JP6098234B2 - Organic electroluminescence display device - Google Patents

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Description

本発明は、輝度ムラの発生を防止し、生産性が良好な有機エレクトロルミネッセンス表示装置、および有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタに関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence display device that prevents occurrence of luminance unevenness and good productivity, and a color filter for an organic electroluminescence display device.

有機エレクトロルミネッセンス(以下、有機ELと略す。)表示装置は、自己発色により視認性が高いこと、液晶表示装置と異なり全固体ディスプレイであるため耐衝撃性に優れていること、応答速度が速いこと、温度変化による影響が少ないこと、および視野角が大きいことなどの利点が注目されている。   An organic electroluminescence (hereinafter abbreviated as “organic EL”) display device has high visibility due to self-coloring, and, unlike a liquid crystal display device, is an all-solid-state display, has excellent impact resistance, and has a high response speed. Attention has been focused on advantages such as little influence from temperature changes and a large viewing angle.

有機EL表示装置は、主として車載ナビゲーション、携帯電話、デジタルカメラなどの数インチ程度の小さな画面用として実用化されてきたが、近時、薄型テレビに代表されるように例えば20インチ以上の大画面化の開発が要望されるようになってきている。   Organic EL display devices have been put to practical use mainly for small screens of about several inches such as in-vehicle navigation, mobile phones, digital cameras, etc., but recently, large screens of, for example, 20 inches or more as represented by flat-screen televisions. Development of computerization has been demanded.

しかしながら、有機EL表示装置を例えば20インチ以上の大画面とする場合、画面の外周部と中央部では各画素に駆動電流を供給するための配線長さが極端に異なってくる。そのため、画面の中央部では、画面の外周部と比較して電圧降下の度合いが大きく、輝度ムラが発生してしまうという不都合が生じる。大画面化を図れば図るほどこの傾向は顕著となる。特に、駆動電流を供給する配線は発光層を含む有機EL層の上に形成されたITO等の透明電極層を経て導通され、このITOは例えば金属Cuなどと比べて抵抗が大きく、このためITOの電圧降下の影響が大きい。   However, when the organic EL display device has a large screen of, for example, 20 inches or more, the wiring length for supplying drive current to each pixel is extremely different between the outer peripheral portion and the central portion of the screen. For this reason, in the central portion of the screen, the degree of voltage drop is larger than that of the outer peripheral portion of the screen, resulting in inconvenience that luminance unevenness occurs. This tendency becomes more prominent as the screen becomes larger. In particular, the wiring for supplying the drive current is conducted through a transparent electrode layer such as ITO formed on the organic EL layer including the light emitting layer, and this ITO has a larger resistance than, for example, metal Cu, and therefore ITO. The effect of voltage drop is great.

なお、有機EL表示装置の駆動方式としては、パッシブマトリクス方式とアクティブマトリクス方式とがあるが、前者は、構造が単純であるものの、大型化かつ高精細の表示装置の実現が難しいなどの問題があり、大型化を図るためには、後者のアクティブマトリクス方式の開発が盛んに行なわれている。アクティブマトリクス方式では、画素ごとに配した有機EL素子に流れる電流を、有機EL素子ごとに設けた駆動回路内のTFT(Thin Film Transistor)によって制御するようになっている。   In addition, there are a passive matrix method and an active matrix method as a driving method of the organic EL display device, but the former has a problem that it is difficult to realize a large-sized and high-definition display device although the structure is simple. In order to increase the size, the latter active matrix system has been actively developed. In the active matrix system, a current flowing in an organic EL element arranged for each pixel is controlled by a TFT (Thin Film Transistor) in a drive circuit provided for each organic EL element.

特許第4489472号公報Japanese Patent No. 4489472 特許第4367346号公報Japanese Patent No. 4367346 特開2009−26828号公報JP 2009-26828 A 特開2011−96682号公報JP 2011-96682 A

特許文献1には、大型化しても上部透明電極層に起因する電圧降下による発光輝度ムラを生じさせないことを目的の一つとして、第1の基板に形成された素子分離用バンク上に位置する上部電極層と第2の基板に形成された導電性遮光パターンとが電気的に接続されるように第1の基板と第2の基板とを対向配置させ、少なくとも上記上部電極層または上記導電性遮光パターンが給電点に接続されてなる有機EL表示装置の開示がなされている。   In Patent Document 1, even if the size is increased, it is positioned on the element isolation bank formed on the first substrate for the purpose of preventing unevenness in light emission luminance due to a voltage drop caused by the upper transparent electrode layer. The first substrate and the second substrate are arranged to face each other so that the upper electrode layer and the conductive light-shielding pattern formed on the second substrate are electrically connected, and at least the upper electrode layer or the conductive layer is disposed. An organic EL display device in which a light shielding pattern is connected to a feeding point has been disclosed.

しかしながら、特許文献1では、柱状の突起である素子分離用バンクが、TFTや有機EL層が形成されている第1の基板側に形成されている。TFTや有機EL層が形成されているために第1の基板側は複雑な構成になっており、この上に素子分離用バンクを設けることは反対側の第2の基板側に設けるプロセスと比較して、歩留まりが低下する確率は極めて高いと言える。そして、第1の基板側の歩留まり低下は、複雑な工程を経て形成され、工程数が多いTFTや有機EL層の形成工程を無駄にすることにも通じ、コスト的なダメージが極めて大きいといえる。また、一対の電極層によって挟持された状態にある有機EL層を備える有機EL素子は、通常、有機EL素子を保護するための封止層によって覆われて保護されており、この封止層の存在をも考慮していかように被覆された電極層との導通を図るかを技術的に考察する必要がある。   However, in Patent Document 1, an element isolation bank, which is a columnar protrusion, is formed on the first substrate side on which a TFT or an organic EL layer is formed. Since the TFT and the organic EL layer are formed, the first substrate side has a complicated configuration, and the provision of the element isolation bank on this is compared with the process provided on the opposite second substrate side. Thus, it can be said that the probability that the yield decreases is extremely high. Further, the yield reduction on the first substrate side is extremely complicated because it is formed through a complicated process, and the process of forming the TFT and the organic EL layer having a large number of processes is wasted. . An organic EL element including an organic EL layer sandwiched between a pair of electrode layers is usually covered and protected by a sealing layer for protecting the organic EL element. It is necessary to technically consider how to establish conduction with the coated electrode layer in consideration of its existence.

また、特許文献2には、電源配線及び第2電極層の更なる低抵抗化を可能ならしめ、表示の輝度ムラを低減し、高輝度化、高コントラスト化を図った高出力品位の有機EL装置等の電気光学装置の提案がなされているが、当該提案においても、やはり上記特許文献1と同様な問題が生じ得る。   Further, Patent Document 2 discloses a high-output-quality organic EL that enables further reduction in resistance of the power supply wiring and the second electrode layer, reduces unevenness in display brightness, and achieves higher brightness and higher contrast. Although an electro-optical device such as a device has been proposed, the same problem as in Patent Document 1 can also occur in this proposal.

また、特許文献3には、対向電極層の電位の面内均一性を高めることを目的として開発された上面発光型の有機EL表示装置の提案がなされているが、やはり当該提案においても、上記特許文献1と同様な問題が生じ得る。   Patent Document 3 proposes a top emission type organic EL display device developed for the purpose of enhancing the in-plane uniformity of the potential of the counter electrode layer. The same problem as in Patent Document 1 may occur.

また、特許文献4には、透明電極層の実効的な抵抗値を下げることができ、有機EL層に対して均一な電圧を加えることが可能となるため、表示ムラなどの表示不良を防ぐことができる発光装置の提案がなされているが、当該提案においても、やはり上記特許文献1と同様な問題が生じ得る。   In Patent Document 4, since the effective resistance value of the transparent electrode layer can be lowered and a uniform voltage can be applied to the organic EL layer, display defects such as display unevenness can be prevented. Although the proposal of the light-emitting device which can do is made | formed, the problem similar to the said patent document 1 may arise also in the said proposal.

本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、輝度ムラを防止することができ、生産性が良好な有機EL表示装置およびこれに用いられる有機EL表示装置用カラーフィルタを提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and mainly provides an organic EL display device which can prevent luminance unevenness and has good productivity, and a color filter for the organic EL display device used therefor. Objective.

上記課題を解決するために、本発明は、透明基板、上記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層、上記透明基板上の上記低反射層の上記開口部に形成された着色層、ならびに、上記低反射層上に形成された金属電極層、および上記着色層上に形成され上記金属電極層と電気的に接続する接続電極層を有する補助電極層を備えるカラーフィルタと、基板、ならびに、上記基板上に形成された下面電極層、上記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機EL層、および上記有機EL層上に形成された上面透明電極層を有する有機EL素子を備える有機EL素子側基板と、を有し、上記カラーフィルタの上記着色層側表面と上記有機EL素子側基板の上記有機EL素子側表面とが対向するように配置され、上記接続電極層と上記上面透明電極層とが導通するように接触していることを特徴とする有機EL表示装置を提供する。   In order to solve the above problems, the present invention provides a transparent substrate, a low reflection layer formed on the transparent substrate and having an opening, a colored layer formed in the opening of the low reflection layer on the transparent substrate, And a color filter comprising a metal electrode layer formed on the low reflection layer, and an auxiliary electrode layer having a connection electrode layer formed on the colored layer and electrically connected to the metal electrode layer, a substrate, and A bottom electrode layer formed on the substrate, an organic EL layer formed on the bottom electrode layer and including a light emitting layer, and an organic EL element having a top transparent electrode layer formed on the organic EL layer. An organic EL element side substrate, and is arranged so that the colored layer side surface of the color filter and the organic EL element side surface of the organic EL element side substrate face each other, and the connection electrode layer and the upper surface Transparent An organic EL display device, wherein a and the layer in contact to conduct.

本発明によれば、上記補助電極層を有し、上記接続電極層が比較的面積の広い着色層上に接続電極層が形成されていることから、輝度ムラを好適に防止することができる有機EL表示装置とすることができる。
また、本発明によれば、接続電極層が着色層上に形成され、上面透明電極層と導通するように接触されていることにより、例えば柱部等の接続電極層および上面透明電極層を接触させるための他の部材を必要としないため、有機EL表示装置の製造工程数を少なくすることができ、生産性が良好な有機EL表示装置とすることができる。
According to the present invention, since the connection electrode layer is formed on the colored layer having the auxiliary electrode layer and the connection electrode layer having a relatively large area, it is possible to suitably prevent luminance unevenness. An EL display device can be obtained.
In addition, according to the present invention, the connection electrode layer is formed on the colored layer and is in contact with the upper transparent electrode layer so that the connection electrode layer such as a column and the upper transparent electrode layer are in contact with each other. Therefore, the number of manufacturing steps of the organic EL display device can be reduced, and an organic EL display device with good productivity can be obtained.

上記発明においては、上記着色層が、白色着色層を含む複数色の着色層を有し、厚膜の着色層および薄膜の着色層で構成されており、上記厚膜の着色層が、上記白色着色層および他の1色の着色層の積層体であり、上記厚膜の着色層上に形成された上記接続電極層と上記上面透明電極層とが導通するように接触していることが好ましい。有機EL表示装置において、薄膜の着色層と有機EL素子との間に空間を設けることができ、上記空間に異物を包含させることができるため、接続電極層および上面透明電極層の接触面に異物が混入することを抑制し、有機EL素子の劣化を抑制することができるからである。また、厚膜の着色層が上述した積層体であることにより、簡便な方法で所望の厚膜の着色層を形成することができるからである。   In the above invention, the colored layer has a plurality of colored layers including a white colored layer, and is composed of a thick colored layer and a thin colored layer, and the thick colored layer is the white colored layer. It is a laminate of a colored layer and another colored layer of one color, and it is preferable that the connection electrode layer formed on the thick colored layer is in contact with the upper transparent electrode layer. . In the organic EL display device, a space can be provided between the colored layer of the thin film and the organic EL element, and foreign matter can be included in the space. Therefore, the contact surface of the connection electrode layer and the upper transparent electrode layer has foreign matter. This is because it is possible to suppress contamination of the organic EL element and to prevent deterioration of the organic EL element. Further, when the thick colored layer is the above-described laminate, a desired thick colored layer can be formed by a simple method.

上記発明においては、上記接続電極層が、上記低反射層と平面視上重なる上記着色層上に形成され、上記低反射層の上記開口部と平面視上重なる接続電極層用開口部を有していてもよい。接続電極層として、透明性を有さない金属材料等を用いることができることから、接続電極層および金属電極層を一体に形成することができるので、有機EL表示装置の製造工程数をより少ないものとし、より生産性の高い有機EL表示装置とすることができるからである。   In the above invention, the connection electrode layer is formed on the colored layer overlapping the low reflection layer in a plan view, and has an opening for the connection electrode layer overlapping the opening of the low reflection layer in a plan view. It may be. Since a metal material having no transparency can be used as the connection electrode layer, the connection electrode layer and the metal electrode layer can be formed integrally, so that the number of manufacturing steps of the organic EL display device is reduced. This is because an organic EL display device with higher productivity can be obtained.

本発明は、透明基板と、上記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層と、上記透明基板上の上記低反射層の上記開口部に形成された着色層と、上記低反射層上に形成された金属電極層、および上記着色層上に形成され上記金属電極層と電気的に接続する接続電極層を有する補助電極層とを備えることを特徴とする有機EL表示装置用カラーフィルタを提供する。   The present invention provides a transparent substrate, a low reflection layer formed on the transparent substrate and having an opening, a colored layer formed in the opening of the low reflection layer on the transparent substrate, and the low reflection layer A color filter for an organic EL display device, comprising: a metal electrode layer formed on the substrate; and an auxiliary electrode layer formed on the colored layer and having a connection electrode layer electrically connected to the metal electrode layer. provide.

本発明によれば、上記補助電極層を有し、上記接続電極層が比較的面積の広い着色層上に接続電極層が形成されていることから、有機EL表示装置に用いた場合に、輝度ムラを好適に防止することができる有機EL表示装置用カラーフィルタとすることができる。
また、本発明によれば、接続電極層が着色層上に形成されていることから、有機EL表示装置において接続電極層および有機EL素子側基板の上面透明電極層を導通するように接触させる場合に、例えば柱部等の接続電極層および上面透明電極層を接触させるための他の部材を必要としない。よって、有機EL表示装置用カラーフィルタの製造工程数を少なくすることができ、生産性が良好な有機EL表示装置用カラーフィルタとすることができる。
According to the present invention, since the connection electrode layer is formed on the colored layer having the auxiliary electrode layer and the connection electrode layer having a relatively large area, the luminance is increased when used in an organic EL display device. It can be set as the color filter for organic EL display apparatuses which can prevent a nonuniformity suitably.
According to the invention, since the connection electrode layer is formed on the colored layer, in the organic EL display device, the connection electrode layer and the upper surface transparent electrode layer of the organic EL element side substrate are brought into contact with each other so as to be conductive. In addition, for example, no other member for contacting the connection electrode layer such as a column and the upper transparent electrode layer is required. Therefore, the number of manufacturing steps of the color filter for organic EL display devices can be reduced, and the color filter for organic EL display devices with good productivity can be obtained.

上記発明においては、上記着色層が、白色着色層を含む複数色の着色層を有し、厚膜の着色層および薄膜の着色層で構成されており、上記厚膜の着色層が、上記白色着色層および他の1色の着色層の積層体であり、上記厚膜の着色層上に形成された上記接続電極層と上記上面透明電極層とが導通するように接触していることが好ましい。有機EL表示装置に用いた場合に、薄膜の着色層と有機EL素子との間に空間を設けることができ、上記空間に異物を包含させることができるため、接続電極層および上面透明電極層の接触面に異物が混入することを抑制し、有機EL素子の劣化を抑制することができるからである。また、厚膜の着色層が上述した積層体であることにより、簡便な方法で所望の厚膜の着色層を形成することができるからである。   In the above invention, the colored layer has a plurality of colored layers including a white colored layer, and is composed of a thick colored layer and a thin colored layer, and the thick colored layer is the white colored layer. It is a laminate of a colored layer and another colored layer of one color, and it is preferable that the connection electrode layer formed on the thick colored layer is in contact with the upper transparent electrode layer. . When used in an organic EL display device, a space can be provided between the colored layer of the thin film and the organic EL element, and foreign matter can be included in the space. Therefore, the connection electrode layer and the upper transparent electrode layer It is because it can suppress that a foreign material mixes in a contact surface, and can suppress deterioration of an organic EL element. Further, when the thick colored layer is the above-described laminate, a desired thick colored layer can be formed by a simple method.

上記発明においては、上記接続電極層が、上記低反射層と平面視上重なる上記着色層上に形成され、上記低反射層の上記開口部と平面視上重なる接続電極層用開口部を有していてもよい。接続電極層として、透明性を有さない金属材料等を用いることができるからである。   In the above invention, the connection electrode layer is formed on the colored layer overlapping the low reflection layer in a plan view, and has an opening for the connection electrode layer overlapping the opening of the low reflection layer in a plan view. It may be. This is because a metal material having no transparency can be used as the connection electrode layer.

本発明の有機EL表示装置は、輝度ムラを防止することができ、生産性が良好であるといった作用効果を奏する。また、本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタは上述した有機EL表示装置を提供することができるといった作用効果を奏する。   The organic EL display device of the present invention can prevent luminance unevenness, and has the effects of good productivity. Further, the color filter for an organic EL display device of the present invention has an effect that the above-described organic EL display device can be provided.

