JP5278679B2 - Optical element seal - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical element sticker excellent in the effect of an OVD (optically variable device), which facilitates determination of authenticity by visual check, the sticker capable of preventing from being reused by sticking after the sticker once stuck is peeled, and preventing an adhesive layer portion from remaining on the adherend when the sticker is peeled. <P>SOLUTION: The optical element includes an optical variable device (OVD) layer, a deformation layer and an adhesive layer, successively layered on one surface of a support, and includes a release layer partially between the support and the OVD layer. In the optical element, an adhesive force A between the adhesive layer and an adherend when the optical element is laminated to the adherend is greater than the adhesive force B between the support and the release layer portion. The OVD layer, the deformation layer and the adhesive layer deform by a force smaller than the adhesive force A, and the total fracture strength of the OVD layer, the deformation layer and the adhesive layer is greater than the adhesive force A. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、ブランドプロテクション等の認証に用いられているホログラムをはじめとする光の方向により色彩や画像が変化するOVDを利用した光学素子シールに関する。   The present invention relates to an optical element seal using OVD whose color and image change depending on the direction of light including a hologram used for authentication of brand protection and the like.

近年、光の干渉を用いて立体画像や特殊な装飾画像を表現し得る、ホログラムや回折格子、光学特性の異なる薄膜を重ねることにより、見る角度により色の変化(カラーシフト)を生じる多層薄膜のような光学的可変素子(OVD:Optically Variable Device)の開発が進められている。これらOVDは立体画像やカラーシフトといった独特な印象を与えるため、優れた装飾効果を有しており各種包装材や絵本、カタログ等の一般的な印刷物に利用されてきた。   In recent years, multilayer thin films that can express stereoscopic images and special decorative images using light interference, and produce a color change (color shift) depending on the viewing angle by overlapping thin films with different holograms, diffraction gratings, and optical properties. Such an optical variable element (OVD) is being developed. These OVDs have an excellent decorative effect in order to give a unique impression such as a stereoscopic image and color shift, and have been used for general printed materials such as various packaging materials, picture books, catalogs, and the like.

また、このOVDは高度な製造技術を要することから、有効な偽造防止手段としてクレジットカード、有価証券、証明書類等の一部にあるいは全面に形成され使用されている。最近では、有価証券以外にもスポーツ用品やコンピュータ部品をはじめとする電気製品ソフトウエアー等に貼り付けられ、その製品の真正さを証明する認証シールや、それら商品のパッケージに貼りつけられる封印シールとしても広く使われるようになってきた。   Further, since this OVD requires advanced manufacturing technology, it is formed and used as a part of or on the entire surface of credit cards, securities, certificates, etc. as effective forgery prevention means. Recently, in addition to securities, it is affixed to sports equipment, computer parts and other electrical product software, etc., as an authentication sticker that proves the authenticity of the product, and as a seal sticker that is affixed to the package of those products Has also become widely used.

これら認証シールや封印シールは、一度剥がしてから、偽物の商品に貼りかえられる不正な再利用が予想され、そのため、剥離すると破壊される脆性タイプのものが提案されてきた。例えば、特許文献1には、体積ホログラム形成層、脆質層、接着剤層が順次形成されたホログラムラベルが開示されている。これは、シール構成の一部に脆い材料を用いた脆質層を設けた構成であり、剥した際に脆質層が壊れ接着層(被着体)側に残ってホログラムが破壊される。また、特許文献2には、シールを構成する層間に部分的に接着の強いところと弱いところ(剥離層)を設けた構成が開示されており、はがした際にその接着の弱い部分が剥がれ接着層(被着体)側に残ってホログラムが破壊される。   These authentication seals and seal seals are expected to be illegally reused after being peeled off and then replaced with a fake product. For this reason, brittle types that are destroyed when peeled have been proposed. For example, Patent Document 1 discloses a hologram label in which a volume hologram forming layer, a brittle layer, and an adhesive layer are sequentially formed. This is a configuration in which a brittle layer using a brittle material is provided in a part of the seal configuration, and when peeled off, the brittle layer breaks and remains on the adhesive layer (adhered body) side, and the hologram is destroyed. Further, Patent Document 2 discloses a configuration in which a part having strong adhesion and a part having weakness (peeling layer) are provided between the layers constituting the seal, and the part having weak adhesion peels off when peeled off. The hologram remains destroyed on the adhesive layer (adhered body) side.

しかしながら、上記したいずれの構成も、層間あるいは層内に剥がれや破壊を生じ、接着層側と支持体側に分離してシールを破壊する構成であり、シールを剥した際に貼り付け対象となる被着体上に接着層部分が残り被着体が汚れてしまうという欠点があった。一般に、認証シールや封印シールの適応対象は、高価で価値の高いものが多く、シール残渣による汚れは商品価値を下げるものとして改善が強く求められていた。   However, any of the above-described configurations is a configuration in which peeling or breakage occurs between layers or layers, and the seal is broken by separating it into the adhesive layer side and the support side. There was a drawback that the adhesive layer portion remained on the adherend and the adherend was soiled. In general, there are many high-value and high-value applications for authentication seals and seal seals, and dirt due to seal residues has been strongly demanded to improve the product value.

