JP5211487B2 - 露光方法及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
Claims (14)
- 光源からのパルス光を複数の可動ミラーを有する可変成形マスクに照射し、前記可変成形マスクを介した光で、任意のパターンを基板に露光する露光方法であって、
前記複数の可動ミラーを動作させることと、
前記複数の可動ミラーの動作状態を検出し、前記複数の可動ミラーが静止している期間である安定期間にあるか否かを判断することと、
前記複数の可動ミラーが動作している期間である動作期間には、前記パルス光を前記可変成形マスクに照射せず、前記安定期間には、前記パルス光を前記可変成形マスクに照射するように、前記光源または前記複数の可動ミラーの動作を制御することと、
を含む露光方法。 - 光源からのパルス光を複数の可動ミラーを有する可変成形マスクに照射し、前記可変成形マスクを介した光で、任意のパターンを基板に露光する露光方法であって、
前記複数の可動ミラーの動作状態を検出し、前記複数の可動ミラーが静止している期間である安定期間にあるか否かを判断することと、
前記複数の可動ミラーの前記動作状態に合わせて、前記光源または前記複数の可動ミラーの動作を制御することを特徴とする露光方法。 - 前記光源は、Qスイッチレーザでパルス光を射出することを特徴とする請求項1又は2に記載の露光方法。
- 前記判断することは、前記複数の可動ミラーの動作を開始させる駆動信号から前記複数の可動ミラーの安定期間が開始される開始時間までの経過時間を計測し、前記駆動信号から前記経過時間経過後を前記複数の可動ミラーの安定期間と判断することを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の露光方法。
- 前記制御することは、前記基板に露光される前記任意のパターンを複数の階調に設定可能であり、所望の階調が得られる安定期間に合わせて、前記パルス光の照射を行うことを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の露光方法。
- 請求項1乃至5の何れか一項に記載の露光方法により所定のパターンを基板上に露光転写する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。 - 光源からのパルス光を複数の可動ミラーを有する可変成形マスクに照射し、前記可変成形マスクを介した光で、任意のパターンを基板に露光する露光装置であって、
前記複数の可動ミラーを動作させる駆動装置と、
前記複数の可動ミラーの動作状態を検出する検出装置を有し、前記複数の可動ミラーが静止している期間である安定期間にあるか否かを判断する安定状態判断装置と、
前記複数の可動ミラーが動作している期間である動作期間に、前記パルス光を前記可変成形マスクに照射せず、前記安定期間に、前記パルス光を前記可変成形マスクに照射するように、前記光源または前記駆動装置を制御する制御装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 光源からのパルス光を複数の可動ミラーを有する可変成形マスクに照射し、前記可変成形マスクを介した光で、任意のパターンを基板に露光する露光装置であって、
前記複数の可動ミラーの動作状態を検出する検出装置を有し、前記複数の可動ミラーが静止している期間である安定期間にあるか否かを判断する安定状態判断装置と、
前記複数の可動ミラーの前記動作状態に合わせて、前記光源または前記複数の可動ミラーの動作を制御する制御装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記光源は、Qスイッチレーザを用いることを特徴とする請求項7又は8に記載の露光装置。
- 前記光源は、複数の光源ユニットから成り、
前記制御装置は、前記安定期間に前記複数の光源ユニットのパルス光を前記可変成形マスクに照射することを特徴とする請求項7乃至9の何れか一項に記載の露光装置。 - 前記制御装置は、前記安定期間内に複数回前記パルス光を前記可変成形マスクに照射することを特徴とする請求項7乃至10の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記安定状態判断装置は、前記複数の可動ミラーの動作を開始させる駆動信号から前記複数の可動ミラーの安定期間が開始される開始時間までの経過時間を計測し、前記駆動信号から前記経過時間経過後を前記複数の可動ミラーの安定期間と判断することを特徴とする請求項7乃至11の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記制御装置は、前記基板に露光される前記任意のパターンを複数の階調に設定可能であり、所望の階調が得られる安定期間に合わせて、前記光源から射出される前記パルス光の照射を行うことを特徴とする請求項7乃至12の何れか一項に記載の露光装置。
- 請求項7乃至13の何れか一項に記載の露光装置を用い、所定のパターンを基板上に露光転写する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。
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