JP5862424B2 - Color filter substrate used for organic electroluminescence display device, color filter for organic electroluminescence display device, and organic electroluminescence display device - Google Patents

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Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ、およびこれらを備えて構成される有機エレクトロルミネッセンス(以下、「有機EL」と称する場合がある)表示装置に関する。   The present invention relates to a color filter substrate used for an organic electroluminescence display device, a color filter for an organic electroluminescence display device, and organic electroluminescence comprising these (hereinafter sometimes referred to as “organic EL”). The present invention relates to a display device.

近年、フラットディスプレイが多くの分野、場所で使われており、情報化が進む中でますますその重要性は高まってきている。   In recent years, flat displays have been used in many fields and places, and their importance has been increasing with the progress of computerization.

現在、フラットディスプレイの中で中心的な存在は、液晶ディスプレイ(LCD)と言えるが、液晶ディスプレイ(LCD)とは異なる表示原理に基づくフラットディスプレイとして、有機EL、無機EL、プラズマディスプレイパネル(PDP)、ライトエミッティングダイオード表示装置(LED)、蛍光表示管表示装置(VFD)、およびフィールドエミッションディスプレイ(FED)などの開発も活発に行われている。   Currently, liquid crystal displays (LCD) can be said to be at the center of flat displays, but organic EL, inorganic EL, and plasma display panels (PDP) can be used as flat displays based on a different display principle from liquid crystal displays (LCD). Development of a light emitting diode display device (LED), a fluorescent display tube display device (VFD), a field emission display (FED), and the like is also actively conducted.

これらの新しいフラットディスプレイはいずれも自発光型と呼ばれるもので、液晶ディスプレイ(LCD)とは次の点で大きく異なり、液晶ディスプレイ(LCD)には無い優れた特徴を有している。   Each of these new flat displays is called a self-luminous type, and is greatly different from a liquid crystal display (LCD) in the following points, and has an excellent feature not found in a liquid crystal display (LCD).

液晶ディスプレイ(LCD)は受光型と呼ばれ、液晶は自身では発光することはなく、外光を透過、遮断するいわゆるシャッターとして動作し、表示装置を構成する。このため光源を必要とし、一般にバックライトが必要である。これに対して、自発光型は装置自身が発光するため、別光源が不要である。また、液晶ディスプレイ(LCD)のような受光型では表示機能の様態に拘わらず、常にバックライトが点灯し、全表示状態とほぼ変わらない電力を消費することになる。これに対して自発光型は、表示情報に応じて点灯する必要のある箇所だけが電力を消費するだけなので、受光型表示装置に比較して、電力消費が少なくてすむという利点が原理的に存在する。   A liquid crystal display (LCD) is called a light-receiving type, and the liquid crystal does not emit light by itself, but operates as a so-called shutter that transmits and blocks external light to constitute a display device. For this reason, a light source is required and generally a backlight is required. On the other hand, since the device itself emits light in the self-luminous type, no separate light source is required. In addition, in a light receiving type such as a liquid crystal display (LCD), the backlight is always lit regardless of the display function, and power that is almost the same as in the full display state is consumed. On the other hand, the self-luminous type has the advantage that less power is consumed compared to the light-receiving type display device because only the portion that needs to be lit according to the display information consumes power. Exists.

同様に、液晶ディスプレイ(LCD)ではバックライト光源の光を遮光して暗状態を得るため、少量であっても、光漏れを完全に無くすことは困難であるのに対して、自発光型では発光しない状態がまさに暗状態であるので、理想的な暗状態を容易に得ることができ、コントラストにおいても自発光型が圧倒的に優位である。また、液晶ディスプレイ(LCD)は液晶の複屈折による偏光制御を利用しているため、観察する方向によって大きく表示状態が変わる、いわゆる視野角依存性が強いが、自発光型ではこの問題がほとんど生じない。さらに、液晶ディスプレイ(LCD)は有機弾性物質である液晶の誘電異方性に由来する配向変化を利用するため、原理的に電気信号に対する応答時間が1ms以上である。これに対して、開発が進められている上記の自発光型の技術では、例えば、電子/正孔といったいわゆるキャリア遷移、電子放出、プラズマ放電などを利用しているため、応答時間はns桁であり、液晶とは比較にならないほど高速であり、液晶ディスプレイ(LCD)の応答の遅さに由来する動画残像の問題が生じない。   Similarly, in a liquid crystal display (LCD), the light from the backlight source is shielded to obtain a dark state. Even with a small amount, it is difficult to completely eliminate light leakage. Since the state where no light is emitted is just a dark state, an ideal dark state can be easily obtained, and the self-light-emitting type is overwhelmingly superior in contrast. In addition, the liquid crystal display (LCD) uses polarization control based on the birefringence of the liquid crystal, so the display state changes greatly depending on the viewing direction, so-called viewing angle dependence is strong. Absent. Furthermore, since a liquid crystal display (LCD) uses a change in orientation derived from the dielectric anisotropy of liquid crystal, which is an organic elastic material, in principle, the response time to an electric signal is 1 ms or more. On the other hand, the above self-luminous technology, which is being developed, uses so-called carrier transitions such as electrons / holes, electron emission, plasma discharge, etc. Yes, it is so fast that it is incomparable with liquid crystals, and there is no problem of afterimages due to slow response of liquid crystal displays (LCDs).

近時、これらの中でも特に有機EL表示装置の研究が活発であり、(1)三原色の発光層を発光色毎に所定のパターンを形成したもの、(2)白色発光の発光層を使用し、三原色のカラーフィルタを介して表示するもの、(3)青色発光の発光層を使用し、蛍光色素を利用した色変換層を設置して、青色光を緑色蛍光や赤色蛍光に変換して三原色表示をするもの等が提案されている。   Recently, researches on organic EL display devices are particularly active among these. (1) Three primary color light emitting layers are formed in a predetermined pattern for each light emission color, (2) White light emitting light emitting layer is used, Display through three primary color filters, (3) Use a blue light emitting layer, install a color conversion layer using fluorescent dye, convert blue light into green fluorescence or red fluorescence and display three primary colors Something has been proposed.

有機EL表示装置は、主として車載ナビゲーション、携帯電話、デジタルカメラなどの数インチ程度の小さな画面用として実用化されてきたが、近時、薄型テレビに代表されるように例えば20インチ以上の大画面化の開発が要望されるようになってきている。   Organic EL display devices have been put to practical use mainly for small screens of about several inches such as in-vehicle navigation, mobile phones, digital cameras, etc., but recently, large screens of, for example, 20 inches or more as represented by flat-screen televisions. Development of computerization has been demanded.

しかしながら、有機EL表示装置を例えば20インチ以上の大画面とする場合、画面の外周部と中央部では各画素に駆動電流を供給するための配線長さが極端に異なってくる。そのため、画面の中央部では、画面の外周部と比較して電圧降下の度合いが大きく、輝度ムラが発生してしまうという不都合が生じる。大画面化を図れば図るほどこの傾向は顕著となる。特に、駆動電流を供給する配線は発光層を含む有機EL層の上に形成されたITO等の透明電極を経て導通され、このITOは例えば金属Cuなどと比べて抵抗が大きく、このためITOの電圧降下の影響が大きい。   However, when the organic EL display device has a large screen of, for example, 20 inches or more, the wiring length for supplying drive current to each pixel is extremely different between the outer peripheral portion and the central portion of the screen. For this reason, in the central portion of the screen, the degree of voltage drop is larger than that of the outer peripheral portion of the screen, resulting in inconvenience that luminance unevenness occurs. This tendency becomes more prominent as the screen becomes larger. In particular, the wiring for supplying the drive current is conducted through a transparent electrode such as ITO formed on the organic EL layer including the light emitting layer, and this ITO has a larger resistance than, for example, metal Cu, so that the ITO The effect of voltage drop is large.

なお、有機EL表示装置の駆動方式としては、パッシブマトリクス方式とアクティブマトリクス方式とがあるが、前者は、構造が単純であるものの、大型化かつ高精細の表示装置の実現が難しいなどの問題があり、大型化を図るためには、後者のアクティブマトリクス方式の開発が盛んに行われている。アクティブマトリクス方式では、画素ごとに配した有機EL素子に流れる電流を、有機EL素子ごとに設けた駆動回路内のTFT(Thin Film Transistor)によって制御するようになっている。   In addition, there are a passive matrix method and an active matrix method as a driving method of the organic EL display device, but the former has a problem that it is difficult to realize a large-sized and high-definition display device although the structure is simple. In order to increase the size, the latter active matrix system has been actively developed. In the active matrix system, a current flowing in an organic EL element arranged for each pixel is controlled by a TFT (Thin Film Transistor) in a drive circuit provided for each organic EL element.

なお、本願発明に関連すると思われる先行技術として、下記特許文献1〜特許文献4が挙げられる。   In addition, the following patent documents 1-patent document 4 are mentioned as a prior art considered to be related to this invention.

特許第4489472号公報Japanese Patent No. 4489472 特許第4367346号公報Japanese Patent No. 4367346 特開2009−26828号公報JP 2009-26828 A 特開2011−96282号公報JP 2011-96282 A

特許文献1には、大型化しても上部透明電極に起因する電圧降下による発光輝度むらを生じさせないことを目的の一つとして、第1の基板に形成された素子分離用バンク上に位置する上部電極と第2の基板に形成された導電性遮光パターンとが電気的に接続されるように第1の基板と第2の基板とを対向配置させ、少なくとも前記上部電極または前記導電性遮光パターンが給電点に接続されてなる有機エレクトロルミネッセンス表示装置の開示がなされている。   In Patent Document 1, even if the size is increased, the upper portion located on the element isolation bank formed on the first substrate is one of the purposes to prevent unevenness in light emission luminance due to the voltage drop caused by the upper transparent electrode. The first substrate and the second substrate are arranged to face each other so that the electrode and the conductive light shielding pattern formed on the second substrate are electrically connected, and at least the upper electrode or the conductive light shielding pattern is An organic electroluminescence display device connected to a feeding point has been disclosed.

