JP4770342B2 - Method for producing shrink film with hologram - Google Patents

Method for producing shrink film with hologram Download PDF

Info

Publication number
JP4770342B2
JP4770342B2 JP2005259370A JP2005259370A JP4770342B2 JP 4770342 B2 JP4770342 B2 JP 4770342B2 JP 2005259370 A JP2005259370 A JP 2005259370A JP 2005259370 A JP2005259370 A JP 2005259370A JP 4770342 B2 JP4770342 B2 JP 4770342B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hologram
layer
shrink film
ionizing radiation
adhesive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005259370A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2007069472A (en
Inventor
真治 田島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2005259370A priority Critical patent/JP4770342B2/en
Publication of JP2007069472A publication Critical patent/JP2007069472A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4770342B2 publication Critical patent/JP4770342B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Holo Graphy (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Description

本発明は、ホログラム付き収縮フィルムに関し、さらに詳しくは、収縮フィルムの収縮収縮への追従性がよく、また、できるだけ大きな面積とするためのホログラム転写箔、ホログラム付き収縮フィルム及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a shrink film with a hologram, and more particularly, relates to a hologram transfer foil, a shrink film with a hologram, and a method for manufacturing the same to make the shrink film have good followability to shrink shrinkage and to have as large an area as possible. is there.

本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「%」などは特に断わらない限り質量基準であり、「/」印は一体的に積層されていることを示す。また、「PET」は「ポリエチレンテレフタレート」、「PU」は「ポリウレタン」、及び「シュリンク」は「収縮」の略語、同意語、機能的表現、通称、又は業界用語である。   In the present specification, “ratio”, “part”, “%” and the like indicating the composition are based on mass unless otherwise specified, and the “/” mark indicates that they are integrally laminated. “PET” is an abbreviation, synonym, functional expression, common name, or industry term for “polyethylene terephthalate”, “PU” for “polyurethane”, and “shrink” for “shrinkage”.

(主なる用途)本発明のホログラム付き収縮フィルムの主なる用途としては、缶、ビン、ボトルなどの立体成形品や、各種物品や個包装物の集積包装などを、シュリンク包装するもので、特異な意匠性を向上させたもので、成形品や個包装物の内容物は任意である。
しかしながら、できるだけ大きな面積、又は好ましくは全面としたり、ホログラム絵柄を背景とし他の任意な印刷絵柄と合わせて、さらなる特異な意匠性を必要とする用途であれば、特に限定されるものではない。
(Main use) The main use of the shrink film with hologram of the present invention is to shrink packaging three-dimensional molded products such as cans, bottles, bottles, and various products and individual packages. As a result, the contents of molded products and individual packages are arbitrary.
However, the area is not particularly limited as long as it is an area that is as large as possible, or preferably the entire surface, or uses a hologram pattern as a background and other arbitrary printed patterns and requires a more specific design.

(背景技術)
通常、ホログラムは収縮によって光輝性が変化し、特に反射層がアルミニウムの場合には、本来の金属光沢が収縮によって白化し全く金属光沢が失われ、ホログラムも消失してしまう。従来は収縮の影響を最小に押えようと、収縮の少ない部分へホログラムを貼着又は転写したり、小さい面積のホログラムとしたりすることで、収縮の影響を最小に押えなければならなかった。
ホログラム付き収縮フィルムは、収縮フィルムの熱による収縮に耐える耐熱性と、収縮フィルムの収縮率が大きくても収縮へ追従性がよく、ホログラム効果の低下が少なく意匠性に優れ、即ち、耐熱性と収縮性ろが両立できるものが求められている。また、できるだけ大きな面積、又は好ましくは全面としたり、ホログラム絵柄を背景とし他の任意な印刷絵柄と合わせて、さらなる特異な意匠性も求められている。
(Background technology)
Usually, the brightness of the hologram changes due to the shrinkage, and particularly when the reflective layer is aluminum, the original metallic luster becomes white due to the shrinkage and the metallic luster is lost completely, and the hologram is also lost. Conventionally, in order to suppress the influence of shrinkage to the minimum, it has been necessary to suppress the influence of shrinkage to a minimum by attaching or transferring a hologram to a portion with little shrinkage, or making a hologram with a small area.
The shrink film with hologram is heat resistant to withstand shrinkage due to heat of the shrink film, and has good conformability to shrinkage even if the shrink rate of the shrink film is large, and has excellent design with little decrease in hologram effect. There is a demand for a material having both shrinkage and filtration properties. Further, there is also a demand for a more specific design property with an area as large as possible, or preferably the entire surface, or in combination with other arbitrary printed patterns with a holographic pattern as a background.

(先行技術)従来、熱収縮フィルムへホログラム転写シートからホログラム画像し、該熱収縮フィルムを被着体へ巻き付けて収縮させる方法が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
また、装飾効果と偽造防止の機能を奏する包装体として、熱収縮フィルムの一方の面へホログラムを、他方の面へ裏移り防止層を設けた包装体が知られている(例えば、特許文献2参照。)。
しかしながら、特許文献1〜2は本出願人によるもので、いずれのホログラムも転写又は貼着によるもので、ドライラミネーション法については記載も示唆もされていない。
収縮率も、特許文献2では収縮率5%以下となるように明記されており、低収縮率に限られているのは明らかである。上記欠点を解消するために、さらに鋭意研究を進め、ホログラム層の樹脂を伸縮性のある樹脂に限定し、収縮フィルムへの積層を伸縮性のあるポリウレタン系接着剤を用いたドライラミネーション法に限定することで、ホログラム自身の耐収縮性を高め、収縮フィルムの収縮に追従性を持たせたもので、ホログラム自身の耐収縮性については特許文献1〜2には記載も示唆もされていない。
(Prior Art) Conventionally, a method is known in which a hologram image is transferred from a hologram transfer sheet to a heat shrinkable film, and the heat shrinkable film is wound around an adherend to be shrunk (for example, see Patent Document 1).
In addition, as a package having a decorative effect and anti-counterfeit function, a package having a hologram on one surface of a heat shrink film and a back-off prevention layer on the other surface is known (for example, Patent Document 2). reference.).
However, Patent Documents 1 and 2 are assigned by the applicant of the present application, and any hologram is transferred or pasted, and the dry lamination method is neither described nor suggested.
The shrinkage rate is also specified in Patent Document 2 so as to be 5% or less, and it is clear that the shrinkage rate is limited to a low shrinkage rate. In order to eliminate the above drawbacks, further diligent research has been carried out, the resin of the hologram layer is limited to a stretchable resin, and the lamination to the shrink film is limited to the dry lamination method using a stretchable polyurethane adhesive. In this way, the shrinkage resistance of the hologram itself is increased, and the shrinkage of the shrink film is made to follow. The shrinkage resistance of the hologram itself is not described or suggested in Patent Documents 1 and 2.

特開平03−171083号公報Japanese Patent Laid-Open No. 03-171083 特開平09−77174号公報JP 09-77174 A

そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、収縮フィルムの熱による収縮に耐える耐熱性と、収縮フィルムの収縮率が大きくても収縮へ追従性がよく、ホログラム効果の低下が少なく意匠性に優れ、即ち、耐熱性と収縮性ろが両立でき、また、できるだけ大きな面積又は全面としたり、ホログラム絵柄を背景とし印刷絵柄と合わせて意匠性を高めたホログラム転写箔、ホログラム付き収縮フィルム及びその製造方法を提供することである。   Accordingly, the present invention has been made to solve such problems. Its purpose is heat resistance to withstand shrinkage due to heat of the shrink film, good follow-up to shrinkage even if the shrink rate of the shrink film is large, less hologram effect and excellent design, ie heat resistance and shrinkability It is intended to provide a hologram transfer foil, a shrink film with a hologram, and a method for producing the same, which can be balanced, have an area as large as possible, or have the entire surface as large as possible, or have a hologram pattern as a background and a design that is combined with a printed pattern.