これに対して、特許文献3には、支持体上に柔軟性を有する高分子材料からなる変形層を介在させてOVD層と接着層が積層され、支持体とOVD層との層間接着強度が接着層の被接着対象物に対する接着強度より大きくなるよう設定された貼り替え防止シールが開示されている。これによると、貼り替えを行うとその一部を構成するOVD層が復元不可能な状態に変形され、さらには被着体からは接着層等の一部を残すことなく一体的に剥離できる。しかしながら、この構成においては支持体上の変形層を挟み込むように形成された薄膜のOVD形成層形成材料に、ロールエンボス法等でレリーフパターンを賦型してOVD形成層とするため、変形層がクッションとなってレリーフパターンの再現性にバラツキが生じるため、OVDの光学効果を十分に発揮できない問題があった。   On the other hand, in Patent Document 3, an OVD layer and an adhesive layer are laminated on a support with a deformable layer made of a polymer material having flexibility, and an interlayer adhesive strength between the support and the OVD layer is increased. An anti-replacement seal that is set to be greater than the adhesive strength of an adhesive layer to an adherend is disclosed. According to this, when the replacement is performed, the OVD layer constituting a part of the OVD layer is deformed into an unrecoverable state, and can be peeled from the adherend without leaving a part of the adhesive layer or the like. However, in this configuration, a thin OVD forming layer forming material formed so as to sandwich the deforming layer on the support is molded into a relief pattern by a roll embossing method or the like to form an OVD forming layer. Since the reproducibility of the relief pattern varies as a cushion, there is a problem that the optical effect of OVD cannot be fully exhibited.

実登第2032258号公報Noto 2032258 特開平08−152842号公報Japanese Patent Laid-Open No. 08-152842 特開2006−178277号公報JP 2006-178277 A

本発明は以上のような状況に鑑みてなされたものであり、OVD効果に優れて目視による真贋の判定が容易であり、一度貼付されたシールの剥離後の再貼付利用が防止でき、シールを剥した際に接着層部分が被着体に残らない光学素子シールを提供することを課題としている。   The present invention has been made in view of the above situation, has excellent OVD effect, facilitates visual judgment of authenticity, can prevent re-applying of a sticker once peeled off, It is an object to provide an optical element seal in which an adhesive layer portion does not remain on an adherend when peeled.

本発明の請求項1に係る発明は、支持体の片面に光学的可変素子(OVD)層、変形層、接着層を順次積層してなる光学素子であって、前記支持体と前記OVD層の間の一部に剥離層を有し、光学素子を被着体と貼り合わせた時の前記接着層と前記被着体との接着力Aが、前記支持体と前記剥離層部分との接着力Bより大きく、前記接着層と前記被着体の接着力Aが、各層間の接着力Cより小さいことを特徴とする光学素子シールである。 The invention according to claim 1 of the present invention is an optical element in which an optically variable element (OVD) layer, a deformation layer, and an adhesive layer are sequentially laminated on one side of a support, wherein the support and the OVD layer are An adhesive force A between the adhesive layer and the adherend when the optical element is bonded to the adherend has an adhesive force between the support and the peelable layer portion. B from rather large, adhesive force a of the adherend and the adhesive layer is an optical element seal being less than the adhesion C between the layers.

また、本発明の請求項2に係る発明は、前記OVD層と前記変形層と前記接着層とが前記接着力Aより小さい力で変形し、且つ、前記OVD層と前記変形層と前記接着層との破断強度の合計が前記接着力Aより大きいことを特徴とする請求項1に記載する光学素子シールである。   In the invention according to claim 2 of the present invention, the OVD layer, the deformable layer, and the adhesive layer are deformed with a force smaller than the adhesive force A, and the OVD layer, the deformable layer, and the adhesive layer are deformed. 2. The optical element seal according to claim 1, wherein the total breaking strength is greater than the adhesive force A. 3.

また、本発明の請求項3に係る発明は、前記変形層が、破断伸度100%以上の高分子材料からなることを特徴とする請求項1または2に記載する光学素子シールである。   The invention according to claim 3 of the present invention is the optical element seal according to claim 1 or 2, wherein the deformable layer is made of a polymer material having a breaking elongation of 100% or more.

本発明の光学素子シールは、支持体の片面にOVD層、変形層、接着層が順次積層された構成で、支持体とOVD層の間の一部に剥離層を有しており、また、被着体と貼り合わせた時の接着層と被着体との接着力Aが、支持体と剥離層部分との接着力Bより大きい。そのため、剥そうとすると、変形層が伸び、変形を生じるために、剥離層を設けた部分のOVD画像が破壊され、一度貼付されたシールの剥離後の再貼付利用が防止できる。クッション性の高い変形層は、OVD層を形成しOVD効果層を形成した後に適用するため、従来のOVD形成の作業性を落とすことなく、ホログラム等ノレリーフパターンの再現性も良好である。   The optical element seal of the present invention has a structure in which an OVD layer, a deformation layer, and an adhesive layer are sequentially laminated on one side of a support, and has a release layer in a part between the support and the OVD layer. The adhesive force A between the adhesive layer and the adherend when bonded to the adherend is greater than the adhesive force B between the support and the release layer portion. Therefore, if it tries to peel, since a deformation | transformation layer will elongate and it will produce a deformation | transformation, the OVD image of the part which provided the peeling layer will be destroyed, and the resticking use after peeling of the seal | sticker once stuck can be prevented. Since the deformed layer having a high cushioning property is applied after the OVD layer is formed and the OVD effect layer is formed, the reproducibility of a relief pattern such as a hologram is good without reducing the workability of the conventional OVD formation.

