JP2007118466A - Hologram transfer foil - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ホログラム転写箔に関し、さらに詳しくは、耐擦傷性などの高耐久性や、意匠性及び／又はセキュリティ性に優れるホログラムを転写性よく転写することができるホログラム転写箔に関するものである。 The present invention relates to a hologram transfer foil, and more particularly to a hologram transfer foil capable of transferring a hologram having excellent durability such as scratch resistance, design and / or security with good transferability.
本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「％」などは特に断わらない限り質量基準であり、「／」印は一体的に積層されていることを示す。
また、「ＰＥＴ」は「ポリエチレンテレフタレート」の略語、同意語、機能的表現、通称、又は業界用語である。
In the present specification, “ratio”, “part”, “%” and the like indicating the composition are based on mass unless otherwise specified, and the “/” mark indicates that they are integrally laminated.
“PET” is an abbreviation, synonym, functional expression, common name, or industry term for “polyethylene terephthalate”.
（主なる用途）本発明のホログラム転写箔を用いて転写した製品の主なる用途としては、社員証、会員証、学生証などのＩＤカード、ギフト券、入場証、通行証、サービスポイントなどの、一定の金額を払い込んだ（プリペイドという）権利や資格などを証明する媒体が適用できる。しかしながら、意匠性及びセキュリティ性に優れ、かつ、耐擦擦性などの耐久性が要求される用途であれば、特に限定されるものではない。 (Main applications) Main applications of products transferred using the hologram transfer foil of the present invention include ID cards such as employee cards, membership cards, student cards, gift certificates, admission cards, pass cards, service points, Media that proves the rights and qualifications that paid a certain amount of money (called prepaid) can be applied. However, it is not particularly limited as long as it is excellent in design and security, and is required to have durability such as abrasion resistance.
（背景技術）従来、金券類、カード類、及び各種証明書類などのは、資格証明や一定の経済的価値や効果を持つため、不正に偽造、変造、不正使用することが絶えない。特に、カラーコピー機の精度向上が著しく、各種の媒体類の偽造を容易にしている。
これを防止するため各種の偽造防止手段が施されている。光輝性、特にホログラム、回折格子などのレリーフ形状を有する転写箔は、特異な装飾像や立体像を表現できる意匠性と、これらホログラムや回折格子は高度な製造技術を要し、容易に製造できないことから、偽造防止としてセキュリティー性の向上に利用されている。上記の如きカ−ド類などは意匠性、セキュリティ性に優れているが、繰り返し使用することにより、外力などで摩擦されて、傷が付いたり、剥れたりすることが多く、その結果、カ−ド全体としての意匠性やセキュリティ性が損われるという問題が生じる。該問題は、保護層（ハ−ドコ−ト層、ＯＰ層ともいう）を厚くしたり、硬化樹脂とすることによって解決されるが、転写時の箔キレが悪く、転写性が著しく低下するという問題点もある。
従って、ホログラム転写箔は、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性がよく、かつ別途保護層を設けなくても、転写箔自身に構成されている保護層でも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有することが求められている。
(Background Art) Conventionally, gold vouchers, cards, and various certificates have qualifications and certain economic values and effects, so that they are constantly counterfeited, altered, and used illegally. In particular, the accuracy of color copiers is remarkably improved, making it easy to forge various media.
In order to prevent this, various forgery prevention means are provided. Transfer foils with relief, especially holograms and diffraction gratings, have a design that can express unique decorative images and three-dimensional images, and these holograms and diffraction gratings require advanced manufacturing techniques and cannot be easily manufactured. Therefore, it is used to improve security to prevent forgery. Cards such as those described above are excellent in design and security, but they are often rubbed or peeled off by repeated use due to repeated use. -There arises a problem that the design and security as a whole are impaired. This problem can be solved by increasing the thickness of the protective layer (also referred to as a hard coat layer or OP layer) or by using a cured resin, but the foil sharpness at the time of transfer is poor and the transferability is significantly reduced. There are also problems.
Therefore, the hologram transfer foil has good transferability such as foil sharpness when transferring to a medium such as a card, and even if a protective layer formed on the transfer foil itself is not provided with a separate protective layer, scratch resistance is sufficient. It is required to have high durability such as property.
（先行技術）従来、ホログラム転写箔の保護層は、ベースフィルムとホログラム形成層との間に剥離性を与え、しかも転写後の表面のホログラム形成層の保護等を与えるための役割を果たし、その材質としてはアクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、オレフィン系樹脂、アミド系樹脂、エボキン系樹脂等が知られている（例えば、特許文献１〜２参照。）。しかしながら、これらいずれの保護層では、表面の耐擦傷性が未だ充分ではないという欠点がある。 (Prior art) Conventionally, the protective layer of the hologram transfer foil has a role to give the peelability between the base film and the hologram forming layer, and also to protect the hologram forming layer on the surface after transfer, etc. As materials, acrylic resins, cellulose resins, vinyl resins, polyester resins, urethane resins, olefin resins, amide resins, ebokine resins, and the like are known (see, for example, Patent Documents 1 and 2). ). However, any of these protective layers has a drawback that the scratch resistance of the surface is not yet sufficient.
そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、特別に高耐久性保護層を設けなくても、転写箔自身に構成されている保護層でも充分な高耐久性を持ち、かつ、カードなどの媒体へ転写する際の転写性がよく、意匠性及び／又はセキュリティ性に優れたホログラムを転写することのできるホログラム転写箔を提供することである。 Accordingly, the present invention has been made to solve such problems. Its purpose is to provide a high durability even with a protective layer formed on the transfer foil itself, without providing a special highly durable protective layer, and to provide a transfer property when transferring to a medium such as a card. Well, it is to provide a hologram transfer foil capable of transferring a hologram having excellent design and / or security.
上記の課題を解決するために、請求項１の発明に係わるホログラム転写箔は、基材と、該基材の一方の面へ離型層、保護層、ホログラム層、反射層、及び接着層を設けてなるホログラム転写箔において、上記離型層がメラミン系樹脂であり、上記保護層が（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物、及びポリエチレンワックスを含み、かつ、上記ホログラム層が（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物を含んでいるように、したものである。
請求項２の発明に係わるホログラム転写箔は、上記保護層のポリエチレンワックスの含有が質量基準で、電離放射線硬化樹脂：ポリエチレンワックス＝１００：０．０１〜１０であるように、したものである。
請求項３の発明に係わるホログラム転写箔は、上記保護層と上記ホログラム層の合計厚味が１０μｍ以上で、かつ厚みの割合が上記保護層：上記ホログラム層＝１：２〜１０であるように、したものである。
In order to solve the above problems, a hologram transfer foil according to the invention of claim 1 includes a base material and a release layer, a protective layer, a hologram layer, a reflective layer, and an adhesive layer on one surface of the base material. In the hologram transfer foil provided, the release layer is a melamine resin, the protective layer is (1) an isocyanate having three or more isocyanate groups in the molecule, and (2) at least one hydroxyl group in the molecule. And a urethane (meth) acrylate oligomer which is a reaction product of a polyfunctional (meth) acrylate having at least two (meth) acryloyloxy groups, or (3) a polyhydric alcohol having at least two hydroxyl groups in the molecule. It contains a cured product of ionizing radiation curable resin and polyethylene wax, and the hologram layer has (1) three or more isocyanate groups in the molecule. Isocyanates, (2) polyfunctional (meth) acrylates having at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule, or (3) polyvalent having at least two hydroxyl groups in the molecule. A cured product of an ionizing radiation curable resin containing a urethane (meth) acrylate oligomer which is a reaction product of alcohols is included.