上記の課題を解決するために、請求項1の発明に係わるホログラム付き収縮フィルムの製造方法は、(1)基材と、該基材の一方の面へ離型層、ホログラム層、及び反射層を設けたホログラム転写箔を準備する工程と、(2)前記ホログラム転写箔の前記反射層面と収縮フィルムとを、接着剤層を介してドライラミネーション法で積層する工程と、(3)前記基材を剥離する工程と、からなることを特徴とするホログラム付き収縮フィルムの製造方法において、前記ホログラム層が(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類と(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類との反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂、アクリル系オリゴマー、及び反応性シリコーンの硬化物を含み、前記上記ホログラム層が(1)電離放射線硬化前の塗膜が指乾状態で、(2)電離放射線硬化後の23℃における破断伸度が5%以上で、かつ、(3)前記基材、前記離型層、前記ホログラム層、及び前記反射層を設けた前記ホログラム転写箔状態で、180℃雰囲気中に1時間放置しても白化しない耐熱性を有し、前記ホログラム層の絵柄が擬似連続絵柄であり、前記積層する工程の接着剤として2液硬化型ポリウレタン系接着剤を用いて、ドライラミネーション法で前記ホログラム転写箔の前記反射層面と収縮フィルムとの全面を積層する工程であることを特徴とするのホログラム付き収縮フィルムの製造方法である。 In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a shrink film with a hologram according to the invention of claim 1 includes: (1) a substrate, a release layer, a hologram layer, and a reflective layer on one surface of the substrate; preparing a hologram transfer foil having a, (2) a and the reflective layer surface of the hologram transfer foil and shrink film, laminating a dry lamination method using an adhesive layer, (3) the substrate In the method for producing a shrink film with a hologram , wherein the hologram layer comprises (1) an isocyanate having three or more isocyanate groups in the molecule and (2) a hydroxyl group in the molecule. Urethane (meth) acrylate oligo, which is a reaction product of at least one polyfunctional (meth) acrylate having at least two (meth) acryloyloxy groups -Containing a cured product of ionizing radiation curable resin, acrylic oligomer, and reactive silicone containing-, wherein the hologram layer is (1) the coating before ionizing radiation curing is in a finger dry state, and (2) ionizing radiation 180 degreeC atmosphere in the state of the hologram transfer foil provided with the base material, the release layer, the hologram layer, and the reflective layer provided that the breaking elongation at 23 ° C after curing is 5% or more It has heat resistance that does not whiten even if left in it for 1 hour, the pattern of the hologram layer is a pseudo-continuous pattern, and a two-component curable polyurethane adhesive is used as an adhesive in the laminating process, and dry lamination A method for producing a shrink film with hologram, characterized in that it is a step of laminating the entire surface of the reflection layer surface and the shrink film of the hologram transfer foil .

請求項1の本発明によれば、収縮率の大きい収縮フィルムへも追従性がよく、ホログラム効果の低下の少なく、また、できるだけ大きな面積又は全面としたり、ホログラム絵柄を背景とし印刷絵柄と合わせて意匠性を高め収縮率の大きい収縮フィルムへも追従性がよく、全面ホログラムを背景とし印刷絵柄と合わせて意匠性の高いホログラム付き収縮フィルムの製造方法が提供される。 According to the present invention of claim 1, the followability to a shrink film having a large shrinkage ratio is good, the decrease in the hologram effect is small, and the area or the entire surface is as large as possible, or the hologram pattern is used as a background together with the printed pattern. enhanced design properties, rather is good followability even to large shrink film shrinkage ratio, a manufacturing method of high hologram-shrinkable film designability is provided in conjunction with a printing picture and the background on the entire surface hologram.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図1は、本発明のホログラム付き収縮フィルムの製造方法を説明する断面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining a method for producing a shrink film with hologram of the present invention.

(ホログラム付き収縮フィルムの製造方法)本発明のホログラム付き収縮フィルム1の製造方法は、図1に示すように、(1)基材11と、該基材11の一方の面へ離型層13、ホログラム層15、及び透明反射層17を設けたホログラム転写箔10を準備する工程と、(2)前記ホログラム転写箔10の透明反射層17面と、別途準備した収縮フィルム21とを、接着剤層31を介してドライラミネーション法で積層する工程と、(3)上記基材11を剥離する工程と、3つの工程からなり、材料も含めて説明する。   (Manufacturing method of shrink film with hologram) As shown in FIG. 1, the manufacturing method of the shrink film with hologram 1 of the present invention includes (1) a substrate 11 and a release layer 13 on one surface of the substrate 11. A step of preparing the hologram transfer foil 10 provided with the hologram layer 15 and the transparent reflection layer 17, and (2) the surface of the transparent transfer layer 17 of the hologram transfer foil 10 and a separately prepared shrink film 21. A description will be given of a process including lamination by a dry lamination method through the layer 31, (3) a process of peeling the substrate 11, and a process including three materials.

(第1工程)第1工程では、図1(1)に示すように、ホログラム転写箔10を準備する。   (First Step) In the first step, a hologram transfer foil 10 is prepared as shown in FIG.

(ホログラム転写箔)ホログラム転写箔10は、基材11と、該基材11の一方の面へ離型層13、ホログラム層15、及び透明反射層17とからなる。   (Hologram Transfer Foil) The hologram transfer foil 10 includes a base material 11, a release layer 13, a hologram layer 15, and a transparent reflection layer 17 on one surface of the base material 11.

(基材)基材11としては、耐熱性、機械的強度、製造に耐える機械的強度、耐溶剤性などがあれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン6、ナイロン66などのポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリメタアクリレート、ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、高衝撃ポリスチレンなどのスチレン系樹脂、セロファン、セルロースアセテートなどのセルロース系フィルム、ポリイミドなどのイミド系樹脂、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリアラミド、ポリエーテルケトンなどのエンジニアリング樹脂、などがある。
好ましくは、耐熱性、機械的強度の点で、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体、ポリエチレンテレフタレート/ポリエチレンナフタレートの共押し出しフィルムなどのポリエステル系樹脂のフィルムで、ポリエチレンテレフタレートが最適である。該基材の厚さは、通常、2.5〜50μm程度が適用できるが、4〜25μmが転写性の点で好ましい。
(Substrate) As the substrate 11, various materials can be applied depending on the use as long as the substrate 11 has heat resistance, mechanical strength, mechanical strength to withstand manufacturing, solvent resistance, and the like. For example, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamide resins such as nylon 6 and nylon 66, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene and polymethylpentene, vinyl resins such as polyvinyl chloride, polymethacrylate , Acrylic resins such as polymethyl methacrylate, styrene resins such as polycarbonate, polystyrene and high impact polystyrene, cellulose films such as cellophane and cellulose acetate, imide resins such as polyimide, polyarylate, polysulfone, polyaramid and polyether There are engineering resins such as ketones.
Preferably, in terms of heat resistance and mechanical strength, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate-isophthalate copolymer, terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer, polyethylene terephthalate / polyethylene Polyethylene resin film such as naphthalate coextruded film, and polyethylene terephthalate is most suitable. The thickness of the substrate is usually about 2.5 to 50 μm, but 4 to 25 μm is preferable in terms of transferability.

該基材は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体(アロイを含む)、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。また、該基材は、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該基材は、これら樹脂の少なくとも1層からなるフィルム、シート、ボード状として使用する。該基材は、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー(アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる)塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。また、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。   The substrate may be a copolymer resin containing these resins as a main component, a mixture (including an alloy), or a laminate composed of a plurality of layers. The substrate may be a stretched film or an unstretched film, but a film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction is preferable for the purpose of improving the strength. The substrate is used as a film, sheet or board formed of at least one layer of these resins. Prior to application, the substrate is subjected to corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer (also called an anchor coat, adhesion promoter, or easy adhesive) application treatment, pre-heat treatment, dust removal treatment. Alternatively, easy adhesion treatment such as vapor deposition treatment or alkali treatment may be performed. Moreover, you may add additives, such as a filler, a plasticizer, a coloring agent, and an antistatic agent, as needed.

(離型層)離型層13としては、離型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂、電離放射線で架橋する硬化性樹脂などが適用できる。離型性樹脂は、例えば、弗素系樹脂、シリコーン、メラミン系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル系樹脂、繊維素系樹脂などである。離型剤を含んだ樹脂は、例えば、弗素系樹脂、シリコーン、各種のワックスなどの離型剤を、添加または共重合させたアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、繊維素系樹脂などである。電離放射線で架橋する硬化性樹脂は、例えば、紫外線(UV)、電子線(EB)などの電離放射線で重合(硬化)する官能基を有するモノマー、オリゴマーなどを含有させた樹脂である。   (Release Layer) As the release layer 13, a release resin, a resin containing a release agent, a curable resin that is cross-linked by ionizing radiation, and the like can be applied. The releasable resin is, for example, a fluorine resin, silicone, melamine resin, epoxy resin, polyester resin, acrylic resin, or fiber resin. The resin containing the release agent is, for example, an acrylic resin, vinyl resin, polyester resin, or fiber resin obtained by adding or copolymerizing a release agent such as fluorine resin, silicone, or various waxes. is there. The curable resin that is cross-linked by ionizing radiation is, for example, a resin containing a monomer or oligomer having a functional group that is polymerized (cured) by ionizing radiation such as ultraviolet (UV) or electron beam (EB).

