer-carrying polarizing film having the constitution of the layer (B2) was produced.
As the pressure-sensitive adhesive layer (A1), the one produced in Production Example 3 was used.
As the pressure-sensitive adhesive layer (B1), the one produced in Production Example 4 was used.
The pressure-sensitive adhesive layer (B2) used was the one produced in Production Example 5.
In producing the pressure-sensitive adhesive layer-carrying polarizing film, the respective films were attached to each other via the respective pressure-sensitive adhesive layers. In addition, the cycloolefin polymer film (G) and the acrylic resin film (E) of the both sides of a polarizer (P1) were bonded together using the polyvinyl alcohol-type adhesive agent.
The obtained polarizing film with a pressure-sensitive adhesive layer can be used as an optical laminate for use in an organic EL display device, and the pressure-sensitive adhesive layer (A1) corresponds to the visible side and the pressure-sensitive adhesive layer (B2) corresponds to the organic EL panel side Do.

実施例6
比較例4において、粘着剤層(A1)の代わりに、実施例1で製造した粘着剤層(A1−1)を用いたこと以外は比較例4と同様にして、粘着剤層(A1−1)/シクロオレフィンポリマーフィルム(G)/偏光子/アクリル系樹脂フィルム(E)/粘着剤層(B1)/位相差フィルム(H)/粘着剤層(B2)の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
Example 6
A pressure-sensitive adhesive layer (A1-1) was prepared in the same manner as in Comparative Example 4 except that the pressure-sensitive adhesive layer (A1-1) produced in Example 1 was used instead of the pressure-sensitive adhesive layer (A1) in Comparative Example 4. ) / Cycloolefin polymer film (G) / polarizer / acrylic resin film (E) / adhesive layer (B1) / retardation film (H) / adhesive layer-attached polarized light having a composition of adhesive layer (B2) A film was made.

実施例7
比較例4において、粘着剤層(B2)の代わりに、実施例4で製造した粘着剤層(B1−2)を用いたこと以外は比較例4と同様にして、粘着剤層(A1)/シクロオレフィンポリマーフィルム(G)/偏光子/アクリル系樹脂フィルム(E)/粘着剤層(B1)/位相差フィルム(H)/粘着剤層(B1−2)の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
Example 7
In Comparative Example 4, in the same manner as Comparative Example 4 except that the pressure-sensitive adhesive layer (B1-2) manufactured in Example 4 was used instead of the pressure-sensitive adhesive layer (B2), a pressure-sensitive adhesive layer (A1) / Polarized light with adhesive layer having the structure of cycloolefin polymer film (G) / polarizer / acrylic resin film (E) / adhesive layer (B1) / retardation film (H) / adhesive layer (B1-2) A film was made.

実施例8
比較例4において、粘着剤層(A1)の代わりに、実施例1で製造した粘着剤層(A1−1)を用いたこと、シクロオレフィンポリマーフィルム(G)の代わりに、表面処理層付保護フィルム(D−1)を用いたこと以外は比較例4と同様にして、粘着剤層(A1−1)/表面処理層付保護フィルム(D−1)/偏光子(P1)/アクリル系樹脂フィルム(E)/粘着剤層(B1)/位相差フィルム(H)/粘着剤層(B2)の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
Example 8
In Comparative Example 4, in place of the pressure-sensitive adhesive layer (A1), the pressure-sensitive adhesive layer (A1-1) produced in Example 1 was used, and instead of the cycloolefin polymer film (G), protection with a surface treatment layer Pressure-sensitive adhesive layer (A1-1) / protective film with surface treatment layer (D-1) / polarizer (P1) / acrylic resin in the same manner as Comparative Example 4 except that the film (D-1) was used The polarizing film with an adhesive layer which has a structure of a film (E) / adhesive layer (B1) / retardation film (H) / adhesive layer (B2) was produced.

なお、表面処理層付保護フィルム(D−1)は下記に示す。表面処理層付保護フィルム(D−1)は下記基材フィルムA側が偏光子(P1)と接するように、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、貼り合せた。   In addition, the protective film (D-1) with a surface treatment layer is shown below. The protective film with surface treatment layer (D-1) was bonded using a polyvinyl alcohol-based adhesive such that the side of the following base film A was in contact with the polarizer (P1).

(基材フィルムAの作製)
特開2010−284840号公報の製造例1に記載のイミド化MS樹脂100重量部、及び6,6’,6’’−(1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリイル)トリス(3−ヘキシルオキシ−2−メチルフェノール)(商品名:LA−F70、表1中の「紫外線吸収剤(b4)」、吸収スペクトルの最大吸収波長:357nm、(株)ADEKA製)0.65重量部を、2軸混練機にて220℃にて混合し、樹脂ペレットを作製した。得られた樹脂ペレットを、100.5kPa、100℃で12時間乾燥させ、単軸の押出機にてダイス温度270℃でTダイから押出してフィルム状に成形した(厚み160μm)。さらに当該フィルムを、その搬送方向に150℃の雰囲気下に延伸し(厚み80μm)、次いでフィルム搬送方向と直交する方向に150℃の雰囲気下に延伸して、厚み40μmの基材フィルムA((メタ)アクリル系樹脂フィルム)を得た。得られた基材フィルムAの波長380nmの光の透過率は7%、波長400nmの光の透過率は68%、420nmの光の透過率は90%、440nmの光の透過率は91%であった。
(Preparation of base film A)
100 parts by weight of the imidized MS resin described in Production Example 1 of JP-A-2010-284840, and 6,6 ′, 6 ′ ′-(1,3,5-triazine-2,4,6-triyl) tris (3-Hexyloxy-2-methylphenol) (trade name: LA-F70, “UV absorber (b4)” in Table 1, maximum absorption wavelength of absorption spectrum: 357 nm, manufactured by ADEKA Co., Ltd.) 0.65 Parts by weight were mixed at 220 ° C. in a twin-screw kneader to produce resin pellets. The obtained resin pellet was dried at 100.5 kPa and 100 ° C. for 12 hours, and extruded from a T-die at a die temperature of 270 ° C. in a single-screw extruder to form a film (thickness 160 μm). Furthermore, the film is stretched in the atmosphere at 150 ° C. in the transport direction (thickness 80 μm), and then stretched in the atmosphere at 150 ° C. in the direction orthogonal to the film transport direction to form a 40 μm thick base film A (( A meta) acrylic resin film was obtained. The obtained substrate film A has a transmittance of 7% for light of wavelength 380 nm, a transmittance of 68% for light of wavelength 400 nm, a transmittance of 90% for light of 420 nm, and a transmittance of 91% for light of 440 nm. there were.

(表面処理層付保護フィルム(D−1)の作成)
イソシアヌル酸トリアクリレート13部、ペンタエリスリトールトリアクリレート16部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート62部、及びイソホロンジイソシアネートポリウレタン9部を含む紫外線硬化型樹脂(商品名:ユニディック17−806、固形分:80%、溶媒:酢酸ブチル、DIC(株)製)100部に、製造例2で得られた色素化合物(C2)3.0重量部と、レベリング剤(商品名:GRANDIC PC−4100、DIC(株)製)5部、光重合開始剤として、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド(商品名:イルガキュア819、波長200〜450nmに吸収帯域を有する、BASFジャパン社製)5重量部を混合し、固形分濃度が50%となるように、メチルイソブチルケトンで希釈して、ハードコート層形成用組成物を調製した。得られた基材フィルムA上に、前記ハードコート層形成用組成物を塗布して塗布層を形成し、当該塗布層を120℃で1分間加熱した。加熱後の塗布層に窒素雰囲気化で高圧水銀ランプにて積算光量2000mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させて、8μmのハードコート層を形成した。得られた表面処理層付保護フィルム(D−1)の波長380nmの光の透過率は、0.2%、波長400nmの光の透過率は3.0%、420nmの光の透過率は65%、440nmの光の透過率は89%であり、表面処理層付保護フィルム(D−1)全重量(100重量%)に対して、色素化合物(C2)の添加量は、0.5重量%であった。
(Preparation of protective film with surface treatment layer (D-1))
UV curable resin comprising 13 parts of isocyanuric acid triacrylate, 16 parts of pentaerythritol triacrylate, 62 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, and 9 parts of isophorone diisocyanate polyurethane (trade name: Unidic 17-806, solid content: 80%, Solvent: butyl acetate, 3.0 parts by weight of the dye compound (C2) obtained in Production Example 2 in 100 parts of DIC Corporation, and a leveling agent (trade name: GRANDIC PC-4100, DIC Corporation) 5 parts, bis (2,4,6-trimethyl benzoyl) -phenyl phosphine oxide (trade name: Irgacure 819, having an absorption band at a wavelength of 200 to 450 nm, 5 weight by BASF Japan Ltd.) as a photopolymerization initiator Parts and mix to make the solid concentration 50%, methyliso Diluted with ethyl ketone, to prepare a hard coat layer forming composition. On the obtained base film A, the said composition for hard-coat layer formation was apply | coated, the application layer was formed, and the said application layer was heated at 120 degreeC for 1 minute. The coating layer after heating was irradiated with ultraviolet light with a cumulative light quantity of 2000 mJ / cm 2 with a high pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere to harden the coating layer, to form an 8 μm hard coat layer. The transmittance of light with a wavelength of 380 nm of the obtained protective film with surface treatment layer (D-1) is 0.2%, the transmittance of light with a wavelength of 400 nm is 3.0%, and the transmittance of light with 420 nm is 65 %, The transmittance of light of 440 nm is 89%, and the addition amount of the dye compound (C2) is 0.5% with respect to the total weight (100% by weight) of the surface-treated protective film (D-1) %Met.