The hologram transfer foil according to the invention of claim 2 is such that the content of polyethylene wax in the protective layer is based on mass, and is ionizing radiation curable resin: polyethylene wax = 100: 0.01-10.
The hologram transfer foil according to the invention of claim 3 is such that the total thickness of the protective layer and the hologram layer is 10 μm or more, and the thickness ratio is the protective layer: the hologram layer = 1: 2-10. , That is.
請求項１の本発明によれば、カードなどの媒体へ転写する際の箔キレなどの転写性がよく、かつ別途保護層を設けなくても、転写箔自身に構成されている保護層でも充分な耐擦傷性などの高耐久性を有するホログラム転写箔が提供される。
請求項２〜３の本発明によれば、転写時に箔切れがよりよく、転写操作で容易に転写させることができるホログラム転写箔が提供される。
According to the first aspect of the present invention, a transfer property such as a foil crack when transferring to a medium such as a card is good, and a protective layer formed on the transfer foil itself is sufficient even if a separate protective layer is not provided. A hologram transfer foil having high durability such as excellent scratch resistance is provided.
According to the second to third aspects of the present invention, there is provided a hologram transfer foil that has better foil breakage during transfer and can be easily transferred by a transfer operation.
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図１は、本発明の１実施例を示すホログラム転写箔の断面図である。
図２は、本発明のホログラム転写箔を用いて、転写した被転写体の断面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a sectional view of a hologram transfer foil showing one embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of a transferred object transferred using the hologram transfer foil of the present invention.
（ホログラム転写箔）本発明のホログラム転写箔１０は、図１に示すように、基材１１と、該基材の一方の面へ離型層１３、保護層１４、ホログラム層１５、反射層１７、及び接着層１９の層構成において、保護層１４及びホログラム層１５が特定の材料からなる。該離型層１３及び保護層１４は特定のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物を主成分とし、保護層１４のみへポリエチレンワックスを含むようにする。好ましくは、保護層１４のポリエチレンワックスの含有が質量基準で、電離放射線硬化樹脂：ポリエチレンワックス＝１００：０．０１〜１０であり、さらに好ましくは、上記保護層１４と上記ホログラム層１５の合計厚味が１０μｍ以上で、かつ厚みの割合が上記保護層１４：上記ホログラム層１５＝１：２〜１０であるようにする。 (Hologram Transfer Foil) As shown in FIG. 1, the hologram transfer foil 10 of the present invention has a base material 11 and a release layer 13, a protective layer 14, a hologram layer 15 and a reflective layer 17 on one surface of the base material. In the layer configuration of the adhesive layer 19, the protective layer 14 and the hologram layer 15 are made of a specific material. The release layer 13 and the protective layer 14 are mainly composed of a cured product of an ionizing radiation curable resin containing a specific urethane (meth) acrylate oligomer, and only the protective layer 14 contains polyethylene wax. Preferably, the content of polyethylene wax in the protective layer 14 is based on mass, ionizing radiation curable resin: polyethylene wax = 100: 0.01 to 10, more preferably, the total thickness of the protective layer 14 and the hologram layer 15 The taste is 10 μm or more, and the ratio of the thickness is such that the protective layer 14: the hologram layer 15 = 1: 2-10.
（基材）基材１１としては、耐熱性、機械的強度、製造に耐える機械的強度、耐溶剤性などがあれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６などのポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリカーボネート、セロファン、セルロースアセテートなどのセルロース系フィルム、などがある。好ましくは、耐熱性、機械的強度の点で、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂のフィルムで、ポリエチレンテレフタレートが最適である。該基材の厚さは、通常、２．５〜５０μｍ程度が適用できるが、４〜２５μｍが転写性の点で好ましい。 (Substrate) As the substrate 11, various materials can be applied depending on the use as long as the substrate 11 has heat resistance, mechanical strength, mechanical strength to withstand manufacturing, solvent resistance, and the like. For example, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamide resins such as nylon 6, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene and polymethylpentene, vinyl resins such as polyvinyl chloride, polymethyl methacrylate, etc. Examples include acrylic resins, polycarbonate, cellophane, and cellulose films such as cellulose acetate. Preferably, in terms of heat resistance and mechanical strength, polyethylene terephthalate is the most suitable for polyester resin films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate. The thickness of the substrate is usually about 2.5 to 50 μm, but 4 to 25 μm is preferable in terms of transferability.
該基材は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体（アロイを含む）、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。また、該基材は、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該基材は、これら樹脂の少なくとも１層からなるフィルム、シート、ボード状として使用する。該基材は、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー（アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる）塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。また、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。 The substrate may be a copolymer resin containing these resins as a main component, a mixture (including an alloy), or a laminate composed of a plurality of layers. The substrate may be a stretched film or an unstretched film, but a film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction is preferable for the purpose of improving the strength. The substrate is used as a film, sheet or board formed of at least one layer of these resins. Prior to application, the substrate is subjected to corona discharge treatment, plasma treatment, ozone treatment, flame treatment, primer (also called an anchor coat, adhesion promoter, or easy adhesive) application treatment, pre-heat treatment, dust removal treatment. Alternatively, easy adhesion treatment such as vapor deposition treatment or alkali treatment may be performed. Moreover, you may add additives, such as a filler, a plasticizer, a coloring agent, and an antistatic agent, as needed.
（離型層）離型層１３としては、離型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂、電離放射線で架橋する硬化性樹脂などがあるが、本発明ではメラミン系樹脂を用いる。該メラミン系樹脂を用いることで、後述する保護層保護層１４との組合わせで安定した剥離性を発揮する。 (Release layer) The release layer 13 includes a release resin, a resin containing a release agent, and a curable resin that is cross-linked by ionizing radiation. In the present invention, a melamine resin is used. By using the melamine resin, stable releasability is exhibited in combination with a protective layer protective layer 14 described later.
離型層１３の形成は、該樹脂を溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコート、プレーコートなどの印刷又はコーティング方法で、少なくとも１部に塗布し乾燥して塗膜を形成する。また、要すれば、温度３０℃〜１２０℃で加熱乾燥、あるいはエージングしてもよい。離型層１３の厚さとしては、通常は０．０１μｍ〜５μｍ程度、好ましくは０．５μｍ〜３μｍ程度である。該厚さは薄ければ薄い程良いが、０．１μｍ以上であればより良い成膜が得られて剥離力が安定する。 The release layer 13 is formed by dispersing or dissolving the resin in a solvent and applying it to at least one part by a printing or coating method such as roll coating, gravure coating, comma coating, or pre-coating and drying to form a coating film. Form. Further, if necessary, it may be heat-dried or aged at a temperature of 30 ° C. to 120 ° C. The thickness of the release layer 13 is usually about 0.01 μm to 5 μm, preferably about 0.5 μm to 3 μm. The thinner the thickness is, the better. However, when the thickness is 0.1 μm or more, better film formation is obtained and the peeling force is stabilized.