しかしながら、特許文献1では、柱状の突起である素子分離用バンクが、TFTや有機EL層が形成されている第1の基板側に形成されている。TFTや有機EL層が形成されているために第1の基板側は複雑な構成になっており、この上に素子分離用バンクを設けることは反対側の第2の基板側に設けるプロセスと比較して、歩留まりが低下する確率は極めて高いと言える。そして、第1の基板側の歩留まり低下は、複雑な工程を経て形成され、工数が多いTFTや有機EL層の形成工程を無駄にすることにも通じ、コスト的なダメージが極めて大きいと言える。また、一対の電極によって挟持された状態にある有機EL層を備える有機EL素子は、通常、有機EL素子を保護するための封止層によって覆われて保護されており、この封止層の存在をも考慮していかように被覆された電極との導通を図るかを技術的に考察する必要がある。   However, in Patent Document 1, an element isolation bank which is a columnar protrusion is formed on the first substrate side on which a TFT or an organic EL layer is formed. Since the TFT and the organic EL layer are formed, the first substrate side has a complicated configuration, and the provision of the element isolation bank on this is compared with the process provided on the opposite second substrate side. Thus, it can be said that the probability that the yield decreases is extremely high. Further, the yield reduction on the first substrate side is extremely complicated because it is formed through a complicated process, and the process of forming the TFT and the organic EL layer with a large number of steps is wasted. Further, an organic EL element including an organic EL layer sandwiched between a pair of electrodes is usually covered and protected by a sealing layer for protecting the organic EL element, and the presence of this sealing layer Therefore, it is necessary to consider technically how to establish conduction with the coated electrode.

また、特許文献2には、電源配線及び第2電極の更なる低抵抗化を可能ならしめ、表示の輝度ムラを低減し、高輝度化、高コントラスト化を図った高出力品位の有機EL装置等の電気光学装置の提案がなされているが、当該提案においても、やはり上記特許文献1と同様な問題が生じ得る。   Patent Document 2 discloses a high-output-quality organic EL device that can further reduce the resistance of the power supply wiring and the second electrode, reduce display luminance unevenness, and achieve high luminance and high contrast. In this proposal, the same problem as in Patent Document 1 can occur.

また、特許文献3には、対向電極の電位の面内均一性を高めることを目的として開発された上面発光型の有機EL表示装置の提案がなされているが、やはり当該提案においても、上記特許文献1と同様な問題が生じ得る。   Patent Document 3 proposes a top-emission organic EL display device developed for the purpose of improving the in-plane uniformity of the potential of the counter electrode. The same problem as document 1 may occur.

また、特許文献4には、透明電極の実効的な抵抗値を下げることができ、有機EL層に対して均一な電圧を加えることが可能となるため、表示ムラなどの表示不良を防ぐことができる発光装置の提案がなされているが、当該提案においても、やはり上記特許文献1と同様な問題が生じ得る。   In Patent Document 4, since the effective resistance value of the transparent electrode can be lowered and a uniform voltage can be applied to the organic EL layer, display defects such as display unevenness can be prevented. Although the proposal of the light-emitting device which can be performed is made | formed, the problem similar to the said patent document 1 may arise also in the said proposal.

このような実情のもとに本発明は創案されたものであって、その目的は、例えば、大画面の有機EL表示装置を開発するに際し、画面の中央部と画面の外周部との輝度ムラの発生を防止することができ、かつ当該輝度ムラの発生防止手段の形成がコストリスクを低減させる構成で行なうことができる有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板やカラーフィルタ、さらにはこれらを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することにある。   The present invention was devised under such circumstances, and the purpose thereof is, for example, when developing a large screen organic EL display device, the luminance unevenness between the central portion of the screen and the outer peripheral portion of the screen. Color filter substrates and color filters used in organic electroluminescence display devices that can prevent the occurrence of non-uniformity of brightness and can be formed in a configuration that reduces the cost risk by forming the means for preventing the occurrence of uneven brightness. Another object is to provide an organic electroluminescence display device using the above.

上記課題を解決するための発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板であって、透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に凸状柱が形成されており、前記凸状柱の頂部および側部には電極層が設けられており、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱の電極層とが導通しており、前記凸状柱の頂部に設けられた電極層を除き、他の領域の少なくとも一部における最表面にはバリア層が形成されており、前記バリア層は無機材料から構成されていることを特徴とする。 An invention for solving the above-mentioned problems is a color filter substrate used in an organic electroluminescence display device, which is formed around a transparent substrate, a pixel portion formed on the transparent substrate, and the pixel portion. A non-pixel area, a metal auxiliary electrode layer is provided in the non-pixel area, and a convex column is formed in at least one place of the non-pixel area. An electrode layer is provided on the top and side of the column, and the metal auxiliary electrode layer in the non-pixel area and the electrode layer of the convex column are electrically connected, and are provided on the top of the convex column. Except for the electrode layer, a barrier layer is formed on the outermost surface in at least a part of the other region, and the barrier layer is made of an inorganic material .

上記の発明にあっては、前記非画素エリアは、複数のラインが交わる交差部分を有し、当該交差部分に前記凸状柱が形成されていてもよい。   In the above invention, the non-pixel area may have an intersection where a plurality of lines intersect, and the convex column may be formed at the intersection.

また、上記の発明にあっては、前記凸状柱は、基部側から頂部に至るまでにその径が漸減するテーパー形状をなしていてもよい。   In the invention described above, the convex column may have a tapered shape whose diameter gradually decreases from the base side to the top.

また、上記の発明にあっては、基板中央部に配設された凸状柱の配設密度D1と、基板の外周部に配設された凸状柱の配設密度D2とを比較した場合、D1>D2であってもよい。   Further, in the above invention, when the arrangement density D1 of the convex columns arranged in the central portion of the substrate is compared with the arrangement density D2 of the convex columns arranged in the outer peripheral portion of the substrate , D1> D2.

上記課題を解決するための発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタであって、透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に凸状柱が形成されており、前記凸状柱の頂部および側部には電極層が設けられており、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱の電極層とが導通しており、前記凸状柱の頂部に設けられた電極層を除き、他の領域の少なくとも一部における最表面にはバリア層が形成されており、前記バリア層は無機材料から構成されている有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板と、前記カラーフィルタ用基板の画素部分に形成された着色層と、を有することを特徴とする。 The invention for solving the above-mentioned problems is a color filter for an organic electroluminescence display device, comprising a transparent substrate, a pixel portion formed on the transparent substrate, and a non-pixel area formed around the pixel portion. The non-pixel area is provided with a metal auxiliary electrode layer, and a convex column is formed in at least one location of the non-pixel area, and the top of the convex column and An electrode layer is provided on the side, and the metal auxiliary electrode layer in the non-pixel area and the electrode layer of the convex column are electrically connected, except for the electrode layer provided on the top of the convex column. , the outermost surface of at least a portion of the other region has a barrier layer is formed, the barrier layer is a color filter used in the organic electroluminescence display device configured of an inorganic material And having a plate, and a colored layer formed on the pixel portion of the substrate for the color filter.

また、上記課題を解決するための発明は、透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に凸状柱が形成されており、前記凸状柱の頂部および側部には電極層が設けられており、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱の電極層とが導通しており、前記凸状柱の頂部に設けられた電極層を除き、他の領域の少なくとも一部における最表面にはバリア層が形成されている有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板と、前記カラーフィルタ用基板の画素部分に形成された着色層と、を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタと、基板および当該基板上に形成された有機EL層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子と、を有する有機EL素子側基板と、を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、前記カラーフィルタと、前記有機EL素子側基板とは、前記着色層および前記有機エレクトロルミネッセンス素子が対向するように配置されており、前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記有機EL層と、前記有機EL層を挟持するように配置された一対の下面電極層と上面透明電極層を含み、前記凸状柱の頂部に形成された前記メタル電極層の部分と前記上面透明電極層とが接触して導通が図れるように形成されていることを特徴とする。   The invention for solving the above-mentioned problems includes a transparent substrate, a pixel portion formed on the transparent substrate, and a non-pixel area formed around the pixel portion, and the non-pixel area. Are provided with a metal auxiliary electrode layer, at least one convex column is formed in the non-pixel area, and an electrode layer is provided on the top and sides of the convex column. And the metal auxiliary electrode layer in the non-pixel area is electrically connected to the electrode layer of the convex column, and except for the electrode layer provided on the top of the convex column, at least a part of the other region. An organic electroluminescent device comprising: a color filter substrate used in an organic electroluminescence display device having a barrier layer formed on a surface; and a colored layer formed on a pixel portion of the color filter substrate. An organic electroluminescence display device comprising: a color filter for display device; and an organic EL element side substrate having a substrate and an organic electroluminescence element including an organic EL layer formed on the substrate, wherein the color filter The organic EL element side substrate is arranged so that the colored layer and the organic electroluminescence element face each other, and the organic electroluminescence element sandwiches the organic EL layer and the organic EL layer. A pair of lower surface electrode layers and upper surface transparent electrode layers arranged in such a manner that the portion of the metal electrode layer formed on the top of the convex column and the upper surface transparent electrode layer are in contact with each other so that conduction can be achieved. It is formed.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ、およびこれらを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置によれば、その非画素エリアにメタル補助電極層が設けられているとともに、凸状柱の頂部および側部には、電極層が設けられており、これらが導通しているので、特に大画面の有機EL表示装置などを構成した場合、画面の中央部と画面の外周部との輝度ムラの発生を防止することができる。   According to the color filter substrate used in the organic electroluminescence display device of the present invention, the color filter for organic electroluminescence display device, and the organic electroluminescence display device using these, a metal auxiliary electrode layer is provided in the non-pixel area. In addition, an electrode layer is provided on the top and sides of the convex column, and these are electrically connected. Therefore, particularly when a large screen organic EL display device is configured, the center of the screen And unevenness of brightness between the outer periphery of the screen can be prevented.

さらに、前記凸状柱の頂部に設けられた電極層を除き、他の領域の少なくとも一部における最表面にはバリア層が形成されているので、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の性能を劣化する要因となる種々の成分が、カラーフィルタ用基板およびカラーフィルタを構成する種々の層から発生することを効果的に抑制することができる。   Furthermore, since the barrier layer is formed on the outermost surface in at least a part of the other regions except for the electrode layer provided on the top of the convex column, it is a factor that deteriorates the performance of the organic electroluminescence display device. It is possible to effectively suppress generation of various components from the various layers constituting the color filter substrate and the color filter.

本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタおよび有機EL素子側基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the color filter for organic EL display devices of this invention, and an organic EL element side board | substrate. 図1に示される有機EL表示装置用カラーフィルタおよび有機EL素子側基板を接合することによって形成した有機EL表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the organic electroluminescence display formed by joining the color filter for organic electroluminescence displays shown in FIG. 1, and the organic electroluminescent element side board | substrate. 第1の実施形態である有機EL表示装置用カラーフィルタの一部を示した平面図であり、図1のα−α矢視平面図に相当する。It is the top view which showed a part of color filter for organic EL display devices which is 1st Embodiment, and is equivalent to the (alpha)-(alpha) arrow top view of FIG.

