JP5409521B2 - Particle beam therapy system - Google Patents

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Description

本発明は陽子線または炭素イオン線等の重イオン線の照射によって、がんなどの腫瘍を治療する粒子線治療装置に関する。   The present invention relates to a particle beam treatment apparatus for treating a tumor such as cancer by irradiation with a heavy ion beam such as a proton beam or a carbon ion beam.

がん治療法の一つとして、患部に陽子あるいは炭素イオン等のイオンビームを照射する粒子線治療が知られている。陽子や炭素イオン等のイオンを高エネルギーで物質に入射すると、飛程の終端で多くのエネルギーを失う。粒子線治療では、この性質を利用し、がん細胞で多くのエネルギーを失うように、イオンビームを患者に照射する。すると、周囲の健康な組織に損傷を与えることなく、がん細胞を破壊できる。粒子線治療ではイオンビームの空間的な広がりとエネルギーを調整し、患部の形状に合わせた線量分布を形成する。   As one of the cancer treatment methods, particle beam therapy is known in which an affected area is irradiated with an ion beam such as protons or carbon ions. When ions such as protons and carbon ions are incident on a material with high energy, a lot of energy is lost at the end of the range. In particle beam therapy, this property is used to irradiate the patient with an ion beam so that cancer cells lose a lot of energy. Then, cancer cells can be destroyed without damaging surrounding healthy tissues. In particle beam therapy, the spatial spread and energy of the ion beam are adjusted to form a dose distribution that matches the shape of the affected area.

粒子線治療に用いる粒子線治療装置は、イオン源、イオン源で発生したイオンを加速する加速器、加速器から出射したイオンビームを輸送するビーム輸送装置、所望の線量分布で患部にビームを照射する照射装置からなる。   The particle beam therapy system used for the particle beam therapy includes an ion source, an accelerator for accelerating ions generated from the ion source, a beam transport device for transporting an ion beam emitted from the accelerator, and an irradiation for irradiating the affected part with a beam with a desired dose distribution. It consists of a device.

粒子線治療装置で用いられる加速器には、シンクロトロンやサイクロトロン等が挙げられる。どちらの加速器も入射したイオンを所定のエネルギーまで加速し、イオンビームとして出射する機能は共通である。   Examples of the accelerator used in the particle beam therapy system include a synchrotron and a cyclotron. Both accelerators share the function of accelerating the incident ions to a predetermined energy and emitting them as ion beams.

加速器から出射されたイオンビームはビーム輸送装置によって照射装置まで輸送される。ビーム輸送装置にはイオンビームの進行方向を大きく変える偏向電磁石と、ビームの進行方向を微調整するステアリング電磁石,イオンビームに収束,発散の作用を与える四極電磁石が備えられており、これらの電磁石の励磁量を適切に調整することで照射装置に適切なサイズ,位置のビームが輸送される。   The ion beam emitted from the accelerator is transported to the irradiation device by the beam transport device. The beam transport device is equipped with a deflection electromagnet that greatly changes the traveling direction of the ion beam, a steering electromagnet that finely adjusts the traveling direction of the beam, and a quadrupole electromagnet that focuses and diverges the ion beam. By appropriately adjusting the amount of excitation, a beam of an appropriate size and position is transported to the irradiation device.

患部に複数方向からビームを照射するために、回転ガントリーに、ビーム輸送装置と照射装置を設置することもある。回転ガントリーを持つ粒子線治療装置のビーム輸送装置は回転ガントリーに設置される回転ビーム輸送装置と、建屋に設置・固定される固定ビーム輸送装置に大別できる。   In order to irradiate the affected part with a beam from a plurality of directions, a beam transport device and an irradiation device may be installed in the rotating gantry. The beam transport device of the particle beam therapy system having a rotating gantry can be roughly divided into a rotating beam transport device installed in the rotating gantry and a fixed beam transport device installed and fixed in the building.

ビーム輸送装置では「Twissパラメータ」と「分散関数」と呼ばれるビームの光学的パラメータを調整する。調整するTwissパラメータは、ビームの進行方向に対して垂直な平面内の互いに直交する二方向に対して、それぞれαとβの二種がある。通常は、水平方向をx、鉛直方向をyとしてαx,βx,αy,βyが調整パラメータとして選ばれる。βはビームの空間的な分布の大きさを表すパラメータであり、αはビームの進行方向に対するβの変化率を表わしている。分散関数はビームを構成する各イオン粒子のエネルギーのバラつきと、位置及び軌道の傾きの相関を示す指標である。通常の輸送系では水平方向の分散関数を調整する。それぞれηx,η′xと表わす。分散関数ηx,η′xはともに0の状態で偏向電磁石を通過すると発生する。また、特定の分散関数の値で偏向電磁石を通過すると、通過後ともに0になる性質がある。また、ηx,η′xがともに0となった状態で四極電磁石とドリフトスペースからなる直線状のビーム輸送装置に入射すると、その直線状ビーム輸送装置の至る所でηx,η′xは0のままである。一般に、照射装置ではビームの空間的広がりを小さくする必要がある。分散関数はその絶対値が大きいほどビームの広がりが大きくなるため、照射装置ではビームサイズを小さくする際には分散関数ηx,η′xを0にしたうえでさらにβを小さくし、αを0にする。また、ビームを損失なく照射点まで輸送するには、ビーム輸送装置内にある偏向電磁石や四極電磁石等の通過時に、その電磁石の磁極ギャップよりもビームサイズを小さくする必要がある。   In the beam transport apparatus, optical parameters of the beam called “Twiss parameter” and “dispersion function” are adjusted. The Twiss parameter to be adjusted has two types of α and β in two directions orthogonal to each other in a plane perpendicular to the traveling direction of the beam. Normally, αx, βx, αy, βy are selected as adjustment parameters, where x is the horizontal direction and y is the vertical direction. β is a parameter representing the size of the spatial distribution of the beam, and α represents the rate of change of β with respect to the beam traveling direction. The dispersion function is an index indicating the correlation between the energy variation of each ion particle constituting the beam and the position and the inclination of the trajectory. In a normal transport system, the horizontal dispersion function is adjusted. These are expressed as ηx and η′x, respectively. The dispersion functions ηx and η′x are generated when they pass through the deflection electromagnet in a state of 0. In addition, when it passes through the bending electromagnet with a specific dispersion function value, it has a property of becoming 0 after the passage. Further, when ηx and η′x are both 0, if they are incident on a linear beam transport device composed of a quadrupole electromagnet and a drift space, ηx and η′x are zero throughout the linear beam transport device. It remains. In general, it is necessary to reduce the spatial spread of the beam in the irradiation apparatus. Since the spread of the beam increases as the absolute value of the dispersion function increases, in the irradiation apparatus, when the beam size is reduced, the dispersion functions ηx and η′x are set to 0, β is further reduced, and α is set to 0. To. Further, in order to transport the beam to the irradiation point without loss, it is necessary to make the beam size smaller than the magnetic pole gap of the electromagnet when passing through the deflecting electromagnet or the quadrupole electromagnet in the beam transport apparatus.

回転ガントリーに照射装置が設置されている場合は、照射方向の変更時に電磁石の再励磁が不要となるように、全ての照射角度で同一の四極電磁石の励磁量でビームを輸送する。より具体的には、回転ガントリーに設置された回転ビーム輸送装置と建屋に固定された固定ビーム輸送装置の境界でビームのTwissパラメータが水平と鉛直で同一の値を持つように四極電磁石を調整している。すると、照射方向によらず、照射点でのTwissパラメータが一定となる。   When the irradiation device is installed in the rotating gantry, the beam is transported with the same excitation amount of the quadrupole electromagnet at all irradiation angles so that the re-excitation of the electromagnet is not required when the irradiation direction is changed. More specifically, the quadrupole electromagnet is adjusted so that the beam's Swiss parameter has the same value in the horizontal and vertical directions at the boundary between the rotating beam transport device installed in the rotating gantry and the fixed beam transport device fixed in the building. ing. Then, the Swiss parameter at the irradiation point becomes constant regardless of the irradiation direction.