本発明の有機EL表示装置の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the organic electroluminescent display apparatus of this invention. 本発明の有機EL表示装置の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the organic electroluminescent display apparatus of this invention. 本発明の有機EL表示装置の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the organic electroluminescent display apparatus of this invention. 本発明の有機EL表示装置の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the organic electroluminescent display apparatus of this invention. 本発明の有機EL表示装置の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the organic electroluminescent display apparatus of this invention. 本発明の有機EL表示装置の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the organic electroluminescent display apparatus of this invention. 本発明の有機EL表示装置の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the organic electroluminescent display apparatus of this invention. 本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタの一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the color filter for organic EL display apparatuses of this invention. 本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the color filter for organic EL display apparatuses of this invention. 本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタの他の例を示す概略図である。It is the schematic which shows the other example of the color filter for organic electroluminescent display apparatuses of this invention. 本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the color filter for organic EL display apparatuses of this invention. 本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the color filter for organic EL display apparatuses of this invention. 本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the color filter for organic EL display apparatuses of this invention. 本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタの他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the color filter for organic EL display apparatuses of this invention.

以下、本発明の有機EL表示装置、および有機EL表示装置用カラーフィルタについて説明する。   Hereinafter, the organic EL display device and the color filter for the organic EL display device of the present invention will be described.

A.有機EL表示装置
本発明の有機EL表示装置は、透明基板、上記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層、上記透明基板上の上記低反射層の上記開口部に形成された着色層、ならびに、上記低反射層上に形成された金属電極層、および上記着色層上に形成され上記金属電極層と電気的に接続する接続電極層を有する補助電極層を備えるカラーフィルタと、基板、ならびに、上記基板上に形成された下面電極層、上記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機EL層、および上記有機EL層上に形成された上面透明電極層を有する有機EL素子を備える有機EL素子側基板と、を有し、上記カラーフィルタの上記着色層側表面と上記有機EL素子側基板の上記有機EL素子側表面とが対向するように配置され、上記接続電極層と上記上面透明電極層とが導通するように接触していることを特徴とするものである。
A. Organic EL Display Device The organic EL display device of the present invention includes a transparent substrate, a low reflection layer formed on the transparent substrate and having an opening, and a colored layer formed in the opening of the low reflection layer on the transparent substrate. A color filter comprising a metal electrode layer formed on the low reflection layer, and an auxiliary electrode layer having a connection electrode layer formed on the colored layer and electrically connected to the metal electrode layer, and a substrate, And an organic EL element having a lower electrode layer formed on the substrate, an organic EL layer including a light emitting layer formed on the lower electrode layer, and an upper transparent electrode layer formed on the organic EL layer. An organic EL element side substrate, and is arranged so that the colored layer side surface of the color filter and the organic EL element side surface of the organic EL element side substrate face each other, and the connection electrode layer and the above Up The surface transparent electrode layer is in contact with each other so as to be conductive.

なお、「接続電極層と上面透明電極層とが導通するように接触している」ことの説明については、後述する。   The description that “the connection electrode layer and the upper transparent electrode layer are in contact with each other” will be described later.

本発明の有機EL表示装置について図を用いて説明する。
図1は本発明の有機EL表示装置の一例を示す概略断面図である。図1に示すように、本発明の有機EL表示装置100は、透明基板11、透明基板11上に形成され開口部を有する低反射層12、透明基板11上の低反射層12の開口部に形成された着色層13(図1では赤色着色層13R、緑色着色層13G、青色着色層13B、および白色着色層13W)、ならびに、低反射層12上に形成された金属電極層14a、および着色層13上に形成され金属電極層14aと電気的に接続する接続電極層14bを有する補助電極層14を備えるカラーフィルタ10と、基板71、ならびに、基板71上に形成された下面電極層81、下面電極層81上に形成され、発光層を含む有機EL層83、および有機EL層83上に形成された上面透明電極層85を有する有機EL素子80を備える有機EL素子側基板70と、を有し、カラーフィルタ10の着色層13側表面と有機EL素子側基板70の有機EL素子80側表面とが対向するように配置され、接続電極層14bと上面透明電極層85とが導通するように接触していることを特徴とするものである。また、図1に示すように、有機EL素子側基板70は、通常、基板71上に形成されたTFT75、TFT75上に形成された第1絶縁層77、および下面電極層81と上面透明電極層85との接触を防止するために基板71上に形成された第2絶縁層91を有する。また、カラーフィルタ10と有機EL素子側基板70との間には、接着剤層99が形成されていてもよい。また、有機EL表示装置100は、電源Pの一方の極から各々のTFT75に至る配線201と、電源Pの他方の極から上面透明電極層85に至る配線202−203と、電源Pの他方の極から補助電極層14に至る配線202−204と、を有する。
図1では、着色層13が、厚膜の着色層13’と、薄膜の着色層13”とで構成され、厚膜の着色層13’が単層の着色層(赤色着色層13R)であり、厚膜の着色層13’上に形成された接続電極層14bと上面透明電極層85とが導通するように接触している例について示している。
また、接続電極層14bが透明電極層であり、全ての着色層13上に連続的に形成されている例について示している。
The organic EL display device of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of the organic EL display device of the present invention. As shown in FIG. 1, the organic EL display device 100 of the present invention includes a transparent substrate 11, a low reflective layer 12 formed on the transparent substrate 11 having an opening, and an opening of the low reflective layer 12 on the transparent substrate 11. The formed colored layer 13 (the red colored layer 13R, the green colored layer 13G, the blue colored layer 13B, and the white colored layer 13W in FIG. 1), the metal electrode layer 14a formed on the low reflective layer 12, and the colored A color filter 10 including an auxiliary electrode layer 14 having a connection electrode layer 14b formed on the layer 13 and electrically connected to the metal electrode layer 14a; a substrate 71; and a lower electrode layer 81 formed on the substrate 71; An organic EL element side substrate including an organic EL layer 83 formed on the lower electrode layer 81 and including a light emitting layer, and an organic EL element 80 having an upper transparent electrode layer 85 formed on the organic EL layer 83. 0, the colored layer 13 side surface of the color filter 10 and the organic EL element side substrate 70 of the organic EL element side substrate 70 face each other, and the connection electrode layer 14b and the upper surface transparent electrode layer 85 Are in contact with each other so as to be conductive. As shown in FIG. 1, the organic EL element side substrate 70 is generally composed of a TFT 75 formed on the substrate 71, a first insulating layer 77 formed on the TFT 75, a lower electrode layer 81, and an upper transparent electrode layer. In order to prevent contact with 85, a second insulating layer 91 is formed on the substrate 71. An adhesive layer 99 may be formed between the color filter 10 and the organic EL element side substrate 70. Further, the organic EL display device 100 includes a wiring 201 extending from one pole of the power supply P to each TFT 75, a wiring 202-203 extending from the other pole of the power supply P to the upper transparent electrode layer 85, and the other of the power supply P. Wiring 202-204 extending from the pole to the auxiliary electrode layer 14.
In FIG. 1, the colored layer 13 is composed of a thick colored layer 13 ′ and a thin colored layer 13 ″, and the thick colored layer 13 ′ is a single colored layer (red colored layer 13R). In this example, the connection electrode layer 14b formed on the thick colored layer 13 ′ and the upper transparent electrode layer 85 are in contact with each other so as to be conductive.
Further, the connection electrode layer 14b is a transparent electrode layer, and an example in which the connection electrode layer 14b is continuously formed on all the colored layers 13 is shown.

図2は本発明の有機EL表示装置の他の例を示す概略断面図である。図2では、着色層13が、白色着色層13Wを含む複数色の着色層13R、13G、13B、13Wを有し、厚膜の着色層13’および薄膜の着色層13”で構成されており、厚膜の着色層13’が、白色着色層13Wおよび他の1色の着色層(図2では赤色着色層13R)の積層体であり、厚膜の着色層13’上に形成された接続電極層14bと上面透明電極層85とが導通するように接触している例について示している。
なお、図2において説明していない符号については、図1で説明した符号と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing another example of the organic EL display device of the present invention. In FIG. 2, the colored layer 13 has a plurality of colored layers 13R, 13G, 13B, 13W including a white colored layer 13W, and is composed of a thick colored layer 13 ′ and a thin colored layer 13 ″. The thick colored layer 13 ′ is a laminate of the white colored layer 13W and another colored layer (red colored layer 13R in FIG. 2), and is formed on the thick colored layer 13 ′. An example in which the electrode layer 14b and the upper transparent electrode layer 85 are in contact with each other is shown.
Note that the reference numerals not described in FIG. 2 can be the same as the reference numerals described in FIG.

図3は本発明の有機EL表示装置の他の例を示す概略断面図である。図3では、接続電極層14bが、低反射層12と平面視上重なる着色層13上に形成され、低反射層12の開口部と平面視上重なる接続電極層用開口部を有する例について示している。
なお、図3において説明していない符号については、図1で説明した符号と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing another example of the organic EL display device of the present invention. FIG. 3 shows an example in which the connection electrode layer 14b has a connection electrode layer opening formed on the colored layer 13 overlapping the low reflection layer 12 in plan view and overlapping the opening of the low reflection layer 12 in plan view. ing.
Note that the reference numerals not described in FIG. 3 can be the same as the reference numerals described in FIG.

図4〜図6は、本発明の有機EL表示装置の他の例を示す概略断面図である。図4〜図6では、着色層13が同等の厚みを有する着色層13R、13G、13B、13Wで構成されている例について示している。また、図5では、有機EL素子側基板71が封止層95を有する例について示している。
なお、図4、図5で説明していない符号については、図1で説明した符号と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。また、図6で説明していない符号については、図3で説明した符号と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
4 to 6 are schematic cross-sectional views showing other examples of the organic EL display device of the present invention. FIGS. 4 to 6 show examples in which the colored layer 13 is composed of colored layers 13R, 13G, 13B, and 13W having the same thickness. FIG. 5 shows an example in which the organic EL element side substrate 71 has a sealing layer 95.
Note that the reference numerals not described in FIGS. 4 and 5 can be the same as the reference numerals described in FIG. 1, and thus the description thereof is omitted here. Also, the reference numerals not described in FIG. 6 can be the same as the reference numerals described in FIG.

図7は、本発明の有機EL表示装置の他の例を示す概略断面図である。図7では、カラーフィルタ10が、低反射層12および着色層13を覆うように形成されたオーバーコート層15を有する例について示している。なお、図7において説明していない符号については、図1で説明した符号と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing another example of the organic EL display device of the present invention. FIG. 7 shows an example in which the color filter 10 has an overcoat layer 15 formed so as to cover the low reflective layer 12 and the colored layer 13. In addition, about the code | symbol which is not demonstrated in FIG. 7, since it can be set as the code | symbol demonstrated in FIG. 1, description here is abbreviate | omitted.

本発明によれば、上記補助電極層を有し、上記接続電極層が比較的面積の広い着色層上に接続電極層が形成されていることから、輝度ムラを好適に防止することができる有機EL表示装置とすることができる。
また、本発明によれば、接続電極層が着色層上に形成され、上面透明電極層と導通するように接触されていることにより、例えば柱部等の接続電極層および上面透明電極層を接触させるための他の部材を必要としないため、有機EL表示装置の製造工程数を少なくすることができ、生産性が良好な有機EL表示装置とすることができる。
According to the present invention, since the connection electrode layer is formed on the colored layer having the auxiliary electrode layer and the connection electrode layer having a relatively large area, it is possible to suitably prevent luminance unevenness. An EL display device can be obtained.
In addition, according to the present invention, the connection electrode layer is formed on the colored layer and is in contact with the upper transparent electrode layer so that the connection electrode layer such as a column and the upper transparent electrode layer are in contact with each other. Therefore, the number of manufacturing steps of the organic EL display device can be reduced, and an organic EL display device with good productivity can be obtained.

より具体的には、本発明によれば、上記補助電極層を有することにより、有機EL素子側基板側からの電流を補助電極層を介してカラーフィルタ側に導いて逃すことができるため、輝度ムラの発生を防止することができる有機EL表示装置とすることができる。
また、本発明によれば、比較的面積の広い着色層上に接続電極層が形成されていることから、接続電極層および上面透明電極層の導通面積を大きくすることができるため、有機EL素子側基板側からカラーフィルタ側に電流を逃がしやすくすることができる。よって、上述した輝度ムラを好適に防止することができる有機EL表示装置とすることができる。
また、本発明によれば、接続電極層が着色層上に形成され、上面透明電極層と導通するように接触されていることにより、着色層を用いて接続電極層および上面透明電極層を導通するように接触させることができ、例えば柱部等の接続電極層および上面透明電極層を接触させるための他の部材を必要としないため、有機EL表示装置の製造工程数を少なくすることができ、生産性が良好な有機EL表示装置とすることができる。また、上述した他の部材を有機EL素子側基板に形成しなくてもよいことから、有機EL表示装置の歩留まりの低下を少ないものとすることができる。
以下、本発明の有機EL表示装置の詳細について説明する。
More specifically, according to the present invention, since the auxiliary electrode layer is provided, the current from the organic EL element side substrate side can be guided to the color filter side through the auxiliary electrode layer, so that the luminance is lost. An organic EL display device capable of preventing occurrence of unevenness can be obtained.
Further, according to the present invention, since the connection electrode layer is formed on the colored layer having a relatively large area, the conduction area of the connection electrode layer and the upper surface transparent electrode layer can be increased. The current can be easily released from the side substrate side to the color filter side. Therefore, an organic EL display device that can suitably prevent the above-described luminance unevenness can be obtained.
In addition, according to the present invention, the connection electrode layer is formed on the colored layer and is in contact with the upper surface transparent electrode layer so as to conduct the connection electrode layer and the upper surface transparent electrode layer using the colored layer. For example, it is possible to reduce the number of manufacturing steps of the organic EL display device because other members for contacting the connection electrode layer such as the pillar portion and the upper transparent electrode layer are not required. An organic EL display device with good productivity can be obtained. Moreover, since it is not necessary to form the other member mentioned above in the organic EL element side board | substrate, the fall of the yield of an organic EL display apparatus can be made small.
Hereinafter, the details of the organic EL display device of the present invention will be described.

I.有機EL表示装置の構造
本発明の有機EL表示装置は、カラーフィルタと有機EL素子側基板とを有し、上記カラーフィルタの上記着色層側表面と上記有機EL素子側基板の上記有機EL素子側表面とが対向するように配置され、上記接続電極層と上記上面透明電極層とが導通するように接触していることを特徴とするものである。
ここで、「接続電極層と上面透明電極層とが導通するように接触している」とは、接続電極層と上面透明電極層とが直接接触している態様だけではなく、接続電極層と上面透明電極層との間に導電性接着剤層等の導電層を介して接触している態様を含む。本発明においては、なかでも、接続電極層と上面透明電極層とが直接接触している態様であることがより好ましい。有機EL表示装置をより簡便な工程で製造することができるからである。
I. Structure of Organic EL Display Device The organic EL display device of the present invention has a color filter and an organic EL element side substrate, and the colored layer side surface of the color filter and the organic EL element side of the organic EL element side substrate. It arrange | positions so that the surface may oppose, The said connection electrode layer and the said upper surface transparent electrode layer are contacting so that it may conduct | electrically_connect.
Here, “the connection electrode layer and the upper surface transparent electrode layer are in contact with each other” is not only an aspect in which the connection electrode layer and the upper surface transparent electrode layer are in direct contact, but also the connection electrode layer and The mode which is contacting via conductive layers, such as a conductive adhesive layer, between upper surface transparent electrode layers is included. In the present invention, it is more preferable that the connection electrode layer and the upper transparent electrode layer are in direct contact with each other. This is because the organic EL display device can be manufactured by a simpler process.

また、本発明の有機EL表示装置は、有機EL表示装置用カラーフィルタ側から光が取り出される、いわゆるトップエミッション方式の構造を有するものである。   The organic EL display device of the present invention has a so-called top emission type structure in which light is extracted from the color filter side for the organic EL display device.

このような有機EL表示装置の構造としては、カラーフィルタの着色層側表面と、有機EL素子側基板の有機EL素子側表面とを対向させて配置することにより、カラーフィルタの一以上の着色層上に形成された接続電極層と、有機EL素子側基板の上面透明電極層とを導通するように接触させることができる構造であれば特に限定されない。例えば、有機EL表示装置の構造が、カラーフィルタの一部の着色層上に形成された接続電極層と、上面透明電極層とを導通するように接触させることができる構造(以下、第1の構造と称して説明する場合がある。)であってもよく、カラーフィルタの全ての着色層上に形成された接続電極層と、上面透明電極層とを導通するように接触させることができる構造(以下、第2の構造と称して説明する場合がある。)であってもよい。   As the structure of such an organic EL display device, one or more colored layers of the color filter are arranged by arranging the colored layer side surface of the color filter and the organic EL element side surface of the organic EL element side substrate to face each other. The connection electrode layer formed above and the upper surface transparent electrode layer of the organic EL element side substrate are not particularly limited as long as they can be brought into contact with each other. For example, the structure of the organic EL display device is a structure in which a connection electrode layer formed on a part of a color layer of a color filter can be brought into contact with an upper transparent electrode layer (hereinafter referred to as a first filter). In some cases, the structure may be referred to as a structure.) The connection electrode layer formed on all the colored layers of the color filter and the upper transparent electrode layer can be brought into contact with each other so as to be conductive. (Hereinafter, this may be referred to as the second structure.)

上記有機EL表示装置の構造が上述した第1の構造である場合、より具体的な有機EL表示装置の構造としては、カラーフィルタとして、着色層が厚膜の着色層と薄膜の着色層とで構成されたもの、すなわち異なる厚みを有する着色層で構成されたものを用い、厚膜の着色層上に形成された接続電極層と、上面透明電極層とを導通するように接触させる構造を好適に用いることができる(例えば図1等)。本発明の有機EL表示装置が上述の構造を有することにより、有機EL表示装置において、薄膜の着色層と有機EL素子との間に空間を設けることができる。そのため、上記空間に異物を包含させることができ、接続電極層および上面透明電極層の接触面に異物が混入することを抑制することができるので、有機EL素子の劣化を抑制することができるからである。
なお、本発明において厚膜の着色層とは、異なる厚みの着色層のうち、最も厚膜の着色層をいい、薄膜の着色層とは、厚膜の着色層以外の着色層をいう。
In the case where the structure of the organic EL display device is the first structure described above, a more specific structure of the organic EL display device is a color filter including a thick colored layer and a thin colored layer. Use a structure that is composed of colored layers having different thicknesses, and preferably has a structure in which the connection electrode layer formed on the thick colored layer and the upper transparent electrode layer are in contact with each other so as to be conductive. (For example, FIG. 1 etc.). When the organic EL display device of the present invention has the above-described structure, a space can be provided between the colored layer of the thin film and the organic EL element in the organic EL display device. Therefore, foreign matter can be included in the space, and foreign matter can be prevented from entering the contact surfaces of the connection electrode layer and the upper transparent electrode layer, so that deterioration of the organic EL element can be suppressed. It is.
In the present invention, the thick colored layer refers to the thickest colored layer among the different colored layers, and the thin colored layer refers to a colored layer other than the thick colored layer.