以下、図面を参照しながら、本発明を実施するための複数の実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は以下に説明する形態に限定されることはなく、技術思想を逸脱しない範囲において種々変形を行なって実施することが可能である。また、添付の図面においては、説明のために上下、左右の縮尺を誇張して図示することがあり、実際のものとは縮尺が異なる場合がある。   Hereinafter, a plurality of embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, this invention is not limited to the form demonstrated below, In the range which does not deviate from a technical thought, it can implement in various deformation | transformation. In the accompanying drawings, the vertical and horizontal scales may be exaggerated for the sake of explanation, and the actual scales may differ.

また、以下は、本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタを中心に説明をするが、これに限定されることはなく、以下で説明するカラーフィルタから着色層のみを除去すれば、本発明のカラーフィルタ用基板となる。   Further, the following description will focus on the color filter for an organic EL display device of the present invention, but the present invention is not limited to this. If only the colored layer is removed from the color filter described below, the present invention will be described. It becomes a substrate for a color filter.

<第1の実施形態>
図1〜図3を参照しつつ本発明の第1の実施形態に係る有機EL表示装置用カラーフィルタおよび有機EL表示装置について説明する。
<First Embodiment>
A color filter for an organic EL display device and an organic EL display device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

図1は、本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタ10および有機EL素子側基板70を示す断面図である。これらの構成部材の断面図は、図3に示される有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ10の平面図のA−B−C−D−E−F−G−H−I−J−K−L−M−N線での切断面およびそれに準ずる有機EL素子側基板70の切断面を見た断面図である。図2は、図1に示される有機EL表示装置用カラーフィルタ10および有機EL素子側基板70を接合することによって形成した有機EL表示装置100の断面図である。図3は、第1の実施形態である有機EL表示装置用カラーフィルタ10の一部を示した平面図であり、図1のα−α矢視平面図に相当する。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a color filter 10 for an organic EL display device and an organic EL element side substrate 70 of the present invention. The cross-sectional views of these constituent members are shown in a plan view of the color filter 10 for an organic electroluminescence display device shown in FIG. 3, that is, ABCD-F-G-G-H-I-J-K-L. It is sectional drawing which looked at the cut surface in the -MN line, and the cut surface of the organic EL element side board | substrate 70 according to it. FIG. 2 is a cross-sectional view of the organic EL display device 100 formed by bonding the organic EL display device color filter 10 and the organic EL element side substrate 70 shown in FIG. FIG. 3 is a plan view showing a part of the color filter 10 for an organic EL display device according to the first embodiment, and corresponds to a plan view taken along the line α-α in FIG.

(有機EL表示装置用カラーフィルタ10の説明)
本発明の有機EL表示装置用カラーフィルタ10は、有機EL素子の発光層を含む有機EL層からの光を発光光源とする有機EL表示装置に用いられる有機EL表示装置用カラーフィルタ(以下、単に、カラーフィルタと称す場合がある)である。
(Description of Color Filter 10 for Organic EL Display Device)
The color filter 10 for an organic EL display device according to the present invention is a color filter for an organic EL display device (hereinafter simply referred to as an organic EL display device) used in an organic EL display device using light from an organic EL layer including a light emitting layer of an organic EL element as a light emission source. , Sometimes referred to as a color filter).

図1に示されるように、本発明におけるカラーフィルタ10は、透明基板11と、この透明基板11上に形成された画素部分である着色層13と、着色層13の周囲に形成された非画素エリア12とを有している。通常、基板の最外周に配置された着色層13を除いた他の大部分の着色層13に着目してみれば、非画素エリア12は、隣接する着色層13同士の間隙部分に存在する。なお、画素部分とは、カラーフィルタを各種表示装置に用いた場合に光が透過する部分のことをいい、本発明のカラーフィルタ10においては、必ずしも画素部分のすべて着色層13が形成されていなくてもよく、画素部分の一部は単に光が透過する領域となっていてもよい。   As shown in FIG. 1, the color filter 10 according to the present invention includes a transparent substrate 11, a colored layer 13 that is a pixel portion formed on the transparent substrate 11, and a non-pixel formed around the colored layer 13. And an area 12. Usually, when attention is paid to most of the other colored layers 13 excluding the colored layer 13 arranged on the outermost periphery of the substrate, the non-pixel area 12 exists in a gap portion between the adjacent colored layers 13. Note that the pixel portion refers to a portion through which light is transmitted when the color filter is used in various display devices. In the color filter 10 of the present invention, the colored layer 13 is not necessarily formed in the pixel portion. Alternatively, a part of the pixel portion may simply be a region through which light is transmitted.

透明基板11は、可視光に対して透明な基板であれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタに用いられる透明基板と同様なものを用いることができる。具体的には、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英などのリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。   The transparent substrate 11 is not particularly limited as long as it is a substrate transparent to visible light, and the same transparent substrate used for a general color filter can be used. Specifically, a rigid material such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, or synthetic quartz, or a transparent flexible material having flexibility such as a transparent resin film or an optical resin plate can be used.

着色層13は、赤色着色層13R、緑色着色層13Gおよび青色着色層13Bを有し、通常、これらが順次配列された状態でパターン形成されるが、そのパターン配列は特に図示のものに限定されるものではない。ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、4画素配置型等の公知の配列とすることができ、各着色層の面積は任意に設定することができる。また上記の3色に加え、透明着色層を有していてもよい。   The colored layer 13 has a red colored layer 13R, a green colored layer 13G, and a blue colored layer 13B, and is usually patterned in a state in which these are sequentially arranged, but the pattern arrangement is particularly limited to that shown in the drawing. It is not something. A known arrangement such as a stripe type, a mosaic type, a triangle type, or a four-pixel arrangement type can be used, and the area of each colored layer can be arbitrarily set. In addition to the above three colors, a transparent colored layer may be included.

なお、図面における画素部分である着色層13の数(画素数)はあくまで例示として記載されているものであり、図示例のものに限定されるものではない。着色層13の形成方法としては、一般的なカラーフィルタにおける着色層13の形成方法、例えば、フォトリソグラフィー法、インクジェット法、印刷法等を用いればよい。   In addition, the number (the number of pixels) of the colored layers 13 which are the pixel portions in the drawings is described as an example only, and is not limited to the illustrated example. As a formation method of the colored layer 13, a formation method of the colored layer 13 in a general color filter, for example, a photolithography method, an inkjet method, a printing method, or the like may be used.

本実施形態における非画素エリア12には、通常、遮光部12a(いわゆるブラックマトリックスと称されることもある)が形成されることが望ましいが、本発明の作用効果を発現させるためには必須となるものではない。遮光部12aは、通常、格子状の遮光層として構成され、通常、黒色顔料とバインダー樹脂と溶剤とを含有したフォトレジストや印刷用インキ、あるいはクロムなどの金属を用いて構成される。印刷用インキに用いられる黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック等を挙げることができ、バインダー樹脂としては、例えば、ベンジルメタクリレート:スチレン:アクリル酸:2−ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合体等を挙げることができ、溶剤としては、公知の種々の中から選定して用いることができる。   In the present embodiment, it is usually desirable to form a light shielding portion 12a (sometimes referred to as a so-called black matrix) in the non-pixel area 12, but this is indispensable for exhibiting the effects of the present invention. It does not become. The light shielding portion 12a is usually configured as a lattice-shaped light shielding layer, and is usually configured using a photoresist, a printing ink, or a metal such as chromium containing a black pigment, a binder resin, and a solvent. Examples of black pigments used in printing inks include carbon black and titanium black. Examples of binder resins include benzyl methacrylate: styrene: acrylic acid: 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer. The solvent can be selected from various known solvents.

遮光部12aの形成方法としては、フォトリソグラフィー法、各種のパターン印刷方法、各種のめっき方法等で形成することができる。   As a method for forming the light shielding portion 12a, it can be formed by a photolithography method, various pattern printing methods, various plating methods, and the like.

本発明におけるカラーフィルタ10は、上記で説明した画素部分である着色層13および非画素エリア12に位置する遮光部12aの全体を覆うようにオーバーコート層14が設けられている。当該オーバーコート層14は、本発明の必須の構成ではないが、当該オーバーコート層14を形成することにより、この後に説明するメタル補助電極層や凸状柱を形成するに当たり、これらの形成面を平坦化することができるとともに、着色層13を保護することができる点で好適である。   In the color filter 10 according to the present invention, an overcoat layer 14 is provided so as to cover the colored layer 13 which is the pixel portion described above and the entire light shielding portion 12a located in the non-pixel area 12. The overcoat layer 14 is not an essential component of the present invention. However, by forming the overcoat layer 14, these formation surfaces are formed in forming the metal auxiliary electrode layer and the convex columns described later. This is preferable in that it can be flattened and the colored layer 13 can be protected.

オーバーコート層14を形成する材料としては特に限定することはなく、従来から用いられている各種樹脂を適宜選択すればよく、その形成方法にあっても、各種印刷方法などを用いればよい。   The material for forming the overcoat layer 14 is not particularly limited, and various types of conventionally used resins may be selected as appropriate, and various printing methods may be used even in the formation method.

ここで、非画素エリア12には、より具体的には非画素エリア12に位置する前記オーバーコート層14の表面には、メタル補助電極層15が設けられている。メタル補助電極層15に用いられる材質としては、例えば、Cu、Ag、Au、Pt、Al、Cr、Coといった金属やそれらの合金、またはMAM(モリブデン/アルミニウム・ネオジウム合金/モリブデン)に代表される複層金属膜等を挙げることができる。   Here, in the non-pixel area 12, more specifically, a metal auxiliary electrode layer 15 is provided on the surface of the overcoat layer 14 located in the non-pixel area 12. Examples of the material used for the metal auxiliary electrode layer 15 include metals such as Cu, Ag, Au, Pt, Al, Cr, and Co, alloys thereof, or MAM (molybdenum / aluminum / neodymium alloy / molybdenum). A multilayer metal film etc. can be mentioned.

また、このようなメタル補助電極層15の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィー法によりパターンニングする方法が好適に用いられる。   As a method for forming the metal auxiliary electrode layer 15, for example, a method of patterning by photolithography after forming a thin film by vapor deposition or sputtering is preferably used.

メタル補助電極層15を形成する場所については、図1や図2に示すように、非画素エリア12に線状にパターン配設することが好ましいが、これに限定されることはなく、外部から供給される電流を、後述する凸状柱の頂部および側部に形成される電極層を介して、有機EL素子側基板に導通することができる位置であって、表示時に開口部の開口率を低下させることがない位置であれれば自由に設計可能である。   As for the place where the metal auxiliary electrode layer 15 is formed, as shown in FIGS. 1 and 2, it is preferable to arrange the pattern in a line in the non-pixel area 12, but the present invention is not limited to this. It is a position where the supplied current can be conducted to the organic EL element side substrate through the electrode layer formed on the top and side of the convex column, which will be described later. If it is a position where it is not lowered, it can be designed freely.