さらに、ビーム輸送装置ではビームを照射する位置とビーム軌道の勾配を調整する必要もある。ビーム位置と軌道の勾配はビーム輸送装置内のステアリング電磁石と呼ばれる電磁石で調整する。水平方向の位置をx、軌道勾配をx′、鉛直方向位置をy、軌道勾配をy′と表わす。これら4つのパラメータを調整するために、水平ステアリング電磁石と垂直ステアリング電磁石がそれぞれ2台以上必要である。   Further, in the beam transport device, it is necessary to adjust the beam irradiation position and the beam trajectory gradient. The beam position and the gradient of the trajectory are adjusted by an electromagnet called a steering electromagnet in the beam transport device. The horizontal position is x, the orbital gradient is x ', the vertical position is y, and the orbital gradient is y'. In order to adjust these four parameters, two or more horizontal steering electromagnets and two or more vertical steering electromagnets are required.

また、ビーム輸送装置にはビームの照射制御のために高速キッカが設置されることがある。高速キッカは立ち上がりの早い電磁石が用いられる。高速キッカが磁場を励起すると、キックを受けたビームが軌道を外れ、下流のビームダンパに衝突する。これによってビームの照射と停止の制御を行う。このときは、キッカとダンパの間に、数m程度の距離をとる必要がある。この体系でビームの輸送経路を短くする手法として特許文献1が挙げられる。   In addition, a high-speed kicker may be installed in the beam transport device for beam irradiation control. A high-speed kicker uses an electromagnet that rises quickly. When the high-speed kicker excites the magnetic field, the kicked beam deviates from the trajectory and collides with the downstream beam damper. This controls the beam irradiation and stoppage. In this case, it is necessary to take a distance of about several meters between the kicker and the damper. As a technique for shortening the beam transport path with this system, Patent Document 1 is cited.

照射装置では、患部形状に合わせたイオンビームの照射野を形成する。照射野形成では、患部深さ方向を照射するイオンビームのエネルギーにより制御し、患部形状に合わせたビーム形状をコリメータなどで形成することで実現する。照射装置での照射野形成の方法には、散乱体によって、輸送装置から輸送されたビームを広げる散乱体照射法と、輸送された細いビームを走査電磁石によって患部形状に合わせて走査するスキャニング照射法がある。   In the irradiation apparatus, an ion beam irradiation field is formed in accordance with the shape of the affected part. Irradiation field formation is realized by controlling the ion beam energy in the depth direction of the affected area and forming a beam shape that matches the shape of the affected area with a collimator or the like. The irradiation field formation method in the irradiation device includes a scatterer irradiation method that spreads the beam transported from the transport device by a scatterer, and a scanning irradiation method that scans the transported thin beam according to the shape of the affected area by a scanning magnet. There is.

散乱体照射法では、イオンビームを患部形状に広げる散乱体と、体表面からの患部深さに合わせてイオンビームの飛程を制御する飛程変調手段が照射装置に備えられている。散乱体照射法の一例として、回転型飛程変調装置を用いた方法を説明する。この方法では、照射装置内に、ビームの進行方向と平行な軸を回転軸として回転するプロペラの形状をした飛程変調装置と、密度の異なる金属を同心円状に組み合わせた第二散乱体がビームの経路の上流から設置されている。回転型飛程変調装置は、ビームの照射中に常に回転している。また、回転型飛程変調装置は回転の周方向に対して、厚みが変化している。そのため、回転型飛程変調装置をビームが通過するタイミングによって、ビームが失うエネルギーを制御し、ひいてはイオンビームの飛程を制御できる。この原理を用いて、加速器からのイオンビームの出射タイミングを制御し、照射する患部の形状に合わせたビームエネルギーの分散を形成できる。   In the scatterer irradiation method, the irradiator is provided with a scatterer that spreads the ion beam into the shape of the affected part, and a range modulation unit that controls the range of the ion beam according to the depth of the affected part from the body surface. As an example of the scatterer irradiation method, a method using a rotary range modulator will be described. In this method, a second scatterer that is a concentric combination of a range modulator in the form of a propeller that rotates about an axis parallel to the traveling direction of the beam and a metal having a different density in a concentric circle in the irradiation device. It is installed from the upstream of the route. The rotary range modulator always rotates during beam irradiation. Further, the thickness of the rotary range modulator changes with respect to the circumferential direction of rotation. Therefore, the energy lost by the beam can be controlled according to the timing at which the beam passes through the rotary range modulator, and thus the range of the ion beam can be controlled. By using this principle, it is possible to control the ion beam extraction timing from the accelerator and form a beam energy distribution that matches the shape of the affected area to be irradiated.

スキャニング照射法の一例として、スポットスキャニング照射法の説明をする。スキャニング照射法の照射装置にはビームを走査する走査電磁石が2台備えられている。患部ののみにビームが照射されるように、これらの走査電磁石で照射装置内にビームをビームの進行方向に対して垂直な平面内で走査する。また、患部形状に一致した照射野を形成するために、加速器から出射されるビームのエネルギーを変更するか、あるいはビーム輸送装置に配置されたエネルギー吸収体の厚みを変えることで、照射装置に輸送されるビームのエネルギーを変更する。すると、ビームのエネルギーによってブラッグピークの位置が変わり、患部形状に合わせた照射野を形成できる。これら照射法のより詳細な説明は非特許文献1に詳しい。   The spot scanning irradiation method will be described as an example of the scanning irradiation method. The scanning irradiation method irradiation apparatus is provided with two scanning electromagnets for scanning the beam. With these scanning electromagnets, the beam is scanned in the irradiation device in a plane perpendicular to the traveling direction of the beam so that only the affected part is irradiated with the beam. In addition, in order to form an irradiation field that matches the shape of the affected area, the energy of the beam emitted from the accelerator is changed, or the thickness of the energy absorber disposed in the beam transport device is changed, so that it is transported to the irradiation device. Change the energy of the emitted beam. Then, the position of the Bragg peak changes depending on the energy of the beam, and an irradiation field matching the shape of the affected part can be formed. A more detailed description of these irradiation methods is detailed in Non-Patent Document 1.

特開2009−279045号公報JP 2009-279045 A

Alfred Smith他「The M. D. Anderson proton therapy system」Medical Physics 36(9),2009年9月Alfred Smith et al. "The M. D. Anderson proton therapy system" Medical Physics 36 (9), September 2009

従来の粒子線治療装置でのビーム輸送装置では前述の通り、αx,βx,αy,βy,ηx,η′xの6パラメータが四極電磁石で調整する。また、ビーム位置と軌道勾配x,x′,y,y′の4パラメータをステアリング電磁石によって調整する。よって、ビーム輸送装置には少なくとも1台の偏向電磁石と6台の四極電磁石、水平軌道調整用と鉛直軌道調整用についてそれぞれ2台のステアリング電磁石が必要である。電磁石で各パラメータを限られた励磁電流で調整するには電磁石の下流に続くビーム軌道長を長くとる必要があり、小型のビーム輸送装置を実現するには電磁石電源容量の増強が必須であり、コスト高となっていた。   As described above, in the conventional beam transport device in the particle beam therapy system, the six parameters αx, βx, αy, βy, ηx, and η′x are adjusted by the quadrupole electromagnet. Further, the four parameters of the beam position and the orbital gradient x, x ′, y, y ′ are adjusted by the steering electromagnet. Therefore, the beam transport device requires at least one deflection electromagnet and six quadrupole electromagnets, and two steering electromagnets each for horizontal trajectory adjustment and vertical trajectory adjustment. To adjust each parameter with a limited excitation current with an electromagnet, it is necessary to increase the beam trajectory length downstream of the electromagnet, and to realize a small beam transport device, it is essential to increase the electromagnet power supply capacity, The cost was high.

本発明における粒子線治療装置では固定ビーム輸送装置に1台の偏向電磁石を持ち、その偏向電磁石によって分割された二つの直線部をもつ。この偏向電磁石よりも荷電粒子ビームのビーム進行方向の上流側に位置する第1の直線状ビーム輸送装置には、3台の四極電磁石を配置し、偏向電磁石よりも荷電粒子ビームの進行方向の下流側に位置する第2の直線状ビーム輸送装置には、4台の四極電磁石を配置する。   In the particle beam therapy system according to the present invention, the fixed beam transport device has one deflection electromagnet, and has two linear portions divided by the deflection electromagnet. Three quadrupole electromagnets are arranged in the first linear beam transport device positioned upstream of the deflecting electromagnet in the beam traveling direction of the charged particle beam, and the charged particle beam downstream of the deflecting electromagnet in the traveling direction. Four quadrupole electromagnets are arranged in the second linear beam transport device located on the side.

本発明によれば、従来よりも輸送経路の短いビーム輸送装置を実現することができ、小型の粒子線治療装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the beam transport apparatus with a shorter transport path than before can be implement | achieved, and a small particle beam therapy apparatus can be provided.