実施例9
比較例4において、アクリル系樹脂フィルム(E)の代わりに、下記に示すアクリル系樹脂フィルム(E−1)を用いたこと、粘着剤層(B1)の代わりに、実施例3で製造した粘着剤層(B1−1)を用いたこと以外は比較例4と同様にして、粘着剤層(A1)/シクロオレフィンポリマーフィルム(G)/偏光子(P1)/アクリル系樹脂フィルム(E−1)/粘着剤層(B1−1)/位相差フィルム(H)/粘着剤層(B2)の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
Example 9
In Comparative Example 4, in place of the acrylic resin film (E), the following acrylic resin film (E-1) was used, and in place of the pressure-sensitive adhesive layer (B1), the adhesion produced in Example 3 Pressure-sensitive adhesive layer (A1) / cycloolefin polymer film (G) / polarizer (P1) / acrylic resin film (E-1) in the same manner as in Comparative Example 4 except that the agent layer (B1-1) was used The polarizing film with an adhesive layer which has a structure of / adhesive layer (B1-1) / retardation film (H) / adhesive layer (B2) was produced.

なお、アクリル系樹脂フィルム(E−1)は下記に示す。   In addition, an acrylic resin film (E-1) is shown below.

(アクリル系樹脂フィルム(E−1)の作製)
特開2010−284840号公報の製造例1に記載のイミド化MS樹脂100重量部を塩化メチレンに溶解させて12重量%のドープ溶液を作製した。製造例2で得られた色素化合物(C1)1.2重量部を添加してアクリル系樹脂溶液を調製した。その後、離型処理を施したガラス板上に、前記アクリル系樹脂溶液を、乾燥後の厚さが40μmとなるように塗布し、60℃で2分間、さらに100℃で3分間乾燥させて溶媒を除去し、厚み40μmのアクリル系樹脂フィルム(E−1)を得た。得られたアクリル系樹脂フィルム(E−1)の波長380nmの光の透過率は、0.2%、波長400nmの光の透過率は1.2%、420nmの光の透過率は59%、440nmの光の透過率は89%であった。アクリル系樹脂フィルム(E−1)中のべースポリマー重量(100重量%)に対して、色素化合物(C1)の添加量は、1.2重量%であった。
(Preparation of acrylic resin film (E-1))
100 parts by weight of the imidized MS resin described in Production Example 1 of JP-A-2010-284840 was dissolved in methylene chloride to prepare a 12 wt% dope solution. An acrylic resin solution was prepared by adding 1.2 parts by weight of the dye compound (C1) obtained in Production Example 2. Thereafter, the acrylic resin solution is applied on a release-treated glass plate to a dry thickness of 40 μm, dried at 60 ° C. for 2 minutes, and further at 100 ° C. for 3 minutes to obtain a solvent. Were removed to obtain an acrylic resin film (E-1) having a thickness of 40 μm. The obtained acrylic resin film (E-1) has a transmittance of 0.2% for light of wavelength 380 nm, a transmittance of 1.2% for light of wavelength 400 nm, and a transmittance of 59% for light of 420 nm, The transmittance of light at 440 nm was 89%. The addition amount of a pigment compound (C1) was 1.2 weight% with respect to the base polymer weight (100 weight%) in an acrylic resin film (E-1).

実施例10
比較例4において、アクリル系樹脂フィルム(E)の代わりに、下記に示すトリアセチルセルロースフィルム(F−1)を用いたこと、粘着剤層(B2)の代わりに実施例4で製造した粘着剤層(B1−2)を用いたこと以外は比較例4と同様にして、粘着剤層(A1)/シクロオレフィンポリマーフィルム(G)/偏光子(P1)/トリアセチルセルロースフィルム(F−1)/粘着剤層(B1)/位相差フィルム(H)/粘着剤層(B1−2)の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
Example 10
In Comparative Example 4, the following triacetylcellulose film (F-1) was used instead of the acrylic resin film (E), and the pressure-sensitive adhesive prepared in Example 4 instead of the pressure-sensitive adhesive layer (B2) Pressure-sensitive adhesive layer (A1) / cycloolefin polymer film (G) / polarizer (P1) / triacetylcellulose film (F-1) in the same manner as in Comparative Example 4 except that the layer (B1-2) was used A pressure-sensitive adhesive layer-attached polarizing film having a structure of / pressure-sensitive adhesive layer (B1) / retardation film (H) / pressure-sensitive adhesive layer (B1-2) was produced.

なお、トリアセチルセルロースフィルム(F−1)は下記に示す。   In addition, a triacetyl-cellulose film (F-1) is shown below.

(トリアセチルセルロースフィルム(F−1)の作製)
UV吸収能を有する厚さ40μmのトリアセチルセルロースフィルム(商品名:KC4UY,コニカミノルタ社製)100重量部をジクロロメタン:エタノール:n−ブタノール=80:15:5の重量比率で調整した混合溶媒に撹拌溶解させ、固形分が20重量%になるように溶解液を調整し、さらに製造例2で得られた色素化合物(C5)を1.0重量部添加してトリアセチルセルロース溶解液を調製した。前記溶解液を、離型処理を施したガラス板上に乾燥後の厚みが20μmになるように塗布し、80℃で3分間、続いて120℃で3分間乾燥させて溶媒を除去し、ガラス板から剥離することで厚み20μmのトリアセチルセルロースフィルム(F1)を得た。得られたトリアセチルセルロースフィルム(F−1)の波長380nmの光の透過率は0.2%、波長400nmの光の透過率は8.8%、420nmの光の透過率は64%、440nmの光の透過率は90%であった。トリアセチルセルロースフィルム(F−1)中のべースポリマー重量(100重量%)に対して、色素化合物(C5)の添加量は、1.0重量%であった。
(Preparation of triacetyl cellulose film (F-1))
A mixed solvent prepared by mixing 100 parts by weight of a 40 μm thick triacetyl cellulose film (trade name: KC4UY, manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) having a UV absorbing ability with a weight ratio of dichloromethane: ethanol: n-butanol = 80: 15: 5 The solution was stirred and dissolved, and the solid solution was adjusted to 20% by weight, and 1.0 part by weight of the dye compound (C5) obtained in Production Example 2 was further added to prepare a triacetylcellulose solution. . The solution is applied on a release-treated glass plate to a dry thickness of 20 μm, dried at 80 ° C. for 3 minutes, then dried at 120 ° C. for 3 minutes to remove the solvent, and glass is removed. By peeling from the plate, a 20 μm-thick triacetyl cellulose film (F1) was obtained. The obtained triacetyl cellulose film (F-1) has a transmittance of 0.2% for light of wavelength 380 nm, a transmittance of light for wavelength of 400 nm is 8.8%, and a transmittance of light of 420 nm is 64% for 440 nm Light transmittance was 90%. The addition amount of a pigment compound (C5) was 1.0 weight% with respect to the base polymer weight (100 weight%) in a triacetyl-cellulose film (F-1).

実施例11
比較例4において、粘着剤層(A1)の代わりに、実施例1で製造した粘着剤層(A1−1)を用いたこと、シクロオレフィンポリマーフィルム(G)の代わりに、実施例8で作成した表面処理層付保護フィルム(D−1)を用いたこと、アクリル系樹脂フィルム(E)の代わりに、下記に示すシクロオレフィンポリマーフィルム(G−1)を用いたこと、粘着剤層(B1)の代わりに、下記に示す粘着剤層(B3−1)を用いたこと以外は比較例4と同様にして、粘着剤層(A1−1)/表面処理層付保護フィルム(D−1)/偏光子(P1)/シクロオレフィンポリマーフィルム(G−1)/粘着剤層(B3−1)/位相差フィルム(H)/粘着剤層(B2)の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
Example 11
In Comparative Example 4, in place of the pressure-sensitive adhesive layer (A1), the pressure-sensitive adhesive layer (A1-1) produced in Example 1 was used, and in place of the cycloolefin polymer film (G) Using the surface-treated protective film (D-1), using the cycloolefin polymer film (G-1) shown below instead of the acrylic resin film (E), the pressure-sensitive adhesive layer (B1) In the same manner as in Comparative Example 4 except that the pressure-sensitive adhesive layer (B3-1) shown below is used instead of), a pressure-sensitive adhesive layer (A1-1) / protective film with surface treatment layer (D-1) / Polarizer film with pressure-sensitive adhesive layer having the structure of: polarizer (P1) / cycloolefin polymer film (G-1) / pressure-sensitive adhesive layer (B3-1) / retardation film (H) / pressure-sensitive adhesive layer (B2) Made.