本発明のカラーフィルタ10の非画素エリア12には、前記メタル補助電極層15の他、当該非画素エリア12の少なくとも一箇所以上に凸状柱17が形成されている。そして、当該凸状柱17の頂部および側部には、電極層18が設けられている。そして、本発明のカラーフィルタ10においては、前記メタル補助電極層15と当該凸状柱17の頂部および側部の電極層18とが導通している。これにより、後述する有機EL層83を有する有機EL素子側基板70からの電流を凸状柱17の頂部および側部の電極層18とメタル補助電極層15を介してカラーフィルタ10側に導いて逃がすことにより、電圧降下を防ぐことができる。そしてその結果、本発明の課題である画面の中央部と画面の外周部との輝度ムラの発生を防止することができる。   In the non-pixel area 12 of the color filter 10 according to the present invention, in addition to the metal auxiliary electrode layer 15, a convex column 17 is formed in at least one location of the non-pixel area 12. An electrode layer 18 is provided on the top and sides of the convex column 17. In the color filter 10 of the present invention, the metal auxiliary electrode layer 15 and the top and side electrode layers 18 of the convex column 17 are electrically connected. Thereby, the current from the organic EL element side substrate 70 having the organic EL layer 83 described later is guided to the color filter 10 side through the top and side electrode layers 18 and the metal auxiliary electrode layer 15 of the convex column 17. By letting it escape, a voltage drop can be prevented. As a result, it is possible to prevent the occurrence of luminance unevenness between the central portion of the screen and the outer peripheral portion of the screen, which is the subject of the present invention.

従って、凸状柱17は、その作用を奏すべく輝度ムラが発生しやすい箇所、特に、基板の中央部付近に形成されることが望ましい。本実施形態では、図1における断面図の中央部近傍に3本の凸状柱17が形成されているが、これらはあくまでも例示として記載されているだけであり、その本数および配置場所は図示のもに限定されるものではない。本発明の作用効果が最適な状態で発現できるように適宜、本数、配置場所等を設定するようにすればよい。   Therefore, it is desirable that the convex column 17 is formed at a location where luminance unevenness is likely to occur, particularly near the center of the substrate. In the present embodiment, three convex pillars 17 are formed in the vicinity of the central portion of the cross-sectional view in FIG. 1, but these are merely shown as examples, and the number and arrangement location thereof are not shown. It is not limited to the above. What is necessary is just to set a number, arrangement | positioning place, etc. suitably so that the effect of this invention can be expressed in the optimal state.

なお、1または複数の凸状柱17を配設する場合において、基板中央部に配設された凸状柱の配設密度D1と、基板外周部の凸状柱の配設密度D2とを比較した場合、D1≧D2、好ましくはD1>D2となるように構成することが望ましい。   In the case where one or a plurality of convex columns 17 are disposed, the arrangement density D1 of the convex columns disposed in the central portion of the substrate is compared with the arrangement density D2 of the convex columns disposed on the outer peripheral portion of the substrate. In this case, it is desirable to configure so that D1 ≧ D2, preferably D1> D2.

なお、D1およびD2を求めるに際しては、画面の大きさに相当する基板の大きさを縦横に3等分して基板を3×3の9分割にする。その中央部のエリアが基板中央部に該当し、ここで測定される凸状柱の配設密度がD1として定義される。そして、この中央部のエリア以外の8つの外エリアが基板外周部に該当し、これらの各エリアで測定される凸状柱の配設密度のうち最も大きい値がD2として定義される。   When obtaining D1 and D2, the size of the substrate corresponding to the size of the screen is divided into three equal parts vertically and horizontally to divide the substrate into 3 × 3 9 divisions. The central area corresponds to the central part of the substrate, and the arrangement density of the convex columns measured here is defined as D1. Then, eight outer areas other than the central area correspond to the outer peripheral portion of the substrate, and the largest value among the arrangement density of the convex columns measured in each of these areas is defined as D2.

このような凸状柱17は各種樹脂材料で形成されている。本発明のカラーフィルタ10にあっては、凸状柱17の頂部および側部の電極層18によって導通を担保しているため、当該凸状柱17自体に導電性を付与する必要がないため、その材料設計の自由度を向上することができ、凸状柱17に導電性材料を混入せしめる必要がないため、その強度が低下することもない。なお、当該凸状柱17自体に導電性を付与してもよい。   Such a convex column 17 is formed of various resin materials. In the color filter 10 of the present invention, since the conduction is ensured by the top and side electrode layers 18 of the convex column 17, it is not necessary to impart conductivity to the convex column 17 itself. The degree of freedom in material design can be improved, and it is not necessary to mix a conductive material into the convex column 17, so that the strength is not lowered. In addition, you may provide electroconductivity to the said convex column 17 itself.

凸状柱17の形状としては、特に限定されることはないが、図示するように、基部側から頂部に至るまでにその径が漸減するテーパー形状をなすように構成することが望ましい。後述するように、有機EL層を有する有機EL素子側基板70との一体化を容易にするためである。凸状柱の具体的な形状としては、図示するように円錐の先端部を切り取った形状である円錐台や、円柱、三角錐台、四角錘台等を挙げることができる。凸状柱17の根元である基部の幅は、8〜100μm程度、頂部の幅は、3〜95μm程度、高さは、2.5〜25μm程度とされる。また、基部側から頂部に至るテーパー角度は30〜89°程度とされる。   The shape of the convex column 17 is not particularly limited. However, as shown in the drawing, it is desirable that the convex column 17 has a tapered shape in which the diameter gradually decreases from the base side to the top. This is for facilitating integration with the organic EL element side substrate 70 having an organic EL layer, as will be described later. Specific examples of the shape of the convex column include a truncated cone having a truncated cone shape as illustrated, a cylinder, a triangular frustum, a square frustum, and the like. The width of the base that is the base of the convex column 17 is about 8 to 100 μm, the width of the top is about 3 to 95 μm, and the height is about 2.5 to 25 μm. The taper angle from the base side to the top is about 30 to 89 °.

ここで、本発明のカラーフィルタ10にあっては、前記凸状柱17の頂部に設けられた電極層18を除き、他の領域の少なくとも一部における最表面にバリア層19が形成されていることに特徴を有しており、図1〜3に示すカラーフィルタ10にあっては、前記凸状柱17の頂部に設けられた電極層18を除き、他の領域の全部にわたってバリア層19が形成されている。このようなバリア層19を形成することにより、カラーフィルタを構成する種々の層から、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の性能を劣化する要因となる種々の成分が発生することを効果的に防止することができる。具体的には、例えば各色着色層13やハードコート層14から発生し得るアウトガスを防止したり、同じく着色層13から溶出し得る着色剤を防止したりすることができる。   Here, in the color filter 10 of the present invention, the barrier layer 19 is formed on the outermost surface in at least a part of other regions except for the electrode layer 18 provided on the top of the convex column 17. In the color filter 10 shown in FIGS. 1 to 3, the barrier layer 19 is formed over the entire other region except for the electrode layer 18 provided on the top of the convex column 17. Is formed. By forming such a barrier layer 19, it is possible to effectively prevent various components that cause deterioration in the performance of the organic electroluminescence display device from various layers constituting the color filter. it can. Specifically, for example, outgas that can be generated from the colored layers 13 and the hard coat layer 14 can be prevented, and colorants that can be eluted from the colored layer 13 can also be prevented.

このようなバリア層19を形成する位置は、前記凸状柱17の頂部に設けられた電極層18を除くことを条件として、特に限定されることはなく、上記の効果を奏し得る部分、すなわち、アウトガスや着色剤をはじめ、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の性能を劣化する要因となる種々の成分が発生し得る部分に設ければよい。図示するカラーフィルタ10のように、前記凸状柱17の頂部に設けられた電極層18を除き、他の領域の全部にわたって形成することにより、発生し得る成分のすべてをバリアすることができ好ましい。   The position where such a barrier layer 19 is formed is not particularly limited on the condition that the electrode layer 18 provided on the top of the convex column 17 is excluded. In addition, it may be provided in a portion where various components that cause deterioration of the performance of the organic electroluminescence display device such as outgas and colorant may be generated. As shown in the color filter 10 shown in the figure, it is preferable that all the components that can be generated can be blocked by forming over the entire other region except the electrode layer 18 provided on the top of the convex column 17. .

本発明のカラーフィルタ10においては、バリア層19の材質については特に限定されることはなく、無機材料、有機材料を問わず、従来公知の材料を適宜選択して用いることができ、。具体的には、無機材料としては、SiO2、SiOx、SiNx、SiOxNyなどを挙げることができ、有機材料としては、モノマーを架橋させて得られた高分子を主成分とする各種樹脂を挙げることができる。また、バリア層19の形成方法についても特に限定されることはなく、無機材料を用いる場合には、スパッタリング法、イオンプレーティング法、電子ビーム(EB)蒸着法や抵抗加熱法等の真空蒸着法、原子層エピタキシ(ALE)法、レーザーアブレーション法、化学気相成長(CVD)法等を用いることができる。これらの中でも、生産性の観点から、スパッタリング法、イオンプレーティング法、CVD法を好ましく用いることができる。一方で有機材料を用いる場合にあっては、印刷法、インクジェット法、またはスピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、および自己組織化法(交互吸着法、自己組織化単分子膜法)などにより形成すればよい。 In the color filter 10 of the present invention, the material of the barrier layer 19 is not particularly limited, and any conventionally known material can be appropriately selected and used regardless of an inorganic material or an organic material. Specifically, examples of the inorganic material include SiO 2 , SiOx, SiNx, and SiOxNy, and examples of the organic material include various resins mainly composed of a polymer obtained by crosslinking monomers. Can do. Also, the method for forming the barrier layer 19 is not particularly limited, and when an inorganic material is used, a vacuum deposition method such as a sputtering method, an ion plating method, an electron beam (EB) deposition method, a resistance heating method, or the like. An atomic layer epitaxy (ALE) method, a laser ablation method, a chemical vapor deposition (CVD) method, or the like can be used. Among these, from the viewpoint of productivity, a sputtering method, an ion plating method, and a CVD method can be preferably used. On the other hand, when using organic materials, printing method, inkjet method, spin coating method, casting method, dipping method, bar coating method, blade coating method, roll coating method, gravure coating method, flexographic printing method, spray A coating method, a self-assembly method (alternate adsorption method, self-assembled monolayer method), or the like may be used.