（保護層）保護層１４の材料としては、（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂と（メタ）アクリレートオリゴマーの硬化物、及びポリエチレンワックスを含み、かつ、ホログラム層は（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂（本明細書では「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」と呼称する）、及び必要に応じて（メタ）アクリレートオリゴマーの硬化物、並びにポリエチレンワックスを含むようにする。 (Protective layer) Materials for the protective layer 14 include (1) isocyanates having 3 or more isocyanate groups in the molecule, (2) at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. An ionizing radiation curable resin containing a urethane (meth) acrylate oligomer which is a reaction product of a polyfunctional (meth) acrylate having, or (3) a polyhydric alcohol having at least two hydroxyl groups in the molecule, and (meth) The hologram layer contains a cured product of acrylate oligomer and polyethylene wax, and the hologram layer is (1) an isocyanate having three or more isocyanate groups in the molecule, (2) at least one hydroxyl group in the molecule and (meth) acryloyloxy Polyfunctional (meth) acrylates having at least two groups, or (3) hydroxyl groups in the molecule An ionizing radiation curable resin containing a urethane (meth) acrylate oligomer that is a reaction product of at least two polyhydric alcohols (referred to herein as “ionizing radiation curable resin composition M”), and necessary Accordingly, a cured product of (meth) acrylate oligomer and polyethylene wax are included.
（電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ）「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」としては、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物、具体的には、特開２００１−３２９０３１号公報で開示されている光硬化性樹脂が好ましい。
即ち、「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物である。
(Ionizing radiation curable resin composition M) The “ionizing radiation curable resin composition M” is a cured product of an ionizing radiation curable resin containing a urethane (meth) acrylate oligomer. The photocurable resin disclosed in Japanese Patent No. 329031 is preferable.
That is, “ionizing radiation curable resin composition M” (1) isocyanates having 3 or more isocyanate groups in the molecule, (2) at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule Reaction product of polyfunctional (meth) acrylates having, or (3) polyhydric alcohols having at least two hydroxyl groups in the molecule.
（（メタ）アクリレートオリゴマー）必要に応じて加える（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、耐熱性のあるオリゴマーであればよく、例えば、日本合成化学社の商品名；紫光６６３０Ｂ、７５１０Ｂ、７６３０Ｂ、７６００Ｂ、７５５０Ｂ、５０５−６などが例示できる。含有させる質量基準での割合としては、「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」１００部に対して１０〜３０部程度、好ましくは１５〜２５部である。この範囲未満では耐熱性が不足し、この範囲を超えては耐熱性はよいが、ヒビ割れしやすい。 ((Meth) acrylate oligomer) The (meth) acrylate oligomer added as necessary may be a heat-resistant oligomer. For example, trade names of Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd .; Purple light 6630B, 7510B, 7630B, 7600B, 7550B 505-6 and the like. The ratio on the basis of mass to be contained is about 10 to 30 parts, preferably 15 to 25 parts with respect to 100 parts of “ionizing radiation curable resin composition M”. If it is less than this range, the heat resistance is insufficient, and if this range is exceeded, the heat resistance is good, but cracking tends to occur.
（ポリエチレンワックス）ポリエチレンワックスとしては、球状ビーズが好ましい。但し、ポリエチレンワックスを添加すると、箔切れ性は低下するので、その添加量は、電離放射線硬化樹脂１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部程度、好ましくは０．１〜５質量部とする。 (Polyethylene wax) As the polyethylene wax, spherical beads are preferable. However, when polyethylene wax is added, the foil breakage is reduced, so the amount added is about 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 5 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of ionizing radiation curable resin. And
（保護層の形成）保護層１４の形成は、上記の電離放射線硬化性樹脂、反応性シリコーン、及びポリエチレンワックス、必要に応じて光重合開始剤、可塑剤、安定剤、界面活性剤等を加え、溶媒へ分散または溶解して、ロールコート、グラビアコート、コンマコート、ダイコートなどの公知のコーティング方法で塗布し乾燥するか、乾燥、若しくは乾燥した後のエージング（硬化）処理、又は電離放射線で反応（硬化）させればよい。保護層１４の厚さは、通常は１〜１０μｍ程度、好ましくは２〜６μｍであるが、滑性を向上させるために、ポリエチレンワックスの直径より小さく、ポリエチレンワックスの頭部が保護層１４の表面より突出しているようにする。保護層１４の厚さとポリエチレンワックスの直径は、保護層１４の表面にポリエチレンワックスの頭部が突出するように、上記の範囲で調整すればよい。 (Formation of protective layer) The protective layer 14 is formed by adding the above-mentioned ionizing radiation curable resin, reactive silicone, and polyethylene wax, if necessary, a photopolymerization initiator, a plasticizer, a stabilizer, a surfactant, and the like. , Dispersed or dissolved in a solvent, applied by a known coating method such as roll coating, gravure coating, comma coating, die coating, etc., dried, or dried, or after aging (curing) treatment, or reacted with ionizing radiation (Curing). The thickness of the protective layer 14 is usually about 1 to 10 μm, preferably 2 to 6 μm. However, in order to improve lubricity, the diameter of the polyethylene wax is smaller, and the head of the polyethylene wax is the surface of the protective layer 14. Make it more prominent. The thickness of the protective layer 14 and the diameter of the polyethylene wax may be adjusted in the above range so that the head of the polyethylene wax protrudes from the surface of the protective layer 14.
（ホログラム層）ホログラム層１５の材料としては、（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂（本明細書では「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」と呼称する）、必要に応じて（メタ）アクリレートオリゴマー、及び反応性シリコーンの硬化物を含むようにするが、保護層１４へ含ませたポリエチレンワックスは含ませない。 (Hologram layer) The material of the hologram layer 15 includes (1) isocyanates having three or more isocyanate groups in the molecule, and (2) at least one hydroxyl group and at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. An ionizing radiation curable resin containing a urethane (meth) acrylate oligomer which is a reaction product of a polyfunctional (meth) acrylate having, or (3) a polyhydric alcohol having at least two hydroxyl groups in the molecule (this specification) In this case, it is referred to as “ionizing radiation curable resin composition M”), and if necessary, a (meth) acrylate oligomer and a cured product of reactive silicone are included. However, the polyethylene wax included in the protective layer 14 is Do not include.
保護層１４及びホログラム層１５はポリエチレンワックスを除き、同じ「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」と（メタ）アクリレートオリゴマーは同じものを用いることが、保護層１４及びホログラム層１５の層間の密着性から好ましい。 The protective layer 14 and the hologram layer 15 are the same “ionizing radiation curable resin composition M” and (meth) acrylate oligomer, except for polyethylene wax. To preferred.
（反応性シリコーン）必要に応じて加える反応性シリコーンとしては、電離放射線で硬化時に樹脂と反応し結合して一体化するもので、アクリル変性、メタクリル変性、又はエポキシ変性などで変性した反応性シリコーンで、該反応性シリコーンを含有させる質量基準での割合としては「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」１００に対して、０．１〜１０部程度、好ましくは０．３〜５部である。この範囲未満ではレリーフの賦型時にプレススタンパとの剥離が不十分であり、プレススタンパの汚染を防止することが困難で賦型性が悪い。また、この範囲を超えてはホログラム層面への反射層の密着性が低く、ホログラム層と反射層との間で剥離し商品価値を失ってしまう。従来のシリコーンオイルの添加では、反射層との密着性が悪い。 (Reactive silicone) Reactive silicone added as needed is a reactive silicone that reacts with and binds to the resin when cured with ionizing radiation, and is modified by acrylic, methacrylic or epoxy modification. The ratio of the reactive silicone on a mass basis is about 0.1 to 10 parts, preferably 0.3 to 5 parts, relative to “ionizing radiation curable resin composition M” 100. If it is less than this range, peeling from the press stamper is insufficient at the time of relief molding, and it is difficult to prevent contamination of the press stamper and the moldability is poor. Further, beyond this range, the adhesiveness of the reflective layer to the hologram layer surface is low, and the commercial value is lost by peeling between the hologram layer and the reflective layer. Addition of conventional silicone oil has poor adhesion to the reflective layer.