本発明の第1の実施形態の粒子線治療装置の全体構成図である。1 is an overall configuration diagram of a particle beam therapy system according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施形態の粒子線治療装置の全体構成図である。It is a whole block diagram of the particle beam therapy apparatus of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態の粒子線治療装置の全体構成図である。It is a whole block diagram of the particle beam therapy apparatus of the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施形態の粒子線治療装置の全体構成図である。It is a whole block diagram of the particle beam therapy apparatus of the 4th Embodiment of this invention.

(第1の実施形態)
以下、図面を参照しつつ本発明の第1の実施形態を説明する。
(First embodiment)
The first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

本発明の第一の実施形態を図1に示す。図1は本実施形態の粒子線治療装置100の全体構成である。粒子線治療装置100は前段加速器200,シンクロトロン300,ビーム輸送装置,回転ガントリー500から構成される。   A first embodiment of the present invention is shown in FIG. FIG. 1 shows the overall configuration of a particle beam therapy system 100 according to this embodiment. The particle beam therapy system 100 includes a front stage accelerator 200, a synchrotron 300, a beam transport device, and a rotating gantry 500.

ビーム輸送装置は、粒子線治療装置100の建屋に固定された固定ビーム輸送装置400と、この固定ビーム輸送装置400に接続されて回転可能な構成を有する回転ビーム輸送装置510を有する。荷電粒子ビーム(以下、ビーム)の進行方向に対して上流側に固定ビーム輸送装置400が位置し、下流側に回転ビーム輸送装置510が位置する。回転ガントリー500には回転ビーム輸送装置510と照射装置520が接続されている。回転ビーム輸送装置510と固定ビーム輸送装置400は接続点530で接続されている。回転ガントリー500は接続点530を中心に固定ビーム輸送装置400の第二直線部420の回転軸の方向540を軸として回転する。回転ガントリー500を回転させることで、照射点550にある患部へのビームの照射方向を調節できる。また、シンクロトロン300,固定ビーム輸送装置400,回転ビーム輸送装置510に設置された各機器には電源600が接続されており、電源600は制御装置700を通して調整者用端末800からの指令に基づき制御される。電源600は、出射用高周波電源610,偏向電磁石電源620,四極電磁石電源630,ステアリング電磁石電源640,高速キッカ電源650,出射用セプタム電磁石660を備える。調整者用端末800からの指令信号に基づいて、制御装置700は、電源600を制御してシンクロトロン300,回転ビーム輸送装置400,回転ビーム輸送装置510を構成する各機器を制御する。   The beam transport device includes a fixed beam transport device 400 fixed to the building of the particle beam therapy system 100 and a rotating beam transport device 510 connected to the fixed beam transport device 400 and configured to be rotatable. A fixed beam transport device 400 is positioned upstream with respect to the traveling direction of a charged particle beam (hereinafter referred to as a beam), and a rotating beam transport device 510 is positioned downstream. A rotating beam transport device 510 and an irradiation device 520 are connected to the rotating gantry 500. The rotating beam transport device 510 and the fixed beam transport device 400 are connected at a connection point 530. The rotating gantry 500 rotates around the connection point 530 around the rotation axis direction 540 of the second linear portion 420 of the fixed beam transport device 400. By rotating the rotating gantry 500, the irradiation direction of the beam to the affected area at the irradiation point 550 can be adjusted. In addition, a power source 600 is connected to each device installed in the synchrotron 300, the fixed beam transport device 400, and the rotating beam transport device 510, and the power source 600 is based on a command from the controller terminal 800 through the control device 700. Be controlled. The power source 600 includes an extraction high-frequency power source 610, a deflecting electromagnet power source 620, a quadrupole electromagnet power source 630, a steering electromagnet power source 640, a high-speed kicker power source 650, and an exit septum electromagnet 660. Based on the command signal from the coordinator terminal 800, the control device 700 controls the power supply 600 to control each device constituting the synchrotron 300, the rotating beam transport device 400, and the rotating beam transport device 510.

本粒子線治療装置では、ライナックである前段加速器200で予備加速したビームをシンクロトロン300で指定したエネルギーまで加速する。加速されたビームは出射用セプタム電磁石310を通して固定ビーム輸送装置400に出射される。固定ビーム輸送装置400によって、ビームは接続点530まで輸送され、その後回転ビーム輸送装置510に入る。最終的にビームは照射装置520を通過し、照射点550に、所望のビームサイズとビーム位置で輸送される。   In the present particle beam therapy system, the beam preliminarily accelerated by the former accelerator 200, which is a linac, is accelerated to the energy specified by the synchrotron 300. The accelerated beam is emitted to the fixed beam transport device 400 through the extraction septum electromagnet 310. The fixed beam transport device 400 transports the beam to the connection point 530 and then enters the rotating beam transport device 510. Finally, the beam passes through the irradiation device 520 and is transported to the irradiation point 550 with a desired beam size and beam position.

シンクロトロン300にはビームの入射時に用いる入射用セプタム電磁石320,ビーム軌道を偏向する偏向電磁石330,ビームを加速する高周波加速空胴340,ビームを安定に周回させるための四極電磁石350,ビームの出射時に安定領域を狭めるために励磁する六極電磁石360、周回するビームを安定領域外に蹴りだす出射用高周波電極370、出射ビームを固定ビーム輸送装置400に導く出射用セプタム電磁石310が設置されている。加速中にビームはシンクロトロン300の内部を周回している。ビームが周回する周波数に一致させた高周波電場が高周波加速空胴340内に励起されている。ビームがシンクロトロン300内部を周回すると高周波電場によって、ビームは加速される。加速中に、ビーム軌道が一定となるように、ビームのエネルギーに合わせてシンクロトロン300の偏向電磁石330の磁場を増加させる。また、ビームが加速するにつれ、シンクロトロン300を周回する時間も短くなるので、高周波加速空胴340内に励起する高周波電場の周波数も上げていく。指定したエネルギーまでビームが加速されると、高周波加速空胴340内に励起する高周波電場の周波数と偏向電磁石330の磁場を一定に保つ。
その状態から、六極電磁石360を励磁し、出射用高周波電極370に高周波電場を励起する。六極電磁石360が励磁されると、ビームを構成する粒子の水平方向の位置と勾配変位によっては、シンクロトロン300内を安定に周回せず、出射用セプタム電磁石310の位置に達する。安定に周回する粒子も、出射用高周波電極370に発生する高周波電場からのキックによって、時間経過とともに水平方向の位置と勾配変位が大きくなり、安定に周回できなくなり、出射用セプタム電磁石310に達する。この方法でシンクロトロン300からビームが取り出すと、電力を供給する出射用高周波電源610のON/OFF制御によってビームの出射と停止を制御できる。
The synchrotron 300 includes an incident septum electromagnet 320 that is used when a beam is incident, a deflection electromagnet 330 that deflects the beam trajectory, a high-frequency acceleration cavity 340 that accelerates the beam, a quadrupole electromagnet 350 that circulates the beam stably, and beam emission. A hexapole electromagnet 360 that is excited to narrow the stable region sometimes, a high-frequency electrode 370 that kicks the circulating beam out of the stable region, and a septum electromagnet 310 that guides the outgoing beam to the fixed beam transport device 400 are installed. . During acceleration, the beam circulates inside the synchrotron 300. A high frequency electric field matched to the frequency that the beam orbits is excited in the high frequency acceleration cavity 340. When the beam goes around the synchrotron 300, the beam is accelerated by the high-frequency electric field. During acceleration, the magnetic field of the deflecting electromagnet 330 of the synchrotron 300 is increased in accordance with the beam energy so that the beam trajectory becomes constant. In addition, as the beam accelerates, the time required to circulate the synchrotron 300 is shortened, so that the frequency of the high-frequency electric field excited in the high-frequency acceleration cavity 340 is increased. When the beam is accelerated to the specified energy, the frequency of the high frequency electric field excited in the high frequency acceleration cavity 340 and the magnetic field of the deflection electromagnet 330 are kept constant.
From this state, the hexapole electromagnet 360 is excited to excite a high frequency electric field on the high frequency electrode 370 for emission. When the hexapole electromagnet 360 is excited, depending on the horizontal position and gradient displacement of the particles constituting the beam, it does not circulate stably within the synchrotron 300 and reaches the position of the exiting septum electromagnet 310. The particles that stably circulate also increase in the horizontal position and gradient displacement over time due to the kick from the high-frequency electric field generated in the extraction high-frequency electrode 370, and cannot stably circulate and reach the extraction septum electromagnet 310. When the beam is extracted from the synchrotron 300 by this method, the emission and stop of the beam can be controlled by ON / OFF control of the high frequency power supply 610 for supplying power.