離型層13の形成は、該樹脂を溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、リバースロールコート、グラビアコート、リバースグラビアコート、バーコート、ロッドコ−ト、キスコート、ナイフコート、ダイコート、コンマコート、フローコート、スプレーコートなどの印刷又はコーティング方法で、少なくとも1部に塗布し乾燥して塗膜を形成したり、押出しコーティング法で皮膜を形成したりすれば良い。また、要すれば、温度30℃〜120℃で加熱乾燥、あるいはエージング、または電離放射線を照射して架橋させてもよい。   The release layer 13 is formed by dispersing or dissolving the resin in a solvent, roll coat, reverse roll coat, gravure coat, reverse gravure coat, bar coat, rod coat, kiss coat, knife coat, die coat, comma coat, A coating or coating method such as flow coating or spray coating may be applied to at least one part and dried to form a coating film, or a coating film may be formed by an extrusion coating method. Further, if necessary, it may be crosslinked by heat drying at a temperature of 30 ° C. to 120 ° C., aging, or irradiation with ionizing radiation.

離型層13の厚さとしては、通常は0.01μm〜5μm程度、好ましくは0.5μm〜3μm程度である。該厚さは薄ければ薄い程良いが、0.1μm以上であればより良い成膜が得られて剥離力が安定する。   The thickness of the release layer 13 is usually about 0.01 μm to 5 μm, preferably about 0.5 μm to 3 μm. The thinner the thickness is, the better. However, when the thickness is 0.1 μm or more, better film formation is obtained and the peeling force is stabilized.

(ホログラム層)ホログラム層15の樹脂材料としては、熱可塑性樹脂や、熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂の硬化樹脂などが適用できる。熱可塑性樹脂としてはポリ塩化ビニル、ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート等が例示でき、熱硬化性樹脂としては不飽和ポリエステル、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等が例示でき、電離放射線硬化性樹脂としてはポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、トリアジン系アクリレートなどや、不飽和エチレン系モノマーと不飽和エチレン系オリゴマーを適宜混合したものが適用できる。特に耐薬品性、耐光性及び耐候性等の耐久性に優れた紫外線や電子線などで硬化させる電離放射線硬化性樹脂が好ましい。電離放射線硬化樹脂としては、特に、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル等の電離放射線硬化性樹脂を硬化させたものが適用できる。   (Hologram layer) As a resin material of the hologram layer 15, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a cured resin of an ionizing radiation curable resin, or the like can be applied. Examples of the thermoplastic resin include acrylic resins such as polyvinyl chloride and polymethyl methacrylate, polystyrene, polycarbonate, and the like. Examples of the thermosetting resin include unsaturated polyester, melamine resin, and epoxy resin. Examples of radiation curable resins include polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, and triazine acrylate. What mixed suitably the saturated ethylene monomer and the unsaturated ethylene oligomer is applicable. In particular, ionizing radiation curable resins that are cured with ultraviolet rays or electron beams having excellent durability such as chemical resistance, light resistance, and weather resistance are preferable. As the ionizing radiation curable resin, in particular, a resin obtained by curing an ionizing radiation curable resin such as an epoxy-modified acrylate resin, a urethane-modified acrylate resin, or an acrylic-modified polyester can be used.

(電離放射線硬化性樹脂組成物M)ホログラム層15の電離放射線硬化性樹脂としては、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物、具体的には、特開2001−329031号公報で開示されている光硬化性樹脂(本明細書では「電離放射線硬化性樹脂組成物M」と呼称する)、アクリル系オリゴマー、及び反応性シリコーンの硬化物を含んでいるものが好ましい。   (Ionizing radiation curable resin composition M) The ionizing radiation curable resin of the hologram layer 15 is a cured product of an ionizing radiation curable resin containing a urethane (meth) acrylate oligomer, specifically, JP-A-2001-329031. It is preferable to include a photo-curing resin (referred to herein as “ionizing radiation-curable resin composition M”), an acrylic oligomer, and a cured product of a reactive silicone disclosed in Japanese Patent Publication No. JP-A.

即ち、「電離放射線硬化性樹脂組成物M」(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類、(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類、又は(3)分子中に水酸基を少なくとも2個有する多価アルコール類の反応生成物であり、さらに、アクリル系オリゴマー、及び反応性シリコーンを含ませる。   That is, “ionizing radiation curable resin composition M” (1) isocyanates having 3 or more isocyanate groups in the molecule, (2) at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule Reaction product of polyfunctional (meth) acrylates or (3) polyhydric alcohols having at least two hydroxyl groups in the molecule, and further including an acrylic oligomer and reactive silicone.

(アクリル系オリゴマー)アクリル系オリゴマーとしては、(メタ)アクリリレート、(メタ)アクリル系で耐熱性のあるオリゴマーであればよく、例えば、日本合成化学社の商品名;紫光6630B、7510B、7630Bなどが例示できる。含有させる質量基準での割合としては、「電離放射線硬化性樹脂組成物M」100部に対して10〜30部程度、好ましくは15〜25部である。この範囲未満では耐熱性が不足し、この範囲を超えては耐熱性はよいが、ヒビ割れしやすい。   (Acrylic oligomer) The acrylic oligomer may be (meth) acrylate, (meth) acrylic and heat-resistant oligomer, for example, trade names of Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .; purple light 6630B, 7510B, 7630B, etc. It can be illustrated. The ratio on the basis of mass to be contained is about 10 to 30 parts, preferably 15 to 25 parts with respect to 100 parts of “ionizing radiation curable resin composition M”. If it is less than this range, the heat resistance is insufficient, and if this range is exceeded, the heat resistance is good, but cracking tends to occur.

(反応性シリコーン)反応性シリコーンとしては、電離放射線で硬化時に樹脂と反応し結合して一体化するもので、アクリル変性、メタクリル変性、又はエポキシ変性などで変性した反応性シリコーンで、該反応性シリコーンを含有させる質量基準での割合としては「電離放射線硬化性樹脂組成物M」100に対して、0.1〜10部程度、好ましくは0.3〜5部である。この範囲未満ではレリーフの賦型時にプレススタンパとの剥離が不十分であり、プレススタンパの汚染を防止することが困難である。また、この範囲を超えてはホログラム層面への反射層の密着性が低く、ホログラム層と反射層との間で剥離し商品価値を失ってしまう。従来のシリコーンオイルの添加では、反射層との密着性が悪い。   (Reactive silicone) Reactive silicone is a reactive silicone that reacts with and binds with resin when cured with ionizing radiation, and is modified by acrylic, methacrylic, or epoxy modification. The ratio on the basis of mass containing silicone is about 0.1 to 10 parts, preferably 0.3 to 5 parts relative to “ionizing radiation curable resin composition M” 100. If it is less than this range, peeling from the press stamper is insufficient when the relief is formed, and it is difficult to prevent contamination of the press stamper. Further, beyond this range, the adhesiveness of the reflective layer to the hologram layer surface is low, and the commercial value is lost by peeling between the hologram layer and the reflective layer. Addition of conventional silicone oil has poor adhesion to the reflective layer.

このように、ホログラム層を「電離放射線硬化性樹脂組成物M」と呼称する)、アクリル系オリゴマー、及び反応性シリコーンの硬化物とすることで、次の3つの作用効果を兼ねさせることができるのである。
(1)電離放射線硬化前の塗布状態のホログラム層塗膜は指乾状態でべとつかず、ブロッキングせずに巻き取ることができるので、ロールツーロール加工ができる。
As described above, the hologram layer is referred to as “ionizing radiation curable resin composition M”), an acrylic oligomer, and a cured product of reactive silicone, thereby having the following three effects. It is.
(1) Since the hologram layer coating film in a coated state before ionizing radiation curing is not sticky in a finger dry state and can be wound up without blocking, roll-to-roll processing can be performed.

(2)レリーフ構造を容易に賦型した後に、電離放射線で硬化でき、電離放射線硬化後の23℃における破断伸度を5%以上、好ましくは7%以上とすることができる。5%未満では収縮時にヒビ割れたり白化したりする。7%以上であると、収縮率が高くても収縮時にヒビ割れたり白化したりしない。   (2) The relief structure can be easily shaped and then cured with ionizing radiation, and the elongation at break at 23 ° C. after ionizing radiation curing can be 5% or more, preferably 7% or more. If it is less than 5%, it cracks or whitens during shrinkage. If it is 7% or more, even if the shrinkage rate is high, it does not crack or whiten during shrinkage.

(3)基材、離型層、ホログラム層、及び反射層を設けたホログラム転写箔状態で、180℃雰囲気中に1時間放置しても白化しない耐熱性を有するので、収縮フィルムを通常収縮させる150〜200℃の熱でも、ホログラムが劣化しないのである。   (3) In the state of hologram transfer foil provided with a base material, a release layer, a hologram layer, and a reflective layer, it has heat resistance that does not whiten even if left in an atmosphere at 180 ° C. for 1 hour, so the shrink film is usually shrunk Even with heat of 150 to 200 ° C., the hologram does not deteriorate.