また、上記有機EL表示装置の構造が上述した第1の構造である場合、上記の構造以外にも、例えば、カラーフィルタとして、着色層が同等の厚みを有する着色層で構成され、一部の着色層上にのみ接続電極層が形成されているものを用い、一部の着色層上に形成された接続電極層と上面透明電極層とを導通するように接触させる構造も用いることができる。   In addition, when the structure of the organic EL display device is the first structure described above, in addition to the above structure, for example, as a color filter, the colored layer is formed of a colored layer having an equivalent thickness, A structure in which the connection electrode layer is formed only on the colored layer and the connection electrode layer formed on a part of the colored layer and the upper transparent electrode layer are brought into contact with each other so as to be conductive can also be used.

一方、有機EL表示装置の構造が上述した第2の構造である場合、より具体的な有機EL表示装置の構造としては、カラーフィルタとして、着色層が同等の厚みを有する着色層で構成され、全ての着色層上に接続電極層が形成されているものを用い、全ての着色層上に形成された接続電極層と上面透明電極層とを導通するように接触させる構造が挙げられる(例えば図4等)。本発明の有機EL表示装置が上述の構造を有することにより、有機EL表示装置全体の接続電極層および上面透明電極層の導通面積をより広くすることができるため、上述した輝度ムラを好適に抑制し、良好な表示を行うことができる有機EL表示装置とすることができる。   On the other hand, when the structure of the organic EL display device is the second structure described above, as a more specific structure of the organic EL display device, as a color filter, the colored layer is composed of a colored layer having an equivalent thickness, A structure in which the connection electrode layer is formed on all the colored layers, and the connection electrode layer formed on all the colored layers and the upper transparent electrode layer are brought into contact with each other so as to be conductive (for example, FIG. 4 etc.). Since the organic EL display device of the present invention has the above-described structure, the conduction area of the connection electrode layer and the upper surface transparent electrode layer of the entire organic EL display device can be further increased, and thus the above-described luminance unevenness is suitably suppressed. And it can be set as the organic electroluminescence display which can perform a favorable display.

II.有機EL表示装置の各構成
本発明の有機EL表示装置は、カラーフィルタと、有機EL素子用基板とを有するものである。以下、各構成について説明する。
II. Configurations of Organic EL Display Device The organic EL display device of the present invention includes a color filter and an organic EL element substrate. Each configuration will be described below.

1.カラーフィルタ
本発明に用いられるカラーフィルタは、透明基板と、低反射層と、着色層と、補助電極層とを有するものである。
上記カラーフィルタは、特定の波長の光を透過する着色層を有し、有機EL素子の光のうち上記特定の波長の光を選択的に透過させることで、所望のカラー表示を行うために用いられるものである。
また、本発明においては、カラーフィルタに対向する有機EL素子側基板の上面透明電極層に対して、接続電極層を導通するように接触させるために上記着色層が用いられることを特徴とする。
1. Color filter The color filter used for this invention has a transparent substrate, a low reflection layer, a colored layer, and an auxiliary electrode layer.
The color filter has a colored layer that transmits light of a specific wavelength, and is used for performing desired color display by selectively transmitting the light of the specific wavelength among the light of the organic EL element. It is what
In the present invention, the colored layer is used to bring the connection electrode layer into conduction with the upper transparent electrode layer of the organic EL element side substrate facing the color filter.

(1)カラーフィルタの構造
本発明に用いられるカラーフィルタの構造について説明する。
本発明に用いられるカラーフィルタの構造としては、具体的には着色層が厚膜の着色層と薄膜の着色層とで構成された構造と、着色層が同等の厚みで構成された構造とに大別することができる。
(1) Structure of color filter The structure of the color filter used in the present invention will be described.
As the structure of the color filter used in the present invention, specifically, a structure in which the colored layer is composed of a thick colored layer and a thin colored layer, and a structure in which the colored layer is composed of the same thickness. It can be divided roughly.

上記カラーフィルタの構造が、着色層が厚膜の着色層と薄膜の着色層とで構成された構造である場合、カラーフィルタの構造としては、例えば、図8(a)、(b)、図9、図10(a)、(b)に示す構造が挙げられる。
図8(a)は図1におけるカラーフィルタの例を示す概略平面図であり、図8(b)は図8(a)のA−A線断面図である。なお、図8(a)においては、説明の容易のため、透明基板および接続電極層について省略して示している。図9は図2におけるカラーフィルタの例を示す概略断面図である。図10(a)は図3におけるカラーフィルタの他の例を示す概略平面図であり、図10(b)は図10(a)のB−B線断面図である。なお、図10(a)においては、説明の容易のため、透明基板については省略して示している。また、図8(b)、図10(b)中のXは低反射層12の開口部であり、図10(b)中のYは接続電極層用開口部である。
When the color filter has a structure in which the colored layer is composed of a thick colored layer and a thin colored layer, examples of the color filter structure include FIGS. 8A, 8B, and 8C. 9 and the structure shown in FIGS. 10 (a) and 10 (b).
FIG. 8A is a schematic plan view showing an example of the color filter in FIG. 1, and FIG. 8B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 8A. In FIG. 8A, the transparent substrate and the connection electrode layer are omitted for easy explanation. FIG. 9 is a schematic sectional view showing an example of the color filter in FIG. FIG. 10A is a schematic plan view showing another example of the color filter in FIG. 3, and FIG. 10B is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. In FIG. 10A, the transparent substrate is omitted for the sake of easy explanation. Further, X in FIGS. 8B and 10B is an opening of the low reflection layer 12, and Y in FIG. 10B is a connection electrode layer opening.

上記カラーフィルタの構造が、着色層が厚膜の着色層と薄膜の着色層とで構成された構造である場合は、上述した第1の構造の有機EL表示装置のなかでも好適な構造を有する有機EL表示装置を得ることができる。カラーフィルタが上述の構造を有する場合は、厚膜の着色層を用いて接続電極層を上面透明電極層と導通するように接触させる。
上記厚膜の着色層としては、複数色の着色層のうち、一以上の着色層の厚みが他の着色層の厚みよりも厚くなるように設けられていれば特に限定されないが、色単位で設けられていることがより好ましい。本発明においては、着色層をフォトリソグラフィ法を用いて形成することが好ましく、フォトリソグラフィ法においては、色単位での着色層の厚みを調整して着色層を形成することが容易であるからである。
また、厚膜の着色層が色単位で形成されている場合、複数色の着色層のうち、少なくとも1色以上の着色層の厚みが他の色の着色層の厚みよりも厚くなるように形成されていれば特に限定されない。例えば、複数色の着色層が赤色、緑色、青色、白色の4色の着色層を有する場合は、図8〜図10に示すように、1色の着色層の厚み(図8〜図10では赤色着色層13R)が他の色の着色層の厚みよりも厚く形成されていてもよく、図示はしないが、2色以上の着色層の厚みが他の着色層の厚みよりも厚く形成されてもよい。
When the color filter has a structure in which the colored layer is composed of a thick colored layer and a thin colored layer, the color filter has a preferable structure among the organic EL display devices having the first structure described above. An organic EL display device can be obtained. When the color filter has the above-described structure, the connection electrode layer is brought into contact with the top transparent electrode layer using a thick colored layer.
The thick colored layer is not particularly limited as long as one or more of the colored layers is provided so that the thickness of one or more colored layers is thicker than the thickness of the other colored layers. More preferably, it is provided. In the present invention, it is preferable to form the colored layer by using a photolithography method. In the photolithography method, it is easy to adjust the thickness of the colored layer in units of colors to form the colored layer. is there.
In addition, when the thick colored layer is formed in color units, the colored layer of at least one color among the colored layers of the plurality of colors is formed to be thicker than the colored layers of other colors. If it is done, it will not be specifically limited. For example, when a plurality of colored layers have four colored layers of red, green, blue, and white, as shown in FIGS. 8 to 10, the thickness of the colored layer of one color (in FIGS. 8 to 10). The red colored layer 13R) may be formed thicker than the colored layers of other colors, and although not shown, the colored layers of two or more colors are formed thicker than the colored layers. Also good.

上記厚膜の着色層13Rは、図8に示すように単層の着色層(図8では赤色着色層13R)であってもよく、複数色の着色層13R、13G、13B、13Wが白色着色層13Wを含む場合は、図9に示すように白色着色層13Wと他の1色の着色層(図9では赤色着色層)との積層体であってもよい。本発明においては、より生産性の高い有機EL表示装置とすることが好ましいことから、カラーフィルタの形成方法についても工程数が少ないことが好ましい。厚膜の着色層が上述した積層体である場合は、カラーフィルタを用いて白色着色層のみで用いられるものと、積層体を構成するものとの両方を同一工程で形成することが可能となることから、工程を増やすことなく、厚膜の着色層を得ることが可能となる。また、厚膜の着色層が上述した積層体であることにより、その厚みを所望の厚みに調整し易いといった利点もある。
厚膜の着色層が上述した積層体である場合は、図9に示すように透明基板11上に他の1色の着色層13Rおよび白色着色層13Wが順に積層されてもよく、図示はしないが、透明基板上に白色着色層および他の1色の着色層が順に積層されてもよい。
The thick colored layer 13R may be a single colored layer (red colored layer 13R in FIG. 8) as shown in FIG. 8, and the colored layers 13R, 13G, 13B, and 13W of multiple colors are colored white. When the layer 13W is included, as shown in FIG. 9, it may be a laminate of a white colored layer 13W and another colored layer (red colored layer in FIG. 9). In this invention, since it is preferable to set it as an organic electroluminescent display apparatus with higher productivity, it is preferable that there are few processes also about the formation method of a color filter. In the case where the thick colored layer is the above-described laminate, it is possible to form both the one used only in the white colored layer using the color filter and the one constituting the laminate in the same process. Therefore, it is possible to obtain a thick colored layer without increasing the number of steps. Further, since the thick colored layer is the above-described laminate, there is an advantage that the thickness can be easily adjusted to a desired thickness.
When the thick colored layer is the above-described laminate, as shown in FIG. 9, another colored layer 13R and a white colored layer 13W may be sequentially laminated on the transparent substrate 11, which is not illustrated. However, a white colored layer and another colored layer of one color may be sequentially laminated on the transparent substrate.

厚膜の着色層および薄膜の着色層の厚みの差としては、薄膜の着色層および上面透明電極層の間に空間を設けることができれば特に限定されないが、1μm以上、なかでも1μm〜8μmの範囲内、特に1μm〜6μmの範囲内であることが好ましい。上記厚みの差が上記範囲に満たない場合は、最も薄膜の着色層および上面透明電極層の間に設けられた空間に異物を内包させることが困難となる可能性があるからであり、上記厚みの差が上記範囲を超える場合は、厚膜の着色層を形成すること自体が困難となる可能性や、薄膜の着色層および有機EL素子の間の距離が大きくなり過ぎることから、視差混色が生じやすくなる可能性があるからである。
厚膜の着色層および薄膜の着色層の厚みの差は、例えば、図8(b)においてpで示される距離をいう。
なお、図示はしないが、着色層の厚みが3種類以上である場合は、最も厚膜の着色層と最も薄膜の着色層の厚みの差を上述した厚みの差とする。
The difference in thickness between the thick colored layer and the thin colored layer is not particularly limited as long as a space can be provided between the thin colored layer and the upper transparent electrode layer, but it is in the range of 1 μm or more, particularly 1 μm to 8 μm. Especially, it is preferable that it exists in the range of 1 to 6 micrometers. If the difference in thickness is less than the above range, it may be difficult to enclose foreign matter in the space provided between the thinnest colored layer and the upper transparent electrode layer. If the difference exceeds the above range, it may be difficult to form a thick colored layer, or the distance between the thin colored layer and the organic EL element becomes too large. This is because it is likely to occur.
The difference in thickness between the thick colored layer and the thin colored layer refers to, for example, the distance indicated by p in FIG.
Although not shown, when the thickness of the colored layer is three or more, the difference in thickness between the thickest colored layer and the thinnest colored layer is the above-described thickness difference.

一方、カラーフィルタの構造が、着色層が同等の厚みを有する着色層で構成された構造である場合、カラーフィルタの構造としては、例えば、図11、図12、図13に示す構造が挙げられる。
図11は図4におけるカラーフィルタの例を示す概略断面図であり、図12は図5におけるカラーフィルタの例を示す概略断面図であり、図13は図6におけるカラーフィルタの例を示す概略断面図である。
On the other hand, when the structure of the color filter is a structure in which the colored layer is composed of a colored layer having the same thickness, examples of the structure of the color filter include the structures shown in FIGS. 11, 12, and 13. .
11 is a schematic sectional view showing an example of the color filter in FIG. 4, FIG. 12 is a schematic sectional view showing an example of the color filter in FIG. 5, and FIG. 13 is a schematic sectional view showing an example of the color filter in FIG. FIG.

上記カラーフィルタの構造が、複数色の着色層が同等の厚みを有する着色層で構成された構造である場合は、上述した第2の構造を有する有機EL表示装置とすることができる。また、この場合、着色層の厚みについては、本発明の有機EL表示装置の用途等に応じて選択することができるが、着色層形成時に生じる異物を着色層内部に内包することができる厚みを有することがより好ましい。着色層表面での異物の付着を防止することができるため、上記異物による有機EL素子の劣化を抑制することができる。   When the structure of the color filter is a structure in which a plurality of colored layers are composed of colored layers having the same thickness, the organic EL display device having the second structure described above can be obtained. Further, in this case, the thickness of the colored layer can be selected according to the use of the organic EL display device of the present invention, but the thickness capable of enclosing foreign matter generated during the formation of the colored layer inside the colored layer. More preferably. Since the adhesion of foreign matter on the surface of the colored layer can be prevented, deterioration of the organic EL element due to the foreign matter can be suppressed.

(2)カラーフィルタの各構成
(a)着色層
本発明に用いられる着色層は、透明基板上の低反射層の開口部に形成されるものである。本発明においては、通常、赤色着色層、緑色着色層、青色着色層の3色の着色層を有する。また、上記3色の着色層以外の色の着色層を有していてもよい。本発明において、上述した3色の着色層に加えて、白色着色層を有することが好ましい。
また、各着色層は有機EL表示装置における各画素に配置されて用いられる。
(2) Each structure of a color filter (a) Colored layer The colored layer used for this invention is formed in the opening part of the low reflection layer on a transparent substrate. In the present invention, it usually has three colored layers of a red colored layer, a green colored layer, and a blue colored layer. Moreover, you may have a colored layer of colors other than the said three colored layers. In the present invention, it is preferable to have a white colored layer in addition to the above-described three colored layers.
Each colored layer is used by being arranged in each pixel in the organic EL display device.

着色層のパターン配列としては、一般的な有機EL表示装置に用いられる画素の配列と同様とすることができる。例えば、ストライブ型、モザイク型、トライアングル型、4画素配置型等の公知の配列とすることができ、各着色層の面積は任意に設定することができる。   The pattern arrangement of the colored layer can be the same as the pixel arrangement used in a general organic EL display device. For example, a known arrangement such as a stripe type, a mosaic type, a triangle type, or a four-pixel arrangement type can be used, and the area of each colored layer can be arbitrarily set.

また、透明基板表面に対して垂直方向の着色層の断面形状としては、透明基板上に着色層を形成することができ、着色層上に接続電極層を金属電極層と電気的に接続するように形成することができれば特に限定されない。例えば、図8(b)等に示すように、着色層13側面が透明基板11表面に対して略垂直となる形状であってもよく、図12に示すように、着色層13の基部が着色層13の頂部よりも大きくなるテーパー形状であってもよい。着色層の上記断面形状が上記テーパー形状である場合は、着色層上および着色層の側面を覆うように形成された接続電極層の断線を抑制することができるからである。   Moreover, as a cross-sectional shape of the colored layer perpendicular to the transparent substrate surface, the colored layer can be formed on the transparent substrate, and the connection electrode layer is electrically connected to the metal electrode layer on the colored layer. If it can form in, it will not specifically limit. For example, as shown in FIG. 8B or the like, the side surface of the colored layer 13 may be in a shape substantially perpendicular to the surface of the transparent substrate 11, and the base of the colored layer 13 is colored as shown in FIG. The taper shape which becomes larger than the top part of the layer 13 may be sufficient. This is because, when the cross-sectional shape of the colored layer is the tapered shape, disconnection of the connection electrode layer formed so as to cover the colored layer and the side surface of the colored layer can be suppressed.

上記着色層のテーパー角度としては、着色層側面に接続電極層を形成することができる程度であれば特に限定されないが、90°以下、なかでも30°〜80°の範囲内、特に30°〜70°の範囲内であることが好ましい。上記テーパー角度が上記範囲を超える場合は、着色層側面に形成される接続電極層に断線が生じやすくなる可能性があるからである。
また、上記テーパー角度の下限としては、着色層の厚み等を考慮すると、例えば、15°程度である。なお、上記テーパー角度は、着色層の基部(透明基板表面)と着色層側面とのなす角の角度をいい、図12においてθで表わされる角度をいう。
The taper angle of the colored layer is not particularly limited as long as the connection electrode layer can be formed on the side surface of the colored layer, but is 90 ° or less, particularly within the range of 30 ° to 80 °, particularly 30 ° to It is preferably within the range of 70 °. This is because, when the taper angle exceeds the above range, disconnection may easily occur in the connection electrode layer formed on the side surface of the colored layer.
Further, the lower limit of the taper angle is, for example, about 15 ° in consideration of the thickness of the colored layer and the like. The taper angle refers to the angle formed by the base of the colored layer (transparent substrate surface) and the side surface of the colored layer, and is the angle represented by θ in FIG.