このように、保護層１４は「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」、及びポリエチレンワックスを含ませ、必要に応じて（メタ）アクリレートオリゴマーも含ませて硬化物としてもよい。ホログラム層１５は、保護層１４と同じ「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」、必要に応じて（メタ）アクリレートオリゴマー、及び反応性シリコーンを用いることで、次の作用効果を兼ねさせることができるのである。 Thus, the protective layer 14 may include “ionizing radiation curable resin composition M” and polyethylene wax, and may include a (meth) acrylate oligomer as necessary to form a cured product. The hologram layer 15 can have the following effects by using the same “ionizing radiation curable resin composition M” as that of the protective layer 14 and, if necessary, a (meth) acrylate oligomer and reactive silicone. It is.
（１）ホログラム層１５へはポリエチレンワックスは含ませないことで、箔切れ性がよく、転写後のホログラム層のブツブツ感もなくすることができる。（２）転写後の保護層１４は最表面層となり、極めて過酷な環境での使用、長期間にわたる使用、及び／又は多数回の繰り返し使用などでも、溶剤、機械的な摩擦、及び摩耗からホログラムを保護し、傷付きにくく耐久性に優れる。（３）保護層１４はメラミン系樹脂を用いた離型層１３と界面を接しているので、安定した剥離性を有し、転写時には箔切れがよく、バリなどの発生も極めて少なくすることができる。 (1) Since polyethylene wax is not included in the hologram layer 15, the foil cutting property is good, and the hologram layer after transfer can be made to have no rough feeling. (2) The protective layer 14 after transfer becomes the outermost surface layer, and is used in extremely harsh environments, used for a long period of time, and / or repeatedly used many times. Protects against damage and has excellent durability. (3) Since the protective layer 14 is in contact with the release layer 13 using a melamine-based resin, the protective layer 14 has a stable releasability, good foil breakage at the time of transfer, and extremely low occurrence of burrs. it can.
（ホログラム層の形成）ホログラム層１５は、上記の樹脂及び必要に応じて添加剤を、溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、リバースロールコート、グラビアコート、コンマコートなどの公知のコーティング方法で、少なくとも１部に塗布し乾燥して塗膜を形成したりすれば良い。ホログラム層１５の厚さとしては、通常は１μｍ〜３０μｍ程度、好ましくは２μｍ〜２０μｍ程度である。複数回の塗布でもよい。 (Hologram Layer Formation) The hologram layer 15 is formed by dispersing or dissolving the above resin and, if necessary, the solvent in a solvent, and using a known coating method such as roll coating, reverse roll coating, gravure coating, comma coating, etc. It may be applied to at least one part and dried to form a coating film. The thickness of the hologram layer 15 is usually about 1 μm to 30 μm, preferably about 2 μm to 20 μm. It may be applied several times.
（保護層の厚味、厚味比）また、保護層１４の厚さは通常１〜１０μｍ程度、好ましくは２〜６μｍであり、ホログラム層１５の厚さは通常４〜５０μｍ程度、好ましくは８〜３０μｍである。保護層１４とホログラム層１５の厚味の比は、保護層：ホログラム層＝１：２〜１０であるようにすることで、剥離がよく、箔切れがよく、保護層１４とホログラム層１５とを１回の転写操作で転写することができる。なお、保護層：ホログラム層＝１：１０超過でも機能はするが、コストが高くなる。保護層１４とホログラム層１５の合計厚味が１０μｍ以上で、好ましくは１５μｍ以上であるようにすることで耐久性が高まり、極めて過酷な環境での使用、使用期限がなかったり、長期にわたる使用、及び／又は多数回の繰り返し使用などでも、化学的機械的な外力から保護できるホログラム転写箔が得られる。 (Thickness of the protective layer, thickness ratio) The thickness of the protective layer 14 is usually about 1 to 10 μm, preferably 2 to 6 μm, and the thickness of the hologram layer 15 is usually about 4 to 50 μm, preferably 8 ˜30 μm. The ratio of the thickness of the protective layer 14 and the hologram layer 15 is such that the protective layer: hologram layer = 1: 2 to 10 so that the peeling is good and the foil is cut off. Can be transferred by one transfer operation. The protective layer: hologram layer = 1: 10 exceeds the function, but the cost is increased. The total thickness of the protective layer 14 and the hologram layer 15 is 10 μm or more, preferably 15 μm or more, so that the durability is enhanced, use in extremely harsh environments, no expiration date, long-term use, In addition, a hologram transfer foil that can be protected from external chemical and mechanical forces can be obtained even after repeated use.
（ホログラム）次に、ホログラム層１５の表面には、ホログラムなどの光回折効果の発現する所定のレリーフ構造を賦型し、硬化させる。ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）、ホログラフィック回折格子などがある。レリーフ形状は凹凸形状であり、特に限定されるものではなく、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現するものでもよく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現するヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターンなどでもよい。 (Hologram) Next, on the surface of the hologram layer 15, a predetermined relief structure such as a hologram that exhibits a light diffraction effect is formed and cured. A hologram is a recording of interference fringes due to the interference of light between object light and reference light in an uneven relief shape, such as a laser reproduction hologram such as a Fresnel hologram, a white light reproduction hologram such as a rainbow hologram, There are color holograms utilizing the above principle, computer generated holograms (CGH), holographic diffraction gratings and the like. The relief shape is a concavo-convex shape, and is not particularly limited, and may have a fine concavo-convex shape such as light diffusion, light scattering, light reflection, light diffraction, etc., such as Fourier transform or lenticular lens. , A light diffraction pattern, and a moth eye. Further, although it does not have a light diffraction function, it may be a hairline pattern, a mat pattern, a line pattern, an interference pattern, or the like that expresses a unique glitter.
これらのレリーフ形状の作製方法としてはホログラム撮影記録手段を利用して作製されたホログラムや回折格子の他に、干渉や回折という光学計算に基づいて電子線描画装置等を用いて作製されたホログラムや回折格子をあげることもできる。また、ヘアライン柄や万線柄のような比較的大きなパターンなどは機械切削法でもよい。これらのホログラム及び／又は回折格子の単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。これらの原版は公知の材料、方法で作成することができ、通常、感光性材料を塗布したガラス板を用いたレーザ光干渉法、電子線レジスト材料を塗布したガラス板に電子線描画装置を用いてパターン作製する電子線描画法をなどが適用できる。 As a method for producing these relief shapes, in addition to holograms and diffraction gratings produced using hologram photographing and recording means, holograms produced using an electron beam drawing device based on optical calculations such as interference and diffraction, A diffraction grating can also be mentioned. Also, a relatively large pattern such as a hairline pattern or a line pattern may be a machine cutting method. These holograms and / or diffraction gratings may be recorded single or multiple, or may be recorded in combination. These original plates can be prepared by known materials and methods, and usually, laser beam interference using a glass plate coated with a photosensitive material, using an electron beam drawing apparatus on a glass plate coated with an electron beam resist material. An electron beam drawing method for patterning can be applied.
（レリーフの賦型）ホログラム層１５面へ、上記のレリーフ形状を賦形（複製ともいう）する。ホログラムの賦型は、公知の方法によって形成でき、例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型（スタンパという）として用い、上記樹脂層上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。 (Relief shaping) The relief shape is shaped (also referred to as replication) on the surface of the hologram layer 15. Hologram shaping can be formed by a known method. For example, when recording diffraction gratings or interference fringes of holograms as reliefs of surface irregularities, a master on which the diffraction gratings or interference fringes are recorded in irregularities is pressed. The concave / convex pattern of the original can be duplicated by using it as a mold (referred to as a stamper) and by superimposing the original on the resin layer and heat-pressing both of them with an appropriate means such as a heating roll.