(破断伸度)ホログラム層の収縮性を破断伸度で表し、該ホログラム層の破断伸度(%)の測定方法は、23℃55%RHの条件下でUV硬化後樹脂層を24時間以上放置した後、株式会社オリエンテックテンシロン万能試験機RTA−100を用いデータ処理は、テンシロン多機能型データ処理TYPE MP−100/200S Ver.44を用い測定を行なった。試料幅10mm、チャック間距離50mm、RANGEは20%、荷重は100kgの条件で、引っ張り速度10mm/minで引っ張り、破断伸度は、引っ張り時の破断または亀裂が入ったときの破断点伸びの自長に対する伸び率とした。ホログラム層の破断伸度の測定では、ホログラム層単独膜を作成するのは難しいため、25μm剥離PETに10μmのホログラム層を形成し、メタルハライドランプにて積算露光量250mjで露光した後に剥離して試料とした。   (Breaking elongation) The shrinkage of the hologram layer is expressed by breaking elongation, and the measuring method of breaking elongation (%) of the hologram layer is that the resin layer after UV curing is 24 hours or more under the condition of 23 ° C. and 55% RH. After being allowed to stand, the data processing was performed using the Tensilon multifunctional data processing TYPE MP-100 / 200S Ver. Measurement was performed using No. 44. The sample is 10 mm wide, the distance between chucks is 50 mm, the RANGE is 20%, the load is 100 kg, and the tensile speed is 10 mm / min. The elongation with respect to the length was used. In the measurement of the elongation at break of the hologram layer, it is difficult to produce a single hologram layer. Therefore, a 10 μm hologram layer is formed on a 25 μm peeled PET, exposed to a total exposure amount of 250 mj with a metal halide lamp, and then peeled off. It was.

(耐熱性)ホログラム層の耐熱性は、基材、離型層、ホログラム層、及びアルミニウム反射層を設けてなるホログラム転写箔状態で、180℃のオーブン中に1時間放置して、目視によりヒビ割れ及び/又は白化しないものを合格とした。   (Heat resistance) The heat resistance of the hologram layer is determined by visually observing cracks in an oven at 180 ° C. for 1 hour in a hologram transfer foil state in which a base material, a release layer, a hologram layer, and an aluminum reflective layer are provided. Those that did not crack and / or whiten were considered acceptable.

ホログラム層は、上記の樹脂及び必要に応じて添加剤を、溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコート、バーコートなどの公知のコーティング方法で、少なくとも1部に塗布し乾燥して塗膜を形成したりすれば良い。ホログラム層15の厚さとしては、通常は0.1μm〜10μm程度、好ましくは0.3μm〜5μm程度である。   The hologram layer is prepared by dispersing or dissolving the above resin and, if necessary, additives in a solvent, applying at least one part by a known coating method such as roll coating, gravure coating, bar coating, etc., and drying. A film may be formed. The thickness of the hologram layer 15 is usually about 0.1 μm to 10 μm, preferably about 0.3 μm to 5 μm.

(ホログラム)次に、ホログラム層15の表面には、光回折効果の発現する所定のレリーフ構造を賦型し、硬化させる。
(レリーフ)ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム(CGH)、ホログラフィック回折格子などがある。レリーフ形状は凹凸形状であり、特に限定されるものではなく、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現するものでもよく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現するヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターンなどでもよい。
(Hologram) Next, on the surface of the hologram layer 15, a predetermined relief structure exhibiting a light diffraction effect is formed and cured.
(Relief) Hologram is a recording of interference fringes due to interference of light between object light and reference light in an uneven relief shape, for example, a laser reproduction hologram such as a Fresnel hologram, and a white light reproduction hologram such as a rainbow hologram, Further, there are color holograms utilizing these principles, computer generated holograms (CGH), holographic diffraction gratings and the like. The relief shape is a concavo-convex shape, and is not particularly limited, and may have a fine concavo-convex shape such as light diffusion, light scattering, light reflection, light diffraction, etc., such as Fourier transform or lenticular lens. , A light diffraction pattern, and a moth eye. Further, although it does not have a light diffraction function, it may be a hairline pattern, a mat pattern, a line pattern, an interference pattern, or the like that expresses a unique glitter.

これらのレリーフ形状の作製方法としてはホログラム撮影記録手段を利用して作製されたホログラムや回折格子の他に、干渉や回折という光学計算に基づいて電子線描画装置等を用いて作製されたホログラムや回折格子をあげることもできる。また、ヘアライン柄や万線柄のような比較的大きなパターンなどは機械切削法でもよい。これらのホログラム及び/又は回折格子の単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。これらの原版は公知の材料、方法で作成することができ、通常、感光性材料を塗布したガラス板を用いたレーザ光干渉法、電子線レジスト材料を塗布したガラス板に電子線描画装置を用いてパターン作製する電子線描画法をなどが適用できる。   As a method for producing these relief shapes, in addition to holograms and diffraction gratings produced using hologram photographing and recording means, holograms produced using an electron beam drawing device based on optical calculations such as interference and diffraction, A diffraction grating can also be mentioned. Also, a relatively large pattern such as a hairline pattern or a line pattern may be a machine cutting method. These holograms and / or diffraction gratings may be recorded single or multiple, or may be recorded in combination. These original plates can be prepared by known materials and methods, and usually, laser beam interference using a glass plate coated with a photosensitive material, using an electron beam drawing apparatus on a glass plate coated with an electron beam resist material. An electron beam drawing method for patterning can be applied.

(レリーフの賦型)ホログラム層15面へ、上記のレリーフ形状を賦形(複製ともいう)する。ホログラムの賦型は、公知の方法によって形成でき、例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型(スタンパという)として用い、上記樹脂層上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。   (Relief shaping) The relief shape is shaped (also referred to as replication) on the surface of the hologram layer 15. Hologram shaping can be formed by a known method. For example, when recording diffraction gratings or interference fringes of holograms as reliefs of surface irregularities, a master plate on which the diffraction gratings or interference fringes are recorded in irregularities is pressed. The concave / convex pattern of the original can be duplicated by using it as a mold (referred to as a stamper) and by superimposing the original on the resin layer and heat-pressing both of them with an appropriate means such as a heating roll.

(レリーフの硬化)ホログラム層15として電離放射線硬化性樹脂を用いた場合には、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、電離放射線を照射して硬化(反応)させると電離放射線硬化樹脂(ホログラム層15)となる。電離放射線としては、電磁波が有する量子エネルギーで区分する場合もあるが、本明細書では、すべての紫外線(UV‐A、UV‐B、UV‐C)、可視光線、ガンマー線、X線、電子線を包含するものと定義する。従って、電離放射線としては、紫外線(UV)、可視光線、ガンマー線、X線、または電子線などが適用できるが、紫外線(UV)が好適である。電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂は、紫外線硬化の場合は光重合開始剤、及び/又は光重合促進剤を添加し、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないで良く、また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。ホログラム層15として、熱硬化性樹脂を用いた場合には、使用する熱硬化性樹脂の硬化条件に応じた温湿度環境下で、エージングを行い硬化させればよい。   (Relief Curing) When an ionizing radiation curable resin is used as the hologram layer 15, the ionizing radiation curable resin is cured by irradiating ionizing radiation during or after embossing with a stamper. The ionizing radiation curable resin becomes an ionizing radiation curable resin (hologram layer 15) when cured (reacted) by irradiation with ionizing radiation after the relief is formed. The ionizing radiation may be classified according to the quantum energy of the electromagnetic wave, but in this specification, all ultraviolet rays (UV-A, UV-B, UV-C), visible rays, gamma rays, X-rays, electrons It is defined as including a line. Accordingly, ultraviolet (UV), visible light, gamma rays, X-rays, or electron beams can be applied as ionizing radiation, but ultraviolet (UV) is preferred. An ionizing radiation curable resin that is cured by ionizing radiation may contain a photopolymerization initiator and / or a photopolymerization accelerator in the case of ultraviolet curing, and may not be added in the case of high energy electron beam curing. Can be cured even with thermal energy. When a thermosetting resin is used as the hologram layer 15, it may be cured by aging in a temperature and humidity environment according to the curing conditions of the thermosetting resin to be used.