なお、シクロオレフィンポリマーフィルム(G−1)、粘着剤層(B3−1)は下記に示す。表面処理層付保護フィルム(D1)は基材フィルムA側が偏光子(P1)と接するように、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、貼り合せた。   In addition, a cycloolefin polymer film (G-1) and an adhesive layer (B3-1) are shown below. The surface-treated protective film (D1) was laminated using a polyvinyl alcohol-based adhesive such that the substrate film A side was in contact with the polarizer (P1).

(シクロオレフィンポリマーフィルム(G−1)の作製)
材料樹脂として、シクロオレフィンポリマー(ノルボルネン系モノマーの開環重合体の水素添加物、商品名「ZEONOR1420R」、日本ゼオン社製、ガラス転移温度(Tg)は136℃)のペレットを用意し、100.5kPa、100℃で12時間乾燥させた。樹脂重量(100重量部)に対して、製造例2で得られた色素化合物(C2)を1.5重量部添加し、単軸押出機にてダイス温度260℃でTダイ式のフィルム溶融押出成形機を使用して、厚さ20μmのシクロオレフィンポリマー樹脂フィルム(G1)を得た。得られたシクロオレフィンポリマー樹脂フィルム(G1)の波長380nmの光の透過率は、2.5%、波長400nmの光の透過率は18%、420nmの光の透過率は75%、440nmの光の透過率は91%であった。シクロオレフィンポリマーフィルム(G−1)中のべースポリマー重量(100重量%)に対して、色素化合物(C2)の添加量は、1.5重量%であった。
(Preparation of cycloolefin polymer film (G-1))
As the material resin, a pellet of cycloolefin polymer (hydrogenated product of ring-opened polymer of norbornene-based monomer, trade name “ZEONOR 1420R, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., glass transition temperature (Tg) is 136 ° C.) is prepared. It was made to dry at 5 kPa and 100 ° C. for 12 hours. To the resin weight (100 parts by weight), 1.5 parts by weight of the dye compound (C2) obtained in Production Example 2 is added, and T-die type film melt extrusion at a die temperature of 260 ° C. in a single screw extruder. Using a molding machine, a cycloolefin polymer resin film (G1) having a thickness of 20 μm was obtained. The transmittance of light of wavelength 380 nm of the obtained cycloolefin polymer resin film (G1) is 2.5%, the transmittance of light of wavelength 400 nm is 18%, the transmittance of light of 420 nm is 75%, light of 440 nm Transmittance of 91%. The addition amount of the dye compound (C2) was 1.5% by weight based on the weight (100% by weight) of the base polymer in the cycloolefin polymer film (G-1).

(粘着剤組成物(B3−1)の製造)
ゴム系ポリマーとしてスチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロック共重合体(SEPS、商品名:SEPTON 2063、スチレン含有量:13%、(株)クラレ製)100重量部と、粘着付与剤として水添テルペンフェノール(商品名:YSポリスターTH130、軟化点:130℃、水酸基価:60、ヤスハラケミカル(株)製)40.4重量部、石油系粘着付与剤(商品名:ピコラスチックA5、ビニルトルエン系粘着付与剤、軟化点:5℃、イーストマンコダック社製)61.7部、軟化剤としてポリブテン(商品名:HV−300、重量平均分子量:3000、JX日鉱日石エネルギー(株)製)21.3部を配合したトルエン溶液(粘着剤溶液)を固形分が30重量%になるように調整し、さらに製造例2で得られた色素化合物(C1)を2.0重量部添加して粘着剤組成物(B3−1:溶液)を調製した。
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Composition (B3-1))
100 parts by weight of styrene-ethylene-propylene-styrene block copolymer (SEPS, trade name: SEPTON 2063, styrene content: 13%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) as a rubber-based polymer, and hydrogenated terpene phenol as a tackifier (Trade name: YS polystar TH130, softening point: 130 ° C., hydroxyl value: 60, 40.4 parts by weight of Yashara Chemical Co., Ltd., petroleum based tackifier (trade name: Picolastic A5, vinyl toluene based tackifier) Softening point: 5 ° C., 61.7 parts of Eastman Kodak Co., and polybutene as a softener (trade name: HV-300, weight average molecular weight: 3000, manufactured by JX Nippon Oil & Energy Corporation) 21.3 parts Was adjusted to a solid content of 30% by weight, and the color obtained in Production Example 2 was further adjusted. An adhesive composition (B3-1: solution) was prepared by adding 2.0 parts by weight of the elemental compound (C1).

(粘着剤層(B3−1)の製造)
前記粘着剤組成物(B2−1:溶液)を、厚さ38μmのセパレータ(表面が剥離処理されたポリエチレンテレフタレート系フィルム)上に、乾燥後の厚さが15μmとなるように塗布し、120℃で3分間乾燥層させて溶媒を除去し、粘着剤層を得た。以下、この粘着剤層を「粘着剤層(B3−1)」と言う。粘着剤層(B3−1)中のゴム系ポリマー重量(100重量%)に対して、色素化合物(C1)の添加量は、2.0重量%であった。
(Production of Pressure-Sensitive Adhesive Layer (B3-1))
The pressure-sensitive adhesive composition (B2-1: solution) is applied on a 38 μm-thick separator (polyethylene terephthalate film with a surface subjected to peeling treatment) so that the thickness after drying is 15 μm, and 120 ° C. The mixture was dried for 3 minutes to remove the solvent and obtain a pressure-sensitive adhesive layer. Hereinafter, this pressure-sensitive adhesive layer is referred to as "pressure-sensitive adhesive layer (B3-1)". The addition amount of a pigment compound (C1) was 2.0 weight% with respect to the rubber-type polymer weight (100 weight%) in an adhesive layer (B3-1).

実施例12
比較例4において、位相差フィルム(H)の代わりに、下記に示す位相差フィルム(H−1)を用いたこと、粘着剤層(B2)の代わりに、実施例4で製造した粘着剤層(B1−2)を用いたこと以外は比較例4と同様にして、粘着剤層(A1)/シクロオレフィンポリマーフィルム(G)/偏光子(P1)/アクリル系樹脂フィルム(E)/粘着剤層(B1)/位相差フィルム(H−1)/粘着剤層(B1−2)の構成を有する粘着剤層付き偏光フィルムを作製した。
Example 12
In Comparative Example 4, in place of the retardation film (H), the following retardation film (H-1) was used, and in place of the adhesive layer (B2), the pressure-sensitive adhesive layer produced in Example 4 It is made to be the same as that of comparative example 4 except having used (B1-2), pressure sensitive adhesive layer (A1) / cycloolefin polymer film (G) / light polarizer (P1) / acrylic resin film (E) / pressure sensitive adhesive The polarizing film with an adhesive layer which has a structure of layer (B1) / retardation film (H-1) / adhesive layer (B1-2) was produced.

なお、位相差フィルム(H−1)は下記に示す。   In addition, retardation film (H-1) is shown below.