（レリーフの硬化）ホログラム層１５は、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、電離放射線を照射して硬化（反応）させると電離放射線硬化樹脂（ホログラム層１５）となる。電離放射線としては、電磁波が有する量子エネルギーで区分する場合もあるが、本明細書では、すべての紫外線（ＵＶ‐Ａ、ＵＶ‐Ｂ、ＵＶ‐Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線を包含するものと定義する。従って、電離放射線としては、紫外線（ＵＶ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、または電子線などが適用できるが、紫外線（ＵＶ）が好適である。電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂は、紫外線硬化の場合は光重合開始剤、及び／又は光重合促進剤を添加し、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないで良く、また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。ホログラム層１５として、熱硬化性樹脂を用いた場合には、使用する熱硬化性樹脂の硬化条件に応じた温湿度環境下で、エージングを行い硬化させればよい。なお、保護層１４の硬化はホログラム層１５と同時でもよく、予め硬化させておいてもよい。 (Relief Curing) The hologram layer 15 is irradiated with ionizing radiation during or after embossing with a stamper to cure the ionizing radiation curable resin. The ionizing radiation curable resin becomes an ionizing radiation curable resin (hologram layer 15) when cured (reacted) by irradiation with ionizing radiation after the relief is formed. The ionizing radiation may be classified according to the quantum energy of the electromagnetic wave, but in this specification, all ultraviolet rays (UV-A, UV-B, UV-C), visible rays, gamma rays, X-rays, electrons It is defined as including a line. Accordingly, ultraviolet (UV), visible light, gamma rays, X-rays, or electron beams can be applied as ionizing radiation, but ultraviolet (UV) is preferred. An ionizing radiation curable resin that is cured by ionizing radiation may contain a photopolymerization initiator and / or a photopolymerization accelerator in the case of ultraviolet curing, and may not be added in the case of high energy electron beam curing. Can be cured even with thermal energy. When a thermosetting resin is used as the hologram layer 15, it may be cured by aging in a temperature and humidity environment according to the curing conditions of the thermosetting resin to be used. The protective layer 14 may be cured at the same time as the hologram layer 15 or may be cured in advance.
（レリーフの絵柄）ホログラム層１５の絵柄を擬似連続絵柄とすることが好ましい。擬似連続絵柄はプレス型（スタンパという）を作成する際に、小さなレリーフ版の複数を、精度よく突合せてつなぎ目を目立たなくしたり、つなぎ目を樹脂で埋めたりすればよい。このように、擬似連続絵柄とすることで、できるだけ大きな面積、又は好ましくは全面とすることもできる。大面積又は全面のホログラム絵柄を背景とし他の任意な印刷絵柄と、同調させたり、合わせたりして、さらなる特異な意匠性を向上させることができる。印刷絵柄は、層間又は層表面に、公知の印刷法などで適宜設ければよく、印刷絵柄はホログラム転写箔、及び／又は収縮フィルムのいずれへ設けてもよい。 (Relief pattern) The pattern of the hologram layer 15 is preferably a quasi-continuous pattern. When creating a press mold (referred to as a stamper) for the pseudo continuous pattern, it is only necessary to match a plurality of small relief plates with high accuracy to make the joints inconspicuous, or to fill the joints with resin. In this way, by using a quasi-continuous pattern, the area can be as large as possible, or preferably the entire surface. Further unique design can be improved by synchronizing or matching with any other printed pattern against a large area or entire surface of the hologram pattern. The printed pattern may be appropriately provided on the interlayer or the layer surface by a known printing method or the like, and the printed pattern may be provided on either the hologram transfer foil and / or the shrink film.
（反射層）反射層１７は、所定のレリーフ構造を設けたホログラム層１５面のレリーフ面へ、反射層１７へ設けることにより、レリーフの反射及び／又は回折効果を高めるので、ホログラム層１５の反射率のより高れば、特に限定されなず、例えば金属薄膜が適用できる。該反射層１７に用いる金属としては、金属光沢を有し光を反射する金属元素の薄膜で、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ等の金属、及びその酸化物、硫化物、窒化物等の薄膜を単独又は複数を組み合わせてもよい。上記の光反射性の金属薄膜の形成は、いずれも１０〜２０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜１０００ｎｍの厚さになるよう、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの真空薄膜法で得られるが、その他、メッキなどによっても形成できる。反射層１７の厚さがこの範囲未満では、光がある程度透過して効果が減じ、また、それ以上では、反射効果は変わらないので、コスト的に無駄である。 (Reflection layer) Since the reflection layer 17 is provided on the reflection layer 17 on the relief surface of the hologram layer 15 provided with a predetermined relief structure, the reflection reflection and / or diffraction effect is enhanced. If a rate is higher, it will not specifically limit, For example, a metal thin film can be applied. The metal used for the reflective layer 17 is a metal element thin film that has a metallic luster and reflects light, such as Cr, Ni, Ag, Au, Al, etc., and oxides, sulfides, nitrides thereof, etc. A thin film may be used alone or in combination. The formation of the light-reflective metal thin film can be obtained by a vacuum thin film method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method so as to have a thickness of about 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm. However, it can also be formed by plating. If the thickness of the reflective layer 17 is less than this range, the light is transmitted to some extent and the effect is reduced, and if it is more than that, the reflective effect is not changed, which is wasteful in cost.
また、反射層１７として、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム層のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できるから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム層１５よりも光屈折率の高い薄膜、および光屈折率の低い薄膜とがあり、前者の例としては、ＺｎＳ、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｓ3、ＳｉＯ、ＳｎＯ2、ＩＴＯ等があり、後者の例としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＡｌＦ3がある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｇａ、Ｒｂ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ａｕ等の酸化物又は窒化物他はそれらを２種以上を混合したもの等が挙げられる。またアルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが２００Å以下になると、透明性が出て使用できる。 Further, the reflective layer 17 has a substantially colorless and transparent hue, and its optical refractive index is different from that of the hologram layer. A simple hologram can be produced. For example, there are a thin film having a higher refractive index than the hologram layer 15 and a thin film having a lower refractive index. Examples of the former include ZnS, TiO 2 , Al 2 O 3 , Sb 2 S 3 , SiO, SnO 2. ITO, etc., and examples of the latter include LiF, MgF 2 , and AlF 3 . Preferably, it is a metal oxide or nitride, specifically, Be, Mg, Ca, Cr, Mn, Cu, Ag, Al, Sn, In, Te, Fe, Co, Zn, Ge, Pb, Cd , Bi, Se, Ga, Rb, Sb, Pb, Ni, Sr, Ba, La, Ce, Au, and other oxides or nitrides, and the like may be a mixture of two or more thereof. Also, a general light-reflective metal thin film such as aluminum can be used when it has a thickness of 200 mm or less.