(レリーフの絵柄)ホログラム層15の絵柄を擬似連続絵柄とすることが好ましい。擬似連続絵柄はプレス型(スタンパという)を作成する際に、小さなレリーフ版の複数を、精度よく突合せてつなぎ目を目立たなくしたり、つなぎ目を樹脂で埋めたりすればよい。このように、擬似連続絵柄とすることで、できるだけ大きな面積、又は好ましくは全面とすることもできる。大面積又は全面のホログラム絵柄を背景とし他の任意な印刷絵柄と、同調させたり、合わせたりして、さらなる特異な意匠性を向上させることができる。印刷絵柄は、層間又は層表面に、公知の印刷法などで適宜設ければよく、印刷絵柄はホログラム転写箔、及び/又は収縮フィルムのいずれへ設けてもよい。   (Relief pattern) The pattern of the hologram layer 15 is preferably a quasi-continuous pattern. When creating a press mold (referred to as a stamper) for the pseudo continuous pattern, it is only necessary to match a plurality of small relief plates with high accuracy to make the joints inconspicuous, or to fill the joints with resin. In this way, by using a quasi-continuous pattern, the area can be as large as possible, or preferably the entire surface. Further unique design can be improved by synchronizing or matching with any other printed pattern against a large area or entire surface of the hologram pattern. The printed pattern may be appropriately provided on the interlayer or the layer surface by a known printing method or the like, and the printed pattern may be provided on either the hologram transfer foil and / or the shrink film.

(反射層)反射層17は、所定のレリーフ構造を設けたホログラム層15面のレリーフ面へ、反射層17へ設けることにより、レリーフの反射及び/又は回折効果を高めるので、ホログラム層15の反射率のより高れば、特に限定されなず、例えば金属薄膜が適用できる。該反射層17に用いる金属としては、金属光沢を有し光を反射する金属元素の薄膜で、Cr、Ni、Ag、Au、Al等の金属、及びその酸化物、硫化物、窒化物等の薄膜を単独又は複数を組み合わせてもよい。上記の光反射性の金属薄膜の形成は、いずれも10〜2000nm程度、好ましくは20〜1000nmの厚さになるよう、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの真空薄膜法で得られるが、その他、メッキなどによっても形成できる。反射層17の厚さがこの範囲未満では、光がある程度透過して効果が減じ、また、それ以上では、反射効果は変わらないので、コスト的に無駄である。   (Reflection layer) Since the reflection layer 17 is provided on the reflection layer 17 on the relief surface of the hologram layer 15 provided with a predetermined relief structure, the reflection reflection and / or diffraction effect is enhanced. If a rate is higher, it will not specifically limit, For example, a metal thin film can be applied. The metal used for the reflective layer 17 is a metal element thin film that has a metallic luster and reflects light, such as Cr, Ni, Ag, Au, Al, etc., and oxides, sulfides, nitrides thereof, etc. A thin film may be used alone or in combination. The formation of the light-reflective metal thin film can be obtained by a vacuum thin film method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method so as to have a thickness of about 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm. However, it can also be formed by plating. If the thickness of the reflective layer 17 is less than this range, the light is transmitted to some extent and the effect is reduced, and if it is more than that, the reflective effect is not changed, which is wasteful in cost.

また、反射層17として、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム層のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できるから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム層15よりも光屈折率の高い薄膜、および光屈折率の低い薄膜とがあり、前者の例としては、ZnS、TiO2、Al23、Sb23、SiO、SnO2、ITO等があり、後者の例としては、LiF、MgF2、AlF3がある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Be、Mg、Ca、Cr、Mn、Cu、Ag、Al、Sn、In、Te、Fe、Co、Zn、Ge、Pb、Cd、Bi、Se、Ga、Rb、Sb、Pb、Ni、Sr、Ba、La、Ce、Au等の酸化物又は窒化物他はそれらを2種以上を混合したもの等が挙げられる。またアルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが200Å以下になると、透明性が出て使用できる。 Further, the reflective layer 17 has a substantially colorless and transparent hue, and its optical refractive index is different from that of the hologram layer. A simple hologram can be produced. For example, there are a thin film having a higher refractive index than the hologram layer 15 and a thin film having a lower refractive index. Examples of the former include ZnS, TiO 2 , Al 2 O 3 , Sb 2 S 3 , SiO, SnO 2. ITO, etc., and examples of the latter include LiF, MgF 2 , and AlF 3 . Preferably, it is a metal oxide or nitride, specifically, Be, Mg, Ca, Cr, Mn, Cu, Ag, Al, Sn, In, Te, Fe, Co, Zn, Ge, Pb, Cd , Bi, Se, Ga, Rb, Sb, Pb, Ni, Sr, Ba, La, Ce, Au, and other oxides or nitrides, and the like may be a mixture of two or more thereof. Also, a general light-reflective metal thin film such as aluminum can be used when it has a thickness of 200 mm or less.

透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、ホログラム層15のレリーフ面に、10〜2000nm程度、好ましくは20〜1000nmの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、CVDなどの真空薄膜法などにより設ければよい。さらには、ホログラム層15と光の屈折率の異なる透明な合成樹脂を使用してもよく、接着層19材料とホログラム層15材料の屈折率が十分に異なる場合には、接着層19が反射層19を兼ねることもできる。   The transparent metal compound is formed on the relief surface of the hologram layer 15 by vacuum such as vapor deposition, sputtering, ion plating, and CVD so that the thickness of the relief layer of the hologram layer 15 is about 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm. It may be provided by a thin film method or the like. Furthermore, a transparent synthetic resin having a refractive index different from that of the hologram layer 15 may be used. When the refractive index of the adhesive layer 19 material and the hologram layer 15 material is sufficiently different, the adhesive layer 19 is a reflective layer. 19 can also be used.

(第2工程)第2工程は、ホログラム転写箔10の透明反射層17面と、別途準備した収縮フィルム21とを、接着剤層31を介してドライラミネーション法で積層する工程であり、積層した状態を、図1(2)に示す。   (Second Step) The second step is a step of laminating the transparent reflection layer 17 surface of the hologram transfer foil 10 and the separately prepared shrink film 21 by the dry lamination method through the adhesive layer 31. The state is shown in FIG.

(収縮フィルム)収縮フィルムとしては熱で収縮する公知のものでよく、例えば、ポリエチレン、放射線硬化ポリエチレン、ポリ塩化ビニール、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエステル、ポリスチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂などの樹脂を主体とし、これを1軸又は2軸方向に延伸したフィルム又はシートを使用することができる。   (Shrink film) The shrink film may be a known film that shrinks by heat, such as polyethylene, radiation-cured polyethylene, polyvinyl chloride, polypropylene, polyvinylidene chloride, polyester, polystyrene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin. It is possible to use a film or sheet mainly composed of a resin such as uniaxially or biaxially.

(ドライラミネーション法)ドライラミネーション法とは、溶媒へ分散または溶解した接着剤を塗布し乾燥させて、貼り合せ基材を重ねて積層した後に、30〜120℃で数時間〜数日間エージングすることで、接着剤を硬化させることで、2種の材料を積層させる方法である。ノンソルベントラミネーション法とは、溶媒へ分散または溶解せずに接着剤自身を塗布し乾燥させて、貼り合せ基材を重ねて積層した後に、30〜120℃で数時間〜数日間エージングすることで、接着剤を硬化させることで、2種の材料を積層させる方法である。   (Dry lamination method) The dry lamination method is a method in which an adhesive dispersed or dissolved in a solvent is applied and dried, and a laminated base material is laminated and laminated, and then aged at 30 to 120 ° C. for several hours to several days. In this method, the two types of materials are laminated by curing the adhesive. The non-solvent lamination method is a method in which the adhesive itself is applied and dried without being dispersed or dissolved in a solvent, and the laminated base material is laminated and laminated, and then aged at 30 to 120 ° C. for several hours to several days. This is a method of laminating two kinds of materials by curing the adhesive.

(接着剤)ドライラミネーション法、またはノンソルベントラミネーション法で用いる接着層31の接着剤として、熱、または紫外線・電子線などの電離放射線で硬化する接着剤が適用できる。熱硬化接着剤としては、具体的には、2液硬化型ウレタン系接着剤、ポリエステルウレタン系接着剤、ポリエ−テルウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリ酢酸ビニル系接着剤、エボキシ系接着剤、ゴム系接着剤などが適用できるが、2液硬化型ウレタン系接着剤が好適である。   (Adhesive) As an adhesive for the adhesive layer 31 used in the dry lamination method or the non-solvent lamination method, an adhesive that is cured by heat or ionizing radiation such as ultraviolet rays or electron beams can be applied. Specific examples of thermosetting adhesives include two-component curable urethane adhesives, polyester urethane adhesives, polyether urethane adhesives, acrylic adhesives, polyester adhesives, polyamide adhesives, A polyvinyl acetate adhesive, an epoxy adhesive, a rubber adhesive, or the like can be applied, but a two-component curable urethane adhesive is preferable.