上記着色層の厚みとしては、所望のカラー表示を行うことが可能な程度の厚みであれば特に限定されず、カラーフィルタの形態、有機EL表示装置の用途等に応じて適宜選択することができる。具体的な着色層の厚みとしては、1μm〜10μmの範囲内、なかでも1μm〜8μmの範囲内、特に2μm〜8μmの範囲内であることが好ましい。着色層の厚みが上記範囲に満たない場合、または上記範囲を超える場合は、着色層自体を形成することが困難となる可能性があるからである。
上記カラーフィルタが、異なる厚みを有する複数色の着色層を有する場合は、最も厚膜の着色層および最も薄膜の着色層の両方が上述した範囲内の厚みを有するように形成される。
また、上記カラーフィルタが、同等の厚みを有する複数色の着色層を有する場合は、上述した範囲内のなかでも大きな厚みで形成することが好ましい。上述した異物を着色層内部に好適に内包させることができるからである。
The thickness of the colored layer is not particularly limited as long as a desired color display can be performed, and can be appropriately selected according to the form of the color filter, the use of the organic EL display device, and the like. . The specific thickness of the colored layer is preferably in the range of 1 μm to 10 μm, more preferably in the range of 1 μm to 8 μm, and particularly preferably in the range of 2 μm to 8 μm. This is because if the thickness of the colored layer is less than the above range or exceeds the above range, it may be difficult to form the colored layer itself.
When the color filter has a plurality of colored layers having different thicknesses, both the thickest colored layer and the thinnest colored layer are formed to have thicknesses within the above-described range.
Moreover, when the said color filter has the colored layer of several colors which has equivalent thickness, it is preferable to form with a big thickness in the range mentioned above. This is because the above-described foreign matter can be suitably included in the colored layer.

上記着色層は、各色の顔料や染料等の着色剤を感光性樹脂等の樹脂に分散または溶解させることにより形成されるものである。   The colored layer is formed by dispersing or dissolving a colorant such as a pigment or dye of each color in a resin such as a photosensitive resin.

赤色着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
緑色着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
青色着色層に用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
また、白色着色層は、感光性樹脂のみを用いて形成することも可能であるが、有機EL表示装置を用いて所望の白色表示を行うため、調色のための着色剤を分散または溶解させてもよい。このような着色剤としては、上述した赤色、緑色、青色の着色剤や、例えば黄色、黒色等の着色剤を挙げることができる。具体的な着色剤については、公知のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。
Examples of the colorant used in the red coloring layer include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, and isoindoline pigments. These pigments may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the colorant used in the green coloring layer include phthalocyanine pigments such as halogen polysubstituted phthalocyanine pigments or halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane basic dyes, isoindoline pigments, and isoindolinone pigments. And pigments. These pigments or dyes may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the colorant used in the blue colored layer include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, dioxazine pigments, and the like. These pigments may be used alone or in combination of two or more.
The white colored layer can be formed using only a photosensitive resin. However, in order to perform a desired white display using an organic EL display device, a colorant for toning is dispersed or dissolved. May be. Examples of such a colorant include the above-described red, green, and blue colorants, and colorants such as yellow and black. About a specific coloring agent, since a well-known thing can be used, description here is abbreviate | omitted.

感光性樹脂としては、一般的な着色層材料として公知の感光性樹脂を用いることができるため、ここでの説明は省略する。   As a photosensitive resin, since a well-known photosensitive resin can be used as a general coloring layer material, description here is abbreviate | omitted.

(b)補助電極層
本発明に用いられる補助電極層は、接続電極層と、金属電極層とを有するものである。
(B) Auxiliary electrode layer The auxiliary electrode layer used in the present invention has a connection electrode layer and a metal electrode layer.

(i)接続電極層
本発明に用いられる接続電極層は、着色層上に形成され、金属電極層と電気的に接続するものである。接続電極層は有機EL素子側基板上に形成された上面透明電極層と導通するように接触するものである。
(I) Connection electrode layer The connection electrode layer used for this invention is formed on a colored layer, and is electrically connected with a metal electrode layer. The connection electrode layer is in contact with the upper transparent electrode layer formed on the organic EL element side substrate so as to be conductive.

本発明において「接続電極層が金属電極層と電気的に接続する」とは、接続電極層が金属電極層の少なくとも一部を覆うように形成されている態様と、接続電極層が金属電極層と一体に形成されている態様との両方の態様を含む。   In the present invention, “the connection electrode layer is electrically connected to the metal electrode layer” means that the connection electrode layer is formed so as to cover at least a part of the metal electrode layer, and the connection electrode layer is a metal electrode layer. And the embodiment formed integrally with each other.

接続電極層は上記金属電極層と電気的に接続するものであり、着色層の側面の少なくとも一部に形成されるものである。本発明においては、接続電極層が着色層の側面全体を覆うように形成されていることが好ましい。接続電極層の形成工程を簡便な工程とすることができるからである。また、接続電極層および金属電極層を断線しにくいものとすることができるからである。   The connection electrode layer is electrically connected to the metal electrode layer and is formed on at least a part of the side surface of the colored layer. In the present invention, the connection electrode layer is preferably formed so as to cover the entire side surface of the colored layer. This is because the process of forming the connection electrode layer can be a simple process. Further, the connection electrode layer and the metal electrode layer can be made difficult to break.

上記接続電極層としては、有機EL素子からの光が低反射層の開口部に形成された着色層を透過して、有機EL表示装置の外部に出射することを妨げないものであれば特に限定されず、透明性を有さない金属材料を用いた金属接続電極層であってもよく、透明性を有する透明接続電極層であってもよい。   The connection electrode layer is not particularly limited as long as it does not prevent light from the organic EL element from being transmitted through the colored layer formed in the opening of the low reflection layer and emitted to the outside of the organic EL display device. The metal connection electrode layer using the metal material which does not have transparency may be sufficient, and the transparent connection electrode layer which has transparency may be sufficient.

上記接続電極層が金属接続電極層である場合は、上記金属接続電極層は、図10(b)、図13に示すように、低反射層12と平面視上重なる着色層13上に形成され、低反射層の開口部Xと平面視上重なる接続電極層用開口部Yを有するように形成される。この場合、低反射層の開口部と接続電極層用開口部との位置関係としては、所望のカラー表示を行うことができれば特に限定されないが、図10(b)、図13に示すように、平面視上、接続電極層用開口部Yの内部に低反射層の開口部Xが存在することが好ましい。有機EL表示装置の開口率をより良好なものとすることができるからである。   When the connection electrode layer is a metal connection electrode layer, the metal connection electrode layer is formed on the colored layer 13 that overlaps the low reflection layer 12 in plan view, as shown in FIGS. The connection electrode layer opening Y is formed so as to overlap the opening X of the low reflection layer in plan view. In this case, the positional relationship between the opening of the low reflection layer and the connection electrode layer opening is not particularly limited as long as a desired color display can be performed, but as shown in FIGS. It is preferable that the opening X of the low reflection layer exists inside the connection electrode layer opening Y in plan view. This is because the aperture ratio of the organic EL display device can be improved.

また、上記金属接続電極層は、一部の着色層上に上述した形状で形成されていてもよく、全ての着色層上に上述した形状で形成されていてもよい。本発明においては、なかでも、カラーフィルタが同等の厚みを有する複数色の着色層を備えるものである場合は、上記金属接続電極層は全ての着色層上に形成されていることが好ましい。金属接続電極層と上面透明電極層との導通面積をより大きなものとすることができ、輝度ムラをより好適に防止することができる有機EL表示装置とすることができるからである。   Moreover, the said metal connection electrode layer may be formed in the shape mentioned above on one part colored layer, and may be formed in the shape mentioned above on all the colored layers. In the present invention, in particular, when the color filter includes a plurality of colored layers having the same thickness, the metal connection electrode layer is preferably formed on all the colored layers. This is because the conductive area between the metal connection electrode layer and the upper transparent electrode layer can be made larger, and an organic EL display device that can more suitably prevent luminance unevenness can be obtained.

また、上記金属接続電極層14bは、図10(a)、(b)、図13に示すように、後述する金属電極層14aと一体に形成されていてもよく、図示はしないが、金属電極層と別体に形成されていてもよい。本発明においては、なかでも、上記金属接続電極層が金属電極層と一体に形成されていることが好ましい。金属接続電極層および金属電極層を同一工程で同時に形成することができるため、本発明の有機EL表示装置の製造工程をより少なくすることができ、より生産性が良好な有機EL表示装置とすることができるからである。   Further, as shown in FIGS. 10A, 10B, and 13, the metal connection electrode layer 14b may be formed integrally with a metal electrode layer 14a described later. It may be formed separately from the layer. In the present invention, the metal connection electrode layer is preferably formed integrally with the metal electrode layer. Since the metal connection electrode layer and the metal electrode layer can be formed simultaneously in the same process, the manufacturing process of the organic EL display device of the present invention can be reduced, and an organic EL display device with better productivity can be obtained. Because it can.

一方、接続電極層が透明接続電極層である場合は、上記透明接続電極層としては、着色層上に連続的に形成されていてもよく、上述した金属接続電極層と同様の形状に形成されてもよい。
本発明においては、なかでも、透明接続電極層が着色層上に連続的に形成されていることが好ましい。透明接続電極層を簡便な方法で形成することができ、また、接続電極層をカラーフィルタ全面に連続的に形成する場合は、カラーフィルタにガスバリア性を付与することができるため、有機EL表示装置内に水分が浸入することを抑制して、有機EL素子の劣化を抑制することができるからである。
On the other hand, when the connection electrode layer is a transparent connection electrode layer, the transparent connection electrode layer may be continuously formed on the colored layer, and is formed in the same shape as the metal connection electrode layer described above. May be.
In the present invention, it is particularly preferable that the transparent connection electrode layer is continuously formed on the colored layer. The transparent connection electrode layer can be formed by a simple method, and when the connection electrode layer is continuously formed on the entire surface of the color filter, it is possible to impart gas barrier properties to the color filter. This is because moisture can be prevented from entering the inside, and deterioration of the organic EL element can be suppressed.

上記透明接続電極層は、一部の着色層上に形成されていてもよく、全ての着色層上に形成されていてもよいが、全ての着色層上に形成されていることがより好ましい。また、この場合、上述したように、透明接続電極層はカラーフィルタ全面に連続的に形成されていることが特に好ましい。   The transparent connection electrode layer may be formed on some of the colored layers, or may be formed on all of the colored layers, but is more preferably formed on all of the colored layers. In this case, as described above, the transparent connection electrode layer is particularly preferably formed continuously on the entire surface of the color filter.

また、透明接続電極層は、低反射層上に形成された金属電極層上に形成されてもよく、低反射層と金属電極層との間に形成されてもよい。   The transparent connection electrode layer may be formed on a metal electrode layer formed on the low reflection layer, or may be formed between the low reflection layer and the metal electrode layer.

上記接続電極層の厚みとしては、所望の導電性を有していれば特に限定されないが、10nm〜500nmの範囲内、なかでも20nm〜400nmの範囲内、特に30nm〜300nmの範囲内であることが好ましい。接続電極層の厚みが上記範囲に満たない場合は、接続電極層の抵抗が大きくなる可能性があるからであり、接続電極層の厚みが上記範囲を超える場合は、接続電極層の形成時間が多くかかり、製造コストが高くなる可能性があるからである。また、接続電極層の応力が大きくなり、割れ等が生じやすくなる可能性があるからである。   The thickness of the connection electrode layer is not particularly limited as long as it has a desired conductivity, but it is within the range of 10 nm to 500 nm, especially within the range of 20 nm to 400 nm, particularly within the range of 30 nm to 300 nm. Is preferred. This is because when the thickness of the connection electrode layer is less than the above range, the resistance of the connection electrode layer may increase. When the thickness of the connection electrode layer exceeds the above range, the formation time of the connection electrode layer This is because it takes a lot and the manufacturing cost may be high. Moreover, it is because the stress of a connection electrode layer becomes large and it may become easy to produce a crack etc.

次に、接続電極層の材料について説明する。
接続電極層が金属接続電極層である場合、用いられる金属材料については、後述する金属電極層の項で説明する金属材料と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
本発明においては、金属接続電極層と金属電極層とが同一の材料であることがより好ましい。導電性を良好にすることができ、また、金属接続電極層と金属電極層とを一体に形成することが可能となるため、有機EL表示装置の製造工程数をより少ないものとすることができるからである。
Next, the material of the connection electrode layer will be described.
When the connection electrode layer is a metal connection electrode layer, the metal material used can be the same as the metal material described in the section of the metal electrode layer to be described later, and thus the description thereof is omitted here.
In the present invention, the metal connection electrode layer and the metal electrode layer are more preferably the same material. The conductivity can be improved, and the metal connection electrode layer and the metal electrode layer can be integrally formed, so that the number of manufacturing steps of the organic EL display device can be reduced. Because.

一方、接続電極層が透明接続電極層である場合、透明接続電極層の材料としては、例えば、透明性および導電性を有する金属酸化物等が挙げられる。このような金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム、酸化亜鉛、および酸化第二錫等が挙げられる。   On the other hand, when the connection electrode layer is a transparent connection electrode layer, examples of the material of the transparent connection electrode layer include a metal oxide having transparency and conductivity. Examples of such metal oxides include indium tin oxide (ITO), indium oxide, zinc oxide, and stannic oxide.

上記接続電極層の形成方法としては、一般的な電極層の形成方法として公知の方法を用いることができる。例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成する方法を挙げることができる。また、接続電極層を所定のパターン形状に形成する場合は、必要に応じてフォトマスク等を用いて、上述した蒸着法等により薄膜を形成する方法や、蒸着法等により形成された薄膜をフォトリソグラフィ法を用いてエッチングする方法を挙げることができる。   As a method for forming the connection electrode layer, a known method can be used as a general method for forming an electrode layer. For example, a method of forming a thin film by a vapor deposition method or a sputtering method can be given. In addition, when the connection electrode layer is formed in a predetermined pattern shape, if necessary, a photomask or the like is used to form a thin film by the above-described vapor deposition method or the thin film formed by the vapor deposition method or the like. An etching method using a lithography method can be given.

(ii)金属電極層
本発明に用いられる金属電極層は、低反射層上に形成されるものである。また、金属電極層は上述した接続電極層と電気的に接続するように形成されているものである。
(ii) Metal electrode layer The metal electrode layer used in the present invention is formed on the low reflection layer. The metal electrode layer is formed so as to be electrically connected to the connection electrode layer described above.

金属電極層は、通常、低反射層に沿って形成されているものである。このような金属電極層の線幅としては、低反射層上に形成することができれば特に限定されず、低反射層の線幅よりも小さくてもよく、低反射層の線幅と同等であってもよい。
具体的な金属電極層の線幅としては、10μm以上、なかでも12μm〜100μmの範囲内、特に13μm〜90μmの範囲内であることが好ましい。金属電極層の線幅が上記範囲に満たない場合は、補助電極層の電気抵抗を十分に小さいものとすることができない可能性があるからである。
また、金属電極層の線幅の上限としては、下層に形成される低反射層の線幅と同等とすることができる。低反射層の線幅よりも金属電極層の線幅が大きい場合は、金属電極層による外光の反射が観察者から観察されやすくなるおそれがあるからである。
The metal electrode layer is usually formed along the low reflection layer. The line width of such a metal electrode layer is not particularly limited as long as it can be formed on the low reflection layer, and may be smaller than the line width of the low reflection layer, and is equal to the line width of the low reflection layer. May be.
The specific line width of the metal electrode layer is preferably 10 μm or more, more preferably in the range of 12 μm to 100 μm, and particularly preferably in the range of 13 μm to 90 μm. This is because if the line width of the metal electrode layer is less than the above range, the electric resistance of the auxiliary electrode layer may not be sufficiently small.
In addition, the upper limit of the line width of the metal electrode layer can be made equal to the line width of the low reflection layer formed in the lower layer. This is because when the line width of the metal electrode layer is larger than the line width of the low reflective layer, reflection of external light by the metal electrode layer may be easily observed by an observer.

金属電極層の厚みとしては、低反射層上に形成することができれば特に限定されず、有機EL表示装置の用途等に応じて適宜選択することができる。具体的な金属電極層の厚みについては、上述した接続電極層の厚みと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   The thickness of the metal electrode layer is not particularly limited as long as it can be formed on the low reflection layer, and can be appropriately selected according to the use of the organic EL display device. Since the specific thickness of the metal electrode layer can be the same as the thickness of the connection electrode layer described above, the description thereof is omitted here.

次に、金属電極層に用いられる金属材料について説明する。
金属電極層に用いられる金属材料としては、例えば、Cu、Ag、Au、Pt、Al、Cr、Coといった金属やAPC(Ag、Pd、Cuを含む合金)等の上述した金属の合金、またはMAM(モリブデン膜、アルミニウム・ネオジウム合金膜およびモリブデン膜がこの順に積層された複層金属膜)に代表される複層金属膜等を挙げることができる。
本発明においては、なかでもAPCを用いることが好ましい。補助電極層の電導性を良好なものとすることができるからである。
Next, the metal material used for the metal electrode layer will be described.
Examples of the metal material used for the metal electrode layer include metals such as Cu, Ag, Au, Pt, Al, Cr, and Co, alloys of the above metals such as APC (alloys including Ag, Pd, and Cu), or MAM. A multilayer metal film represented by (a multilayer metal film in which a molybdenum film, an aluminum / neodymium alloy film, and a molybdenum film are laminated in this order) can be given.
In the present invention, it is particularly preferable to use APC. This is because the conductivity of the auxiliary electrode layer can be improved.