(位相差フィルム(H−1)の作製)
イソソルビド(ISB)26.2重慮部、9,9−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン(BHEPF)100.5重量部、1,4−シクロヘキサンジメタノール(1,4−CHDM)10.7重量部、ジフェニルカーボネート(DPC)105.1重量部、および、触媒として炭酸セシウム(0.2重量%水溶液)0.591重量部をそれぞれ反応容器に投入し、窒素雰囲気下にて、反応の第1段目の工程として、反応容器の熱媒温度を150℃にし、必要に応じて攪拌しながら、約15分原料を溶解させた。次いで、反応容器内の圧力を常圧から13.3kPaにし、反応容器の熱媒温度を190℃まで1時間で上昇させながら、発生するフェノールを反応容器外へ抜き出した。
反応容器内温度を190℃で15分保持した後、第2段目の工程として、反応容器内の圧力を6.67kPaとし、反応容器の熱媒温度を230℃まで、15分で上昇させ、発生するフェノールを反応容器外へ抜き出した。攪拌機の攪拌トルクが上昇してくるので、8分で250℃まで昇温し、さらに発生するフェノールを取り除くため、反応容器内の圧力を0.200kPa以下に減圧した。所定の攪拌トルクに到達後、反応を終了し、生成した反応物を水中に押し出した後に、ペレット化を行い、BHEPF/ISB/1,4−CHDM=47.4モル%/37.1モル%/15.5モル%のポリカーボネート樹脂を得た。
得られたポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は136.6℃であり、還元粘度は0.395dL/gであった。得られたポリカーボネート樹脂を80℃で5時間真空乾燥をした後、樹脂重量(100重量部)に対して、色素化合物(C2)を1.0重量部添加し、単軸押出機にてダイス温度220℃でTダイ式のフィルム溶融押出成形機を使用して、厚さ120μmのポリカーボネート樹脂フィルムを作製した。得られたポリカーボネート樹脂フィルムを、テンター延伸機を用いて横延伸し、厚み50μmの位相差フィルム(H−1)を得た。その際、延伸倍率は250%であり、延伸温度を137〜139℃とした。
得られた位相差フィルム(H1)のRe(550)は137〜147nmであり、Δnxyは0.0027〜0.0029であった。位相差フィルム(H−1)中のべースポリマー重量(100重量%)に対して、色素化合物(C2)の添加量は1.0重量%であった。
(Preparation of retardation film (H-1))
Isosorbide (ISB) 26.2 critical part, 9, 9 [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene (BHEPF) 100.5 parts by weight, 1,4-cyclohexanedimethanol (1, 4-CHDM) 10.7 parts by weight, 105.1 parts by weight of diphenyl carbonate (DPC), and 0.591 parts by weight of cesium carbonate (0.2% by weight aqueous solution) as a catalyst are charged into a reaction vessel, respectively, under a nitrogen atmosphere, In the first step of the reaction, the temperature of the heating medium in the reaction vessel was set to 150 ° C., and the raw material was dissolved for about 15 minutes while stirring as needed. Subsequently, the pressure in the reaction vessel was changed from normal pressure to 13.3 kPa, and while the temperature of the heat medium in the reaction vessel was raised to 190 ° C. in one hour, the generated phenol was extracted out of the reaction vessel.
After holding the temperature in the reaction vessel at 190 ° C. for 15 minutes, as the second step, the pressure in the reaction vessel is set to 6.67 kPa, and the heat medium temperature in the reaction vessel is raised to 230 ° C. in 15 minutes, The generated phenol was withdrawn out of the reaction vessel. Since the stirring torque of the stirrer increased, the temperature was raised to 250 ° C. in 8 minutes, and the pressure in the reaction vessel was reduced to 0.200 kPa or less in order to remove the generated phenol. After reaching a predetermined stirring torque, the reaction is terminated, and the formed reaction product is extruded into water and then pelletized to obtain BHEPF / ISB / 1,4-CHDM = 47.4 mol% / 37.1 mol% A polycarbonate resin of 15.5 mol% was obtained.
The glass transition temperature of the obtained polycarbonate resin was 136.6 ° C., and the reduced viscosity was 0.395 dL / g. The obtained polycarbonate resin is vacuum dried at 80 ° C. for 5 hours, then 1.0 part by weight of the dye compound (C2) is added to the resin weight (100 parts by weight), and the die temperature is obtained with a single screw extruder. A polycarbonate resin film with a thickness of 120 μm was produced using a T-die type film melt extruder at 220 ° C. The obtained polycarbonate resin film was transversely stretched using a tenter stretching machine to obtain a retardation film (H-1) having a thickness of 50 μm. At that time, the stretching ratio was 250%, and the stretching temperature was 137 to 139 ° C.
Re (550) of the obtained retardation film (H1) was 137 to 147 nm, and Δnxy was 0.0027 to 0.0029. The addition amount of the dye compound (C2) was 1.0% by weight based on the weight (100% by weight) of the base polymer in the retardation film (H-1).

(評価)
実施例6〜12及び比較例4で得られた粘着剤層付き偏光フィルムについて、以下の評価を行った。評価は以下の手法で行った。結果を表5、表6に示す。
(Evaluation)
The following evaluations were performed on the pressure-sensitive adhesive layer-attached polarizing films obtained in Examples 6 to 12 and Comparative Example 4. Evaluation was performed by the following method. The results are shown in Tables 5 and 6.

<粘着剤層付き偏光フィルムの透過率、色相の測定:初期値>
実施例及び比較例で得られた粘着剤層付き偏光フィルムの離型フィルムを剥離して、スライドガラス(商品名:白研磨 No.1、厚さ:0.8〜1.0mm、全光線透過率:92%、ヘイズ:0.2%、松浪硝子工業(株)製)に貼り合わせた。さらに他方の離型フィルムを剥離して、同じスライドガラスを貼り合せ、オートクレーブ処理(50℃、0.5MPa、15分)を経て、スライドガラス/粘着剤層付き偏光フィルム/スライドガラスの層構成を有する試験片を作製した。試験片を有機EL表示パネル側の粘着剤層側(B1側)から測定光が入光するように測定用治具に取り付け、自動偏光フィルム測定装置(製品名:V7100、日本分光株式会社製)で測定した。波長380nm〜780nmの範囲における透過率(表5には、380nm、400nm、420nm、440nmの測定値を示す)、単体Y値、単体色相(L, a*, b)を測定した。
<Measurement of transmittance and hue of polarizing film with adhesive layer: Initial value>
The release film of the pressure-sensitive adhesive layer-attached polarizing film obtained in Examples and Comparative Examples is peeled off, and a slide glass (trade name: white polished No. 1, thickness: 0.8 to 1.0 mm, total light transmission) Rate: 92%, haze: 0.2%, it bonded together to Matsunami Glass Industry Co., Ltd. product). Furthermore, the other release film is peeled off, the same slide glass is attached, autoclaved (50 ° C., 0.5 MPa, 15 minutes), and the layer structure of the slide film / polarizing film with pressure-sensitive adhesive layer / slide glass The test piece which it has was produced. Attach a test piece to the measuring jig so that the measurement light enters from the adhesive layer side (B1 side) on the organic EL display panel side, and use an automatic polarization film measuring device (product name: V7100, manufactured by JASCO Corporation) It measured by. The transmittance in the wavelength range of 380 nm to 780 nm (Table 5 shows measured values of 380 nm, 400 nm, 420 nm, and 440 nm), single Y value, single hue (L * , a * , b * ) was measured.

<信頼性の評価>
前述の手法で初期測定を行った試験片を85℃のオーブン中に500時間投入し、耐熱性試験を実施した。また同様にして紫外線フェード試験機(装置名;紫外線フェードメーター試験機U48、スガ試験機株式会社製)に視認側粘着剤層側(A1側)から紫外線を照射するように試験片を投入し、100時間連続照射して耐光性試験を実施した。試験後の試験片を、初期測定と同様にして、単体Y値、単体色相(L, a*, b)の測定を実施した。試験前後の単体Y値の変化ΔY,単体色相変化ΔEを計算で求め、ΔY≦0.5、ΔE≦1.0の場合を合格(OK)、それ以外を不合格(NG)とした。
<Evaluation of reliability>
The test piece for which initial measurement was performed by the above-mentioned method was put into an oven at 85 ° C. for 500 hours, and a heat resistance test was performed. In the same manner, a test piece is placed so as to irradiate ultraviolet light from the visible pressure-sensitive adhesive layer side (A1 side) to a UV fade tester (device name: UV fade meter test device U48, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) The light resistance test was conducted by continuous irradiation for 100 hours. The test pieces after the test were subjected to measurement of single Y value and single hue (L * , a * , b * ) in the same manner as the initial measurement. Change ΔY of single Y value and single hue change ΔE * before and after the test is calculated, and the case of ΔY ≦ 0.5, ΔE * ≦ 1.0 is accepted (OK), the other is rejected (NG) .

Figure 0006510113
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Figure 0006510113
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以下では、透明導電性フィルムを作製して評価した。   Below, the transparent conductive film was produced and evaluated.

比較例5
(シクロオレフィンポリマーフィルム(Z1))
長尺な透明基材として、厚み40μmのシクロオレフィンポリマーフィルム(Z1)(COPフィルム、日本ゼオン社製、「ゼオノアZF16」)を用意した。
Comparative example 5
(Cycloolefin polymer film (Z1))
As a long transparent substrate, a cycloolefin polymer film (Z1) (COP film, manufactured by Nippon Zeon, "Zeonor ZF16") having a thickness of 40 μm was prepared.