該2液硬化型ポリウレタン系樹脂としては、具体的には、例えば、多官能イソシアネ−トとヒドロキシル基含有化合物との反応により得られるポリマ−、具体的には、例えば、トリレンジイソシアナ−ト、ジフェニルメタンジイソシアナ−ト、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアナ−ト等の芳香族ポリイソシアナ−ト、あるいは、ヘキサメチレンジイソシアナ−ト、キシリレンジイソシアナ−ト等の脂肪族ポリイソシアナ−ト等の多官能イソシアネ−トと、ポリエ−テル系ポリオ−ル、ポリエステル系ポリオ−ル、ポリアクリレ−トポリオ−ル等のヒドロキシル基含有化合物との反応により得られる2液型ポリウレタン系樹脂を使用することができる。   Specific examples of the two-component curable polyurethane resin include, for example, a polymer obtained by reacting a polyfunctional isocyanate and a hydroxyl group-containing compound, specifically, for example, tolylene diisocyanate. , Aromatic polyisocyanates such as diphenylmethane diisocyanate and polymethylene polyphenylene polyisocyanate, and aliphatic polyisocyanates such as hexamethylene diisocyanate and xylylene diisocyanate. A two-component polyurethane resin obtained by a reaction between a functional isocyanate and a hydroxyl group-containing compound such as a polyether polyol, a polyester polyol or a polyacrylate polyol can be used.

ドライラミネーション法では、これらを主成分とする接着剤組成物を有機溶媒へ溶解または分散し、これを、例えば、ロ−ルコ−ティング、リバースロ−ルコ−ティング、グラビアコ−ティング、グラビアリバースコ−ティング、グラビアオフセットコーティング、キスコーティング、ワイヤーバーコーティング、コンマコーティング、ナイフコーティング、デップコーティング、フローコーティング、スプレイコーティングなどのコーティング法で塗布し、溶剤などを乾燥して、本発明のラミネ−ション用接着剤層31を形成することができる。好ましくは、ロ−ルコ−ティング、リバースロ−ルコ−ティング法である。   In the dry lamination method, an adhesive composition containing these as a main component is dissolved or dispersed in an organic solvent, and this is, for example, roll coating, reverse roll coating, gravure coating, or gravure reverse coating. Coating, gravure offset coating, kiss coating, wire bar coating, comma coating, knife coating, dip coating, flow coating, spray coating, etc. The agent layer 31 can be formed. The roll coating method and the reverse roll coating method are preferred.

該接着剤層31の膜厚としては、0.1〜20μm(乾燥状態)程度、好ましくは1〜10μmである。該接着層を形成したら直ちに、貼り合せ基材を積層した後に、30〜120℃で数時間〜数日間エージングすることで、接着剤を硬化させることで接着する。貼り合せ基材の材質、例えば有機重合体シートまたはフィルムのような非吸収性の材料を用いる場合には、貼り合せ基材側へ接着剤を塗布し積層して、接着させても良い。即ち、本発明では、接着剤の塗布面は、ホログラム転写箔10の透明反射層17面でも、収縮フィルム21面でもよい。   The thickness of the adhesive layer 31 is about 0.1 to 20 μm (dry state), preferably 1 to 10 μm. Immediately after the formation of the adhesive layer, after laminating the bonded substrates, the adhesive is cured by curing at 30 to 120 ° C. for several hours to several days. When a non-absorbable material such as an organic polymer sheet or film is used as the material for the bonding substrate, an adhesive may be applied to the bonding substrate side, laminated, and bonded. That is, in the present invention, the adhesive application surface may be the transparent reflection layer 17 surface of the hologram transfer foil 10 or the shrink film 21 surface.

ノンソルベントラミネーション法は、基本的にはドライラミネーション法と同様であるが、接着剤組成物を有機溶媒へ溶解または分散しないで、接着剤組成物そのままを用いるが、必要に応じて、粘度を低下させるために、接着剤組成物を加熱加温して用いる場合もある。   The non-solvent lamination method is basically the same as the dry lamination method, but the adhesive composition is used as it is without dissolving or dispersing the adhesive composition in an organic solvent, but the viscosity is reduced if necessary. In some cases, the adhesive composition is heated and heated.

(第3工程)第3工程は、ドライラミネーション法で積層した後に、基材11を剥離する工程であり、剥離した状態を図1(3)に示す。剥離方法は公知の方法でよく、基材11のみを機械的に引っ張り剥離すればよい。なお、離型層13の1部が収縮フィルム側に残る場合もあるが、剥離に支障はなく、本発明の範囲内である。   (Third Step) The third step is a step of peeling the substrate 11 after laminating by the dry lamination method, and the peeled state is shown in FIG. The peeling method may be a known method, and only the substrate 11 may be mechanically pulled and peeled off. In addition, although one part of the release layer 13 may remain on the shrink film side, there is no hindrance to peeling and is within the scope of the present invention.

(ホログラム付き収縮フィルム)このように、収縮フィルムへの積層を伸縮性のあるポリウレタン系接着剤を用いたドライラミネーション法に限定し、さらに好ましくは前述したホログラム層の樹脂を耐熱性及び伸縮性(破断伸度)のある樹脂に限定することで、ホログラム自身の耐収縮性を高め、収縮フィルムの収縮に追従性を持たせることができる。
このようにして製造された本発明のホログラム付き収縮フィルム1は、缶、ビン、ボトルなどの立体成形品や、各種物品や個包装物の集積包装などを収縮包装した際にも、収縮フィルムの収縮率が大きくても、収縮へ追従性がよく、ホログラム効果の低下が少ない。また、できるだけ大きな面積、又は好ましくは全面としたり、ホログラム絵柄を背景とし他の任意な印刷絵柄と合わせて、さらなる特異な意匠性も向上させることができる。
(Shrink film with hologram) As described above, the lamination to the shrink film is limited to the dry lamination method using a stretchable polyurethane adhesive, and more preferably, the resin of the hologram layer described above is heat resistant and stretchable ( By limiting to a resin having a breaking elongation), the shrinkage resistance of the hologram itself can be enhanced, and the shrinkage of the shrinkable film can be made to follow.
The shrinkable film with hologram 1 of the present invention thus produced can be used for three-dimensional molded products such as cans, bottles, and bottles, and when shrink-wrapping various products and individual packages. Even if the shrinkage rate is large, the followability to the shrinkage is good and the decrease in the hologram effect is small. Further, the area can be as large as possible, or preferably the entire surface, or in combination with any other printed pattern with the hologram pattern as a background, further unique design can be improved.

以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, it is not limited to this.