透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、ホログラム層１５のレリーフ面に、１０〜２０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜１０００ｎｍの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、ＣＶＤなどの真空薄膜法などにより設ければよい。さらには、ホログラム層１５と光の屈折率の異なる透明な合成樹脂を使用してもよく、接着層１９材料とホログラム層１５材料の屈折率が十分に異なる場合には、接着層１９が反射層１９を兼ねることもできる。 The transparent metal compound is formed on the relief surface of the hologram layer 15 by vacuum such as vapor deposition, sputtering, ion plating, and CVD so that the thickness of the relief layer of the hologram layer 15 is about 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm. It may be provided by a thin film method or the like. Furthermore, a transparent synthetic resin having a refractive index different from that of the hologram layer 15 may be used. When the refractive index of the adhesive layer 19 material and the hologram layer 15 material is sufficiently different, the adhesive layer 19 is a reflective layer. 19 can also be used.
（接着層）接着層１９としては、公知の加熱されると溶融または軟化して接着効果を発揮する感熱接着剤が適用でき、具体的には、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂などが挙げられる。該接着層１９には、マイクロシリカなどのフィラーを含むことが、箔切れ性の点で好ましい。また、接着層１９の樹脂としては、９５℃程度の低温で溶融接着し、６０℃程度になると固化して接着する融点が６０〜９５℃ものが好ましい。融点が上記範囲未満であると、支持体との接着性が不十分であり、形成された画像を使用する温度が制限される。また、融点が上記範囲を越えるとサーマルヘッドによる加熱では転写性が不十分となり、又、ハードコート層の箔切れ性が低下し、解像性の良い転写が困難となる。該材料樹脂を溶剤に溶解または分散させて、適宜顔料などの添加剤を添加して、公知のロールコーティング、グラビアコーティング、コンマコーティングなどの方法で塗布し乾燥させて、厚さ１〜３０μｍの層を得る。 (Adhesive layer) As the adhesive layer 19, a heat-sensitive adhesive that melts or softens when heated and exhibits an adhesive effect can be applied. Specifically, a vinyl chloride resin, a vinyl acetate resin, or vinyl chloride. Examples thereof include vinyl acetate copolymer resins, acrylic resins, and polyester resins. The adhesive layer 19 preferably contains a filler such as microsilica in terms of the ability to break the foil. Further, the resin of the adhesive layer 19 is preferably one having a melting point of 60 to 95 ° C. which melts and adheres at a low temperature of about 95 ° C. and solidifies and adheres at about 60 ° C. When the melting point is less than the above range, the adhesion to the support is insufficient, and the temperature at which the formed image is used is limited. On the other hand, if the melting point exceeds the above range, the transferability becomes insufficient by heating with a thermal head, the foil breakability of the hard coat layer is lowered, and transfer with good resolution becomes difficult. The material resin is dissolved or dispersed in a solvent, an additive such as a pigment is added as appropriate, and the layer is applied and dried by a known method such as roll coating, gravure coating, or comma coating, and a layer having a thickness of 1 to 30 μm Get.
（転写）このようにして得られた本発明のホログラム転写箔１０を用いて、図２のように、保護層１４、ホログラム層１５、反射層１７、及び接着層１９を、被転写体１０１へ転写する。保護層１４が最表面に位置し、表面を保護し耐久性を高める。転写時には離型層１３と保護層１４との間で剥離するが、若干離型層１３の１部が保護層１４へ移行する場合もあるが、本発明の範囲内である。 (Transfer) Using the hologram transfer foil 10 of the present invention thus obtained, the protective layer 14, the hologram layer 15, the reflective layer 17, and the adhesive layer 19 are transferred to the transfer object 101 as shown in FIG. Transcript. The protective layer 14 is positioned on the outermost surface to protect the surface and enhance durability. Although peeling occurs between the release layer 13 and the protective layer 14 at the time of transfer, a part of the release layer 13 may move to the protective layer 14 in some cases, but is within the scope of the present invention.
（転写法）被転写体１０１への形成方法としては、公知の転写法でよく、例えば、熱刻印によるホットスタンプ（箔押）、熱ロールによる全面又はストライプ転写、サーマルヘッド（感熱印画ヘッド）によるサーマルプリンタ（熱転写プリンタともいう）などの公知の方法が適用できる。スポット状、文字、数字、イラストなどの任意の形状を転写してもよい。異なる任意の形状を連続操作できたり、オンデマンドで印画できるサーマルプリンタが好ましい。 (Transfer method) A known transfer method may be used as a method for forming the transfer object 101. For example, hot stamping by hot stamping (foil stamping), whole surface or stripe transfer by a thermal roll, thermal head (thermal printing head) is used. A known method such as a thermal printer (also referred to as a thermal transfer printer) can be applied. Any shape such as a spot shape, letters, numbers, and illustrations may be transferred. A thermal printer that can continuously operate different shapes or print on demand is preferable.
また、背景技術で説明したように、極めて過酷な環境での使用、長期にわたる使用期限、及び／又は多数回の繰り返し使用などでは、未だ充分な耐久性が得られていなかった。保護層を厚くすればよいが、厚くすると箔切れが著しく悪くなるので、保護層を２回重ねて転写していた。本発明のホログラム転写箔１０によれば、耐久性の高い保護層１４及びホログラム層１５を厚さが厚くても剥離性及び箔切れ性がよく、１回で転写することができる。保護層１４は表面に存在し、機械的化学的な損傷から長期間にわたって保護し、極めて過酷な環境で使用されるガソリンスタンドカードや工事現場カード、及び、使用期限がなかったり、長期にわたる入退室カードやポイントカード、金融機関などの多数のセキュリティ管理された部屋への入退室を繰り返す入退室カードなどのも使用することができる。 In addition, as described in the background art, sufficient durability has not been obtained yet in use in an extremely severe environment, a long-term expiration date, and / or repeated use many times. The protective layer may be thickened, but the foil breakage becomes extremely worse when the protective layer is thickened, so that the protective layer was transferred twice. According to the hologram transfer foil 10 of the present invention, the highly durable protective layer 14 and the hologram layer 15 are excellent in peelability and foil cut-off property even if the thickness is large, and can be transferred at one time. The protective layer 14 exists on the surface and protects from mechanical and chemical damage for a long period of time. Gas station cards and construction site cards that are used in extremely harsh environments, as well as long-term entrances and exits. It is also possible to use a card, a point card, an entrance / exit card that repeatedly enters and exits many security-controlled rooms such as financial institutions.
（被転写体）被転写体１０１としては、特に限定されず、例えば天燃繊維紙、コート紙、トレーシングペーパー、転写時の熱で変形しないプラスチックフイルム、ガラス、金属、セラミックス、木材、布などの媒体等いずれのものでもよい。また、被転写体１０１の媒体はその少なくとも１部が、画像、着色、印刷、その他の加飾が施されていてもよい。 (Transfered material) The material to be transferred 101 is not particularly limited, for example, natural fiber paper, coated paper, tracing paper, plastic film that is not deformed by heat during transfer, glass, metal, ceramics, wood, cloth, etc. Any of these media may be used. Further, at least a part of the medium of the transfer target 101 may be subjected to image, coloring, printing, or other decoration.
以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, it is not limited to this.