(アンチブロッキング層の形成)
紫外線硬化性ハードコート樹脂(DIC社製、商品名「UNIDIC(登録商標)RS29−120」)固形分100重量部に対し、直径3μmの複数の粒子(積水樹脂社製、商品名「SSX105」)を0.07重量部添加して、固形分濃度が30重量%となるように、酢酸エチルで希釈して、アンチブロッキング層形成用組成物を調製した。当該組成物を、上記シクロオレフィンポリマーフィルム(Z1)の片面に塗布した後、80℃で1分間の条件で乾燥後、積算光量300mJ/cmの紫外線(高圧水銀灯)を照射することでCOPフィルムの片面に膜厚1.5μmのアンチブロッキング層(AB層)を形成した。
(Formation of anti-blocking layer)
Ultraviolet curable hard coat resin (trade name "UNIDIC (registered trademark) RS 29-120" manufactured by DIC) A plurality of particles having a diameter of 3 μm per 100 parts by weight solid content (trade name "SSX 105" manufactured by Sekisui Resins Co. The composition was formed into an anti-blocking layer composition by adding 0.07 parts by weight of the above and diluting with ethyl acetate so that the solid concentration would be 30% by weight. The composition is coated on one side of the cycloolefin polymer film (Z1), and then dried at 80 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet light (high pressure mercury lamp) with an integrated light quantity of 300 mJ / cm 2 to obtain a COP film. An antiblocking layer (AB layer) having a thickness of 1.5 μm was formed on one side of the

(ハードコート層(Y)の形成)
紫外線硬化型アクリル樹脂(DIC社製、「ELS888」)100重量部および光重合開始剤(BASF社製、「Irgacure184」)2重量部および酢酸エチル160重量部を混合して、組成物溶液(Y)を調製した。次いで、上記シクロオレフィンポリマーフィルム(Z1)において上記アンチブロッキング層を形成した面とは逆面に、前記組成物溶液(Y)を塗布して、80℃で1分間の条件で乾燥させて、積算光量300mJ/cmの紫外線(高圧水銀灯)を照射した。これにより、厚み1.0μmのハードコート層をシクロオレフィンポリマーフィルム(Z1)の上面に形成した。
(Formation of hard coat layer (Y))
100 parts by weight of an ultraviolet curable acrylic resin (manufactured by DIC, "ELS 888") and 2 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by BASF, "Irgacure 184") and 160 parts by weight of ethyl acetate are mixed to prepare a composition solution (Y Were prepared. Next, the composition solution (Y) is applied to the side of the cycloolefin polymer film (Z1) opposite to the side on which the antiblocking layer is formed, dried at 80 ° C. for 1 minute, and integrated. It was irradiated with ultraviolet light (high pressure mercury lamp) with a light amount of 300 mJ / cm 2 . Thus, a hard coat layer having a thickness of 1.0 μm was formed on the top surface of the cycloolefin polymer film (Z1).

(屈折率調整層(X)の形成)
無機粒子含有樹脂溶液(JSR社製、「KZ7414」)100重量部に、プロピレングリコールモノメチルエーテル700重量部を混合して、組成物溶液(X)を調製した。次いで、上記ハードコート層(Y1)の上面に、前記組成物溶液(X)を塗布して、60℃で1分間の条件で乾燥させて、積算光量300mJ/cmの紫外線(高圧水銀灯)を照射した。これにより、厚み100nmの屈折率調整層(X)をハードコート層の上面に形成した。
(Formation of refractive index adjustment layer (X))
A composition solution (X) was prepared by mixing 700 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether with 100 parts by weight of an inorganic particle-containing resin solution ("KZ7414" manufactured by JSR Corporation). Next, the composition solution (X) is applied to the upper surface of the hard coat layer (Y1), dried at 60 ° C. for 1 minute, and irradiated with ultraviolet light (high pressure mercury lamp) with an integrated light quantity of 300 mJ / cm 2. Irradiated. Thus, a refractive index adjustment layer (X) having a thickness of 100 nm was formed on the upper surface of the hard coat layer.

(ITO層の形成)
次いで、上記で得られた、屈折率調整層(X)/ハードコート層(Y)/シクロオレフィンポリマーフィルム(Z1)/アンチブロッキング層、の構成の積層体を、巻き取り式スパッタリング装置に投入して、屈折率調整層(X1)の上面に、厚みが30nmのITO層(非晶質)を形成した。具体的には、アルゴンガス98%および酸素ガス2%を導入した気圧0.4Paの真空雰囲気下で、97質量%の酸化インジウムおよび3質量%の酸化スズの焼結体からなるITOターゲットを用いて、屈折率調整層(X1)に対してスパッタリングを実施した。
上記のようにして、ITO層/屈折率調整層(X)/ハードコート層(Y)/シクロオレフィンポリマーフィルム(Z1)/アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
(Formation of ITO layer)
Subsequently, the laminate of the configuration of the refractive index adjustment layer (X) / hard coat layer (Y) / cycloolefin polymer film (Z1) / antiblocking layer obtained above is introduced into a take-up type sputtering apparatus. Then, an ITO layer (amorphous) having a thickness of 30 nm was formed on the upper surface of the refractive index adjustment layer (X1). Specifically, an ITO target consisting of a sintered body of 97% by mass of indium oxide and 3% by mass of tin oxide is used under a vacuum atmosphere at an atmospheric pressure of 0.4 Pa into which 98% of argon gas and 2% of oxygen gas are introduced. Then, sputtering was performed on the refractive index adjustment layer (X1).
As described above, a transparent conductive film having a constitution of ITO layer / refractive index adjustment layer (X) / hard coat layer (Y) / cycloolefin polymer film (Z1) / antiblocking layer was produced.

実施例13
比較例5において、ハードコート層(Y)の代わりに、ハードコート層(Y−1)を形成したこと以外は比較例5と同様にして、ITO層/屈折率調整層(X1)/ハードコート層(Y−1)/シクロオレフィンポリマーフィルム(Z1)/アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
を作製した。
Example 13
ITO layer / refractive index adjustment layer (X1) / hard coat in the same manner as in Comparative Example 5 except that the hard coat layer (Y-1) is formed instead of the hard coat layer (Y) in Comparative Example 5 The transparent conductive film of the structure of layer (Y-1) / cycloolefin polymer film (Z1) / anti blocking layer was produced.
Was produced.

なお、ハードコート層(Y−1)の形成は、ハードコート層(Y)の形成において、紫外線硬化型アクリル樹脂(DIC社製、「ELS888」)100重量部に対して、さらに、製造例2で得られた色素化合物(C2)を2重量部添加して調製した組成物溶液(Y−1)を用いたこと以外はハードコート層(Y)の形成と同様の操作を行った。ハードコート層(Y−1)中のベースポリマー(100重量%)に対して、色素化合物(C2)の添加量は2.0重量%であった。   In the formation of the hard coat layer (Y), the formation of the hard coat layer (Y-1) further includes Production Example 2 with respect to 100 parts by weight of an ultraviolet curable acrylic resin (manufactured by DIC, “ELS 888”). The same operation as in the formation of the hard coat layer (Y) was carried out except using the composition solution (Y-1) prepared by adding 2 parts by weight of the dye compound (C2) obtained in 1. above. The addition amount of the dye compound (C2) was 2.0% by weight with respect to the base polymer (100% by weight) in the hard coat layer (Y-1).

実施例14
比較例5において、屈折率調整層(X)の代わりに、屈折率調整層(X−1)を形成したこと以外は比較例5と同様にして、ITO層/屈折率調整層(X−1)/ハードコート層(Y)/シクロオレフィンポリマーフィルム(Z1)/アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
を作製した。
Example 14
In Comparative Example 5, an ITO layer / refractive index adjusting layer (X-1) was prepared in the same manner as Comparative Example 5 except that a refractive index adjusting layer (X-1) was formed instead of the refractive index adjusting layer (X). The transparent conductive film of the structure of / hard-coat layer (Y) / cycloolefin polymer film (Z1) / anti blocking layer was produced.
Was produced.

なお、屈折率調整層(X−1)の形成は、屈折率調整層(X)の形成において、組成物溶液(X)の代わりに、無機粒子含有樹脂溶液(JSR社製、「KZ7412」)100重量部に、プロピレングリコールモノメチルエーテル700重量部を混合して、さらに、製造例2で得られた色素化合物(C2)を前記樹脂溶液中の樹脂固形成分に対して、5重量部となるように混合して調整した組成物溶液(X−1)を用いたこと以外は屈折率調整層(X)の形成と同様の操作を行った。屈折率調整層(X−1)中のベースポリマー重量(100重量%)に対して、色素化合物(C2)の添加量は5.0重量%であった。   The formation of the refractive index adjusting layer (X-1) is a resin solution containing inorganic particles ("KZ7412" manufactured by JSR Corporation) in place of the composition solution (X) in the formation of the refractive index adjusting layer (X). 700 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether is mixed with 100 parts by weight, and the pigment compound (C2) obtained in Production Example 2 is further added to 5 parts by weight with respect to the resin solid component in the resin solution. The same operation as in the formation of the refractive index adjusting layer (X) was carried out except that the composition solution (X-1) prepared by mixing the above was used. The addition amount of the dye compound (C2) was 5.0% by weight based on the weight (100% by weight) of the base polymer in the refractive index adjusting layer (X-1).

実施例15
比較例5において、屈折率調整層(X)の代わりに、屈折率調整層(X−2)を形成したこと以外は比較例5と同様にして、ITO層/屈折率調整層(X−2)/ハードコート層(Y)/シクロオレフィンポリマーフィルム(Z1)/アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
を作製した。
Example 15
In Comparative Example 5, an ITO layer / refractive index adjusting layer (X-2) was prepared in the same manner as Comparative Example 5 except that a refractive index adjusting layer (X-2) was formed instead of the refractive index adjusting layer (X). The transparent conductive film of the structure of / hard-coat layer (Y) / cycloolefin polymer film (Z1) / anti blocking layer was produced.
Was produced.

