JP4792530B2 - レーザ光パルスの位相制御装置 - Google Patents

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Description

本発明は、レーザ光パルスの位相の制御に関する。
従来より、2台のレーザの出力する光パルスの位相差を検出し、その検出結果に基づき、2台のレーザのうちのいずれかの出力する光パルスの位相を制御することが知られている(例えば、特許文献1の図13、特許文献2の図2を参照)。
特開平10−96610号公報 独国実用新案第202008009021号明細書
本発明は、2台のレーザの出力する光パルスの位相差の検出結果によらないで、レーザの出力する光パルスの位相を制御することを課題とする。
本発明にかかる第一のレーザ光パルスの位相制御装置は、レーザ光パルスを出力するレーザと、所定の周波数の基準電気信号の電圧と、所定の電圧とを比較し、その結果を出力する基準比較器と、前記レーザ光パルスの光強度に基づく電圧および前記所定の周波数を有する測定電気信号の電圧と、位相制御信号の電圧とを比較し、その結果を出力する測定比較器と、前記基準比較器の出力と、前記測定比較器の出力との位相差を検出する位相差検出器と、前記位相差検出器の出力の高周波成分を除去するループフィルタと、を備え、前記位相制御信号の電圧は、前記所定の電圧とは異なり、前記レーザは、前記ループフィルタの出力に応じて、前記レーザ光パルスの位相を変化させるように構成される。
上記のように構成された第一のレーザ光パルスの位相制御装置によれば、レーザは、レーザ光パルスを出力する。基準比較器は、所定の周波数の基準電気信号の電圧と、所定の電圧とを比較し、その結果を出力する。測定比較器は、前記レーザ光パルスの光強度に基づく電圧および前記所定の周波数を有する測定電気信号の電圧と、位相制御信号の電圧とを比較し、その結果を出力する。位相差検出器は、前記基準比較器の出力と、前記測定比較器の出力との位相差を検出する。ループフィルタは、前記位相差検出器の出力の高周波成分を除去する。さらに、前記位相制御信号の電圧は、前記所定の電圧とは異なる。しかも、前記レーザは、前記ループフィルタの出力に応じて、前記レーザ光パルスの位相を変化させる。
なお、本発明にかかる第一のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記所定の電圧が、接地電位であるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第一のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記レーザの共振器長が、前記ループフィルタの出力に応じて、変化するようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第一のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記レーザが、ピエゾ素子を有し、前記ピエゾ素子に、前記ループフィルタの出力が与えられ、前記ピエゾ素子の伸縮により、前記レーザの共振器長が変化するようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第一のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記レーザ光パルスを受ける光電変換部と、前記光電変換部の出力の高周波成分を除去するローパスフィルタと、を備え、前記測定電気信号は、前記ローパスフィルタの出力に基づくようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第一のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記位相制御信号が、任意波形発生器から出力されるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第一のレーザ光パルスの位相制御装置は、基準レーザ光パルスを出力する基準レーザと、前記基準レーザ光パルスを受ける基準光電変換部と、前記基準光電変換部の出力の高周波成分を除去する基準ローパスフィルタと、をさらに備え、前記基準電気信号は、前記基準ローパスフィルタの出力に基づくようにしてもよい。
本発明にかかる第二のレーザ光パルスの位相制御装置は、レーザ光パルスを出力するレーザと、所定の周波数の基準電気信号の電圧と、所定の電圧とを比較し、その結果を出力する基準比較器と、前記レーザ光パルスの光強度に基づく電圧および前記所定の周波数を有する測定電気信号の電圧と、前記所定の電圧とを比較し、その結果を出力する測定比較器と、前記基準比較器の出力と、前記測定比較器の出力との位相差を検出する位相差検出器と、前記位相差検出器の出力の高周波成分を除去するループフィルタと、を備え、前記測定電気信号の電圧を変化させ、前記レーザは、前記ループフィルタの出力に応じて、前記レーザ光パルスの位相を変化させるように構成される。
上記のように構成された第二のレーザ光パルスの位相制御装置によれば、レーザが、レーザ光パルスを出力する。基準比較器が、所定の周波数の基準電気信号の電圧と、所定の電圧とを比較し、その結果を出力する。測定比較器が、前記レーザ光パルスの光強度に基づく電圧および前記所定の周波数を有する測定電気信号の電圧と、前記所定の電圧とを比較し、その結果を出力する。位相差検出器が、前記基準比較器の出力と、前記測定比較器の出力との位相差を検出する。ループフィルタが、前記位相差検出器の出力の高周波成分を除去する。さらに、前記測定電気信号の電圧を変化させる。しかも、前記レーザは、前記ループフィルタの出力に応じて、前記レーザ光パルスの位相を変化させる。
