JP5428933B2 - Manufacturing method of touch panel sensor integrated color filter - Google Patents

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Description

本発明は、タッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法に関し、より詳しくは、透明基板を挟んで、その一方の面にタッチパネルセンサ部が形成され、他方の面にカラーフィルタ部が形成され、前記カラーフィルタ部は、前記タッチパネルセンサ部が形成された側の透明基板の面に設けられたアライメントマークを用いて位置合わせを行うことによりパターン加工されたことを特徴とするタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a color filter with an integrated touch panel sensor, and more particularly, a touch panel sensor portion is formed on one surface of a transparent substrate, a color filter portion is formed on the other surface, and the color The filter part is patterned by performing alignment using an alignment mark provided on the surface of the transparent substrate on the side where the touch panel sensor part is formed. It is about the method.

今日、タッチパネル装置は、携帯電話、ゲーム機、タブレットPC、カーナビゲーション、自動券売機、ATM装置などへの入力手段として広く用いられてきている。タッチパネル装置は液晶ディスプレイやCRT等の表示装置の表示面上に組み込まれ、操作者は、指またはタッチペンを用いて、表示面上でのカーソル移動、選択などの入力操作を行うことが出来る。このタッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサへの接触位置を検出する制御回路、配線等を含んでいる。   Today, touch panel devices are widely used as input means to mobile phones, game machines, tablet PCs, car navigation systems, automatic ticket vending machines, ATM devices, and the like. The touch panel device is incorporated on a display surface of a display device such as a liquid crystal display or a CRT, and an operator can perform input operations such as cursor movement and selection on the display surface using a finger or a touch pen. This touch panel device includes a touch panel sensor, a control circuit for detecting a contact position with the touch panel sensor, wiring, and the like.

タッチパネルセンサは、操作者の入力操作、即ち、人の指やタッチペンの接近、接触を感知する面を備えた透明のパネルである。このタッチパネルセンサは、接近、接触感知面が表示装置の表示エリアを覆うように配置されており、操作者の指またはタッチペンの接近、接触の事象を検出し、これらの信号を制御装置へ送る。制御装置は、これらの信号を処理し、表示装置にて入力操作に対応した表示を行う様に、表示装置側の制御装置へ所定の信号を出力する。   The touch panel sensor is a transparent panel having a surface that senses an input operation by an operator, that is, the approach or contact of a human finger or a touch pen. This touch panel sensor is arranged so that the approach / contact detection surface covers the display area of the display device, detects an approach / contact event of the operator's finger or touch pen, and sends these signals to the control device. The control device processes these signals and outputs a predetermined signal to the control device on the display device side so that the display device performs display corresponding to the input operation.

タッチパネル装置には、抵抗式、静電容量式、赤外線式、表面弾性波式、電磁式、近接場イメージング式などを含むいくつかのタイプがあるが、昨今では、タッチパネルセンサ上の複数の指等の接近、接触(マルチタッチ)を検出できる方式として、静電容量式のタッチパネル装置が注目されている。
静電容量式のタッチパネル装置においては、配列された透明電極と、操作者の指の間での静電気結合による静電容量の変化、並びに、それにより発生する誘導電流を利用してタッチパネル上の位置座標を検知する。
典型的には、静電容量式タッチパネルセンサは、X軸透明電極及びY軸透明電極により構成され、X、Y軸透明電極は互いに絶縁されてタッチパネルセンサ内に設置され、各々制御回路に接続される。
There are several types of touch panel devices including resistance type, capacitance type, infrared type, surface acoustic wave type, electromagnetic type, near field imaging type, etc. As a method that can detect the approach and contact (multi-touch), a capacitive touch panel device has attracted attention.
In a capacitive touch panel device, a capacitance change due to electrostatic coupling between the arranged transparent electrodes and the operator's finger, and the position on the touch panel using the induced current generated thereby. Detect coordinates.
Typically, a capacitive touch panel sensor includes an X-axis transparent electrode and a Y-axis transparent electrode, and the X and Y-axis transparent electrodes are insulated from each other and installed in the touch panel sensor, and are connected to a control circuit. The

従前のタッチパネルセンサでは、X軸透明電極とY軸透明電極が別々の2枚の基板上に形成され、絶縁材料を挟んで2枚の基板を貼り合わせて作成されていたが、この方式ではタッチパネルセンサの薄型化に不利であり、また、X軸、Y軸透明電極間の位置合わせを高精度に行うことも困難なため、タッチセンサの感度や位置精度の点でも不利であった。
そこで、このような欠点を解消するため、X軸、Y軸の透明電極を同一平面上に配列した構造の静電容量式タッチパネルセンサが提案されている(例えば特許文献1)。
In the conventional touch panel sensor, the X-axis transparent electrode and the Y-axis transparent electrode are formed on two separate substrates, and the two substrates are bonded to each other with an insulating material interposed therebetween. This is disadvantageous in reducing the thickness of the sensor, and it is difficult to align the X-axis and Y-axis transparent electrodes with high accuracy, which is also disadvantageous in terms of sensitivity and positional accuracy of the touch sensor.
Therefore, in order to eliminate such drawbacks, a capacitive touch panel sensor having a structure in which X-axis and Y-axis transparent electrodes are arranged on the same plane has been proposed (for example, Patent Document 1).

図7は上述の静電容量式タッチパネルセンサの例を示す概略平面図である。
タッチパネルセンサ100は、ガラス基板や透明樹脂フィルム等からなる透明基板101、タッチパネルの表示領域に相当する有効領域102に配置される複数のX軸透明電極103およびY軸透明電極104、X軸透明電極103とY軸透明電極104を絶縁する絶縁層(図示せず)、有効領域102の外側に配設され、X軸透明電極103およびY軸透明電極104と制御回路(図示せず)とを接続する配線導体105を少なくとも含んで構成される。
なお、図7において、Y軸透明電極104は同一平面上で連結されているが、X軸透明電極103は、Y軸透明電極104との短絡を避けるためにY軸透明電極104と交差する部位で分断されており、連結透明電極106により連結されている。
ここで、X軸透明電極103およびY軸透明電極104と、絶縁層(図示せず)、配線導体105、連結透明電極106の形成には、相互に位置合わせが必要であり、通常、タッチパネルセンサ100の外周部にはアライメントマーク109が形成される。典型的には、配線導体105の形成工程で、同時に上記アライメントマーク109が形成される。
FIG. 7 is a schematic plan view showing an example of the aforementioned capacitive touch panel sensor.
The touch panel sensor 100 includes a transparent substrate 101 made of a glass substrate or a transparent resin film, a plurality of X-axis transparent electrodes 103 and Y-axis transparent electrodes 104 arranged in an effective area 102 corresponding to the display area of the touch panel, and an X-axis transparent electrode. 103 and an insulating layer (not shown) that insulates the Y-axis transparent electrode 104, disposed outside the effective region 102, and connects the X-axis transparent electrode 103 and the Y-axis transparent electrode 104 to a control circuit (not shown). The wiring conductor 105 is at least included.
In FIG. 7, the Y-axis transparent electrode 104 is connected on the same plane, but the X-axis transparent electrode 103 intersects with the Y-axis transparent electrode 104 to avoid a short circuit with the Y-axis transparent electrode 104. And is connected by a connecting transparent electrode 106.
Here, in order to form the X-axis transparent electrode 103 and the Y-axis transparent electrode 104, the insulating layer (not shown), the wiring conductor 105, and the connecting transparent electrode 106, mutual alignment is necessary. An alignment mark 109 is formed on the outer periphery of 100. Typically, in the step of forming the wiring conductor 105, the alignment mark 109 is formed at the same time.

図8は、図7に示すタッチパネルセンサのA−A断面図である。ただし、煩雑となるのを避けるため、左側の作図は省略している。上述のように、X軸透明電極103は、Y軸透明電極104と交差する部位で分断されており、X軸透明電極103とY軸透明電極104の間には、短絡防止のために第1絶縁層107が形成されている。第1絶縁層107は、Y軸透明電極104と交差する部位に、Y軸透明電極104を覆うように形成される。そして、連結透明電極106は、第1絶縁層107を跨ぐように形成され、分断されたX軸透明電極103を電気的に接続する。連結透明電極106は、通常、X軸透明電極103およびY軸透明電極104と同じ材料、典型的には、結晶化したITO(インジウム錫酸化物)により形成される(特許文献2、3)。   8 is a cross-sectional view taken along the line AA of the touch panel sensor shown in FIG. However, the drawing on the left side is omitted to avoid complications. As described above, the X-axis transparent electrode 103 is divided at a portion intersecting with the Y-axis transparent electrode 104, and the first axis is provided between the X-axis transparent electrode 103 and the Y-axis transparent electrode 104 to prevent a short circuit. An insulating layer 107 is formed. The first insulating layer 107 is formed so as to cover the Y-axis transparent electrode 104 at a portion intersecting with the Y-axis transparent electrode 104. The connected transparent electrode 106 is formed so as to straddle the first insulating layer 107 and electrically connects the divided X-axis transparent electrode 103. The connection transparent electrode 106 is usually formed of the same material as the X-axis transparent electrode 103 and the Y-axis transparent electrode 104, typically, crystallized ITO (indium tin oxide) (Patent Documents 2 and 3).

なお、図8における第2絶縁層108は、通常、第1絶縁層107と同じ材料であって、第1絶縁層107の形成工程で同時に形成されるものであり、X軸透明電極103およびY軸透明電極104を覆うように形成される。この第2絶縁層108は、除去されていても良い。   The second insulating layer 108 in FIG. 8 is usually made of the same material as the first insulating layer 107 and is formed at the same time as the first insulating layer 107 is formed. It is formed so as to cover the axial transparent electrode 104. The second insulating layer 108 may be removed.

タッチパネルセンサ100の外周部にはアライメントマーク109が形成される。典型的には、配線導体105の形成工程で、同時にアライメントマーク109が形成される。
例えば、まず、透明基板101上にスパッタリング法等により金属薄膜を成膜し、フォトリソグラフィ法等により所望の配線導体105とアライメントマーク109を形成する。
An alignment mark 109 is formed on the outer periphery of the touch panel sensor 100. Typically, in the step of forming the wiring conductor 105, the alignment mark 109 is formed at the same time.
For example, first, a metal thin film is formed on the transparent substrate 101 by sputtering or the like, and a desired wiring conductor 105 and alignment mark 109 are formed by photolithography or the like.

次に、上記の配線導体105を形成した面に、多結晶ITO薄膜をスパッタリング法により成膜し、アライメントマーク109を用いて位置合わせしてフォトリソグラフィ法でパターンを形成後、王水等の強酸で不要ITOをエッチングする方法により、所望のX軸透明電極103およびY軸透明電極104を形成する。
また、この工程において、X軸透明電極103およびY軸透明電極104と同じ多結晶ITO薄膜を用いて透明な保護膜110を設けても良い。
Next, a polycrystalline ITO thin film is formed on the surface on which the wiring conductor 105 is formed by a sputtering method, aligned using an alignment mark 109 and formed by a photolithography method, and then a strong acid such as aqua regia. Then, the desired X-axis transparent electrode 103 and Y-axis transparent electrode 104 are formed by the method of etching unnecessary ITO.
In this step, the transparent protective film 110 may be provided using the same polycrystalline ITO thin film as the X-axis transparent electrode 103 and the Y-axis transparent electrode 104.

次に、上記のX軸透明電極103およびY軸透明電極104を被覆するように、UV硬化性のアクリル樹脂等からなる絶縁膜を成膜し、アライメントマーク109を用いて位置合わせし、フォトリソグラフィ法でパターン加工して所望の第1絶縁層107および第2絶縁層108を形成する。   Next, an insulating film made of UV curable acrylic resin or the like is formed so as to cover the X-axis transparent electrode 103 and the Y-axis transparent electrode 104, and alignment is performed using the alignment mark 109, and photolithography is performed. A desired first insulating layer 107 and second insulating layer 108 are formed by patterning using a method.

次に、上記の第1絶縁層107および第2絶縁層108を形成した面に、多結晶ITOからなる連結透明電極106を形成する。
連結透明電極106は、上述のX軸透明電極103と同様に、多結晶ITO薄膜をスパッタリング法により成膜し、アライメントマーク109を用いて位置合わせしてフォトリソグラフィ法でパターンを形成後、王水等の強酸で不要ITOをエッチングする方法により、形成することができる。
以上の方法により、従来のタッチパネルセンサ100を形成することができる。
Next, the connecting transparent electrode 106 made of polycrystalline ITO is formed on the surface on which the first insulating layer 107 and the second insulating layer 108 are formed.
As with the X-axis transparent electrode 103 described above, the connecting transparent electrode 106 is formed by depositing a polycrystalline ITO thin film by sputtering, aligning it using the alignment mark 109, and forming a pattern by photolithography. It can be formed by a method of etching unnecessary ITO with a strong acid such as.
The conventional touch panel sensor 100 can be formed by the above method.

次に、カラーフィルタについて説明する。図9は従来のカラーフィルタの例を示す概略断面図である。
図9に示すように、カラーフィルタ200は、ガラス基板や透明樹脂フィルム等からなる透明基板201、その上にマトリックス状に配設される遮光体(ブラックマトリックス)202、遮光体202の間に配設される複数色の着色体203、着色体203を被覆するように配設される透明電極204を、少なくとも含んで構成される。
なお、着色体203と透明電極204の間には、各種プロセスにおいて着色体203を保護するための透明な保護膜が設けられていても良い(図示せず)。
Next, the color filter will be described. FIG. 9 is a schematic sectional view showing an example of a conventional color filter.
As shown in FIG. 9, the color filter 200 is arranged between a transparent substrate 201 made of a glass substrate, a transparent resin film, or the like, and a light shielding body (black matrix) 202 and a light shielding body 202 arranged in a matrix on the transparent substrate 201. A plurality of colored bodies 203 provided and a transparent electrode 204 disposed so as to cover the colored bodies 203 are included.
Note that a transparent protective film for protecting the colored body 203 in various processes may be provided between the colored body 203 and the transparent electrode 204 (not shown).

遮光体202は、液晶表示装置のバックライトの光もれや着色体203の混色防止のために形成される。着色体203は、画素として、液晶を通過したバックライトの色を調整するものであり、通常、赤色、青色、緑色の3種の着色体が形成される。
透明電極204は、液晶分子の配列を変更させて光の透過率を調節するための共通電極として機能するものである。典型的には、透明電極204は、結晶化して低抵抗となった多結晶ITOが用いられている。
The light blocking body 202 is formed to prevent light leakage from the backlight of the liquid crystal display device and color mixing of the colored body 203. The colored body 203 adjusts the color of the backlight that has passed through the liquid crystal as a pixel, and usually three types of colored bodies of red, blue, and green are formed.
The transparent electrode 204 functions as a common electrode for adjusting the light transmittance by changing the arrangement of liquid crystal molecules. Typically, the transparent electrode 204 is made of polycrystalline ITO that has been crystallized to have a low resistance.

ここで、遮光体202、着色体203、透明電極204の形成には、相互に位置合わせが必要であり、通常、カラーフィルタ200の外周部にはアライメントマーク205が形成される。典型的には、アライメントマーク205は、遮光体202の形成工程で同時に形成される(特許文献4)。   Here, in order to form the light shielding body 202, the colored body 203, and the transparent electrode 204, alignment with each other is necessary. Usually, an alignment mark 205 is formed on the outer periphery of the color filter 200. Typically, the alignment mark 205 is formed simultaneously in the formation process of the light shielding body 202 (Patent Document 4).

例えば、図10に示すように、まず、透明基板201上にスパッタリング法等によりクロム等からなる金属薄膜202aを成膜し(図10(a))、フォトリソグラフィ法等により所望の遮光体202とアライメントマーク205を形成する(図10(b))。
次に、上記の遮光体202の間に、複数色の着色体203を形成する(図10(c))。着色体203を形成する方法は、例えば、各色の顔料を含んだ着色感光性樹脂を塗布し、アライメントマーク205を用いて位置合わせしてフォトリソグラフィ法でパターンを露光し、現像、ベークして、所望の着色体32を形成することができる。赤色、青色、緑色の3種の着色体を形成する場合は、上記の工程を3回行う。
次に、上記の着色体203を被覆するように、多結晶ITO薄膜をスパッタリング法により成膜し、透明電極204を形成する(図10(d))。
以上により、従来のカラーフィルタ200を得ることが出来る。
For example, as shown in FIG. 10, first, a metal thin film 202a made of chromium or the like is formed on a transparent substrate 201 by sputtering or the like (FIG. 10A), and a desired light shielding body 202 is formed by photolithography or the like. An alignment mark 205 is formed (FIG. 10B).
Next, a plurality of colored bodies 203 are formed between the light shielding bodies 202 (FIG. 10C). A method of forming the colored body 203 is, for example, applying a colored photosensitive resin containing a pigment of each color, aligning using the alignment mark 205, exposing the pattern by a photolithography method, developing, baking, A desired colored body 32 can be formed. In the case of forming three kinds of colored bodies of red, blue and green, the above process is performed three times.
Next, a polycrystalline ITO thin film is formed by sputtering so as to cover the colored body 203, thereby forming a transparent electrode 204 (FIG. 10D).
As described above, the conventional color filter 200 can be obtained.

実用新案登録第3144241号公報Utility Model Registration No. 3144241 特開2001−311954号公報JP 2001-311954 A 特開2005−290458号公報JP 2005-290458 A 特開平8−50202号公報JP-A-8-50202

ここで、上述のタッチパネルセンサとカラーフィルタは、それぞれ個別の透明基板に形成して重ね合わせる場合、タッチパネル装置全体の薄型化や軽量化に対し不利である。
それゆえ、共通する透明基板を挟んで、その一方の面にタッチパネルセンサ部が形成され、他方の面にカラーフィルタ部が形成されているタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタが用いられてきている。
Here, when the touch panel sensor and the color filter described above are formed on separate transparent substrates and overlapped with each other, it is disadvantageous for thinning and weight reduction of the entire touch panel device.
Therefore, a touch panel sensor-integrated color filter in which a touch panel sensor portion is formed on one surface of the common transparent substrate and a color filter portion is formed on the other surface has been used.

ただし、共通する透明基板を挟んで、その一方の面にタッチパネルセンサ部を形成し、次に、他方の面にカラーフィルタ部を形成する場合、カラーフィルタ部を形成するための第一工程である遮光体の形成時に、タッチパネルセンサ部との位置合わせが必要となる。   However, when a touch panel sensor portion is formed on one surface of a common transparent substrate and then a color filter portion is formed on the other surface, this is the first step for forming the color filter portion. When forming the light shielding body, alignment with the touch panel sensor unit is required.

すなわち、タッチパネルセンサ部に対してカラーフィルタ部を位置合わせする際、タッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークを識別する必要がある。
しかしながら、従来の製造方法では、前記アライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域は、透過率が低い遮光膜(例えば、図10(a)に示す金属薄膜202a)により覆われてしまうため、この遮光膜に覆われた透明基板を通して、カラーフィルタ部側からタッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークを識別することは難しく、その結果、カラーフィルタ部をタッチパネルセンサ部に対して正確に位置合わせすることが困難となる。
That is, when aligning the color filter part with respect to the touch panel sensor part, it is necessary to identify the alignment mark formed on the transparent substrate on the touch panel sensor part side.
However, in the conventional manufacturing method, the area on the transparent substrate on the color filter portion side corresponding to the position of the alignment mark is covered with a light-shielding film having a low transmittance (for example, the metal thin film 202a shown in FIG. 10A). Therefore, it is difficult to identify the alignment mark formed on the transparent substrate on the touch panel sensor unit side from the color filter unit side through the transparent substrate covered with the light shielding film. It becomes difficult to accurately align with the sensor unit.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、カラーフィルタ部側から透明基板を通して、タッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークを識別することを容易にし、タッチパネルセンサ部に対してカラーフィルタ部を精度良く位置合わせ形成することができるタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is easy to identify alignment marks formed on a transparent substrate on the touch panel sensor unit side through the transparent substrate from the color filter unit side. On the other hand, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a color filter integrated with a touch panel sensor, in which the color filter portion can be accurately aligned and formed.

本発明者は、種々研究した結果、タッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法において、カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜を形成する際に、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域が遮光体を構成する膜によって覆われないようにすることで、上記課題を解決できることを見出して本発明を完成したものである。   As a result of various researches, the present inventor has found that the position of the alignment mark formed on the touch panel sensor unit side when forming the film constituting the light shielding body of the color filter unit in the manufacturing method of the color filter integrated with the touch panel sensor. The present invention has been completed by finding that the above problem can be solved by preventing the corresponding region on the transparent substrate on the color filter portion side from being covered with the film constituting the light shielding body.

すなわち、本発明の請求項1に係る発明は、透明基板の一方の主面上に、配線導体を有するタッチパネルセンサ部を形成し、前記透明基板の他方の主面上に、遮光体を有するカラーフィルタ部を形成するタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法において、前記タッチパネルセンサ部側の透明基板上にアライメントマークを形成し、その後、前記カラーフィルタ部側の透明基板上に、前記カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜を、前記タッチパネルセンサ部側に形成された前記アライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域を除く領域に形成し、次いで、前記アライメントマークを用いて、前記透明基板を通して前記カラーフィルタ部側から位置合わせを行って、前記カラーフィルタ部を形成することを特徴とするタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法である。   That is, the invention according to claim 1 of the present invention is a color in which a touch panel sensor unit having a wiring conductor is formed on one main surface of a transparent substrate, and a light-shielding body is formed on the other main surface of the transparent substrate. In the method for manufacturing a touch panel sensor-integrated color filter for forming a filter portion, an alignment mark is formed on the transparent substrate on the touch panel sensor portion side, and then the color filter portion is formed on the transparent substrate on the color filter portion side. A film constituting a light shielding body is formed in a region excluding a region on the transparent substrate on the color filter portion side corresponding to the position of the alignment mark formed on the touch panel sensor portion side, and then using the alignment mark Aligning from the color filter part side through the transparent substrate to form the color filter part A touch panel sensor integrated type color filter manufacturing method characterized by and.

また、本発明の請求項2に係る発明は、前記アライメントマークが、前記タッチパネルセンサ部を構成する配線導体と同じ材料からなり、前記配線導体を形成する工程で同時に形成されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法である。   The invention according to claim 2 of the present invention is characterized in that the alignment mark is made of the same material as that of the wiring conductor constituting the touch panel sensor unit, and is formed at the same time in the step of forming the wiring conductor. A touch filter sensor-integrated color filter manufacturing method according to claim 1.

また、本発明の請求項3に係る発明は、前記カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜が、少なくとも、1種類の金属、金属酸化物、または金属窒化物を真空成膜した薄膜であり、真空成膜する領域をメタルマスクで規定することにより、前記タッチパネルセンサ部側に形成された前記アライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域を除く領域に、前記薄膜を形成することを特徴とする請求項1〜2のいずれかに記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法である。   In the invention according to claim 3 of the present invention, the film constituting the light shielding body of the color filter portion is a thin film in which at least one kind of metal, metal oxide, or metal nitride is vacuum-deposited, The thin film is formed in a region excluding the region on the transparent substrate on the color filter unit side corresponding to the position of the alignment mark formed on the touch panel sensor unit side by defining a region for vacuum film formation with a metal mask. A touch filter sensor-integrated color filter manufacturing method according to any one of claims 1 to 2.

また、本発明の請求項4に係る発明は、前記カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜が、少なくとも、遮光性粒子を含有させた樹脂を塗布成膜した薄膜であり、塗布成膜する領域を規定することにより、前記タッチパネルセンサ部側に形成された前記アライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域を除く領域に、前記薄膜を形成することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法である。   In the invention according to claim 4 of the present invention, the film constituting the light-shielding body of the color filter portion is a thin film formed by coating a resin containing at least light-shielding particles. The thin film is formed in a region excluding a region on the transparent substrate on the color filter portion side corresponding to the position of the alignment mark formed on the touch panel sensor portion side. It is a manufacturing method of the color filter of a touch panel sensor integrated type in any one of 1-3.

また、本発明の請求項5に係る発明は、前記遮光性粒子を含有させた樹脂が、感光性樹脂であることを特徴とする請求項4に記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法である。   The invention according to claim 5 of the present invention is the method for manufacturing a color filter with an integrated touch panel sensor according to claim 4, wherein the resin containing the light-shielding particles is a photosensitive resin. It is.

本発明によれば、タッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域が遮光体を構成する膜によって覆われないため、カラーフィルタ部側からタッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークを識別することが容易となり、その結果、カラーフィルタ部をタッチパネルセンサ部に対して精度良く位置合わせして形成することができる。
それゆえ、共通する透明基板を挟んで、その一方の面にタッチパネルセンサ部が形成され、他方の面にカラーフィルタ部が形成されているタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタにおいて、タッチパネルセンサ部とカラーフィルタ部との位置合わせが正確なタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを容易に製造することができる。
According to the present invention, since the region on the transparent substrate on the color filter portion side corresponding to the position of the alignment mark formed on the transparent substrate on the touch panel sensor portion side is not covered with the film constituting the light shielding body, the color filter It becomes easy to identify the alignment mark formed on the transparent substrate on the touch panel sensor part side from the part side, and as a result, the color filter part can be accurately aligned with the touch panel sensor part.
Therefore, in a touch panel sensor integrated color filter in which a touch panel sensor unit is formed on one surface of the common transparent substrate and a color filter unit is formed on the other surface, the touch panel sensor unit and the color filter unit It is possible to easily manufacture a color filter integrated with a touch panel sensor that is accurately aligned with the touch panel sensor.

本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the example of the touchscreen sensor integrated color filter which concerns on this invention. 本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタにおけるタッチパネルセンサ部の製造方法の一例を示す模式的工程図である。It is a typical process figure showing an example of a manufacturing method of a touch panel sensor part in a touch panel sensor integrated color filter concerning the present invention. 本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタにおけるカラーフィルタ部の製造方法の一例を示す模式的工程図である。It is a typical process figure showing an example of a manufacturing method of a color filter part in a touch panel sensor integrated color filter concerning the present invention. タッチパネルセンサ部とメタルマスクの関係を示す説明図であり、(a)はタッチパネルセンサ部の例を示す概略図であり、(b)はメタルマスクの例を示す概略図である。It is explanatory drawing which shows the relationship between a touchscreen sensor part and a metal mask, (a) is schematic which shows the example of a touchscreen sensor part, (b) is schematic which shows the example of a metal mask. アライメント露光装置の例を示す概略図である。It is the schematic which shows the example of an alignment exposure apparatus. 本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタにおけるカラーフィルタ部の製造方法の他の例を示す説明図であり、(a)はダイコータを用いた塗布成膜を示す概略図であり、(b)は塗布成膜後のカラーフィルタ部の例を示す概略図であり、(c)はタッチパネルセンサ部の例を示す概略図である。It is explanatory drawing which shows the other example of the manufacturing method of the color filter part in the touchscreen sensor integrated color filter which concerns on this invention, (a) is schematic which shows the coating film-forming using a die-coater, (b) is It is the schematic which shows the example of the color filter part after coating film-forming, (c) is the schematic which shows the example of a touchscreen sensor part. 従来のタッチパネルセンサの例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the example of the conventional touch panel sensor. 図7に示すタッチパネルセンサのA−A断面図である。It is AA sectional drawing of the touch-panel sensor shown in FIG. 従来のカラーフィルタの例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the example of the conventional color filter. 従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示す模式的工程図である。It is typical process drawing which shows an example of the manufacturing method of the conventional color filter.

以下、本発明のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタおよびその製造方法について詳細に説明する。   Hereinafter, the touch panel sensor integrated color filter of the present invention and the manufacturing method thereof will be described in detail.

[タッチパネルセンサ一体型カラーフィルタ]
まず、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタについて説明する。
図1は、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの例を示す概略断面図である。図1に示されるタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタ1においては、ガラス基板等からなる透明基板2を挟んで、その一方の面にタッチパネルセンサ部20が形成され、他方の面にカラーフィルタ部30が形成されている。
[Touch filter integrated color filter]
First, the touch panel sensor integrated color filter according to the present invention will be described.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a touch panel sensor integrated color filter according to the present invention. In the touch panel sensor-integrated color filter 1 shown in FIG. 1, a touch panel sensor unit 20 is formed on one surface and a color filter unit 30 is formed on the other surface with a transparent substrate 2 made of a glass substrate or the like interposed therebetween. Has been.

[タッチパネルセンサ部]
タッチパネルセンサ部20の構成は、従来のタッチパネルセンサの構成と同じ構成を用いることができる。ここでは、X軸透明電極に相当する第1透明電極とY軸透明電極に相当する第2透明電極の透明電極を同一平面上に配列した構造の静電容量式タッチパネルセンサの例に基づいて説明する。この場合、タッチパネルセンサ部側の平面図は図7に示したものと同様であってよい。
タッチパネルセンサ部20は、図1に示すように、例えばX軸透明電極に相当する第1透明電極22、および、例えばY軸透明電極に相当する第2透明電極23、第1透明電極22と第2透明電極23を絶縁する第1絶縁層24、第1透明電極22および第2透明電極23と制御回路(図示せず)とを接続する配線導体21、および、タッチパネルセンサ部20の外周部に配設されたアライメントマーク27を少なくとも含んで構成される。
[Touch panel sensor]
The configuration of the touch panel sensor unit 20 can use the same configuration as that of a conventional touch panel sensor. Here, the description is based on an example of a capacitive touch panel sensor having a structure in which the transparent electrodes of the first transparent electrode corresponding to the X-axis transparent electrode and the second transparent electrode corresponding to the Y-axis transparent electrode are arranged on the same plane. To do. In this case, the plan view on the touch panel sensor side may be the same as that shown in FIG.
As shown in FIG. 1, the touch panel sensor unit 20 includes, for example, a first transparent electrode 22 corresponding to an X-axis transparent electrode, a second transparent electrode 23 corresponding to, for example, a Y-axis transparent electrode, a first transparent electrode 22 and a first transparent electrode 22 2 The first insulating layer 24 that insulates the transparent electrode 23, the wiring conductor 21 that connects the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 and the control circuit (not shown), and the outer periphery of the touch panel sensor unit 20 It includes at least the alignment mark 27 provided.

第1透明電極22は、第2透明電極23と交差する部位で分断されており、第1透明電極22と第2透明電極23の間には、短絡防止のために第1絶縁層24が形成されている。第1絶縁層24は、第1透明電極22と第2透明電極23が交差する部位に、第2透明電極23を覆うように形成される。そして、連結透明電極26は、第1絶縁層24を跨ぐように形成され、分断された第1透明電極22を電気的に接続する。
なお、図1における第2絶縁層25は、第1絶縁層24と同じ材料であって、第1絶縁層24の形成工程で同時に形成されるものであり、第1透明電極22および第2透明電極23を覆うように形成される。この第2絶縁層25は、除去されていても良い。
The first transparent electrode 22 is divided at a portion intersecting with the second transparent electrode 23, and a first insulating layer 24 is formed between the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 to prevent a short circuit. Has been. The first insulating layer 24 is formed so as to cover the second transparent electrode 23 at a portion where the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 intersect. And the connection transparent electrode 26 is formed so that the 1st insulating layer 24 may be straddled, and it electrically connects the divided | segmented 1st transparent electrode 22. FIG.
The second insulating layer 25 in FIG. 1 is made of the same material as the first insulating layer 24 and is formed at the same time as the first insulating layer 24 forming step. The first transparent electrode 22 and the second transparent layer It is formed so as to cover the electrode 23. The second insulating layer 25 may be removed.