なお、屈折率調整層(X−2)の形成は、屈折率調整層(X)の形成において、組成物溶液(X)の代わりに、無機粒子含有樹脂溶液(東洋インキ社製、「TYZ68−A12」)100重量部に、プロピレングリコールモノメチルエーテル700重量部を混合して、さらに、製造例2で得られた色素化合物(C2)2重量部を前記樹脂溶液中の樹脂固形成分に対して、5重量部となるように混合して調製した組成物溶液(X−2)を用いたこと以外は屈折率調整層(X1)の形成と同様の操作を行った。屈折率調整層(X−2)中のベースポリマー重量(100重量%)に対して、色素化合物(C2)の添加量は5.0重量%であった。   In the formation of the refractive index adjustment layer (X-2), in the formation of the refractive index adjustment layer (X), instead of the composition solution (X), an inorganic particle-containing resin solution (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., "TYZ68- A12 ′ ′) 700 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether is mixed with 100 parts by weight, and 2 parts by weight of the dye compound (C2) obtained in Production Example 2 with respect to the resin solid component in the resin solution The same operation as the formation of the refractive index adjusting layer (X1) was performed except that the composition solution (X-2) prepared by mixing so as to be 5 parts by weight was used. The addition amount of the dye compound (C2) was 5.0% by weight based on the weight (100% by weight) of the base polymer in the refractive index adjusting layer (X-2).

比較例6
(ポリエステルフィルム(Z2)の調製)
テレフタル酸ジメチルおよびエチレングリコールから、三酸化アンチモンを触媒として常法により重合を行い、溶融重合ポリエチレンテレフタレートを得た。得られたポリエチレンテレフタレートを160℃で2時間真空乾燥した後、フィルム溶融押出成形機に投入し、290℃で溶融させ、キャスティングドラム上に押出後、延伸することで、厚み50μmのポリエステルフィルム(Z2)を得た。
Comparative example 6
(Preparation of polyester film (Z2))
Polymerization was carried out from dimethyl terephthalate and ethylene glycol in the usual manner using antimony trioxide as a catalyst to obtain a melt-polymerized polyethylene terephthalate. The obtained polyethylene terephthalate is vacuum dried at 160 ° C. for 2 hours, charged into a film melt extrusion molding machine, melted at 290 ° C., extruded on a casting drum, and stretched to give a 50 μm thick polyester film (Z2 Got).

(アンチブロッキング層の形成)
上記ポリエステルフィルム(Z2)の片面に、比較例5と同様にして、膜厚1.5μmのアンチブロッキング層(AB層)を形成した。
(Formation of anti-blocking layer)
In the same manner as in Comparative Example 5, an antiblocking layer (AB layer) having a film thickness of 1.5 μm was formed on one side of the polyester film (Z2).

(クラック防止層(Q)の形成)
ゴム変性エポキシ樹脂(エポキシ樹脂骨格部分の重量平均分子量:2000)を主成分とするアデカフィルテラBUR−12A(ADEKA社製)を10重量部、アンチモン系硬化促進剤であるアデカフィルテラBUR−12B(ADEKA社製)を0.001部混合し、この混合物に対してメチルイソブチルケトンを90重量部添加して全体が100重量部となるように組成物溶液(Q)を調製した。当該組成物溶液(Q)を170℃にて加熱した際のゲル化時間は10秒であった。次いで、上記ポリエステルフィルム(Z2)において上記アンチブロッキング層を形成した面とは逆面に、前記組成物溶液(Q)を塗布して、195℃で1分間の条件で乾燥させることにより、厚み30nmのクラック防止層(Q)をポリエステルフィルム(Z2)の上面に形成した。
(Formation of crack prevention layer (Q))
10 parts by weight of Adekafiltera BUR-12A (made by Adeka) containing rubber modified epoxy resin (weight average molecular weight of epoxy resin skeleton part: 2000) as a main component, Adekafiltera BUR-12B which is an antimony-based curing accelerator 0.001 parts (manufactured by ADEKA) was mixed, and 90 parts by weight of methyl isobutyl ketone was added to the mixture to prepare a composition solution (Q) so that the whole amounted to 100 parts by weight. The gelation time when the composition solution (Q) was heated at 170 ° C. was 10 seconds. Next, the composition solution (Q) is applied to the side of the polyester film (Z2) opposite to the side on which the antiblocking layer is formed, and dried at 195 ° C. for 1 minute to obtain a thickness of 30 nm. Crack prevention layer (Q) was formed on the upper surface of the polyester film (Z2).

(ITO層の形成)
次いで、上記で得られた、クラック防止層(Q)/ポリエステルフィルム(Z2)/アンチブロッキング層、の構成の積層体を、巻き取り式スパッタリング装置に投入して、クラック防止層(Y2)の上面に、厚みが30nmのITO層(非晶質)を形成した。具体的には、アルゴンガス98%および酸素ガス2%を導入した気圧0.4Paの真空雰囲気下で、97質量%の酸化インジウムおよび3質量%の酸化スズの焼結体からなるITOターゲットを用いて、クラック防止層(Q)に対してスパッタリングを実施した。
上記のようにして、ITO層/クラック防止層(Q)/ポリエステルフィルム(Z2)/アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
(Formation of ITO layer)
Then, the laminate of the structure of anti-crack layer (Q) / polyester film (Z2) / anti-blocking layer obtained above is introduced into a take-up type sputtering apparatus, and the upper surface of anti-crack layer (Y2) Then, an ITO layer (amorphous) having a thickness of 30 nm was formed. Specifically, an ITO target consisting of a sintered body of 97% by mass of indium oxide and 3% by mass of tin oxide is used under a vacuum atmosphere at an atmospheric pressure of 0.4 Pa into which 98% of argon gas and 2% of oxygen gas are introduced. Then, sputtering was performed on the crack prevention layer (Q).
As described above, a transparent conductive film having a constitution of ITO layer / anti-crack layer (Q) / polyester film (Z2) / anti-blocking layer was produced.

実施例16
比較例6において、ポリエステルフィルム(Z2)の代わりに、ポリエステルフィルム(Z2−1)を用いたこと以外は比較例6と同様にして、ITO層/クラック防止層(Q)/ポリエステルフィルム(Z2−1)/アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
Example 16
ITO layer / anti-crack layer (Q) / polyester film (Z2-) in the same manner as in Comparative Example 6 except that polyester film (Z2-1) was used instead of polyester film (Z2) in Comparative example 6. The transparent conductive film of the structure of 1) / anti blocking layer was produced.

なお、ポリエステルフィルム(Z2−1)は、ポリエステルフィルム(Z2)の調製にあたり、得られたポリエチレンテレフタレート100重量部に対して、さらに、製造例2で得られた色素化合物(C2)を1重量部添加した組成物を用いて成膜したこと以外は、ポリエステルフィルム(Z2)の調製と同様の操作を行って得たものを用いた。ポリエステルフィルム(Z2−1)中のべースポリマー重量(100重量%)に対して、色素化合物(C2)の添加量は、1重量%であった。   In the preparation of the polyester film (Z2), the polyester film (Z2-1) further contains 1 part by weight of the dye compound (C2) obtained in Production Example 2 with respect to 100 parts by weight of the obtained polyethylene terephthalate. What was obtained by performing the same operation as preparation of a polyester film (Z2) was used except forming into a film using the added composition. The addition amount of a pigment compound (C2) was 1 weight% with respect to the base polymer weight (100 weight%) in a polyester film (Z2-1).

実施例17
比較例6において、易接着層(R−1)をさらに設けたこと以外は比較例6と同様にして、ITO層/クラック防止層(Q)/易接着層(R−1)/ポリエステルフィルム(Z2)/アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
を作製した。
Example 17
In Comparative Example 6, in the same manner as in Comparative Example 6 except that an easy adhesion layer (R-1) was additionally provided, an ITO layer / anti-crack layer (Q) / easy adhesion layer (R-1) / polyester film ( The transparent conductive film of the structure of Z2 / anti blocking layer was produced.
Was produced.