（実施例１）基材１１として厚さ２５μｍのＰＥＴフィルムを用い、該基材１１の一方の面へ、グラビアコート法で、メラミン樹脂塗工液を乾燥の厚さが２μｍになるように塗布し乾燥して離型層１３を形成した。
該離型層１３面へ、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物をグラビアリバースコーターで乾燥後の厚さが４μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させて、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させて、保護層１４を形成した。
・＜電離放射線硬化性樹脂組成物の作製手順＞
まず、「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」は以下の手順で、生成した。撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を取り付けた反応器に、酢酸エチル２０６．１ｇ及びイソホロンジイソシアネートの三量体（ＨＵＬＳ社製品、ＶＥＳＴＡＮＡＴ Ｔ１８９０、融点１１０℃）１３３．５ｇを仕込み、８０℃に昇温して溶解させた。溶液中に空気を吹き込んだのち、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．３８ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業社製品、ビスコート３００）２４９．３ｇ及びジブチル錫ジラウレート０．３８ｇを仕込んだ。８０℃で５時間反応させたのち酢酸エチル６８８．９ｇを添加して冷却した。
該「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」と、造膜性樹脂（アクリル系オリゴマー）、反応性シリコーン、光重合開始剤、及び溶媒を下記の組成で配合して電離放射線硬化性樹脂組成物を調製した。
・＜保護層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ３０質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光６６３０Ｂ）５質量部
ポリエチレンワックス（平均粒径５μｍ） ０．３質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア９０７） ０．９質量部
溶媒（酢酸エチル：メチルイソブチルケトン＝１：１） ７０質量部
該保護層１４面へ、下記の電離放射線硬化性樹脂組成物をグラビアリバースコーターで乾燥後の厚さが６μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させて、ホログラム層１５を形成した。
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ２５質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光６６３０Ｂ）５質量部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−２４４５） ０．２質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア９０７） ０．９質量部
酢酸エチル ７０質量部
次に、該ホログラム層１５面へ、２光束干渉法による回折格子から２Ｐ法で複製した擬似連続絵柄としたスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。
該ホログラム層１５のレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが１００ｎｍのアルミニウム薄膜を形成して反射層１７を形成した。
該反射層１７面へ、下記の接着層組成物をグラビアコーターで乾燥後の塗布量が２μｍになるように、塗工し１００℃で乾燥させて、接着層１９を形成して、実施例１のホログラム転写箔１０を得た。
・＜接着層組成物＞
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ２０質量部
アクリル樹脂 １０質量部
溶媒（酢酸エチル：トルエン＝２：５） ７０質量部
Example 1 Using a PET film having a thickness of 25 μm as the base material 11, a melamine resin coating solution is applied to one surface of the base material 11 by a gravure coating method so that the dry thickness becomes 2 μm. Then, the release layer 13 was formed by drying.
The surface of the release layer 13 is coated with the following ionizing radiation curable resin composition with a gravure reverse coater so that the thickness after drying is 4 μm, dried at 100 ° C., and then irradiated with ultraviolet light using a high-pressure mercury lamp. Was cured by irradiation to form a protective layer 14.
・ <Procedure for producing ionizing radiation curable resin composition>
First, “ionizing radiation curable resin composition M” was produced by the following procedure. A reactor equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer was charged with 206.1 g of ethyl acetate and 133.5 g of isophorone diisocyanate trimer (HULS product, VESTANAT T1890, melting point 110 ° C.), 80 The solution was heated to 0 ° C. and dissolved. After air was blown into the solution, 0.38 g of hydroquinone monomethyl ether, 249.3 g of pentaerythritol triacrylate (product of Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Viscoat 300) and 0.38 g of dibutyltin dilaurate were charged. After reacting at 80 ° C. for 5 hours, 688.9 g of ethyl acetate was added and cooled.
The “ionizing radiation curable resin composition M”, a film-forming resin (acrylic oligomer), a reactive silicone, a photopolymerization initiator, and a solvent are blended in the following composition to obtain an ionizing radiation curable resin composition. Prepared.
・ <Ionizing radiation curable resin composition of protective layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 30 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name: Purple light 6630B) 5 parts by mass Polyethylene wax (average particle size: 5 μm) 0.3 part by mass Photopolymerization initiator (Ciba Company name, trade name Irgacure 907) 0.9 parts by mass Solvent (ethyl acetate: methyl isobutyl ketone = 1: 1) 70 parts by mass The following ionizing radiation curable resin composition was applied to the surface of the protective layer 14 with a gravure reverse coater. The hologram layer 15 was formed by coating and drying at 100 ° C. so that the thickness after drying was 6 μm.
・ <Ionizing radiation curable resin composition of hologram layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 25 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name Murasaki 6630B) 5 parts by weight of reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name X-22-2445) 0. 2 parts by mass Photopolymerization initiator (trade name Irgacure 907, manufactured by Ciba) 0.9 parts by mass Ethyl acetate 70 parts by mass Next, the hologram layer 15 was duplicated from the diffraction grating by the two-beam interference method by the 2P method. A stamper having a quasi-continuous pattern was attached to an embossing roller of a duplicating apparatus, and heated and pressed (embossed) with an opposing roller to form a relief having a fine uneven pattern. Immediately after shaping, the film was cured by irradiating with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp.
A reflective layer 17 was formed by forming a 100 nm thick aluminum thin film on the relief surface of the hologram layer 15 by vacuum deposition.
The following adhesive layer composition was applied to the surface of the reflective layer 17 with a gravure coater so that the coating amount after drying was 2 μm, and dried at 100 ° C. to form an adhesive layer 19. The hologram transfer foil 10 was obtained.
・ <Adhesive layer composition>
Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer 20 parts by mass Acrylic resin 10 parts by mass Solvent (ethyl acetate: toluene = 2: 5) 70 parts by mass
（実施例２）保護層１４及びホログラム層１５の電離放射線硬化性樹脂組成物として、それぞれ下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用い、反射層１７として真空蒸着法で厚さが３００ｎｍの酸化チタン薄膜を形成する以外は、実施例１と同様にして、実施例２のホログラム転写箔１０を得た。
・＜保護層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ３０質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光７５１０Ｂ）５質量部
ポリエチレンワックス（平均粒径５μｍ） ０．３質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア９０７） ０．９質量部
溶媒（酢酸エチル：メチルイソブチルケトン＝１：１） ７０質量部
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ２５質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光７５１０Ｂ）５質量部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−１６０２） ０．２質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア９０７） ０．９質量部
酢酸エチル ７０質量部
(Example 2) As the ionizing radiation curable resin composition of the protective layer 14 and the hologram layer 15, the following ionizing radiation curable resin compositions were used, respectively, and the reflective layer 17 was titanium oxide having a thickness of 300 nm by vacuum deposition. A hologram transfer foil 10 of Example 2 was obtained in the same manner as Example 1 except that a thin film was formed.
・ <Ionizing radiation curable resin composition of protective layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 30 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name: Murasakimitsu 7510B) 5 parts by mass Polyethylene wax (average particle size: 5 μm) 0.3 part by mass Photopolymerization initiator (Ciba Product name Irgacure 907) 0.9 parts by mass Solvent (ethyl acetate: methyl isobutyl ketone = 1: 1) 70 parts by mass <Ionizing radiation curable resin composition of hologram layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 25 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name: Murasakimitsu 7510B) 5 parts by mass of reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: X-22-1602) 2 parts by weight Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 907) 0.9 parts by weight Ethyl acetate 70 parts by weight
（実施例３）保護層１４及びホログラム層１５の電離放射線硬化性樹脂組成物として、それぞれ下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用い、保護層１４の厚さを２μｍとする以外は、実施例１と同様にして、実施例３のホログラム転写箔１０を得た。
・＜保護層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ２４質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光７０００Ｂ）６質量部
ポリエチレンワックス（平均粒径３μｍ） ０．３質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア１８４） ０．９質量部
酢酸エチル ７０質量部
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ２４質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光７０００Ｂ）６質量部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−１６０２） ０．１質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア１８４） ０．９質量部
酢酸エチル ７０質量部
(Example 3) As the ionizing radiation curable resin composition of the protective layer 14 and the hologram layer 15, the following ionizing radiation curable resin composition was used, respectively, except that the thickness of the protective layer 14 was set to 2 µm. In the same manner as in Example 1, a hologram transfer foil 10 of Example 3 was obtained.