このような金属電極層の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィ法を用いてエッチングする方法を挙げることができる。   Examples of a method for forming such a metal electrode layer include a method in which a thin film is formed by a vapor deposition method or a sputtering method and then etched using a photolithography method.

(c)低反射層
本発明に用いられる低反射層は、透明基板上に形成され開口部を有するものである。また、低反射層は、低反射層上に形成される金属電極層の外光反射を抑制するために用いられるものである。
(C) Low reflection layer The low reflection layer used in the present invention is formed on a transparent substrate and has an opening. The low reflection layer is used to suppress external light reflection of the metal electrode layer formed on the low reflection layer.

本発明における低反射層の平均の光反射率としては、金属電極層における視認側に入る外光等の反射を十分に抑制できるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、380nm〜800nmの波長領域における平均の光反射率が、10%以下であることが好ましく、中でも、9%以下であることが好ましく、特に、8%以下であることが好ましい。上記光反射率が上記範囲を超える場合は、金属電極層による外光反射を十分に防止することが困難となる可能性があるからである。なお、平均の光反射率は光学測定器にてJIS K7105に従って測定したものをいう。光学測定器は市販品を用いることができ、例えば、村上色彩技術研究所製HR−100を用いることができる。   The average light reflectance of the low reflection layer in the present invention is not particularly limited as long as it can sufficiently suppress reflection of external light entering the viewing side of the metal electrode layer, but specifically, The average light reflectance in the wavelength region of 380 nm to 800 nm is preferably 10% or less, more preferably 9% or less, and particularly preferably 8% or less. This is because if the light reflectance exceeds the above range, it may be difficult to sufficiently prevent external light reflection by the metal electrode layer. The average light reflectivity is measured by an optical measuring instrument according to JIS K7105. A commercial item can be used for an optical measuring device, for example, HR-100 by Murakami Color Research Laboratory can be used.

低反射層の線幅としては、上述した金属電極層において視認側に入る外光等の反射を抑制することが可能なものであれば特に限定されるものではなく、本発明の有機EL表示装置の用途等に応じて適宜選択することができる。具体的な低反射層の線幅としては、10μm以上、なかでも12μm〜100μmの範囲内、特に13μm〜90μmの範囲内であることが好ましい。低反射層の線幅が上記範囲に満たない場合は、低反射層自体を形成することが困難となる可能性や、低反射層上に上記金属電極層を形成することが困難となる可能性があるからである。また、低反射層の幅が上記範囲を超える場合は、所望の大きさの開口部を有することが困難となる可能性があるからである。   The line width of the low reflection layer is not particularly limited as long as it can suppress reflection of external light entering the viewing side in the metal electrode layer described above, and the organic EL display device of the present invention. It can be appropriately selected according to the use of the above. The line width of the specific low reflection layer is preferably 10 μm or more, more preferably in the range of 12 μm to 100 μm, particularly preferably in the range of 13 μm to 90 μm. When the line width of the low reflective layer is less than the above range, it may be difficult to form the low reflective layer itself, or the metal electrode layer may be difficult to form on the low reflective layer. Because there is. Moreover, it is because it may become difficult to have the opening part of a desired magnitude | size when the width | variety of a low reflection layer exceeds the said range.

低反射層の開口部の配列としては、一般的な有機EL表示装置に用いられる画素配列と同様とすることができる。具体的な低反射層の開口部の配列については、上述した着色層の配列と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   The arrangement of the openings of the low reflection layer can be the same as the pixel arrangement used in a general organic EL display device. Since the arrangement of the openings of the specific low reflection layer can be the same as the arrangement of the colored layers described above, the description thereof is omitted here.

このような低反射層としては、遮光性を有していてもよく、遮光性を有さなくてもよいが、遮光性を有することがより好ましい。低反射層を遮光部として用いることができ、コントラストが良好な有機EL表示装置とすることができる。
低反射層が遮光性を有する場合、低反射層としては、クロム、酸化クロム等の金属遮光層や、バインダ樹脂中にカーボン等の黒色着色剤が分散された樹脂遮光層が用いられる。なお、金属遮光層、樹脂遮光層に用いられる材料については上述したものに限られず、一般的なカラーフィルタの遮光部の材料として公知のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。上記低反射層の厚みとしては、金属電極層による外光反射を抑制することができれば特に限定されない。上記低反射層が金属遮光層である場合は0.2μm〜0.4μm程度で設定され、樹脂遮光層で構成される場合は0.5μm〜2μm程度で設定される。
Such a low reflection layer may have a light shielding property or may not have a light shielding property, but more preferably has a light shielding property. The low reflection layer can be used as a light-shielding portion, and an organic EL display device with good contrast can be obtained.
When the low reflection layer has light shielding properties, a metal light shielding layer such as chromium or chromium oxide or a resin light shielding layer in which a black colorant such as carbon is dispersed in a binder resin is used as the low reflection layer. Note that the materials used for the metal light-shielding layer and the resin light-shielding layer are not limited to those described above, and known materials can be used as a material for the light-shielding portion of a general color filter. . The thickness of the low reflection layer is not particularly limited as long as external light reflection by the metal electrode layer can be suppressed. When the low reflection layer is a metal light shielding layer, the thickness is set to about 0.2 μm to 0.4 μm, and when the low reflection layer is a resin light shielding layer, the thickness is set to about 0.5 μm to 2 μm.

一方、低反射層が遮光性を有さない場合、低反射層としては、例えば、タンタルの酸化物(TaO)、酸窒化物(TaNO)、ホウ素酸化物(TaBO)、ホウ素酸窒化物(TaBNO)などの酸素を含むタンタル化合物、酸化シリコン(SiOx)、窒化クロム(CrN)等で構成される層が挙げられる。また上記低反射層の厚みとしては、金属電極層による外光反射を抑制することができれば特に限定されないが、5nm〜30nmの範囲内、より好ましくは膜厚10nm〜20nmの範囲内で用いられる。 On the other hand, when the low reflective layer does not have light shielding properties, examples of the low reflective layer include tantalum oxide (TaO), oxynitride (TaNO), boron oxide (TaBO), and boron oxynitride (TaBNO). And a layer formed of a tantalum compound containing oxygen such as silicon oxide (SiO x ), chromium nitride (CrN), or the like. The thickness of the low reflection layer is not particularly limited as long as reflection of external light by the metal electrode layer can be suppressed, but it is used within a range of 5 nm to 30 nm, more preferably within a range of 10 nm to 20 nm.

低反射層の形成方法については、一般的なカラーフィルタに用いられるものとして公知の方法と同様とすることができる。例えば、低反射層が金属遮光層である場合は、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成し、フォトリソグラフィ法を用いてエッチングする方法を挙げることができる。また、例えば、低反射層が樹脂遮光層である場合は、フォトリソグラフィ法を好適に用いることができる。   About the formation method of a low reflection layer, it can be made to be the same as that of a well-known method as what is used for a general color filter. For example, when the low reflection layer is a metal light shielding layer, a method of forming a thin film by a vapor deposition method or a sputtering method and etching using a photolithography method can be exemplified. For example, when the low reflection layer is a resin light-shielding layer, a photolithography method can be suitably used.

(d)透明基板
本発明に用いられる透明基板は、上述した低反射層、着色層、および補助電極層を支持するために用いられるものである。
(D) Transparent substrate The transparent substrate used for this invention is used in order to support the low reflection layer mentioned above, a colored layer, and an auxiliary electrode layer.

透明基板は、可視光に対して透明な基板であれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタに用いられる透明基板と同様なものを用いることができる。具体的には、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英などのリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。   The transparent substrate is not particularly limited as long as it is a substrate transparent to visible light, and the same transparent substrate used for a general color filter can be used. Specifically, a rigid material such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, or synthetic quartz, or a transparent flexible material having flexibility such as a transparent resin film or an optical resin plate can be used.

(e)その他の構成
本発明に用いられるカラーフィルタとしては、上述した各構成を有していれば特に限定されず、必要に応じて、上記以外の構成を適宜選択して用いることができる。
(E) Other configurations The color filter used in the present invention is not particularly limited as long as it has the above-described configurations, and configurations other than those described above can be appropriately selected and used as necessary.

本発明に用いられるカラーフィルタは、例えば、図14に示すように、低反射層12および着色層13を覆うように形成されたオーバーコート層15を有していてもよい。この場合、補助電極層14における金属電極層14aおよび接続電極層14bはオーバーコート層15上に形成される。本発明においては、オーバーコート層15を有する場合は、低反射層12および着色層13の表面を平坦化することができ、補助電極層14を良好に形成することができる。また、カラーフィルタ側から有機EL表示装置内部への酸素、水蒸気等の浸入を抑制することができる。なお、図14は図7におけるカラーフィルタの例を示す概略断面図である。   For example, as shown in FIG. 14, the color filter used in the present invention may have an overcoat layer 15 formed so as to cover the low reflective layer 12 and the colored layer 13. In this case, the metal electrode layer 14 a and the connection electrode layer 14 b in the auxiliary electrode layer 14 are formed on the overcoat layer 15. In the present invention, when the overcoat layer 15 is provided, the surfaces of the low reflective layer 12 and the colored layer 13 can be planarized, and the auxiliary electrode layer 14 can be formed favorably. In addition, intrusion of oxygen, water vapor, or the like from the color filter side into the organic EL display device can be suppressed. 14 is a schematic sectional view showing an example of the color filter in FIG.

オーバーコート層の材料としては、所定の光透過性を有するものであれば特に限定されるものではなく、光硬化性樹脂であってもよく、熱硬化性樹脂であってもよい。
このようなオーバーコート層の材料としては、一般的なバインダ樹脂、モノマー成分、光重合開始剤、熱重合開始剤等が挙げられる。
The material of the overcoat layer is not particularly limited as long as it has a predetermined light transmittance, and may be a photocurable resin or a thermosetting resin.
Examples of the material for such an overcoat layer include general binder resins, monomer components, photopolymerization initiators, thermal polymerization initiators, and the like.

オーバーコート層の厚みとしては、所定の光透過性が得られる程度であり、着色層および低反射層の表面を平坦化することができる程度であれば特に限定されないが、例えば、0.5μm〜5.0μmの範囲内であることが好ましく、中でも0.7μm〜3.0μmの範囲内であることが好ましく、特に0.9μm〜2.0μmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the overcoat layer is not particularly limited as long as a predetermined light transmittance can be obtained and the surface of the colored layer and the low reflection layer can be flattened. It is preferably in the range of 5.0 μm, more preferably in the range of 0.7 μm to 3.0 μm, and particularly preferably in the range of 0.9 μm to 2.0 μm.

オーバーコート層の形成方法としては、着色層および低反射層の表面を覆うように形成することができる方法であれば特に限定されないが、例えば、スピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法等が挙げられる。   The method for forming the overcoat layer is not particularly limited as long as it can be formed so as to cover the surfaces of the colored layer and the low reflection layer. For example, the spin coat method, the casting method, the dipping method, the bar coat method , Blade coating method, roll coating method, gravure coating method, flexographic printing method, spray coating method and the like.

(3)カラーフィルタの形成方法
本発明に用いられるカラーフィルタの形成方法については、一般的なカラーフィルタの形成方法として公知の方法を用いることができるため、ここでの説明は省略する。
(3) Color Filter Forming Method Regarding the color filter forming method used in the present invention, since a known method can be used as a general color filter forming method, description thereof is omitted here.

2.有機EL素子側基板
本発明に用いられる有機EL素子側基板は、基板と、有機EL素子とを有するものである。
2. Organic EL Element Side Substrate The organic EL element side substrate used in the present invention has a substrate and an organic EL element.

(1)有機EL素子
本発明に用いられる有機EL素子は、上記基板上に形成された下面電極層、上記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機EL層、および上記有機EL層上に形成された上面透明電極層を有するものである。
(1) Organic EL Element The organic EL element used in the present invention is a bottom electrode layer formed on the substrate, an organic EL layer formed on the bottom electrode layer and including a light emitting layer, and the organic EL layer. It has the upper surface transparent electrode layer formed in this.

(a)有機EL層
本発明に用いられる有機EL層は、後述する下面電極層上に形成され、発光層を含むものである。
また、有機EL層は、有機EL表示装置における各画素に配置されて用いられるものである。また、通常、カラーフィルタの各着色層と対向するように配置されるものである。
(A) Organic EL layer The organic EL layer used in the present invention is formed on a lower electrode layer, which will be described later, and includes a light emitting layer.
Moreover, an organic EL layer is arrange | positioned and used for each pixel in an organic EL display apparatus. Moreover, it is usually arranged so as to face each colored layer of the color filter.

また、有機EL層は、発光層に加えて、通常、複数層の有機層から構成されるものであり、正孔注入層や電子注入層といった電荷注入層や、白色発光層に正孔を輸送する正孔輸送層、白色発光層に電子を輸送する電子輸送層といった電荷輸送層を有するものとすることができる。以下、本発明に用いられる有機EL層を構成する各層について説明する。   In addition to the light emitting layer, the organic EL layer is usually composed of a plurality of organic layers, and transports holes to a charge injection layer such as a hole injection layer or an electron injection layer, or to a white light emitting layer. And a charge transport layer such as a hole transport layer for transporting electrons and an electron transport layer for transporting electrons to the white light emitting layer. Hereinafter, each layer constituting the organic EL layer used in the present invention will be described.

(i)発光層
本発明に用いられる発光層としては、所望の発光を得ることができれば特に限定されず、例えば、白色発光層を有していてもよく、赤色発光層、青色発光層および緑色発光層の3色の発光層を有していていもよい。本発明においては、なかでも白色発光層を有することが好ましい。以下、本発明において好ましい態様である白色発光層について説明する。
(i) Light emitting layer The light emitting layer used in the present invention is not particularly limited as long as desired light emission can be obtained. For example, the light emitting layer may have a white light emitting layer, a red light emitting layer, a blue light emitting layer and a green light emitting layer. The light emitting layer may have three colors of light emitting layers. In the present invention, it is particularly preferable to have a white light emitting layer. Hereinafter, the white light emitting layer which is a preferable embodiment in the present invention will be described.

本発明において好適な発光層として用いられる白色発光層は、白色光を発光することができるものであればよい。このような白色発光層は、具体的には、有機EL層に電圧が加えられた際に、少なくとも青色光(430nm〜470nm)、緑色光(470nm〜600nm)、および赤色光(600nm〜700nm)の波長域の発光スペクトルを有するものであればよい。さらには、発光スペクトルにおいて緑色光(470nm〜600nm)ピークの最大発光強度と青色光(430nm〜470nm)ピークの最大発光強度の比(緑色光ピークの最大発光強度/青色光ピークの最大発光強度)が、0.3〜0.8の範囲内であることが好ましく、0.3〜0.7の範囲内であることがより好ましく、特に0.3〜0.5の範囲内であることが好ましい。   The white light emitting layer used as a suitable light emitting layer in the present invention may be any material that can emit white light. Specifically, such a white light emitting layer has at least blue light (430 nm to 470 nm), green light (470 nm to 600 nm), and red light (600 nm to 700 nm) when a voltage is applied to the organic EL layer. As long as it has an emission spectrum in the wavelength range of. Furthermore, the ratio of the maximum emission intensity of the green light (470 nm to 600 nm) peak and the maximum emission intensity of the blue light (430 nm to 470 nm) peak in the emission spectrum (maximum emission intensity of the green light peak / maximum emission intensity of the blue light peak). Is preferably in the range of 0.3 to 0.8, more preferably in the range of 0.3 to 0.7, and particularly preferably in the range of 0.3 to 0.5. preferable.

緑色光ピークの最大発光強度と青色光ピークの最大発光強度の比が上記の範囲内であることにより、青色パターンの透過率が大きいことによる消費電力低減効果を、より効果的に発揮することができる。また、赤色光(600nm〜700nm)については、赤色光ピークの最大発光強度と青色光ピークの最大発光強度の比(赤色光ピークの最大発光強度/青色光ピークの最大発光強度)が0.3〜1.0の範囲内であることが好ましい。   When the ratio of the maximum emission intensity of the green light peak and the maximum emission intensity of the blue light peak is within the above range, the power consumption reduction effect due to the large transmittance of the blue pattern can be more effectively exhibited. it can. For red light (600 nm to 700 nm), the ratio of the maximum emission intensity of the red light peak to the maximum emission intensity of the blue light peak (maximum emission intensity of the red light peak / maximum emission intensity of the blue light peak) is 0.3. It is preferable to be within the range of -1.0.

このような白色発光層を構成する材料としては、蛍光または燐光を発するものであればよく、特に限定されるものではない。また、発光材料は、正孔輸送性や電子輸送性を有していてもよい。発光材料としては、色素系材料、金属錯体系材料、および高分子系材料を挙げることができる。   The material constituting such a white light emitting layer is not particularly limited as long as it emits fluorescence or phosphorescence. In addition, the light emitting material may have a hole transport property or an electron transport property. Examples of the light emitting material include a dye material, a metal complex material, and a polymer material.

上記の色素系材料としては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾ−ル誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、およびピラゾリンダイマー等を挙げることができる。   Examples of the dye-based material include cyclopentamine derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, triphenylamine derivatives, oxadiazol derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, silole derivatives, thiophene ring compounds, Examples thereof include pyridine ring compounds, perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, trifumanylamine derivatives, oxadiazole dimers, and pyrazoline dimers.