なお、易接着層(R−1)は下記方法で設けた。易接着層形成用組成物(R−1)は、フタル酸エステル(フタル酸/エチレングリコール・プロピレングリコールの反応物)、メタクリル酸、オキサゾリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、メラミンから形成された樹脂100重量部に対し、製造例2で得られた色素化合物(C2)を5重量部添加することで調製した。次いで、上記ポリエステルフィルム(Z2)において上記アンチブロッキング層を形成した面とは逆面に、前記易接着組成物(R−1)を塗布して、195℃で1分間の条件で乾燥させることにより、厚み0.1μmの易接着層(R−1)を形成した。次いで、クラック防止層(Y2)を、易接着層(R−1)上に設けた。易接着層(R−1)中のベースポリマー重量(100重量%)に対して、色素化合物(C2)の添加量は5重量%であった。   In addition, the easily bonding layer (R-1) was provided by the following method. The composition for easily bonding layer formation (R-1) is 100 weight of resin formed from phthalic acid ester (reactant of phthalic acid / ethylene glycol / propylene glycol), methacrylic acid, oxazoline, ethylene glycol, propylene glycol, melamine It prepared by adding 5 weight part of pigment compounds (C2) obtained by manufacture example 2 to a part. Then, the easy adhesion composition (R-1) is applied to the side of the polyester film (Z2) opposite to the side on which the antiblocking layer is formed, and dried at 195 ° C. for 1 minute. An easy-adhesion layer (R-1) having a thickness of 0.1 μm was formed. Subsequently, the crack prevention layer (Y2) was provided on the easily bonding layer (R-1). The addition amount of the dye compound (C2) was 5% by weight based on the weight (100% by weight) of the base polymer in the easily adhesive layer (R-1).

実施例18
比較例6において、クラック防止層(Y2)の代わりに、クラック防止層(Q−1)を形成したこと以外は比較例6と同様にして、ITO層/クラック防止層(Q−1)/ポリエステルフィルム(Z2)/アンチブロッキング層、の構成の透明導電性フィルムを作製した。
を作製した。
Example 18
ITO layer / crack preventing layer (Q-1) / polyester in the same manner as in Comparative Example 6 except that a crack preventing layer (Q-1) was formed instead of the crack preventing layer (Y2) in Comparative Example 6. The transparent conductive film of the structure of a film (Z2) / anti blocking layer was produced.
Was produced.

なお、クラック防止層(Q−1)の形成は、クラック防止層(Q)の形成において、組成物溶液(Q−1)の代わりに、ゴム変性エポキシ樹脂100重量部に対して、さらに、製造例2で得られた色素化合物(C2)を5重量部添加して調製した組成物溶液(Q−1)を用いたこと、さらに厚みを70nmとしたこと以外はクラック防止層(Q)の形成と同様の操作を行った。   In addition, the formation of the crack prevention layer (Q-1) is further manufactured with respect to 100 parts by weight of the rubber modified epoxy resin instead of the composition solution (Q-1) in the formation of the crack prevention layer (Q). The composition solution (Q-1) prepared by adding 5 parts by weight of the dye compound (C2) obtained in Example 2 was used, and the formation of a crack preventing layer (Q) except that the thickness was 70 nm. The same operation was performed.

(評価)
実施例13〜18及び比較例5,6で得られた透明導電性フィルムについて、以下の評価を行った。評価は以下の手法で行った。結果を表4、表5に示す。
(Evaluation)
The following evaluation was performed about the transparent conductive film obtained by Examples 13-18 and Comparative Examples 5 and 6. Evaluation was performed by the following method. The results are shown in Tables 4 and 5.

<透明導電性フィルムの透過率、色相の測定:初期値>
実施例及び比較例で得られた透明導電性フィルムを、切り出して試験片を作製した。試験片を透明導電層(ITO層)側から測定光が入光するように測定用治具に取り付け、反射型分光光度計(製品名:U4100、日立ハイテクノロジーズ社製)で測定した。波長380nm〜780nmの範囲における透過率(表5には、380nm、400nm、420nmの測定値を示す)、単体Y値、単体色相(L, a*, b)を測定した。
<Measurement of transmittance and hue of transparent conductive film: Initial value>
The transparent conductive films obtained in Examples and Comparative Examples were cut out to prepare test pieces. The test piece was attached to a measurement jig so that the measurement light was incident from the transparent conductive layer (ITO layer) side, and was measured with a reflection type spectrophotometer (product name: U4100, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). The transmittance in the wavelength range of 380 nm to 780 nm (Table 5 shows measured values at 380 nm, 400 nm and 420 nm), single Y value, single hue (L * , a * , b * ) was measured.

<透明導電性フィルムのITO層の表面抵抗値>
ITO層を成膜後に140℃で90分間の加熱処理を行ってITO層を結晶化することで、結晶質の透明導電性フィルムを作製した。結晶質の透明導電層の表面抵抗値(Ω/□)はJIS K7194(1994年)に準じて四端子法により測定した。
<Surface resistance of ITO layer of transparent conductive film>
After forming the ITO layer, a heat treatment was performed at 140 ° C. for 90 minutes to crystallize the ITO layer, whereby a crystalline transparent conductive film was produced. The surface resistance (Ω / □) of the crystalline transparent conductive layer was measured by the four-terminal method according to JIS K 7194 (1994).

Figure 0006510113
Figure 0006510113

1 光学積層体
2 粘接着剤層
3 透明保護フィルム
4 偏光子
5 位相差フィルム
6 粘着剤層
7 カバー部材
8 有機ELパネル
10 有機EL表示装置
20 透明導電性フィルム
21 透明基材フィルム
22 透明導電層を
23 中間層
24 アンチブロッキング層
REFERENCE SIGNS LIST 1 optical laminate 2 adhesive layer 3 transparent protective film 4 polarizer 5 retardation film 6 adhesive layer 7 cover member 8 organic EL panel 10 organic EL display device 20 transparent conductive film 21 transparent base film 22 transparent conductive film Layers 23 Interlayers 24 Antiblocking Layers

Claims (24)