また、当該バリア層19は、必ずしも単層構造である必要はなく、複数の層を積層した積層構造とすることができ、無機材料からなる層と有機材料からなる層をと積層してもよい。   The barrier layer 19 does not necessarily have a single-layer structure, and may have a stacked structure in which a plurality of layers are stacked. A layer made of an inorganic material and a layer made of an organic material may be stacked. .

このようなバリア層19の厚さは、全体として10nm〜100μm程度とすることが好ましく、無機材料からバリア層を形成する場合には、10nm〜200nm程度とすることが好ましく、有機材料からバリア層を形成する場合には、0.2μm〜100μm程度とすることが好ましい。   The thickness of the barrier layer 19 as a whole is preferably about 10 nm to 100 μm. When the barrier layer is formed from an inorganic material, the thickness is preferably about 10 nm to 200 nm. Is preferably about 0.2 μm to 100 μm.

本発明のカラーフィルタ10に好適に使用される着色層13についてさらに説明を加える。なお、前述したように、本発明のカラーフィルタ用基板においては、当該着色層13は必須の構成ではなく、また、本発明のカラーフィルタ10においても、画素部分の全部に着色層が設けられてなくてもよい。   The colored layer 13 that is preferably used in the color filter 10 of the present invention will be further described. As described above, in the color filter substrate of the present invention, the colored layer 13 is not an essential structure, and also in the color filter 10 of the present invention, a colored layer is provided on the entire pixel portion. It does not have to be.

赤色着色層13R、緑色着色層13Gおよび青色着色層13Bを有し構成される着色層13は、有機EL表示装置100(図2参照)の単位画素に対応して設けられる。そして、これらの赤色着色層13R、緑色着色層13Gおよび青色着色層13Bは、それぞれ、各色の顔料や染料等の着色剤を感光性樹脂中に分散または溶解させた後に基板の上に形成される。   The colored layer 13 including the red colored layer 13R, the green colored layer 13G, and the blue colored layer 13B is provided corresponding to the unit pixel of the organic EL display device 100 (see FIG. 2). The red colored layer 13R, the green colored layer 13G, and the blue colored layer 13B are formed on the substrate after each colorant such as a pigment or dye is dispersed or dissolved in the photosensitive resin. .

赤色着色層13Rに用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。   Examples of the colorant used in the red colored layer 13R include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, and isoindoline pigments. These pigments may be used alone or in combination of two or more.

緑色着色層13Gに用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニンン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。   Examples of the colorant used for the green colored layer 13G include phthalocyanine pigments such as halogen polysubstituted phthalocyanine pigments or halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane basic dyes, isoindoline pigments, and isoindoline. Examples include linone pigments. These pigments or dyes may be used alone or in combination of two or more.

青色着色層13Bに用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。   Examples of the colorant used for the blue colored layer 13B include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, dioxazine pigments, and the like. These pigments may be used alone or in combination of two or more.

なお、非画素エリア12は、縦横方向のラインが交わる交差部位を有し、当該非画素エリア12の交差部位に凸状柱17を形成することが望ましい。凸状柱17の形成位置にスペース的な余裕をもたせ、強度を高めた状態で形成させることができるからである。また、形成も比較的容易で歩留まり向上に寄与することができる。なお、TFTの設計によっては凸状柱17の形成位置は交差部位でなくともよい。   Note that the non-pixel area 12 has an intersecting portion where lines in the vertical and horizontal directions intersect, and it is desirable to form the convex column 17 at the intersecting portion of the non-pixel area 12. This is because a space can be provided at the formation position of the convex column 17 and it can be formed in a state where the strength is increased. Further, it can be formed relatively easily and can contribute to an improvement in yield. Depending on the design of the TFT, the formation position of the convex column 17 may not be an intersection.

(有機EL素子側基板70の説明)
図1に示すように有機EL素子側基板70は、基板71と、当該基板71上に形成された有機EL層83を含む有機エレクトロルミネッセンス素子80と、を有して構成される。
(Description of organic EL element side substrate 70)
As shown in FIG. 1, the organic EL element side substrate 70 includes a substrate 71 and an organic electroluminescence element 80 including an organic EL layer 83 formed on the substrate 71.

このような有機EL素子側基板70と前記カラーフィルタ10を一体化・接合させることによって、図2に示されるような有機エレクトロルミネッセンス表示装置100が形成される。なお、有機EL素子側基板70と前記カラーフィルタ10との一体化・接合に際しては、有機EL素子側基板70の有機エレクトロルミネッセンス素子80と、カラーフィルタ10の着色層13とが対向するように配置される。   By integrating and joining the organic EL element side substrate 70 and the color filter 10 as described above, an organic electroluminescence display device 100 as shown in FIG. 2 is formed. When the organic EL element side substrate 70 and the color filter 10 are integrated and joined, the organic electroluminescence element 80 of the organic EL element side substrate 70 and the colored layer 13 of the color filter 10 are arranged to face each other. Is done.

有機エレクトロルミネッセンス素子80は、有機EL層83と、この有機EL層83を挟持するように配置された一対の下面電極層81と上面透明電極層85を有して構成される。また、有機EL層83の周囲には絶縁層91が形成され、この絶縁層91によって有機EL層83が区画化されるとともに、下面電極層81と上面透明電極層85とが直接接触することが防止される。さらに、上面透明電極層85の上には、主として有機EL層83を保護するための封止層95が、素子全体を覆うように形成されている。なお、前記封止層95は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置100に必須の構成ではない。   The organic electroluminescence element 80 includes an organic EL layer 83, a pair of lower surface electrode layers 81 and an upper surface transparent electrode layer 85 arranged so as to sandwich the organic EL layer 83. In addition, an insulating layer 91 is formed around the organic EL layer 83, and the organic EL layer 83 is partitioned by the insulating layer 91, and the lower electrode layer 81 and the upper transparent electrode layer 85 may be in direct contact with each other. Is prevented. Furthermore, a sealing layer 95 for mainly protecting the organic EL layer 83 is formed on the upper transparent electrode layer 85 so as to cover the entire element. The sealing layer 95 is not an essential component for the organic electroluminescence display device 100.

そして、このような封止層95の前記カラーフィルタ10との対向面には、貫通孔95aが形成されている。この貫通孔95aは、前記カラーフィルタ10に形成された凸状柱17の先端部分を挿着させることができ、前記凸状柱17の頂部に形成された電極層18の部分と、有機エレクトロルミネッセンス素子80の上面透明電極層85とが接触して導通が図れるように形成されている。貫通孔95aは、挿入される凸状柱17の先端部分と同様なテーパー形状を備える形態とし、凸状柱17の先端部分が貫通孔95aに嵌着できるような形態とすることが望ましい。また、貫通孔95aの深さは、上面透明電極層85に到達する深さとされる。また、図示はしていないが、電極層18と上面透明電極層85との導通を確保し易いように、貫通孔95aの側面に導電膜を形成しておくようにしてもよい。このような貫通孔95aを設けておくことにより、封止層95がある場合においても、導通を確保できるので好ましい。   A through hole 95a is formed on the surface of the sealing layer 95 facing the color filter 10. The through hole 95a can be inserted into the tip of the convex column 17 formed in the color filter 10, and the portion of the electrode layer 18 formed on the top of the convex column 17 and the organic electroluminescence. The upper surface transparent electrode layer 85 of the element 80 is in contact with the element 80 so as to be conductive. It is desirable that the through hole 95a has a tapered shape similar to the tip of the convex column 17 to be inserted, and that the tip of the convex column 17 can be fitted into the through hole 95a. Further, the depth of the through hole 95 a is set to a depth that reaches the upper transparent electrode layer 85. Further, although not shown, a conductive film may be formed on the side surface of the through hole 95a so as to facilitate the conduction between the electrode layer 18 and the upper transparent electrode layer 85. Providing such a through hole 95a is preferable because conduction can be ensured even when the sealing layer 95 is provided.

貫通孔95aが形成される部位は、発光エリアを狭めないように有機EL層が存在しない部位に設けることが好ましい。例えば、図1や図2に示されるように、隣接する有機EL層83同士の間隙部分に貫通孔95aを形成するようにすればよい。   The part where the through hole 95a is formed is preferably provided in a part where the organic EL layer does not exist so as not to narrow the light emitting area. For example, as shown in FIGS. 1 and 2, a through hole 95 a may be formed in a gap portion between adjacent organic EL layers 83.

上述のごとく構成を採択することによって、前述したように有機EL層83を有する有機EL素子側基板70からの電流を凸状柱17の頂部および側部に形成された電極層18と、当該電極層18と導通しているメタル補助電極層15とを介してカラーフィルタ10側に導いて逃がすことにより、電圧降下を防ぐように作用させることが可能となる。   By adopting the configuration as described above, the current from the organic EL element side substrate 70 having the organic EL layer 83 as described above is applied to the electrode layer 18 formed on the top and side portions of the convex column 17, and the electrode By leading to the color filter 10 side through the metal auxiliary electrode layer 15 electrically connected to the layer 18 and allowing it to escape, it is possible to prevent the voltage drop.

なお、基板71には、図示のごとく、画素を構成する有機エレクトロルミネッセンス素子80に流れる電流を制御するためのTFT (Thin Film Transistor)75が、画素ごとに配置形成されており、通常、各TFTの回路には、図示していないゲート線、信号線、電源線が接続されている。このようなTFT75の形成手法は、公知の方法に従えばよく、TFT75の上には、通常、絶縁層77が形成される。なお、絶縁層77としては、後述する絶縁層91と同様な材料を用いることができる。   As shown in the figure, TFTs (Thin Film Transistors) 75 for controlling the current flowing in the organic electroluminescence elements 80 constituting the pixels are arranged and formed on the substrate 71 for each pixel. A gate line, a signal line, and a power supply line (not shown) are connected to this circuit. Such a TFT 75 may be formed by a known method, and an insulating layer 77 is usually formed on the TFT 75. Note that as the insulating layer 77, a material similar to that of the insulating layer 91 described later can be used.

以下、有機EL素子側基板70の各構成について、さらに説明を加える。   Hereinafter, each configuration of the organic EL element side substrate 70 will be further described.

基板71
本発明に用いられる基板71としては、有機エレクトロルミネッセンス素子80等を支持することができるものであればよく、有機EL表示装置の構成部材として一般的に用いられるものを使用することができる。なお、本実施形態は、有機EL表示装置用カラーフィルタ10側から光が取り出される、いわゆるトップエミッション方式であるため、有機EL素子側基板70の基板71としては、透明であっても、不透明であってもよい。
Board 71
The substrate 71 used in the present invention is not particularly limited as long as it can support the organic electroluminescence element 80 and the like, and those generally used as a constituent member of an organic EL display device can be used. In addition, since this embodiment is a so-called top emission system in which light is extracted from the color filter 10 side for the organic EL display device, the substrate 71 of the organic EL element side substrate 70 is transparent or opaque. There may be.