参考例1)基材11として厚さ25μmのPETフィルムを用い、該基材11の一方の面へ、グラビアコート法で、メラミン樹脂塗工液を乾燥後2g/m2になるように塗布し乾燥して離型層13を形成した。
該離型層13面へ、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物をグラビアリバースコーターで乾燥後の塗布量が2g/m2になるように、塗工し100℃で乾燥させて、ホログラム層15を形成した。
・<電離放射線硬化性樹脂組成物の作製手順>
まず、反応性生物(A)は以下の手順で、生成した。撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を取り付けた反応器に、酢酸エチル206.1g及びイソホロンジイソシアネートの三量体(HULS社製品、VESTANAT T1890、融点110℃)133.5gを仕込み、80℃に昇温して溶解させた。溶液中に空気を吹き込んだのち、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.38g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(大阪有機化学工業社製品、ビスコート300)249.3g及びジブチル錫ジラウレート0.38gを仕込んだ。80℃で5時間反応させたのち酢酸エチル688.9gを添加して冷却した。
得られた反応生成液は赤外吸収スペクトル分析の結果、イソシアネート基の吸収が消滅していることを確認した。反応生成液から酢酸エチルを留去したものの軟化温度は43℃であった。
該反応生成物(A)と、造膜性樹脂、光重合開始剤、及び溶媒から下記の組成で添加して電離放射線硬化性樹脂組成物を調製した。
・<電離放射線硬化性樹脂組成物>
反応性生物(A) 25質量部
アクリルオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光6630B) 5質量部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−2445) 0.2質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア184) 0.9質量部
酢酸エチル 70質量部
次に、該ホログラム層面へ、2光束干渉法による回折格子から2P法で複製した擬似連続絵柄としたスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス(エンボス)して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。ホログラム層15のレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが300nmの酸化チタン薄膜を形成して反射層17として、参考例1のホログラム転写箔10を得た。
( Reference Example 1 ) A 25 μm-thick PET film was used as the base material 11 and applied to one surface of the base material 11 by gravure coating so that the melamine resin coating solution was dried to 2 g / m 2. The release layer 13 was formed by drying.
On the surface of the release layer 13, the following ionizing radiation curable resin composition was applied with a gravure reverse coater so that the coating amount after drying was 2 g / m 2 and dried at 100 ° C. to form the hologram layer 15. Formed.
・ <Procedure for producing ionizing radiation curable resin composition>
First, the reactive organism (A) was produced by the following procedure. A reactor equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer was charged with 206.1 g of ethyl acetate and 133.5 g of isophorone diisocyanate trimer (HULS product, VESTANAT T1890, melting point 110 ° C.), 80 The solution was heated to 0 ° C. and dissolved. After blowing air into the solution, 0.38 g of hydroquinone monomethyl ether, 249.3 g of pentaerythritol triacrylate (product of Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Viscoat 300) and 0.38 g of dibutyltin dilaurate were charged. After reacting at 80 ° C. for 5 hours, 688.9 g of ethyl acetate was added and cooled.
As a result of infrared absorption spectrum analysis, it was confirmed that the obtained reaction product solution had extinguished isocyanate groups. The softening temperature of what distilled ethyl acetate from the reaction product liquid was 43 degreeC.
An ionizing radiation curable resin composition was prepared by adding the reaction product (A), a film-forming resin, a photopolymerization initiator, and a solvent in the following composition.
・ <Ionizing radiation curable resin composition>
Reactive organism (A) 25 parts by mass acrylic oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name: Murasaki 6630B) 5 parts by mass reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: X-22-2445) 0.2 parts by weight of photopolymerization Initiator (product name, Irgacure 184, manufactured by Ciba) 0.9 parts by mass ethyl acetate 70 parts by mass Next, a stamper having a quasi-continuous pattern replicated by a 2P method from a diffraction grating by a two-beam interference method onto the hologram layer surface. It stuck on the embossing roller of the duplication apparatus, and heat-pressed (embossed) between the opposing rollers, and the relief which consists of a fine uneven | corrugated pattern was shaped. Immediately after shaping, it was cured by irradiating with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp. A titanium oxide thin film having a thickness of 300 nm was formed on the relief surface of the hologram layer 15 by vacuum deposition to obtain the hologram transfer foil 10 of Reference Example 1 as the reflective layer 17.

参考例2)電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用い、反射層17として真空蒸着法で厚さが500nmのアルミニウム薄膜を形成する以外は、参考例1と同様にして、参考例2のホログラム転写箔10を得た。
・<電離放射線硬化性樹脂組成物>
反応性生物(A) 24質量部
アクリルオリゴマー(日本合成化学社製、商品名紫光7510B) 6質量部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−1602) 0.1質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア184) 0.9質量部
酢酸エチル 70質量部
Reference Example 2 Reference Example 1 except that the following ionizing radiation curable resin composition was used as the ionizing radiation curable resin composition, and an aluminum thin film having a thickness of 500 nm was formed as the reflective layer 17 by vacuum deposition. In the same manner as described above, the hologram transfer foil 10 of Reference Example 2 was obtained.
・ <Ionizing radiation curable resin composition>
Reactive organism (A) 24 parts by mass acrylic oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name: Muriko 7510B) 6 parts by mass of reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: X-22-1602) 0.1 parts by weight of photopolymerization Initiator (Ciba, trade name Irgacure 184) 0.9 parts by mass Ethyl acetate 70 parts by mass

参考例3)電離放射線硬化性樹脂組成物として、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用いる以外は、参考例1と同様にして、参考例3のホログラム転写箔10を得た。
・<電離放射線硬化性樹脂組成物>
反応性生物(A) 24重量部
造膜性樹脂(メタクリル樹脂:クラレ社製、商品名パラペットGF) 6重量部
反応性シリコーン(信越化学社製、商品名X−22−1602) 0.1質量部
光重合開始剤(チバ社製、商品名イルガキュア184) 0.9重量部
酢酸エチル 70重量部
As (Reference Example 3) ionizing radiation curable resin composition, except for using an ionizing radiation-curable resin composition of the following, in the same manner as in Reference Example 1, to obtain a hologram transfer foil 10 of Reference Example 3.
・ <Ionizing radiation curable resin composition>
Reactive organism (A) 24 parts by weight film-forming resin (methacrylic resin: Kuraray Co., Ltd., trade name Parapet GF) 6 parts by weight reactive silicone (Shin-Etsu Chemical Co., trade name X-22-1602) 0.1 mass Part photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 184) 0.9 parts by weight ethyl acetate 70 parts by weight

(評価)参考例1〜3の硬化前のホログラム層はいずれも指乾状態であり、巻取りができ、以降の工程もロールツーロール加工ができた。耐熱性は、参考例1が170℃、参考例2が170℃、参考例3が150℃であった。破断伸度は、参考例1が31%、参考例2が31%、参考例3が5.5%であった。 (Evaluation) The hologram layers before curing in Reference Examples 1 to 3 were all in a finger dry state and could be wound up, and the subsequent steps could be rolled to roll. The heat resistance was 170 ° C. in Reference Example 1 , 170 ° C. in Reference Example 2 , and 150 ° C. in Reference Example 3 . The breaking elongation was 31% in Reference Example 1 , 31% in Reference Example 2 , and 5.5% in Reference Example 3 .

実施例1)まず、収縮フィルム21として、厚さ25μm、縦方向の延伸率4%、横方向の延伸率6%のポリプロピレンフィルムを用い、該収縮フィルム21へグラビア印刷法で所定の絵柄を印刷した。
参考例1のホログラム転写箔10の透明反射層17面へ、グラビアコート法で、下記の接着剤層31塗工液を乾燥後の塗布量が5g/m2になるように、塗工し100℃で乾燥させ、直ちに先に用意した収縮フィルムの印刷面とをドライラミネーション法で積層した。その後、40℃で2日間硬化させて、実施例1のホログラム付き収縮フィルム1を得た。
・<接着剤層塗工液>
タケラック310(三井武田ケミカル社製、PU系接着剤、商品名) 24部
タケラックA3(三井武田ケミカル社製、硬化剤、商品名) 2部
溶媒(酢酸エチル:トルエン=2:5) 74部
該ホログラム付き収縮フィルム1で、DVD記録媒体を収納した収納ケースを包装し、3方シールし、温度180℃のシュリンクトンネル内を通して収縮包装した。該包装体は透明ホログラムが消失せずに発現しており、また、印刷絵柄と相まって、特異な装飾効果で商品の意匠性を高めることができた。さらに、偽造することが困難でセキュリティ性も高められた。
( Example 1 ) First, a polypropylene film having a thickness of 25 μm, a stretching ratio of 4% in the longitudinal direction and a stretching ratio of 6% in the lateral direction is used as the shrink film 21, and a predetermined pattern is applied to the shrink film 21 by a gravure printing method. Printed.
The surface of the transparent reflective layer 17 of the hologram transfer foil 10 of Reference Example 1 was applied by gravure coating so that the following adhesive layer 31 coating solution was applied so that the coating amount after drying would be 5 g / m 2. Then, the printed surface of the shrink film prepared earlier was immediately laminated with a dry lamination method. Then, it was made to harden | cure at 40 degreeC for 2 days, and the shrink film 1 with a hologram of Example 1 was obtained.
・ <Adhesive layer coating solution>
Takelac 310 (Mitsui Takeda Chemical Co., PU adhesive, trade name) 24 parts Takelac A3 (Mitsui Takeda Chemical Co., curing agent, trade name) 2 parts Solvent (ethyl acetate: toluene = 2: 5) 74 parts The storage case containing the DVD recording medium was wrapped with the shrink film 1 with hologram, sealed in three directions, and shrink-wrapped through a shrink tunnel at a temperature of 180 ° C. In the package, the transparent hologram was expressed without disappearing, and it was possible to enhance the design of the product with a unique decoration effect in combination with the printed pattern. Furthermore, it was difficult to forge and security was improved.