ベースポリマー及び下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする光学部材用組成物。
Figure 0006510113
(一般式(1)中、mは1又は2を表し、
は、mが1のとき水素原子を表し、mが2のとき2価の連結基を表し、
は、下記一般式(2)で表される化合物のR 、R 403 又はR 404 から水素原子が1つ外れた基を表し、 は、一般式(2)中のR 、R 403 又はR 404 の部分に結合しており、mが2のとき、複数のDは、全て同じであってもよく、異なっていてもよい。
Figure 0006510113
(一般式(2)中、Rは、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。Rは、シアノ基を表す。
は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
402及びR403は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、−NR406407、−OR408、シアノ基、−C(O)R409、−O−C(O)R410又は−C(O)OR411を表し、
404〜R411は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。R404と、R405と、R404及びR405が結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環を形成してもよい。))
A composition for an optical member, comprising a base polymer and a compound represented by the following general formula (1).
Figure 0006510113
(In the general formula (1), m represents 1 or 2 ;
Q 1 represents a hydrogen atom when m is 1 and a divalent linking group when m is 2
D 1 represents R 1, hydrogen atom from R 403, or R 404 is out one group of the compound represented by the following general formula (2), Q 1 is R 1 in the general formula (2), it is bound to a portion of the R 403 or R 404, when m is 2, a plurality of D 1 may all be the same or may be different.
Figure 0006510113
(In General Formula (2), R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. R 2 represents a cyano group .
R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent.
R 402 and R 403 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, -NR 406 R 407 , -OR 408, a cyano group, -C (O) R 409, -O-C (O) R 410 or -C (O) oR 411,
R 404 to R 411 are the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. R 404 , R 405, and the nitrogen atom to which R 404 and R 405 are bonded may form a 4- to 8-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may have a substituent. )))
前記一般式(1)で表される化合物が、下記一般式(3)で表される化合物であることを特徴とする請求項に記載の光学部材用組成物。
Figure 0006510113
(一般式(3)中、R1aは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表し、R2aは、シアノ基を表す。
3aは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
402aは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、−NR406a407a、−OR408a、シアノ基、−C(O)R409a、−O−C(O)R410a又は−C(O)OR411aを表し、R404a〜R411aは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R404aと、R405aと、R404a及びR405aが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環を形成してもよい。
413は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表すか、又は、下記一般式(4)で表される基を表す。
Figure 0006510113
(一般式(4)中、Qは置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基を表し、*は一般式(3)との結合部位を表す。
1bは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表し、R2bは、シアノ基を表す。
3bは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
402bは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、−NR406b407b、−OR408b、シアノ基、−C(O)R409b、−O−C(O)R410b又は−C(O)OR411bを表し、R404b〜R411bは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R404bと、R405bと、R404b及びR405bが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環を形成してもよい。))
The composition for optical members according to claim 1 , wherein the compound represented by the general formula (1) is a compound represented by the following general formula (3).
Figure 0006510113
(In the general formula (3), R 1a is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent And R 2a represents a cyano group .
R 3a represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent .
R 402a is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, -NR 406a R 407a , -OR 408a , cyano group, -C (O) R 409a , -OC (O) R 410a or -C (O) OR 411a , wherein R 404a to R 411a are the same or different and hydrogen; This represents an atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. R 404 a , R 405 a, and the nitrogen atom to which R 404 a and R 405 a are bonded may form a 4- to 8-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may have a substituent.
R 413 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or This represents a group represented by formula (4).
Figure 0006510113
(In the general formula (4), Q 2 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent, and * represents a bonding site to the general formula (3).
R 1b represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and R 2b is cyano Represents a group .
R 3b represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent .
R 402b is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, -NR 406b R 407 b , -OR 408 b , cyano group, -C (O) R 409 b , -O-C (O) R 410 b or -C (O) OR 411 b , and R 404 b to R 411 b are the same or different and hydrogen; This represents an atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. R 404 b , R 405 b, and the nitrogen atom to which R 404 b and R 405 b are bonded may form a 4- to 8-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may have a substituent. )))
前記R413が、前記一般式(4)で表される基であることを特徴とする請求項に記載の光学部材用組成物。 The composition for an optical member according to claim 2 , wherein the R 413 is a group represented by the general formula (4). 前記一般式(1)で表される化合物が、下記一般式(5)で表される化合物であることを特徴とする請求項に記載の光学部材用組成物。
Figure 0006510113
(一般式(5)中、R2cは、シアノ基を表す。
3cは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
402c及びR403cは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、−NR406c407c、−OR408c、シアノ基、−C(O)R409c、−O−C(O)R410c又は−C(O)OR411cを表し、R404c〜R411cは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R404cと、R405cと、R404c及びR405cが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環を形成してもよい。
501は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、又は、下記一般式(6)で表される基を表す。
Figure 0006510113
(一般式(6)中、Qは、置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の炭化水素基を表し、*は一般式(5)との結合部位を表す。
2dは、シアノ基を表す。
3dは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。
402d及びR403dは、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基、−NR406d407d、−OR408d、シアノ基、−C(O)R409d、−O−C(O)R410d又は−C(O)OR411dを表し、R404d〜R411dは、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基又は置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリール基を表す。R404dと、R405dと、R404d及びR405dが結合している窒素原子とで、置換基を有していてもよい4〜8員の含窒素複素環を形成してもよい。))
The composition for an optical member according to claim 1 , wherein the compound represented by the general formula (1) is a compound represented by the following general formula (5).
Figure 0006510113
(In General Formula (5), R 2c represents a cyano group .
R 3c represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent .
R 402c and R 403c are the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent aryl group, -NR 406c R 407c, represent -OR 408 c, a cyano group, -C (O) R 409c, a -O-C (O) R 410c or -C (O) oR 411c, R 404c ~R 411c The same or different and each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. And R 404c, and R 405c, R 404c and R 405c together with the nitrogen to atom to which they are attached, may form a nitrogen-containing heterocycle 4-8 membered which may have a substituent.
R 501 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or the following general formula (6) Represents a group represented by).
Figure 0006510113
(In the general formula (6), Q 3 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent, and * represents a bonding site to the general formula (5).
R 2d represents a cyano group .
R 3d represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent .
R 402d and R 403d are the same or different, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent group, carbon atoms which may have a substituent having 6 to 20 aryl group, -NR 406d R 407d, represents -OR 408d, a cyano group, -C (O) R 409d, a -O-C (O) R 410d or -C (O) oR 411d, R 404d ~R 411d The same or different and each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent. R 404 d , R 405 d, and the nitrogen atom to which R 404 d and R 405 d are bonded may form a 4- to 8-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may have a substituent. )))
前記R501が、前記一般式(6)で表される基であることを特徴とする請求項に記載の光学部材用組成物。 The composition for an optical member according to claim 4 , wherein the R 501 is a group represented by the general formula (6). 前記一般式(1)で表される化合物は、吸収スペクトルの吸収極大波長が380〜430nmの波長領域に存在する色素化合物であることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の光学部材用組成物。 The compound according to any one of claims 1 to 5 , wherein the compound represented by the general formula (1) is a dye compound having an absorption maximum wavelength of an absorption spectrum in a wavelength region of 380 to 430 nm. Composition for members. さらに、紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の光学部材用組成物。 Furthermore, the ultraviolet absorber is contained, The composition for optical members in any one of the Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. 前記紫外線吸収剤の吸収スペクトルの吸収極大波長が、300〜400nmの波長領域に存在することを特徴とする請求項に記載の光学部材用組成物。 The composition for optical members according to claim 7 , wherein the absorption maximum wavelength of the absorption spectrum of the ultraviolet absorber is present in a wavelength range of 300 to 400 nm. 請求項1〜のいずれかに記載の光学部材用組成物から形成されることを特徴とする光学部材。 An optical member formed from the composition for an optical member according to any one of claims 1 to 8 . 光学フィルムとして用いられることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の光学部材。 The optical member according to any one of claims 1 to 9 , which is used as an optical film. 光学フィルム用粘着剤層又は接着剤層として用いられることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の光学部材。 The optical member according to any one of claims 1 to 9 , which is used as a pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive layer for an optical film. 前記光学フィルム用粘着剤層を形成する組成物が含有するベースポリマーが、(メタ)アクリル系ポリマーであることを特徴とする請求項11に記載の光学部材。 The optical member according to claim 11 , wherein the base polymer contained in the composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer for an optical film is a (meth) acrylic polymer. 光学フィルムに設けられる表面処理層として用いられることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の光学部材。 The optical member according to any one of claims 1 to 9 , which is used as a surface treatment layer provided on an optical film. 前記光学フィルムが、偏光フィルム、偏光子、偏光子用透明保護フィルム、又は位相差フィルムであることを特徴とする請求項10〜13のいずれかに記載の光学部材。 The optical member according to any one of claims 10 to 13 , wherein the optical film is a polarizing film, a polarizer, a transparent protective film for a polarizer, or a retardation film. 偏光子及び位相差フィルムを含む光学積層体であって、
前記光学積層体が、請求項9〜14のいずれかに記載の光学部材を含有する光学積層体(1)であることを特徴とする光学積層体。
An optical laminate comprising a polarizer and a retardation film,
An optical laminate characterized in that the optical laminate is an optical laminate (1) containing the optical member according to any one of claims 9 to 14 .
画像表示部及び請求項9〜14のいずれかに記載の光学部材又は請求項15記載の光学積層体(1)を有することを特徴とする画像表示装置。 An image display apparatus comprising an image display unit, the optical member according to any one of claims 9 to 14 or the optical laminate (1) according to claim 15 . 前記光学部材又は光学積層体(1)は画像表示部よりも視認側に設けられていることを特徴とする請求項16記載の画像表示装置。 17. The image display apparatus according to claim 16, wherein the optical member or the optical laminate (1) is provided on the viewing side of the image display unit. 画像表示装置が、
視認側から、少なくとも、偏光子及び位相差フィルムをこの順に含む光学積層体、並びに前記画像表示部として有機ELパネルを、含む有機EL表示装置であって、
前記光学積層体が、請求項9〜14のいずれかに記載の光学部材又は請求項16記載の光学積層体(1)を含有することを特徴とする請求項17又は18記載の画像表示装置。
The image display device
An optical laminate including at least a polarizer and a retardation film in this order from the viewing side, and an organic EL display including an organic EL panel as the image display unit,
The image display device according to claim 17 or 18, wherein the optical laminate contains the optical member according to any one of claims 9 to 14 or the optical laminate (1) according to claim 16.
透明基材フィルム及び透明導電層を有する透明導電性フィルムにおいて、前記透明基材フィルム、又は前記透明基材フィルムと透明導電層との間に設けられる中間層として用いられることを特徴とする請求項記載の光学部材。 A transparent conductive film having a transparent substrate film and a transparent conductive layer, which is used as the transparent substrate film or an intermediate layer provided between the transparent substrate film and the transparent conductive layer. The optical member of 9 . 前記中間層が、屈折率調整層、易接着剤層、ハードコート層及びクラック防止層から選ばれるいずれか少なくとも1つであることを特徴とする請求項19記載の光学部材。 20. The optical member according to claim 19 , wherein the intermediate layer is at least one selected from a refractive index adjustment layer, an easily adhesive layer, a hard coat layer and a crack prevention layer. 透明基材フィルム及び透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、前記透明基材フィルム、又は前記透明基材フィルムとの間に設けられる中間層として、請求項19又は20記載の光学部材を含有することを特徴とする透明導電性フィルム。 The optical member according to claim 19 or 20 , which is a transparent conductive film having a transparent substrate film and a transparent conductive layer, as an intermediate layer provided between the transparent substrate film or the transparent substrate film. A transparent conductive film characterized by containing. 画像表示部及び請求項21記載の透明導電性フィルムを含有することを特徴とする画像表示装置。 An image display device comprising the image display unit and the transparent conductive film according to claim 21 . 前記透明導電性フィルムは画像表示部よりも視認側に設けられていることを特徴とする請求項22記載の画像表示装置。 The image display apparatus according to claim 22, wherein the transparent conductive film is provided on the viewing side of the image display unit. 画像表示装置が、前記画像表示部として有機ELパネルを含む有機EL表示装置であることを特徴とする請求項22又は23記載の画像表示装置。 The image display apparatus according to claim 22 or 23 , wherein the image display apparatus is an organic EL display apparatus including an organic EL panel as the image display unit.
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