なお、本発明にかかる第二のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記レーザを励起する励起光のパワーを変化させることにより、前記測定電気信号の電圧を変化させるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記レーザ光パルスを減衰させることにより、前記測定電気信号の電圧を変化させ、前記減衰の程度が可変であるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記所定の電圧が、接地電位であるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記レーザの共振器長が、前記ループフィルタの出力に応じて、変化するようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記レーザが、ピエゾ素子を有し、前記ピエゾ素子に、前記ループフィルタの出力が与えられ、前記ピエゾ素子の伸縮により、前記レーザの共振器長が変化するようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記レーザ光パルスを受ける光電変換部と、前記光電変換部の出力の高周波成分を除去するローパスフィルタと、を備え、前記測定電気信号は、前記ローパスフィルタの出力に基づくようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記測定電気信号の電圧が、位相制御信号に基づき変化し、前記位相制御信号は、任意波形発生器から出力されるようにしてもよい。
本発明にかかる第三のレーザ光パルスの位相制御装置は、レーザ光パルスを出力するレーザと、所定の周波数の基準電気信号の電圧と、位相制御信号の電圧とを比較し、その結果を出力する基準比較器と、前記レーザ光パルスの光強度に基づく電圧および前記所定の周波数を有する測定電気信号の電圧と、所定の電圧とを比較し、その結果を出力する測定比較器と、前記基準比較器の出力と、前記測定比較器の出力との位相差を検出する位相差検出器と、前記位相差検出器の出力の高周波成分を除去するループフィルタと、を備え、前記位相制御信号の電圧は、前記所定の電圧とは異なり、前記レーザは、前記ループフィルタの出力に応じて、前記レーザ光パルスの位相を変化させるように構成される。
上記のように構成された第三のレーザ光パルスの位相制御装置によれば、レーザが、レーザ光パルスを出力する。基準比較器が、所定の周波数の基準電気信号の電圧と、位相制御信号の電圧とを比較し、その結果を出力する。測定比較器が、前記レーザ光パルスの光強度に基づく電圧および前記所定の周波数を有する測定電気信号の電圧と、所定の電圧とを比較し、その結果を出力する。位相差検出器が、前記基準比較器の出力と、前記測定比較器の出力との位相差を検出する。ループフィルタが、前記位相差検出器の出力の高周波成分を除去する。さらに、前記位相制御信号の電圧は、前記所定の電圧とは異なる。しかも、前記レーザは、前記ループフィルタの出力に応じて、前記レーザ光パルスの位相を変化させる。
なお、本発明にかかる第三のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記所定の電圧は、接地電位であるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記レーザの共振器長が、前記ループフィルタの出力に応じて、変化するようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記レーザが、ピエゾ素子を有し、前記ピエゾ素子に、前記ループフィルタの出力が与えられ、前記ピエゾ素子の伸縮により、前記レーザの共振器長が変化するようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記レーザ光パルスを受ける光電変換部と、前記光電変換部の出力の高周波成分を除去するローパスフィルタと、を備え、前記測定電気信号は、前記ローパスフィルタの出力に基づくようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三のレーザ光パルスの位相制御装置は、前記位相制御信号が、任意波形発生器から出力されるようにしてもよい。
本発明の第一の実施形態にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1の構成を示す機能ブロック図である。 第一の実施形態にかかる基準比較器22の出力電圧の波形(図2(a))、測定比較器15の出力電圧の波形(位相変動前)(図2(b))、アンプ18の出力電圧の波形(位相変動後)(図2(c))を示す図である。 第一の実施形態の変形例にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1の構成を示す機能ブロック図である。 本発明の第二の実施形態にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1の構成を示す機能ブロック図である。 第二の実施形態にかかる基準比較器22の出力電圧の波形(図5(a))、測定比較器15の出力電圧の波形(位相変動前)(図5(b))、アンプ18の出力電圧の波形(位相変動後)(図5(c))を示す図である。 第二の実施形態の変形例にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1の構成を示す機能ブロック図である。 本発明の第三の実施形態にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1の構成を示す機能ブロック図である。 第三の実施形態にかかる基準比較器22の出力電圧の波形(図8(a))、測定比較器15の出力電圧の波形(位相変動前)(図8(b))、アンプ18の出力電圧の波形(位相変動後)(図8(c))を示す図である。
以下、本発明の実施形態を図面を参照しながら説明する。
第一の実施形態
図1は、本発明の第一の実施形態にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1の構成を示す機能ブロック図である。図2は、第一の実施形態にかかる基準比較器22の出力電圧の波形(図2(a))、測定比較器15の出力電圧の波形(位相変動前)(図2(b))、アンプ18の出力電圧の波形(位相変動後)(図2(c))を示す図である。
第一の実施形態にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1は、レーザ12、第一位相制御信号源13、光カプラ14、測定比較器15、フォトダイオード(光電変換部)16、ローパスフィルタ17、アンプ18、基準電気信号源21、基準比較器22、位相比較器(位相差検出器)32、ループフィルタ34、ピエゾドライバ36を備える。
レーザ12は、レーザ光パルスを出力する。なお、レーザ光パルスの繰り返し周波数は、基準電気信号源21の出力する基準電気信号の周波数(例えば、50MHz)にほぼ等しい。
レーザ12は、ピエゾ素子12pを有する。ピエゾ素子12pは、ループフィルタ34の出力の電圧が、ピエゾドライバ36により増幅されて印加されることにより、X方向(図1における横方向)に伸縮する。ピエゾ素子12のX方向の伸縮によって、レーザ12のレーザ共振器長が変化する。レーザ共振器長の変化により、レーザ光パルスの繰り返し周波数が変化し、レーザ光パルスの位相が変化する。
光カプラ14は、レーザ12の出力するレーザ光パルスを受け、例えば、パワー比にして、1:9の割合で、フォトダイオード16と外部に出力する。例えば、フォトダイオード16に与えられるレーザ光パルスの光パワーが、レーザ12の出力するレーザ光パルスの光パワーの10%ということになる。
フォトダイオード(光電変換部)16は、光カプラ14からレーザ光パルスを受け、電気信号に変換する。レーザ光パルスの繰り返し周波数は50MHz程度である。しかも、ピエゾ素子12pの伸縮による繰り返し周波数の変動は微小であるため、レーザ光パルスの繰り返し周波数は50MHzとみなすことができる。よって、この電気信号は、周波数50MHzの成分(基準電気信号の周波数の成分)と、高周波成分(周波数が50MHzよりもはるかに高い)とを有することになる。
ローパスフィルタ17は、フォトダイオード16の出力の高周波成分を除去する。ローパスフィルタ17のカットオフ周波数は、例えば70MHzである。よって、ローパスフィルタ17が、フォトダイオード16の出力を受けると、高周波成分が除去され、周波数50MHzの成分(基準電気信号の周波数の成分)が通過することになる。なお、「除去」といった場合、必ずしも完全な除去のみを意味するわけではなく、わずかに高周波成分が残ってしまっても「除去」に該当する。これ以降の「除去」も同じ意味である。
アンプ18は、ローパスフィルタ17の出力を増幅する。アンプ18の出力を、測定電気信号という。測定電気信号を得ることが、レーザ光パルスの光強度を測定することに相当する。
測定電気信号は、フォトダイオード16の出力を、アンプ18で増幅したものなので、レーザ光パルスの光強度に基づく電圧を有する。しかも、測定電気信号は、ローパスフィルタ17を通過したものなので、所定の周波数(基準電気信号の周波数)を有する。
なお、ローパスフィルタ17とアンプ18とを入れ替え、フォトダイオード16の出力を、アンプ18を介して、ローパスフィルタ17に与えるようなことも考えられる。この場合は、測定電気信号は、ローパスフィルタ17の出力である。いずれにせよ、測定電気信号が、ローパスフィルタ17の出力に基づくものであることには、変わりは無い。
基準電気信号源21は、所定の周波数(例えば、50MHz)の基準電気信号を出力する。
基準比較器22は、基準電気信号の電圧と、所定の電圧とを比較し、その結果を出力する。なお、所定の電圧は、例えば、接地電位である。図1を参照して、基準比較器22の二個の入力端は、一方が基準電気信号源21の出力に接続され、他方が接地されている。基準比較器22の二個の入力端に入力される電圧の大小関係に応じて、基準比較器22が出力する信号が定められる。
例えば、図2(a)を参照して、基準電気信号源21の出力の電圧>接地電位(=0[V])であれば、基準比較器22が出力する信号の電圧が所定の正の値である。基準電気信号源21の出力の電圧≦接地電位(=0[V])であれば、基準比較器22が出力する信号の電圧が0[V]である。
第一位相制御信号源13は、位相制御信号を出力する。位相制御信号の電圧は、所定の電圧(接地電位)とは異なる。例えば、図2(b)の時間t1+Δtの近傍を参照して、位相制御信号の電圧ΔVは、接地電位0[V]とは異なる。なお、第一位相制御信号源13は、例えば、任意波形発生器である。例えば、任意波形発生器により位相制御信号を生成することで、位相制御信号を、時間t1+Δtにおいて電圧ΔV、時間t1+2Δtにおいて電圧2ΔV、…といったようにすることができる。また、図2(b)において、ΔV>0であるが、ΔV<0とすることも可能である。この場合、Δt<0となる。
測定比較器15は、測定電気信号の電圧と、位相制御信号の電圧とを比較し、その結果を出力する。すなわち、測定比較器15は、アンプ18の出力と、第一位相制御信号源13の出力とを受け、両者を比較し、その結果を出力する。
例えば、図2(b)の時間t1+Δtの近傍を参照して、アンプ18の出力の電圧>第一位相制御信号源13の出力の電圧ΔV、であれば、測定比較器15が出力する信号の電圧が所定の正の値である。アンプ18の出力の電圧≦第一位相制御信号源13の出力の電圧ΔVであれば、測定比較器15が出力する信号の電圧が0[V]である。
位相比較器(位相差検出器)32は、基準比較器22の出力と、測定比較器15の出力との位相差を検出して出力する。
ループフィルタ34は、位相比較器32の出力の高周波成分を除去する。
ピエゾドライバ36は、例えば、パワーアンプであり、ループフィルタ34の出力を増幅する。ピエゾドライバ36の出力は、ピエゾ素子12pに与えられる。これにより、ピエゾ素子12pがX方向に伸縮する。ただし、位相比較器32の検出する位相差が一定値(例えば、0度、90度または−90度)になるように、ピエゾ素子12pを伸縮させるものとする。これにより、レーザ光パルスの繰り返し周波数を、正確に、基準電気信号の周波数(例えば、50MHz)に合わせることができる。
次に、第一の実施形態の動作を説明する。
図2(a)を参照して、基準電気信号源21からは、所定の周波数(例えば、50MHz)の基準電気信号が出力されている。また、基準比較器22からは、基準電気信号の電圧と、接地電位(=0[V])との比較結果が出力される。よって、繰り返し周波数が50MHzのパルスが、基準比較器22から出力されている。ここで、基準比較器22から出力される、あるパルスの立ち上がり時間をt1とする。
ここで、時間t1+Δtよりも前の時間において、測定比較器15の一方の入力端が、第一位相制御信号源13の出力に接続されているのではなく、接地されているものとする(図1の測定比較器15に向かう点線の矢印を参照)。ただし、測定比較器15の他方の入力端は、アンプ18に接続されているものとする。
この場合、レーザ光パルスの位相制御装置1の動作は、通常のPLL回路と同様なものとなる。すなわち、レーザ光パルスの繰り返し周波数が50MHzになる(図2(b)のアンプ18の出力を参照)。
より詳細に説明すると、図1を参照して、レーザ12の出力するレーザ光パルスは光カプラ14によりその一部がフォトダイオード16に導かれ、光電変換され、さらにローパスフィルタ17を通過することにより高周波成分が除去される。さらに、ローパスフィルタ17の出力はアンプ18により増幅され、測定比較器15により、位相制御信号の電圧=接地電位(=0[V])と比較される。
位相比較器32は、測定比較器15の出力の位相と、基準比較器22の出力の位相とを比較し、両者の位相差を検出して出力する。位相比較器32の出力は、ループフィルタ34により高周波成分が除去され、ピエゾドライバ36により増幅されて、ピエゾ素子12pに与えられる。位相比較器32の検出する位相差が一定値(例えば、0度、90度または−90度)になるように、ピエゾ素子12pが伸縮する。これにより、レーザ光パルスの繰り返し周波数を、正確に、基準電気信号の周波数50MHzに合わせることができる。
図2(b)においては、位相比較器32の検出する位相差が0度になるように制御されている例を図示している。なお、アンプ18の出力の最後の1/4周期が点線になっているのは、その点線に対応する時間になれば、アンプ18の出力波形が実際には点線の位置から移動してしまうことを示すものである。図2(b)においては、時間t1+Δtから、およそ1/4周期(周波数50MHz)程度で、アンプ18の出力波形が移動することを想定している。ただし、1/4周期程度で、アンプ18の出力波形が移動するということは単なる一例であり、それよりも短い時間または長い時間かけて、アンプ18の出力波形が移動することもある。
さらに、図2(b)を参照して、時間t1+Δtの近傍において、測定比較器15の一方の入力端を接地することを止め、測定比較器15の一方の入力端に第一位相制御信号源13の出力する位相制御信号(電圧ΔV(>0[V]))を与えたとする。すると、測定比較器15の出力するパルスの立ち上がり時間が、t1+Δtとなる。これにより、基準比較器22から出力されるパルスの立ち上がり時間t1と、測定比較器15の出力するパルスの立ち上がり時間t1+Δtとの間に差異が生じる。
この場合も、位相比較器32の検出する位相差が0度になるように制御される。すなわち、測定比較器15の出力するパルスが左側にΔtだけ移動するように、アンプ18の出力波形が左側にΔtだけ移動するように制御される。
図2(c)には、アンプ18の出力波形が左側にΔtだけ移動したときの、アンプ18の出力波形が図示されている。アンプ18の出力の最初の1/4周期が点線になっているのは、その点線に対応する時間では、アンプ18の出力波形が移動しきっていないことを示すものである。すなわち、アンプ18の出力の最初の1/4周期の点線は、アンプ18の出力波形が左側にΔtだけ移動しきったときの波形を時間t1−Δtまで延長した仮想的なものである。
図2(b)および図2(c)を参照して、T/4程度の時間で、アンプ18の出力波形の位相が、Δt/Tだけ移動することがわかる(ただし、Tは、アンプ18の出力波形の周期)。よって、レーザ光パルスの位相もまた、T/4程度の時間で、Δt/Tだけ移動することがわかる。
第一の実施形態によれば、2台のレーザの出力する光パルスの位相差の検出結果によらないで、レーザ12の出力するレーザ光パルスの位相を制御することができる。
なお、第一の実施形態においては、基準電気信号源21が、基準電気信号を出力するものとして説明してきた。しかし、他にも、基準電気信号を出力するための構成があるので、第一の実施形態の変形例として説明する。
図3は、第一の実施形態の変形例にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1の構成を示す機能ブロック図である。
第一の実施形態の変形例にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1は、レーザ12、第一位相制御信号源13、光カプラ14、測定比較器15、フォトダイオード(光電変換部)16、ローパスフィルタ17、アンプ18、基準比較器22、基準レーザ23、光カプラ24、フォトダイオード(基準光電変換部)26、基準ローパスフィルタ27、アンプ28、位相比較器(位相差検出器)32、ループフィルタ34、ピエゾドライバ36を備える。
第一の実施形態の変形例にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1は、第一の実施形態にかかる基準電気信号源21(図1参照)のかわりに、基準レーザ23、光カプラ24、フォトダイオード(基準光電変換部)26、基準ローパスフィルタ27、アンプ28を備えたものである。他の部分は、第一の実施形態と同様であり説明を省略する。
基準レーザ23は、基準レーザ光パルスを出力する。なお、基準レーザ光パルスの繰り返し周波数は、基準電気信号の周波数(例えば、50MHz)に等しい。
光カプラ24は、基準レーザ23の出力する基準レーザ光パルスを受け、例えば、パワー比にして、1:9の割合で、フォトダイオード26と外部に出力する。例えば、フォトダイオード26に与えられる基準レーザ光パルスの光パワーが、基準レーザ23の出力する基準レーザ光パルスの光パワーの10%ということになる。
フォトダイオード(基準光電変換部)26は、光カプラ24から基準レーザ光パルスを受け、電気信号に変換する。この電気信号は、周波数50MHzの成分(基準電気信号の周波数の成分)と、高周波成分(周波数が50MHzよりもはるかに高い)とを有する。
基準ローパスフィルタ27は、フォトダイオード26の出力の高周波成分を除去する。基準ローパスフィルタ27のカットオフ周波数は、例えば70MHzである。よって、基準ローパスフィルタ27が、フォトダイオード26の出力を受けると、高周波成分が除去され、周波数50MHzの成分が通過することになる。
アンプ28は、基準ローパスフィルタ27の出力を増幅する。アンプ28の出力が、基準電気信号となる。
なお、基準ローパスフィルタ27とアンプ28とを入れ替え、フォトダイオード26の出力を、アンプ28を介して、基準ローパスフィルタ27に与えるようなことも考えられる。この場合は、基準電気信号は、基準ローパスフィルタ27の出力である。いずれにせよ、基準電気信号が、基準ローパスフィルタ27の出力に基づくものであることには、変わりは無い。
第二の実施形態
第二の実施形態にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1は、フォトダイオード(光電変換部)16に与えられるレーザ光パルスの光強度を変えて、レーザ12の出力するレーザ光パルスの位相を制御する点が、第一の実施形態にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1と異なる。
図4は、本発明の第二の実施形態にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1の構成を示す機能ブロック図である。図5は、第二の実施形態にかかる基準比較器22の出力電圧の波形(図5(a))、測定比較器15の出力電圧の波形(位相変動前)(図5(b))、アンプ18の出力電圧の波形(位相変動後)(図5(c))を示す図である。
第二の実施形態にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1は、レーザ12、第二位相制御信号源132、光カプラ14、測定比較器15、フォトダイオード(光電変換部)16、ローパスフィルタ17、アンプ18、励起用LDドライバ19、基準電気信号源21、基準比較器22、位相比較器(位相差検出器)32、ループフィルタ34、ピエゾドライバ36を備える。以下、第一の実施形態と同様な部分は、同一の番号を付して説明を省略する。
ピエゾ素子12p、光カプラ14、フォトダイオード(光電変換部)16、ローパスフィルタ17、アンプ18、基準電気信号源21、基準比較器22、位相比較器(位相差検出器)32、ループフィルタ34、ピエゾドライバ36は、第一の実施形態と同様であり、説明を省略する。
レーザ12は、図示省略した励起用LD(Laser Diode)を有する。励起用LDはレーザ12を励起する励起光を出力するレーザダイオードである。なお、それ以外は、レーザ12は、第一の実施形態と同様であり、説明を省略する。
第二位相制御信号源132は、位相制御信号を出力し、励起用LDドライバ19に与える。なお、第二位相制御信号源132は、例えば、任意波形発生器である。励起用LDドライバ19は、位相制御信号に基づき、励起用LDの出力する励起光のパワーを変化させる。励起光のパワーの変化により、レーザ光パルスの光パワーも変化し、測定電気信号の電圧も変化する。
測定比較器15の二個の入力端は、一方がアンプ18の出力(測定電気信号)に接続され、他方が接地される。測定比較器15は、測定電気信号の電圧と、接地電位(=0[V])とを比較し、その結果を出力する。
例えば、図5(b)の時間t1+Δtの近傍を参照して、アンプ18の出力の電圧>接地電位(=0[V])、であれば、測定比較器15が出力する信号の電圧が所定の正の値である。アンプ18の出力の電圧≦接地電位(=0[V])、であれば、測定比較器15が出力する信号の電圧が0[V]である。
次に、第二の実施形態の動作を説明する。
図5(a)を参照して、基準電気信号源21からは、所定の周波数(例えば、50MHz)の基準電気信号が出力されている。また、基準比較器22からは、基準電気信号の電圧と、接地電位(=0[V])との比較結果が出力される。よって、繰り返し周波数が50MHzのパルスが、基準比較器22から出力されている。ここで、基準比較器22から出力される、あるパルスの立ち上がり時間をt1とする。
ここで、時間t1よりも前の時間において、アンプ18の出力(測定電気信号)の平均の電圧を0[V]にしておく。この場合、レーザ光パルスの位相制御装置1の動作は、通常のPLL回路と同様なものとなる。すなわち、レーザ光パルスの繰り返し周波数が50MHzになる(図5(b)のアンプ18の出力を参照)。通常のPLL回路の動作は、第一の実施形態でも説明したとおりであり、説明を省略する。
さらに、時間t1(図5(b)を参照)において、第二位相制御信号源132が位相制御信号を出力し、励起用LDドライバ19に与える。励起用LDドライバ19は、位相制御信号に基づき、励起用LDの出力する励起光のパワーを変化させる。励起光のパワーの変化により、レーザ光パルスの光パワーも変化し、アンプ18の出力(測定電気信号)の電圧も変化する。
なお、図5(b)において、アンプ18の出力の最後の1/4周期が点線になっているのは、その点線に対応する時間になれば、アンプ18の出力波形が実際には点線の位置から移動してしまうことを示すものである(第一の実施形態と同様)。
ここで、図5(b)を参照して、アンプ18の出力(測定電気信号)の平均の電圧を−ΔV[V]にするように、励起光のパワーを変化させたものとする。ただし、ΔVの値は、第一の実施形態と同じものとする。すると、測定比較器15の出力するパルスの立ち上がり時間が、t1+Δtとなる。ただし、Δtの値は、第一の実施形態と同じものとする。これにより、基準比較器22から出力されるパルスの立ち上がり時間t1と、測定比較器15の出力するパルスの立ち上がり時間t1+Δtとの間に差異が生じる。
この場合も、位相比較器32の検出する位相差が0度になるように制御される。すなわち、測定比較器15の出力するパルスが左側にΔtだけ移動するように、アンプ18の出力波形が左側にΔtだけ移動するように制御される。
図5(c)には、アンプ18の出力波形が左側にΔtだけ移動したときの、アンプ18の出力波形が図示されている。アンプ18の出力の最初の1/4周期が点線になっているのは、その点線に対応する時間では、アンプ18の出力波形が移動しきっていないことを示すものである。すなわち、アンプ18の出力の最初の1/4周期の点線は、アンプ18の出力波形が左側にΔtだけ移動しきったときの波形を時間t1−Δtまで延長した仮想的なものである。
図5(b)および図5(c)を参照して、T/4程度の時間で、アンプ18の出力波形の位相が、Δt/Tだけ移動することがわかる(ただし、Tは、アンプ18の出力波形の周期)。よって、レーザ光パルスの位相もまた、T/4程度の時間で、Δt/Tだけ移動することがわかる。
第二の実施形態によれば、2台のレーザの出力する光パルスの位相差の検出結果によらないで、レーザ12の出力するレーザ光パルスの位相を制御することができる。
なお、第二の実施形態においては、励起光のパワーを変化させることにより、アンプ18の出力(測定電気信号)の平均電圧を変化させるものとして説明してきた。しかし、レーザ光パルスを減衰させて、フォトダイオード(光電変換部)16に与えても、アンプ18の出力(測定電気信号)の平均電圧を変化させることができるので、第二の実施形態の変形例として説明する。
図6は、第二の実施形態の変形例にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1の構成を示す機能ブロック図である。
第二の実施形態の変形例にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1は、可変光減衰器11、レーザ12、第三位相制御信号源134、光カプラ14、測定比較器15、フォトダイオード(光電変換部)16、ローパスフィルタ17、アンプ18、基準電気信号源21、基準比較器22、位相比較器(位相差検出器)32、ループフィルタ34、ピエゾドライバ36を備える。
第二の実施形態の変形例にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1は、第二位相制御信号源132および励起用LDドライバ19にかえて、第三位相制御信号源134および可変光減衰器11を備えたものである。他の部分は、第二の実施形態と同様であり説明を省略する。
第三位相制御信号源134は、位相制御信号を出力し、可変光減衰器11に与える。なお、第三位相制御信号源134は、例えば、任意波形発生器である。可変光減衰器11は、光カプラ14からレーザ光パルスを受け、位相制御信号に基づき、レーザ光パルスの光強度を減衰させる程度を変えて(減衰させる程度は可変)、フォトダイオード16に与える。これにより、測定電気信号の電圧も変化する。
第三の実施形態
第三の実施形態にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1は、第一の実施形態にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1における測定比較器15の入力の一方および基準比較器22の入力の一方を変更したものである。
図7は、本発明の第三の実施形態にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1の構成を示す機能ブロック図である。図8は、第三の実施形態にかかる基準比較器22の出力電圧の波形(図8(a))、測定比較器15の出力電圧の波形(位相変動前)(図8(b))、アンプ18の出力電圧の波形(位相変動後)(図8(c))を示す図である。
第三の実施形態にかかるレーザ光パルスの位相制御装置1は、レーザ12、第四位相制御信号源136、光カプラ14、測定比較器15、フォトダイオード(光電変換部)16、ローパスフィルタ17、アンプ18、基準電気信号源21、基準比較器22、位相比較器(位相差検出器)32、ループフィルタ34、ピエゾドライバ36を備える。以下、第一の実施形態と同様な部分は、同一の番号を付して説明を省略する。
レーザ12、ピエゾ素子12p、光カプラ14、フォトダイオード(光電変換部)16、ローパスフィルタ17、アンプ18、基準電気信号源21、位相比較器(位相差検出器)32、ループフィルタ34、ピエゾドライバ36は、第一の実施形態と同様であり、説明を省略する。
第四位相制御信号源136は、位相制御信号を出力する。位相制御信号の電圧は、所定の電圧(接地電位)とは異なる。例えば、図8(a)の時間t1+Δtの近傍を参照して、位相制御信号の電圧ΔVは、接地電位0[V]とは異なる。なお、第四位相制御信号源136は、例えば、任意波形発生器である。例えば、任意波形発生器により位相制御信号を生成することで、位相制御信号を、時間t1+Δtにおいて電圧ΔV、時間t1+2Δtにおいて電圧2ΔV、…といったようにすることができる。また、図8(a)において、ΔV>0であるが、ΔV<0とすることも可能である。この場合、Δt<0となる。
基準比較器22は、基準電気信号の電圧と、位相制御信号の電圧とを比較し、その結果を出力する。図7を参照して、基準比較器22の二個の入力端は、一方が基準電気信号源21の出力に接続され、他方が第四位相制御信号源136の出力に接続されている。基準比較器22の二個の入力端に入力される電圧の大小関係に応じて、基準比較器22が出力する信号が定められる。
例えば、図8(a)の時間t1+Δtの近傍を参照して、基準電気信号源21の出力の電圧>第四位相制御信号源136の出力の電圧ΔV、であれば、基準比較器22が出力する信号の電圧が所定の正の値である。基準電気信号源21の出力の電圧≦第四位相制御信号源136の出力の電圧ΔVであれば、基準比較器22が出力する信号の電圧が0[V]である。
測定比較器15は、測定電気信号の電圧と、所定の電圧とを比較し、その結果を出力する。なお、所定の電圧は、例えば、接地電位である。すなわち、測定比較器15は、アンプ18の出力電圧と、接地電位0[V]とを比較し、その結果を出力する。
例えば、図8(b)を参照して、アンプ18の出力の電圧>接地電位0[V]、であれば、測定比較器15が出力する信号の電圧が所定の正の値である。アンプ18の出力の電圧≦接地電位0[V]、であれば、測定比較器15が出力する信号の電圧が0[V]である。
次に、第三の実施形態の動作を説明する。
図8(a)を参照して、基準電気信号源21からは、所定の周波数(例えば、50MHz)の基準電気信号が出力されている。ここで、時間t1+Δtよりも前の時間において、基準比較器22の一方の入力端が、第四位相制御信号源136の出力に接続されているのではなく、接地されているものとする(図7の基準比較器22に向かう点線の矢印を参照)。ただし、基準比較器22の他方の入力端は、基準電気信号源21に接続されているものとする。
この場合、レーザ光パルスの位相制御装置1の動作は、通常のPLL回路と同様なものとなる。すなわち、レーザ光パルスの繰り返し周波数が50MHzになる(図8(b)のアンプ18の出力を参照)。通常のPLL回路の動作は、第一の実施形態でも説明したとおりであり、説明を省略する。
なお、アンプ18の出力の周波数が50MHzとなる。また、図8(b)を参照して、測定比較器15からは、アンプ18の出力の電圧と、接地電位(=0[V])との比較結果が出力される。よって、繰り返し周波数が50MHzのパルスが、測定比較器15から出力されている。ここで、測定比較器15から出力される、あるパルスの立ち上がり時間をt1とする。
さらに、図8(a)を参照して、時間t1+Δtの近傍において、基準比較器22の一方の入力端を接地することを止め、第四位相制御信号源136の出力する位相制御信号(電圧ΔV(>0[V]))を与えたとする。すると、基準比較器22の出力するパルスの立ち上がり時間が、t1+Δtとなる。これにより、測定比較器15から出力されるパルスの立ち上がり時間t1と、基準比較器22の出力するパルスの立ち上がり時間t1+Δtとの間に差異が生じる。
この場合も、位相比較器32の検出する位相差が0度になるように制御される。すなわち、測定比較器15の出力するパルスが右側にΔtだけ移動するように、アンプ18の出力波形が右側にΔtだけ移動するように制御される。
図8(c)には、アンプ18の出力波形が右側にΔtだけ移動したときの、アンプ18の出力波形が図示されている。アンプ18の出力の最初の1/4周期が点線になっているのは、その点線に対応する時間では、アンプ18の出力波形が移動しきっていないことを示すものである。すなわち、アンプ18の出力の最初の1/4周期の点線は、アンプ18の出力波形が右側にΔtだけ移動しきったときの波形を時間t1+Δtまで延長した仮想的なものである。
図8(b)および図8(c)を参照して、T/4程度の時間で、アンプ18の出力波形の位相が、Δt/Tだけ移動することがわかる(ただし、Tは、アンプ18の出力波形の周期)。よって、レーザ光パルスの位相もまた、T/4程度の時間で、Δt/Tだけ移動することがわかる。
第三の実施形態によれば、2台のレーザの出力する光パルスの位相差の検出結果によらないで、レーザ12の出力するレーザ光パルスの位相を制御することができる。
T アンプ18の出力波形の周期
ΔV 位相制御信号の電圧
11 可変光減衰器
12 レーザ
13 第一位相制御信号源
132 第二位相制御信号源
134 第三位相制御信号源
136 第四位相制御信号源
14 光カプラ
15 測定比較器
16 フォトダイオード(光電変換部)
17 ローパスフィルタ
18 アンプ
19 励起用LDドライバ
21 基準電気信号源
22 基準比較器
23 基準レーザ
24 光カプラ
26 フォトダイオード(基準光電変換部)
27 基準ローパスフィルタ
28 アンプ
32 位相比較器(位相差検出器)
34 ループフィルタ
36 ピエゾドライバ

Claims (21)

  1. レーザ光パルスを出力するレーザと、
    所定の周波数の基準電気信号の電圧と、所定の電圧とを比較し、その結果を出力する基準比較器と、
    前記レーザ光パルスの光強度に基づく電圧および前記所定の周波数を有する測定電気信号の電圧と、位相制御信号の電圧とを比較し、その結果を出力する測定比較器と、
    前記基準比較器の出力と、前記測定比較器の出力との位相差を検出する位相差検出器と、
    前記位相差検出器の出力の高周波成分を除去するループフィルタと、
    を備え、
    前記位相制御信号の電圧は、前記所定の電圧とは異なり、
    前記レーザは、前記ループフィルタの出力に応じて、前記レーザ光パルスの位相を変化させる、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  2. 請求項1に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記所定の電圧は、接地電位である、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  3. 請求項1に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記レーザの共振器長が、前記ループフィルタの出力に応じて、変化する、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  4. 請求項3に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記レーザは、ピエゾ素子を有し、
    前記ピエゾ素子に、前記ループフィルタの出力が与えられ、
    前記ピエゾ素子の伸縮により、前記レーザの共振器長が変化する、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  5. 請求項1に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記レーザ光パルスを受ける光電変換部と、
    前記光電変換部の出力の高周波成分を除去するローパスフィルタと、
    を備え、
    前記測定電気信号は、前記ローパスフィルタの出力に基づく、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  6. 請求項1に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記位相制御信号は、任意波形発生器から出力される、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  7. 請求項1に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    基準レーザ光パルスを出力する基準レーザと、
    前記基準レーザ光パルスを受ける基準光電変換部と、
    前記基準光電変換部の出力の高周波成分を除去する基準ローパスフィルタと、
    をさらに備え、
    前記基準電気信号は、前記基準ローパスフィルタの出力に基づく、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  8. レーザ光パルスを出力するレーザと、
    所定の周波数の基準電気信号の電圧と、所定の電圧とを比較し、その結果を出力する基準比較器と、
    前記レーザ光パルスの光強度に基づく電圧および前記所定の周波数を有する測定電気信号の電圧と、前記所定の電圧とを比較し、その結果を出力する測定比較器と、
    前記基準比較器の出力と、前記測定比較器の出力との位相差を検出する位相差検出器と、
    前記位相差検出器の出力の高周波成分を除去するループフィルタと、
    を備え、
    前記測定電気信号の電圧を変化させ、
    前記レーザは、前記ループフィルタの出力に応じて、前記レーザ光パルスの位相を変化させる、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  9. 請求項8に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記レーザを励起する励起光のパワーを変化させることにより、前記測定電気信号の電圧を変化させる、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  10. 請求項8に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記レーザ光パルスを減衰させることにより、前記測定電気信号の電圧を変化させ、
    前記減衰の程度が可変である、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  11. 請求項8ないし10のいずれか一項に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記所定の電圧は、接地電位である、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  12. 請求項8ないし10のいずれか一項に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記レーザの共振器長が、前記ループフィルタの出力に応じて、変化する、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  13. 請求項12に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記レーザは、ピエゾ素子を有し、
    前記ピエゾ素子に、前記ループフィルタの出力が与えられ、
    前記ピエゾ素子の伸縮により、前記レーザの共振器長が変化する、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  14. 請求項8ないし10のいずれか一項に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記レーザ光パルスを受ける光電変換部と、
    前記光電変換部の出力の高周波成分を除去するローパスフィルタと、
    を備え、
    前記測定電気信号は、前記ローパスフィルタの出力に基づく、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  15. 請求項8ないし10のいずれか一項に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記測定電気信号の電圧が、位相制御信号に基づき変化し、
    前記位相制御信号は、任意波形発生器から出力される、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  16. レーザ光パルスを出力するレーザと、
    所定の周波数の基準電気信号の電圧と、位相制御信号の電圧とを比較し、その結果を出力する基準比較器と、
    前記レーザ光パルスの光強度に基づく電圧および前記所定の周波数を有する測定電気信号の電圧と、所定の電圧とを比較し、その結果を出力する測定比較器と、
    前記基準比較器の出力と、前記測定比較器の出力との位相差を検出する位相差検出器と、
    前記位相差検出器の出力の高周波成分を除去するループフィルタと、
    を備え、
    前記位相制御信号の電圧は、前記所定の電圧とは異なり、
    前記レーザは、前記ループフィルタの出力に応じて、前記レーザ光パルスの位相を変化させる、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  17. 請求項16に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記所定の電圧は、接地電位である、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  18. 請求項16に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記レーザの共振器長が、前記ループフィルタの出力に応じて、変化する、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  19. 請求項18に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記レーザは、ピエゾ素子を有し、
    前記ピエゾ素子に、前記ループフィルタの出力が与えられ、
    前記ピエゾ素子の伸縮により、前記レーザの共振器長が変化する、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  20. 請求項16に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記レーザ光パルスを受ける光電変換部と、
    前記光電変換部の出力の高周波成分を除去するローパスフィルタと、
    を備え、
    前記測定電気信号は、前記ローパスフィルタの出力に基づく、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
  21. 請求項16に記載のレーザ光パルスの位相制御装置であって、
    前記位相制御信号は、任意波形発生器から出力される、
    レーザ光パルスの位相制御装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0719455B2 (ja) * 1986-05-13 1995-03-06 パイオニア株式会社 トラツキング制御装置
US5132831A (en) * 1989-04-20 1992-07-21 Hughes Aircraft Company Analog optical processing for the construction of fractal objects
JP2552944Y2 (ja) * 1990-03-22 1997-11-05 株式会社ケンウッド 位相メータ
US5778016A (en) * 1994-04-01 1998-07-07 Imra America, Inc. Scanning temporal ultrafast delay methods and apparatuses therefor
JPH07311228A (ja) * 1994-05-20 1995-11-28 Fuji Electric Co Ltd 位相差検出回路
US6859509B1 (en) * 2000-02-04 2005-02-22 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Wide bandwidth phase-locked loop circuit
JP3504592B2 (ja) * 2000-07-24 2004-03-08 住友重機械工業株式会社 パルスレーザ発生装置及びそれを利用したx線発生装置
JP3590571B2 (ja) * 2000-08-30 2004-11-17 株式会社日立国際電気 歪補償装置
US6548971B2 (en) * 2001-05-22 2003-04-15 Matsushita Electric Works, Ltd. Dual sided self-oscillation circuit for driving an oscillatory actuator
DE202008009021U1 (de) 2008-07-07 2008-10-09 Toptica Photonics Ag Elektronisch gesteuerte optische Abtastung

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