実施例2)まず、収縮フィルム21として、厚さ25μm、縦方向の延伸率6%の1軸延伸ポリスチレンフィルムを用い、該収縮フィルム21へグラビア印刷法で所定の絵柄を印刷した。
参考例2のホログラム転写箔10の反射層17面へ、グラビアコート法で、下記の接着剤層31塗工液を乾燥後の塗布量が5g/m2になるように、塗工し100℃で乾燥させ、直ちに先に用意した収縮フィルムの非印刷面とをドライラミネーション法で積層した。その後、40℃で2日間硬化させて、実施例2のホログラム付き収縮フィルム1を得た。
該ホログラム付き収縮フィルム1の印刷面を外側に筒状に1方をシールし、PETボトルの胴部へかぶせて筒状に巻いた後に、温度180℃のシュリンクトンネル内を通して収縮包装した。該包装体はアルミニウムの金属光沢ホログラムが消失せずに発現しており、また、印刷絵柄と相まって、特異な装飾効果で商品の意匠性を高めることができた。
Example 2 First, a uniaxially stretched polystyrene film having a thickness of 25 μm and a stretching ratio of 6% in the longitudinal direction was used as the shrink film 21, and a predetermined pattern was printed on the shrink film 21 by a gravure printing method.
The surface of the reflection layer 17 of the hologram transfer foil 10 of Reference Example 2 was applied by gravure coating so that the following adhesive layer 31 coating solution was applied at a temperature of 5 g / m 2 after drying at 100 ° C. It dried and immediately laminated | stacked the non-printing surface of the shrink film prepared previously with the dry lamination method. Then, it was made to harden | cure at 40 degreeC for 2 days, and the shrink film 1 with a hologram of Example 2 was obtained.
The printed surface of the shrink film 1 with hologram was sealed on the outside in a cylindrical shape, covered on the barrel of a PET bottle and wound into a cylindrical shape, and then shrink-wrapped through a shrink tunnel at a temperature of 180 ° C. The package exhibited the metallic gloss hologram of aluminum without disappearing, and in combination with the printed pattern, the design of the product could be enhanced with a unique decorative effect.

本発明のホログラム付き収縮フィルムの製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the shrink film with a hologram of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1:ホログラム付き収縮フィルム
10:ホログラム転写箔
11:基材
13:離型層
15:ホログラム層
17:透明反射層
21:収縮フィルム
31:接着剤層
1: Shrink film with hologram 10: Hologram transfer foil 11: Base material 13: Release layer 15: Hologram layer 17: Transparent reflection layer 21: Shrink film 31: Adhesive layer

Claims (1)

(1)基材と、該基材の一方の面へ離型層、ホログラム層、及び反射層を設けたホログラム転写箔を準備する工程と、
(2)前記ホログラム転写箔の前記反射層面と収縮フィルムとを、接着剤層を介してドライラミネーション法で積層する工程と、
(3)前記基材を剥離する工程と、からなることを特徴とするホログラム付き収縮フィルムの製造方法において、
前記ホログラム層が(1)分子中にイソシアネート基を3個以上有するイソシアネート類と(2)分子中に水酸基を少なくとも1個と(メタ)アクリロイルオキシ基を少なくとも2個有する多官能(メタ)アクリレート類との反応生成物であるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂、アクリル系オリゴマー、及び反応性シリコーンの硬化物を含み、
前記上記ホログラム層が(1)電離放射線硬化前の塗膜が指乾状態で、(2)電離放射線硬化後の23℃における破断伸度が5%以上で、
かつ、(3)前記基材、前記離型層、前記ホログラム層、及び前記反射層を設けた前記ホログラム転写箔状態で、180℃雰囲気中に1時間放置しても白化しない耐熱性を有し、
前記ホログラム層の絵柄が擬似連続絵柄であり、
前記積層する工程の接着剤として2液硬化型ポリウレタン系接着剤を用いて、ドライラミネーション法で前記ホログラム転写箔の前記反射層面と収縮フィルムとの全面を積層する工程である
ことを特徴とするのホログラム付き収縮フィルムの製造方法。
(1) a step of preparing a base material and a hologram transfer foil provided with a release layer, a hologram layer, and a reflective layer on one surface of the base material;
(2) the said the reflective layer surface of the hologram transfer foil and shrink film, laminating a dry lamination method using an adhesive layer,
(3) In the method for producing a shrink film with hologram, comprising the step of peeling the base material ,
The hologram layer (1) is an isocyanate having three or more isocyanate groups in the molecule, and (2) a polyfunctional (meth) acrylate having at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. An ionizing radiation curable resin containing a urethane (meth) acrylate oligomer, which is a reaction product with acryl oligomer, and a cured product of reactive silicone,
The hologram layer is (1) the coating film before ionizing radiation curing is finger-dried, (2) the elongation at break at 23 ° C. after ionizing radiation curing is 5% or more,
And (3) heat resistance that does not cause whitening even when left in a 180 ° C. atmosphere in the hologram transfer foil state in which the substrate, the release layer, the hologram layer, and the reflective layer are provided. ,
The pattern of the hologram layer is a pseudo-continuous pattern,
A step of laminating the entire surface of the reflection layer and the shrink film of the hologram transfer foil by a dry lamination method using a two-component curable polyurethane adhesive as an adhesive in the laminating step. A method for producing a shrink film with hologram as a feature.
JP2005259370A 2005-09-07 2005-09-07 Method for producing shrink film with hologram Expired - Fee Related JP4770342B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005259370A JP4770342B2 (en) 2005-09-07 2005-09-07 Method for producing shrink film with hologram

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005259370A JP4770342B2 (en) 2005-09-07 2005-09-07 Method for producing shrink film with hologram

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007069472A JP2007069472A (en) 2007-03-22
JP4770342B2 true JP4770342B2 (en) 2011-09-14

Family

ID=37931353

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005259370A Expired - Fee Related JP4770342B2 (en) 2005-09-07 2005-09-07 Method for producing shrink film with hologram

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4770342B2 (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4977203B2 (en) * 2007-07-18 2012-07-18 株式会社フジシールインターナショナル Shrink label with hologram layer and labeled container
JP2009220407A (en) * 2008-03-17 2009-10-01 Dainippon Printing Co Ltd Transfer foil and forgery preventing medium
JP5277742B2 (en) * 2008-06-11 2013-08-28 大日本印刷株式会社 Method for producing transfer foil for in-mold
JP5380007B2 (en) 2008-06-16 2014-01-08 富士フイルム株式会社 Anti-counterfeit media
JP5608852B2 (en) * 2010-04-12 2014-10-15 サンノプコ株式会社 UV curable composition
CN112874196B (en) * 2021-01-26 2022-05-27 秦灵灵 Printing method based on heat shrinkable film

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03171083A (en) * 1989-11-30 1991-07-24 Dainippon Printing Co Ltd Hologram image layer forming method
JP2884328B2 (en) * 1995-06-26 1999-04-19 株式会社麗光 Heat shrinkable hologram film
JPH0976396A (en) * 1995-09-08 1997-03-25 Dainippon Printing Co Ltd Shrink-wrapping film
JP4260323B2 (en) * 1999-01-19 2009-04-30 大日本印刷株式会社 Hologram transfer foil
JP2001329031A (en) * 2000-05-25 2001-11-27 Mitsubishi Chemicals Corp Active-energy-ray curable composition and film-forming method using the same
JP4139656B2 (en) * 2002-09-09 2008-08-27 大日本印刷株式会社 Transfer foil
JP2005106857A (en) * 2003-09-26 2005-04-21 Dainippon Printing Co Ltd Hologram brittle sticker

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007069472A (en) 2007-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007118467A (en) Hologram transfer foil and molding with hologram obtained by employing the same
JP4876896B2 (en) Hologram transfer foil and manufacturing method thereof
JP2009018468A (en) Hologram transfer foil and scratch card
JP4770342B2 (en) Method for producing shrink film with hologram
JP2008155441A (en) In-mold transfer foil and molding using the foil
JP2008188866A (en) Intermediate transfer recording medium and image forming method
JP4797834B2 (en) Hologram transfer foil
WO2006085597A1 (en) Multi-pattern bright film, multi-pattern bright sled, and bright multi-pattern product using them
JP2009248477A (en) In-mold transfer foil and molded product
JP2007118466A (en) Hologram transfer foil
JP4946209B2 (en) Hologram transfer foil and molded product with hologram using the same
JP5277742B2 (en) Method for producing transfer foil for in-mold
JP4915199B2 (en) Forgery prevention medium using intermediate transfer recording medium with hologram
JP2008089863A (en) Hologram sheet and hologram formed product
JP2004098455A (en) Transfer foil and manufacturing method therefor
JP2010139910A (en) Hologram structure
JP2007225639A (en) Multiple hologram transfer foil and multiple hologram formation using the same
JP2010120236A (en) Transfer foil for in-mold and three-dimensional molded part employing with the same
JP4915198B2 (en) Forgery prevention medium using intermediate transfer recording medium with hologram
JP2010214796A (en) Transfer foil for in-mold, and solid molded article using the same
JP4676843B2 (en) Method for manufacturing printing and pouch sheet with hologram
JP2007086252A (en) Label with hologram and its manufacturing method
JP2007086251A (en) Label with hologram and its manufacturing method
JP2011027897A (en) Re-labeling prevention sticker and method of manufacturing the same
JP2005104043A (en) Thermal transfer sheet

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080808

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101012

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110223

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110415

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110524

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110606

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140701

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4770342

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees