JP5654271B2 - Ophthalmic equipment - Google Patents

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本発明は、被検眼の波面収差を測定する測定光学系を備える眼科装置に関する。   The present invention relates to an ophthalmologic apparatus including a measurement optical system that measures wavefront aberration of an eye to be examined.

従来より、眼底に向けて測定光を投光し、その反射光を波面センサにより受光して眼の波面収差を検出する眼収差計が知られている。さらに、波面センサの検出結果に基づいて波面補償デバイスを制御し、波面補償後の眼底画像を細胞レベルで撮影する眼底撮影装置が開示されている。(例えば、特許文献1参照)。   2. Description of the Related Art Conventionally, an ophthalmometer is known in which measurement light is projected toward the fundus and the reflected light is received by a wavefront sensor to detect eye wavefront aberration. Furthermore, a fundus imaging apparatus is disclosed that controls a wavefront compensation device based on a detection result of a wavefront sensor and photographs a fundus image after wavefront compensation at a cell level. (For example, refer to Patent Document 1).

特表2001−507258号公報JP-T-2001-507258

ところで、従来より知られた眼収差計は、被検眼を正面方向に固視させた状態で収差を測定するものである。そして、本発明者は、上記波面補償付眼底撮影装置において、眼を周辺方向に固視させ、眼の周辺部の収差測定及び眼底撮影を試みた。しかしながら、眼底上で反射率が高い部分(例えば、乳頭)に測定光が達し、波面センサへの入射光量が過多となってしまうため、正確な収差測定を行うことが出来なかった。このため、周辺撮影に関し、鮮明な眼底像を得ることができなかった。   By the way, conventionally known ophthalmometers measure aberrations with the eye to be examined fixed in the front direction. Then, the present inventor tried to measure the aberration of the peripheral portion of the eye and to photograph the fundus in the above-mentioned eye fundus photographing apparatus with wavefront compensation by fixing the eye in the peripheral direction. However, the measurement light reaches a portion with high reflectance on the fundus (for example, the nipple), and the amount of light incident on the wavefront sensor becomes excessive, so that accurate aberration measurement cannot be performed. For this reason, a clear fundus image could not be obtained for peripheral photography.

本発明は、上記問題点を鑑み、眼の周辺部における収差測定を好適に行うことができる眼科装置を提供することを技術課題とする。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide an ophthalmologic apparatus that can suitably perform aberration measurement in the peripheral portion of the eye.

上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。   In order to solve the above problems, the present invention is characterized by having the following configuration.

(1) 被検眼眼底に向けて測定光を投光しその反射光を波面センサにより受光する波面収差検出光学系と、前記波面センサからの検出信号に基づいて制御される波面補償デバイスを有し、被検眼の波面収差を補償した状態で被検眼の眼底像を撮像するための撮像光学系と、撮像の部位に応じた輝度レベルを予め設定する設定手段と、前記設定手段によって予め設定された前記輝度レベルとなるように、前記波面収差検出光学系を制御し、前記波面センサから出力される検出信号における反射光の輝度レベルを制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。
(2) (1)の眼科装置において、前記設定手段は、固視灯位置に応じて前記輝度レベルを予め設定することを特徴とする。
(1) A wavefront aberration detection optical system that projects measurement light toward the fundus of the subject's eye and receives the reflected light by a wavefront sensor, and a wavefront compensation device that is controlled based on a detection signal from the wavefront sensor An imaging optical system for capturing a fundus image of the eye to be examined in a state in which the wavefront aberration of the eye to be compensated is compensated, a setting unit that presets a luminance level according to the part to be imaged, and the setting unit Control means for controlling the wavefront aberration detection optical system so as to achieve the brightness level, and for controlling the brightness level of reflected light in the detection signal output from the wavefront sensor.
(2) In the ophthalmologic apparatus according to (1), the setting unit presets the luminance level according to a fixation lamp position.

眼の周辺部における収差測定を好適に行うことができる。   Aberration measurement at the periphery of the eye can be suitably performed.

本発明の実施の形態を図面を用いて説明する。図1は、本実施形態の眼底撮影装置の光学系を示した模式図である。本実施形態の眼底撮影装置は、大別して、被検眼の眼底からの反射光に基づいて被検眼の眼底を撮像する第1眼底撮像光学系(以下、眼底撮像光学系と記載する。)100と、被検眼の波面収差を検出するための波面センサ73を有し、被検眼眼底に測定光を投光し、その反射光を波面センサ73にて指標パターン像として受光する波面収差検出光学系(以下、収差検出光学系と記載する。)110と、被検眼の収差を補正するために眼底撮像光学系100に配置された収差補正ユニット10,72と、眼底撮像光学系100で得られる眼底画像(以下、第1眼底画像と記す)の撮影位置を指定するための眼底の観察画像(以下、第2眼底画像と記す)を得るための第2撮影ユニット200、撮影される被検眼Eの固視微動等による位置ずれの経時変化を検出し、移動位置情報を得るトラッキング用ユニット(位置検出部)300、を備える。ここで、眼底撮像光学系100は、被検眼Eの眼底を高解像度(高分解能)・高倍率で撮影する。また、収差補正ユニットは、被検眼の低次収差(視度:例えば、球面度数)を補正するための視度補正部10と、被検眼の高次収差を補正するための高次収差補正部(波面補償デバイス)72と、固視標呈示光学系40と、大別される。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram showing an optical system of the fundus imaging apparatus of the present embodiment. The fundus imaging apparatus of the present embodiment is broadly divided into a first fundus imaging optical system (hereinafter referred to as fundus imaging optical system) 100 that images the fundus of the subject's eye based on the reflected light from the fundus of the subject's eye. A wavefront aberration detection optical system having a wavefront sensor 73 for detecting the wavefront aberration of the eye to be examined, projecting measurement light onto the fundus of the eye to be examined, and receiving the reflected light as an index pattern image by the wavefront sensor 73 ( Hereinafter, it will be referred to as an aberration detection optical system.) 110, aberration correction units 10 and 72 arranged in the fundus imaging optical system 100 for correcting the aberration of the eye to be examined, and a fundus image obtained by the fundus imaging optical system 100 The second imaging unit 200 for obtaining an observation image of the fundus for designating the imaging position (hereinafter referred to as the first fundus image) (hereinafter referred to as the second fundus image), and the fixation of the eye E to be imaged. Misalignment due to visual movement Detecting a change over time, and a tracking unit (position detection unit) 300, to obtain the transfer position data. Here, the fundus imaging optical system 100 captures the fundus of the eye E with high resolution (high resolution) and high magnification. The aberration correction unit includes a diopter correction unit 10 for correcting low-order aberrations (diopter: for example, spherical power) of the eye to be examined, and a high-order aberration correction unit for correcting high-order aberrations of the eye to be examined. (Wavefront compensation device) 72 and fixation target presenting optical system 40 are roughly classified.

眼底撮像光学系100は、被検眼Eに照明光(照明光束)を照射し眼底を2次元的に照明する第1照明光学系100aと、眼底に照射された照明光の反射光(反射光束)を受光して第1眼底画像を得るための第1撮影光学系100bと、収差補正部72と、を備える。眼底撮像光学系100は、例えば、共焦点光学系を用いた走査型レーザ検眼鏡の構成とされる。   The fundus imaging optical system 100 includes a first illumination optical system 100a that irradiates the eye E with illumination light (illumination light beam) to illuminate the fundus two-dimensionally, and reflected light (reflected light beam) of the illumination light irradiated on the fundus. And a first correction optical system 100b for obtaining a first fundus image and an aberration correction unit 72. The fundus imaging optical system 100 has, for example, a scanning laser ophthalmoscope configuration using a confocal optical system.

第1照明光学系100aは、眼底を照明するための照明光を出射する光源1(第1光源),照明光(スポット光)を眼底上で2次元的に走査する走査部20を有する。光源1は、被検眼に視認されにくい近赤外域の照明光を出射する。本実施形態では光源1は、波長840nmのSLD(Super Luminescent Diode)光源が用いられる。なお、光源としては、収束性の高い特性を持つスポット光を出射するものであればよく、例えば、半導体レーザ等であってもよい。   The first illumination optical system 100a includes a light source 1 (first light source) that emits illumination light for illuminating the fundus and a scanning unit 20 that two-dimensionally scans the illumination light (spot light) on the fundus. The light source 1 emits near-infrared illumination light that is hardly visible to the eye to be examined. In the present embodiment, the light source 1 is an SLD (Super Luminescent Diode) light source having a wavelength of 840 nm. The light source may be any light source that emits spot light having a high convergence property, and may be, for example, a semiconductor laser.

はじめに、第1照明光学系100aを説明する。光源1から眼底に到るまでの光路には、レンズ2、ビームスプリッタ3、偏光板4、レンズ5、ビームスプリッタ71、レンズ6、波面補償デバイス72、レンズ7、ビームスプリッタ75が配置される。そしてさらに、レンズ8、走査部20、ダイクロイックミラー46、レンズ9、2次元状に走査される照明光の走査位置を補正するための偏向部400、2枚のプリズムからなる視度補正部10、レンズ11、第2撮影ユニット200等の光路を第1照明光学系と略同軸にするビームスプリッタ90が配置される。なお、ビームスプリッタ3は、本実施形態では、ハーフミラーとされている。   First, the first illumination optical system 100a will be described. In the optical path from the light source 1 to the fundus, a lens 2, a beam splitter 3, a polarizing plate 4, a lens 5, a beam splitter 71, a lens 6, a wavefront compensation device 72, a lens 7, and a beam splitter 75 are arranged. Further, the lens 8, the scanning unit 20, the dichroic mirror 46, the lens 9, a deflection unit 400 for correcting the scanning position of illumination light scanned two-dimensionally, a diopter correction unit 10 composed of two prisms, A beam splitter 90 that makes the optical path of the lens 11, the second photographing unit 200, etc. substantially coaxial with the first illumination optical system is disposed. The beam splitter 3 is a half mirror in this embodiment.

光源1から出射された照明光は、レンズ2により平行光とされた後、ビームスプリッタ3を介し、本実施形態では偏光板4によりS偏光成分のみの光束とされる。偏光板4を経た照明光は、レンズ5により一旦集光し、ビームスプリッタ71を介してレンズ6により平行光束とされ、波面補償デバイス72に入射する。波面補償デバイス72にて反射した照明光は、レンズ7、レンズ8によりリレーされ、走査部20に向かう。   Illumination light emitted from the light source 1 is converted into parallel light by the lens 2 and then converted into a light beam of only the S-polarized component by the polarizing plate 4 in this embodiment via the beam splitter 3. The illumination light that has passed through the polarizing plate 4 is once condensed by the lens 5, converted into a parallel light beam by the lens 6 through the beam splitter 71, and enters the wavefront compensation device 72. The illumination light reflected by the wavefront compensation device 72 is relayed by the lenses 7 and 8 and travels toward the scanning unit 20.

走査部20は、照明光を眼底上で2次元的に走査する構成とされ、ここでは、図示するように、眼底でXY方向に照明光を走査する。本実施形態では、照明光を眼底にて水平方向(X方向)に偏向させ走査するための偏向部材となるレゾナントミラーと、水平方向の走査方向に対して垂直方向(Y方向)に偏向させ走査するための偏向部材となるガルバノミラーと、各ミラーを駆動する駆動部を備える。走査部20を経た照明光は、ダイクロイックミラー46を介して、レンズ9にて再び集光される。偏向部400は、走査部20を経た照明光を水平方向及び垂直方向に対して所定量だけさらに偏向させる役目を持ち、本実施形態では2枚のガルバノミラーにより構成されている。偏向部400を経た照明光は、視度補正部10、レンズ11、ビームスプリッタ90を経て被検眼Eの眼底に集光し、走査部20によって眼底上を2次元的に走査することとなる。なお、視度補正部10は、駆動部10aを有し、一方のプリズムが図示する矢印方向に移動することにより、光路長を変えることができ、視度補正の役目を果たしている。なお、視度補正部10は、駆動部と、駆動部の駆動によって光軸方向に移動可能なレンズからなる構成であってもよい。また、ビームスプリッタ90は、本実施形態ではダイクロイックミラーであり、後述する第2撮影ユニット200、及びトラッキング用ユニット300からの光束を反射させ、光源1及び後述する光源76からの光束を透過させる特性を持つ。なお、光源1及び光源76の出射端と被検眼Eとは共役とされている。このようにして、照明光を眼底に2次元的に照射する第1照明光学系が形成される。   The scanning unit 20 is configured to scan illumination light two-dimensionally on the fundus. Here, as illustrated, the illumination unit scans illumination light in the XY directions on the fundus. In the present embodiment, a resonant mirror serving as a deflecting member for deflecting and scanning illumination light in the horizontal direction (X direction) on the fundus, and scanning by deflecting the illumination light in a direction perpendicular to the horizontal scanning direction (Y direction). A galvanometer mirror serving as a deflection member and a drive unit for driving each mirror. The illumination light that has passed through the scanning unit 20 is condensed again by the lens 9 via the dichroic mirror 46. The deflecting unit 400 has a function of further deflecting the illumination light that has passed through the scanning unit 20 by a predetermined amount with respect to the horizontal direction and the vertical direction, and is configured by two galvanometer mirrors in the present embodiment. The illumination light that has passed through the deflection unit 400 is condensed on the fundus of the eye E through the diopter correction unit 10, the lens 11, and the beam splitter 90, and is scanned two-dimensionally on the fundus by the scanning unit 20. The diopter correction unit 10 includes a drive unit 10a, and one prism moves in the direction of the arrow shown in the figure, so that the optical path length can be changed and plays a role in diopter correction. The diopter correction unit 10 may be configured by a driving unit and a lens that can move in the optical axis direction by driving the driving unit. In addition, the beam splitter 90 is a dichroic mirror in the present embodiment, and reflects the light beam from the second imaging unit 200 and tracking unit 300 described later, and transmits the light beam from the light source 1 and the light source 76 described later. have. Note that the emission ends of the light source 1 and the light source 76 and the eye E to be examined are conjugate. In this way, the first illumination optical system that irradiates the fundus with illumination light two-dimensionally is formed.

次に、第1撮影光学系100bを説明する。第1撮影光学系100は、第1照明光学系100aにて説明したビームスプリッタ90からビームスプリッタ3までの光路を共通とし、さらにレンズ51、眼底と共役な位置に置かれるピンホール板52、集光レンズ53、受光素子54を含む。なお、本実施形態では、受光素子54はAPD(アバランシェフォトダイオード)が用いられている。   Next, the first photographing optical system 100b will be described. The first photographing optical system 100 has a common optical path from the beam splitter 90 to the beam splitter 3 described in the first illumination optical system 100a, and further includes a lens 51, a pinhole plate 52 placed at a position conjugate with the fundus, and a light collecting unit. An optical lens 53 and a light receiving element 54 are included. In this embodiment, the light receiving element 54 is an APD (avalanche photodiode).

光源1から出射された照明光における眼底からの反射光は、前述した第1照明光学系100aを逆に辿り、偏光板4にてS偏光の光だけ透過された後、ビームスプリッタ3により一部の光束が反射される。この反射光は、レンズ51を介してピンホール板52のピンホールに焦点を結ぶ。ピンホールにて焦点を結んだ反射光は、レンズ53を経て受光素子54に受光される。   The reflected light from the fundus of the illumination light emitted from the light source 1 traces the first illumination optical system 100a in the reverse direction and is transmitted by the polarizing plate 4 only for S-polarized light, and then partially reflected by the beam splitter 3. Is reflected. This reflected light is focused on the pinhole of the pinhole plate 52 through the lens 51. The reflected light focused at the pinhole is received by the light receiving element 54 through the lens 53.

このようにして、第1撮影光学系100bが形成される。第1撮影光学系100bで受光された処理された画像が第1眼底画像となる。なお、眼底撮像光学系100で取得する眼底画像(眼底像)の画角が所定の角度となるように走査部20におけるミラーの振れ角(揺動角度)を定める。ここでは、眼底の所定の範囲を高倍率で観察、撮影する(ここでは、細胞レベルでの観察等をする)ために、画角を1度〜5度程度とする。本実施形態では、1.5度とする。被検眼の視度等にもよるが、第1眼底画像の撮影範囲は、500μm角程度とされる。   In this way, the first photographing optical system 100b is formed. The processed image received by the first imaging optical system 100b becomes the first fundus image. The mirror swing angle (swing angle) in the scanning unit 20 is determined so that the angle of view of the fundus image (fundus image) acquired by the fundus imaging optical system 100 is a predetermined angle. Here, in order to observe and photograph a predetermined range of the fundus at a high magnification (here, observation at a cell level or the like), the angle of view is set to about 1 to 5 degrees. In this embodiment, the angle is 1.5 degrees. Although depending on the diopter of the eye to be examined, the imaging range of the first fundus image is about 500 μm square.

次に、第2撮影ユニット200を説明する。第2撮影ユニット200は、眼底に向けて照明光束を光源210より出射する照明光学系、眼底からの反射光を受光素子251により受光する受光光学系、を有し、第2眼底撮像光学系として用いられる。そして、第2撮影ユニット200は、撮像光学系100よりも広画角の眼底画像(第2眼底画像)を取得するために用いられる。そして、眼底撮像光学系100は、第2眼底撮像光学系により撮像された眼底像のある範囲に向けて照明光束を出射する。第2眼底画像は、前述した狭画角の第1眼底画像を得るための位置指定、及び位置確認用の画像として用いられる。   Next, the second photographing unit 200 will be described. The second photographing unit 200 includes an illumination optical system that emits an illumination light beam from the light source 210 toward the fundus and a light receiving optical system that receives light reflected from the fundus by the light receiving element 251, and serves as a second fundus imaging optical system. Used. The second photographing unit 200 is used to acquire a fundus image (second fundus image) having a wider angle of view than the imaging optical system 100. Then, the fundus imaging optical system 100 emits an illumination light beam toward a certain range of the fundus image captured by the second fundus imaging optical system. The second fundus image is used as an image for position designation and position confirmation for obtaining the first fundus image having the narrow angle of view described above.

このような第2眼底画像を取得するための第2撮影ユニット200は、被検眼Eの眼底画像を観察用として広画角(例えば20度〜60度程度)でリアルタイムに取得できればよい。したがって第2撮影ユニット200は、既存の眼底カメラの観察・撮影光学系や走査型レーザー検眼鏡(Scanning Laser Ophthalmoscope:SLO)の光学系、及び制御系を用いることができる。   The second imaging unit 200 for acquiring such a second fundus image only needs to be able to acquire the fundus image of the eye E to be examined in real time with a wide angle of view (for example, about 20 to 60 degrees). Therefore, the second imaging unit 200 can use an observation / imaging optical system of an existing fundus camera, an optical system of a scanning laser ophthalmoscope (SLO), and a control system.

次に、収差検出光学系110について説明する。前述のように、収差検出光学系110は、一部の光学素子を第1照明光学系100aの光路上に持ち、第1照明光学系100aと光路を一部共用している。収差検出光学系110は、波面センサ73、偏光板74、光源76、レンズ77、偏光板78、レンズ79、を含み、第1照明光学系の光路上に置かれるビームスプリッタ71からビームスプリッタ90までの光学部材を共用することにより構成されている。なお、波面センサ73は、例えば、多数のマイクロレンズからなるマイクロレンズアレイと、マイクロレンズアレイを透過した光束を受光させるための二次元撮像素子73a(2次元受光素子)からなる。また、収差検出用光源(第3光源)である光源76は、光源1と異なる赤外域の光を発する光源とされる。本実施形態では光源76は波長780nmのレーザ光を出射するレーザダイオードを用いている。光源76から出射したレーザ光は、レンズ77により平行光束とされ、偏光板78により光源1からの照明光と直交する偏光方向(P偏光)とされ、ビームスプリッタ75により第1照明光学系の光路に導かれる。なお、レンズ7、8の間に眼底共役位置があり、光源76の出射端はこの眼底共役位置と共役な関係とされる。なお、ビームスプリッタ75は、本実施形態ではハーフミラーとされている。偏光板78は、眼底へと照射される第3光源の光を所定の偏光方向とする役割を持ち、波面補償部が備える第1偏光手段の役割を持つ。   Next, the aberration detection optical system 110 will be described. As described above, the aberration detection optical system 110 has some optical elements on the optical path of the first illumination optical system 100a, and shares a part of the optical path with the first illumination optical system 100a. The aberration detection optical system 110 includes a wavefront sensor 73, a polarizing plate 74, a light source 76, a lens 77, a polarizing plate 78, and a lens 79. From the beam splitter 71 to the beam splitter 90 placed on the optical path of the first illumination optical system. These optical members are shared. The wavefront sensor 73 includes, for example, a microlens array composed of a number of microlenses and a two-dimensional imaging element 73a (two-dimensional light receiving element) for receiving a light beam that has passed through the microlens array. A light source 76 that is an aberration detection light source (third light source) is a light source that emits light in an infrared region different from that of the light source 1. In the present embodiment, the light source 76 uses a laser diode that emits laser light having a wavelength of 780 nm. The laser light emitted from the light source 76 is converted into a parallel light beam by the lens 77, and the polarization direction (P-polarized light) is orthogonal to the illumination light from the light source 1 by the polarizing plate 78, and the optical path of the first illumination optical system by the beam splitter 75. Led to. Note that there is a fundus conjugate position between the lenses 7 and 8, and the emission end of the light source 76 has a conjugate relationship with this fundus conjugate position. The beam splitter 75 is a half mirror in this embodiment. The polarizing plate 78 has a role of making the light of the third light source irradiated to the fundus a predetermined polarization direction, and has a role of a first polarizing means provided in the wavefront compensation unit.

この場合、収差検出光学系110の測定光は、第1照明光学系100aとの共通光路を介して眼底に照射される。そして、眼底照明光束の照射位置の変更に同期して、測定光の照射位置が変更される。   In this case, the measurement light of the aberration detection optical system 110 is irradiated to the fundus through a common optical path with the first illumination optical system 100a. Then, the measurement light irradiation position is changed in synchronization with the change of the irradiation position of the fundus illumination light beam.

ビームスプリッタ75により反射したレーザ光は、第1照明光学系100aの光路を経て被検眼Eの眼底に集光される。眼底で反射されたレーザ光は、第1照明光学系100aの各光学部材を経て波面補償デバイス72にて反射し、ビームスプリッタ71により第1照明光学系100aの光路から外れ、レンズ79、S偏光成分のみを通す偏光板74を経て波面センサ73へと導かれる。偏光板74は、波面補償部に備えられた第2偏光手段であり、眼底へと照射される第3光源の光が持つ偏光方向(P偏光光)を遮断し、この偏光方向に直交する偏光方向(S偏光光)を透過し、波面センサ73へと導光する役割を持つ。なお、ビームスプリッタ71は、光源1の波長の光(840nm)を透過し、収差検出用の光源76の波長の光(780nm)を反射する特性とされる。従って、波面センサ73では、照射したレーザ光の眼底での散乱光のうちS偏光成分を持つ光が検出される。このようにして、角膜や光学素子で反射される光が波面センサ73に検出されることを抑制している。また、走査部20、波面補償デバイス72の反射面、及び波面センサ73のマイクロレンズアレイは、被検眼の瞳と略共役とされる。また、波面センサ73の受光面は被検眼Eの眼底と略共役とされる。波面センサ73には、低次収差及び高次収差を含む波面収差が検出できる素子、例えば、ハルトマンシャック検出器や光強度の変化を検出する波面曲率センサ等を用いる。   The laser beam reflected by the beam splitter 75 is condensed on the fundus of the eye E through the optical path of the first illumination optical system 100a. The laser beam reflected from the fundus is reflected by the wavefront compensation device 72 through each optical member of the first illumination optical system 100a, deviated from the optical path of the first illumination optical system 100a by the beam splitter 71, the lens 79, and S-polarized light. The light is guided to the wavefront sensor 73 through the polarizing plate 74 through which only the component passes. The polarizing plate 74 is a second polarization unit provided in the wavefront compensation unit, and blocks the polarization direction (P-polarized light) of the light of the third light source irradiated to the fundus and is polarized perpendicular to the polarization direction. It plays the role of transmitting the direction (S-polarized light) and guiding it to the wavefront sensor 73. Note that the beam splitter 71 transmits light (840 nm) having the wavelength of the light source 1 and reflects light (780 nm) having the wavelength of the light source 76 for detecting aberration. Accordingly, the wavefront sensor 73 detects light having an S-polarized component from the scattered light on the fundus of the irradiated laser light. In this way, light reflected by the cornea and the optical element is suppressed from being detected by the wavefront sensor 73. The scanning unit 20, the reflection surface of the wavefront compensation device 72, and the microlens array of the wavefront sensor 73 are substantially conjugate with the pupil of the eye to be examined. The light receiving surface of the wavefront sensor 73 is substantially conjugate with the fundus of the eye E. As the wavefront sensor 73, an element capable of detecting wavefront aberration including low-order aberration and high-order aberration, for example, a Hartmann Shack detector, a wavefront curvature sensor that detects a change in light intensity, or the like is used.

また、波面補償デバイス72は、例えば、液晶空間光変調器とし、反射型のLCOS(Liquid Crystal On Silicon)等を用いるものとしている。そして、波面補償デバイス72は、眼底撮像光学系100の光路中に配置され、入射光の波面を制御して被検眼の波面収差を補償する。   The wavefront compensation device 72 is, for example, a liquid crystal spatial light modulator and uses a reflective LCOS (Liquid Crystal On Silicon) or the like. The wavefront compensation device 72 is disposed in the optical path of the fundus imaging optical system 100 and controls the wavefront of incident light to compensate for the wavefront aberration of the eye to be examined.

なお、本実施例においては、波面補償デバイス72は、液晶変調素子とし、反射型のLCOS(Liquid Crystal On Silicon)等を用いるものとしているが、これに限るものではない。反射型の波面補償デバイスであればよい。例えば、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)の一形態であるデフォーマブルミラーを用いてもよい。また、反射型の波面補償デバイスではなく、眼底からの反射光を透過させて波面収差を補償するような透過型の波面補償デバイスを用いることもできる。   In this embodiment, the wavefront compensation device 72 is a liquid crystal modulation element and uses a reflective LCOS (Liquid Crystal On Silicon) or the like, but is not limited thereto. Any reflective wavefront compensation device may be used. For example, a deformable mirror that is a form of MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) may be used. Further, instead of a reflection type wavefront compensation device, a transmission type wavefront compensation device that transmits reflected light from the fundus and compensates for wavefront aberration can also be used.

なお、以上の説明では、収差検出用光源として、第1光源とは異なる波長の照明光を出射する光源を用いたが、第1光源を収差検出用光源として用いてもよい。   In the above description, a light source that emits illumination light having a wavelength different from that of the first light source is used as the aberration detection light source. However, the first light source may be used as the aberration detection light source.

なお、収差検出光学系100の測定光は、走査部20及び偏向部400を介して眼Eに投光される。このため、眼底上における測定光の照射位置は、高倍率の眼底観察光と同じ位置となる。   Note that the measurement light of the aberration detection optical system 100 is projected to the eye E via the scanning unit 20 and the deflection unit 400. For this reason, the irradiation position of the measurement light on the fundus is the same position as the high-magnification fundus observation light.

なお、以上説明した本実施形態では、波面センサ及び波面補償デバイスを被検眼の瞳共役としたが、被検眼の前眼部の所定部位と略共役な位置であればよく、例えば、角膜共役であってもよい。   In the present embodiment described above, the wavefront sensor and the wavefront compensation device are the pupil conjugate of the eye to be examined. However, the position may be a position that is substantially conjugate with a predetermined part of the anterior eye portion of the eye to be examined. There may be.

固視標呈示光学系40は、7つのLEDで構成される赤色の光源41、リレーレンズ42を備え、ダイクロイックミラー46で反射され、第1照明光学系100aにて説明したレンズ9からビームスプリッタ90までの光路を共用する。光源41からの光束は、被検眼眼底に集光される。   The fixation target presenting optical system 40 includes a red light source 41 composed of seven LEDs and a relay lens 42, is reflected by the dichroic mirror 46, and is split from the lens 9 described in the first illumination optical system 100 a to the beam splitter 90. Share the optical path to The light beam from the light source 41 is collected on the fundus of the eye to be examined.

固視標呈示光学系40は、眼底中心部を撮影する標準位置と眼底周辺部を撮影する周辺位置とに固視標の呈示位置を変更可能な構成となっている。すなわち、図2に示されるように、7つのLEDで構成される光源41の内、固視標位置43aに対応する光源41aは、眼底後極部付近を撮影するときに使用するものであり、この固視標位置43aが標準位置とされる。そして、その他の光源41b〜41gに対応する固視標位置43b〜43gが周辺撮影用の位置とされる。固視位置は、図無き固視位置切換スイッチによって切換え可能であり、検者により選択された固視位置に対応する光源が点灯される。   The fixation target presentation optical system 40 is configured to be able to change the fixation target presentation position to a standard position for photographing the fundus central part and a peripheral position for photographing the fundus peripheral part. That is, as shown in FIG. 2, the light source 41a corresponding to the fixation target position 43a among the light sources 41 composed of seven LEDs is used when photographing the vicinity of the posterior pole portion of the fundus. This fixation target position 43a is set as a standard position. Then, fixation target positions 43b to 43g corresponding to the other light sources 41b to 41g are set as positions for peripheral photographing. The fixation position can be switched by a fixation position changeover switch (not shown), and the light source corresponding to the fixation position selected by the examiner is turned on.

次に、眼底撮影装置の制御系を説明する。図3は、本実施形態の眼底撮影装置の制御系を示したブロック図である。装置全体の制御を行う制御部80には、光源1、走査部20、固視光源41、受光素子51、波面補償デバイス72、波面センサ73、光源76、第2撮影ユニット200、光源210、受光素子251、トラッキング用ユニット300、偏向部400、偏向部410、視度補正部10、が接続される。また、メモリ81、コントロール部82、画像処理部83、モニタ85、が接続される。画像処理部83は受光素子51、第2撮影ユニット200にて受光した信号に基づきモニタ85に画角の異なる被検眼眼底の画像、つまり、第1眼底画像及び第2眼底画像を形成する。メモリ81には種々の設定情報や撮影画像が保存される。なお、モニタ85には、例えば、外部のパ−ソナルコンピューターのモニタや装置に備えられているモニタが考えられる。モニタ85には、所定のフレームレートにて更新される眼底画像(第1眼底画像、及び第2眼底画像)が表示される。フレームレートとしては、例えば、10〜100Hzとされる。このようにして、動画として眼底画像が表示される。本実施形態では、制御部80は、モニタ85の表示制御部80、偏向部400、410の駆動制御部、光源1、41、76等の出射制御部の機能を兼ねる。   Next, a control system of the fundus imaging apparatus will be described. FIG. 3 is a block diagram showing a control system of the fundus imaging apparatus of the present embodiment. The control unit 80 that controls the entire apparatus includes a light source 1, a scanning unit 20, a fixation light source 41, a light receiving element 51, a wavefront compensation device 72, a wavefront sensor 73, a light source 76, a second photographing unit 200, a light source 210, and a light receiving unit. The element 251, the tracking unit 300, the deflection unit 400, the deflection unit 410, and the diopter correction unit 10 are connected. In addition, a memory 81, a control unit 82, an image processing unit 83, and a monitor 85 are connected. The image processing unit 83 forms, on the monitor 85, images of the fundus oculi having different angles of view, that is, a first fundus image and a second fundus image, based on signals received by the light receiving element 51 and the second imaging unit 200. The memory 81 stores various setting information and captured images. As the monitor 85, for example, a monitor of an external personal computer or a monitor provided in an apparatus can be considered. The fundus images (first fundus image and second fundus image) updated at a predetermined frame rate are displayed on the monitor 85. The frame rate is, for example, 10 to 100 Hz. In this way, the fundus image is displayed as a moving image. In the present embodiment, the control unit 80 also functions as a display control unit 80 of the monitor 85, a drive control unit of the deflection units 400 and 410, and an emission control unit such as the light sources 1, 41, and 76.

以上のような構成の眼底撮影装置において、その動作を説明する。検者は、固視標を用いて被検眼Eを固視させ、被検眼Eに対して図示なきジョイスティック等を用いて装置をアライメントする。このとき、コントロール部82の操作により視度補正部10を駆動し、被検眼Eの視度補正を行う。アライメントでは、第2撮影ユニット200による第2眼底画像がモニタ85の所定領域に表示されており、検者はモニタ85の観察画面枠に表示される観察画像(第2眼底画像)を見ながら、アライメントを完了させる。アライメント完了後、検者はコントロール部82を用いてトラッキング用ユニット300を動作させる指令信号の入力を行う。   The operation of the fundus imaging apparatus having the above configuration will be described. The examiner fixes the eye E using the fixation target, and aligns the apparatus with respect to the eye E using a joystick (not shown) or the like. At this time, the diopter correction unit 10 is driven by the operation of the control unit 82, and the diopter correction of the eye E is performed. In the alignment, the second fundus image by the second imaging unit 200 is displayed in a predetermined area of the monitor 85, and the examiner looks at the observation image (second fundus image) displayed on the observation screen frame of the monitor 85, Complete the alignment. After the alignment is completed, the examiner inputs a command signal for operating the tracking unit 300 using the control unit 82.

制御部80はトラッキング開始の指令信号を受けて、トラッキング用ユニット300、偏向部400,410を駆動させて被検眼Eのトラッキングを開始する。   Upon receiving the tracking start command signal, the control unit 80 drives the tracking unit 300 and the deflection units 400 and 410 to start tracking the eye E.

アライメントが完了し、検者により所定のトリガ信号が出力されると、制御部80により、視度補正部10を用いて視度補正が行われ、次いで、収差補正に必要な波面検出(収差検出)を行う。   When alignment is completed and a predetermined trigger signal is output by the examiner, diopter correction is performed by the control unit 80 using the diopter correction unit 10, and then wavefront detection (aberration detection necessary for aberration correction) is performed. )I do.

収差検出は、ハルトマン像の検出結果に基づいて行われる。光源76からの測定光が眼底に投光され、その反射光が波面センサ73のレンズアレイを通過し、二次元撮像素子73aに受光されると、複数の点の集合からなるハルトマン像が撮像素子73a上に撮像される。そして、このハルトマン像の点像の位置や点像の間隔に基づいて、収差が検出される。なお、光源76の出射光量及び撮像素子73aの感度の初期設定は、正面固視において良好なハルトマン像が得られるように予め実験等により決定されている。   Aberration detection is performed based on the detection result of the Hartmann image. When the measurement light from the light source 76 is projected onto the fundus and the reflected light passes through the lens array of the wavefront sensor 73 and is received by the two-dimensional image sensor 73a, a Hartmann image consisting of a set of a plurality of points is obtained. An image is taken on 73a. An aberration is detected based on the position of the point image of the Hartmann image and the interval between the point images. The initial setting of the amount of light emitted from the light source 76 and the sensitivity of the image sensor 73a is determined in advance by experiments or the like so that a good Hartmann image can be obtained in front fixation.

図4(a)は、低倍率の眼底画像を示す例であり、図4(b)は、図4(a)のラインRにおける輝度分布(0〜255階調)を示す図である。すなわち、乳頭周辺部は、他の眼底部位と比較して反射率が高い。   4A is an example showing a low-magnification fundus image, and FIG. 4B is a diagram showing a luminance distribution (0 to 255 gradations) on the line R in FIG. 4A. That is, the nipple periphery has a higher reflectance than other fundus sites.

図5は、低倍率眼底画像、ハルトマン像、ハルトマン像の輝度分布を示す図であり、図5(a)は眼底中心撮影時、図5(b)は乳頭撮影時である。フレームFは高倍率眼底像の撮影領域を表す。   FIGS. 5A and 5B are diagrams showing luminance distributions of the low-magnification fundus image, the Hartmann image, and the Hartmann image. FIG. 5A shows the fundus center photographing and FIG. 5B shows the teat photographing. A frame F represents a photographing region of a high-magnification fundus image.

図5(a)に示すように、中心部が撮影されるとき、光源41aが点灯され、固視標位置43aに設定される。そして、眼Eの視線は正面方向に誘導される。このとき、収差測定に適した輝度を持つハルトマン像37が得られる。例えば、ハルトマン像37における輝度のピーク35は、飽和していない。なお、乳頭以外での撮影においては、ほぼ同様のハルトマン像が得られる。   As shown in FIG. 5A, when the central part is photographed, the light source 41a is turned on and set to the fixation target position 43a. Then, the line of sight of the eye E is guided in the front direction. At this time, a Hartmann image 37 having a luminance suitable for aberration measurement is obtained. For example, the luminance peak 35 in the Hartmann image 37 is not saturated. It should be noted that almost the same Hartmann image can be obtained in photographing other than the nipple.

図5(b)に示すように、乳頭部が撮影されるとき、右眼であれば光源43fが点灯され、左眼であれば光源43cが点灯される。このとき、反射率の高い乳頭部に測定光が投光されるため、その反射光の光量が過多となり、輝度が飽和したハルトマン像38が得られる。例えば、ハルトマン像38における輝度のピーク36は飽和している。この場合、ハルトマン像38の位置を正確に検出できないので、収差の測定精度が低下してしまう。   As shown in FIG. 5B, when the nipple is photographed, the light source 43f is turned on for the right eye, and the light source 43c is turned on for the left eye. At this time, since the measurement light is projected onto the nipple with high reflectivity, the amount of the reflected light becomes excessive, and a Hartmann image 38 with saturated luminance is obtained. For example, the luminance peak 36 in the Hartmann image 38 is saturated. In this case, since the position of the Hartmann image 38 cannot be accurately detected, the measurement accuracy of the aberration is lowered.

すなわち、固視標呈示光学系40によって眼底上における測定光束の照射位置が変更された場合、制御部80は、これに対応するために、収差検出光学系110を制御し、波面センサ73から出力される検出信号における反射光の輝度レベルを制御する。   That is, when the irradiation position of the measurement light beam on the fundus is changed by the fixation target presenting optical system 40, the control unit 80 controls the aberration detection optical system 110 and outputs it from the wavefront sensor 73 in order to cope with this. The brightness level of reflected light in the detected signal is controlled.

<過飽和判定及び光量(ゲイン)調整>
以下に反射光の輝度レベルの制御について具体的に説明していく。図6は過飽和判定及び光量(ゲイン)調整の一例を示すフローチャートである。制御部80は、撮像素子73aに受光されたハルトマン像における輝度分布情報を検出し、その検出結果に基づいて、波面センサ73に受光された反射光の輝度レベルがある許容レベルを超えているか否かを判定する。そして、制御部80は、その判定結果に基づいて収差検出光学系110を制御し、光源76の投光光量又は波面センサ73の撮像素子73aの感度(ゲイン)を調整する。
<Oversaturation determination and light amount (gain) adjustment>
Hereinafter, the control of the luminance level of the reflected light will be specifically described. FIG. 6 is a flowchart showing an example of oversaturation determination and light amount (gain) adjustment. The control unit 80 detects luminance distribution information in the Hartmann image received by the image sensor 73a, and based on the detection result, whether or not the luminance level of the reflected light received by the wavefront sensor 73 exceeds a certain allowable level. Determine whether. Then, the control unit 80 controls the aberration detection optical system 110 based on the determination result, and adjusts the light projection amount of the light source 76 or the sensitivity (gain) of the image sensor 73 a of the wavefront sensor 73.

より具体的に説明していく。制御部80は、波面センサ73によって取得されたハルトマン像を二次元的に走査することにより、ハルトマン像における各画素毎の輝度値を計測し、その計測結果に基づいてハルトマン像全体の輝度分布を検出する。   I will explain more specifically. The controller 80 scans the Hartmann image acquired by the wavefront sensor 73 in a two-dimensional manner to measure the luminance value for each pixel in the Hartmann image, and based on the measurement result, determines the luminance distribution of the entire Hartmann image. To detect.

次いで、制御部80は、ハルトマン像全体の輝度分布における輝度値がもっとも高い値をピーク値として検出し、ピーク値が閾値Sを超えているか判定する。そして、判定結果に基づいて、光量調整を行う。   Next, the control unit 80 detects a value having the highest luminance value in the luminance distribution of the entire Hartmann image as a peak value, and determines whether the peak value exceeds the threshold value S. Then, the light amount is adjusted based on the determination result.

なお、本実施例においては、100%の輝度値に到達せず、収差測定に影響しない輝度値として、閾値S(本実施例においては、255階調における80%の輝度値とする)を設定した。なお、本実施例においては、閾値Sとして輝度値を80%と設定したが、ハルトマン像を精度良く検出できれば、これに限るものではない。例えば、輝度値100%が閾値として設定されてもよい。また、反射率が最も少ない部位の輝度値(黄斑部での輝度値)と、反射率が最も高い部位の輝度値(乳頭部での輝度値)との、中間値付近に閾値Sが設定されてもよい。   In the present embodiment, a threshold value S (in this embodiment, 80% brightness value at 255 gradations) is set as a brightness value that does not reach 100% brightness value and does not affect the aberration measurement. did. In this embodiment, the luminance value is set to 80% as the threshold value S. However, the present invention is not limited to this as long as the Hartmann image can be detected with high accuracy. For example, a luminance value of 100% may be set as the threshold value. In addition, a threshold value S is set in the vicinity of an intermediate value between the luminance value of the part having the lowest reflectance (luminance value at the macula) and the luminance value of the part having the highest reflectance (luminance value at the nipple). May be.

ここで、図5(b)に示されるように、ピーク値36が閾値Sを超えている場合、制御部80は、ハルトマン像(反射光)の輝度が許容レベルを超えている(飽和している)と判定し、反射光の輝度レベルが下がるように、収差検出光学系110を制御する。すなわち、光源76の光量を所定量低下させる。そして、光量を低下させた後、再度、ピーク値36が閾値Sを超えているか判定を行う。以上のように制御部80は、ピーク値36が閾値S以下となるまで、上記のような制御を繰り返す。   Here, as illustrated in FIG. 5B, when the peak value 36 exceeds the threshold value S, the control unit 80 indicates that the brightness of the Hartmann image (reflected light) exceeds the allowable level (saturates. The aberration detection optical system 110 is controlled so that the brightness level of the reflected light is lowered. That is, the light amount of the light source 76 is decreased by a predetermined amount. Then, after reducing the amount of light, it is determined again whether the peak value 36 exceeds the threshold value S. As described above, the control unit 80 repeats the above control until the peak value 36 becomes equal to or less than the threshold value S.

このような制御により、図7に示すように、ピーク値36が閾値Sを下回り、適正な輝度のハルトマン像39が取得されるようになる。そこで、ピーク値36が閾値S以下となると、制御部80は、ハルトマン像の輝度が許容レベルであると判定し、光源76の光量の調整を止める。そして、制御部80は、ハルトマン像39の像位置を検出し、眼Eの波面収差を測定する。   By such control, as shown in FIG. 7, the peak value 36 is below the threshold value S, and a Hartmann image 39 with appropriate luminance is acquired. Therefore, when the peak value 36 is equal to or less than the threshold value S, the control unit 80 determines that the brightness of the Hartmann image is at an allowable level and stops adjusting the light amount of the light source 76. Then, the control unit 80 detects the image position of the Hartmann image 39 and measures the wavefront aberration of the eye E.

また、ピーク値35が初めから閾値S以下である場合、制御部80は、収差測定に直接移行する。すなわち、反射率が高い部位でなければ、過飽和に対応する光量調整は行われず、通常通り収差が測定される。   In addition, when the peak value 35 is equal to or less than the threshold value S from the beginning, the control unit 80 directly shifts to aberration measurement. In other words, if the reflectance is not high, the light amount adjustment corresponding to the supersaturation is not performed and the aberration is measured as usual.

<収差測定>
制御部80は、波面センサ73におけるハルトマン像の検出信号(検出結果)に基づいて被検眼Eの波面収差を検出し、波面補償デバイス72を制御する。以上のようにして波面収差が補償され、所定のトリガ信号が出力されると、眼底の細胞像が動画像又は静止画像として撮影される。
<Aberration measurement>
The control unit 80 detects the wavefront aberration of the eye E based on the detection signal (detection result) of the Hartmann image in the wavefront sensor 73 and controls the wavefront compensation device 72. When wavefront aberration is compensated as described above and a predetermined trigger signal is output, a cell image of the fundus is captured as a moving image or a still image.

以上のような構成により、眼底上の撮影部位に応じた光量に変更させることが可能となるため、眼底上で反射率が高い部分(例えば、乳頭)を撮影する場合においても、正確な収差測定を行うことができる。そして、これにより、周辺撮影に関し、鮮明な眼底像を得ることができる。   With the configuration as described above, it is possible to change the light amount according to the imaging region on the fundus, so that accurate aberration measurement is possible even when imaging a portion with high reflectivity (for example, the nipple) on the fundus. It can be performed. As a result, a clear fundus image can be obtained for peripheral photographing.

なお、光源76の光量を調整するか否かを判定する場合、上記手法に限るものではない。例えば、各画素毎の輝度値を積算させた積算値(各画素毎の輝度値の総和)が許容範囲内であるか否かを判定するようにしてもよいし、各画素毎の輝度値の総和を画素数で割ったときの平均値(全輝度の加重平均)が許容範囲内であるか否かを判定するようにしてもよい。すなわち、ハルトマン像における二次的な輝度分布に基づいて、反射光が収差測定に影響を及ぼす程度の入射光量であるかどうかを判定できるような判定基準であればかまわない。   In addition, when determining whether the light quantity of the light source 76 is adjusted, it is not restricted to the said method. For example, it may be determined whether or not an integrated value obtained by integrating the luminance values for each pixel (the sum of the luminance values for each pixel) is within an allowable range. It may be determined whether the average value (weighted average of all luminances) when the sum is divided by the number of pixels is within an allowable range. That is, any criteria may be used as long as it is possible to determine whether or not the reflected light is an incident light quantity that affects the aberration measurement based on the secondary luminance distribution in the Hartmann image.

なお、本実施例においては、光源76の調整によって、光量を調整するものとしたがこれに限らない。例えば、光源76から眼Eまでの光路中に光量調整フィルタや光減衰器を設けるようにしてもよい。また、制御部80は、波面センサ73の制御をしてもよい。例えば、波面センサ73の撮像素子73aから出力される撮像信号の感度(ゲイン)を調整するようにしてもよい。また、撮像素子73aにおける露光時間、ハルトマン像の加算回数、等を制御するようにしてもよい。また、制御部80は、投光系と受光系の制御を組み合わせてもよい。   In the present embodiment, the light amount is adjusted by adjusting the light source 76, but the present invention is not limited to this. For example, a light amount adjustment filter or an optical attenuator may be provided in the optical path from the light source 76 to the eye E. Further, the control unit 80 may control the wavefront sensor 73. For example, the sensitivity (gain) of the imaging signal output from the imaging element 73a of the wavefront sensor 73 may be adjusted. Further, the exposure time in the image sensor 73a, the number of Hartmann image additions, and the like may be controlled. The control unit 80 may combine the control of the light projecting system and the light receiving system.

なお、上記手法の他、光源76の投光光量又は波面センサ73のゲインを撮影部位(測定部位)毎に予め設定しておき、制御部80は、撮影部位に応じて設定を変更するようにしてもよい。例えば、眼底中心部を撮影するためや、乳頭周辺部を撮影するための各撮影部位に対応したモードを設ける。そして、各モードに対する光量と固視灯位置が予め設定される。   In addition to the above method, the amount of light emitted from the light source 76 or the gain of the wavefront sensor 73 is set in advance for each imaging region (measurement region), and the control unit 80 changes the setting according to the imaging region. May be. For example, a mode corresponding to each imaging region for imaging the fundus center and imaging the nipple periphery is provided. Then, the light amount and the fixation lamp position for each mode are preset.

なお、本実施例において、点灯させる固視標位置の変更により、固視方向を変化させ、撮影部位を変更させたがこれに限るものではない。例えば、眼底上における撮影光束及び測定光束の照射位置が走査部20によって移動される場合であっても、本発明の適用は可能である。また、撮影装置本体を被検眼の瞳孔中心を基準に移動させるといったチルト機構や顎台を駆動させるといった顔支持ユニットの移動機構を用いて、撮影部位を変更させる構成としてもかまわない。このような構成を用いる場合、固視標位置の変更により撮影領域を変更させる場合よりも、撮影領域を変更する際の変更可能な領域が広くなる。   In this embodiment, the fixation direction is changed by changing the fixation target position to be lit, and the imaging region is changed. However, the present invention is not limited to this. For example, the present invention can be applied even when the irradiation position of the photographing light beam and the measurement light beam on the fundus is moved by the scanning unit 20. Further, the imaging region may be changed by using a tilt mechanism for moving the imaging apparatus main body with respect to the center of the pupil of the eye to be examined or a moving mechanism for the face support unit for driving the chin rest. When such a configuration is used, the changeable area when changing the shooting area becomes wider than when the shooting area is changed by changing the fixation target position.

なお、本発明は、乳頭部のような反射率の高い部位の撮影の際に、光量を調節するものととしたがこれに限らない。例えば、黄斑のように、反射光が少ない部位の撮影の場合にも、本発明の適用は可能である。この場合、下限の閾値を設け、光量のピーク値が閾値以下である場合には、投光光量を増加させるようにしてもよい。なお、輝度レベルの判定において、黄斑部位に対応した下限の閾値と、乳頭に対応した上限の閾値とを設定し、これらの許容範囲を超えたとき、光量を制御してもよい。   In the present invention, the amount of light is adjusted at the time of photographing a highly reflective part such as the nipple. However, the present invention is not limited to this. For example, the present invention can also be applied to photographing a part with little reflected light such as macula. In this case, a lower limit threshold value may be provided, and the projected light amount may be increased when the peak value of the light amount is equal to or less than the threshold value. In the determination of the luminance level, a lower limit threshold value corresponding to the macular region and an upper limit threshold value corresponding to the nipple may be set, and the light amount may be controlled when the allowable range is exceeded.

なお、以上の説明においては、眼底撮像光学系100として、被検眼眼底と略共役な位置に配置された共焦点開口を介して被検眼眼底で反射した光束を受光して被検眼眼底の共焦点正面画像を撮影する共焦点光学系(SLO光学系)を用いるものとしたが、これに限るものではない(例えば、特表2001−507258号公報参照)。   In the above description, the fundus imaging optical system 100 receives the light beam reflected from the fundus of the eye to be examined through the confocal aperture disposed at a position substantially conjugate to the fundus of the eye to be examined, and confocals the fundus of the eye to be examined. Although a confocal optical system (SLO optical system) that captures a front image is used, the present invention is not limited to this (see, for example, JP 2001-507258 A).

例えば、被検眼眼底で反射した光束を二次元撮像素子により受光して被検眼の眼底正面画像を撮影する眼底カメラ光学系であってもよい。また、被検眼眼底で反射した光束と参照光による干渉光を受光して被検眼の断層画像を撮影する光干渉光学系(OCT光学系)であってもよい。   For example, a fundus camera optical system that captures a frontal image of the fundus of the subject's eye by receiving a light beam reflected from the fundus of the subject's eye with a two-dimensional image sensor. Further, it may be an optical interference optical system (OCT optical system) that captures a tomographic image of the eye to be inspected by receiving the light beam reflected from the fundus of the eye to be examined and the interference light by the reference light.

なお、以上の説明においては、眼底撮影装置を例にとって説明したが、眼底上における測定光束の照射位置を変更して眼Eの波面収差を測定する装置であれば、本発明の適用が可能である。これにより、周辺固視時における眼Eの波面収差を好適に撮影できる。   In the above description, the fundus imaging apparatus has been described as an example. However, the present invention can be applied to any apparatus that measures the wavefront aberration of the eye E by changing the irradiation position of the measurement light beam on the fundus. is there. Thereby, the wavefront aberration of the eye E at the time of peripheral fixation can be suitably photographed.

なお、眼底に向けて測定光を投光しその反射光を受光素子により受光して眼の状態(例えば、波面収差、眼屈折力、視度、眼軸長、眼底に対するフォーカス状態)を検出する検出光学系を持つ眼科装置であれば、本発明の適用が可能である。このような装置において、眼底上における測定光束の照射位置が変更された場合、検出光学系を制御し、受光素子から出力される検出信号における反射光の輝度レベルを制御すればよい。このようにすれば、眼底上での照射位置に関わらず、眼特性の測定が可能となり、眼の周辺部に関する測定が可能となる。もちろん前述の検出光学系と上記眼底撮像光学系との複合装置であってもよい。   In addition, the measurement light is projected toward the fundus and the reflected light is received by the light receiving element to detect the eye state (for example, wavefront aberration, eye refractive power, diopter, axial length, focus state with respect to the fundus). The present invention can be applied to any ophthalmologic apparatus having a detection optical system. In such an apparatus, when the irradiation position of the measurement light beam on the fundus is changed, the detection optical system may be controlled to control the brightness level of the reflected light in the detection signal output from the light receiving element. In this way, regardless of the irradiation position on the fundus, it is possible to measure the eye characteristics and to measure the peripheral part of the eye. Of course, it may be a combined device of the above-described detection optical system and the fundus imaging optical system.

本実施形態の眼底撮影装置の光学系を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the optical system of the fundus imaging apparatus of this embodiment. 本実施形態における固視標を示した図である。It is the figure which showed the fixation target in this embodiment. 本実施形態の眼底撮影装置の制御系を示したブロック図である。It is the block diagram which showed the control system of the fundus imaging apparatus of this embodiment. 低倍率の眼底画像と眼底画像における輝度分布を示す図である。It is a figure which shows the luminance distribution in a low-magnification fundus image and a fundus image. 低倍率眼底画像、ハルトマン像、ハルトマン像の輝度分布を示す図である。It is a figure which shows the luminance distribution of a low-magnification fundus image, a Hartmann image, and a Hartmann image. 過飽和判定及び光量調整を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows supersaturation determination and light quantity adjustment. 光量調整後のハルトマン像及びその輝度分布を示す図である。It is a figure which shows the Hartmann image after light quantity adjustment, and its luminance distribution.

20 走査部
40 固視標呈示光学系
72 波面補償デバイス
73 波面センサ
80 制御部
85 モニタ
100 第1眼底撮像光学系
110 波面収差検出光学系
200 第2撮影ユニット
300 トラッキング用ユニット
400、410 偏向部
20 Scanning Unit 40 Fixation Target Presenting Optical System 72 Wavefront Compensation Device 73 Wavefront Sensor 80 Control Unit 85 Monitor 100 First Fundus Imaging Optical System 110 Wavefront Aberration Detection Optical System 200 Second Imaging Unit 300 Tracking Unit 400, 410 Deflection Unit

Claims (2)

被検眼眼底に向けて測定光を投光しその反射光を波面センサにより受光する波面収差検出光学系と、
前記波面センサからの検出信号に基づいて制御される波面補償デバイスを有し、被検眼の波面収差を補償した状態で被検眼の眼底像を撮像するための撮像光学系と、
撮像の部位に応じた輝度レベルを予め設定する設定手段と、
前記設定手段によって予め設定された前記輝度レベルとなるように、前記波面収差検出光学系を制御し、前記波面センサから出力される検出信号における反射光の輝度レベルを制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする眼科装置。
A wavefront aberration detection optical system that projects measurement light toward the fundus of the subject's eye and receives the reflected light by a wavefront sensor;
An imaging optical system having a wavefront compensation device controlled based on a detection signal from the wavefront sensor and imaging a fundus image of the eye to be examined in a state in which the wavefront aberration of the eye to be examined is compensated;
Setting means for presetting the luminance level according to the part to be imaged ;
Control means for controlling the wavefront aberration detection optical system so as to be the brightness level preset by the setting means, and for controlling the brightness level of reflected light in the detection signal output from the wavefront sensor;
An ophthalmologic apparatus comprising:
請求項1の眼科装置において、
前記設定手段は、固視灯位置に応じて前記輝度レベルを予め設定することを特徴とする眼科装置。
The ophthalmic device according to claim 1.
The ophthalmologic apparatus, wherein the setting means sets the luminance level in advance according to a fixation lamp position.
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