また、上記の金属錯体系材料としては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、およびユーロピウム錯体、あるいは、中心金属に、Al、Zn、Be等またはTb、Eu、Dy等の希土類金属を有し、配位子に、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、およびキノリン構造等を有する金属錯体などを挙げることができる。   In addition, the above metal complex materials include an aluminum quinolinol complex, a benzoquinolinol beryllium complex, a benzoxazole zinc complex, a benzothiazole zinc complex, an azomethylzinc complex, a porphyrin zinc complex, and a europium complex, or a central metal, Al, Examples of the metal complex include Zn, Be, and the like, or rare earth metals such as Tb, Eu, and Dy, and the ligand includes oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, and a quinoline structure. .

また、上記の高分子系の材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ならびに上記の色素系材料および金属錯体系材料を高分子化したもの等を挙げることができる。   Examples of the polymer material include polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, and the like, polyfluorene derivatives, polyvinylcarbazole derivatives, and the above-described dye materials and metal complexes. Examples include polymerized system materials.

上記の白色発光層の形成方法としては、例えば、蒸着法、印刷法、インクジェット法、またはスピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、および自己組織化法(交互吸着法、自己組織化単分子膜法)等を挙げることができる。これらの中でも特に、蒸着法、スピンコート法、およびインクジェット法を用いることが好ましい。   Examples of the method for forming the white light emitting layer include a vapor deposition method, a printing method, an inkjet method, a spin coating method, a casting method, a dipping method, a bar coating method, a blade coating method, a roll coating method, a gravure coating method, and a flexographic method. Examples thereof include a printing method, a spray coating method, and a self-assembly method (alternate adsorption method, self-assembled monolayer method). Among these, it is particularly preferable to use a vapor deposition method, a spin coating method, and an ink jet method.

本発明に用いられる白色発光層の膜厚は、通常5nm〜5μm程度とされる。   The thickness of the white light emitting layer used in the present invention is usually about 5 nm to 5 μm.

(ii)正孔注入層
本発明においては、白色発光層と陽極(図1等における下面電極層81もしくは上面透明電極層85)との間に正孔注入層が形成されていてもよい。正孔注入層を設けることにより、白色発光層への正孔の注入が安定化し、発光効率を高めることができる。
(ii) Hole Injection Layer In the present invention, a hole injection layer may be formed between the white light emitting layer and the anode (the lower electrode layer 81 or the upper transparent electrode layer 85 in FIG. 1 and the like). By providing the hole injection layer, the injection of holes into the white light emitting layer is stabilized, and the light emission efficiency can be increased.

本発明に用いられる正孔注入層の形成材料としては、一般的に有機EL素子の正孔注入層に使用されている材料を用いることができる。また、正孔注入層の形成材料は、正孔の注入性もしくは電子の障壁性のいずれかを有するものであればよい。   As a material for forming the hole injection layer used in the present invention, a material generally used for a hole injection layer of an organic EL element can be used. The material for forming the hole injection layer may be any material that has either a hole injection property or an electron barrier property.

具体的に、正孔注入層の形成材料としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、およびチオフェンオリゴマー等の導電性高分子オリゴマー等を例示することができる。さらに、正孔注入層の形成材料としては、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、およびスチリルアミン化合物等を例示することができる。   Specifically, the hole injection layer forming material includes triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazoles. Examples include derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, polysilane-based, aniline-based copolymers, and conductive polymer oligomers such as thiophene oligomers. Furthermore, examples of the material for forming the hole injection layer include porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds, and styrylamine compounds.

このような材料から構成される正孔注入層の膜厚は、通常、5nm〜1μm程度とされる。   The thickness of the hole injection layer made of such a material is usually about 5 nm to 1 μm.

(iii)電子注入層
本発明においては、白色発光層と陰極(図1等における上面透明電極層85もしくは下面電極層81)との間に電子注入層が形成されていてもよい。電子注入層を設けることにより、白色発光層への電子の注入が安定化し、発光効率を高めることができるからである。
(iii) Electron Injection Layer In the present invention, an electron injection layer may be formed between the white light emitting layer and the cathode (upper transparent electrode layer 85 or lower electrode layer 81 in FIG. 1 and the like). This is because by providing the electron injection layer, the injection of electrons into the white light emitting layer is stabilized, and the luminous efficiency can be increased.

本発明に用いられる電子注入層の形成材料としては、例えばニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス(8−キノリノール)アルミニウム等の8−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ならびにジスチリルピラジン誘導体等を例示することができる。   Examples of the material for forming the electron injection layer used in the present invention include heterocyclic tetracarboxylic anhydrides such as nitro-substituted fluorene derivatives, anthraquinodimethane derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyrandioxide derivatives, naphthaleneperylene, carbodiimides, Fluorenylidenemethane derivatives, anthraquinodimethane and anthrone derivatives, oxadiazole derivatives, thiazole derivatives in which the oxygen atom of the oxadiazole ring of the oxadiazole derivative is replaced with a sulfur atom, quinoxaline ring known as an electron withdrawing group Examples thereof include quinoxaline derivatives having bismuth, metal complexes of 8-quinolinol derivatives such as tris (8-quinolinol) aluminum, phthalocyanines, metal phthalocyanines, and distyrylpyrazine derivatives.

このような材料から構成される電子注入層の膜厚は、通常、5nm〜1μm程度とされる。   The film thickness of the electron injection layer made of such a material is usually about 5 nm to 1 μm.

(b)上面透明電極層
本発明における上面透明電極層は、上述した有機EL層上に形成され、後述する下面電極層との間に挟まれた有機EL層に電圧をかけ、白色発光層で発光を起こさせるために設けられる。上面透明電極層は、基板上の全面に形成されていてもよく、所定のパターン状に形成されていてもよいが、通常、基板上の全面に形成される。
(B) Upper surface transparent electrode layer The upper surface transparent electrode layer in this invention is formed on the organic EL layer mentioned above, applies a voltage to the organic EL layer pinched | interposed between the lower surface electrode layers mentioned later, and is a white light emitting layer. Provided to cause light emission. The upper transparent electrode layer may be formed on the entire surface of the substrate or may be formed in a predetermined pattern, but is usually formed on the entire surface of the substrate.

また、上面透明電極層は、白色発光層で発生した光を、有機EL表示装置用カラーフィルタ側に透過させるものであるから、図1等に示されるように、上面透明電極層85は、有機EL層83と、有機EL層83の上側に位置する有機EL表示装置用カラーフィルタ10との間に配置される。   Moreover, since the upper surface transparent electrode layer transmits light generated in the white light emitting layer to the color filter side for the organic EL display device, as shown in FIG. The EL layer 83 is disposed between the organic EL display device color filter 10 positioned above the organic EL layer 83.

本発明に用いられる上面透明電極層の形成材料としては、例えば、透明性および導電性を有する金属酸化物等が挙げられる。このような金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム、酸化亜鉛、および酸化第二錫等が挙げられる。   Examples of the material for forming the upper transparent electrode layer used in the present invention include metal oxides having transparency and conductivity. Examples of such metal oxides include indium tin oxide (ITO), indium oxide, zinc oxide, and stannic oxide.

このような材料から構成される上面透明電極層の膜厚は、通常、100nm〜300nm程度とされる。   The film thickness of the upper transparent electrode layer made of such a material is usually about 100 nm to 300 nm.

上面透明電極層の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、必要に応じてフォトリソグラフィ法によりパターニングする方法が好適に用いられる。   As a method for forming the upper surface transparent electrode layer, for example, a method of forming a thin film by a vapor deposition method or a sputtering method and then patterning by a photolithography method as necessary is suitably used.

(c)下面電極層
本発明に用いられる下面電極層は、基板上に形成されるものであり、より具体的には基板と有機EL層との間に配置されるものである。下面電極層は、白色発光層を発光させるための他方の電極層をなすものであり、上記の上面透明電極層と反対の電荷をもつ電極層として構成される。
(C) Bottom electrode layer The bottom electrode layer used in the present invention is formed on a substrate, and more specifically, is disposed between the substrate and the organic EL layer. The lower electrode layer forms the other electrode layer for causing the white light emitting layer to emit light, and is configured as an electrode layer having a charge opposite to that of the upper transparent electrode layer.

用いられる下面電極層の形成材料としては、例えば仕事関数が4eV以下程度と小さい金属、合金、およびそれらの混合物等が挙げられる。具体的には、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウムおよび銅混合物、マグネシウムおよび銀混合物、マグネシウムおよびアルミニウム混合物、マグネシウムおよびインジウム混合物、アルミニウムおよび酸化アルミニウム(Al)混合物、インジウム、リチウムおよびアルミニウム混合物、ならびに、希土類金属等を例示することができる。より好ましくは、マグネシウムおよび銀混合物、マグネシウムおよびアルミニウム混合物、マグネシウムおよびインジウム混合物、アルミニウムおよび酸化アルミニウム(Al)混合物、ならびに、リチウムおよびアルミニウム混合物を挙げることができる。 Examples of the material for forming the lower surface electrode layer include metals, alloys, and mixtures thereof having a work function as small as about 4 eV or less. Specifically, sodium, sodium - potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium and copper mixtures, magnesium and silver mixture, magnesium and aluminum mixture, magnesium and indium mixture, aluminum and aluminum oxide (Al 2 O 3) mixture, indium, Examples include lithium and aluminum mixtures, and rare earth metals. More preferably, magnesium and silver mixture, magnesium and aluminum mixture, magnesium and indium mixture, aluminum and aluminum oxide (Al 2 O 3) mixture, and it can include lithium and aluminum mixture.

下面電極層は、そのシート抵抗が数Ω/cm以下であることが好ましい。また、下面電極層の膜厚は、通常、10nm〜1μm程度とされる。   The lower electrode layer preferably has a sheet resistance of several Ω / cm or less. The film thickness of the lower electrode layer is usually about 10 nm to 1 μm.

下面電極層の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィ法を用いてエッチングする方法が好適に用いられる。なお、下面電極層には有機EL素子に流れる電流を制御するためのTFT(Thin Film Transistor)が接続される。   As a method for forming the lower electrode layer, for example, a method of forming a thin film by a vapor deposition method or a sputtering method and then etching using a photolithography method is suitably used. Note that a TFT (Thin Film Transistor) for controlling a current flowing through the organic EL element is connected to the lower electrode layer.

(2)基板
本発明に用いられる基板としては、有機EL素子等を支持することができるものであればよく、有機EL表示装置の構成部材として一般的に用いられるものを使用することができる。なお、本発明の有機EL表示装置は、有機EL表示装置用カラーフィルタ側から光が取り出される、いわゆるトップエミッション方式であるため、有機EL素子側基板の基板としては、透明であっても、不透明であってもよい。
(2) Substrate The substrate used in the present invention may be any substrate that can support an organic EL element or the like, and those generally used as a constituent member of an organic EL display device can be used. In addition, since the organic EL display device of the present invention is a so-called top emission system in which light is extracted from the color filter side for the organic EL display device, the substrate of the organic EL element side substrate is transparent or opaque. It may be.

(3)その他の構成
本発明の有機EL素子側基板は、上述した下面電極層、有機EL層、および上面透明電極層を有していれば特に限定されず、必要な構成を適宜選択して追加することができる。
(3) Other configurations The organic EL element side substrate of the present invention is not particularly limited as long as it has the above-described lower electrode layer, organic EL layer, and upper transparent electrode layer, and a necessary configuration is appropriately selected. Can be added.

(a)TFT
本発明に用いられる有機EL素子側基板は、通常、画素を構成する有機EL素子に流れる電流を制御するためのTFT(Thin Film Transistor)を有する。
図1等に例示するようにTFT75は、基板上に画素ごとに配置形成されている。また、図示はしないが、各TFTの回路にはゲート線、信号線、電源線が接続されている。
(A) TFT
The organic EL element side substrate used in the present invention usually has a TFT (Thin Film Transistor) for controlling a current flowing in the organic EL element constituting the pixel.
As illustrated in FIG. 1 and the like, the TFT 75 is arranged and formed for each pixel on the substrate. Further, although not shown in the figure, a gate line, a signal line, and a power supply line are connected to each TFT circuit.

上記TFTの具体的な構成および形成方法については、有機EL表示装置に用いられるTFTの構成および形成方法として公知のものを用いることができるため、ここでの説明は省略する。   As for the specific structure and forming method of the TFT, known structures can be used as the structure and forming method of the TFT used in the organic EL display device, and thus description thereof is omitted here.

(b)第1絶縁層および第2絶縁層
図1等に示すように本発明に用いられる有機EL素子側基板70は、通常、TFT75上に第1絶縁層77が形成される。また、下面電極層81と上面透明電極層85とが直接接触することを防ぐために基板上に第2絶縁層91が形成される。
(B) First Insulating Layer and Second Insulating Layer As shown in FIG. 1 and the like, the organic EL element side substrate 70 used in the present invention usually has a first insulating layer 77 formed on a TFT 75. In addition, the second insulating layer 91 is formed on the substrate in order to prevent the lower electrode layer 81 and the upper transparent electrode layer 85 from coming into direct contact.

第2絶縁層のパターン形状は、通常、線状とすることができ、有機EL表示装置の用途等に応じて、例えばマトリクス状またはストライプ状の開口部を有するパターンを形成することができる。   The pattern shape of the second insulating layer can be generally linear, and a pattern having, for example, a matrix or stripe-shaped opening can be formed according to the use of the organic EL display device or the like.

このような第1絶縁層および第2絶縁層の形成材料としては、例えば感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂等の光硬化型樹脂、および熱硬化型樹脂、ならびに無機材料などを用いることができる。   As a material for forming the first insulating layer and the second insulating layer, for example, a photocurable resin such as a photosensitive polyimide resin or an acrylic resin, a thermosetting resin, an inorganic material, or the like can be used.

第1絶縁層および第2絶縁層の形成方法としては、上記材料を塗布して、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法が挙げられる。また、印刷法等を用いることもできる。   Examples of a method for forming the first insulating layer and the second insulating layer include a method in which the above material is applied and patterned by a photolithography method. Also, a printing method or the like can be used.

(c)封止層
本発明に用いられる有機EL素子側基板は、封止層を有していてもよい。
図5に示すように、封止層95は、上面透明電極層85上の接続電極層14bとの接触部分以外の部分(以下、非接触部分と称して説明する場合がある。)に形成される。封止層95は、有機EL層83へ水蒸気や酸素が到達することを遮断する保護層として設けられる。
(C) Sealing layer The organic EL element side substrate used in the present invention may have a sealing layer.
As shown in FIG. 5, the sealing layer 95 is formed in a portion other than the contact portion with the connection electrode layer 14 b on the upper transparent electrode layer 85 (hereinafter, sometimes referred to as a non-contact portion). The The sealing layer 95 is provided as a protective layer that blocks water vapor and oxygen from reaching the organic EL layer 83.

封止層としては、水蒸気や酸素に対してバリア性を発現することができ、かつ透明であれば特に限定されるものではなく、例えば透明無機膜、透明樹脂膜、あるいは有機−無機ハイブリッド膜等が用いられる。中でも、バリア性が高い点から、透明無機膜が好ましい。   The sealing layer is not particularly limited as long as it can exhibit a barrier property against water vapor and oxygen and is transparent. For example, a transparent inorganic film, a transparent resin film, an organic-inorganic hybrid film, etc. Is used. Among these, a transparent inorganic film is preferable because of its high barrier property.

封止層として好適に用いられる透明無機膜の形成材料としては、例えば酸化アルミニウム、酸化ケイ素、および酸化マグネシウム等の酸化物;窒化ケイ素等の窒化物;窒化酸化ケイ素等の窒化酸化物;などが用いられる。特に、ピンホールが生じにくくガスバリア性が高いことから、窒化酸化ケイ素が好適である。   Examples of the material for forming the transparent inorganic film suitably used as the sealing layer include oxides such as aluminum oxide, silicon oxide, and magnesium oxide; nitrides such as silicon nitride; nitride oxides such as silicon nitride oxide; Used. In particular, silicon nitride oxide is preferable because pinholes hardly occur and gas barrier properties are high.

封止層は、単層であっても良く、多層であってもよい。例えば、封止層が複数の窒化酸化ケイ素膜が積層された多層である場合は、バリア性をさらに高めることができる。また、封止層が多層である場合は、各層にそれぞれ異なる材料を用いてもよい。   The sealing layer may be a single layer or a multilayer. For example, when the sealing layer is a multilayer in which a plurality of silicon nitride oxide films are stacked, the barrier property can be further improved. Moreover, when a sealing layer is a multilayer, you may use a different material for each layer, respectively.

封止層の厚みは、用いる封止層の形成材料の種類等に応じて適宜、決定するようにすればよい。通常、5nm〜5μm程度とされる。この封止層の厚みが薄すぎるとバリア性が不十分となる傾向が生じ、また封止層の厚みが厚すぎると薄膜の膜応力によるクラック等の現象が生じ易くなるという傾向が生じる。   The thickness of the sealing layer may be appropriately determined according to the type of the sealing layer forming material used. Usually, it is about 5 nm to 5 μm. If the sealing layer is too thin, the barrier property tends to be insufficient, and if the sealing layer is too thick, a phenomenon such as cracking due to film stress of the thin film tends to occur.

封止層が透明の無機膜である場合、この透明無機膜の形成方法としては、真空状態で形成できる膜の形成方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、電子ビーム(EB)蒸着法や抵抗加熱法等の真空蒸着法、原子層エピタキシ(ALE)法、レーザーアブレーション法、化学気相成長(CVD)法等が挙げられる。これらの中でも、生産性の観点から、スパッタリング法、イオンプレーティング法、CVD法が好ましく用いられる。   When the sealing layer is a transparent inorganic film, the method for forming the transparent inorganic film is not particularly limited as long as it is a film forming method that can be formed in a vacuum state. For example, sputtering, ion plating And vacuum deposition methods such as electron beam (EB) deposition and resistance heating, atomic layer epitaxy (ALE), laser ablation, and chemical vapor deposition (CVD). Among these, the sputtering method, the ion plating method, and the CVD method are preferably used from the viewpoint of productivity.

封止層を上述した非接触部分にパターン状に形成する手法としては、例えば、封止層の薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法が好適に用いられる。   As a method of forming the sealing layer in a pattern on the non-contact portion described above, for example, a method of patterning by a photolithography method after forming a thin film of the sealing layer is preferably used.

(4)有機EL素子側基板の形成方法
本発明に用いられる有機EL素子側基板の形成方法としては、一般的な有機EL表示装置に用いられる有機EL素子側基板の形成方法として公知の方法を用いることができるため、ここでの説明は省略する。
(4) Method for Forming Organic EL Element Side Substrate As a method for forming the organic EL element side substrate used in the present invention, a method known as a method for forming an organic EL element side substrate used in a general organic EL display device is used. Since it can be used, description here is omitted.

3.その他の構成
本発明の有機EL表示装置は、カラーフィルタと、有機EL素子側基板とを有していれば特に限定されず、必要に応じて、上記以外の構成を適宜選択して追加することができる。
以下、このような構成について説明する。
3. Other Configurations The organic EL display device of the present invention is not particularly limited as long as it has a color filter and an organic EL element side substrate. If necessary, a configuration other than the above is appropriately selected and added. Can do.
Hereinafter, such a configuration will be described.

(1)接着剤層
本発明の有機EL表示装置は、接着剤層を有していてもよい。図1等に示すように、接着剤層99は、カラーフィルタ10および有機EL素子側基板70の間の空間に充填するように配置され、両者を貼り合わせるために用いられるものである。
接着剤層としては、透明で接着力を有し、かつ、硬化性を有するものであれば特に限定されるものではない。このような接着剤層を形成する材料としては、例えば、熱硬化性を有する接着剤、あるいは光硬化性を有する接着剤を好適例として挙げることができる。通常、溶剤を必要としないタイプものがよい。また、フィルム状の接着シートタイプのものを用いてもよい。具体的には、エポキシ系、アクリル系、ポリイミド系、合成ゴム系などの接着剤や接着シートを挙げることができる。
(1) Adhesive Layer The organic EL display device of the present invention may have an adhesive layer. As shown in FIG. 1 and the like, the adhesive layer 99 is disposed so as to fill a space between the color filter 10 and the organic EL element side substrate 70, and is used for bonding the two together.
The adhesive layer is not particularly limited as long as it is transparent, has adhesive strength, and has curability. As a material for forming such an adhesive layer, for example, a thermosetting adhesive or a photocurable adhesive can be cited as a preferred example. Usually, a type that does not require a solvent is preferable. Also, a film-like adhesive sheet type may be used. Specific examples include epoxy-based, acrylic-based, polyimide-based, and synthetic rubber-based adhesives and adhesive sheets.

(2)シール剤
本発明の有機EL表示装置は、シール剤を有していてもよい。シール剤は、上述したカラーフィルタおよび有機EL素子側基板の外周部に配置されるものであり、有機EL表示装置を封止するものである。シール剤を用いる場合は、通常、カラーフィルタおよび有機EL素子側基板の間の隙間部分を空けたままにしておき、窒素等の不活性ガス雰囲気中において封止が行われる。また、この場合、有機EL表示装置の中空の内部に酸化バリウム等の捕水剤を備えるようにしてもよい。
シール剤、およびこれを用いた封止方法については、一般的な有機EL表示装置に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
(2) Sealant The organic EL display device of the present invention may have a sealant. A sealing agent is arrange | positioned at the outer peripheral part of the color filter mentioned above and an organic EL element side board | substrate, and seals an organic EL display apparatus. In the case of using a sealing agent, the gap is usually left between the color filter and the organic EL element side substrate, and sealing is performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen. In this case, a water capturing agent such as barium oxide may be provided in the hollow interior of the organic EL display device.
Since the sealing agent and the sealing method using the same can be the same as those used in a general organic EL display device, description thereof is omitted here.

(3)配線
本発明の有機EL表示装置は、通常、電源と有機EL表示装置とを繋ぐ配線が設けられる。
電源からの配線形態は、例えば、図1等に示されるように、電源Pの一方の極から各々のTFT75に至る配線201と、電源Pの他方の極から上面透明電極層85に至る配線202−203と、電源Pの他方の極から補助電極層14に至る配線202−204と、を有し構成される。有機EL素子80を発光させるための配線回路が配線201と配線202−203であり、TFT側の電流をカラーフィルタ側の補助電極層13へ逃がして電圧降下を防止するための配線回路が配線201と配線204−202である。
本発明に用いられる配線については、一般的な有機EL表示装置に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
(3) Wiring The organic EL display device of the present invention is usually provided with a wiring connecting the power source and the organic EL display device.
For example, as shown in FIG. 1 and the like, the wiring form from the power source is a wiring 201 from one pole of the power source P to each TFT 75, and a wiring 202 from the other pole of the power source P to the upper transparent electrode layer 85. -203 and wirings 202-204 extending from the other pole of the power source P to the auxiliary electrode layer 14 are configured. The wiring circuit for causing the organic EL element 80 to emit light is the wiring 201 and the wiring 202-203, and the wiring circuit for releasing the current on the TFT side to the auxiliary electrode layer 13 on the color filter side to prevent a voltage drop is the wiring 201. And wirings 204-202.
Since the wiring used in the present invention can be the same as that used in a general organic EL display device, description thereof is omitted here.

III.有機EL表示装置の製造方法
本発明の有機EL表示装置の製造方法については、一般的な有機EL表示装置の製造方法として公知の方法を用いることができるため、ここでの説明は省略する。
III. Manufacturing Method of Organic EL Display Device As a manufacturing method of the organic EL display device of the present invention, since a known method can be used as a general manufacturing method of an organic EL display device, description thereof is omitted here.

IV.用途
本発明の有機EL表示装置の用途としては、例えば、大型ディスプレイ等を挙げることができる。
IV. Application Examples of the application of the organic EL display device of the present invention include a large display.

B.有機EL表示装置用カラーフィルタ
本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタは、透明基板と、上記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層と、上記透明基板上の上記低反射層の上記開口部に形成された着色層と、上記低反射層上に形成された金属電極層、および上記着色層上に形成され上記金属電極層と電気的に接続する接続電極層を有する補助電極層とを備えることを特徴とするものである。
B. Color filter for organic EL display device The color filter for organic EL display device of the present invention includes a transparent substrate, a low reflection layer having an opening formed on the transparent substrate, and the low reflection layer on the transparent substrate. An auxiliary electrode layer having a colored layer formed in the opening, a metal electrode layer formed on the low-reflection layer, and a connection electrode layer formed on the colored layer and electrically connected to the metal electrode layer It is characterized by providing.

本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタの例としては、例えば、上述した「A.有機EL表示装置」の項で説明した図8(a)、(b)〜図14等を挙げることができる。   Examples of the color filter for an organic EL display device of the present invention include, for example, FIGS. 8A and 8B described in the above-mentioned section “A. Organic EL display device”. .

本発明によれば、上記補助電極層を有することにより、有機EL表示装置に用いた場合有機EL素子側基板側からの電流を補助電極層を介して有機EL表示装置用カラーフィルタ側に導いて逃すことができるため、輝度ムラの発生を防止することができる有機EL表示装置用カラーフィルタとすることができる。
また、本発明によれば、比較的面積の広い着色層上に接続電極層が形成されていることから、有機EL表示装置に用いた場合に接続電極層および上面透明電極層の導通面積を大きくすることができるため、有機EL素子側基板側からカラーフィルタ側に電流を逃がしやすくすることができるので、上述した輝度ムラを好適に防止することができる有機EL表示装置用カラーフィルタとすることができる。
また、本発明によれば、接続電極層が着色層上に形成され、上面透明電極層と導通するように接触されていることにより、有機EL表示装置に用いた場合に、着色層を用いて接続電極層および上面透明電極層を導通するように接触させることができ、例えば柱部等の接続電極層および上面透明電極層を接触させるための他の部材を必要としない。よって、有機EL表示装置用カラーフィルタの製造工程数を少なくすることができ、生産性が良好な有機EL表示装置用カラーフィルタとすることができる。
According to the present invention, by having the auxiliary electrode layer, when used in the organic EL display device, the current from the organic EL element side substrate side is guided to the color filter side for the organic EL display device through the auxiliary electrode layer. Since it can be missed, it can be set as the color filter for organic EL display devices which can prevent the brightness nonuniformity generation.
Further, according to the present invention, since the connection electrode layer is formed on the colored layer having a relatively large area, the conductive area of the connection electrode layer and the upper transparent electrode layer is increased when used in the organic EL display device. Therefore, the current can be easily released from the organic EL element side substrate side to the color filter side, so that the above-described luminance unevenness can be suitably prevented. it can.
Further, according to the present invention, the connection electrode layer is formed on the colored layer and is in contact with the upper transparent electrode layer, so that when used in an organic EL display device, the colored layer is used. The connection electrode layer and the upper surface transparent electrode layer can be brought into contact with each other, and, for example, other members for contacting the connection electrode layer and the upper surface transparent electrode layer such as pillars are not required. Therefore, the number of manufacturing steps of the color filter for organic EL display devices can be reduced, and the color filter for organic EL display devices with good productivity can be obtained.

本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタの詳細については、上述した「A.有機EL表示装置 II.有機EL表示装置の各構成 1.カラーフィルタ」の項で説明したものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   The details of the color filter for the organic EL display device of the present invention are the same as those described in the above-mentioned section “A. Organic EL display device II. Each configuration of organic EL display device 1. Color filter”. Since it can do, description here is abbreviate | omitted.

本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタが用いられる有機EL表示装置については、上述した「A.有機EL表示装置」の項で説明したものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。   The organic EL display device in which the color filter for the organic EL display device of the present invention is used can be the same as that described in the above-mentioned section “A. Organic EL display device”. Omitted.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
[実施例1]
(透明基板の準備)
透明基板として、大きさが1500mm×1850mm、厚みが0.7mmのガラス基板を準備した。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.
[Example 1]
(Preparation of transparent substrate)
A glass substrate having a size of 1500 mm × 1850 mm and a thickness of 0.7 mm was prepared as a transparent substrate.

(低反射層形成用組成物の調整)
まず、重合槽中にメタクリル酸メチル(MMA)を63質量部、アクリル酸(AA)を12質量部、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル(HEMA)を6質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)を88質量部仕込み、攪拌し溶解させた後、2、2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)を7質量部添加し、均一に溶解させた。
その後、窒素気流下、85℃で2時間攪拌し、更に100℃で1時間反応させた。
得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル(GMA)を7質量部、トリエチルアミンを0.4質量部、及びハイドロキノンを0.2質量部添加し、100℃で5時間攪拌し、共重合樹脂溶液(固形分50%)を得た。
(Adjustment of composition for forming low reflection layer)
First, 63 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), 12 parts by mass of acrylic acid (AA), 6 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), and 88 parts by mass of diethylene glycol dimethyl ether (DMDG) in the polymerization tank. After the parts were charged, stirred and dissolved, 7 parts by mass of 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) was added and dissolved uniformly.
Then, it stirred at 85 degreeC under nitrogen stream for 2 hours, and also was made to react at 100 degreeC for 1 hour.
Further, 7 parts by mass of glycidyl methacrylate (GMA), 0.4 parts by mass of triethylamine, and 0.2 parts by mass of hydroquinone were added to the obtained solution, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 5 hours to obtain a copolymer resin solution ( A solid content of 50%) was obtained.

次に、下記の材料を室温で攪拌、混合して下記組成の硬化性樹脂組成物Aを調製した。
<硬化性樹脂組成物Aの組成>
・上記共重合樹脂溶液(固形分50%) …16質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399)
…24質量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70) …4質量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン
…4質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル …52質量部
Next, the following materials were stirred and mixed at room temperature to prepare a curable resin composition A having the following composition.
<Composition of curable resin composition A>
-Copolymer resin solution (solid content 50%) ... 16 parts by mass-Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399)
... 24 parts by mass · Ortho-cresol novolac type epoxy resin (Epico Shell Epoxy Epicoat 180S70) · 4 parts by mass · 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one
... 4 parts by mass, diethylene glycol dimethyl ether ... 52 parts by mass

次いで、下記分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調製した。
<黒色顔料分散液の組成>
・黒色顔料(三菱化学社製 #2600) …20質量部
・高分子分散材(ビックケミー・ジャパン株式会社 Disperbyk 111)
…16質量部
・溶剤(ジエチレングリコールジメチルエーテル) …64質量部
Next, the following components were mixed and sufficiently dispersed with a sand mill to prepare a black pigment dispersion.
<Composition of black pigment dispersion>
Black pigment (Mitsubishi Chemical Corporation # 2600) 20 parts by mass Polymer dispersion (Bic Chemie Japan, Ltd. Disperbyk 111)
... 16 parts by mass, solvent (diethylene glycol dimethyl ether) ... 64 parts by mass

その後、下記分量の成分を十分混合して、低反射層形成用組成物を得た。
<低反射層形成用組成物の組成>
・上記黒色顔料分散液 …50質量部
・上記硬化性樹脂組成物A …20質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル …30質量部
Thereafter, the following components were mixed sufficiently to obtain a composition for forming a low reflection layer.
<Composition of composition for forming low reflection layer>
-Black pigment dispersion liquid: 50 parts by mass-Curable resin composition A: 20 parts by mass-Diethylene glycol dimethyl ether: 30 parts by mass

(低反射層の形成)
次に、得られた低反射層形成用組成物を透明基板に塗布し、フォトリソグラフィ法によりパターニングし、その後焼成して低反射層を形成した。
(Formation of low reflection layer)
Next, the obtained composition for forming a low reflection layer was applied to a transparent substrate, patterned by photolithography, and then baked to form a low reflection layer.

(着色層の形成)
次いで、下記組成の赤色着色層形成用組成物、緑色着色層形成用組成物、青色着色層形成用組成物を調製した。
(Formation of colored layer)
Next, a red colored layer forming composition, a green colored layer forming composition, and a blue colored layer forming composition having the following compositions were prepared.

<赤色着色層形成用組成物>
・C.I.ピグメントレッド254 …10質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 …8質量部
・上記硬化性樹脂組成物A …15質量部
・酢酸−3−メトキシブチル …67質量部
<Red colored layer forming composition>
・ C. I. Pigment Red 254 ... 10 parts by mass, polysulfonic acid type polymer dispersant ... 8 parts by mass, the curable resin composition A ... 15 parts by mass, 3-methoxybutyl acetate ... 67 parts by mass

<緑色着色層形成用組成物>
・C.I.ピグメントグリーン58 …10質量部
・C.I.ピグメントイエロー138 …3質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 …8質量部
・上記硬化性樹脂組成物A …12質量部
・酢酸−3−メトキシブチル …67質量部
<Green colored layer forming composition>
・ C. I. Pigment Green 58: 10 parts by mass / C.I. I. Pigment Yellow 138 3 parts by mass, polysulfonic acid type polymer dispersant 8 parts by mass, the curable resin composition A 12 parts by mass, 3-methoxybutyl acetate 67 parts by mass

<青色着色層形成用組成物>
・C.I.ピグメントブルー1 …5質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 …3質量部
・上記硬化性樹脂組成物A …25質量部
・酢酸−3−メトキシブチル …67質量部
<Blue colored layer forming composition>
・ C. I. Pigment Blue 1 ... 5 parts by mass, polysulfonic acid type polymer dispersant ... 3 parts by mass, the curable resin composition A ... 25 parts by mass, 3-methoxybutyl acetate ... 67 parts by mass

<白色着色層形成用組成物>
・上記硬化性樹脂組成物A …33質量部
・酢酸−3−メトキシブチル …67質量部
<White colored layer forming composition>
-The said curable resin composition A ... 33 mass parts-3-methoxybutyl acetate ... 67 mass parts

次に、ガラス基板上の低反射層を覆うように赤色着色層形成用組成物をスピンコート法により塗布し、フォトリソグラフィ法によりパターニングした後、焼成して赤色着色層を形成した。
その後、緑色着色層形成用組成物、および青色着色層形成用組成物を用いて、同様の操作により緑色着色層および青色着色層を形成した。これにより、赤色着色層、緑色着色層、および青色着色層が配列された着色層を形成した。
着色層の膜厚は、赤色着色層4.5μm、緑色着色層1.5μm、青色着色層1.5μm、白色着色層1.5μmとした。
Next, a red colored layer forming composition was applied by spin coating so as to cover the low reflective layer on the glass substrate, patterned by photolithography, and baked to form a red colored layer.
Then, the green colored layer and the blue colored layer were formed by the same operation using the green colored layer forming composition and the blue colored layer forming composition. As a result, a colored layer in which a red colored layer, a green colored layer, and a blue colored layer were arranged was formed.
The thickness of the colored layer was 4.5 μm for the red colored layer, 1.5 μm for the green colored layer, 1.5 μm for the blue colored layer, and 1.5 μm for the white colored layer.

(金属電極層の形成)
次いで、低反射層上および着色層上に、蒸着法を用いて厚み0.5μmのAg薄膜を形成し、その後、フォトリソグラフィ法によりパターニングして低反射層が形成された非画素エリアに金属電極層を形成した。
(Formation of metal electrode layer)
Next, an Ag thin film having a thickness of 0.5 μm is formed on the low reflection layer and the colored layer by vapor deposition, and then patterned by photolithography to form a metal electrode on the non-pixel area where the low reflection layer is formed. A layer was formed.

(接続電極層の形成)
次いで、スパッタリング法により厚み100nmのITO膜を透明基板の金属電極層側全面に形成して接続電極層を得た。
(Formation of connection electrode layer)
Next, an ITO film having a thickness of 100 nm was formed on the entire surface of the transparent substrate on the metal electrode layer side by a sputtering method to obtain a connection electrode layer.

(アニール処理)
その後、150℃の条件下で40分間アニール処理を行った。
以上の工程によりカラーフィルタを作製した。
(Annealing treatment)
Thereafter, annealing was performed for 40 minutes at 150 ° C.
The color filter was produced by the above process.