また、本発明の光学素子シールは、OVD層と変形層と接着層が接着力Aより小さい力で変形し、且つ、OVD層と変形層と接着層との破断強度の合計が接着力Aより大きいために、接着層側と支持体側にシールを分離することなくOVDを破壊することができる。それゆえ、接着層を被着体に残すことなく、貼り替え時にOVDを破壊することが可能となる。   In the optical element seal of the present invention, the OVD layer, the deformable layer, and the adhesive layer are deformed with a force smaller than the adhesive force A, and the total breaking strength of the OVD layer, the deformable layer, and the adhesive layer is greater than the adhesive force A. Since it is large, the OVD can be destroyed without separating the seal on the adhesive layer side and the support side. Therefore, the OVD can be destroyed at the time of replacement without leaving the adhesive layer on the adherend.

また、本発明の光学素子シールは、前記変形層が、破断伸度100%以上の破断強度が比較的高い高分子材料からなるため、完全な剥離でのOVDの破壊は勿論、変形が大きいため、剥がそうとした痕跡も残るため、不正使用の検証や未然防止にも有用である。   Further, in the optical element seal of the present invention, the deformation layer is made of a polymer material having a relatively high breaking strength with a breaking elongation of 100% or more. Because it leaves traces of peeling, it is useful for verifying unauthorized use and preventing it.

本発明の光学素子シールの基本構成の一例を断面で示す概略図。Schematic which shows an example of the basic composition of the optical element seal | sticker of this invention in a cross section. 本発明の光学素子シールを被着体から剥がす際の、OVDの破壊を断面で説明する概略図。The schematic diagram explaining destruction of OVD in the cross section at the time of peeling the optical element seal | sticker of this invention from a to-be-adhered body.

本発明の光学素子シールを一実施形態に基づいて、図面を参照して以下に説明する。   An optical element seal of the present invention will be described below with reference to the drawings based on one embodiment.

本発明の光学素子シール11は、図1に示すように、支持体1、剥離層2、OVD形成層31とOVD効果層32からなるOVD層3、変形層4、接着層5を順次積層してなっている。剥離層2はOVD層3の面積より小さく、部分的に形成する。   As shown in FIG. 1, the optical element seal 11 of the present invention comprises a support 1, a release layer 2, an OVD layer 3 composed of an OVD formation layer 31 and an OVD effect layer 32, a deformation layer 4, and an adhesive layer 5 sequentially laminated. It has become. The release layer 2 is smaller than the area of the OVD layer 3 and is partially formed.

まず、本発明の光学素子シールを被着体から剥がした際に生じるOVDの破壊のメカニズムを説明する。図2(a)は、光学素子シールが被着体に貼られた状態を示す断面概略図であり、図2(b)、(c)、(d)は、光学素子シールを剥がした際に生じるOVDの破壊を説明する断面概略図である。   First, the mechanism of OVD destruction that occurs when the optical element seal of the present invention is peeled off from the adherend will be described. FIG. 2A is a schematic cross-sectional view showing a state in which the optical element seal is affixed to an adherend, and FIGS. 2B, 2C, and 2D show the state when the optical element seal is peeled off. It is the cross-sectional schematic explaining the destruction of OVD which arises.

図2(b)に示すように、剥離層2の無い部分では接着層5と被着体6の間で剥がれる。ここでは、「接着層と被着体の接着力」Aは、「支持体とOVD層との接着力」C−1、「OVD層と変形層との接着力」C−2、及び「変形層と接着層との接着力」C−3の各層間の接着力Cより小さい必要がある。即ちA<Cである。   As shown in FIG. 2 (b), the part without the release layer 2 is peeled between the adhesive layer 5 and the adherend 6. Here, “adhesive strength between the adhesive layer and the adherend” A is “adhesive strength between the support and the OVD layer” C-1, “adhesive strength between the OVD layer and the deformable layer” C-2, and “deformation”. It is necessary to be smaller than the adhesive force C between the respective layers in “Adhesive force between layers and adhesive layer” C-3. That is, A <C.

次に、図2(c)に示すように剥離層2が形成された部分では、「接着層と被着体との接着力」Aが、「支持体と剥離層部分との接着力」Bより大きいため、接着層5と被着体6が剥がれる前に支持体1と剥離層2の間で剥がれが生ずる。この場合A>Bである。   Next, as shown in FIG. 2C, in the portion where the release layer 2 is formed, “adhesive strength between the adhesive layer and the adherend” A is “adhesive strength between the support and the release layer portion” B. Since it is larger, peeling occurs between the support 1 and the release layer 2 before the adhesive layer 5 and the adherend 6 are peeled off. In this case, A> B.

次に、図2(d)に示すように、接着層5が被着体6と剥がれる際にOVD層3、変形層4、接着層5の変形が生じ、OVDが破壊する。この場合、OVD層と変形層と接着層は、「接着層を被着体から剥がす力(即ち接着力A)」より小さい力で十分に変形する(伸びる)性能が必要となる。且つ、「OVD層と変形層と接着層との破断強度の合計」Dが接着力Aより大きいことが必要である。すなわちA<Dである。   Next, as shown in FIG. 2D, when the adhesive layer 5 is peeled off from the adherend 6, the OVD layer 3, the deformable layer 4, and the adhesive layer 5 are deformed, and the OVD is destroyed. In this case, the OVD layer, the deformable layer, and the adhesive layer are required to have a capability of sufficiently deforming (extending) with a force smaller than the “force for peeling the adhesive layer from the adherend (ie, adhesive force A)”. In addition, “the sum of the breaking strengths of the OVD layer, the deformation layer, and the adhesive layer” D needs to be larger than the adhesive force A. That is, A <D.

すなわち、本発明の光学素子シールが具備する条件は以下の(1)〜(4)にまとめることが出来る。この条件を満たすことで、前述したメカニズムで、本発明の光学素子シールを被着体から剥がす際にOVDが破壊され、接着層側と支持体側にシールが分離することなく、接着層も被着体に残すことはない。
(1)「接着層と被着体の接着力」A>「支持体と剥離層部分の接着力」B
(2)「接着層と被着体の接着力」A<「各層間の接着力」C
ここでCは、「支持体とOVD層との接着力」C−1、「OVD層と変形層との接着力」C−2、及び「変形層と接着層との接着力」C−3である。
(3)「接着層と被着体の接着力」A<「OVD層、変形層、粘着層の合計の破断強度」D
(4)「接着層を被着体から剥がす力(すなわち接着力A)>「OVD層、変形層、接着層が変形する力」
That is, the conditions of the optical element seal of the present invention can be summarized in the following (1) to (4). By satisfying this condition, the OVD is destroyed when the optical element seal of the present invention is peeled off from the adherend by the above-described mechanism, and the adhesive layer is also adhered without separating the seal on the adhesive layer side and the support side. I will not leave it in my body.
(1) “Adhesive strength between adhesive layer and adherend” A> “Adhesive strength between support and release layer” B
(2) “Adhesive strength between adhesive layer and adherend” A <“Adhesive strength between layers” C
Here, C is “adhesive force between the support and the OVD layer” C-1, “adhesive force between the OVD layer and the deformable layer” C-2, and “adhesive force between the deformable layer and the adhesive layer” C-3. It is.
(3) “Adhesive strength between adhesive layer and adherend” A <“total breaking strength of OVD layer, deformable layer and adhesive layer” D
(4) “Force to peel adhesive layer from adherend (ie, adhesive force A)>“ Force to deform OVD layer, deformable layer, and adhesive layer ”

ここで、接着力Aは、例えば、温度23±2℃、相対湿度50±5%の条件において、貼付した本発明の光学素子シールと被着体を速度100±10mm/分でT型剥離して測定される値である。接着力B、接着力C−1、接着力C−2及び接着力C−3は、上記T型剥離時に各層間での層間剥離の有無でその大小が判別され、破断強度Dは上記T型剥離時の当該層の破断の有無で接着力Aとの大小が判別される。本発明の光学素子シールの適用する被着体及び使用環境によって、上記した接着力Aの測定条件は適宜変更することが可能であるが、各接着力間の大小の条件を確保することで本発明の光学素子シールが可能
となる。
Here, the adhesive strength A is, for example, a T-type peeling at a speed of 100 ± 10 mm / min between the attached optical element seal of the present invention and the adherend under conditions of a temperature of 23 ± 2 ° C. and a relative humidity of 50 ± 5% Is a measured value. The adhesive strength B, adhesive strength C-1, adhesive strength C-2, and adhesive strength C-3 are determined by the presence or absence of delamination between the respective layers at the time of the T-type peeling, and the breaking strength D is the T-type. The magnitude of the adhesive strength A is determined based on whether or not the layer is broken at the time of peeling. Depending on the adherend to which the optical element seal of the present invention is applied and the use environment, the measurement conditions for the above-mentioned adhesive force A can be changed as appropriate. The optical element seal of the invention becomes possible.

次に、本発明の光学素子シールの構成および材料に関して説明する。 Next, the configuration and materials of the optical element seal of the present invention will be described.