絶縁層91
本発明における絶縁層91は、上述したように下面電極層81と上面透明電極層85とが直接接触することを防ぐために形成される。
Insulating layer 91
As described above, the insulating layer 91 in the present invention is formed to prevent the lower electrode layer 81 and the upper transparent electrode layer 85 from coming into direct contact.

このような絶縁層91の形成材料としては、例えば感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂等の光硬化型樹脂、および熱硬化型樹脂、ならびに無機材料などを用いることができる。絶縁層91のパターンは、通常、線状とすることができ、絶縁層91の形成によって、例えばマトリクス状またはストライプ状等の開口部を有するパターンを形成することができる。   As a material for forming such an insulating layer 91, for example, a photocurable resin such as a photosensitive polyimide resin or an acrylic resin, a thermosetting resin, an inorganic material, or the like can be used. The pattern of the insulating layer 91 can be generally linear. By forming the insulating layer 91, a pattern having openings such as a matrix shape or a stripe shape can be formed.

絶縁層91の形成方法としては、上記材料を塗布して、フォトリソグラフィー法によりパターンニングする方法が挙げられる。また、印刷法等を用いることもできる。   Examples of a method for forming the insulating layer 91 include a method of applying the above-described material and patterning by a photolithography method. Also, a printing method or the like can be used.

有機EL層83
本発明に用いられる有機EL層83は、発光層、特に、好ましくは白色発光層を有するように構成される。白色発光層に代えて、赤色発光層、青色発光層および緑色発光層を順じ備えるように構成することもできるが、ここでは、より好ましい態様である白色発光層を備える場合を例にとって説明する。
Organic EL layer 83
The organic EL layer 83 used in the present invention is configured to have a light emitting layer, particularly preferably a white light emitting layer. Instead of the white light-emitting layer, a red light-emitting layer, a blue light-emitting layer, and a green light-emitting layer may be sequentially provided. Here, a case where a white light-emitting layer that is a more preferable embodiment is provided will be described as an example. .

また、有機EL層83は、発光層に加えて、通常、複数層の有機層から構成されるものであり、正孔注入層や電子注入層といった電荷注入層や、白色発光層に正孔を輸送する正孔輸送層、白色発光層に電子を輸送する電子輸送層といった電荷輸送層を有するものとすることができる。   The organic EL layer 83 is usually composed of a plurality of organic layers in addition to the light emitting layer, and holes are introduced into a charge injection layer such as a hole injection layer and an electron injection layer, and a white light emitting layer. It can have a charge transport layer such as a hole transport layer for transporting and an electron transport layer for transporting electrons to the white light emitting layer.

白色発光層
本発明において好適な発光層として用いられる白色発光層は、白色光を発光することができるものであればよい。このような白色発光層は、具体的には、有機EL層83に電圧が加えられた際に、少なくとも青色光(430nm〜470nm)、緑色光(470nm〜600nm)、および赤色光(600nm〜700nm)の波長域の発光スペクトルを有するものであればよい。さらには、発光スペクトルにおいて緑色光(470nm〜600nm)ピークの最大発光強度と青色光(430nm〜470nm)ピークの最大発光強度の比(緑色光ピークの最大発光強度/青色光ピークの最大は高強度)が、0.3〜0.8の範囲内であることが好ましく、0.3〜0.7の範囲内であることがより好ましく、特に0.3〜0.5の範囲内であることが好ましい。
White light emitting layer The white light emitting layer used as a suitable light emitting layer in this invention should just be what can light-emit white light. Specifically, such a white light emitting layer has at least blue light (430 nm to 470 nm), green light (470 nm to 600 nm), and red light (600 nm to 700 nm) when a voltage is applied to the organic EL layer 83. ) As long as it has an emission spectrum in the wavelength region. Furthermore, in the emission spectrum, the ratio of the maximum emission intensity of the green light (470 nm to 600 nm) peak to the maximum emission intensity of the blue light (430 nm to 470 nm) peak (the maximum emission intensity of the green light peak / the maximum of the blue light peak is high intensity). ) Is preferably in the range of 0.3 to 0.8, more preferably in the range of 0.3 to 0.7, and particularly in the range of 0.3 to 0.5. Is preferred.

緑色光ピークの最大発光強度と青色光ピークの最大発光強度の比が上記の範囲内であることにより、青色パターンの透過率が大きいことによる消費電力低減効果を、より効果的に発揮することができる。また、赤色光(600nm〜700nm)については、赤色光ピークの最大発光強度と青色光ピークの最大発光強度の比(赤色光ピークの最大発光強度/青色光ピークの最大発光強度)が0.3〜1.0の範囲内であることが好ましい。   When the ratio of the maximum emission intensity of the green light peak and the maximum emission intensity of the blue light peak is within the above range, the power consumption reduction effect due to the large transmittance of the blue pattern can be more effectively exhibited. it can. For red light (600 nm to 700 nm), the ratio of the maximum emission intensity of the red light peak to the maximum emission intensity of the blue light peak (maximum emission intensity of the red light peak / maximum emission intensity of the blue light peak) is 0.3. It is preferable to be within the range of -1.0.

このような白色発光層を構成する材料としては、蛍光または燐光を発するものであればよく、特に限定されるものではない。また、発光材料は、正孔輸送性や電子輸送性を有していてもよい。発光材料としては、色素系材料、金属錯体系材料、および高分子系材料を挙げることができる。   The material constituting such a white light emitting layer is not particularly limited as long as it emits fluorescence or phosphorescence. In addition, the light emitting material may have a hole transport property or an electron transport property. Examples of the light emitting material include a dye material, a metal complex material, and a polymer material.

上記の色素系材料としては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、およびピラゾリンダイマー等を挙げることができる。   Examples of the dye-based material include cyclopentamine derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, silole derivatives, thiophene ring compounds, Examples thereof include pyridine ring compounds, perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, trifumanylamine derivatives, oxadiazole dimers, and pyrazoline dimers.

また、上記の金属錯体系材料としては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、およびユーロピウム錯体、あるいは、中心金属に、Al、Zn、Be等またはTb、Eu、Dy等の希土類金属を有し、配位子に、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、およびキノリン構造等を有する金属錯体などを挙げることができる。   In addition, the above metal complex materials include an aluminum quinolinol complex, a benzoquinolinol beryllium complex, a benzoxazole zinc complex, a benzothiazole zinc complex, an azomethylzinc complex, a porphyrin zinc complex, and a europium complex, or a central metal, Al, Examples of the metal complex include Zn, Be, and the like, or rare earth metals such as Tb, Eu, and Dy, and the ligand includes oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, and a quinoline structure. .

また、上記の高分子系の材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ならびに上記の色素系材料および金属錯体系材料を高分子化したもの等を挙げることができる。   Examples of the polymer material include polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, and the like, polyfluorene derivatives, polyvinylcarbazole derivatives, and the above-described dye materials and metal complexes. Examples include polymerized system materials.

上記の白色発光層の形成方法としては、例えば、蒸着法、印刷法、インクジェット法、またはスピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、および自己組織化法(交互吸着法、自己組織化単分子膜法)等を挙げることができる。これらの中でも特に、蒸着法、スピンコート法、およびインクジェット法を用いることが好ましい。   Examples of the method for forming the white light emitting layer include a vapor deposition method, a printing method, an inkjet method, a spin coating method, a casting method, a dipping method, a bar coating method, a blade coating method, a roll coating method, a gravure coating method, and a flexographic method. Examples thereof include a printing method, a spray coating method, and a self-assembly method (alternate adsorption method, self-assembled monolayer method). Among these, it is particularly preferable to use a vapor deposition method, a spin coating method, and an ink jet method.

本発明に用いられる白色発光層の膜厚は、通常5nm〜5μm程度とされる。   The thickness of the white light emitting layer used in the present invention is usually about 5 nm to 5 μm.

正孔注入層
本発明においては、白色発光層と陽極(下面電極層81もしくは上面透明電極層85)との間に正孔注入層が形成されていてもよい。正孔注入層を設けることにより、白色発光層への正孔の注入が安定化し、発光効率を高めることができる。
Hole injection layer In the present invention, a hole injection layer may be formed between the white light-emitting layer and the anode (the lower electrode layer 81 or the upper transparent electrode layer 85). By providing the hole injection layer, the injection of holes into the white light emitting layer is stabilized, and the light emission efficiency can be increased.

本発明に用いられる正孔注入層の形成材料としては、一般的に有機EL素子の正孔注入層に使用されている材料を用いることができる。また、正孔注入層の形成材料は、正孔の注入性もしくは電子の障壁性のいずれかを有するものであればよい。   As a material for forming the hole injection layer used in the present invention, a material generally used for a hole injection layer of an organic EL element can be used. The material for forming the hole injection layer may be any material that has either a hole injection property or an electron barrier property.

具体的に、正孔注入層の形成材料としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、およびチオフェンオリゴマー等の導電性高分子オリゴマー等を例示することができる。さらに、正孔注入層の形成材料としては、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、およびスチリルアミン化合物等を例示することができる。   Specifically, the hole injection layer forming material includes triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazoles. Examples include derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, polysilane-based, aniline-based copolymers, and conductive polymer oligomers such as thiophene oligomers. Furthermore, examples of the material for forming the hole injection layer include porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds, and styrylamine compounds.

このような材料から構成される正孔注入層の膜厚は、通常、5nm〜1μm程度とされる。   The thickness of the hole injection layer made of such a material is usually about 5 nm to 1 μm.

電子注入層
本発明においては、白色発光層と陰極(上面透明電極層85もしくは下面電極層81)との間に電子注入層が形成されていてもよい。電子注入層を設けることにより、白色発光層への電子の注入が安定化し、発光効率を高めることができるからである。
Electron Injection Layer In the present invention, an electron injection layer may be formed between the white light emitting layer and the cathode (upper surface transparent electrode layer 85 or lower electrode layer 81). This is because by providing the electron injection layer, the injection of electrons into the white light emitting layer is stabilized, and the luminous efficiency can be increased.

本発明に用いられる電子注入層の形成材料としては、例えばニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス(8−キノリノール)アルミニウム等の8−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ならびにジスチリルピラジン誘導体等を例示することができる。   Examples of the material for forming the electron injection layer used in the present invention include heterocyclic tetracarboxylic anhydrides such as nitro-substituted fluorene derivatives, anthraquinodimethane derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyrandioxide derivatives, naphthaleneperylene, carbodiimides, Fluorenylidenemethane derivatives, anthraquinodimethane and anthrone derivatives, oxadiazole derivatives, thiazole derivatives in which the oxygen atom of the oxadiazole ring of the oxadiazole derivative is replaced with a sulfur atom, quinoxaline ring known as an electron withdrawing group Examples thereof include quinoxaline derivatives having bismuth, metal complexes of 8-quinolinol derivatives such as tris (8-quinolinol) aluminum, phthalocyanines, metal phthalocyanines, and distyrylpyrazine derivatives.

このような材料から構成される電子注入層の膜厚は、通常、5nm〜1μm程度とされる。   The film thickness of the electron injection layer made of such a material is usually about 5 nm to 1 μm.

上面透明電極層85
本発明における上面透明電極層85は、後に詳述する下面電極層81との間に挟まれた有機EL層83に電圧をかけ、白色発光層で発光を起こさせるために設けられる。
Upper transparent electrode layer 85
The upper transparent electrode layer 85 in the present invention is provided to apply a voltage to the organic EL layer 83 sandwiched between the lower electrode layer 81 described in detail later and cause the white light emitting layer to emit light.

また、上面透明電極層85は、白色発光層で発生した光を、有機EL表示装置用カラーフィルタ側に透過させるものであるから、図1に示されるように有機EL層83と、有機EL層83の上側に位置する有機EL表示装置カラーフィルタ10との間に配置される。   Moreover, since the upper surface transparent electrode layer 85 transmits the light generated in the white light emitting layer to the color filter side for the organic EL display device, the organic EL layer 83 and the organic EL layer as shown in FIG. The organic EL display device color filter 10 located above 83 is disposed.

本発明に用いられる上面透明電極層85の形成材料としては、例えば、透明性および導電性を有する金属酸化物等が挙げられる。このような金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム、酸化亜鉛、および酸化第二錫等が挙げられる。   Examples of the material for forming the upper transparent electrode layer 85 used in the present invention include metal oxides having transparency and conductivity. Examples of such metal oxides include indium tin oxide (ITO), indium oxide, zinc oxide, and stannic oxide.

このような材料から構成される上面透明電極層85の膜厚は、通常、100nm〜300nm程度とされる。   The film thickness of the upper transparent electrode layer 85 made of such a material is usually about 100 nm to 300 nm.

上面透明電極層85の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィー法によりパターンニングする方法が好適に用いられる。   As a method for forming the upper transparent electrode layer 85, for example, a method of patterning by a photolithography method after forming a thin film by a vapor deposition method or a sputtering method is suitably used.

下面電極層81
本発明における下面電極層81は、図1に示されるように有機EL層83と、有機EL層83の下側に位置する基板71との間に配置される。下面電極層81は、白色発光層を発光させるための他方の電極をなすものであり、上記の上面透明電極層85と反対の電荷をもつ電極として構成される。
Lower electrode layer 81
The lower electrode layer 81 in the present invention is disposed between the organic EL layer 83 and the substrate 71 located below the organic EL layer 83 as shown in FIG. The lower electrode layer 81 forms the other electrode for causing the white light emitting layer to emit light, and is configured as an electrode having a charge opposite to that of the upper transparent electrode layer 85 described above.

用いられる下面電極層81の形成材料としては、例えば仕事関数が4eV以下程度と小さい金属、合金、およびそれらの混合物等が挙げられる。具体的には、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al23)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、および希土類金属等を例示することができる。より好ましくは、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al23)混合物、およびリチウム/アルミニウム混合物等を挙げることができる。 Examples of the material for forming the lower surface electrode layer 81 include metals, alloys, and mixtures thereof having a work function as small as about 4 eV or less. Specifically, sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixture, indium, Examples include lithium / aluminum mixtures and rare earth metals. More preferable examples include a magnesium / silver mixture, a magnesium / aluminum mixture, a magnesium / indium mixture, an aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixture, and a lithium / aluminum mixture.

下面電極層81は、そのシート抵抗が数Ω/cm以下であることが好ましい。また、下面電極層81の膜厚は、通常、10nm〜1μm程度とされる。   The lower electrode layer 81 preferably has a sheet resistance of several Ω / cm or less. The film thickness of the lower electrode layer 81 is normally about 10 nm to 1 μm.

下面電極層81の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィー法によりパターニングする方法が好適に用いられる。なお、下面電極層81には有機EL素子に流れる電流を制御するためのTFT(Thin Film Transistor)75が接続される。   As a method for forming the lower electrode layer 81, for example, a method of patterning by a photolithography method after forming a thin film by an evaporation method or a sputtering method is suitably used. Note that a TFT (Thin Film Transistor) 75 for controlling a current flowing through the organic EL element is connected to the lower electrode layer 81.

封止層95
上述した貫通孔95aを有する封止層95は、上面透明電極層85の上、すなわち、上面透明電極層85と、有機EL表示装置用カラーフィルタ10との間に形成されている。封止層95は、通常、有機EL層83へ水蒸気や酸素が到達するのを遮断する保護層として設けられる。
Sealing layer 95
The sealing layer 95 having the above-described through hole 95a is formed on the upper transparent electrode layer 85, that is, between the upper transparent electrode layer 85 and the color filter 10 for the organic EL display device. The sealing layer 95 is usually provided as a protective layer that blocks water vapor and oxygen from reaching the organic EL layer 83.

封止層95としては、水蒸気や酸素に対してバリア性を発現することができ、かつ透明であれば特に限定されるものではなく、例えば透明無機膜、透明樹脂膜、あるいは有機−無機ハイブリッド膜等が用いられる。中でも、バリア性が高い点から、透明無機膜が好ましい。   The sealing layer 95 is not particularly limited as long as it can exhibit barrier properties against water vapor and oxygen and is transparent. For example, a transparent inorganic film, a transparent resin film, or an organic-inorganic hybrid film Etc. are used. Among these, a transparent inorganic film is preferable because of its high barrier property.

封止層95として好適に用いられる透明無機膜パネルの形成材料としては、例えば酸化アルミニウム、酸化ケイ素、および酸化マグネシウム等の酸化物;窒化ケイ素等の窒化物;窒化酸化ケイ素等の窒化酸化物;などが用いられる。特に、ピンホールが生じにくくガスバリア性が高いことから、窒化酸化ケイ素が好適である。   Examples of a material for forming a transparent inorganic film panel suitably used as the sealing layer 95 include oxides such as aluminum oxide, silicon oxide, and magnesium oxide; nitrides such as silicon nitride; nitride oxides such as silicon nitride oxide; Etc. are used. In particular, silicon nitride oxide is preferable because pinholes hardly occur and gas barrier properties are high.

封止層95は、単層であっても良く、多層であってもよい。例えば、封止層95が複数の窒化酸化ケイ素膜が積層された多層である場合は、バリア性をさらに高めることができる。また、封止層95が多層である場合は、各層にそれぞれ異なる材料を用いてもよい。   The sealing layer 95 may be a single layer or a multilayer. For example, when the sealing layer 95 is a multilayer in which a plurality of silicon nitride oxide films are stacked, the barrier property can be further improved. Moreover, when the sealing layer 95 is a multilayer, you may use a different material for each layer, respectively.

封止層95の膜厚は、用いる封止層95の形成材料の種類等に応じて適宜、決定するようにすればよい。通常、5nm〜5μm程度とされる。この封止層95の厚さが薄すぎるとバリア性が不十分となる傾向が生じ、また封止層95の厚さが厚すぎると薄膜の膜応力によるクラック等の現象が生じ易くなるという傾向が生じる。   The film thickness of the sealing layer 95 may be appropriately determined according to the type of the forming material of the sealing layer 95 to be used. Usually, it is about 5 nm to 5 μm. If the sealing layer 95 is too thin, the barrier property tends to be insufficient, and if the sealing layer 95 is too thick, a phenomenon such as cracking due to the film stress of the thin film tends to occur. Occurs.

封止層95が透明の無機膜である場合、この透明無機膜の形成方法としては、真空状態で形成できる膜の形成方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、電子ビーム(EB)蒸着法や抵抗加熱法等の真空蒸着法、原子層エピタキシ(ALE)法、レーザーアブレーション法、化学気相成長(CVD)法等が挙げられる。これらの中でも、生産性の観点から、スパッタリング法、イオンプレーティング法、CVD法が好ましく用いられる。   When the sealing layer 95 is a transparent inorganic film, the method for forming the transparent inorganic film is not particularly limited as long as it is a film forming method that can be formed in a vacuum state. Examples thereof include a vacuum deposition method such as a coating method, an electron beam (EB) deposition method and a resistance heating method, an atomic layer epitaxy (ALE) method, a laser ablation method, and a chemical vapor deposition (CVD) method. Among these, the sputtering method, the ion plating method, and the CVD method are preferably used from the viewpoint of productivity.

封止層95の所定の箇所に上述した貫通孔95aを形成する手法としては、例えば、封止層95の薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィー法によりパターニングする方法が好適に用いられる。   As a method for forming the above-described through-hole 95a at a predetermined portion of the sealing layer 95, for example, a method of patterning by a photolithography method after forming a thin film of the sealing layer 95 is preferably used.

このような構成を有する有機EL素子側基板70と、前記カラーフィルタ10とを一体化・接合させることによって、図2に示されるような有機エレクトロルミネッセンス表示装置100が形成される。すなわち、有機EL素子側基板70と前記カラーフィルタ10との一体化・接合に際しては、有機EL素子側基板70の封止層95に形成された貫通孔95aと、カラーフィルタ10の非画素エリアに形成された凸状柱17の先端部と、を位置合わせした後、凸状柱17の先端部を封止層95の貫通孔95aに嵌着させ、凸状柱の頂部17aに形成された前記電極層18の部分と前記上面透明電極層85とを接触させて導通が図れるように一体化させる。しかる後、封止層95と電極層18との隙間部分に、図2に示されるような接着剤層99を充填して、カラーフィルタ10と有機EL素子側基板70との一体化・接合を図り、図2に示されるような有機エレクトロルミネッセンス表示装置100が形成される。   An organic EL display device 100 as shown in FIG. 2 is formed by integrating and joining the organic EL element side substrate 70 having such a configuration and the color filter 10. That is, when the organic EL element side substrate 70 and the color filter 10 are integrated and joined, the through hole 95a formed in the sealing layer 95 of the organic EL element side substrate 70 and the non-pixel area of the color filter 10 are provided. After aligning the tip of the convex column 17 formed, the tip of the convex column 17 is fitted into the through-hole 95a of the sealing layer 95, and the tip 17a of the convex column is formed. The portion of the electrode layer 18 and the upper transparent electrode layer 85 are brought into contact with each other so as to be integrated. Thereafter, the gap portion between the sealing layer 95 and the electrode layer 18 is filled with an adhesive layer 99 as shown in FIG. 2, and the color filter 10 and the organic EL element side substrate 70 are integrated and joined. As shown, an organic electroluminescence display device 100 as shown in FIG. 2 is formed.

接着剤層99としては、透明で接着力を有し、かつ、硬化性を有するものであれば特に限定されるものではない。このような接着剤層99を形成する材料としては、例えば、熱硬化性を有する接着剤、あるいは光硬化性を有する接着剤を好適例として挙げることができる。通常、溶剤を必要としないタイプのものがよい。また、フィルム状の接着シートタイプのものを用いてもよい。具体的には、エポキシ系、アクリル系、ポリイミド系、合成ゴム系などの接着剤や接着シートを挙げることができる。   The adhesive layer 99 is not particularly limited as long as it is transparent, has adhesive force, and has curability. As a material for forming such an adhesive layer 99, for example, a thermosetting adhesive or a photocurable adhesive can be cited as a preferred example. Usually, a type that does not require a solvent is preferable. Also, a film-like adhesive sheet type may be used. Specific examples include epoxy-based, acrylic-based, polyimide-based, and synthetic rubber-based adhesives and adhesive sheets.

また、接着剤層99を設けることなく封止層95と電極層18との隙間部分を空けたままにしておき、窒素等の不活性ガス雰囲気中において上記有機EL素子側基板70および有機EL表示装置用カラーフィルタ10の周縁部をシール剤により封止し、中空の内部に酸化バリウム等の捕水剤を備えるようにしてもよい。   Further, the gap between the sealing layer 95 and the electrode layer 18 is left without providing the adhesive layer 99, and the organic EL element side substrate 70 and the organic EL display are kept in an inert gas atmosphere such as nitrogen. The peripheral portion of the device color filter 10 may be sealed with a sealing agent, and a water capturing agent such as barium oxide may be provided inside the hollow.

電源からの配線形態は、例えば、図2に示されるように、電源Pの一方の極から各々のTFT75に至る配線201と、電源の他方の極から上面透明電極層85に至る配線202−203と、電源の他方の極からメタル補助電極層15に至る配線202−204と、を有し構成される。有機EL素子80を発光させるための配線回路が配線201と配線202−203であり、TFT側の電流をカラーフィルタ側のメタル補助電極層15へ逃がして電圧降下を防止するための配線回路が配線201と配線204−202である。   For example, as shown in FIG. 2, the wiring form from the power source is a wiring 201 from one pole of the power source P to each TFT 75, and a wiring 202-203 from the other pole of the power source to the upper transparent electrode layer 85. And wirings 202-204 extending from the other pole of the power source to the metal auxiliary electrode layer 15. The wiring circuit for causing the organic EL element 80 to emit light is the wiring 201 and the wiring 202-203, and the wiring circuit for releasing the current on the TFT side to the metal auxiliary electrode layer 15 on the color filter side to prevent a voltage drop is wiring. 201 and wirings 204-202.

このような構成を採択することによって、前述した用に有機EL層83を有する有機EL素子側基板70からの電流を、凸状柱17の頂部および側部に形成された電極層18とメタル補助電極層15を介してカラーフィルタ10側に導いて逃すことにより、電圧降下を防ぐように作用させることが可能となる。   By adopting such a configuration, the current from the organic EL element side substrate 70 having the organic EL layer 83 as described above is applied to the electrode layer 18 formed on the top and side portions of the convex column 17 and the metal auxiliary. By leading to the color filter 10 side through the electrode layer 15 and allowing it to escape, it is possible to prevent the voltage drop.

なお、上記の実施形態においては、好適な態様として、白色発光層を備える有機EL層から発光される白色の光を、赤色着色層13R、緑色着色層13Gおよび青色着色層13Bを備えるカラーフィルタを用いてRGBの3色で発光させる方式を取り挙げて説明した。しかし、この方式に限定されることなく、例えば、青色発光の有機EL層を、青色の光を吸収して緑や赤の色で発光させる色変換層(CCM)を用いてRGBの3色で発光させるいわゆる青色EL色変換(CCM)フルカラー方式や、RGB発光する有機EL素子を画素ごとに塗り分けるいわゆるRGB発光層並置フルカラー方式のいずれにおいても本発明の要部の構成を適用させることができる。
In addition, in said embodiment, as a suitable aspect, the color filter provided with the red colored layer 13R, the green colored layer 13G, and the blue colored layer 13B is used for the white light emitted from the organic EL layer provided with the white light emitting layer. The method of using and emitting light in three colors of RGB has been described. However, the present invention is not limited to this method. For example, an organic EL layer that emits blue light has three colors of RGB using a color conversion layer (CCM) that absorbs blue light and emits light in green and red colors. The configuration of the main part of the present invention can be applied to either a so-called blue EL color conversion (CCM) full-color system that emits light or a so-called RGB light-emitting layer juxtaposed full-color system that coats organic EL elements that emit RGB light for each pixel. .

10…有機EL表示装置用カラーフィルタ
11…透明基板
12…非画素エリア
13…着色層
15…メタル補助電極層
17…凸状柱
18…電極層
19…バリア層
70…有機EL素子側基板
100…有機EL表示装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Color filter 11 for organic EL display devices ... Transparent substrate 12 ... Non-pixel area 13 ... Colored layer 15 ... Metal auxiliary electrode layer 17 ... Convex column 18 ... Electrode layer 19 ... Barrier layer 70 ... Organic EL element side substrate 100 ... Organic EL display device

Claims (6)

透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、
前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に凸状柱が形成されており、
前記凸状柱の頂部および側部には電極層が設けられており、
前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱の電極層とが導通しており、
前記凸状柱の頂部に設けられた電極層を除き、他の領域の少なくとも一部における最表面にはバリア層が形成されており、
前記バリア層は無機材料から構成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板。
A transparent substrate, a pixel portion formed on the transparent substrate, and a non-pixel area formed around the pixel portion,
In the non-pixel area, a metal auxiliary electrode layer is provided, and a convex column is formed in at least one place of the non-pixel area,
An electrode layer is provided on the top and sides of the convex column,
The metal auxiliary electrode layer of the non-pixel area and the electrode layer of the convex column are conductive,
Except for the electrode layer provided at the top of the convex column, a barrier layer is formed on the outermost surface in at least a part of the other region ,
The said barrier layer is comprised from the inorganic material , The board | substrate for color filters used for the organic electroluminescent display apparatus characterized by the above-mentioned .
前記非画素エリアは、複数のラインが交わる交差部分を有し、当該交差部分に前記凸状柱が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板。   The color used in the organic electroluminescence display device according to claim 1, wherein the non-pixel area has an intersection where a plurality of lines intersect, and the convex column is formed at the intersection. Filter substrate. 前記凸状柱は、基部側から頂部に至るまでにその径が漸減するテーパー形状をなしていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板。   3. The substrate for a color filter used in an organic electroluminescence display device according to claim 1, wherein the convex column has a tapered shape whose diameter gradually decreases from the base side to the top. . 基板中央部に配設された凸状柱の配設密度D1と、基板の外周部に配設された凸状柱の配設密度D2とを比較した場合、D1>D2であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板。   When the arrangement density D1 of the convex columns arranged in the central part of the substrate and the arrangement density D2 of the convex columns arranged in the outer peripheral part of the substrate are compared, D1> D2. The substrate for color filters used for the organic electroluminescent display apparatus as described in any one of Claims 1-3. 透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に凸状柱が形成されており、前記凸状柱の頂部および側部には電極層が設けられており、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱の電極層とが導通しており、前記凸状柱の頂部に設けられた電極層を除き、他の領域の少なくとも一部における最表面にはバリア層が形成されている有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板と、
前記カラーフィルタ用基板の画素部分に形成された着色層と、
を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ。
A transparent substrate; a pixel portion formed on the transparent substrate; and a non-pixel area formed around the pixel portion. A metal auxiliary electrode layer is provided in the non-pixel area. In addition, convex columns are formed in at least one location of the non-pixel area, and an electrode layer is provided on the top and sides of the convex column, and the metal auxiliary electrode layer of the non-pixel area and An organic electro-conductive layer that is electrically connected to the electrode layer of the convex column and has a barrier layer formed on the outermost surface of at least a part of the other region except for the electrode layer provided on the top of the convex column. A substrate for a color filter used in a luminescence display device;
A colored layer formed on a pixel portion of the color filter substrate;
A color filter for an organic electroluminescence display device, comprising:
透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に凸状柱が形成されており、前記凸状柱の頂部および側部には電極層が設けられており、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱の電極層とが導通しており、前記凸状柱の頂部に設けられた電極層を除き、他の領域の少なくとも一部における最表面にはバリア層が形成されており、前記バリア層は無機材料から構成されている有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板と、前記カラーフィルタ用基板の画素部分に形成された着色層と、を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタと、
基板および当該基板上に形成された有機EL層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子と、を有する有機EL素子側基板と、を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
前記カラーフィルタと、前記有機EL素子側基板とは、前記着色層および前記有機エレクトロルミネッセンス素子が対向するように配置されており、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記有機EL層と、前記有機EL層を挟持するように配置された一対の下面電極層と上面透明電極層を含み、
前記凸状柱の頂部に形成された前記メタル電極層の部分と前記上面透明電極層とが接触して導通が図れるように形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
A transparent substrate; a pixel portion formed on the transparent substrate; and a non-pixel area formed around the pixel portion. A metal auxiliary electrode layer is provided in the non-pixel area. In addition, convex columns are formed in at least one location of the non-pixel area, and an electrode layer is provided on the top and sides of the convex column, and the metal auxiliary electrode layer of the non-pixel area and The electrode layer of the convex column is conductive, except for the electrode layer provided on the top of the convex column, a barrier layer is formed on the outermost surface of at least a part of the other region , barrier layer of the organic electroluminescent having the substrate for a color filter used in the organic electroluminescence display device which is composed of an inorganic material, and a colored layer formed on the pixel portion of the substrate for the color filter Tsu And a color filter for Nsu display device,
An organic electroluminescence display device comprising: a substrate and an organic electroluminescence element including an organic EL layer formed on the substrate; and an organic EL element side substrate comprising:
The color filter and the organic EL element side substrate are arranged so that the colored layer and the organic electroluminescence element face each other.
The organic electroluminescence element includes the organic EL layer, a pair of lower electrode layers and an upper transparent electrode layer disposed so as to sandwich the organic EL layer,
An organic electroluminescence display device, wherein a portion of the metal electrode layer formed on the top of the convex column and the upper transparent electrode layer are in contact with each other so as to be conductive.
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