[配線導体]
配線導体21は、第1透明電極22および第2透明電極23と制御回路とを電気的に接続するためのものであり、表示領域外の透明基板2の周辺部に配設される。
配線導体21は表示領域外に形成されるので透明性は必要ないが、抵抗値の小さい材料から形成される必要がある。それゆえ、配線導体21の材料として、好ましくは、前述の透明電極材料より高い導電性を有する材料が用いられる。例えば、配線導体21は、アルミニウム、銀や銅またはそれらの合金等による金属薄膜や、銀ペースト等の導電性ペーストにより形成される。
[Wiring conductor]
The wiring conductor 21 is for electrically connecting the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 and the control circuit, and is disposed on the periphery of the transparent substrate 2 outside the display area.
Since the wiring conductor 21 is formed outside the display area, transparency is not necessary, but it is necessary to form the wiring conductor 21 from a material having a small resistance value. Therefore, the material of the wiring conductor 21 is preferably a material having higher conductivity than the transparent electrode material described above. For example, the wiring conductor 21 is formed of a metal thin film made of aluminum, silver, copper, or an alloy thereof, or a conductive paste such as a silver paste.

[アライメントマーク]
アライメントマーク27は、第1透明電極22および第2透明電極23、第1絶縁層24、第2絶縁層25、連結透明電極26の形成に際し、相互に位置合わせを行うために設けられる。
また、アライメントマーク27は、後述するカラーフィルタ部の形成に際しても、位置合わせに用いられるものである。
アライメントマーク27は、配線導体21と同じ材料を用いて、配線導体21の形成工程で、配線導体21と同時に形成されることが、工程簡略化の面から好ましい。
アライメントマーク27の形状は、上述の位置合わせを行うことが出来るものであれば良く、特に限定されないが、例えば、十字型であり、その線幅は10〜100μmであり、長さは0.5〜3.0mmである。
アライメントマーク27の配設位置は、タッチパネルの表示領域の外側であって、上述の位置合わせを行うことが出来る位置であれば良く、特に限定されないが、例えば、タッチパネルセンサ部20の外周部の左右両端近傍である。
アライメントマーク27の配設数も特に限定されないが、例えば、タッチパネルセンサ部20の外周部の左右両端に、1個以上である。また、遮光体や着色体(典型的には、3色)の各アライメント露光工程に応じて、配設位置や、形状の異なるアライメントマークを設けても良い。
[Alignment mark]
The alignment mark 27 is provided to align the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23, the first insulating layer 24, the second insulating layer 25, and the connecting transparent electrode 26.
The alignment mark 27 is also used for alignment when forming a color filter portion described later.
The alignment mark 27 is preferably formed simultaneously with the wiring conductor 21 in the formation process of the wiring conductor 21 using the same material as that of the wiring conductor 21 from the viewpoint of simplification of the process.
The shape of the alignment mark 27 is not particularly limited as long as the alignment can be performed as described above. For example, the alignment mark 27 has a cross shape, a line width of 10 to 100 μm, and a length of 0.5. -3.0 mm.
The arrangement position of the alignment mark 27 is not particularly limited as long as the alignment mark 27 is located outside the display area of the touch panel and can be aligned as described above. Near both ends.
The number of alignment marks 27 is not particularly limited, but is one or more on the left and right ends of the outer peripheral portion of the touch panel sensor unit 20, for example. Moreover, according to each alignment exposure process of a light-shielding body or a colored body (typically 3 colors), you may provide the alignment mark from which an arrangement | positioning position and a shape differ.

[第1及び第2透明電極、連結透明電極]
第1透明電極22、第2透明電極23、連結透明電極26は、通常、同じ材料により形成される。第1透明電極22と第2透明電極23は同一平面に同時に形成されるため同じ材料であることが好ましく、また、均一な透明性や導電性を得るために、連結透明電極26も、第1透明電極22、第2透明電極23と同じ材料であることが好ましいからである。
[First and second transparent electrodes, connected transparent electrodes]
The 1st transparent electrode 22, the 2nd transparent electrode 23, and the connection transparent electrode 26 are normally formed with the same material. The first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 are preferably made of the same material because they are formed on the same plane at the same time. In order to obtain uniform transparency and conductivity, the connecting transparent electrode 26 is also a first transparent electrode. This is because the same material as that of the transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 is preferable.

上記の材料としては、透明性を有するとともに、所要の導電性を有する材料が用いられる。例えば、インジウム錫酸化物(ITO)、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物や、これらの金属酸化物が2種以上複合された材料が挙げられる。   As the material, a material having transparency and required conductivity is used. For example, indium tin oxide (ITO), zinc oxide, indium oxide, antimony-added tin oxide, fluorine-added tin oxide, aluminum-added zinc oxide, potassium-added zinc oxide, silicon-added zinc oxide, zinc oxide-tin oxide system, oxidation Examples thereof include metal oxides such as indium-tin oxide, zinc oxide-indium oxide-magnesium oxide, and materials in which two or more of these metal oxides are combined.

第1透明電極22、第2透明電極23、連結透明電極26の形成方法は、特に限定されず、公知の方法を用いることが出来る。例えば、200℃〜250℃に基板加熱しながら、アルゴンと酸素の混合ガスを用いたスパッタリング法を用いて多結晶ITO薄膜を成膜し、アライメントマーク27を用いて位置合わせしてフォトリソグラフィ法により所望のパターンを形成後、王水で不要ITOをエッチングする方法により、第1透明電極22、第2透明電極23、連結透明電極26が形成される。   The formation method of the 1st transparent electrode 22, the 2nd transparent electrode 23, and the connection transparent electrode 26 is not specifically limited, A well-known method can be used. For example, a polycrystalline ITO thin film is formed using a sputtering method using a mixed gas of argon and oxygen while the substrate is heated to 200 ° C. to 250 ° C., aligned using the alignment mark 27, and subjected to photolithography. After forming a desired pattern, the first transparent electrode 22, the second transparent electrode 23, and the connected transparent electrode 26 are formed by a method of etching unnecessary ITO with aqua regia.

[第1及び第2絶縁層]
第1絶縁層24は、第1透明電極22と、第2透明電極23および連結透明電極26を絶縁するために設けられるものである。第1絶縁層24は、第1透明電極22と第2透明電極23が交差する部位に、第2透明電極23を覆うように形成される。そして、連結透明電極26は、第1絶縁層24を跨ぐように形成され、分断された第1透明電極22を電気的に接続する。
[First and second insulating layers]
The first insulating layer 24 is provided to insulate the first transparent electrode 22 from the second transparent electrode 23 and the connecting transparent electrode 26. The first insulating layer 24 is formed so as to cover the second transparent electrode 23 at a portion where the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 intersect. And the connection transparent electrode 26 is formed so that the 1st insulating layer 24 may be straddled, and it electrically connects the divided | segmented 1st transparent electrode 22. FIG.

第2絶縁層25は、第1絶縁層24と同じ材料であって、第1絶縁層24の形成工程で同時に形成されるものであり、第1透明電極22および第2透明電極23を覆うように形成される。そして、第2絶縁層25は、連結透明電極26が第2透明電極23と接する面積を規定し、連結透明電極26同士の短絡を防ぐ機能を有する。なお、この第2絶縁層25は、最終形態において除去されていても良い。   The second insulating layer 25 is made of the same material as the first insulating layer 24 and is formed at the same time as the first insulating layer 24, and covers the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23. Formed. And the 2nd insulating layer 25 prescribes | regulates the area where the connection transparent electrode 26 touches the 2nd transparent electrode 23, and has a function which prevents the short circuit of the connection transparent electrodes 26. The second insulating layer 25 may be removed in the final form.

第1絶縁層24及び第2絶縁層25は、透明性および電気絶縁性を有する樹脂材料やSOG(塗布型のSiO2系材料)等の無機材料を用いて、スクリーン印刷法やフォトリソグラフィ法で形成される。例えば、UV硬化性のアクリル樹脂を用い、塗布、マスク露光、現像、ベーク等の工程を行うことで形成される。 The first insulating layer 24 and the second insulating layer 25 are made by a screen printing method or a photolithography method using an inorganic material such as a resin material having transparency and electric insulation or SOG (a coating type SiO 2 material). It is formed. For example, it is formed by using a UV curable acrylic resin and performing processes such as coating, mask exposure, development, and baking.

[保護膜]
保護膜29は、アライメントマーク27を保護するために形成されるものであり、通常、第1透明電極22および第2透明電極23と同時に形成されるものである。
例えば、第1透明電極22および第2透明電極23を形成するための多結晶ITO薄膜は、通常、アライメントマーク27の上にも成膜される。そして、アライメントマーク27を王水等から保護するために、フォトリソグラフィ法によりアライメントマーク27の上に所望のパターンを形成後、王水で不要ITOをエッチングすることにより、保護膜29が形成される。
[Protective film]
The protective film 29 is formed to protect the alignment mark 27, and is usually formed simultaneously with the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23.
For example, a polycrystalline ITO thin film for forming the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 is usually formed also on the alignment mark 27. In order to protect the alignment mark 27 from aqua regia and the like, a desired pattern is formed on the alignment mark 27 by photolithography, and then unnecessary ITO is etched with aqua regia to form a protective film 29. .