固定ビーム輸送装置400には偏向電磁石430が1台設置されている。この偏向電磁石430によって、固定ビーム輸送装置400は二つの直線状ビーム輸送装置に分割される。固定ビーム輸送装置400は、偏向電磁石430よりもビーム進行方向の上流側に位置する第1の直線状ビーム輸送装置(第一直線部)410と、偏向電磁石430よりもビーム進行方向の下流側に位置する第2の直線状ビーム輸送装置(第二直線部)420を備える。第一直線部410は、一方が出射用セプタム電磁石310に接続され、他方が第二直線部420に接続される。第二直線部420は、一方が第一直線部410に接続され、他方が回転ビーム輸送装置510に接続される。第一直線部410には3台の四極電磁石441〜443、1台のプロファイルモニタ451、2台のステアリング電磁石461,462,高速キッカ470が配置されている。第一直線部410のビーム軌道上に、ビーム進行方向の上流側から順に、ステアリング電磁石461,四極電磁石441,四極電磁石442,ステアリング電磁石462,高速キッカ電磁石470,四極電磁石443,プロファイルモニタ451が配置される。第二直線部420には4台の四極電磁石444〜447、2台のプロファイルモニタ452,453、1台のステアリング電磁石463が配置されている。第二直線部420のビーム軌道上に、ビーム進行方向の上流側から順に、ステアリング電磁石463,四極電磁石444,四極電磁石445,四極電磁石447,四極電磁石446,プロファイルモニタ453,プロファイルモニタ452が配置される。偏向電磁石430にはダンパ480が設置されており、高速キッカ470によってキックされたビームはダンパ480に衝突し、遮断される。   One fixed electromagnet 430 is installed in the fixed beam transport device 400. By this deflection electromagnet 430, the fixed beam transport device 400 is divided into two linear beam transport devices. The fixed beam transport device 400 includes a first linear beam transport device (first linear portion) 410 positioned upstream of the deflection electromagnet 430 in the beam traveling direction and a downstream position of the deflection electromagnet 430 in the beam traveling direction. A second linear beam transport device (second linear portion) 420 is provided. One of the first straight portions 410 is connected to the outgoing septum electromagnet 310, and the other is connected to the second straight portion 420. One of the second straight portions 420 is connected to the first straight portion 410 and the other is connected to the rotating beam transport device 510. In the first straight portion 410, three quadrupole electromagnets 441 to 443, one profile monitor 451, two steering electromagnets 461, 462, and a high-speed kicker 470 are arranged. A steering electromagnet 461, a quadrupole electromagnet 441, a quadrupole electromagnet 442, a steering electromagnet 462, a high-speed kicker electromagnet 470, a quadrupole electromagnet 443, and a profile monitor 451 are arranged on the beam trajectory of the first straight portion 410 in order from the upstream side in the beam traveling direction. The In the second linear portion 420, four quadrupole electromagnets 444 to 447, two profile monitors 452, 453, and one steering electromagnet 463 are arranged. A steering electromagnet 463, a quadrupole electromagnet 444, a quadrupole electromagnet 445, a quadrupole electromagnet 447, a quadrupole electromagnet 446, a profile monitor 453, and a profile monitor 452 are arranged on the beam trajectory of the second linear portion 420 in order from the upstream side in the beam traveling direction. The The deflection electromagnet 430 is provided with a damper 480, and the beam kicked by the high speed kicker 470 collides with the damper 480 and is blocked.

偏向電磁石430は偏向電磁石電源620から電流を供給される。同様に各四極電磁石441〜447,ステアリング電磁石461〜463,高速キッカ470はそれぞれ四極電磁石電源630,ステアリング電磁石電源640,高速キッカ電源650から電流を供給される。これらの電源610,620,630,640は制御装置700によって出力電流を制御される。それぞれの電磁石の励磁電流は調整者用端末800を通した調整者の指示によって個別に設定できる。   The deflection electromagnet 430 is supplied with a current from the deflection electromagnet power source 620. Similarly, each of the quadrupole electromagnets 441 to 447, the steering electromagnets 461 to 463, and the high speed kicker 470 are supplied with current from the quadrupole electromagnet power source 630, the steering electromagnet power source 640, and the high speed kicker power source 650, respectively. These power supplies 610, 620, 630, and 640 are controlled in output current by the control device 700. The exciting currents of the respective electromagnets can be individually set according to the instructions of the adjuster through the adjuster terminal 800.

プロファイルモニタ451〜453はマルチワイヤドリフトチェンバーを用いたビームの位置とビームのサイズを測定する荷電粒子ビーム計測装置である。プロファイルモニタ451〜453は通過するビームの水平方向と垂直方向の分布を測定できる。プロファイルモニタ451〜453の出力信号はプロファイルモニタ信号処理装置710によって処理され、ビームサイズとビームの位置が計算される。その後、制御装置700を通して調整者用端末800にビームサイズとビーム位置の結果を表示する。   The profile monitors 451 to 453 are charged particle beam measuring apparatuses that measure the beam position and beam size using a multi-wire drift chamber. The profile monitors 451 to 453 can measure the horizontal and vertical distributions of the beams passing therethrough. The output signals of the profile monitors 451 to 453 are processed by the profile monitor signal processing device 710, and the beam size and beam position are calculated. Thereafter, the beam size and beam position results are displayed on the adjuster terminal 800 through the control device 700.

ステアリング電磁石461〜463は鉛直方向と水平方向に独立に磁場を励起することができる。そのため各電磁石1台で水平方向と鉛直方向に独立にビームを偏向できる。   The steering electromagnets 461 to 463 can excite a magnetic field independently in the vertical direction and the horizontal direction. Therefore, it is possible to deflect the beam independently in the horizontal and vertical directions with one electromagnet.

回転ビーム輸送装置510には偏向電磁石3台と四極電磁石6台が設置されており、各電磁石は固定ビーム輸送装置400に設置された電磁石と同様に電源(図示せず)から励磁電流を供給される。また、回転ビーム輸送装置510にはプロファイルモニタ(図示せず)が設置されており、固定ビーム輸送装置400のプロファイルモニタ451〜453同様、ビームサイズを測定できる。   The rotating beam transport device 510 is provided with three deflection electromagnets and six quadrupole electromagnets, and each electromagnet is supplied with an excitation current from a power source (not shown) in the same manner as the electromagnets installed in the fixed beam transport device 400. The Further, a profile monitor (not shown) is installed in the rotating beam transport apparatus 510, and the beam size can be measured like the profile monitors 451 to 453 of the fixed beam transport apparatus 400.

本実施例の照射装置520は、スキャニング照射法に対応した照射装置であり、ビームを走査するためのスキャニング電磁石(図示せず)とプロファイルモニタ(図示せず)が設置されている。次に、固定ビーム輸送装置400に設置された四極電磁石441〜447とステアリング電磁石461〜463の励磁量の調整手法を説明する。   The irradiation apparatus 520 of the present embodiment is an irradiation apparatus corresponding to the scanning irradiation method, and is provided with a scanning electromagnet (not shown) and a profile monitor (not shown) for scanning the beam. Next, a method for adjusting the excitation amounts of the quadrupole electromagnets 441 to 447 and the steering electromagnets 461 to 463 installed in the fixed beam transport apparatus 400 will be described.

固定ビーム輸送装置400の調整によって、接続点530においてビームの進行方向を回転ガントリー500の回転軸に一致させ、かつビームのTwissパラメータをそれぞれ予め定めた目標値(例えばαx=αy=0,βx=βy=6m)に一致させる。   By adjusting the fixed beam transport device 400, the traveling direction of the beam coincides with the rotational axis of the rotating gantry 500 at the connection point 530, and the beam's Twis parameter is set to a predetermined target value (for example, αx = αy = 0, βx = βy = 6 m).

まず、出射用セプタム電磁石310から出射されるビームのパラメータを測定する。TwissパラメータとエミッタンスはQスキャン法と呼ばれる手法で測定する。第一直線部410のステアリング電磁石461,462の励磁量を調整し、ビームの中心軌道が偏向電磁石430の設計軌道と一致させる。次に、四極電磁石441〜443を所定の励磁量の範囲で変化させ、プロファイルモニタ451でのビームサイズ変化を測定する。各四極電磁石441〜443の励磁量とプロファイルモニタ451でのビームサイズの振る舞いから、出射用セプタム電磁石310でのTwissパラメータとエミッタンスを測定できる。分散関数の測定はシンクロトロン300から出射されるビームのエネルギーを微小に変化させ、そのエネルギー変化に応じたプロファイルモニタ451での位置の変化から測定できる。ここでも、第一直線部410の各四極電磁石441〜443の励磁量を所定の範囲で変化させ、プロファイルモニタでのビーム位置を測定する。そのエネルギー変化に伴う位置の変化の振る舞いから、出射用セプタム電磁石310での分散関数を求めることができる。   First, the parameters of the beam emitted from the emission septum electromagnet 310 are measured. The Twiss parameter and emittance are measured by a technique called the Q-scan method. The amount of excitation of the steering electromagnets 461 and 462 of the first linear portion 410 is adjusted so that the center trajectory of the beam matches the design trajectory of the deflection electromagnet 430. Next, the quadrupole electromagnets 441 to 443 are changed within a predetermined excitation amount range, and the beam size change in the profile monitor 451 is measured. From the amount of excitation of each of the quadrupole electromagnets 441 to 443 and the behavior of the beam size in the profile monitor 451, the Twiss parameter and emittance in the extraction septum electromagnet 310 can be measured. The dispersion function can be measured by changing the energy of the beam emitted from the synchrotron 300 minutely and changing the position on the profile monitor 451 according to the energy change. Also here, the amount of excitation of each of the quadrupole electromagnets 441 to 443 of the first linear portion 410 is changed within a predetermined range, and the beam position on the profile monitor is measured. From the behavior of the position change accompanying the energy change, the dispersion function in the extraction septum electromagnet 310 can be obtained.

以上の測定から偏向電磁石430の出口、すなわち第二直線部420において分散関ηx,η′xをともに0にし、かつ偏向電磁石430をビームの損失なく通過できる四極電磁石の励磁量を求めることができる。さらに、固定ビーム輸送装置400のステアリング電磁石462,463で第二直線部420に設置された2台のプロファイルモニタ452,453の測定結果から回転ガントリー500の回転軸の方向540とビームの進行方向が一致させる。また、Twissパラメータの測定結果から、接続点530でのTwissパラメータを目標値に一致させる第二直線部420の四極電磁石444〜447の励磁量を求めることができる。以上の手順によって、固定ビーム輸送装置400の四極電磁石441〜447とステアリング電磁石461〜463の調整が完了する。 From the above measurement, it is possible to determine the amount of excitation of the quadrupole electromagnet that can set the dispersion functions ηx and η′x to 0 at the exit of the deflection electromagnet 430, that is, the second linear portion 420, and can pass through the deflection electromagnet 430 without loss of beam. . Further, from the measurement results of the two profile monitors 452 and 453 installed in the second linear portion 420 by the steering electromagnets 462 and 463 of the fixed beam transport apparatus 400, the direction 540 of the rotation axis of the rotating gantry 500 and the traveling direction of the beam are determined. Match. In addition, the amount of excitation of the quadrupole electromagnets 444 to 447 of the second linear portion 420 that matches the Swiss parameter at the connection point 530 with the target value can be obtained from the measurement result of the Twiss parameter. The adjustment of the quadrupole electromagnets 441 to 447 and the steering electromagnets 461 to 463 of the fixed beam transport apparatus 400 is completed by the above procedure.

本実施形態のビーム輸送装置ではステアリング電磁石462および463の間には四極電磁石443と偏向電磁石430が配置されている。四極電磁石443はビームに対し水平方向に発散、鉛直方向に収束の作用をする電磁石であり、偏向電磁石430はその磁極端面がビームの進行方向に対して垂直から一定の角度をつけられている。すると、偏向電磁石430はビームの水平方向に対して収束・発散の作用をせず、鉛直方向に対して収束作用を与える。ステアリング電磁石462と463の間に収束・発散の作用がある機器を本実施形態のように配置し、ステアリング電磁石463以降の四極電磁石の配置を本実施形態で示した配置にすることで、ステアリング電磁石462および463の単位偏向量あたりの接続点530での軌道変位と勾配変位で作るベクトルが互いに直交する。これにより、補正できる軌道ずれの範囲を広くとることができる。すなわち、本実施形態で示したような短いビーム輸送装置少ない電流値でビーム位置の調整が可能とすることができる。   In the beam transport apparatus of this embodiment, a quadrupole electromagnet 443 and a deflection electromagnet 430 are disposed between the steering electromagnets 462 and 463. The quadrupole electromagnet 443 is an electromagnet that diverges in the horizontal direction and converges in the vertical direction with respect to the beam. The deflecting electromagnet 430 has a magnetic pole end face at a certain angle from the perpendicular to the beam traveling direction. Then, the deflecting electromagnet 430 does not converge or diverge in the horizontal direction of the beam, but provides a convergence effect in the vertical direction. A device having a convergence / divergence action is arranged between the steering electromagnets 462 and 463 as in the present embodiment, and the arrangement of the quadrupole electromagnets after the steering electromagnet 463 is set to the arrangement shown in the present embodiment. The vectors formed by the orbital displacement and the gradient displacement at the connection point 530 per unit deflection amount of 462 and 463 are orthogonal to each other. As a result, the range of trajectory deviation that can be corrected can be widened. That is, the short beam transport device as shown in the present embodiment can adjust the beam position with a small current value.

回転ビーム輸送装置510には偏向電磁石3台と四極電磁石6台が設置されており、回転ビーム輸送装置510中の四極電磁石の励磁量を適切に定めることで照射点550でのαx,αyをともに0にし、分散関数ηx,η′xも0とし、βx,βyを所定の値にすることができる。接続点530でTwissパラメータとビーム軌道を調整できれば、照射点550でのビームのTwissパラメータと分散関数は回転ガントリー500の回転角に依らず一定とでき、患部への照射方向を変えてビームを照射する際も固定ビーム輸送装置400の四極電磁石441〜447と回転ビーム輸送装置510の四極電磁石560の励磁量を変化させずに、同じビーム条件で患部に照射することができる。   The rotating beam transport device 510 is provided with three deflecting electromagnets and six quadrupole electromagnets. By appropriately determining the amount of excitation of the quadrupole electromagnet in the rotating beam transport device 510, both αx and αy at the irradiation point 550 are obtained. The dispersion functions ηx and η′x can be set to 0, and βx and βy can be set to predetermined values. If the Twiss parameter and beam trajectory can be adjusted at the connection point 530, the Twiss parameter and dispersion function of the beam at the irradiation point 550 can be made constant regardless of the rotation angle of the rotating gantry 500, and the beam is irradiated by changing the irradiation direction to the affected area. In this case, it is possible to irradiate the affected area under the same beam conditions without changing the excitation amounts of the quadrupole electromagnets 441 to 447 of the fixed beam transport device 400 and the quadrupole electromagnet 560 of the rotating beam transport device 510.

これにより、複数方向から患部に照射する際に、照射方向の切り替え時間を短く保ったまま、より設置面積の小さい粒子線治療装置が実現できる。   Thereby, when irradiating the affected part from a plurality of directions, a particle beam therapy system with a smaller installation area can be realized while keeping the irradiation direction switching time short.

(第2の実施形態)
以下、図面を参照しつつ本発明の第2の実施形態を説明する。ここでは第1の実施形態と異なる箇所のみ説明する。図2は本実施形態の粒子線治療装置100の全体構成である。第2の実施形態では第1の実施形態におけるビーム輸送装置の下流の第二直線部420にステアリング電磁石464が設置されている。本実施例の第二直線部420には、ビーム軌道に沿ってビーム進行方向の上流側から順に、ステアリング電磁石463,四極電磁石444,四極電磁石445,ステアリング電磁石464,四極電磁石447,四極電磁石446,プロファイルモニタ453,プロファイルモニタ452が配置される。本実施例のステアリング電磁石464は、四極電磁石445と四極電磁石446の間に配置される。
(Second Embodiment)
Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Here, only different points from the first embodiment will be described. FIG. 2 shows the overall configuration of the particle beam therapy system 100 of this embodiment. In the second embodiment, a steering electromagnet 464 is installed in the second linear portion 420 downstream of the beam transport device in the first embodiment. In the second linear portion 420 of this embodiment, a steering electromagnet 463, a quadrupole electromagnet 444, a quadrupole electromagnet 445, a steering electromagnet 464, a quadrupole electromagnet 447, and a quadrupole electromagnet 446 are sequentially arranged from the upstream side in the beam traveling direction along the beam trajectory. A profile monitor 453 and a profile monitor 452 are arranged. The steering electromagnet 464 of this embodiment is disposed between the quadrupole electromagnet 445 and the quadrupole electromagnet 446.

本実施形態では接続点530でのビーム軌道の調整はステアリング電磁石462〜464で実施する。ステアリング電磁石462と463の間には2台の四極電磁石444と445が設置されており、第1の実施形態で説明したような、ステアリング電磁石での単位偏向量当たりに接続点530で生じるビーム位置変位と勾配変位からなるベクトルがほぼ直交する関係となっている。さらに、ステアリング電磁石462とステアリング電磁石463の間には第1の実施例と同様四極電磁石と偏向電磁石があるため、四極電磁石の励磁量によっては、ステアリング電磁石462もビーム軌道の調整に加えることでさらに調整可能なビーム軌道変位を広げることができる。   In this embodiment, adjustment of the beam trajectory at the connection point 530 is performed by the steering electromagnets 462 to 464. Two quadrupole electromagnets 444 and 445 are installed between the steering electromagnets 462 and 463, and the beam position generated at the connection point 530 per unit deflection amount in the steering electromagnet as described in the first embodiment. A vector composed of displacement and gradient displacement is in a substantially orthogonal relationship. Furthermore, since there are a quadrupole electromagnet and a deflection electromagnet between the steering electromagnet 462 and the steering electromagnet 463, the steering electromagnet 462 can be further added to the adjustment of the beam trajectory depending on the amount of excitation of the quadrupole electromagnet. Adjustable beam trajectory displacement can be widened.

(第3の実施形態)
以下、図面を参照しつつ本発明の第3の実施形態を説明する。ここでは第2の実施形態と異なる箇所のみ説明する。図3は本実施形態の粒子線治療装置100の全体構成である。第2の実施形態での機器配置と比べ四極電磁石447とステアリング電磁石464の位置が交換されている。つまり、本実施例の第二直線部420には、ビーム軌道に沿ってビーム進行方向の上流側から順に、ステアリング電磁石463,四極電磁石444,四極電磁石445,四極電磁石447,ステアリング電磁石464,四極電磁石446,プロファイルモニタ453,プロファイルモニタ452が配置される。この配置でも、第1の実施例と第2の実施例で述べた効果が得られ、少ないステアリング電磁石励磁量で広い範囲でのビーム軌道調整が可能となる。
(Third embodiment)
The third embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Here, only a different part from 2nd Embodiment is demonstrated. FIG. 3 shows the overall configuration of the particle beam therapy system 100 of this embodiment. Compared to the device arrangement in the second embodiment, the positions of the quadrupole electromagnet 447 and the steering electromagnet 464 are exchanged. That is, the second linear portion 420 of this embodiment includes a steering electromagnet 463, a quadrupole electromagnet 444, a quadrupole electromagnet 447, a quadrupole electromagnet 447, a steering electromagnet 464, and a quadrupole electromagnet in order from the upstream in the beam traveling direction along the beam trajectory. 446, a profile monitor 453, and a profile monitor 452 are arranged. Even with this arrangement, the effects described in the first and second embodiments can be obtained, and the beam trajectory can be adjusted in a wide range with a small amount of steering magnet excitation.

(第4の実施形態)
以下、図面を参照しつつ本発明の第4の実施形態を説明する。ここでは第1の実施形態と異なる箇所のみ説明する。本発明の第4の実施形態を図4に示す。図4は本実施形態の粒子線治療装置の機器構成である。本装置は前段加速器200,シンクロトロン300,固定ビーム輸送装置400,二つの回転ガントリー501〜502から構成される。回転ガントリー501及び502にはそれぞれ、ビームを照射対象に照射する照射装置が備えられる。
(Fourth embodiment)
The fourth embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Here, only different points from the first embodiment will be described. A fourth embodiment of the present invention is shown in FIG. FIG. 4 shows the configuration of the particle beam therapy system according to this embodiment. This apparatus includes a front stage accelerator 200, a synchrotron 300, a fixed beam transport apparatus 400, and two rotating gantry 501 to 502. Each of the rotating gantry 501 and 502 is provided with an irradiation device for irradiating an irradiation target with a beam.

固定ビーム輸送装置400には、選択されたいずれか一つの照射装置にビームを輸送するための偏向電磁石(コース切替電磁石)431,432が設置されている。この偏向電磁石431,432によって、固定ビーム輸送装置400は四つの第一直線部411,第二直線部412,第三直線部421,第四直線部422に分割されている。偏向電磁石431が、出射用セプタム電磁石310に最も近く、ビーム進行方向の最も上流側に配置されるコース切替電磁石である。第一直線部411が、この偏向電磁石431と出射用セプタム電磁石310の間に位置する第1の直線状ビーム輸送装置である。一方が回転ビーム輸送装置531に接続されて他方が偏向電磁石431に接続される第三直線部421、及び一方が回転輸送装置532に接続されて他方が偏向電磁石432に接続される第四直線部422が第2の直線状ビーム輸送装置である。   The fixed beam transport apparatus 400 is provided with deflection electromagnets (course switching electromagnets) 431 and 432 for transporting the beam to any one of the selected irradiation apparatuses. By the deflection electromagnets 431 and 432, the fixed beam transport apparatus 400 is divided into four first straight portions 411, second straight portions 412, third straight portions 421, and fourth straight portions 422. The deflection electromagnet 431 is a course switching electromagnet that is closest to the emission septum electromagnet 310 and is arranged on the most upstream side in the beam traveling direction. The first linear portion 411 is a first linear beam transport device positioned between the deflection electromagnet 431 and the emission septum electromagnet 310. A third linear portion 421, one connected to the rotating beam transport device 531 and the other connected to the deflecting electromagnet 431, and a fourth straight portion connected to the rotating transport device 532 and one connected to the deflecting electromagnet 432 Reference numeral 422 denotes a second linear beam transport device.

偏向電磁石431,432の励磁状態によってビームが輸送される照射装置が異なる。偏向電磁石431が励磁されている場合は、偏向電磁石431でビームは偏向されて第三直線部421を通過して照射点551へ輸送される。一方、偏向電磁石431が励磁されていない場合は、ビームは第二直線部412へ輸送される。この場合、偏向電磁石432が励磁されており、第二直線部412に輸送されたビームは、この偏向電磁石432で偏向され第四直線部422を通過して照射点552へ輸送される。   The irradiation device to which the beam is transported differs depending on the excitation state of the deflection electromagnets 431 and 432. When the deflection electromagnet 431 is excited, the beam is deflected by the deflection electromagnet 431, passes through the third linear portion 421, and is transported to the irradiation point 551. On the other hand, when the deflection electromagnet 431 is not excited, the beam is transported to the second linear portion 412. In this case, the deflection electromagnet 432 is excited, and the beam transported to the second linear portion 412 is deflected by the deflection electromagnet 432, passes through the fourth linear portion 422, and is transported to the irradiation point 552.

第一の直線部411には3台の四極電磁石440,1台のプロファイルモニタ450、2台のステアリング電磁石460,高速キッカ470が配置されている。第二の直線部412には3台の四極電磁石440,1台のプロファイルモニタ450,2台のステアリング電磁石460が配置されている。第三の直線部421と第四の直線部422の機器配置は同一であり、それぞれ4台の四極電磁石440,2台のプロファイルモニタ450,2台のステアリング電磁石460が配置されている。   In the first linear portion 411, three quadrupole electromagnets 440, one profile monitor 450, two steering electromagnets 460, and a high speed kicker 470 are arranged. Three quadrupole electromagnets 440, one profile monitor 450, and two steering electromagnets 460 are arranged on the second linear portion 412. The equipment arrangement of the third linear part 421 and the fourth linear part 422 is the same, and four quadrupole electromagnets 440, two profile monitors 450, and two steering electromagnets 460 are arranged, respectively.

第1の実施形態と同様の手法により、固定ビーム輸送装置400の四極電磁石440とステアリング電磁石460の調整によって、接続点531,532においてビームの進行方向を回転ガントリー501,502の回転軸541,542に一致させ、分散関数ηx,η′xを0にし、かつビームのTwissパラメータをそれぞれ予め定めた目標値(例えばαx=αy=0,βx=βy=6m)に一致させる。この調整により回転ガントリー501,502の回転角に依らず、ビームパラメータが不変となる。   By adjusting the quadrupole electromagnet 440 and the steering electromagnet 460 of the fixed beam transport apparatus 400 in the same manner as in the first embodiment, the beam traveling direction is changed at the connection points 531 and 532 to the rotating shafts 541 and 542 of the rotating gantry 501 and 502. And the dispersion functions ηx and η′x are set to 0, and the Twiss parameters of the beam are set to predetermined target values (for example, αx = αy = 0, βx = βy = 6 m). This adjustment makes the beam parameter unchanged regardless of the rotation angle of the rotating gantry 501 and 502.

これにより、設置面積の小さい粒子線治療装置が実現できる。   Thereby, a particle beam therapy system having a small installation area can be realized.

100 粒子線治療装置
200 前段加速器
300 シンクロトロン
310 出射用セプタム電磁石
320 入射用セプタム電磁石
330,430〜432 偏向電磁石
340 高周波加速空胴
350,440〜447,560 四極電磁石
360 六極電磁石
370 出射用高周波電極
400 固定ビーム輸送装置
410,411 第一直線部
412,420 第二直線部
421 第三直線部
422 第四直線部
450〜453 プロファイルモニタ
460〜464 ステアリング電磁石
470 高速キッカ
480 ダンパ
500〜502 回転ガントリー
510 回転ビーム輸送装置
520 照射装置
530〜532 接続点
540〜542 回転軸
550〜552 照射点
600 電源
610 出射用高周波電源
620 偏向電磁石電源
630 四極電磁石電源
640 ステアリング電磁石電源
650 高速キッカ電源
700 制御装置
710 プロファイルモニタ信号処理装置
800 調整者用端末
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Particle beam therapy apparatus 200 Previous stage accelerator 300 Synchrotron 310 Outgoing septum electromagnet 320 Incident septum electromagnet 330, 430-432 Deflection electromagnet 340 High frequency acceleration cavity 350, 440-447, 560 Quadrupole electromagnet 360 Hexapole electromagnet 370 Outgoing high frequency Electrode 400 Fixed beam transport device 410, 411 First straight line part 412, 420 Second straight line part 421 Third straight line part 422 Fourth straight line part 450-453 Profile monitor 460-464 Steering electromagnet 470 High-speed kicker 480 Damper 500-502 Rotating gantry 510 Rotating beam transport device 520 Irradiation device 530-532 Connection point 540-542 Rotating shaft 550-552 Irradiation point 600 Power source 610 Ejecting high frequency power source 620 Deflection electromagnet power source 630 Quadrupole electromagnet power source 640 Steering Grayed magnet power supply 650 fast kicker power 700 controller 710 profile monitor signal processing device 800 coordinator terminal

Claims (18)

荷電粒子ビームを加速する加速器と、
前記荷電粒子ビームを照射対象に出射する照射装置と、
前記加速器から出射された前記荷電粒子ビームを前記照射装置まで輸送するビーム輸送装置を備え、
前記加速器は前記荷電粒子ビームを取り出す際に前記荷電粒子ビームを前記ビーム輸送装置に導く出射用ビーム偏向装置を備え、
前記ビーム輸送装置は建屋に対して固定された固定ビーム輸送装置と、前記固定ビーム輸送装置に接続され、前記荷電粒子ビームを照射する照射方向に応じて回転する回転ビーム輸送装置を有し、
前記固定ビーム輸送装置は前記荷電粒子ビームを偏向する偏向電磁石と、前記偏向電磁石よりもビーム進行方向の上流側に位置する第1の直線状ビーム輸送装置に配置される3台の四極電磁石と、前記偏向電磁石よりも前記ビーム進行方向の下流側に位置する第2の直線状ビーム輸送装置に配置される4台の四極電磁石を備え、
前記第1の直線状ビーム輸送装置に配置される3台の四極電磁石と前記偏向電磁石とを励磁することによって、前記第2の直線状ビーム輸送装置での前記荷電粒子ビームの分散関数を0とし、
前記第2の直線状ビーム輸送装置に配置される4台の四極電磁石を励磁することによって、前記固定ビーム輸送装置と前記回転ビーム輸送装置との接続点での前記荷電粒子ビームのTwissパラメータを目標値に一致させること、
を特徴とする粒子線治療装置。
An accelerator to accelerate the charged particle beam;
An irradiation device for emitting the charged particle beam to an irradiation target;
A beam transport device that transports the charged particle beam emitted from the accelerator to the irradiation device;
The accelerator includes an exit beam deflecting device that guides the charged particle beam to the beam transport device when taking out the charged particle beam,
The beam transport device includes a fixed beam transport device fixed to a building, and a rotating beam transport device that is connected to the fixed beam transport device and rotates in accordance with an irradiation direction for irradiating the charged particle beam,
The fixed beam transport device includes a deflection electromagnet for deflecting the charged particle beam, three quadrupole electromagnets disposed in a first linear beam transport device positioned upstream of the deflection electromagnet in the beam traveling direction, Comprising four quadrupole electromagnets arranged in a second linear beam transport device located downstream of the deflection electromagnet in the beam traveling direction;
By exciting three quadrupole electromagnets arranged in the first linear beam transport device and the deflection electromagnet, the dispersion function of the charged particle beam in the second linear beam transport device is set to zero. ,
By exciting four quadrupole magnets arranged in the second linear beam transport device, the Twisted parameter of the charged particle beam at the connection point between the fixed beam transport device and the rotating beam transport device is targeted. To match the value,
A particle beam therapy system.
請求項1に記載の粒子線治療装置において、
当該第1の直線状ビーム輸送装置は前記加速器の前記出射用ビーム偏向装置に接続され、
当該第2の直線状ビーム輸送装置は前記回転ビーム輸送装置に接続され、
当該第1及び第2の直線状ビーム輸送装置は、前記荷電粒子ビームの位置と広がりを計測する荷電粒子ビーム計測装置を備えることを特徴とする粒子線治療装置。
The particle beam therapy system according to claim 1, wherein
The first linear beam transport device is connected to the exit beam deflection device of the accelerator;
The second linear beam transport device is connected to the rotating beam transport device;
The first and second linear beam transport apparatuses each include a charged particle beam measuring apparatus that measures the position and spread of the charged particle beam.
請求項2に記載の粒子線治療装置において、
前記第1の直線状ビーム輸送装置に配置される前記3台の四極電磁石のうち2台の四極電磁石は極性が互いに異なる四極電磁石であり、
前記第2の直線状ビーム輸送装置に配置される前記4台の四極電磁石のうち少なくとも2台の四極電磁石は極性が互いに異なる四極電磁石であることを特徴とする粒子線治療装置。
The particle beam therapy system according to claim 2, wherein
Of the three quadrupole electromagnets arranged in the first linear beam transport device, two quadrupole electromagnets are quadrupole electromagnets having different polarities,
The particle beam therapy system characterized in that at least two of the four quadrupole electromagnets arranged in the second linear beam transport device are quadrupole electromagnets having different polarities.
請求項3に記載の粒子線治療装置において、
前記第1の直線状ビーム輸送装置には、2台の前記四極電磁石の下流側に少なくとも1台の前記荷電粒子ビーム計測装置を備えることを特徴とする粒子線治療装置。
In the particle beam therapy system according to claim 3,
The first linear beam transport device includes at least one charged particle beam measurement device on the downstream side of the two quadrupole electromagnets.
請求項3に記載の粒子線治療装置において、
前記第2の直線状ビーム輸送装置には、2台の前記四極電磁石の下流側に少なくとも2台の前記荷電粒子ビーム計測装置を備えることを特徴とする粒子線治療装置。
In the particle beam therapy system according to claim 3,
The second linear beam transport device includes at least two charged particle beam measuring devices on the downstream side of the two quadrupole electromagnets.
請求項4に記載の粒子線治療装置において、
前記第2の直線状ビーム輸送装置には、2台の前記四極電磁石の下流側に少なくとも2台の前記荷電粒子ビーム計測装置を備えることを特徴とする粒子線治療装置。
The particle beam therapy system according to claim 4, wherein
The second linear beam transport device includes at least two charged particle beam measuring devices on the downstream side of the two quadrupole electromagnets.
請求項5に記載の粒子線治療装置において、
前記固定ビーム輸送装置には、ビーム軌道を調整するためのビーム軌道補正用電磁石を少なくとも2台備えることを特徴とする粒子線治療装置。
The particle beam therapy system according to claim 5, wherein
The fixed beam transport apparatus includes at least two beam trajectory correcting electromagnets for adjusting a beam trajectory.
請求項7に記載の粒子線治療装置において、
前記第2の直線状ビーム輸送装置には、ビーム軌道補正用電磁石を少なくとも1台備え、
当該ビーム軌道補正用電磁石は前記下流の直線状ビーム輸送装置が備える少なくとも2台の前記荷電粒子ビーム計測装置の上流に備えることを特徴とする粒子線治療装置。
In the particle beam therapy system according to claim 7,
The second linear beam transport device includes at least one beam trajectory correcting electromagnet,
The beam trajectory correcting electromagnet is provided upstream of at least two charged particle beam measuring devices provided in the downstream linear beam transport device.
請求項8に記載の粒子線治療装置において、
前記第2の直線状ビーム輸送装置に2台の前記ビーム軌道補正用電磁石を備えていることを特徴とする粒子線治療装置。
The particle beam therapy system according to claim 8, wherein
A particle beam therapy system characterized in that the second linear beam transport device includes two beam trajectory correcting electromagnets.
荷電粒子ビームを加速する加速器と、
前記荷電粒子ビームを照射対象に出射する複数の照射装置と、
前記加速器から出射された前記荷電粒子ビームをいずれか一つの前記照射装置まで輸送するビーム輸送装置を備え、
前記加速器は前記荷電粒子ビームを取り出す際に、前記荷電粒子ビームを前記ビーム輸送装置に導く出射用ビーム偏向装置を備え、
前記ビーム輸送装置は建屋に対して固定された固定ビーム輸送装置と、前記荷電粒子ビームを照射する照射方向に応じて回転する複数の回転ビーム輸送装置を有し、
前記固定ビーム輸送装置は、選択されたいずれか一つの前記照射装置に前記荷電粒子ビームを輸送するための複数のコース切替電磁石と、最も上流側に位置する前記コース切替電磁石と前記出射用ビーム偏向装置の間に形成される第1の直線状ビーム輸送装置と、前記第1の直線状ビーム輸送装置よりもビーム進行方向の下流側に形成され、いずれか一つの前記回転ビーム輸送装置に接続される第2の直線状ビーム輸送装置を有し、
前記第1の直線ビーム輸送装置は3台の四極電磁石を有し、
前記第2の直線ビーム輸送装置は4台の四極電磁石を有し、
前記第1の直線状ビーム輸送装置に配置される3台の四極電磁石と前記コース切替電磁石とを励磁することによって、前記第2の直線状ビーム輸送装置での前記荷電粒子ビームの分散関数を0とし、
前記第2の直線状ビーム輸送装置に配置される4台の四極電磁石を励磁することによって、前記固定ビーム輸送装置と前記回転ビーム輸送装置との接続点での前記荷電粒子ビームのTwissパラメータを目標値に一致させること、
を特徴とする粒子線治療装置。
An accelerator to accelerate the charged particle beam;
A plurality of irradiation devices for emitting the charged particle beam to an irradiation target;
A beam transport device for transporting the charged particle beam emitted from the accelerator to any one of the irradiation devices;
The accelerator includes an exit beam deflecting device that guides the charged particle beam to the beam transport device when taking out the charged particle beam,
The beam transport device has a fixed beam transport device fixed to a building, and a plurality of rotating beam transport devices that rotate in accordance with an irradiation direction for irradiating the charged particle beam,
The fixed beam transport device includes a plurality of course switching electromagnets for transporting the charged particle beam to any one of the selected irradiation devices, the course switching electromagnet located on the most upstream side, and the beam deflection for emission. A first linear beam transport device formed between the devices, and formed downstream of the first linear beam transport device in the beam traveling direction, and connected to any one of the rotating beam transport devices. A second linear beam transport device,
The first linear beam transport device has three quadrupole electromagnets,
It said second linear beam transport device have a four quadrupole electromagnets,
By exciting three quadrupole electromagnets arranged in the first linear beam transport device and the course switching electromagnet, the dispersion function of the charged particle beam in the second linear beam transport device is set to 0. age,
By exciting four quadrupole magnets arranged in the second linear beam transport device, the Twisted parameter of the charged particle beam at the connection point between the fixed beam transport device and the rotating beam transport device is targeted. To match the value,
A particle beam therapy system.
請求項10に記載の粒子線治療装置において、
前記第1及び第2の直線状ビーム輸送装置は、前記荷電粒子ビームの位置と広がりを計測する荷電粒子ビーム計測装置を備えることを特徴とする粒子線治療装置。
The particle beam therapy system according to claim 10, wherein
Said 1st and 2nd linear beam transport apparatus is equipped with the charged particle beam measuring apparatus which measures the position and spread of the said charged particle beam, The particle beam therapy apparatus characterized by the above-mentioned.
請求項11に記載の粒子線治療装置において、
前記直線状ビーム輸送装置には極性が互いに異なる四極電磁石2台を含む少なくとも2台の四極電磁石を備えることを特徴とする粒子線治療装置。
The particle beam therapy system according to claim 11, wherein
2. The particle beam therapy system according to claim 1, wherein the linear beam transport device includes at least two quadrupole electromagnets including two quadrupole electromagnets having different polarities.
請求項11に記載の粒子線治療装置において、
前記第1の直線状ビーム輸送装置に配置される前記3台の四極電磁石のうち2台の四極
電磁石は互いに極性が異なる四極電磁石であり、
前記第1の直線状ビーム輸送装置に配置される2台の前記四極電磁石の下流側に少なくとも1台の前記荷電粒子ビーム計測装置を備えることを特徴とする粒子線治療装置。
The particle beam therapy system according to claim 11, wherein
Of the three quadrupole electromagnets arranged in the first linear beam transport device, two quadrupole electromagnets are quadrupole electromagnets having different polarities from each other,
A particle beam therapy system comprising at least one charged particle beam measurement device on the downstream side of two quadrupole electromagnets arranged in the first linear beam transport device.
請求項11に記載の粒子線治療装置において、
前記第2の直線状ビーム輸送装置に配置される前記4台の四極電磁石の少なくとも2台の四極電磁石は互いに極性が異なる四極電磁石であり、
前記第2の直線状ビーム輸送装置に配置される2台の前記四極電磁石の下流側に少なくとも2台の前記荷電粒子ビーム計測装置を備えることを特徴とする粒子線治療装置。
The particle beam therapy system according to claim 11, wherein
At least two of the four quadrupole electromagnets arranged in the second linear beam transport device are quadrupole electromagnets having different polarities from each other;
A particle beam therapy system comprising at least two charged particle beam measurement devices on the downstream side of the two quadrupole electromagnets arranged in the second linear beam transport device.
請求項13に記載の粒子線治療装置において、
前記第2の直線状ビーム輸送装置には、2台の前記四極電磁石の下流側に少なくとも2台の前記荷電粒子ビーム計測装置を備えることを特徴とする粒子線治療装置。
The particle beam therapy system according to claim 13, wherein
The second linear beam transport device includes at least two charged particle beam measuring devices on the downstream side of the two quadrupole electromagnets.
請求項14に記載の粒子線治療装置において、
前記ビーム輸送装置には、ビーム軌道を調整するためのビーム軌道補正用電磁石を少なくとも2台備えることを特徴とする粒子線治療装置。
The particle beam therapy system according to claim 14, wherein
The particle beam therapy system according to claim 1, wherein the beam transport device includes at least two beam trajectory correction electromagnets for adjusting a beam trajectory.
請求項16に記載の粒子線治療装置において、
前記第2の直線状ビーム輸送装置には、ビーム軌道補正用電磁石を少なくとも1台備え、
当該ビーム軌道補正用電磁石は前記第2の直線状ビーム輸送装置が備える少なくとも2台の前記荷電粒子ビーム計測装置の上流に備えることを特徴とする粒子線治療装置。
The particle beam therapy system according to claim 16, wherein
The second linear beam transport device includes at least one beam trajectory correcting electromagnet,
The beam trajectory correcting electromagnet is provided upstream of at least two charged particle beam measuring devices provided in the second linear beam transport device.
請求項17に記載の粒子線治療装置において、
前記第2の直線状ビーム輸送装置に2台の前記ビーム軌道補正用電磁石を備えていることを特徴とする粒子線治療装置。
The particle beam therapy system according to claim 17,
A particle beam therapy system characterized in that the second linear beam transport device includes two beam trajectory correcting electromagnets.
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