(有機EL表示装置の作製)
上記のカラーフィルタ基板と対向配置して有機EL表示装置を作製するためのEL素子側基板として、白色発光光源を備える有機EL素子側基板を以下の要領で作製した。
まず、基板として、大きさが1500mm×1850mm、厚さが0.7mmのガラス基板(コーニング社製1737ガラス)を準備した。この基板に対して、定法にしたがって薄膜トランジスタ回路を作製した。
次に、上記基板の薄膜トランジスタ回路側の表面上に、カラーフィルタ基板の各色の着色層に対応するようにアルミニウムからなる下面電極層を形成し、これらの下面電極層の間隙にポリイミドからなる絶縁層(隔壁部)を形成した。次に、絶縁層(隔壁部)の間隙に白色発光の有機EL素子(正孔注入層、白色発光層、電子注入層の積層構成)を形成し、これらの上に酸化インジウムスズ(ITO)からなる上面透明電極層を形成した。
その後、カラーフィルタの着色層側表面と上面透明電極層を有する有機EL素子側基板の前記有機EL素子側表面とが対向し、接続電極層と前記上面透明電極層とが導通するよう接触させ、接着剤(日東電工(株)製 NT−01UV)を介して貼り合わせることにより、有機EL表示装置を作製した。
(Production of organic EL display device)
An organic EL element side substrate including a white light-emitting light source was manufactured as follows as an EL element side substrate for manufacturing an organic EL display device facing the color filter substrate.
First, a glass substrate (Corning 1737 glass) having a size of 1500 mm × 1850 mm and a thickness of 0.7 mm was prepared as a substrate. A thin film transistor circuit was produced on this substrate according to a conventional method.
Next, a lower electrode layer made of aluminum is formed on the surface of the substrate on the thin film transistor circuit side so as to correspond to the colored layers of each color of the color filter substrate, and an insulating layer made of polyimide is formed between the lower electrode layers. (Partition wall) was formed. Next, a white light emitting organic EL element (laminated structure of a hole injection layer, a white light emitting layer, and an electron injection layer) is formed in the gap between the insulating layers (partition walls), and indium tin oxide (ITO) is formed thereon. An upper transparent electrode layer was formed.
Then, the colored layer side surface of the color filter and the organic EL element side surface of the organic EL element side substrate having the upper surface transparent electrode layer are opposed to each other so that the connection electrode layer and the upper surface transparent electrode layer are electrically connected, An organic EL display device was produced by bonding through an adhesive (NT-01UV manufactured by Nitto Denko Corporation).

[実施例2]
実施例1と同様の方法で、低反射層まで形成した。
その後、実施例1と着色層の膜厚を変更して、着色層を形成した。各着色層の厚みは、赤色着色層2.5μm、緑色着色層2.5μm、青色着色層2.5μm、白色着色層2.5μmとした。
次いで、低反射層上および着色層上に、蒸着法を用いて厚み0.5μmのAg薄膜を形成し、その後、フォトリソグラフィ法によりパターニングして低反射層が形成された非画素エリアに金属電極層を形成した。また、低反射層と平面視上重なる着色層上に、低反射層の開口部と平面視上重なる接続電極層用開口部を有する金属接続電極層を金属電極層と一体に形成し、カラーフィルタを得た。
その後、実施例1と同様の有機EL表示装置の作製方法で、有機EL表示装置を得た。
[Example 2]
The low reflection layer was formed in the same manner as in Example 1.
Then, the colored layer was formed by changing the film thickness of Example 1 and the colored layer. The thickness of each colored layer was a red colored layer 2.5 μm, a green colored layer 2.5 μm, a blue colored layer 2.5 μm, and a white colored layer 2.5 μm.
Next, an Ag thin film having a thickness of 0.5 μm is formed on the low reflection layer and the colored layer by vapor deposition, and then patterned by photolithography to form a metal electrode on the non-pixel area where the low reflection layer is formed. A layer was formed. In addition, a color connection layer is formed integrally with the metal electrode layer on the colored layer that overlaps the low reflection layer in plan view, and the connection electrode layer opening that overlaps the opening of the low reflection layer in plan view. Got.
Thereafter, an organic EL display device was obtained by the same method for producing an organic EL display device as in Example 1.

[実施例3]
実施例2と同様の方法で着色層まで形成した。
[Example 3]
A colored layer was formed in the same manner as in Example 2.

(オーバーコート層の形成)
着色層を形成した基板上に、硬化性樹脂組成物Aをスピンコーティング法により塗布、乾燥し、乾燥塗膜2μmの塗布膜を形成した。
硬化性樹脂組成物Aの塗布膜から100μmの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いて保護層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照射した。次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後基板を200℃の雰囲気中に30分間放置することにより加熱処理を施してオーバーコート層を形成した。
(Formation of overcoat layer)
On the substrate on which the colored layer was formed, the curable resin composition A was applied by a spin coating method and dried to form a coating film having a dry coating film thickness of 2 μm.
A photomask is placed at a distance of 100 μm from the coating film of the curable resin composition A, and an ultraviolet ray is applied only to the region corresponding to the protective layer forming region using a 2.0 kW ultrahigh pressure mercury lamp by a proximity aligner for 10 seconds. Irradiated. Subsequently, it was immersed in 0.05 wt% potassium hydroxide aqueous solution (liquid temperature 23 degreeC) for 1 minute, and alkali image development was carried out, and only the uncured part of the coating film of curable resin composition was removed. Thereafter, the substrate was left to stand in an atmosphere of 200 ° C. for 30 minutes to perform heat treatment to form an overcoat layer.

(金属接続電極層の形成)
次いで、オーバーコート層上に、蒸着法を用いて厚み0.5μmのAg薄膜を形成し、その後、フォトリソグラフィ法によりパターニングして、実施例2と同様に金属電極層および金属接続電極層を一体に形成し、カラーフィルタを得た。
その後、実施例1と同様の有機EL表示装置の作製方法で、有機EL表示装置を得た。
(Formation of metal connection electrode layer)
Next, an Ag thin film having a thickness of 0.5 μm is formed on the overcoat layer by vapor deposition, and then patterned by photolithography to integrate the metal electrode layer and the metal connection electrode layer in the same manner as in Example 2. To obtain a color filter.
Thereafter, an organic EL display device was obtained by the same method for producing an organic EL display device as in Example 1.

[実施例4]
実施例1と同様の方法で、低反射層まで形成した。
次に、実施例1と着色層の膜厚を変更して、赤色着色層、緑色着色層、および青色着色層を形成した。その後、白色着色層のフォトマスクを変更し、白色着色層形成部と赤色着色層上に白色着色層を形成した。各層の膜厚は、赤色着色層および白色着色層の積層体4.8μm、緑色着色層2.5μm、青色着色層2.5μm、白色着色層2.5μmとした。その後、実施例1と同様の方法で、金属電極層の形成、接続電極層の形成、アニール処理を行いカラーフィルタを得た。
その後、実施例1と同様の有機EL表示装置の作製方法で、有機EL表示装置を得た。
[Example 4]
The low reflection layer was formed in the same manner as in Example 1.
Next, the film thickness of Example 1 and the colored layer was changed to form a red colored layer, a green colored layer, and a blue colored layer. Then, the photomask of the white colored layer was changed, and the white colored layer was formed on the white colored layer forming part and the red colored layer. The thickness of each layer was set to 4.8 μm, a green colored layer 2.5 μm, a blue colored layer 2.5 μm, and a white colored layer 2.5 μm. Thereafter, in the same manner as in Example 1, formation of a metal electrode layer, formation of a connection electrode layer, and annealing treatment were performed to obtain a color filter.
Thereafter, an organic EL display device was obtained by the same method for producing an organic EL display device as in Example 1.

[実施例5]
実施例3と同様の方法で着色層までを形成した後、実施例1と同様の方法で金属電極層の形成、接続電極層の形成、アニール処理を行いカラーフィルタを得た。
その後、実施例1と同様の有機EL表示装置の作成方法で、有機EL表示装置を得た。
[Example 5]
After forming the colored layer by the same method as in Example 3, the metal filter layer was formed, the connection electrode layer was formed, and the annealing process was performed in the same manner as in Example 1 to obtain a color filter.
Thereafter, an organic EL display device was obtained by the same method for producing an organic EL display device as in Example 1.

[比較例1]
実施例2と同様の方法で着色層まで形成した。その後、非画素エリアの所定の箇所に、フォトリソグラフィ法を用いてNN780(JSR社製)を用いて凸状柱を形成し、カラーフィルタを得た。凸状柱の基部の幅は40μm、頂部の幅は20μm、高さは20μmであり、基部側から頂部に至るテーパー角度は70°であった。
その後、実施例1と同様の有機EL表示装置の作成方法で、有機EL表示装置を得た。
[Comparative Example 1]
A colored layer was formed in the same manner as in Example 2. Thereafter, convex columns were formed at predetermined locations in the non-pixel area using NN780 (manufactured by JSR) using a photolithography method to obtain a color filter. The width of the base of the convex column was 40 μm, the width of the top was 20 μm, the height was 20 μm, and the taper angle from the base to the top was 70 °.
Thereafter, an organic EL display device was obtained by the same method for producing an organic EL display device as in Example 1.

[比較例2]
実施例2と同様の方法で着色層まで形成し、その後、実施例3と同様の方法でオーバーコートを形成した。次に、実施例1と同様の方法で金属電極層を形成し、ついで比較例1と同様の方法で凸状柱を形成した。最後に、実施例1と同様の方法で、接続電極層の形成とアニール処理を行いカラーフィルタを得た。
その後、実施例1と同様の有機EL表示装置の作成方法で、有機EL表示装置を得た。
[Comparative Example 2]
A colored layer was formed in the same manner as in Example 2, and then an overcoat was formed in the same manner as in Example 3. Next, a metal electrode layer was formed by the same method as in Example 1, and then a convex column was formed by the same method as in Comparative Example 1. Finally, the connection electrode layer was formed and annealed by the same method as in Example 1 to obtain a color filter.
Thereafter, an organic EL display device was obtained by the same method for producing an organic EL display device as in Example 1.

[評価]
(輝度ムラの評価方法)
上記有機EL表示装置について、白表示をした際に表示部の中央と外周の輝度の差(ΔY)を輝度計(株)トプコン製SR−3ARを用いて行った。表1中、ΔYが10%未満を○とし、ΔYが10%以上を×として判断した。
[Evaluation]
(Evaluation method of luminance unevenness)
About the said organic EL display apparatus, when carrying out white display, the difference ((DELTA) Y) of the brightness | luminance of the center and outer periphery of a display part was performed using the luminance meter SR-3AR by Topcon. In Table 1, ΔY was judged to be less than 10%, and ΔY was judged to be 10% or more as x.

(工程数・コストの判断)
カラーフィルタを製造する工程数について、比較例2の工程数を基準として比較を行った。表1中、比較例2より工程数が1工程少ない製造方法のコストを○、2工程以上少ない製造方法のコストを◎とした。
(Judgment of number of processes / cost)
The number of steps for manufacturing the color filter was compared based on the number of steps in Comparative Example 2. In Table 1, the cost of the production method having one fewer steps than Comparative Example 2 was marked as ○, and the cost of the production method fewer than two steps was marked as ◎.

(総合判定)
輝度ムラ評価結果及びコスト判断結果が○若しくは◎のみにおいて、総合判断を○とし判定を行った。
(Comprehensive judgment)
When the brightness unevenness evaluation result and the cost judgment result were only ○ or ◎, the overall judgment was made ○ and the judgment was made.

Figure 0006098234
Figure 0006098234

10 … カラーフィルタ(有機EL表示装置用カラーフィルタ)
11 … 透明基板
12 … 低反射層
13 … 着色層
14 … 補助電極層
14a … 金属電極層
14b … 接続電極層
70 … 有機EL素子側基板
71 … 基板
80 … 有機EL素子
81 … 下面電極層
83 … 有機EL層
85 … 上面透明電極層
100 … 有機EL表示装置
X … 低反射層の開口部
10 Color filter (Color filter for organic EL display)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Transparent substrate 12 ... Low reflection layer 13 ... Colored layer 14 ... Auxiliary electrode layer 14a ... Metal electrode layer 14b ... Connection electrode layer 70 ... Organic EL element side substrate 71 ... Substrate 80 ... Organic EL element 81 ... Bottom electrode layer 83 ... Organic EL layer 85 ... Upper transparent electrode layer 100 ... Organic EL display device X ... Opening of low reflection layer

Claims (6)

透明基板、前記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層、前記透明基板上の前記低反射層の前記開口部に形成された着色層、ならびに、前記低反射層上に形成された金属電極層、および前記着色層上に形成され前記金属電極層と電気的に接続する接続電極層を有する補助電極層を備えるカラーフィルタと、
基板、ならびに、前記基板上に形成された下面電極層、前記下面電極層上に形成され、発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス層、および前記有機エレクトロルミネッセンス層上に形成された上面透明電極層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を備える有機エレクトロルミネッセンス素子側基板と、
を有し、
前記カラーフィルタの前記着色層側表面と前記有機エレクトロルミネッセンス素子側基板の前記有機エレクトロルミネッセンス素子側表面とが対向するように配置され、
前記接続電極層と前記上面透明電極層とが導通するように接触しているおり、
前記着色層の少なくとも一部が、前記低反射層および前記金属電極層の合計の厚みよりも厚い厚膜部であり、
前記接続電極層が、前記着色層の厚膜部と平面視上重なる領域で前記上面透明電極層に接触していることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
A transparent substrate, a low reflective layer having an opening formed on the transparent substrate, a colored layer formed in the opening of the low reflective layer on the transparent substrate, and a metal formed on the low reflective layer A color filter comprising an auxiliary electrode layer having an electrode layer and a connection electrode layer formed on the colored layer and electrically connected to the metal electrode layer;
A substrate, and a lower electrode layer formed on the substrate, an organic electroluminescence layer formed on the lower electrode layer and including a light emitting layer, and an upper transparent electrode layer formed on the organic electroluminescence layer An organic electroluminescence element side substrate comprising an organic electroluminescence element;
Have
The colored layer side surface of the color filter and the organic electroluminescence element side surface of the organic electroluminescence element side substrate are arranged to face each other,
The connection electrode layer and the upper surface transparent electrode layer are in contact with each other so as to conduct ,
At least a part of the colored layer is a thick film part thicker than the total thickness of the low reflection layer and the metal electrode layer,
The organic electroluminescence display device , wherein the connection electrode layer is in contact with the upper transparent electrode layer in a region overlapping the thick film portion of the colored layer in plan view .
前記着色層が、白色着色層を含む複数色の着色層を有し、厚膜の着色層および薄膜の着色層で構成されており、前記厚膜の着色層が、前記白色着色層および他の1色の着色層の積層体であり、前記厚膜の着色層上に形成された前記接続電極層と前記上面透明電極層とが導通するように接触していることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。   The colored layer has a plurality of colored layers including a white colored layer, and is composed of a thick colored layer and a thin colored layer, and the thick colored layer comprises the white colored layer and the other colored layers. 2. A laminated body of one colored layer, wherein the connection electrode layer formed on the thick colored layer and the upper transparent electrode layer are in contact with each other so as to be conductive. The organic electroluminescence display device described in 1. 前記接続電極層が、前記低反射層と平面視上重なる前記着色層上に形成され、前記低反射層の前記開口部と平面視上重なる接続電極層用開口部を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。   The connection electrode layer is formed on the colored layer overlapping in plan view with the low reflection layer, and has an opening for connection electrode layer overlapping in plan view with the opening of the low reflection layer. Item 3. The organic electroluminescence display device according to item 1 or 2. 透明基板と、
前記透明基板上に形成され開口部を有する低反射層と、
前記透明基板上の前記低反射層の前記開口部に形成された着色層と、
前記低反射層上に形成された金属電極層、および前記着色層上に形成され前記金属電極層と電気的に接続する接続電極層を有する補助電極層と
を備え
前記着色層の少なくとも一部が、前記低反射層および前記金属電極層の合計の厚みよりも厚い厚膜部であり、
前記着色層の厚膜部の前記透明基板とは反対側の面に前記接続電極層が形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ。
A transparent substrate;
A low reflection layer formed on the transparent substrate and having an opening;
A colored layer formed in the opening of the low reflective layer on the transparent substrate;
A metal electrode layer formed on the low reflective layer, and an auxiliary electrode layer having a connection electrode layer formed on the colored layer and electrically connected to the metal electrode layer ,
At least a part of the colored layer is a thick film part thicker than the total thickness of the low reflection layer and the metal electrode layer,
It said transparent substrate said connecting electrode layers are formed the organic electroluminescent display device for a color filter according to claim Rukoto on the surface opposite to the thick film portion of the colored layer.
前記着色層が、白色着色層を含む複数色の着色層を有し、厚膜の着色層および薄膜の着色層で構成されており、前記厚膜の着色層が、前記白色着色層および他の1色の着色層の積層体であり、前記厚膜の着色層上に形成された前記接続電極層と前記上面透明電極層とが導通するように接触していることを特徴とする請求項4に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ。   The colored layer has a plurality of colored layers including a white colored layer, and is composed of a thick colored layer and a thin colored layer, and the thick colored layer comprises the white colored layer and the other colored layers. 5. A laminated body of one colored layer, wherein the connection electrode layer formed on the thick colored layer and the upper transparent electrode layer are in contact with each other so as to be conductive. A color filter for an organic electroluminescence display device according to 1. 前記接続電極層が、前記低反射層と平面視上重なる前記着色層上に形成され、前記低反射層の前記開口部と平面視上重なる接続電極層用開口部を有することを特徴とする請求項4または請求項5に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ。   The connection electrode layer is formed on the colored layer overlapping in plan view with the low reflection layer, and has an opening for connection electrode layer overlapping in plan view with the opening of the low reflection layer. Item 6. The color filter for an organic electroluminescence display device according to Item 4 or 5.
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