[カラーフィルタ部]
次にカラーフィルタ部30について説明する。
カラーフィルタ部30は、図1に示すように、透明基板2を挟んで、タッチパネルセンサ部20が形成された面とは反対側の面に形成されており、マトリックス状に配設される遮光体31、遮光体31の間に配設される複数色の着色体32、着色体32を覆うように形成された第3透明電極33を、少なくとも含んで構成される。
カラーフィルタ部30の各構成要素は、従来のカラーフィルタの構成要素と同じ材料を用いることができる。
ただし、タッチパネルセンサ部20側に形成されたアライメントマーク27の位置に相当するカラーフィルタ部30側の透明基板2上には、遮光体31は存在しない。
それゆえ、カラーフィルタ部30側から透明基板2を通して、タッチパネルセンサ部20側に形成されたアライメントマークを識別することが容易となり、その結果、カラーフィルタ部30をタッチパネルセンサ部20に対して精度良く位置合わせして形成することができる。
なお、図1には示していないが、着色体32と第3透明電極33の間には、透明な保護膜が設けられていても良い。保護膜の材料としては、珪素、アルミニウム、亜鉛またはスズの酸化物または酸窒化物からなる透明材料、あるいはアクリル樹脂等の有機絶縁膜を挙げることができる。
[Color filter section]
Next, the color filter unit 30 will be described.
As shown in FIG. 1, the color filter unit 30 is formed on a surface opposite to the surface on which the touch panel sensor unit 20 is formed with the transparent substrate 2 interposed therebetween, and is a light shielding body arranged in a matrix. 31, a plurality of colored bodies 32 disposed between the light shielding bodies 31, and a third transparent electrode 33 formed so as to cover the colored bodies 32.
Each component of the color filter unit 30 can be made of the same material as that of the conventional color filter.
However, the light shield 31 does not exist on the transparent substrate 2 on the color filter unit 30 side corresponding to the position of the alignment mark 27 formed on the touch panel sensor unit 20 side.
Therefore, it becomes easy to identify the alignment mark formed on the touch panel sensor unit 20 side through the transparent substrate 2 from the color filter unit 30 side. As a result, the color filter unit 30 can be accurately compared to the touch panel sensor unit 20. It can be formed in alignment.
Although not shown in FIG. 1, a transparent protective film may be provided between the colored body 32 and the third transparent electrode 33. Examples of the material for the protective film include a transparent material made of an oxide or oxynitride of silicon, aluminum, zinc or tin, or an organic insulating film such as an acrylic resin.

[遮光体]
遮光体31は、液晶表示装置のバックライトの光もれや着色体32の混色防止のために設けられるものである。
遮光体31は、スパッタリング法、真空蒸着法等の真空成膜法により厚み100〜200nm程度のクロム等の金属薄膜等を形成し、この薄膜をパターニングして形成したものや、カーボン微粒子や金属酸化物等の遮光性粒子を含有させたポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂層を形成し、この樹脂層をパターニングして形成したもの、および、カーボン微粒子や金属酸化物等の遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングして形成したもの等、遮光性を有するものを用いることができる。
[Shading body]
The light shielding body 31 is provided to prevent light leakage from the backlight of the liquid crystal display device and color mixture of the colored body 32.
The light shielding body 31 is formed by forming a metal thin film such as chromium having a thickness of about 100 to 200 nm by a vacuum film forming method such as a sputtering method or a vacuum deposition method, and patterning this thin film, or carbon fine particles or metal oxides. Forming a resin layer of polyimide resin, acrylic resin, epoxy resin, etc. containing light-shielding particles such as objects, and patterning this resin layer, and light-shielding particles such as carbon fine particles and metal oxides A layer having a light shielding property such as a layer formed by patterning the photosensitive resin layer containing a photosensitive resin layer can be used.

[着色体]
着色体32は、カラーフィルタ画素として、液晶を通過したバックライトの色を調整するものであり、通常、赤色、青色、緑色の3種の着色体が形成される。
赤色の着色体に用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
青色の着色体に用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
緑色の着色体に用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
[Colored body]
The color body 32 adjusts the color of the backlight that has passed through the liquid crystal as a color filter pixel, and usually three types of color bodies of red, blue, and green are formed.
Examples of the colorant used in the red colored body include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, and isoindoline pigments. These pigments or dyes may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the colorant used for the blue colored body include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, dioxazine pigments, and the like. These pigments or dyes may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the colorant used in the green colored body include phthalocyanine pigments such as halogen polysubstituted phthalocyanine pigments or halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane basic dyes, isoindoline pigments, and isoindolinones. And pigments. These pigments or dyes may be used alone or in combination of two or more.

[第3透明電極]
第3透明電極33は、液晶分子の配列を変更させて光の透過率を調節するための共通電極として機能するものである。
第3透明電極33は、例えば、200℃〜250℃に基板加熱しながら、アルゴンと酸素の混合ガスを用いたスパッタリング法を用いて多結晶ITOを成膜することにより形成することができる。
[Third transparent electrode]
The third transparent electrode 33 functions as a common electrode for adjusting the light transmittance by changing the arrangement of liquid crystal molecules.
The third transparent electrode 33 can be formed, for example, by depositing polycrystalline ITO using a sputtering method using a mixed gas of argon and oxygen while heating the substrate to 200 ° C. to 250 ° C.

[タッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法]
次に、本発明のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法について説明する。本発明のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法は、カラーフィルタ部の遮光体を構成する材料を成膜する工程において、タッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域が、遮光体を構成する膜によって覆われないようにしたことを特徴とするものであり、このことにより、カラーフィルタ部側から透明基板を通して、タッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークを識別することが容易となり、その結果、カラーフィルタ部をタッチパネルセンサ部に対して精度良く位置合わせ形成することができるものである。
その他の構成要素の製造方法については、上述した構成を有するタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを得ることができる方法であれば、特に限定されるものではない。
[Method for manufacturing color filter with touch panel sensor]
Next, the manufacturing method of the color filter integrated with a touch panel sensor of the present invention will be described. The manufacturing method of the color filter integrated with the touch panel sensor of the present invention corresponds to the position of the alignment mark formed on the transparent substrate on the touch panel sensor unit side in the step of forming the material forming the light shielding body of the color filter unit. The area on the transparent substrate on the color filter part side is not covered with the film constituting the light shielding body, and this allows the touch panel sensor part to pass through the transparent substrate from the color filter part side. This makes it easy to identify the alignment mark formed on the transparent substrate on the side, and as a result, the color filter portion can be accurately aligned with the touch panel sensor portion.
The manufacturing method of the other components is not particularly limited as long as the touch panel sensor integrated color filter having the above-described configuration can be obtained.

[タッチパネルセンサ部の製造方法]
本発明においては、まず、タッチパネルセンサ部を形成し、続いてカラーフィルタ部を形成して、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを得る。
図2に、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタにおけるタッチパネルセンサ部の製造方法の一例を示す。まず、ガラス等の材料からなる透明基板2を準備し、その一方の面に金属材料からなる配線導体21、およびアライメントマーク27を同時に形成する(図2(a))。配線導体21およびアライメントマーク27を形成する方法は、特に限定されず公知の方法を用いることができ、例えば、透明基板2上にスパッタリング法により金属薄膜を成膜し、フォトリソグラフィ法により所望の形状の配線導体21およびアライメントマーク27を形成する。
[Method for manufacturing touch panel sensor]
In the present invention, first, a touch panel sensor part is formed, and then a color filter part is formed, whereby the touch panel sensor integrated color filter according to the present invention is obtained.
FIG. 2 shows an example of a method for manufacturing a touch panel sensor portion in a color filter with an integrated touch panel sensor according to the present invention. First, a transparent substrate 2 made of a material such as glass is prepared, and a wiring conductor 21 made of a metal material and an alignment mark 27 are simultaneously formed on one surface thereof (FIG. 2A). A method for forming the wiring conductor 21 and the alignment mark 27 is not particularly limited, and a known method can be used. For example, a metal thin film is formed on the transparent substrate 2 by a sputtering method, and a desired shape is formed by a photolithography method. Wiring conductor 21 and alignment mark 27 are formed.

次に、図2(b)に示すように、上記の配線導体21およびアライメントマーク27を形成した面に、多結晶ITOからなる第1透明電極22および第2透明電極23を同時に形成する。
第1透明電極22、第2透明電極23を形成する多結晶ITOは、200℃〜250℃に基板加熱しながら、アルゴンと酸素の混合ガスを用いたスパッタリング法により成膜される。そして、フォトリソグラフィ法でアライメントマーク27を用いてアライメント露光し、パターンを形成後、王水等の強酸で不要ITOをエッチングする方法により、所望の形状に加工される。
Next, as shown in FIG. 2B, the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 made of polycrystalline ITO are simultaneously formed on the surface on which the wiring conductor 21 and the alignment mark 27 are formed.
The polycrystalline ITO that forms the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 is formed by a sputtering method using a mixed gas of argon and oxygen while heating the substrate to 200 ° C. to 250 ° C. Then, alignment exposure is performed using the alignment mark 27 by a photolithography method, a pattern is formed, and then processed into a desired shape by a method of etching unnecessary ITO with a strong acid such as aqua regia.

次に、上記の第1透明電極22および第2透明電極23を被覆するように、第1絶縁層24および第2絶縁層25を形成するための絶縁膜を成膜し(図2(c))、アライメントマーク27を用いて位置合わせしてパターン加工し、所望の形状の第1絶縁層24および第2絶縁層25を形成する(図2(d))。
第1透明電極22および第2透明電極23を形成する方法は、特に限定されず公知の方法を用いることができ、例えば、UV硬化性のアクリル樹脂を塗布し、フォトリソグラフィ法により所望の形状の第1絶縁層24および第2絶縁層25を形成することができる。
Next, an insulating film for forming the first insulating layer 24 and the second insulating layer 25 is formed so as to cover the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 (FIG. 2C). ), Alignment is performed using the alignment mark 27, and pattern processing is performed to form the first insulating layer 24 and the second insulating layer 25 having desired shapes (FIG. 2D).
The method for forming the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23 is not particularly limited, and a known method can be used. For example, a UV curable acrylic resin is applied, and a desired shape is formed by photolithography. The first insulating layer 24 and the second insulating layer 25 can be formed.

次に、図2(e)に示すように、上記の第1絶縁層24および第2絶縁層25を形成した面に、多結晶ITOからなる連結透明電極26を形成する。
連結透明電極26を形成する多結晶ITOは、200℃〜250℃に基板加熱しながら、アルゴンと酸素の混合ガスを用いたスパッタリング法により成膜される。そして、フォトリソグラフィ法でアライメントマーク27を用いてアライメント露光し、パターンを形成後、王水等の強酸で不要なITOをエッチングする方法により、所望の形状に加工される。
以上の工程により、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタのタッチパネルセンサ部20が形成される。
Next, as shown in FIG. 2E, a connected transparent electrode 26 made of polycrystalline ITO is formed on the surface on which the first insulating layer 24 and the second insulating layer 25 are formed.
The polycrystalline ITO forming the connection transparent electrode 26 is formed by sputtering using a mixed gas of argon and oxygen while heating the substrate to 200 ° C. to 250 ° C. Then, alignment exposure is performed using the alignment mark 27 by a photolithography method, a pattern is formed, and then processed into a desired shape by a method of etching unnecessary ITO with a strong acid such as aqua regia.
Through the above steps, the touch panel sensor unit 20 of the color filter integrated with the touch panel sensor according to the present invention is formed.