支持体1は、シール作製加工時における熱圧で軟化変形しない耐熱性と強度があるものが良く、後述する変形層の材料に比較して変形しにくいものが使用可能である。その材料としては、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリビニルアルコール等から選択される1種又は複数の合成樹脂や天然樹脂などからなるフィルムやこれらを積層してなる積層シート等が挙げられる。機械的強度、耐熱性、寸法安定性、コストから2軸延伸したポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムが好ましく用いることが出来る。その厚みは、操作性、加工性を考慮し16〜50μm程度のものが好ましい。   The support 1 preferably has heat resistance and strength that is not softened and deformed by the heat pressure at the time of manufacturing the seal, and can be used that is less likely to be deformed as compared to the material of the deformation layer described later. As the material, one or more synthetic resins or natural resins selected from polyvinyl chloride, polyester, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyethylene, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene, polyvinyl alcohol, etc. And a laminated sheet obtained by laminating these films. From the viewpoint of mechanical strength, heat resistance, dimensional stability and cost, a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film can be preferably used. The thickness is preferably about 16 to 50 μm in consideration of operability and workability.

剥離層2は支持体1に部分的に形成される。用いる材料としては容易に剥がれるものが使用され、支持体に使用される材料に基づいて、適宜選択される。なお、ここで使用される材料の条件としては、前記した(1)「接着層と被着体の接着力」A>「支持体と剥離層部分の接着力」Bであり、これを満たすものが使用される。さらに、この剥離層を設ける面積が大きいと、その面積に相当する接着層と被着体を剥がす力が、OVD層、変形層、接着層にかかり、破断し易くなるため、その面積を小さく設けることが好ましい。その設計は、各層の強度により異なるが、その面積が支持体1に対して合計で50%以下であり、かつ剥離層各々のパターンが25mm以下であることが好ましい。 The release layer 2 is partially formed on the support 1. As a material to be used, a material that can be easily peeled is used, and is appropriately selected based on the material used for the support. In addition, as conditions of the material used here, the above-mentioned (1) “adhesive strength between the adhesive layer and the adherend” A> “adhesive strength between the support and the release layer portion” B satisfies this condition. Is used. Furthermore, if the area where the release layer is provided is large, the force to peel off the adhesive layer and adherend corresponding to the area is applied to the OVD layer, the deformable layer, and the adhesive layer, and is easily broken. It is preferable. Although the design differs depending on the strength of each layer, the area is preferably 50% or less in total with respect to the support 1, and the pattern of each release layer is preferably 25 mm 2 or less.

次にOVD層3に関して説明する。OVDとは光の干渉や回折を利用した画像であり、立体画像の表現や見る角度により色が変化するカラーシフトを生じる表示体である。その中でもレリーフ型ホログラム(回折格子)や多層薄膜方式のものが一般に広く利用されている。   Next, the OVD layer 3 will be described. OVD is an image using light interference and diffraction, and is a display body that causes a color shift in which the color changes depending on the representation of a stereoscopic image and the viewing angle. Of these, relief holograms (diffraction gratings) and multilayer thin film systems are generally widely used.

図1に示す、一例の本発明の光学素子シールのOVD層3は、レリーフ型ホログラム(回折格子)が設けられた層であって、OVD形成層31とOVD効果層32との2層構成になっている。   An OVD layer 3 of the optical element seal of the present invention shown in FIG. 1 is a layer provided with a relief hologram (diffraction grating), and has a two-layer structure of an OVD formation layer 31 and an OVD effect layer 32. It has become.

まず、レリーフ型ホログラム(回折格子)であるが、ホログラム(回折格子)の微細な凹凸パターンをOVD形成層31に熱圧で成型し、そのパターンを複製して作られる。この微細な凹凸パターンは、例えば、光学的な撮影方式により微細な凹凸パターンを有するレリーフ型のマスター版を作製し、しかる後にこのマスター版から電気メッキ法によりニッケル製のプレス版を複製した後、このプレス版を加熱してからOVD形成層の表面に押し当てて得られる。それゆえ、熱成形性が必要であり、また、前述の条件(2)「接着層と被着体の接着力」A<「支持体とOVD層との接着力」C−1が要求されるため、支持体1に十分に接着するものが使用される。   First, a relief hologram (diffraction grating) is produced by forming a fine uneven pattern of a hologram (diffraction grating) on the OVD forming layer 31 by hot pressure and replicating the pattern. This fine concavo-convex pattern is produced, for example, by producing a relief-type master plate having a fine concavo-convex pattern by an optical photographing method, and then replicating a nickel press plate by electroplating from this master plate, This press plate is heated and then pressed against the surface of the OVD forming layer. Therefore, thermoformability is required, and the above-mentioned condition (2) “Adhesive force between adhesive layer and adherend” A <“Adhesive force between support and OVD layer” C-1 is required. Therefore, a material that adheres sufficiently to the support 1 is used.

OVD形成層31に用いられる具体的な材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂等が挙げられ、より具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加し、架橋させたウレタン系樹脂やメラミン系樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化性樹脂、エポキシ(メタ)アクリル、ウレタン(メタ)アクリレート等の紫外線あるいは電子線硬化樹脂、あるいはこれらの混合物により形成される。これらは溶剤に溶解させるか、又は無溶剤で支持体の片面に、例えば、グラビア法等公知の塗布方式を用いて、3〜10μm厚で塗布・形成される。   Specific materials used for the OVD forming layer 31 include thermoplastic resins, thermosetting resins, ultraviolet rays or electron beam curable resins, and more specifically acrylic resins, epoxy resins, celluloses. Polyurethane added as a crosslinking agent to thermoplastic resins such as vinyl resins, vinyl resins, acrylic polyols and polyester polyols having reactive hydroxyl groups, and crosslinked urethane resins, melamine resins, phenol resins, etc. It is formed of a thermosetting resin, an ultraviolet ray such as epoxy (meth) acryl, urethane (meth) acrylate, or an electron beam curable resin, or a mixture thereof. These are dissolved in a solvent, or are applied and formed in a thickness of 3 to 10 μm on one side of a support without solvent and using a known coating method such as a gravure method.

OVD効果層32はOVD画像の回折効率を高めるため、レリーフ面を構成する高分子材料と屈折率の異なる材料からなる。用いる材料としては、屈折率の異なるTiO、Si、SiO、Fe、ZnS、などの高屈折率材料や、より反射効果の高いAl、Sn、Cr、Ni、Cu、Au等の金属材料が挙げられ、これら材料を単独あるいは積層して使用できる。これらの材料は真空蒸着法、スパッタリング等の公知の薄膜形成技術にて形成され、その膜厚は用途によって異なるが、5〜1000nm程度で形成される。またこれら以外の手法として、金属燐片を分散した塗料をコーティングして設ける手法も挙げられ、部分的に設けることも可能である。 The OVD effect layer 32 is made of a material having a refractive index different from that of the polymer material constituting the relief surface in order to increase the diffraction efficiency of the OVD image. As a material to be used, high refractive index materials such as TiO 2 , Si 2 O 3 , SiO, Fe 2 O 3 , and ZnS having different refractive indexes, Al, Sn, Cr, Ni, Cu, and Au having a higher reflection effect are used. These materials can be used, and these materials can be used alone or in layers. These materials are formed by a well-known thin film forming technique such as vacuum deposition or sputtering, and the film thickness varies depending on the application, but is about 5 to 1000 nm. In addition to these methods, a method of coating a coating material in which metal flakes are dispersed is also provided, and the coating can be partially provided.

一方、多層薄膜方式のOVDは、異なる光学特性を有する多層薄膜層からなり、金属薄膜、セラミックス薄膜またはそれらを併設してなる複合薄膜として積層形成される。例えば屈折率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜を組み合わせても良く、また特定の組み合わせを交互に積層するようにしてもよい。これらは、屈折率、反射率、透過率等の光学特性や耐候性、層間密着性などに基づき適宜選択され、薄膜として積層され多層薄膜を形成する。形成方法としては、膜厚、成膜速度、積層数、あるいは光学膜厚(=n・d、n:屈折率、d:膜厚)などの制御が可能な、通常の真空蒸着法、スパッタリング法にて形成される。   On the other hand, a multi-layer thin film type OVD is composed of multi-layer thin film layers having different optical characteristics, and is laminated as a metal thin film, a ceramic thin film, or a composite thin film formed by combining them. For example, when thin films having different refractive indexes are stacked, a high refractive index thin film and a low refractive index thin film may be combined, or a specific combination may be stacked alternately. These are appropriately selected based on optical properties such as refractive index, reflectance, and transmittance, weather resistance, interlayer adhesion, and the like, and are laminated as a thin film to form a multilayer thin film. As a forming method, a normal vacuum deposition method or a sputtering method capable of controlling the film thickness, the film forming speed, the number of stacked layers, or the optical film thickness (= n · d, n: refractive index, d: film thickness), etc. Is formed.

次に変形層4であるが、この層は光学素子シール11を剥がそうとすると変形を生じ、OVDが破壊するように設けられた層である。そのため十分に変形することが望まれる一方で、剥がす際の力で切断されないように設計されればならない。前述の条件(3)「接着層と被着体の接着力」A<「OVD層、変形層、粘着層の合計の破断強度」D、及び、条件(4)「接着層を被着体から剥がす力(すなわち接着力A)>「OVD層、変形層、接着層が変形する力」を満たす材料を用いる必要があり、変形層としては軟らかくて粘り強い材料として、応力―ひずみ測定で得られる応力―ひずみ曲線で、弾性率と降伏値あるいは平坦部が低く、伸びが非常に大きいものが適用可能である。破断伸びは少なくとも20%以上で、特に本発明の光学素子シール剥離時のOVD破壊を確実にするためには、破断伸度が100%以上のものが特に好ましい。破断強度は他の層の性能にもよるが、破断強度30Mpa以上のものが好ましい。このように十分に変形しかつ破断強度の強い材料としては、柔軟性の高い高分子樹脂が挙げられ、例として、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ブチルゴム等のゴム系樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。また、この層は破断しにくくするためにその厚みを、2〜50μmと厚く設けることが好ましい。   Next, the deformable layer 4 is a layer provided to deform when the optical element seal 11 is peeled off, and to destroy the OVD. Therefore, while it is desired to be sufficiently deformed, it must be designed so as not to be cut by the force of peeling. Condition (3) “Adhesive strength between adhesive layer and adherend” A <“Total breaking strength of OVD layer, deformation layer, and adhesive layer” D and Condition (4) “Adhesive layer from adherend It is necessary to use a material that satisfies the peeling force (ie, adhesive force A)> “force that deforms the OVD layer, deformable layer, and adhesive layer”. The deformable layer is a soft and tenacious material, and the stress obtained by stress-strain measurement -Strain curves with low modulus of elasticity and yield value or flat part and very large elongation are applicable. The elongation at break is at least 20% or more. Particularly, in order to ensure OVD fracture at the time of peeling of the optical element seal of the present invention, those having a break elongation of 100% or more are particularly preferable. Although the breaking strength depends on the performance of the other layers, those having a breaking strength of 30 Mpa or more are preferable. Examples of such a material that is sufficiently deformed and has a high breaking strength include a highly flexible polymer resin. Examples thereof include rubber resins such as natural rubber, isoprene rubber, styrene-butadiene rubber, and butyl rubber, and urethane resins. , Polyester resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer and the like. Moreover, in order to make this layer difficult to break, it is preferable to provide a thickness of 2 to 50 μm.

次に、接着層5は、光学素子シールを被着体に貼りつけ、固定するための層であり、公知の接着性樹脂が使用可能であるが、中でも、圧力により接着させる感圧タイプの粘着剤が好ましく使用される。例としては、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ブチルゴム等のゴム系接着剤、エチルアクリレート、ブチルアクリレート等のアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤等が挙げられ、これらを10〜50μm設けて成る。さらに、この層も、前述の条件(3)「接着層と被着体の接着力」A<「OVD層、変形層、粘着層の合計の破断強度」D、の条件が必要であり、破断しにくい材料を選定する必要がある。   Next, the adhesive layer 5 is a layer for adhering and fixing the optical element seal to the adherend, and a known adhesive resin can be used. Agents are preferably used. Examples include natural rubber, isoprene rubber, styrene-butadiene rubber, rubber adhesives such as butyl rubber, acrylic adhesives such as ethyl acrylate and butyl acrylate, urethane adhesives, and the like. It consists of Further, this layer also needs to satisfy the above-mentioned condition (3) “Adhesive strength between adhesive layer and adherend” A <“total breaking strength of OVD layer, deformable layer and adhesive layer” D. It is necessary to select materials that are difficult to do.

以上は本発明の光学素子シールの最も簡単な構成である。この構成は基本的な構成であり、各層を着色する、あるいは、層間に印刷層を設けて意匠性を向上させることや、紫外線・赤外線発光インキや赤外線吸収インキ等の検証を可能とする公知の偽造防止インキを用いた印刷層を形成し、偽造防止効果を高めることも適宜目的に応じて適用可能である。   The above is the simplest configuration of the optical element seal of the present invention. This structure is a basic structure, and each layer is colored, or a printing layer is provided between the layers to improve the design, and it is possible to verify ultraviolet / infrared light emitting ink, infrared absorbing ink, etc. It is also possible to appropriately form a printing layer using anti-counterfeit ink and enhance the anti-counterfeit effect according to the purpose.

以下に、本発明の具体的実施例について説明する。   Specific examples of the present invention will be described below.

<実施例1>
まず、厚み38μmの透明ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムから成る支持体に、下記組成の剥離層塗料をグラビア法にて部分的に塗布し、厚み0.5μmの剥離層を形成した。次に、下記組成のOVD形成層塗料をグラビア法で塗布し、厚み5μmのOVD形成層を形成した。その後ロールエンボス法によりOVDレリーフパターンを形成し、その上にOVD効果層として真空蒸着法を用いて膜厚0.05μmのAl蒸着薄膜層を設けてOVD層を形成した。その後、このAl蒸着薄膜層上にコンマコート法を用いて下記組成の変形層塗料を塗布して厚み10μmの変形層とし、さらに下記組成の接着層塗料をコンマコート法で塗布して厚さ20μmの接着層を形成すると同時に、その接着層の上に離型紙をラミネートし、実施例1の光学素子シールを作製した。
[剥離層塗料]
・アクリル樹脂 15質量部
・メチルエチルケトン 60質量部
・トルエン 25質量部
[OVD形成層塗料]
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 15質量部
・ウレタン樹脂 10質量部
・メチルエチルケトン 50質量部
・トルエン 25質量部
[変形層塗料]
・ウレタン樹脂(破断伸度100%) 10質量部
・メチルエチルケトン 60質量部
・トルエン 20質量部
[接着層塗料]
・アクリル系粘着剤 40質量部
・イソシアネート硬化剤 5質量部
・酢酸エチル 45質量部
・トルエン 10質量部
<Example 1>
First, a release layer coating having the following composition was partially applied to a support composed of a transparent polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 38 μm by a gravure method to form a release layer having a thickness of 0.5 μm. Next, an OVD forming layer paint having the following composition was applied by a gravure method to form an OVD forming layer having a thickness of 5 μm. Thereafter, an OVD relief pattern was formed by a roll embossing method, and an Al deposition thin film layer having a film thickness of 0.05 μm was provided thereon as a OVD effect layer by using a vacuum deposition method to form an OVD layer. Thereafter, a deformed layer paint having the following composition is applied on the Al vapor-deposited thin film layer using a comma coating method to form a deformed layer having a thickness of 10 μm. At the same time as forming the adhesive layer, release paper was laminated on the adhesive layer to produce the optical element seal of Example 1.
[Peeling layer paint]
-Acrylic resin 15 parts by mass-Methyl ethyl ketone 60 parts by mass-Toluene 25 parts by mass [OVD forming layer paint]
・ Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer 15 mass parts ・ Urethane resin 10 mass parts ・ Methyl ethyl ketone 50 mass parts ・ Toluene 25 mass parts
[Deformation layer paint]
-Urethane resin (100% elongation at break) 10 parts by mass-Methyl ethyl ketone 60 parts by mass-Toluene 20 parts by mass
[Adhesive layer paint]
・ Acrylic adhesive 40 parts by mass ・ Isocyanate curing agent 5 parts by mass ・ Ethyl acetate 45 parts by mass ・ Toluene 10 parts by mass

<比較例1>
上記実施例1の、変形層塗料による変形層を除いた以外は、同様の材料と同一の手法によりOVDを形成した比較例1の光学素子シールを作製した。
<Comparative Example 1>
An optical element seal of Comparative Example 1 in which an OVD was formed by the same method as that of the same material except that the deformation layer by the deformation layer paint in Example 1 was removed was produced.

以上のようにして得られた実施例1と比較例1に係る光学素子シールの小片を、それぞれアクリル樹脂のシートからなる箱(被着体)に貼りつけ、シール剥がしを試みた。尚、シールは貼り付けたのち常温で1日間保存してから剥がしテストを行った。表1にその結果を示す。

Figure 0005278679
The optical element seal pieces according to Example 1 and Comparative Example 1 obtained as described above were each attached to a box (adhered body) made of an acrylic resin sheet, and an attempt was made to remove the seal. In addition, after sticking a sticker, it preserve | saved at normal temperature for 1 day, Then, the peeling test was done. Table 1 shows the results.
Figure 0005278679

表1に示すとおり、実施例1の場合には変形層の大きな変形に伴い、OVDが確実に破壊されたが、比較例1では、変形が生じず、OVDが破壊されずに剥すことができた。   As shown in Table 1, in the case of Example 1, the OVD was reliably destroyed due to the large deformation of the deformation layer. However, in Comparative Example 1, no deformation occurred, and the OVD could be peeled without being destroyed. It was.

このように、本発明の光学素子シールは、剥そうとすると変形層が伸び、変形を生じ、OVD画像を破壊する構成になっている、それゆえ接着層側と支持体側にシールを分離することなくOVD破壊に至るため、接着剤を被着体に残すことなく、破壊することが可能となる。   As described above, the optical element seal of the present invention has a structure in which the deformable layer extends and deforms when it is peeled off, and the OVD image is destroyed. Therefore, the seal is separated into the adhesive layer side and the support side. Therefore, the OVD can be destroyed without leaving the adhesive on the adherend.

1・・・支持体 2・・・剥離層 3・・・OVD層 31・・・OVD形成層
32・・・OVD効果層 4・・・変形層 5・・・接着層 6 被着体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Support body 2 ... Release layer 3 ... OVD layer 31 ... OVD formation layer 32 ... OVD effect layer 4 ... Deformation layer 5 ... Adhesion layer 6 Substrate

Claims (3)

支持体の片面に光学的可変素子(OVD)層、変形層、接着層を順次積層してなる光学素子であって、前記支持体と前記OVD層の間の一部に剥離層を有し、光学素子を被着体と貼り合わせた時の前記接着層と前記被着体との接着力Aが、前記支持体と前記剥離層部分との接着力Bより大きく、前記接着層と前記被着体の接着力Aが、各層間の接着力Cより小さいことを特徴とする光学素子シール。 An optical element formed by sequentially laminating an optically variable element (OVD) layer, a deformation layer, and an adhesive layer on one side of a support, having a release layer in a part between the support and the OVD layer, wherein said adhesive layer when the optical element bonded adherend adhesion a between the adherend is, the support and rather greater than the adhesive force B of the release layer portion, wherein said adhesive layer to be An optical element seal characterized in that the adhesive strength A of the adherend is smaller than the adhesive strength C between the respective layers . 前記OVD層と前記変形層と前記接着層とが前記接着力Aより小さい力で変形し、且つ、前記OVD層と前記変形層と前記接着層との破断強度の合計が前記接着力Aより大きいことを特徴とする請求項1に記載する光学素子シール。   The OVD layer, the deformable layer, and the adhesive layer are deformed with a force smaller than the adhesive force A, and the total breaking strength of the OVD layer, the deformable layer, and the adhesive layer is larger than the adhesive force A. The optical element seal according to claim 1. 前記変形層が、破断伸度100%以上の高分子材料からなることを特徴とする請求項1または2に記載する光学素子シール。   The optical element seal according to claim 1, wherein the deformable layer is made of a polymer material having a breaking elongation of 100% or more.
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