・ <Ionizing radiation curable resin composition of protective layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 24 parts by weight Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name: Murasaki 7000B) 6 parts by weight Polyethylene wax (average particle size 3 μm) 0.3 part by weight Photopolymerization initiator (Ciba Product name Irgacure 184) 0.9 part by mass Ethyl acetate 70 parts by mass <Ionizing radiation curable resin composition of hologram layer>
“Ionizing radiation curable resin composition M” 24 parts by mass Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name Murasaki 7000B) 6 parts by mass of reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name X-22-1602) 0. 1 part by mass Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 184) 0.9 part by mass Ethyl acetate 70 parts by mass
（実施例４）保護層１４及びホログラム層１５の電離放射線硬化性樹脂組成物として、それぞれ下記の電離放射線硬化性樹脂組成物を用い、保護層１４の厚さを２μｍとする以外は、実施例１と同様にして、実施例３のホログラム転写箔１０を得た。
・＜保護層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ２４質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光５０５−６）６質量部
ポリエチレンワックス（平均粒径３μｍ） ０．３質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア１８４） ０．９質量部
酢酸エチル ７０質量部
・＜ホログラム層の電離放射線硬化性樹脂組成物＞
「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」 ２４質量部
メタアクリレートオリゴマー（日本合成化学社製、商品名紫光５０５−６）６質量部
反応性シリコーン（信越化学社製、商品名Ｘ−２２−１６０２） ０．１質量部
光重合開始剤（チバ社製、商品名イルガキュア１８４） ０．９質量部
酢酸エチル ７０質量部
(Example 4) As the ionizing radiation curable resin composition of the protective layer 14 and the hologram layer 15, the following ionizing radiation curable resin composition was used, respectively, except that the thickness of the protective layer 14 was 2 µm. In the same manner as in Example 1, a hologram transfer foil 10 of Example 3 was obtained.
・ <Ionizing radiation curable resin composition of protective layer>
"Ionizing radiation curable resin composition M" 24 parts by weight Methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name: Purple light 505-6) 6 parts by weight Polyethylene wax (average particle size: 3 μm) 0.3 parts by weight Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 184) 0.9 parts by mass Ethyl acetate 70 parts by mass <Ionizing radiation curable resin composition of hologram layer>
"Ionizing radiation curable resin composition M" 24 parts by weight methacrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name Murasaki 505-6) 6 parts by weight reactive silicone (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name X-22-1602) 0.1 parts by mass Photopolymerization initiator (Ciba, trade name Irgacure 184) 0.9 parts by mass Ethyl acetate 70 parts by mass
（評価）実施例１〜４のホログラム転写箔１０を用いて、公知のポリ塩化ビニル製でクレジットカードサイズのカードの表面へ、公知のサーマルプリンターで、転写した。カード表面に転写されていたホログラムは、バリや欠けなどの転写不良もなく、転写性がよく、意匠性及びセキュリティ性に優れたホログラムが転写されていた。ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準拠して測定した表面の鉛筆硬度試験は２Ｈの硬度を有しており、高耐久性を有していた。 (Evaluation) The hologram transfer foil 10 of Examples 1 to 4 was transferred to the surface of a known polyvinyl chloride credit card size card with a known thermal printer. The hologram transferred to the card surface had no transfer defects such as burrs and chips, had a good transferability, and had a good design and security. The surface pencil hardness test measured in accordance with JIS-K-5400 had a hardness of 2H, and had high durability.
１０：ホログラム転写箔
１１：基材
１３：離型層
１４：保護層
１５：ホログラム層
１７：反射層
１９：接着層
１０１：被転写体
10: Hologram transfer foil 11: Base material 13: Release layer 14: Protective layer 15: Hologram layer 17: Reflective layer 19: Adhesive layer 101: Transfer object
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009018468A (en) * | 2007-07-11 | 2009-01-29 | Dainippon Printing Co Ltd | Hologram transfer foil and scratch card |
| JP2011000760A (en) * | 2009-06-17 | 2011-01-06 | Dainippon Printing Co Ltd | Hologram transfer foil and hologram transfer body using the same |
| JP2014016422A (en) * | 2012-07-06 | 2014-01-30 | Dainippon Printing Co Ltd | Volume hologram transfer foil |
| JP2014221555A (en) * | 2014-07-10 | 2014-11-27 | 大日本印刷株式会社 | Transfer decorative film and method for production thereof, and decorative molded article using the same and method for production thereof |
| JP2015071270A (en) * | 2013-10-04 | 2015-04-16 | 三菱樹脂株式会社 | Resin film with coated film and resin film roll with coated film |
| WO2016152918A1 (en) * | 2015-03-23 | 2016-09-29 | 大日本印刷株式会社 | Transfer foil |
| CN107405887A (en) * | 2015-03-23 | 2017-11-28 | 大日本印刷株式会社 | Transfer foil |
| EP3305518A4 (en) * | 2015-05-28 | 2018-12-19 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Transfer foil |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08310170A (en) * | 1995-05-18 | 1996-11-26 | Dainippon Printing Co Ltd | Printed matter with hologram and preparation therefor |
| JPH11263075A (en) * | 1998-03-17 | 1999-09-28 | Dainippon Printing Co Ltd | Adhesive layer transfer sheet and printed matter |
| JP2001329031A (en) * | 2000-05-25 | 2001-11-27 | Mitsubishi Chemicals Corp | Active-energy-ray curable composition and film-forming method using the same |
-
2005
- 2005-10-31 JP JP2005315567A patent/JP2007118466A/en active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08310170A (en) * | 1995-05-18 | 1996-11-26 | Dainippon Printing Co Ltd | Printed matter with hologram and preparation therefor |
| JPH11263075A (en) * | 1998-03-17 | 1999-09-28 | Dainippon Printing Co Ltd | Adhesive layer transfer sheet and printed matter |
| JP2001329031A (en) * | 2000-05-25 | 2001-11-27 | Mitsubishi Chemicals Corp | Active-energy-ray curable composition and film-forming method using the same |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009018468A (en) * | 2007-07-11 | 2009-01-29 | Dainippon Printing Co Ltd | Hologram transfer foil and scratch card |
| JP2011000760A (en) * | 2009-06-17 | 2011-01-06 | Dainippon Printing Co Ltd | Hologram transfer foil and hologram transfer body using the same |
| JP2014016422A (en) * | 2012-07-06 | 2014-01-30 | Dainippon Printing Co Ltd | Volume hologram transfer foil |
| JP2015071270A (en) * | 2013-10-04 | 2015-04-16 | 三菱樹脂株式会社 | Resin film with coated film and resin film roll with coated film |
| JP2014221555A (en) * | 2014-07-10 | 2014-11-27 | 大日本印刷株式会社 | Transfer decorative film and method for production thereof, and decorative molded article using the same and method for production thereof |
| WO2016152918A1 (en) * | 2015-03-23 | 2016-09-29 | 大日本印刷株式会社 | Transfer foil |
| CN107405887A (en) * | 2015-03-23 | 2017-11-28 | 大日本印刷株式会社 | Transfer foil |
| US10493730B2 (en) | 2015-03-23 | 2019-12-03 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Transfer film |
| EP3305518A4 (en) * | 2015-05-28 | 2018-12-19 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Transfer foil |
| US10576711B2 (en) | 2015-05-28 | 2020-03-03 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Transfer film |
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