[カラーフィルタ部の製造方法]
次に、上記のタッチパネルセンサ部を形成した面とは反対側の透明基板2の面に、カラーフィルタ部を形成する。
ここで、本発明に係るカラーフィルタ部の遮光体31を形成する方法は、遮光体31を構成する材料に応じて、以下の2つの実施形態がある。すなわち、クロム等の金属薄膜からなる遮光体を形成する形態(第1の実施形態)と、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させた樹脂からなる遮光体を形成する形態(第2の実施形態)である。
[Production method of color filter section]
Next, a color filter portion is formed on the surface of the transparent substrate 2 opposite to the surface on which the touch panel sensor portion is formed.
Here, the method for forming the light shielding body 31 of the color filter portion according to the present invention includes the following two embodiments depending on the material constituting the light shielding body 31. That is, a mode for forming a light shielding body made of a metal thin film such as chromium (first embodiment) and a mode for forming a light shielding body made of a resin containing light shielding particles such as carbon fine particles (second embodiment). ).

(第1の実施形態)
第1の実施形態の例として、クロム等の金属薄膜からなる遮光体を形成する形態について説明する。
まず、図3(a)に示すように、上記のタッチパネルセンサ部20を形成した面とは反対側の透明基板2の面に、メタルマスク40を用いたスパッタリング法により、厚み100〜200nm程度のクロム等の金属薄膜31aを真空成膜する。
(First embodiment)
As an example of the first embodiment, a mode of forming a light shielding body made of a metal thin film such as chromium will be described.
First, as shown in FIG. 3A, a thickness of about 100 to 200 nm is formed on the surface of the transparent substrate 2 opposite to the surface on which the touch panel sensor unit 20 is formed by a sputtering method using a metal mask 40. A metal thin film 31a such as chromium is vacuum-deposited.

ここで、メタルマスク40について説明する。図4に、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタのタッチパネルセンサ部20とメタルマスク40の関係を示す。
図4(b)に示すように、メタルマスク40は、少なくとも、タッチパネルセンサ部20側に形成されたアライメントマーク27の位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域を遮蔽するように作用する遮蔽部41と、タッチパネルセンサ部20の有効領域28を含む開口部41を有している。
Here, the metal mask 40 will be described. FIG. 4 shows a relationship between the touch panel sensor unit 20 and the metal mask 40 of the touch panel sensor integrated color filter according to the present invention.
As shown in FIG. 4B, the metal mask 40 acts to shield at least a region on the transparent substrate on the color filter unit side corresponding to the position of the alignment mark 27 formed on the touch panel sensor unit 20 side. And an opening 41 including the effective area 28 of the touch panel sensor unit 20.

上記の真空成膜の工程で、このメタルマスク40を、クロム等の金属ターゲットと透明基板2の間に介在させることにより、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク27の位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域には、クロム等の金属はスパッタ成膜されないことになる。
このことにより、カラーフィルタ部側から透明基板を通して、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークを識別することが容易になる。
A color filter corresponding to the position of the alignment mark 27 formed on the touch panel sensor unit side by interposing the metal mask 40 between a metal target such as chromium and the transparent substrate 2 in the vacuum film forming step. In the region on the transparent substrate on the part side, no metal such as chromium is sputtered.
This makes it easy to identify the alignment mark formed on the touch panel sensor unit side through the transparent substrate from the color filter unit side.

次に、図3(b)に示すように、金属薄膜31aにフォトレジストを塗布し、アライメント露光、現像、エッチングを行なって、所望の形状の遮光体31を形成する。アライメント露光は、例えば、以下のように行われる。   Next, as shown in FIG. 3B, a photoresist is applied to the metal thin film 31a, and alignment exposure, development, and etching are performed to form a light shielding body 31 having a desired shape. The alignment exposure is performed as follows, for example.

図5に、アライメント露光に用いる露光装置の例を示す。図5に示すように、透明基板2は、そのカラーフィルタ部側が遮光体用フォトマスク60と対向するように露光装置50に保持される。ここで、本発明においては、タッチパネルセンサ部が接触による汚染を受けないように、基板保持手段51により透明基板2の端部で保持されることが好ましい。
遮光体用フォトマスク60はマスク保持手段52により、透明基板2の上方に保持されている。そして、遮光体用フォトマスク60に設けられたマスク側アライメントマーク61と、透明基板2のタッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク27を用いて、透明基板2と遮光体用フォトマスク60との位置合わせが行なわれる。
FIG. 5 shows an example of an exposure apparatus used for alignment exposure. As shown in FIG. 5, the transparent substrate 2 is held by the exposure apparatus 50 so that the color filter portion side faces the light-shielding body photomask 60. Here, in this invention, it is preferable to hold | maintain at the edge part of the transparent substrate 2 by the board | substrate holding means 51 so that a touchscreen sensor part may not receive the contamination by contact.
The light-shielding body photomask 60 is held above the transparent substrate 2 by the mask holding means 52. Then, the mask-side alignment mark 61 provided on the light shielding body photomask 60 and the alignment mark 27 formed on the touch panel sensor portion side of the transparent substrate 2 are used to form the transparent substrate 2 and the light shielding body photomask 60. Alignment is performed.

上記の位置合わせは、例えば、次のように行われる。
まず、アライメント用光源53を備えたCCDカメラ54により、遮光体用フォトマスク60に設けられたマスク側アライメントマーク61と、透明基板2のタッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク27とが撮像される。
ここで、アライメントマーク27はカラーフィルタ部側とは反対側の透明基板2上に設けられているが、カラーフィルタ部側のアライメントマーク27の位置に相当する領域は遮光体によって覆われていないため、カラーフィルタ部側から透明基板2を通してアライメントマーク27を容易に識別することができる。
The above alignment is performed as follows, for example.
First, the CCD camera 54 provided with the alignment light source 53 images the mask side alignment mark 61 provided on the light shielding body photomask 60 and the alignment mark 27 formed on the touch panel sensor portion side of the transparent substrate 2. The
Here, the alignment mark 27 is provided on the transparent substrate 2 on the side opposite to the color filter portion side, but the region corresponding to the position of the alignment mark 27 on the color filter portion side is not covered with the light shielding body. The alignment mark 27 can be easily identified through the transparent substrate 2 from the color filter portion side.

撮像された画像信号は、CCDカメラ54に接続された制御手段55に送られる。この画像信号からマスク側アライメントマーク61と透明基板2に形成されたアライメントマーク27との間の配置誤差が求められ、制御手段55は、この配置誤差に基づいて移動手段56を駆動制御する。
そして、移動手段56により基板保持手段51とともに透明基板2が移動し、マスク側アライメントマーク61と透明基板2に形成されたアライメントマーク27の位置合わせが行なわれる。以上により、遮光体用フォトマスク60を透明基板2に対して精度良く確実に位置合わせすることができる。
最後に、露光装置50の露光光源57により、遮光体用フォトマスク60を介して金属薄膜31a上のフォトレジストが露光される。
The captured image signal is sent to the control means 55 connected to the CCD camera 54. An arrangement error between the mask-side alignment mark 61 and the alignment mark 27 formed on the transparent substrate 2 is obtained from the image signal, and the control means 55 drives and controls the moving means 56 based on the arrangement error.
Then, the transparent substrate 2 is moved together with the substrate holding unit 51 by the moving unit 56, and the alignment of the mask side alignment mark 61 and the alignment mark 27 formed on the transparent substrate 2 is performed. As described above, the light-shielding body photomask 60 can be accurately and reliably aligned with the transparent substrate 2.
Finally, the photoresist on the metal thin film 31 a is exposed by the exposure light source 57 of the exposure apparatus 50 through the light shielding body photomask 60.

次に、図3(c)に示すように、上記の遮光体31の間に、複数色の着色体32を形成する。
着色体32を形成するためのアライメント露光は、上述の遮光体31を形成するためにアライメント露光した方法と同様に、透明基板2のタッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク27を用いて行うことができる。
ここで、遮光体と各着色体(典型的には、3色)のアライメントマークは、異なる位置に設けておくこともできる。各着色塗布工程により、マーク領域が被覆されてしまうことを避けるためである。また、遮光体と各着色体(典型的には、3色)のアライメントマークは、異なる形状のマークとしてもよい。形成する着色体の色を間違えたりすることを防止できるからである。
上述のアライメント露光工程以外の着色体32を形成する工程は、特に限定されず公知の方法を用いることができ、例えば、各色の顔料を含んだ着色感光性樹脂を塗布し、露光、現像、ベークして、所望の着色体32を形成することができる。赤色、青色、緑色の3種の着色体を形成する場合は、上記の工程を3回行う。
Next, as shown in FIG. 3C, a plurality of colored bodies 32 are formed between the light shielding bodies 31.
The alignment exposure for forming the colored body 32 is performed using the alignment mark 27 formed on the touch panel sensor portion side of the transparent substrate 2 in the same manner as the alignment exposure method for forming the light shielding body 31 described above. Can do.
Here, the alignment marks of the light-shielding body and the colored bodies (typically three colors) can be provided at different positions. This is to prevent the mark area from being covered by each coloring application process. Further, the alignment marks of the light shielding body and the respective colored bodies (typically three colors) may be marks having different shapes. This is because it is possible to prevent the color of the colored body to be formed from being mistaken.
The process of forming the colored body 32 other than the alignment exposure process is not particularly limited, and a known method can be used. For example, a colored photosensitive resin containing a pigment of each color is applied, exposed, developed, baked. Thus, a desired colored body 32 can be formed. In the case of forming three kinds of colored bodies of red, blue and green, the above process is performed three times.

最後に、図3(d)に示すように、上記の着色体32を被覆するように、多結晶ITO薄膜をスパッタリング法により成膜し、第3透明電極33を形成する。
以上により、本発明に係る第1の実施形態のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを得ることが出来る。
なお、上述の説明では、遮光体の形成後に各着色体(典型的には、3色)を形成する製造方法を説明したが、例えば、先に各着色体(典型的には、3色)を形成し、その後遮光体を形成しても良い。
Finally, as shown in FIG. 3D, a polycrystalline ITO thin film is formed by sputtering so as to cover the colored body 32, thereby forming the third transparent electrode 33.
As described above, the touch panel sensor integrated color filter according to the first embodiment of the present invention can be obtained.
In the above description, the manufacturing method for forming each colored body (typically three colors) after the formation of the light shielding body has been described. However, for example, each colored body (typically three colors) is first formed. After that, a light shielding body may be formed.

(第2の実施形態)
次に、第2の実施形態の例として、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させた感光性の樹脂からなる遮光体を形成する形態について説明する。
図6は、本発明に係る第2の実施形態のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタにおけるカラーフィルタ部の製造方法の一例を示す説明図であり、(a)はダイコータを用いた塗布成膜を示す概略図であり、(b)は塗布成膜後のカラーフィルタ部の例を示す概略図であり、(c)はタッチパネルセンサ部の例を示す概略図である。
まず、図6(a)に示すように、上記のタッチパネルセンサ部のアライメントマーク27を形成した面とは反対側の透明基板2の面に、ダイコータを用いた塗布成膜により、厚み1〜3μm程度のカーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させた感光性の樹脂層31bを形成する。
ここで、ダイコータのダイノズル70は、タッチパネルセンサ部20の有効領域28の幅に規定された開口部を有しており、それゆえ、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域に対しては、樹脂層31bは塗布されないことになる(図6(b)、(c))。
このような塗布成膜方法を用いることにより、カラーフィルタ部側から透明基板を通して、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークを識別することが容易になる。
(Second Embodiment)
Next, as an example of the second embodiment, a mode of forming a light shielding body made of a photosensitive resin containing light shielding particles such as carbon fine particles will be described.
FIG. 6 is an explanatory view showing an example of a manufacturing method of a color filter part in the touch panel sensor integrated color filter of the second embodiment according to the present invention, and (a) is a schematic showing coating film formation using a die coater. It is a figure, (b) is a schematic diagram showing an example of a color filter part after application film formation, and (c) is a schematic diagram showing an example of a touch panel sensor part.
First, as shown in FIG. 6A, a thickness of 1 to 3 μm is formed on the surface of the transparent substrate 2 opposite to the surface on which the alignment mark 27 of the touch panel sensor portion is formed by coating using a die coater. A photosensitive resin layer 31b containing light-shielding particles such as carbon fine particles is formed.
Here, the die nozzle 70 of the die coater has an opening defined by the width of the effective area 28 of the touch panel sensor unit 20, and therefore a color corresponding to the position of the alignment mark formed on the touch panel sensor unit side. The resin layer 31b is not applied to the region on the transparent substrate on the filter side (FIGS. 6B and 6C).
By using such a coating film forming method, it becomes easy to identify the alignment mark formed on the touch panel sensor unit side through the transparent substrate from the color filter unit side.

なお、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させた感光性の樹脂からなる遮光体を形成する方法としては、上述のダイコータを用いる方法の他に、インクジェット法、スクリーン印刷法、ドライフィルムをラミネートする方法等があり、いずれもタッチパネルセンサ部20の有効領域28の幅に規定された範囲内にカーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させた感光性の樹脂層を形成することで、上述のダイコータを用いた場合と同様に、カラーフィルタ部側から透明基板を通して、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークを識別することが可能になる。   In addition, as a method of forming a light-shielding body made of a photosensitive resin containing light-shielding particles such as carbon fine particles, in addition to the method using the above-described die coater, an inkjet method, a screen printing method, or a dry film is laminated. There are methods, etc., both of which form the above-described die coater by forming a photosensitive resin layer containing light-shielding particles such as carbon fine particles within the range defined by the width of the effective area 28 of the touch panel sensor unit 20. As in the case of using it, the alignment mark formed on the touch panel sensor unit side can be identified from the color filter unit side through the transparent substrate.

次に、アライメント露光、現像、ベーク等を行なって、所望の形状の遮光体31を形成する。
アライメント露光は、上述の第1の実施形態において、遮光体31を形成するためにアライメント露光した方法と同様に、透明基板2のタッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク27を用いて行うことができる。それゆえ、ここでの詳述は省略する。
Next, alignment exposure, development, baking, and the like are performed to form a light shielding body 31 having a desired shape.
The alignment exposure is performed using the alignment mark 27 formed on the touch panel sensor portion side of the transparent substrate 2 in the same manner as the alignment exposure method for forming the light shield 31 in the first embodiment. it can. Therefore, detailed description is omitted here.

次に、上記の遮光体31の間に、複数色の着色体32を形成する。
着色体32を形成するためのアライメント露光は、上述の第1の実施形態において説明した方法と同様に、透明基板2のタッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク27を用いて行うことができる。それゆえ、ここでの詳述は省略する。
Next, a plurality of colored bodies 32 are formed between the light shielding bodies 31.
The alignment exposure for forming the colored body 32 can be performed using the alignment mark 27 formed on the touch panel sensor portion side of the transparent substrate 2 in the same manner as the method described in the first embodiment. Therefore, detailed description is omitted here.

次に、上記の着色体32を被覆するように、多結晶ITO薄膜をスパッタリング法により成膜し、第3透明電極33を得る。
以上により、本発明に係る第2の実施形態のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを得ることが出来る。
なお、上述の説明では、遮光体の形成後に各着色体(典型的には、3色)を形成する製造方法を説明したが、先に各着色体(典型的には、3色)を形成し、その後遮光体を形成しても良い。
Next, a polycrystalline ITO thin film is formed by a sputtering method so as to cover the colored body 32 to obtain the third transparent electrode 33.
As described above, the touch panel sensor integrated color filter of the second embodiment according to the present invention can be obtained.
In the above description, the manufacturing method for forming each colored body (typically three colors) after the formation of the light shielding body has been described. However, each colored body (typically three colors) is formed first. Then, a light shielding body may be formed thereafter.

本発明によれば、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域が遮光体を構成する膜によって覆われないため、カラーフィルタ部側からタッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークを識別することが容易となり、その結果、カラーフィルタ部をタッチパネルセンサ部に対して精度良く位置合わせ形成することができる。
それゆえ、共通する透明基板を挟んで、その一方の面にタッチパネルセンサ部が形成され、他方の面にカラーフィルタ部が形成されているタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタにおいて、タッチパネルセンサ部とカラーフィルタ部との位置合わせが正確なタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを容易に製造することができる。
According to the present invention, since the region on the transparent substrate on the color filter portion side corresponding to the position of the alignment mark formed on the touch panel sensor portion side is not covered with the film constituting the light shielding body, the touch panel is opened from the color filter portion side. It becomes easy to identify the alignment mark formed on the transparent substrate on the sensor unit side, and as a result, the color filter unit can be accurately aligned with the touch panel sensor unit.
Therefore, in a touch panel sensor integrated color filter in which a touch panel sensor unit is formed on one surface of the common transparent substrate and a color filter unit is formed on the other surface, the touch panel sensor unit and the color filter unit It is possible to easily manufacture a color filter integrated with a touch panel sensor that is accurately aligned with the touch panel sensor.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.

以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。
(実施例1)
上述で説明した第1の実施形態の製造方法に従って、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを製造した。
まず、透明基板2として、350mm×300mmの旭硝子株式会社製ANガラスを準備し、その一方の面にアルミニウムをスパッタリング法により成膜し、フォトリソグラフィ法でパターン形成後、燐酸、酢酸、水を4:1:4:4の割合で配合してなる燐硝酢酸水でエッチング加工して、配線導体21およびアライメントマーク27を形成した。アライメントマーク27は、線幅20μm、長さ1.0mmの十字型のマークとした。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
Example 1
The touch panel sensor integrated color filter according to the present invention was manufactured according to the manufacturing method of the first embodiment described above.
First, as a transparent substrate 2, an AN glass manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. having a size of 350 mm × 300 mm is prepared, and aluminum is formed on one surface thereof by a sputtering method. The wiring conductor 21 and the alignment mark 27 were formed by etching with phosphoric acid / acetic acid water mixed at a ratio of 1: 4: 4. The alignment mark 27 was a cross-shaped mark having a line width of 20 μm and a length of 1.0 mm.

次に、上記の配線導体21およびアライメントマーク27を形成した面に、基板温度230℃で、アルゴンと酸素の混合ガスを用いたスパッタリング法により、20nm厚さの多結晶ITO薄膜を形成し、フォトリソグラフィ法で所望のパターンを作り、王水で不要なITOをエッチングして第1透明電極22および第2透明電極23を形成した。   Next, a polycrystalline ITO thin film having a thickness of 20 nm is formed on the surface on which the wiring conductor 21 and the alignment mark 27 are formed by sputtering using a mixed gas of argon and oxygen at a substrate temperature of 230 ° C. A desired pattern was formed by lithography, and unnecessary ITO was etched with aqua regia to form the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23.

次に、上記の第1透明電極22および第2透明電極23を被覆するように、住友化学株式会社製ポジ型感光性材料PFI−27を塗布し、フォトリソグラフィ法により所望の形状の第1絶縁層24および第2絶縁層25を形成した。   Next, a positive photosensitive material PFI-27 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. is applied so as to cover the first transparent electrode 22 and the second transparent electrode 23, and the first insulation having a desired shape is formed by photolithography. Layer 24 and second insulating layer 25 were formed.

次に、上記の第1絶縁層24および第2絶縁層25を形成した面に、基板温度230℃で、アルゴンと酸素の混合ガスを用いたスパッタリング法により、20nm厚さの多結晶ITO薄膜を形成し、フォトリソグラフィ法で所望のパターンを作り、王水で不要ITOをエッチングして連結透明電極26を形成した。   Next, a polycrystalline ITO thin film having a thickness of 20 nm is formed on the surface on which the first insulating layer 24 and the second insulating layer 25 are formed by a sputtering method using a mixed gas of argon and oxygen at a substrate temperature of 230 ° C. Then, a desired pattern was formed by photolithography, and unnecessary ITO was etched with aqua regia to form the connected transparent electrode 26.

次に、透明基板2の反対側の面に、メタルマスク40を用いたスパッタリング法により、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク27の位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域以外の所定の領域に150nm厚さのクロムからなる金属薄膜31aを成膜した。
次に、金属薄膜31aに住友化学株式会社製ポジ型感光性材料PFI−27を塗布し、透明基板2のタッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク27を用いてアライメント露光し、現像、エッチングを行なって、所望の形状の遮光体31を形成した。
続いて、赤色顔料を含んだ着色感光性樹脂を塗布し、アライメント露光、現像、ベークして、赤色の着色体32を形成した。青色、緑色の着色体32も同様に形成した。
Next, a region other than the region on the transparent substrate on the color filter portion side corresponding to the position of the alignment mark 27 formed on the touch panel sensor portion side by sputtering using the metal mask 40 on the opposite surface of the transparent substrate 2. A metal thin film 31a made of chromium having a thickness of 150 nm was formed in a predetermined region.
Next, a positive photosensitive material PFI-27 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. is applied to the metal thin film 31a, alignment exposure is performed using the alignment mark 27 formed on the touch panel sensor portion side of the transparent substrate 2, and development and etching are performed. The light shielding body 31 having a desired shape was formed.
Subsequently, a colored photosensitive resin containing a red pigment was applied, alignment exposure, development, and baking were performed to form a red colored body 32. Blue and green colored bodies 32 were formed in the same manner.

最後に、上記の着色体32を被覆するように、130nm厚さの多結晶ITO薄膜をスパッタリング法により成膜して第3透明電極33を形成し、本発明に係る第1の実施形態のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを得た。   Finally, a 130 nm thick polycrystalline ITO thin film is formed by sputtering so as to cover the colored body 32 to form the third transparent electrode 33, and the touch panel of the first embodiment according to the present invention. A sensor integrated color filter was obtained.

(実施例2)
上述で説明した第2の実施形態の製造方法に従って、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを製造した。
まず、透明基板2として旭硝子株式会社製ANガラスを準備し、その一方の面に実施例1と同様にして、本発明に係るタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタのタッチパネルセンサ部を形成した。
(Example 2)
In accordance with the manufacturing method of the second embodiment described above, the touch panel sensor integrated color filter according to the present invention was manufactured.
First, AN glass manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. was prepared as the transparent substrate 2, and the touch panel sensor portion of the touch panel sensor integrated color filter according to the present invention was formed on one surface in the same manner as in Example 1.

次に、透明基板2の反対側の面に、遮光体31を必要とする領域の幅に規定された開口部を有するダイノズル70を用いたダイコート法により、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク27の位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域以外の所定の領域に2μm厚さのカーボンブラックからなる感光性の樹脂層31bを塗布成膜した。
次に、透明基板2のタッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマーク27を用いてアライメント露光し、現像、ベークを行なって、所望の形状の遮光体31を形成した。
続いて、赤色顔料を含んだ着色感光性樹脂を塗布し、アライメント露光、現像、ベークして、赤色の着色体32を形成した。青色、緑色の着色体32も同様に形成した。
Next, an alignment mark formed on the touch panel sensor unit side by a die coating method using a die nozzle 70 having an opening defined in the width of the region requiring the light shield 31 on the opposite surface of the transparent substrate 2. A photosensitive resin layer 31b made of carbon black having a thickness of 2 μm was applied and formed in a predetermined region other than the region on the transparent substrate on the color filter portion side corresponding to position 27.
Next, alignment exposure was performed using the alignment mark 27 formed on the touch panel sensor portion side of the transparent substrate 2, and development and baking were performed to form a light shielding body 31 having a desired shape.
Subsequently, a colored photosensitive resin containing a red pigment was applied, alignment exposure, development, and baking were performed to form a red colored body 32. Blue and green colored bodies 32 were formed in the same manner.

最後に、上記の着色体32を被覆するように、130nm厚さの多結晶ITO薄膜をスパッタリング法により成膜して第3透明電極33を形成し、本発明に係る第2の実施形態のタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタを得た。   Finally, a polycrystalline ITO thin film having a thickness of 130 nm is formed by sputtering so as to cover the colored body 32 to form the third transparent electrode 33, and the touch panel of the second embodiment according to the present invention. A sensor integrated color filter was obtained.

実施例1、2のいずれの工程においても、タッチパネルセンサ部側に形成されたアライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域は、遮光体によって覆われないようになっており、カラーフィルタ部側から透明基板を通して、タッチパネルセンサ部側の透明基板上に形成されたアライメントマークを容易に識別でき、タッチパネルセンサ部に対して位置精度良く、カラーフィルタ部を製造することができた。   In any of the steps of Examples 1 and 2, the area on the transparent substrate on the color filter portion side corresponding to the position of the alignment mark formed on the touch panel sensor portion side is not covered with the light shielding body. The alignment mark formed on the transparent substrate on the touch panel sensor unit side can be easily identified through the transparent substrate from the color filter unit side, and the color filter unit can be manufactured with high positional accuracy with respect to the touch panel sensor unit. .

1 タッチパネルセンサ一体型カラーフィルタ
2 透明基板
20 タッチパネルセンサ部
21 配線導体
22 第1透明電極
23 第2透明電極
24 第1絶縁層
25 第2絶縁層
26 連結透明電極
27 アライメントマーク
28 有効領域
29 保護膜
30 カラーフィルタ部
31 遮光体
31a 金属薄膜
31b 樹脂層
32 着色体
33 第3透明電極
40 メタルマスク
41 遮蔽部
42 開口部
50 露光装置
51 基板保持手段
52 マスク保持手段
53 アライメント用光源
54 CCDカメラ
55 制御手段
56 移動手段
57 露光光源
60 遮光体用フォトマスク
61 マスク側アライメントマーク
70 ダイノズル
100 タッチパネルセンサ
101 透明基板
102 有効領域
103 X軸透明電極
104 Y軸透明電極
105 配線導体
106 連結透明電極
107 第1絶縁層
108 第2絶縁層
109 アライメントマーク
110 保護膜
200 カラーフィルタ
201 透明基板
202 遮光体
202a 金属薄膜
203 着色体
204 透明電極
205 アライメントマーク

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Touch panel sensor integrated color filter 2 Transparent substrate 20 Touch panel sensor part 21 Wiring conductor 22 1st transparent electrode 23 2nd transparent electrode 24 1st insulating layer 25 2nd insulating layer 26 Connection transparent electrode 27 Alignment mark 28 Effective area 29 Protective film DESCRIPTION OF SYMBOLS 30 Color filter part 31 Light-shielding body 31a Metal thin film 31b Resin layer 32 Colored body 33 3rd transparent electrode 40 Metal mask 41 Shielding part 42 Opening part 50 Exposure apparatus 51 Substrate holding means 52 Mask holding means 53 Light source for alignment 54 CCD camera 55 Control Means 56 Moving means 57 Exposure light source 60 Light shield photomask 61 Mask side alignment mark 70 Die nozzle 100 Touch panel sensor 101 Transparent substrate 102 Effective area 103 X-axis transparent electrode 104 Y-axis transparent electrode 105 Wiring conductor 1 06 Connection transparent electrode 107 1st insulating layer 108 2nd insulating layer 109 Alignment mark 110 Protective film 200 Color filter 201 Transparent substrate 202 Light shielding body 202a Metal thin film 203 Colored body 204 Transparent electrode 205 Alignment mark

Claims (5)

透明基板の一方の主面上に、配線導体を有するタッチパネルセンサ部を形成し、前記透明基板の他方の主面上に、遮光体を有するカラーフィルタ部を形成するタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法において、
前記タッチパネルセンサ部側の透明基板上にアライメントマークを形成し、
その後、前記カラーフィルタ部側の透明基板上に、前記カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜を、前記タッチパネルセンサ部側に形成された前記アライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域を除く領域に形成し、
次いで、前記アライメントマークを用いて、前記透明基板を通して前記カラーフィルタ部側から位置合わせを行って、前記カラーフィルタ部を形成することを特徴とするタッチパネルセンサ一体型カラーフィルタの製造方法。
Manufacture of a touch panel sensor integrated color filter in which a touch panel sensor portion having a wiring conductor is formed on one main surface of a transparent substrate, and a color filter portion having a light blocking body is formed on the other main surface of the transparent substrate. In the method
An alignment mark is formed on the transparent substrate on the touch panel sensor side,
Then, on the transparent substrate on the color filter portion side, a transparent substrate on the color filter portion side corresponding to the position of the alignment mark formed on the touch panel sensor portion side with a film constituting the light shielding body of the color filter portion. Form in the area except the upper area,
Next, the color filter part is formed by performing alignment from the color filter part side through the transparent substrate using the alignment mark, and the method for manufacturing a color filter with an integrated touch panel sensor.
前記アライメントマークが、前記タッチパネルセンサ部を構成する配線導体と同じ材料からなり、前記配線導体を形成する工程で同時に形成されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法。   The touch panel sensor integrated color filter according to claim 1, wherein the alignment mark is made of the same material as a wiring conductor constituting the touch panel sensor unit, and is formed at the same time in the step of forming the wiring conductor. Manufacturing method. 前記カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜が、少なくとも、1種類の金属、金属酸化物、または金属窒化物を真空成膜した薄膜であり、真空成膜する領域をメタルマスクで規定することにより、前記タッチパネルセンサ部側に形成された前記アライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域を除く領域に、前記薄膜を形成することを特徴とする請求項1〜2のいずれかに記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法。   The film constituting the light shielding body of the color filter portion is a thin film in which at least one kind of metal, metal oxide, or metal nitride is vacuum-deposited, and a region to be vacuum-deposited is defined by a metal mask The thin film is formed in a region excluding a region on the transparent substrate on the color filter portion side corresponding to the position of the alignment mark formed on the touch panel sensor portion side. A method for manufacturing a color filter integrated with a touch panel sensor according to claim 1. 前記カラーフィルタ部の遮光体を構成する膜が、少なくとも、遮光性粒子を含有させた樹脂を塗布成膜した薄膜であり、塗布成膜する領域を規定することにより、前記タッチパネルセンサ部側に形成された前記アライメントマークの位置に相当するカラーフィルタ部側の透明基板上の領域を除く領域に、前記薄膜を形成することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法。   The film constituting the light-shielding body of the color filter part is a thin film formed by coating a resin containing at least light-shielding particles, and is formed on the touch panel sensor part side by defining the coating film-forming region. The touch panel sensor integrated type according to any one of claims 1 to 3, wherein the thin film is formed in a region excluding a region on the transparent substrate on the color filter portion side corresponding to the position of the alignment mark. Manufacturing method of color filter. 前記遮光性粒子を含有させた樹脂が、感光性樹脂であることを特徴とする請求項4に記載のタッチパネルセンサ一体型のカラーフィルタの製造方法。

5. The method for manufacturing a color filter integrated with a touch panel sensor according to claim 4, wherein the resin containing the light-shielding particles is a photosensitive resin.

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